JP6156079B2 - Metal-clad laminate and method for producing the same, printed wiring board using the same, and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、プリント配線板に用いられる金属張積層板及びその製造方法、並びに、斯かる金属張積層板を用いたプリント配線板に関する。 The present invention relates to a metal-clad laminate used for a printed wiring board, a method for manufacturing the same, and a printed wiring board using such a metal-clad laminate.
近年、パーソナルコンピューター、サーバーをはじめとする情報端末機器及びインターネットルーター、光通信等の通信機器は、大容量の情報を高速で処理することが要求され、電気信号の高速化・高周波化が進んでいる。それに伴い、これらに用いられる半導体プラスチックパッケージ用積層板には、従来求められていた耐熱性及び金属層とのピール強度等の特性に加え、プリント配線板の絶縁層の低誘電率化・低誘電正接化が求められており、これらの特性要求に応えるべく種々の試みがなされている。加えて、半導体素子と半導体プラスチックパッケージ用積層板の熱膨張差より、パッケージの反りが発生し、接続不良を生じることから、積層板の面方向の熱膨張率低減が強く求められており、これら低誘電率、低誘電正接、低熱膨張率等の性質を複合的に有する材料が求められている。 In recent years, information terminals such as personal computers, servers, and communication devices such as Internet routers and optical communication have been required to process large volumes of information at high speed, and the speed and frequency of electrical signals have been increased. Yes. As a result, the laminates for semiconductor plastic packages used in these products have a low dielectric constant and a low dielectric constant in the insulating layer of the printed wiring board in addition to the conventionally required properties such as heat resistance and peel strength with the metal layer. Tangentization is required, and various attempts have been made to meet these characteristic requirements. In addition, due to the difference in thermal expansion between the semiconductor element and the laminated sheet for the semiconductor plastic package, the warping of the package occurs, resulting in poor connection. Therefore, there is a strong demand for reducing the thermal expansion coefficient in the plane direction of the laminated board. There is a demand for a material having a composite property such as low dielectric constant, low dielectric loss tangent, and low coefficient of thermal expansion.
これまで、低誘電率化や低誘電正接化の目的で、積層板の絶縁層としては、エポキシ樹脂やシアン酸エステル樹脂等が適用されてきたが、これらの樹脂は吸水率が高く、高周波領域で誘電率が変化しやすいという課題があった。そこで、低吸水性で高周波領域での誘電率の変化の少ない液晶性ポリマー(Liquid Crystal Polymer:LCP)を用い、LCPからなるフィルムを複数枚重ねて形成された絶縁層(LCP基板)を備えた高周波回路基板が提案されている(例えば特許文献1参照)。また、絶縁層の面方向の熱膨張率を低減させるためには、絶縁層の材料となる樹脂組成物に対して、無機充填剤の充填量を増加させるという手法がある(例えば特許文献2及び3参照)。 Up to now, epoxy resins and cyanate ester resins have been used as insulating layers for laminates for the purpose of lowering the dielectric constant and lowering the dielectric loss tangent. However, these resins have a high water absorption rate and have a high frequency range. However, there was a problem that the dielectric constant was likely to change. Therefore, a liquid crystal polymer (Liquid Crystal Polymer: LCP) with low water absorption and a small change in dielectric constant in a high frequency region is used, and an insulating layer (LCP substrate) formed by stacking a plurality of LCP films is provided. A high-frequency circuit board has been proposed (see, for example, Patent Document 1). Further, in order to reduce the thermal expansion coefficient in the surface direction of the insulating layer, there is a method of increasing the filling amount of the inorganic filler with respect to the resin composition as the material of the insulating layer (for example, Patent Document 2 and 3).
しかし、特許文献1で開示されているLCP基板は、面方向の熱膨張率が大きく、熱処理等の際に反り等の外形異常が発生する場合があり、基板製造の障害になるという課題があった。また、特許文献2及び3で開示されている樹脂組成物を用いた絶縁層では、多量の無機充填剤の影響から、誘電率や誘電正接が大きくなり、これらの特性を両立させることは困難であるという課題があった。 However, the LCP substrate disclosed in Patent Document 1 has a large coefficient of thermal expansion in the surface direction, and an external shape abnormality such as warpage may occur during heat treatment, which causes a problem in manufacturing the substrate. It was. In addition, in the insulating layer using the resin composition disclosed in Patent Documents 2 and 3, due to the influence of a large amount of inorganic filler, the dielectric constant and dielectric loss tangent increase, and it is difficult to achieve both of these characteristics. There was a problem that there was.
本発明は、上記の実情に鑑みてなされたもので、優れた誘電特性を有しつつ、熱膨張性の低い金属張積層板を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a metal-clad laminate having excellent dielectric properties and low thermal expansion.
本発明者らは、上記目的を達成するために、金属張積層板に用いる絶縁層の組成、製法について鋭意研究を行った。その結果、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で圧着することにより、基材(A)に液晶性ポリマー(B)を添着し、これを金属張積層板の絶縁層として使用することにより、優れた誘電特性と低熱膨張性とを両立することが可能になることを見出し、本発明に到達した。 In order to achieve the above object, the present inventors have conducted intensive research on the composition and manufacturing method of the insulating layer used in the metal-clad laminate. As a result, the base material (A) and the liquid crystal polymer (B) woven cloth are pressure-bonded in a state of being laminated so that the fiber directions of the respective woven cloths are in the same direction. The liquid crystal polymer (B) is attached to the metal-clad laminate and used as an insulating layer of the metal-clad laminate, thereby making it possible to achieve both excellent dielectric properties and low thermal expansion. Reached.
即ち、本発明の主旨は、基材(A)及び基材(A)に添着された液晶性ポリマー(B)を含む絶縁層と、絶縁層上に設けられた金属層とを含む金属張積層板であって、絶縁層が、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して形成されたものである、金属張積層板に関する。 That is, the gist of the present invention is a metal-clad laminate including a base material (A) and an insulating layer containing a liquid crystalline polymer (B) attached to the base material (A), and a metal layer provided on the insulating layer. A board, and an insulating layer is bonded in a state where the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are laminated so that the fiber directions of the respective woven fabrics are in the same direction. The present invention relates to a metal-clad laminate.
また、本発明の別の主旨は、前記の金属張積層板を製造する方法であって、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して絶縁層を形成することを含む方法に関する。
また、本発明の別の主旨は、前記方法により製造される金属張積層板に関する。
Another gist of the present invention is a method for producing the metal-clad laminate, wherein the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are made of fibers of each woven fabric. The present invention relates to a method including forming an insulating layer by pressure bonding in a state where the layers are stacked in the same direction.
Another gist of the present invention relates to a metal-clad laminate produced by the above method.
また、本発明の別の主旨は、絶縁層上に金属配線パターンが設けられたプリント配線板を製造する方法であって、前記の金属張積層板の金属層をパターニングすることにより金属配線パターンを形成することを含む方法に関する。
また、本発明の別の主旨は、前記方法により製造されるプリント配線板に関する。
また、本発明の別の主旨は、基材(A)及び基材(A)に添着された液晶性ポリマー(B)を含む絶縁層上に金属配線パターンが設けられたプリント配線板であって、絶縁層が、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して形成されたものである、プリント配線板に関する。
Another gist of the present invention is a method of manufacturing a printed wiring board having a metal wiring pattern provided on an insulating layer, wherein the metal wiring pattern is formed by patterning the metal layer of the metal-clad laminate. It relates to a method comprising forming.
Another gist of the present invention relates to a printed wiring board manufactured by the above method.
Another gist of the present invention is a printed wiring board in which a metal wiring pattern is provided on an insulating layer containing a base material (A) and a liquid crystalline polymer (B) attached to the base material (A). The insulating layer was formed by press-bonding the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) so that the fiber directions of the woven fabrics were in the same direction. The present invention relates to a printed wiring board.
