JP6040983B2 - ポリオレフィン多層微多孔膜 - Google Patents
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Description
少なくとも両表面層を形成する第一の微多孔層と、両表層間に設けられた少なくとも一つの第二の微多孔層とを有するポリオレフィン多層微多孔膜であって、前記ポリオレフィン多層微多孔膜の表層面の一方の面に対する他方の面の長手方向(MD)の静摩擦係数が1.1以下、水銀圧入法にて測定される平均孔径が57nm以下、水銀圧入法にて測定される平均孔径と空孔率とから下記式で計算される孔緻密度が4以上であり、第二の微多孔層が超高分子量ポリエチレンを35重量%以上含むポリオレフィン多層微多孔膜、である。
ここで、Aは水銀圧入法により求められる平均孔径(nm)、Pは空孔率(%)を表す。
[1]ポリオレフィン多層微多孔膜の原料と組成
(A)ポリオレフィン原料
ポリオレフィン多層微多孔膜の第一の微多孔層(両表面層)を形成する第一のポリオレフィン、及び第二の微多孔層(三層以上の構造において両表面層以外を構成する層)を形成する第二のポリオレフィンはいずれも特に限定はされないが、(1)重量平均分子量(Mw)が1×106以上の超高分子量ポリエチレン、(2)ポリエチレン、(3)ポリプロピレンの単独あるいは混合物が望ましい。以下これらのポリオレフィンについて詳述する。
超高分子量ポリエチレンは1×106以上のMwを有する。超高分子量ポリエチレンは、エチレンの単独重合体のみならず、他のα−オレフィンを少量含有するエチレン・α−オレフィン共重合体でもよい。エチレン以外のα−オレフィンとしては、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、酢酸ビニル、メタクリル酸メチル及びスチレンが好ましい。エチレン以外のα−オレフィンの含有量は5mol%以下が好ましい。超高分子量ポリエチレンのMwは1×106〜15×106が好ましく、1×106〜5×106がより好ましく、1×106〜3×106が特に好ましい。
ポリエチレンとしては高密度ポリエチレン(HDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)及び鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が挙げられ、特に限定しないがHDPEが好ましい。これらのポリエチレンは、エチレンの単独重合体のみならず、他のα−オレフィンを少量含有する共重合体であってもよい。α−オレフィンとしては、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、酢酸ビニル、メタクリル酸メチル及びスチレンが好ましい。エチレン以外のα−オレフィンの含有量は5mol%以下が好ましい。ポリエチレンは単一物でも、二種以上のポリエチレンからなる組成物でもよい。
ポリプロピレンは単独重合体及び他のオレフィンとの共重合体のいずれでも良いが、単独重合体が好ましい。共重合体はランダム及びブロック共重合体のいずれでも良い。プロピレン以外のオレフィンとしては、エチレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、酢酸ビニル、メタクリル酸メチル、スチレン等のα−オレフィン、ブタジエン、1,5−ヘキサジエン、1,7−オクタジエン、1,9−デカジエン等のジオレフィン等が挙げられる。プロピレン共重合体中の他のオレフィンの割合は、耐熱性、耐圧縮性、耐熱収縮性等の物性を損なわない範囲であれば良く、具体的には10モル%未満であるのが好ましい。
