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JP6015838B2 - Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using the same - Google Patents
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JP6015838B2 - Alkoxycinnamic acid ester polymer and retardation film using the same - Google Patents

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本発明は、新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、生産性に優れ、かつ、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体に関するものである。   The present invention relates to a novel alkoxycinnamic acid ester polymer and a retardation film using the same, and more specifically, it has excellent productivity and has a high out-of-plane retardation even in a thin film. The present invention relates to a novel alkoxycinnamate polymer suitable for a retardation film, particularly an optical compensation film for a liquid crystal display device.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。   A liquid crystal display is widely used as a most important display device in a multimedia society, such as a mobile phone, a computer monitor, a notebook computer, and a television.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。   Many optical films are used for improving the display characteristics of the liquid crystal display. In particular, the retardation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely. As the conventional retardation film, polycarbonate or cyclic polyolefin is used, and these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図1に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。   The optical anisotropy of the polymer film molecularly oriented by stretching or the like can be represented by a refractive index ellipsoid shown in FIG. Here, the refractive index in the fast axis direction in the film plane when the film is stretched is represented by nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal thereto is represented by ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is represented by nz. The fast axis indicates an axial direction having a low refractive index in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。   Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the fast axis direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく(進相軸:延伸方向)、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい(進相軸:延伸方向と垂直方向)。   That is, in the uniaxial stretching of the polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in the uniaxial stretching of the polymer having positive birefringence, the axial direction perpendicular to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to the stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。   Many polymers have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene. However, acrylic resin has a small retardation, and the properties as a retardation film are not sufficient. Since polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low-temperature region, it has a problem of stability of phase difference such as phase difference being changed by a slight stress, and a practical problem of low heat resistance, and is not used at present. .

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。   A stretched polymer film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film and becomes an unprecedented retardation film. (VA-LCD), in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc., useful as a retardation film for compensating viewing angle characteristics and a viewing angle compensation film for a deflection plate There is a strong market demand for retardation films having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。   A method for producing a film has been proposed in which a polymer having positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method (for example, Patent Documents 1 to 3) in which a heat-shrinkable film is bonded to one side or both sides of a polymer film, the laminate is subjected to a heat stretching treatment, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film. Reference). In addition, a method of uniaxial stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。   In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (for example, see Patent Document 5).

しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。   However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. Also, the control of the uniformity of the phase difference and the like is extremely difficult as compared with the conventional control by stretching.

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。   When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large and the phase difference is changed by a slight stress, so that there is a problem in the stability of the phase difference. Furthermore, there is a problem that the wavelength dependence of the phase difference is large.

特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。   The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy. From the viewpoint of simplification of production method and economical efficiency, fine particles are obtained. There is a need for retardation films that do not require the addition of.

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。   Moreover, the fumaric-acid diester type resin and the film which consists of it are proposed (for example, refer patent documents 6-10).

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。   Further, a diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative copolymer comprising a diisopropyl fumarate residue unit and a cinnamic acid residue unit or a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A retardation film using the diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 11).

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。   Further, a fumaric acid diester residue unit, a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a polyfunctional monomer residue unit having two or more radical polymerizable functional groups An acid diester-cinnamic acid ester copolymer and a retardation film using the fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer have been proposed (see, for example, Patent Document 12).

特許2818983号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平5−297223号公報JP-A-5-297223 特開平5−323120号公報JP-A-5-323120 特開平6−88909号公報JP-A-6-88909 特開2005−156862号公報JP 2005-156862 A 特開2008−112141号公報JP 2008-112141 A 特開2012−032784号公報JP 2012-032784 A WO2012/005120号公報WO2012 / 005120 特開2008−129465号公報JP 2008-129465 A 特開2006-193616号公報JP 2006-193616 A WO2014/013982号公報WO2014 / 013982 WO2014/084178号公報WO2014 / 084178

特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。   Although the fumaric acid diester-based resin proposed in Patent Documents 6 to 10 and a film made thereof have a high out-of-plane retardation, at present, a film having a higher out-of-plane retardation is also present in a thin film. It has been demanded.

特許文献11で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献6〜10で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、より生産性に優れ、より高収率で得られる重合体が求められている。また、特許文献11で提案された位相差フィルムは、薄膜において高い面外位相差を有するものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。   Although the diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative-based copolymer proposed in Patent Document 11 exhibits a higher out-of-plane retardation than the resins proposed in Patent Documents 6 to 10, it is more excellent in productivity and more There is a need for polymers obtained in high yield. Moreover, although the retardation film proposed in Patent Document 11 has a high out-of-plane retardation in a thin film, a film having a higher out-of-plane retardation in a thin film is also required.

特許文献12で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体は生産性に優れ高収率で得られるものの、フィルムとした際に特許文献11より高い面外位相差を有するものではなく、生産性に優れ、かつ、より高い面外位相差を有する重合体が求められている。   The fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer proposed in Patent Document 12 is excellent in productivity and can be obtained in a high yield. However, when it is used as a film, it has an out-of-plane retardation higher than that of Patent Document 11. There is a need for a polymer that is excellent in productivity and has a higher out-of-plane retardation.

本発明の目的は、生産性に優れる重合体であって、薄膜においても高い面外位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel alkoxycinnamic acid ester polymer suitable for a retardation film which is a polymer excellent in productivity and has a high out-of-plane retardation even in a thin film and excellent in optical properties. There is.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific alkoxycinnamic acid ester polymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系重合体およびそれを用いた位相差フィルムに関するものである。   That is, the present invention relates to an alkoxycinnamic acid ester polymer characterized by containing an alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1) and a retardation film using the same. .

Figure 0006015838
Figure 0006015838

(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
以下、本発明の位相差フィルムに適したアルコキシケイ皮酸エステル系重合体について詳細に説明する。
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
Hereinafter, the alkoxycinnamate polymer suitable for the retardation film of the present invention will be described in detail.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むアルコキシケイ皮酸エステル系重合体である。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、特定のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させ、かつ、重合体となる際の単量体の重合転嫁率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。   The alkoxycinnamate ester polymer of the present invention is an alkoxycinnamate ester polymer containing an alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1). And the alkoxycinnamic ester polymer of the present invention comprises a specific alkoxycinnamic ester residue unit, thereby expressing a high out-of-plane retardation even in a thinner film, and It is characterized by a high polymerization pass-through rate of the monomer and excellent productivity.

Figure 0006015838
Figure 0006015838

(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
本発明の一般式(1)におけるRは炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、nは1〜5の整数である。また、本発明の一般式(1)におけるRは、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
R 1 in the general formula (1) of the present invention represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a hexyl group, and a dodecyl group. N is an integer of 1-5. Also, R 2 in the general formula (1) of the present invention is a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms Examples of the linear alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group, and a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Examples of the group include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclohexyl group. Is mentioned. Among these, since the alkoxycinnamate polymer exhibits a high out-of-plane retardation, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert- A butyl group and a cyclohexyl group are preferred.