本発明に係る金属張積層板は、誘電率や誘電正接が低く、優れた誘電特性を有すると共に、面方向の熱膨張性も低く抑えられる。従って、本発明に係る金属張積層板は、プリント配線板材料として好適である。
また、本発明に係る金属張積層板の製造方法によれば、上述の優れた金属張積層板を効率的に得ることが可能となる。
The metal-clad laminate according to the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, has excellent dielectric properties, and has low thermal expansion in the surface direction. Therefore, the metal-clad laminate according to the present invention is suitable as a printed wiring board material.
Moreover, according to the manufacturing method of the metal-clad laminate which concerns on this invention, it becomes possible to obtain the above-mentioned outstanding metal-clad laminate efficiently.
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明はその実施の形態のみに限定されない。 Embodiments of the present invention will be described below. In addition, the following embodiment is an illustration for demonstrating this invention, and this invention is not limited only to the embodiment.
[金属張積層板]
本発明は、基材(A)及び基材(A)に添着された液晶性ポリマー(B)を含む絶縁層と、絶縁層上に設けられた金属層とを含む金属張積層板であって、絶縁層が、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して形成されたものである、金属張積層板に関する。液晶性ポリマーは、基材(A)の少なくとも片面に添着されるが、両面に添着されていてもよい。金属層は、少なくとも絶縁層の液晶性ポリマー(B)が添着されている面に配置される。金属層は、絶縁層の少なくとも片面に配置されればよいが、絶縁層の両面に配置されてもよい。また、金属層及び/又は絶縁層をそれぞれ複数積層してもよく、更には、複数の金属張積層板を積層してもよい。
[Metal-clad laminate]
The present invention is a metal-clad laminate comprising a base material (A) and an insulating layer containing a liquid crystalline polymer (B) attached to the base material (A), and a metal layer provided on the insulating layer. The insulating layer was formed by press-bonding the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) so that the fiber directions of the woven fabrics were in the same direction. The present invention relates to a metal-clad laminate. The liquid crystalline polymer is attached to at least one side of the substrate (A), but may be attached to both sides. The metal layer is disposed on at least the surface of the insulating layer to which the liquid crystalline polymer (B) is attached. The metal layer may be disposed on at least one surface of the insulating layer, but may be disposed on both surfaces of the insulating layer. In addition, a plurality of metal layers and / or insulating layers may be laminated, and a plurality of metal-clad laminates may be laminated.
[金属層]
金属張積層板に用いられる金属材料は、導電性を有する金属であれば限定されず、プリント配線板への使用が可能な任意の金属を使用することができる。プリント配線板の金属層として一般に用いられる金属としては、銅、金、鉛、スズ、ニッケル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、任意の二種以上の金属からなる合金を用いることも可能である。中でも銅が好ましい。金属層の厚さは、使用する金属箔の種類、厚さ、圧着時の条件に応じて決まり、金属張積層板の用途等に応じて任意に選択される。
[Metal layer]
The metal material used for the metal-clad laminate is not limited as long as it has conductivity, and any metal that can be used for a printed wiring board can be used. Examples of the metal generally used as the metal layer of the printed wiring board include, but are not limited to, copper, gold, lead, tin, nickel, and the like. It is also possible to use an alloy made of any two or more kinds of metals. Of these, copper is preferred. The thickness of the metal layer is determined according to the type and thickness of the metal foil to be used and the conditions during pressure bonding, and is arbitrarily selected according to the use of the metal-clad laminate.
金属張積層板の製造に使用される金属箔は、プリント配線板に使用される公知の金属箔であれば、特に制限なく使用することができる。上に挙げられた金属を電解により取得した電解金属箔又は圧延することにより取得した圧延金属箔を使用することができる。金属箔には、例えばニッケル、コバルト処理等、公知の表面処理が施されていてもよいし、金属箔を絶縁層に張りつけ、金属層を形成する観点から、金属箔面に粗化処理が行われていてもよい。金属箔面の表面粗さ(Rz)は、好適には4μm以下、より好適には2μm以下のものを使用することが好ましい。なお、Rzとは、JIS B0601で規定される十点平均粗さを意味する。金属箔の厚さは、上述の金属層の厚さと、圧着時の条件等に応じて適宜選択すればよいが、例えば1〜150μmの範囲である。 If the metal foil used for manufacture of a metal-clad laminated board is a well-known metal foil used for a printed wiring board, it can be especially used without a restriction | limiting. An electrolytic metal foil obtained by electrolysis of the metals listed above or a rolled metal foil obtained by rolling can be used. The metal foil may be subjected to a known surface treatment, such as nickel or cobalt treatment, or a roughening treatment is performed on the metal foil surface from the viewpoint of attaching the metal foil to the insulating layer and forming the metal layer. It may be broken. The surface roughness (Rz) of the metal foil surface is preferably 4 μm or less, more preferably 2 μm or less. In addition, Rz means the 10-point average roughness prescribed | regulated by JISB0601. The thickness of the metal foil may be appropriately selected according to the thickness of the metal layer described above, the conditions at the time of pressure bonding, and the like, for example, in the range of 1 to 150 μm.
[絶縁層]
絶縁層とは、導電性の金属層を支持する絶縁性の層のことをいう。本発明において絶縁層は、基材(A)と、基材(A)に添着された液晶性ポリマーを含む。本発明の絶縁層は、基材(A)の織布と、液晶性ポリマー(B)の織布とを積層した状態で圧着することにより、液晶性ポリマー(B)の織布が溶融して基材(A)の織布に添着することで形成される。基材(A)に対し片面に液晶性ポリマー(B)が添着していてもよいし、基材(A)の両面に液晶性ポリマー(B)が添着していてもよい。絶縁層の厚みは、圧着時の条件等や、金属張積層板の用途等に応じて任意に決定することができる。
[Insulation layer]
The insulating layer refers to an insulating layer that supports a conductive metal layer. In the present invention, the insulating layer includes a base material (A) and a liquid crystalline polymer attached to the base material (A). The insulating layer of the present invention melts the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) by pressure bonding in a state where the woven fabric of the substrate (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are laminated. It is formed by attaching to the woven fabric of the substrate (A). The liquid crystalline polymer (B) may be attached to one side of the substrate (A), or the liquid crystalline polymer (B) may be attached to both sides of the substrate (A). The thickness of the insulating layer can be arbitrarily determined according to the conditions during pressure bonding, the use of the metal-clad laminate, and the like.
[基材(A)]
基材(A)は、絶縁層の補強材として用いられる材料であり、液晶性ポリマー(B)が添着することにより絶縁層を形成する。基材(A)としては、繊維からなる織布が用いられる。基材(A)の織布を構成する繊維としては、ガラス繊維、石英ガラス繊維、カーボン繊維、アルミナファイバー、炭化珪素ファイバー、アルベスト、ロックウール、スラグウール、石膏ウィスカ等の無機繊維が挙げられる。絶縁層の線熱膨張係数を低下させるという観点から、ガラス繊維が好ましい。ここでガラス繊維とは、ガラスを融解、牽引して繊維状にしたものであり、二酸化珪素の他、様々な金属酸化物等を副成分として含む繊維である。基材(A)に用いられるガラス繊維としては、次のものに限定されるものではないが、その成分の比率の違いによりEガラス繊維、Tガラス繊維、Qガラス繊維、NEガラス繊維等が挙げられる。中でも、Tガラス繊維、NEガラス繊維がより好ましく、Tガラス繊維が最も好ましい。好ましい基材(A)としては、ガラス繊維の織布、例えば、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Tガラス、NEガラス織布のほか、クォーツ等の織布が挙げられる。
[Base material (A)]
The base material (A) is a material used as a reinforcing material for the insulating layer, and the insulating layer is formed by attaching the liquid crystalline polymer (B). As the substrate (A), a woven fabric made of fibers is used. Examples of the fibers constituting the woven fabric of the substrate (A) include inorganic fibers such as glass fibers, quartz glass fibers, carbon fibers, alumina fibers, silicon carbide fibers, albestos, rock wool, slag wool, and gypsum whiskers. . From the viewpoint of reducing the linear thermal expansion coefficient of the insulating layer, glass fiber is preferable. Here, the glass fiber is a fiber obtained by melting and pulling glass into a fiber shape, and is a fiber containing various metal oxides as subcomponents in addition to silicon dioxide. The glass fiber used for the base material (A) is not limited to the following, but E glass fiber, T glass fiber, Q glass fiber, NE glass fiber, etc. may be mentioned depending on the ratio of the components. It is done. Among these, T glass fibers and NE glass fibers are more preferable, and T glass fibers are most preferable. Preferable examples of the substrate (A) include glass fiber woven fabrics such as E glass, D glass, S glass, T glass, NE glass woven fabric, and woven fabrics such as quartz.
