JP6270742B2

JP6270742B2 - 架橋型核酸誘導体の製造方法

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Publication number: JP6270742B2
Application number: JP2014556449A
Authority: JP
Inventors: 聡小比賀; 秀勲三神山; 庸足立; 直樹三宅; 昌浩阪上; 哲也谷野; 浩輔阿南; 関口　光明; 光明関口; 典一黒田
Original assignee: Osaka University NUC; Shionogi and Co Ltd
Current assignee: Shionogi and Co Ltd; University of Osaka NUC
Priority date: 2013-01-10
Filing date: 2014-01-10
Publication date: 2018-01-31
Anticipated expiration: 2034-01-10
Also published as: JPWO2014109384A1; WO2014109384A1

Description

本発明は、アミド架橋型核酸誘導体の効率的な製造に有用な中間体の製造方法に関する。

核酸医薬による疾病の治療方法の一つとしてアンチセンス法が知られている。アンチセンス法は、疾病に関わるｍＲＮＡと相補的なオリゴヌクレオチド（アンチセンス鎖）を外部から導入し、二重鎖を形成させることにより、病原ＲＮＡの翻訳過程を阻害し、疾病の治療や予防を行う手法である。

天然型オリゴヌクレオチドをアンチセンス法に適用した場合、生体内の酵素により加水分解を受ける、細胞膜透過性が高くないなどの問題が生じる。この問題を解決するために核酸誘導体が数多く合成され、研究が重ねられてきた。例えば、リン原子上の酸素原子をイオウ原子に置換したホスホロチオエート（非特許文献１）、メチル基に置換したメチルホスホネート（非特許文献２）の他、ＢＮＡ（ｂｒｉｄｇｅｄｎｕｃｌｅｉｃａｃｉｄ）やＬＮＡ（ｌｏｃｋｅｄｎｕｃｌｅｉｃａｃｉｄ）などの架橋型タイプが合成されている（特許文献１〜３）。

このような中で、小比賀らは従来の架橋型タイプに比べて、生体内でヌクレアーゼによる分解を受けにくく、標的のｍＲＮＡに対する高い結合親和性を有し、特定の遺伝子の発現を効率よく制御することのできるアンチセンス法に適用可能な分子として２’、４’−ＢＮＡの架橋構造にアミド結合を導入した新規な核酸誘導体を見出した（特許文献４）。

しかしながら、この新規なアミド架橋型核酸誘導体を製造するまでに多段階の工程を要しており、大量合成を目的とした製造法という点において改良の余地を残していた。

国際公開第２００３／０６８７９５国際公開第２００５／０２１５７０国際公開第２０１１／１５６２０２国際公開第２０１１／０５２４３６

Ｆ．Ｅｃｋｓｔｅｉｎｅｔａｌ．，Ｂｉｏｃｈｅｍ．，１８，５９２（１９７９）Ｐ．Ｓ．Ｍｉｌｌｅｒｅｔａｌ．，ＮｕｃｌｅｉｃＡｃｉｄｓＲｅｓ．，１１，５１８９（１９８３）

本発明は、アンチセンス法に用いる分子として有用なアミド架橋型核酸誘導体を、効率的に製造する方法の提供を目的としている。

本発明者らは、特定の条件下においてアルドール反応を行うことによりアミド架橋型核酸誘導体を合成するための重要な中間体を効率的に合成できることを見出して、本発明を完成した。また、この中間体の保護基を除去して効率的に閉環させる方法を見出して、本発明を完成させた。

すなわち本発明は、
（１）一般式（I）で表される化合物を塩基の存在下でアルドール反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｒ_１及びＲ_２は、同一または異なって、水素原子、核酸合成のアミノ基の保護基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、シリル基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基、−Ｐ（Ｒ₇）Ｒ₈［式中、Ｒ₇およびＲ₈は、同一または異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数１〜６のシアノアルコキシ基、または、炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基を示す］；
Ｒ_３は、水素原子、核酸合成の水酸基の保護基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、シリル基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基、−Ｐ（Ｒ_９）Ｒ_１０［式中、Ｒ_９およびＲ_１０は、同一または異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数１〜６のシアノアルコキシ基、または、炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基を示す］；
Ｒ_４は、水素原子、水酸基、または、炭素数１〜５のアルコキシ基；
Ｒ_５及びＲ_６は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、またはアリール基；
Ｂは、置換基を有していてもよい核酸塩基部分）
を含む、一般式（II）で表される化合物の製造方法、
（２）一般式（I）で表される化合物を塩基の存在下で式：Ｒ_５Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_６で表される化合物と反応させる以下に示す工程：

（式中、各定義は前記（１）と同意義）を含む、一般式（II）で表される化合物の製造方法、
（３）前記塩基が、共役酸のｐＫａが６〜１０のものである前記（１）または（２）記載の製造方法、
（４）前記塩基が、トリエチルアミン、またはＮ−メチルモルホリンである前記（３）記載の製造方法、
（５）前記（１）〜（４）のいずれかに記載の方法により一般式（II）で表される化合物を得た後、Ｒ_４が、水素原子である場合、得られた一般式（II）で表される化合物を酸化反応に付する以下の工程：

（式中、Ｒ_４は水素原子、それ以外の定義は前記（１）と同意義）を含む、一般式（III）で表される化合物の製造方法、
（６）Ｒ₁およびＲ₂のいずれか一方が核酸合成のアミノ基の保護基であり、その他方が水素原子またはアルキル基である前記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方法、
（７）Ｒ₃が核酸合成の水酸基の保護基である前記（１）〜（６）のいずれかに記載の製造方法、
（８）Ｒ₄が水素原子である前記（１）〜（７）のいずれかに記載の製造方法、
（９）Ｒ₅およびＲ₆がいずれも水素原子である前記（１）〜（８）のいずれかに記載の製造方法、
（１０）Ｂが置換基を有していてもよい、ピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基である前記（１）〜（９）のいずれかに記載の製造方法、
（１１）下記一般式（III）で表される化合物およびその塩