具体的な一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位、プロポキシケイ皮酸エステル残基単位、ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位、ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸残基単位がさらに好ましい。   Specific examples of the alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1) include a methoxycinnamate residue unit, an ethoxycinnamate residue unit, and a propoxycinnamate residue unit. Hexoxycinnamate residue units, dodeoxycinnamate residue units, and the like. Among these, since a high phase difference is expressed, a methoxycinnamate residue unit and an ethoxycinnamate residue unit are preferable, and a 4-methoxycinnamate residue unit is more preferable.

本発明において、メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   In the present invention, as the methoxycinnamate ester residue unit, for example, 2-methoxycinnamate methyl residue unit, 2-methoxycinnamate ethyl residue unit, 2-methoxycinnamate n-propyl residue Unit: 2-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid tert-butyl residue Units: 2-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3-methoxycinnamate methyl residue unit, 3-methoxycinnamate ethyl residue unit, 3-methoxycinnamate n-propyl residue unit, 3- Isopropyl methoxycinnamate residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid tert- Chyl residue unit, 3-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 4-methoxycinnamate methyl residue unit, 4-methoxycinnamate ethyl residue unit, 4-methoxycinnamate n-propyl residue unit 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit 4-methoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue Base unit, isopropyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3-dimethoxycinnamic acid, , 3-Dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid ethyl residue Group unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4- Dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-dimethoxycinnamate residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,5- Dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-dimethoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue Group unit, cyclohexyl residue unit of 2,6-dimethoxycinnamic acid, methyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, ethyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamic acid, 3,4-dimeth Cinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, cyclohexyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamate, methyl residue unit of 3,5-dimethoxycinnamate, 3,5-dimethoxysilicate Ethyl cinnamate residue units, 3,5-dimethoxycinnamate n-propyl residue units, 3,5-dimethoxy cinnamate isopropyl residue units, 3,5-dimethoxy cinnamate isopropyl residue units, 3, 5-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dimethoxy Toxicinamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4-trimethoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3,4-trimethoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4-trimethoxy cinnamate n-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxy Cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5- Methyl trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,5-trimethoxycinnamate residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5- Isopropyl trimethoxycinnamate residue Base unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid sec- Butyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6-trimethoxy cinnamic acid Methyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid Isopropyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,6-tri Toxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy Ethyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy N-butyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5 5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6- N-propyl residue of trimethoxycinnamate Units: 2,4,6-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid sec-butyl Residue unit, tert-butyl 2,4,6-trimethoxycinnamate residue unit, cyclohexyl residue unit of 2,4,6-trimethoxycinnamate, methyl 3,4,5-trimethoxycinnamate Residue unit, ethyl 3,4,5-trimethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,4,5-trimethoxycinnamic acid, isopropyl 3,4,5-trimethoxycinnamate Residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate n-butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate sec-butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamate Acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-to Rimethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxymethyl cinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,4, 5-tetramethoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamate n-butyl residue Unit: 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5- Cyclohexyl residue unit of tetramethoxycinnamate, methyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate, ethyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate, 2,3,4 4,6-tetramethoxycinnamic acid n- Lopyr residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6 -Tetramethoxycinnamate sec-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamate cyclohexyl residue unit 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,5 , 6-Tetramethoxycinnamic acid sec-butyl residue Position, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, pentamethoxycinnamate methyl residue unit, Pentamethoxycinnamic acid ethyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid sec -Butyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, and the like.

エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of the ethoxycinnamic acid ester residue units include 2-ethoxycinnamic acid methyl residue units, 2-ethoxycinnamic acid ethyl residue units, 2-ethoxycinnamic acid n-propyl residue units, and 2-ethoxycinnamic acid isopropyl units. Residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 3-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, -Ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid isopropyl residue unit 4-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 3 -Methyl diethoxycinnamate residue unit, 2,3-diethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3 -N-butyl residue unit of diethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3-diethoxycinnamic acid, 2,3-diethoxy Tert-butyl cinnamate residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4- Diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic leather Acid n-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 6-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 6-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit Units: 3,4-diethoxycinnamic acid methyl residue units, 3,4-diethoxycinnamic acid ethyl residue units, 3,4-diethoxycinnamic acid n- Lopyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-diethoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,5-diethoxysilicate Cinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3 , 5-Diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4-triethoxy Ethyl cinnamate residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-triethoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4-triethoxy N-butyl cinnamate residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4 4-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5- N-propyl triethoxycinnamate residue unit, isopropyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, 2,3,5 5-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 3,5-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 , 3,6-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2 , 3,6-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue Base unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit 2,4,5-triethoxycinnamic acid -Propyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic leather Acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-triethoxy Methyl cinnamate residue unit, 2,4,6-triethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-triethoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6- Unit of tert-butyl triethoxycinnamate 2,4,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3, 4,5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3, 4,5-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit Unit, 3,4,5-triethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxymethylcinnamate residue unit, ethyl 2,3,4,5-tetraethoxycinnamate Residue unit, 2,3,4,5-tetra Ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-tetraethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic leather Acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxyethyl cinnamate residue unit, 2,3,4,6- Tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnax sec-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5 , 6-Tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxysilicic acid unit Cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentaethoxysilicate Methyl cinnamate residue unit, pe Ethyl taethoxycinnamate residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, pentaethoxycinnamic acid sec-butyl Examples thereof include a residue unit, a tert-butyl pentaethoxycinnamate residue unit, and a cyclohexyl residue unit of pentaethoxycinnamic acid.

プロポキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of the propoxycinnamic acid ester residue unit include a 2-propoxycinnamic acid methyl residue unit, a 2-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, a 2-propoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2- Propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2- Propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid Isopropyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-propoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n- Propyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid tert- Butyl residue unit, 4-propoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3-dipropoxy N-propyl cinnamate residue units, isopropyl residue units of 2,3-dipropoxycinnamic acid, n-butyl residue units of 2,3-dipropoxycinnamic acid, 2,3 Dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic leather Acid methyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2, 4-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid n - Lopyr residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit 2,5-dipropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 2,6-di Propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid n- Butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit , , 4-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate n-propyl residue unit, 3,4-dipropoxycin Isopropyl cinnamate residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid tert- Butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate methyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,5 -N-propyl residue unit of dipropoxycinnamate, isopropyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, 3,5-dipropoxycinnamic acid n-bu Residue unit, 3,5-dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit 2,3,4-tripropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate isopropyl residue unit 2,3,4-tripropoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamate sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 2,3,4-tripropoxycinnamate, cyclohexyl residue unit of 2,3,4-tripropoxycinnamate, methyl 2,3,5-tripropoxycinnamate residue Base unit 2,3,5-tripropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit 2,3,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 2,3,5-tripropoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,5-tripropoxycinnamic acid residue, methyl 2,3,6-tripropoxycinnamic acid residue Base unit, ethyl 2,3,6-tripropoxycinnamate residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamate n-propyl residue unit, isopropyl 2,3,6-tripropoxycinnamate residue Base unit, 2, , 6-Tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 3,6-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 2,4,5-tripropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2 , 4,5-Tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit , 2, , 5-tripropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,4,5-tripropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamate methyl residue unit, 2,4 , 6-Tripropoxycinnamic acid ethyl residue units, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue units, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue units, 2,4 , 6-Tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 4,6-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid methyl residue unit, 3 , 4 , 5-tripropoxycinnamate ethyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamate n-propyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamate isopropyl residue unit, 3,4 , 5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3 , 4,5-Tripropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 3,4,5-Tripropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate methyl residue unit 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxysilicate unit Isopropyl cinnamate Residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4, 5-tetrapropoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnax Isopropyl acid residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4,6-tetrapropoxycinnamic acid ert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5,6 -Tetrapropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamate isopropyl residue unit, 2 , 3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentapropoxycinnamic acid methyl residue unit, pentapropoxycinnamic acid ethyl residue unit, pentap Roxy cinnamate n-propyl residue unit, pentyl propoxycinnamate residue unit, pentapropoxycinnamate n-butyl residue unit, pentapropoxycinnamate sec-butyl residue unit, pentapropoxycinnamate tert -A butyl residue unit, a pentapropoxycinnamate cyclohexyl residue unit, etc. are mentioned.

ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of hexoxycinnamic acid ester residue units include 2-hexoxycinnamic acid methyl residue units, 2-hexoxycinnamic acid ethyl residue units, 2-hexoxycinnamic acid n-propyl residue units, and 2-hexoxycinnamic acid isopropyl units. Residue unit, 2-hexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-hexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid n-butyl Residue unit, 3-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-hexoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-propyl residue unit , 4-hexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-hexoxysilicate Cyclohexyl residue unit, methyl 2,3-dihexoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3-dihexoxycinnamate residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dihexoxysilicate unit Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3-dihexoxycinnamate n-butyl residue unit, 2, 3 Dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dihexycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 4-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-dihexoxycinnamate residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid n-group Lopyr residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate n-butyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate sec-butyl residue unit, 2,5-dihexoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamate methyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-dihexoxysilicate N-propyl cinnamate residue unit, isopropyl 2,6-dihexoxycinnamate residue unit, n-butyl residue unit of 2,6-dihexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,6-dihexoxycinnamic acid, 2 , 6-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, , 4-Dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3 , 4-Dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue Base unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue Base unit, isopropyl residue unit of 3,5-dihexoxycinnamic acid, n-butyl 3,5-dihexoxycinnamic acid Residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4 -Ethyl trihexoxycinnamate residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 3,4-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 2,3,4-trihexoxycinnamate, cyclohexyl residue unit of 2,3,4-trihexoxycinnamic acid, 2,3,5-trihexycinnamic bark Acid methyl residue unit 2,3,5-trihexoxycinnamic acid ethyl residue units, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue units, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl units Residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxysilicate Cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,6 -Methyl trihexoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,6-trihexoxycinnamate residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2, 3,6-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, , 6-Trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue Unit: 2,3,6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid Methyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-trihexoxy Isopropyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5- Tri-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, , 5-trihexoxycinnamate tert-butyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-Trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue Base unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic bar Acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5- Units of methyl trihexoxycinnamate, 3, 4 , 5-trihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid sec- Butyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetra Hexoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamate n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid isopropyl ester Residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4 4,5-tetrahexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid Methyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4 , 6-tetrahexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid sec -Butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid ert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,5 1,6-tetrahexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid isopropyl Residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3, 5,6-tetrahexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentahexoxycinnamic acid methyl residue unit, pentahexoxy Ethyl cinnamate residue unit, pentahe N-Propyl residue unit of xoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, pentahexoxy Examples thereof include a tert-butyl cinnamate residue unit and a cyclohexyl residue unit of pentahexoxycinnamate.

ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。   Examples of dodeoxycinnamic acid ester residue units include 2-dodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid isopropyl residue Residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-dodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate methyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate ethyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate n-propyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate isopropyl residue unit, 3-dodeoxycinnamate n-butyl Residue unit, 3-dodecoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-dodecoxyke Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3-dodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid n-propyl residue unit , 4-dodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-dodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-dodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-dodoxycin Cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-didodoxysilicic acid unit Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3 Didodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 4-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-didodoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-didodeoxycinnamate residue, 2,5-didodeoxycinnamic acid n-group Lopyr residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-didodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-didodeoxysilicate Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-didodoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-didodoxysilicate Cinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 6-didodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, , 4-Didodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3 , 4-didodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-didodoxycinnamic acid cyclohexyl residue Base unit, methyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,5-didodeoxycinnamic acid residue, isopropyl 3,5-didodeoxycinnamate residue Base unit, isopropyl residue unit of 3,5-didodoxycinnamic acid, n-butyl 3,5-didodoxycinnamic acid Residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4 -Ethyl tridodeoxycinnamate residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid isopropyl residue unit 2,3,4-tridodoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid unit Cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-tridodecoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3 , 5-Tridodoxycinnamate methyl residue unit 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid unit Isopropyl cinnamate residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamate isopropyl residue unit, 2,3,5-tridodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5 -Sec-butyl residue unit of tridodeoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3,5-tridodoxycinnamic acid, cyclohexyl residue of 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid Base unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,6-tridodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic unit N-propyl cinnamate residue unit, 2,3,6-tridodoxy cinnamate isopropyl residue unit, 2, , 6-Tridodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-Tridodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-Tridodoxycinnamic acid sec- Butyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-tri Dodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,5-tridodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,5-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2 , 4,5-Tridodoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-tridodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-tridodeoxycinnamic acid n- Butyl residue unit, 2,4,5-tridodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, , 5-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, methyl 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid residue Group unit, 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6-tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-tridode Isopropyl oxycinnamate residue units, 2,4,6-tridodeoxy cinnamate isopropyl residue units, 2,4,6-tridodeoxy cinnamate n-butyl residue units, 2,4 , 6-tridodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-tridodeoxycinnamic acid Cyclohexyl residue unit, 3,4,5-methyl tridodeoxycinnamate residue unit, 3,4 , 5-Tridodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4,5-Tridodoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-Tridodoxycinnamic acid isopropyl residue Base unit, 3,4,5-tridodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-tridodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-tridode Toxiccinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2 , 3,4,5-tetradodeoxy cinnamate methyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodeoxy cinnamate ethyl residue unit, 2,3,4,5-tetradode Toxicinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodeoxycinnamic acid isopropyl Residue unit, 2,3,4,5-tetradodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, 3,4,5-tetradodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetradone Deoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid n-propyl residue Unit, isopropyl residue unit of 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,4,6-tetradodoxycinnamic acid, 2,3,4, 6-tetradodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodeoxycinnamic acid ert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3 , 5,6-tetradodecoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodeoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetradode Isopropyl oxycinnamate residue unit, 2,3,5,6-tetradodeoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodeoxycinnamic acid sec-butyl residue Base unit, tert-butyl residue unit of 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,5,6-tetradodoxycinnamic acid, pentadodoxysilicate Methyl cinnamate residue units, pentadodeoxy cinnamate ethyl residue units, pentad N-propyl residue unit of deoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of pentadodeoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of pentadodeoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of pentadodeoxycinnamic acid, Examples thereof include a tert-butyl residue unit of pentadodeoxycinnamic acid, a cyclohexyl residue unit of pentadodeoxycinnamic acid, and the like.

