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JP6039919B2 - Semiconductor memory device, in-vehicle device, vehicle - Google Patents
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Description

本発明は、半導体記憶装置、並びに、これを用いた車載機器及び車両に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device, and an in-vehicle device and a vehicle using the same.

従来より、不揮発性の半導体記憶装置として、EEPROM[electrically erasable programmable read only memory])が広く実用化されている。   Conventionally, EEPROM (electrically erasable programmable read only memory)) has been widely put into practical use as a nonvolatile semiconductor memory device.

なお、上記に関連する従来技術の一例としては、特許文献1を挙げることができる。   As an example of the related art related to the above, Patent Document 1 can be cited.

特開平11−87660号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-87660

ところで、半導体記憶装置のリード/ライトアンプは、メモリセルからデータを読み出す際、メモリセルに流れる読出電流Imemと所定の参照電流Irefとを比較し、その比較結果に応じた論理レベルの出力データ信号DOUTを生成する。   By the way, when reading data from a memory cell, the read / write amplifier of the semiconductor memory device compares a read current Imem flowing through the memory cell with a predetermined reference current Iref, and outputs an output data signal having a logic level corresponding to the comparison result. DOUT is generated.

より具体的に述べると、出力データ信号DOUTは、読出電流Imemが参照電流Irefよりも大きければデータ「0」に相当する論理レベル(例えばローレベル)となり、逆に、読出電流Imemが参照電流Irefよりも小さければデータ「1」に相当する論理レベル(例えばハイレベル)となる(図12の左側を参照)。   More specifically, the output data signal DOUT has a logic level (for example, low level) corresponding to data “0” if the read current Imem is larger than the reference current Iref, and conversely, the read current Imem becomes the reference current Iref. If it is smaller than this, a logical level (for example, a high level) corresponding to data “1” is obtained (see the left side of FIG. 12).

ところで、大容量のEEPROMから高温下でデータを読み出す際には、アクセス対象のメモリセルに読出電流Imemが流れるだけでなく、これに繋がるアクセス対象外のメモリセルにも寄生リーク電流Ileakが流れる。この寄生リーク電流Ileakが参照電流Irefよりも大きくなると、メモリセルのデータ内容に依らず、読出電流Imemと寄生リーク電流Ileakとの和が常に参照電流Irefを上回ってしまうので、データ(特にデータ「1」)を正しく読み出すことができなくなる(図12の右側を参照)。   By the way, when reading data from a large capacity EEPROM at a high temperature, not only the read current Imem flows through the memory cell to be accessed, but also the parasitic leak current Ileak flows through the non-accessed memory cell connected thereto. If the parasitic leakage current Ileak is larger than the reference current Iref, the sum of the read current Imem and the parasitic leakage current Ileak always exceeds the reference current Iref regardless of the data content of the memory cell. 1 ”) cannot be read correctly (see the right side of FIG. 12).

なお、EEPROMの大容量化や動作環境の高温化に伴って、寄生リーク電流Ileakは大きくなる傾向がある。そのため、高温動作保証が要求される車載用の不揮発性メモリICや大容量化が要求される汎用の不揮発性メモリICなどでは、寄生リーク電流Ileakに起因する上記の問題点を解決する必要があった。   Note that the parasitic leakage current Ileak tends to increase as the capacity of the EEPROM increases and the operating environment increases in temperature. For this reason, in-vehicle non-volatile memory ICs that require high-temperature operation guarantees and general-purpose non-volatile memory ICs that require large capacity, it is necessary to solve the above-described problems caused by the parasitic leakage current Ileak. It was.

本発明は、本願の発明者により見出された上記の問題点に鑑み、データ読出精度を高めることが可能な半導体記憶装置、並びに、これを用いた車載機器及び車両を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems found by the inventors of the present application, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of improving data reading accuracy, and an in-vehicle device and a vehicle using the same. To do.

上記の目的を達成するために、本明細書中に開示された半導体記憶装置は、複数のメモリセルを含むメモリバンクと、前記メモリバンクからデータを読み出す際にアクセス対象のメモリセルに流れる読出電流と所定の参照電流とを比較して出力データ信号を生成するリード/ライトアンプと、を有し、前記リード/ライトアンプは、常時非選択状態のダミーメモリセルに流れるダミー寄生リーク電流に応じて前記参照電流の可変制御を行う構成(第1の構成)とされている。   In order to achieve the above object, a semiconductor memory device disclosed in this specification includes a memory bank including a plurality of memory cells, and a read current that flows in a memory cell to be accessed when data is read from the memory bank. And a read / write amplifier that generates an output data signal by comparing the reference current with a predetermined reference current, and the read / write amplifier responds to a dummy parasitic leakage current that flows in a dummy memory cell that is always in a non-selected state. The reference current is variably controlled (first configuration).

なお、上記第1の構成から成る半導体記憶装置において、前記リード/ライトアンプはアクセス対象のメモリセルが選択される前に当該メモリセルが接続されるビットラインにプリチャージ電流を供給するプリチャージ電流生成部と、前記ダミー寄生リーク電流に応じて前記参照電流の可変制御を行う参照電流生成部と、アクセス対象のメモリセルに流れる前記読出電流と可変制御済みの前記参照電流とを比較して前記出力データ信号を生成するセンスアンプ部と、を含む構成(第2の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the first configuration, the read / write amplifier supplies a precharge current for supplying a precharge current to a bit line to which the memory cell is connected before the memory cell to be accessed is selected. A generation unit, a reference current generation unit that performs variable control of the reference current according to the dummy parasitic leakage current, and compares the read current flowing through the memory cell to be accessed with the reference current that has been subjected to variable control And a sense amplifier unit that generates an output data signal (second configuration).

また、上記第2の構成から成る半導体記憶装置において、前記参照電流生成部は、一定値の第1参照電流を生成する定電流源と、前記ダミー寄生電流に応じた第2参照電流を生成する可変電流源と、を含み、前記第1参照電流と前記第2参照電流の和を前記参照電流として出力する構成(第3の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the second configuration, the reference current generation unit generates a constant current source that generates a first reference current having a constant value and a second reference current corresponding to the dummy parasitic current. And a variable current source that outputs a sum of the first reference current and the second reference current as the reference current (third configuration).

また、上記第3の構成から成る半導体記憶装置において、前記可変電流源は、前記ダミー寄生電流をミラーして前記第2参照電流を生成するカレントミラーを含む構成(第4の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the third configuration, the variable current source may include a current mirror that mirrors the dummy parasitic current and generates the second reference current (fourth configuration). .

また、上記第1〜第4いずれかの構成から成る半導体記憶装置において、前記ダミーメモリセルは、前記メモリバンクのメモリセルと同一の構造を有する構成(第5の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having any one of the first to fourth configurations, the dummy memory cell may have a configuration (fifth configuration) having the same structure as the memory cells of the memory bank.

また、上記第5の構成から成る半導体記憶装置において、前記ダミーメモリセルは、前記メモリバンクのメモリセルに隣接して配置された構成(第6の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the fifth configuration, the dummy memory cell may be configured to be disposed adjacent to the memory cell of the memory bank (sixth configuration).

また、上記第2〜第6いずれかの構成から成る半導体記憶装置において、前記リード/ライトアンプは、前記メモリバンクに複数設けられたビットラインの一つを選択して前記センスアンプ部に繋がるデータラインに接続するマルチプレクサをさらに含む構成(第7の構成)にするとよい。   Further, in the semiconductor memory device having any one of the second to sixth configurations, the read / write amplifier selects one of a plurality of bit lines provided in the memory bank and is connected to the sense amplifier unit. A configuration (seventh configuration) may further be included that further includes a multiplexer connected to the line.

また、上記第7の構成から成る半導体記憶装置において、前記リード/ライトアンプは前記センスアンプ部と前記データラインとの間を導通/遮断するスイッチ部をさらに有する構成(第8の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the seventh configuration, the read / write amplifier further includes a switch unit (eighth configuration) that conducts / cuts off between the sense amplifier unit and the data line. Good.

また、上記第8の構成から成る半導体記憶装置において、前記データラインは、複数設けられており、前記センスアンプ部は、前記複数のデータライン毎に前記出力データ信号を生成して並列に出力する構成(第9の構成)にするとよい。   In the semiconductor memory device having the above-described eighth configuration, a plurality of the data lines are provided, and the sense amplifier section generates the output data signal for each of the plurality of data lines and outputs it in parallel. A configuration (9th configuration) is preferable.