（式中、Ｒ_３は核酸合成の水酸基の保護基、それ以外の定義は前記（１）と同意義）、
（１２）一般式（III）で表される化合物を脱シリル化剤と反応させ、その反応液に縮合剤を反応させる以下に示す工程：

（式中、Ｒ_１は、炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ_２は、核酸合成のアミノ基の保護基、Ｒ_３は核酸合成の水酸基の保護基であってシリル基を有する保護基、それ以外の定義は前記（１）と同意義）
を含む、一般式（ＩＶ）で表される化合物の製造方法、
（１３）前記（１２）に記載の方法により一般式（ＩＶ）で表される化合物を得た後、得られた一般式（ＩＶ）で表される化合物に、核酸合成の水酸基の保護に使用する試薬を反応させる以下に示す工程：

（式中、Ｒ_７は核酸合成の水酸基の保護基、それ以外の定義は前記（１２）と同意義）
を含む、一般式（Ｖ）で表される化合物の製造方法、
（１４）下記一般式（Ｖ）で表される化合物およびその塩、

（式中、各定義は、前記（１３）と同意義）
（１５）下記一般式（ＶＩ）で表される化合物をトランスグリコシル化反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｂ_１は置換基を有していてもよいピリミジン核酸塩基、Ｂ_２は置換基を有していてもよいチミン以外の核酸塩基、Ｘは水素原子、ナトリウム原子またはカリウム原子、それ以外の定義は前記（１）と同義）
を含む、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の製造方法、
（１６）下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物およびその塩、

（式中、各定義は、前記（１５）と同意義）
（１７）下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物をアルキルアミンと反応させる以下に示す工程：

（式中、Ｙ_１は置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいフェニル基、Ｙ_２〜Ｙ_４は核酸合成の水酸基の保護基、Ｒ_１’およびＲ_２’は水素原子またはアルキル基、Ｂは置換基を有していてもよい芳香族複素環基）
を含む、一般式（ＩＸ）で表される化合物の製造方法、
（１８）下記一般式（Ｘ）で表される化合物をＮ−グリコシル化反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｙ_５は核酸合成の水酸基の保護基、Ｒ_４’はアルキル基、置換基を有していてもよい芳香環、Ｂは置換基を有していてもよい芳香族複素環基）
を含む、一般式（ＸＩ）で表される化合物の製造方法、および
（１９）下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を分子内環化反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｙ_７およびＹ_８は核酸合成の水酸基の保護基、Ｒ_５’はアルキル基、水素原子、置換基を有していてもよいベンジル基、または置換基を有していてもよい芳香環、Ｒ_６’、Ｒ_７’、Ｒ_８’およびＲ_９’は水素原子またはアルキル基）を含む、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の製造方法、
に関する。

本発明によれば、アンチセンス法に用いる分子として有用なアミド架橋型核酸誘導体の製造に必要な新規な重要中間体を効率よく製造することができる。より具体的には原料残と副生成物を最小限におさえて重要中間体を製造することができる。また、この中間体を用いることによって、従来の方法よりも効率的にアンチセンス分子として有用なアミド架橋型核酸誘導体を製造することが可能となった。さらに、この中間体の保護基を除去して効率的に閉環させる方法を見出して、高収率で中間体を得ることが可能となった。

まず、本明細書中で用いられる用語を定義する。

Ｂの「核酸塩基部分」とは、炭化水素環式基の他、炭化水素環の構成原子である炭素原子を、１個以上の窒素原子、硫黄原子もしくは酸素原子などのヘテロ原子に置き換えた構造を有し、芳香族性を示す５〜２０員環のあらゆる複素環式基をいい、単環、縮合環を含む。具体的には、炭化水素環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インダン、インデン、テトラヒドロナフチレン、ビフェニレン等が挙げられる。複素環としては、例えば、ピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基が挙げられる。いずれの環も、以下のα群から選択される置換基を１つ以上有していてもよい。ここで、ピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基には、核酸の構成成分として一般に知られる塩基（例えば、グアニン、アデニン、シトシン、チミン、ウラシル）、及びその他これらに類する核酸成分の塩基として作用もしくは代用し得るあらゆる化学構造が含まれる。その他、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソキサゾール、ピリダジン、インドリジン、インドール、イソインドール、イソキノリン、キノリン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジンなども含まれる。好適には、ピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基、以下のα群から選択される置換基を１つ以上有していてもよいピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基であり、具体的には、プリン−９−イル基、２−オキソ−ピリミジン−１−イル基、または下記α群から選択される置換基を有するプリン−９−イル基もしくは２−オキソ−ピリミジン−１−イル基が好適である。
α群：水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、炭素数１〜５のアルコキシ基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、アミノ基、核酸合成の保護基で保護されたアミノ基、炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基、炭素数１〜５のアルキル基、および、ハロゲン原子。

ここで、「置換基を有していてもよいプリン核酸塩基」として好適な基は、６−アミノプリン−９−イル（即ち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（即ち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプロリン−２−イル又は６−メルカプトプリン−９−イル基であり、さらに好適には、６−ベンゾイルアミノプリン−９−イル、アデニニル、２−イソブチリルアミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル又はグアニニル基である。

また、「置換基を有していてもよいピリミジン核酸塩基」として好適な基は、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、ウラシニル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、チミニル）または４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、５−メチルシトシニル）基であり、さらに好適には、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、シトシニル、チミニル、ウラシニル、２−オキソ−４−ベンゾイルアミノ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、又は５−メチルシトシニル基である。

