JP6500472B2 - Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びその製造方法に関するものであり、さらに詳細には、靱性に優れるフィルム等への適用も可能な高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びそれを効率的に製造する方法に関するものである。 The present invention relates to a novel alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer and a method for producing the same, and more specifically, a high molecular weight novel alkoxycinnamic acid which can be applied to a film excellent in toughness and the like. The present invention relates to an ester-acrylate copolymer and a method for efficiently producing the same.
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。
多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。
Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including mobile phones, computer monitors, laptop computers, and televisions. Many optical films are used for liquid crystal displays in order to improve display characteristics. In particular, retardation films play an important role in improving the contrast when viewed from the front or obliquely and compensating the color tone. As the conventional retardation film, polycarbonate and cyclic polyolefin are used, and these polymers are all polymers having positive birefringence.
Many macromolecules have positive birefringence. As a polymer having negative birefringence, there are acrylic resin and polystyrene, but the acrylic resin has a small retardation and the characteristics as a retardation film are not sufficient. Polystyrene has not been used at present because it has a problem of stability of phase difference such as change of phase difference due to slight stress due to large photoelastic coefficient in low temperature region, and practical problem of low heat resistance. .
負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ(STN−LCD)や垂直配向型液晶ディスプレイ(VA−LCD)、面内配向型液晶ディスプレイ(IPS−LCD)、反射型液晶ディスプレイ(反射型LCD)等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。 A stretched film of a polymer exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film, and becomes an unconventional retardation film. For example, a super twist nematic liquid crystal display (STN-LCD) or a vertical alignment liquid crystal display (VA-LCD), useful as a retardation film for compensating the viewing angle characteristics of displays such as in-plane oriented liquid crystal display (IPS-LCD), reflective liquid crystal display (reflective LCD), etc. There is a strong market demand for retardation films that have negative birefringence.
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法(例えば、特許文献1〜3参照)である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。 There has been proposed a method for producing a film in which the refractive index in the thickness direction of the film is increased using a polymer having positive birefringence. First, a heat-shrinkable film is adhered to one side or both sides of a polymer film, and the laminate is heat-stretched to apply a shrinking force in the film thickness direction of the polymer film (for example, Patent Documents 1 to 3) See). In addition, a method of uniaxially stretching in a plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (see, for example, Patent Document 4).
それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献5参照)。 In addition, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer has been proposed (see, for example, Patent Document 5).
しかし、特許文献1〜4において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。 However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem of low productivity because the manufacturing process becomes very complicated. Further, control of the uniformity of the retardation and the like becomes significantly more difficult as compared with the conventional control by stretching.
ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。 When polycarbonate is used as the base film, the photoelastic coefficient at room temperature is large, and the phase difference changes due to a slight stress, so there is a problem in the stability of the phase difference. Furthermore, there is also a problem in which the wavelength dependency of the phase difference is large.
特許文献5で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。 The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy, and from the viewpoint of simplification of the production method and economy, the fine particles There is a need for a retardation film that does not require the addition of.
また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている(例えば、特許文献6〜10参照)。 Moreover, fumaric-acid diester type-resin and the film consisting thereof are proposed (for example, refer patent documents 6-10).
また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献11参照)。 Further, a diisopropyl fumarate-cinnamic acid derivative-based copolymer comprising a fumaric acid diisopropyl residue unit, and a cinnamic acid residue unit or a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, A retardation film using the diisopropyl fumaric acid-cinnamic acid derivative copolymer has been proposed (see, for example, Patent Document 11).
さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数1〜6のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び2個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている(例えば、特許文献12参照)。 Furthermore, a fumaric acid diester residue unit, a fumaric acid residue unit of a cinnamic acid ester residue unit having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a residue unit of a polyfunctional monomer having two or more radically polymerizable functional groups An acid diester-cinnamic acid ester copolymer and a retardation film using the fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer have been proposed (see, for example, Patent Document 12).
特許文献6〜10で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diester resin and the film comprising the same proposed in Patent Documents 6 to 10 have high out-of-plane retardation, films having higher out-of-plane retardation even in thin films are currently available. It has been demanded.
特許文献11で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献6〜10で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、より生産性に優れ、より高収率で得られる重合体が求められている。また、特許文献11で提案された位相差フィルムは、薄膜において高い面外位相差を有するものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diisopropyl-cinnamic acid derivative type copolymer proposed by patent document 11 expresses out-of-plane phase difference higher than the resin proposed by patent documents 6-10, it is more excellent in productivity and more There is a need for polymers obtained in high yields. Moreover, although the retardation film proposed by patent document 11 has high out-of-plane phase difference in a thin film, the film which has higher out-of-plane phase difference is further calculated | required also in a thin film.
特許文献12で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体は生産性に優れ高収率で得られるものの、フィルムとした際に特許文献11より高い面外位相差を有するものではなく、生産性に優れ、かつ、より高い面外位相差を有する重合体が求められている。また、フィルムが薄膜フィルムの場合でも、フィルムとしての特性を維持しつつ高い面外位相差を発現する重合体が求められている。 Although the fumaric acid diester-cinnamic acid ester copolymer proposed in Patent Document 12 is excellent in productivity and obtained in a high yield, in the film having an out-of-plane retardation higher than that of Patent Document 11 when formed into a film There is a need for polymers having excellent productivity and higher out-of-plane retardation. In addition, even when the film is a thin film, a polymer that exhibits high out-of-plane retardation while maintaining the characteristics of the film is required.
本発明の目的は、フィルムとした際も薄膜で高位相差を発現し、かつ優れた靱性を有する高分子量の新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及びそれを効率よく製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a novel alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of high molecular weight which exhibits high phase difference in a thin film even when formed into a film, and has excellent toughness, and a method of efficiently manufacturing the same. It is to do.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors discover that a specific alkoxy cinnamate ester-acrylate copolymer can solve the said subject, and came to complete this invention.
すなわち、本発明は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体ならびにそれの製造方法に関するものである。 That is, the present invention comprises an alkoxycinnamic acid ester-acrylate comprising an alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1) and a residual unit of a polyfunctional acrylate having a urethane bond. The present invention relates to a copolymer and a method for producing the same.
以下、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体について詳細に説明する。
Hereinafter, the alkoxy cinnamate ester-acrylate copolymer of the present invention will be described in detail.
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含むアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体である。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、特定のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させることを特徴とするものである。また、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、該アルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、重合体となる際の単量体の重合転嫁率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。 An alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer according to the present invention comprises an alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1) and an alkoxycinate residue of a polyfunctional acrylate having a urethane bond. It is an acid ester-acrylate copolymer. And, the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention is characterized by expressing high out-of-plane retardation even in a thin film by containing a specific alkoxycinnamic acid ester residue unit. It is In addition, the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention contains the alkoxycinnamic acid ester residue unit, so that the polymerization transfer-through rate of the monomer when it becomes a polymer is high, and the production is It is characterized by being excellent in sex.
本発明の一般式(1)におけるR1は炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、nは1〜5の整数である。また、本発明の一般式(1)におけるR2は、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数3〜6の環状アルキル基を示し、炭素数1〜12の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数1〜12の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられ、炭素数3〜6の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。
R 1 in the general formula (1) of the present invention represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a hexyl group, a dodecyl group, etc. N is an integer of 1 to 5; R 2 in the general formula (1) of the present invention represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group, or a cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and has 1 to 12 carbon atoms Examples of the linear alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and the like, and branched alkyl having 1 to 12 carbon atoms Examples of the group include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and the like, and as the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group and the like Can be mentioned. Among these, since an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer expresses high out-of-plane retardation, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, A tert-butyl group and a cyclohexyl group are preferable.
具体的な一般式(1)で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位、プロポキシケイ皮酸エステル残基単位、ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位、ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エステル残基単位がさらに好ましい。 As the alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (1), for example, methoxycinnamic acid ester residue unit, ethoxycinnamic acid ester residue unit, propoxycinnamic acid ester residue unit And hexoxycinnamic acid ester residue units, dodetoxycinic acid ester residue units, and the like. Among these, a methoxycinnamic acid ester residue unit and an ethoxycinnamic acid ester residue unit are preferable, and a 4-methoxycinnamic acid ester residue unit is more preferable, because high retardation is expressed.