また、本明細書中に開示された車載機器は、車載機器の動作を統括的に制御するマイコンと、前記マイコンで実行される各種プログラムの格納領域や作業領域として利用される上記第1〜第9いずれかの構成から成る半導体記憶装置と、前記マイコンによって制御される被制御機器と、バッテリの供給電圧から電源電圧を生成して前記車載機器の各部に供給する電源部と、を有する構成(第10の構成)とされている。   Further, the in-vehicle device disclosed in the present specification includes a microcomputer for comprehensively controlling the operation of the in-vehicle device, and the first to the above-described first to be used as a storage area and a work area for various programs executed by the microcomputer. (9) A configuration having a semiconductor storage device having any one configuration, a controlled device controlled by the microcomputer, and a power supply unit that generates a power supply voltage from a supply voltage of a battery and supplies the power supply voltage to each unit of the in-vehicle device ( Tenth configuration).

また、本明細書中に開示された車両は、上記第10の構成から成る車載機器と、前記車載機器に電力を供給するバッテリと、を有する構成(第11の構成)とされている。   In addition, the vehicle disclosed in the present specification has a configuration (an eleventh configuration) that includes an in-vehicle device having the tenth configuration and a battery that supplies electric power to the in-vehicle device.

本発明によれば、データ読出精度を高めることが可能な半導体記憶装置、並びに、これを用いた車載機器及び車両を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the semiconductor memory device which can improve a data reading precision, and the vehicle equipment and vehicle using this can be provided.

半導体記憶装置の一構成例を示すブロック図1 is a block diagram illustrating a configuration example of a semiconductor memory device メモリバンク11とリード/ライトアンプ14の概略構成を示すブロック図The block diagram which shows schematic structure of the memory bank 11 and the read / write amplifier 14 メモリバンク11の一構成例を示す回路図Circuit diagram showing one configuration example of the memory bank 11 メモリセルMCの縦構造を示す垂直断面図Vertical sectional view showing the vertical structure of the memory cell MC スレッショルド電圧Vthの分布状態図Distribution diagram of threshold voltage Vth リード/ライトアンプ14の一構成例を示す回路図Circuit diagram showing one configuration example of the read / write amplifier 14 参照電流生成部142の一構成例を示す回路図The circuit diagram which shows one structural example of the reference current production | generation part 142 ダミーメモリセルの一構成例を示す回路図Circuit diagram showing one configuration example of a dummy memory cell 従来の課題が解消される様子を示す図Diagram showing how conventional issues are resolved 半導体記憶装置10を搭載した車載機器の一構成例を示すブロック図The block diagram which shows one structural example of the vehicle equipment which mounts the semiconductor memory device 10 車載機器1を搭載した車両の一構成例を示す外観図External view showing a configuration example of a vehicle equipped with the in-vehicle device 1 従来の課題が発生する様子を示す図Diagram showing how conventional issues occur

<半導体記憶装置>
図1は、半導体記憶装置の一構成例を示すブロック図である。本構成例の半導体記憶装置10は、メモリバンク11と、メモリコントローラ12と、データレジスタ13と、リード/ライトアンプ14と、アドレスレジスタ15と、アドレスデコーダ16と、電源電圧検出部17と、高電圧生成部18とを有するSPI[serial peripheral interface]方式のシリアルEEPROMチップである。
<Semiconductor memory device>
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a semiconductor memory device. The semiconductor memory device 10 of this configuration example includes a memory bank 11, a memory controller 12, a data register 13, a read / write amplifier 14, an address register 15, an address decoder 16, a power supply voltage detection unit 17, a high voltage This is an SPI (serial peripheral interface) type serial EEPROM chip having a voltage generation unit 18.

メモリバンク11は、メモリコントローラ12によってリード/ライト制御されるメモリセルの集合体(例えば1〜32kビット)である。   The memory bank 11 is an aggregate (for example, 1 to 32 k bits) of memory cells that are read / write controlled by the memory controller 12.

メモリコントローラ12は、装置外部のマスタ(不図示)とSPIシリアルデータ通信を行い、マスタから与えられる各種コマンドに応じてメモリバンク11のリード/ライト制御などを行う。なお、シリアルデータ通信方式としては、4線式(CSB、SCK、SI、SO)のSPI方式に代えて、3線式(CS、SK、DIO)のマイクロワイヤ方式や2線式(SDA、SCL)のI2C方式などを採用しても構わない。 The memory controller 12 performs SPI serial data communication with a master (not shown) outside the apparatus, and performs read / write control of the memory bank 11 according to various commands given from the master. In addition, as a serial data communication system, instead of the 4-wire (CSB, SCK, SI, SO) SPI system, a 3-wire (CS, SK, DIO) microwire system or 2-wire (SDA, SCL) ) I 2 C method or the like may be adopted.

データレジスタ13は、メモリコントローラ12の指示に基づいて、メモリバンク11のリードデータやライトデータを一時的に格納する。具体的に述べると、メモリバンク11から読み出されたリードデータは、データレジスタ13に一時格納された後、データ出力端子SOから外部出力される。一方、データ入力端子SIから外部入力されたライトデータは、データレジスタ13に一時格納された後、メモリバンク11に書き込まれる。   The data register 13 temporarily stores read data and write data of the memory bank 11 based on an instruction from the memory controller 12. More specifically, read data read from the memory bank 11 is temporarily stored in the data register 13 and then externally output from the data output terminal SO. On the other hand, write data externally input from the data input terminal SI is temporarily stored in the data register 13 and then written in the memory bank 11.

リード/ライトアンプ14は、センスアンプや書込電圧印加回路を含み、メモリコントローラ12の指示に基づいて、メモリバンク11に対するリード/ライト動作を行う。なお、本発明は、リード/ライトアンプ14に含まれる回路システムのうち、主としてメモリバンク11からデータを読み出すためのセンスアンプシステムに関するものである。   The read / write amplifier 14 includes a sense amplifier and a write voltage application circuit, and performs a read / write operation on the memory bank 11 based on an instruction from the memory controller 12. The present invention relates to a sense amplifier system for mainly reading data from the memory bank 11 among circuit systems included in the read / write amplifier 14.

アドレスレジスタ15は、メモリコントローラ12の指示に基づいて、データ入力端子SIから外部入力されたアドレスデータを一時的に格納する。   The address register 15 temporarily stores address data externally input from the data input terminal SI based on an instruction from the memory controller 12.

アドレスデコーダ16は、メモリコントローラ12の指示に基づいて、アドレスレジスタ15に一時格納されたアドレスデータを読み出し、メモリバンク11のワードラインやセンスラインを駆動する。   The address decoder 16 reads the address data temporarily stored in the address register 15 based on an instruction from the memory controller 12 and drives the word lines and sense lines of the memory bank 11.

電源電圧検出部17は、電源端子VCCに印加される電源電圧Vccが所定の閾値電圧Vthを上回っているか否かを検出し、その検出結果をメモリコントローラ12に出力する。この検出結果を受けたメモリコントローラ12は、例えば、電源電圧Vccが閾値電圧Vthを下回っている間、メモリバンク11への書き込み動作を禁止する。このような構成とすることにより、減電異常時におけるメモリバンク11への誤書き込みを防止することができる。   The power supply voltage detector 17 detects whether or not the power supply voltage Vcc applied to the power supply terminal VCC exceeds a predetermined threshold voltage Vth, and outputs the detection result to the memory controller 12. Upon receiving this detection result, the memory controller 12 prohibits the write operation to the memory bank 11 while the power supply voltage Vcc is lower than the threshold voltage Vth, for example. By adopting such a configuration, it is possible to prevent erroneous writing to the memory bank 11 when power reduction is abnormal.

高電圧生成部18は、メモリコントローラ12の指示に基づいて、電源電圧Vccから高電圧HV(>Vcc)を生成し、これをリード/ライトアンプ14とアドレスデコーダ16に供給する。高電圧生成部18としては、チャージポンプ回路などを用いることができる。高電圧生成部18は、メモリバンク11への書き込み動作時にのみ駆動される。   The high voltage generator 18 generates a high voltage HV (> Vcc) from the power supply voltage Vcc based on an instruction from the memory controller 12, and supplies this to the read / write amplifier 14 and the address decoder 16. As the high voltage generator 18, a charge pump circuit or the like can be used. The high voltage generator 18 is driven only during a write operation to the memory bank 11.