「置換基を有していてもよいプリン核酸塩基もしくはピリミジン核酸塩基」の中で、さらに好適には、６−アミノプリン−９−イル（即ち、アデニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された６−アミノプリン−９−イル、２，６−ジアミノプリン−９−イル、２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−クロロプリン−９−イル、２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−フルオロプリン−９−イル、２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ブロモプリン−９−イル、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル（即ち、グアニニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−アミノ−６−ヒドロキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−メトキシプリン−９−イル、６−アミノ−２−クロロプリン−９−イル、６−アミノ−２−フルオロプリン−９−イル、２，６−ジメトキシプリン−９−イル、２，６−ジクロロプリン−９−イル、６−メルカプトプリン−９−イル、２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、シトシニル）、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された２−オキソ−４−アミノ−５−フルオロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、４−アミノ−２−オキソ−５−クロロ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メトキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−メルカプト−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル、２−オキソ−４−ヒドロキシ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、ウラシニル）、２−オキソ−４−ヒドロキシ−５−メチル−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、チミニル）、４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル（即ち、５−メチルシトシニル）、または、アミノ基が核酸合成の保護基で保護された４−アミノ−５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イルである。

「核酸合成のアミノ基の保護基」および「核酸合成の水酸基の保護基」、「核酸合成の保護基で保護された水酸基」の保護基とは、核酸合成の際に安定してアミノ基または水酸基を保護し得るものであれば、特に制限はないが、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基のことをいい、そのような保護基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、４−オキソペンタノイル（レブリノイル）、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチル、フェニキシアセチル基、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチル）フェノキシアセチル基のようなアルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基のような「脂肪族アシル基」；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムイミノ基のようなジアルキルイミノ基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基のような「芳香族アシル基」；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イルのような「テトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基」；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロチオフラン−２−イルのような「テトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニル基」；トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１〜２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシリル基のような「シリル基」；メトキシメチル、１，１−ジメチル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブトキシメチル、１−エトキシエチルのような「低級アルコキシメチル基」；２−メトキシエトキシメチルのような「低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基」；２，２，２−トリクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのような「ハロゲノ低級アルコキシメチル基」；１−エトキシエチル、１−（イソプロポキシ）エチルのような「低級アルコキシ化エチル基」；２，２，２−トリクロロエチルのような「ハロゲン化エチル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」；４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；４−クロロフェニル、２−フロロフェニル、４−メトキシフェニル、４−ニトロフェニル、２，４−ジニトロフェニルのような「ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置換されたアリール基」；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような１〜２個の「低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」を挙げることができ、「核酸合成の水酸基の保護基」においては、好適には、「脂肪族アシル基」、「芳香族アシル基」、「１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」、「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」又は「シリル基」であり、さらに好適には、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンゾイル基、ジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、４−オキソペンタノイル（レブリノイル）基であり、「核酸合成の保護基で保護された水酸基」の保護基においては、好適には、「脂肪族アシル基」、「芳香族アシル基」、「１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」、「ハロゲン原子、低級アルコキシ基又はニトロ基で置換されたアリール基」、「低級アルキル基」又は「低級アルケニル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基、ベンジル基、２−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基又は２−プロペニル基である。

「アルキル基」とは、炭素数１〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を示し、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのような炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基（本明細書においては、これらを低級アルキル基とも称す。）の他、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなど炭素数７〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基が含まれ、好適には、上記の炭素数１〜６の直鎖または分岐鎖状のアルキル基である。

「アルケニル基」とは、炭素数２〜２０の直鎖または分岐鎖状のアルケニル基を示し、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような炭素数２〜６の直鎖または分岐鎖状のアルケニル基（本明細書においては、これらを低級アルケニル基とも称す。）の他、ゲラニル、ファルネシルなどが含まれ、好適には、上記の炭素数２〜６の直鎖または分岐鎖状のアルケニル基である。

「シクロアルキル基」とは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基を示し、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ノルボルニル、アダマンチルなどが挙げられ、好適には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基である。また、「シクロアルキル基」には、上記シクロアルキル基の環上の１つ以上のメチレンが酸素原子や硫黄原子、あるいはアルキル基で置換された窒素原子に置換された複素環基も含まれ、例えば、テトラヒドロピラニル基などが挙げられる。

「アリール基」とは、芳香族炭化水素基から水素原子１個を除いた炭素数６〜１４の１価の置換基を意味し、例えば、フェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、アントラセニルなどが挙げられる。また、アリール環が、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル、フェニル基等の１種以上の基によって置換されていてもよく、そのような置換されていてもよいアリール基としては、例えば、２−メチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、４−メトキシフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニル、４−ニトロフェニル、２，４−ジニトロフェニル、ビフェニルなどが挙げられる。好適には、ハロゲン原子、低級アルコキシ基ニトロ基で置換されたフェニル基、フェニル基などが挙げられる。

「アラルキル基」とは、アリール基で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味し、ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような「１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」や、４−メチルベンジル、２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノベンジルのような「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」の他、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘキシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６−フェニルヘキシル、１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、６−ナフチルペンチル、などの「アリール基で置換された炭素数３〜６のアルキル基」などが含まれる。好適には、「１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」、「低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１〜３個のアリール基で置換されたメチル基」であり、さらに好適には、４−メトキシフェニルジフェニルメチル、４，４’−ジメトキシトリフェニルメチルである。

「アシル基」としては、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基のような「脂肪族アシル基」およびベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基のような「芳香族アシル基」が挙げられ、好適には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、ベンゾイル基である。

「シリル基」としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのような「トリ低級アルキルシリル基」、ジフェニルメチルシリル、ブチルジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような「１〜２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシリル基」などが挙げられ、好適には、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリルであり、さらに好適にはトリメチルシリルである。

