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JP6225594B2 - Height data processing apparatus, height data processing method, program, storage medium, embossed plate manufacturing method, sheet manufacturing method - Google Patents
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Height data processing apparatus, height data processing method, program, storage medium, embossed plate manufacturing method, sheet manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、エンボス版の製造に用いるハイトデータの処理を行うハイトデータ処理方法等に関する。   The present invention relates to a height data processing method for processing height data used for manufacturing an embossed plate.

壁紙等のシートの意匠として、石目柄や織物柄等、テクスチュアの凹凸形状を表面に有するものがある。このようなシートを製造するためには、例えば、テクスチュアの凹凸形状を表面に形成したエンボス版を製造し、この凹凸形状を樹脂等のシートに転写する。   As a design of a sheet such as a wallpaper, there is one having a textured uneven shape on the surface, such as a stone pattern or a fabric pattern. In order to manufacture such a sheet, for example, an embossed plate in which a texture uneven shape is formed on the surface is manufactured, and the uneven shape is transferred to a sheet of resin or the like.

エンボス版に凹凸形状を形成するためには、凹凸形状のデータを版下用に作成する必要がある。このデータはハイトデータと呼ばれ、テクスチュアの凹凸形状の高さ情報を階調値で表したものである。   In order to form a concavo-convex shape on an embossed plate, it is necessary to create concavo-convex shape data for the plate. This data is called height data, and represents the height information of the textured uneven shape of the texture by gradation values.

ハイトデータは、コンピュータ上で自動生成することも可能である(例えば、特許文献1参照)が、一般的には、石目柄や織物柄等のテクスチュアを表面に有する原稿を実際に作成し、その原稿の表面の凹凸形状を3次元スキャナ等で読み取って生成することが多い(例えば、特許文献2参照)。   Height data can be automatically generated on a computer (see, for example, Patent Document 1), but in general, a document having a texture such as a stone pattern or a woven pattern on the surface is actually created. In many cases, the uneven shape on the surface of the original is read and generated by a three-dimensional scanner or the like (see, for example, Patent Document 2).

特開2001−58459号公報JP 2001-58459 A 特開2008−158936号公報JP 2008-158936 A

しかしながら、3次元スキャン時の原稿のたわみや、原稿自体の厚みが不均一であることなどにより、ハイトデータにテクスチュアの凹凸形状ではない高低の変化が表れてしまうことがある。このようなたわみ形状等をハイトデータから取り除くためには、ユーザにより各種のパラメータを設定し画像処理を行ってデータを修正する必要があり、パラメータの設定に試行錯誤を要し負担が大きかった。また、たわみ形状等を画像上で認識しきれず見逃してしまう場合もあった。   However, due to the deflection of the document during three-dimensional scanning and the thickness of the document itself being non-uniform, there may be changes in the height data that are not textured irregularities. In order to remove such a bending shape from the height data, it is necessary for the user to set various parameters and perform image processing to correct the data. This requires a trial and error to set the parameters, which is a heavy burden. In addition, the deflection shape or the like may not be recognized on the image and may be overlooked.

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、原稿を読取って得たハイトデータにおいて、簡単に原稿のたわみ形状等を除去できるハイトデータ処理方法等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a height data processing method and the like that can easily remove a bent shape of a document from height data obtained by reading the document.

前述した目的を達するための第1の発明は、表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出手段と、複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出手段と、前記所定の距離を前記適距離算出手段で算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正手段と、を含むことを特徴とするハイトデータ処理装置である。   A first invention for achieving the above-described object is a height for manufacturing an embossed plate, which is image data obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on a surface and indicating height information as gradation values. With respect to data, corrected height data is created by subtracting the average gradation value of pixels within a predetermined distance from the pixel from the gradation value of each pixel, and the maximum gradation value of the corrected height data is determined. In a relational expression showing a relationship between the height and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, a height difference calculating means for obtaining a height difference that is a difference between a value and a minimum value, An appropriate distance calculating means for obtaining the distance such that the height difference is substantially constant with respect to a change in the distance before and after, and the corrected height data when the predetermined distance is a distance calculated by the appropriate distance calculating means. To create And Todeta correction means, a height data processing apparatus which comprises a.

原稿のたわみ等によって生じるハイトデータの高さの変化は比較的広い周波数帯を有するため、上記の距離がそのような周波数帯に対応する範囲にあるときは、距離を変えても高低差は大きく変動せず、略一定となる。そこで、このような範囲にある距離を採用して上記のようにハイトデータを修正することで、ハイトデータにおける原稿のたわみ形状等をコンピュータ上で自動的に除去でき、ユーザによる試行錯誤の負担が減り、簡単かつ高精度でたわみ形状等の除去ができる。これにより、エンボス版製造用のハイトデータを修正し、たわみ形状等を除去したハイトデータに基づいてエンボス版を製造できる。このエンボス版を用いてシート表面にエンボス加工を行ってシートを製造すれば、たわみ形状等の影響が低減され意匠性に優れたシートが効率よく製造できる。   The change in height of the height data caused by the deflection of the document has a relatively wide frequency band. Therefore, when the above distance is in a range corresponding to such a frequency band, the height difference is large even if the distance is changed. It does not fluctuate and is substantially constant. Therefore, by adopting a distance in such a range and correcting the height data as described above, the deflection shape of the original in the height data can be automatically removed on the computer, and the burden of trial and error by the user is reduced. This reduces the amount of bending, etc., easily and with high accuracy. Thereby, the height data for manufacturing the embossed plate can be corrected, and the embossed plate can be manufactured based on the height data from which the bent shape or the like is removed. If a sheet is manufactured by embossing the surface of the sheet using this embossed plate, a sheet having excellent design properties can be efficiently manufactured with less influence of the bending shape and the like.

前記適距離算出手段は、前記関係式の二階微分値が0となるような前記距離を算出することが望ましい
これにより、ハイトデータから適切な粗さの変化成分を除去してたわみ形状等を除去できる。上記の場合では関係式の変曲点を用いることでたわみ形状等を除去できる。
The appropriate distance calculating means preferably calculates the distance such that the second-order differential value of the relational expression is zero .
As a result, it is possible to remove an appropriate roughness change component from the height data and remove a deflection shape or the like. Kill removal deflection shape by using the inflection point of the relationship in the above case.

第2の発明は、コンピュータが、表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、を実行することを特徴とするハイトデータ処理方法である。   According to a second aspect of the present invention, each height data for manufacturing an embossed plate, which is image data obtained by performing a three-dimensional scan of a document having a concavo-convex shape on a surface and indicating height information with gradation values, The correction height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the pixel from the gradation value of the pixel, and the maximum value and the minimum value of the gradation value of the correction height data are created. In the relational expression showing the relationship between the distance obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances and the relationship between the height difference and the height difference calculating step for obtaining the height difference which is the difference between An appropriate distance calculation step for obtaining the distance such that the height difference is substantially constant with respect to a change in the height, and the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step. A height data processing method characterized by performing the Itodeta modifying step.

第3の発明は、コンピュータに、表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、を実行させるためのプログラムである。   According to a third aspect of the present invention, each height data for manufacturing an embossed plate, which is image data obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on a surface, and indicating height information with gradation values, The correction height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the pixel from the gradation value of the pixel, and the maximum value and the minimum value of the gradation value of the correction height data are created. In the relational expression showing the relationship between the distance obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances and the relationship between the height difference and the height difference calculating step for obtaining the height difference which is the difference between An appropriate distance calculation step for obtaining the distance such that the height difference is substantially constant with respect to a change in the height, and the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step. And Itodeta correction step, a program for execution.

