Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6194529B2 - Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6194529B2 - Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer - Google Patents

Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer Download PDF

Info

Publication number
JP6194529B2
JP6194529B2 JP2014093126A JP2014093126A JP6194529B2 JP 6194529 B2 JP6194529 B2 JP 6194529B2 JP 2014093126 A JP2014093126 A JP 2014093126A JP 2014093126 A JP2014093126 A JP 2014093126A JP 6194529 B2 JP6194529 B2 JP 6194529B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reamer
abrasive grains
adhesive layer
honing
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014093126A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015202558A (en
Inventor
廣志 上岡
廣志 上岡
廣美 遠藤
廣美 遠藤
Original Assignee
株式会社竹沢精機
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社竹沢精機 filed Critical 株式会社竹沢精機
Priority to JP2014093126A priority Critical patent/JP6194529B2/en
Publication of JP2015202558A publication Critical patent/JP2015202558A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6194529B2 publication Critical patent/JP6194529B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Milling, Broaching, Filing, Reaming, And Others (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

本発明はホーニングリーマのリーマ部にダイヤモンド等の砥粒を配設する発明に関するもので、特に接着剤層を活用して砥粒を固着し、生産性の向上を図るようにしたホーニングリーマと、それを用いた加工装置と、ホーニングリーマの製作方法に係わるものである。The present invention relates to an invention in which abrasive grains such as diamond are disposed in a reamer portion of a honing reamer, and in particular, a honing reamer that uses an adhesive layer to fix the abrasive grains so as to improve productivity . The present invention relates to a processing apparatus using the same and a manufacturing method of a honing reamer.

マシニングセンター等をもってワーク(例えば、シリンダー等)に下孔を明け、その下孔を要求仕上げ寸法精度例えば3μm(マイクロメートル)以下のバラツキに仕上げるホーニングリーマにはダイヤモンド等を母材に電着したものが良く用いられている。
このダイヤモンドは、母材にニッケルめっき、或いは接着剤をもって、仮止めされ、その後、再びニッケルめっき(電着)にて固着されるものである。
ニッケルめっきで砥粒(ダイヤモンド)を母材に仮止めした例には特許文献1(特開2005〜279842)があり、接着剤をもって砥粒を仮止めした後、電着めっきした例には特許文献2(特開2011〜235429)がある。
A honing reamer with a machining center or the like that drills a pilot hole in a workpiece (such as a cylinder) and finishes the pilot hole with a required finishing dimensional accuracy of, for example, 3 μm (micrometers) or less. It is often used.
The diamond is temporarily fixed to the base material with nickel plating or an adhesive, and then fixed again by nickel plating (electrodeposition).
Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-279842) is an example in which abrasive grains (diamonds) are temporarily fixed to a base material by nickel plating, and an example in which electrodeposition plating is performed after temporarily fixing abrasive grains with an adhesive is patented. There exists literature 2 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-235429).

特許文献1に示されたものは、母材にダイヤモンドをふりかけた後、仮止め用めっき槽に浸し、その後固定めっき槽でめっきを行ない、ダイヤモンドを母材に固定したものである。
また、特許文献2に示されたものは、導電性のある接着シートに砥粒を規則正しく並べ、その接着シートを母材に貼り付け仮止めした後、電着ニッケルめっきを接着シ−トの上から施したものである。
また、特許文献2では、リーマ駆動時、拡縮用スリット部の近くの砥粒及び接着剤層には大きな負荷がかかる点、リーマ基材への砥粒及び接着剤層の密着固着強度を増すための手段等については何等示されていなかった。
In Patent Document 1, diamond is sprinkled on a base material, dipped in a temporary fixing plating tank, and then plated in a fixed plating tank to fix the diamond to the base material.
In addition, in Patent Document 2, abrasive grains are regularly arranged on a conductive adhesive sheet, the adhesive sheet is affixed to a base material and temporarily fixed, and then an electrodeposited nickel plating is applied on the adhesive sheet. It was made from.
In Patent Document 2, a large load is applied to the abrasive grains and the adhesive layer near the expansion / contraction slit when the reamer is driven, and the adhesion and fixing strength of the abrasive grains and the adhesive layer to the reamer substrate is increased. Nothing was shown about the means of.

特開2005〜279842  JP 2005-279842 A 特開2011−235429  JP2011-235429A

特許文献1に示された、砥粒固着構造は、先にも記述した如く、仮止めと、本止めの2回のめっき工程により行なわれる。
従って、仮止め固定時、母材と砥粒間とには当然めっき液が入り込む、これにより砥粒が動き、砥粒自体のバラツキ以外に仮止め、めっき時の動きが加算されて砥粒先端は不揃いとなる傾向にあった。特許文献1に於いては、これを修正する目的で、ツルーイング行程を設け、これを修正していた。
従って、この修正工程がホーニングリーマのコストを割高としていたことは勿論、生産工程の合理化には反し、高価なダイヤモンド自体を無駄に処理する結果となっていた。
As described above, the abrasive grain fixing structure disclosed in Patent Document 1 is performed by two plating steps of temporary fixing and permanent fixing.
Therefore, when the temporary fixing is fixed, the plating solution naturally enters between the base material and the abrasive grains. As a result, the abrasive grains move, and the movement at the temporary fixing and plating is added in addition to the variation of the abrasive grains themselves. Tended to be uneven. In Patent Document 1, a truing process is provided and corrected for the purpose of correcting this.
Therefore, this correction process increases the cost of the honing reamer, and, contrary to the rationalization of the production process, results in wasteful processing of the expensive diamond itself.

また、特許文献2に示された砥粒固着構造は、導電性の接着シートに砥粒を千鳥状に規則正しく並べ、その接着シートを母材に貼り付け、これを仮止め手段とし、次に電着めっきを施し本止めとしたものである。
このものであるとめっき液で砥粒が浮くことがないので、砥粒先端不揃いの要因は減少するが、不揃いになる要因は上記砥粒のバラツキだけではなく、例えば、接着シートの貼り付け方等に於いても、当然バラツキは生じてしまう。
従って、このものに於いても特許文献1同様の修正工程を必要としていた。
これにより、本文献に示されたものも当然コストは割高となり、生産工程の機械化を阻害していた。
Further, the abrasive grain fixing structure disclosed in Patent Document 2 is a method in which abrasive grains are regularly arranged in a staggered pattern on a conductive adhesive sheet, the adhesive sheet is attached to a base material, and this is used as a temporary fixing means. It is the one that has been fixed by applying plating.
Since the abrasive grains do not float with the plating solution in this case, the cause of unevenness of the abrasive grain tip is reduced, but the cause of unevenness is not only the variation of the abrasive grains but also, for example, how to attach the adhesive sheet, etc. Of course, variations will occur.
Therefore, this also requires a correction process similar to that of Patent Document 1.
As a result, the cost shown in this document is naturally high, which hinders mechanization of the production process.

上記の如く、特許文献1、2ともに砥粒を規則正しく並べ砥粒密度を管理し、切粉等の排出を良好にして、ホーニングリーマを使っての研削性能を向上させたものであるが、めっき後の砥粒先端の管理等に付いては何等考慮しておらずツルーイング工程を設けることで砥粒先端を揃えるようにしたものであった。
この為、結果として工程数を増やしホーニングリーマのコストを割高とし、且つ生産工程の合理化には反し、高価なダイヤモンド自体を無駄に処理する結果となる課題があった。
本発明は上記課題の解決を目的としてなされたものである。
As described above, both Patent Documents 1 and 2 are arranged regularly to control the abrasive density, improve the discharge of chips, etc., and improve the grinding performance using a honing reamer. No consideration was given to subsequent management of the abrasive grain tip, and the tip of the abrasive grain was made uniform by providing a truing process.
For this reason, there has been a problem that the number of processes is increased, the cost of the honing reamer is increased, and the production process is rationalized, and expensive diamonds themselves are wasted.
The present invention has been made for the purpose of solving the above problems.

本発明は上記課題の解決を目的としてなされたものである。
即ち、接着剤をリーマ基材に接着剤層を作るように厚く塗り付け、この接着剤層内に砥粒を埋め込むことにより砥粒の密着固定強度を高めると共に、砥粒植え付け時のバラツキ及び砥粒自体のバラツキから来る砥粒先端側のバラツキを、該接着剤層内で吸収させるようにしたものである。
また、拡縮用スリット部に隣接する砥粒及び接着剤層のリーマ基材への密着強度を向上 させるようにしたものである。
The present invention has been made for the purpose of solving the above problems.
That is, the adhesive is thickly applied to the reamer base material so as to form an adhesive layer, and by embedding abrasive grains in the adhesive layer, the adhesion and fixing strength of the abrasive grains is increased, and variations and abrasives at the time of abrasive grain planting are increased. Variations on the front end side of the abrasive grains coming from variations in the grains themselves are absorbed in the adhesive layer.
Further, the adhesion strength of the abrasive grains and the adhesive layer adjacent to the enlargement / reduction slit portion to the reamer base material is improved .

