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JP6205877B2 - High heat-resistant liquid crystal polymer film and production method thereof - Google Patents
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JP6205877B2 - High heat-resistant liquid crystal polymer film and production method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、極めて優れた耐熱性を有する高耐熱性液晶ポリマーフィルム、その製造方法、並びに当該高耐熱性液晶ポリマーフィルムを含む金属層張積層フィルムおよび電子回路基板に関するものである。   The present invention relates to a high heat-resistant liquid crystal polymer film having extremely excellent heat resistance, a method for producing the same, a metal layer-clad laminated film including the high heat-resistant liquid crystal polymer film, and an electronic circuit board.

従来、電子回路基板材料には、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂をガラス繊維などからなる織布や不織布で補強したものが用いられてきたが、かかる材料ではリジッド基板とせざるを得ない。一方、近年、フレキシブル基板が求められるようになってきており、その材料としてはポリイミドが主に用いられる。しかしポリイミドは吸湿性を示し、高湿下で寸法精度や電気特性に衰えが見られるという問題がある。   Conventionally, a material obtained by reinforcing a thermosetting resin such as an epoxy resin with a woven fabric or a nonwoven fabric made of glass fiber has been used as an electronic circuit board material. However, such a material has to be a rigid board. On the other hand, in recent years, a flexible substrate has been demanded, and polyimide is mainly used as the material thereof. However, polyimide exhibits hygroscopicity, and there is a problem that dimensional accuracy and electrical characteristics are deteriorated under high humidity.

また、最近では、環境問題から電子回路基板には鉛フリー半田が用いられるようになってきている。ところが、鉛フリー半田のリフローには260〜280℃という高温が必要であるため、一般的な樹脂を基板材料として用いることはできない。   Recently, lead-free solder has been used for electronic circuit boards due to environmental problems. However, since reflow of lead-free solder requires a high temperature of 260 to 280 ° C., a general resin cannot be used as a substrate material.

そこで、樹脂材料の耐熱性を向上させるための技術が検討されている。   Therefore, techniques for improving the heat resistance of the resin material have been studied.

例えば特許文献1〜5には、PBT(ポリブチレンテレフタレート)などのポリエステル、アクリル系樹脂やスチレン系樹脂の組成物に電離放射線を照射することにより耐熱性や強度を向上させる技術が開示されている。   For example, Patent Documents 1 to 5 disclose techniques for improving heat resistance and strength by irradiating a composition of polyester such as PBT (polybutylene terephthalate), acrylic resin, or styrene resin with ionizing radiation. .

また、上述したように電子回路基板材料には低吸湿性や耐熱性が要求されることから、液晶ポリマーに注目が集まってきている。液晶ポリマーは溶融状態または溶液状態で液晶性を示す高分子の総称であり、高い耐溶剤性、寸法安定性、電気絶縁性、誘電特性の他、低吸湿性と優れた耐熱性を有する。   Further, as described above, since the electronic circuit board material is required to have low hygroscopicity and heat resistance, attention has been focused on the liquid crystal polymer. A liquid crystal polymer is a general term for polymers exhibiting liquid crystallinity in a molten state or a solution state, and has high moisture resistance and excellent heat resistance in addition to high solvent resistance, dimensional stability, electrical insulation and dielectric properties.

液晶ポリマーなどのエンジニアリングプラスチックの耐熱性を向上させる技術として、特許文献6には、特定の酸素濃度雰囲気下、エンジニアリングプラスチックに1kGy〜10MGyの電離放射線を照射する方法が開示されている。また、特許文献7には、液晶ポリマーの組成物に電離放射線を照射して架橋した成形品が開示されている。   As a technique for improving the heat resistance of an engineering plastic such as a liquid crystal polymer, Patent Document 6 discloses a method of irradiating an engineering plastic with 1 kGy to 10 MGy of ionizing radiation in a specific oxygen concentration atmosphere. Patent Document 7 discloses a molded product obtained by crosslinking a composition of a liquid crystal polymer by irradiating it with ionizing radiation.

その他、特許文献8〜10には、液晶ポリマーの耐摩耗性などを改善するために特定条件で加熱処理する方法が記載されている。   In addition, Patent Documents 8 to 10 describe a method of performing heat treatment under specific conditions in order to improve the wear resistance of the liquid crystal polymer.

特開2001−348442号公報JP 2001-348442 A 特開2002−155154号公報JP 2002-155154 A 特開2003−82132号公報JP 2003-82132 A 特開2003−128741号公報JP 2003-128741 A 特開2003−327713号公報JP 2003-327713 A 特許第3790865号公報Japanese Patent No. 3790865 特開平3−167208号公報JP-A-3-167208 特許第3882213号公報Japanese Patent No. 3882213 特許第3655464号公報Japanese Patent No. 3655464 特許第3878741号公報Japanese Patent No. 3878741

上述したように、電子回路基板の材料として用い得る樹脂の耐熱性などを改善するための技術は種々検討されてきた。   As described above, various techniques for improving the heat resistance of a resin that can be used as a material for an electronic circuit board have been studied.

しかし最近では、より高融点の半田を用い、340℃近傍といった高温下でも半田実装が為されるようになってきており、電子回路基板材料には、より一層高い耐熱性が要求されるようになってきている。かかる高温下での半田処理では、従来の樹脂材料は使えない。   Recently, however, solder having a higher melting point has been used and solder mounting has been performed even at high temperatures such as around 340 ° C., so that higher heat resistance is required for electronic circuit board materials. It has become to. The conventional resin material cannot be used in the soldering process under such a high temperature.

例えば特許文献1〜5と特許文献7の技術では、複数の炭素−炭素二重結合を有するトリアリルイソシアヌレートなどの架橋剤を含む組成物に電離放射線を照射して樹脂高分子を架橋することにより耐熱性を向上させているが、架橋剤は反応性の高い官能基を複数有するものが多く、その配合により組成物に水分が混入したり組成物が吸湿性を示すようになってしまう。かかる組成物を高温に曝すと、内部の水分が急激に気化して発泡し、製品品質が低下するという問題がある。また、これら技術での電離放射線照射の目的は架橋剤を反応させることにあり、照射線量はせいぜい数百kGy程度である。   For example, in the techniques of Patent Documents 1 to 5 and Patent Document 7, a resin polymer is crosslinked by irradiating a composition containing a crosslinking agent such as triallyl isocyanurate having a plurality of carbon-carbon double bonds with ionizing radiation. However, the crosslinking agent often has a plurality of highly reactive functional groups, and the blending of the composition causes moisture to enter the composition or the composition to exhibit hygroscopicity. When such a composition is exposed to a high temperature, there is a problem that the internal moisture rapidly vaporizes and foams, resulting in a reduction in product quality. The purpose of ionizing radiation irradiation in these techniques is to react a crosslinking agent, and the irradiation dose is about several hundred kGy at most.

また、特許文献6に記載の発明はエンジニアリングプラスチックに関するものでありエンジニアリングプラスチックとして液晶ポリマーの例示があるが、実際に試験されている樹脂はポリエーテルエーテルケトン(PEEK)とテトラフルオロエチレン系重合体(PTFE)のみである。また、照射すべき電離照射線量として1kGy〜10MGyという極めて広い範囲が記載されているが、そもそも当該技術では低線量の放射線照射で樹脂を架橋することを課題としており、実際に照射されている電離放射線量は50kGyのみである。   In addition, the invention described in Patent Document 6 relates to engineering plastics, and there are examples of liquid crystal polymers as engineering plastics, but the resins actually tested are polyetheretherketone (PEEK) and tetrafluoroethylene-based polymers ( PTFE) only. In addition, although an extremely wide range of 1 kGy to 10 MGy is described as the ionizing irradiation dose to be irradiated, in the first place, the problem is to crosslink the resin with a low dose of irradiation, and the ionizing irradiation actually applied The radiation dose is only 50 kGy.

さらに特許文献8〜10の技術のように液晶ポリマーを単に熱処理するのみでは、特に340℃を超えるような高温下での耐熱性は十分にはならない。   Furthermore, the heat resistance at a high temperature exceeding 340 ° C. is not sufficient only by simply heat-treating the liquid crystal polymer as in the techniques of Patent Documents 8 to 10.

