JP6051783B2 - 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(1)触媒担体にAuとCo3O4からなりかつ0nm超100nm以下の平均粒径を有するAu−Co3O4ナノ粒子を複数担持してなることを特徴とする、排ガス浄化用触媒。
(2)前記Au−Co3O4ナノ粒子の平均粒径が0nm超20nm以下であることを特徴とする、上記(1)に記載の排ガス浄化用触媒。
(3)前記Au−Co3O4ナノ粒子の平均粒径が0nm超10nm以下であることを特徴とする、上記(2)に記載の排ガス浄化用触媒。
(4)前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が0超9.9以下であることを特徴とする、上記(1)〜(3)のいずれか1つに記載の排ガス浄化用触媒。
(5)前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が1.0以上9.5以下であることを特徴とする、上記(4)に記載の排ガス浄化用触媒。
(6)前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が2.0以上9.5以下であることを特徴とする、上記(5)に記載の排ガス浄化用触媒。
(7)前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が3.0以上9.0以下であることを特徴とする、上記(6)に記載の排ガス浄化用触媒。
(8)前記排ガス浄化用触媒をエネルギー分散型X線分析装置付走査透過型電子顕微鏡(STEM−EDX)を用いて電子線のスポット径が1nm以下の条件下で分析したときに、無作為に選択した10個以上の金属粒子に関する測定点のうち70%以上の測定点においてAuとCoの両方の元素が検出されることを特徴とする、上記(1)〜(7)のいずれか1つに記載の排ガス浄化用触媒。
(9)Au塩、Co塩、溶媒、及び無機還元剤を含む混合溶液を提供する工程、
前記混合溶液をAuとCoを還元するのに十分な温度において加熱することにより、AuとCoからなる二元金属粒子を生成する加熱工程、並びに
生成した二元金属粒子を含む溶液中に触媒担体を導入して乾燥した後、酸化性雰囲気中で熱処理する酸化工程
を含むことを特徴とする、上記(1)〜(8)のいずれか1つに記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。
(10)前記加熱工程が90℃以上250℃以下の温度で実施されることを特徴とする、上記(9)に記載の方法。
(11)前記加熱工程が100℃超200℃以下の温度で実施されることを特徴とする、上記(10)に記載の方法。
(12)前記溶媒が、テトラエチレングリコール、エチレングリコール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、グリセリン、プロピレングリコール、イソアミルアルコール、n−アミルアルコール、アリルアルコール、2−エトキシアルコール、1,2−ヘキサデカンジオール、ジメチルホルムアミド、及びそれらの組み合わせからなる群より選択されることを特徴とする、上記(9)〜(11)のいずれか1つに記載の方法。
(13)前記無機還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム、アンモニアボラン、ヒドラジン、及びそれらの組み合わせからなる群より選択されることを特徴とする、上記(9)〜(12)のいずれか1つに記載の方法。
(14)前記無機還元剤が水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする、上記(13)に記載の方法。
(15)前記混合溶液が保護剤をさらに含むことを特徴とする、上記(9)〜(14)のいずれか1つに記載の方法。
(16)前記酸化工程の後に還元工程及び酸化工程をさらに含むことを特徴とする、上記(9)〜(15)のいずれか1つに記載の方法。
[Au−Co二元金属粒子(Co/Au比(原子比)=0.33)の合成]
まず、300mLのビーカーに溶媒としてのテトラエチレングリコールを120mL入れ、そこに保護剤としてのポリビニルピロリドン(PVP K−25、平均分子量35000)7.5g(67.5mmol)と酢酸コバルト(II)四水和物(Co(CH3COO)2・4H2O)0.42g(1.69mmol)を加えて、溶液の温度を80℃に加熱し、超音波をかけながらこれらを溶解させた。次いで、この溶液を室温まで冷却した後、当該溶液にテトラエチレングリコール40mLに溶解させた30wt%塩化金酸(HAuCl4)水溶液3.28g(5.06mmol)を加えた。次いで、得られた溶液を当該溶液中の酸素を追い出してAuとCoが還元されやすい条件にするために窒素で10分間バブリングした後、当該溶液にテトラエチレングリコール40mLに溶解させた無機還元剤としての水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)1.02g(27mmol)を加えて室温で30分間攪拌した。次いで、得られた混合溶液をオイルバスを用いて160℃に加熱し、この温度で1時間保持して攪拌し、AuとCoを還元した後、室温まで冷却した。
次に、上で得られたAu−Co二元金属粒子(Co/Au比(原子比)=0.33)を含む分散液にAuとCoの合計担持量(金属換算担持量)が触媒担体に対して5wt%となるようにシリカ(ナノテックSiO2)21.9gを加えた後、約100℃に加熱することにより分散媒を除去した。次いで、120℃で8時間乾燥した後、これを乳鉢で粉砕し、得られた粉末を空気中500℃で2時間焼成した。次いで、得られた粉末を196MPaの圧力で圧粉成型した後、ふるいにかけて1.0〜1.7mmのペレット状の触媒を得た。本実施例では、さらに、得られた触媒2gを流通型反応炉に入れ、1vol%H2/N2バランスからなる還元性ガスの流通下において600℃で15分間にわたり還元処理を行った後、10%O2/N2バランスからなる酸化性ガスの流通下において600℃で30分間にわたり酸化処理することで、Au−Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=0.33)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Au−Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=1.0)の調製]
