JP6059754B2 - 組成物、硬化性組成物、透明膜、固体撮像素子および表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、組成物、硬化性組成物、透明膜、固体撮像素子および表示装置に関する。

従来、光学材料等に使用される組成物（樹脂や重合性化合物を含有する組成物）に対して、高い屈折率が求められている。また、種々部材に応用する上でパターン形成が必要な場合があるため、上記組成物には現像性に優れることも求められている。
このようななか、例えば、特許文献１には、芳香族環含有共重合体モノマーを単量体として含むアクリル系重合体を主成分として含有する組成物が開示されている（請求項１）。特許文献１によれば、上記組成物を用いることで高屈折率の硬化物が得られる旨が記載されている（［００６８］段落）。

特開２００２−１７３６５６号公報

近年、光学機器（固体撮像素子、表示装置など）の高機能化や小型化などの要求に伴い、光学材料等に使用される組成物に対して屈折率や現像性のさらなる向上が求められている。
本発明者らは、特許文献１に記載の組成物について検討したところ、得られる硬化物（透明膜）の屈折率は必ずしも昨今求められているレベルに達しておらず、さらなる向上が必要であることを見出した。

そこで、本発明は、上記実情を鑑みて、高い屈折率を示す組成物、上記組成物と硬化性化合物とを含有する硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させることで得られる透明膜ならびに上記透明膜を有する固体撮像素子および表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定の一般式で表される部分構造を有する樹脂または重合性化合物を使用することで、高い屈折率を示すことを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 後述する一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ、および、後述する一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑ、からなる群より選択される少なくとも１種を含有する、組成物。
（２） 上記樹脂Ｐが、後述する一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と後述する一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂Ｐ１である、上記（１）に記載の組成物。
（３） 一般式（２）中、Ｘが、（メタ）アクリル基、エポキシ基およびオキセタン基からなる群より選択される基である、上記（２）に記載の組成物。
（４） 一般式（２）中、Ｘが、エポキシ基またはオキセタン基である、上記（２）または（３）に記載の組成物。
（５） 一般式（１）中、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している、上記（２）〜（４）のいずれかに記載の組成物。
（６） 繰り返し単位（Ａ）が、後述する一般式（３）で表される、上記（２）〜（５）のいずれかに記載の組成物。
（７） 下記（１）〜（３）の少なくとも１つを満たす、上記（６）に記載の組成物。
（１）上記一般式（３）中、Ａｒ^１が２価の多環芳香族炭化水素基である。
（２）上記一般式（３）中、Ａｒ^２が１価の多環芳香族炭化水素基である。
（３）上記一般式（３）中、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１の少なくとも一方が多環芳香族炭化水素環である。
（８） 上記（１）〜（７）のいずれかに記載の組成物と硬化性化合物とを含有する、硬化性組成物。
（９） さらに重合開始剤を含有する、上記（８）に記載の硬化性組成物。
（１０） 上記（８）または（９）に記載の硬化性組成物を硬化させることで得られる透明膜。
（１１） 上記（１０）に記載の透明膜を有する固体撮像素子。
（１２） 上記（１０）に記載の透明膜を有する表示装置。

以下に示すように、本発明によれば、高い屈折率を示す組成物、上記組成物と硬化性化合物とを含有する硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させることで得られる透明膜ならびに上記透明膜を有する固体撮像素子および表示装置を提供することを課題とする。

本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の１画素分の断面図である。 Ａ−８ｂのＮＭＲチャートである。 マイクロレンズに本発明の透明膜を用いた固体撮像素子の一実施態様の断面図である。

以下に、本発明の組成物等について説明する。
なお、本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリルまたはメタクリルを表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを表し、（メタ）アクリロイルオキシとは、アクリロイルオキシまたはメタクリロイルオキシを表す。
さらに、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

［組成物］
本発明の組成物は、下記一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ、および、下記一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑ、からなる群より選択される少なくとも１種を含有し、樹脂Ｐと重合性化合物Ｑを併用してもよい。
本発明の組成物は、硬化性を示す組成物であることが好ましく、なかでも、一般式（ａ）で表される部分構造と硬化性基とを有する樹脂Ｐ´、および、一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑ、からなる群より選択される少なくとも１種を含有する組成物であるのが好ましい。硬化性基の具体例および好適な態様は、後述する一般式（２）中のＸと同じである。

上記一般式（ａ）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４はそれぞれ独立に置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール基を表す。上記アリール基は特に制限されないが、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、炭素数６〜２０のアリール基がより好ましい。アリール基を構成する環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ピレン環、ナフタセン環、ビフェニル環（２個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）、ターフェニル基（３個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）などが挙げられる。なお、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は連結していてもよく、さらに置換基を有していてもよい。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が有する置換基は特に制限されないが、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、下記式（Ｚ）で表される基であることがより好ましい。

上記一般式（Ｚ）中、Ｚ_１は、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表す。なかでも、アリーレン基であることが好ましい。
上記一般式（Ｚ）中、Ｚ_２は、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なかでも、ヘテロアリール基であることが好ましい。
上記アリーレン基およびアリール基を構成する環の具体例は上述したＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。なかでも、ベンゼン環が好ましい。
上記ヘテロアリーレン基およびヘテロアリール基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、プテリジン環などが挙げられる。なかでも、ベンゾチアゾール環が好ましい。
上記一般式（Ｚ）中、＊は結合位置を表す。

一般式（ａ）で表される部分構造の分子量は特に制限されないが、３２０〜２０００であることが好ましく、４００〜１５００であることがより好ましく、５００〜１０００であることがさらに好ましい。
一般式（ａ）で表される部分構造の炭素数は特に制限されないが、３０〜１００であることが好ましく、４０〜７０であることがより好ましい。

本発明の組成物が所望の効果を示す理由は明らかではないが、上記一般式（１）のとおり、本発明の組成物に含有される樹脂Ｐおよび重合性化合物Ｑは、炭素原子に４つのアリール基が結合した部分構造を有するため炭素原子の密度が高い。結果として、本発明の組成物は高い屈折率を示すものと考えられる。このことは、後述する比較例が示すように、樹脂Ｐと重合性化合物Ｑのいずれも含有しない場合には屈折率が低いことからも推測される。

〔樹脂Ｐ〕
樹脂Ｐは、一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂（ポリマー）であれば特に制限されない。ここで、一般式（ａ）で表される部分構造を有するとは、一般式（ａ）の任意の位置からｎ個の水素原子を取り除くことで得られる「ｎ個の結合手を有する基（ｎ価の基）」を有することを意味する（ｎは１以上の整数）。
樹脂Ｐの分子量は特に制限されないが、重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１００，０００であることが好ましく、１，０００〜３０，０００であることがより好ましく、５，０００〜３０，０００であることがさらに好ましく、７，０００〜２０，０００であることがよりさらに好ましい。
なお、本明細書において重量平均分子量は、以下条件にてＧＰＣ（溶媒：ＴＨＦ）により測定されたポリスチレン換算値である。
・本体：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー製）
・カラム：ガードカラム（ＨＺ−Ｌ）、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ（ＨＺＭ−Ｍ）、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ（ＨＺ４０００）、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ（ＨＺ３０００）、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ（ＨＺ２０００）を連結したもの
・溶離液：テトラヒドロフラン
・送液条件：サンプルポンプ ０．３５ｍＬ／ｍｉｎ、リファレンスポンプ ０．２ｍＬ／ｍｉｎ
・カラム温調：４０℃
・測定サンプル：０．１ｗｔ％濃度（０．５μｍメンプレンフィルターろ過実施）
・注入量：１０μｍ
・測定時間：２６分

＜好適な態様＞
〔樹脂Ｐ１〕
樹脂Ｐの好適な態様としては、例えば、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と下記一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂Ｐ１が挙げられる。一般式（１）に示されるとおり、繰り返し単位（Ａ）は一般式（ａ）中のＡｒ^１の任意の位置から１個の水素原子を取り除くことで得られる「１個の結合手を有する基（１価の基）」を有する。

上記一般式（１）および（２）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表す。複数あるＲは同一であっても、異なってもよい。アルキル基の炭素数は特に制限されないが、１〜１０であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。

上記一般式（１）および（２）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。複数あるＬは同一であっても、異なってもよい。２価の連結基は特に制限されないが、例えば、直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の脂肪族炭化水素基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基）、２価の芳香族炭化水素基（例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＮＲ_Ｌ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ_Ｌ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ_３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ_２ＮＲ_Ｌ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−またはこれらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、Ｒ_Ｌは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。