そこで本発明は、340℃以上という高温下でも耐熱性を示す高耐熱性液晶ポリマーフィルム、その製造方法、並びに当該高耐熱性液晶ポリマーフィルムを含む金属層張積層フィルムおよび電子回路基板を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a highly heat-resistant liquid crystal polymer film that exhibits heat resistance even at a high temperature of 340 ° C. or higher, a method for producing the same, a metal layer-clad laminated film including the highly heat-resistant liquid crystal polymer film, and an electronic circuit board. With the goal.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、従来、樹脂に電離放射線を照射することによりその耐熱性が高まることや、その照射量が大き過ぎると分子の切断が優勢になり強度の低下が見られることが知られていたのに対して、従来では考えられなかったほどの高照射量である2000kGy以上の電離放射線を液晶ポリマーに照射すると、340℃以上の高温下では貯蔵弾性率がかえって高まるという特異な現象を見出して、本発明を完成した。   The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above problems. As a result, it has been known that the heat resistance is increased by irradiating the resin with ionizing radiation, and that when the irradiation amount is too large, the molecular cleavage becomes dominant and the strength is reduced. On the other hand, when a liquid crystal polymer is irradiated with ionizing radiation of 2000 kGy or higher, which is an unprecedented amount of irradiation, a unique phenomenon is found in which the storage elastic modulus increases at a high temperature of 340 ° C. or higher. Completed the invention.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、原料液晶ポリマーフィルムに2000kGy以上の電離放射線を照射したものであり、横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフの300℃以上、400℃以下の範囲において、温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在することを特徴とする。   The high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is obtained by irradiating the raw liquid crystal polymer film with ionizing radiation of 2000 kGy or more, and the temperature-storage in which the horizontal axis represents the temperature and the vertical axis represents the measured storage elastic modulus value. In the elastic modulus curve graph in the range of 300 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, there is a point that the storage elastic modulus value with respect to the temperature rises from decreasing to increasing.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの350℃における貯蔵弾性率は、1.0×107Pa以上、より好ましくは2.0×107Pa以上になり得る。一般的な液晶ポリマーフィルムでは、高温になるにつれ貯蔵弾性率が低下し続けるが、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、340℃以上の高温下でその貯蔵弾性率がかえって高まるという特有の特性を有する。 The storage elastic modulus at 350 ° C. of the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention can be 1.0 × 10 7 Pa or more, more preferably 2.0 × 10 7 Pa or more. In general liquid crystal polymer films, the storage elastic modulus continues to decrease as the temperature rises, but the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention has a unique characteristic that the storage elastic modulus increases at a high temperature of 340 ° C. or higher. Has characteristics.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムとしては、架橋剤により架橋されていないか、および/または、架橋剤を含まないものが好ましい。架橋剤を配合すると不可避的に水分も混入するが、かかる水分は高温下で急激に気化することにより発泡の原因となる。また、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、架橋剤により架橋されていなくても、340℃以上といった高温下でも耐熱性を示す。   The high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is preferably not crosslinked by a crosslinking agent and / or does not contain a crosslinking agent. When a cross-linking agent is blended, water is inevitably mixed in. However, such water causes foaming by rapidly vaporizing at a high temperature. Moreover, the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention exhibits heat resistance even at a high temperature of 340 ° C. or higher, even if it is not crosslinked by a crosslinking agent.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの平面方向の線膨張係数としては10ppm/℃以上、25ppm/℃以下が好ましい。本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムに例えば金属層を積層する場合、平面方向の線膨張係数が当該範囲内に調整されていれば、金属層との線膨張係数との差が小さく、線膨張係数の差に起因する反りなどが低減される。   The linear expansion coefficient in the planar direction of the highly heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is preferably 10 ppm / ° C. or more and 25 ppm / ° C. or less. For example, when a metal layer is laminated on the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention, if the linear expansion coefficient in the plane direction is adjusted within the range, the difference from the linear expansion coefficient with the metal layer is small, and the line Warpage caused by the difference in expansion coefficient is reduced.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムにおいては、平面方向の一方向での線膨張係数と、当該方向に直交する方向の線膨張係数との比が0.4以上、2.5以下であることが好ましい。当該比が所定範囲に調整されていれば、平面方向の異方性が少なく、一方方向に裂け易いなど液晶ポリマーフィルム特有の欠点が抑制される。   In the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention, the ratio of the linear expansion coefficient in one direction of the plane direction to the linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the direction is 0.4 or more and 2.5 or less. It is preferable. If the ratio is adjusted within a predetermined range, the disadvantages peculiar to liquid crystal polymer films such as little anisotropy in the plane direction and easy tearing in one direction are suppressed.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムにおいては、Z方向(厚み方向)の線膨張係数が、電離放射線を照射していない原料液晶ポリマーフィルムに比して6ppm/℃以上低下している。一般の液晶ポリマーフィルムでは、フィラーの配合などによらなければZ方向の線膨張係数は低減できないが、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムでは、所定量以上の電離放射線を照射することにより、Z方向の線膨張係数が簡便に低減されている。また、Z方向の線膨張係数の低減により、電子回路基板とする場合に厚み方向の接続信頼性が高まり、また、金属層などと積層した場合における反りなどが抑制される。   In the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention, the linear expansion coefficient in the Z direction (thickness direction) is reduced by 6 ppm / ° C. or more as compared with the raw material liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation. In a general liquid crystal polymer film, the linear expansion coefficient in the Z direction cannot be reduced unless it depends on the filler composition, etc. The linear expansion coefficient in the Z direction is easily reduced. Further, the reduction of the linear expansion coefficient in the Z direction increases the connection reliability in the thickness direction when the electronic circuit board is formed, and also suppresses the warp when laminated with a metal layer or the like.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの厚さとしては、10μm以上、500μm以下とすることが好ましい。当該厚さが10μm未満であると、強度などに問題が生じ、適用範囲が限定されるおそれがあり得る。一方、液晶ポリマーフィルムはZ方向の線膨張係数が大きいので、厚過ぎると厚み方向の接続信頼性に問題が生じるおそれがあり得ることから、当該厚さとしては500μm以下が好ましい。   The thickness of the high heat resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is preferably 10 μm or more and 500 μm or less. If the thickness is less than 10 μm, there may be a problem in strength and the application range may be limited. On the other hand, since the liquid crystal polymer film has a large coefficient of linear expansion in the Z direction, if it is too thick, there may be a problem in connection reliability in the thickness direction. Therefore, the thickness is preferably 500 μm or less.

本発明の高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、フィラーを含むものであることが好ましい。適切なフィラーを選択することによって、耐熱性をさらに向上したり、線膨張係数を所定の範囲内のものとすることなどが可能になる。   The high heat-resistant liquid crystal polymer film of the present invention preferably contains a filler. By selecting an appropriate filler, it is possible to further improve the heat resistance and to make the linear expansion coefficient within a predetermined range.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの製造方法は、原料液晶ポリマーフィルムに2000kGy以上の電離放射線を照射する工程を含むことを特徴とする。   The method for producing a high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention includes a step of irradiating a raw liquid crystal polymer film with ionizing radiation of 2000 kGy or more.

上記本発明方法において、電離放射線の照射量としては5000kGy以上がより好ましい。本発明者らによる実験的知見によれば、電離放射線照射量が5000kGy以上であれば、340℃以上における貯蔵弾性率の向上がより明確に認められ、耐熱性に一層優れるポリマーフィルムをより確実に製造できる。   In the method of the present invention, the irradiation dose of ionizing radiation is more preferably 5000 kGy or more. According to the experimental findings by the present inventors, when the ionizing radiation dose is 5000 kGy or more, an improvement in the storage elastic modulus at 340 ° C. or higher is more clearly recognized, and a polymer film having further excellent heat resistance is more reliably obtained. Can be manufactured.

上記本発明方法においては、上記と同様の理由により、原料液晶ポリマーフィルムとして、架橋剤により架橋されておらず、および/または、架橋剤を含まないものを用いることが好ましい。   In the method of the present invention, for the same reason as described above, it is preferable to use a raw material liquid crystal polymer film that is not crosslinked with a crosslinking agent and / or does not contain a crosslinking agent.

本発明に係る金属層張積層フィルムは、上記本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムに金属層が積層されているものであることを特徴とする。   The metal layer-clad laminated film according to the present invention is characterized in that a metal layer is laminated on the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention.