基材(A)の厚さは、上述の所望の絶縁層の厚さと、圧着時の条件等に応じて適宜決定すればよいが、取り扱い性を向上させるという観点から、通常1μm以上が好ましく、より好ましくは3μm以上、中でも5μm以上である。但し、液晶性ポリマー(B)を基材(A)に十分添着させる観点から、基材(A)の厚さの上限値は、通常300μm以下、中でも250μm以下、更には200μm以下、特に120μm以下が好ましい。 The thickness of the base material (A) may be appropriately determined according to the thickness of the desired insulating layer described above and the conditions at the time of pressure bonding, but is usually preferably 1 μm or more from the viewpoint of improving the handleability. More preferably, it is 3 μm or more, especially 5 μm or more. However, from the viewpoint of sufficiently attaching the liquid crystalline polymer (B) to the base material (A), the upper limit value of the thickness of the base material (A) is usually 300 μm or less, particularly 250 μm or less, more preferably 200 μm or less, particularly 120 μm or less. Is preferred.
織布とは、繊維を平織り、ななこ織り、綾織り等により、シート状に形成したものであるが、織り方に限定されるものではない。織布は、少なくとも2の繊維方向を有している。通常、織布は、2の繊維方向を有しており、各繊維方向は互いに直交していてもよいし、直交していなくてもよい。その一方で、3以上の繊維方向を有する場合もあり、例えば各繊維方向が60°の角度で交差する3軸織布や、多軸織布であってもよいが、製造の容易性の観点から、2の直交する繊維方向を有する織布が好ましい。基材(A)の織布と、液晶性ポリマー(B)の織布とは、互いに異なる数の繊維方向を有していてもよいが、繊維方向を揃える観点から、互いに同一数の繊維方向を有していることが好ましく、各繊維方向の交差角度も同一となることがさらに好ましい。超開繊処理や目詰め処理を施した織布が、寸法安定性の面から好適である。 The woven fabric is a fabric in which the fibers are formed into a sheet shape by plain weaving, Nanako weaving, twill weaving or the like, but is not limited to the weaving method. The woven fabric has at least two fiber directions. Usually, the woven fabric has two fiber directions, and the fiber directions may or may not be orthogonal to each other. On the other hand, it may have three or more fiber directions. For example, a triaxial woven fabric or a multiaxial woven fabric in which the fiber directions intersect at an angle of 60 ° may be used. To woven fabric having two orthogonal fiber directions is preferred. The woven fabric of the substrate (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) may have a different number of fiber directions, but from the viewpoint of aligning the fiber directions, the same number of fiber directions. It is preferable that the crossing angle in each fiber direction is the same. A woven fabric that has been subjected to an ultra-opening process or a plugging process is preferable from the viewpoint of dimensional stability.
基材(A)織布の打ち込み本数は、特に限定されないが、20本/インチ(約7.9本/cm)〜100本/インチ(約39.4本/cm)の範囲が好ましい。打ち込み本数の下限は20本、30本及び40本/インチ(それぞれ約7.9、11.8、及び15.7本/cm)からなる群から選択され、打ち込み本数の上限は、60本、70本、80本、90本、及び100本/インチ(それぞれ約23.6本、27.6本、31.5本、35.4本、及び39.4本/cm)からなる群から選択される。経糸と緯糸の打ち込み本数は、それぞれ上に記載の打ち込み本数の範囲内であれば、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。中でも、20本/インチ(約7.9本/cm)〜100本/インチ(約39.4本/cm)の範囲が好ましい。 The number of woven fabrics of the base material (A) is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 / inch (about 7.9 / cm) to 100 / inch (about 39.4 / cm). The lower limit of the number of driving is selected from the group consisting of 20, 30, and 40 / inch (about 7.9, 11.8, and 15.7 / cm respectively), and the upper limit of the driving number is 60, Selected from the group consisting of 70, 80, 90, and 100 / inch (approximately 23.6, 27.6, 31.5, 35.4, and 39.4 / cm, respectively) Is done. The number of warps and wefts may be the same as or different from each other as long as the numbers are within the ranges of the numbers described above. Among these, the range of 20 / inch (about 7.9 / cm) to 100 / inch (about 39.4 / cm) is preferable.
基材(A)織布は、各種プリント配線板材料に用いられている公知の織布であってよく、具体的な例としては、ガラスクロスとして、例えば、旭シュエーベル(株)製のスタイル1027MS(経糸密度75本/25mm、緯糸密度75本/25mm、布重量20g/m2、厚さ19μm(Eガラス繊維))、旭シュエーベル(株)製のスタイル1037MS(経糸密度70本/25mm、緯糸密度73本/25mm、布重量24g/m2、厚さ28μm(Eガラス繊維))、(株)有沢製作所製の1078(経糸密度54本/25mm、緯糸密度54本/25mm、布重量48g/m2、厚さ43μm(Eガラス繊維))、(株)有沢製作所製の2116(経糸密度50本/25mm、緯糸密度58本/25mm、布重量103.8g/m2、厚さ94μm(Eガラス繊維))、(株)有沢製作所製の1067(経糸密度70本/25mm、緯糸密度70本/25mm、布重量31g/m2、厚さ33μm(Eガラス繊維))、信越石英(株)製の石英ガラスクロス(IPC規格2116タイプクロスやIPC規格1035タイプクロス(Qガラス繊維))、日東紡製のTガラスクロス(IPC規格の1078、1035、1037、1027(Tガラス繊維))、並びに日東紡製NEガラスクロス(NE2013)等が挙げられる。 The substrate (A) woven fabric may be a known woven fabric used for various printed wiring board materials. As a specific example, for example, a glass cloth, for example, Style 1027MS manufactured by Asahi Schavel Co., Ltd. (Warn density 75/25 mm, Weft density 75/25 mm, Fabric weight 20 g / m 2 , Thickness 19 μm (E glass fiber)), Style 1037MS (A warp density 70/25 mm, Weft) manufactured by Asahi Schwer Density 73/25 mm, fabric weight 24 g / m 2 , thickness 28 μm (E glass fiber)), 1078 manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd. (warp density 54/25 mm, weft density 54/25 mm, fabric weight 48 g / m 2, a thickness of 43 .mu.m (E glass fibers), Ltd.) Arisawa Seisakusho 2116 (warp density 50 lines / 25 mm, weft density 58 present / 25 mm, fabric weight 103.8 g / m 2 The thickness 94Myuemu (E glass fibers), Ltd.) Arisawa Seisakusho 1067 (warp density 70 yarns / 25 mm, weft density 70 yarns / 25 mm, fabric weight 31 g / m 2, a thickness of 33 .mu.m (E glass fiber)), Quartz glass cloth (IPC standard 2116 type cloth or IPC standard 1035 type cloth (Q glass fiber)) manufactured by Shin-Etsu Quartz Co., Ltd., T glass cloth (IPC standard 1078, 1035, 1037, 1027 (T glass) Fiber)), and Nittobo NE glass cloth (NE2013).