「核酸合成の保護基で保護されたリン酸基」の「保護基」とは、核酸合成の際に安定してリン酸基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基のことをいい、そのような保護基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルのような「低級アルキル基」；２−シアノエチル、２−シアノ−１，１−ジメチルエチルのような「シアノ化低級アルキル基」；２−メチルジフェニルシリルエチル、２−トリメチルシリルエチル、２−トリフェニルシリルエチルのような「シリル基で置換されたエチル基」；２，２，２−トリクロロエチル、２，２，２−トリブロモエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロ−１，１−ジメチルエチルのような「ハロゲン化低級アルキル基」；エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−エチル−２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、１−メチル−１−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニルのような「低級アルケニル基」；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチルのような「シクロアルキル基」；２−シアノブテニルのような「シアノ化低級アルケニル基」；ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−ナフチルエチル、２−ナフチルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−ナフチルプロピル、２−ナフチルプロピル、３−ナフチルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル、４−フェニルブチル、１−ナフチルブチル、２−ナフチルブチル、３−ナフチルブチル、４−ナフチルブチル、１−フェニルペンチル、２−フェニルペンチル、３−フェニルペンチル、４−フェニルペンチル、５−フェニルペンチル、１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、１−フェニルヘキシル、２−フェニルヘキシル、３−フェニルヘキシル、４−フェニルヘキシル、５−フェニルヘキシル、６−フェニルヘキシル、１−ナフチルペンチル、２−ナフチルペンチル、３−ナフチルペンチル、４−ナフチルペンチル、５−ナフチルペンチル、６−ナフチルペンチルのような「アラルキル基」；４−クロロベンジル、２−（４−ニトロフェニル）エチル、ｏ−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、２，４−ジニトロベンジル、４−クロロ−２−ニトロベンジルのような「ニトロ基、ハロゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」；フェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、アントラセニルのような「アリール基」；２−メチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，５−ジクロロフェニル、２−ブロモフェニル、４−ニトロフェニル、４−クロロ−２−ニトロフェニルのような「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されたアリール基」を挙げることができ、好適には「低級アルキル基」、「シアノ基で置換された低級アルキル基」、「アラルキル基」、「ニトロ基、ハロゲン原子でアリール環が置換されたアラルキル基」または「低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基で置換されたアリール基」であり、さらに好適には、２−シアノエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ベンジル基、２−クロロフェニル基または４−クロロフェニル基である。

「核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基」の保護基としては、核酸合成の際に安定してメルカプト基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基をいい、例えば、上記水酸基の保護基として挙げたものの他、メチルチオ、エチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオのようなアルキルチオ基、ベンジルチオのようなアリールチオ基等の「ジスルフィドを形成する基」を挙げることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基である。

「炭素数１〜５のアルコキシ基」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシを挙げることができ、好適には、メトキシ又はエトキシ基である。

「炭素数１〜５のアルキルチオ基」としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオを挙げることができ、好適には、メチルチオ又はエチルチオ基である。

「炭素数１〜６のシアノアルコキシ基」とは、上記「炭素数１〜５のアルコキシ基」のシアノ基が置換した基をいい、そのような基としては、例えば、シアノメトキシ、２−シアノエトキシ、３−シアノプロポキシ、４−シアノブトキシ、３−シアノ−２−メチルプロポキシ、又は１−シアノメチル−１，１−ジメチルメトキシを挙げることができ、好適には、２−シアノエトキシ基である。

「炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基」としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジイソブチルアミノ、ジ（ｓ−ブチル）アミノ、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）アミノを挙げることができ、好適には、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノまたはジイソプロピルアミノ基である。

「炭素数１〜５のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルなどを挙げることができ、好適には、メチル又はエチル基である。

「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を挙げることができ、好適には、フッ素原子又は塩素原子である。

「核酸合成の保護基で保護されたアミノ基」の保護基としては、核酸合成の際に安定してアミノ基を保護し得るものであれば、特に限定はないが、具体的には、酸性又は中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解及び光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基をいい、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、３−メチルノナノイル、８−メチルノナノイル、３−エチルオクタノイル、３，７−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、１−メチルペンタデカノイル、１４−メチルペンタデカノイル、１３，１３−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、１５−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、１−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル及びヘナイコサノイルのようなアルキルカルボニル基、スクシノイル、グルタロイル、アジポイルのようなカルボキシ化アルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲノ低級アルキルカルボニル基、メトキシアセチル、フェニキシアセチル基、２−（４−ｔｅｒｔ−ブチル）フェノキシ)アセチル基のようなアルコキシ低級アルキルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の「脂肪族アシル基」；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４−クロロベンゾイルのようなハロゲノアリールカルボニル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニル基、２−カルボキシベンゾイル、３−カルボキシベンゾイル、４−カルボキシベンゾイルのようなカルボキシ化アリールカルボニル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル基；２−（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、４−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル基等の「芳香族アシル基」；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのような「低級アルコキシカルボニル基」；２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような「ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカルボニル基」；ビニルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニルのような「アルケニルオキシカルボニル基」；ベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルのような１〜２個の「低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル基」を挙げることができ、好適には、「脂肪族アシル基」又は「芳香族アシル基」であり、さらに好適には、ベンゾイル基である。「ヌクレオシド類縁体」とは、プリン塩基又はピリミジン塩基と糖が結合した「ヌクレオシド」のうち非天然型のもの、並びに、プリン及びピリミジン以外の芳香族複素環及び芳香族炭化水素環でプリン塩基又はピリミジン塩基との代用が可能なものと糖が結合したものいう。