第一及び第二のポリオレフィンは、上記以外の成分として、多層微多孔膜の性能を損なわない範囲で、(a)Mwが1×104〜4×106のポリブテン−1、ポリペンテン−1、ポリ4−メチルペンテン−1、ポリヘキセン−1、ポリオクテン−1、ポリ酢酸ビニル、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン及びエチレン・α−オレフィン共重合体、及び(b)Mwが1×103〜1×104のポリエチレンワックスからなる群から選ばれた少なくとも一種を含有しても良い。ポリブテン−1、ポリペンテン−1、ポリ4−メチルペンテン−1、ポリヘキセン−1、ポリオクテン−1、ポリ酢酸ビニル、ポリメタクリル酸メチル及びポリスチレンは単独重合体のみならず、他のα−オレフィンを含有する共重合体でもよい。
ポリオレフィン多層微多孔膜の第一の微多孔層(両表面層)を形成する第一のポリオレフィン、及び第二の微多孔層(三層以上の構造における両表面層以外を構成する層)を形成する第二のポリオレフィンに用いられる材料は上記の通りであるが、それぞれの層を構成するポリオレフィンは以下のとおりが好ましい。
(A)第一の製造方法
ポリオレフィン多層微多孔膜を製造する第一の方法は、(1-1)第一のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第一のポリオレフィン溶液を調製し、(1-2)第二のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第二のポリオレフィン溶液を調製し、(1-3)第一及び第二のポリオレフィン溶液を1つのダイより同時に押し出し、(1-4)得られた押出し成形体を冷却してゲル状積層シートを形成し、(1-5)ゲル状積層シートを少なくとも一軸方向に延伸し(第一の延伸)、(1-6)ゲル状積層シートから成膜用溶剤を除去し、(1-7)得られた積層膜を乾燥し、及び(1-8)得られた乾燥積層微多孔膜を再び少なくとも一軸方向に延伸(第二の延伸)する工程を有する。工程(1-8)の後、必要に応じて、熱処理[工程(1-9)]、電離放射による架橋処理[工程(1-10)]、親水化処理[工程(1-11)]等を行っても良い。
(1-1)第一ポリオレフィン溶液の調製
第一のポリオレフィンに成膜用溶剤を溶融混練し、第一のポリオレフィン溶液を調製する。ポリオレフィン溶液に必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、アンチブロッキング剤、顔料、染料、無機充填材、孔形成剤(例えば微粉珪酸)等の各種添加剤を、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。
K 7121に基づき示差走査熱量測定(DSC)により求める。具体的には、140〜260℃であるのが好ましく、170〜250℃であるのがより好ましい。
(1-2)第二のポリオレフィン溶液の調製
第二のポリオレフィンに成膜用溶剤を溶融混練し、第二のポリオレフィン溶液を調製する。第二のポリオレフィン溶液に用いる成膜用溶剤は、第一のポリオレフィン溶液に用いる成膜用溶剤と同じでもよいし、異なってもよいが、同じであるのが好ましい。それ以外の調整方法は第一のポリオレフィン溶液の調製の場合と同じでよい。
(1-3)押出
第一及び第二のポリオレフィン溶液をそれぞれ押出機から1つのダイに送給し、そこで両溶液を層状に組合せ、シート状に押し出す。三層以上の構造を有する多層微多孔膜を製造する場合、第一のポリオレフィン溶液が少なくとも両表面層を形成し、第二のポリオレフィン溶液が両表層間の少なくとも一層を形成するように(好ましくは、両表面層の一方又は両方に接触するように)両溶液を層状に組合せ、シート状に押し出す。
(1-4)ゲル状積層シートの形成
得られた積層押出し成形体を冷却することによりゲル状積層シートを形成する。冷却は少なくともゲル化温度までは50℃/分以上の速度で行うのが好ましい。冷却は40℃以下まで行うのが好ましい。冷却により、成膜用溶剤によって分離された第一及び第二のポリオレフィンのミクロ相を固定化することができる。一般に冷却速度を遅くすると擬似細胞単位が大きくなり、得られるゲル状積層シートの高次構造が粗くなるが、冷却速度を速くすると密な細胞単位となる。冷却速度がこの好ましい範囲であると、結晶化度が上昇せず、延伸に適したゲル状シートとなりやすい。冷却方法としては冷風、冷却水等の冷媒に接触させる方法、冷却ロールに接触させる方法等を用いることができる。