本発明に係る電子回路基板は、上記本発明に係る金属層張積層フィルムを含むことを特徴とする。   The electronic circuit board according to the present invention includes the metal layer-clad laminated film according to the present invention.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、通常の熱可塑性樹脂では温度が上昇するに連れて貯蔵弾性率が低下し続けるのに対して、340℃以上という高温下において貯蔵弾性率がかえって上昇するという非常に特異な特性を示し、極めて優れた耐熱性を有する。よって本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、340℃以上という高温が求められる高融点半田実装や半田リペアにも耐えることができる。   The high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention has a storage elastic modulus that increases at a high temperature of 340 ° C. or higher, whereas a normal thermoplastic resin continues to decrease as the temperature increases. It exhibits very unique properties and has extremely excellent heat resistance. Therefore, the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention can withstand high melting point solder mounting and solder repair that require a high temperature of 340 ° C. or higher.

また、液晶ポリマーフィルムのZ方向の線膨張係数は、電子回路基板とする場合に厚み方向の接続信頼性に大きく影響するファクターであることから、材料メーカーや基板加工メーカーは、Z方向の線膨張係数を数ppm/℃程度下げることに多大な努力を重ねている。それに対して本発明では、非常に容易な方法でZ方向の線膨張係数を低減している。   In addition, the linear expansion coefficient in the Z direction of the liquid crystal polymer film is a factor that greatly affects the connection reliability in the thickness direction when an electronic circuit board is used. Much effort has been made to lower the coefficient by several ppm / ° C. On the other hand, in the present invention, the linear expansion coefficient in the Z direction is reduced by a very easy method.

従って本発明は、電子回路基板材料などに有用な高耐熱性の液晶ポリマーフィルムに関する技術として、産業上非常に優れている。   Therefore, the present invention is industrially excellent as a technique relating to a high heat-resistant liquid crystal polymer film useful for electronic circuit board materials and the like.

図1は、電離放射線を照射しない、または、1500kGyの電離放射線を照射したI型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフである。FIG. 1 is a temperature-storage modulus curve graph of an I-type liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation or irradiated with 1500 kGy ionizing radiation. 図2は、2500〜10000kGyの電離放射線を照射したI型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフである。FIG. 2 is a temperature-storage modulus curve graph of an I-type liquid crystal polymer film irradiated with 2500-10000 kGy of ionizing radiation. 図3は、電離放射線を照射しない、または、1000kGyもしくは1500kGyの電離放射線を照射したII型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフである。FIG. 3 is a temperature-storage modulus curve graph of a type II liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation or irradiated with ionizing radiation of 1000 kGy or 1500 kGy. 図4は、2500〜10000kGyの電離放射線を照射したII型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフである。FIG. 4 is a temperature-storage modulus curve graph of a type II liquid crystal polymer film irradiated with 2500-10000 kGy of ionizing radiation.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、原料液晶ポリマーフィルムに2000kGy以上の電離放射線を照射したものであり、横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフの300℃以上、400℃以下の範囲において、温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在することを特徴とする。   The high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is obtained by irradiating the raw liquid crystal polymer film with ionizing radiation of 2000 kGy or more, and the temperature-storage in which the horizontal axis represents the temperature and the vertical axis represents the measured storage elastic modulus value. In the elastic modulus curve graph in the range of 300 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, there is a point that the storage elastic modulus value with respect to the temperature rises from decreasing to increasing.

従来、高分子フィルムに数百kGyの電離放射線を照射し、架橋剤により高分子間を架橋したり、或いは高分子同士を直接架橋することが行われていた一方で、過剰な電離放射線を照射すると高分子の分解が架橋よりも優勢となり、フィルム強度などが低下することが知られていた。それに対して本発明は、2000kGy以上という従来では考えられなかったような高エネルギーの電離放射線を液晶ポリマーフィルムに照射することにより、特に耐熱性が顕著に向上するとの新たな知見に基づいて完成したものである。   Conventionally, polymer films have been irradiated with ionizing radiation of several hundreds kGy, and cross-linking between polymers using a cross-linking agent, or cross-linking of polymers directly, while excessive ionizing radiation was applied. Then, it was known that the decomposition of the polymer becomes more dominant than the cross-linking and the film strength and the like are lowered. On the other hand, the present invention has been completed based on the new finding that the heat resistance is remarkably improved by irradiating the liquid crystal polymer film with high energy ionizing radiation, which has not been considered in the past, of 2000 kGy or more. Is.

即ち、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフの300℃以上、400℃以下の範囲において、温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在するという独特の性質を有する。   That is, the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention has a temperature-storage elastic modulus curve graph in which the temperature is plotted on the horizontal axis and the storage elastic modulus value measured on the vertical axis is plotted in the range of 300 ° C. or higher and 400 ° C. or lower. The storage modulus value with respect to the temperature rise has a unique property that there is a point where the value changes from decreasing to increasing.

本発明において「貯蔵弾性率」は、動的粘弾性の測定から得られる値である。動的粘弾性の測定は、測定物に正弦的な歪を与えて、測定物を通過した応力を検知して行われ、その測定値として貯蔵弾性率と損失弾性率が得られる。なお、該貯蔵弾性率とは系内に貯蔵されたエネルギー(弾性率)をいい、該損失弾性率とは系内で損失されたエネルギーをいう。   In the present invention, “storage modulus” is a value obtained from measurement of dynamic viscoelasticity. The measurement of dynamic viscoelasticity is performed by applying a sinusoidal strain to the measurement object and detecting the stress that has passed through the measurement object, and the storage elastic modulus and the loss elastic modulus are obtained as the measurement values. The storage elastic modulus refers to energy (elastic modulus) stored in the system, and the loss elastic modulus refers to energy lost in the system.

本発明で動的粘弾性を採用した理由は、ばらつきが小さく、また高温域での測定が容易であることによる。そして、動的粘弾性の測定から得られる貯蔵弾性率を主要な指標として用いた理由は、貯蔵弾性率は、引張弾性率と一定の相関関係があることによる。   The reason why dynamic viscoelasticity is adopted in the present invention is that the variation is small and the measurement in the high temperature range is easy. The reason for using the storage elastic modulus obtained from the measurement of dynamic viscoelasticity as a main index is that the storage elastic modulus has a certain correlation with the tensile elastic modulus.

上記のとおり貯蔵弾性率は測定温度における引張弾性率の指標をいうので、横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフにおいて、通常の熱可塑性樹脂フィルムの場合には貯蔵弾性率は温度上昇と共に低下し続ける。それに対して本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの場合、高温域において温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在する。このような特異な性質を有する本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムにおいては、高エネルギーの電離放射線照射によりおそらくは液晶ポリマー分子中のエステル基がいったん開裂した後に生じたラジカル間で架橋が起こっていると考えられるが、液晶ポリマーにいかなる構造変化が起こっているかは分析することができず、残念ながらその構造を特定することはできなかった。   As described above, the storage elastic modulus is an index of the tensile elastic modulus at the measurement temperature. Therefore, in the temperature-storage elastic modulus curve graph in which the horizontal axis represents the temperature and the vertical axis represents the measured storage elastic modulus value, normal thermoplasticity In the case of a resin film, the storage elastic modulus continues to decrease with increasing temperature. On the other hand, in the case of the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention, there is a point that the storage elastic modulus value with respect to the temperature rise changes from the decrease to the increase in the high temperature range. In the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention having such unique properties, crosslinking is caused between radicals generated after the ester group in the liquid crystal polymer molecule is once cleaved by irradiation with high-energy ionizing radiation. However, it was impossible to analyze what structural change occurred in the liquid crystal polymer, and unfortunately, the structure could not be specified.

本発明において「温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在する」とは、横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフの300℃以上、400℃以下の範囲において、換言すれば、曲線の微分値が負から0を経て正に変換する点が存在することや、貯蔵弾性率の最低値が、400℃における貯蔵弾性率値未満であることをいう。   In the present invention, “there is a point where the storage elastic modulus value from the decrease to the increase with respect to the temperature increase” means that the temperature is plotted on the horizontal axis and the measured storage elastic modulus value is plotted on the vertical axis. In other words, in the range of 300 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, in other words, there is a point where the differential value of the curve changes from negative to positive through 0, and the storage elastic modulus at 400 ° C. is the minimum value of the storage elastic modulus. It is less than the rate value.

液晶ポリマーには、溶融状態で液晶性を示すサーモトロピック液晶ポリマーと、溶液状態で液晶性を示すレオトロピック液晶ポリマーとがある。本発明では何れの液晶ポリマーも用い得るが、耐熱性や難燃性により優れることから、サーモトロピック液晶ポリマーを好適に用いる。   The liquid crystal polymer includes a thermotropic liquid crystal polymer exhibiting liquid crystallinity in a molten state and a rheotropic liquid crystal polymer exhibiting liquid crystallinity in a solution state. In the present invention, any liquid crystal polymer can be used, but a thermotropic liquid crystal polymer is preferably used because of excellent heat resistance and flame retardancy.