Ｌの好適な態様としては、単結合の他、例えば、下記一般式（Ｌ）で表される２価の連結基が挙げられ、下記一般式（Ｌ）で表される２価の連結基がより好ましい。

上記一般式（Ｌ）中、Ｌ_１は、単結合、エステル基（−ＣＯＯ−）、アミド基（−ＣＯＮＲ_Ｌ−）またはエーテル基（−Ｏ−）を表す。Ｒ_Ｌの定義は上述のとおりである。
上記一般式（Ｌ）中、Ｌ_２は、単結合または２価の有機基を表す。２価の有機基は、直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の脂肪族炭化水素基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基）、直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の芳香族炭化水素基（例えば、フェニレン基）、または、これらを組み合わせた基であることが好ましい。上記組み合わせた基は、エーテル基（−Ｏ−）、エステル基（−ＣＯＯ−）、アミド基（−ＣＯＮＲ_Ｌ−）、ウレタン基（−ＮＨＣＯＯ−）、ウレア基（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）を介して組み合わせた基であってもよい。Ｒ_Ｌの定義は上述のとおりである。Ｌ_２の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、フェニレン基、および、これらの基が、メトキシ基、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等で置換されたもの、さらには、これらを組み合わせた基などが挙げられる。
上記一般式（Ｌ）中、Ｌ_３は、単結合、−ＣＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ_３−、−ＣＯＮＲ_Ｌ−、−ＮＨＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２ＮＲ_Ｌ−、または、−ＮＲ_Ｌ−を表す。Ｒ_Ｌの定義は上述のとおりである。
なお、上記一般式（Ｌ）中、Ｌ_１、Ｌ_２およびＬ_３が、同時に単結合である場合はない。

上記一般式（Ｌ）中、＊_１は、一般式（１）および（２）中の４級炭素との結合位置を表す。
また、上記一般式（Ｌ）中、＊_２は、一般式（１）中のＡｒ^１との結合位置、または、一般式（２）中のＸとの結合位置を表す。
すなわち、一般式（１）中のＬが一般式（Ｌ）で表される２価の連結基である場合、一般式（１）は下記一般式（１ａ）で表され、一般式（２）中のＬが一般式（Ｌ）で表される２価の連結基である場合、一般式（２）は下記一般式（２ａ）で表される。

上記一般式（１）中、Ａｒ^１は置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリーレン基を表す。上記アリーレン基は特に制限されないが、炭素数６〜３０のアリーレン基が好ましく、炭素数６〜２０のアリーレン基がより好ましい。アリーレン基を構成する環の具体例は上述した一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。

上記一般式（１）中、Ａｒ^２〜Ａｒ^４はそれぞれ独立に置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール基を表す。Ａｒ^２〜Ａｒ^４の具体例および好適な態様は、上述した一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。
一般式（１）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４が有する置換基の好適な態様は、一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。

上記一般式（２）中、Ｘは硬化性基を表す。
硬化性基としては特に制限されないが、その具体例としては、（メタ）アクリル基、エポキシ基、オキセタン基、イソシアネート基、水酸基、アミノ基、ビニル基などが挙げられ、なかでも、（メタ）アクリル基、エポキシ基およびオキセタン基からなる群より選択される基が好ましく、エポキシ基およびオキセタン基からなる群より選択される基がより好ましい。

一般式（１）中、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結しているのが好ましい。ここで、「Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している」とは、Ａｒ^３とＡｒ^４とが単結合または２価の連結基を介して連結していることを表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は上述した一般式（１）および（２）中のＬと同じである。

繰り返し単位（Ａ）は、下記一般式（３）で表されるのが好ましい。なお、下記一般式（３）は一般式（１）においてＡｒ^３とＡｒ^４とが単結合を介して連結している態様の一態様である。

上記一般式（３）中、Ｒ、Ｌ、Ａｒ^１およびＡｒ^２の定義、具体例および好適な態様は、それぞれ、上述した一般式（１）中のＲ、Ｌ、Ａｒ^１およびＡｒ^２と同じである。
上記一般式（３）中、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１はそれぞれ独立に置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール環を表す。アリール環の具体例は上述した一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４を構成する環と同じである。

上記一般式（３）で表される繰り返し単位は、下記（１）〜（３）の少なくとも１つを満たすのが好ましい。
（１）一般式（３）中、Ａｒ^１が２価の多環芳香族炭化水素基である。
（２）一般式（３）中、Ａｒ^２が１価の多環芳香族炭化水素基である。
（３）一般式（３）中、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１の少なくとも一方が多環芳香族炭化水素環である。

ここで、多環芳香族炭化水素環とは、２個以上の環を有する芳香族炭化水素環であり、より具体的には、２個以上の単環芳香族炭化水素環（ベンゼン環）を有する縮合環である。なかでも、２個以上の単環芳香族炭化水素環同士が縮環した環であるのが好ましい。
多環芳香族炭化水素環の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、クリセン環、フルオランテン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラセン環、ベンゾピレン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、ヘプタセン環、コロネン環などが挙げられる。なかでも、ナフタレン環が好ましい。
また、１価の多環芳香族炭化水素基とは、多環芳香族炭化水素環の１価の基（多環芳香族炭化水素環から１つの水素原子を取り除くことで得られる１価の基）であり、２価の多環芳香族炭化水素基とは、多環芳香族炭化水素環の２価の基（多環芳香族炭化水素環から２つの水素原子を取り除くことで得られる１価の基）である。

樹脂Ｐ１は、繰り返し単位（Ａ）または繰り返し単位（Ｃ）以外の繰り返し単位を有していてもよい。
樹脂Ｐ１は、さらに酸基を有する繰り返し単位（Ｂ）を有するのが好ましい。酸基としては特に制限されないが、具体例としては、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）、ホスホン酸基（−ＰＯ（ＯＨ）_２）などが挙げられ、なかでも、カルボキシ基が好ましい。
繰り返し単位（Ｂ）の好適な態様としては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位が挙げられる。

上記一般式（Ｂ１）中、ＲおよびＬの定義、具体例および好適な態様は、それぞれ、上述した一般式（１）中のＲおよびＬと同じである。
上記一般式（Ｂ１）中、Ｙは酸基を表す。酸基の具体例および好適な態様は上述のとおりである。

樹脂Ｐ１中の繰り返し単位（Ａ）の割合は特に制限されないが、３０〜９０質量％であることが好ましく、６０〜８０質量％であることがより好ましい。
樹脂Ｐ１中の繰り返し単位（Ｂ）の割合は特に制限されないが、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。
樹脂Ｐ１中の繰り返し単位（Ｃ）の割合は特に制限されないが、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。

〔樹脂Ｐ２〕
樹脂Ｐの他の好適な態様としては、例えば、下記一般式（４）で表される樹脂Ｐ２が挙げられる。

一般式（４）中、Ａは（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。Ｌ^２１およびＬ^２２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。Ｙは、上述した一般式（ａ）で表される部分構造を有する基を表す。Ｚは、１価の有機基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｎは０以上の整数を表す。

Ａで表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の分子量は特に制限されないが、形成される膜の屈折率がより優れる点で、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、合成上の点から、２０００以下が好ましく、１５００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。

（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれることが好ましく、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
（ｍ＋ｎ）価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位、または、これら構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。

（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記一般式のいずれかで表される基であることが好ましい。

上記一般式中、
Ｌ_３は３価の基を表す。Ｔ_３は単結合または２価の連結基を表し、３個存在するＴ_３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_４は４価の基を表す。Ｔ_４は単結合または２価の連結基を表し、４個存在するＴ_４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_５は５価の基を表す。Ｔ_５は単結合または２価の連結基を表し、５個存在するＴ_５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_６は６価の基を表す。Ｔ_６は単結合または２価の連結基を表し、６個存在するＴ_６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
なお、Ｔ_３〜Ｔ_６で表される２価の連結基の具体例および好適な態様は、後述するＬ^２１およびＬ^２２で表される２価の連結基と同じである。
Ａで表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体的な例〔具体例（１）〜（１７）、（３５）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。

上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、（１７）、（３５）の基である。

上記Ａの好適態様の一つとしては、形成される膜のクラック発生をより抑制できるという点で、Ａに第４級炭素原子が少なくとも１つ含まれることが好ましい。
また、Ａの最好適態様としては、下記の一般式（５）で表される部分構造を有する基、または、一般式（６）で表される部分構造を有する基が挙げられる。

一般式（６）中、Ｒはアルキル基を表す。なお、一般式（５）および（６）中、＊は結合位置を表す。

Ｌ^２１およびＬ^２２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ｍが２以上である場合、複数のＬ^２１は同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上である場合、複数のＬ^２２は同一であっても異なっていてもよい。
２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
より具体的には、２価の連結基としては、例えば、２価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、２価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、２価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＮＲ_Ｌ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ_Ｌ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ_３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ_２ＮＲ_Ｌ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、または、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、Ｒ_Ｌは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なかでも、Ｌ^２１およびＬ^２２で表される２価の連結基としては、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基、および、これらを組み合わせた基が好ましい。

２価の連結基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

Ｙは、上述した一般式（ａ）で表される部分構造を有する基を表す。
一般式（４）において、Ｙは、上述した一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）を含む有機基であることが好ましく、上述した一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と上述した一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）を含む有機基であることがより好ましい。

Ｚは、１価の有機基を表す。有機基の構造は特に制限されないが、例えば、酸基、重合性基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基（以後、官能基Ｗとも称する）を少なくとも１つ有する１価の有機基が好ましく挙げられる。
また、１価の有機基としては、ポリマー鎖（高分子骨格）であってもよい。
なお、１価の有機基中には、上述した官能基Ｗが２つ以上含まれていてもよい。上述した官能基Ｗが２つ以上含まれる態様としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１〜１０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３〜１０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５〜１０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）等を介して２個以上の官能基Ｗが結合し１価の有機基を形成する態様等が挙げられ、鎖状飽和炭化水素基を介して２個以上の官能基Ｗが結合し１価の有機基を形成する態様が好ましい。