本発明において、メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。 In the present invention, as a methoxycinnamic acid ester residue unit, for example, methyl 2-methoxycinnamic acid residue unit, ethyl 2-methoxycinnamic acid residue unit, n-propyl 2-methoxycinnamic acid residue unit Unit, 2-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-methoxycinnamic acid tert-butyl residue Units, 2-methoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3- Methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-methoxycinnamic acid tert- Chil residue unit, 3-methoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit 4-methoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, n-propyl 2,3-dimethoxycinnamic acid residue Group unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 1, 3-Dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, ethyl 2,4-dimethoxycinnamic acid residue Group unit, n-propyl residue unit of 2,4-dimethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4-dimethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4-dimethoxycinnamic acid, 2,4- Dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid methyl residue Units, ethyl 2,5-dimethoxycinnamate residue units, n-propyl residue units of 2,5-dimethoxycinnamate, isopropyl isopropyl 2,5-dimethoxycinnamate units, 2,5- Dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, n-propyl 2,6-dimethoxycinnamate residue unit, 2,6-dimethoxy Isocinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue Group unit, 2,6-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid residue unit, 3,4-dimetho N-propyl residue unit of cinnamate, isopropyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 3,4-dimethoxycinnamic acid, sec-butyl residue of 3,4-dimethoxy cinnamic acid Group unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,5-dimethoxysilicone Ethyl cyanate residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-Dimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3, Methyl trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,4-trimethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,3,4-trimethoxycinnamate 2,3, 4 -Trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3 , 4-Trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3 Ethyl 5,5-trimethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit 2,3,5-trimethoxycinnamic acid residue, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit 2,3 3,5-Trimethoxycinnamic acid n-butyl residue Unit, 2,3,5-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-trimethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-trimethoxy cinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 2,3,6-trimethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,6-trimethoxycinnamate residue unit, n-propyl 2,3,6-trimethoxycinnamate Residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxy cinnamic acid sec -Butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnum Acid methyl residue unit, 2,4,5-tri Ethyl toxicinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy N-butyl cinnamate residue unit, 2,4,5-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-trimethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,4, 5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4,6- Trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4, 6-trimethoxycinnamic acid sec-butyl residue Unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid methyl residue Unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid isopropyl residue Unit, n-butyl residue unit of 3,4,5-trimethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 3,4,5-trimethoxycinnamic acid, tert 3,4,5-trimethoxy cinnamic acid -Butyl residue unit, 3,4,5-trimethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxy Ethyl cinnamate residue unit, 2, 3, 4 5-tetramethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid n-butyl residue Unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetramethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5- Tetramethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3, N-Propyl residue unit of 4,6-tetramethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid, n-butyl 2,3,4,6-tetramethoxycinnamic acid Residue unit, 2,3,4,6-tetrameth 2, 2-, 2-, 4-, 2-, 4-, 4-, 2-, 4-, 2-, 4-, 4- or 5-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2, 3, 4, 6- tetramethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, Methyl 3,5,6-tetramethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate residue unit, n-propyl 2,3,5,6-tetramethoxycinnamate Residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetramethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6- Sec-butyl residue unit of tetramethoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3,5,6-tetramethoxy cinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,5,6-tetramethoxy cinnamic acid, Methyl pentamethoxycinnamate residue Unit, ethyl pentamethoxycinnamate residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, pentamethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, pentamethoxycinnamate Examples include acid sec-butyl residue units, pentamethoxycinnamic acid tert-butyl residue units, pentamethoxy cinnamic acid cyclohexyl residue units, and the like.
エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−エトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。 As ethoxycinnamate ester residue units, for example, methyl 2-ethoxycinnamate residue unit, ethyl 2-ethoxycinnamate residue unit, n-propyl 2-ethoxycinnamate residue unit, isopropyl 2-ethoxycinnamate Residue unit, 2-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, Methyl 3-ethoxycinnamate, ethyl 3-ethoxycinnamate, n-propyl 3-ethoxycinnamate, isopropyl 3-ethoxycinnamate, n-butyl 3-ethoxycinnamate Residue unit, 3-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, -Ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid isopropyl residue unit 4-ethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-ethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, 3 Methyl diethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3-diethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,3-diethoxycinnamate residue, isopropyl isopropyl 2,3-diethoxycinnamate residue unit, 2,3 -Diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dietoki Cinnamate tert-butyl residue unit, 2,3-diethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamate methyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamate residue unit, 2,4- Diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid methyl residue unit, ethyl 2,5-diethoxycinnamic acid residue unit, 2,5-Diethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-diethoxycinnum Acid n-butyl residue unit, 2,5-diethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-diethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-diethoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2, Methyl 6-diethoxycinnamate, ethyl 2,6-diethoxycinnamate, n-propyl 2,6-diethoxycinnamate, isopropyl 2,6-diethoxycinnamate 2, 6-diethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-diethoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,6-diethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-diethoxy cinnamic acid cyclohexyl residue Unit, methyl 3,4-diethoxycinnamate residue unit, ethyl 3,4-diethoxycinnamate residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid n- Ropyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4-diethoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-diethoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-diethoxy silica Ternary acid tert-butyl residue unit, 3,4-diethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamate methyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamate residue unit, 3,5-diethoxy silica N-Propyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,5-diethoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-diethoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 3 3,5-Diethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-diethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4-triethoxy Methyl benzoate residue unit, Ethyl 2,3,4-triethoxycinnamate residue unit, 2,3,4-Triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4-Triethoxy Isocinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4- Triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-triethoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5- Ethyl triethoxycinnamate residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5- Triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3, 5 Sec-butyl residue unit of triethoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3,5-triethoxycinnamic acid, 2,3 Methyl 6,6-triethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,6-triethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit 2,3,6-triethoxycinnamate, 2,3 2, 6-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 3, 6-triethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3, 6- triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 2,3,6-triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamate methyl residue unit, 2 , 4,5-Triethoxycinnamic acid Chill residue unit, n-propyl residue unit of 2,4,5-triethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4,5-triethoxycinnamic acid, 2,4,5-triethoxycinnamic acid n-Butyl residue unit, 2,4,5-triethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,5-triethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-tri Ethyloxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamate methyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamate ethyl residue unit, 2,4,6-triethoxy silica N-propyl molybdate residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4,6-triethoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,6-triethyl residue unit Ethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4, -Triethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-triethoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-triethoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4,5 Ethyl triethoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, 3,4,5 N-Butyl residue unit of triethoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 3,4,5-triethoxycinnamic acid, 3 1,4,5-Triethoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamate methyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamate residue unit 2,3,4,5-Tetraetoki N-propyl residue unit of cinnamate, isopropyl residue unit of 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,4,5-tetraethoxy cinnamate, 2, 3,4,5-Tetraethoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetraethoxycinnamate Acid cyclohexyl residue unit, methyl 2,3,4,6-tetraethoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,4,6-tetraethoxycinnamate residue unit 2,3,4,6- N-propyl residue unit of tetraethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid se -Butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetraethoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5, 6-tetraethoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-Tetraethoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetraethoxycinnamate Acid sec-Butyl Residue Unit, 2,3,5,6-Tetraethoxycinnamate tert-Butyl Residue Unit, 2,3,5,6-Tetraethoxycinnamic Acid Cyclohexyl Residue Unit, Pentaethoxycinnamate Acid methyl residue unit, pentae Ethyl xyl cinnamate residue unit, n-propyl residue unit of pentaethoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of pentaethoxy cinnamic acid, n-butyl residue unit of pentaethoxy cinnamic acid, sec-butyl pentaethoxy cinnamic acid A residue unit, a penta-ethoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, a pentaethoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, etc. are mentioned.
プロポキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。 Examples of propoxycinnamic acid ester residue units include 2-propoxy cinnamic acid methyl residue units, 2-propoxy cinnamic acid ethyl residue units, 2-propoxy cinnamic acid n-propyl residue units, 2- Propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-propoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2- Propoxycinnamate cyclohexyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid Isopropyl residue unit, n-butyl residue unit of 3-propoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 3-propoxy cinnamic acid, 3-propoxy group Ternary acid tert-butyl residue unit, 3-propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n- Propyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-propoxy cinnamic acid tert- Butyl residue unit, 4-propoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3-dipropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dipropoxy cinnamic acid residue unit, 2,3-dipropoxy N-propyl cinnamate residue unit, 2,3-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3-dipropoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2, 3 Dipropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dipropoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dipropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dipropoxy cinnamic acid Acid methyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, N-Butyl residue unit of 2,4-dipropoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,4-dipropoxy cinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,4-dipropoxy cinnamic acid, 2, 4-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid ethyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid n - Ropyl residue unit, 2,5-dipropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit 2,5-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,5-dipropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,6-dipropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,6-di Ethyl propoxycinnamate residue unit, 2,6-dipropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,6-dipropoxy cinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-dipropoxy cinnamic acid n- Butyl residue unit, sec-butyl residue unit of 2,6-dipropoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,6-dipropoxy cinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,6-dipropoxy cinnamic acid , Methyl 4-dipropoxycinnamate residue unit, ethyl 3,4-dipropoxy cinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,4-dipropoxy cinnamic acid, 3,4- dipropoxy cinnamate Isopropyl isopropyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dipropoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4- dipropoxy cinnamic acid tert- Butyl residue unit, 3,4-dipropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,5-dipropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 3,5-dipropoxy cinnamic acid residue unit, 3,5 N-Propyl residue unit of dipropoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 3,5-dipropoxycinnamic acid, 3,5-dipropoxy cinnamate Skin acid sec- Chil residue unit, 3,5-dipropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-dipropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4- tripropoxy cinnamic acid residue unit Ethyl 2,3,4-tripropoxycinnamate residue unit n-propyl residue unit 2,3,4-tripropoxycinnamate residue isopropyl group 2,3,4-tripropoxycinnamic acid residue unit 2,3,4-Tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4- tripropoxy cinnamic acid tert- Butyl residue unit, 2,3,4-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-tripropoxy cinnamic acid methyl residue unit, ethyl 2,3,5-tripropoxy cinnamic acid residue Base unit 2, 3,5-tripropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5-Tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-tripropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue Unit, methyl 2,3,6-tripropoxycinnamate residue unit, ethyl 2,3,6-tripropoxycinnamate residue unit, n-propyl 2,3,6-tripropoxycinnamic acid residue unit Unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,6-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,6-tripropoxy cinnamic acid sec-butyl Residue unit, 2, , 6-tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3, 6-tripropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,5- tripropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,4 Ethyl 5,5-tripropoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit 2,4,5-tripropoxycinnamic acid residue, 2,4,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4 N-Butyl residue unit of 5,5-tripropoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,4,5-tripropoxy cinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,4,5-tripropoxy cinnamic acid 2,4,5-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-tripropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6-tripropoxy cinnamic acid residue unit, 2 , 4, 6 N-Propyl residue unit of tripropoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4,6-tripropoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4,6-tripropoxycinnamic acid, 2,4,4 6-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-tripropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3 ,, Methyl 4,5-tripropoxycinnamate residue unit, Ethyl 3,4,5-tripropoxycinnamate residue unit, n-Propyl residue unit of 3,4,5-tripropoxycinnamic acid 3, 4,5-tripropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Tripropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-tripropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3, Ethyl 4,5-tetrapropoxycinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid isopropyl residue Unit, n-butyl residue unit of 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3,4,5-tetrapropoxy cinnamic acid, 2,3,4,5- Tetrapropoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetrapropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2, 3, 4, 6 Ethyl tetrapropoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid residue, isopropyl isopropyl 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamate residue unit, 2, 3,4,6-Tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxy cinnamic acid Acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrapropoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5, 6-tetrapropoxycinnamate ethyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 3, 5 6-tetrapropoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxy cinnamic acid tert-butyl Residue unit, 2,3,5,6-tetrapropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentapropoxy cinnamic acid methyl residue unit, pentapropoxy cinnamic acid ethyl residue unit, n-propyl pentapropoxy cinnamic acid Residue unit, pentapropoxy cinnamic acid isopropyl residue unit, pentapropoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, pentapropoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, pentapropoxy cinnamic acid tert-butyl residue unit, Pentapropoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit etc. are mentioned.
ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。 As a hexoxycinnamate ester residue unit, for example, methyl 2-hexoxycinnamate residue unit, ethyl 2-hexoxycinnamate residue unit, n-propyl 2-hexoxycinnamate residue unit, isopropyl 2-hexoxycinnamate Residue unit, n-butyl residue unit of 2-hexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2-hexoxycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2-hexoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2-hexoxycinnamic acid, Methyl 3-hexoxycinnamate residue unit, ethyl 3-hexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3-hexoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 3-hexoxycinnamic acid, n-butyl 3-hexoxycinnamic acid Residue unit, 3-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3-hexoxykeate Ternary acid tert-butyl residue unit, 3-hexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-propyl residue unit 4-hexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-hexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-hexoxy cinnamate Cyclohexyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dihexoxy cinnamate Isopropyl residue unit, 2,3-Dihexoxycinnate residue unit, 2, 3 Dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 4-Dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4-Dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid methyl residue Unit, Ethyl 2,5-Dihexoxycinnamate residue unit, 2,5-Dihexoxycinnamic acid n-P Ropyl residue unit, 2,5-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-Dihexoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-Dihexoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-Dihexoxy cinnamate Ternary acid tert-butyl residue unit, 2,5-Dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,6-Dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,6-Dihexoxycinnamic acid residue unit, 2,6-Dihexoxycinoxy acid N-Propyl residue unit, 2,6-Dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-Dihexoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-Dihexoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 6-Dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,6-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 1, 4-Dihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid ethyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3 , 4-Dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-dihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue Group unit, methyl 3,5-dihexoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-dihexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,5-dihexoxycinnamate residue, isopropyl 3,5-dihexoxycinnamate residue Group unit, 3,5-Dihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-Dihexoxycinnamic acid sec- 2, 2, 3, 4-trihexoxycinnamate methyl residue units, 2, 3, 4-trihexoxycinnamate methyl group units Ethyl 3,4-trihexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,3,4-trihexoxycinnamic acid residue, isopropyl residue unit of 2,3,4-trihexoxycinnamic acid residue 2,3,4-Trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxy cinnamate Acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3,5-trihexene Ethyl soxicinnamate residue unit 2, 3,5-Trihexoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid n-butyl residue Group unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5-trihexoxy group Cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3, 6-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2, 3, 6- trihexoxy cinnamic acid residue unit, 2, 3, 6- trihexene N-Propyl residue unit of soxicinnamate, isopropyl residue unit of 2,3,6-trihexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,3,6-trihexoxycinnamic acid, 2,3 , 6-trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2, 6, 6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3, 6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4, 5-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, Ethyl 2,4,5-trihexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,4,5-trihexoxycinnamate residue, isopropyl 2,4,5-trihexoxycinnamate residue Group unit, n-butyl residue unit of 2,4,5-trihexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,4,5-trihexoxycinnamic acid, 2,4,5-trihexoxy group Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,4,6- Ethyl trihexoxycinnamate residue unit, 2, 4, 6 N-Propyl residue unit of trihexoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,4,6-trihexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of 2,4,6-trihexoxycinnamic acid, 2 2,4,6-Trihexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl Residue unit, methyl 3,4,5-trihexoxycinnamate residue unit, ethyl 3,4,5-trihexoxycinnamate residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid n-Propyl residue unit, 3,4,5-Trihexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 3,4,5-Trihexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4,5-Tri Hexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Trihexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-trihexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 Ethyl 3,4,5-tetrahexoxycinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue unit 2,3,4,5-tetrahexoxy Isopropyl cinnamate residue unit, n-butyl residue unit of 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3,4,5-tetrahexoxycinnamic acid, 2,3,4,5-Tetrahexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-Tetrahexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexene Soxicinnamate methyl residue unit, 2, 3, 4, 6 Ethyl tetrahexoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid 2,3,4,6-Tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,6-Tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,6 -Tetrahexoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetrahexoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid methyl residue Units, ethyl 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamate residue units, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid n-propyl residue units 2,3,5,6- Tetrahexoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2, 3, 5 6-Tetrahexoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxycinnamic acid tert-Butyl residue unit, 2,3,5,6-tetrahexoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentahexoxy cinnamic acid methyl residue unit, pentahexoxy cinnamic acid residue unit, pentahex N-Propyl residue unit of soxicinnamate, isopropyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, n-butyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, pentahexene Examples thereof include a tert-butyl residue unit of soxcinnamic acid, a cyclohexyl residue unit of pentahexoxycinnamic acid, and the like.
ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、2−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,6−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,5−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,4,6−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、3,4,5−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,5−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,4,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、2,3,5,6−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。
これらの中でも、高い位相差を発現することから、4−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、4−メトキシケイ皮酸n−プロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、4−メトキシケイ皮酸n−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸sec−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸tert−ブチル残基単位、4−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位がさらに好ましい。
As dodeto cinnamate ester residue unit, for example, methyl 2-dodetocinnamate residue unit, ethyl 2-dodetocinnamate residue unit, n-propyl 2-dodetocinnamate residue unit, isopropyl 2-dodetocinnamate Residue unit, 2-dodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2-dodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, Methyl 3-dodeoxycinnamate residue unit, ethyl 3-dodeoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3-dodeoxycinnamate, isopropyl residue unit of 3-dodeoxycinnamic acid, n-butyl 3-dodeoxycinnamic acid Residue unit, 3- dodetoxic acid sec-butyl residue unit, 3-dodetoxike Ternary tert-butyl residue unit, 3-dodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 4-dodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 4-dodeoxycinnamic acid ethyl residue unit, 4-dodeoxycinnamic acid n-propyl residue unit 4- dodetoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4- dodetoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4- dodetoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4- dodetoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4- dodoxycinnamic acid unit Cyclohexyl residue unit, 2,3-dido deoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3-dido deoxy cinnamic acid ethyl residue unit, 2,3-dido deoxy cinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3-dido deoxy cinnamate Isopropyl residue unit, 2,3-Zide detoxic acid n-butyl residue unit, 2, 3 Sec-butyl residue unit of dododexycinnamic acid, tert-butyl residue unit of 2,3-didodoxycinnamic acid, cyclohexyl residue unit of 2,3-didodoxycinnamic acid residue, methyl 2,4-didodeoxycinnamic acid residue unit, 2, Ethyl 4-zidodeoxycinnamic acid residue unit, n-propyl residue unit of 2,4-zidodeoxycinnamic acid unit, isopropyl residue unit of 2,4-zidodoxycinnamic acid residue, n-butyl residue unit of 2,4-zidodoxycinnamic acid unit, 2,4-Zide detoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,4-zido detoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4-zidodetoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,5-zidodoxycinnamic acid methyl residue Unit, ethyl 2,5-zidodeoxycinnamate residue unit, 2,5-zidodeoxycinnamic acid n-p Ropyl residue unit, 2,5-zidodeoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,5-zidodoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,5-zidodetoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,5-zidodexoxylic acid unit Ternary acid tert-butyl residue unit, 2,5-dido deoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,6-dido deoxy cinnamic acid methyl residue unit, 2,6-dido deoxy cinnamic acid ethyl residue unit, 2,6-dido dexitone N-propyl molybdate residue unit, 2,6-dido deoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 2,6-dido deoxy cinnamic acid n-butyl residue unit, 2,6-dido deoxy cinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 , 6- zido detoxicinamic acid tert-butyl residue unit, 2, 6-zido detoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, Methyl 4-, 4- dode-de-cinnamate residue unit, 3,4- do-de-de- cinnamate residue unit, 3,4- do-de-de- cinnamate residue unit, n- propyl residue unit, 3, 4- do-de-deoxy cinnamate isopropyl residue unit, 3 , 4-Zide detoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,4-zido detoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 3,4-zidodetoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4-zidodoxycinnamic acid cyclohexyl residue Group unit, methyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, ethyl 3,5-didodeoxycinnamate residue unit, n-propyl residue unit of 3,5-didodecycinamic acid residue, isopropyl 3,5-didodeoxycinnamic acid residue Group unit, 3,5-dido deoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 3,5-dido deoxycinnamic acid sec- Tyl residue unit, 3,5-didodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,5-didodetoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4-tridodoxycinnamic acid methyl residue unit, 2 , 3, 4- toldo deoxycinnamic acid residue unit, 2, 3, 4- toldo deoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2, 3, 4- toldo deoxycinnamic acid Isopropyl residue unit, n-butyl residue unit of 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid, 2,3,4 -Tridodetoxincinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4-tridodeoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid methyl residue unit Ethyl 2,3,5 tolydodecinnamate residue units 2, N-Propyl residue unit of 3,5-tolydetodoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 2,3,5-tolytodoxycinnamic acid, n, 2,3,5-tolydoxycinnamic acid n -Butyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2,3,5-tridodeoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3, 5-tridodetocinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3, 6-tridodeoxycinnamic acid methyl residue unit, 2,3, 6-tridodetocincinic acid residue unit, N-Propyl residue unit of 2,3,6-toridodexincinnamate, isopropyl residue unit of 2,3,6-toridodexinocinnamic acid, 2,3,6-toridodexic acid shell Acid n-Butyl Residue Unit, 2,3,6-Tridodetocinnamate sec-Butyl Residue Unit, 2, , 6- toldo deoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3, 6 toldo deoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, methyl 2,4,5- tolido deoxycinnamic acid residue Group unit, ethyl 2,4,5-tolydo decinnamate residue unit, 2,4,5- tolydo deoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 2,4,5-tolyde group Toxycinamic acid isopropyl residue unit, 2,4,5-tolydodexycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,4,5-tolydodoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 2 1,4,5-tolydetodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,5-tolydodoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,4,6-tolydodoxycinnamic acid Methyl residue unit, Ethyl 2,4,6-tridodeoxycinnamate residue unit, 2,4,6 N-Propyl residue unit of toldo deoxycinnamic acid, n-propyl residue unit of 2,4,6-tolodotoxycinnamic acid, n-butyl residue of 2,4,6- toldodeoxycinnamic acid Unit, 2,4,6-tolydetoxicinamic acid sec-butyl residue unit, 2,4,6-tolydodoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,4,6-tolyde Deoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 3,4,5-tolydo detoxycinnamic acid methyl residue unit, 3,4,5-tolydodoxycinnamic acid residue unit, 3,4, N-Propyl residue unit of 5-tolydo deoxycinnamic acid, isopropyl residue unit of 3,4,5-tolydo deoxycinnamic acid, n-butyl 3,4,5-tolydo dehydroxycinnamic acid Residue unit, 3,4,5-tridodecinoxylic acid sec-butyl residue unit, 3,4,5- Tri-do-de-t-cinnamic acid tert-butyl residue unit, 3,4,5-trido-de-t-cinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,4,5-tetra-do-do-to-cinnamate methyl acid residue Unit, ethyl 2,3,4,5-tetradodetocinnamate residue unit, 2,3,4,5-tetradodetocinnamic acid n-propyl residue unit, 2,3,4, 5-tetradodetoxinic acid isopropyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodetoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodetoxycinnum skin Acid sec-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodetoxinocinnamate tert-butyl residue unit, 2,3,4,5-tetradodetoxinocinnamate cyclohexyl residue unit, Methyl 2,2,4,6-tetradodetocinnamate residue unit 2,3,4,6 Ethyl tetra dodetocinnamate residue unit, n-propyl residue unit with 2,3,4,6-tetradodetocinnamic acid, isopropyl 2,3,4,6-tetradodetocinnamate Residue unit, n-butyl residue unit of 2,3,4,6-tetradodetoxycinnamic acid sec-butyl residue unit of 2,3,4,6-tetradodetoxycinnamic acid, 2, 3,4,6-Tetradodetoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,4,6-tetradodetoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, 2,3,5,6-tetrad Methyl detoxin cinnamic acid residue unit, ethyl 2,3,5,6-tetra-do-de-toxycinnamic acid residue unit, n-propyl residue of 2,3,5,6--tetra-do-de-toxycinnamic acid 2,3,5,6-Tetradodecinoxylic acid isopropyl residue unit 2,3,5 N-Butyl residue unit of 6-tetradodetoxycinnamic acid, sec-butyl residue unit of 2,3,5,6-tetradodetoxycinnamic acid, 2,3,5,6-tetradodoxy Cinnamic acid tert-butyl residue unit, 2,3,5,6-tetradodetoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, pentadodetoxinic acid methyl residue unit, pentadodetoxycinium ethylate Residue unit, n-propyl residue unit of pentadodexycinnamic acid, isopropyl residue unit of pentadodexoxycinnamate, n-butyl residue unit of pentadodexycinnamic acid, pentadotetoxycne skin Examples of the acid sec-butyl residue unit, pentadodecoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, pentadodecoxycinnamic acid cyclohexyl residue unit and the like can be mentioned.
Among these, methyl 4-methoxycinnamate residue unit, ethyl 4-methoxycinnamate unit residue, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit, 4- 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid n-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-methoxycinnamic acid tert-butyl residue unit, 4- The methoxy cinnamic acid cyclohexyl residue unit is preferable, and the 4-methoxy cinnamic acid ethyl residue unit is more preferable.