サーモトロピック液晶ポリマーのうちサーモトロピック液晶ポリエステル(以下、単に「液晶ポリエステル」という)とは、例えば、芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオールや芳香族ヒドロキシカルボン酸などのモノマーを主体として合成される芳香族ポリエステルであって、溶融時に液晶性を示すものである。その代表的なものとしては、パラヒドロキシ安息香酸(PHB)と、フタル酸と、4,4’−ビフェノールから合成されるI型[下式(1)]、PHBと2,6−ヒドロキシナフトエ酸から合成されるII型[下式(2)]、PHBと、テレフタル酸と、エチレングリコールから合成されるIII型[下式(3)]が挙げられる。上記のうちI型液晶ポリエステルとII型液晶ポリエステルが耐熱性により一層優れることから、本発明ではI型液晶ポリエステルおよび/またはII型液晶ポリエステルを用いることが好ましい。   Among the thermotropic liquid crystal polymers, thermotropic liquid crystal polyester (hereinafter simply referred to as “liquid crystal polyester”) is, for example, an aromatic compound mainly composed of aromatic dicarboxylic acid and monomers such as aromatic diol and aromatic hydroxycarboxylic acid. Polyester, which exhibits liquid crystal properties when melted. Typical examples thereof include type I [Formula (1)] synthesized from parahydroxybenzoic acid (PHB), phthalic acid, and 4,4′-biphenol, PHB and 2,6-hydroxynaphthoic acid. Type II [Formula (2)] synthesized from the above, Type III [Formula (3)] synthesized from PHB, terephthalic acid, and ethylene glycol. Among the above, since the I-type liquid crystal polyester and the II-type liquid crystal polyester are more excellent in heat resistance, it is preferable to use the I-type liquid crystal polyester and / or the II-type liquid crystal polyester in the present invention.

上記式(1)において、フタル酸としてはイソフタル酸が好ましい。   In the above formula (1), isophthalic acid is preferable as phthalic acid.

通常の液晶ポリマーは、一般的な溶媒に対して不溶性または難溶性を示す。なお、本発明において不溶とは、1gの物質(液晶ポリマー)を溶解するのに要する25℃の溶媒が10,000mL以上であることをいい、難溶とは、同溶媒が1,000mL以上、10,000mL未満であることをいう。また、液晶ポリマーを溶解するための溶媒としては、ペンタフルオロフェノール、テトラフルオロフェノール、3,5−ビストリフルオロメチルフェノールなどの含フッ素フェノール溶媒が知られているが、かかる溶媒は特殊で非常に高価であり、環境へ与える負荷も大きく到底工業的に用い得るものではないため、一般的な溶媒とはいえない。また、N−メチル−ピロリドンやパラクロロフェノールのような非プロトン性極性溶媒に可溶な構造を持ち、非プロトン性極性溶媒に溶解する液晶ポリマーもあるが、ポリイミドなど他の樹脂とのアロイなどであり、液晶ポリマー由来の特性が減ぜられてしまったものである。本発明では、溶媒に対して不溶性または難溶性を示す液晶ポリマーを用いる。   A normal liquid crystal polymer is insoluble or hardly soluble in a general solvent. In the present invention, insoluble means that the solvent at 25 ° C. required to dissolve 1 g of the substance (liquid crystal polymer) is 10,000 mL or more, and hardly soluble means that the solvent is 1,000 mL or more, It means less than 10,000 mL. Further, as a solvent for dissolving the liquid crystal polymer, fluorine-containing phenol solvents such as pentafluorophenol, tetrafluorophenol, 3,5-bistrifluoromethylphenol are known, but such solvents are special and very expensive. In addition, it is not a general solvent because it has a large environmental load and cannot be used industrially. In addition, there are liquid crystal polymers that have a structure soluble in aprotic polar solvents such as N-methyl-pyrrolidone and parachlorophenol, and are soluble in aprotic polar solvents, but alloys with other resins such as polyimide, etc. Thus, the characteristics derived from the liquid crystal polymer have been reduced. In the present invention, a liquid crystal polymer that is insoluble or hardly soluble in a solvent is used.

本発明で用いる原料液晶ポリマーフィルムには、架橋剤を含まないものを用いることが好ましい。架橋剤は一般的に反応性の高い官能基を複数有するものであり、親水性を示すことから、架橋剤を配合すると水の混入や吸収の原因となる。半田リフローなどに用いるフィルムに水が含まれると、水が急激に気化することにより発泡し、フィルムの品質が低下する。よって、本発明で原料として用いる液晶ポリマーフィルムおよび本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムとしては、架橋剤を含んでおらず且つ架橋剤により架橋されたものでないものが好ましい。   The raw material liquid crystal polymer film used in the present invention preferably does not contain a crosslinking agent. The cross-linking agent generally has a plurality of highly reactive functional groups and exhibits hydrophilicity. Therefore, when the cross-linking agent is blended, it causes water mixing and absorption. When water is contained in a film used for solder reflow or the like, the water is rapidly vaporized to foam and the quality of the film is deteriorated. Therefore, the liquid crystal polymer film used as a raw material in the present invention and the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention preferably do not contain a crosslinking agent and are not crosslinked by the crosslinking agent.

但し、例えば340℃以上の高温下において、発泡の原因とならない程度の架橋剤であれば含んでいてもよい。例えば、原料液晶ポリマーフィルムを作製するに当たり、原料全体に対する架橋剤の使用量を5質量%以下とし、また、原料液晶ポリマーフィルムおよび本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルム全体に対して、未反応のまま残留している架橋剤が2質量%以下とすることが好ましい。上記の架橋剤の使用量としては2質量%以下がより好ましく、1質量%以下がさらに好ましく、0.5質量%以下が特に好ましい。また、上記の架橋剤の残留量としては1質量%以下がより好ましく0.5質量%以下がさらに好ましく、0.1質量%以下が特に好ましい。また、これらの下限は特に制限されないが、当然に0質量%であることが好ましい。   However, the crosslinking agent may be included as long as it does not cause foaming at a high temperature of 340 ° C. or higher. For example, in producing the raw material liquid crystal polymer film, the amount of the crosslinking agent used relative to the entire raw material is 5% by mass or less, and the raw liquid crystal polymer film and the entire high heat resistant liquid crystal polymer film according to the present invention are unreacted. The remaining crosslinking agent is preferably 2% by mass or less. The amount of the crosslinking agent used is more preferably 2% by mass or less, further preferably 1% by mass or less, and particularly preferably 0.5% by mass or less. The residual amount of the crosslinking agent is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and particularly preferably 0.1% by mass or less. Moreover, although these minimums are not specifically limited, Naturally it is preferable that it is 0 mass%.

或いは、架橋剤を用いる場合には、親水性の低いものを用いることが好ましい。かかる低親水性の架橋剤としては、例えば、ジシクロペンタニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレートなどのアクリレート系架橋剤;ジビニルベンゼン、ビニルシリコーンなどのビニル系架橋剤などを挙げることができる。   Or when using a crosslinking agent, it is preferable to use a thing with low hydrophilicity. Examples of the low hydrophilic crosslinking agent include acrylate crosslinking agents such as dicyclopentanyl acrylate, benzyl acrylate, and phenoxyethyl acrylate; vinyl crosslinking agents such as divinylbenzene and vinyl silicone.

本発明で用いる原料液晶ポリマーフィルムは、フィルムといえるものであれば特に制限されない。例えば、電離放射線照射が可能なものであれば、厚さや巾などは特に制限されず、長尺のものを用いてもよい。原料液晶ポリマーフィルムの厚さは、例えば10μm以上、500μm以下とすることができる。   The raw material liquid crystal polymer film used in the present invention is not particularly limited as long as it can be said to be a film. For example, as long as ionizing radiation irradiation is possible, the thickness and width are not particularly limited, and a long one may be used. The thickness of the raw material liquid crystal polymer film can be, for example, 10 μm or more and 500 μm or less.