[液晶性ポリマー]
液晶性ポリマー(B)とは、液晶構造を発現する高分子を指す。液晶性ポリマー(B)の種類は任意であり、制限されないが、例として液晶ポリエステル及び液晶ポリエステルアミドを挙げることができる。中でも、プリント配線板に用いるために適した電気的特性の観点から、液晶性ポリエステルが好ましい。
[Liquid crystal polymer]
The liquid crystalline polymer (B) refers to a polymer that exhibits a liquid crystal structure. The type of the liquid crystalline polymer (B) is arbitrary and is not limited, and examples thereof include liquid crystal polyester and liquid crystal polyester amide. Among these, liquid crystalline polyester is preferable from the viewpoint of electrical characteristics suitable for use in a printed wiring board.
液晶性ポリマーの例として、以下に例示する(i)から(iv)に分類される化合物及びその誘導体の中から選択される1種又は2種以上のモノマーを重合して得られるポリマーが挙げられる。 Examples of liquid crystalline polymers include polymers obtained by polymerizing one or more monomers selected from the compounds (i) to (iv) and their derivatives exemplified below. .
(i)芳香族または脂肪族ジヒドロキシ化合物
(ii)芳香族または脂肪族ジカルボン酸
(iii)芳香族ヒドロキシカルボン酸
(iv)芳香族ジアミン、芳香族ヒドロキシアミンまたは芳香族アミノカルボン酸
上に挙げたモノマーから製造される液晶性ポリマーは、単一のモノマーからなるホモポリマーであってもよいし、任意の組合せ及び比率で二種以上のモノマーからなるコポリマーであってもよい。これらの液晶性ポリマーは1種類を使用してもよいし、2種類以上を任意の組合せ及び比率で併用してもよい。 The liquid crystalline polymer produced from the monomers listed above may be a homopolymer composed of a single monomer, or a copolymer composed of two or more monomers in any combination and ratio. One type of these liquid crystalline polymers may be used, or two or more types may be used in any combination and ratio.
液晶性ポリエステルとしては、モノマー間の結合にエステル結合が含まれているポリマーであって、液晶構造を発現するものであれば、その種類は任意である。但し、優れた電気的特性を有する液晶性ポリエステルを取得する観点から、特に以下の式(1)〜(3)で表される構造を有する液晶性ポリマーが好ましい。 As the liquid crystalline polyester, any polymer may be used as long as it is a polymer in which an ester bond is included in a bond between monomers and exhibits a liquid crystal structure. However, from the viewpoint of obtaining a liquid crystalline polyester having excellent electrical characteristics, a liquid crystalline polymer having a structure represented by the following formulas (1) to (3) is particularly preferable.
上記式(1)〜(3)中、x及びyは、それぞれ1以上の整数を表す。x及びyの具体的な値は、ポリマーの製造条件や分子量等に応じて定まる。また、各ポリマーの末端は、製造条件等に応じて定まるが、通常は水素原子、−OH基、低級(C1〜C6)アルキル基、低級(C1〜C6)アルコキシ基等、或いはポリマーの製造に使用した触媒等に由来する基である。 In the above formulas (1) to (3), x and y each represents an integer of 1 or more. Specific values of x and y are determined according to the polymer production conditions and molecular weight. Moreover, although the terminal of each polymer is determined according to manufacturing conditions etc., normally a hydrogen atom, -OH group, a lower (C1-C6) alkyl group, a lower (C1-C6) alkoxy group etc., or for manufacture of a polymer This is a group derived from the catalyst used.
また、上記式(1)〜(3)の各式において、個々の繰り返し単位は、ランダムに存在していてもよく、交互に存在していてもよく、個々にブロックを形成していてもよい。 Moreover, in each formula of said formula (1)-(3), each repeating unit may exist randomly, may exist alternately, and may form the block individually. .
なお、式(1)〜(3)の液晶性ポリエステルは、何れか一種を使用してもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。 In addition, any 1 type may be used for liquid crystalline polyester of Formula (1)-(3), and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.
液晶性ポリマー(B)の形状としては、織布が用いられる。液晶性ポリマー織布は、液晶性ポリマーの繊維を織ってシート状にしたものである。液晶性ポリマー繊維においては、溶融紡糸の過程で、液晶性ポリマーの分子鎖は、繊維の長さ方向へ高度に配向されるため、液晶性ポリマー繊維を織って得た液晶性ポリマー織布においては、繊維の方向に分子が配向されており、少なくとも2の方向(例えば経糸方向と緯糸方向)に分子が配向されている。液晶性ポリマー織布としては、市販されている製品等、公知の任意のものを使用できる。具体例としては、旭化成イーマテリアルズ社製116XC(KBセーレン製繊維、ゼクシオンを織布化したもの)、116VT(クラレ製繊維ベクトランを織布化したもの)が挙げられるが、これらに限定されるものではない。液晶性ポリマー(B)織布の厚さの下限値は、取り扱い性を向上させるという観点から、通常1μm以上が好ましく、より好ましくは3μm以上、中でも5μm以上である。液晶性ポリマー(B)織布の厚さの上限値は、金属張積層板を薄膜化する観点から、通常500μm以下が好ましく、より好ましくは300μm以下、中でも200μm以下、更には150μm以下である。 A woven fabric is used as the shape of the liquid crystalline polymer (B). The liquid crystalline polymer woven fabric is obtained by weaving liquid crystalline polymer fibers into a sheet shape. In the liquid crystalline polymer fiber, the molecular chain of the liquid crystalline polymer is highly oriented in the length direction of the fiber during the melt spinning process. Therefore, in the liquid crystalline polymer woven fabric obtained by weaving the liquid crystalline polymer fiber, The molecules are oriented in the fiber direction, and the molecules are oriented in at least two directions (for example, the warp direction and the weft direction). As the liquid crystalline polymer woven fabric, known products such as commercially available products can be used. Specific examples include 116XC manufactured by Asahi Kasei E-Materials Co., Ltd. (KB Selen fiber, woven with Zexion) and 116VT (woven with Kuraray fiber Vectran), but are not limited thereto. It is not a thing. From the viewpoint of improving the handleability, the lower limit of the thickness of the liquid crystalline polymer (B) woven fabric is usually preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, and particularly preferably 5 μm or more. The upper limit of the thickness of the liquid crystalline polymer (B) woven fabric is usually preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and even more preferably 150 μm or less from the viewpoint of thinning the metal-clad laminate.
液晶性ポリマー織布の打ち込み本数は、特に限定されないが、20本/インチ(約7.9本/cm)〜100本/インチ(約39.4本/cm)の範囲が好ましい。打ち込み本数の下限は20本、30本及び40本/インチ(それぞれ約7.9、11.8、及び15.7本/cm)からなる群から選択され、打ち込み本数の上限は、60本、70本、80本、90本、及び100本/インチ(それぞれ約23.6本、27.6本、31.5本、35.4本、及び39.4本/cm)からなる群から選択される。経糸と緯糸の打ち込み本数は、それぞれ上に記載の打ち込み本数の範囲内であれば、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。中でも、20本/インチ(約7.9本/cm)〜100本/インチ(約39.4本/cm)の範囲が好ましい。 The number of the liquid crystalline polymer woven fabrics to be driven is not particularly limited, but a range of 20 / inch (about 7.9 / cm) to 100 / inch (about 39.4 / cm) is preferable. The lower limit of the number of driving is selected from the group consisting of 20, 30, and 40 / inch (about 7.9, 11.8, and 15.7 / cm respectively), and the upper limit of the driving number is 60, Selected from the group consisting of 70, 80, 90, and 100 / inch (approximately 23.6, 27.6, 31.5, 35.4, and 39.4 / cm, respectively) Is done. The number of warps and wefts may be the same as or different from each other as long as the numbers are within the ranges of the numbers described above. Among these, the range of 20 / inch (about 7.9 / cm) to 100 / inch (about 39.4 / cm) is preferable.