なお、図1では示されていないが、半導体記憶装置10には、電源投入時にメモリコントローラ12、データレジスタ13、及び、アドレスレジスタ15を初期化するパワーオンリセット部も組み込まれている。   Although not shown in FIG. 1, the semiconductor memory device 10 also incorporates a power-on reset unit that initializes the memory controller 12, the data register 13, and the address register 15 when the power is turned on.

<メモリバンク及びリード/ライトアンプ>
[概略構成]
図2は、メモリバンク11及びリード/ライトアンプ14の概略構成を示すブロック図である。メモリバンク11は、x本のワードラインWL1〜WLxとy本のセンスラインSL1〜SLyを有し、(x×y)通りのアドレスADR(1,1)〜ADR(x,y)毎に任意のデータ(1バイト(=8ビット))を格納することができる。なお、シリアルデータ通信方式としてマイクロワイヤ方式を採用する場合には、1アドレスに2バイトのデータを格納する構成が主流である。
<Memory bank and read / write amplifier>
[Schematic configuration]
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of the memory bank 11 and the read / write amplifier 14. The memory bank 11 has x word lines WL1 to WLx and y sense lines SL1 to SLy, and is arbitrarily set for each of (xxy) addresses ADR (1, 1) to ADR (x, y). Data (1 byte (= 8 bits)) can be stored. When the microwire method is adopted as the serial data communication method, a configuration in which 2-byte data is stored in one address is the mainstream.

リード/ライトアンプ14は、メモリバンク11からデータを読み出すためのセンスアンプシステムとして、プリチャージ電流生成部141と、参照電流生成部142と、センスアンプ部143と、スイッチ部144と、マルチプレクサ部145と、を含む。なお、図2では示されていないが、リード/ライトアンプ14は、メモリバンク11にデータを書き込むための書込電圧印加回路なども含んでいる。   The read / write amplifier 14 is a sense amplifier system for reading data from the memory bank 11, and includes a precharge current generation unit 141, a reference current generation unit 142, a sense amplifier unit 143, a switch unit 144, and a multiplexer unit 145. And including. Although not shown in FIG. 2, the read / write amplifier 14 also includes a write voltage application circuit for writing data into the memory bank 11.

プリチャージ電流生成部141は、アクセス対象のメモリセルが選択される前に当該メモリセルが接続されるビットラインにプリチャージ電流Ipreを供給する。   The precharge current generator 141 supplies the precharge current Ipre to the bit line to which the memory cell is connected before the memory cell to be accessed is selected.

参照電流生成部142は、常時非選択状態のダミーメモリセルに流れる寄生リーク電流Idmに応じて参照電流Irefの可変制御を行う。この新規な特徴部分については、後ほど詳細に説明する。   The reference current generation unit 142 performs variable control of the reference current Iref according to the parasitic leakage current Idm flowing through the dummy memory cell that is always in the non-selected state. This new feature will be described in detail later.

センスアンプ部143は、アクセス対象のメモリセルに流れる読出電流Imemと可変制御済みの参照電流Irefとを比較して出力データ信号DOUTを生成する。なお、センスアンプ部143は、4本のデータラインDL1〜DL4毎に出力データ信号DOUT1〜DOUT4を生成して並列に出力する。すなわち、センスアンプ部143は、アクセス対象のメモリセルに格納されたデータ(1バイト(=8ビット))のうち、上位または下位の4ビット分を同時に読み出すことができる。   The sense amplifier unit 143 generates an output data signal DOUT by comparing the read current Imeem flowing through the memory cell to be accessed with the variably controlled reference current Iref. The sense amplifier unit 143 generates the output data signals DOUT1 to DOUT4 for each of the four data lines DL1 to DL4 and outputs them in parallel. That is, the sense amplifier unit 143 can simultaneously read the upper or lower 4 bits of the data (1 byte (= 8 bits)) stored in the memory cell to be accessed.

スイッチ部144は、センスアンプ部143とデータラインDL1〜DL4との間を導通/遮断する。   The switch unit 144 conducts / cuts off between the sense amplifier unit 143 and the data lines DL1 to DL4.

マルチプレクサ部145は、メモリバンク11に複数設けられたビットラインBL1〜BLz(ただし、z=8×y)のうち4本を選択して、センスアンプ部143に繋がるデータラインDL1〜DL4に接続する。例えば、マルチプレクサ部145を形成するスイッチ群145(1H)のみがオンとされて、その余のスイッチ群145(1L、2H/2L、…、yH/yL)がいずれもオフとされた場合には、アドレスADR(*,1)(ただし、*=1,2,…,x)の上位4ビットに相当するビットラインBL1〜BL4がデータラインDL1〜DL4と接続される。また、スイッチ群145(1L)のみがオンとされて、その余のスイッチ群145(1H、2H/2L、…、yH/yL)がいずれもオフとされた場合には、アドレスADR(*,1)の下位4ビットに相当するビットラインBL5〜BL8がデータラインDL1〜DL4と接続される。   The multiplexer unit 145 selects four of the bit lines BL1 to BLz (where z = 8 × y) provided in the memory bank 11 and connects them to the data lines DL1 to DL4 connected to the sense amplifier unit 143. . For example, when only the switch group 145 (1H) forming the multiplexer unit 145 is turned on and the other switch groups 145 (1L, 2H / 2L,..., YH / yL) are all turned off. , Bit lines BL1 to BL4 corresponding to the upper 4 bits of the address ADR (*, 1) (* = 1, 2,..., X) are connected to the data lines DL1 to DL4. When only the switch group 145 (1L) is turned on and the other switch groups 145 (1H, 2H / 2L,..., YH / yL) are all turned off, the address ADR (*, Bit lines BL5 to BL8 corresponding to the lower 4 bits of 1) are connected to the data lines DL1 to DL4.

[メモリバンク]
次に、メモリバンク11の内部構成について、詳細な説明を行う。図3は、メモリバンク11の一構成例を示す回路図である。図3に示すように、メモリバンク11には、ワードラインWL、センスラインSL、ビットラインBL、及び、共通ソースラインASGが張り巡らされており、これらの制御ラインには、メモリセルトランジスタMTとビット選択トランジスタSTから成るメモリセルMCが複数接続されている。
[Memory Bank]
Next, the internal configuration of the memory bank 11 will be described in detail. FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of the memory bank 11. As shown in FIG. 3, a word line WL, a sense line SL, a bit line BL, and a common source line ASG are stretched around the memory bank 11, and these control lines include memory cell transistors MT and A plurality of memory cells MC composed of bit selection transistors ST are connected.

アドレスADR(1,1)で指定される1バイト分のメモリセルMC1〜MC8に着目して接続関係を説明する。ビット選択トランジスタST1〜ST8のドレインは、それぞれビットラインBL1〜BL8に接続されている。ビット選択トランジスタST1〜ST8のソースは、それぞれメモリセルトランジスタMT1〜MT8のドレインに接続されている。ビット選択トランジスタST1〜ST8のゲートは、いずれもワードラインWL1に接続されている。メモリセルトランジスタMT1〜MT8のソースは、いずれも共通ソースラインASGに接続されている。共通ソースラインASGは、共通トランジスタCTを介して接地端に接続されている。メモリセルトランジスタMT1〜MT8のゲート(コントロールラインCL1に相当)は、いずれもバイト選択トランジスタBT1を介してセンスラインSL1に接続されている。バイト選択トランジスタBT1のゲートは、ワードラインWL1に接続されている。   The connection relationship will be described by paying attention to the memory cells MC1 to MC8 for 1 byte specified by the address ADR (1, 1). The drains of the bit selection transistors ST1 to ST8 are connected to the bit lines BL1 to BL8, respectively. The sources of the bit selection transistors ST1 to ST8 are connected to the drains of the memory cell transistors MT1 to MT8, respectively. The gates of the bit selection transistors ST1 to ST8 are all connected to the word line WL1. The sources of the memory cell transistors MT1 to MT8 are all connected to the common source line ASG. The common source line ASG is connected to the ground terminal via the common transistor CT. The gates (corresponding to the control line CL1) of the memory cell transistors MT1 to MT8 are all connected to the sense line SL1 via the byte selection transistor BT1. The gate of the byte selection transistor BT1 is connected to the word line WL1.

