JP6095264B2 - 高分子フィルム、位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置、及び化合物 - Google Patents

Description

本発明は、位相差フィルム、偏光板保護フィルム等の種々の用途に利用可能な高分子フィルム、並びにそれを利用した位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置に関する。また、本発明は、高分子フィルムの添加剤等、種々の用途に有用な新規な化合物にも関する。

液晶表示装置の表示特性は近年ますます向上している。液晶表示装置の視野角特性に関しては、偏光板と液晶セルとの間に、位相差フィルムを配置することにより、著しく改善できることが知られている。視野角補償を達成するためには、用いられる位相差フィルムの光学特性、具体的には面内レターデーション（Ｒｅ）及び／又は厚み方向レターデーション（Ｒｔｈ）が、表示モードに応じて、適切な範囲内に制御されていることが好ましい。

位相差フィルムのＲｅ、Ｒｔｈを制御する方法の一つとして、高分子フィルムにレターデーション上昇剤を添加する方法が開示されている（特許文献１参照）。この文献に開示されているレターデーション上昇剤は、ケト−エノール互変異性可能な構造をその構成要素として含む分子錯合体を形成しうる化合物であり、その一例としてグアナミン骨格等の１，３，５−トリアジン環を含む化合物が開示されている。また、その他のレターデーション上昇剤として、円盤状化合物や、１，３，５−トリアジン環を含む他の構造を有する化合物が開示されている（特許文献２及び３参照）。

特開２００４−１０９４１０号公報 特開２００１−１６６１４４号公報 特開２００３−３４４６５５号公報

一方、本発明者らが、この様な従来のレターデーション上昇剤を添加した高分子フィルムについて検討したところ、使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動（Ｒｅ及びＲｔｈの湿度依存性と称することがある）が大きいことが判明した。
本発明は使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動が軽減された高分子フィルムを提供すること、並びにそれを用いた位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、溶液安定性が良好であり、高分子フィルムの添加剤等、種々の用途に有用な新規な化合物を提供することを課題とする。

本発明者らは、Ｒｅ及びＲｔｈ発現効果を高めることを目的に、様々な化合物について、添加剤としての有用性を種々検討した。その結果、ピリミジン環又はピリジン環を含み、環上の所定の位置に所定の置換基を有する化合物群は、高分子フィルムのレターデーション（Ｒｅ及び／又はＲｔｈ）を上昇させる作用があることを見出し、さらに、予期せぬことに、当該化合物を添加することによってＲｅ及び／又はＲｔｈが制御された高分子フィルムは、使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動が、従来のレターデーション上昇剤を添加することによってＲｅ及び／又はＲｔｈが制御された高分子フィルムと比較して、顕著に軽減されていることを見出した。これらの知見に基づきさらに検討を重ね、本発明を完成するに至った。
なお、本発明に用いられる、所定の位置に所定の置換基を有するピリミジン環又はピリジン環を有する化合物群のレターデーション上昇の作用は、トリアジン環を有する分子錯合体の形成を必要としない点で特許文献１に開示のレターデーション上昇剤の作用と異なり、また円盤状であることを必要としない点で引用文献２に開示のレターデーション上昇剤の作用と異なる。また１，３，５−トリアジン環を含まない点で引用文献３に開示のレターデーション上昇剤と異なる。

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩の少なくとも１種を含有する高分子フィルム：
一般式（１）中、Ｙは−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−を表し；Ｑ^a、Ｑ^b、Ｑ^c及びＱ^dはそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し、Ｒ^aとＲ^b及びＲ^aとＲ^dはそれぞれ連結して環を形成してもよく；Ｘ²は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｘ¹は、単結合又は下記２価の連結基群Ｇ¹
（各式中、＊側が前記各式で表される化合物中のピリミジン環又はピリジン環に置換しているＮ原子との連結部位であり；Ｒ^gは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は複素環基を表す。）から選択される２価の基を表し；Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環を形成してもよい；ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²のうち一方のみが−ＮＨ₂である化合物、並びにＹが窒素原子であり、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂でなく、且つ−Ｑ^a−Ｒ^aが−ＮＨ₂である化合物を除く。

［２］ 前記一般式（１）で表わされる化合物の少なくも１種を、水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で添加してなる［１］の高分子フィルム。
［３］ 前記一般式（１）が、下記一般式（２）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（２）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｘ⁴は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｘ³は、単結合又は下記２価の連結基群Ｇ¹
（各式中、＊側が前記各式で表される化合物中のピリミジン環又はピリジン環に置換しているＮ原子との連結部位であり；Ｒ^gは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は複素環基を表す。）から選択される２価の基を表し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環を形成してもよい。

［４］ 前記一般式（１）が、下記一般式（３）又は（４）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（３）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。
一般式（４）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。

［５］ 前記一般式（１）が、下記一般式（５−１）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（５−１）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、Ａｒ¹はアリール基を表す。

［６］ 前記一般式（１）が、下記一般式（５−２）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（５−２）中の各記号の定義は、一般式（１）及び（３）中のそれぞれと同義であり、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、アリール基を表す。

［７］ 前記一般式（１）が、下記一般式（６）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（６）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、アリール基を表す。

［８］ Ｑ^aが、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し、Ｒ^aが、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す［１〜７］のいずれかの高分子フィルム。

［９］ 前記一般式（１）が、下記一般式（７−１）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（７−１）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。

［１０］ 前記一般式（１）が、下記一般式（７−２）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（７−２）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a7は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。

［１１］ 前記一般式（７−２）が、下記一般式（８）、一般式（９）、又は一般式（１０）である［９］の高分子フィルム：
式中の各記号の定義は、一般式（７−２）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。

［１２］ 前記一般式（１）が、下記一般式（１１ａ）である［１］又は[２］の高分子フィルム：
一般式（１１ａ）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。

［１３］ 下記一般式（IIIｅ）、（IVｅ）及び（Ｖｅ）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物又はその水和物、溶媒和物もしくは塩をさらに含む［１］〜[１２］のいずれかの高分子フィルム：
式中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ａｒはそれぞれ独立に、アリール基を表す。
［１４］ 水酸基を有する高分子を主成分として含有する［１］〜[１３］のいずれかの高分子フィルム。
［１５］ 前記水酸基を有する高分子が、セルロースアシレート樹脂である［１４］の高分子フィルム。
［１６］ 前記セルロースアシレート樹脂が、セルロースアセテート樹脂である［１５］の高分子フィルム。
［１７］ 溶液製膜法により製膜されてなる［１］〜[１６］のいずれかの高分子フィルム。
［１８］ 前記化合物の水和物又は溶媒和物を用いることを特徴とする［１７］の高分子フィルム。
［１９］ ［１］〜[１８］のいずれかの高分子フィルムからなる、又は［１］〜[１８］のいずれかの高分子フィルムを含む位相差フィルム。
［２０］ 偏光子、及び［１］〜[１８］のいずれかの高分子フィルムを含む偏光板。
［２１］ ［１］〜[１８］のいずれかの高分子フィルム、及び／又は［２０］の偏光板を含む液晶表示装置。

［２２］ 下記一般式（７−１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
一般式（７−１）中、Ｙは−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−を表し；Ｑ^dは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｒ^dは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し；Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^dとＲ^aaとが結合して環構造を形成していてもよく；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。

［２３］ 下記一般式（７−２）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
一般式（７−２）中、Ｙは−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−を表し；Ｑ^dは、単結合又は２価の連結基を表し；Ｒ^dは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し；Ｒ^a7は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^dとＲ^a7とが結合して環を形成していてもよく；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。

［２４］ 下記一般式（８）、一般式（９）、又は一般式（１０）で表される［２２］又は[２３］の化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し；Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。

［２５］ Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す［２４］の化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩。
［２６］ 前記一般式（７−１）、（７−２）、及び（８）〜（１０）のいずれかの化合物の水和物又は溶媒和物。
［２７］ 前記一般式（７−１）、（７−２）、及び（８）〜（１０）のいずれかの化合物の水和物。

［２８］ 下記式（７ａ）とスキームで表わされる化合物と、一般式（７ｂ）で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式（７−１）で表される化合物、又はその塩、水和物又は溶媒和物の製造方法：
一般式（７ａ）及び一般式（７ｂ）中、Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し；Ｚはハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はアシルオキシ基を表す。

［２９］ 前記一般式（７−１）で表される化合物の水和物又は溶媒和物の製造方法であって、前記一般式（７−２）で表される化合物を水又は有機溶媒を用いて晶析することをさらに含む、［２８］の方法。

本発明によれば、使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動が軽減された高分子フィルムを提供すること、並びにそれを用いた位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。
また、本発明によれば、溶液安定性が良好であり、高分子フィルムの添加剤等、種々の用途に有用な、新規な化合物を提供することができる。

本発明の液晶表示装置の一例の構成を示す模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

まず、本明細書で用いられる用語について、説明する。
（レターデーション（Ｒｅ及びＲｔｈ））
本明細書において、Ｒｅ（λ）及びＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ｘ）及び式（ＸＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

式（ＸＩ）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本発明において、位相差膜等の「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５８９ｎｍでの値である。
また、本明細書において、位相差膜及び液晶層等の各部材の光学特性を示す数値、数値範囲、及び定性的な表現（例えば、「同等」、「等しい」等の表現）については、液晶表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲及び性質を示していると解釈されるものとする。

１． 高分子フィルム
本発明の高分子フィルムは、下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。下記一般式（１）の化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩は、レターデーション上昇剤として作用し、これを含有する高分子フィルムは、該化合物を含まない以外は原料及び製法が同一の高分子フィルムと比較して、そのＲｅ及び／又はＲｔｈが上昇しているという特徴がある。また、下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩を添加することによってＲｅ及び／又はＲｔｈが制御された高分子フィルムは、他のレターデーション上昇剤（例えば、トリアジン環を中心母核とする円盤状化合物）によりＲｅ及び／又はＲｔｈが制御された高分子フィルムと比較して、使用環境の湿度変化に伴うＲｅの変動及びＲｔｈの変動の少なくとも一方が、軽減されている。

さらに、溶液製膜法にて製造される態様、即ち、主成分である高分子材料（樹脂及び重合体のいずれも含む意味で用いるものとする）と、下記一般式（１）で表される化合物とを有機溶媒に溶解して調製されたドープを用いて、製膜されて製造される態様では、製造されるフィルムの品質安定化の観点では、下記一般式（１）の化合物は、水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で用いることがより好ましく、水和物もしくは溶媒和物の形態で用いることがさらに好ましい。

以下、本発明の高分子フィルムの作製に利用可能な、種々の材料及び方法について詳細に説明する。
（１−１） 一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩
本発明の高分子フィルムは、下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩（以下、「本発明の化合物」という場合がある）の少なくとも１種を含有することを特徴とする。下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩は、高分子フィルムのＲｅ及び／又はＲｔｈを上昇させる作用があり、即ち、レターデーション上昇剤として作用する。また、親水性高分子、特に水酸基を有する高分子、を主成分として含有する高分子フィルムでは、使用環境の湿度変化に伴うＲｅの変動及びＲｔｈの変動が顕著になる傾向があるが、下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩は、使用環境の湿度変化に伴うＲｅの変動及びＲｔｈの変動の少なくとも一方を、軽減させる作用があり、即ち、高分子フィルム用湿度依存性改良剤としても作用する。
なお、本発明において、「高分子フィルム用湿度依存性改良剤」とは、高分子フィルムに添加すると、該高分子フィルムの湿度に依存したＲｅ及び／又はＲｔｈの変動を軽減できる剤をいうものとする。具体的には、無添加の高分子フィルムと、試料を添加した高分子フィルムを準備し、それぞれ２５℃・相対湿度１０％にて１２時間調湿したときのＲｅ及びＲｔｈ（それぞれＲｅ［25℃、RH10%］、Ｒｔｈ［25℃、RH10%］とも言う）、並びに２５℃・相対湿度８０％にて１２時間調湿したときのＲｅ及びＲｔｈ（それぞれＲｅ［25℃、RH80%］、Ｒｔｈ［25℃、RH80%］とも言う）をそれぞれ測定し、且つ比較する。試料を添加した高分子フィルムのほうが、無添加の高分子フィルムと比較して、Ｒｅ及び／又はＲｔｈの変動が小さい場合、該試料を、湿度依存性改良剤というものとする。

さらに、下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩は、有機溶媒に溶解した状態での安定性に優れ、これらの化合物を使用することは、高分子フィルムの製造、特に溶液製膜法による製造の安定性改善にも寄与する。
以下、一般式（１）及びその好ましい例である一般式（２）について詳細に説明する。なお、本明細書では、「アルキル基」、「アルケニル基」及び「アルキニル基」については、直鎖状及び分岐鎖状のいずれも含む意味で用いるものとする。

一般式（１）中、Ｙは−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−を表し；Ｑ^a、Ｑ^b、Ｑ^c及びＱ^dはそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し、Ｒ^aとＲ^b及びＲ^aとＲ^dはそれぞれ連結して環を形成してもよく；Ｘ²は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｘ¹は、単結合又は下記２価の連結基群Ｇ¹から選択される２価の基を表し；Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環を形成してもよい。ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²のうち一方のみが−ＮＨ₂である化合物、並びにＹが窒素原子であり、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂でなく、且つ−Ｑ^a−Ｒ^aが−ＮＨ₂である化合物は除かれ、即ち、下記部分構造をそれぞれ有するモノアミン体は除かれる。

式中、＊にはそれぞれ、−Ｑ^a−Ｒ^a、−Ｑ^b−Ｒ^b、−Ｑ^c−Ｒ^c、−Ｑ^d−Ｒ^d及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²のいずれかが結合し、ただしそれらはＮＨ₂以外である。

一般式（２）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｘ⁴は、単結合又は２価の連結基を表し、Ｘ³は、単結合又は後述する２価の連結基群Ｇ¹から選択される２価の基を表し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環を形成してもよい。ただし、−Ｎ（Ｘ³Ｒ³）Ｘ⁴Ｒ⁴及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の一方のみが−ＮＨ₂である化合物、並びにＹが窒素原子であり、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂でなく、且つ−Ｑ^a−Ｒ^aが−ＮＨ₂である化合物を除く。

一般式（１）及び（２）中、Ｙが−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−である場合は、式中の６員環はピリジン環であり、Ｙが−Ｎ−である場合は、式中の６員環はピリミジン環である。

一般式（１）及び（２）中、Ｑ^a、Ｑ^b、Ｑ^c及びＱ^dがそれぞれ表す２価の連結基の例には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−で表される２価の連結基が含まれる。ここで、Ｘ^a及びＸ^bはそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｘ^a及びＸ^bでそれぞれ表される２価の連結基の例には、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−が含まれる。Ｒ^hは水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルキニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、又は炭素原子数２〜１０の複素環基を表す。Ｑ^a、Ｑ^b、Ｑ^c及びＱ^dがそれぞれ表す２価の連結基の好ましい例としては、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−を挙げることができ、単結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−がより好ましく、単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、及び−ＮＨ−Ｘ^b−が特に好ましい。−ＮＨ−Ｘ^b−の好ましい例には、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−ＳＯ₂−などが含まれ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−であることがさらに好ましい。Ｑ^dは単結合であるのが好ましい。

一般式（１）及び（２）中、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し、Ｒ^aとＲ^b及びＲ^aとＲ^dはそれぞれ連結して環を形成してもよい。
Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０であることが好ましく、炭素原子数１〜８であることがより好ましく、炭素原子数１〜４であることが特に好ましい。なお、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれアルキル基である場合、１つ又は隣接しない２以上の炭素原子は、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子（−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｒ）−（Ｒはアルキル基）を含む）から選択されるヘテロ原子に置き換えられていてもよい。例えば、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ、アルキレン（例えば、エチレン、プロピレン）オキシ基であってもよい。
Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれアルケニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。
Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれアルキニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。

Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれアリール基である場合、炭素原子数６〜２４であることが好ましく、炭素原子数６〜１８であることがより好ましく、炭素原子数６〜１０であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。具体的にはベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれ複素環基である場合、炭素原子数４〜２０であることが好ましく、炭素原子数４〜１０であることがより好ましく、炭素原子数４〜６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。具体的には、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基を挙げることができる。

Ｒ^aとＲ^b及びＲ^aとＲ^dはそれぞれ連結して環を形成してもよい。形成される環は、炭化水素環であっても、複素環であってもよい。５員環又は６員環であるのが好ましい。

Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ、可能であれば、さらに１以上の置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dがそれぞれ有していてもよい置換基の例には、以下の置換基群Ｔが含まれる。
置換基群Ｔ：
アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、及びシリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１）及び（２）中、Ｒ^a及びＲ^bはそれぞれ、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基であるのが好ましい。一般式（１）中、Ｒ^cは、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、及び置換もしくは無置換の複素環基であるのが好ましい。Ｒ^dは水素原子であり、且つＱ^dが単結合であるのが好ましく、即ちＹが−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−である場合は、無置換メチンであるのが好ましい。

一般式（１）及び（２）で表される化合物の例には、Ｙが窒素原子であって、且つ、−Ｑ^a−Ｒ^a及び−Ｑ^c−Ｒ^cがそれぞれ、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。
また、前記一般式（１）及び（２）で表される化合物は、上記一般式（１）及び（２）に明示された構造に限定されるものではなく、当然に一般式（１）及び（２）におけるヘテロ環骨格部分の共鳴構造も含まれる。また、一般式（１）及び（２）におけるヘテロ環骨格部分が−Ｑ^a−Ｒ^a及び−Ｑ^c−Ｒ^cと共鳴している構造も前記一般式（１）及び（２）で表される化合物に含まれる。なお、後述する一般式（３）〜（１２）で表される化合物についても同様である。

一般式（１）及び（２）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環を形成してもよい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０であることが好ましく、炭素原子数１〜８であることがより好ましく、炭素原子数１〜４であることが特に好ましい。なお、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれアルキル基である場合、１つ又は隣接しない２以上の炭素原子は、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子（−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｒ）−（Ｒはアルキル基）を含む）から選択されるヘテロ原子に置き換えられていてもよい。例えば、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、アルキレン（例えば、エチレン、プロピレン）オキシ基であってもよい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれアルケニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれアルキニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれアリール基である場合、炭素原子数６〜２４であることが好ましく、炭素原子数６〜１８であることがより好ましく、炭素原子数６〜１０であることが湿度依存性軽減の観点から特に好ましい。具体的にはベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれ複素環基である場合、炭素原子数４〜２０であることが好ましく、炭素原子数４〜１０であることがより好ましく、炭素原子数４〜６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。具体的には、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基を挙げることができる。

一般式（１）及び（２）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は複素環基であるのが好ましい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ、可能であれば、さらに１以上の置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれ有していてもよい置換基の例には、前述の置換基群Ｔが含まれる。

一般式（１）及び（２）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基が好ましい。
Ｒ¹及びＲ²のいずれか一方、並びにＲ³及びＲ⁴のいずれか一方は、それぞれ、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基であるのが好ましく、水素原子であるのが特に好ましい。湿度依存性軽減の観点では、他方は、置換もしくは無置換のアリール基であるのが好ましい。

一般式（１）及び（２）中、Ｘ²及びＸ⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｘ¹及びＸ³はそれぞれ、単結合又は下記２価の連結基群Ｇ¹から選択される基を表す。
Ｘ²及びＸ⁴がそれぞれ表す２価の連結基の例には、アルキレン基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは炭素原子数１〜３、特に好ましくは炭素原子数２）、アリーレン基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは、炭素原子数６〜１０）が含まれ、Ｘ¹及びＸ³は下記２価の連結基群Ｇ¹が含まれる。

各式中、＊側が前記各式で表される化合物中のピリミジン環又はピリジン環に置換しているＮ原子との連結部位であり；Ｒ^gは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は複素環基を表す。それぞれの基中の炭素原子数の好ましい範囲は、Ｘ^a及びＸ^bがそれぞれ表す基中の炭素原子数の好ましい範囲と同様である。

Ｘ¹及びＸ³は好ましくは、それぞれ独立に、下記２価の連結基群Ｇ²から選ばれる。
２価の連結基群Ｇ²中の各記号の定義は、２価の連結基群Ｇ¹中のそれぞれと同義である。

Ｘ¹及びＸ³がそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基群Ｇ¹から選ばれるいずれかの基を表すのが好ましく、Ｘ²が単結合で且つＸ¹が２価の連結基群Ｇ¹から選ばれるいずれかの基を表し；並びにＸ⁴が単結合で且つＸ³が２価の連結基群Ｇ¹から選ばれるいずれかの基を表すのが好ましい。
その場合、Ｘ¹及びＸ³はそれぞれ独立に、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ（ＮＲ^g）−のいずれかであることがより好ましく、−ＣＯ−であることが特に好ましい。
例えば、Ｘ¹が所定の２価の連結基（特に好ましくは−ＣＯ−）で、且つＸ²が単結合である場合は、Ｒ¹は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基であり（湿度依存性軽減の観点では、好ましくは置換もしくは無置換のアリール基であり）、且つＲ²は水素原子であるのが好ましく；同様に、Ｘ³が所定の２価の連結基（好ましくは−ＣＯ−）で、且つＸ⁴が単結合である場合は、Ｒ³は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環基であり（湿度依存性軽減の観点では、好ましくは置換もしくは無置換のアリール基であり）、且つＲ⁴は水素原子であるのが特に好ましい。

さらに、一般式（１）中、Ｘ¹が所定の２価の連結基である場合、Ｒ¹は、アリール基であるのが好ましく、中でも置換もしくは無置換のフェニル基であるのが好ましい。アリール基は、上記置換基群Ｔから選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。該置換基の置換位置についても特に制限はない、Ｘ¹に対して、オルト、メタ及びパラ位のいずれの位置が置換されていてもよい。好ましい置換基の例には、ハロゲン原子、水酸基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基）、アルキルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキルアミノ基）、又はジアルキルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜８のジアルキルアミノ基）が含まれ、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基）がより好ましく、炭素数が１〜４のアルキル基又はアルコキシ基であることがさらに好ましい。

一般式（２）中、Ｘ¹及びＸ³がそれぞれ２価の連結基である場合、Ｒ¹及びＲ³はそれぞれ、アリール基であるのが好ましく、中でも置換もしくは無置換のフェニル基であるのが好ましい。アリール基は、上記置換基群Ｔから選ばれる１以上の置換基を有していてもよい。該置換基の置換位置についても特に制限はない、Ｘ¹及びＸ³それぞれに対して、オルト、メタ及びパラ位のいずれの位置が置換されていてもよい。好ましい置換基の例には、ハロゲン原子、水酸基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基）、アルキルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキルアミノ基）、又はジアルキルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜８のジアルキルアミノ基）が含まれ、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基）がより好ましく、炭素数が１〜４のアルキル基又はアルコキシ基であることがさらに好ましい。

一方、一般式（１）及び（２）中のＸ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴のそれぞれが、前記２価の連結基群Ｇ¹で表される２価の連結基のいずれかでない場合は、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ単結合であるのが好ましく、それぞれに結合するＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、水素原子であるのが好ましい。ただし、一般式（２）では、Ｘ¹及びＸ²が単結合であり、且つＲ¹及びＲ²が水素原子である場合、Ｘ³及びＸ⁴は単結合であり、且つＲ³及びＲ⁴が水素原子である。また、一般式（１）では、Ｘ¹及びＸ²が単結合であり、且つＲ¹及びＲ²が水素原子である場合、−Ｑ^c−Ｒ^cは、−ＮＨ₂である。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（３）で表される化合物が含まれる。

一般式（３）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。一般式（３）で表される化合物の例には、−Ｑ^a−Ｒ^aが、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c又は−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の一方のみが−ＮＨ₂である化合物、並びに−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂でなく、且つ−Ｑ^a−Ｒ^aが−ＮＨ₂である化合物を除く。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（４）で表される化合物が含まれる。

一般式（４）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c又は−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の一方のみが−ＮＨ₂である化合物は除く。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（３ａ）で表される化合物が含まれる。

一般式（３ａ）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（３ｂ）で表される化合物が含まれる。

一般式（３ｂ）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（３ｃ）で表される化合物が含まれる。

一般式（３ｃ）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。

前記一般式（１）中、Ｑ^aは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、もしくは−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−で表される２価の連結基であるのが好ましい。中でも、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基）であるのがより好ましく、単結合又は−Ｏ−であることが更に好ましい。Ｒ^aは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルキニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基（例えば、ベンゼン環及びナフタレン環の基）、炭素原子数４〜１０の複素環の基（例えば、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基）が好ましく；及び、水素原子、又は炭素原子数１〜８のアルキル基であるのが好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基であることがより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよいが、無置換であることが好ましい。置換基の例には、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基等が含まれる。またＲ^aは、Ｑ^aが−Ｎ（Ｒ）−である場合には、Ｒと結合して環（例えば５又は６員の環）を形成していてもよい。一般式（１）で表される化合物の例には、−Ｑ^a−Ｒ^aが、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。
−Ｑ^a−Ｒ^aとして、好ましい例としては、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−（ｔ）Ｃ₄Ｈ₉、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−ＯＣ₂Ｈ₅、−ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、ＮＨＣ₂Ｈ₅、−ＮＨＣ₃Ｈ₇、−ＮＨＣ₄Ｈ₉、−Ｎ（ＣＨ₃）₂、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₂が挙げられ、その中でも特に好ましい例としては、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、ＮＨＣ₂Ｈ₅が挙げられ、その中でも最も好ましい例としては、−ＣＨ₃、−ＯＣＨ₃が挙げられる。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（５−１）で表される化合物が含まれる。

一般式（５−１）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｑ^a−Ｒ^a−の一方のみが、ＮＨ₂である化合物は除かれる。
Ａｒ¹はアリール基を表す。アリール基は置換もしくは無置換のフェニル基又はナフチル基であることが好ましく、置換もしくは無置換のフェニル基を有することがより好ましい。Ａｒ¹が表すアリール基は、１以上の置換基を有していてもよく、該置換基の例には、上記置換基群Ｔが含まれる。好ましい置換基の例は、前記一般式（２）中のＲ¹及びＲ³がそれぞれ有する置換基の好ましい例と同様である。

前記一般式（１）で表される化合物の例には、下記一般式（５−２）で表される化合物が含まれる。

一般式（５−２）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。Ａｒ²はアリール基を表す。

前記一般式（１）及び（２）で表される化合物の好ましい例には、下記一般式（６）で表される化合物が含まれる。

一般式（６）中の各記号の定義は、一般式（２）中のそれぞれと同義であり；Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ、アリール基を表す。Ｑ^a及びＲ^aの好ましい例は、上記一般式（３ｃ）中の各基の好ましい例と同じである。

Ａｒ¹及びＡｒ²がそれぞれ表すアリール基は、置換もしくは無置換のフェニル基又はナフチル基であるのが好ましく、置換もしくは無置換のフェニル基であるのがより好ましい。Ａｒ¹及びＡｒ²がそれぞれ表すアリール基は、１以上の置換基を有していてもよく、該置換基の例には、上記置換基群Ｔが含まれる。好ましい置換基の例は、前記一般式（２）中のＲ¹及びＲ³がそれぞれ有する置換基の好ましい例と同様である。Ａｒ¹及びＡｒ²は、勿論同一であっても、互いに異なっていてもよい。例えば、一方が無置換のアリール基で、他方が同一のアリール基であって、１以上の置換基を有する置換アリール基であってもよい。また双方とも互いに同一のアリール基であって、但し異なる置換基で置換された互いに異なる置換アリール基であってもよい。

前記一般式（６）の合成方法の一例では、互いに異なるＡｒ¹及びＡｒ²を導入するための試薬をそれぞれ用いて、Ａｒ¹及びＡｒ²が互いに異なる化合物を製造しようとすると、Ａｒ¹が導入された化合物、双方にＡｒ²が導入された化合物、及び互いに異なるＡｒ¹及びＡｒ²をそれぞれ有する１種又は２種の化合物（Ｙが窒素原子である場合は２種の化合物として特定される）の３種又は４種の混合物が得られる場合がある。本発明では、当該混合物をそのまま高分子フィルムの添加剤として用いてもよい。即ち、下記一般式（６ａ）〜（６ｄ）（但し、Ｙがメチン基の場合は（６ａ）〜（６ｃ））で表される化合物の混合物を、添加剤として使用してもよい。

一般式（６ａ）〜（６ｄ）中の各記号の定義は、一般式（２）中のそれぞれと同義であるが、但し、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ互いに異なる基を表す。

Ｑ^aは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、もしくは−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−で表される２価の連結基であるのが好ましい。中でも、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基）であるのがより好ましく、単結合又は−Ｏ−であることが更に好ましい。Ｒ^aは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルキニル基、炭素原子数６〜１８のアリール基（例えば、ベンゼン環及びナフタレン環の基）、炭素原子数４〜１０の複素環の基（例えば、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基）が好ましく；及び、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素原子数１〜８のアルキル基（さらに好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基）であることがより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよいが、無置換であることが好ましい。置換基の例には、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基等が含まれる。またＲ^aは、Ｑ^aが−Ｎ（Ｒ）−である場合には、Ｒと結合して環（例えば５又は６員の環）を形成していてもよい。一般式（６）で表される化合物の例には、−Ｑ^a−Ｒ^aが、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。
−Ｑ^a−Ｒ^aの好ましい例には、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−（ｔ）Ｃ₄Ｈ₉、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−ＯＣ₂Ｈ₅、−ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、ＮＨＣ₂Ｈ₅、−ＮＨＣ₃Ｈ₇、−ＮＨＣ₄Ｈ₉、−Ｎ（ＣＨ₃）₂、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₂が含まれr、その中でも特に好ましい例としては、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、ＮＨＣ₂Ｈ₅が挙げられ、その中でもさらに好ましい例としては、−ＣＨ₃、−ＯＣＨ₃が挙げられる。

前記一般式（６）で表される化合物の好ましい例には、下記一般式（６−１）で表される化合物が含まれる。

一般式（６−１）中の各記号の定義は、一般式（６）中のそれぞれと同義であり；Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ、アリール基を表す。
Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但し、Ｒは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表す。
Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。
Ａｒ¹及びＡｒ²の好ましい範囲は、一般式（６）で示したものと同様である。
Ｑ^aa及びＲ^aaの好ましい範囲は、一般式（６）中のＱ^a及びＲ^aの好ましい範囲と同様である。

一般式（６）、並びに後述する一般式（７−１）、（７−２）、及び（８）〜（１０）の化合物は、高いレターデーション上昇作用を示すとともに、これらの化合物を添加することによってＲｅ及び／又はＲｔｈが制御された高分子フィルムは、湿度に依存してＲｅ及び／又はＲｔｈが変動するのがより軽減されているという特徴がある。

前記一般式（２）で表される化合物の好ましい例には、下記一般式（７−１）で表される化合物が含まれる。

一般式（７−１）中の各記号Ｙ、Ｑ^aa及びＲ^aaそれぞれの定義は、一般式（６−１）中のそれぞれと同義であり；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基であることが特に好ましい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶は勿論互いに同一であっても異なっていてもよい。例えばＲ¹¹〜Ｒ¹³又はＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶が全て水素原子で、且つＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶のいずれか少なくとも１つ又はＲ¹¹〜Ｒ¹³のいずれか少なくとも１つが前記置換基であってもよいし；またＲ¹¹〜Ｒ¹³の少なくとも１つ、及びＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶の少なくとも１つが互いに異なる前記置換基であってもよい。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶の置換位置は−Ｃ（＝Ｏ）−に対してオルト位、メタ位、パラ位のいずれも好ましく用いられるが、湿度依存性改良効果の点からはオルト位以外に置換することがより好ましい。