液晶性ポリマー(B)織布は、基材(A)織布の片面に対して、1枚のみが使用される場合もあるが、基材(A)の織布に添着した場合に所望の厚さを達成するために、液晶性ポリマー(B)の織布を2枚以上重ね合わせて使用してもよい。液晶性ポリマー(B)の織布を2枚以上重ね合わせる場合、所望の配向性を達成する観点から、液晶性ポリマー(B)織布の繊維方向が同方向となるように積層することが好ましい。 Only one sheet of the liquid crystalline polymer (B) woven fabric may be used for one side of the substrate (A) woven fabric, but it is desirable when it is attached to the woven fabric of the substrate (A). In order to achieve the thickness, two or more woven fabrics of the liquid crystalline polymer (B) may be overlapped and used. When two or more woven fabrics of the liquid crystalline polymer (B) are overlapped, it is preferable to laminate the liquid crystalline polymer (B) so that the fiber directions of the woven fabric are in the same direction from the viewpoint of achieving the desired orientation. .
液晶性ポリマー(B)の軟化点は、液晶性ポリマー(B)の種類に応じて異なるが、制限されるものではない。具体的には、金属張積層板の耐熱性の観点から、液晶性ポリマー(B)の軟化点は、通常200℃以上、中でも240℃以上、更には260℃以上の範囲が好ましい。但し、圧着の容易性の観点から、液晶性ポリマーの軟化点は、通常420℃以下、中でも400℃以下、更には380℃以下の範囲が好ましい。なお、ポリマーの軟化点は、例えば、針入プローブを用いた熱機械分析装置(Thermomechanical Analysis:TMA)等により測定することが可能である。 The softening point of the liquid crystalline polymer (B) varies depending on the type of the liquid crystalline polymer (B), but is not limited. Specifically, from the viewpoint of heat resistance of the metal-clad laminate, the softening point of the liquid crystalline polymer (B) is usually 200 ° C. or higher, preferably 240 ° C. or higher, and more preferably 260 ° C. or higher. However, from the viewpoint of easy crimping, the softening point of the liquid crystalline polymer is usually 420 ° C. or lower, preferably 400 ° C. or lower, and more preferably 380 ° C. or lower. The softening point of the polymer can be measured by, for example, a thermomechanical analysis (TMA) using a needle probe.
液晶性ポリマー(B)には、無機充填剤を配合してもよい。混練方法としては、特に制限されないが、例えば、2軸押出機等で溶融混練した液晶性ポリマー樹脂へ無機充填剤を混合分散し、得られた組成物をフィルム化、繊維化して得られた繊維、或いは得られた繊維をシート状にした織布又は不織布を、本発明の液晶性ポリマー(B)として使用できる。無機充填剤としては、積層板用途において一般に使用されるものであれば適用可能である。具体的には、天然シリカ、溶融シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、中空シリカ等のシリカ類、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛等のモリブデン化合物、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、アルミナ、クレー、カオリン、タルク、焼成クレー、焼成カオリン、焼成タルク、マイカ、ガラス短繊維(EガラスやDガラス等のガラス微粉末類)、中空ガラス等が挙げられる。これらのなかでも、本発明においては、シリカ類、タルク、ガラス短繊維が好ましく、熱膨張率、誘電特性の観点から、シリカ類が特に好ましい。これらの無機充填剤は1種もしくは2種以上を適宜組み合わせて使用することも可能である。 An inorganic filler may be blended in the liquid crystalline polymer (B). The kneading method is not particularly limited. For example, fibers obtained by mixing and dispersing an inorganic filler in a liquid crystalline polymer resin melt-kneaded by a twin-screw extruder or the like, and forming the resulting composition into a film and a fiber. Or the woven fabric or nonwoven fabric which made the obtained fiber into the sheet form can be used as a liquid crystalline polymer (B) of this invention. Any inorganic filler can be used as long as it is generally used in laminate applications. Specifically, silicas such as natural silica, fused silica, synthetic silica, amorphous silica, hollow silica, molybdenum compounds such as molybdenum oxide and zinc molybdate, zinc borate, zinc stannate, alumina, clay, kaolin, talc , Fired clay, fired kaolin, fired talc, mica, short glass fibers (glass fine powders such as E glass and D glass), and hollow glass. Among these, in the present invention, silicas, talc, and short glass fibers are preferable, and silicas are particularly preferable from the viewpoint of thermal expansion coefficient and dielectric characteristics. These inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more.
[基材(A)織布と液晶性ポリマー(B)織布との積層方向について]
本発明では、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で圧着することにより、基材(A)に液晶性ポリマー(B)が添着された絶縁層を形成する。ここで、基材(A)及び液晶性ポリマー(B)の各織布の繊維方向が「同方向」であるとは、各織布を構成する少なくとも1の繊維方向のズレ角度が、通常15度以下であることを意味する。中でも12度以下であることが好ましく、さらに好ましくは10度以下である。基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布は、互いに同一数の繊維方向を有し、かつ各繊維方向の交差角度も同一であることが好ましく、その場合、基材(A)及び液晶性ポリマー(B)の各織布の全ての繊維方向のズレ角度は同一となる。
[Lamination direction of base material (A) woven fabric and liquid crystalline polymer (B) woven fabric]
In the present invention, the base material (A) and the woven cloth of the liquid crystalline polymer (B) are pressure-bonded in a state of being laminated so that the fiber directions of the respective woven cloths are in the same direction. An insulating layer in which the liquid crystalline polymer (B) is attached to A) is formed. Here, the fiber direction of each woven fabric of the base material (A) and the liquid crystalline polymer (B) is “same direction”, and the deviation angle of at least one fiber direction constituting each woven fabric is usually 15 Means less than or equal to degrees. In particular, it is preferably 12 degrees or less, and more preferably 10 degrees or less. It is preferable that the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) have the same number of fiber directions and that the crossing angles of the respective fiber directions are also the same. The deviation angles of all the fiber directions of the woven fabrics of (A) and the liquid crystalline polymer (B) are the same.
ここで、基材(A)及び液晶性ポリマー(B)の各織布の繊維方向のズレ角度は、以下の手法によって測定される。即ち、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを重ねて配置した状態で、同一位置での画像を取得し、近接する基材(A)の織布のヤーン及び液晶性ポリマー(B)の織布のヤーンの各々に沿って長さ5mmの直線を引き、基材織布のヤーンに沿って得られた直線と、液晶性ポリマー織布のヤーンに沿って得られた直線の成す角度を測定し、これをズレ角度とする。 Here, the deviation angle in the fiber direction of each woven fabric of the substrate (A) and the liquid crystalline polymer (B) is measured by the following method. That is, in the state where the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are arranged in an overlapping manner, images at the same position are acquired, and the yarn of the woven fabric of the adjacent base material (A) And a straight line having a length of 5 mm is drawn along each of the woven yarns of the liquid crystalline polymer (B), and the straight line obtained along the yarns of the base woven fabric and the yarns of the liquid crystalline polymer woven fabric The angle formed by the obtained straight lines is measured, and this is set as the deviation angle.
[金属張積層板の製造方法]
本発明の金属張積層板は、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して絶縁層を形成する工程を含む製造方法により製造される。
[Method for producing metal-clad laminate]
The metal-clad laminate of the present invention is pressure-bonded in a state in which the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are laminated so that the fiber directions of each woven fabric are the same direction. And a manufacturing method including a step of forming an insulating layer.