第4の発明は、コンピュータに、表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体である。   The fourth invention relates to height data for embossed plate production, which is image data obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, and indicating height information with gradation values. The correction height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the pixel from the gradation value of the pixel, and the maximum value and the minimum value of the gradation value of the correction height data are created. In the relational expression showing the relationship between the distance obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances and the relationship between the height difference and the height difference calculating step for obtaining the height difference which is the difference between An appropriate distance calculation step for obtaining the distance such that the height difference is substantially constant with respect to a change in the height, and the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step. And Itodeta correction step, a recording medium recording a program for execution.

第5の発明は、コンピュータが、表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、を実行し、エンボス版製造手段が、前記ハイトデータ修正ステップにより算出された修正ハイトデータに基づいて、彫刻またはエッチングの手法により前記修正ハイトデータが示す凹凸形状を表面に形成したエンボス版を製造することを特徴とするエンボス版製造方法である。   The fifth invention relates to height data for embossed plate production, which is image data obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface and indicating height information as gradation values. The correction height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the pixel from the gradation value of the pixel, and the maximum value and the minimum value of the gradation value of the correction height data are created. In the relational expression showing the relationship between the distance obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances and the relationship between the height difference and the height difference calculating step for obtaining the height difference which is the difference between An appropriate distance calculation step for obtaining the distance such that the height difference is substantially constant with respect to a change in the height, and the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step. And the embossed plate manufacturing means forms a concavo-convex shape indicated by the corrected height data on the surface by an engraving or etching method based on the corrected height data calculated by the height data correcting step. An embossed plate manufacturing method characterized by manufacturing an embossed plate.

第6の発明は、第5の発明のエンボス版製造方法によって製造されたエンボス版を用いてシート表面にエンボス加工を施すことを特徴とするシート製造方法である。   6th invention is a sheet manufacturing method characterized by embossing the sheet | seat surface using the embossing plate manufactured by the embossing plate manufacturing method of 5th invention.

本発明により、原稿を読取って得たハイトデータにおいて、簡単に原稿のたわみ形状等を除去できるハイトデータ処理方法等を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a height data processing method and the like that can easily remove a bent shape of a document from height data obtained by reading the document.

ハイトデータ処理装置1を示す図The figure which shows the height data processing apparatus 1 原稿3の読取を示す図Diagram showing reading of document 3 ハイトデータ処理装置1のハードウェア構成を示す図The figure which shows the hardware constitutions of the height data processing apparatus 1 ハイトデータ処理装置1の機能構成を示す図The figure which shows the function structure of the height data processing apparatus 1. ハイトデータ処理方法を示すフローチャートFlow chart showing height data processing method ぼかし処理の例を説明する図The figure explaining the example of a blurring process ぼかし処理の例を説明する図The figure explaining the example of a blurring process ぼかし半径rと高低差Hとの関係を示す図The figure which shows the relationship between the blur radius r and the height difference H 壁紙等のシートの空間周波数分布の例を示す図The figure which shows the example of the spatial frequency distribution of sheets, such as wallpaper 適切なぼかし半径の算出について説明する図Diagram explaining calculation of appropriate blur radius ぼかし処理の例を示す図Diagram showing an example of blur processing エンボス版製造装置9Aを示す図The figure which shows 9A of embossing plate manufacturing apparatuses エンボス版製造装置9Bを示す図The figure which shows the embossing plate manufacturing apparatus 9B エンボス版製造装置9Cを示す図The figure which shows the embossing plate manufacturing apparatus 9C 適切なぼかし半径の算出について説明する図Diagram explaining calculation of appropriate blur radius

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1の実施形態]
(1.ハイトデータ処理装置)
図1は、本発明の実施形態に係るハイトデータ処理装置1を示す図である。このハイトデータ処理装置1は、予め製作したテクスチュアの凹凸形状を有する原稿3を3次元スキャナ2で読み取って得たハイトデータの修正を行い、原稿3のたわみ形状等を除去するものである。修正後のハイトデータは、前記したように、エンボス版の表面にテクスチュアの凹凸形状を形成する際の版下データとして用いられる。
[First Embodiment]
(1. Height data processing device)
FIG. 1 is a diagram showing a height data processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. The height data processing device 1 corrects height data obtained by reading a document 3 having a textured concavo-convex shape manufactured in advance with a three-dimensional scanner 2 and removes a deflection shape and the like of the document 3. As described above, the corrected height data is used as block data when forming the textured uneven shape on the surface of the embossed plate.

ハイトデータ処理装置1は3次元スキャナ2に接続される。3次元スキャナ2は制御装置20aとスキャン部20bを有する。3次元スキャナ2では、制御装置20aによってスキャン部20bを制御し、図2(a)に示すようにレーザ走査を行って原稿3の表面のテクスチュアの凹凸形状を読み取り、ハイトデータとしてハイトデータ処理装置1に送信する。   The height data processing device 1 is connected to a three-dimensional scanner 2. The three-dimensional scanner 2 includes a control device 20a and a scanning unit 20b. In the three-dimensional scanner 2, the control unit 20 a controls the scanning unit 20 b, performs laser scanning as shown in FIG. 2A, reads the texture irregularities on the surface of the document 3, and uses height data processing apparatus as height data. 1 to send.

原稿3の表面にはテクスチュアの凹凸形状が形成されるが、前記の通り、原稿3がたわんでいたり、原稿3自体の厚みが不均一であったりすると、テクスチュアの凹凸形状以外のたわみ形状等がハイトデータに含まれることになる。   The texture 3 has an uneven shape on the surface of the document 3. As described above, when the document 3 is bent or the thickness of the document 3 itself is not uniform, a bent shape other than the texture uneven shape is formed. It will be included in the height data.

図2(b)はたわみ形状等を含んだハイトデータ24の例である。ハイトデータ24は、テクスチュアの凹凸形状の高さ情報を階調値で示す画像データである。図2(b)のハイトデータ24は、テクスチュアの凹凸形状を、高い箇所を白、低い箇所を黒とした256階調のグレースケールで表現したものであり、たわみによって左上部分が低く、右下部分が高くなっている。   FIG. 2B is an example of the height data 24 including the deflection shape and the like. The height data 24 is image data indicating the height information of the texture unevenness shape by gradation values. The height data 24 in FIG. 2 (b) is a representation of the texture irregularity shape in a gray scale of 256 gradations with white at the high part and black at the low part. The upper left part is low due to the deflection, and the lower right part. The part is high.

図3はハイトデータ処理装置1のハードウェア構成を示す図である。ハイトデータ処理装置1は、例えば、制御部11、記憶部12、メディア入出力部13、周辺機器I/F(インタフェース)部14、通信部15、入力部16、表示部17、印刷部18等がバス19を介して接続されて構成された一般的なコンピュータによって実現できる。   FIG. 3 is a diagram illustrating a hardware configuration of the height data processing apparatus 1. The height data processing apparatus 1 includes, for example, a control unit 11, a storage unit 12, a media input / output unit 13, a peripheral device I / F (interface) unit 14, a communication unit 15, an input unit 16, a display unit 17, a printing unit 18, and the like. Can be realized by a general computer configured by being connected via the bus 19.

制御部11は、CPU、ROM、RAM等により構成される。
CPUは、記憶部12、ROM、記録媒体等に格納されるプログラムをRAM上のワークメモリ領域に呼び出して実行し、バス18を介して接続された各部を駆動制御する。ROMは、コンピュータのブートプログラムやBIOS等のプログラム、データ等を恒久的に保持する。RAMは、ロードしたプログラムやデータを一時的に保持するとともに、制御部11が各種処理を行うため使用するワークエリアを備える。
The control unit 11 includes a CPU, ROM, RAM, and the like.
The CPU calls a program stored in the storage unit 12, ROM, recording medium or the like to a work memory area on the RAM and executes it, and drives and controls each unit connected via the bus 18. The ROM permanently holds a computer boot program, a program such as BIOS, data, and the like. The RAM temporarily stores the loaded program and data, and includes a work area used by the control unit 11 to perform various processes.