図4は、メモリセルMCの縦構造を示す垂直断面図である。先述した通り、メモリセルMCは、ビット選択トランジスタSTとメモリセルトランジスタMTを有する。   FIG. 4 is a vertical sectional view showing the vertical structure of the memory cell MC. As described above, the memory cell MC includes the bit selection transistor ST and the memory cell transistor MT.

メモリセルトランジスタMTは、そのドレインDMとソースSMに挟まれたシリコン基板内の伝導チャネルとコントロールゲートCGとの間に、フローティングゲート(周囲と絶縁されたゲート)FGを有する構造とされており、コントロールゲートCGからみたメモリセルトランジスタMTのスレッショルド電圧VthがフローティングゲートFGに蓄積されている電荷量に応じて変化することを利用して、データの記憶が行われる。   The memory cell transistor MT has a structure having a floating gate (gate insulated from the surroundings) FG between a conduction channel in the silicon substrate sandwiched between the drain DM and the source SM and the control gate CG. Data is stored by utilizing the fact that the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT as viewed from the control gate CG changes according to the amount of charge accumulated in the floating gate FG.

なお、メモリセルトランジスタMTのフローティングゲートFGとドレインDMに挟まれた絶縁体は、その一部が薄くなっており、この部分(トンネル絶縁膜)を介するトンネル効果によって、フローティングゲートFGに対する電子の注入及び放出が行われる。   Note that a part of the insulator sandwiched between the floating gate FG and the drain DM of the memory cell transistor MT is thin, and electrons are injected into the floating gate FG by the tunnel effect through this part (tunnel insulating film). And release takes place.

そして、メモリセルトランジスタMTのフローティングゲートFGに蓄積される電荷量を制御することにより、図5で示すように、メモリセルトランジスタMTのスレッショルド電圧Vthを2つの状態に分布させ、この2つの分布にそれぞれ「0」と「1」を対応させることにより、1つのメモリセルMCに1ビットのデータが記憶される。   Then, by controlling the amount of charge accumulated in the floating gate FG of the memory cell transistor MT, the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT is distributed in two states as shown in FIG. By making “0” and “1” correspond to each other, 1-bit data is stored in one memory cell MC.

例えば、メモリセルMC1にデータ「1」を書き込む場合(メモリセルMC1のデータを消去する場合)には、ワードラインWL1とセンスラインSL1(コントロールラインCL1)に高電圧HV(例えば16V)が印加されて、ビットラインBL1に接地電圧が印加されて、共通ソースラインASGが接地状態とされる。このとき、ビット選択トランジスタST1はオンとなり、メモリセルトランジスタMT1のトンネル絶縁膜には高電圧HVが印加される。従って、フローティングゲートFGに電子が注入されて、フローティングゲートFGが電子を蓄積した状態となる。このとき、メモリセルトランジスタMT1のスレッショルド電圧Vthは、図5の読出電圧VRD(例えば1.2V)よりも高くなる。この状態は、メモリセルMC1にデータ「1」が書き込まれた状態(メモリセルMC1のデータが消去された状態)に相当する。   For example, when data “1” is written in the memory cell MC1 (when data in the memory cell MC1 is erased), a high voltage HV (for example, 16 V) is applied to the word line WL1 and the sense line SL1 (control line CL1). Thus, the ground voltage is applied to the bit line BL1, and the common source line ASG is brought into the ground state. At this time, the bit selection transistor ST1 is turned on, and the high voltage HV is applied to the tunnel insulating film of the memory cell transistor MT1. Accordingly, electrons are injected into the floating gate FG, and the floating gate FG is in a state of accumulating electrons. At this time, the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT1 becomes higher than the read voltage VRD (eg, 1.2 V) in FIG. This state corresponds to a state where data “1” is written in the memory cell MC1 (a state where data in the memory cell MC1 is erased).

一方、メモリセルMC1にデータ「0」を書き込む場合には、ワードラインWL1とビットラインBL1に高電圧HVが印加されて、センスラインSL1(コントロールラインCL1)に接地電圧が印加されて、共通ソースラインASGがオープン状態とされる。このとき、ビット選択トランジスタST1はオンとなり、メモリセルトランジスタMT1のトンネル絶縁膜には高電圧HVが印加される。従って、フローティングゲートFGから電子が放出されて、フローティングゲートFGは電子が欠乏した状態となる。このとき、メモリセルトランジスタMT1のスレッショルド電圧Vthは、図5の読出電圧VRDよりも低くなる。この状態は、データ「0」が書き込まれた状態(データ「1」が消去された状態)に相当する。   On the other hand, when data “0” is written in the memory cell MC1, the high voltage HV is applied to the word line WL1 and the bit line BL1, the ground voltage is applied to the sense line SL1 (control line CL1), and the common source Line ASG is opened. At this time, the bit selection transistor ST1 is turned on, and the high voltage HV is applied to the tunnel insulating film of the memory cell transistor MT1. Accordingly, electrons are emitted from the floating gate FG, and the floating gate FG is in a state of being deficient in electrons. At this time, the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT1 is lower than the read voltage VRD of FIG. This state corresponds to a state where data “0” is written (a state where data “1” is erased).

なお、メモリセルMC1からデータを読み出す際には、センスラインSL1(コントロールラインCL1)に読出電圧VRDを印加し、ワードラインWL1に電源電圧Vccを印加し、共通ソースラインASGに接地電圧を印加した状態で、ハイインピーダンスとされたビットラインBL1に電流が流れるか否かを判定すればよい。ビットラインBL1に電流が流れなければ、メモリセルトランジスタMT1のスレッショルド電圧Vthが読出電圧VRDよりも高い状態(すなわち、データ「1」が書き込まれた状態)であると判定することができる。一方、ビットラインBL1に電流が流れれば、メモリセルトランジスタMT1のスレッショルド電圧Vthが読出電圧VRDよりも低い状態(すなわち、データ「0」が書き込まれた状態)であると判定することができる。   When data is read from the memory cell MC1, the read voltage VRD is applied to the sense line SL1 (control line CL1), the power supply voltage Vcc is applied to the word line WL1, and the ground voltage is applied to the common source line ASG. In this state, it may be determined whether or not a current flows through the bit line BL1 that is set to high impedance. If no current flows through the bit line BL1, it can be determined that the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT1 is higher than the read voltage VRD (that is, a state where data “1” is written). On the other hand, when a current flows through the bit line BL1, it can be determined that the threshold voltage Vth of the memory cell transistor MT1 is lower than the read voltage VRD (that is, a state where data “0” is written).

[リード/ライトアンプ]
図6は、リード/ライトアンプ14の一構成例を示す回路図であり、特に、ビットラインBL1及びデータラインDL1に接続される構成要素が代表的に描写されている。先述した通り、リード/ライトアンプ14は、メモリバンク11からデータを読み出すためのセンスアンプシステムとして、プリチャージ電流生成部141と、参照電流生成部142と、センスアンプ部143と、スイッチ部144と、マルチプレクサ部145とを含む。
[Read / write amplifier]
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the read / write amplifier 14, and in particular, the components connected to the bit line BL1 and the data line DL1 are typically depicted. As described above, the read / write amplifier 14 serves as a sense amplifier system for reading data from the memory bank 11 as a precharge current generation unit 141, a reference current generation unit 142, a sense amplifier unit 143, and a switch unit 144. And a multiplexer unit 145.

プリチャージ電流生成部141は、PチャネルMOS[metal oxide semiconductor]電界効果トランジスタ141aを含む。トランジスタ141aのソース及びバックゲートは、電源電圧Vccの印加端に接続されている。トランジスタ141aのゲートは、プリチャージ制御信号PCHAB(ローアクティブ)の印加端に接続されている。トランジスタ141aのドレインは、センスアンプ部143の入力端に接続されている。プリチャージ制御信号PCHABがハイレベルであるときにはトランジスタ141aがオフとなり、プリチャージ電流Ipreが停止される。逆に、プリチャージ制御信号PCHABがローレベルであるときにはトランジスタ141aがオンとなり、プリチャージ電流Ipreが供給される。   The precharge current generator 141 includes a P-channel MOS [metal oxide semiconductor] field effect transistor 141a. The source and back gate of the transistor 141a are connected to the application terminal of the power supply voltage Vcc. The gate of the transistor 141a is connected to the application terminal of the precharge control signal PCHAB (low active). The drain of the transistor 141 a is connected to the input terminal of the sense amplifier unit 143. When the precharge control signal PCHAB is at a high level, the transistor 141a is turned off and the precharge current Ipre is stopped. Conversely, when the precharge control signal PCHAB is at a low level, the transistor 141a is turned on and the precharge current Ipre is supplied.