ここで、金属箔と、液晶性ポリマー(B)の織布と、基材(A)の織布とを積層した状態で圧着することにより、絶縁層を形成すると共に、絶縁層と金属層との積層を形成することができる。一方、基材(A)織布と、液晶性ポリマー(B)の織布とを積層した状態で圧着することにより絶縁層を形成し、続いてこれに金属箔を積層し、金属層を形成することともできる。また、金属層及び/又は絶縁層をそれぞれ複数積層して圧着してもよく、更には、複数の金属張積層板を積層して圧着してもよい。 Here, the metal foil, the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B), and the woven fabric of the base material (A) are bonded together to form an insulating layer, and the insulating layer and the metal layer Can be formed. On the other hand, an insulating layer is formed by pressure bonding in a state where the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are laminated, and then a metal foil is laminated thereon to form a metal layer. You can also do it. Also, a plurality of metal layers and / or insulating layers may be laminated and pressure-bonded, or a plurality of metal-clad laminates may be laminated and pressure-bonded.
圧着時の温度は、少なくとも液晶性ポリマー(B)が基材(A)に添着することができる温度であれば任意の温度であってもよいが、好ましくは、液晶性ポリマー(B)の軟化点−50℃以上の温度である。より好ましくは、液晶性ポリマー(B)の軟化点−40℃以上の温度である。一方で、液晶性ポリマー(B)の分子配向を維持する観点では、軟化点+100℃以下の温度が好ましい。より好ましくは、液晶性ポリマー(B)の軟化点+70℃以下、更に好ましくは軟化点+40℃以下の温度である。 The temperature at the time of pressure bonding may be any temperature as long as at least the liquid crystalline polymer (B) can be attached to the base material (A), but preferably the liquid crystalline polymer (B) is softened. The point is a temperature of −50 ° C. or higher. More preferably, the temperature is a softening point of the liquid crystalline polymer (B) of −40 ° C. or higher. On the other hand, from the viewpoint of maintaining the molecular orientation of the liquid crystalline polymer (B), a temperature of softening point + 100 ° C. or lower is preferable. More preferably, the temperature is the softening point of the liquid crystalline polymer (B) + 70 ° C. or lower, more preferably the softening point + 40 ° C. or lower.
また、圧着時に加熱を行う場合、加熱温度は、液晶性ポリマー(B)を確実に軟化させる観点から、通常150℃以上、中でも170℃以上、更には190℃以上の範囲が好ましい。但し、絶縁層の保護の観点から、通常450℃以下、中でも430℃以下、更には400℃以下の範囲が好ましい。 Moreover, when heating at the time of pressure bonding, the heating temperature is preferably 150 ° C. or higher, particularly 170 ° C. or higher, and more preferably 190 ° C. or higher, from the viewpoint of surely softening the liquid crystalline polymer (B). However, from the viewpoint of protecting the insulating layer, a range of usually 450 ° C. or lower, particularly 430 ° C. or lower, and more preferably 400 ° C. or lower is preferable.
圧着時の圧力は、液晶性ポリマー(B)を確実に溶融させ、基材(A)に添着させる観点から、通常5kgf/cm2(約49N/cm2)以上、中でも10kgf/cm2(約98N/cm2)以上、更には20kgf/cm2(約196N/cm2)以上とすることが好ましい。但し、基材(A)や金属箔を保護する観点からは、通常100kgf/cm2(約980N/cm2)以下、中でも80kgf/cm2(約784N/cm2)以下、更には60kgf/cm2(約588N/cm2)以下とすることが好ましい。 The pressure at the time of pressure bonding is usually 5 kgf / cm 2 (about 49 N / cm 2 ) or more, particularly 10 kgf / cm 2 (about about 5 kgf / cm 2 ) from the viewpoint of reliably melting the liquid crystalline polymer (B) and attaching it to the base material (A). 98 N / cm 2) or more, and more preferably to 20 kgf / cm 2 (about 196 N / cm 2) or more. However, from the viewpoint of protecting the substrate (A) and the metal foil, it is usually 100 kgf / cm 2 (about 980 N / cm 2 ) or less, particularly 80 kgf / cm 2 (about 784 N / cm 2 ) or less, and further 60 kgf / cm. 2 (about 588 N / cm 2 ) or less is preferable.
圧着時の時間は、液晶性ポリマー(B)を確実に溶融させ、基材(A)に添着させる観点から、通常5分以上、中でも10分以上、更には20分以上とすることが好ましい。但し、基材(A)や金属箔を保護する観点からは、通常300分以下、中でも240分以下、更には180分以下とすることが好ましい。 From the viewpoint of reliably melting the liquid crystalline polymer (B) and attaching it to the base material (A), the time for the pressure bonding is usually 5 minutes or longer, preferably 10 minutes or longer, and more preferably 20 minutes or longer. However, from the viewpoint of protecting the base material (A) and the metal foil, it is usually 300 minutes or less, preferably 240 minutes or less, and more preferably 180 minutes or less.
圧着の工程において、液晶性ポリマー(B)が有していた結晶の配向性は、完全に又は部分的に維持されると考えられる。したがって、液晶性ポリマー(B)の織布を基材(A)の織布に対し圧着した場合、液晶性ポリマー(B)の織布を構成する繊維の形状は失われるものの、その繊維が有していた配向性が完全に又は部分的に維持される。例えば経糸と緯糸により織られた織布の場合、液晶性ポリマーの分子が2方向に配向していることから、圧着して得られた絶縁層においてもその元の配向性が完全に又は部分的に維持され、基材(A)の織布の繊維方向と概ね一致する。これが、基材(A)及び基材(A)に添着された液晶性ポリマー(B)を含む絶縁層における面方向の熱膨張率の低減に寄与しているものと推測される。 It is considered that the crystal orientation of the liquid crystalline polymer (B) is completely or partially maintained in the pressure bonding step. Accordingly, when the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) is pressure-bonded to the woven fabric of the base material (A), the shape of the fibers constituting the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) is lost, but the fibers are present. The orientation that has been achieved is fully or partially maintained. For example, in the case of a woven fabric woven with warp and weft, liquid crystal polymer molecules are oriented in two directions, so that the original orientation of the insulating layer obtained by pressure bonding is completely or partially. And substantially coincides with the fiber direction of the woven fabric of the substrate (A). This is presumed to contribute to the reduction of the coefficient of thermal expansion in the plane direction in the insulating layer containing the substrate (A) and the liquid crystalline polymer (B) attached to the substrate (A).
本発明に係る金属張積層板は、誘電率や誘電正接が低く、優れた誘電特性を有すると共に、面方向の熱膨張性も低く抑えられる。従って、本発明に係る金属張積層板は、プリント配線板材料として好適である。 The metal-clad laminate according to the present invention has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, has excellent dielectric properties, and has low thermal expansion in the surface direction. Therefore, the metal-clad laminate according to the present invention is suitable as a printed wiring board material.
[プリント配線板]
本発明の別の態様によれば、絶縁層と、絶縁層の表面に形成された金属配線パターン(導体層)とを含むプリント配線板である。また、本発明に係る金属張積層板をビルドアップ材料として用いて形成されたプリント配線板も提供される。ここで、ビルドアップとは、金属張積層板に、一層毎に孔あけ加工、配線形成等を繰り返すことによって、多層構造のプリント配線板を作製する作業を意味する。
[Printed wiring board]
According to another aspect of the present invention, the printed wiring board includes an insulating layer and a metal wiring pattern (conductor layer) formed on the surface of the insulating layer. Also provided is a printed wiring board formed using the metal-clad laminate according to the present invention as a build-up material. Here, the build-up means an operation for producing a printed wiring board having a multilayer structure by repeating drilling, wiring formation, etc. for each layer on a metal-clad laminate.