記憶部12は、例えばハードディスクドライブであり、後述する処理に際して制御部11が実行するプログラムや、プログラム実行に必要なデータ、OS等が格納されている。これらのプログラムコードは、制御部11により必要に応じて読み出されてRAMに移され、CPUに読み出されて実行される。   The storage unit 12 is, for example, a hard disk drive, and stores a program executed by the control unit 11 in processing to be described later, data necessary for program execution, an OS, and the like. These program codes are read by the control unit 11 as necessary, transferred to the RAM, and read and executed by the CPU.

メディア入出力部13は、例えばDVDドライブ等のメディア入出力装置であり、データの入出力を行う。
周辺機器I/F部14は、周辺機器を接続させるためのポートであり、周辺機器I/F部14を介して周辺機器とのデータの送受信を行う。周辺機器との接続形態は有線、無線を問わない。
通信部15は、通信制御装置や通信ポート等を有し、ネットワークを介した他の装置等との通信を媒介する。
The media input / output unit 13 is a media input / output device such as a DVD drive, and performs data input / output.
The peripheral device I / F unit 14 is a port for connecting a peripheral device, and transmits / receives data to / from the peripheral device via the peripheral device I / F unit 14. The connection form with the peripheral device may be wired or wireless.
The communication unit 15 includes a communication control device, a communication port, and the like, and mediates communication with other devices via the network.

入力部16は、例えば、キーボード、マウス等のポインティング・デバイス、テンキー等の入力装置であり、入力されたデータを制御部11へ出力する。
表示部17は、液晶パネルやCRTモニタ等のディスプレイ装置と、ディスプレイ装置と連携して表示処理を実行するための論理回路(ビデオアダプタ等)で構成され、制御部11の制御により入力された表示情報をディスプレイ装置上に表示させる。
印刷部18は、プリンタなどであり、必要に応じて各種画像データの印刷を行う。
バス19は、各部間の制御信号、データ信号等の授受を媒介する経路である。
The input unit 16 is an input device such as a keyboard, a pointing device such as a mouse, or a numeric keypad, and outputs input data to the control unit 11.
The display unit 17 includes a display device such as a liquid crystal panel or a CRT monitor, and a logic circuit (video adapter or the like) for executing display processing in cooperation with the display device. The display unit 17 is input by the control of the control unit 11. Information is displayed on a display device.
The printing unit 18 is a printer or the like, and prints various image data as necessary.
The bus 19 is a path that mediates transmission / reception of control signals, data signals, and the like between the units.

次に、ハイトデータ処理装置1の機能構成について、図4を用いて説明する。   Next, the functional configuration of the height data processing apparatus 1 will be described with reference to FIG.

図4に示すように、ハイトデータ処理装置1は、高低差算出手段21、適距離算出手段22、ハイトデータ修正手段23等を有し、記憶部12にハイトデータ24が記憶される。   As shown in FIG. 4, the height data processing apparatus 1 includes a height difference calculating unit 21, an appropriate distance calculating unit 22, a height data correcting unit 23, and the like, and height data 24 is stored in the storage unit 12.

高低差算出手段21は、ハイトデータ処理装置1の制御部11が、ハイトデータ24の各画素の階調値から、各画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより、修正ハイトデータを作成し、修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求めるものである。一般に、修正ハイトデータを作成する上記の処理は「ぼかし処理」、上記の距離は「ぼかし半径」と呼ばれ、以下の記載でもこれらの語を用いることがある。   In the height difference calculating means 21, the control unit 11 of the height data processing device 1 subtracts the average gradation value of pixels within a predetermined distance from each pixel from the gradation value of each pixel of the height data 24. Thus, the corrected height data is created, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the gradation value of the corrected height data is obtained. In general, the above processing for creating the corrected height data is referred to as “blurring processing”, and the above distance is referred to as “blur radius”, and these terms may be used in the following description.

適距離算出手段22は、ハイトデータ処理装置1の制御部11が、複数のぼかし半径に対して上記の高低差を算出することで得られたぼかし半径と高低差との関係を示す関係式において、前後のぼかし半径の変化に対し高低差が略一定となるようなぼかし半径を求めるものである。   The appropriate distance calculation means 22 is a relational expression showing the relationship between the blur radius and the height difference obtained by the control unit 11 of the height data processing device 1 calculating the height difference for a plurality of blur radii. The blur radius is determined so that the height difference is substantially constant with respect to the change in blur radius before and after.

ハイトデータ修正手段23は、ハイトデータ処理装置1の制御部11が、適距離算出手段22で算出したぼかし半径を用いて、前記と同様の手順で修正ハイトデータを作成するものである。   The height data correction means 23 creates correction height data in the same procedure as described above, using the blur radius calculated by the appropriate distance calculation means 22 by the control unit 11 of the height data processing apparatus 1.

(2.ハイトデータ処理方法)
次に、ハイトデータ処理装置1によるハイトデータ処理方法について説明する。図5はハイトデータ処理方法を示すフローチャートであり、図の各ステップはハイトデータ処理装置1の制御部11により実行される。
(2. Height data processing method)
Next, a height data processing method by the height data processing apparatus 1 will be described. FIG. 5 is a flowchart showing the height data processing method, and each step in the figure is executed by the control unit 11 of the height data processing apparatus 1.

(S1.ハイトデータ24の取得)
本実施形態では、まず、ハイトデータ処理装置1が、記憶部12に記憶された前記のハイトデータ24を取得する(S1)。
(S1. Acquisition of height data 24)
In the present embodiment, first, the height data processing device 1 acquires the height data 24 stored in the storage unit 12 (S1).

(S2:修正ハイトデータの高低差の算出)
ハイトデータ処理装置1は、このハイトデータ24について、複数のぼかし半径のそれぞれでぼかし処理を行い、各ぼかし処理後のハイトデータ24(修正ハイトデータ)について高低差Hを算出する(S2)。
(S2: Calculation of height difference of corrected height data)
The height data processing device 1 performs a blurring process on the height data 24 at each of a plurality of blurring radii, and calculates a height difference H for the height data 24 (corrected height data) after each blurring process (S2).

ぼかし処理は既知であるが、図6、図7を参照して簡単に説明する。図6、図7はハイトデータ24の画素をマスによって示したものであり、図6(a)、図7(a)、(b)では中心の注目画素241aからの距離をマス中に表示し、図6(b)、図7(c)は平均値算出時の重み付け係数をマス中に表示したものである。また、図6(c)はマス中に階調値を表示している。   Although the blurring process is known, it will be briefly described with reference to FIGS. 6 and 7 show the pixels of the height data 24 by squares. In FIGS. 6A, 7A and 7B, the distance from the center pixel of interest 241a is displayed in the squares. FIG. 6B and FIG. 7C show weighting coefficients at the time of average value calculation in squares. FIG. 6C shows gradation values in the square.

ぼかし処理では、例えば、図6(a)に示すように注目画素241aを中心とする正方形の注目範囲内にある各画素について、図6(b)に示すように階調値を均等に重み付けした平均値を平均階調値として算出する。そして、注目画素241aの階調値から上記平均階調値を減算する。以上の処理をハイトデータ24の各画素を注目画素241aとして行うことで、ぼかし処理が行われる。   In the blurring process, for example, as shown in FIG. 6A, the gradation values are equally weighted as shown in FIG. 6B for each pixel within the square attention range centered on the target pixel 241a. The average value is calculated as the average gradation value. Then, the average gradation value is subtracted from the gradation value of the target pixel 241a. The blurring process is performed by performing the above process with each pixel of the height data 24 as the target pixel 241a.