「その塩」とは、本発明の化合物（ＩＩＩ）は、塩にすることができるので、その塩をいい、そのような塩としては、好適にはナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のようなアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等の金属塩；アンモニウム塩のような無機塩、ｔ−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、Ｎ−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、Ｎ−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン塩のような有機塩等のアミン塩；フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルカンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩のようなアリールスルホン酸塩、酢酸塩、リンゴ酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等の有機酸塩；及び、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができる。

「核酸合成の水酸基の保護に使用する試薬」とは、核酸を構成する糖水酸基に、前記「核酸合成の水酸基の保護基」を導入するために用いられる試薬をいう。例えば、5’位の水酸基が
１）４，４’−ジメトキシトリチル基の場合：ピリジン、ＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、４，４’−ジメトキシトリチルクロリドあるいは４，４’−ジメトキシトリチルトリフルオロメタンスルホナート、
２）トリチル基の場合：ピリジン、ＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、トリチルクロリドあるいはトリチルトリフルオロメタンスルホナート、
３）tert-ブチルジメチルシリル基の場合：イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、４，４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、tert-ブチルジメチルシリルクロリドあるいはtert-ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート
４）tert-ブチルジフェニルシリル基の場合；イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、４，４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等の塩基存在下、tert-ブチルジメチルシリルクロリドあるいはtert-ブチルジフェニルシリルトリフルオロメタンスルホナート
５）ベンゾイル基の場合；i) ピリジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下、ベンゾイルクロリド、安息香酸無水物 ii)トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の塩基およびＥＤＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド）塩酸塩、ＤＣＣ（Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド）等の縮合剤存在下、安息香酸
６）レブノイル基の場合；４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等の塩基およびＥＤＣ塩酸塩、ＤＣＣ等の縮合剤存在下、レブリン酸
７）２−エトキシエチル基の場合：ピリジウムパラトルエンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下、エトキシビニルエーテルが該当する。

本発明の一態様は、以下の式により示されるアルドール反応を含む。

「アルドール反応（ａｌｄｏｌｒｅａｃｔｉｏｎ）」とは、アルドール縮合（ａｌｄｏｌｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ）もしくはアルドール付加（ａｌｄｏｌａｄｄｉｔｉｏｎ）とも呼ばれる。α位に水素原子をもつカルボニル化合物に他のカルボニル化合物と反応させてβヒドロキシカルボニル化合物を生成する反応である。酸または塩基いずれかの触媒で起こる平衡反応である。

本発明で出発物質と反応させるカルボニル化合物として例えば、アセトンなどのケトン化合物、ホルムアルデヒドなどのアルデヒド化合物を挙げることができ、好適にはホルマリン又はパラホルムアルデヒドが挙げられる。

通常は塩基の存在下で行われる。このとき使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基、あるいはＮ−メチルモルホリン、ＤＢＵ、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が挙げられる。共役酸のｐＫａが６〜１０である有機塩基が好ましく、このような例としてはトリエチルアミンやＮ−メチルモルホリンである。

使用する溶媒としては、アルコール、アセトニトリル又はＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などの水溶性溶媒が好ましい。

好適な組み合わせとしては、ホルマリン水溶液を１〜３倍容量、塩基としてＮ−メチルモルホリンを１〜３倍容量、そして溶媒としてアセトニトリルを２〜６倍容量である。なぜならば、この組み合わせにおいて一般式（Ｉ）の化合物についてアルドール反応を行った結果、反応後に原料の（Ｉ）の残存および副生成物の生成量を最小限におさえることができたからである。

反応温度および反応時間は特に制限されないが、好適には、反応温度は５０℃〜１００℃、反応時間は１〜２４時間である。

また、本発明の更なる態様は以下の式により示される縮合反応も含む。より、具体的には出発原料の化合物と脱シリル化剤と反応させ、その反応液に縮合剤を反応させる。

「脱シリル化剤」とは、シリル基の脱離反応を起こさせるために加える反応助剤のことであって、一般には、塩酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸など各種の酸の他、フッ化テトラブチルアンモニウム、フッ化水素酸、フッ化セシウム等のフッ化物イオンが挙げられる。

「縮合剤」とは、アミノ基とカルボキシル基とを脱水縮合を起こさせるために加える反応助剤のことである。一般には、ＥＤＣ塩酸塩（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩）、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＤＩＣ（ジイソプロピルカルボジイミド）、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）、ＰｙＢｏｐ〔（ベンゾトリアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウムヘキサフルオホスフェート〕、ＨＡＴＵ〔Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオホスフェート〕、ＤＭＴ−ＭＭ〔４―（４，６−ジメトキシー１，３，５−トリアジンー２−イル）−４−メチルモルホリニウムクロリド〕などのペプチド合成に用いられる試剤や塩化アルミニウム、塩化チタン（ＩＶ）などの酸性触媒等が挙げられる。

さらに、本発明の更なる態様は、以下の式により示されるトランスグリコシル化反応も含む。

ここで「トランスグリコシル化反応」とは、核酸誘導体の塩基部分を置換する反応をいう。

本発明における一般式はシス体、トランス体のいずれをも含む。好ましくは、トランス体である。また本発明における反応工程では、その立体を維持することができ、工業的に非常に有用な方法である。

上記の一般式(I)で表される化合物（下記のＡ−５に該当）については、例えば下記の方法により得ることができる。

式中のＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６およびＢについては前述と同意義を示す。また、Ｐ_１については前述の「核酸合成の水酸基の保護基」と同意義である。好適には、メトキシ基で置換されていてもよいトリチル基、ベンジル基である。