「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がさらに好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。

「重合性基」としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとしてラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基を挙げることができ、具体的にはビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などを挙げることができる。中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。

「ウレア基」として、例えば、−ＮＲ^１５ＣＯＮＲ^１６Ｒ^１７（ここで、Ｒ^１５、Ｒ^１６、およびＲ^１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が好ましい例として挙げられ、−ＮＲ^１５ＣＯＮＨＲ^１７（ここで、Ｒ^１５およびＲ^１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、−ＮＨＣＯＮＨＲ^１７（ここで、Ｒ^１７は、水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。

「ウレタン基」として、例えば、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＮＲ^１９ＣＯＯＲ^２０、−ＯＣＯＮＨＲ^２１、−ＯＣＯＮＲ^２２Ｒ^２３（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２およびＲ^２３は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが好ましい例として挙げられ、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＯＣＯＮＨＲ^２１（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^２１は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などがより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＯＣＯＮＨＲ^２１（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^２１は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが特に好ましい。

「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。

式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。

これらの中でも、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。

「アルキル基」としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数１〜４０のアルキル基が好ましく、炭素数４〜３０のアルキル基がより好ましく、炭素数１０〜１８のアルキル基がさらに好ましい。
「アリール基」としては、炭素数６〜１０のアリール基が好ましい。
「アルキレンオキシ鎖を有する基」としては、末端がアルキルオキシ基を形成していることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキルオキシ基を形成していることがより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも１つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はないが、炭素数１〜６のアルキレンオキシ基からなることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）等で置換されていてもよい。

「複素環基」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンなどからなる基が好ましい例として挙げられる。
「イミド基」としては、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等が挙げられる。

「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。

上述したように、１価の有機基はポリマー鎖（高分子骨格）であってもよい。ポリマー鎖とは、ポリマー由来の基を意図し、ポリマー主鎖部分で結合可能であることが好ましい。
ポリマー鎖としては、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。
ポリマーの中でも、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
有機基が上記ポリマー鎖である場合、化合物が長い分子鎖を有することとなり、耐熱性、耐溶剤性がより向上するとともに、クラックの発生がより抑制される。
また、ポリマー鎖は各種官能基（例えば、カルボン酸基などの酸基）が含まれていてもよい。

なかでも、硬化される膜に対して現像性を付与できる点、および／または、形成される膜の強度が向上する点で、Ｚは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基であることが好ましい。上述した一般式（４）において、Ｙが一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）を含まない場合には、Ｚは、一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）を含むことが好ましい。また、Ｚが酸基を有する１価の有機基である場合には、上述した一般式（Ｂ１）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
なお、Ｚで表される有機基には、酸基が２つ以上含まれていても、重合性基が２つ以上含まれていてもよい。
特に、酸基が含まれる場合、化合物を現像処理に好適に適用することができ、好ましい。

ｍは２以上の整数を表し、２〜１０が好ましく、３〜８がより好ましく、３〜６が最も好ましい。
ｎは０以上の整数を表し、０〜５が好ましく、１〜４がより好ましい。
なお、ｍ＋ｎの合計数は特に制限されないが、３〜１０が好ましく、３〜６がより好ましい。
なかでも、ｎに対するｍの比（ｍ／ｎ）が０．５〜５．０であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

（化合物の合成方法）
一般式（４）で表される化合物の合成方法は特に制限されないが、特開２００７−２７７５１４号公報段落０１１４〜０１４０および０２６６〜０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０１４５〜０１７３、および０２８９〜０４２９）に記載の合成方法に準じて合成することができる。
特に、複数のメルカプト基を有する化合物と、（メタ）アクリロイルオキシ基やビニル基などの炭素−炭素二重結合を有する化合物とを反応（チオール−エン反応法）させる方法が好ましい。

複数のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例（１８）〜（３４）、（３６）〕としては、以下の化合物が挙げられる。

上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、上記（１８）、（１９）、（２７）、（２８）、（３３）、（３４）、（３６）の化合物である。

上記は、市販品として、（例えば（３３）はジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）：堺化学工業（株）製）などが入手可能である。

また、一般式（４）中の「Ｌ^２１−Ｙ」部分を得るために使用される、炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、例えば、以下の一般式（７）で表される化合物が挙げられる。

一般式（７）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４およびＬ_Ａの定義、具体例および好適な態様は、それぞれ、上記した一般式（１）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４およびＬと同じである。
Ｗは、炭素−炭素二重結合を含む基であり、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基などが挙げられる。

チオール−エン反応法で用いられる適当な溶媒は特に制限されず、上述した反応基質を溶解できればよく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エチルヘキサノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。
これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。

樹脂Ｐ２中に上述した一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）が含まれる場合には、その割合は特に限定されないが、３０〜９０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることがより好ましい。
樹脂Ｐ２中に上述した一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｃ）が含まれる場合には、その割合は特に限定されないが、５〜５０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることがより好ましい。

樹脂Ｐ１、樹脂Ｐ２は公知の方法または公知の方法を組み合わせることにより合成することができる。なかでも、上述した一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）を与えるモノマーとして下記一般式（Ｍ１）で表される化合物を重合するのが好ましく、この化合物は後述する重合性化合物Ｑとしても使用できる。

上記一般式（Ｍ１）中、Ｒ_１は水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は特に制限されないが、１〜１０であることが好ましい。アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよい。

上記一般式（Ｍ１）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基は特に制限されないが、例えば、直鎖状、分岐状若しくは環状の２価の脂肪族炭化水素基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基）、２価の芳香族炭化水素基（例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＮＲ_Ｌ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ_Ｌ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ_３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ_２ＮＲ_Ｌ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−またはこれらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、Ｒ_Ｌは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。

Ｌの好適な態様としては、単結合の他、例えば、上述した一般式（Ｌ）で表される２価の連結基が挙げられ、上述した一般式（Ｌ）で表される２価の連結基が好ましい。ただし、上記一般式（Ｌ）中、＊_１は、一般式（Ｍ１）中のＲ_１が結合する炭素原子との結合位置を表す。また、上記一般式（Ｌ）中、＊_２は、一般式（Ｍ１）中のＡｒ_１との結合位置を表す。
すなわち、一般式（Ｍ１）中のＬが一般式（Ｌ）で表される２価の連結基である場合、一般式（Ｍ１）は下記一般式（Ｍ１ａ）で表される。

上記一般式（Ｍ１）中、Ａｒ_１は、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリーレン基を表す。
上記アリーレン基は特に制限されないが、炭素数６〜３０のアリーレン基が好ましく、炭素数６〜２０のアリーレン基がより好ましい。アリーレン基を構成する環の具体例は一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。
Ａｒ_１は、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい２価の多環芳香族炭化水素基であることが好ましい。ここで、２価の多環芳香族炭化水素基とは多環芳香族炭化水素環の２価の基（多環芳香族炭化水素環から２つの水素原子を取り除くことで形成される２価の基）である。多環芳香族炭化水素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。

上記一般式（Ｍ１）中、Ａｒ_２は、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール基を表す。
上記アリール基は特に制限されないが、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、炭素数６〜２０のアリール基がより好ましい。アリール基を構成する環の具体例は一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。
Ａｒ_２は、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい１価の多環芳香族炭化水素基であることが好ましい。ここで、１価の多環芳香族炭化水素基とは多環芳香族炭化水素環の１価の基（多環芳香族炭化水素環から１つの水素原子を取り除くことで形成される１価の基）である。多環芳香族炭化水素環の定義、具体例および好適な態様は後述のとおりである。

上記一般式（Ｍ１）中、Ａｒ_３およびＡｒ_４は、それぞれ独立に置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよいアリール環を表す。
上記アリール環の具体例および好適な態様は、一般式（ａ）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４と同じである。

ただし、Ａｒ_３およびＡｒ_４の少なくとも一方は置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい多環芳香族炭化水素環である。
ここで、多環芳香族炭化水素環とは、２個以上の環を有する芳香族炭化水素環であり、より具体的には、２個以上の単環芳香族炭化水素環（ベンゼン環）を有する縮合環である。なかでも、２個以上の単環芳香族炭化水素環同士が縮環した環であるのが好ましい。
多環芳香族炭化水素環の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、クリセン環、フルオランテン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラセン環、ベンゾピレン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、ヘプタセン環、コロネン環などが挙げられる。なかでも、ナフタレン環が好ましい。

Ａｒ_３およびＡｒ_４の少なくとも一方は置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい多環芳香族炭化水素環であるのが好ましい。
また、Ａｒ_３およびＡｒ_４の一方が置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい多環芳香族炭化水素環であり、他方が置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい単環芳香族炭化水素環であるのが好ましい。なかでも、Ａｒ_３およびＡｒ_４の一方が置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい多環芳香族炭化水素環であり、他方が置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい単環芳香族炭化水素環であるのがより好ましい。