参照電流生成部142は、定電流源142aと、可変電流源142bと、ダミーメモリセル142cと、を含む。   The reference current generation unit 142 includes a constant current source 142a, a variable current source 142b, and a dummy memory cell 142c.

定電流源142aは、一定値の第1参照電流Iref1(従来の参照電流Irefに相当)を生成する。可変電流源142bは、ダミーメモリセル142cに流れるダミー寄生リーク電流Idmに応じた第2参照電流Iref2を生成する。なお、第1参照電流Iref1と第2参照電流Iref2の和が参照電流Irefとなる。   The constant current source 142a generates a first reference current Iref1 (corresponding to a conventional reference current Iref) having a constant value. The variable current source 142b generates a second reference current Iref2 corresponding to the dummy parasitic leakage current Idm flowing through the dummy memory cell 142c. Note that the sum of the first reference current Iref1 and the second reference current Iref2 is the reference current Iref.

ダミーメモリセル142cは、常時非選択状態とされたN個(N≧1)のメモリセルである。ダミーメモリセル142cには、メモリバンク11のメモリセルMCに流れる寄生リーク電流Ileakと同一の挙動を示すダミー寄生リーク電流Idmが流れる。なお、ダミーメモリセル142cの構成や配置レイアウトについては、後ほど詳細に説明する。   The dummy memory cells 142c are N (N ≧ 1) memory cells that are always in a non-selected state. A dummy parasitic leakage current Idm that exhibits the same behavior as the parasitic leakage current Ileak flowing through the memory cell MC of the memory bank 11 flows through the dummy memory cell 142c. Note that the configuration and layout of the dummy memory cell 142c will be described in detail later.

センスアンプ部143は、データラインDL1用のセンスアンプ143aを含む。センスアンプ143aは、アクセス対象のメモリセルに流れる読出電流Imemと所定の参照電流Irefとを比較し、その比較結果に応じた論理レベルの出力データ信号DOUT1を生成する。   The sense amplifier unit 143 includes a sense amplifier 143a for the data line DL1. The sense amplifier 143a compares the read current Imeem flowing through the memory cell to be accessed with a predetermined reference current Iref, and generates an output data signal DOUT1 having a logic level corresponding to the comparison result.

スイッチ部144は、Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ144a及び144bと、インバータ144cと、を含む。トランジスタ144aのドレインは、センス抵抗142に接続されている。トランジスタ144aのソースは、マルチプレクサ部145に接続されている。トランジスタ144aのゲートは、インバータ144cの出力端に接続されている。インバータ144cの入力端は、センスアンプイネーブル信号SAENB(ローアクティブ)の印加端に接続されている。トランジスタ144aのバックゲートは、接地端に接続されている。トランジスタ144bのドレインは、トランジスタ144aのゲートに接続されている。トランジスタ144bのソース及びバックゲートは、接地端に接続されている。トランジスタ144bのゲートは、トランジスタ144aのソースに接続されている。センスアンプイネーブル信号SAENBがハイレベルであるときにはトランジスタ144aがオフとなり、センスアンプ部143とデータラインDL1との間が遮断される。一方、センスアンプイネーブル信号SAENBがローレベルであるときにはトランジスタ144aがオンとなり、センスアンプ部143とデータラインDL1との間が導通される。なお、トランジスタ144bは、データラインDL1の上限電位を1V程度に抑え込むためのクランプ素子として機能する。   Switch unit 144 includes N-channel MOS field effect transistors 144a and 144b and an inverter 144c. The drain of the transistor 144a is connected to the sense resistor 142. The source of the transistor 144 a is connected to the multiplexer unit 145. The gate of the transistor 144a is connected to the output terminal of the inverter 144c. An input end of the inverter 144c is connected to an application end of a sense amplifier enable signal SAENB (low active). The back gate of the transistor 144a is connected to the ground terminal. The drain of the transistor 144b is connected to the gate of the transistor 144a. The source and back gate of the transistor 144b are connected to the ground terminal. The gate of the transistor 144b is connected to the source of the transistor 144a. When the sense amplifier enable signal SAENB is at a high level, the transistor 144a is turned off, and the sense amplifier unit 143 and the data line DL1 are disconnected. On the other hand, when the sense amplifier enable signal SAENB is at a low level, the transistor 144a is turned on, and the sense amplifier unit 143 and the data line DL1 are conducted. Note that the transistor 144b functions as a clamp element for suppressing the upper limit potential of the data line DL1 to about 1V.

マルチプレクサ部145を形成するスイッチ群145(1H)は、Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ145aを含む。トランジスタ145aのドレインは、データラインDL1に接続されている。トランジスタ145aのソースは、ビットラインBL1に接続されている。トランジスタ145aのゲートは、マルチプレクサ制御信号YMUX(1H)の印加端に接続されている。トランジスタ145aのバックゲートは、接地端に接続されている。マルチプレクサ制御信号YMUX(1H)がハイレベルであるときにはトランジスタ145aがオンとなり、ビットラインBL1とデータラインDL1との間が導通される。一方、マルチプレクサ制御信号YMUX(1H)がローレベルであるときにはトランジスタ145aがオフとなり、ビットラインBL1とデータラインDL1との間が遮断される。   The switch group 145 (1H) forming the multiplexer unit 145 includes an N-channel MOS field effect transistor 145a. The drain of the transistor 145a is connected to the data line DL1. The source of the transistor 145a is connected to the bit line BL1. The gate of the transistor 145a is connected to the application terminal of the multiplexer control signal YMUX (1H). The back gate of the transistor 145a is connected to the ground terminal. When the multiplexer control signal YMUX (1H) is at a high level, the transistor 145a is turned on, and the bit line BL1 and the data line DL1 are conducted. On the other hand, when the multiplexer control signal YMUX (1H) is at the low level, the transistor 145a is turned off, and the bit line BL1 and the data line DL1 are disconnected.

また、マルチプレクサ部145を形成するスイッチ群145(1L)は、Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ145bを含む。トランジスタ145bのドレインは、データラインDL1に接続されている。トランジスタ145bのソースは、ビットラインBL5に接続されている。トランジスタ145bのゲートは、マルチプレクサ制御信号YMUX(1L)の印加端に接続されている。トランジスタ145bのバックゲートは、接地端に接続されている。マルチプレクサ制御信号YMUX(1L)がハイレベルであるときにはトランジスタ145bがオンとなり、ビットラインBL5とデータラインDL1との間が導通される。一方、マルチプレクサ制御信号YMUX(1L)がローレベルであるときにはトランジスタ145bがオフとなり、ビットラインBL5とデータラインDL1との間が遮断される。   The switch group 145 (1L) forming the multiplexer unit 145 includes an N-channel MOS field effect transistor 145b. The drain of the transistor 145b is connected to the data line DL1. The source of the transistor 145b is connected to the bit line BL5. The gate of the transistor 145b is connected to the application terminal of the multiplexer control signal YMUX (1L). The back gate of the transistor 145b is connected to the ground terminal. When the multiplexer control signal YMUX (1L) is at a high level, the transistor 145b is turned on, and the bit line BL5 and the data line DL1 are conducted. On the other hand, when the multiplexer control signal YMUX (1L) is at a low level, the transistor 145b is turned off, and the bit line BL5 and the data line DL1 are disconnected.

図7は、参照電流生成部142の一構成例を示す回路図である。本構成例の参照電流生成部142は、定電流源142aと、可変電流源142bと、ダミーメモリセル142cと、を含む。   FIG. 7 is a circuit diagram illustrating a configuration example of the reference current generation unit 142. The reference current generation unit 142 of this configuration example includes a constant current source 142a, a variable current source 142b, and a dummy memory cell 142c.