式中の一般式（Ａ−１）で表わされる化合物は、ＯｒｇａｎｉｃＬｅｔｔｅｒｓ，７，１５６９−１５７２（２００５）に記載されている方法より合成することができる。

（第１工程）
本工程は、一般式（Ａ−１）で表わされる化合物にＲ_３−Ｈａｌ（式中、Ｈａｌはハロゲン）、（Ｒ_３）_２Ｏ等を反応させることにより、３’位水酸基がＲ_３−で保護された一般式（Ａ−２）で表わされる化合物を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。例えば、一般式Ａ−１で表わされる化合物を、ＤＭＦ、アセトニトリル、ジクロロメタン等の溶媒中、１．０当量〜１０．０当量、好ましくは３．０当量〜６．０当量のＲ_３−Ｈａｌ（式中、Ｈａｌはハロゲン）、１．０当量〜１０．０当量、好ましくは３．０当量〜６．０当量の有機塩基（例えば、Ｎ−メチルイミダゾール等）または無機塩基（例えば、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等）および１．０当量〜１０．０当量、好ましくは２．０当量〜４．０当量のヨウ化ナトリウムなどの添加剤と、０℃〜１２０℃、好ましくは１０℃〜３０℃で１〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−２）で表わされる化合物を得ることができる。

（第２工程）
本工程は、一般式（Ａ−２）で表わされる化合物に塩酸などの強酸等を反応させることにより、４’位に結合する水酸基の保護基Ｐ_１が脱保護された化合物Ａ−３を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。例えば、一般式Ａ−２で表わされる化合物を、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ジオキサン等の溶媒中、１．０当量〜１０．０当量、好ましくは２．０当量〜４．０当量の強酸（塩酸、硫酸等の水溶液、パラトルエンスルホン酸等の有機酸等）と、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜３０℃で０．５〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−３）で表わされる化合物を得ることができる。

（第３工程）
本工程は、一般式（Ａ−３）で表わされる化合物に（Ｒ_２）_２Ｏ、Ｒ_２−Ｈａｌ（式中、Ｈａｌはハロゲン）等を反応させることにより、アミノ基がＲ_２−で保護された化合物Ａ−４を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。例えば、一般式Ａ−３で表わされる化合物を、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ＤＭＦ等の溶媒中、または水−テトラヒドロフラン、水−トルエン等の混合溶媒中、１．０当量〜５．０当量、好ましくは２．０当量〜４．０当量の（Ｒ_２）_２Ｏおよび１．０当量〜５．０当量、好ましくは２．０当量〜４．０当量の有機塩基（例えば、ピリジン等）または無機塩基（例えば、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等）と、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜３０℃で０．５〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−４）で表わされる化合物を得ることができる。

（第４工程）
本工程は、一般式（Ａ−４）で表わされる化合物の４’位に結合する水酸基を酸化して、カルボニル基を有する化合物（Ａ−５）を得る工程である。本工程は、実験化学講座第５版１７巻（山善）等に記載の方法に従って行うことができる。例えば、一般式Ａ−４で表わされる化合物を、ＤＭＳＯ等の溶媒中、１．０当量〜５．０当量、好ましくは２．０当量〜４．０当量のＥＤＣおよび１．０当量〜３．０当量、好ましくは１．０当量〜２．０当量の有機酸（例えば、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム等）と、０℃〜５０℃、好ましくは１０℃〜３０℃で０．５〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−５）で表わされる化合物を得ることができる。

（第５工程）
上記の方法で得た一般式（Ａ−５）で表わされる化合物については以下のアルドール反応を行う。

本工程は、一般式（Ａ−５）で表わされる化合物を本発明の請求項１に示すアルドール反応に付して、一般式（Ａ−６）で表わされる化合物を得る工程である。例えば、一般式（Ａ−５）で表わされる化合物を、エタノール、ブタノール、アセトニトリル、ＤＭＦ等の溶媒中、好ましくはアセトニトリル中、１．０倍〜２０．０倍容量もしくは１．０当量〜２０．０当量のＲ_５Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_６であらわされるカルボニル化合物、好ましくは１．０倍〜３．０倍容量のホルマリン水溶液等、および１．０倍〜２０．０倍容量もしくは１．０当量〜２０．０当量の有機塩基、好ましくは１．０倍〜３．０倍容量の共役酸のｐＫａが６〜１０の有機塩基（例えば、Ｎ−メチルモルホリン等）と、２０℃〜１００℃、好ましくは７０℃〜８０℃で０．５〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−６）で表わされる化合物を得ることができる。

（第６工程）
上記の方法で得た一般式（Ａ−６）で表わされる化合物のＲ_４が水素原子である場合には、以下の酸化反応を行う。

本工程は、実験化学講座第５版１７巻（山善）等に記載の方法に従って行うことができる。例えば、一般式（Ａ−６）で表わされる化合物を、酢酸エチル、アセトニトリル、ｔｅｒｔ−ブタノール等の溶媒中、リン酸二水素ナトリウム水溶液等の緩衝液および１．０当量〜２０．０当量の２−メチル−２−ブテン、スクアレン等の存在下、１．０当量〜１０．０当量、好ましくは２．０当量〜５．０当量の亜塩素酸ナトリウムと、０℃〜６０℃、好ましくは１０℃〜４０℃で０．５〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−７）で表わされる化合物を得ることができる。

また、一般式（Ａ−６）で表わされる化合物のＲ_４がアルコキシ基である場合には、例えば、メタノール、エタノール，１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、０．１規定〜１０規定のアルカリ水溶液（水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等）と、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜３０℃で０．１〜２４時間反応させることにより一般式Ａ−７で表わされる化合物を得ることができる。

４種アミダイトの一般的製法（１）
上記の方法で得た一般式（Ａ−６）（ただし、Ｒ_４が水酸基である場合に限る）もしくは（Ａ−７）で表わされる化合物から一般式（Ａ−１２）で表されるアミダイト化合物は、下記の製法により得ることができる。