一般式（Ｍ１）で表される化合物の好適な態様としては、例えば、下記一般式（Ｍ１ｂ）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（Ｍ１ｂ）中、Ｒ_１、Ｌ、Ａｒ_１およびＡｒ_２の定義、具体例および好適な態様は、それぞれ、上述した一般式（Ｍ１）中のＲ_１、Ｌ、Ａｒ_１およびＡｒ_２と同じである。
上記一般式（Ｍ１ｂ）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子または置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を表す。
上記一般式（Ｍ１ｂ）中、ｐおよびｑはそれぞれ独立に０以上の整数を表す。ただし、ｐおよびｑの少なくとも一方は１以上の整数である。ｐおよびｑは０〜３の整数であることが好ましく、０〜２の整数であることがより好ましく、０または１であることがさらに好ましい。
なお、ｐおよびｑは繋がっているベンゼン環の数を表す。例えば、ｐ＝０、ｑ＝１の場合の場合、一般式（Ｍ１ｂ）は下記一般式（Ｍ１ｂ−１）を表す。

一般式（Ｍ１ｂ）で表される化合物の溶解性がより優れる理由から、ｐおよびｑは互いに異なる整数であることが好ましい。ｑはｐより大きい整数であることが好ましい。

（置換基Ｗ）
本明細書における置換基Ｗについて記載する。
置換基Ｗとしては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ（ＯＨ）_２）、ホスファト基（−ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、スルファト基（−ＯＳＯ_３Ｈ）、その他の公知の置換基などが挙げられる。

以下に樹脂Ｐの具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

〔重合性化合物Ｑ〕
重合性化合物Ｑは、上述した一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物（重合性基を有する化合物）であれば特に制限されない。
重合性基としては特に制限されないが、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。なかでも、ラジカル重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、ビニル基、（メタ）アクリルアミド基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル基が好ましい。

＜好適な態様＞
重合性化合物Ｑの好適な態様としては、例えば、下記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物が挙げられる。
一般式（Ｑ１）

上記一般式（Ｑ１）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち少なくとも１つは置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基であり、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２つ以上は重合性基を有する置換基を含む。また、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は連結していてもよい。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が表す置換基を有していてもよいアリール基は、炭素数６〜１８のアリール基であることが好ましく、炭素数６〜１４のアリール基であることがより好ましく、炭素数６〜１０のアリール基であることが特に好ましい。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が表す置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基は、炭素数９〜１２のアリール基であることが好ましく、炭素数９〜１０のアリール基であることがより好ましく、ナフチル基であることが共役系を伸ばし過ぎずに着色を抑制する観点から特に好ましく、β−ナフチル基であることがさらにより特に好ましい。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち少なくとも１つは置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基であり、１〜３つが置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基であることが好ましく、１または２つが置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基であることがより好ましい。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が表す置換基を有していてもよいアリール基の置換基としては、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２つ以上は重合性基を有する置換基を含むこと以外は特に制限はない。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が含む置換基が有する上記重合性基としては、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基（以下、それぞれラジカル重合性基およびカチオン重合性基とも言う）が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとしてラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基を挙げることができ、具体的にはビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などを挙げることができる。中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が含む置換基が有する上記重合性基は、ラジカル重合性基であることが好ましい。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２つ以上は重合性基を有する置換基を含み、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２〜４個が重合性基を有する置換基を含むことが好ましく、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２または３個が重合性基を有する置換基を含むことがより好ましく、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２個が重合性基を有する置換基を含むことが特に好ましい。

上記一般式（Ｑ１）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は連結していてもよい。Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結したときに形成されることとなる環は、脂環であることが好ましい。Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結するときの連結基としては、単結合、−Ｏ−などを挙げることができ、単結合であることが好ましい。Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結するときに形成される環（Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結するときの連結基を含む１つの環を意味し、Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結した結果として形成された縮合環全体ではない）の環員数は５または６であることが好ましく、５であることがより好ましい。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が連結している場合、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち互いに隣り合う２つが連結していることが好ましく、Ａｒ^３およびＡｒ^４が連結していることがより好ましく、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうちＡｒ^３およびＡｒ^４のみが連結していることが特に好ましい。

一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物は、下記一般式（３）で表されることが好ましい。

一般式（Ｑ３）

上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち少なくとも１つは破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である。Ｘ^１〜Ｘ^４はそれぞれ独立に重合性基を有する置換基を表し、上記置換基中の炭素原子はヘテロ原子によって置換されていてもよい。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈの上限値はそれぞれＡｒ^１１〜Ａｒ^１４が有することができる置換基の数からａ、ｂ、ｃまたはｄを減じた値である。但し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、Ｘ^１〜Ｘ^４およびＲ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４が表す破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ１）におけるＡｒ^１〜Ａｒ^４が表す置換基を有していてもよいアリール基の好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４が表す破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ１）におけるＡｒ^１〜Ａｒ^４が表す置換基を有していてもよい多環芳香族炭化水素基の好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２がそれぞれ独立に（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を表すことがアッベ数を低減する観点から好ましい。
上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１３およびＡｒ^１４がそれぞれ独立に（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を表すことがアッベ数を低減する観点から好ましく、Ａｒ^１３およびＡｒ^１４のうち少なくとも一方が（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数１０の芳香族炭化水素基を表すことがより好ましい。

上記一般式（Ｑ３）中、Ｘ^１〜Ｘ^４はそれぞれ独立に重合性基を有する置換基を表し、上記置換基中の炭素原子はヘテロ原子によって置換されていてもよい。Ｘ^１〜Ｘ^４が表す重合性基を有する置換基としては特に制限はないが、重合性基を有する脂肪族基であることが好ましい。
Ｘ^１〜Ｘ^４が表す重合性基を有する脂肪族基としては、特に制限はないが、重合性基以外における炭素数が１〜１２のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２〜１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数２〜５のアルキレン基であることが特に好ましい。
また、Ｘ^１〜Ｘ^４が表す重合性基を有する脂肪族基において、上記脂肪族基がヘテロ原子によって置換される場合は、−ＮＲ−（Ｒは置換基）、酸素原子、硫黄原子によって置換されていることが好ましく、上記脂肪族基中の隣り合わない−ＣＨ_２−が酸素原子または硫黄原子で置換されていることがより好ましく、上記脂肪族基中の隣り合わない−ＣＨ_２−が酸素原子で置換されていることが特に好ましい。Ｘ^１〜Ｘ^４が表す重合性基を有する脂肪族基は、ヘテロ原子によって１〜２箇所置換されていることが好ましく、ヘテロ原子によって１箇所置換されていることがより好ましく、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４が表す破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基に隣接する１箇所がヘテロ原子によって置換されていることが特に好ましい。
Ｘ^１〜Ｘ^４が表す重合性基を有する脂肪族基に含まれる重合性基の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ１）におけるＡｒ^１〜Ａｒ^４が含む置換基が有する重合性基の好ましい範囲と同様である。
Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、Ｘ^１〜Ｘ^４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ３）中、ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、１または２であることが好ましく、ａおよびｂがいずれも１であることがより好ましい。
上記一般式（Ｑ３）中、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、０または１であることが好ましく、ｃおよびｄがいずれも０であることがより好ましい。

上記一般式（Ｑ３）中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４が表す置換基としては特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルキル基、アルケニル基、アシル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、脂環基などを挙げることができる。Ｒ^１〜Ｒ^４が表す置換基はアルキル基、アルコキシ基またはアリール基であることが好ましく、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基またはフェニル基であることがより好ましく、メチル基、メトキシ基またはフェニル基であることが特に好ましい。
上記一般式（Ｑ３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ３）中、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈの上限値はそれぞれＡｒ^１１〜Ａｒ^１４が有することができる置換基の数からａ、ｂ、ｃまたはｄを減じた値である。
ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０〜８であることが好ましく、０〜２であることがより好ましく、０であることが特に好ましい。
Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合、ｅ、ｆ、ｇおよびｈは０または１であることが好ましく、０であることがより好ましい。

上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物は、下記一般式（Ｑ４）で表されることが好ましい。
一般式（Ｑ４）

一般式（Ｑ４）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち少なくとも１つは破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である。Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈの上限値はそれぞれＡｒ^１１〜Ａｒ^１４が有することができる置換基の数からａ、ｂ、ｃまたはｄを減じた値である。但し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、ａ、ｂ、ｃおよびｄ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ４）におけるＡｒ^１１〜Ａｒ^１４の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるＡｒ^１１〜Ａｒ^１４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ４）におけるＲ^１〜Ｒ^４の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるＲ^１〜Ｒ^４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ４）におけるａおよびｂの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるａおよびｂの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ４）におけるｃおよびｄの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるｃおよびｄの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ４）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ４）中、Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、酸素原子または硫黄原子であることが好ましく、酸素原子であることがより好ましい。

上記一般式（Ｑ４）中、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、置換基を有していてもよいアルキレン基であることが好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１〜５のアルキレン基であることがより好ましく、置換基を有していてもよい炭素数１〜３のアルキレン基であることが特に好ましく、置換基を有していてもよいエチレン基であることがより特に好ましい。
Ｒ^５〜Ｒ^８が置換基を有していてもよいアルキレン基を表す場合、上記置換基としては特に制限はない。