本発明に係る金属張積層板をビルドアップ材料として用いる場合は、例えば、当該金属張積層板の金属箔を常法によりエッチングした後、樹脂組成物層(絶縁層)を常法により表面処理し、絶縁層表面にめっきにより配線パターン(導体層)を形成することにより、本発明のプリント配線板が得られる。これにより、本発明に係る金属張積層板の絶縁層及び金属層が、それぞれプリント配線板の絶縁層及び金属配線パターンを構成することになる。こうして得られた絶縁層は、基材(A)と、基材(A)に添着された液晶性ポリマー(B)とを含む。なお、本発明に係る金属張積層板と共に、任意により他の公知のプリプレグ、樹脂シート又は金属張積層板を、ビルドアップ材料として併用してもよい。 When using the metal-clad laminate according to the present invention as a build-up material, for example, after etching the metal foil of the metal-clad laminate by a conventional method, the resin composition layer (insulating layer) is surface-treated by a conventional method. The printed wiring board of the present invention can be obtained by forming a wiring pattern (conductor layer) on the insulating layer surface by plating. Thereby, the insulating layer and metal layer of the metal-clad laminate according to the present invention constitute the insulating layer and metal wiring pattern of the printed wiring board, respectively. The insulating layer thus obtained includes a base material (A) and a liquid crystalline polymer (B) attached to the base material (A). In addition to the metal-clad laminate according to the present invention, other known prepreg, resin sheet, or metal-clad laminate may optionally be used in combination as a build-up material.
本発明のプリント配線板は、多層プリント配線板とすることも可能である。例えば、本発明の金属張積層板を形成した後、これに内層回路を形成し、得られた回路に黒化処理を実施して、内層回路板とする。こうして得られた内層回路板、又は、金属箔(例えば銅やアルミニウム等)の片面又は両面に、プリプレグ又は樹脂シートを配置し、更に金属箔(例えば銅やアルミニウム等)又は離型フィルム(ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体フィルム等の表面に離型剤を塗布したフィルム)をその外側に配置する、という操作を繰り返して積層成形し、適宜上述の各種肯定を施すことにより、多層プリント配線板が製造される。 The printed wiring board of the present invention can be a multilayer printed wiring board. For example, after the metal-clad laminate of the present invention is formed, an inner layer circuit is formed thereon, and the resulting circuit is subjected to blackening treatment to obtain an inner layer circuit board. A prepreg or resin sheet is arranged on one or both sides of the inner layer circuit board or metal foil (for example, copper or aluminum) thus obtained, and further metal foil (for example, copper or aluminum) or a release film (polyethylene film). A film formed by applying a release agent on the surface of a polypropylene film, a polycarbonate film, a polyethylene terephthalate film, an ethylene tetrafluoroethylene copolymer film, etc.) is repeatedly laminated and molded as described above. By giving various affirmations, a multilayer printed wiring board is manufactured.
積層成形は、通常のプリント配線板用積層板の積層成形に一般に使用される手法、例えば、多段プレス、多段真空プレス、ラミネーター、真空ラミネーター、オートクレーブ成形機等を使用し、温度は例えば100〜400℃、圧力は例えば0.1〜100kgf/cm2(約9.8kPa〜約38MPa)、加熱時間は例えば30秒〜5時間の範囲で適宜選択して行う。また、必要に応じて、例えば150〜400℃の温度で後硬化を行い、硬化度を調整してもよい。 Laminate molding uses a technique generally used for laminate molding of ordinary laminates for printed wiring boards, for example, a multistage press, a multistage vacuum press, a laminator, a vacuum laminator, an autoclave molding machine, etc., and the temperature is, for example, 100 to 400 C., pressure is, for example, 0.1 to 100 kgf / cm 2 (about 9.8 kPa to about 38 MPa), and heating time is appropriately selected within a range of, for example, 30 seconds to 5 hours. Moreover, you may postcure at the temperature of 150-400 degreeC, for example as needed, and may adjust a hardening degree.
以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、以下の実施例及び比較例において、基材(A)の織布の経糸及び緯糸と液晶性ポリマー(B)の織布の経糸及び緯糸とのズレ角度は、以下の手順で確認した。即ち、まず基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを重ねて配置した状態で、同一位置での画像を取得し、近接する基材織布のヤーン及び液晶性ポリマー織布のヤーンの各々に沿って長さ5mmの直線を引き、基材織布のヤーンに沿って得られた直線と、液晶性ポリマー織布のヤーンに沿って得られた直線の成す角度を、前記ズレ角度として測定した。
The present invention will be described in detail below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the following examples and comparative examples, the deviation angle between the warp and weft of the woven fabric of the substrate (A) and the warp and weft of the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) was confirmed by the following procedure. That is, first, an image at the same position is acquired in a state where the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) are arranged to overlap, and the yarns and liquid crystalline properties of the adjacent base material woven fabric are acquired. An angle formed by drawing a straight line having a length of 5 mm along each of the yarns of the polymer woven fabric and the straight line obtained along the yarns of the base woven fabric and the straight line obtained along the yarns of the liquid crystalline polymer woven fabric Was measured as the deviation angle.
実施例1
基材として厚さ0.07mmのEガラスクロス(日東紡製E2013)(基材織布)を用いた。基材の上下に厚さ0.07mmの液晶性ポリマー織布(旭化成イーマテリアルズ製116XC)を配置した。基材織布の経糸及び緯糸と液晶性ポリマー織布の経糸及び緯糸の最大のズレ角度は5度とした。さらにその上下に厚さ18μm電解銅箔を配置し、圧力40kgf/cm2(約392N/cm2)、温度350℃で30分間プレス(圧着)を行うことにより、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Example 1
An E glass cloth (Nittobo E2013) (base material woven fabric) having a thickness of 0.07 mm was used as the base material. A 0.07 mm-thick liquid crystalline polymer woven fabric (116XC manufactured by Asahi Kasei E-Materials) was placed above and below the substrate. The maximum deviation angle between the warp and weft of the base woven fabric and the warp and weft of the liquid crystalline polymer woven fabric was 5 degrees. Further, 18 μm thick electrolytic copper foil is placed on the top and bottom, and a pressure of 40 kgf / cm 2 (about 392 N / cm 2 ) and a temperature of 350 ° C. are pressed (crimped) for 30 minutes, so that the liquid crystalline polymer is attached to the substrate. A 0.1 mm thick copper clad laminate (metal clad laminate) was obtained.
実施例2
実施例1で用いた液晶性ポリマー織布の代わりに、厚さ0.075mmの液晶性ポリマー織布(旭化成イーマテリアルズ製116VT)を用い、ガラスクロスの経糸及び緯糸と液晶性ポリマー織布の経糸及び緯糸との最大ズレ角度を11度とした以外は、実施例1と同様の操作により、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板を得た。
Example 2
Instead of the liquid crystalline polymer woven fabric used in Example 1, a liquid crystalline polymer woven fabric having a thickness of 0.075 mm (116VT manufactured by Asahi Kasei E-Materials) was used. A copper clad laminate having a thickness of 0.1 mm in which a liquid crystalline polymer was attached to a base material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the maximum deviation angle between the warp and the weft was 11 degrees.
実施例3
基材として、実施例2で用いたEガラスクロスの代わりに、厚さ0.07mmのNEガラスクロス(日東紡製NE2013)を用い、ガラスクロスの経糸及び緯糸と液晶性ポリマー織布の経糸及び緯糸との最大ズレ角度を7度とした以外は、実施例2と同様の操作により、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Example 3
As a base material, instead of the E glass cloth used in Example 2, a NE glass cloth having a thickness of 0.07 mm (Nittobo NE2013) was used, and the warp and weft of the glass cloth and the warp of the liquid crystalline polymer woven fabric and A copper-clad laminate (metal-clad laminate) having a thickness of 0.1 mm in which a liquid crystalline polymer is attached to a base material is performed in the same manner as in Example 2 except that the maximum deviation angle from the weft is 7 degrees. Obtained.
実施例4
基材として、実施例3で用いたEガラスクロスの代わりに、厚さ0.07mmのTガラスクロス(日東紡製T2013)を用い、ガラスクロスの経糸及び緯糸と液晶性ポリマー織布の経糸及び緯糸との最大ズレ角度を3度とした以外は、実施例3と同様の操作により、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Example 4
As a base material, instead of the E glass cloth used in Example 3, a T glass cloth having a thickness of 0.07 mm (T2013, manufactured by Nittobo Co., Ltd.) was used. The warp and weft of the glass cloth and the warp of the liquid crystalline polymer woven fabric and A copper-clad laminate (metal-clad laminate) having a thickness of 0.1 mm in which a liquid crystalline polymer is attached to a base material is performed in the same manner as in Example 3 except that the maximum deviation angle from the weft is 3 degrees. Obtained.