これらの中でも、高い位相差を発現することから、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位および4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位がさらに好ましい。   Among these, since a high phase difference is expressed, 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid ethyl unit residue, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4- Isopropyl methoxycinnamate residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit and 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit A methoxycinnamate cyclohexyl residue unit is preferred, and an ethyl 4-methoxycinnamate residue unit is more preferred.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、高い面外位相差を維持しながら溶解性や相溶性の向上が可能であるため、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位等の一般式(2)で表されるフマル酸モノエステル残基単位を含むことが好ましい。   The alkoxycinnamate ester polymer of the present invention can improve solubility and compatibility while maintaining a high out-of-plane retardation, so that the monomethyl fumarate unit, the monoethyl fumarate unit, the fumarate It preferably contains a fumaric acid monoester residue unit represented by the general formula (2) such as an acid monoisopropyl residue unit.

Figure 0006015838
Figure 0006015838

(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位等の一般式(2)で表されるフマル酸モノエステル残基単位以外のフマル酸エステル残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。
(Here, R 3 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)
The alkoxycinnamic ester polymer of the present invention may contain other monomer residue units as long as it does not exceed the scope of the present invention. Examples of other monomer residue units include: Styrene residue units such as styrene residue units and α-methylstyrene residue units; (meth) acrylic acid residue units; (meth) methyl acrylate residue units, (meth) ethyl acrylate residue units, (Meth) acrylic acid ester residue units such as butyl (meth) acrylate residue units; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue units and vinyl propionate residue units; acrylonitrile residue units; methacrylonitrile Residue units; vinyl ether residue units such as methyl vinyl ether residue units, ethyl vinyl ether residue units, butyl vinyl ether residue units; diethyl fumarate residue units, fumarate Fumarate residue units other than the fumaric acid monoester residue units represented by the general formula (2) such as diisopropyl residue units; N-methylmaleimide residue units, N-cyclohexylmaleimide residue units, N-phenyl Examples thereof include N-substituted maleimide residue units such as maleimide residue units; one or more selected from olefin residue units such as ethylene residue units and propylene residue units.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位10モル%以上が好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位20モル%以上がより好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50モル%以上がさらに好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位60モル%以上が特に好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位70モル%以上が最も好ましい。   Since the composition of the alkoxycinnamate ester polymer of the present invention has excellent retardation characteristics when used as a retardation film, the alkoxycinnamate residue unit is preferably 10 mol% or more. More preferably, the cinnamate residue unit is 20 mol% or more, the alkoxycinnamate residue unit is more preferably 50 mol% or more, the alkoxycinnamate residue unit is more preferably 60 mol% or more, the alkoxycinnax The acid ester residue unit of 70 mol% or more is most preferable.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30,000〜500,000であることが好ましく、40,000〜400,000であることがさらに好ましい。   Since the alkoxycinnamate polymer of the present invention has excellent mechanical properties, the number average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). Is preferably 30,000 to 500,000, more preferably 40,000 to 400,000.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の製造方法としては、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、アルコキシケイ皮酸エステルのラジカル重合を行うことにより製造することができる。   As a method for producing the alkoxycinnamate ester polymer of the present invention, any method may be used as long as an alkoxycinnamate ester polymer is obtained. For example, radical polymerization of an alkoxycinnamate ester may be performed. It can be manufactured by doing.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。   For the radical polymerization, any known polymerization method, for example, bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method or emulsion polymerization method can be employed.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator used for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2′-azobis ( 2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis And azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile).

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。   And there is no restriction | limiting in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, For example, aromatic solvents, such as benzene, toluene, xylene; Methanol, ethanol, propanol, butanol, etc. Cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, water and the like, and mixed solvents thereof.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。   Moreover, since the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be suitably set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator and the control of the reaction is easy, it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. It is preferable.

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。   When an optical film using the alkoxycinnamic acid ester polymer of the present invention is obtained, a retardation film is preferred because it has a high out-of-plane retardation even in a thin film and is excellent in optical properties.

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。   In the retardation film of the present invention, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction perpendicular thereto is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz. A retardation film characterized in that the relationship is nx ≦ ny <nz. By satisfying nx ≦ ny <nz, the viewing angle of STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, transflective LCD, etc. The retardation film is excellent in compensation performance. In general, since the control of the three-dimensional refractive index of the film is performed by stretching the film and the like, the manufacturing process and quality control are complicated. However, the retardation film of the present invention is unstretched and has a refractive index in the film thickness direction. Has been found to exhibit a unique behavior of high.

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−100〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましく、−180〜−500nmであることが特に好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で5.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、6nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。
In addition, since the retardation film of the present invention becomes a retardation film having more excellent optical properties, an out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is −100 to − It is preferably 2000 nm, more preferably −100 to −500 nm, and particularly preferably −180 to −500 nm.
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (a)
(Here, d indicates the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the absolute value of the relationship between the film thickness and the out-of-plane retardation is preferably 5.5 nm / film thickness (μm) or more, and 6 nm / The film thickness (μm) or more is more preferable, and 8 nm / film thickness (μm) or more is particularly preferable.

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。   When the retardation film of the present invention is used in a liquid crystal display device, the image quality characteristics are good, and therefore, the light transmittance is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. . The haze (cloudiness) of the retardation film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the phase difference film of this invention, For example, methods, such as a solution cast method and a melt cast method, are mentioned.

溶液キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。   The solution cast method is a method in which a solution obtained by dissolving an alkoxycinnamic ester polymer in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a support substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. is there. In this case, as a method for casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, or the like is used. Particularly, industrially, a method in which a dope is continuously extruded from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is the most common. Examples of the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20000 cPs, More preferably, it is -10000 cPs.

この際のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは2〜100μm、特に好ましくは3〜50μmである。   In this case, the coating thickness of the alkoxycinnamic acid ester polymer is preferably 1 to 200 μm, more preferably 2 to 100 μm, and particularly preferably 3 to 50 μm after drying because the film can be easily handled.

また、溶融キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。   The melt casting method is a molding method in which an alkoxycinnamic ester polymer is melted in an extruder and extruded from a slit of a T die into a film shape, and then cooled and cooled with a roll or air.