この手段として、接着剤層をもって砥粒がリーマ基材に仮止され、そのリーマ基材に砥粒を固着するめっき層が施されているホーニングリーマに於いて、
拡縮用スリット部を除いてリーマ基材外周に設けた接着剤層には、砥粒が仮止めされ、その砥粒は第一のめっき層で基材に固着されていると共に、上記拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び拡縮用スリット部は上記第一のめっき層の他に、第二のめっきで覆われているホーニングリーマとしたものである。
こうすることで、スリット部に隣接する砥粒及び接着剤層は第一のめっき層の他に第二のめっきで覆われ密着強度が向上しているので、駆動時の負荷が増大しても、従来の如く、砥粒及び接着剤層がリーマ基材から、剥がれると言うことがないものである。
As this means, in the honing reamer in which the abrasive grains are temporarily fixed to the reamer base material with the adhesive layer, and the plating layer for fixing the abrasive grains to the reamer base material is applied.
Abrasive grains are temporarily fixed to the adhesive layer provided on the outer periphery of the reamer substrate except for the expansion / contraction slits, and the abrasive grains are fixed to the base material with the first plating layer, and the expansion / contraction slits described above. In addition to the first plating layer, the adhesive layer adjacent to the portion and the slit portion for expansion / contraction are a honing reamer covered with a second plating.
By doing so, the abrasive grains and adhesive layer adjacent to the slit portion are covered with the second plating in addition to the first plating layer, and the adhesion strength is improved, so even if the load during driving increases As in the prior art, the abrasive grains and the adhesive layer are not peeled off from the reamer substrate.

また、拡縮用スリット部とそのスリット部に隣接する接着剤層とに、第一のニッケルめっき層の他に、第二のニッケルめっきを施しリーマ基材に接着剤層及び砥粒を固着させたホーニングリーマである。In addition to the first nickel plating layer, the second nickel plating was applied to the expansion / contraction slit portion and the adhesive layer adjacent to the slit portion, and the adhesive layer and the abrasive grains were fixed to the reamer substrate. Honing reamer.
以上のように、第二のめっきにも第一と同じニッケルめっきを使用するようにしたので、特別なめっき槽を準備する必要がないものである。As described above, since the same nickel plating as the first plating is used for the second plating, it is not necessary to prepare a special plating tank.

また、拡縮用スリット部はリーマ部に数条設けられ、スリット部近くの研削屑を排出するホーニングリーマである。The expansion / contraction slit portion is a honing reamer that is provided in the reamer portion and discharges grinding scraps near the slit portion.
本発明のホーニングリーマは、拡縮用スリットを設けているので研削屑の排出の他、研削油の供給、リーマ外径寸法の微調整が行えるものである。The honing reamer according to the present invention is provided with a slit for expansion / contraction, so that grinding waste can be discharged, grinding oil can be supplied, and the reamer outer diameter can be finely adjusted.

また、砥粒を仮止めする接着剤層に吸振性のある接着剤を使用したホーニングリーマである。Moreover, it is a honing reamer which uses the adhesive agent which has vibration absorption for the adhesive bond layer which temporarily fixes an abrasive grain.
こうすることで、本発明のホーニングリーマは使用時に発生する振動を吸振することが出来るので騒音対策及び環境対策が図れる。By doing so, the honing reamer of the present invention can absorb vibrations generated during use, and therefore noise and environmental measures can be taken.

また、ホーニングリーマを工作機械の主軸に上下動可能に組み付けワークの下穴を超精密仕上げ加工するホーニングリーマを用いた加工装置としたものである。In addition, the honing reamer is assembled to the main spindle of the machine tool so as to be movable up and down, and the machining device using the honing reamer for finishing the prepared hole of the workpiece with an ultra-precision finish is provided.
こうすることで、安価にして且つ精度が高く、信頼性の高い研削仕上げ加工が出来るものである。By doing so, it is possible to perform grinding finishing with low cost, high accuracy, and high reliability.

また、拡縮用スリット部を除いてリーマ基材外周に設けた接着剤層には砥粒が仮止めされ、その砥粒は第一のめっき層で基材に固着されていると共に、上記拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び拡縮用スリット部は上記第一のめっき層の他に、第二のめっきで覆われているホーニングリーマの製作方法である。In addition, abrasive grains are temporarily fixed to the adhesive layer provided on the outer periphery of the reamer substrate except for the slit portion for expansion / contraction, and the abrasive grains are fixed to the substrate with the first plating layer, and The adhesive layer adjacent to the slit part and the slit part for expansion / contraction are the manufacturing method of the honing reamer covered with the second plating in addition to the first plating layer.
こうすることで、従来、拡縮用スリット部に隣接する砥粒及び接着剤層及び拡縮用スリット部は、リーマ駆動時の負荷で損傷しやすかったが、本発明のスリット部に隣接する砥粒及び接着剤層は第一のめっき層の他に第二のめっきで覆われ密着強度が向上しているので、駆動時の負荷が増大しても、砥粒及び接着剤層がリーマ基材から、剥がれると言うこThus, conventionally, the abrasive grains and the adhesive layer adjacent to the enlargement / reduction slit part and the enlargement / reduction slit part were easily damaged by the load during the reamer drive, but the abrasive grains adjacent to the slit part of the present invention and Since the adhesive layer is covered with the second plating in addition to the first plating layer and the adhesion strength is improved, even if the load during driving increases, the abrasive grains and the adhesive layer are removed from the reamer substrate. Saying that it will come off とがないホーニングリーマの製作方法が得られる。A method for making a honing reamer is available.

また、リーマ基材外周に塗布される接着剤層の膜厚は30〜60μmとしたホーニングリーマの製作方法である。Moreover, it is a manufacturing method of the honing reamer whose film thickness of the adhesive bond layer apply | coated to a reamer base | substrate outer periphery was 30-60 micrometers.
こうすることで、製造設備の合理化、仕上げ工程の簡略化を可能としたホーニングリーマの製作方法が得られる。By doing so, a manufacturing method of a honing reamer that can rationalize the manufacturing equipment and simplify the finishing process can be obtained.

また、リーマ外径の1/4範囲を押圧することが出来る円弧を有する押し込みシートと、その押し込みシート外径を小さくするシートガイドとを持つ、押し込みプレスの押し込みシートで、砥粒をリーマ基材の中心に向って押圧し、砥粒を接着剤層に位置させたホーニングリーマの製作方法である。Also, a pressing sheet of a pressing press having a pressing sheet having an arc capable of pressing a ¼ range of the outer diameter of the reamer and a sheet guide for reducing the outer diameter of the pressing sheet. Is a manufacturing method of a honing reamer in which the abrasive grains are pressed toward the center of the substrate and the abrasive grains are positioned in the adhesive layer.
以上の如く本発明は押し込みプレスで砥粒を加圧する範囲を大きくしているので押し出される接着剤の逃げ場が広くなり、接着剤が外にはみださないホーニングリーマの製作方法が得られる。As described above, the present invention increases the range in which the abrasive grains are pressed by the indentation press, so that the escape area of the extruded adhesive is widened, and a method for producing a honing reamer in which the adhesive does not protrude outside is obtained.

本発明のスリット部に隣接する砥粒及び接着剤層は第一のめっき層の他に第二のめっきで覆われ密着強度が向上しているので、駆動時の負荷が増大しても、従来の如く、砥粒及び接着剤層がリーマ基材から、剥がれると言うことがないものである。Since the abrasive grains and the adhesive layer adjacent to the slit portion of the present invention are covered with the second plating in addition to the first plating layer and the adhesion strength is improved, even if the load during driving increases, the conventional As described above, the abrasive grains and the adhesive layer are not peeled off from the reamer base material.

更に、製造設備の合理化、仕上げ工程の簡略化を可能としたので、ホーニングリーマ単体は勿論、加工装置及び製作方法を安価にすることが出来るものである。
また、このホーニングリーマを備えた加工装置による研削作業も切粉等の排出も良好となり安価にして且つ精度の高い研削仕上げ加工が出来るものである。
Furthermore, since the manufacturing equipment can be rationalized and the finishing process can be simplified, not only the honing reamer alone but also the processing apparatus and the manufacturing method can be made inexpensive.
In addition, the grinding operation by the processing apparatus equipped with the honing reamer and the discharge of chips and the like are good, and the grinding finish processing can be performed at a low cost and with high accuracy.

本発明を備えたホーニングリーマ(ダイヤモンドリーマ)と加工装置の要部説明図である。  It is principal part explanatory drawing of the honing reamer (diamond reamer) and processing apparatus provided with this invention. 図1に示すホーニングリーマの要部拡大斜視図である。  It is a principal part expansion perspective view of the honing reamer shown in FIG. 図2の要部拡大断面図である。  It is a principal part expanded sectional view of FIG. 図3のP部拡大図である。  It is the P section enlarged view of FIG. 図1のリーマ部の製作工程を示す図である。  It is a figure which shows the manufacturing process of the reamer part of FIG. 図5の製作工程を略図で説明した図である。  FIG. 6 is a diagram schematically illustrating the manufacturing process of FIG. 5. 図6に示す、加圧成形時に使用する押し込みプレスの説明図である。  It is explanatory drawing of the indentation press used at the time of pressure molding shown in FIG. 図3のP部相当図で、図3とは異なるダイヤモンドリーマの拡大断面図である。  FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a diamond reamer different from FIG.

次に本発明の詳細を図に示す一実施例で説明する。
先ず、図1〜図4に於いて、図1は本発明を備えたホーニングリーマ(ダイヤモンドリーマ)と加工装置の要部説明図である。図2は図1に示すホーニングリーマの要部拡大斜視図であり、図3は図2の要部拡大断面図であり、図4は図3のP部拡大図である。
図1に於いて、1は後述するホーニングリーマを取り付けるフローティングホルダー本体、このホルダー本体1はボール盤又はマシニングセンター等の汎用工作機械の主軸に取り付けられるものであるが、本実施例ではホーニングマシーンに取り付けた例で説明する。
Next, details of the present invention will be described with reference to an embodiment shown in the drawings.
First, in FIGS. 1 to 4, FIG. 1 is an explanatory view of a main part of a honing reamer (diamond reamer) and a processing apparatus provided with the present invention. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the honing reamer shown in FIG. 1, FIG. 3 is an enlarged sectional view of the main part of FIG. 2, and FIG. 4 is an enlarged view of a P part of FIG.
In FIG. 1, 1 is a floating holder body for mounting a honing reamer, which will be described later, and this holder body 1 is mounted on a spindle of a general-purpose machine tool such as a drilling machine or a machining center. In this embodiment, the holder body 1 is mounted on a honing machine. This will be explained with an example.