上記一般式（Ｑ４）中、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合であることが好ましく、エステル結合であることがより好ましい。
Ｌ^５〜Ｌ^８がエステル結合を表す場合、上記エステル結合としてはＲ^９〜Ｒ^１２が置換している炭素原子側から−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−のいずれでもよいが、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であることが好ましい。

上記一般式（Ｑ４）中、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。

上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物は、下記一般式（Ｑ５）で表されることが好ましい。

一般式（Ｑ５）

一般式（Ｑ５）中、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表す。Ａｒ^１３およびＡｒ^１４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表し、Ａｒ^１３およびＡｒ^１４のうち少なくとも１つは破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である。Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表し、ｅおよびｆの上限値はそれぞれ５−ａおよび５−ｂであり、ｇおよびｈの上限値はそれぞれＡｒ^１３およびＡｒ^１４が有することができる置換基の数からｃまたはｄを減じた値である。但し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、ａ、ｂ、ｃおよびｄ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ５）におけるＡｒ^１１およびＡｒ^１２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるＡｒ^１１およびＡｒ^１２の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ５）におけるＡｒ^１３およびＡｒ^１４の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるＡｒ^１３およびＡｒ^１４の好ましい範囲と同様である。ただし、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２がともに炭素数１０の芳香族炭化水素基を表す場合は、上記一般式（Ｑ５）におけるＡｒ^１３およびＡｒ^１４の両方が（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数１０の芳香族炭化水素基を表すことがさらに好ましい。
上記一般式（Ｑ５）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ５）におけるＬ^１〜Ｌ^８の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ４）におけるＬ^１〜Ｌ^４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ５）におけるａおよびｂの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるａおよびｂの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ５）におけるｃおよびｄの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるｃおよびｄの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ５）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ３）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ５）で表される縮合環含有化合物が、下記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）のいずれかで表されることが好ましい。
一般式（Ｑ６）

一般式（Ｑ７）

一般式（Ｑ８）

一般式（Ｑ９）

一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）中、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表す。Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表す。但し、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、ａおよびｂ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

なお、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）および後述の一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）、（Ｑ９Ａ）、（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）中、ナフタレン環へ置換しているａ、ｂ、ｃおよびｄ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ^１〜Ｒ^４は、ナフタレン環を構成する２つのベンゼン環のいずれに置換してもよい。例えば一般式（Ｑ６）におけるＲ^３は、５員環に隣接するベンゼン環に置換してもよく、５員環に隣接しないベンゼン環に置換してもよい。

上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるＡｒ^１１およびＡｒ^１２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるＡｒ^１１およびＡｒ^１２の好ましい範囲と同様である。ただし、上記一般式（Ｑ６）、（Ｑ８）および（Ｑ９）では、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２のうち両方が（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数６の芳香族炭化水素基を表すことがさらに好ましく、上記一般式（Ｑ７）では、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２のうち少なくとも一方が（破線で囲まれたベンゼン環を含む）炭素数１０の芳香族炭化水素基を表すことがさらに好ましい。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるＬ^１〜Ｌ^８の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるＬ^１〜Ｌ^４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるａおよびｂの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるａおよびｂの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｃおよびｄの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるｃおよびｄの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ５）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）で表される縮合環含有化合物は、下記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）、（Ｑ９Ａ）、（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）のいずれかで表されることが好ましい。
一般式（Ｑ６Ａ）

一般式（Ｑ７Ａ）

一般式（Ｑ８Ａ）

一般式（Ｑ９Ａ）

一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）中、Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表す。

上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲は、それぞれ上記一般式（Ｑ６）、（Ｑ７）、（Ｑ８）および（Ｑ９）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるＬ^１〜Ｌ^８の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるＬ^１〜Ｌ^４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるａおよびｂの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるａおよびｂの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるｃおよびｄの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｃおよびｄの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲と同様である。

一般式（Ｑ６Ｂ）

一般式（Ｑ７Ｂ）

一般式（Ｑ８Ｂ）

一般式（Ｑ９Ｂ）

一般式（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）中、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表し、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２のうち少なくとも１つは破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である。Ｌ^１〜Ｌ^４はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ^５〜Ｌ^８はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ^９〜Ｒ^１２はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表す。但し、Ａｒ^１１およびＡｒ^１２がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、ａおよびｂ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。

上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲は、それぞれ上記一般式（Ｑ６）、（Ｑ７）、（Ｑ８）および（Ｑ９）におけるＲ^１〜Ｒ^１２の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるＬ^１〜Ｌ^８の好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるＬ^１〜Ｌ^４の好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるａおよびｂの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるａおよびｂの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるｃおよびｄの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｃおよびｄの好ましい範囲と同様である。
上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）および（Ｑ９Ａ）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲は、上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）におけるｅ、ｆ、ｇおよびｈの好ましい範囲と同様である。

上記一般式（Ｑ６）で表される縮合環含有化合物は下記一般式（６Ａ）または（６Ｂ）で表されることが好ましく、（Ｑ６Ａ）で表されることがより好ましい。
上記一般式（Ｑ７）で表される縮合環含有化合物は下記一般式（７Ａ）または（７Ｂ）で表されることが好ましく、（Ｑ７Ｂ）で表されることがより好ましい。
上記一般式（Ｑ８）で表される縮合環含有化合物は下記一般式（Ｑ８Ａ）または（Ｑ８Ｂ）で表されることが好ましく、（Ｑ８Ａ）で表されることがより好ましい。
上記一般式（Ｑ９）で表される縮合環含有化合物は下記一般式（Ｑ９Ａ）または（Ｑ９Ｂ）で表されることが好ましく、（Ｑ９Ａ）で表されることがより好ましい。
上記一般式（Ｑ６）〜（Ｑ９）で表される縮合環含有化合物は、上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ７Ａ）、（Ｑ８Ａ）、（Ｑ９Ａ）、（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）で表されることがレンズ成形性向上の観点から好ましく、上記一般式（Ｑ６Ａ）、（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）または（Ｑ９Ｂ）で表されることが屈折率をより大きくしてアッベ数をより小さくする観点からより好ましく、上記一般式（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）または（Ｑ９Ｂ）で表されることが屈折率を特に大きくしてアッベ数を特に小さくする観点から特に好ましい。

上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物は、下記Ｘａ−４〜Ｘａ−１５のいずれかであることが好ましい。

以下において、本発明に好ましく用いられる上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物の具体例を列挙するが、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。

（分子量）
本発明に好ましく用いられる上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物の分子量は４００〜１０００であることが好ましく、４００〜７００であることがより好ましく、５００〜６５０であることが特に好ましい。

（入手方法）
これらの上記一般式（Ｑ１）で表される縮合環含有化合物の入手方法については特に制限は無く、商業的に入手してもよく、合成により製造してもよい。
合成により製造する場合は、上記一般式（１）で表される縮合環含有化合物の製造方法としては特に制限はなく、公知の方法で合成することができる。例えば、特開２０１１−６８６２４号公報に記載の方法により合成することができる。

本発明の組成物は、他の成分を含有してもよい。そのような成分としては、金属酸化物粒子、溶剤、重合開始剤、重合性化合物Ｑ以外のモノマー（重合性化合物Ｑ以外の重合性化合物）、バインダ、界面活性剤、シランカップリング剤、硬化促進剤、光酸発生剤などが挙げられる。これらの成分としては、例えば、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［００１３］以降の内容や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［００１９］以降の内容が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。

重合開始剤としては、光、熱のいずれか或いはその双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はないが、光重合開始剤であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、１５０〜２５０℃で分解する重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
上記重合開始剤としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落０２１７〜０２２８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
オキシム化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。またアシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。
また、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０１１９］〜［０２１５］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０１２９］〜［０２２６］等に記載の重合開始剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

重合性化合物としては特に制限されないが、例えば、エチレン性不飽和結合を含む化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和結合を含む化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ；日本化薬株式会社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、東亞合成(株)製アロニックスＭ−４０２も使用することができる。
さらに、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０１０７］〜［０１１８］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０１１４］〜［０１２８］等に記載の重合性化合物が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。

硬化促進剤は、硬化速度を向上させる機能を有するものであれば特に限定されず、慣用されているものの中から任意のものを選択して使用できる。例えば、酸無水物、塩基（例えば、脂肪族アミン類、脂環式及び複素環式アミン類、芳香族アミン類、変性アミン類等のアミン系化合物、イミダゾール系化合物）、ルイス酸類（例えば、スルホン酸、リン酸、カルボン酸等）、チオール系化合物等が挙げられる。

硬化促進剤としては、具体的に例えば以下の化合物が挙げられる。
酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、テトラメチレン無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水クロレンド酸、無水ピロメリット酸、ドデセニル無水コハク酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセロールトリス（アンヒドロトリメリテート）、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物等が挙げられる。