定電流源142aは、Pチャネル型MOS電界効果トランジスタP11及びP12と、Nチャネル型MOS電界効果トランジスタN11と、を含む。トランジスタP11及びP12のソースは、いずれも電源電圧の印加端に接続されている。トランジスタP11及びP12のゲートは、いずれもトランジスタP11のドレインに接続されている。トランジスタP11のドレインは、トランジスタN11のドレインに接続されている。トランジスタN11のソースは、接地端に接続されている。トランジスタN11のゲートは、バイアス電圧VBの印加端に接続されている。トランジスタP12のドレインは、参照電流Irefの出力端に相当する。   Constant current source 142a includes P-channel MOS field effect transistors P11 and P12 and an N-channel MOS field effect transistor N11. The sources of the transistors P11 and P12 are both connected to the power supply voltage application terminal. The gates of the transistors P11 and P12 are both connected to the drain of the transistor P11. The drain of the transistor P11 is connected to the drain of the transistor N11. The source of the transistor N11 is connected to the ground terminal. The gate of the transistor N11 is connected to the application terminal for the bias voltage VB. The drain of the transistor P12 corresponds to the output terminal of the reference current Iref.

可変電流源142bは、Pチャネル型MOS電界効果トランジスタP21及びP22とNチャネル型MOS電界効果トランジスタN21及びN22を含む。トランジスタP21及びP22のソースは、いずれも電源電圧の印加端に接続されている。トランジスタP21及びP22のゲートは、いずれもトランジスタP21のドレインに接続されている。トランジスタP21のドレインは、ダミーメモリセル142cに接続されている。トランジスタP22のドレインは、トランジスタN21のドレインに接続されている。トランジスタN21及びN22のゲートは、いずれもトランジスタN21のドレインに接続されている。トランジスタN21及びN22のソースは、いずれも接地端に接続されている。トランジスタN22のドレインは、定電流源142aに含まれるトランジスタP11のドレインに接続されている。   Variable current source 142b includes P-channel MOS field effect transistors P21 and P22 and N-channel MOS field effect transistors N21 and N22. The sources of the transistors P21 and P22 are both connected to the power supply voltage application terminal. The gates of the transistors P21 and P22 are both connected to the drain of the transistor P21. The drain of the transistor P21 is connected to the dummy memory cell 142c. The drain of the transistor P22 is connected to the drain of the transistor N21. The gates of the transistors N21 and N22 are both connected to the drain of the transistor N21. The sources of the transistors N21 and N22 are both connected to the ground terminal. The drain of the transistor N22 is connected to the drain of the transistor P11 included in the constant current source 142a.

ダミーメモリセル142cは、メモリバンク11の外周縁部を形成するメモリセル(ハッチング付きのメモリセル)に隣接して配置されている。このような配置レイアウトを採用することにより、寄生電流Ileakとダミー寄生電流Idmの温度特性を一致させることが可能となるだけでなく、メモリバンク11の内部と外周縁部との間で素子の粗密を解消してメモリセル毎の特性ばらつきを解消することも可能となる。なお、ダミー寄生リーク電流Idmが流れるダミービットラインDBLは、可変電流源142bに含まれるトランジスタP21のドレインに接続されている。   The dummy memory cell 142c is arranged adjacent to a memory cell (memory cell with hatching) that forms the outer peripheral edge of the memory bank 11. By adopting such an arrangement layout, it becomes possible not only to match the temperature characteristics of the parasitic current Ileak and the dummy parasitic current Idm, but also the density of the elements between the inside and the outer peripheral edge of the memory bank 11. It is also possible to eliminate the characteristic variation for each memory cell by eliminating the above. The dummy bit line DBL through which the dummy parasitic leakage current Idm flows is connected to the drain of the transistor P21 included in the variable current source 142b.

図8は、ダミーメモリセルの一構成例を示す回路図である。本構成例のダミーメモリセル142cは、基本的にメモリバンク11のメモリセルと同一の構造を有しており、ダミーのメモリセルトランジスタDMTとビット選択トランジスタDSTから成るダミーメモリセルDMCを複数含む。   FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration example of the dummy memory cell. The dummy memory cell 142c of this configuration example basically has the same structure as the memory cell of the memory bank 11, and includes a plurality of dummy memory cells DMC each including a dummy memory cell transistor DMT and a bit selection transistor DST.

ダミーアドレスDADR(1,y+1)で指定される1バイト分のダミーメモリセルDMC1〜DMC8に着目して接続関係を説明する。ダミーのビット選択トランジスタDST1〜DST8のドレインは、いずれもダミービットラインDBLに接続されている。ダミーのビット選択トランジスタDST1〜DST8のソースは、それぞれダミーのメモリセルトランジスタDMT1〜DMT8のドレインに接続されている。ダミーのビット選択トランジスタDST1〜DST8のゲートは、いずれもワードラインWL1に接続されている。ダミーのメモリセルトランジスタDMT1〜DMT8のソースは、いずれも共通ソースラインASGに接続されている。共通ソースラインASGは、共通トランジスタCTを介して接地端に接続されている。ダミーのメモリセルトランジスタDMT1〜DMT8のゲートは、いずれもダミーのバイト選択トランジスタDBT1を介してダミーセンスラインDSLに接続されている。ダミーセンスラインDSLは、ダミーメモリセルDMC1〜DMC8を常時非選択状態とするために接地端に接続されている。ダミーのバイト選択トランジスタBT1のゲートは、ワードラインWL1に接続されている。   The connection relation will be described by paying attention to the dummy memory cells DMC1 to DMC8 for one byte specified by the dummy address DADR (1, y + 1). The drains of the dummy bit selection transistors DST1 to DST8 are all connected to the dummy bit line DBL. The sources of the dummy bit selection transistors DST1 to DST8 are connected to the drains of the dummy memory cell transistors DMT1 to DMT8, respectively. The gates of the dummy bit selection transistors DST1 to DST8 are all connected to the word line WL1. The sources of the dummy memory cell transistors DMT1 to DMT8 are all connected to the common source line ASG. The common source line ASG is connected to the ground terminal via the common transistor CT. The gates of the dummy memory cell transistors DMT1 to DMT8 are all connected to the dummy sense line DSL via the dummy byte selection transistor DBT1. The dummy sense line DSL is connected to the ground terminal so that the dummy memory cells DMC1 to DMC8 are always in a non-selected state. The gate of the dummy byte selection transistor BT1 is connected to the word line WL1.

このように、ワードラインWL1〜WLx毎に1バイト分のダミーメモリセル(ダミーアドレスDADR(1,y+1)〜DADR(x,y+1))を追加する構成であれば、メモリバンク11のメモリセルを形成する際に用いられるマスキングパターンを流用することが可能となる。   As described above, if the configuration is such that one byte of dummy memory cells (dummy addresses DADR (1, y + 1) to DADR (x, y + 1)) are added to each of the word lines WL1 to WLx, the memory cells in the memory bank 11 are stored. It is possible to divert the masking pattern used when forming.

上記構成から成る参照電流生成部142の動作について説明する。可変電流源142bは、2段のカレントミラー(トランジスタP21及びP22、並びに、トランジスタN21及びN22)を用いてダミー寄生電流Idmを所定のミラー比でミラーすることにより第2参照電流Iref2を生成する。   The operation of the reference current generator 142 having the above configuration will be described. The variable current source 142b generates a second reference current Iref2 by mirroring the dummy parasitic current Idm with a predetermined mirror ratio using a two-stage current mirror (transistors P21 and P22 and transistors N21 and N22).

一方、定電流源142aは、トランジスタN11を用いてバイアス電圧VBに応じた一定の第1参照電流Iref1を生成すると共に、トランジスタP11及びP12から成るカレントミラーを用いて第1参照電流Iref1と第2参照電流Iref2との合算電流を所定のミラー比でミラーすることにより参照電流Irefを生成する。   On the other hand, the constant current source 142a generates a constant first reference current Iref1 corresponding to the bias voltage VB using the transistor N11, and uses the current mirror including the transistors P11 and P12 to generate the first reference current Iref1 and the second reference current Iref1. The reference current Iref is generated by mirroring the combined current with the reference current Iref2 at a predetermined mirror ratio.

なお、カレントミラーの段数や各段のミラー比については、ダミーメモリセル142cの個数Nとメモリバンク11に含まれるメモリセルの個数(x×z)(延いてはメモリバンク11の記憶容量)を考慮して、第2参照電流Iref2が寄生リーク電流Ileakと一致するように適宜設定すればよい。   As for the number of stages of the current mirror and the mirror ratio of each stage, the number N of dummy memory cells 142c and the number of memory cells included in the memory bank 11 (x × z) (and hence the storage capacity of the memory bank 11) are determined. In consideration, the second reference current Iref2 may be appropriately set so as to coincide with the parasitic leakage current Ileak.