本発明で用いる原料液晶ポリマーフィルムとしては、フィラーが配合されているものであってもよい。本発明で用い得るフィラーは特に制限されず、有機フィラーや無機フィラーの何れも用いることができる。フィラーとしては、例えば、タルク、マイカ、ウォラスナイト、アタパルジャイト、シラスバルーン、モンモリロナイト、活性白土、ゼオライト、セピオライト、ゾノトライトなどから成る鉱物フィラー;銅、金、銀、鉛、鉄、タングステン、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、合金(Fe−Ni系、Fe-Si系、Fe−Si−Al系、Fe−Si−Cr系、Fe−Co系、Fe−Si−B−Cr系など)などからなる金属フィラー;シリカなどからなる珪素系フィラー;黒鉛、木炭、炭素繊維、活性炭などからなる炭素系フィラー;フェライト、酸化亜鉛、アルミナ、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化セリウムなどからなる金属酸化物フィラー;硫酸バリウム、チタン酸カリウム、炭酸カルシウムなどからなる金属塩フィラー;芳香族ポリアミドやポリイミドなどからなる有機フィラーを挙げることができる。   The raw material liquid crystal polymer film used in the present invention may contain a filler. The filler that can be used in the present invention is not particularly limited, and either an organic filler or an inorganic filler can be used. As fillers, for example, mineral fillers composed of talc, mica, wollastonite, attapulgite, shirasu balloon, montmorillonite, activated clay, zeolite, sepiolite, zonotolite, etc .; copper, gold, silver, lead, iron, tungsten, stainless steel, aluminum, Metal filler made of nickel, alloy (Fe—Ni, Fe—Si, Fe—Si—Al, Fe—Si—Cr, Fe—Co, Fe—Si—B—Cr, etc.); silica Silicon filler composed of graphite, charcoal, carbon fiber, activated carbon, etc .; metal oxide filler composed of ferrite, zinc oxide, alumina, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, cerium oxide, etc .; barium sulfate , Gold consisting of potassium titanate, calcium carbonate, etc. Metal salt filler; organic filler made of aromatic polyamide, polyimide, etc. can be mentioned.

フィラーの種類は、その特性により選択すればよい。即ち、フィラーの特性は液晶ポリマーフィルムに付与され、また、フィラーにより液晶ポリマーのみからなるフィルムの欠点が改善され得ることから、その目的に応じてフィラーを選択する。具体的には、例えば、弾性率、熱伝導率、導電率、電磁波の遮蔽・反射などの改善や、異方性や高い線膨張係数など液晶ポリマー由来の欠点の改善といった目的に応じて、フィラーを選択することができる。かかる目的などに応じて、フィラーは一種のみ選択してもよいし、二種以上を併用してもよい。   What is necessary is just to select the kind of filler by the characteristic. That is, the properties of the filler are imparted to the liquid crystal polymer film, and the defects of the film consisting only of the liquid crystal polymer can be improved by the filler, so the filler is selected according to the purpose. Specifically, for example, according to the purpose such as improvement of elastic modulus, thermal conductivity, electrical conductivity, shielding / reflection of electromagnetic waves, improvement of defects derived from liquid crystal polymer such as anisotropy and high linear expansion coefficient, fillers Can be selected. Depending on the purpose, only one filler may be selected, or two or more fillers may be used in combination.

フィラーの形状も特に制限されず、板状フィラー、粒状フィラー、棒状(針状)フィラー、不定形フィラーなどを用いることができる。   The shape of the filler is not particularly limited, and a plate-like filler, a granular filler, a rod-like (needle-like) filler, an amorphous filler, or the like can be used.

板状フィラーは互いに対向した面部と面部間の側部を有する形状のものである。例えば、その面部分の平均アスペクト比が1以上、4以下であり、且つ、厚さに対する面部分の長径の平均比が10以上であるものをいう。また、面部は湾曲していてもかまわない。   The plate-like filler has a shape having a face part facing each other and a side part between the face parts. For example, the average aspect ratio of the surface portion is 1 or more and 4 or less, and the average ratio of the major axis of the surface portion to the thickness is 10 or more. The surface portion may be curved.

粒状フィラーとは球状または略球状のものである。例えば、最も長い部分と最も短い部分の平均比が1以上、2以下のものをいう。   The particulate filler is spherical or substantially spherical. For example, the average ratio between the longest part and the shortest part is 1 or more and 2 or less.

棒状(針状フィラー)とは、面などの確認の有無に関わらず棒状のものをいう。例えば、長さ部分の平均長さが0.5μm以上、300μm以下程度、断面部の平均長径が0.05μm以上、15μm以下程度であり、一般的には、断面部の長径に対する長さの比が5以上のものをいう。   A rod-like (needle-like filler) means a rod-like material regardless of whether or not the surface is confirmed. For example, the average length of the length portion is about 0.5 μm or more and 300 μm or less, the average major axis of the cross section is about 0.05 μm or more and 15 μm or less, and generally the ratio of the length to the major axis of the cross section Means 5 or more.

不定形フィラーは、統一された形状が無く、様々な形状を含むものをいう。   An amorphous filler has no uniform shape and includes various shapes.

なお、フィラーの定義における形状は走査型電子顕微鏡(SEM)などによる拡大写真で、その画面中の半数以上のフィラーで確認できるものをいう。また、フィラーの定義における平均アスペクト比や平均長さなどは、同様の拡大写真で観察できる100以上のフィラーの平均値をいうものとする。   In addition, the shape in the definition of a filler is an enlarged photograph by a scanning electron microscope (SEM) or the like, and means a shape that can be confirmed by more than half of the fillers in the screen. Moreover, the average aspect ratio, average length, etc. in the definition of a filler shall mean the average value of 100 or more fillers which can be observed with the same enlarged photograph.

また、本発明で用いるフィラーの平均粒径としては、体積基準で測定される粒度分布測定から求められるものとして、5μm以下の小粒径のものが好ましく、1μm以下がより好ましい。但し、当該平均粒径は、市販のフィラーを用い、そのカタログ値がある場合には、カタログ値を参照すればよいものとする。   The average particle size of the filler used in the present invention is preferably a small particle size of 5 μm or less, more preferably 1 μm or less, as determined from the particle size distribution measurement measured on a volume basis. However, for the average particle diameter, a commercially available filler is used, and when there is a catalog value, the catalog value may be referred to.

フィラーの配合量は適宜調整すればよいが、例えば、原料液晶ポリマーフィルムまたは本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムを構成する液晶ポリマー100質量部に対して1質量部以上、100質量部以下の範囲とすることが好ましく、5質量部以上、30質量部以下とすることがより好ましい。   The blending amount of the filler may be appropriately adjusted. For example, it is 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the liquid crystal polymer constituting the raw liquid crystal polymer film or the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention. It is preferable to set it as a range, and it is more preferable to set it as 5 to 30 mass parts.

本発明においては、原料液晶ポリマーフィルムに2000kGy以上の電離放射線を照射する。   In the present invention, the raw material liquid crystal polymer film is irradiated with ionizing radiation of 2000 kGy or more.

本発明において「電離放射線」とは、原子や分子を電離する作用をもつ高エネルギーの放射線の総称であり、電子線やα線などの高速荷電粒子や高速中性子などの粒子線や、短波長で高いエネルギーをもつ紫外線、X線、γ線などを挙げることができる。本発明では、安全性の面などから電子線を用いることが好ましい。また、電離放射線から原料液晶ポリマーフィルムに付与される照射量の単位である「1kGy」は、原料液晶ポリマーフィルム1kg当たり1Jのエネルギー吸収があったことを示す。かかる照射量は、使用した照射装置などにより調節することができる。なお、当然ではあるが、電離放射線は、原料液晶ポリマーフィルムの平面方向において、できる限り均一に照射するものとする。   In the present invention, the term “ionizing radiation” is a general term for high-energy radiation that ionizes atoms and molecules, and includes fast charged particles such as electron beams and α rays, particle beams such as fast neutrons, and short wavelengths. Examples include high energy ultraviolet rays, X-rays, and γ rays. In the present invention, it is preferable to use an electron beam from the viewpoint of safety. Further, “1 kGy”, which is a unit of irradiation dose imparted from ionizing radiation to the raw material liquid crystal polymer film, indicates that 1 J of energy was absorbed per 1 kg of the raw material liquid crystal polymer film. Such irradiation amount can be adjusted by the irradiation apparatus used. As a matter of course, the ionizing radiation is irradiated as uniformly as possible in the plane direction of the raw liquid crystal polymer film.