また、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位としては、ウレタン結合を有する部位と2個以上のアクリレート単位を有する部位を含む多官能性アクリレートの残基単位であれば如何なるものでもよい。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を含んでなることにより、より高分子量化が達成できると共に、重合体となる際の単量体の重合転化率も高く、生産性の効率にも優れるものとなるものである。また、得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をフィルムとした際には靭性に優れるフィルムとなるものである。ここで、ウレタン結合を有さない多官能性アクリレートの残基単位である場合、得られる重合体は高分子量化が達成し難い、得られるフィルムが靭性に劣る等の課題が発生する場合がある。 Moreover, as a residue unit of the polyfunctional acrylate having a urethane bond, any residue unit of a polyfunctional acrylate including a moiety having a urethane bond and a moiety having two or more acrylate units may be used. And, the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention can achieve higher molecular weight by containing the residue unit of the polyfunctional acrylate having a urethane bond, and can be a polymer. The polymerization conversion ratio of the monomer of (1) is also high, and the efficiency of productivity is also excellent. In addition, when the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer is used as a film, it becomes a film excellent in toughness. Here, when it is a residual unit of a polyfunctional acrylate having no urethane bond, the polymer obtained may have problems such as difficulty in achieving high molecular weight and the resulting film being inferior in toughness. .
本発明のウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、分子量の制御が容易であるため、二官能性アクリレートであることが好ましい。また、本発明のウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、特に靱性の高い樹脂が得られるため、ポリエステル骨格および/またはポリエーテル骨格を含むウレタン結合を有する多官能性アクリレートであることが好ましい。 The multifunctional acrylate having a urethane bond of the present invention is preferably a difunctional acrylate because molecular weight can be easily controlled. Further, the polyfunctional acrylate having a urethane bond of the present invention is preferably a polyfunctional acrylate having a urethane bond containing a polyester skeleton and / or a polyether skeleton, since a resin having a particularly high toughness can be obtained.
該残基単位を誘導するウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、例えば、イソシアネート基を有するアクリレート類とポリアルコール類とのウレタン化反応により製造する方法、ヒドロキシル基を有するアクリレート類とポリイソシアネート類とのウレタン化反応により製造する方法等により入手することが可能である。イソシアネート基を有するアクリレート類としては、例えば、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、3−アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、4−アクリロイルオキシブチルイソシアネート、5−アクリロイルオキシペンチルイソシアネート、6−アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、3−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、4−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート等が挙げられ、ポリアルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、グリセリン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。また、ヒドロキシル基を有するアクリレート類としては、ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられ、ポリイソシアネート類としては、ヘキサメチレンジイソシアナート、ビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタン、イソホロンジイソシアナート、ビス(イソシアナトメチル)ノルボルナン、ヘキサメチレンジイソシアナートトリマー等が挙げられる。そして、該ウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、例えば、ヒドロキシエチルアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ヒドロキシエチルアクリレートとビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタンとの反応生成物、ヒドロキシエチルアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、2−ヒドロキシプロピルアクリレートとビス(イソシアナトメチル)ノルボルナンとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとビス(4−イソシアナトシクロヘキシル)メタンとの反応生成物、ポリエチレングリコールアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとの反応生成物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジイソシアナートとの反応生成物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートトリマーとの反応生成物等であることができ、これらが1種または2種以上含まれているものであってもよい。 The polyfunctional acrylate having a urethane bond for inducing the residual unit is, for example, a method of producing by a urethanization reaction of an acrylate having an isocyanate group and a polyalcohol, an acrylate having a hydroxyl group and a polyisocyanate It is possible to obtain by the method of producing by the urethanization reaction of As acrylates having an isocyanate group, for example, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 3-acryloyloxypropyl isocyanate, 4-acryloyloxybutyl isocyanate, 5-acryloyloxypentyl isocyanate, 6-acryloyloxyhexyl isocyanate, 3-acryloyloxy Phenyl isocyanate, 4-acryloyloxyphenyl isocyanate and the like can be mentioned, and as polyalcohols, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, glycerin, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and the like can be mentioned. Further, examples of acrylates having a hydroxyl group include hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate and the like, and as polyisocyanates, hexamethylene diisocyanate Nert, bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, isophorone diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) norbornane, hexamethylene diisocyanate trimer, and the like. The polyfunctional acrylate having a urethane bond is, for example, the reaction product of hydroxyethyl acrylate and hexamethylene diisocyanate, the reaction product of hydroxyethyl acrylate and bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, hydroxy Reaction product of ethyl acrylate and isophorone diisocyanate, reaction product of 2-hydroxypropyl acrylate and bis (isocyanatomethyl) norbornane, reaction product of polyethylene glycol acrylate and hexamethylene diisocyanate, polyethylene glycol acrylate Reaction product of propane with bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, reaction product of polyethylene glycol acrylate with isophorone diisocyanate, pentaerythritol The reaction product of lithium acrylate and hexamethylene diisocyanate, the reaction product of pentaerythritol triacrylate and isophorone diisocyanate, the reaction product of dipentaerythritol pentaacrylate and hexamethylene diisocyanate trimer, etc. These may be contained alone or in combination of two or more.
また、該ウレタン結合を有する多官能性アクリレートは、市販品として、例えば、(商品名)U−2PPA(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−6HA(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−32P(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−NDP(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−108A(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−511(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−340P(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−6200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)U−108(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−512(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−7000(新中村化学工業(株)製)、(商品名)UA−7200(新中村化学工業(株)製)、(商品名)M−1200(東亞合成(株)製)、(商品名)M−1600(東亞合成(株)製)、(商品名)M−1960(東亞合成(株)製)等が入手可能である。 Moreover, the polyfunctional acrylate having the urethane bond is, for example, (trade name) U-2PPA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) U-6HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Ltd.), (trade name) UA-32P (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA-NDP (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) U-108A (newly made) Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., (trade name) UA-511 (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA-4200 (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA -340P (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA-6200 (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) U-108 (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Trade name) UA-512 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) UA-7000 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (Trade name) UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (trade name) M-1200 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), (trade name) M- 1600 (Toagosei (trade name) (Trade name) M-1960 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like are available.
該アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位;(メタ)アクリル酸残基単位;(メタ)アクリル酸メチル残基単位、(メタ)アクリル酸エチル残基単位、(メタ)アクリル酸ブチル残基単位等の(メタ)アクリル酸エステル残基単位;酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位;アクリロニトリル残基単位;メタクリロニトリル残基単位;メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位;N−メチルマレイミド残基単位、N−シクロヘキシルマレイミド残基単位、N−フェニルマレイミド残基単位等のN−置換マレイミド類残基単位;エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位;フマル酸ジn−ブチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ビス(2−エチルヘキシル)残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる1種または2種以上を挙げることができる。 The alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer may contain other monomer residue units as long as the scope of the present invention is not exceeded. A styrene residue unit such as a styrene residue unit or an α-methylstyrene residue unit; (meth) acrylic acid residue unit; methyl (meth) acrylate residue unit, ethyl (meth) acrylate residue unit, (Meth) acrylic acid ester residue units such as butyl (meth) acrylate residue unit; vinyl ester residue units such as vinyl acetate residue unit and vinyl propionate residue unit; acrylonitrile residue unit; methacrylonitrile Residue unit; vinyl ether residue unit such as methyl vinyl ether residue unit, ethyl vinyl ether residue unit, butyl vinyl ether residue unit; N-methyl maleimide residue -Substituted maleimides residue units such as N-, N-cyclohexyl maleimide residue units, N-phenyl maleimide residue units, etc .; olefins residue units such as ethylene residue units, propylene residue units; fumaric acid di-n- 1 type, or 2 or more types selected from fumaric-acid diesters residual units, such as a butyl residue unit, a fumaric-acid diisopropyl residue unit, a fumaric-acid bis (2-ethylhexyl) residual unit, can be mentioned.
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の組成は、溶媒等の溶解性に優れ、フィルムとした際の強度等に優れる高分子量体のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体となることから、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位50〜99.99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位0.01〜1%、及びその他の単量体残基単位0〜49.99モル%が好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位60〜90モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位0.01〜0.5モル%、及びその他の単量体残基単位0〜39.99モル%がさらに好ましい。 The composition of the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention is an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of a high molecular weight which is excellent in the solubility of a solvent and the like and excellent in the strength when forming a film. Therefore, 50 to 99.99 mol% of alkoxycinnamic acid ester residue units, 0.01 to 1% of residue units of a polyfunctional acrylate having a urethane bond, and other monomer residue units 0 to 49 .99 mol% is preferable, and 60 to 90 mol% of alkoxycinnamic acid ester residue units, 0.01 to 0.5 mol% of residue units of polyfunctional acrylate having a urethane bond, and other monomer residues The base unit is more preferably 0 to 39.99 mol%.