前記式（７−１）中、−Ｑ^aa−Ｒ^aaの好ましい例には、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−（ｔ）Ｃ₄Ｈ₉、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、−ＯＣ₂Ｈ₅、−ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、ＮＨＣ₂Ｈ₅、−ＮＨＣ₃Ｈ₇、−ＮＨＣ₄Ｈ₉、−Ｎ（ＣＨ₃）₂、−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₂が含まれ、その中でも特に好ましい例としては、−Ｃｌ、−ＣＨ₃、−ＯＨ、−ＯＣＨ₃、ＮＨ₂、−ＮＨＣＨ₃、及びＮＨＣ₂Ｈ₅が挙げられ、その中でもさらに好ましい例としては、−ＣＨ₃、−ＯＣＨ₃が挙げられる。

また、式（７−１）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基であることが特に好ましい。

前記一般式（２）で表される化合物の好ましい例には、下記一般式（７−２）で表される化合物が含まれる。

一般式（７−２）中の各記号の定義は、一般式（２）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a7は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基であることが好ましく、水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、又は炭素原子数１〜４のアルコキシ基であることが特に好ましい。Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶は勿論互いに同一であっても異なっていてもよい。例えばＲ¹¹〜Ｒ¹³又はＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶が全て水素原子で、且つＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶のいずれか少なくとも１つ又はＲ¹¹〜Ｒ¹³のいずれか少なくとも１つが前記置換基であってもよいし；またＲ¹¹〜Ｒ¹³の少なくとも１つ、及びＲ¹⁴〜Ｒ¹⁶の少なくとも１つが互いに異なる前記置換基であってもよい。

Ｑ^aは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−、もしくは−Ｎ（Ｘ^a−Ｒ^h）−Ｘ^b−で表される２価の連結基であるのが好ましい。中でも、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基）であるのがより好ましく、単結合、又は−Ｏ−もしくは−ＮＨ−であることが更に好ましい。

一般式（７−１）及び（７−２）で表される化合物の例には、下記一般式（８）〜（１０）のそれぞれで表される化合物が含まれる。

式（８）〜（１０）中の各記号の定義は、一般式（７−１）及び（７−２）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ、炭素原子数１〜８（好ましくは炭素原子数１〜４）のアルキル基を表す。

また、前記一般式（１）で表される化合物の例には、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂である、下記式（１１）で表される化合物が含まれる。下記式（１１）（好ましくは下記一般式（１１ａ））で表される化合物は、上記一般式（６）〜（１０）で表される化合物と比較して、Ｒｅ及びＲｔｈの上昇作用が小さいが、比較的低いＲｅ及びＲｔｈを必要とする用途等において、好ましく用いられるであろう。

式中の各記号の定義は、一般式（２）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び好ましい例も同様である。一般式（１１）及び（１１ａ）で表される化合物の例には、−Ｑ^a−Ｒ^aが、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。

また、下記式（１２）で表される化合物も、前記一般式（６）、（７−１）、（７−２）、（８）〜（１０）の化合物と同様に、高いレターデーション上昇作用を示す。

式中の各基の定義は、上記一般式（１）〜（６）、（７−１）、（７−２）、（８）〜（１０）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｑ¹²は、単結合、−ＮＨ−、−Ｏ−、又は−Ｓ−であり、Ｒ¹²は水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１８のアリール基（例えば、ベンゼン環及びナフタレン環の基）、又は炭素原子数４〜１０の複素環の基（例えば、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基）であり、好ましくは、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数６〜１８のアリール基である。Ｑ¹²が、単結合、−Ｏ−、又は−Ｓ−である場合は、特に、Ｒ¹²は水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基であるのが好ましく、Ｑ¹²が−ＮＨ−である場合は、特に、Ｒ¹²は炭素原子数１〜８のアルキル基であるのが好ましく、さらには、炭素原子数６〜１８のアリール基（より好ましくはベンゼン環の基）であるのが好ましい。一般式（１２）で表される化合物の例には、−Ｑ^a−Ｒ^aが、−ＯＨ及び−ＳＨ以外の基である化合物が含まれる。ただし、−Ｑ¹²−Ｒ¹²及び−Ｑ^a−Ｒ^a−の一方のみが、−ＮＨ₂である化合物は除かれる。

本発明の化合物の一つの特徴は、ピリミジン環又はピリジン環を含み、環上の所定の位置に所定の置換基を有することである。本発明の化合物の中でもＲｅ及びＲｔｈの湿度依存性の軽減に特に効果が大きいものとしては、下記部分構造（Ａ）の一般式で示されるものがあげられる。より好ましくは、下記部分構造（Ｂ）であり、さらに好ましくは、下記部分構造（Ｃ）である。なお、下記一般式（Ａ）〜（Ｃ）中のＹは、前記一般式（１）中のＹと同義であり、即ち、−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−（Ｑ^d及びＲ^dの定義は前述のとおりである。）である。

これらの部分構造の特徴は、水素結合ドナー及びアクセプター部分が立体的に近い配置になっていることである。これにより、水や水酸基と多点の水素結合を形成することが可能となる。特に、部分構造（Ｂ）や（Ｃ）を有する化合物は、水は水酸基と環状の水素結合対を形成できる配座を取り得る。これらの構造上の特徴により、高分子フィルム中の水分子を捕獲したり、高分子中の水酸基や、高分子に水素結合した水に対して強く相互作用したりすることにより、使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動を低減する効果を発現していると推測される。

また本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物は、その立体構造も重要である。
高分子フィルムのレターデーション（Ｒｅ及び／又はＲｔｈ）を上昇させる効果発現には、平面性が高く、棒状構造であることが好ましい。また、高分子フィルムの使用環境の湿度変化に伴うＲｅ及びＲｔｈの変動を低減させる効果発現には、同じく平面性が高く、コンパクトな構造であることが好ましい。これは立体的にかさ高いと、高分子鎖に本発明の化合物が接近しにくくなり効果的に水分子を捕獲することができなくなるためである。

以下に、前記一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明に使用可能な化合物は、以下の具体例に限定されるものではない。

本発明の範囲には、前記一般式（１）で表される化合物を水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で添加してなる高分子フィルムも含まれる。なお、本発明において、水和物は有機溶媒を含んでいてもく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」及び「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。上記した通り、前記化合物の水和物、溶媒和物又は塩のほうが、溶液製膜法により製造する態様では好ましい。塩としては、無機又は有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸の例として、ハロゲン化水素酸（塩酸、臭化水素酸など）、硫酸、リン酸などが含まれ、またこれらに限定されない。また、有機酸の例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸、アルキルスルホン酸（メタンスルホン酸など）、アリルスルホン酸（ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、1，5-ナフタレンジスルホン酸など）などがあげられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくは、塩酸塩、酢酸塩である。

なお、前記一般式（１）で表される化合物を、水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で添加してなるフィルムでは、フィルム中、該化合物がもはや水和物、溶媒和物もしくは塩の形態ではない場合もある。その場合であっても、水和物等の形態の化合物を用いた場合に得られる製膜安定性は、結果物としてのフィルム中の前記一般式（１）で表される化合物の含率の安定化、フィルムの光学特性のバラツキ低減及び光学特性の環境湿度依存性の低減に寄与する。

塩はまた、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン（たとえばアルカリ金属塩、たとえばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、たとえばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルミニウムイオンなど）により置換されるか、あるいは有機塩基（エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジン、など）と調整されたときに形成される塩があげられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。

溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶剤のいずれも含まれる。具体的には、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノールなど）、エステル（例えば、酢酸エチルなど）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタンなど）、エーテル（例えば、テトラヒドロフランなど）、ニトリル（例えば、アセトニトリルなど）、ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノンなど）などがあげられる。好ましくは、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノールなど）の溶媒和物であり、より好ましくは、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールである。これらの溶媒は、前記化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、又はこれらの混合であってもよい。
また、二種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む形（例えば、水とアルコール(たとえば、メタノール、エタノール、t-ブタノールなど)など）であってもよい。

本発明に係わる化合物は、該化合物と水や溶媒とがある範囲の比率で存在し、一定の温度、湿度、圧力の範囲では含水率／溶媒の比率は変化しない水和物／溶媒和物を形成してもよい。このような水和物及び溶媒和物は、ある特定の結晶構造を有し、粉末Ｘ線回折（ＸＲＤ）にて特定の回折パターンを示す。一方、含水率／溶媒の比率一定となる範囲を超えて、高温や減圧の環境下におくと、水分や溶媒が失われ、非晶質（アモルファス）へと変化することがある。ここで非晶質（アモルファス）とは、規則的な分子の配列である結晶構造をもたないものであり、例えば、融点以上に加熱して融解させて水、溶媒を留去し、急冷することで得られる。こうして得られた非晶質は、環境湿度に応じて含水することがあり、含水率は環境湿度によって変化する。しかし、含水アモルファスにおいても、粉末Ｘ線回折の回折パターンは現れないことから、本発明に係わる化合物と水とがある範囲の比率で存在し、一定の温度、湿度、圧力の範囲では含水率が変化しない水和物とは区別される。
本発明においては、非晶質（アモルファス）の形態では、含水率が環境湿度によって変化するため、結晶の形態(無水物、水和物、及び／又は溶媒和物)で用いることがより好ましい。
ここで、結晶とは、三次元的に構成原子が規則正しく配列した結晶構造を有する固体のことをいい、無水物、水和物、及び／又は溶媒和物が含まれ、一般に、粉末Ｘ線回折である特定の結晶構造、結晶面に応じた回折角にピークを持つ。本明細書中では、これを、結晶粉末Ｘ線回折で回折パターンを示す、と記載している。また、非晶質（アモルファス）であれば、一般に、粉末Ｘ線回折でブロードな単一ピーク（ハロー）を持つが、これを、本明細書中では、粉末Ｘ線回折の回折パターンを示さない、と記載している。また、非晶質と結晶は、粉末Ｘ線回折の他、熱分析などの分析方法によって区別することができる。

水和物、溶媒和物及びこれらの混合溶媒和物の形態における、前記一般式（１）で表される化合物と、水、溶媒及びこれらの混合溶媒との比率については特に制限はない。一般に水和物や溶媒和物は、化合物１分子あたり整数倍の水及び／又は溶媒分子が取り込まれるが、結晶の間隙にも取り込まれることがあるため整数倍とならない場合もある。
水和物や溶媒和物における、化合物１分子あたりの、水及び／又は溶媒分子の比率は、いずれも本発明の範疇であるが、化合物１分子あたりの及び／又は溶媒分子は、０．２５モル〜４モルであることが好ましい。
これを重量に換算すると、化合物の分子量に依存するが、例えば、水和物の場合、含水率は、０．８〜２５％が好ましい。
含水率が１％以上の水和物であると、特にフィルムの光学特性のバラツキが軽減されるので好ましく、含水率が２％以上であるのがより好ましい。含水率の上限値は、（有機溶剤への）溶解性や製造工程への負荷の観点から、１５％以下であるのが好ましく、１０％以下であるのがより好ましい。溶媒和物の含溶媒率についても同様に考えることができる。
水和物は、前記化合物を水により晶析することで、製造することができる。又は有機溶媒の多くは微量の水を含んでいるので、有機溶媒により晶析しても、含水率が前記範囲である水和物が得られる。また、必要に応じて、有機溶媒に必要量の水を添加して、晶析することで、含水率が前記範囲である水和物を得ることもできる。

本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物は、分子量が２００〜２０００であることが好ましく、２００〜１０００であることがより好ましく、２００〜６００であることが特に好ましい。

一般式（１）で表される化合物の製造方法は、特に限定はなく、種々の方法により製造することができる。以下に、一般式（１）で表される化合物の製造方法の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
一般式（１）の化合物は、例えば、下記スキーム１−１の方法で合成することができる。即ち、一般式（１ａ）の化合物と一般式（１ｂ）の化合物とを、無溶媒又は有機溶剤中にて反応させることにより合成することができる。一般式（１ａ）及び一般式（１ｂ）中の各基の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。また、Ｚは脱離基を表し、ハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、より好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₂のアルコキシ基、最も好ましくはＣ₁のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくはＣ₁〜Ｃ₈のアリールオキシ基）、ヘテロ環基、アシルオキシ基（好ましくはＣ₂〜Ｃ₈のアシルオキシ基）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルキルスルホニルオキシ基）、アリールスルホニルオキシ基などを好ましく用いることができる。これらのうち特に好ましくは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基である。

一般式（１ａ）及び一般式（１ｂ）の化合物は市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。有機溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）、エステル（例、酢酸エチル）、炭化水素（例、トルエン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン）、ハロゲン化炭化水素（例、ジクロロメタン）、ニトリル（例、アセトニトリル）あるいはこれらの混合溶媒を用いることができる。これらのうち、炭化水素、アルコール及びアミドが好ましく、トルエン、メタノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びＮ−エチルピロリドンが特に好ましい。また、トルエン、メタノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びＮ−エチルピロリドンの混合溶媒も特に好適な例である。また、有機溶剤と併用して水を使用することも好ましい。

一般式（１ａ）の化合物と一般式（１ｂ）の化合物の反応においては、塩基存在下で反応させることも好ましい。塩基としては、無機塩基（例、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）と有機塩基（例、ピリジン、トリエチルアミン、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウム）のいずれも使用でき、Ｚの種類に応じて適宜選択することができる。Ｚがアルコキシ基である場合には無機塩基が好ましく、ナトリウムメトキシドが特に好ましい。用いる塩基の使用量は、一般式（１ｂ）で表される化合物に対して０．５〜１０当量の範囲であることが好ましく、０．５〜６当量の範囲であることが特に好ましい。Ｚがハロゲン原子である場合には、無機塩基、有機塩基ともに好ましく用いることができ、例えば、ピリジン、炭酸水素ナトリウムなどがより好ましい。

反応温度は、通常、−２０℃〜用いる溶媒の沸点の範囲とするのが好ましく、室温〜溶媒の沸点の範囲にするが好ましい。
反応時間は、通常１０分〜３日間であり、好ましくは１時間〜１日間である。反応を窒素雰囲気下、あるいは減圧下で行ってもよい。特に脱離基Ｚがアルコキシ基、アリールオキシ基の場合は減圧下で行うことも好ましい。

一般式（１）で表される化合物の製造方法の他の例は、下記スキーム１−２で示される方法である。即ち、一般式（１ｃ）の化合物と一般式（１ｄ）の化合物とを無溶媒又は有機溶剤中にて塩基の非存在下で、あるいは塩基存在下で反応させることにより合成することができる。
一般式（１ｃ）及び一般式（１ｄ）の化合物は市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。有機溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール）、エステル（例、酢酸エチル）、炭化水素（例、トルエン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン）、ハロゲン化炭化水素（例、ジクロロメタン）、ニトリル（例、アセトニトリル）あるいはこれらの混合溶媒を用いることができる。アルコール及びアミドが好ましく、メタノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びＮ−エチルピロリドンが特に好ましい。また、メタノール、エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びＮ−エチルピロリドンの混合溶媒も特に好適な例である。

塩基を用いる場合、塩基としては、無機塩基（例、炭酸カリウム）と有機塩基（例、トリエチルアミン、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド）のいずれも使用できる。無機塩基が好ましく、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムが特に好ましい。用いる塩基の使用量は、一般式（１ｃ）で表される化合物に対して０．５〜１０当量の範囲であることが好ましく、１〜５当量の範囲であることが特に好ましい。

反応温度は、通常、−２０℃〜用いる溶媒の沸点の範囲であるのが好ましく、室温〜溶媒の沸点の範囲であるのがより好ましい。
反応時間は、通常、１０分〜３日間であり、好ましくは１時間〜１日間である。反応を窒素雰囲気下、あるいは減圧下で行ってもよい。

一般式（１ｃ）及び一般式（１ｄ）中、各基の定義はそれぞれ、一般式（１）中のそれぞれと同義である。Ｚ¹は脱離基を表し、ハロゲン原子などを好ましく用いることができる。