ここで、注目画素241aから注目範囲の最外部の画素までの距離が、ぼかし半径rとなる。図の例では画素とその周囲8方向の画素との間の距離を1とし、r=2である。   Here, the distance from the target pixel 241a to the outermost pixel in the target range is the blur radius r. In the example shown in the figure, the distance between the pixel and the surrounding eight pixels is 1, and r = 2.

なお、図6(c)の左図に示すように、ハイトデータ24の外縁部にある画素を注目画素241aとするときに注目範囲がハイトデータ24の範囲からはみ出すときは、適当な境界条件を設定して平均階調値の算出を行うとよい。例えば図6(c)の左図に示すように注目範囲がハイトデータ24の側辺からはみ出すときは、図6(c)の右図に示すように、はみ出した範囲の画素の階調値を、側辺の画素列に関して線対称の位置にあるハイトデータ24の画素の階調値と仮定してぼかし処理を行うことができる。   As shown in the left diagram of FIG. 6C, when the pixel of interest at the outer edge of the height data 24 is the pixel of interest 241a and the region of interest protrudes from the range of the height data 24, an appropriate boundary condition is set. It is preferable to calculate the average gradation value by setting. For example, when the attention range protrudes from the side of the height data 24 as shown in the left diagram of FIG. 6C, the gradation values of the pixels in the protruding range are changed as shown in the right diagram of FIG. The gradation process can be performed on the assumption that the gradation value of the pixel of the height data 24 is in a line-symmetrical position with respect to the pixel column on the side.

また、注目範囲は正方形に限らない。例えば図7(a)に示すようにひし型の範囲や図7(b)に示すように円に近い範囲としてもよい。また、平均値についても、各画素を均等に重み付けするのではなく、図7(c)に示すように画素位置に応じて重み付けを変えて平均値を算出してもよい。図の例では中心の注目画素241aに近い程重み付けが大きくなるようにしており、一般的にガウスぼかしと呼ばれる。   Further, the attention range is not limited to a square. For example, it may be a rhombus range as shown in FIG. 7 (a) or a range close to a circle as shown in FIG. 7 (b). In addition, regarding the average value, instead of weighting each pixel equally, the average value may be calculated by changing the weight according to the pixel position as shown in FIG. In the example shown in the figure, the closer the pixel is to the center pixel of interest 241a, the greater the weighting, and this is generally called Gaussian blurring.

S2では、予め設定した複数のぼかし半径rのそれぞれで上記したぼかし処理を行い、ぼかし処理後のハイトデータ24のそれぞれについて、階調値の最大値と最小値の差を高低差Hとして算出する。ぼかし半径rが取り得る範囲の設定は任意であるが、例えば織物柄などで同じ柄が繰り返すような場合は、その柄の幅以下の範囲で複数のぼかし半径rを定めることができる。   In S2, the above-described blurring process is performed for each of a plurality of blurring radii r set in advance, and the difference between the maximum value and the minimum value of the gradation value is calculated as the height difference H for each of the height data 24 after the blurring process. . The setting of the range that can be taken by the blur radius r is arbitrary. For example, when the same pattern is repeated in a woven pattern or the like, a plurality of blur radii r can be defined within the range of the width of the pattern.

(S3:適距離の算出)
次に、ハイトデータ処理装置1は、高低差Hとぼかし半径rの関係式を作成し、前後のぼかし半径rの変化に対して高低差が略一定であるようなぼかし半径rを、適距離として算出する(S3)。
(S3: Calculation of appropriate distance)
Next, the height data processing apparatus 1 creates a relational expression between the height difference H and the blur radius r, and sets the blur radius r such that the height difference is substantially constant with respect to the change in the blur radius r before and after the appropriate distance. (S3).

ここでは、図8(a)に示すように、S2で複数のぼかし半径rに対して高低差Hを算出することで得られたデータ40から、ぼかし半径rと高低差Hの関係を近似する3次曲線等の関係式H=f(r)を作成する。図の41は関係式H=f(r)を示す近似線である。   Here, as shown in FIG. 8A, the relationship between the blur radius r and the height difference H is approximated from the data 40 obtained by calculating the height difference H for a plurality of blur radii r in S2. A relational expression H = f (r) such as a cubic curve is created. 41 in the figure is an approximate line showing the relational expression H = f (r).

壁紙等のシートの場合、関係式H=f(r)では、一般的にぼかし半径rの値が大きくなるにつれ高低差Hの値が大きくなる。これは、ぼかし半径rの値が小さい場合ではハイトデータ24の高周波成分を除去することになり、図8(b)に示すようにテクスチュアの細かい凹凸がぼかし処理により低減されるためである。一方、ぼかし半径rの値を大きくして行き、適切な範囲であるとハイトデータ24の原稿3のたわみや原稿3の厚みの不均一さを表す低〜中周波成分を除去することになり図8(c)に示すように細かな凹凸形状が残る。しかし、ぼかし半径rの値がさらに大きくなって適切な範囲を超えると、上記の低〜中周波成分も除去できなくなり、当該成分に起因して高低差Hが大きくなる。   In the case of a sheet such as wallpaper, in the relational expression H = f (r), the height difference H generally increases as the blur radius r increases. This is because when the value of the blur radius r is small, the high-frequency component of the height data 24 is removed, and fine texture irregularities are reduced by the blur processing as shown in FIG. 8B. On the other hand, the value of the blur radius r is increased, and if it is within an appropriate range, the low to medium frequency components representing the deflection of the document 3 in the height data 24 and the uneven thickness of the document 3 are removed. As shown in FIG. 8C, a fine uneven shape remains. However, if the value of the blur radius r is further increased and exceeds an appropriate range, the low to medium frequency components cannot be removed, and the height difference H increases due to the components.

また、ぼかし半径rの値が小さい範囲Aと大きい範囲Cでは、関係式H=f(r)を示す近似線41の傾きが大きい。一方、その中間の範囲Bでは傾きが小さく高低差Hが略一定である。これは、壁紙等のシートの場合、一般的に、図9に示すように、ハイトデータ24の空間周波数分布が、周波数の低〜中程度の箇所と、高い箇所とにピークを有するためである。   In the range A where the value of the blur radius r is small and the range C where the value is large, the slope of the approximate line 41 indicating the relational expression H = f (r) is large. On the other hand, in the intermediate range B, the inclination is small and the height difference H is substantially constant. This is because, in the case of a sheet such as wallpaper, generally, as shown in FIG. 9, the spatial frequency distribution of the height data 24 has peaks at low to medium frequencies and high frequencies. .