照射する電離放射線の照射量としては、2500kGy以上が好ましく、5000kGy以上がより好ましく、10000kGy以上がさらに好ましい。当該照射量が5000kGy以上の場合、特にI型液晶ポリマーフィルムでは350℃における貯蔵弾性率が 1.0×10Pa以上と、高温域での耐熱性に極めて優れるフィルムとなる。一方、当該照射量が大き過ぎるとフィルムの機械的強度が過度に低下するおそれがあり得ることから、75000kGy以下が好ましく、50000kGy以下がより好ましく、25000kGy以下がさらに好ましい。 The dose of ionizing radiation to be irradiated is preferably 2500 kGy or more, more preferably 5000 kGy or more, and further preferably 10,000 kGy or more. When the irradiation amount is 5000 kGy or more, particularly in the case of an I-type liquid crystal polymer film, the storage elastic modulus at 350 ° C. is 1.0 × 10 7 Pa or more, and the film has extremely excellent heat resistance in a high temperature range. On the other hand, if the irradiation dose is too large, the mechanical strength of the film may be excessively lowered. Therefore, it is preferably 75000 kGy or less, more preferably 50000 kGy or less, and further preferably 25000 kGy or less.

上記のとおり、電離放射線の照射により液晶ポリマー分子にいかなる構造変化が生じるか、必ずしも明らかではない。しかし、少なくとも上記のとおり高温域において貯蔵弾性率が上昇に転ずる点があり、また、Z方向(フィルムの厚み方向)の線膨張係数が低下することから、高線量の電離放射線の照射によりZ方向の液晶ポリマー分子間でも架橋が起こっている可能性がある。   As described above, it is not always clear what structural change occurs in liquid crystal polymer molecules by irradiation with ionizing radiation. However, at least as described above, the storage elastic modulus starts to increase in the high temperature range, and the linear expansion coefficient in the Z direction (thickness direction of the film) decreases. Therefore, irradiation with high doses of ionizing radiation causes Z direction. Cross-linking may also occur between the liquid crystal polymer molecules.

具体的には、高線量の電離放射線の照射によって、Z方向の線膨張係数が、電離放射線を照射していない原料液晶ポリマーフィルムに比して6ppm/℃以上低下する。液晶ポリマーフィルムのZ方向の線膨張係数を低減することは、一般的には極めて難しいが、本発明においては、高線量の電離放射線の照射により簡便に低減することができる。また、液晶ポリマーフィルムのZ方向の線膨張係数を低減できれば、例えば電子回路基板に利用する場合、厚み方向の接続信頼性が高まる等の利点が得られる。   Specifically, irradiation with a high dose of ionizing radiation lowers the linear expansion coefficient in the Z direction by 6 ppm / ° C. or more as compared with a raw material liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation. In general, it is extremely difficult to reduce the linear expansion coefficient in the Z direction of the liquid crystal polymer film, but in the present invention, it can be easily reduced by irradiation with a high dose of ionizing radiation. Further, if the linear expansion coefficient in the Z direction of the liquid crystal polymer film can be reduced, for example, when used for an electronic circuit board, advantages such as an increase in connection reliability in the thickness direction can be obtained.

また、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの耐熱性は極めて高く、340℃以上の高温を要する半田リペアなどにおいても耐える。具体的には、350℃における貯蔵弾性率が1.0×107Pa以上であることが好ましく、2.0×107Pa以上であることがより好ましい。 Further, the heat resistance of the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is extremely high, and can withstand solder repair that requires a high temperature of 340 ° C. or higher. Specifically, the storage elastic modulus at 350 ° C. is preferably 1.0 × 10 7 Pa or more, and more preferably 2.0 × 10 7 Pa or more.

さらに、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、340℃以上の高温下では貯蔵弾性率がかえって高まり、350℃における貯蔵弾性率よりも370℃における貯蔵弾性率の方が高いという極めて特異で優れた耐熱性を示す。具体的には、370℃における貯蔵弾性率が1.0×107Pa以上であることが好ましく、2.0×107Pa以上であることがより好ましく、5.0×107Pa以上であることがさらに好ましい。 Furthermore, the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is extremely unique in that the storage elastic modulus is increased at a high temperature of 340 ° C. or higher, and the storage elastic modulus at 370 ° C. is higher than the storage elastic modulus at 350 ° C. Excellent heat resistance. Specifically, the storage elastic modulus at 370 ° C. is preferably 1.0 × 10 7 Pa or more, more preferably 2.0 × 10 7 Pa or more, and 5.0 × 10 7 Pa or more. More preferably it is.

その他、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの平面方向の線膨張係数としては10ppm/℃以上、25ppm/℃以下が好ましく、また、平面方向の一方向での線膨張係数と、当該方向に直交する方向の線膨張係数との比が0.4以上、2.5以下であることが好ましい。上記線膨張係数と上記比が上記範囲内にあれば、例えば金属層と積層した場合に金属層との線膨張係数の差が比較的小さく、反りを低減することができる。   In addition, the linear expansion coefficient in the plane direction of the highly heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is preferably 10 ppm / ° C. or more and 25 ppm / ° C. or less, and the linear expansion coefficient in one direction of the plane direction It is preferable that the ratio with the linear expansion coefficient in the orthogonal direction is 0.4 or more and 2.5 or less. When the linear expansion coefficient and the ratio are within the above range, for example, when laminated with a metal layer, the difference in linear expansion coefficient with the metal layer is relatively small, and warpage can be reduced.

なお、平面方向の線膨張係数を測定する方向は特に制限されないが、液晶ポリマーフィルムを溶融押出した後に押出方向(MD方向)と直交する方向(TD方向)に延伸して異方性を低減した場合には、通常、MD方向の線膨張係数が平面方向で最も小さくなる。しかし延伸倍率を高めた場合には、TD方向の線膨張係数が最小になり、MD方向が最大になることもあり得る。このように、液晶ポリマーフィルムの平面方向ではMD方向またはTD方向で線膨張係数が最大または最小となるので、線膨張係数はMD方向とTD方向で測定することが好ましい。   The direction in which the linear expansion coefficient in the planar direction is measured is not particularly limited, but after the liquid crystal polymer film is melt-extruded, it is stretched in the direction (TD direction) perpendicular to the extrusion direction (MD direction) to reduce anisotropy. In some cases, the linear expansion coefficient in the MD direction is usually the smallest in the plane direction. However, when the draw ratio is increased, the linear expansion coefficient in the TD direction is minimized and the MD direction may be maximized. Thus, since the linear expansion coefficient is maximized or minimized in the MD direction or the TD direction in the plane direction of the liquid crystal polymer film, the linear expansion coefficient is preferably measured in the MD direction and the TD direction.

本発明者らによる実験的知見によれば、少なくとも平面方向の線膨張係数は電離放射線を照射してもほとんど変化しない。また、フィルム厚さも電離放射線の放射ではほぼ変化しない。よって、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの平面方向の線膨張係数やその比、厚さを調整するには、原料となる液晶ポリマーフィルムで調整しておけばよい。   According to experimental findings by the present inventors, at least the linear expansion coefficient in the planar direction hardly changes even when ionizing radiation is irradiated. Also, the film thickness is not substantially changed by the radiation of ionizing radiation. Therefore, in order to adjust the linear expansion coefficient in the planar direction, the ratio, and the thickness of the highly heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention, the liquid crystal polymer film as a raw material may be adjusted.

本発明に係る金属層張積層フィルムは、上記の本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムに金属層が積層されているものであることを特徴とする。   The metal layer-clad laminated film according to the present invention is characterized in that a metal layer is laminated on the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention.

金属層の材質は、金属層張積層フィルムの用途に応じて適宜選択すればよいが、例えば電子回路基板に用いる場合には、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、金、銀などを挙げることができ、汎用性などの点から銅または銅合金が好ましい。   The material of the metal layer may be appropriately selected according to the use of the metal layer-clad laminated film, but when used for an electronic circuit board, for example, copper, copper alloy, nickel, nickel alloy, gold, silver, etc. In view of versatility, copper or a copper alloy is preferable.

積層すべき金属層の厚さは適宜選択すればよいが、例えば、0.1μm以上、2mm以下程度とすることができる。   The thickness of the metal layer to be laminated may be selected as appropriate, and may be, for example, about 0.1 μm or more and 2 mm or less.