また、一般式（２）の一例である一般式（２）’の化合物は、例えば、下記スキーム２−１の方法で合成することができる。即ち、一般式（２ａ）の化合物と、一般式（１ｂ）の化合物とを無溶媒又は有機溶剤中にて、塩基存在下で反応させることにより合成することができる。一般式（２ａ）、及び一般式（１ｂ）の化合物は市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。使用可能な有機溶媒及び塩基の例は、前記スキーム１−１及び１−２の反応と同様であり、反応温度及び反応時間についても、上記スキームの反応と同様である。

一般式（２ａ）中、各基の定義はそれぞれ、一般式（２）中のそれぞれと同義である。また、一般式（１ｂ）について前述したものと同様である。

また、一般式（６）の一例である下記一般式（６）’の化合物は、例えば、下記スキーム２の方法で合成することができる。即ち、一般式（６ａ）の化合物と、一般式（６ｂ）の化合物とを、無溶媒又は有機溶剤中にて、反応させることにより合成することができる。一般式（６ａ）及び一般式（６ｂ）の化合物は市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。一般式（６ａ）の化合物と一般式（６ｂ）の化合物との反応においては、塩基存在下で反応させることも好ましい。使用可能な有機溶媒及び塩基の例は、前記スキーム１−１の反応と同様であり、反応温度及び反応時間についても、上記スキームの反応と同様である。

一般式（６ａ）及び一般式（６ｂ）中、各基の定義はそれぞれ、一般式（６）中のそれぞれと同義である。Ａｒはアリール基である。また、Ｚの定義は、一般式（１ｂ）中のそれと同義である。脱離基Ｚとして好ましくは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基であり、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、より好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₂のアルコキシ基、最も好ましくはＣ₁のアルコキシ基である。

また、前記一般式（７−１）の化合物は、例えば、下記スキーム３の方法で合成することができる。即ち、一般式（７ａ）の化合物と、一般式（７ｂ）の化合物とを、無溶媒又は有機溶剤中にて、反応させることにより合成することができる。一般式（７ａ）及び一般式（７ｂ）の化合物は市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。一般式（７ａ）の化合物と一般式（７ｂ）の化合物の反応においては、塩基存在下で反応させることも好ましい。使用可能な有機溶媒及び塩基の例は、前記スキーム１−１の反応と同様であり、反応温度及び反応時間についても、上記スキームの反応と同様である。

一般式（７ａ）及び一般式（７ｂ）中、各基の定義はそれぞれ、一般式（７−１）中のそれぞれと同義である。また、Ｚの定義は、一般式（１ｂ）中のそれと同義である。Ｚとして好ましくは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基であり、より好ましくは、アルコキシ基であり、さらに好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルコキシ基、より好ましくは、Ｃ₁〜Ｃ₂のアルコキシ基、最も好ましくはＣ₁のアルコキシ基である。

出発物質である一般式（７a）で表されるジアミノピリミジン化合物は、市販品、あるいは既知の合成法により製造した合成品を用いることができる。また、市販の原料を用いて、一般式（７a）の化合物を合成し、そのまま単離することなく本反応を実施することも好ましい。

上記スキーム１−１及び１−２、並びにスキーム２及び３の合成例において、原料として使用可能な市販の化合物の例には、２，４，６-トリクロロピリミジン、２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジン、２，４−ジアミノ−６−クロロピリミジン、２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシピリミジン、２，４−ジアミノピリジン等が含まれ、これらの原料を用い、求核置換反応、縮合反応等を組み合わせて、本発明の化合物を合成することができる。
また、一般式（１）の化合物及びその前駆体は、環化反応により、直接ヘテロ環（ピリミジン環、ピリジン環）を構築して合成することも可能であり、種々の公知の方法を用いることができる。

本発明の化合物の単離方法は、一般的に用いられる方法はいずれも用いることができるが、晶析により結晶として取り出すことが好ましい。晶析に使用する溶剤としては、一般的な有機溶剤又は水を用いることができる。水系から晶析することで水和物の形態で単離することも好ましい。

（１−２）高分子
本発明の高分子フィルムは、主成分として、種々の高分子材料から選択される１種又は２種以上の高分子を含有する。用いる高分子については特に制限はない。使用可能な高分子の例には、水酸基を有する高分子が含まれる。水酸基を含有する高分子としては、ポリビニルアルコールとその変性体やセルロースアシレート樹脂が挙げられる。なお、前記の水酸基を含有する高分子にはその水酸基が他の置換基によって置換された誘導体も前記水酸基を有する高分子の例に含まれ、水酸基の全てがアシル基で置換されたセルロースアシレート樹脂も、前記水酸基を有する高分子の例に含まれる。

本発明のフィルムの一態様は、前記水酸基を有する高分子として、セルロースアシレート樹脂を含む。セルロースには、β−１，４結合しているグルコース単位当り、２位、３位及び６位に遊離の水酸基がある。本態様のフィルムは、セルロースアシレート樹脂を主成分として含有することが好ましい。ここで「主成分として含有する」とは、セルロースアシレートフィルムの材料として用いられているセルロースアシレート樹脂が１種である場合は、当該セルロースアシレート樹脂をいい、複数種である場合は、最も高い割合で含有されるセルロースアシレート樹脂をいう。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレート樹脂でも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。

セルロースアシレート樹脂のアシル基の種類については、特に制限はないが、アセチル基、プロピオニル基又はブチリル基であることが好ましく、アセチル基であることがより好ましい。
具体的には、下記式（ｉ）〜（iii）を同時に満たすセルロースアシレートを含有することが好ましい。
式（ｉ） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３
式（ii） １．０≦Ａ≦３
式（iii） ０≦Ｂ≦１．０
上記式（ｉ）〜式（iii）中、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基の置換度とブチリル基の置換度の合計を表す。

前記セルロースアシレート樹脂のアシル置換度は、下記式（iv）〜（vi）を同時に満たすことがより好ましい。
式（iv） ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３
式（v） １．５≦Ａ≦３
式（vi） Ｂ＝０
上記式（iv）〜式（vi）中、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基の置換度とブチリル基の置換度の合計を表す。

セルロースアシレート樹脂中のアセチル置換度、プロピオニル置換度及びブチリル置換度はそれぞれ、セルロースの構成単位（（β）１，４−グリコシド結合しているグルコース）に存在している、３つの水酸基がアセチル化ならびにプロピオニル化及び／又はブチリル化されている割合をそれぞれ意味する。なお、本明細書では、セルロースアシレート樹脂のアセチル基、プロピオニル基、及びブチリル基の置換度は、セルロースの構成単位質量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、「ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９１」に準じて実施する。

前記セルロースアシレート樹脂は、３５０〜８００の重合度を有することが好ましく、３７０〜６００の重合度を有することがさらに好ましい。また本発明に用いるセルロースアシレート樹脂は、７００００〜２３００００の数平均分子量を有することが好ましく、７５０００〜２３００００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、７８０００〜１２００００の数平均分子量を有することがよりさらに好ましい。

前記セルロースアシレート樹脂は、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。工業的に最も一般的な合成方法としては、以下の通りである。綿花リンタや木材パルプなどから得たセルロースをアセチル基並びにプロピオニル基及び／又はブチリル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸、酪酸）又はそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）を含む混合有機酸成分でエステル化し、目的のセルロースアシレート樹脂を合成することができる。

（１−３） 一般式（１）で表される化合物の添加量
本発明のフィルム中、主成分である高分子（例えば、水酸基を有する高分子）１００質量部に対する、前記一般式（１）で表される化合物の添加量は、３０質量部以下とすることが好ましく、０．０１〜３０質量部とすることがより好ましく、０．０１〜２０質量部とすることが特に好ましく、０．１〜１５質量部とすることがさらに好ましい。
また、本発明のフィルムは、主成分である高分子１００質量部に対する、添加剤（前記一般式（１）で表される化合物とともに、所望により他の添加剤を含む）の合計含有量が５５質量％以下であることが、好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることがさらに好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される化合物は１種類のみを用いても２種以上用いてもよい。また、前記スキーム２−１又は３−１にしたがって製造する場合に、一般式（１ｂ）又は一般式（７ｂ）で表される化合物を２種以上用いて得られる反応混合物も好ましく用いることができる。
このように一般式（１）で表される化合物を２種以上用いる場合には、一般式（１）で表される化合物の合計の添加量が、前述の好ましい添加量の範囲となることが好ましい。

また、前記一般式（１）で表される化合物は、水和物や溶媒和物として得られることがあるが、水和物や溶媒和物としてそのまま用いてもよいし、水や溶媒を除いてからもちいてもよい。一旦、水和物や溶媒和物として得られた結晶から水や溶媒を除くと、吸湿などにより、含率が変化する場合があるので、水和物や溶媒和物として得られた結晶をそのまま用いる方がより好ましい。

（１−４） 他の添加剤
本発明の高分子フィルムは、種々の目的により、前記一般式（１）で表される化合物以外の添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤は、当該高分子フィルムを溶液製膜法で製造する場合は、高分子樹脂ドープ、例えばセルロースアシレートドープ中に添加することができる。添加のタイミングについては特に制限はない。添加剤は、高分子（例えば、セルロースアシレート）と相溶（溶液製膜法ではセルロースアシレートドープ中に可溶）な剤から選択する。添加剤は、高分子フィルムの光学特性の調整及びその他の特性の調整等を目的として添加される。

本発明の高分子フィルムは、下記一般式（IIIｅ）、（IVｅ）及び（Ｖｅ）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種をさらに含有していてもよい。これらの式中の各記号は、上記一般式中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲及び具体例も同様である。Ａｒはそれぞれアリール基を表し、一般式（５−１）中のＡｒ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

これらの化合物は、本発明の一般式（６）の化合物を合成する際に、副生成物として得られることがある。

本発明の前記一般式（１）で表される化合物に対する、化合物（IIIｅ）、（IVｅ）及び（Ｖｅ）の添加量の比率としては、５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、２質量％以下とすることが特に好ましい。前記化合物（IIIe）、（IVe）及び（Ｖe）の添加量の比率の下限値は、例えば、０．０１質量％以上である。勿論、上記化合物（IIIｅ）、（IVｅ）及び（Ｖｅ）を含まない態様であってもよい。

本発明のフィルム中、化合物（IIIｅ）、（IVｅ）又は（Ｖｅ）の添加量は、５質量部以下とすることが好ましく、２．５質量部以下とすることがより好ましく、１．５質量部以下とすることが特に好ましい。

以下に、一般式（IIIｅ）、（IVｅ）又は（Ｖｅ）で表される化合物の具体例、及び本発明の化合物との組み合わせの具体例を示すが、以下の具体例に限定されるものではない。

（可塑剤）
本発明の高分子フィルムは、可塑剤を含有しているのが、製膜性などが改善されるので好ましい。可塑剤として、糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される糖類系可塑剤、又はジカルボン酸類とジオール類との重縮合エステル及びその誘導体からなるオリゴマー類から選択されるオリゴマー系可塑剤を使用すると、高分子フィルムの環境湿度耐性が改善されるので好ましい。具体的には、湿度に依存したＲｔｈの変動を軽減することができる。糖類系可塑剤及びオリゴマー系可塑剤の双方を併用すると、湿度に依存したＲｔｈの変動の軽減効果が高くなる。

（糖類系可塑剤）
上記した通り、本発明の高分子フィルムは、糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される少なくとも１種の化合物を、含有しているのが好ましい。中でも、１〜１０量体の糖類及びその誘導体からなる化合物群から選択される化合物は、可塑剤として好ましい。その例には、国際公開を２００７／１２５７６４号パンフレットの[００４２]〜[００６５]に記載のグルコース等の糖のＯＨの一部又は全部の水素原子がアシル基に置換された糖誘導体が含まれる。糖類系可塑剤の添加量は、主成分である高分子（例えばセルロースアシレート）に対して、０．１質量％以上２０質量％未満であるのが好ましく、０．１質量％以上１０質量％未満であるのがより好ましく、０．１質量％以上７質量％未満であるのがさらに好ましい。

（オリゴマー系可塑剤）
上記した通り、本発明の高分子フィルムは、オリゴマー類から選択されるオリゴマー系可塑剤を含有しているのが好ましい。オリゴマー系可塑剤の好ましい例には、ジオール成分とジカルボン酸成分との重縮合エステル及びその誘導体（以下、「重縮合エステル系可塑剤」という場合がある）、並びにメチルアクリレート（ＭＡ）のオリゴマー及びその誘導体（以下、「ＭＡオリゴマー系可塑剤」という場合がある）が含まれる。

前記重縮合エステルは、ジカルボン酸成分とジオール成分との重縮合エステルである。ジカルボン酸成分は、１種のジカルボン酸のみからなっていても、又は２種以上のジカルボン酸の混合物であってもよい。中でも、ジカルボン酸成分として、少なくとも１種の芳香族性ジカルボン酸及び少なくとも１種の脂肪族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分を用いるのが好ましい。一方、ジオール成分についても１種のジオール成分のみからなっていても、又は２種以上のジオールの混合物であってもよい。中でも、ジオール成分として、エチレングリコール及び／又は平均炭素原子数が２．０より大きく３．０以下の脂肪族ジオールを用いるのが好ましい。

前記ジカルボン酸成分中の前記芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸との比率は、芳香族ジカルボン酸が５〜７０モル％であることが好ましい。上記範囲であると、フィルムの光学特性の環境湿度依存性を低減できるとともに、製膜過程でブリードアウトの発生を抑制できる。前記ジカルボン酸成分中の芳香族ジカルボン酸は、より好ましくは１０〜６０モル％であり、２０〜５０モル％であることがさらに好ましい。
芳香族ジカルボン酸の例には、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸等が含まれ、フタル酸、及びテレフタル酸が好ましい。脂肪族ジカルボン酸の例には、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が含まれ、中でも、コハク酸、及びアジピン酸が好ましい。

前記ジオール成分は、エチレングリコール及び／又は平均炭素原子数が２．０より大きく３．０以下のジオールである。前記ジオール成分中、エチレングリコールが５０モル％であることが好ましく、７５モル％であることがより好ましい。脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール又は脂環式ジオール類を挙げることができ、例えばエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール、ジエチレングリコール等があり、これらはエチレングリコールとともに１種又は２種以上の混合物として使用されることが好ましい。

前記ジオール成分は、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、及び１，３−プロパンジオールであるのが好ましく、特に好ましくはエチレングリコール、及び１，２−プロパンジオールである。

また、前記重縮合エステル系可塑剤としては、前記重縮合エステルの末端のＯＨがモノカルボン酸とエステルを形成している当該重縮合エステルの誘導体であるのが好ましい。両末端ＯＨ基の封止に用いるモノカルボン酸類としては、脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体等が好ましく、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸が最も好ましい。重縮合エステルの両末端に使用するモノカルボン酸類の炭素原子数が３以下であると、化合物の加熱減量が大きくならず、面状故障の発生を低減することが可能である。また、封止に用いるモノカルボン酸は２種以上を混合してもよい。前記重縮合エステルの両末端は酢酸又はプロピオン酸による封止されているのが好ましく、酢酸封止により両末端がアセチルエステル残基となっている重縮合エステルの誘導体が特に好ましい。

前記重縮合エステル及びその誘導体は、数平均分子量は７００〜２０００程度のオリゴマーであることが好ましく、８００〜１５００程度がより好ましく、９００〜１２００程度がさらに好ましい。なお、重縮合エステルの数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定、評価することができる。

以下の表１に、重縮合エステル系可塑剤の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。

前記重縮合エステルは、常法により、ジカルボン酸成分とジオール成分とのポリエステル化反応もしくはエステル交換反応による熱溶融縮合法、又はジカルボン酸成分の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。また、本発明に係る重縮合エステルについては、村井孝一編者「可塑剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号の各公報などに記載されている素材を利用することもできる。

前記重縮合エステル系可塑剤の添加量は、主成分であるセルロースアシレートの量に対し０．１〜７０質量％であることが好ましく、１〜６５質量％であることがさらに好ましく、３〜６０質量％であることがよりさらに好ましい。