(1-5)ゲル状積層シートの延伸(第一の延伸)
得られたゲル状積層シートを少なくとも一軸方向に延伸する。ゲル状積層シートは成膜用溶剤を含むので、均一に延伸できる。ゲル状積層シートは、加熱後、テンター法、ロール法、インフレーション法、又はこれらの組合せにより所定の倍率で延伸するのが好ましい。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよいが、二軸延伸が好ましい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸、逐次延伸及び多段延伸(例えば同時二軸延伸及び逐次延伸の組合せ)のいずれでもよいが、同時二軸延伸が好ましい。
(1-6)成膜用溶剤の除去
成膜用溶剤の除去(洗浄)に洗浄溶媒を用いる。第一及び第二のポリオレフィン相は成膜用溶剤と相分離しているので、成膜用溶剤を除去すると、微細な三次元網目構造を形成するフィブリルからなり、三次元的に不規則に連通する孔(空隙)を有する多孔質の膜が得られる。適当な洗浄溶媒としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の飽和炭化水素、塩化メチレン、四塩化炭素等の塩素化炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、メチルエチルケトン等のケトン類、三フッ化エタン、C6F14、C7F16等の鎖状フルオロカーボン、C5H3F7等の環状ハイドロフルオロカーボン、C4F9OCH3、C4F9OC2H5等のハイドロフルオロエーテル、C4F9OCF3、C4F9OC2F5等のパーフルオロエーテル等の易揮発性溶媒が挙げられる。
(1-7)乾燥
成膜用溶剤を除去した積層微多孔膜を、加熱乾燥法又は風乾法により乾燥する。乾燥温度はポリオレフィンの結晶分散温度以下であるのが好ましく、特に結晶分散温度より5℃以上低いのが好ましい。乾燥は、積層微多孔膜を100重量%(乾燥重量)として、残存洗浄溶媒が5質量%以下になるまで行うのが好ましく、3重量%以下になるまで行うのがより好ましい。乾燥が十分であると、後段の積層微多孔膜の延伸工程及び熱処理工程を行ったときに積層微多孔膜の空孔率が低下せず、透過性に優れる。
(1-8)積層微多孔膜の再延伸(第二の延伸)
乾燥後の積層微多孔膜を、少なくとも一軸方向に延伸(再延伸)する。積層微多孔膜の延伸は、加熱しながら上記と同様にテンター法等により行うことができる。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸及び逐次延伸のいずれでもよいが、同時二軸延伸が好ましい。なお再延伸は通常延伸ゲル状積層シートから得られた長尺シート状の積層微多孔膜に対して行うので、再延伸におけるMD方向及びTD方向とゲル状積層シートの延伸におけるMD方向及びTD方向とは一致する。これは他の製造方法例でも同じである。
(1-9)熱処理
乾燥後の積層微多孔膜を熱処理するのが好ましい。熱処理によって結晶が安定化し、ラメラが均一化される。熱処理方法としては、熱固定処理及び/又は熱緩和処理を用いることができる。熱固定処理は、テンター方式又はロール方式により行うのが好ましい。熱固定処理温度は結晶分散温度以上〜融点以下の範囲内が好ましく、積層微多孔膜の延伸温度±5℃の範囲内がより好ましく、積層微多孔膜の延伸(再延伸)温度±3℃の範囲内が特に好ましい。
(1-10)架橋処理
積層微多孔膜に対して、α線、β線、γ線、電子線等の電離放射線の照射により架橋処理を施してもよい。電子線の照射の場合、0.1〜100Mradの電子線量が好ましく、100〜300kVの加速電圧が好ましい。架橋処理により積層微多孔膜のメルトダウン温度が上昇する。
(1-11)親水化処理
積層微多孔膜に親水化処理を施してもよい。親水化処理は、モノマーグラフト、界面活性剤処理、コロナ放電等により行うことができる。モノマーグラフトは架橋処理後に行うのが好ましい。