酢酸コバルト(II)四水和物の量を0.84g(3.38mmol)に変更し、さらに30wt%塩化金酸水溶液の量を2.19g(3.38mmol)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、Co/Au比(原子比)が1.0のAu−Co二元金属粒子を含む分散液を得た。次いで、シリカの量を17.3gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、Au−Co/SiO2(Co/Au比(原子比)=1.0)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Au−Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=3.0)の調製]
酢酸コバルト(II)四水和物の量を1.27g(5.10mmol)に変更し、さらに30wt%塩化金酸水溶液の量を1.07g(1.65mmol)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、Co/Au比(原子比)が3.0のAu−Co二元金属粒子を含む分散液を得た。次いで、シリカの量を12.5gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、Au−Co/SiO2(Co/Au比(原子比)=3.0)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Au−Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=9.0)の調製]
酢酸コバルト(II)四水和物の量を1.51g(6.08mmol)に変更し、さらに30wt%塩化金酸水溶液の量を0.44g(0.68mmol)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、Co/Au比(原子比)が9.0のAu−Co二元金属粒子を含む分散液を得た。次いで、シリカの量を9.85gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、Au−Co/SiO2(Co/Au比(原子比)=9.0)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Au/SiO2(Co/Au比(原子比)=0)の調製]
30wt%塩化金酸水溶液の量を4.37g(6.75mmol)に変更し、酢酸コバルト(II)四水和物等を加えなかったこと以外は実施例1と同様にして、Au金属粒子を含む分散液を得た。次いで、シリカの量を26.6gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、Au/SiO2(Co/Au比(原子比)=0)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Co3O4/SiO2の調製]
酢酸コバルト(II)四水和物の量を1.68g(6.75mmol)に変更し、30wt%塩化金酸水溶液等を加えなかったこと以外は実施例1と同様にして、Co金属粒子を含む分散液を得た。次いで、シリカの量を7.96gに変更したこと以外は実施例1と同様にして、触媒成分としてAuを含まないCo3O4/SiO2からなる排ガス浄化用触媒を得た。
[Au/SiO2とCo/SiO2の物理混合触媒(Co/Au比(原子比)=1.0)の調製]
本比較例では、Au/SiO2とCo3O4/SiO2を単に物理混合することによってAu/SiO2とCo3O4/SiO2からなる排ガス浄化用触媒を調製した。具体的には、まず、比較例1と同様にしてAu金属粒子を含む分散液を得た。次いで、この分散液にシリカ17.5gを加えて当該シリカにAuを担持し、Auの担持量がシリカに対して7.6wt%のAu/SiO2(Co/Au比(原子比)=0)からなる触媒を得た。次に、比較例2と同様にしてCo金属粒子を含む分散液を得た。次いで、この分散液にシリカ17.3gを加え、その後は比較例2と同様にして当該シリカにCo3O4を担持し、Coの担持量(金属換算担持量)がシリカに対して2.4wt%のCo3O4/SiO2からなる触媒を得た。次いで、両触媒を17gずつ秤量し、これらを乳鉢で混合した後、実施例1等と同様にして、Au/SiO2とCo3O4/SiO2からなる排ガス浄化用触媒(Co/Au比(原子比)=1.0)を得た。
[Au,Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=3.0)の調製]
本比較例では、単に従来の共含浸法によってAuとCo3O4をシリカに担持したAu,Co3O4/SiO2を調製した。具体的には、まず、300mLのビーカーに蒸留水50mLを入れ、これに塩化金酸(HAuCl4)水溶液1.41gと酢酸コバルト(II)四水和物(Co(CH3COO)2・4H2O)1.35gを加えて室温で攪拌した。これらを完全に溶解させた後、シリカ(ナノテックSiO2)15gを加えて加熱し分散媒を除去した。次いで、120℃で1時間乾燥した後、これを乳鉢で粉砕して均一な粉状にし、得られた粉末を空気中500℃で2時間焼成した。次いで、得られた粉末を196MPaの圧力で圧粉成型した後、ふるいにかけて1.0〜1.7mmのペレット状の触媒を得た。さらに、得られた触媒2gを流通型反応炉に入れ、1vol%H2/N2バランスからなる還元性ガスの流通下において600℃で15分間にわたり還元処理した後、10%O2/N2バランスからなる酸化性ガスの流通下において600℃で30分間にわたり酸化処理することで、Au,Co3O4/SiO2(Co/Au比(原子比)=3.0)からなる排ガス浄化用触媒を得た。
実施例3及び4並びに比較例4において得られた各排ガス浄化用触媒について、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(日本電子製JEM−1000、加速電圧:200kV)によってそれらの測定を行った。なお、各測定試料をエタノールで希釈し、モリブデングリッドに滴下後、乾燥させたものについて測定を行った。これらの結果を図3〜5に示す。
実施例4並びに比較例2及び4の各排ガス浄化用触媒について、X線回折(XRD)(リガク製RINT2000)によってそれらの測定を行った。なお、具体的な測定条件は以下のとおりである。
測定方法: FT法(Fixed Time法)
X線源: CuKα
サンプリング間隔: 0.02deg.