実施例5
実施例4で用いた液晶性ポリマー織布の代わりに、厚さ0.07mmの液晶性ポリマー織布(旭化成イーマテリアルズ製116XC)を用い、ガラスクロスの経糸及び緯糸と液晶性ポリマー織布の経糸及び緯糸との最大ズレ角度を4度とした以外は、実施例4と同様の操作により、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Example 5
In place of the liquid crystalline polymer woven fabric used in Example 4, a liquid crystalline polymer woven fabric having a thickness of 0.07 mm (116XC manufactured by Asahi Kasei E-Materials) was used. A copper-clad laminate (metal-clad laminate) having a thickness of 0.1 mm in which a liquid crystalline polymer is attached to a base material by the same operation as in Example 4 except that the maximum deviation angle between the warp and the weft is 4 degrees. )
比較例1
基材として、実施例1で用いたEガラスクロスを使用せず、厚さ0.05mmの液晶性ポリマーフィルム(クラレ製ベクスターCT−Z)を2枚配置した以外は、実施例1と同様の操作により、厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Comparative Example 1
As the substrate, the same as in Example 1 except that the E glass cloth used in Example 1 was not used and two liquid crystalline polymer films (Kuraray Bexter CT-Z) having a thickness of 0.05 mm were disposed. By operation, a copper clad laminate (metal clad laminate) having a thickness of 0.1 mm was obtained.
比較例2
基材として厚さ0.07mmのEガラスクロス(日東紡製E2013)を用いた。基材の上下に厚さ0.05mmの液晶性ポリマーフィルム(クラレ製ベクスターCT−Z)を配置し、さらにその上下に厚さ18μm電解銅箔を配置し、圧力40kgf/cm2(約392N/cm2)、温度350℃で30分間プレス(圧着)を行うことにより、基材に液晶性ポリマーが添着された厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Comparative Example 2
An E glass cloth (Nittobo E2013) having a thickness of 0.07 mm was used as a substrate. A liquid crystalline polymer film (Kuraray Bexter CT-Z) having a thickness of 0.05 mm is disposed above and below the substrate, and an 18 μm thick electrolytic copper foil is further disposed above and below the film, and a pressure of 40 kgf / cm 2 (about 392 N / cm 2 ) at a temperature of 350 ° C. for 30 minutes to obtain a copper-clad laminate (metal-clad laminate) having a thickness of 0.1 mm in which a liquid crystalline polymer is attached to a substrate.
比較例3
フェノールノボラック型エポキシ(DIC製EPICRON770)63重量部と、フェノールノボラック樹脂(DIC製TD2090)37重量部をメチルエチルケトンで溶解混合し、溶融シリカ(電気化学工業製FB−3SDC)200重量部を撹拌混合した中に、2−エチル−5−メチルイミダゾール(四国化成製2E4MZ)0.03重量部を混合してワニスを得た。このワニスをメチルエチルケトンで希釈し、厚さ0.1mmのEガラスクロス(日東紡製E2013)に含浸塗工し、160℃で5分間加熱乾燥して、樹脂含有量50重量%のプリプレグを得た。次に、このプリプレグ1枚の上下に、18μmの電解銅箔を配置し、圧力30kgf/cm2(約294N/cm2)、温度220℃で120分間プレスを行い、厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Comparative Example 3
63 parts by weight of a phenol novolac epoxy (DIC EPICRON 770 manufactured by DIC) and 37 parts by weight of a phenol novolak resin (DIC TD2090) were dissolved and mixed with methyl ethyl ketone, and 200 parts by weight of fused silica (FB-3SDC manufactured by Denki Kagaku Kogyo) were mixed. Into this, 0.03 part by weight of 2-ethyl-5-methylimidazole (2E4MZ manufactured by Shikoku Chemicals) was mixed to obtain a varnish. This varnish was diluted with methyl ethyl ketone, impregnated on 0.1 mm thick E glass cloth (Nittobo E2013), and heated and dried at 160 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg having a resin content of 50% by weight. . Next, 18 μm electrolytic copper foil is placed on the top and bottom of one prepreg, pressed at a pressure of 30 kgf / cm 2 (about 294 N / cm 2 ) and a temperature of 220 ° C. for 120 minutes, and a 0.1 mm thick copper A stretched laminate (metal-clad laminate) was obtained.
比較例4
溶融シリカの使用量を100重量部とした以外は、比較例3と同様の操作により、厚さ0.1mmの銅張積層板(金属張積層板)を得た。
Comparative Example 4
A copper-clad laminate (metal-clad laminate) having a thickness of 0.1 mm was obtained in the same manner as in Comparative Example 3 except that the amount of fused silica used was 100 parts by weight.
物性の測定及び結果
上記手順で得られた実施例1〜5及び比較例1〜4により得られた銅張積層板(金属張積層板)について、以下の手法で、熱膨張率、比誘電率及び誘電正接を測定した。
Measurement and results of physical properties For the copper-clad laminates (metal-clad laminates) obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 obtained by the above procedure, the thermal expansion coefficient and the relative dielectric constant are as follows. And the dielectric loss tangent were measured.
・熱膨張率:銅張積層板の銅箔を除去した試験片を使用し、熱機械分析装置(TAインスツルメント製Q400)を用いて、40℃から300℃まで毎分10℃で昇温し、60℃から120℃での面方向の熱膨張係数(ppm/℃)を測定した。測定方向は、銅張積層板のガラスクロス(基材)の縦方向(Warp)とした。 -Thermal expansion coefficient: Using a test piece from which the copper foil of the copper clad laminate was removed, the temperature was increased from 40 ° C to 300 ° C at 10 ° C per minute using a thermomechanical analyzer (TA Instruments Q400). The coefficient of thermal expansion (ppm / ° C.) in the plane direction at 60 ° C. to 120 ° C. was measured. The measurement direction was the longitudinal direction (Warp) of the glass cloth (base material) of the copper clad laminate.
・比誘電率及び誘電正接:銅張積層板の銅箔を除去した試験片を使用し、空洞共振器摂動法(アジレントテクノロジー製Agilent 8722ES)にて、10GHzの比誘電率及び誘電正接を測定した。 Relative permittivity and dielectric loss tangent: Using a test piece from which the copper foil of the copper clad laminate was removed, the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of 10 GHz were measured by the cavity resonator perturbation method (Agilent Technology Agilent 8722ES). .
得られた結果を以下の表1に示す。
本発明に係る金属張積層板は、上述のように、優れた誘電特性と低熱膨張性とを兼ね備えていることから、プリント配線板材料として有用であり、その工業的な実用性は極めて高い。 Since the metal-clad laminate according to the present invention has both excellent dielectric properties and low thermal expansion as described above, it is useful as a printed wiring board material, and its industrial practicality is extremely high.
Claims (10)
絶縁層が、基材(A)の織布と液晶性ポリマー(B)の織布とを、各織布の繊維方向が同方向となるように積層した状態で、圧着して形成されたものである、金属張積層板。 A metal-clad laminate comprising a base material (A) and an insulating layer containing a liquid crystalline polymer (B) attached to the base material (A), and a metal layer provided on the insulating layer,
The insulating layer is formed by press-bonding the woven fabric of the base material (A) and the woven fabric of the liquid crystalline polymer (B) so that the fiber directions of each woven fabric are in the same direction. A metal-clad laminate.
からなる群から選ばれる構造を有する、請求項1に記載の金属張積層板。 The liquid crystalline polymer (B) has the following formula:
The metal-clad laminate according to claim 1, having a structure selected from the group consisting of:
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