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。   The retardation film of the present invention can be used by being peeled off from a glass substrate as a base material or another optical film, and can also be used as a laminate with a glass substrate as a base material or another optical film.

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。   The retardation film of the present invention can be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, and can be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. is there. Furthermore, the retardation films of the present invention can be laminated with each other or with other retardation films.

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するアルコキシケイ皮酸エステル系重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。   In the retardation film of the present invention, an antioxidant is preferably blended in order to increase the thermal stability of the retardation film itself or during film formation. Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants, phosphorus antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. And since an antioxidant effect | action improves synergistically, it is preferable to use together a hindered antioxidant and phosphorus antioxidant, and in that case, for example with respect to 100 weight part of hindered antioxidant More preferably, the phosphorus-based antioxidant is used in a mixture of 100 to 500 parts by weight. Moreover, as addition amount of antioxidant, since it is excellent in an antioxidant effect | action with respect to 100 weight part of alkoxycinnamate type | system | group polymers which comprise the retardation film of this invention, 0.01-10 weight part is set. Preferably, 0.5 to 1 part by weight is more preferable.

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。   Furthermore, as an ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, or benzoate may be blended as necessary.

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。   The retardation film of the present invention is blended with other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc. within the scope of the invention. May be.

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を提供することができる。   According to the present invention, optical properties such as a contrast film and a viewing angle characteristic compensation film and an antireflection film of a liquid crystal display having a large refractive index in the thickness direction, a large in-plane retardation, and a small wavelength dependency. It is possible to provide an alkoxycinnamic acid ester polymer suitable for a retardation film excellent in the above.

延伸による屈折率楕円体の変化Change in refractive index ellipsoid by stretching

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。     EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。   In addition, the various physical properties shown by an Example were measured with the following method.

<アルコキシケイ皮酸エステル系重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of alkoxycinnamate polymer>
Using a nuclear magnetic resonance measuring apparatus (manufactured by JEOL, trade name JNM-GX270), it was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis.

<数平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (manufactured by Tosoh Corporation, trade name C0-8011 (equipped with column GMH HR- H)), tetrahydrofuran was measured as a solvent at 40 ° C., and the standard polystyrene equivalent value was obtained. Asked.

<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Transparency evaluation method>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
An Abbe refractometer (manufactured by Atago) was used and measured according to JIS K 7142 (1981 version).

<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
<Measurement of retardation and three-dimensional refractive index of film>
Measurement was performed using a fully automatic birefringence meter (trade name KOBRA-WR, manufactured by Oji Scientific Instruments).

実施例1(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(4−メトキシケイ皮酸メチル/4−メトキシケイ皮酸n−ブチル共重合体)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸メチル50g(0.26モル)、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル15.2g(0.065モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.38g(0.0022モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体15gを得た(収率:23%)。
Example 1 (Synthesis 1 of alkoxycinnamate ester polymer (methyl 4-methoxycinnamate / 4-methoxycinnamate n-butyl copolymer) 1)
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.26 mol) of methyl 4-methoxycinnamate, 15.2 g (0.065 mol) of n-butyl 4-methoxycinnamate and tert-butylperoxy which is a polymerization initiator 0.38 g (0.0022 mol) of pivalate was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 15 g of an alkoxycinnamic acid ester polymer (yield: 23%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は41,000であった。   The obtained alkoxycinnamic acid ester polymer was excellent in productivity and thus had a high yield, and the number average molecular weight was 41,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位=84/16(モル%)であることを確認した。 Moreover, it is confirmed by 1 H-NMR measurement that the copolymer composition is 4-methoxycinnamate methyl residue unit / 4-methoxycinnamate n-butyl residue unit = 84/16 (mol%). did.

実施例2(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/フマル酸ジイソプロピル共重合体)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、フマル酸ジイソプロピル20.8g(0.10モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.40g(0.0023モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体25gを得た(収率:35%)。
Example 2 (Synthesis 2 of alkoxycinnamate ester polymer (ethyl 4-methoxycinnamate / diisopropyl fumarate copolymer) 2)
In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 50 g (0.24 mol) of ethyl 4-methoxycinnamate, 20.8 g (0.10 mol) of diisopropyl fumarate and 0.40 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator ( 0.0023 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 25 g of an alkoxycinnamic ester polymer (yield: 35%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は47,000であった。   The resulting alkoxycinnamic acid ester polymer was excellent in productivity and thus had a high yield, and the number average molecular weight was 47,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位=54/46(モル%)であることを確認した。 Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR measurement that the copolymer composition was 4-methoxycinnamate ethyl residue unit / diisopropyl fumarate residue unit = 54/46 (mol%).

実施例3(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(4−メトキシケイ皮酸イソプロピル/フマル酸ジエチル共重合体)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸イソプロピル50g(0.21モル)、フマル酸ジエチル4.1g(0.024モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.28g(0.0016モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体15gを得た(収率:27%)。
Example 3 (Synthesis of alkoxycinnamic ester polymer (isopropyl 4-methoxycinnamate / diethyl fumarate copolymer) 3)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g (0.21 mol) of isopropyl 4-methoxycinnamate, 4.1 g (0.024 mol) of diethyl fumarate and 0.28 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator ( 0.0016 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 15 g of an alkoxycinnamic acid ester polymer (yield: 27%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は43,000であった。   The resulting alkoxycinnamic ester polymer polymer was excellent in productivity and thus had a high yield, and the number average molecular weight was 43,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=90/10(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed to be 4-methoxycinnamate isopropyl residue unit / diethyl fumarate residue unit = 90/10 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

実施例4(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル共重合体/N−フェニルマレイミド共重合体)の合成4)
容量75mLのガラスアンプルに3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル50g(0.23モル)、N−フェニルマレイミド4.4g(0.025モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体17gを得た(収率:31%)。
Example 4 (Synthesis 4 of alkoxycinnamate ester polymer (ethyl 3,4-dimethoxycinnamate copolymer / N-phenylmaleimide copolymer) 4)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g (0.23 mol) of ethyl 3,4-dimethoxycinnamate, 4.4 g (0.025 mol) of N-phenylmaleimide, and tert-butyl peroxypivalate 0 as a polymerization initiator. .29 g (0.0017 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 17 g of an alkoxycinnamic ester polymer (yield: 31%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は78,000であった。   The resulting alkoxycinnamic acid ester polymer was excellent in productivity and thus had a high yield, and the number average molecular weight was 78,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位=82/18(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed to be ethyl 3,4-dimethoxycinnamate residue units / N-phenylmaleimide residue units = 82/18 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

実施例5(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(4−エトキシケイ皮酸エチル/アクリル酸エチル共重合体)の合成5)
容量75mLのガラスアンプルに4−エトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、アクリル酸エチル1.3g(0.013モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.30g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体9gを得た(収率:18%)。
Example 5 (Synthesis 5 of alkoxycinnamate ester-based polymer (ethyl 4-ethoxycinnamate / ethyl acrylate copolymer) 5)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g (0.24 mol) of ethyl 4-ethoxycinnamate, 1.3 g (0.013 mol) of ethyl acrylate and 0.30 g (0 of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator). .0017 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and kept for 48 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 9 g of an alkoxycinnamic acid ester polymer (yield: 18%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は56,000であった。   The resulting alkoxycinnamic acid ester polymer was excellent in productivity and thus had a high yield, and the number average molecular weight was 56,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位=89/11(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be 4-ethoxycinnamate ethyl residue unit / ethyl acrylate residue unit = 89/11 (mol%).