式中のＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６およびＢについては前述と同意義を示す。また、Ｐ_２については前述の「核酸合成の水酸基の保護基」と同意義である。好適には、４，４’‐ジメトキシトリチル基、トリチル基、ＴＢＤＰＳ基あるいはＴＢＳ基である。Ｐ_３については「ホスホロアミダイト基」を示す。「ホスホロアミダイト基」とは、式−Ｐ（ＯＲ_１１）（ＮＲ_１２）で表される基（式中、Ｒ_１１は炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜７のシアノアルキル基を示し、Ｒ_１２は炭素数１〜６のアルキル基を示す。）を意味し、好適には、式−Ｐ（ＯＣ_２Ｈ_４ＣＮ）（Ｎ（ｉＰｒ）_２）で表される基又は式−Ｐ（ＯＣＨ_３）（Ｎ（ｉＰｒ）_２）で表される基である。

第７工程
本工程は、一般式（Ａ−７）で表わされる化合物のアミノ基に置換する保護基Ｒ_２を脱保護して化合物Ａ−８を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。

第８工程
本工程は、一般式（Ａ−８）で表わされる化合物から、２’位と４’位がアミド結合で環化した一般式（Ａ−９）で表わされる化合物を得る工程である。Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、１．０当量〜５当量、好ましくは１．０当量〜１．５当量のＤＣＣ、ＥＤＣ、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）等の縮合剤を加え（あるいはそれらの縮合剤にＨＯＢｔ、ＨＯＳu等を添加し）、−２０℃〜１２０℃、好ましくは０℃〜８０℃で０．５時間〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−９）で表わされる化合物を得ることができる。

第９工程
本工程は、一般式（Ａ−９）で表わされる化合物の５’位水酸基を保護基Ｐ_２（例えば４，４’‐ジメトキシトリチル基）で保護された一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。

例えば、一般式（Ａ−９）で表わされる化合物を、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ＤＡＢＣＯ（１、４−ジアザビシクロ[２.２.２]オクタン）等の塩基存在下、ジクロロメタン、トルエン等の溶媒中、あるいはピリジン溶媒中、１．０当量〜５当量、好ましくは１．０当量〜１．５当量の４，４’‐ジメトキシトリチルクロリドを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間反応させることによりＰ_２が４，４’‐ジメトキシトリチル基である一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物を得ることができる。

第１０工程
本工程は、一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物の３’位に結合する水酸基の保護基Ｒ_３が脱保護された一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。

一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物のＲ_３が、例えばシリル系保護基（ＴＢＳ基、ＴＢＤＰＳ基、ＴＥＳ基など）の場合、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、ジオキサン等の溶媒中、１．０当量〜１０．０当量、好ましくは１．１当量〜３．０当量の脱シリル化剤（テトラブチルアンモニウムフロリド、アンモニウムフロリド、セシウムフロリド等のフッ素含有試薬、トリフルオロ酢酸、塩酸等の酸）と、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜８０℃で０．１時間〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得ることができる。

また、一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物のＲ_３が、例えばベンジル系保護基（Ｂｎ基、ｐ−メトキシベンジル基など）の場合、メタノール、テトラヒドロフラン、エタノール、ジオキサン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、パラジウム−炭素粉末や水酸化パラジウム−炭素粉末を加え、水素気流下、０℃〜４０℃で、１時間〜２４時間反応させることにより、一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得ることができる。

第１１工程
本工程は、一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物に対して、アミダイト化試薬を反応させることにより、３’位水酸基がアミダイト化された一般式（Ａ−１２）で表わされる化合物を得る工程である。一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物をアセトニトリル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の塩基の存在下で、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイトあるいはテトラゾール、ジシアノイミダゾール等の酸存在下で２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスフォロアミダイトを加え、０℃〜６０℃で、１時間〜２４時間反応させることにより、一般式（Ａ−１２）を得ることができる。

以上の各工程については順序が入れ替わっても良く、一般式（Ａ−７）で表わされる化合物から一般式（Ａ−１２）で表わされる化合物へ変換できれば良い。

４種アミダイトの一般的製法（２）
４種アミダイトの一般的製法（１）の別法として、一般式（Ａ−９）から一般式（Ａ−１０−２）を経由して、一般式（Ａ−１１）を得ることが出来る

第１工程
本工程は、一般式（Ａ−９）で表わされる化合物の３’位に結合する水酸基の保護基Ｒ_３が脱保護された一般式（Ａ−１０−２）で表わされる化合物を得る工程である。４種アミダイトの一般的製法（１）の第３工程（Ａ−１０からＡ−１１の工程）と同様な方法で、一般式（Ａ−１０−２）で表わされる化合物を得ることができる。
なお、核酸塩基がアデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）の場合でそのアミノ基が無保護の場合は、塩基存在下、ＴＭＳクロリド、ＴＢＳクロリドなどのシリル化剤でシリル化し、ベンゾイルクロリド、フェノキシアセチルクロリド、各種酸無水物などのアシル化剤あるいは１，１−ジメトキシーＮ，Ｎ‘−ジメチルメタンアミン等のイミノ化剤を−２０℃〜１２０℃、好ましくは０℃〜５０℃で０．５時間〜２４時間反応させた後、酸処理あるいは脱シリル化剤と反応させることにより、核酸塩基のアミノ基が保護された一般式（Ａ−１０−２）で表わされる化合物を得ることができる。

第２工程
本工程は、一般式（Ａ−１０−２）で表わされる化合物の５’位水酸基を保護基Ｒ_７（通常は４，４’‐ジメトキシトリチル基）で保護した一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得る工程である。４種アミダイトの一般的製法（１）の第２工程（Ａ−９からＡ−１０の工程）と同様な方法で、一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得ることができる。

以上の各工程についても順序が入れ替わっても良く、一般式（Ａ−９）で表わされる化合物から一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物へ変換できれば良い。