スキャン速度: 2.4deg./min
発散スリット(DS):2/3deg.
散乱スリット(SS):2/3deg.
受光スリット(RS):0.5mm
管電圧: 50kV
管電流: 300mA
次に、実施例1〜4及び比較例1〜4の各排ガス浄化用触媒に関し、CO−O2反応においてそれらのCO酸化活性を評価した。具体的には、上で調製した各排ガス浄化用触媒のペレット2.0gを流通式反応器にセットし、次いで、評価用モデルガス(CO:1vol%、O2:10vol%、N2バランス)を1L/分の流量で触媒床に流しながら、当該触媒床の温度を50℃から20℃/分の速度で昇温し、300℃までのCO浄化率をFT−IR分析計を用いて測定した。その結果を図9に示す。
次に、上記の還元前処理を行った実施例4及び比較例2の各排ガス浄化用触媒について、X線回折(XRD)によってそれらの測定を行った。その結果を図11に示す。なお、具体的な測定条件は図8に関連して先に記載したとおりである。
11 Au−Co3O4ナノ粒子
12 Au
13 Co3O4
14 触媒担体
Claims (15)
- 触媒担体にAuとCo3O4からなりかつ0nm超20nm以下の平均粒径を有するAu−Co3O4ナノ粒子を複数担持してなることを特徴とする、排ガス浄化用触媒。
- 前記Au−Co3O4ナノ粒子の平均粒径が0nm超10nm以下であることを特徴とする、請求項1に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が0超9.9以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が1.0以上9.5以下であることを特徴とする、請求項3に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が2.0以上9.5以下であることを特徴とする、請求項4に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記Au−Co3O4ナノ粒子中のCo/Au比(原子比)が3.0以上9.0以下であることを特徴とする、請求項5に記載の排ガス浄化用触媒。
- 前記排ガス浄化用触媒をエネルギー分散型X線分析装置付走査透過型電子顕微鏡(STEM−EDX)を用いて電子線のスポット径が1nm以下の条件下で分析したときに、無作為に選択した10個以上の金属粒子に関する測定点のうち70%以上の測定点においてAuとCoの両方の元素が検出されることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒。
- Au塩、Co塩、溶媒、及び無機還元剤を含む混合溶液を提供する工程、
前記混合溶液をAuとCoを還元するのに十分な温度において加熱することにより、AuとCoからなる二元金属粒子を生成する加熱工程、並びに
生成した二元金属粒子を含む溶液中に触媒担体を導入して乾燥した後、酸化性雰囲気中で熱処理する酸化工程
を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の排ガス浄化用触媒の製造方法。 - 前記加熱工程が90℃以上250℃以下の温度で実施されることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記加熱工程が100℃超200℃以下の温度で実施されることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記溶媒が、テトラエチレングリコール、エチレングリコール、n−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、グリセリン、プロピレングリコール、イソアミルアルコール、n−アミルアルコール、アリルアルコール、2−エトキシアルコール、1,2−ヘキサデカンジオール、ジメチルホルムアミド、及びそれらの組み合わせからなる群より選択されることを特徴とする、請求項8〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記無機還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム、アンモニアボラン、ヒドラジン、及びそれらの組み合わせからなる群より選択されることを特徴とする、請求項8〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記無機還元剤が水素化ホウ素ナトリウムであることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記混合溶液が保護剤をさらに含むことを特徴とする、請求項8〜13のいずれか1項に記載の方法。
- 前記酸化工程の後に還元工程及び酸化工程をさらに含むことを特徴とする、請求項8〜14のいずれか1項に記載の方法。
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