実施例6(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(4−メトキシケイ皮酸n−プロピル/フマル酸モノイソプロピル共重合体)の合成6)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸n−プロピル7g(0.03モル)、フマル酸モノイソプロピル43g(0.27モル)および重合開始剤である1,1ジ(tert−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン0.42g(0.0015モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを70℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た(収率:20%)。
Example 6 (Synthesis of alkoxycinnamic ester polymer (n-propyl 4-methoxycinnamate / monoisopropyl fumarate copolymer) 6)
A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 7 g (0.03 mol) of n-propyl 4-methoxycinnamate, 43 g (0.27 mol) of monoisopropyl fumarate and 1,1 di (tert-butylperoxy) as a polymerization initiator. ) -2-methylcyclohexane 0.42 g (0.0015 mol) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampule was placed in a constant temperature bath at 70 ° C. and held for 72 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 80 ° C. for 10 hours to obtain an alkoxycinnamic ester polymer (yield: 20%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は42,000であった。   The number average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic ester polymer was 42,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位/フマル酸モノイソプロピル残基単位=12/88(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit / monoisopropyl fumarate residue unit = 12/88 (mol%).

実施例7(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(2−メトキシケイ皮酸エチル/フマル酸ジエチル共重合体)の合成7)
容量75mLのガラスアンプルに2−メトキシケイ皮酸エチル46g(0.22モル)、フマル酸ジエチル4g(0.02モル)および重合開始剤である2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.53g(0.0012モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを60℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た(収率:37%)。
Example 7 (Synthesis of alkoxycinnamic ester polymer (ethyl 2-methoxycinnamate / diethyl fumarate copolymer) 7)
In a glass ampoule having a capacity of 75 mL, 46 g (0.22 mol) of ethyl 2-methoxycinnamate, 4 g (0.02 mol) of diethyl fumarate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) hexane 0.53g (0.0012mol) was put, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, it was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 60 ° C. and kept for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 80 ° C. for 10 hours to obtain an alkoxycinnamic ester polymer (yield: 37%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は45,000であった。   The number average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic ester polymer was 45,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=87/13(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be 2-methoxycinnamate ethyl residue unit / diethyl fumarate residue unit = 87/13 (mol%).

実施例8(アルコキシケイ皮酸エステル系重合体(2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル/フマル酸モノエチル共重合体)の合成8)
容量75mLのガラスアンプルに2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル31g(0.12モル)、フマル酸モノエチル19g(0.13モル)、トルエン5gおよび重合開始剤であるt−ブチルパーオキシピバレート0.30g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、96時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た(収率:29%)。
Example 8 (Synthesis of alkoxycinnamic ester polymer (n-propyl 2,4,6-trimethoxycinnamate / monoethyl fumarate copolymer) 8)
N-Propyl 2,4,6-trimethoxycinnamate 31 g (0.12 mol), monoethyl fumarate 19 g (0.13 mol), toluene 5 g and t-butyl which is a polymerization initiator 0.30 g (0.0017 mol) of peroxypivalate was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostatic bath at 50 ° C. and kept for 96 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain an alkoxycinnamic ester polymer (yield: 29%).

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は40,000であった。   The number average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic ester polymer was 40,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成は2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位/フマル酸モノエチル残基単位=51/49(モル%)であることを確認した。 In addition, the copolymer composition was determined by 1 H-NMR measurement to be 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit / monoethyl fumarate residue unit = 51/49 (mol%). confirmed.

合成例1(フマル酸ジエステル系共重合体(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ジn−ブチル共重合体)の合成1)
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH−50)1.6g、蒸留水520g、フマル酸ジイソプロピル230g、フマル酸ジn−ブチル50g、および重合開始剤であるt−ブチルパーオキシピバレート2.1gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た。(収率:80%)。
Synthesis Example 1 (Synthesis 1 of fumarate diester copolymer (diisopropyl fumarate / di-n-butyl fumarate copolymer) 1)
In a 1 L autoclave equipped with a stirrer, a condenser tube, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 1.6 g of hydroxypropylmethylcellulose (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name Metrose 60SH-50), 520 g of distilled water, 230 g of diisopropyl fumarate, difumarate di After adding 50 g of n-butyl and 2.1 g of t-butyl peroxypivalate which is a polymerization initiator and carrying out nitrogen bubbling for 1 hour, the suspension is kept at 50 ° C. for 24 hours while stirring at 400 rpm. Polymerization was performed. After cooling to room temperature, the resulting suspension containing the polymer particles was filtered off and washed with distilled water and methanol to obtain a fumaric acid diester copolymer. (Yield: 80%).

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は150,000であった。   The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester copolymer was 150,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ジn−ブチル残基単位=87/13(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed to be diisopropyl fumarate residue unit / di-n-butyl fumarate residue unit = 87/13 (mol%) by 1 H-NMR measurement.

合成例2(フマル酸ジエステル系共重合体(フマル酸ジイソプロピル/フマル酸ビス2−エチルヘキシル共重合体)の合成2)
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた1Lのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(信越化学製、商品名メトローズ60SH−50)1.6g、蒸留水520g、フマル酸ジイソプロピル196g、フマル酸ビス2−エチルヘキシル84g、及び重合開始剤であるt−ブチルパーオキシピバレート1.9gを入れ、窒素バブリングを1時間行なった後、400rpmで攪拌しながら50℃で24時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た。(収率:66%)。
Synthesis Example 2 (Synthesis 2 of Fumarate Diester Copolymer (Diisopropyl Fumarate / Bis-2-ethylhexyl Fumarate Copolymer 2))
In a 1 L autoclave equipped with a stirrer, a condenser tube, a nitrogen inlet tube and a thermometer, 1.6 g of hydroxypropylmethylcellulose (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name Metrose 60SH-50), 520 g of distilled water, 196 g of diisopropyl fumarate, bis of fumarate 84 g of 2-ethylhexyl and 1.9 g of t-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator were added, nitrogen bubbling was performed for 1 hour, and then the suspension was kept at 50 ° C. for 24 hours while stirring at 400 rpm. Polymerization was performed. After cooling to room temperature, the resulting suspension containing the polymer particles was filtered off and washed with distilled water and methanol to obtain a fumaric acid diester copolymer. (Yield: 66%).