すなわち、ハイトデータ24は、原稿3のたわみ等によって生じる高さ変化と、原稿表面に形成されるテクスチュアの凹凸形状とを成分として含んでおり、前者の高さ変化が低〜中周波数成分、後者の凹凸形状が高周波数成分として支配的に現れる。そして、図9に示すように、原稿3のたわみ等によって生じる高さ変化は比較的広い周波数帯を有するため、ぼかし半径rの値が中程度の範囲Bでは、ぼかし半径rを変えても高低差Hは大きく変動せず、略一定となる。一方、テクスチュアの凹凸形状は高周波領域に狭く分布しているため、ぼかし半径rの値が小さい範囲Aでは、ぼかし半径rが少し変わるだけでハイトデータ24が大きく変わり、その結果として高低差Hが大きく変動する。また、ぼかし半径rの値が大きい範囲Cでは、中周波数領域のたわみ形状がぼかし半径rの増大に伴って除去されずにハイトデータ24に徐々に表れだすため、高低差Hの変動も大きくなる。   That is, the height data 24 includes, as components, a height change caused by the deflection of the document 3 and the texture unevenness formed on the document surface, and the former height change is a low to medium frequency component, and the latter. The concavo-convex shape appears predominantly as a high frequency component. As shown in FIG. 9, since the height change caused by the deflection of the document 3 has a relatively wide frequency band, in the range B where the value of the blur radius r is medium, the height changes even if the blur radius r is changed. The difference H does not vary greatly and is substantially constant. On the other hand, since the uneven shape of the texture is narrowly distributed in the high frequency region, in the range A where the value of the blur radius r is small, the height data 24 changes greatly only by changing the blur radius r slightly, and as a result, the height difference H is changed. It fluctuates greatly. In addition, in the range C where the value of the blur radius r is large, the deflection shape in the medium frequency region is gradually removed from the height data 24 without being removed as the blur radius r increases, so that the fluctuation of the height difference H also increases. .

本実施形態では、ハイトデータ24から前記のたわみ形状等を除去するために、図8(a)の近似線41について、前後のぼかし半径rの変化に対し高低差Hが略一定であるような範囲Bにあるぼかし半径rを1つ算出する。原稿3のたわみ形状等は、上記の範囲Aと範囲Cの中間の範囲Bの空間周波数として現れるためである。   In the present embodiment, in order to remove the deflection shape and the like from the height data 24, the height difference H is approximately constant with respect to the change in the blur radius r before and after the approximate line 41 in FIG. One blur radius r in the range B is calculated. This is because the deflection shape or the like of the document 3 appears as a spatial frequency in the range B between the range A and the range C.

なお、ぼかし半径rの変化に対し高低差Hが略一定であるような範囲Bとは、例えば、図10(a)に示すように、前記の関係式H=f(r)についてぼかし半径rに関する一階微分dH/drを算出し、その変動についての平均値μと標準偏差σを用いて、下式(1)を満たすようなぼかし半径rの範囲と定義できる。
μ―σ<dH/dr<μ+σ…(1)
The range B in which the height difference H is substantially constant with respect to the change in the blur radius r is, for example, as shown in FIG. 10A, the blur radius r with respect to the relational expression H = f (r). The first-order derivative dH / dr is calculated, and the average value μ and the standard deviation σ regarding the fluctuation is used to define the range of the blur radius r that satisfies the following expression (1).
μ−σ <dH / dr <μ + σ (1)

本実施形態では、適切なぼかし半径rを1つ算出するために、図10(b)に示すように関係式H=f(r)についてぼかし半径rに関する二階微分dH/drを算出する。そして、その値が0になるようなぼかし半径rの値を求め、これを適切なぼかし半径rとする。なお、上記のぼかし半径rを算出する方法としては、前記の一階微分dH/drの値が最小となるぼかし半径の値を求めてもよい。 In the present embodiment, in order to calculate one appropriate blur radius r, a second-order differential d 2 H / dr 2 with respect to the blur radius r is calculated for the relational expression H = f (r) as shown in FIG. 10B. To do. Then, the value of the blur radius r 0 such that the value is 0 is obtained, and this is set as an appropriate blur radius r. As a method of calculating the blur radius r 0 , a blur radius value that minimizes the value of the first-order differential dH / dr may be obtained.

(S4:ハイトデータのぼかし処理)
ハイトデータ処理装置1は、最後に、S3で算出した適切なぼかし半径rでハイトデータ24のぼかし処理を行う。これにより原稿3のたわみ形状等を除去する。ぼかし処理としては、S2で説明したものと同じ処理を用いることができる。
(S4: Blur processing of height data)
The height data processing apparatus 1 finally performs the blur processing of the height data 24 with the appropriate blur radius r calculated in S3. As a result, the bending shape or the like of the document 3 is removed. As the blurring process, the same process as described in S2 can be used.

図11はこのぼかし処理を示す図である。左に示す、たわみ形状が左右の高さ変化として現れた元のハイトデータを、適切なぼかし半径でぼかし処理を行うことにより、右に示すようにたわみ形状が除去され、テクスチュアの細かな凹凸形状(ここでは、市松模様状に高い位置と低い位置が繰り替えすパターン)が残ったハイトデータが得られる。一方、ぼかし半径が小さい場合や大きい場合では、テクスチュアの細かな凹凸形状が劣化したり、たわみ形状が完全に除去できなくなる。   FIG. 11 is a diagram showing this blurring process. By blurring the original height data, which appears as the left and right deflection shape shown on the left, with an appropriate blurring radius, the deflection shape is removed as shown on the right, and the fine uneven shape of the texture is shown. Height data in which (a pattern in which a high position and a low position are repeated in a checkerboard pattern) remains is obtained. On the other hand, when the blur radius is small or large, the fine concavo-convex shape of the texture is deteriorated or the bent shape cannot be completely removed.

(3.エンボス版の製造と壁紙の製造)
以上のようにして修正されてたわみ形状等が除去されたハイトデータ24は、エンボス版の製造に用いられ、これによりテクスチュアの凹凸形状がエンボス版の表面に形成される。これを図12等を用いて説明する。
(3. Embossed plate production and wallpaper production)
The height data 24, which has been corrected as described above and from which the bent shape or the like has been removed, is used in the manufacture of an embossed plate, whereby a texture uneven shape is formed on the surface of the embossed plate. This will be described with reference to FIG.

図12のエンボス版製造装置9Aは、ハイトデータ24を用いてエンボス版シリンダにテクスチュアの凹凸形状のエンボス彫刻を施すものである。図に示すように、エンボス版製造装置9Aは、コンピュータ91、彫刻機93、支持台101、及び回転駆動部104を備える。   The embossing plate manufacturing apparatus 9 </ b> A in FIG. 12 uses the height data 24 to perform an embossed engraving with a textured uneven shape on the embossed plate cylinder. As shown in the figure, the embossed plate manufacturing apparatus 9 </ b> A includes a computer 91, an engraving machine 93, a support base 101, and a rotation drive unit 104.

コンピュータ91は、ハイトデータ処理装置1として前記した手法によりハイトデータ24を修正し、修正後のハイトデータ24に基づき、彫刻機93を制御する。   The computer 91 corrects the height data 24 by the method described above as the height data processing apparatus 1 and controls the engraving machine 93 based on the corrected height data 24.

彫刻機93は、彫刻機制御部931、駆動部932、及び彫刻用刃(打刻刃)933を備えるエンボス版製造手段である。   The engraving machine 93 is an embossed plate manufacturing means including an engraving machine control unit 931, a driving unit 932, and an engraving blade (cutting blade) 933.

彫刻機制御部931は、コンピュータ91から入力されるハイトデータ24に従って駆動部932を駆動し、彫刻用刃933を支持台101、101に支持されたエンボス版シリンダ100の版面に対して深さ方向に上下動するとともに、エンボス版シリンダ100の回転軸方向(図中A−A方向)に移動させる。回転駆動部104は、コンピュータ91から入力される指示に従って、支持台101、101に支持されたエンボス版シリンダ100を回転軸A−A方向を中心に回転する。   The engraving machine control unit 931 drives the drive unit 932 according to the height data 24 input from the computer 91, and the depth direction with respect to the plate surface of the embossing plate cylinder 100 supported by the support bases 101, 101. The embossing cylinder 100 is moved in the direction of the rotation axis (direction AA in the figure). The rotation driving unit 104 rotates the embossed plate cylinder 100 supported by the support bases 101 and 101 around the direction of the rotation axis AA in accordance with an instruction input from the computer 91.