(B)第二の製造方法
ポリオレフィン多層微多孔膜を製造する第二の方法は、(2-1)第一のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第一のポリオレフィン溶液を調製し、(2-2)第二のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第二のポリオレフィン溶液を調製し、(2-3)第一及び第二のポリオレフィン溶液を別個のダイより押出した直後に積層し、(2-4)得られた積層体を冷却してゲル状積層シートを形成し、(2-5)ゲル状積層シートを延伸し、(2-6)ゲル状積層シートから成膜用溶剤を除去し、(2-7)得られた積層微多孔膜を乾燥し、及び(2-8)積層微多孔膜を延伸する工程を有する。工程(2-8)の後、必要に応じて、熱処理工程(2-9)、電離放射による架橋処理工程(2-10)、親水化処理工程(2-11)等を行っても良い。
(C)第三の製造方法
ポリオレフィン多層微多孔膜を製造する第三の方法は、(3-1)第一のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第一のポリオレフィン溶液を調製し、(3-2)第二のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第二のポリオレフィン溶液を調製し、(3-3)第一のポリオレフィン溶液を一つのダイより押し出して第一の押出し成形体を調製し、(3-4)第二のポリオレフィン溶液を別のダイより押し出して第二の押出し成形体を調製し、(3-5)得られた第一及び第二の押出し成形体を冷却して第一及び第二のゲル状シートを形成し、(3-6)第一及び第二のゲル状シートをそれぞれ延伸し、(3-7)延伸した第一及び第二のゲル状シートを積層し、(3-8)得られたゲル状積層シートから成膜用溶剤を除去し、(3-9)得られた積層微多孔膜を乾燥し、及び(3-10)積層微多孔膜を延伸する工程を有する。工程(3-7)と(3-8)の間に、(3-11)ゲル状積層シートの延伸工程等を設けてもよい。また工程(3-10)の後、(3-12)熱処理工程、(3-13)電離放射による架橋処理工程、(3-14)親水化処理工程等を設けてもよい。
(D)第四の製造方法
ポリオレフィン多層微多孔膜を製造する第四の方法は、(4-1)第一のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第一のポリオレフィン溶液を調製し、(4-2)第二のポリオレフィンと成膜用溶剤とを溶融混練して第二のポリオレフィン溶液を調製し、(4-3)第一のポリオレフィン溶液を一つのダイより押し出し、(4-4)第二のポリオレフィン溶液を別のダイより押し出し、(4-5)得られた各押出し成形体を冷却して第一及び第二のゲル状シートを形成し、(4-6)第一及び第二のゲル状シートをそれぞれ延伸し、(4-7)延伸した各ゲル状シートから成膜用溶剤を除去し、(4-8)得られた第一及び第二のポリオレフィン微多孔膜を乾燥し、(4-9)少なくとも第二のポリオレフィン微多孔膜を延伸し、(4-10)第一及び第二のポリオレフィン微多孔膜を積層する工程を有する。必要に応じて、工程(4-8)と(4-9)の間に第一及び第二のポリオレフィン微多孔膜のそれぞれに熱処理工程(4-11)を行ってもよい。また工程(4-10)の後、積層微多孔膜の延伸工程(4-12)、熱処理工程(4-13)、電離放射による架橋処理工程(4-14)、親水化処理工程(4-15)等を行ってもよい。
[3]ポリオレフィン多層微多孔膜の構造
(A)第一の微多孔層
(1)層数
本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は三層以上の構造を有するが、第一の微多孔層は少なくとも両表面層にあればよい。多層微多孔膜を四層以上の構造とする場合、必要に応じて、両表面層の間に第一の微多孔層をさらに設けてもよい。例えば、第一の微多孔層/第二の微多孔層/第一の微多孔層/第二の微多孔層/第一の微多孔層といった構成である。