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は86,000であった。   The number average molecular weight of the obtained fumaric acid diester copolymer was 86,000.

また、H−NMR測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位/フマル酸ビス2−エチルヘキシル残基単位=84/16(モル%)であることを確認した。 The copolymer composition was confirmed by 1 H-NMR measurement to be diisopropyl fumarate residue unit / bis2-ethylhexyl fumarate residue unit = 84/16 (mol%).

合成例3(フマル酸ジイソプロピル単独重合体の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル50g(0.25モル)および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.27g(0.0015モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、36時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル単独重合体を得た(収率:71%)。
Synthesis Example 3 (Synthesis of diisopropyl fumarate homopolymer)
After putting 50 g (0.25 mol) of diisopropyl fumarate and 0.27 g (0.0015 mol) of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator into a glass ampule with a capacity of 75 mL, and repeating nitrogen substitution and depressurization. Sealed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and held for 36 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 80 ° C. for 10 hours to obtain a diisopropyl fumarate homopolymer (yield: 71%).

得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体の数平均分子量は118,000であった。   The number average molecular weight of the obtained diisopropyl fumarate homopolymer was 118,000.

合成例4(フマル酸モノイソプロピル単独重合体の合成)
容量75mLのガラスアンプルにフマル酸モノイソプロピル50g(0.32モル)および重合開始剤である1,1ジ(tert−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン0.40g(0.0015モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを70℃の恒温槽に入れ、72時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、フマル酸モノイソプロピル単独重合体を得た(収率:18%)。
Synthesis Example 4 (Synthesis of monoisopropyl fumarate homopolymer)
A glass ampule with a capacity of 75 mL is charged with 50 g (0.32 mol) of monoisopropyl fumarate and 0.40 g (0.0015 mol) of 1,1 di (tert-butylperoxy) -2-methylcyclohexane as a polymerization initiator. After repeating nitrogen substitution and depressurization, the mixture was sealed in a reduced pressure state. The ampule was placed in a constant temperature bath at 70 ° C. and held for 72 hours to carry out radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved with 400 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, followed by vacuum drying at 80 ° C. for 10 hours to obtain a monoisopropyl fumarate homopolymer (yield: 18%).

得られたフマル酸モノイソプロピル単独重合体の数平均分子量は36,000であった。   The number average molecular weight of the obtained monoisopropyl fumarate homopolymer was 36,000.

実施例9
実施例1で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 9
Dissolve the alkoxycinnamic acid ester polymer obtained in Example 1 in methyl isobutyl ketone to give a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dry at 130 ° C. for 10 minutes. Thus, a film using an alkoxycinnamic acid ester polymer having a thickness of 30 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.5%、屈折率1.564であった。   The obtained film had a total light transmittance of 90%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.564.

三次元屈折率は、nx=1.5605、ny=1.5605、nz=1.5704であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−297nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.9nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5605, ny = 1.5605, nz = 1.5704, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was negatively large at −297 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 9.9 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例10
実施例2で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロヘキサノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、150℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 10
By dissolving the alkoxycinnamic acid ester polymer obtained in Example 2 in cyclohexanone to give a resin solution of 20% by weight, casting on a polyethylene terephthalate film with a coater, and drying at 150 ° C. for 10 minutes, A film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 20 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.517であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.517.

三次元屈折率は、nx=1.5134、ny=1.5134、nz=1.5228であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−188nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5134, ny = 1.5134, nz = 1.5228, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as -188 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 9.4 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例11
実施例3で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をトルエン/メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み20μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 11
The alkoxycinnamic acid ester polymer obtained in Example 3 was dissolved in a toluene / methyl isobutyl ketone mixed solvent to give a 20% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, and 10% at 130 ° C. By partial drying, a film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 20 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.6%、屈折率1.529であった。   The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.529.

三次元屈折率は、nx=1.5259、ny=1.5259、nz=1.5361であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−204nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は10.2nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.5259, ny = 1.5259, nz = 1.5361, and the obtained film showed a large value of the refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −204 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 10.2 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例12
実施例4で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をトルエン/メチルエチルケトン混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、110℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 12
The alkoxycinnamic ester polymer obtained in Example 4 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone mixed solvent to give a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 110 ° C. for 10 minutes. As a result, a film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 30 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率90%、ヘーズ0.7%、屈折率1.563であった。   The obtained film had a total light transmittance of 90%, a haze of 0.7%, and a refractive index of 1.563.

三次元屈折率は、nx=1.5602、ny=1.5602、nz=1.5689であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−261nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.5602, ny = 1.5602, nz = 1.5689, and the obtained film showed a large value of the refractive index in the thickness direction of the film, nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −261 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 8.7 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例13
実施例5で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をテトラヒドロフランに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 13
By dissolving the alkoxycinnamate-based polymer obtained in Example 5 in tetrahydrofuran to give a resin solution of 20% by weight, casting on a polyethylene terephthalate film with a coater, and drying at 70 ° C. for 10 minutes, A film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 25 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.5%、屈折率1.545であった。   The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.545.

三次元屈折率は、nx=1.5420、ny=1.5420、nz=1.5506であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−215nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.5420, ny = 1.5420, nz = 1.5506, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −215 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 8.6 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例14
実施例6で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロペンタノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、120℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 14
Dissolve the alkoxycinnamic acid ester polymer obtained in Example 6 in cyclopentanone to give a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dry at 120 ° C. for 10 minutes. As a result, a film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 25 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率94%、ヘーズ0.5%、屈折率1.427であった。   The obtained film had a total light transmittance of 94%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.427.

三次元屈折率は、nx=1.4242、ny=1.4242、nz=1.4323であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−203nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は8.1nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4242, ny = 1.4242, nz = 1.4323, and the obtained film exhibited a large value of refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −203 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 8.1 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例15
実施例7で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロヘキサノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 15
By dissolving the alkoxycinnamic acid ester polymer obtained in Example 7 in cyclohexanone to give a resin solution of 20% by weight, casting it on a polyethylene terephthalate film with a coater, and drying at 130 ° C. for 10 minutes, A film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 25 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率91%、ヘーズ0.4%、屈折率1.543であった。   The obtained film had a total light transmittance of 91%, a haze of 0.4%, and a refractive index of 1.543.

三次元屈折率は、nx=1.5397、ny=1.5397、nz=1.5506であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−273nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は10.9nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.5397, ny = 1.5397, nz = 1.5506, and the obtained film exhibited a large value of the refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane phase difference Rth was as negative as −273 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 10.9 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

実施例16
実施例8で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。
Example 16
Dissolve the alkoxycinnamic ester polymer obtained in Example 8 in methyl isobutyl ketone to give a 20% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dry at 130 ° C. for 10 minutes. As a result, a film using an alkoxycinnamic ester polymer having a thickness of 25 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.5%、屈折率1.473であった。   The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.5%, and a refractive index of 1.473.