これにより、彫刻機93は、ハイトデータ24に従った深さで金属製或いは樹脂製のエンボス版シリンダ100に彫刻を施し、テクスチュアの凹凸形状を形成する。   Accordingly, the engraving machine 93 engraves the metal or resin embossed plate cylinder 100 at a depth according to the height data 24 to form a textured uneven shape.

なお、彫刻機93は、彫刻用刃933に代えて、レーザ等を用いる方式のものでもよい。この場合、彫刻機93は、図12の駆動部932及び彫刻用刃933に代えて、走査部、レーザ発振器、及び光学ユニットを用いればよい。上記と同様にしてエンボス版シリンダ100、あるいは光学ユニットを移動させながら、ハイトデータ24に基づく出力値のレーザビームを光学ユニットを介して照射する。これによっても、エンボス版シリンダ100にテクスチュアの凹凸形状を形成できる。   The engraving machine 93 may be of a type using a laser or the like instead of the engraving blade 933. In this case, the engraving machine 93 may use a scanning unit, a laser oscillator, and an optical unit in place of the driving unit 932 and the engraving blade 933 in FIG. In the same manner as described above, the laser beam having an output value based on the height data 24 is irradiated through the optical unit while moving the embossing cylinder 100 or the optical unit. This also makes it possible to form a textured uneven shape on the embossed cylinder 100.

一方、図13のエンボス版製造装置9Bは、ハイトデータ24に基づいて、エッチングの手法を用いてエンボス版シリンダにテクスチュアの凹凸形状を形成するものである。   On the other hand, the embossed plate manufacturing apparatus 9B shown in FIG. 13 forms an uneven shape of the texture on the embossed plate cylinder using an etching method based on the height data 24.

エンボス版製造装置9Bは、前記と同様のコンピュータ91に加え、パターン露光装置96、腐食装置98、支持台101、及び回転駆動部104を備える。支持台101にはレジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ200が取り付けられている。   The embossed plate manufacturing apparatus 9B includes a pattern exposure device 96, a corrosion device 98, a support base 101, and a rotation drive unit 104 in addition to the computer 91 similar to the above. An embossed cylinder 200 coated with a resist layer is attached to the support base 101.

パターン露光装置96は、走査部961、レーザ発振器962、及び光学ユニット963を備え、腐食装置98とともにエンボス版製造手段を構成する。   The pattern exposure apparatus 96 includes a scanning unit 961, a laser oscillator 962, and an optical unit 963, and constitutes an embossed plate manufacturing unit together with the corrosion apparatus 98.

パターン露光装置96は、コンピュータ91から入力されるハイトデータ24に従って走査部961を駆動し、光学ユニットをエンボス版シリンダ200の回転軸方向に移動させるとともに、レーザ発振器962を制御してハイトデータ24に従った出力値に変調する。   The pattern exposure device 96 drives the scanning unit 961 according to the height data 24 input from the computer 91 to move the optical unit in the direction of the rotation axis of the embossed cylinder 200 and controls the laser oscillator 962 to obtain the height data 24. Modulate the output value accordingly.

ここでは、所定の階調値を閾値としてハイトデータ24を二値化し、当該閾値を境にレーザがON/OFFになるように制御を行う。これにより、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ200の所定位置にレーザビームを照射し、露光部と非露光部とからなるパターンを形成する露光処理を行う。レジスト層としては、ポジ型レジスト、ネガ型レジストのいずれも用いることができる。ポジ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層がゲル化する。ネガ型レジストの場合は、露光処理により露光部のレジスト層が硬化する。   Here, the height data 24 is binarized using a predetermined gradation value as a threshold value, and control is performed so that the laser is turned ON / OFF with the threshold value as a boundary. Thereby, a laser beam is irradiated to a predetermined position of the embossed plate cylinder 200 coated with the resist layer, and an exposure process for forming a pattern including an exposed portion and a non-exposed portion is performed. As the resist layer, either a positive resist or a negative resist can be used. In the case of a positive resist, the resist layer in the exposed area is gelled by the exposure process. In the case of a negative resist, the resist layer in the exposed portion is cured by the exposure process.

露光処理が完了したエンボス版シリンダ200は、図示しない現像装置において現像と版洗浄が行われ、レジスト層のうち露光部(ポジ型レジストの場合)もしくは非露光部(ネガ型レジストの場合)が除去され、レジスト層のパターンが形成される。   After the exposure processing is completed, the embossing plate cylinder 200 is developed and washed with a developing device (not shown), and an exposed portion (in the case of a positive resist) or a non-exposed portion (in the case of a negative resist) of the resist layer is removed. Then, a resist layer pattern is formed.

その後、腐食装置98によりエンボス版シリンダ200に腐食液を作用させると、レジスト層の除去により露出した金属面の部分が腐食を受けて窪み、パターンに応じた凹凸形状が形成される。続いて洗浄処理を行い、残ったレジスト層を除去する。   Thereafter, when a corrosive liquid is applied to the embossed plate cylinder 200 by the corrosive device 98, the metal surface portion exposed by the removal of the resist layer is corroded and recessed, and an uneven shape corresponding to the pattern is formed. Subsequently, a cleaning process is performed to remove the remaining resist layer.

その後、再度レジスト層をエンボス版シリンダ200の表面にコーティングし、以上の処理を上記の閾値を変えて繰り返す。これを複数回行うことにより、エンボス版シリンダ200の表面に複数段の凹凸形状が形成でき、テクスチュアの凹凸形状を形成できる。閾値としては、適当な値を予め定めておくとよい。   Thereafter, the resist layer is again coated on the surface of the embossed cylinder 200, and the above processing is repeated while changing the above threshold value. By performing this process a plurality of times, it is possible to form a plurality of concavo-convex shapes on the surface of the embossing plate cylinder 200, thereby forming a texture concavo-convex shape. An appropriate value may be set in advance as the threshold value.

また、レーザビームによってレジスト層のパターンを形成する手段としては、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ200に直接描画(レジスト層を焼飛ばす)し、現像処理や洗浄処理によるレジスト層の除去を必要としないレーザ刷版装置もあり、多く用いられている。この場合のエンボス版製造装置の構成は、現像装置等を必要としない点を除いて上記のエンボス版製造装置9Bと同様である。   Further, as a means for forming a resist layer pattern by a laser beam, it is necessary to draw directly on the embossed cylinder 200 coated with the resist layer (burn out the resist layer) and to remove the resist layer by development processing or cleaning processing. There are laser plate machines that do not, and are often used. The configuration of the embossed plate manufacturing apparatus in this case is the same as that of the embossed plate manufacturing apparatus 9B described above except that a developing device or the like is not required.

この際、パターン露光装置96は、前記と同様の制御を行い、レジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ200の所定位置にレーザビームを照射し、露光部のレジスト層を焼き飛ばし除去してレジスト層のパターンを形成する。レーザ発振器962が発振するレーザとしては、YAGレーザやファイバーレーザを使用することができる。   At this time, the pattern exposure apparatus 96 performs the same control as described above, irradiates a predetermined position of the embossing plate cylinder 200 coated with the resist layer with a laser beam, burns and removes the resist layer in the exposed portion, and removes the resist layer. Form a pattern. As a laser oscillated by the laser oscillator 962, a YAG laser or a fiber laser can be used.

その後、前記と同様の腐食処理を行いパターンに応じた凹凸形状をエンボス版に形成した後、洗浄処理により残ったレジスト層の除去を行う。これらレジスト層コーティング、露光処理、腐食処理、洗浄処理を、前記の閾値を変えて複数回繰り返すことにより、エンボス版シリンダ200の表面に深さの異なる凹凸が形成できる。   Thereafter, the same corrosion treatment as described above is performed to form an uneven shape corresponding to the pattern on the embossed plate, and then the remaining resist layer is removed by the cleaning treatment. By repeating the resist layer coating, the exposure process, the corrosion process, and the cleaning process a plurality of times while changing the threshold value, irregularities having different depths can be formed on the surface of the embossed plate cylinder 200.