なお、重縮合エステル系可塑剤が含有する原料及び副生成物、具体的には、脂肪族ジオール、ジカルボン酸エステル、及びジオールエステル等、のフィルム中の含有量は、１％未満が好ましく、０．５％未満がより好ましい。ジカルボン酸エステルとしては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ（ヒドロキシエチル）、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジ（ヒドロキシエチル）、アジピン酸ジ（ヒドロキシエチル）、コハク酸ジ（ヒドロキシエチル）等が挙げられる。ジオールエステルとしては、エチレンジアセテート、プロピレンジアセテート等が挙げられる。

本発明の高分子フィルムに用いられる可塑剤としては、メチルメタクリレート（ＭＡ）オリゴマー系可塑剤も好ましい。ＭＡオリゴマー系可塑剤と前記糖類系可塑剤との併用も好ましい。併用の態様では、ＭＡオリゴマー系可塑剤と糖類型可塑剤とを質量比で１：２〜１：５の割合で使用するのが好ましく、１：３〜１：４の割合で使用するのがより好ましい。ＭＡオリゴマー系可塑剤の一例は、下記繰り返し単位を含むオリゴマーである。

重量平均分子量は、５００〜２０００程度が好ましく、７００〜１５００程度がより好ましく、８００〜１２００程度であるのがさらに好ましい。

また、ＭＡオリゴマー系可塑剤は、ＭＡ単独のオリゴマーの他、ＭＡから誘導体される上記繰り返し単位とともに、他のモノマーから誘導される繰り返し単位の少なくとも１種を有するオリゴマーであってもよい。前記他のモノマーの例には、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−メトキシエチル）、アクリル酸（２−エトキシエチル）等、ならびに上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルにかえたモノマーが含まれる。また、スチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレンなどの芳香環を有するモノマーを利用することもできる。前記他のモノマーとしては、芳香環を持たない、アクリル酸エステルモノマー及びメタクリル酸エステルモノマーが好ましい。
また、ＭＡオリゴマー系可塑剤が、２種以上の繰り返し単位を有するオリゴマーである場合は、Ｘ（親水基を有するモノマー成分）及びＹ（親水基を持たないモノマー成分）からなり、Ｘ：Ｙ（モル比）が１：１〜１：９９のオリゴマーが好ましい。

これらのＭＡ系オリゴマーは、特開２００３−１２８５９号公報に記載されている方法を参考にして合成することができる。

（高分子可塑剤）
本発明の高分子フィルムは、前述した糖類系可塑剤、重縮合エステル系可塑剤、及びＭＭＡオリゴマー系可塑剤とともに、又はそれに代えて、他の高分子系可塑剤を含有していてもよい。他の高分子系可塑剤としては、ポリエステルポリウレタン系可塑剤、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア、フェノール−ホルムアルデヒド縮合物、尿素−ホルムアルデヒド縮合物、酢酸ビニル、等が挙げられる。

（少なくとも２つの芳香環を有する化合物）
本発明の高分子フィルムは、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、少なくとも２つの芳香環を有する化合物を含有していてもよい。当該化合物は、高分子フィルムの光学特性を調整する作用がある。例えば、本発明の高分子フィルムを光学補償フィルムとして用いる場合、光学特性、特にＲｅを好ましい値に制御するには、延伸が有効である。Ｒｅの上昇はフィルム面内の屈折率異方性を大きくすることが必要であり、一つの方法が延伸による主鎖配向の向上である。また、屈折率異方性の大きな化合物を添加剤として用いることで、さらにフィルムの屈折率異方性を上昇することが可能である。例えば上記の２つ以上の芳香環を有する化合物は、延伸によりポリマー主鎖が並び、それに伴い該化合物の配向性も向上し、所望の光学特性に制御することが容易となる。

少なくとも２つの芳香族環を有する化合物としては、例えば特開２００３−３４４６５５号公報に記載のトリアジン化合物、特開２００２−３６３３４３号公報に記載の棒状化合物、特開２００５−１３４８８４及び特開２００７−１１９７３７号公報に記載の液晶性化合物等が挙げられる。より好ましくは、上記トリアジン化合物又は棒状化合物である。少なくとも２つの芳香族環を有する化合物は２種以上を併用して用いることもできる。なお、少なくとも２つの芳香環を有する化合物の分子量は、３００〜１２００程度であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。

少なくとも２つの芳香族環を有する化合物の添加量は、セルロースアシレート樹脂に対して質量比で０．０５％〜１０％が好ましく、０．５％〜８％がより好ましく、１％〜５％がさらに好ましい。また、前記２つの芳香族環を有する化合物は、本発明に用いられる前記一般式（１）又は（２）で表される化合物を兼ねていてもよい。一方、前記２つの芳香族環を有する化合物が、１，３，５−トリアジン環構造を有するものの前記一般式（１）又は（２）を満たさない場合は、湿度依存性改良の観点から、該２つの芳香族環を有する化合物の添加量は、セルロースアシレート樹脂に対して質量比で０．０５％〜１０％が好ましく、０．５％〜８％がより好ましく、１％〜５％が特に好ましい。

（光学異方性調整剤）
また、本発明の高分子フィルムは、光学異方性調整剤を含有していてもよい。例えば、特開２００６−３０９３７号公報の２３〜７２頁に記載の「Ｒｔｈを低減させる化合物」が例に挙げられる。

（マット剤微粒子）
前記高分子フィルムには、マット剤を添加してもよい。マット剤として使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

２次平均粒子径の小さな粒子を有する高分子フィルムの製造方法には、微粒子の分散液を用いることができる。例えば、セルロースアシレートフィルムを例に挙げると、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ調製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集し難い点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースアシレートを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。いずれの方法を利用してもよいし、またこれらの方法に限定されるものでもない。
上記調製方法に使用される溶剤は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースアシレートの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

（低分子可塑剤、劣化防止剤、剥離剤）
前記高分子フィルムには、各調製工程において用途に応じた、上述した以外の種々の添加剤（例えば、低分子可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期は、ドープ調製工程においていずれのタイミングで添加してもよいが、ドープ調製工程の最後のタイミングで添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、高分子フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

（１−５） 高分子フィルムの製造方法
本発明の高分子フィルムは、溶液製膜法（ソルベントキャスト法）によって製膜されたフィルムであるのが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒に溶解して調製されたドープを、金属等からなる支持体の表面にキャストして、乾燥して製膜する。その後、膜を支持体面から剥ぎ取り、延伸処理することで製造される。
ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号及び同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号及び同７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号及び同６２−１１５０３５号等の記載を参考にすることができる。また、前記セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法及び条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等に記載の例を参考にすることができる。

（１−６） 高分子フィルムの諸特性
（Ｒｅ及びＲｔｈ）
本発明の高分子フィルムの光学特性の好ましい範囲は、用途に応じて変動するであろう。ＶＡモード液晶表示装置に利用される態様では、Ｒｅ（５８９）が３０ｎｍ〜２００ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が７０ｎｍ〜４００ｎｍであるのが好ましく；Ｒｅ（５８９）が３０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が１００ｎｍ〜３００ｎｍであるのがより好ましい。さらには、Ｒｅ（５８９）が４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、及びＲｔｈ（５８９）が１００ｎｍ〜２５０ｎｍであることがさらに好ましい。
なお、特に断らない限り、フィルムのＲｅ及びＲｔｈは、フィルムを温度２５℃・相対湿度６０％の環境下に十分な時間（２時間以上であって、例えば１２時間、２４時間）放置した後に、当該温度及び相対湿度で測定される値をいうものとする。

（Ｒｅの湿度依存性及びＲｔｈの湿度依存性）
本発明の高分子フィルムは、湿度に依存したＲｅ及び／又はＲｔｈの変動が小さいという特徴がある。具体的には、フィルムを２５℃・相対湿度１０％にて２時間調湿したときのＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ［25℃、RH10%］、Ｒｔｈ［25℃、RH10%］とも言う）と、２５℃・相対湿度８０％にて２時間調湿したときのＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ［25℃、RH80%］、Ｒｔｈ［25℃、RH80%］とも言う）の変動が小さい。本発明のフィルムは、光学特性の湿度依存性が軽減されているので、湿度が変化する環境下においてもＲｅ及びＲｔｈの変動が抑制され、前記好ましい範囲のレターデーションを発揮することができる。

本発明の高分子フィルムは、Ｒｅの湿度依存性（ΔＲｅ＝｜Ｒｅ［25℃、RH10%］−Ｒｅ［25℃、RH80%］｜）が、１０ｎｍ以下であることが好ましく、９ｎｍ以下であることがさらに好ましく、８ｎｍ以下であることが特に好ましい。
本発明の高分子フィルムはＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ［25℃、RH10%］−Ｒｔｈ［25℃、RH80%］｜）が、２１ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがよりさらに好ましく、１９ｎｍ以下であることが特に好ましい。

（膜厚）
本発明の高分子フィルムを液晶表示装置の部材等、薄型化が望まれる装置の部材として利用する態様では、膜厚は薄いほうが好ましいが、一方、膜厚が薄すぎるとその用途に要求される光学特性を達成できない。液晶表示装置の光学補償フィルムや偏光板保護フィルムとして利用する態様では、膜厚は２０〜８０μｍ程度であるのが好ましい。より好ましくは、２５〜７０μｍ程度であり、さらに好ましくは３０〜６０μｍ程度である。

３． 高分子フィルムの用途
本発明の高分子フィルムは、種々の用途に用いることができる。例えば、液晶表示装置の位相差フィルム（以下、光学補償フィルムとも言う）、偏光板の保護フィルム等に利用することができる。
（位相差フィルム）
本発明の高分子フィルムは、位相差フィルムとして用いることができる。なお、「位相差フィルム、又は光学補償フィルム」とは、一般に液晶表示装置等の表示装置に用いられ、光学異方性を有する光学材料のことを意味し、光学補償シートなどと同義である。液晶表示装置において、光学補償フィルムは表示画面のコントラストを向上させたり、視野角特性や色味を改善したりする目的で用いられる。

また、所望のＲｅ及びＲｔｈに調整するために、本発明の高分子フィルムを複数枚積層して、又は本発明の高分子フィルムと他のフィルムとを積層して用いることもできる。フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いて実施することができる。

（偏光板）
本発明の高分子フィルムは、偏光板（本発明の偏光板）の保護フィルムとして用いることができる。本発明の偏光板の一例は、偏光膜とその両面を保護する二枚の偏光板保護フィルム（透明フィルム）を有し、本発明の高分子フィルムを少なくとも一方の偏光板保護フィルムとして有する。本発明の高分子フィルムが支持体として利用され、その表面に液晶組成物からなる光学異方性層を有する態様について、偏光板の保護フィルムとして利用する場合は、支持体である本発明の高分子フィルムの裏面（光学異方性層が形成されていない側の面）を偏光膜の表面に貼り合せるのが好ましい。
本発明の高分子フィルムを前記偏光板保護フィルムとして用いる場合、本発明の高分子フィルムには前記表面処理（特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報にも記載）を施して親水化しておくことが好ましく、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などを施すことが好ましい。特に、本発明の高分子フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合には、前記表面処理としてはアルカリ鹸化処理が最も好ましく用いられる。

また、前記偏光膜としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸したもの等を用いることができる。ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬して延伸した偏光膜を用いる場合、接着剤を用いて偏光膜の両面に本発明の高分子フィルムの表面処理面を直接貼り合わせることができる。本発明の製造方法においては、このように前記高分子フィルムが偏光膜と直接貼合されていることが好ましい。前記接着剤としては、ポリビニルアルコール又はポリビニルアセタール（例えば、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例えば、ポリブチルアクリレート）のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全鹸化ポリビニルアルコールの水溶液である。

一般に液晶表示装置は二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられるため、４枚の偏光板保護フィルムを有する。本発明の高分子フィルムは、４枚の偏光板保護フィルムのいずれに用いてもよいが、本発明の高分子フィルムは、液晶表示装置における偏光膜と液晶層（液晶セル）の間に配置される保護フィルムとして、特に有用である。また、前記偏光膜を挟んで本発明の高分子フィルムの反対側に配置される保護フィルムには、透明ハードコート層、防眩層、反射防止層などを設けることができ、特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムとして好ましく用いられる。

（液晶表示装置）
本発明の高分子フィルム、ならびそれを利用した光学補償フィルム及び偏光板は、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。以下にこれらのフィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。これらのモードのうち、本発明の高分子フィルム、並びにそれを利用した光学補償フィルム及び偏光板は、特にＶＡモードの液晶表示装置に好ましく用いられる。これらの液晶表示装置は、透過型、反射型及び半透過型のいずれでもよい。

図１に、本発明の液晶表示装置の一例の断面模式図を示す。なお、図１中、上を観察者（表示面）側、下をバックライト側とする。
図１のＶＡモード液晶表示装置は、液晶セルＬＣ（上側基板１、下側基板３、及び液晶層５、からなる）と、液晶セルＬＣを挟持して配置される一対の上側偏光板Ｐ１及び下側偏光板Ｐ２とを有する。なお、偏光膜は、双方の表面に保護フィルムを有する偏光板として液晶表示装置に組み込まれるのが一般的であるが、図１では、偏光膜の外側保護フィルムは省略した。偏光板Ｐ１及びＰ２は、それぞれ偏光膜８ａ及び８ｂを有し、その吸収軸９ａ及び９ｂを互いに直交方向にして配置されている。液晶セルＬＣはＶＡモードの液晶セルであり、黒表示時には、図１に示す通り、液晶層５はホメオトロピック配向になる。上側基板１と下側基板３は、それぞれ内面に、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有し、さらに観察者側の基板１の内面には、カラーフィルタ層（図示せず）を有する。

上側基板１と上側偏光膜８ａとの間、及び下側基板３と下側偏光膜８ｂとの間には、位相差膜１０ａ及び１０ｂがそれぞれ配置されている。位相差膜１０ａ及び１０ｂは、本発明の高分子フィルムである。位相差膜１０ａ及び１０ｂは、その面内遅相軸１１ａ及び１１ｂを、上側偏光膜８ａ及び下側偏光膜８ｂのそれぞれの吸収軸９ａ及び９ｂと直交にして配置される。即ち、位相差膜１０ａ及び１０ｂは、それぞれの遅相軸を直交にして配置される。本発明の高分子フィルムからなる位相差膜１０ａ及び１０ｂは、黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及びカラーシフトの軽減に寄与する。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明の高分子フィルムは、所望により、ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへ適用してもよい。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明の高分子フィルムの片面又は両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか或いは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明の高分子フィルムにおいても好ましく用いることができる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

実施例１．一般式（１）で表される化合物の合成例
［合成例１−１：化合物（１−２）の合成−１］
２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンは、Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．１９８４年、３７巻、１１９５−１２０１ページに記載の方法に準じて合成した。
メタノール５０ｍＬ、ナトリウムメトキシド／２８％メタノール溶液５１ｍＬ中にグアニジン塩酸塩２３．８ｇを加え、室温で３０分攪拌した。その後、析出する塩をろ別し、減圧濃縮し、グアニジンフリー体溶液を得た。これに、３-アミノクロトノニトリル１６．４ｇ、１−ブタノール６０ｍＬを加え、反応溶液を素気流下、１０時間１１０℃で加熱攪拌した。反応終了後、析出する塩を熱時ろ過にてろ別したのちに、アセトン１００ｍＬを添加し、さらに氷冷下で３０分攪拌したのちに、粗生成物をろ取した。得られた粗生成物をアセトンで再結晶し、２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン１０．５ｇを得た。
２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン１０ｇ（８１ｍｍｏｌ）のＮ−エチルピロリドン１００ｍＬ溶液に、安息香酸メチル２３ｇ（１６９ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド２２ｇ（４０７ｍｍｏｌ）とを加え、４０℃で２時間加熱攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を１Ｎ塩酸水溶液に注ぎ固体を濾取した。得られた粗生成物を２−プロパノールで再結晶し、化合物（１−２）を得た。
得られた化合物（１−２）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．５０（３Ｈ，ｓ）
７．４５−７．７０（６Ｈ，ｍ）
７．９０（１Ｈ，ｓ）
７．９５−８．０５（４Ｈ，ｍ）
１０．８８（１Ｈ，ｓ）
１１．１０（１Ｈ，ｓ）