このように、本構成例のリード/ライトアンプ14は、寄生リーク電流Ileakを補うように参照電流Irefの可変制御を行う構成とされている。このような構成であれば高温下でもデータを正しく読み出すことが可能となる(図9を参照)。また、常温下であってもメモリバンク11の大容量化に伴って寄生リーク電流Ileakは増大するが、上記構成であれば、メモリバンク11の大容量化が進んでもデータを正しく読み出すことが可能となる。従って、特に、高温動作保証が要求される車載用の不揮発性メモリICや大容量化が要求される汎用の不揮発性メモリICなどでは、上記の構成を採用することが好ましい。   Thus, the read / write amplifier 14 of this configuration example is configured to perform variable control of the reference current Iref so as to compensate for the parasitic leakage current Ileak. With such a configuration, data can be read correctly even at high temperatures (see FIG. 9). In addition, the parasitic leakage current Ileak increases as the capacity of the memory bank 11 increases even at room temperature, but with the above configuration, data can be read correctly even if the capacity of the memory bank 11 increases. It becomes. Therefore, it is preferable to employ the above-described configuration particularly in a vehicle-mounted nonvolatile memory IC that requires a high-temperature operation guarantee or a general-purpose nonvolatile memory IC that requires a large capacity.

また、寄生リーク電流Ileakを補うように参照電流Irefの可変制御を行う構成であれば、記憶容量や動作温度などに依ることなく、センスアンプ部143を共通の仕様で設計することが可能となる。   In addition, if the reference current Iref is variably controlled so as to compensate for the parasitic leakage current Ileak, the sense amplifier unit 143 can be designed with a common specification without depending on the storage capacity, the operating temperature, and the like. .

<車載機器>
図10は半導体記憶装置10を搭載した車載機器の一構成例を示すブロック図である。本構成例の車載機器1は、半導体記憶装置10と、マイコン20と、表示部30と、ヒューマンインタフェイス部40と、電源部50と、を有する。
<In-vehicle equipment>
FIG. 10 is a block diagram illustrating a configuration example of an in-vehicle device in which the semiconductor memory device 10 is mounted. The in-vehicle device 1 of this configuration example includes a semiconductor storage device 10, a microcomputer 20, a display unit 30, a human interface unit 40, and a power supply unit 50.

半導体記憶装置10は、マイコン20によって制御される被制御機器の一つであり、ROM[read only memory]やRAM[random access memory]と共に、マイコン20で実行される各種プログラムの格納領域や作業領域として利用される。   The semiconductor storage device 10 is one of controlled devices controlled by the microcomputer 20 and includes storage areas and work areas for various programs executed by the microcomputer 20 together with ROM [read only memory] and RAM [random access memory]. Used as

マイコン20は、車載機器1の動作を統括的に制御する。   The microcomputer 20 comprehensively controls the operation of the in-vehicle device 1.

表示部30は、マイコン20によって制御される被制御機器の一つであり、画像や文字などを出力する。表示部30としては、液晶表示パネル等を好適に用いることができる。   The display unit 30 is one of controlled devices controlled by the microcomputer 20 and outputs images, characters, and the like. As the display unit 30, a liquid crystal display panel or the like can be suitably used.

ヒューマンインタフェイス部40は、マイコン20によって制御される被制御機器の一つであり、ユーザ操作を受け付ける。ヒューマンインタフェイス部40としては、キー、ボタン、及び、タッチパネル等を好適に用いることができる。   The human interface unit 40 is one of controlled devices controlled by the microcomputer 20 and accepts user operations. As the human interface unit 40, keys, buttons, a touch panel, and the like can be suitably used.

電源部50は、バッテリ2からの供給電圧VbatをDC/DC変換して複数の内部電源電圧(電源電圧Vccなど)を生成し、これらを車載機器1の各部に供給する。   The power supply unit 50 DC / DC converts the supply voltage Vbat from the battery 2 to generate a plurality of internal power supply voltages (such as the power supply voltage Vcc), and supplies these to each part of the in-vehicle device 1.

<車両>
図11は、車載機器1を搭載した車両の一構成例を示す外観図である。本構成例の車両Xは、車載機器X11〜X17と、これらの車載機器X11〜X17に電力を供給するバッテリ(図11では不図示)と、を搭載している。
<Vehicle>
FIG. 11 is an external view showing a configuration example of a vehicle on which the in-vehicle device 1 is mounted. The vehicle X of this configuration example includes onboard devices X11 to X17 and a battery (not shown in FIG. 11) that supplies power to these onboard devices X11 to X17.

車載機器X11は、エンジンに関連する制御(インジェクション制御、電子スロットル制御、アイドリング制御、酸素センサヒータ制御、及び、オートクルーズ制御など)を行うエンジンコントロールユニットである。   The in-vehicle device X11 is an engine control unit that performs control related to the engine (such as injection control, electronic throttle control, idling control, oxygen sensor heater control, and auto cruise control).

車載機器X12は、HID[high intensity discharged lamp]やDRL[daytime running lamp]などの点消灯制御を行うランプコントロールユニットである。   The in-vehicle device X12 is a lamp control unit that performs on / off control such as HID [high intensity discharged lamp] and DRL [daytime running lamp].

車載機器X13は、トランスミッションに関連する制御を行うトランスミッションコントロールユニットである。   The in-vehicle device X13 is a transmission control unit that performs control related to the transmission.

車載機器X14は、車両Xの運動に関連する制御(ABS[anti-lock brake system]制御、EPS[electric power Steering]制御、電子サスペンション制御など)を行うボディコントロールユニットである。   The in-vehicle device X14 is a body control unit that performs control (ABS [anti-lock brake system] control, EPS [electric power Steering] control, electronic suspension control, etc.) related to the motion of the vehicle X.

車載機器X15は、ドアロックや防犯アラームなどの駆動制御を行うセキュリティコントロールユニットである。   The in-vehicle device X15 is a security control unit that performs drive control such as a door lock and a security alarm.

車載機器X16は、ワイパー、電動ドアミラー、パワーウィンドウ、電動サンルーフ、電動シート、及び、エアコンなど、標準装備品やメーカーオプション品として、工場出荷段階で車両Xに組み込まれている電子機器である。   The in-vehicle device X16 is an electronic device incorporated in the vehicle X at the factory shipment stage as a standard equipment item or a manufacturer option product such as a wiper, an electric door mirror, a power window, an electric sunroof, an electric seat, and an air conditioner.

車載機器X17は、車載A/V[audio/visual]機器、カーナビゲーションシステム、及び、ETC[Electronic Toll Collection System]など、ユーザの任意で車両Xに装着される電子機器である。   The in-vehicle device X17 is an electronic device that is arbitrarily attached to the vehicle X by the user, such as an in-vehicle A / V [audio / visual] device, a car navigation system, and an ETC [Electronic Toll Collection System].

なお、先に説明した半導体記憶装置10は、車載機器X11〜X17のいずれにも組み込むことが可能である。   The semiconductor memory device 10 described above can be incorporated in any of the in-vehicle devices X11 to X17.

<その他の変形例>
なお、上記の実施形態では、高温動作保証が要求される車載用の不揮発性メモリICに本発明を適用した構成を例に挙げて説明を行ったが、本発明の適用対象はこれに限定されるものではなく、大容量化が要求される汎用の不揮発性メモリICなどにも広く適用することが可能である。
<Other variations>
In the above embodiment, the configuration in which the present invention is applied to an in-vehicle nonvolatile memory IC that requires high-temperature operation guarantee has been described as an example. However, the scope of application of the present invention is not limited to this. However, the present invention can be widely applied to general-purpose nonvolatile memory ICs that require a large capacity.

また、本明細書中に開示されている種々の技術的特徴は、上記実施形態のほか、その技術的創作の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。   Various technical features disclosed in the present specification can be variously modified within the scope of the technical creation in addition to the above-described embodiment. That is, the above-described embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, and the technical scope of the present invention is indicated not by the description of the above-described embodiment but by the scope of the claims. It should be understood that all modifications that fall within the meaning and range equivalent to the terms of the claims are included.