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が120,000〜1,000,000であることが好ましく、140,000〜700,000であることがさらに好ましく、150,000〜500,000であることが特に好ましい。 The alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention is excellent in mechanical properties and strength at the time of forming a film, so from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC) The weight average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained is preferably 120,000 to 1,000,000, more preferably 140,000 to 700,000, and 150,000 to 500,000. Particularly preferred.
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の製造方法としては、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、アルコキシケイ皮酸エステル及びウレタン結合を有する多官能性アクリレートのラジカル重合等を行うことにより製造することができる。ここで、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしては、上記したウレタン結合を有する多官能性アクリレートの残基単位を誘導する化合物等を挙げることができる。 The alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention may be produced by any method as long as an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer can be obtained, for example, alkoxycinnamic acid ester And the radical polymerization of a polyfunctional acrylate having a urethane bond. Here, as a polyfunctional acrylate which has a urethane bond, the compound etc. which derive the residue unit of the above-mentioned polyfunctional acrylate which has a urethane bond can be mentioned.
前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。 The radical polymerization may be any of known polymerization methods such as bulk polymerization, solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization and emulsion polymerization.
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−ブチロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−2’−アゾビスイソブチレート、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)等のアゾ系開始剤等が挙げられる。 As a polymerization initiator at the time of radical polymerization, for example, benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2'-azobis ( 2,4-Dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-butyronitrile), 2,2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2'-azobisisobutyrate, 1,1'-azobis Examples include azo initiators such as (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like.
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール−アクリレート溶媒;シクロヘキサン;ジオキサン;テトラヒドロフラン;アセトン;メチルエチルケトン;ジメチルホルムアミド;酢酸イソプロピル;水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。 And there is no restriction in particular as a solvent which can be used in solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method, for example, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene etc; methanol, ethanol, propanol, butanol etc Cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate, water and the like, and a mixed solvent thereof is also mentioned.
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には30〜150℃の範囲で行うことが好ましい。 In addition, the polymerization temperature at the time of radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and control of the reaction is easy, so it is generally performed in the range of 30 to 150 ° C. Is preferred.
さらに、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を製造する際には、より高分子量のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をより効率よく製造することが可能となることから、アルコキシケイ皮酸エステル50〜99モル%、ウレタン結合を有する多官能性アクリレート0.01〜1モル%、その他の単量体0〜49.99モル%の割合で含む合計単量体を100モル%として、ラジカル重合開始剤0.001〜5モル%の存在下、ラジカル重合反応を行うことが好ましい。 Furthermore, when producing the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention, it becomes possible to produce an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of higher molecular weight more efficiently, 100 mol of total monomers containing 50 to 99 mol% of alkoxycinnamic acid ester, 0.01 to 1 mol% of polyfunctional acrylate having urethane bond, and 0 to 49.99 mol% of other monomers It is preferable to perform a radical polymerization reaction in the presence of 0.001 to 5 mol% of a radical polymerization initiator as%.
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。 When an optical film using the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention is obtained, it is possible to use a retardation film because it has high out-of-plane retardation even in a thin film and is excellent in optical characteristics. preferable.
本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をnx、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をny、フィルムの厚み方向の屈折率をnzとした場合のそれぞれの関係がnx≦ny<nzであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記nx≦ny<nzを満たすことによりSTN−LCD、IPS−LCD、反射型LCDや半透過型LCD等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの3次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。 In the retardation film of the present invention, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the film in-plane direction orthogonal thereto is ny, and the refractive index in the film thickness direction is nz. The retardation film is characterized in that the relationship is nx ≦ ny <nz, and the viewing angle of STN-LCD, IPS-LCD, reflective LCD, transflective LCD etc. by satisfying the above nx ≦ ny <nz It becomes a retardation film excellent in compensation performance. In general, the control of the three-dimensional refractive index of the film is carried out by stretching the film, etc., but the control of the production process and quality becomes complicated, but the retardation film of the present invention is unstretched and the refractive index in the film thickness direction Is found to exhibit a unique behavior that is high.
また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式(a)にて示される波長550nmで測定した面外位相差(Rth)が−100〜−2000nmであることが好ましく、−100〜−500nmであることがさらに好ましく、−180〜−500nmであることが特に好ましい。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (a)
(ここで、dはフィルムの厚みを示す。)
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で5.5nm/フィルム膜厚(μm)以上が好ましく、6nm/フィルム膜厚(μm)以上がさらに好ましく、8nm/フィルム膜厚(μm)以上が特に好ましい。
Further, since the retardation film of the present invention becomes a retardation film having more excellent optical properties, the out-of-plane retardation (Rth) measured at a wavelength of 550 nm represented by the following formula (a) is -100 to- The wavelength is preferably 2000 nm, more preferably -100 to -500 nm, and particularly preferably -180 to -500 nm.
Rth = ((nx + ny) / 2-nz) × d (a)
(Here, d represents the thickness of the film.)
Since the retardation film of the present invention has a high out-of-plane retardation even in a thin film, the relationship between the film thickness and the out-of-plane retardation is preferably 5.5 nm / film thickness (μm) or more in absolute value, 6 nm / The film thickness (μm) or more is more preferable, and 8 nm / film thickness (μm) or more is particularly preferable.
本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が85%以上であることが好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ(曇り度)は2%以下であることが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。 The retardation film of the present invention preferably has a light transmittance of 85% or more, and more preferably 90% or more, because the characteristics of the image quality are excellent when used in a liquid crystal display device. . The haze of the retardation film is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.
本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the retardation film of this invention, For example, methods, such as a solution cast method and a melt casting method, are mentioned.
溶液キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を溶媒に溶解した溶液(以下、ドープと称する。)を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Tダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、10〜20000cPsが好ましく、100〜10000cPsであることがさらに好ましい。 In the solution casting method, a solution in which an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer is dissolved in a solvent (hereinafter referred to as a dope) is cast on a supporting substrate, and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. It is a method. At that time, as a method of casting the dope on the support substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. Particularly, industrially, the method of continuously extruding the dope from the die onto a belt-like or drum-like support substrate is the most common. Examples of the support substrate to be used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel or ferro type, and a film such as polyethylene terephthalate. When forming a film having high transparency and excellent thickness accuracy and surface smoothness in the solution casting method, the solution viscosity of the dope is a very important factor, and 10 to 20000 cPs is preferable, 100 It is further more preferable that it is-10000 cPs.
この際のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後1〜200μmが好ましく、さらに好ましくは5〜100μm、特に好ましくは10〜50μmである。 In this case, the coating thickness of the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 5 to 100 μm, and particularly preferably 10 to 50 μm, because handling of the film is easy. is there.
また、溶融キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を押出機内で溶融し、Tダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。 The melt casting method is a molding method in which an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer is melted in an extruder, extruded from a slit of a T-die into a film, and then cooled while being cooled by a roll, air or the like.
本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。 The retardation film of the present invention can be peeled off from the glass substrate or other optical film of the substrate, and can also be used as a laminate with the glass substrate or other optical film of the substrate.
また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール/ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。 The retardation film of the present invention may be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, or may be laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol / iodine or the like to form a polarizing plate. is there. Furthermore, it is also possible to laminate the retardation films of the present invention or other retardation films.
本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤100重量部に対して、リン系酸化防止剤を100〜500重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体100重量部に対して酸化防止作用に優れることから、0.01〜10重量部が好ましく、0.5〜1重量部がさらに好ましい。 The retardation film of the present invention is preferably blended with an antioxidant in order to enhance the thermal stability of the film formation or the retardation film itself. Examples of the antioxidant include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and other antioxidants. These antioxidants may be used alone or in combination. And, it is preferable to use a combination of a hindered antioxidant and a phosphorus-based antioxidant because the antioxidant effect is synergistically improved, and in that case, for example, with respect to 100 parts by weight of the hindered antioxidant, It is further preferable to mix and use a phosphorus-based antioxidant in an amount of 100 to 500 parts by weight. In addition, the addition amount of the antioxidant is 0.01 to 10 weight because it is excellent in the antioxidant action with respect to 100 parts by weight of the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer constituting the retardation film of the present invention. Part is preferred, and 0.5 to 1 part by weight is more preferred.
さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。 Furthermore, as an ultraviolet absorber, for example, an ultraviolet absorber such as benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like may be blended as needed.