上記ホルダー本体1は上部にホーニングマシーンの主軸に装着されるホーニングリーマ5を装着するコレット3等を有している。4はスピンドルで、周知の構成を伴いホーニングリーマ5を上下動させる。(具体例としては同一出願人が取得した特許第3208559号である。)
6はナットであり、ホーニングリーマ5、ここではダイヤモンドリーマを保持するコレット3を締め付ける役目を果たす。このナット6は図にも示す如くホーニング用ホルダー本体1の先端(ベット側)に位置している。
The holder body 1 has a collet 3 or the like for mounting a honing reamer 5 mounted on the main shaft of the honing machine. Reference numeral 4 denotes a spindle which moves the honing reamer 5 up and down with a known configuration. (Specific example is Patent No. 3208559 acquired by the same applicant.)
Reference numeral 6 denotes a nut which serves to tighten the honing reamer 5, here the collet 3 holding the diamond reamer. The nut 6 is located at the tip (bed side) of the honing holder main body 1 as shown in the figure.

次に、図1を含め図2、図3に於いて、加工具たるホーニングリーマ5(ダイヤモンドリーマ)に付いて説明する。
ここで言うホーニングリーマ5はマシニングセンター等に装着されるシャンク7とワークの下孔を超精密仕上げ加工するリーマ部8を有している。
このリーマ部8は円筒形状をなしており外周表面に砥粒9例えばダイヤモンドを有している。
尚、ダイヤモンドリーマは例えば、鋳物、アルミニウム、銅、プラスチック、焼入鋼等の超精密仕上げ加工時に良く使用される。
Next, the honing reamer 5 (diamond reamer) as a processing tool will be described with reference to FIGS. 2 and 3 including FIG.
The honing reamer 5 mentioned here has a reamer portion 8 for ultra-precision finishing a shank 7 mounted on a machining center or the like and a prepared hole of the workpiece.
The reamer 8 has a cylindrical shape and has abrasive grains 9 such as diamond on the outer peripheral surface.
Diamond reamers are often used for ultra-precision finishing such as castings, aluminum, copper, plastic, and hardened steel.

10はリーマ部8に数条設けられたスリットである。このスリット10はリーマ部8の拡縮を行う為のものである。
11はリーマ部の内側に設けられた内部中空の孔を示す。この内部中空の孔11は端面側の内径が大きく奥に行くに従って内径が小さくなる孔である。
12、13は上記孔11に組み込まれリーマ部8を拡縮するもので12がボールであり、13がテーパーコーンである。14はボール12或いはテーパーコーン13を内部中空の孔11に押し込む押し込みネジである。上記ボール12若しくはテーパーコーン13は前記内部中空の孔11内に挿入され押し込みネジ14の移動により上記内部中空の孔11の傾斜面を移動する。
Reference numeral 10 denotes slits provided in the reamer unit 8 in several strips. The slit 10 is for expanding and contracting the reamer portion 8.
Reference numeral 11 denotes an internal hollow hole provided inside the reamer part. The inner hollow hole 11 has a larger inner diameter on the end face side and a smaller inner diameter as it goes deeper.
Reference numerals 12 and 13 are incorporated in the hole 11 to expand and contract the reamer portion 8, 12 is a ball, and 13 is a tapered cone. Reference numeral 14 denotes a pushing screw for pushing the ball 12 or the tapered cone 13 into the hollow hole 11 inside. The ball 12 or the tapered cone 13 is inserted into the inner hollow hole 11 and moves on the inclined surface of the inner hollow hole 11 by the movement of the push screw 14.

即ち、内部中空の孔11側に設けたネジ溝11aに押し込みネジ14側のネジ部15aを螺合し、押し込みネジ14を回し、テーパーコーンセット部15bでボール12若しくはテーパーコーン13を傾斜面に沿って進めるとボール12がスリット10を押し開く。(尚、上記押し込みネジ14は、ネジ部15a、テーパーコーンセット部15b等より成るものである。)
このことによりリーマ部8の外径は拡大するものである。並びに押し込みネジ14を上記とは反対側に回し、テーパーコーンセット部15bを傾斜面に沿って端面側に後退させるとボール12若しくはテーパーコーン13がスリット10の反発力でリーマ部8の外径を縮径するものである。
That is, the screw portion 15a on the push screw 14 side is screwed into the screw groove 11a provided on the inner hollow hole 11 side, the push screw 14 is rotated, and the ball 12 or the taper cone 13 is inclined to the inclined surface by the taper cone set portion 15b. As the ball advances, the ball 12 pushes the slit 10 open. (The push-in screw 14 includes a screw portion 15a, a tapered cone set portion 15b, and the like.)
As a result, the outer diameter of the reamer 8 is increased. When the pushing screw 14 is turned to the opposite side and the tapered cone set portion 15b is moved backward along the inclined surface toward the end surface side, the ball 12 or the tapered cone 13 causes the outer diameter of the reamer portion 8 to be increased by the repulsive force of the slit 10. The diameter is reduced.

次に、リーマ部8に取り付けられた砥粒9であるダイヤモンドの密着固定に付いて説明する。
このリーマ部8は先にも記述した如く拡縮機構(内部中空の孔11、ボール12、押し込みネジ14)をもたせている関係上円筒外周に数条のスリット10を有している。このスリット10はリーマ基材8aの外周数か所等分に配置され砥粒9の固着部に設けられている溝で構成されている。
Next, the adhesion and fixing of diamond as the abrasive grains 9 attached to the reamer unit 8 will be described.
As described above, the reamer 8 has several slits 10 on the outer periphery of the cylinder because of the expansion / contraction mechanism (internal hollow hole 11, ball 12, push screw 14). The slits 10 are formed by grooves provided at the outer peripheral portion of the reamer base 8 a at equal parts and provided at the fixing portion of the abrasive grains 9.

16は導電性がある接着剤層である。この接着剤層16は接着剤をリーマ基材8aに30〜60μmの膜厚で塗り付けたもので、この導電性接着剤層16はそれ自体導電性のある接着剤を使用しても良いが、表面に導電性を形成しても良い。
この場合、例えばリーマ基材8aの表面に塗られたエポキシ樹脂接着剤層(導電性でない)の表面をエッチング材で素化し、その素化した面に錫を吸着させ、感応性を付与し、次いでパナジューム溶液中に浸し、表面に金属層を作り、ここにニッケルめっき層を形成する等したものである。
Reference numeral 16 denotes a conductive adhesive layer. The adhesive layer 16 is obtained by applying an adhesive to the reamer substrate 8a with a film thickness of 30 to 60 μm, and the conductive adhesive layer 16 may use a conductive adhesive itself. In addition, conductivity may be formed on the surface.
In this case, for example, the surface of the epoxy resin adhesive layer (not conductive) applied to the surface of the reamer substrate 8a is primed with an etching material, tin is adsorbed on the surface, and sensitivity is imparted. Next, it is immersed in a panadium solution to form a metal layer on the surface, and a nickel plating layer is formed thereon.

この接着剤層16に先の砥粒9の仮止め固定部9cは密着固定(仮止め)されているものである。この砥粒9の仮止め構造に付いては後述するが、従来の如く単に砥粒9の一面が接着剤層16に接着されているのではなく、本発明の場合、砥粒9の固定部9c(複数面)が接着剤と密着するよう接着剤層16中に該砥粒9の底部が埋め込まれ固定部9cが仮止め若しくは固定されている。  The temporarily fixed fixing portion 9c of the abrasive grain 9 is adhered and fixed (temporarily fixed) to the adhesive layer 16. Although the temporary fixing structure of the abrasive grains 9 will be described later, one surface of the abrasive grains 9 is not simply bonded to the adhesive layer 16 as in the prior art. The bottom part of the abrasive grains 9 is embedded in the adhesive layer 16 so that 9c (plural surfaces) are in close contact with the adhesive, and the fixing part 9c is temporarily fixed or fixed.

尚、砥粒の密着固定強度をそれ程要求しない被加工物2の研削、仕上げ時には上記接着剤層16の砥粒固定が本固定として扱われることもある。また、この時使用される砥粒9の大きさは例えば平均砥粒径で、一般に市販されている125〜590μmである。
更に、この接着剤層16を形成する接着剤にはエポキシ系接着剤が使われ、リーマ基材8a外周にローラ等を使って均一に塗布され、膜厚を30〜60μmの接着剤層16としている。この膜厚は砥粒径125〜590μmの略一割から二割を埋め込むものである。
尚、この時のニッケルめっき厚は20〜30μmで管理される。これは比較的厚いめっき厚である。
In addition, when the workpiece 2 that does not require so much adhesive fixing strength of the abrasive grains is ground and finished, the fixing of the abrasive grains of the adhesive layer 16 may be treated as the main fixing. The size of the abrasive grains 9 used at this time is, for example, an average abrasive grain diameter, and is generally 125 to 590 μm that is commercially available.
Further, an epoxy adhesive is used as an adhesive for forming the adhesive layer 16, and is uniformly applied to the outer periphery of the reamer substrate 8a by using a roller or the like to form an adhesive layer 16 having a thickness of 30 to 60 μm. Yes. This film thickness embeds approximately 10% to 20% of the abrasive grain size of 125 to 590 μm.
In addition, the nickel plating thickness at this time is managed by 20-30 micrometers. This is a relatively thick plating thickness.