本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムと金属層との積層方法は特に制限されないが、例えば、接着剤により接着してもよいし、或いは熱圧着により接着してもよい。その他、湿式めっきなどのめっき法や、蒸着、スパッタなどにより金属層を積層形成してもよい。より好適には、熱可塑性樹脂である液晶ポリマーの特性を活かして熱圧着することが好ましい。   The method for laminating the high heat-resistant liquid crystal polymer film and the metal layer according to the present invention is not particularly limited. For example, it may be bonded by an adhesive or may be bonded by thermocompression bonding. In addition, the metal layer may be laminated by a plating method such as wet plating, vapor deposition, sputtering, or the like. More preferably, thermocompression bonding is preferably performed taking advantage of the properties of the liquid crystal polymer that is a thermoplastic resin.

本発明に係る金属層張積層フィルムは、金属層の少なくとも一部をエッチングするなどして、電子回路基板として用いることができる。当該電子回路基板は、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムの耐熱性が極めて優れることから、340℃以上、400℃以下程度の高温半田実装にも耐えるものとして非常に有用である。   The metal layer-clad laminated film according to the present invention can be used as an electronic circuit board by etching at least a part of the metal layer. The electronic circuit board is very useful as it can withstand high temperature solder mounting at about 340 ° C. or more and 400 ° C. or less because the heat resistance of the high heat resistance liquid crystal polymer film according to the present invention is extremely excellent.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.

実施例1〜4および比較例1,2
I型液晶ポリマーからなり、フィラーとして直径20〜100μmのシリカをフィルム全体に対して10質量%含む市販の50μm厚液晶ポリマーフィルム(プライマテック社製,製品名「BIAC(登録商標) BA」)を310mm×210mmに切断し、窒素雰囲気下、加速電圧200kVの電子線を250kGyずつ、総照射量が1500kGy、2500kGy、5000kGy、7500kGyまたは10000kGyとなるまで繰り返し照射した。また、比較のために、電子線を照射しないフィルムも同様に作製した。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2
A commercially available 50 μm-thick liquid crystal polymer film (product name “BIAC (registered trademark) BA” manufactured by Primatec Co., Ltd.), which is made of type I liquid crystal polymer and contains 10% by mass of silica having a diameter of 20 to 100 μm as a filler. The sample was cut into 310 mm × 210 mm, and repeatedly irradiated with an electron beam with an acceleration voltage of 200 kV in a nitrogen atmosphere until the total irradiation amount reached 1500 kGy, 2500 kGy, 5000 kGy, 7500 kGy, or 10000 kGy. For comparison, a film not irradiated with an electron beam was also produced.

実施例5〜8および比較例3〜5
II型液晶ポリマーからなり、フィラーを含まない市販の50μm厚液晶ポリマーフィルム(プライマテック社製,製品名「BIAC(登録商標)BC」)を310mm×210mmに切断し、窒素雰囲気下、加速電圧200kVの電子線を250kGyずつ、総照射量が1000kGy、1500kGy、2500kGy、5000kGy、7500kGyまたは10000kGyとなるまで繰り返し照射した。また、比較のために、電子線を照射しないフィルムも同様に作製した。
Examples 5-8 and Comparative Examples 3-5
A commercially available 50 μm-thick liquid crystal polymer film (product name “BIAC (registered trademark) BC” manufactured by Primatec Co., Ltd.) made of type II liquid crystal polymer and containing no filler is cut into 310 mm × 210 mm, and an acceleration voltage is 200 kV in a nitrogen atmosphere. Were repeatedly irradiated until the total irradiation amount became 1000 kGy, 1500 kGy, 2500 kGy, 5000 kGy, 7500 kGy, or 10000 kGy. For comparison, a film not irradiated with an electron beam was also produced.

試験例1:貯蔵弾性率の測定
日本工業規格JIS−K7244に準拠して、粘弾性測定装置(ユービーエム社製,製品名「Rheogel−E4000」)を用い、引張法により、上記各フィルムのMD方向の貯蔵弾性率を、振動周波数1Hz、歪み0.1%、昇温速度5℃/分で室温から400℃まで測定した。電離放射線を照射しない、または、1500kGyの電離放射線を照射したI型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフを図1に、2500〜10000kGyの電離放射線を照射したI型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフを図2に、電離放射線を照射しない、または、1000kGyもしくは1500kGyの電離放射線を照射したII型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフを図3に、2500〜10000kGyの電離放射線を照射したII型液晶ポリマーフィルムの温度−貯蔵弾性率曲線グラフを図4に示す。また、各液晶ポリマーフィルムの350℃または370℃における貯蔵弾性率の数値などを表1,2に示す。
Test Example 1: Measurement of storage elastic modulus In accordance with Japanese Industrial Standard JIS-K7244, MD of each of the above films was measured by a tensile method using a viscoelasticity measuring apparatus (product name “Rheogel-E4000” manufactured by UBM). The storage modulus in the direction was measured from room temperature to 400 ° C. at a vibration frequency of 1 Hz, a strain of 0.1%, and a heating rate of 5 ° C./min. Temperature of I-type liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation or irradiated with ionizing radiation of 1500 kGy-Storage elastic modulus curve graph is shown in FIG. 1 and temperature of type I liquid crystal polymer film irradiated with ionizing radiation of 2500-10000 kGy- A storage elastic modulus curve graph is shown in FIG. 2, a temperature-storage elastic modulus curve graph of a type II liquid crystal polymer film irradiated with ionizing radiation or irradiated with ionizing radiation of 1000 kGy or 1500 kGy is shown in FIG. 3, and ionization of 2500 to 10,000 kGy is performed. FIG. 4 shows a temperature-storage modulus curve graph of the type II liquid crystal polymer film irradiated with radiation. In addition, Tables 1 and 2 show numerical values of storage elastic modulus at 350 ° C. or 370 ° C. of each liquid crystal polymer film.

図1〜4と表1,2の結果のとおり、電子線を照射しない液晶ポリマーフィルム(比較例1,3)と電子線照射量が1000kGyまたは1500kGyの液晶ポリマーフィルム(比較例2,4,5)は、測定温度が上昇するにつれ貯蔵弾性率は一過的に低下し続ける。また、350℃または370℃において融解してしまった。   1-4 and the results of Tables 1 and 2, a liquid crystal polymer film not irradiated with an electron beam (Comparative Examples 1 and 3) and a liquid crystal polymer film with an electron beam irradiation amount of 1000 kGy or 1500 kGy (Comparative Examples 2, 4, and 5) ) As the measurement temperature increases, the storage elastic modulus continues to decrease temporarily. Moreover, it melted at 350 ° C. or 370 ° C.

それに対して2500〜10000kGyの電子線を照射した場合(実施例1〜8)には、測定温度の上昇につれ低下し続けた貯蔵弾性率値が上昇に転じる変極点が明確に認められ、また、350℃および370℃においても融解せず、明確な貯蔵弾性率を示した。   On the other hand, when the electron beam of 2500 to 10000 kGy is irradiated (Examples 1 to 8), an inflection point at which the storage elastic modulus value that has continued to decrease as the measurement temperature rises starts to rise is clearly recognized, Even at 350 ° C. and 370 ° C., it did not melt and showed a clear storage modulus.

このように、本発明に係る液晶ポリマーフィルムは、高エネルギー量の電離放射線の照射により340℃以上という高温域での耐熱性が顕著に向上していることが実証された。   Thus, it was demonstrated that the liquid crystal polymer film according to the present invention has remarkably improved heat resistance in a high temperature range of 340 ° C. or higher by irradiation with high energy ionizing radiation.

試験例2:機械的強度の測定
ASTM D882に準拠して、上記フィルムの常温での引張強度と引張伸び率を測定した。詳しくは、テンシロン万能材料試験機(オリエンテック社製)を用い、10mm×100mmの短冊状試験片を10mm/minの速度で引張り、破断した時の加重と伸び率を測定した。電子線未照射液晶ポリマーフィルムの測定値を100とした場合の各電子線照射液晶ポリマーフィルムの測定値の割合を表1,2に示す。当該値により、電子線照射によっても各強度が何%保持されているかを把握することができる。
Test Example 2: Measurement of mechanical strength Based on ASTM D882, the tensile strength and tensile elongation of the film at room temperature were measured. Specifically, using a Tensilon universal material testing machine (Orientec Co., Ltd.), a 10 mm × 100 mm strip test piece was pulled at a speed of 10 mm / min, and the load and elongation rate at the time of breaking were measured. Tables 1 and 2 show the ratio of the measured values of each electron beam irradiated liquid crystal polymer film when the measured value of the electron beam unirradiated liquid crystal polymer film is 100. From this value, it is possible to grasp how many percent of each intensity is retained even by electron beam irradiation.