脂肪族アミン類としては、例えば、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、トリエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ペンタンジアミン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ペンタメチルジエチレントリアミン、アルキル−ｔ−モノアミン、１，４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタン（トリエチレンジアミン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロピレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、ジメチルアミノエトキシエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジメチルアミノヘキサノール等が挙げられる。
脂環式及び複素環式アミン類としては、例えば、ピペリジン、ピペラジン、メンタンジアミン、イソホロンジアミン、メチルモルホリン、エチルモルホリン、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキシスピロ（５，５）ウンデカンアダクト、Ｎ−アミノエチルピペラジン、トリメチルアミノエチルピペラジン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、１，８−ジアザビシクロ［４．５．０］ウンデセン−７等が挙げられる。

芳香族アミン類としては、例えば、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ベンジルメチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ｍ−キシレンジアミン、ピリジン、ピコリン、α−メチルベンジルメチルアミン等が挙げられる。
変性アミン類としては、例えば、エポキシ化合物付加ポリアミン、マイケル付加ポリアミン、マンニッヒ付加ポリアミン、チオ尿素付加ポリアミン、ケトン封鎖ポリアミン、ジシアンジアミド、グアニジン、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル、アミンイミド、三フッ化ホウ素−ピペリジン錯体、三フッ化ホウ素−モノエチルアミン錯体等が挙げられる。
イミダゾール系化合物としては、例えば、イミダゾール、１−メチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、３−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、５−メチルイミダゾール、１−エチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、３−エチルイミダゾール、４−エチルイミダゾール、５−エチルイミダゾール、１−ｎ−プロピルイミダゾール、２−ｎ−プロピルイミダゾール、１−イソプロピルイミダゾール、２−イソプロピルイミダゾール、１−ｎ−ブチルイミダゾール、２−ｎ−ブチルイミダゾール、１−イソブチルイミダゾール、２−イソブチルイミダゾール、２−ウンデシル−１Ｈ−イミダゾール、２−ヘプタデシル−１Ｈ−イミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、１，３−ジメチルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−フェニルイミダゾール、２−フェニル−１Ｈ−イミダゾール、４−メチル−２−フェニル−１Ｈ−イミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニル−４，５−ジ（２−シアノエトキシ）メチルイミダゾール、１−ドデシル−２−メチル−３−ベンジルイミダゾリウムクロライド、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール塩酸塩等が挙げられる。
チオール系化合物としては、例えば、ポリメルカプタンが挙げられる。
これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

本発明においては、組成物中に配合される樹脂Ｐおよび／または重合性化合物がエポキシ基を有する場合には、硬化促進剤を併用することが好ましい。硬化促進剤としては、貯蔵安定性の観点で、上記の中でも酸または酸無水物が好ましく、カルボン酸または脂肪族酸無水物がより好ましい。耐熱性をより良好とする観点からは、芳香族酸無水物よりも脂環式酸無水物が好ましい。

光酸発生剤としては、ｉ線用途であれば特に限定されず、例えば、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらは、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。

界面活性剤としては特に制限されないが、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
界面活性剤としては、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０２５６］〜［０２６４］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０２９５］〜［０３０３］等に記載の界面活性剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。

シランカップリング剤としては特に制限されないが、例えば、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン（信越化学工業社製商品名ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−６０３、信越化学工業社製）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＥ−６０２）、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−９０３）、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＥ−９０３）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−５０３）などが挙げられる。

本発明の組成物中の樹脂Ｐの含有量は特に制限されないが、固形分全質量に対して１〜９５質量％であることが好ましく、２５〜９０質量％であることがより好ましい。
本発明の組成物中の重合性化合物Ｑの含有量は特に制限されないが、固形分全質量に対して１〜９０質量％であることが好ましく、５〜５０質量％であることがより好ましい。
本発明の組成物中の硬化促進剤の含有量は特に制限されないが、固形分全質量に対して０〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。

〔用途〕
本発明の組成物の用途は特に制限されないが、例えば、表示装置や固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層や隣接層などの透明膜、カラーフィルタのホワイトピクセル）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、プリズムレンズなど）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ＬＥＤ用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、太陽光電池用コーティング材として有用である。

［硬化性組成物］
本発明の硬化性組成物は、上述した本発明の組成物と硬化性化合物とを含有する。
本発明の組成物については上述のとおりである。
硬化性化合物は特に制限されないが、上述した重合性化合物（重合性化合物Ｑ、重合性化合物Ｑ以外の重合性化合物）が好ましい。

［透明膜］
本発明の透明膜は、本発明の組成物または硬化性組成物を硬化させることで得られる膜である。
本発明の透明膜の屈折率は特に制限されないが、１．６〜２．０であることが好ましい。
本発明の組成物または透明膜の光透過率は特に制限されないが、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることが好ましく、１００％であることが最も好ましい。
本発明の透明膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．１〜１０μｍであることがより好ましく、０．５〜４μｍであることがさらに好ましい。
本発明の硬化性組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱や露光などが挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、加熱ドラムなどを用いることができる。露光に使用装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などを用いることができる。

［固体撮像素子］
本発明の固体撮像素子は、本発明の透明膜を有するものであれば特に制限されない。
例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルタの下に本発明の透明膜である下塗り膜を備えた構成やマイクロレンズとして本発明の透明膜を有する構成などが挙げられる。

本発明の固体撮像素子の一実施態様を図面を用いて説明する。
図３は、マイクロレンズに本発明の透明膜を用いた固体撮像素子の一実施態様の断面図を表す。
固体撮像素子２００は、図３に示すように、２次元的に配置された光電変換素子ＰＤ上に、複数色のカラーレジストを用いて形成されたカラーフィルタ層１１と、その上のマイクロレンズ層１２とで構成される。カラーフィルタ層１１の下層ないしは上層に平坦化ないしは密着性の観点から酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）膜、窒化ケイ素（ＳｉＮ）膜等の平坦化層ないしは密着層１３を有していてもよい。
また、光電変換素子ＰＤは、支持体１５上に形成された絶縁層１４上に配置されている。
絶縁層１４内には、画素部毎に、その画素部の光電変換素子ＰＤで発生した電荷に応じ
た信号を読み出す信号読出し回路１６が形成されている。信号読出し回路１６は例えばＣ
ＭＯＳ回路で構成される。
ここでマイクロレンズ層１２は本発明の透明膜を用いたものである。
マイクロレンズ層１２の製造方法は特に制限されないが、例えば、カラーフィルタ層上に本発明の組成物または硬化性組成物を塗布し、硬化させ、本発明の透明膜を形成する。その後、透明膜上にレジスト組成物を塗布し、露光および現像を行った後に、エッチングする方法などが挙げられる。

［表示装置］
本発明の表示装置は本発明の透明膜を有するものであれば特に制限されない。
本発明の表示装置は、デジタル一眼レフカメラのビューファインダやヘッドマウント形ディスプレイなどに用いられる小型・高精細有機ＥＬ表示装置（例えば、マイクロＯＬＥＤ）であることが好ましく、例えば、ガラスなどの基板の上に、各画素がマトリクス状に配置されてなる表示領域が設けられたものであることが好ましい。
以下に図面を参照して、本発明の表示装置の一実施態様について説明する。
図１は、本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の１画素分の断面図である。
図１に示す表示装置（マイクロＯＬＥＤ）１００は、有機ＥＬ素子２０の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。表示装置１００において、各画素は、例えば、白色光を発生する複数の有機ＥＬ素子２０と、カラーフィルタ５０（赤色カラーフィルタ：５０Ｒ、緑色カラーフィルタ：５０Ｇ、青色カラーフィルタ：５０Ｂ）との組み合わせにより三原色（赤，緑および青）のいずれかの光を発生する。複数の有機ＥＬ素子２０のピッチ（中心間距離）ｐは、例えば３０μｍ以下、具体的には例えば約２μｍないし３μｍである。
有機ＥＬ素子２０は、基板１０上に行列状に配置されると共に、保護膜３０により被覆されている。保護膜３０上には、接着層（図示せず）を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板の基板１０側の表面にカラーフィルタ５０が設けられている。
カラーフィルタ５０は、複数の有機ＥＬ素子２０に対向する透過色領域（図示せず）を有している。透過色領域の一部には、半透過領域（図示せず）が設けられている。これにより、この表示装置では、有機ＥＬ素子２０の寸法が小さい場合にも、隣接する透過色領域を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となっている。
カラーフィルタ５０の下には、本発明の透明膜である下地層４０が設けられている。

以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（１）実施例１〜１１、比較例１、２の組成物の調製および評価
＜樹脂の合成＞
公知の方法により、下記Ａ−８ａ、Ａ−８ｂ、Ａ−５ａ、Ａ−５ｂ、Ａ−２０、Ｘ−１およびＸ−２を合成した。ここで、各繰り返し単位の割合（ｗｔ比）は下記表１に記載のとおりである。なお、Ａ−８ａ、Ａ−８ｂ、Ａ−５ａ、Ａ−５ｂおよびＡ−２０は「一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ」に該当し、Ｘ−１およびＸ−２は「一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ」に該当しない。
図２にＡ−８ｂのＮＭＲチャート（シクロヘキサノン溶液中）を示す。