先の砥粒9の底面を含む複数面、高さ寸法で一割〜二割が膜厚30〜60μmの接着剤層16の中に埋め込まれることとなる。
更に、上記接着剤層16のリーマ基材8aへの喰い付きを良くする為に、リーマ基材8a素地は、電解脱脂、水洗、錆取り、水洗等の工程で活性化が図られている。
A plurality of surfaces including the bottom surface of the previous abrasive grains 9 and 10% to 20% in height are embedded in the adhesive layer 16 having a film thickness of 30 to 60 μm.
Furthermore, in order to improve the biting of the adhesive layer 16 to the reamer base material 8a, the reamer base material 8a substrate is activated in steps such as electrolytic degreasing, water washing, rust removal, and water washing.

17は第一のニッケルめっきである。この第一のニッケルめっき17は接着剤層16で仮止め固定等された砥粒9をリーマ基材8aに密着固定(本止め)させる役目を果たす。
尚、本実施例で説明する砥粒の大きさは砥粒径で例えば125〜590μmであり、接着剤層16の膜厚は30〜60μmである。
Reference numeral 17 denotes a first nickel plating. The first nickel plating 17 serves to fix (fix) the abrasive grains 9 temporarily fixed with the adhesive layer 16 to the reamer substrate 8a.
In addition, the magnitude | size of the abrasive grain demonstrated by a present Example is 125-590 micrometers by an abrasive grain diameter, and the film thickness of the adhesive bond layer 16 is 30-60 micrometers.

また、上記砥粒9はリーマ基材8aに対し一重であり、その密度は略均一に保持されるよう工夫されている。
換言すると、砥粒9は先端が外径線E(図3に図示)に、それぞれ接するよう揃って、接着剤層16に植え付けられていると言うことである。
Further, the abrasive grains 9 are single with respect to the reamer substrate 8a, and the density is devised so as to be kept substantially uniform.
In other words, the abrasive grains 9 are aligned with the outer diameter line E (shown in FIG. 3) so as to be in contact with each other and are planted in the adhesive layer 16.

図4は図3のP部拡大図である。
図3の場合、砥粒9の底面9aは半分近くがリーマ基材8aに当接していないと言う点である。しかし砥粒9先端9bは外径線Eには接している。
即ち、砥粒径のバラツキ及びその他の植付け誤差等は接着剤層16の膜厚内で吸収されている。
図4の場合、大半の砥粒9の底面9aがリーマ基材8aに当接し、砥粒9先端9bは外径線Eには接している。
この時は砥粒径のバラツキ及びその他の植付け誤差等が少ないときである。
FIG. 4 is an enlarged view of a portion P in FIG.
In the case of FIG. 3, the bottom surface 9a of the abrasive grains 9 is that nearly half is not in contact with the reamer substrate 8a. However, the tip 9b of the abrasive grain 9 is in contact with the outer diameter line E.
That is, variations in the abrasive grain size and other planting errors are absorbed within the thickness of the adhesive layer 16.
In the case of FIG. 4, the bottom surface 9 a of most abrasive grains 9 is in contact with the reamer base material 8 a, and the tip 9 b of the abrasive grains 9 is in contact with the outer diameter line E.
This is when there is little variation in the abrasive grain size and other planting errors.

次に、上記砥粒9をもったリーマ部8の製作工程等に付いて図5〜図7を用いて説明する。
図5は図1のリーマ部の製作工程を示す図であり、図6は図5の製作工程を略図で説明した図で、第7図は図6に示す押し込み成形(加圧成形)時に使用する押し込みプレスの説明図である。
先ずStep−1で、このリーマ部本体8を構成するリーマ基材8a、接着剤層16を構成する接着剤、それに砥粒9が材料として図の如く準備される。尚、この時リーマ基材8aはショットブラスト等で表面が粗とされている。又接着剤は耐熱性があり導電性のあるエポキシ系の接着剤が準備されている。
Next, the manufacturing process of the reamer unit 8 having the abrasive grains 9 will be described with reference to FIGS.
FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of the reamer portion of FIG. 1, FIG. 6 is a schematic diagram illustrating the manufacturing process of FIG. 5, and FIG. 7 is used in the press molding (pressure molding) shown in FIG. It is explanatory drawing of the pressing press to do.
First, at Step-1, the reamer base 8a constituting the reamer body 8 and the adhesive constituting the adhesive layer 16 and the abrasive grains 9 are prepared as materials as shown in the figure. At this time, the surface of the reamer substrate 8a is roughened by shot blasting or the like. In addition, an epoxy adhesive having heat resistance and conductivity is prepared.

更に、砥粒9はダイヤモンドを準備したが、これに限定されるものではない。又砥粒9の大きさは例えば300μm前後のものを準備したが、これもこの大きさに限定されるものではなく、例えば125〜590μmであれば本発明に適用可能である。
但し、この時は、後述する接着剤層16及び第一のニッケルめっき17等の層厚(膜厚)は当然変える必要が出てくる。
Furthermore, although the abrasive grain 9 prepared the diamond, it is not limited to this. Moreover, although the size of the abrasive grains 9 is prepared, for example, around 300 μm, this is not limited to this size. For example, 125 to 590 μm is applicable to the present invention.
However, at this time, it is naturally necessary to change the layer thickness (film thickness) of the adhesive layer 16 and the first nickel plating 17 described later.

Step−1で準備された接着剤はStep−2でリーマ部本体8を構成するリーマ基材8aに塗られ、接着剤層16となる。この接着剤塗布時には、リーマ基材8aは定速回転しており、粘度調整された接着剤がローラ等を使ってリーマ基材8aの外周に塗られる。
次いで、定速回転しているリーマ基材8aにはStep−3で砥粒9が降りかけられる。
この時、回転速度は砥粒9の径、或はリーマ基材形状に合う速度(予じめ検討して設定された速度)に設定されている。
The adhesive prepared in Step-1 is applied to the reamer base material 8a constituting the reamer body 8 in Step-2, and becomes an adhesive layer 16. At the time of applying the adhesive, the reamer substrate 8a rotates at a constant speed, and the viscosity-adjusted adhesive is applied to the outer periphery of the reamer substrate 8a using a roller or the like.
Next, the abrasive grains 9 are dropped on the reamer substrate 8a rotating at a constant speed in Step-3.
At this time, the rotation speed is set to a speed that matches the diameter of the abrasive grains 9 or the shape of the reamer base material (a speed set by preliminary examination).

また、リーマ基材8aに降りかけられた砥粒9の内、接着剤層16に到達し接着された砥粒9はリーマ基材8aに残るが、接着剤層16に到達しなかった砥粒9はリーマ基材8aにとどまることが出来ず下方容器(図示せず)に落下し、再び降りかけるダイヤモンド側に戻される。
換言すると、リーマ基材8aには一重で且つ、ある程度の密度でしか接着されないように、予め、検討し後述する微振動、若しくは、リーマ基材8aの回転数等を決めておくものである。
尚、リーマ基材8aの回転スピードを変えて砥粒を必要としない所、(例えば先のスリット10部等)には砥粒9が降りかからないよう制御することも出来る。
また、Step−4ではリーマ基材8aを回転し、リーマ基材8aに余分に付いた砥粒9を他の手段(例えばブラシ)と共に、ふるいおとし密度を調整することも出来る。
即ち、砥粒9間に入ってしまった余分な砥粒9等をふるい落とし、略均一な密度を得るようにするものである。
Further, among the abrasive grains 9 that have fallen on the reamer substrate 8a, the abrasive grains 9 that have reached and adhered to the adhesive layer 16 remain on the reamer substrate 8a, but have not reached the adhesive layer 16 9 cannot stay on the reamer base material 8a, falls into a lower container (not shown), and returns to the diamond side where it falls again.
In other words, the fine vibration described below and the number of rotations of the reamer substrate 8a or the like are determined in advance so that the reamer substrate 8a is bonded to the reamer substrate 8a only at a certain density.
It is also possible to control so that the abrasive grains 9 do not fall where the abrasive grains are not required by changing the rotation speed of the reamer substrate 8a (for example, the previous slit 10).
In Step-4, the reamer substrate 8a is rotated, and the abrasive grains 9 attached to the reamer substrate 8a together with other means (for example, a brush) can be sieved and the density can be adjusted.
That is, excess abrasive grains 9 and the like that have entered between the abrasive grains 9 are screened off to obtain a substantially uniform density.

この後、Step−4では、リーマ基材8aに付いた砥粒9の押し込み成形(加圧成形)が行われる。
即ち、Step−3にて、降りかけられた砥粒9は一部(一面)が接着剤層16と接触している程度であるので、組立工程で衝撃が加われば、剥がれ落ちてしまう可能性もある。
若し剥がれ落ちることがあると、密度が変わることは勿論、製品としても、不良品となる可能性もある。
本発明に於いては、この押し込み成形でリーマ基材8aから砥粒9が剥がれるのを防止するようにしたものである。
Thereafter, in Step-4, the press-molding (pressure molding) of the abrasive grains 9 attached to the reamer substrate 8a is performed.
That is, in Step-3, since the part of the abrasive grain 9 that has been lowered is only in contact with the adhesive layer 16, it may be peeled off if an impact is applied in the assembly process. There is also.
If it peels off, the density will change, as well as the product may be defective.
In the present invention, the abrasive grains 9 are prevented from being peeled off from the reamer base material 8a by this indentation molding.