三次元屈折率は、nx=1.4699、ny=1.4699、nz=1.4793であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Rthは−235nmと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は9.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.4699, ny = 1.4699, nz = 1.4793, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. . Further, the out-of-plane retardation Rth was as negative as −235 nm. The ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was 9.4 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。   From these results, the obtained film has a negative birefringence, a large refractive index in the thickness direction, a large negative out-of-plane retardation, and a high out-of-plane retardation even in a thin film. It was suitable for a phase difference film.

比較例1
合成例1で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン/メチルエチルケトン=50/50混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのフィルムを得た。
Comparative Example 1
The fumaric acid diester copolymer obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 50/50 mixed solvent to form a 20% by weight resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, at 70 ° C. A film having a thickness of 30 μm was obtained by drying for 10 minutes.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.472であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.472.

三次元屈折率は、nx=1.4712、ny=1.4712、nz=1.4743であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−93nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も3.1nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4712, ny = 1.4712, nz = 1.4743, and the obtained film had a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation was as small as -93 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 3.1 nm / film thickness (μm).

比較例2
合成例2で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン/メチルエチルケトン=50/50混合溶剤に溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのフィルムを得た。
Comparative Example 2
The fumaric acid diester copolymer obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a toluene / methyl ethyl ketone = 50/50 mixed solvent to form a 20 wt% resin solution, which was cast on a polyethylene terephthalate film by a coater, at 70 ° C. A film having a thickness of 30 μm was obtained by drying for 10 minutes.

得られたフィルムは、全光線透過率92%、ヘーズ0.6%、屈折率1.473であった。   The obtained film had a total light transmittance of 92%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.473.

三次元屈折率は、nx=1.4723、ny=1.4723、nz=1.4738であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−45nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も1.5nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index was nx = 1.4723, ny = 1.4723, nz = 1.4738, and the obtained film had a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation was as small as −45 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was also as small as 1.5 nm / film thickness (μm).

比較例3
合成例3で得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体をテトラヒドロフランに溶解して22重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、70℃で10分乾燥することにより、厚み21μmのフィルムを得た。
Comparative Example 3
The diisopropyl fumarate homopolymer obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in tetrahydrofuran to give a 22% by weight resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 70 ° C. for 10 minutes to obtain a thickness of 21 μm. Film was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率93%、ヘーズ0.3%、屈折率1.468であった。   The obtained film had a total light transmittance of 93%, a haze of 0.3% and a refractive index of 1.468.

三次元屈折率は、nx=1.4689、ny=1.4689、nz=1.4723であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−71nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も3.4nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.46889, ny = 1.4689, nz = 1.4723, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −71 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 3.4 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜においても高い面外位相差を期待できないものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small, and even a thin film could not be expected to have a high out-of-plane retardation. Met.

比較例4
合成例4で得られたフマル酸モノイソプロピル単独重合体をシクロペンタノンに溶解して20重量%の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、120℃で10分乾燥することにより、厚み25μmのフィルムを得た。
Comparative Example 4
The monoisopropyl fumarate homopolymer obtained in Synthesis Example 4 was dissolved in cyclopentanone to give a 20 wt% resin solution, cast on a polyethylene terephthalate film with a coater, and dried at 120 ° C. for 10 minutes. A film having a thickness of 25 μm was obtained.

得られたフィルムは、全光線透過率94%、ヘーズ0.6%、屈折率1.410であった。   The obtained film had a total light transmittance of 94%, a haze of 0.6%, and a refractive index of 1.410.

三次元屈折率は、nx=1.4087、ny=1.4087、nz=1.4126であり、得られたフィルムはnx=ny<nzとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Rthは−97nmと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も3.9nm/フィルム膜厚(μm)と小さかった。   The three-dimensional refractive index is nx = 1.4087, ny = 1.4087, nz = 1.4126, and the obtained film has a large refractive index in the thickness direction of nx = ny <nz. However, the out-of-plane retardation Rth was as small as −97 nm, and the ratio between the absolute value of the out-of-plane retardation and the film thickness was as small as 3.9 nm / film thickness (μm).

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜においても高い面外位相差を期待できないものであった。   From these results, the obtained film had negative birefringence and a large refractive index in the thickness direction, but the out-of-plane retardation was small, and even a thin film could not be expected to have a high out-of-plane retardation. Met.

nx;フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ny;nxと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
nz;フィルムの厚み方向の屈折率を示す。
nx: Refractive index in the fast axis direction in the film plane.
ny: Refractive index in the film in-plane direction orthogonal to nx.
nz: The refractive index in the thickness direction of the film.

Claims (9)

少なくとも一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。
Figure 0006015838
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、nは1〜5の整数を示す。)
An alkoxycinnamic ester polymer comprising at least an alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1).
Figure 0006015838
(Here, R 1 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a branched alkyl group, and R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or 3 carbon atoms. ) Represents a cyclic alkyl group of -6, and n represents an integer of 1-5.
一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を10モル%以上含むことを特徴とする請求項1に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。 The alkoxycinnamate ester polymer according to claim 1, comprising 10 mol% or more of an alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (1). 一般式(2)で表されるフマル酸モノエステル残基単位を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。
Figure 0006015838
(ここで、Rは炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示す。)
The alkoxycinnamate ester polymer according to claim 1 or 2, comprising a fumaric acid monoester residue unit represented by the general formula (2).
Figure 0006015838
(Here, R 3 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms.)
標準ポリスチレン換算の数平均分子量が30,000〜500,000であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。 The number average molecular weight of standard polystyrene conversion is 30,000-500,000, The alkoxycinnamate polymer in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位がメトキシケイ皮酸エステル残基単位およびエトキシケイ皮酸エステル残基単位より選択される1以上の残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。 The alkoxycinnamate residue unit is one or more residue units selected from a methoxycinnamate residue unit and an ethoxycinnamate residue unit. The alkoxycinnamate ester polymer according to any one of the above. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。 6. The alkoxycinnamic acid ester polymer according to claim 1, wherein the alkoxycinnamic acid ester residue unit is a 4-methoxycinnamic acid ester residue unit. アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位および4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位からなる群より選択されるいずれかであることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。 The alkoxycinnamate residue unit is 4-methoxycinnamate methyl residue unit, 4-methoxycinnamate ethyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-methoxycinnamate Isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit and 4-methoxycinnamic leather unit The alkoxycinnamic acid ester polymer according to any one of claims 1 to 6, wherein the alkoxycinnamic acid ester polymer is selected from the group consisting of acid cyclohexyl residue units. 請求項1〜請求項7のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。 A retardation film using the alkoxycinnamate polymer according to any one of claims 1 to 7. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする請求項8に記載の位相差フィルム。 The relationship when the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal to it is ny, and the refractive index in the thickness direction of the film is nz is nx ≦ ny <nz. The retardation film according to claim 8, wherein the retardation film is present.
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