＜組成物の調製＞
実施例２および６以外については、下記表１に示される樹脂（シクロヘキサノン３０ｗｔ％溶液） ５．０質量部と、重合性化合物 １．７質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製） ０．１６質量部と、添加剤Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ−７８１Ｆ（ＤＩＣ社製、含フッ素系界面活性剤） ０．１７質量部と、ＫＢＭ−６０２（信越化学工業社製） ０．０２質量部と、ＰＧＭＥＡ １３質量部とを混合することで組成物（実施例２および６以外の各組成物）を調製した。
また、実施例２および６については、下記表１に示される樹脂（シクロヘキサノン３０ｗｔ％溶液） ５．０質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製） ０．１６質量部と、添加剤Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ−７８１Ｆ（ＤＩＣ社製、含フッ素系界面活性剤） ０．１７質量部と、ＫＢＭ−６０２（信越化学工業製） ０．０２質量部と、ＰＧＭＥＡ １３質量部とを混合することでそれぞれ組成物を調製した。

下記表１中、重合性化合物の構造については以下のとおりである。ここで、Ｄ−１は一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑに該当し、Ｄ−２（ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）は一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑに該当しない。

＜耐溶剤性の評価＞
各組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上にて１００℃で２分間加熱して膜厚１μｍの感光性膜を得た。次いでＥｘｅｃｕｒｅ３０００（ＨＯＹＡ（株）社製）を用いて１５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで半硬化物を得た。さらに、得られた半硬化物をホットプレートにより２００℃５分間加熱し、熱硬化物（膜）を調製した。
得られた膜を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に浸漬し、５分後の質量維持率を調べた。そして、以下の基準から耐溶剤性を評価した。結果を表１に示す。
・Ａ：質量維持率が９５質量％以上
・Ｂ：質量維持率が８５質量％超９５質量％未満
・Ｃ：質量維持率が８５質量％以下

＜屈折率の評価＞
耐溶剤性の評価と同様に膜を調製した。その後、得られた膜について多波長アッべ屈折計「ＤＲ−Ｍ２／１５５０」（株式会社アタゴ製）を用い、測定温度２０℃で屈折率（波長：５００ｎｍ）を測定した。そして、以下の基準から屈折率を評価した。結果を表１に示す。Ａ〜Ｃであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることがさらに好ましい。
・Ａ：屈折率が１．６５以上
・Ｂ：屈折率が１．６０以上１．６５未満
・Ｃ：屈折率が１．５５超１．６０未満
・Ｄ：屈折率が１．５５以下

＜現像性の評価＞
各組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上にて１００℃で２分間加熱して膜厚１μｍの感光性膜を得た。その膜に対して、一辺１．１μｍの正方ピクセルがそれぞれ基板上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、ｉ線ステッパーＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長で、露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光を行った。
上記露光後の膜に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、シリコンウエハを自然乾燥させ、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、シリコンウエハ上の膜厚１μｍの透明パターン（硬化膜）を得た。得られた透明パターンを測長ＳＥＭ（Ｓ−７８００Ｈ、（株）日立製作所製）を用いてシリコンウエハ上から３００００倍で観察した。そして以下の基準に基づき現像性を評価した。結果を表１に示す。Ａであることが好ましい。
Ａ：画素上に残渣が全く認められなかった。
Ｂ：画素上に残渣がわずかに認められるが、許容できる範囲内であった。
Ｃ：画素上に残渣が多く観察された。

表１から分かるように、樹脂Ｐおよび重合性化合物Ｑからなる群より選択される少なくとも１種を含有する本願実施例はいずれも膜にしたときに高い屈折率を示した。なかでも、樹脂Ｐが樹脂Ｐ１である実施例１〜８、および、樹脂Ｐを含有しないが重合性化合物Ｑを含有する実施例９および１０は優れた耐溶剤性を示した。
実施例１と５との対比、実施例２と６との対比、実施例３と７との対比、および、実施例４と８との対比から、繰り返し単位（Ａ）が一般式（３）で表され、下記（１）〜（３）の少なくとも１つを満たす実施例１〜４はより高い屈折率を示した。
（１）上記一般式（３）中、Ａｒ^１が２価の多環芳香族炭化水素基である。
（２）上記一般式（３）中、Ａｒ^２が１価の多環芳香族炭化水素基である。
（３）上記一般式（３）中、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１の少なくとも一方が多環芳香族炭化水素環である。
実施例２〜４の対比、および、実施例６〜８の対比から、重合性化合物を含有する実施例３、４、７および８は優れた耐溶剤性を示した。なかでも、重合性化合物Ｑを含有する実施例３および７はより高い屈折率を示した。
実施例１と３との対比、および、実施例５と７との対比から、樹脂Ｐ１中の繰り返し単位（Ａ）の割合が６０質量％以上である実施例３および７はより高い屈折率を示した。

また、実施例１〜１１において、光重合開始剤のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１をＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２に変更した場合、実施例４と８において、重合性化合物のライトアクリレート ＤＣＰ−ＡをＲＰ−１０４０、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、アロニックスＭ−５１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０またはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡに変更した場合でも、それらの実施例と同様に優れた効果が得られた。

一方、樹脂Ｐと重合性化合物Ｑのいずれも含有しない比較例１および２は屈折率が低かった。

上述した実施例の組成物をカラーフィルタの下地層に用いて（すなわち、上述した実施例の組成物を硬化させることで得られる透明膜を下地層に用いて）、上述した図１の態様の表示装置（マイクロＯＬＥＤ）を作製した。なお、組成物の硬化は上述した耐溶剤性の評価と同様の方法により行った。
得られた表示装置（マイクロＯＬＥＤ）は、高屈折率な下地層が配置されたことによって、下地と基盤との界面での反射が抑制され集光性が良好だった。

（２）実施例１２〜２０、比較例３〜４の組成物の調製および評価
＜樹脂（Ａ−２１、Ａ−２２、Ｘ−３およびＸ−４）の合成＞
公知の方法により、Ａ−２１、Ａ−２２、Ｘ−３およびＸ−４を合成した。ここで、各繰り返し単位の割合（ｗｔ比）は下記表２に記載のとおりである。なお、Ａ−２１、Ａ−２２は「一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ」に該当し、Ｘ−３およびＸ−４は「一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ」に該当しない。
また後述で説明するＡ−２３は「一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐ」に該当する。

＜樹脂（Ａ−２３）の合成＞
重合後に下記（４Ａ）で表される繰り返し単位になるモノマーと、重合後に下記（４Ｃ）で表される繰り返し単位になるモノマーと、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）とを反応させて、上記した一般式（４）で表される樹脂Ｐ２に相当するＡ−２３を得た。
得られた樹脂において、Ｙは下記（４Ａ）で表される繰り返し単位と下記（４Ｃ）で表される繰り返し単位とからなり、Ｌ^２１は−Ｓ−であり、連結基Ａは下記構造からなり、ｍ＝６、ｎ＝０である。
尚、下記に示す（４Ａ）、（４Ｃ）および連結基Ａにおいて、＊は結合位置を表す。

ここで、Ａ−１２における各繰り返し単位の割合（ｗｔ比）は下記表２に記載のとおりである。すなわち、上記（４Ａ）で表される繰り返し単位の割合は７５ｗｔ％であり（表２における割合Ａに相当）、上記（４Ｃ）で表される繰り返し単位の割合は２３．６ｗｔ％であり（表２における割合Ｂに相当）、下記式で表される連結単位の割合は１．４ｗｔ％（表２における割合Ｃに相当）であった。

＜組成物１４の調製＞
樹脂Ａ−２１（シクロヘキサノン３０ｗｔ％溶液） ５．０質量部と、重合性化合物Ｍ−２ ０．３８質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製） ０．１６質量部と、添加剤Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ−７８１Ｆ（ＤＩＣ社製、含フッ素系界面活性剤） ０．１７質量部と、ＫＢＭ−６０２（信越化学工業社製） ０．０２質量部と、ｐ−メトキシフェノール（和光純薬製） ０．０１質量部と、シクロヘキサノン １３質量部とを混合することで組成物１４を調製した。

＜組成物１５〜２４の調製＞
下記表２に示すとおり、樹脂、重合性化合物および硬化促進剤の種類並びに配合比率を変えた以外は組成物１４の調製と同様の方法により、組成物１５〜２４をそれぞれ調製した。
なお、組成物１８と２１については、重合性化合物を配合せず、表２に示す硬化促進剤 ０．３８質量部とした以外は組成物１４と同様の方法により調製した。

下記表２中、重合性化合物、硬化促進剤の構造については以下のとおりである。なお、Ｍ−５中、Ｒは有機基を表す。

＜重合性化合物＞

重合性化合物Ｍ−４は、特開２０１４−２０８８０４号公報の比較例５を参考にして合成した。

＜硬化促進剤＞

＜マイクロレンズ用厚膜基盤の作製＞
富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）社製のＣＴ−４０００をガラス基板上にスピンコート法で塗布した。ホットプレート上にて２２０℃で１時間加熱し、下地付きガラス基板を作成した。膜厚は０．１μｍであった。
表２に示す組成物１４〜２４を上記下地付きガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上にて１００℃２分間プリベークし、続いて２６５℃で１０分間ポストベークすることで、マイクロレンズ用厚膜基盤サンプルをそれぞれ作成した。各サンプルの膜厚はいずれも３μｍであった。