この為に本発明に於いては、Step−4にあるように、降りかけ工程の後、早い段階でその砥粒9を押し込み成形し、接着剤層に砥粒9を埋め込むようにしたものである。
この為の手段が押し込みプレスで、接線方向からリーマ基材の中心に向かって該砥粒を押し付け、砥粒の底面を含む複数面を、接着剤層16に密着させたものである。
若しくは、接着剤層16を通り越して、リーマ基材8aに当接させるようにし、砥粒9を接着剤層16に密着固定したものである。勿論この時にあっても砥粒9底面はリーマ基材8aに接着しているものである。
For this reason, in the present invention, as in Step-4, the abrasive grains 9 are pressed and formed at an early stage after the descending process, and the abrasive grains 9 are embedded in the adhesive layer. is there.
The means for this purpose is an indentation press, in which the abrasive grains are pressed from the tangential direction toward the center of the reamer substrate, and a plurality of surfaces including the bottom surfaces of the abrasive grains are brought into close contact with the adhesive layer 16.
Alternatively, the abrasive grains 9 are passed through the adhesive layer 16 and brought into contact with the reamer substrate 8 a, and the abrasive grains 9 are adhered and fixed to the adhesive layer 16. Of course, even at this time, the bottom surface of the abrasive grains 9 is bonded to the reamer substrate 8a.

また、上記押し込み成形(加圧成形)手段(Step−4)と先の接着剤塗布手段(Step−2)、砥粒9降りかけ手段(Step−3)を有機的に組み合わせると、従来接着シートに規則正しく砥粒9を並べ、植え付けていたダイヤモンドリーマが簡単に得られる。
即ち、Step−2で接着剤層16をリーマ基材8aに螺旋状に形成し、そこに砥粒9を降りかけ、押し込み成形(加圧成形)手段(Step−4)で、その砥粒9を押し付け、砥粒9の底面を含む複数面を、接着剤層16に密着させることにより、従来製作に苦労していた螺旋形状を持つダイヤモンドリーマが簡単に得られるものである。
また、上記組み合わせに於いて、リーマ基材8aの回転スピードを可変させれば、リーマ基材に降りかかる砥粒9の密度を簡単に変えることも出来るので、使用目的に応じたダイヤモンドリーマの供給が可能となる。
Further, when the above-described indentation (pressure forming) means (Step-4), the previous adhesive application means (Step-2), and the abrasive 9 landing means (Step-3) are combined organically, a conventional adhesive sheet The diamond reamer can be easily obtained by arranging the abrasive grains 9 regularly and planting them.
That is, the adhesive layer 16 is spirally formed on the reamer substrate 8a at Step-2, the abrasive grains 9 are dropped thereon, and the abrasive grains 9 are pressed by a press molding (pressure molding) means (Step-4). Is pressed, and a plurality of surfaces including the bottom surface of the abrasive grains 9 are brought into close contact with the adhesive layer 16, so that a diamond reamer having a spiral shape that has been difficult to manufacture in the past can be easily obtained.
Further, in the above combination, if the rotation speed of the reamer base 8a is varied, the density of the abrasive grains 9 falling on the reamer base can be easily changed, so that the diamond reamer can be supplied according to the purpose of use. It becomes possible.

また、この種工法を採用することにより、リーマ基材8aに塗布する接着剤の種類を変えるだけで、ホーニングリーマ(ダイヤモンドリーマ)の機能を変えることが出来る。
即ち、吸振性のある接着剤を使用すれば、使用時発生する振動を吸収することが出来るので、騒音対策が出来、更には環境対策も図れるものである。
Further, by adopting this seeding method, the function of the honing reamer (diamond reamer) can be changed only by changing the type of adhesive applied to the reamer substrate 8a.
That is, if a vibration-absorbing adhesive is used, vibrations generated during use can be absorbed, so that noise countermeasures can be taken and further environmental measures can be taken.

次いでStep−5に入り、砥粒9をリーマ基材8aに密着固定した接着剤層16を例えば100℃〜200℃の乾燥炉内で乾燥することで、上記接着剤は熱硬化する。
次にStep−6で、リーマ部8はメッキ槽に浸され、ニッケルめっきが、接着剤層16の上に施され、砥粒9はリーマ基材8aに密着固定(本止め)される。
この後、仕上げ調整、完成検査工程を経てStep−nに至りホーニングリーマ(ダイヤモンドリーマ)が完成する。
Next, Step-5 is entered, and the adhesive layer 16 in which the abrasive grains 9 are adhered and fixed to the reamer substrate 8a is dried in, for example, a drying furnace at 100 ° C. to 200 ° C., whereby the adhesive is thermally cured.
Next, in Step-6, the reamer part 8 is immersed in a plating tank, nickel plating is performed on the adhesive layer 16, and the abrasive grains 9 are firmly fixed (fixed) to the reamer substrate 8a.
Thereafter, after finishing adjustment and a completion inspection process, Step-n is reached and a honing reamer (diamond reamer) is completed.

ホーニングリーマは以上のフローチャート(図5)で作られる。
以下、図6をもって上記図5の要部を更に詳しく説明する。
即ち、Step−1〜Step−2工程欄のリーマ基材8aの表面にはショットブラストがかけられ、粗とされている。このことにより、接着面積が拡大し塗られるエポキシ系接着剤(電導性)との接着力を増し、界面剥離等が生じないようにしている。
尚上記接着剤の膜厚は30〜60μmとされている。これを本発明では接着剤層16と称している。
また、この接着剤層16が形成されたリーマ基材8aは図5のStep−5迄は可変回転軸18を基点に回転している。
The honing reamer is created according to the above flowchart (FIG. 5).
Hereinafter, the main part of FIG. 5 will be described in more detail with reference to FIG.
That is, shot blasting is applied to the surface of the reamer substrate 8a in the Step-1 to Step-2 step column to make it rough. This increases the adhesion area with the epoxy adhesive (conductivity) to be applied with an increased adhesion area, and prevents interfacial peeling and the like from occurring.
The film thickness of the adhesive is 30 to 60 μm. This is referred to as the adhesive layer 16 in the present invention.
Further, the reamer base material 8a on which the adhesive layer 16 is formed rotates with the variable rotation shaft 18 as a base point up to Step-5 in FIG.

この回転しているリーマ基材8aにシューター等の配分機19より準備された砥粒9を降りかける(Step−3工程欄の通り)。
尚、上記シューター等の配分機19に微振動を付与することにより、シューター等の配分機19上にある砥粒9の密度を均一にし、且つ整列することが出来る。
この均一となり、整列された砥粒9がリーマ基材8aに降りかけられるものであるが、微振動の与え方、強弱等は予め予備検討で決めておくものである。
Abrasive grains 9 prepared by a distributor 19 such as a shooter are dropped onto the rotating reamer substrate 8a (as shown in the Step-3 step column).
In addition, by giving a fine vibration to the distributor 19 such as the shooter, the density of the abrasive grains 9 on the distributor 19 such as the shooter can be made uniform and aligned.
The uniform and aligned abrasive grains 9 are allowed to fall on the reamer base material 8a. However, how to give fine vibration, strength, etc. are determined in advance by preliminary examination.

次にStep−4〜Step−5工程欄に記載の、押し込み成形(加圧成形)手段を構成する押し込みプレス20に付いて説明する。
上記押し込みプレス20の特徴は、接着剤層16に接触していた砥粒9(a状態)を押し込みプレス20が加圧すると砥粒9の底部9aが接着剤層16を通り越してリーマ基材8aに当接する迄、加圧される点である(b状態)。(b状態)状態にある砥粒9は全部がリーマ基材8aに当接する迄、加圧されたものではなく一部は接着剤層内に位置している。
これにより、各砥粒9の先端9bは外径線E(c状態)に略揃うこととなる。
換言すると、リーマ部8の外径は砥粒径のバラツキ及び材料、植え込み時のバラツキはあるものの略均一となる。
これと共に、砥粒9の複数面(底部9aを含む)が接着剤層16と密着する。この密着固定力は加熱乾燥させると、この接着固定力でも被加工物の研削仕上げ加工が可能となる固定強度である。
Next, the pressing press 20 constituting the pressing molding (pressure molding) means described in the Step-4 to Step-5 step column will be described.
The indentation press 20 is characterized in that when the indentation press 20 presses the abrasive grains 9 (a state) that have been in contact with the adhesive layer 16, the bottom 9a of the abrasive grains 9 passes over the adhesive layer 16 and the reamer substrate 8a. This is a point where pressure is applied until it comes into contact with (b state). The abrasive grains 9 in the (b state) state are not pressed until all of them are in contact with the reamer base material 8a, but a part thereof is located in the adhesive layer.
Thereby, the front-end | tip 9b of each abrasive grain 9 will become substantially aligned with the outer diameter line E (c state).
In other words, the outer diameter of the reamer 8 is substantially uniform although there are variations in abrasive grain size and material, and variations in implantation.
At the same time, a plurality of surfaces (including the bottom 9 a) of the abrasive grains 9 are in close contact with the adhesive layer 16. The adhesion fixing force is a fixing strength that enables the workpiece to be ground and ground with this adhesive fixing force when heated and dried.

ここで図7をもって、上記押し込みプレス20に付いて更に詳細に説明する。
この押し込みプレス20は押し込みシートガイド20aと、押し込みシート部20b等より成るもので砥粒9を所定の範囲同時に、接線方向から、リーマ基材8aの中心に向かって押し付け、砥粒9の底面9aが接着剤層16を通り越してリーマ基材8aに当接する迄、押圧出来る構成である。
勿論この押し込みプレス20による砥粒9の押し付け寸法は可変出来、砥粒9の底面9aがリーマ基材8aに当る手前で止め、砥粒9の底面9aが接着剤層16内に位置するようにすることも出来る。
Here, with reference to FIG. 7, the pressing press 20 will be described in more detail.
The indentation press 20 is composed of an indentation sheet guide 20a, an indentation sheet portion 20b, and the like, and presses the abrasive grains 9 simultaneously within a predetermined range from the tangential direction toward the center of the reamer substrate 8a. Is configured to be pressed until it passes through the adhesive layer 16 and abuts against the reamer substrate 8a.
Of course, the pressing size of the abrasive grains 9 by the indentation press 20 can be changed, and the bottom surface 9a of the abrasive grains 9 is stopped before it hits the reamer substrate 8a, and the bottom surface 9a of the abrasive grains 9 is positioned in the adhesive layer 16. You can also

また押し込みプレス20は図7に示す如く、所定の範囲同時に砥粒を加圧する構造としている。
これは作業性の向上は勿論であるが、押し込みプレス20が砥粒9を加圧した時、この範囲が小さいと砥粒9に押し出された接着剤の逃げ場がなく、押し込みプレス20の加圧面よりはみ出してしまう為、ある程度大きくし、押し出される接着剤の逃げ場を確保している。
Further, as shown in FIG. 7, the indentation press 20 has a structure in which the abrasive grains are simultaneously pressed within a predetermined range.
This is of course an improvement in workability, but when the pressing press 20 presses the abrasive grains 9, if this range is small, there is no escape space for the adhesive pushed out to the abrasive grains 9, and the pressing surface of the pressing press 20. Since it protrudes further, it is enlarged to some extent to secure a place for the extruded adhesive to escape.