［合成例１−２：化合物（１−２）の合成−２］
２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン２ｇ（１６ｍｍｏｌ）と安息香酸フェニルとをキシレン中で混合し、６時間加熱還流した。ＨＰＬＣより、化合物（１−２）が６０％生成していることを確認した。

［合成例２：化合物（１−８）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシピリミジンに変更した以外は合成例１−１と同様に合成を行った。反応溶液を酢酸水溶液に注ぎ、ｐＨ６に調整して析出した固体を濾取し、アセトニトリル、メタノールで加熱洗浄することで、化合物（１−８）を得た。
得られた化合物（１−８）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
６．８８（１Ｈ，ｓ）
７．４８−７．６８（４Ｈ，ｍ）
７．９２（２Ｈ，ｄ）
８．０１（２Ｈ，ｄ）
１０．３６（１Ｈ，ｓ）
１１．６４（１Ｈ，ｓ）
１２．１１（１Ｈ，ｓ）

［合成例３−１：化合物（１−９）の合成−１］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから６−メトキシ−２，４−ジアミノピリミジンに変更し、下記のように合成を行った以外は合成例１−１と同様に合成した。
２，４−ジアミノ−６−メトキシピリミジンは、Ｊ．Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ． １９９８年、６巻、１０５７−１０６７ページに記載の方法に準じて合成し、単離せず、次工程を実施した。
メタノール２０ｍＬ、トルエン８０ｍＬ中に窒素気流下、２，４−ジアミノ−６−クロロピリミジン２１．９ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を加え、室温にてナトリウムメトキシド／２８％メタノール溶液１５３ｍＬを滴下した。その後、８０度の水浴下で、Ｄｅａｎ−ｓｔａｒｋで溶媒を留去しながら加熱還流した。途中トルエン６０ｍＬを追添して、加熱還流を続けた。この反応液を５０℃まで冷却後に、Ｎ−エチルピロリドン６０ｍＬ、安息香酸メチル５３ｇ（４８５ｍｏｌ）混合溶液を添加し、４５℃で３時間加熱攪拌を続けた。反応系の温度を室温に戻し、トルエン２００ｍＬ、水２００ｍＬ，酢酸４３ｍＬの混合液中に添加した。有機層を分取し、加温した状態で、１Ｎ酢酸水溶液１５０ｍＬで二回、分液処理をしたのちに、水２００ｍＬを添加し、室温まで冷却させることで、生成物を析出させた。得られた粗生成物をろ取し、さらに、アセトニトリルで再結晶し、化合物（１−９）３０ｇ(収率５７％)を得た。
得られた化合物（１−９）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
３．９０（３Ｈ，ｓ）
７．３９（１Ｈ，ｓ）
７．４５−７．７０（６Ｈ，ｍ）
７．９０−８．０５（４Ｈ，ｍ）
１０．７８（１Ｈ，ｓ）
１１．００（１Ｈ，ｓ）

［合成例３−２：化合物（１−９）の合成−２］
ｔ−ブタノール ６０ｍＬ、Ｎ−エチルピロリドン３０ｍＬ中に窒素気流下、２，４−ジアミノ−６−クロロピリミジン１７．３４ｇ（１２０ｍｍｏｌ）、及びナトリウムメトキシド３８．９ｇを順に添加した。その後、８０℃にて２時間加熱攪拌した後、６０℃まで温度を下げ、安息香酸メチル３８．９ｇ（２８８ｍｏｌ）を滴下し、６０℃で２時間加熱攪拌を続けた。この反応液を、氷冷した水１３０ｍＬ、濃塩酸５１ｍＬの混合液中に添加した後に、５０℃に加熱して固体を完溶させた。有機層を分取し、そこにメタノール １００ｍＬ、及び水 １００ｍＬを添加し、氷冷下１時間攪拌した。析出した生成物をろ取し、結晶は、メタノール/水混合溶媒、水で順次かけ洗いした。５０℃１３時間送風乾燥することで化合物（１−９）３８ｇ(収率８５％)を得た。

［合成例３−３：化合物（１−９）の合成−３］
合成例３−１で得られた結晶５ｇを、アセトニトリル/水（３０ｍＬ/２０ｍL）に分散し、室温にて２時間攪拌した。析出している固体をろ取したところ、含水率の異なる化合物（１−９）が得られた。

［合成例３−４：化合物（１−９）の合成−４］
合成例３−２で得られた結晶を１５０℃３時間、溶融させた状態で減圧乾燥し、急冷することで化合物（１−９）のアモルファスを得た。得られた化合物の乾燥直後の含水率は０．５％未満であった。

［合成例３−５：化合物（１−９）の合成−５］
合成例３−１で得られた結晶３．５ｇを、酢酸エチル（２０ｍＬ）に溶解し、濃塩酸１ｍＬを添加し、室温にて１時間攪拌した。析出した塩酸塩をろ取した。
得られた化合物（１−９）塩酸塩のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
３．９６（３Ｈ，ｓ）
６．８（１Ｈ，ｂｒ）
７．３９（１Ｈ，ｓ）
７．５０−７．６８（６Ｈ，ｍ）
７．９９（２Ｈ，ｍ）
８．０８（２Ｈ，ｍ）
１１．４（１Ｈ，ｂｒ）
１１．６（１Ｈ，ｂｒ）

［合成例３−６：化合物（１−９）の合成−６］
合成例３−１で得られた結晶を、種々の溶媒にて再結晶を行い、下記表に示す通り、含水率及び含有溶媒の異なる結晶を種々得た。

［合成例４：化合物（２−１）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノピリミジンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した以外は、合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（２−１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３８（６Ｈ，ｓ）
７．３５−７．５０（４Ｈ，ｍ）
７．７４−７．９０（４Ｈ，ｍ）
７．９８（１Ｈ，ｓ）
８．６７（１Ｈ，ｓ）
１０．８４（１Ｈ，ｓ）
１１．１０（１Ｈ，ｓ）

［合成例５：化合物（２−２）の合成］
合成例１−１において、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更し、下記のように合成を行った以外は合成例１−１と同様に合成した。
２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン２０ｇ（１６１ｍｍｏｌ）のＮ−エチルピロリドン１４０ｍＬ溶液に、m-メチル安息香酸メチル７２．５ｇ（４８５ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド３５ｇ（６５０ｍｍｏｌ）とを加え、４０℃で３時間加熱攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を氷冷下で、水１９０ｍＬ、濃塩酸７２．５ｍＬ、酢酸エチル５０ｍＬの混合溶液に注ぎ、固体(化合物（２−２）塩酸塩)を濾取した。塩酸塩を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１６０ｍＬ，酢酸エチル１５０ｍＬに添加し、加熱攪拌して、溶解したのちに、室温まで冷却して生成物を析出させた。得られた粗生成物をろ取し、さらに、アセトニトリルで再結晶し、化合物（２−２）４７ｇ(収率８１％)を得た。
得られた化合物（２−２）ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３８（６Ｈ，ｓ）
２．５０（３Ｈ，ｓ）
７．３６−７．４７（４Ｈ，ｍ）
７．７０−７．９０（５Ｈ，ｍ）
１０．７７（１Ｈ，ｓ）
１０．９９（１Ｈ，ｓ）

［合成例５−２：化合物（２−２）の合成−２］
２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン２．４ｇ（２０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン ６．９７ｍＬ、及びＴＨＦ ２０ｍＬを混合し、ｍ−メチル安息香酸クロリド７．７ｇ（５０ｍｍｏｌ）を室温にて滴下した。その後、６時間４０℃で加熱攪拌した。放冷後、生成物を酢酸エチルで抽出、酢酸エチル／ヘキサンで再結晶し、化合物（２−２）を２．１ｇ得た。

［合成例６：化合物（２−４）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−メチルアミノピリミジンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（２−４）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３５（６Ｈ，ｓ）
２．８１（３Ｈ，ｓ）
７．１５（１Ｈ，ｓ）
７．３０−７．４３（５Ｈ，ｍ）
７．６５−７．８５（４Ｈ，ｍ）
１０．２２（１Ｈ，ｓ）
１０．３８（１Ｈ，ｓ）

［合成例７：化合物（２−８）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシピリミジンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（２−８）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．４１（６Ｈ，ｓ）
６．８９（１Ｈ，ｓ）
７．３６−７．５３（４Ｈ，ｍ）
７．７０−７．８８（４Ｈ，ｍ）
１０．２３（１Ｈ，ｓ）
１１．５４（１Ｈ，ｓ）
１１．９９（１Ｈ，ｓ）

［合成例８：化合物（２−９）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−メトキシピリミジンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。粗体は、酢酸エチル/n-ヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、酢酸エチル/ n-ヘキサンより再結晶して、化合物（２−９）を得た。
得られた化合物（２−９）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．４０（６Ｈ，ｓ）
３．９２（３Ｈ，ｓ）
７．３５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
７．７３−７．８７（４Ｈ，ｍ）
１０．６７（１Ｈ，ｓ）
１０．８８（１Ｈ，ｓ）

［合成例８−２：化合物（２−９）の合成−２］
２，４−ジアミノ−６−メトキシピリミジン ２．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）に、ｍ−メチル安息香酸クロリド ４．５６ｇ（５０ｍｍｏｌ）、及び炭酸水素ナトリウム ４．２ｇをアセトニトリルを混合し、６時間加熱還流した。放冷後、析出している固体をろ取し、水に分散、洗浄して、再度ろ取、水、及びアセトニトリルでかけ洗いすることで化合物（２−９）を２．１ｇ得た。

［合成例９：化合物（５−１）、（５−２）、（５−７）及び（５−８）の合成］
合成例１−１において、出発原料を安息香酸メチルからｐ−メチル安息香酸メチル、０−メチル安息香酸メチル、ｍ−メトキシ安息香酸メチル、ｐ−メトキシ安息香酸メチルにそれぞれ変更し、ナトリウムメトキシドを用いて同様に反応し、化合物（５−１）（５−２）（５−７）（５−８）をそれぞれ得た。精製は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーと再結晶により行った。

［合成例１０：化合物（６−１３）の合成］
２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジンを出発原料として、２−アミノ−４−クロロ−６−メトキシピリミジンを経て、２−アミノ−４−アニリノ−６−メトキシピリミジンを合成した。２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジン ３２．８ｇ、アセトン ７００ｍＬを混合し、水冷下、ナトリウムメトキシド／２８％メタノール溶液 ４３ｍＬを内温２０℃以下で滴下した。その後、内温４０℃で４時間反応させた後に、減圧下で溶媒を濃縮し、水５００ｍＬを添加して、析出している固体をろ取した。精製は行わず、次工程に進んだ。得られた２−アミノ−４−クロロー６−メトキシピリミジンの粗体、アニリン（２６．７ｍＬ）、メトキシエタノール １５０ｍＬ、塩酸 ０．２ｍＬを混合し、１２０℃３時間過熱攪拌した。放冷後、氷冷下、重曹水５００ｍＬ／酢酸エチルに添加し、生成物を酢酸エチルで抽出した。濃縮後、カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）で精製し、２−アミノ−４−アニリノ−６−メトキシピリミジンを１４ｇ得た。
２−アミノ−４−アニリノ−６−メトキシピリミジンを、ｍ−メチル安息香酸メチル、ナトリウムメトキシドを用い、合成例１−１と同様に合成を行った。粗体は、塩化メチレン/メタノールを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、塩化メチレン/n-ヘキサンより再結晶して、化合物（６−１３）を得た。
得られた化合物（６−１３）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３９（３Ｈ，ｓ）
３．８５（３Ｈ，ｓ）
５．８７（１Ｈ，ｓ）
６．９５（１Ｈ，ｓ）
７．２３−７．３０（２Ｈ，ｍ）
７．３８−７．４１（２Ｈ，ｍ）
７．７２−７．８５（４Ｈ，ｍ）
９．４０（１Ｈ，ｓ）
９．４６（１Ｈ，ｓ）

［合成例１１：化合物（６−１４）の合成］
２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジンを出発原料として、２−アミノ−４−クロロ−６−メチルアミノピリミジンを経て、２−アミノ−４−アニリノ−６−メチルアミノピリミジンを合成した。２−アミノ−４，６−ジクロロピリミジン ３２．８ｇ、メチルアミン ４０％水溶液３４．５ｍＬ、エタノール ３００ｍＬを混合し、内温７０℃で４時間過熱攪拌した。その後、減圧下で溶媒を濃縮し、アセトニトリルで晶析し、生成物をろ取した。精製は行わず、次工程に進んだ。得られた２−アミノ−４−クロロ−６−メチルアミノピリミジンの粗体、アニリン（２７．４ｍＬ）、メトキシエタノール １００ｍＬ、塩酸０．２ｍＬを混合し、１２０℃３時間過熱攪拌した。放冷後、氷冷下、重曹水５００ｍＬ／酢酸エチルに添加し、生成物を酢酸エチルで抽出した。濃縮後、カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール）で精製し、２−アミノ−４−アニリノ−６−メチルアミノピリミジンを１８ｇ得た。２−アミノ−４−アニリノ−６−メチルアミノピリミジン、ｍ−メチル安息香酸メチル、ナトリウムメトキシドを用い、合成例１−１と同様に合成を行った。粗体は、酢酸エチル/n-ヘキサンを用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、酢酸エチル/ n-ヘキサンより再結晶して、化合物（６−１４）を得た。
得られた化合物（６−１４）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３７（３Ｈ，ｓ）
２．７５（３Ｈ，ｄ）
５．５１（１Ｈ，ｓ）
６．８７−６．９１（１Ｈ，ｍ）
７．１５−７．２４（２Ｈ，ｍ）
７．３４−７．３８（２Ｈ，ｍ）
７．６５−７．７４（４Ｈ，ｍ）
８．９５（１Ｈ，ｓ）
１０．０２（１Ｈ，ｓ）

［合成例１２：化合物（６−１５）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシピリミジンに、安息香酸メチルからｐ−ターシャリーブチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（６−１５）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
１．３４（１８Ｈ，ｓ）
７．８７（１Ｈ，ｓ）
７．５１−７．６３（４Ｈ，ｍ）
７．８５−７．９５（４Ｈ，ｍ）
１０．２１（１Ｈ，ｓ）
１１．５７（１Ｈ，ｓ）
１２．０７（１Ｈ，ｓ）

［合成例１３：化合物（６−１６）の合成］
合成例５において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−クロロピリミジンに、m-メチル安息香酸メチルを安息香酸メチルに変更した他は合成例５と同様に合成を行った。炭酸水素ナトリウム水溶液／酢酸エチルから析出した生成物をろ取し、これ以上の精製は行わなかった。
得られた化合物（６−１６）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
１．３４（１８Ｈ，ｓ）
７．８７（１Ｈ，ｓ）
７．５１−７．６３（４Ｈ，ｍ）
７．８５−７．９５（４Ｈ，ｍ）
１０．２１（１Ｈ，ｓ）
１１．５７（１Ｈ，ｓ）
１２．０７（１Ｈ，ｓ）

［合成例１４：化合物（７−１）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，６−ジアミノピリジンに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（７−１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
７．４５−７．６６（６Ｈ，ｍ）
７．８７−７．９４（３Ｈ，ｍ）
７．９５−８．１０（４Ｈ，ｍ）
１０．５１（２Ｈ，ｓ）

［合成例１５：化合物（７−２）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，６−ジアミノピリジンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（７−２）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．４０（６Ｈ，ｓ）
７．３７−７．４５（４Ｈ，ｍ）
７．７５−７．８８（７Ｈ，ｍ）
１０．４０（２Ｈ，ｓ）