(2)第一の微多孔層の作用
両表面層を第一の微多孔層により形成すると、優れた滑り性を示すポリオレフィン多層微多孔膜が得られる。
(B)第二の微多孔層
(1)層数
本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は三層以上の構造を有するが、第二の微多孔層は2つの第一の微多孔層(両表面層)の間に少なくとも一層設けられていればよい。多層微多孔膜を四層以上の構造とする場合、必要に応じて、第二の微多孔層を多層にしてもよい。
(2)第二の微多孔層の作用
第二の微多孔層は、表層ではないため、膜の表面性状に関係するような物性(例えば滑り性)への影響は小さいが、優れた膜全体の性能(例えば膜の力学物性やガス透過性や耐電圧特性)バランスを発現させる作用がある。
(C)第一及び第二の微多孔層の配置及び割合
ポリオレフィン多層微多孔膜の第一及び第二の微多孔層の配置は、両表面層に第一の微多孔層が設けられ、両表面層間に少なくとも一つの第二の微多孔層が設けられた三層以上の構造になる。四層以上の構造を有する多層微多孔膜の場合、両表面層間には、少なくとも一つの第二の微多孔層が設けられている限り、他に第一及び第二の微多孔層の一方又は両方が設けられていてもよい。両表面層間に複数の微多孔層を設ける場合、両表面層間の微多孔層の配置は特に制限されない。限定的ではないが、本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は、第一の微多孔層/第二の微多孔層/第一の微多孔層の三層構造が好ましい。また、四層以上の構造を有する多層微多孔膜の場合、第一及び第二の微多孔層とは異なる組成の微多孔層(第三、第四・・・の微多孔層)を両表面層間に設けていてもよい。この場合、第三、第四・・・の微多孔層を構成する原料としては第一及び第二の微多孔層に用いられる原料を使用することができる。
[3]ポリオレフィン多層微多孔膜の特性
本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は、以下の式で算出される孔緻密度が4以上であることが重要である。
ここで、Aは水銀圧入法により求められる平均孔径(nm)、Pは空孔率(%)を表す。
[5]電池用セパレータ
本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は電池用セパレータとして好適に使用できる。本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は、電池用セパレータとして用いるため膜厚は電池の種類に応じて適宜選択しうるが、3〜200μmの膜厚を有するのが好ましく、5〜50μmの膜厚を有するのがより好ましく、10〜35μmの膜厚を有するのが特に好ましく、10〜20μmの膜厚を有するのが最も好ましい。
[6]電池
本発明のポリオレフィン多層微多孔膜は、リチウムイオン二次電池、リチウムポリマー二次電池、ニッケル−水素二次電池、ニッケル−カドミウム二次電池、ニッケル−亜鉛二次電池、銀−亜鉛二次電池等の二次電池用のセパレータに好ましいが、特にリチウムイオン二次電池用セパレータに好ましい。以下リチウムイオン二次電池を説明する。ただし本発明はリチウムイオン二次電池に限定されない。
(1)平均膜厚(μm)
100mm四方のサンプル片を切り出し、四隅と中心部を接触厚み計により膜厚を測定し、平均することにより求めた。
(2)透気度(sec/100cm3)
JIS P 8117に準拠して測定した。
(3)空孔率(%)
50mm四方のサンプル質量から目付けW(g/cm2)を算出した。次に膜の構成成分の平均密度ρ(g/cm3)(単一成分の密度の加重平均)と厚みd(cm)から下式にて空孔率を計算した。
例えば成分1と成分2の比率がそれぞれy1、y2とすると(y1+y2=1)、それぞれ単一の密度をρ1、ρ2とすると
平均密度ρ=y1×ρ1+y2×ρ2
空孔率P=(1−W/(d×ρ))×100(%)