図14のエンボス版製造装置9Cは、ハイトデータ24に基づいてフォトマスク97を製造し、これを用いてエンボス版シリンダ200にエッチングを行うことにより、テクスチュアの凹凸形状を形成するものである。   The embossed plate manufacturing apparatus 9 </ b> C in FIG. 14 manufactures a photomask 97 based on the height data 24, and etches the embossed plate cylinder 200 using the photomask 97, thereby forming a textured uneven shape.

エンボス版製造装置9Cは、前記と同様のコンピュータ91に加え、パターン露光装置96、腐食装置98、98a、エンボス版露光装置99、支持台101、及び回転駆動部104を備える。支持台101にはレジスト層をコーティングしたエンボス版シリンダ200が取り付けられる。   The embossed plate manufacturing apparatus 9C includes a pattern exposure device 96, corrosion devices 98 and 98a, an embossed plate exposure device 99, a support base 101, and a rotation drive unit 104 in addition to the computer 91 similar to the above. An embossed cylinder 200 coated with a resist layer is attached to the support base 101.

ここでは、パターン露光装置96、腐食装置98をフォトマスク97の製造段階で利用し、このフォトマスク97を用いて、エンボス版露光装置99、腐食装置98aによりエンボス版の製造を行う。すなわち、これらの装置がエンボス版製造手段を構成している。   Here, the pattern exposure device 96 and the corrosion device 98 are used in the manufacturing stage of the photomask 97, and the embossed plate is manufactured by the embossing plate exposure device 99 and the corrosion device 98a using the photomask 97. That is, these devices constitute embossed plate manufacturing means.

フォトマスク97は、基板973上に遮光膜972が形成され、更にその上にレジスト層971がコーティングされる。このような状態のフォトマスク97に対して、パターン露光装置96は、図13で説明したものと同様の方法でハイトデータ24の閾値に従った露光制御を行なうことにより、レジスト層971に露光部と非露光部とを形成する。その後、現像および洗浄を行って不要なレジスト層を除去してレジスト層のパターンを形成する。レジスト層が除去された部分では、遮光膜972が露出する。   In the photomask 97, a light shielding film 972 is formed on a substrate 973, and a resist layer 971 is further coated thereon. With respect to the photomask 97 in such a state, the pattern exposure apparatus 96 performs exposure control according to the threshold value of the height data 24 in the same manner as described with reference to FIG. And a non-exposed portion. Thereafter, development and washing are performed to remove an unnecessary resist layer to form a resist layer pattern. In the portion where the resist layer is removed, the light shielding film 972 is exposed.

続いて、腐食装置98により腐食液を作用させると、露出した遮光膜972の部分が腐食により除去される。その後、洗浄処理により残ったレジスト層を除去すると、遮光膜972のパターンを基板973上に形成したフォトマスク97が製造される。   Subsequently, when a corrosive liquid is applied by the corrosive device 98, the exposed portion of the light shielding film 972 is removed by corrosion. Thereafter, when the remaining resist layer is removed by the cleaning process, a photomask 97 in which the pattern of the light shielding film 972 is formed on the substrate 973 is manufactured.

フォトマスク97は、上記の閾値の値を変えつつ必要な数だけ製造され、それぞれエンボス版シリンダ200への露光の際に使用される。すなわち、レジスト層がコーティングされたエンボス版シリンダ200をフォトマスク97にて覆い、エンボス版露光装置99で露光することにより、フォトマスク97に形成されている遮光膜972のパターンに従った露光部及び非露光部が形成される。   The required number of photomasks 97 are manufactured while changing the threshold value, and each is used for exposure to the embossing plate cylinder 200. That is, the embossed plate cylinder 200 coated with the resist layer is covered with a photomask 97 and exposed by an embossed plate exposure apparatus 99, whereby an exposure portion according to the pattern of the light shielding film 972 formed on the photomask 97 and A non-exposed portion is formed.

続いて、図13の例と同様に、現像、洗浄処理を行うことにより不要なレジスト層が除去されてレジスト層のパターンが形成される。その後、腐食装置98aや洗浄装置(不図示)を用いて腐食および洗浄処理を行うと、前記と同様に、エンボス版シリンダ200の表面に凹凸が形成され、残ったレジスト層が除去される。   Subsequently, as in the example of FIG. 13, development and cleaning processes are performed to remove unnecessary resist layers and form a resist layer pattern. Thereafter, when corrosion and cleaning processes are performed using a corrosive device 98a or a cleaning device (not shown), as described above, irregularities are formed on the surface of the embossed plate cylinder 200, and the remaining resist layer is removed.

フォトマスク97を交換して、レジスト層コーティング、露光、現像、洗浄(不要なレジスト層の除去)、腐食、洗浄(残ったレジスト層の除去)の処理を繰り返すことにより、エンボス版シリンダ200の表面に複数段の凹凸形状が形成でき、テクスチュアの凹凸形状を形成できる。   The surface of the embossed plate cylinder 200 is changed by replacing the photomask 97 and repeating the processes of resist layer coating, exposure, development, cleaning (removal of unnecessary resist layer), corrosion, and cleaning (removal of remaining resist layer). A plurality of concavo-convex shapes can be formed, and a texture concavo-convex shape can be formed.

これらのエンボス版製造装置9A、9B、9Cによれば、ハイトデータ24に基づいて、エンボス版シリンダ100、200にテクスチュアの凹凸形状を形成することが可能となる。また、このエンボス版シリンダ100、200を用いて、所望のシートにエンボス加工を施すことにより壁紙等のシートが製造できる。シートの素材は、用途に応じて決定されるが、例えば、紙、樹脂、合成皮革等を用いることができる。   According to these embossed plate manufacturing apparatuses 9A, 9B, and 9C, it is possible to form textured uneven shapes on the embossed plate cylinders 100 and 200 based on the height data 24. Further, a sheet such as wallpaper can be manufactured by embossing a desired sheet using the embossed cylinders 100 and 200. The material of the sheet is determined according to the application, and for example, paper, resin, synthetic leather, or the like can be used.

以上説明したように、原稿3のたわみ等によって生じるハイトデータ24の高さの変化は比較的広い周波数帯を有するため、ぼかし半径rがそのような周波数帯に対応する範囲にあるときは、ぼかし半径rを変えても高低差Hは大きく変動せず、略一定となる。そこで、本実施形態では、このような範囲にあるぼかし半径rを採用してハイトデータ24を修正することで、ハイトデータ24における原稿3のたわみ形状等をコンピュータ上で自動的に除去でき、ユーザによる試行錯誤の負担が減り、簡単かつ高精度でたわみ形状等の除去ができる。たわみ形状等を除去した後のハイトデータ24に基づいてエンボス版を製造し、製造したエンボス版を用いてシート表面にエンボス加工を施すことで、たわみ形状等の影響が低減され意匠性に優れた壁紙等のシートが効率よく製造できる。   As described above, the change in height of the height data 24 caused by the deflection of the document 3 has a relatively wide frequency band. Therefore, when the blur radius r is in a range corresponding to such a frequency band, the blur is generated. Even if the radius r is changed, the height difference H does not vary greatly and becomes substantially constant. Therefore, in this embodiment, by adopting the blur radius r in such a range and correcting the height data 24, the deflection shape of the document 3 in the height data 24 can be automatically removed on the computer, and the user This reduces the burden of trial and error, and can easily remove the bent shape with high accuracy. By producing an embossed plate based on the height data 24 after removing the bent shape and the like, and embossing the sheet surface using the manufactured embossed plate, the influence of the bent shape and the like is reduced and the design is excellent. Sheets such as wallpaper can be manufactured efficiently.