［合成例１６：化合物（８−１）の合成］
Ｎ−（２，５−ジメトキシフェニル）−３−オキソブタンアミド ５０ｇ（２１１ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン１５０ｍＬ溶液に、ジシアンジアミド１８ｇ（２１４ｍｍｏｌ）、酢酸ニッケル（II）５２ｇ（２０９ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃で５時間加熱攪拌した。反応溶液を室温に戻した後、飽和重曹水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。得られた粗生成物を２−プロパノールでたき洗いし、化合物（８−１）を得た。
得られた化合物（８−１）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．２８（３Ｈ，ｓ）
２．７１（３Ｈ，ｓ）
２．７７（３Ｈ，ｓ）
６．２２（２Ｈ，ｓ）
６．４０（２Ｈ，ｓ）
６．６７（１Ｈ，ｄ）
６．９７（１Ｈ，ｄ）
７．５９（１Ｈ，ｓ）
９．０１（１Ｈ，ｓ）

［合成例１７：化合物（８−２）の合成］
２−アミノピリミジン１０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）のＮ−エチルピロリドン１００ｍＬ溶液にｍ−メチル安息香酸メチル１７ｇ（１１３ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド １１ｇ（２０４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２時間加熱攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を１Ｎ塩酸水溶液に注ぎ固体を濾取した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液はメタノール：ジクロロメタン＝１：１０）で精製し、化合物（８−２）を得た。
得られた化合物（８−２）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．４０（３Ｈ，ｓ）
７．２５（１Ｈ，ｔ）
７．３５−７．４４（２Ｈ，ｍ）
７．７２−７．８４（２Ｈ，ｍ）
８．７４（２Ｈ，ｄ）
１０．９１（１Ｈ，ｓ）

［合成例１８：化合物（８−３）の合成］
合成例１７において、出発原料を２−アミノピリミジンから２−アミノ−４，６−ジメチルピリミジンに変更した他は合成例１７と同様に合成を行った。
得られた化合物（８−３）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３５−２．４５（９Ｈ，ｍ）
７．００（１Ｈ，ｓ）
７．３５−７．４０（２Ｈ，ｍ）
７．７３−７．８３（２Ｈ，ｍ）
１０．７２（１Ｈ，ｓ）

［合成例１９：化合物（８−４）の合成］
合成例１７において、出発原料を２−アミノピリミジンから２−アミノ−４，６−ジメトキシピリミジンに変更した他は合成例１７と同様に合成を行った。
得られた化合物（８−４）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．３８（３Ｈ，ｓ）
３．８８（６Ｈ，ｓ）
５．９８（１Ｈ，ｓ）
７．３５−７．４２（２Ｈ，ｍ）
７．６７−７．７８（２Ｈ，ｍ）
１０．６９（１Ｈ，ｓ）

［合成例２０：化合物（８−５）の合成］
２−アミノ−４，６−ジメチルピリミジン １０ｇ（８１ｍｍｏｌ）のＮ−エチルピロリドン ７５ｍＬ溶液にイソフタル酸ジメチル ７．２ｇ（３７ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド １０ｇ（１８５ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で２時間加熱攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を１Ｎ塩酸水溶液に注ぎ固体を濾取した。得られた粗生成物をアセトニトリルで再結晶し、化合物（８−５）を得た。
得られた化合物（８−５）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．４２（１２Ｈ，ｓ）
７．０４（２Ｈ，ｓ）
７．６５（１Ｈ，ｔ）
８．１１（２Ｈ，ｄ）
８．５２（１Ｈ，ｓ）
１０．８０（２Ｈ，ｓ）

［合成例２１：化合物（８−６）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−５，６，７，８−テトラヒドロキナゾリンに、安息香酸メチルからｍ−メチル安息香酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。
得られた化合物（８−６）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
１．６５−１．７５（２Ｈ，ｍ）
１．７５−１．９０（２Ｈ，ｍ）
２．４０（６Ｈ，ｓ）
２．４７−２．５６（２Ｈ，ｍ）
２．８０−２．８７（２Ｈ，ｍ）
７．３５−７．４９（４Ｈ，ｍ）
７．７１−７．８８（４Ｈ，ｍ）
１０．７２（１Ｈ，ｓ）
１０．７８（１Ｈ，ｓ）

［合成例２２−１：化合物（１−２）、化合物（２−２）、化合物（１０−１）及び化合物（１０−２）を含む混合物Ａの合成−１］
合成例５において、出発原料のｍ−メチル安息香酸メチルを、安息香酸メチルとｍ−メチル安息香酸メチルとの混合物に変更して合成を行った。２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン １５ｇ（１２１ｍｍｏｌ）のＮ−エチルピロリドン １０５ｍＬ溶液に、ｍ−メチル安息香酸メチル ２１．７ｇ（１４５ｍｍｏｌ）、安息香酸メチル １９．７ｇ（１４５ｍｍｏｌ）とナトリウムメトキシド ２６．１ｇ（４８３ｍｍｏｌ）とを加え、４０℃で３時間加熱攪拌した。反応系の温度を室温に戻し、反応溶液を氷冷下で、水１９０ｍＬ、濃塩酸６３ｍＬ、酢酸エチル４０ｍＬの混合溶液に注ぎ、固体を濾取した。塩酸塩を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１２０ｍＬ、酢酸エチル３００ｍＬに添加し、加熱攪拌して、溶解したのちに、室温まで冷却して生成物を析出させた。得られた生成物をろ取し、８０℃８時間減圧乾燥して、化合物（１−２）、化合物（２−２）、化合物（１０−１）及び化合物（１０−２）の混合物を得た（収量２８ｇ、収率６７％、含水率３．０％）。

［合成例２２−２：化合物（１−２）、化合物（２−２）、化合物（１０−１）及び化合物（１０−２）を含む混合物Ａの合成−２］
合成例２２−１で得られた結晶を１７０℃３時間減圧乾燥することで混合物Ａのアモルファスを得た。得られた混合物の乾燥直後の含水率は、０．５％未満であった。

［合成例２３：化合物（１−２）、化合物（２−２）、化合物（１０−１）及び化合物（１０−２）を含む混合物Ｂの合成］
合成例１−１において、出発原料の安息香酸メチル２３ｇを、安息香酸メチル９．３ｇとｍ−メチル安息香酸メチル１５．２ｇとの混合物に変更した他は、合成例１−１と同様に合成を行い、化合物（１−２）、化合物（２−２）、化合物（１０−１）及び化合物（１０−２）の混合物を得た。合成例２２−１に対して化合物（１−２）の含率が減少し、化合物（２−２）の含率が増加した。

［合成例２４：混合物Ｃの合成］
ｔ−ブタノール ５１ｍＬ、及びメタノール ９ｍＬ中に窒素気流下、２，４−ジアミノ−６−クロロピリミジン ５．８ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド ２２．７ｇを順に添加した。その後、８０℃にて０．５時間加熱攪拌した後、７０℃まで温度を下げ、安息香酸メチル １９．６ｇ（９６ｍｏｌ）を滴下し、７０℃で６時間加熱攪拌を続けた。この反応液を、４０℃まで放冷した後に、１−メトキシ−２−プロパノールを４５ｍＬ添加した。この溶液を、氷冷した水６８ｍＬ、及び酢酸２５．２２ｇの混合液中に添加した後に、さらに水 ２００ｍＬを添加し、氷冷下１時間攪拌することで生成物を析出させた。析出した生成物をろ取し、水でかけ洗いした。生成物を８．３ｇ(収率６０％)得た。ＨＰＬＣを測定した結果、化合物（Ｍ−５ａ）/化合物（Ｍ−６ａ）/化合物（１−９）の１．５／３．５／９５（ＨＰＬＣ面積比）の混合物であった。

［合成例２５：混合物Ｄの合成］
Ｎ−エチルピロリドン ３０ｍＬに窒素気流下、２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジン ７．４ｇ（６０ｍｍｏｌ）、及びナトリウムメトキシド １１．３ｇを順に添加した。その後、ｍ−メチル安息香酸メチル ２１．６ｇ（１４４ｍｏｌ）を滴下し、４０℃で３時間加熱攪拌を続けた。この反応液を、氷冷した酢酸エチル３０ｍＬ、水７５ｍＬ、及び塩酸１７．５ｍＬの混合液中に添加した後に、さらに、水１００ｍＬを添加し、氷冷下１時間攪拌することで生成物を析出させた。析出した生成物をろ取し、酢酸エチル、アセトニトリル、水でかけ洗いした。生成物を１５．１ｇ（収率７１％）得た。ＨＰＬＣを測定した結果、化合物（Ｍ−３ａ）／化合物（Ｍ−４ａ）／化合物（２−２）の混合物であった。

［合成例２６：化合物（９−１）の合成］
Ｂｉｏｏｒｇ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． Ｌｅｔｔ． 誌、第１３巻 ２１７頁、２００３年に記載の方法により合成を行った。

［合成例２７：化合物（９−２）の合成］
Ｂｉｏｏｒｇ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． Ｌｅｔｔ． 誌、第１３巻 ２１７頁、２００３年に記載の方法により合成を行った。

［合成例２８：化合物（９−３）の合成］
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ誌、４１頁、１９４７年に記載の方法により合成を行った。

［合成例２９：化合物（９−４）の合成］
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ誌、第５７巻、２７８７頁、２００１年に記載の方法により合成を行った。

［合成例３０：化合物（９−５）の合成］
Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ Ｃｈｅｍｉｅ誌、第１１１巻、２１７０頁、１９９９年に記載の方法により合成を行った。

［合成例３１：化合物（９−１３）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから化合物（９-１１）（市販品）に変更した他は、合成例１−１と同様に合成を行った。

［合成例３２：化合物（６−１９）の合成］
合成例１−１において、出発原料を２，４−ジアミノ−６−メチルピリミジンから２，４−ジアミノ−６−メトキシピリミジンに、安息香酸メチルを酢酸メチルに変更した他は合成例１−１と同様に合成を行った。反応後の溶液を酢酸水溶液に注ぎ、ｐＨ６に調整して析出した固体を濾取し、ＭｅＯＨ/Ｈ₂Ｏでかけ洗いすることで、化合物（６−１９）を得た。
得られた化合物（６−１９）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。得られた化合物（１−９）のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重DMSO、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）
２．１１（３Ｈ，ｓ）
２．２６（３Ｈ，ｓ）
３．８８（３Ｈ，ｓ）
７．１０（１Ｈ，ｓ）
１０．１１（１Ｈ，ｂｒ）
１０．５０（１Ｈ，ｂｒ）

合成した化合物の含水率をカールフィッシャー法により求めた。
化合物（１−２）：含水率３．８％
化合物（１−８）：含水率５．４％）
化合物（１−９）（合成例３−１）：含水率２．８％
化合物（１−９）（合成例３−２）：含水率７．１％
化合物（１−９）（合成例３−３）：含水率７．５％
化合物（１−９）（合成例３−４）：含水率＜０．５％
化合物（２−１）：含水率５．５％
化合物（２−２）：含水率３．４％
化合物（２−４）：含水率１．３％
化合物（２−８）：含水率１．８％
化合物（２−９）：含水率３．２％
化合物（５−１）：含水率３．１％
化合物（５−２）：含水率０．８％
化合物（５−７）：含水率９．１％
化合物（５−８）：含水率３．１％
化合物（６−１３）：含水率１．２％
化合物（６−１５）：含水率２．７％
化合物（６−１６）：含水率２．８％
化合物（６−１９）：含水率０．７％
化合物（７−２）：含水率３．１％
化合物（８−２）：含水率１．０％
化合物（８−５）：含水率２．６％
化合物（８−６）：含水率３．１％

実施例２−１． セルロースアシレートフィルムの作製
（製膜用セルロースアシレート溶液の調製）
下記表に示す各例示化合物を、下記表に記載のアセチル置換度のセルロースアシレート樹脂 １００質量部に対して下記表に示す割合で混合し、溶媒であるメチレンクロライド ３９６質量部、メタノール ５９質量部中に溶解して、セルロースアシレート（具体的には、セルロースアセテート）溶液を調製した。

（流延）
上述のセルロースアシレート溶液をガラス板流延装置を用いて流延した。給気温度７０℃の温風で６分間乾燥し、ガラス板から剥ぎ取ったフィルムを枠に固定し、給気温度１００℃の温風で１０分間、給気温度１４０℃の温風で２０分間乾燥し、膜厚６５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。
次に、得られたフィルムを２００℃の条件で３０％の延伸倍率まで、３０％／分の延伸速度で横延伸し、膜厚５０μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。

比較例用フィルムとして、添加剤を無添加のフィルムを製造した。また、以下に示す構造の比較化合物１を添加剤として用いた比較例用フィルムもそれぞれ作製した。

（光学特性の評価）
得られた各実施例及び比較例のフィルムについて、２５℃・相対湿度６０％にて２４時間調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測機器（株）製）を用いて、２５℃・相対湿度６０％において、フィルム表面に対し垂直方向及び遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から＋５０°から−５０°まで１０°刻みで傾斜させた方向から波長５９０ｎｍにおける位相差を測定することから、面内レターデーション値（Ｒｅ）と膜厚方向のレターデーション値（Ｒｔｈ）とを算出した。
その結果を下記表に示す。

また、レターデーション値の湿度に伴う変化については、フィルムを２５℃・相対湿度１０％にて２時間調湿した以外は、上記の方法と同様にして測定して算出したＲｅ及びＲｔｈ（それぞれＲｅ[25℃,RH10%]、Ｒｔｈ[25℃,RH10%]）、及び２５℃・相対湿度８０％にて１２時間調湿した以外は上記の方法と同様にして測定して算出したＲｅ、Ｒｔｈ（それぞれＲｅ[25℃,RH80%]、Ｒｔｈ[25℃,RH80%]）から、Ｒｅの湿度依存性（ΔＲｅ）とＲｔｈの湿度依存性（ΔＲｔｈ）とを算出した。
その結果を下記表に、それぞれΔＲｅ、ΔＲｔｈとして示す。
さらに、湿度依存性を以下の評価基準で評価した。
［ΔＲｅの評価基準］
◎；ΔＲｅが１０未満
○；ΔＲｅが１０以上１１未満
△；ΔＲｅが１１以上１６未満
×；ΔＲｅが１６以上
［ΔＲｔｈの評価基準］
◎；ΔＲｔｈが１８未満
○；ΔＲｔｈが１８以上２１未満
△；ΔＲｔｈが２１以上２５未満
×；ΔＲｔｈが２５以上

上記表に示す結果から、本発明の実施例の高分子フィルムはいずれも、式（１）の化合物が添加されていることによりレターデーションが上昇しているとともに、トリアジン環化合物の添加によりレターデーションが上昇している比較例のフィルムと比較して、レターデーションの湿度依存性が軽減されていることが理解できる。
化合物（８−６）及び（９−１３）といった、ピリミジン環の５位に置換基を持ち、立体的にかさ高く、平面性が低い化合物では、レターデーションの湿度依存性の低減効果が比較的小さいことがわかる。

実施例２−２． セルロースアシレートフィルムの作製
延伸温度を２００℃から１８０℃に変更した以外は、実施例２−１と同様にして、セルロースアセテートフィルムを作成し、光学特性を評価した。
湿度依存性は以下の評価基準で評価した。
［ΔＲｅの評価基準］
○；ΔＲｅが１０未満
△；ΔＲｅが１０以上１５未満
×；ΔＲｅが１５以上
［ΔＲｔｈの評価基準］
○；ΔＲｔｈが２２未満
△；ΔＲｔｈが２２以上２６未満
×；ΔＲｔｈが２６以上

実施例２−３． セルロースアシレートフィルムの作製
（製膜用セルロースアシレート溶液の調製）
下記表に示す各例示化合物を、下記表に記載のアセチル置換度のセルロースアシレート樹脂 １００質量部に対して下記表に示す割合で混合し、溶媒であるメチレンクロライド ３９６質量部、メタノール ５９質量部中に溶解して、セルロースアシレート（具体的には、セルロースアセテート）溶液を調製した。

（流延）
上述のセルロースアシレート溶液をガラス板流延装置を用いて流延した。給気温度７０℃の温風で６分間乾燥し、ガラス板から剥ぎ取ったフィルムを枠に固定し、給気温度１００℃の温風で１０分間、給気温度１４０℃の温風で２０分間乾燥し、膜厚５５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した。
比較例用フィルムとして、添加剤を無添加のフィルムを製造した。また、比較化合物１を添加剤として用いた比較例用フィルムもそれぞれ作製した。