空孔率は好ましくは20〜75%、さらに好ましくは25〜60%である。
(4)突刺強度(gf)
100mm四方のサンプル片を切り出し、四隅と中心部を先端が球面(曲率半径R:0.5mm)の直径1mmの針で、微多孔膜を2mm/秒の速度で突刺したときの最大荷重を測定し、平均値を求めた。
(5)熱収縮率(%)
微多孔膜を105℃で8時間保持したときの長手方向(MD)及び横手方向(TD)の長さの変化より収縮率を求めた。計算式は以下の通り。
(6)孔緻密度
上記(3)の空孔率P(%)及び後述する水銀圧入法より求められる平均孔径A(nm)から次式により求めた。
水銀圧入法(使用機器:Poresizer Type 9320、Micromeritic社製)により得られた累積の細孔容積をVp(cm3/g)、Vpと各圧力で求められる細孔径rを基に円筒状細孔仮定の累積細孔比表面積をSp(m2/g)として次式により算出した。
平均孔径は好ましくは57nm以下、さらに好ましくは53nm以下である。
(7)耐電圧(kV)
微多孔膜の耐電圧については以下の方法にて評価した。サンプルサイズは幅650〜700mm×長さ600mm以上に切り出し、銅板電極(650mm×530mm)の上に広げる。その上に金属蒸着フィルムを被せてフェルト布を用いて表面を撫でて空気やシワを除去する。金属蒸着フィルムと銅板間に電圧を印加する。この場合0.5kVにて30秒間保持した後、0.1kV/10秒の速度で昇圧、0.1kVごとに10秒間保持、これを繰り返した。この間0.1kVごとにショート発生個数を数え、20個を超えた時点で測定終了とし、その時点での電圧を耐電圧とした。
(8)電気化学的安定性(mAh)
本発明中における膜の電気化学的安定性とは、電池セパレータ用途の場合で高温(40〜80℃程度)下での使用や保管に対しての酸化劣化に対する耐久性を表す。具体的な測定方法を以下に示す。正極にLiCO2、負極に黒鉛、LiPF6を1モル/Lになるようにエチレンカーボネートとエチルメチルカーボネートの混合溶媒(体積比4/6)に溶解させた溶液を電解液として微多孔膜に浸漬し、電池を組み立てた。この電池に4.3Vの充電状態を60℃で21日間続け、この間電圧が一定となるように電池に供給した充電電流の積算値をmAh単位で示した。この値が小さいと電池容量の損失が小さいため電気化学的安定性に優れている。
(9)重量平均分子量
ポリエチレン、ポリプロレンの分子量は以下の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により求めた。
・測定装置:Polymer Laboratories製 PL−20
・カラム:昭和電工株式会社製Shodex UT806M
・カラム温度:145℃
・溶媒(移動相):o−ジクロルベンゼン
・溶媒流速:1.0mL/分
・試料調整:試料10mgに測定溶媒5mLを添加し、140〜150℃で約20分加熱攪拌
・インジェクション量:0.200mL
・検出器:示差屈折率検出器RI
・標準試料:単分散ポリスチレン
(10)静摩擦係数
ASTM D1894に準拠してフィルムの前記ポリオレフィン多層微多孔膜の表層の一方の面に対する他方の面のMD方向の静止摩擦係数を測定した。試験速度は15cm/分とした。
〔実施例1〕
(1)第一のポリオレフィン溶液の調製
重量平均分子量(Mw)が3.0×105の高密度ポリエチレン(HDPE)80重量%及びMwが1.2×106のポリプロピレン(PP)20重量%からなる第一のポリオレフィン組成物100重量部に、酸化防止剤としてテトラキス[メチレン−3−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]メタン0.2重量部をドライブレンドした。得られた混合物25重量%を強混練タイプの二軸押出機(内径58mm、L/D=52.5)に投入し、二軸押出機のサイドフィーダーから流動パラフィン[50cSt(40℃)]75重量%を供給し(樹脂濃度=25重量%)、230℃及び250rpmの条件で溶融混練して、第一のポリオレフィン溶液を調製した。