本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。 The retardation film of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like within the range not exceeding the scope of the invention. You may
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体は、溶媒に対する溶解性に優れ、溶液キャスト等の方法により、フィルムとすることが可能であり、該フィルムはフィルム強度等に優れるものとなる。 The alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer of the present invention is excellent in solubility in a solvent, can be formed into a film by a method such as solution casting, and the film becomes excellent in film strength and the like.
本発明は、分子量が高いことから、フィルム等とした際の特性に優れる新規なアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体及び該アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を効率よく製造する方法を提供するものである。 The present invention provides a novel alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer which is excellent in the properties of a film or the like due to its high molecular weight, and a method for efficiently producing the alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer. It is provided.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。 In addition, the various physical properties shown by the Example were measured by the following method.
<アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の組成>
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GX270)を用い、プロトン核磁気共鳴分光(1H−NMR)スペクトル分析より求めた。
<Composition of Alkoxycinnamic Acid Ester-Acrylate Copolymer>
It calculated | required from proton nuclear magnetic resonance spectroscopy (< 1 > H-NMR) spectrum analysis using the nuclear magnetic resonance measuring apparatus (made by JEOL, product name JNM-GX270).
<重量平均分子量の測定>
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー(GPC)装置(東ソー製、商品名C0−8011(カラムGMHHR―Hを装着))を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、40℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
<Measurement of weight average molecular weight>
Measured at 40 ° C using tetrahydrofuran as a solvent using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (made by Tosoh Corporation, trade name C0-8011 (column GMH HR -H)), and converted to standard polystyrene I asked.
<透明性の評価方法>
ヘーズメーター(日本電色工業製、商品名NDH5000)を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。
<Method of evaluating transparency>
The total light transmittance and haze of the film were measured using a haze meter (trade name: NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
<屈折率の測定>
アッベ屈折率計(アタゴ製)を用い、JIS K 7142(1981年版)に準拠して測定した。
<Measurement of refractive index>
It measured based on JISK7142 (1981 version) using the Abbe refractometer (made by Atago).
<フィルムの位相差および三次元屈折率の測定>
全自動複屈折計(王子計測機器製、商品名KOBRA−WR)を用いて測定した。
実施例1(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル/アクリレート共重合体)の合成1)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.26モル)、4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル15.2g(0.065モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.21g(1.6×10−4モル(0.050モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.38g(0.0022モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体17gを得た(収率:26%)。
<Measurement of retardation and three-dimensional refractive index of film>
It measured using the fully automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments make, brand name KOBRA-WR).
Example 1 Synthesis of Alkoxycinnamic Acid Ester-Acrylate Copolymer (Ethyl 4-Methoxycinnamate / 4-Ethylhexyl 4-Methoxycinnamic Acid / Acrylate Copolymer) 1)
50 g (0.26 mol) of ethyl 4-methoxycinnamate, 15.2 g (0.065 mol) of 2-ethylhexyl 4-methoxycinnamate, urethane as a multifunctional acrylate having a urethane bond in a 75 mL glass ampoule Acrylate compound (trade name) UA-4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.21 g (1.6 × 10 -4 mol (0.050 mol%)) and tert-butylperoxy as a polymerization initiator 0.38 g (0.0022 mol) of pivalate was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and radical polymerization was performed by holding for 48 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 3 L of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 17 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 26%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は153,000であった。 The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was 153,000.
また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル残基単位/アクリレート残基単位=83.96/15.99/0.05(モル%)であることを確認した。 In addition, according to 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / 4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit / acrylate residue unit = 83.96 / 15.99 It was confirmed to be /0.05 (mol%).
アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して15重量%の樹脂溶液とし、コーターにより10cm×10cmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、130℃で10分乾燥することにより、厚み30μmのアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を用いた透明フィルムを得た。得られたフィルムの位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−251nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.4nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムを曲げて端部同士を接触させる屈曲試験を実施したところ、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体層にクラックの発生等は見られず、靭性に優れるものであった。 Alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer is dissolved in methyl isobutyl ketone to make a 15 wt% resin solution, cast by a coater on a 10 cm × 10 cm polyethylene terephthalate film, and dried at 130 ° C. for 10 minutes A transparent film using an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer having a thickness of 30 μm was obtained. The retardation of the obtained film was measured. The out-of-plane retardation Rth was as large as −251 nm, and the absolute value of the film thickness and the out-of-plane retardation was 8.4 nm / film thickness (μm). . Furthermore, when this film was bent and the bending test which makes edge parts contact was implemented, generation | occurrence | production of a crack etc. was not seen in the alkoxy cinnamate ester-acrylate copolymer layer, but it was excellent in toughness.
実施例2(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−メトキシケイ皮酸エチル/フマル酸ジイソプロピル/アクリレート共重合体)の合成2)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、フマル酸ジイソプロピル20.8g(0.10モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.54g(4.2×10−4モル(0.120モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.40g(0.0023モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体25gを得た(収率:34%)。
Example 2 Synthesis of Alkoxycinnamic Acid Ester-Acrylate Copolymer (Ethyl 4-Methoxycinnamate / Diisopropyl Fumarate / Acrylate Copolymer) 2
50 g (0.24 mol) of ethyl 4-methoxycinnamate, 20.8 g (0.10 mol) of diisopropyl fumarate in a 75 mL glass ampoule, urethane acrylate compound as a polyfunctional acrylate having a urethane bond (trade name) 0.54 g (4.2 × 10 -4 mol (0.120 mol%)) of UA-4200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 0.40 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator ( 0.0023 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and radical polymerization was performed by holding for 48 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 3 L of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 25 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 34%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は184,000であった。 The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was 184,000.
また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位/アクリレート残基単位=54.81/45.07/0.12(モル%)であることを確認した。 Further, according to 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / diisopropyl fumarate residue unit / acrylate residue unit = 54.81 / 45.07 / 0.12 (mole %) Was confirmed.
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−258nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。 The obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1 and retardation was measured. The out-of-plane retardation Rth was as large as −258 nm, and the film thickness and the surface The absolute value of the external retardation was 8.6 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the crack generation etc. were not seen in the obtained transparent film, but it was excellent in toughness.
実施例3(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート重合体(4−メトキシケイ皮酸イソプロピル/フマル酸ジエチル/アクリレート共重合体)の合成3)
容量75mLのガラスアンプルに4−メトキシケイ皮酸イソプロピル50g(0.21モル)、フマル酸ジエチル4.1g(0.024モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)U−6HA(新中村化学工業(株)製)0.52g(4.3×10−4モル(0.182モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.28g(0.0016モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、48時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体17gを得た(収率:31%)。
Example 3 Synthesis of Alkoxycinnamic Acid Ester-Acrylate Polymer (Isopropyl 4-Methoxycinnamate / Diethyl Fumarate / Acrylate Copolymer) 3
50 g (0.21 mol) of isopropyl 4-methoxycinnamate, 4.1 g (0.024 mol) of diethyl fumarate in a 75 mL glass ampoule, urethane acrylate compound as a polyfunctional acrylate having a urethane bond (trade name) 0.52 g (4.3 × 10 −4 mol (0.182 mol%)) of U-6 HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 0.28 g of tert-butyl peroxypivalate as a polymerization initiator (0.0016 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and radical polymerization was performed by holding for 48 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 3 L of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 17 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 31%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は195,000であった。 The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was 195,000.
また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位/アクリレート残基単位=89.86/9.96/0.18(モル%)であることを確認した。 In addition, according to 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit / diethyl fumarate residue unit / acrylate residue unit = 89.86 / 9.96 / 0.18 (mole %) Was confirmed.
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−261nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.7nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。 The obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1 and retardation was measured. The out-of-plane retardation Rth was as large as −261 nm, and the film thickness and the surface The absolute value of the external retardation was 8.7 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the crack generation etc. were not seen in the obtained transparent film, but it was excellent in toughness.
実施例4(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル共重合体/N−フェニルマレイミド/アクリレート共重合体)の合成4)
容量75mLのガラスアンプルに3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル50g(0.23モル)、N−フェニルマレイミド4.4g(0.025モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−7200(新中村化学工業(株)製)0.22g(1.8×10−4モル(0.070モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.29g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体16gを得た(収率:30%)。
Example 4 Synthesis of alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (ethyl 3,4-dimethoxycinnamate copolymer / N-phenylmaleimide / acrylate copolymer) 4)
50 g (0.23 mol) of ethyl 3,4-dimethoxycinnamate, 4.4 g (0.025 mol) of N-phenylmaleimide in a 75 mL glass ampoule, a urethane acrylate compound as a polyfunctional acrylate having a urethane bond ( Trade name) UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.22 g (1.8 × 10 -4 mol (0.070 mol%)) and tert-butyl peroxypivalate 0 as a polymerization initiator After adding .29 g (0.0017 mol), repeating nitrogen substitution and depressurization, sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and radical polymerization was performed by holding for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 3 L of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 16 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 30%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は195,000であった。 The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was 195,000.