表1,2の結果のとおり、従来、樹脂フィルムへ過剰な電離放射線を照射すると分解が優勢となって機械的強度が低下すると考えられていたが、液晶ポリマーフィルムの場合、2000kGy以上という高エネルギー量で電離放射線を照射しても、機械的強度はそれほど低下しないことが明らかとなった。   As shown in the results of Tables 1 and 2, it was conventionally thought that when excessive ionizing radiation was applied to the resin film, the decomposition became dominant and the mechanical strength was reduced. However, in the case of a liquid crystal polymer film, high energy of 2000 kGy or more. It was revealed that the mechanical strength did not decrease much even when ionizing radiation was irradiated in an amount.

試験例3:線膨張係数(CTE)の測定
上記で得られた電子線未照射液晶ポリマーフィルムと、5000kGyまたは10000kGyの電子線を照射した液晶ポリマーフィルムにつき、MD方向、TD方向およびZ方向の線膨張係数を測定した。
Test Example 3: Measurement of linear expansion coefficient (CTE) The MD direction, TD direction, and Z direction lines of the liquid crystal polymer film irradiated with the electron beam obtained above and the liquid crystal polymer film irradiated with an electron beam of 5000 kGy or 10000 kGy The expansion coefficient was measured.

具体的には、熱機械分析装置(TMA:Thermal Mechanical Analysis,セイコー電子社製)を用い、上記各液晶ポリマーフィルムの温度を40℃/分で230℃まで昇温させてひずみを除去した後に、30℃まで10℃/分で降温しながらサンプルの長さを計測し、50〜100℃の変位から線膨張係数を算出した。MD方向とTD方向の線膨張係数の測定では、フィルム中央部から20mm×4mmの試験片を切り出し、チャック間距離10mmでTMAのプローブに設置し、5gの荷重を印加して測定した。Z方向の線膨張係数の測定では、直径5mm切り出した試験片を40枚重ねてプローブに設置し、20gの加重を印加して測定した。結果を表3に示す。   Specifically, using a thermomechanical analyzer (TMA: Thermal Mechanical Analysis, manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd.), the temperature of each liquid crystal polymer film was raised to 230 ° C. at 40 ° C./min, and the strain was removed. The sample length was measured while lowering the temperature to 30 ° C. at 10 ° C./min, and the linear expansion coefficient was calculated from the displacement of 50 to 100 ° C. In the measurement of the linear expansion coefficient in the MD direction and the TD direction, a test piece of 20 mm × 4 mm was cut out from the center of the film, placed on a TMA probe with a chuck distance of 10 mm, and a 5 g load was applied for measurement. In the measurement of the linear expansion coefficient in the Z direction, 40 test pieces cut out with a diameter of 5 mm were placed on the probe and measured by applying a weight of 20 g. The results are shown in Table 3.

上記結果のとおり、液晶ポリマーフィルムに電離放射線を照射しても平面方向の線膨張係数はほとんど変化しないといえる。   As described above, it can be said that the linear expansion coefficient in the plane direction hardly changes even when the liquid crystal polymer film is irradiated with ionizing radiation.

一方、一般的な液晶ポリマーフィルムでは、延伸条件をいかに工夫しても液晶ポリマー分子はZ方向に配向しないため、Z方向の線膨張係数は高いままであるが、電離放射線を照射した場合には、その照射量に応じてZ方向の線膨張係数は低下することが分かった。従って、本発明に係る高耐熱性液晶ポリマーフィルムは、平面方向とZ方向との線膨張係数の差が低減されている点でも優れているといえる。   On the other hand, in general liquid crystal polymer films, no matter how the stretching conditions are devised, the liquid crystal polymer molecules do not align in the Z direction, so the linear expansion coefficient in the Z direction remains high, but when irradiated with ionizing radiation It was found that the linear expansion coefficient in the Z direction decreases according to the irradiation amount. Therefore, it can be said that the high heat-resistant liquid crystal polymer film according to the present invention is excellent in that the difference in linear expansion coefficient between the planar direction and the Z direction is reduced.

Claims (14)

平面方向の一方向での線膨張係数と、当該方向に直交する方向の線膨張係数との比が0.4以上、2.5以下であり、且つ、
横軸に温度、縦軸に測定された貯蔵弾性率値をプロットした温度−貯蔵弾性率曲線グラフの300℃以上、400℃以下の範囲において、温度上昇に対する貯蔵弾性率値が減少から増加に転ずる点が存在することを特徴とする高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。
The ratio of the linear expansion coefficient in one direction of the plane direction to the linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the direction is 0.4 or more and 2.5 or less, and
In the temperature-storage modulus curve graph in which the temperature is plotted on the horizontal axis and the measured storage modulus value is plotted on the vertical axis, the storage modulus value with respect to the temperature rises from a decrease to an increase in the range of 300 ° C. to 400 ° C. A high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film characterized by the presence of dots.
サーモトロピック液晶ポリマーが下記式(1)、(2)および/または(3)で表されるものである請求項1に記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。The high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to claim 1, wherein the thermotropic liquid crystal polymer is represented by the following formula (1), (2) and / or (3).
350℃における貯蔵弾性率が1.0×107Pa以上である請求項1または2に記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to claim 1 or 2 , which has a storage elastic modulus at 350 ° C of 1.0 x 10 7 Pa or more. 350℃における貯蔵弾性率が2.0×107Pa以上である請求項1または2に記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to claim 1 or 2 , wherein the storage elastic modulus at 350 ° C is 2.0 x 10 7 Pa or more. 架橋剤により架橋されておらず、および/または、架橋剤を含まないものである請求項1〜のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to any one of claims 1 to 4 , which is not crosslinked by a crosslinking agent and / or does not contain a crosslinking agent. 平面方向の線膨張係数が10ppm/℃以上、25ppm/℃以下である請求項1〜のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to any one of claims 1 to 5 , wherein a linear expansion coefficient in a planar direction is 10 ppm / ° C or more and 25 ppm / ° C or less. 厚さが10μm以上、500μm以下である請求項1〜のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to any one of claims 1 to 6 , which has a thickness of 10 µm or more and 500 µm or less. フィラーを含むものである請求項1〜のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルム。 The high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to any one of claims 1 to 7 , which contains a filler. 高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの製造方法であって、
原料サーモトロピック液晶ポリマーフィルムに2000kGy以上の電離放射線を照射する工程を含み、
高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの平面方向の一方向での線膨張係数と、当該方向に直交する方向の線膨張係数との比が0.4以上、2.5以下であることを特徴とする高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの製造方法。
A method for producing a high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film,
A step of irradiating ionizing radiation or 2000kGy the raw thermotropic liquid crystal polymer film seen including,
The ratio of the linear expansion coefficient in one direction of the plane direction of the high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film to the linear expansion coefficient in the direction orthogonal to the direction is 0.4 or more and 2.5 or less, A method for producing a highly heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film.
電離放射線量を5000kGy以上とする請求項に記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの製造方法。 The manufacturing method of the high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film of Claim 9 which makes ionizing radiation dose 5000 kGy or more. 原料サーモトロピック液晶ポリマーフィルムとして、架橋剤により架橋されておらず、および/または、架橋剤を含まないものを用いる請求項または10に記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの製造方法。 The method for producing a high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to claim 9 or 10 , wherein the raw material thermotropic liquid crystal polymer film is not crosslinked by a crosslinking agent and / or does not contain a crosslinking agent. 高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムのZ方向の線膨張係数が、電離放射線を照射していない原料サーモトロピック液晶ポリマーフィルムに比して6ppm/℃以上低下している請求項9〜11のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムの製造方法。The linear expansion coefficient in the Z direction of the high heat-resistant thermotropic liquid crystal polymer film is 6 ppm / ° C or less lower than that of the raw material thermotropic liquid crystal polymer film not irradiated with ionizing radiation. The manufacturing method of the high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film as described in 1 .. 請求項1〜のいずれかに記載の高耐熱性サーモトロピック液晶ポリマーフィルムに金属層が積層されているものであることを特徴とする金属層張積層フィルム。 A metal layer-clad laminated film, wherein a metal layer is laminated on the high heat resistant thermotropic liquid crystal polymer film according to any one of claims 1 to 8 . 請求項13に記載の金属層張積層フィルムを含むことを特徴とする電子回路基板。   An electronic circuit board comprising the metal layer-clad laminated film according to claim 13.
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