＜屈折率の評価＞
得られたマイクロレンズ用厚膜基盤サンプルについて、大日本スクリーン製造（株）製エリプソ式膜厚測定装置（ＲＥシリーズ、ＲＥ−３３２０）を用い、測定温度２０℃で波長５００ｎｍでの屈折率を測定した。そして、以下の基準から屈折率を評価した。結果を表２に示す。Ａ〜Ｃであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることがさらに好ましい。
・Ａ：屈折率が１．６５以上
・Ｂ：屈折率が１．６０以上１．６５未満
・Ｃ：屈折率が１．５５超１．６０未満
・Ｄ：屈折率が１．５５以下

＜耐熱性の評価＞
得られたマイクロレンズ用厚膜基盤サンプルについて、分光光度計「Ｕ−３２１０」（（株）日立製作所製）を用いて、４００ｎｍでの透過率を測定した。そして、以下の基準から透過率を評価した。結果を表２に示す。耐熱性（ベークしても着色し難い）の観点から、Ａ〜Ｃであることが好ましく、ＡまたはＢであることがより好ましく、Ａであることがさらに好ましい。
・Ａ：９５％以上
・Ｂ：９０％以上９５％未満
・Ｃ：８０％以上９０％未満
・Ｄ：８０％未満

＜耐溶剤性の評価＞
得られたマイクロレンズ用厚膜基盤サンプルについて、耐溶剤性の評価を行った。
得られたサンプルを溶剤（ＰＧＭＥＡ）に浸漬し、５分後の質量維持率を調べた。そして、以下の基準から耐溶剤性を評価した。結果を表２に示す。
・Ａ：質量維持率が９５質量％以上
・Ｂ：質量維持率が８５質量％超９５質量％未満
・Ｃ：質量維持率が８５質量％以下

＜クラックの評価＞
得られたマイクロレンズ用厚膜基盤サンプルについて、クラックの評価を行った。クラックの評価は、以下の基準に基づき、光学顕微鏡にて観察することによって行った。
・Ａ：ヒビなし
・Ｂ：小さなヒビあり
・Ｃ：大きなひびあり
・Ｄ：膜形成できず

＜現像性の評価＞
（１）現像性評価用組成物１４’〜２４’の調製
下記の通り、上記で調製した組成物１４〜２４にそれぞれ対応する、現像性評価用組成物１４’〜２４’を調製し、得られた各組成物を用いて現像性の評価を行った。
現像評価用組成物１４’および２３’は、上記組成物１４および２３と同じである。
現像評価用組成物１５’〜２２’および２４’は、上記で調製した組成物１５〜２２および２４に添加されるＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製） ０．１６質量部を、ＳＰ−０８２（ＡＤＥＫＡ社製） ０．１６質量部に変更した以外は同じ組成、配合比となるよう調製したものである。
（２）現像性の評価
富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）社製 ＣＴ−４０００をガラス基板上にスピンコート法で塗布した。ホットプレート上にて２２０℃で１時間加熱し、下地付きガラス基板を作成した。膜厚は０．１μｍであった。
現像性評価用組成物１４’〜２４’を、上記下地付きガラス基板上に乾燥後の膜厚が０．６μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１００℃で１２０秒間プリベークした。その後、塗布膜に対し、線幅２μｍのマスクを通して、露光装置ＵＸ３１００−ＳＲ（ウシオ電機（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長で、露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２にて露光を行った。
露光後、上記露光後の膜に対し、現像液ＣＤ−２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）社製）を使用して、２５℃４０秒間の条件で現像した。その後、流水で３０秒間リンスした後、水滴を高圧のエアーで飛ばしてガラス基板を乾燥し、パターンを得た。その後、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、着色パターンを硬化させた。
得られた着色パターンを測長ＳＥＭ（Ｓ−７８００Ｈ、（株）日立製作所製）を用いてガラス基板上から３００００倍で観察した。そして以下の基準に基づき現像性を評価した。結果を表２に示す。Ａであることが好ましい。
・Ａ：画素上に残渣が全く認められなかった。
・Ｂ：画素上に残渣がわずかに認められるが、許容できる範囲内であった。
・Ｃ：画素上に残渣が多く観察された。

表２から分かるように、樹脂Ｐを含有する本願実施例はいずれも膜にしたときに高い屈折率を示した。なかでも、樹脂Ｐが樹脂Ｐ２である実施例１７〜２０については、さらにクラックの発生が抑制されていることが確認できた。
また、実施例１２と実施例１３〜２０との比較から、樹脂Ｐにおいて、一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）が重合性基としてエポキシ基を有する場合には、膜厚が３μｍと比較的厚膜であるにもかかわらず、よりクラック発生を抑制できた。
実施例１３と１５と１６との対比、実施例１７〜１９の対比から、樹脂Ｐとともに重合性化合物を併用した場合には、より優れた耐溶剤性を示した。
実施例１３と１４との対比から、硬化剤として脂環式酸無水物を使用した実施例１３は、より優れた耐熱性を示した。

１０ 基板
２０ 有機ＥＬ素子
３０ 保護膜
４０ 下地層
５０Ｒ 赤色カラーフィルタ
５０Ｇ 緑色カラーフィルタ
５０Ｂ 青色カラーフィルタ
１００ 表示装置（マイクロＯＬＥＤ）
１１ カラーフィルタ層
１２ マイクロレンズ層
１３ 密着層
１４ 絶縁層
１５ 支持体
１６ 信号読出し回路
２００ 固体撮像素子

Claims (11)

1. 下記一般式（ａ）で表される部分構造を有する樹脂Ｐを含有し、
   前記樹脂Ｐが、下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ａ）と下記一般式（２）で表される繰り返し単位（Ｃ）とを有する樹脂Ｐ１である、組成物。
   ここで、一般式（ａ）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基を表す。
   一般式（１）および（２）中、Ｒは水素原子またはアルキル基、Ｌは単結合または２価の連結基、Ａｒ ^１ は置換基を有していてもよいアリーレン基、Ａｒ ^２ 〜Ａｒ ^４ はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、Ｘは硬化性基を表す。複数あるＲおよびＬはそれぞれ同一であっても異なってもよい。ただし、Ｘで表される硬化性基は（メタ）アクリル基またはオキセタン基である。
   
   
2. 前記一般式（２）中、Ｘが、（メタ）アクリル基である、請求項１に記載の組成物。
3. 前記一般式（１）中、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している、請求項１または２に記載の組成物。
4. 前記繰り返し単位（Ａ）が、下記一般式（３）で表される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。ここで、Ｒは水素原子またはアルキル基、Ｌは単結合または２価の連結基、Ａｒ^１は置換基を有していてもよいアリーレン基、Ａｒ^２は置換基を有していてもよいアリール基、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール環を表す。
   
5. 下記（１）〜（３）の少なくとも１つを満たす、請求項４に記載の組成物。
   （１）前記一般式（３）中、Ａｒ^１が２価の多環芳香族炭化水素基である。
   （２）前記一般式（３）中、Ａｒ^２が１価の多環芳香族炭化水素基である。
   （３）前記一般式（３）中、Ａｒ^３１およびＡｒ^４１の少なくとも一方が多環芳香族炭化水素環である。
6. 下記一般式（ａ）で表される部分構造を有する重合性化合物Ｑを含有し、
   前記重合性化合物Ｑが、下記一般式（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）のいずれかで表される、組成物。
   ここで、一般式（ａ）中、Ａｒ ^１ 〜Ａｒ ^４ はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基を表す。
   一般式（Ｑ６Ｂ）、（Ｑ７Ｂ）、（Ｑ８Ｂ）および（Ｑ９Ｂ）中、Ａｒ ^１１ およびＡｒ ^１２ はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を含むアリール基を表し、Ａｒ ^１１ およびＡｒ ^１２ のうち少なくとも１つは破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である。Ｌ ^１ 〜Ｌ ^４ はそれぞれ独立に単結合、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｒ ^５ 〜Ｒ ^８ はそれぞれ独立に単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、Ｌ ^５ 〜Ｌ ^８ はそれぞれ独立に単結合、エステル結合、チオエステル結合またはアミド結合を表し、Ｒ ^９ 〜Ｒ ^１２ はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜５の整数を表し、ｃおよびｄはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。Ｒ ^１ 〜Ｒ ^４ はそれぞれ独立に置換基を表し、ｅ、ｆ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に０以上の整数を表す。但し、Ａｒ ^１１ およびＡｒ ^１２ がそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環を縮合環のひとつとして含む多環芳香族炭化水素基である場合は、ａおよびｂ個の括弧で囲まれた構造ならびにＲ ^１ およびＲ ^２ はそれぞれ独立に破線で囲まれたベンゼン環に置換していても、破線で囲まれたベンゼン環以外の環に置換していてもよい。
   
   
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物と硬化性化合物とを含有する、硬化性組成物。
8. さらに重合開始剤を含有する、請求項７に記載の硬化性組成物。
9. 請求項７または８に記載の硬化性組成物を硬化させることで得られる透明膜。
10. 請求項９に記載の透明膜を有する固体撮像素子。
11. 請求項９に記載の透明膜を有する表示装置。