(2)第二のポリオレフィン溶液の調製
Mwが2.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)40重量%、上記のHDPE60重量%からなる第二のポリオレフィン組成物100重量部に、上記酸化防止剤0.2重量部をドライブレンドした。得られた混合物25重量%を上記と同じ二軸押出機に投入し、二軸押出機のサイドフィーダーから上記と同じ流動パラフィン75重量%を供給し(樹脂濃度=25重量%)、230℃及び250rpmの条件で溶融混練して、第二のポリオレフィン溶液を調製した。
(3)成膜
第一及び第二のポリオレフィン溶液を、各二軸押出機から三層用Tダイに供給し、第一のポリオレフィン溶液/第二のポリオレフィン溶液/第一のポリオレフィン溶液の層厚比が0.1/0.8/0.1となるように押し出した。押出し成形体を、30℃に温調した冷却ロールで引き取りながら冷却し、ゲル状三層シートを形成した。ゲル状三層シートを、テンター延伸機により115℃で長手方向及び横手方向ともに5倍に同時二軸延伸(第一の延伸)を施し、100℃で熱固定した。次いで延伸したシート状のゲル状成形物を塩化メチレンの洗浄槽中に浸漬し、洗浄して流動パラフィンを除去した。洗浄した膜を風乾し、次に125℃の温度に加熱しながら、テンター延伸機によりTD方向に1.4倍に再び延伸(第二の延伸)し、更に同TD方向に86%のリラックスを施し、テンターに保持しながら125℃で熱固定処理して(第二の延伸、リラックス及び熱固定処理の合計26秒)ポリオレフィン微多孔膜を得た。
〔実施例2〜9〕
第一、第二のポリオレフィン溶液の組成や第一、第二の延伸温度、リラックス率などを変更し、それ以外は実施例1同様の条件で微多孔膜を得たが、これらの諸条件及び物性を表1に纏めた。
〔実施例10〕
第二のポリオレフィン溶液のポリオレフィン組成物にはMwが2.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)40重量%とMwが3.5×105のHDPE60重量%を用いた以外は実施例1同様の方法で微多孔膜を得た。
比較例1〜4
第一、第二のポリオレフィン溶液の組成や第一、第二の延伸温度、リラックス率などを変更し、それ以外は実施例1同様の条件で微多孔膜を得た。これらの諸条件及び物性を表1に纏めた。
Claims (6)
- 少なくとも両表面層を形成する第一の微多孔層と、両表層間に設けられた少なくとも一つの第二の微多孔層とを有するポリオレフィン多層微多孔膜であって、前記ポリオレフィン多層微多孔膜の表層面の一方の面に対する他方の面の長手方向(MD)の静摩擦係数が1.1以下、水銀圧入法にて測定される平均孔径が57nm以下、水銀圧入法にて測定される平均孔径と空孔率とから下記式で計算される孔緻密度が4以上であり、第二の微多孔層が超高分子量ポリエチレンを35重量%以上含むポリオレフィン多層微多孔膜。
孔緻密度=(P/A3)×104
ここで、Aは水銀圧入法により求められる平均孔径(nm)、Pは空孔率(%)を表す。 - 耐電圧が1.4kV/11.5μm以上、透気度が250秒/100cc以下である請求項1に記載のポリオレフィン多層微多孔膜。
- 電気化学的安定性が65mAh以下である請求項2に記載のポリオレフィン多層微多孔膜。
- 第一の微多孔層においてポリプロピレンが5重量%以上である請求項1〜3のいずれかに記載のポリオレフィン多層微多孔膜。
- 第一の微多孔膜と第二の微多孔膜は互いに組成が異なり、第一の微多孔膜の厚さ/第二の微多孔膜の厚さ/第一の微多孔膜の厚さは、0.05/0.9/0.05〜0.3/0.4/0.3である請求項1〜4のいずれかに記載のポリオレフィン多層微多孔膜。
- 第一の微多孔層には超高分子量ポリエチレンが10重量%以下、第二の微多孔層には超高分子量ポリエチレンを35重量%以上含む請求項1又は2に記載のポリオレフィン多層微多孔膜。
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