本発明は、例えば、高温動作保証が要求される車載用の不揮発性メモリICや大容量化が要求される汎用の不揮発性メモリICなどのデータ読出精度を向上するための技術として好適に利用することが可能である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitably used as a technique for improving the data reading accuracy of, for example, a vehicle-mounted nonvolatile memory IC that requires a high-temperature operation guarantee or a general-purpose nonvolatile memory IC that requires a large capacity. It is possible.

1 車載機器
2 バッテリ
10 半導体記憶装置
11 メモリバンク
12 メモリコントローラ
13 データレジスタ
14 リード/ライトアンプ
141 プリチャージ電流生成部
141a Pチャネル型MOS電界効果トランジスタ
142 参照電流生成部
142a 定電流源
142b 可変電流源
142c ダミーメモリセル
143 センスアンプ部
143a センスアンプ
144 スイッチ部
144a、144b Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ
144c インバータ
145(1H/1L、2H/2L、…、yH/yL) マルチプレクサ部
145a、145b Nチャネル型MOS電界効果トランジスタ
15 アドレスレジスタ
16 アドレスデコーダ
17 電源電圧検出部
18 高電圧生成部
20 マイコン
30 表示部
40 ヒューマンインタフェイス部
50 電源部
VCC 電源端子
SCK クロック端子
CSB チップセレクト端子(ローアクティブ)
SI データ入力端子
SO データ出力端子
GND 接地端子
WL ワードライン
CL コントロールライン
SL、DSL センスライン
BL、DBL ビットライン
ASG 共通ソースライン
MC、DMC メモリセル
ST、DST ビット選択トランジスタ
MT、DMT メモリセルトランジスタ
BT、DBT バイト選択トランジスタ
CT 共通トランジスタ
DS、DM ドレイン
SS、SM ソース
G ゲート
CG コントロールゲート
FG フローティングゲート
X 車両
X11〜X17 車載機器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 In-vehicle apparatus 2 Battery 10 Semiconductor memory device 11 Memory bank 12 Memory controller 13 Data register 14 Read / write amplifier 141 Precharge current generation part 141a P channel type MOS field effect transistor 142 Reference current generation part 142a Constant current source 142b Variable current source 142c Dummy memory cell 143 Sense amplifier section 143a Sense amplifier 144 Switch section 144a, 144b N-channel MOS field effect transistor 144c Inverter 145 (1H / 1L, 2H / 2L,..., YH / yL) Multiplexer section 145a, 145b N-channel type MOS field effect transistor 15 Address register 16 Address decoder 17 Power supply voltage detection unit 18 High voltage generation unit 20 Microcomputer 30 Display unit 40 Human Printer face portion 50 power supply unit VCC power supply terminal SCK clock terminal CSB chip select terminal (low active)
SI data input terminal SO data output terminal GND ground terminal WL word line CL control line SL, DSL sense line BL, DBL bit line ASG common source line MC, DMC memory cell ST, DST bit selection transistor MT, DMT memory cell transistor BT, DBT byte selection transistor CT common transistor DS, DM drain SS, SM source G gate CG control gate FG floating gate X vehicle X11-X17 in-vehicle equipment

Claims (11)

複数のメモリセルを含むメモリバンクと、
前記メモリバンクからデータを読み出す際にアクセス対象のメモリセルに流れる読出電流と所定の参照電流とを比較して出力データ信号を生成するリード/ライトアンプと、
を有し、
前記リード/ライトアンプは、
常時非選択状態のダミーメモリセルに流れるダミー寄生リーク電流に応じて前記参照電流の可変制御を行う参照電流生成部と、
アクセス対象のメモリセルに流れる前記読出電流と可変制御済みの前記参照電流とを比較して前記出力データ信号を生成するセンスアンプ部と、
を含み、
前記参照電流生成部は、
一定値の第1参照電流を生成する定電流源と、
前記ダミー寄生リーク電流に応じた可変値の第2参照電流を生成する可変電流源と、
を含み、前記第1参照電流と前記第2参照電流の和を可変制御済みの前記参照電流として出力する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。
A memory bank including a plurality of memory cells;
A read / write amplifier that generates an output data signal by comparing a read current flowing through a memory cell to be accessed with a predetermined reference current when reading data from the memory bank;
Have
The read / write amplifier is
A reference current generator that performs variable control of the reference current according to a dummy parasitic leakage current that flows through a dummy memory cell that is always in a non-selected state ;
A sense amplifier that generates the output data signal by comparing the read current flowing through the memory cell to be accessed and the reference current that has been variably controlled;
Including
The reference current generator is
A constant current source for generating a constant first reference current;
A variable current source for generating a second reference current having a variable value according to the dummy parasitic leakage current;
And outputting the sum of the first reference current and the second reference current as the reference current that has been variably controlled,
A semiconductor memory device.
前記リード/ライトアンプはアクセス対象のメモリセルが選択される前に当該メモリセルが接続されるビットラインにプリチャージ電流を供給するプリチャージ電流生成部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 The read / write amplifier according to claim 1, characterized in that the memory cell to be accessed further comprises a precharge current generating unit supplies a precharge current to the bit line to which the memory cells are connected prior to being selected The semiconductor memory device described in 1. 前記メモリバンクは、アクセス対象のメモリセルを選択するワードラインを含み、
前記ダミーメモリセルは、ダミーのビット選択トランジスタと、ダミーのバイト選択トランジスタを含み、
前記ダミーのビット選択トランジスタのゲートと、前記ダミーのバイト選択トランジスタのゲートは、いずれも前記ワードラインに接続されている、
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体記憶装置。
The memory bank includes a word line for selecting a memory cell to be accessed,
The dummy memory cell includes a dummy bit selection transistor and a dummy byte selection transistor,
The gate of the dummy bit selection transistor and the gate of the dummy byte selection transistor are both connected to the word line.
The semiconductor memory device according to claim 1 or claim 2, characterized in that.
前記可変電流源は、前記ダミー寄生電流をミラーして前記第2参照電流を生成するカレントミラーを含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。 It said variable current source, a semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a current mirror for generating the second reference current and mirror the dummy parasitic current. 前記ダミーメモリセルは、前記メモリバンクのメモリセルと同一の構造を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。   The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the dummy memory cell has the same structure as the memory cell of the memory bank. 前記ダミーメモリセルは、前記メモリバンクのメモリセルに隣接して配置されていることを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。   6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the dummy memory cell is arranged adjacent to a memory cell of the memory bank. 前記リード/ライトアンプは、前記メモリバンクに複数設けられたビットラインの一つを選択して前記センスアンプ部に繋がるデータラインに接続するマルチプレクサをさらに含むことを特徴とする請求項〜請求項6のいずれか一項に記載の半導体記憶装置。 The read / write amplifier claims 1 to, characterized in that by selecting one of a plurality provided bit line to the memory banks further comprising a multiplexer connected to the data lines connected to the sense amplifier unit The semiconductor memory device according to claim 6. 前記リード/ライトアンプは、前記センスアンプ部と前記データラインとの間を導通/遮断するスイッチ部をさらに有することを特徴とする請求項7に記載の半導体記憶装置。   8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein the read / write amplifier further includes a switch unit that conducts / cuts off between the sense amplifier unit and the data line. 前記データラインは、複数設けられており、
前記センスアンプ部は、前記複数のデータライン毎に前記出力データ信号を生成して並列に出力することを特徴とする請求項8に記載の半導体記憶装置。
A plurality of the data lines are provided,
9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the sense amplifier unit generates the output data signal for each of the plurality of data lines and outputs the output data signal in parallel.
車載機器の動作を統括的に制御するマイコンと、
前記マイコンで実行される各種プログラムの格納領域や作業領域として利用される請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載の半導体記憶装置と、
前記マイコンによって制御される被制御機器と、
バッテリの供給電圧から電源電圧を生成して前記車載機器の各部に供給する電源部と、
を有することを特徴とする車載機器。
A microcomputer that comprehensively controls the operation of in-vehicle devices;
The semiconductor memory device according to any one of claims 1 to 9, which is used as a storage area or a work area for various programs executed by the microcomputer.
Controlled devices controlled by the microcomputer;
A power supply unit that generates a power supply voltage from a supply voltage of the battery and supplies the power supply unit to each part of the in-vehicle device; and
An in-vehicle device characterized by comprising:
請求項10に記載の車載機器と、
前記車載機器に電力を供給するバッテリと、
を有することを特徴とする車両。
In-vehicle device according to claim 10,
A battery for supplying power to the in-vehicle device;
The vehicle characterized by having.
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