また、1H−NMR測定により、共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位/アクリレート残基単位=81.95/17.98/0.07(モル%)であることを確認した。 Further, according to 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is ethyl 3,4-dimethoxycinnamate residue unit / N-phenylmaleimide residue unit / acrylate residue unit = 81.95 / 17.98 / 0. It was confirmed to be 07 (mol%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−254nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.5nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。 The obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1 and retardation was measured. The out-of-plane retardation Rth was as large as −254 nm, and the film thickness and the surface The absolute value of the external retardation was 8.5 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the crack generation etc. were not seen in the obtained transparent film, but it was excellent in toughness.
実施例5(アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体(4−エトキシケイ皮酸エチル/アクリル酸エチル/アクリレート共重合体)の合成5)
容量75mLのガラスアンプルに4−エトキシケイ皮酸エチル50g(0.24モル)、アクリル酸エチル1.3g(0.013モル)、ウレタン結合を有する多官能性アクリレートとしてウレタンアクリレート化合物(商品名)UA−4200(新中村化学工業(株)製)0.40g(3.1×10−4モル(0.120モル%))および重合開始剤であるtert−ブチルパーオキシピバレート0.30g(0.0017モル)を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを50℃の恒温槽に入れ、36時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン400gで溶解させた。このポリマー溶液を3Lのメタノール中に滴下して析出させた後、80℃で10時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体12gを得た(収率:24%)。
Example 5 Synthesis of Alkoxycinnamic Acid Ester-Acrylate Copolymer (Ethyl 4-Ethoxycinnamate / Ethyl Acrylate / Acrylate Copolymer) 5
50 g (0.24 mol) of ethyl 4-ethoxycinnamate, 1.3 g (0.013 mol) of ethyl acrylate in a 75 mL glass ampoule, urethane acrylate compound (trade name) UA as a polyfunctional acrylate having a urethane bond -4200 (Shin-Nakamura chemical Co., Ltd.) 0.40 g (3.1 × 10 -4 mol (0.120 mol%)) and a polymerization initiator tert- butyl peroxypivalate 0.30 g (0 .0017 mol) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then sealing was performed under reduced pressure. The ampoule was placed in a thermostat at 50 ° C. and radical polymerization was performed by holding for 36 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the ampoule and dissolved in 400 g of tetrahydrofuran. The polymer solution was dropped into 3 L of methanol and precipitated, and then vacuum dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain 12 g of an alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer (yield: 24%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体の重量平均分子量は194,000であった。 The weight average molecular weight of the obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was 194,000.
また、1H−NMR測定により、共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位/アクリレート残基単位=88.93/10.95/0.12(モル%)であることを確認した。 Further, according to 1 H-NMR measurement, the copolymer composition is ethyl 4-ethoxycinnamate residue unit / ethyl acrylate residue unit / acrylate residue unit = 88.93 / 10.95 / 0.12 (mol% It confirmed that it was).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル−アクリレート共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、位相差測定を行ったところ、面外位相差Rthは−257nmと負に大きく、膜厚と面外位相差の絶対値は8.6nm/フィルム膜厚(μm)であった。さらに、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、得られた透明フィルムにクラック発生等は見られず、靭性に優れるものであった。 The obtained alkoxycinnamic acid ester-acrylate copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and retardation was measured. The out-of-plane retardation Rth was as large as −257 nm, and the film thickness and the surface were large. The absolute value of the external retardation was 8.6 nm / film thickness (μm). Furthermore, when the bending test of this film was implemented, the crack generation etc. were not seen in the obtained transparent film, but it was excellent in toughness.
比較例1
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例1と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルヘキシル共重合体9gを得た(収率:14%)。
Comparative Example 1
According to the same method as in Example 1 except that a polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used, 9 g of 2-ethylhexyl 4-methoxycinnamic acid 4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl copolymer was obtained. Rate: 14%).
得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル共重合体の重量平均分子量は53000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/4−メトキシケイ皮酸2−エチルへキシル残基単位=84/16(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained ethyl 4-methoxycinnamic acid-4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl copolymer was as low as 53,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / 4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit = 84/16 (mol%) .
得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。 The obtained alkoxycinnamic acid ester copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and a bending test of this film was carried out. Crack occurred on the
比較例2
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例2と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体14gを得た(収率:20%)。
Comparative example 2
According to the same method as in Example 2 except that a polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used, 14 g of ethyl 4-methoxycinnamate-diisopropyl fumarate copolymer was obtained (yield: 20%).
得られた4−メトキシケイ皮酸エチル−フマル酸ジイソプロピル共重合体の重量平均分子量は63000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸エチル残基単位/フマル酸ジイソプロピル残基単位=54/46(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained ethyl 4-methoxycinnamic acid-diisopropyl fumaric acid copolymer was as low as 63,000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 4-methoxycinnamate residue unit / diisopropyl fumarate residue unit = 54/46 (mol%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。 The obtained alkoxycinnamic acid ester copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and a bending test of this film was carried out. Crack occurred on the
比較例3
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例3と同様の方法により、4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体9gを得た(収率:16%)。
Comparative example 3
9 g of isopropyl 4-methoxycinnamic acid-diethyl fumarate copolymer was obtained in the same manner as in Example 3 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used (yield: 16%).
得られた4−メトキシケイ皮酸イソプロピル−フマル酸ジエチル共重合体の重量平均分子量は60000と低いものであった。1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位/フマル酸ジエチル残基単位=90/10(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained 4-methoxycinnamic acid isopropyl-fumaric acid copolymer was as low as 60000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was 4-methoxycinnamic acid isopropyl residue unit / diethyl fumarate residue unit = 90/10 (mol%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。 The obtained alkoxycinnamic acid ester copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and a bending test of this film was carried out. Crack occurred on the
比較例4
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例4と同様の方法により、3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体9gを得た(収率:17%)。
Comparative example 4
9 g of ethyl 3,4-dimethoxycinnamate-N-phenylmaleimide copolymer was obtained by the same method as in Example 4 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used (yield: 17 %).
得られた3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル−N−フェニルマレイミド共重合体の重量平均分子量は94000と低いものであった。また、1H−NMR測定により得られた共重合体組成は3,4−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位/N−フェニルマレイミド残基単位=82/18(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained ethyl 3,4-dimethoxycinnamate-N-phenylmaleimide copolymer was as low as 94000. The copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 3,4-dimethoxycinnamate residue unit / N-phenylmaleimide residue unit = 82/18 (mol%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。 The obtained alkoxycinnamic acid ester copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and a bending test of this film was carried out. Crack occurred on the
比較例5
ウレタン結合を有する多官能性アクリレートを用いなかった以外は、実施例5と同様の方法により、4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体5gを得た(収率:10%)。
Comparative example 5
According to the same method as in Example 5 except that the polyfunctional acrylate having a urethane bond was not used, 5 g of ethyl 4-ethoxycinnamate-ethyl acrylate copolymer was obtained (yield: 10%).
得られた4−エトキシケイ皮酸エチル−アクリル酸エチル共重合体の重量平均分子量は78000と低いものであった。また、1H−NMR測定により得られた共重合体組成は4−エトキシケイ皮酸エチル残基単位/アクリル酸エチル残基単位=89/11(モル%)であった。 The weight average molecular weight of the obtained 4-ethoxy cinnamate-ethyl acrylate copolymer was as low as 78,000. Moreover, the copolymer composition obtained by 1 H-NMR measurement was ethyl 4-ethoxycinnamate residue unit / ethyl acrylate residue unit = 89/11 (mol%).
得られたアルコキシケイ皮酸エステル共重合体を実施例1と同様の方法によりフィルムとし、このフィルムの屈曲試験を実施したところ、曲げ応力を加え始めた早々にアルコキシケイ皮酸エステル共重合体層にクラックが発生した。 The obtained alkoxycinnamic acid ester copolymer was formed into a film by the same method as in Example 1, and a bending test of this film was carried out. Crack occurred on the
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