更に押し込みプレス20に使用している押し込みシート部20bは肉厚が2mm程度で可撓性があり例えばテフロン製のシートである。
従って、この樹脂製シートで加圧された砥粒9は押し込みシート部20bで包まれながらリーマ基材8aの中心に向かって押し付けられる形となる。
この為、この加圧工程で砥粒9がリーマ基材8aより落下することがないので、密度的にむらのない均一なホーニングリーマ5となる。
Further, the pressing sheet portion 20b used in the pressing press 20 has a thickness of about 2 mm and is flexible, for example, a sheet made of Teflon.
Accordingly, the abrasive grains 9 pressed by the resin sheet are pressed toward the center of the reamer substrate 8a while being wrapped by the pressing sheet portion 20b.
For this reason, since the abrasive grains 9 do not fall from the reamer base material 8a in this pressurizing step, the uniform honing reamer 5 without unevenness in density is obtained.

また、砥粒密度の均一化は押し込みプレス20が砥粒をリーマ基材8a側に押した時、砥粒同志がはみ出されることによっても得られる。
換言すると、砥粒9がはみださない時には砥粒9間に隙間があり、その隙間に砥粒9が植え込まれると言うことである。
Further, the uniforming of the abrasive grain density can also be obtained by the fact that the abrasive grains protrude when the pressing press 20 pushes the abrasive grains toward the reamer substrate 8a.
In other words, when the abrasive grains 9 do not protrude, there is a gap between the abrasive grains 9, and the abrasive grains 9 are implanted in the gap.

上記リーマ外径の例えば1/4の範囲を押すことが出来る押し込みプレス20は押し込みシートガイド20aと押し込みシート部20bから成っており、押し込みシート部20bは先にも説明した如く、材質がテフロン等である。
而して、リーマ外径の1/4範囲を押圧する押し込みシート部20bは該リーマ部8外径より、少しだけ大きな円弧を持つもので、押し込みシートガイド20bを介して、砥粒9を押圧した時、先の押し込みシート部20bは小さくなる方向に変形し、先のリーマ部8外径に合せる。
この状態で加工を継続することにより砥粒9の先端9bがほぼ同じ円弧状に位置するようになるものである。
The pressing press 20 capable of pressing a range of, for example, 1/4 of the outer diameter of the reamer is composed of a pressing sheet guide 20a and a pressing sheet portion 20b. The pressing sheet portion 20b is made of Teflon or the like as described above. It is.
Thus, the pushing sheet portion 20b that presses a ¼ range of the reamer outer diameter has a slightly larger arc than the outer diameter of the reamer portion 8, and the abrasive grains 9 are pressed through the pushing sheet guide 20b. When this is done, the previous push-in sheet portion 20b is deformed in a smaller direction so as to match the outer diameter of the previous reamer portion 8.
By continuing the processing in this state, the tips 9b of the abrasive grains 9 are positioned in substantially the same arc shape.

次いで、図6のStep−6〜Step−n工程欄に戻り、接着剤層16で密着固定された砥粒9は第一のニッケルめっき(本止め)され、リーマ部8となりホーニングリーマ5が完成する。尚この時の第一のニッケルめっき17の膜厚は20〜30μmであるが、これは砥粒9の大きさ等で変わるものである。  Next, returning to the Step-6 to Step-n process column of FIG. 6, the abrasive grains 9 closely fixed by the adhesive layer 16 are first nickel-plated (finally fixed) to become a reamer portion 8 and the honing reamer 5 is completed. To do. The film thickness of the first nickel plating 17 at this time is 20 to 30 μm, but this varies depending on the size of the abrasive grains 9.

図8に示したものは、拡縮用スリット部をめっきする第二のニッケルめっきで、拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び第一のニッケルめっき17を覆うように設けられている。
上記拡縮用スリット部は先にも説明した如く、径方向の寸法を微調整する為と、研削油の供給、研削屑の排出等を目的として数条設けられている。このスリット10近くの砥粒にかかる負荷は、通常回転時には他部と変わらないが駆動時には当然大きな負荷となる。
従って、この部分の砥粒はリーマ基材への密着強度を向上させる必要がある。この為の手段として本実施例に於いては、拡縮用スリット10部には接着剤が塗布されないようにテープ或は治具を使ってマスキング等しておき、ここに第一のニッケルめっき17の他に第二のニッケルめっき21を施すようにしたものである。
8 is a second nickel plating for plating the expansion / contraction slit portion, and is provided so as to cover the adhesive layer adjacent to the expansion / contraction slit portion and the first nickel plating 17.
As described above, the expansion / contraction slit portion is provided with several strips for the purpose of finely adjusting the radial dimension, supplying grinding oil, discharging grinding scraps, and the like. The load applied to the abrasive grains near the slit 10 is not different from the other portions during normal rotation, but naturally becomes a large load during driving.
Therefore, it is necessary for the abrasive grains in this portion to improve the adhesion strength to the reamer substrate. As a means for this purpose, in this embodiment, masking or the like is performed using a tape or a jig so that the adhesive is not applied to the expansion / contraction slit 10 portion. In addition, the second nickel plating 21 is applied.

即ち、図8に示すものは、スリット10部の強度を向上する為に上記ニッケルめっき17層の上に更に第二のニッケルめっき21を施したものである。
こうすることにより、スリット10部の強度が向上し、駆動時負荷が増大しても、ここからはがれると云うことがないものである。
That is, in FIG. 8, the second nickel plating 21 is further applied on the nickel plating 17 layer in order to improve the strength of the slit 10 part.
By doing so, the strength of the slit 10 part is improved, and even if the driving load increases, it cannot be said that it will come off from here.

本発明は以上説明した如き構成を有するものであるから、次の作用効果がえられるものである。
即ち、砥粒を接着剤をもつて、リーマ基材に仮止めした後、第一のニッケルめっきを施し、該砥粒をリーマ基材に固着するようにしたホーニングリーマとこれを用いた加工装置に於いて、上記接着剤はリーマ基材外周に30〜60μmの膜厚を有する接着剤層を形成し、砥粒の仮止め部は接着剤層内に位置し、複数面が接着剤層に密着固定されているホーニングリーマとこれを用いた加工装置としたものである。
Since the present invention has the configuration as described above, the following operational effects can be obtained.
That is, a honing reamer and a processing apparatus using the same, in which the abrasive grains are temporarily fixed to the reamer base material with an adhesive, and then the first nickel plating is performed to fix the abrasive grains to the reamer base material. In this case, the adhesive forms an adhesive layer having a film thickness of 30 to 60 μm on the outer periphery of the reamer substrate, the temporary fixing portions of the abrasive grains are located in the adhesive layer, and a plurality of surfaces serve as the adhesive layer. A honing reamer that is closely fixed and a processing apparatus using the honing reamer are provided.

以上の如く本発明は、接着剤をリーマ基材に接着剤層を作るように厚く塗り付け、この接着剤層内に砥粒を埋め込むことにより砥粒の密着固定強度を高めると共に、砥粒植え付け時のバラツキ及び砥粒自体のバラツキから来る砥粒先端側のバラツキを、該接着剤層内で吸収させるようにし、仕上げ工程を簡素化してもリーマ基材表面から、砥粒先端迄の距離を設定寸法範囲内に維持出来、且つ、接着剤層に砥粒埋め込み後は、作業中砥粒が剥がれ密度を変えることがないものである。
また、このホーニングリーマを備えた加工装置による研削作業も切粉等の排出も良好となり安価にして且つ精度の高い研削仕上げ加工が出来るものである。
As described above, in the present invention, the adhesive is applied thickly so as to form an adhesive layer on the reamer base material, and the adhesive fixing strength of the abrasive grains is enhanced by embedding abrasive grains in the adhesive layer, and the abrasive grains are planted. Even if the finishing process is simplified, the distance from the surface of the reamer substrate to the tip of the abrasive grain can be increased by absorbing the dispersion on the abrasive grain tip side that comes from the dispersion of the time and the abrasive grain itself. It can be maintained within the set dimensional range, and after embedding abrasive grains in the adhesive layer, the abrasive grains are not peeled off during operation and the density is not changed.
In addition, the grinding operation by the processing apparatus equipped with the honing reamer and the discharge of chips and the like are good, and the grinding finish processing can be performed at a low cost and with high accuracy.