[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。第2の実施形態は、図5のS3において適切なぼかし半径rを算出する方法において異なる例である。それ以外については第1の実施形態と同様であるので、説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. The second embodiment is a different example in the method of calculating an appropriate blur radius r in S3 of FIG. Since other than that is the same as that of 1st Embodiment, description is abbreviate | omitted.

第2の実施形態は、前記の関係式において、前後のぼかし半径rの変化に対し高低差Hが略一定となるような範囲のほぼ上限値を算出する例であり、高低差Hが大きくなり始めるぼかし半径rを算出するものである。   The second embodiment is an example in which, in the above relational expression, the upper limit value of the range in which the height difference H is substantially constant with respect to the change in the blur radius r before and after is calculated, and the height difference H increases. The starting blur radius r is calculated.

第2の実施形態では、S3において適切なぼかし半径rを1つ算出するために曲率を用いる。すなわち、図15(a)に示すように前記の関係式H=f(r)を示す近似線41について曲率半径Rを求め、図15(b)に示すように曲率1/Rが極大となるぼかし半径rmaxを、適切なぼかし半径rとして算出する。   In the second embodiment, the curvature is used to calculate one appropriate blur radius r in S3. That is, as shown in FIG. 15A, the curvature radius R is obtained for the approximate line 41 representing the relational expression H = f (r), and the curvature 1 / R is maximized as shown in FIG. 15B. The blur radius rmax is calculated as an appropriate blur radius r.

この第2の実施形態では、近似線41の曲率に基づいて適切なぼかし半径rを算出でき、第1の実施形態と同様の効果が得られる。一方、第1の実施形態では関係式H=f(r)の変曲点から適切なぼかし半径を算出でき、どちらの方法で適切なぼかし半径を算出するかは、シートの特性やたわみ形状等の様子その他の特性に応じて選択すればよい。   In the second embodiment, an appropriate blur radius r can be calculated based on the curvature of the approximate line 41, and the same effect as in the first embodiment can be obtained. On the other hand, in the first embodiment, an appropriate blurring radius can be calculated from the inflection point of the relational expression H = f (r). Which method is used to calculate an appropriate blurring radius depends on the sheet characteristics, the deflection shape, and the like. The selection may be made according to other characteristics.

以上、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. Understood.

1:ハイトデータ処理装置
2:3次元スキャナ
3:原稿
9A、9B、9C:エンボス版製造装置
21:高低差算出手段
22:適距離算出手段
23:ハイトデータ修正手段
24:ハイトデータ
1: Height data processing device 2: Three-dimensional scanner 3: Documents 9A, 9B, 9C: Embossed plate manufacturing device 21: Height difference calculating means 22: Suitable distance calculating means 23: Height data correcting means 24: Height data

Claims (7)

表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出手段と、
複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出手段と、
前記所定の距離を前記適距離算出手段で算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正手段と、
を含むことを特徴とするハイトデータ処理装置。
The height data for embossed plate production, which is image data indicating the height information as gradation values, obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, from the gradation value of each pixel, the pixel The corrected height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the height, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the corrected height data is obtained. A difference calculating means;
In the relational expression showing the relationship between the distance and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, the height difference is substantially constant with respect to the change in the distance before and after. A suitable distance calculating means for obtaining the distance;
Height data correcting means for creating the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated by the appropriate distance calculating means;
A height data processing apparatus comprising:
前記適距離算出手段は、前記関係式の二階微分値が0となるような前記距離を算出することを特徴とする請求項1記載のハイトデータ処理装置。   The height data processing apparatus according to claim 1, wherein the appropriate distance calculation unit calculates the distance such that a second-order differential value of the relational expression is zero. コンピュータが、
表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、
複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、
前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、
を実行することを特徴とするハイトデータ処理方法。
Computer
The height data for embossed plate production, which is image data indicating the height information as gradation values, obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, from the gradation value of each pixel, the pixel The corrected height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the height, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the corrected height data is obtained. A difference calculating step;
In the relational expression showing the relationship between the distance and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, the height difference is substantially constant with respect to the change in the distance before and after. A suitable distance calculating step for obtaining the distance;
Height data correction step for creating the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step;
The height data processing method characterized by performing.
コンピュータに、
表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、
複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、
前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、
を実行させるためのプログラム。
On the computer,
The height data for embossed plate production, which is image data indicating the height information as gradation values, obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, from the gradation value of each pixel, the pixel The corrected height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the height, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the corrected height data is obtained. A difference calculating step;
In the relational expression showing the relationship between the distance and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, the height difference is substantially constant with respect to the change in the distance before and after. A suitable distance calculating step for obtaining the distance;
Height data correction step for creating the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step;
A program for running
コンピュータに、
表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、
複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、
前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、
を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体。
On the computer,
The height data for embossed plate production, which is image data indicating the height information as gradation values, obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, from the gradation value of each pixel, the pixel The corrected height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the height, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the corrected height data is obtained. A difference calculating step;
In the relational expression showing the relationship between the distance and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, the height difference is substantially constant with respect to the change in the distance before and after. A suitable distance calculating step for obtaining the distance;
Height data correction step for creating the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step;
A recording medium on which a program for executing the program is recorded.
コンピュータが、
表面に凹凸形状を有する原稿を3次元スキャンして得られた、高さ情報を階調値で示す画像データである、エンボス版製造用のハイトデータについて、各画素の階調値から、前記画素から所定の距離の範囲内にある画素の平均階調値を減算することにより修正ハイトデータを作成し、前記修正ハイトデータの階調値の最大値と最小値の差である高低差を求める高低差算出ステップと、
複数の前記距離に対して前記高低差を算出することで得られた前記距離と前記高低差の関係を示す関係式において、前後の前記距離の変化に対し前記高低差が略一定となるような前記距離を求める適距離算出ステップと、
前記所定の距離を前記適距離算出ステップで算出した距離とした場合の前記修正ハイトデータを作成するハイトデータ修正ステップと、
を実行し、
エンボス版製造手段が、
前記ハイトデータ修正ステップにより算出された修正ハイトデータに基づいて、彫刻またはエッチングの手法により前記修正ハイトデータが示す凹凸形状を表面に形成したエンボス版を製造することを特徴とするエンボス版製造方法。
Computer
The height data for embossed plate production, which is image data indicating the height information as gradation values, obtained by three-dimensionally scanning a document having a concavo-convex shape on the surface, from the gradation value of each pixel, the pixel The corrected height data is created by subtracting the average gradation value of the pixels within a predetermined distance from the height, and the height difference that is the difference between the maximum value and the minimum value of the corrected height data is obtained. A difference calculating step;
In the relational expression showing the relationship between the distance and the height difference obtained by calculating the height difference for a plurality of the distances, the height difference is substantially constant with respect to the change in the distance before and after. A suitable distance calculating step for obtaining the distance;
Height data correction step for creating the corrected height data when the predetermined distance is the distance calculated in the appropriate distance calculation step;
Run
Embossed plate manufacturing means
An embossed plate manufacturing method characterized in that, based on the corrected height data calculated in the height data correcting step, an embossed plate having a concavo-convex shape indicated by the corrected height data formed on the surface by an engraving or etching technique.
請求項に記載のエンボス版製造方法によって製造されたエンボス版を用いてシート表面にエンボス加工を施すことを特徴とするシート製造方法。 The sheet | seat manufacturing method characterized by embossing a sheet | seat surface using the embossing plate manufactured by the embossing plate manufacturing method of Claim 6 .
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