（光学特性の評価）
光学特性の評価は実施例２−１と同様にして行い、湿度依存性を以下の評価基準で評価した。
［ΔＲｔｈの評価基準］
○；ΔＲｔｈが１５未満
△；ΔＲｔｈが１５以上２０未満
×；ΔＲｔｈが２０以上

実施例２−４． セルロースアシレートフィルムの作製
実施例２−１と同様の条件でセルロースアセテートフィルムを作製し、光学特性を評価した。

上記表に示す結果から、本発明の実施例の高分子フィルムはいずれも、式（１）の化合物が添加されていることによりレターデーションが上昇しているとともに、トリアジン環化合物の添加によりレターデーションが上昇している比較例のフィルムと比較して、レターデーションの湿度依存性が軽減されていることが理解できる。

実施例２−５． セルロースアシレートフィルムの作製
実施例２−１と同様の条件でセルロースアセテートフィルムを作製し、光学特性を評価した。
また、添加剤として、例示化合物（１−２）とともに、下記のトリアジン化合物をそれぞれ、組成比（質量比）１：１で混合した混合物Ｃ−１及びＣ−２をそれぞれ用いた以外は、実施例２−１と同様にしてフィルムをそれぞれ作製し、その光学特性を測定した。結果を、実施例２−１のフィルム１０２及び比較例のフィルム１５６の結果とともに下記表に示す。

上記表に示す結果から、一般式（１）で表される化合物（例示化合物（１−２））とともに、トリアジン環化合物を使用すると、レターデーション上昇作用はより高められるが、一方で、レターデーションの湿度依存性軽減効果は低下することが理解できる。この結果から、本発明の実施例が示す湿度依存性軽減効果は、特開２００４−１０９４１０号公報（特許文献１）に開示のケト−エノール互変異可能な構造をその構成要素として含む分子錯合体からなるレターデーション上昇剤や、特開２００１−１６６１４４号公報（特許文献２）及び特開２００３−３４４６５５号公報（特許文献３）に記載の１，３，５−トリアジン環を含む円盤状化合物からなるレターデーション上昇剤では得られない効果であることが理解できる。

実施例３． セルロースアシレートフィルムの作製
（製膜用セルロースアシレート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液３０１を調製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液３０１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．４３、重合度３４０のセルロースアセテート １００．０質量部
前記化合物（２−２） ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（流延、延伸）
セルロースアシレート溶液３０１を、バンド流延機を用いて流延し、残留溶媒含量４０％まで乾燥した後、得られたウェブをバンドから剥離し、その後１４０℃の条件下、残留溶媒含量２０％になった時点でテンターを用いて延伸倍率３０％で横延伸したのち、さらに１３０℃で３分間保持した。その後フィルムを保持していたクリップをはずして該フィルムを１３０℃３０分間乾燥させて、セルロースアシレートフィルム３０１を作製した。膜厚は６０μｍであった。
比較例用フィルムとして、添加剤を無添加のフィルム（セルロースアシレートフィルム３０２）を製造した。また、比較化合物１を添加剤として用いた比較例用フィルム（セルロースアシレートフィルム３０３）もそれぞれ作製した。

（光学特性の評価）
光学特性の評価は実施例２−１と同様にして行ったところ、本発明の化合物を用いたセルロースアシレートフィルム３０１では、セルロースアシレートフィルム３０１及び３０２と比較して、レターデーションの湿度依存性が軽減されていた。

実施例４． セルロースアシレートフィルムの作製
実施例２−１と同様にして、添加剤として混合物（Ｒ−1）、（Ｒ−２）、及び（Ｒ−３）を用いて、セルロースアセテートフィルムを作製し、光学特性を評価した。
実施例２−１において、セルロースアシレートの置換度、各添加剤の種類と量、延伸温度延伸倍率、フィルムの厚みを下表のとおりに変更した以外は実施例２−１と同様にして、セルロースアシレートフィルムをそれぞれ作製した。
光学特性の評価は実施例１と同様にして行った。

混合物（Ｒ−２）、（Ｒ−４）、（Ｒ−５）、（Ｒ−８）、（Ｒ−１０）、（Ｒ−１１）、及び（Ｒ−１２）〜（Ｒ−１５）、混合物Ｃについても同様に評価し、レターデーションの湿度依存性が軽減されていることを確認した。

実施例５． セルロースアシレートフィルムの作製
実施例２−１と同様にして、添加剤として混合物（Ａ）、及び化合物（１−９）を用いて、セルロースアセテートフィルムを作製した。
セルロースアシレートの置換度は、アセチル置換度２．４２、各添加剤の添加量は４質量％とした以外、延伸温度延伸倍率、フィルムの厚みなどは実施例２−１と同様にしてセルロースアシレートフィルムをそれぞれ作製した。
用いる混合物Ａ、化合物（１−９）のロットの違うもの、製膜日の異なるものなど数種のフィルムをそれぞれ作製した。

（光学特性の評価）
光学特性の評価は実施例２−１と同様にして行った。

上記表に示す結果から、合成例３−４及び合成例２２−２により、加熱減圧乾燥してそれぞれ得られた化合物（１−９）及び混合物Ａの無水物を使用した場合、フィルムの光学特性のばらつきが大きいことが理解できる。これは、無水物として単離した化合物（１−９）及び混合物Ａ中の各化合物が、保存中に吸湿するために、フィルムを作製する際に等重量で添加すると、実際の含率が変動するためと考えている。
一方で、合成例３−２及び合成例２２−１によりそれぞれ得られた水和物を用いた場合には、ばらつきが小さく、品質の安定性に優れていることが理解できる。これは水和物の形で得られた結晶では、経時で含水率が変動しないためであると考えている。

実施例６． 含水率変化の評価
下記表に示す各化合物０．５ｇを２５℃８０％ＲＨの恒温恒湿槽で７日間経時したのちに、カールフィッシャー法により含水率を測定した。

上記表に示す結果から、本発明の化合物の水和物は、湿度変化によらず含水率が一定であること、一方、アモルファスは、初期含水率は低いものの、高湿下では吸湿し、環境湿度によって含水率が変動することが理解できる。

実施例７． 溶液安定性の評価
下記表に示す各化合物（１質量部）を、メチレンクロライド ８７質量部、メタノール １３質量部中に溶解して、耐圧容器中にて８０℃、６６時間静置し、液体クロマトグラフィーを用いた定量によりその残存率を算出した。結果を下記表に示す。

上記表に示す結果から、本発明の化合物は、溶液安定性に優れていることが理解できる。

１ 液晶セル上側基板
３ 液晶セル下側基板
５ 液晶層（液晶分子）
８ａ、８ｂ 偏光板の保護フィルム
９ａ、９ｂ 偏光板の保護フィルム吸収軸
１０ａ、１０ｂ 位相差膜（本発明の高分子フィルム）
１１ａ、１１ｂ 位相差膜（本発明の高分子フィルム）吸収軸
Ｐ１、Ｐ２ 偏光板
ＬＣ 液晶セル

Claims (27)

1. 下記一般式（１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩の少なくとも１種を含有する高分子フィルムであって、セルロースアシレート樹脂を主成分として含有し、主成分であるセルロースアシレート樹脂１００質量部に対する、下記一般式（１）で表される化合物の添加量が０．０１〜３０質量部である高分子フィルム：
   一般式（１）中、Ｙは−Ｎ−又は−Ｃ（−Ｑ^d−Ｒ^d）−を表し；
   Ｑ^a、Ｑ^b、Ｑ^c及びＱ^dはそれぞれ独立に、単結合又は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ ₂ −、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ ₂ −、−ＣＨ ₂ −、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｎ（Ｘ ^a −Ｒ ^h ）−、もしくは−Ｎ（Ｘ ^a −Ｒ ^h ）−Ｘ ^b −（ここで、Ｘ ^a 及びＸ ^b はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ ₃ ）−又は−ＳＯ ₂ −を示す。Ｒ ^h は水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルキニル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、又は炭素原子数２〜１０の複素環基を表す。）で表される２価の連結基を表し；Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c及びＲ^dはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン基又は複素環基を表し、Ｒ ^a 、Ｒ ^b 、Ｒ ^c 及びＲ ^d はそれぞれ、置換基を有していてもよく、Ｒ^aとＲ^b及びＲ^aとＲ^dはそれぞれ連結して環を形成してもよく；Ｘ²は、単結合又は−Ｃ（＝Ｏ）−を表し、Ｘ¹は、単結合又は下記２価の連結基群Ｇ¹
   （各式中、＊側が前記各式で表される化合物中のピリミジン環又はピリジン環に置換しているＮ原子との連結部位であり；Ｒ^gは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又は複素環基を表す。）から選択される２価の基を表し；Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｒ ¹ 及びＲ ² はそれぞれ置換基を有していてもよく、Ｒ ¹ 及びＲ ² は互いに連結して環を形成してもよく；ただし、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²のうち一方のみが−ＮＨ₂である化合物、並びにＹが窒素原子であり、−Ｑ^c−Ｒ^c及び−Ｎ（Ｘ¹Ｒ¹）Ｘ²Ｒ²の双方が−ＮＨ₂でなく、且つ−Ｑ^a−Ｒ^aが−ＮＨ₂である化合物を除き、
   ただし、以下のセルロースアシレートフィルム１とセルロースアシレートフィルム２とを除く；
   アシル置換度が下記式（ｉ）〜（iii）を同時に満たすセルロースアシレート樹脂と、下記（Ａ）〜（Ｃ）の要件を満たす水素結合性化合物を含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム１：
   （Ａ）１分子内に水素結合ドナー部と水素結合アクセプター部の双方を有する。
   （Ｂ）分子量を水素結合ドナー数と水素結合アクセプター数の合計数で除した値が３０以上６５以下。
   （Ｃ）芳香環構造の総数が１以上３以下。
   式（ｉ） ０．５≦Ａ＋Ｂ≦２．７
   式（ii） ０．０≦Ａ≦２．５
   式（iii） ０．１≦Ｂ≦２．０
   （式（ｉ）〜式（iii）中、Ａはセルロースアシレート樹脂のアセチル基の置換度、Ｂはセルロースアシレート樹脂のプロピオニル基の置換度とブチリル基の置換度の合計を表す。）、
   下記（Ａ）〜（Ｃ）の要件およびＣｌｏｇＰ値が０〜５．５を満たす水素結合性化合物と、多価アルコールエステル系疎水化剤、重縮合エステル系疎水化剤および炭水化物誘導体系疎水化剤の中から選ばれる少なくとも一つの疎水化剤と、セルロースアシレート樹脂を含み、
   前記水素結合性化合物の添加量が、前記セルロースアシレート樹脂に対して１〜３０質量％であり、
   前記疎水化剤の添加量が、前記セルロースアシレート樹脂に対して１〜２０質量％であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム２：
   （Ａ）１分子内に水素結合ドナー部と水素結合アクセプター部の双方を有する。
   （Ｂ）分子量を水素結合ドナー数と水素結合アクセプター数の合計数で除した値が３０以上６５以下。
   （Ｃ）芳香環構造の総数が１以上３以下。
2. 前記一般式（１）で表わされる化合物の少なくも１種を、水和物、溶媒和物もしくは塩の形態で添加してなる請求項１に記載の高分子フィルム。
3. 前記一般式（１）が、下記一般式（２）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（２）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｘ⁴は、単結合を表し、Ｘ³は、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ ₃ ）−又は−ＳＯ ₂ −を表し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｒ ³ 及びＲ ⁴ はそれぞれ置換基を有していてもよい。
4. 前記一般式（１）が、下記一般式（３）又は（４）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（３）中の各記号は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。
   一般式（４）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。
5. 前記一般式（１）が、下記一般式（５−１）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（５−１）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり、Ａｒ¹は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
6. 前記一般式（１）が、下記一般式（５−２）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（５−２）中の各記号の定義は、一般式（１）及び（３）中のそれぞれと同義であり、Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
7. 前記一般式（１）が、下記一般式（６）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（６）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
8. Ｑ^aが、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し、Ｒ^aが、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す請求項１〜７のいずれか１項に記載の高分子フィルム。
9. 前記一般式（１）が、下記一般式（７−１）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
   一般式（７−１）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
10. 前記一般式（１）が、下記一般式（７−２）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
    一般式（７−２）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a7は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
11. 前記一般式（７−２）が、下記一般式（８）、一般式（９）、又は一般式（１０）である請求項１０に記載の高分子フィルム：
    式中の各記号の定義は、一般式（７−２）中のそれぞれと同義であり；Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。
12. 前記一般式（１）が、下記一般式（１１ａ）である請求項１又は２に記載の高分子フィルム：
    一般式（１１ａ）中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義である。
13. 下記一般式（IIIｅ）、（IVｅ）及び（Ｖｅ）のいずれかで表される少なくとも１種の化合物又はその水和物、溶媒和物もしくは塩をさらに含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の高分子フィルム：
    式中の各記号の定義は、一般式（１）中のそれぞれと同義であり；Ａｒはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基を表す。
14. 前記セルロースアシレート樹脂が、セルロースアセテート樹脂である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の高分子フィルム。
15. 溶液製膜法により製膜されてなる請求項１〜１４のいずれか１項に記載の高分子フィルム。
16. 前記化合物の水和物又は溶媒和物を用いることを特徴とする請求項１５に記載の高分子フィルム。
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の高分子フィルムからなる、又は請求項１〜１６のいずれか１項に記載の高分子フィルムを含む位相差フィルム。
18. 偏光子、及び請求項１〜１６のいずれか１項に記載の高分子フィルムを含む偏光板。
19. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の高分子フィルム、及び／又は請求項１８に記載の偏光板を含む液晶表示装置。
20. 下記一般式（７−１）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
    一般式（７−１）中、Ｙは−Ｎ−を表し；Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^dとＲ^aaとが結合して環構造を形成していてもよく；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。
21. 下記一般式（７−２）で表される化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
    一般式（７−２）中、Ｙは−Ｎ−を表し；Ｒ^a7は、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^dとＲ^a7とが結合して環を形成していてもよく；Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し；Ｑ ^a は単結合又は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ ₂ −、−Ｓ−、−Ｓ−ＣＨ ₂ −、−ＣＨ ₂ −、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｎ（Ｘ ^a −Ｒ ^h ）−、または−Ｎ（Ｘ ^a −Ｒ ^h ）−Ｘ ^b −（ここで、Ｘ ^a 及びＸ ^b はそれぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ＣＨ ₃ ）−又は−ＳＯ ₂ −を表す。Ｒ ^h は水素原子又はアルキル基を表す。）で表される２価の連結基を表す。
22. 下記一般式（８）、一般式（９）、又は一般式（１０）で表される請求項２０又は２１に記載の化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩：
    一般式（９）
    
    式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し；Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜８のアルキル基を表す。
23. Ｒ^a8、Ｒ^a9及びＲ^a10はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜４のアルキル基を表す請求項２２に記載の化合物、又はその水和物、溶媒和物もしくは塩。
24. 請求項２０〜２３のいずれか１項中に記載の化合物の水和物又は溶媒和物。
25. 請求項２０〜２３のいずれか１項中に記載の化合物の水和物。
26. 下記式（７ａ）とスキームで表わされる化合物と、一般式（７ｂ）で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式（７−１）で表される化合物、又はその塩、水和物又は溶媒和物の製造方法：
    一般式（７ａ）、一般式（７ｂ）及び一般式（７−１）中、Ｙは−Ｎ−を表し；Ｑ^aaは、単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−もしくは−Ｎ（Ｒ）−（但しＲは炭素原子数１〜８のアルキル基）を表し；Ｒ^aaは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜８のアルキル基を表し；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表し；Ｚはハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はアシルオキシ基を表す。
27. 前記一般式（７−１）で表される化合物の水和物又は溶媒和物の製造方法であって、前記一般式（７−２）で表される化合物を水又は有機溶媒を用いて晶析することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。