また、接着剤層内に埋め込まれるようにして複数面が密着固定される砥粒の一部は、接着剤層を通り越してリーマ基材に当接しているものである。
これにより、砥粒等のバラツキ吸収が容易となる他、接着剤層を通リ抜ける時に底面に付いた接着剤で、砥粒はリーマ基材に強固に接着するものである。
又、接着剤層内に位置する砥粒は複数面が接着剤層と密着しているので、この部分での固定力も確実なものとなる。
一方、それぞれの砥粒は押し込みプレス20の押圧面により加圧されるので砥粒先端は押し込みプレスの押圧面と揃えられる。
Further, a part of the abrasive grains in which a plurality of surfaces are closely fixed so as to be embedded in the adhesive layer are in contact with the reamer base material through the adhesive layer.
As a result, the dispersion of abrasive grains and the like can be easily absorbed, and the abrasive grains adhere firmly to the reamer substrate with an adhesive attached to the bottom surface when the adhesive layer passes through.
Moreover, since the abrasive grains located in the adhesive layer have a plurality of surfaces that are in close contact with the adhesive layer, the fixing force at this portion is also reliable.
On the other hand, since each abrasive grain is pressurized by the pressing surface of the pressing press 20, the tip of the abrasive grain is aligned with the pressing surface of the pressing press.

換言すると、リーマ外径が略均一となると云うことである。
これにより、リーマ外径を、調整する従来の工程が簡略化出来、リーマ製作の機械化を促進するものである。
尚、上記接着剤層16に緩衝材の役目を与え振動吸収等の働きをさせるようにすれば、砥粒9の一時固定に接着剤層を使用する効果が拡大する。
In other words, the reamer outer diameter is substantially uniform.
Thereby, the conventional process of adjusting the reamer outer diameter can be simplified, and mechanization of reamer production is promoted.
If the adhesive layer 16 functions as a cushioning material to absorb vibrations, the effect of using the adhesive layer for temporarily fixing the abrasive grains 9 is expanded.

また、30〜60μmの膜厚を有する接着剤層に仮止めされた砥粒をリーマ基材に配設した後、押し込みプレスで砥粒を所定の範囲同時に接線方向からリーマ基材の中心に向って押し付け、砥粒の一部が接着剤層を通り越してリーマ基材に当接するようにしたホーニングリーマとこれを用いた加工装置としたものである。
尚、この時の押し込みプレス20は押し込みシートガイド20aと押し込みシート部20bから成っており、押し込みシート部20bは先にも説明した如く、材質がテフロン等である。
而して、リーマ外径の1/4範囲を押圧する押し込みシート部20bは該リーマ部8外径より、少しだけ大きな円弧を持つもので、押し込みシートガイド20bを介して、砥粒9を押圧した時、先の押し込みシート部20bは中央が変形し、先のリーマ部8外径に合せる。
この状態で加工を継続することにより砥粒9の先端9bがほぼ同じ円弧状に位置するようになるものである。
Further, after the abrasive grains temporarily fixed to the adhesive layer having a film thickness of 30 to 60 μm are disposed on the reamer base material, the abrasive grains are simultaneously pushed in a predetermined range from the tangential direction toward the center of the reamer base material by a pressing press. Thus, a honing reamer in which a part of the abrasive grains passes through the adhesive layer and comes into contact with the reamer base material and a processing apparatus using the honing reamer are provided.
The pressing press 20 at this time is composed of a pressing sheet guide 20a and a pressing sheet portion 20b, and the pressing sheet portion 20b is made of Teflon or the like as described above.
Thus, the pushing sheet portion 20b that presses a ¼ range of the reamer outer diameter has a slightly larger arc than the outer diameter of the reamer portion 8, and the abrasive grains 9 are pressed through the pushing sheet guide 20b. When this is done, the center of the previous push-in sheet portion 20b is deformed to fit the outer diameter of the previous reamer portion 8.
By continuing the processing in this state, the tips 9b of the abrasive grains 9 are positioned in substantially the same arc shape.

また、拡縮用スリット部をめっきする第二のニッケルめっきで、拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び第一のニッケルめっきを覆うようにしたホーニングリーマである。
上記ホーニングリーマは先にも説明した如く、径方向の寸法を微調整する為と、研削油の供給、研削屑の排出等を目的として数条の拡縮用スリット10を有している。このスリット10前後の砥粒にかかる負荷は、通常回転時には他部と変わらないが駆動時には当然大きな負荷となる。
従って、この部分の砥粒とリーマ基材への密着強度を向上させる必要がある。この為の手段として本実施例に於いては、拡縮用スリット10部には接着剤が塗布されないようにテープ或は治具を使ってマスキング等しておき、ここに第一のニッケルめっき17の他に第二のニッケルめっき21を施すようにしたものである。
Further, the honing reamer is configured to cover the adhesive layer adjacent to the expansion / contraction slit portion and the first nickel plating by the second nickel plating for plating the expansion / contraction slit portion.
As described above, the honing reamer has several slits for expansion / contraction for the purpose of finely adjusting the dimension in the radial direction, supplying grinding oil, discharging grinding waste, and the like. The load applied to the abrasive grains before and after the slit 10 is not different from the other parts during normal rotation, but naturally becomes a large load during driving.
Therefore, it is necessary to improve the adhesion strength between the abrasive grains in this portion and the reamer substrate. As a means for this purpose, in this embodiment, masking or the like is performed using a tape or a jig so that the adhesive is not applied to the expansion / contraction slit 10 portion. In addition, the second nickel plating 21 is applied.

また、リーマ基材に接着剤層を形成し、その接着剤層に砥粒を降りかけ、押し込みプレス等をもって、該砥粒を接着剤層内に位置させたホーニングリーマとこれを用いた加工装置としたものである。
これにより、リーマ基材に塗布される接着剤層及び降りかけられる砥粒の密度を任意に選択できるので使用目的に応じやすくなることは勿論、研削屑の排出、研削油の供給等の対策が取り易くなるものである。
Further, a honing reamer in which an adhesive layer is formed on a reamer substrate, abrasive grains are dropped on the adhesive layer, and the abrasive grains are positioned in the adhesive layer with a pressing press or the like, and a processing apparatus using the honing reamer It is what.
As a result, the density of the adhesive layer applied to the reamer substrate and the density of the abrasive grains to be dropped can be arbitrarily selected, so that it is easy to meet the purpose of use, as well as measures such as grinding waste discharge and grinding oil supply. It becomes easy to take.

また、砥粒を接着剤層とニッケルめっきで固着したホーニングリーマをホーニングマシーン等に取り付けて、シリンダーの下孔等を加工するようにしたホーニングリーマを用いた加工装置としたものである。
これにより、ホーニングリーマを備えた加工装置による研削作業も切粉等の排出も良好となり、精度の高い研削仕上げ加工となる。
又本発明に於いては、微調整作業工程を簡素化出来るのでホーニングリーマの生産工程の省力化も図ることが出来、安価な加工装置とすることが出来るものである。
In addition, a honing reamer in which abrasive grains are fixed to an adhesive layer by nickel plating is attached to a honing machine or the like to form a processing device using a honing reamer that processes a pilot hole or the like of a cylinder.
As a result, the grinding operation by the processing apparatus equipped with the honing reamer and the discharge of chips and the like are good, and the grinding finish processing is highly accurate.
Further, in the present invention, since the fine adjustment work process can be simplified, labor saving in the production process of the honing reamer can be achieved, and an inexpensive processing apparatus can be obtained.

また、接着剤をもってリーマ基材に砥粒を仮止めした後、ニッケルめっきを施し、該砥粒をリーマ基材に固着するようにしたホーニングリーマに於いて、定速回転するリーマ基材全周に接着剤層を形成し、その接着剤層に砥粒を降りかけ、該リーマ基材の回転で余分な砥粒を除去した後、押し込みプレスで上記砥粒を所定の範囲同時に接線方向からリーマ基材の中心に向かって押し付け、接着剤層内に砥粒が位置するようにし、且つ、上記接着剤層表面等に、ニッケルめっき等を施したホーニングリーマの製作方法である。  In addition, a honing reamer that has been temporarily fixed to the reamer substrate with an adhesive and then plated with nickel to fix the abrasive particles to the reamer substrate. An adhesive layer is formed on the adhesive layer, and abrasive grains are applied to the adhesive layer. After the excess abrasive grains are removed by rotation of the reamer base, the abrasive grains are reamered from the tangential direction simultaneously within a predetermined range with a pressing press. This is a manufacturing method of a honing reamer which is pressed toward the center of the base material so that abrasive grains are positioned in the adhesive layer and nickel plating or the like is applied to the surface of the adhesive layer or the like.

これにより、砥粒の密着固定強度を高めると共に、砥粒植え付け時のバラツキ及び砥粒自体のバラツキから来る砥粒先端側のバラツキを、該接着剤層内で吸収出来るので、仕上げ工程を簡素化してもリーマ基材表面から、砥粒先端迄の距離を設定寸法範囲内に維持出来且つ、接着剤層に砥粒埋め込み後は、作業中砥粒が剥がれ密度を変えることがないものである。
また、このホーニングリーマを備えた加工装置の製作方法であると、研削作業も切粉等の排出も良好となり安価にして且つ精度の高い研削仕上げ加工が出来るものである。
As a result, the adhesion and fixing strength of the abrasive grains can be increased, and the dispersion at the tip of the abrasive grains due to the dispersion at the time of grain implantation and the dispersion of the abrasive grains themselves can be absorbed in the adhesive layer, thus simplifying the finishing process. However, the distance from the surface of the reamer substrate to the tip of the abrasive grain can be maintained within the set size range, and after the abrasive grains are embedded in the adhesive layer, the abrasive grains are not peeled off during the operation and the density is not changed.
Further, in the manufacturing method of the processing apparatus equipped with the honing reamer, the grinding work and the discharge of chips and the like are good, and the grinding finishing process can be performed at a low cost and with high accuracy.

また、回転するリーマ基材表面に接着剤を塗布し、接着剤層を形成すると共に、微振動が付与されたシューター等の配分機を介して砥粒を整列し、密度を均一化した状態で該砥粒を接着剤層に降りかけ、余分な砥粒を除去した後、押し込みプレスでその砥粒を押し付け、砥粒の底面を含む複数面が接着剤層内に位置するようにしたホーニングリーマの製作方法である。
これにより、リーマ外径を、調整する従来の工程が簡略化出来、リーマ製作の合理化を促進することが出来るものである。
尚、上記接着剤層16に緩衝材の役目を与え振動吸収等の働きをさせるようにすれば、砥粒9の一時固定に接着剤層を使用する効果が拡大する。
In addition, the adhesive is applied to the surface of the rotating reamer base material to form an adhesive layer, and the abrasive grains are aligned through a distributor such as a shooter to which fine vibration is applied, and the density is made uniform. A honing reamer in which the abrasive grains are dropped onto the adhesive layer, and after removing the excess abrasive grains, the abrasive grains are pressed by a pressing press so that a plurality of surfaces including the bottom surface of the abrasive grains are positioned in the adhesive layer. This is the production method.
Thereby, the conventional process of adjusting the reamer outer diameter can be simplified, and rationalization of reamer production can be promoted.
If the adhesive layer 16 functions as a cushioning material to absorb vibrations, the effect of using the adhesive layer for temporarily fixing the abrasive grains 9 is expanded.

1 ホルダー本体
2 被加工物
3 コレット
4 スピンドル
5 ホーニングリーマ
6 ナット
7 シャンク
8 リーマ部 8a リーマ基材
9 砥粒 9a 砥粒の底面 9b 砥粒の先端 9c仮止め固定部
10 スリット
11 内部中空の孔 11a ネジ溝
12 ボール
13 テーパーコーン
14 押し込みネジ
15a 押し込みネジ14側のネジ部 15b テーパーコーンセット部
16 接着剤層
17 第一のニッケルめっき
18 可変回転軸
19 シューター等の配分機
20 押し込みプレス 20a 押し込みシートガイド 20b 押し込みシート 部
21 第二のニッケルめっき
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Holder body 2 Work piece 3 Collet 4 Spindle 5 Honing reamer 6 Nut 7 Shank 8 Reamer part 8a Reamer base material 9 Abrasive grain 9a Abrasive grain bottom face 9b Abrasive grain tip 9c Temporary fixing part 10 Slit 11 Internal hollow hole 11a Thread groove 12 Ball 13 Taper cone 14 Push screw 15a Screw portion 15b on the push screw 14 side 15b Taper cone set portion 16 Adhesive layer 17 First nickel plating 18 Variable rotating shaft 19 Distributor 20 such as a shooter Push press 20a Push sheet Guide 20b Push sheet part 21 Second nickel plating

Claims (8)

接着剤層をもって砥粒がリーマ基材に仮止され、そのリーマ基材には砥粒を固着するめっき層が施されているホーニングリーマに於いて、In a honing reamer in which the abrasive grains are temporarily fixed to the reamer substrate with an adhesive layer, and the reamer substrate is provided with a plating layer for fixing the abrasive grains.
拡縮用スリット部を除いてリーマ基材外周に設けた接着剤層には、砥粒が仮止めされ、そAbrasive grains are temporarily fixed on the adhesive layer provided on the outer periphery of the reamer substrate except for the slits for expansion and contraction. の砥粒は第一のめっき層で基材に固着されていると共に、上記拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び拡縮用スリット部は上記第一のめっき層の他に、第二のめっきで覆われていることを特徴とするホーニングリーマ。The abrasive grains are fixed to the substrate with the first plating layer, and the adhesive layer adjacent to the expansion / contraction slit portion and the expansion / contraction slit portion include the second plating layer in addition to the first plating layer. Honing reamer characterized by being covered with.
拡縮用スリット部とそのスリット部に隣接する接着剤層とに、第一のニッケル めっき層の他に、第二のニッケルめっきを施しリーマ基材に接着剤層及び砥粒を固着させたことを特徴とする請求項1記載のホーニングリーマ。In addition to the first nickel plating layer, a second nickel plating was applied to the expansion / contraction slit part and the adhesive layer adjacent to the slit part, and the adhesive layer and abrasive grains were fixed to the reamer substrate. The honing reamer according to claim 1. 拡縮用スリット部はリーマ部に数条設けられ、スリット部近くの研削屑を排出することを特徴とする請求項1記載のホーニングリーマ。The honing reamer according to claim 1, wherein a plurality of slits for expansion / contraction are provided in the reamer part, and grinding scraps near the slit part are discharged. 砥粒を仮止めする接着剤層に吸振性のある接着剤を使用したことを特徴とする請求項1記載のホーニングリーマ。The honing reamer according to claim 1, wherein a vibration-absorbing adhesive is used for the adhesive layer for temporarily fixing the abrasive grains. 請求項1〜4何れか一項記載のホーニングリーマを工作機械の主軸に上下動可能に組み付けワークの下穴を超精密仕上げ加工するホーニングリーマを用いた加工装置。A machining apparatus using a honing reamer that assembles the honing reamer according to any one of claims 1 to 4 to a spindle of a machine tool so as to be movable up and down and finishes a prepared hole in a workpiece. 拡縮用スリット部を除いてリーマ基材外周に設けた接着剤層には、砥粒が仮止めされ、その砥粒は第一のめっき層で基材に固着されていると共に、上記拡縮用スリット部に隣接する接着剤層及び拡縮用スリット部は上記第一のめっき層の他に、第二のめっきで覆われていることを特徴とするホーニングリーマの製作方法。Abrasive grains are temporarily fixed to the adhesive layer provided on the outer periphery of the reamer substrate except for the expansion / contraction slits, and the abrasive grains are fixed to the base material with the first plating layer, and the expansion / contraction slits described above. The manufacturing method of the honing reamer characterized by the adhesive layer adjacent to a part and the slit part for expansion / contraction being covered with 2nd plating other than said 1st plating layer. リーマ基材外周に塗布される接着剤層の膜厚は30〜60μmとしたことを特徴とする請求項6記載のホーニングリーマの製作方法。The method of manufacturing a honing reamer according to claim 6, wherein the thickness of the adhesive layer applied to the outer periphery of the reamer substrate is 30 to 60 µm. リーマ外径の1/4範囲を押圧することが出来る円弧を有する押し込みシートと、その押し込みシート外径を小さくするシートガイドとを持つ、押し込みプレスの押し込みシートで、砥粒をリーマ基材の中心に向って押圧し、砥粒を接着剤層に位置させたことを特徴とする請求項6記載のホーニングリーマの製作方法。An indentation sheet of an indentation press having an indentation sheet having an arc capable of pressing a quarter range of the reamer outer diameter and a sheet guide for reducing the outer diameter of the indentation sheet. The method for producing a honing reamer according to claim 6, wherein the abrasive grains are positioned on the adhesive layer by pressing toward the surface.
JP2014093126A 2014-04-10 2014-04-10 Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer Active JP6194529B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014093126A JP6194529B2 (en) 2014-04-10 2014-04-10 Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014093126A JP6194529B2 (en) 2014-04-10 2014-04-10 Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015202558A JP2015202558A (en) 2015-11-16
JP6194529B2 true JP6194529B2 (en) 2017-09-13

Family

ID=54596343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014093126A Active JP6194529B2 (en) 2014-04-10 2014-04-10 Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6194529B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN119870991B (en) * 2025-03-27 2025-06-13 台州市欧风机械股份有限公司 High-precision machining reaming and honing integrated machine for inner hole of sleeve of sewing machine

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5130690A (en) * 1974-09-07 1976-03-16 Fuji Kasei Co Ltd KENSAKUTOISHINOSEIZOHO
JPS59161267A (en) * 1983-02-25 1984-09-12 Oosakashi Manufacturing method of electrodeposition tools
JP4493204B2 (en) * 2000-12-12 2010-06-30 株式会社ジェイテクト Single layer metal bond grindstone and manufacturing method thereof
JP2007313609A (en) * 2006-05-26 2007-12-06 Toyota Motor Corp Manufacturing method of grinding tool
JP2008119813A (en) * 2006-11-13 2008-05-29 Takezawa Seiki:Kk Lapping reamer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015202558A (en) 2015-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106141919B (en) Grinding wheel clamping mechanism and the wheel dresser for using the clamping mechanism
CN102059417A (en) Electrode and machine tool dedicated for combined machining of electric spark shaping of inner round bore and elastic honing
CN103442823A (en) Machining method and machining tool for machining curved workpiece surface, and workpiece
JP7644091B2 (en) Apparatus and method for machining cutting edges
CN114523433A (en) Processing method of convex point type sucking disc
JP6194529B2 (en) Honing reamer, processing device using the same, and manufacturing method of honing reamer
US6475068B1 (en) Wafer holding plate for wafer grinding apparatus and method for manufacturing the same
US6074282A (en) External hone and method of making and using the same
CN208729484U (en) A kind of hone
US3462887A (en) Precision surface abrading
US5846126A (en) Outside diameter finishing tool and method of making the same
CN115026729A (en) Machining method for rounding and finishing honing head
JPH06114741A (en) Electroplating method
US6080053A (en) Outside diameter finishing tool and method of making the same
KR100973566B1 (en) Honing tool for nonferrous metals and its manufacturing method
JP2004066435A (en) Honing tool and method of honing using the tool
JP4988271B2 (en) Honing whetstone
JP2003019655A (en) Honing method and honing apparatus for cylinder liner
JP2011235429A (en) Honing reamer and machining apparatus using the same
KR20180026113A (en) Honing tool device
JP2008119813A (en) Lapping reamer
JP7194888B2 (en) Internal Diameter Machining Increase/Decrease Diameter Honing Grinding Wheel
KR102370275B1 (en) Method for regenerating sliding surface of old machine tool
JP5993280B2 (en) Lens holder
RU2261166C1 (en) Method for supplying cutting fluid at plane face grinding

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160520

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170328

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170515

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170627

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170725

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6194529

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250