４種アミダイトの一般的製法（３）
４種アミダイトの一般的製法（１）の別法として、一般式（Ａ−７）から一般式（Ａ−１１）は以下の工程によっても得ることができる。

Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５、Ｒ_６およびＢは前述と同意義を示す。Ｒ_７は４，４’−ジメトキシトリチル基（あるいはトリチル基、ＴＢＤＰＳ基、ＴＢＳ基）など核酸合成に用いる水酸基の保護基である。

第１工程
本工程は、一般式（Ａ−７）で表わされる化合物から、２’位と３’位の保護基を除去して一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物を得る工程である。２’位の保護基がトリフルオロアセチル基の場合、テトラヒドロフラン、メタノール、アセトニトリル，ピリジン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、１．０当量〜５当量、好ましくは１．０当量〜３．０当量のＴＢＡＦ（テトラブチルアンモニウムフロリド）、フッ化水素トリエチルアミン錯体、フッ化アンモニウム等の脱シリル化剤を加え、０℃〜１００℃、好ましくは２５℃〜８０℃で０．５時間〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。脱シリル化剤では通常除去されないトリフルオロアセチル基が除去される一方で、ベンゾイル基など核酸塩基の保護基が除去されないことが本反応の特徴であり、架橋型核酸誘導体の合成工程数、収率の向上を可能にする方法である。
また、別法としてＲ_２がトリフルオロアセチル基を含むアシル系保護基あるいはカーバメート系保護基の場合、メタノール、エタノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、０．１規定〜１０規定のアルカリ溶液（水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム−メタノール溶液等）と、０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜３０℃で０．１〜２４時間反応することにより２’位の保護基を除去した後、ＴＢＡＦ等で脱シリル化することにより、一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。
Ｒ_２が第３ブチルオキシカルボニル基（ＢＯＣ基）の場合、メタノール、エタノール、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、あるいは無溶媒で、トリフルオロ酢酸あるいは塩化水素等の酸と−２０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜３０℃で０．１〜２４時間反応することにより２’位の保護基を除去した後、ＴＢＡＦ等で脱シリル化することにより、一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。
Ｒ_２がベンジル系の保護基（ＣＢｚ基、Ｂｎ基、ＭＰＭ基等）の場合は、メタノール、テトラヒドロフラン、エタノール、ジオキサン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、パラジウム−炭素粉末や水酸化パラジウム−炭素粉末を加え、水素気流下、０℃〜４０℃で、１時間〜２４時間反応させることにより、２’位の保護基を除去した後、ＴＢＡＦ等で脱シリル化することにより、一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物を得ることができる。

第２工程
本工程は、一般式（Ａ−１３）で表わされる化合物から、２’位と４’位がアミド結合で環化した一般式（Ａ−１４）で表わされる化合物を得る工程である。Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、１．０当量〜１０当量、好ましくは１．０当量〜３当量のＤＣＣ、ＥＤＣ、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）等の縮合剤を加え（あるいはそれらの縮合剤にＨＯＢｔ、ＨＯＳｕ等を添加し）、−２０℃〜１２０℃、好ましくは２５℃〜８０℃で０．５時間〜２４時間反応させることにより一般式（Ａ−１４）で表わされる化合物を得ることができる。
なお，核酸塩基がアデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）で、そのアミノ基が無保護の場合は、塩基存在下、ＴＭＳクロリド、ＴＢＳクロリドなどのシリル化剤でシリル化し、ベンゾイルクロリド、フェノキシアセチルクロリド、各種酸無水物などのアシル化剤あるいは１，１−ジメトキシーN，N‘−ジメチルメタンアミン等のイミノ化剤を−２０℃〜１２０℃、好ましくは０℃〜５０℃で０．５時間〜２４時間反応させた後、酸処理あるいは脱シリル化剤と反応させることにより、核酸塩基のアミノ基が保護された一般式（Ａ−１４）で表わされる化合物を得ることができる。

第３工程
本工程は、一般式（Ａ−１４）で表わされる化合物の５’位水酸基を保護基Ｒ_７（例えば、４，４’‐ジメトキシトリチル基）で保護された一般式（Ａ−１１）で表わされる化合物を得る工程である。本工程は、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＴｈｅｏｄｏｒａＷＧｒｅｅｎ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）等に記載の方法に従って行うことができる。
一般式（Ａ−１４）で表わされる化合物をピリジン、ＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン）、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩基存在下、ジクロロメタン、トルエン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、あるいはピリジン溶媒中、１．０当量〜５当量、好ましくは１．０当量〜３当量の４，４’−ジメトキシトリチルクロリドを加え、０℃〜８０℃、好ましくは２０℃〜３０℃で、０．５時間〜２４時間反応させることによりＲ_７が４，４’−ジメトキシトリチル基である一般式（Ａ―１１）で表わされる化合物を得ることができる。
なお、第１工程〜第３工程は反応溶媒を適切に選択することにより、１ポットで実施することも可能である。

４種アミダイトの一般的製法（４）
一般式（Ａ−７）において、Ｂがチミン（Ｔ）あるいはその誘導体である場合には、トランスグリコシル化反応によって、アデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）あるいはこれらの誘導体に変換することができる。具体的には、１，２−ジクロロエタン、トルエン、アセトニトリル、ＣＰＭＥ（シクロペンチルメチルエーテル）等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＢＳＡ（Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド）、アデニン、グアニン、あるいはこれらの誘導体、ＴＭＳＯＴｆ、ＢＦ３ＯＥｔ２等のルイス酸を加え、０℃〜１２０℃、好ましくは５０℃〜８０℃で０．１〜２４時間反応することにより、Ｂがアデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）あるいはこれらの誘導体の一般式（Ａ−７）で表わされる化合物を得ることができる。

シチジン型化合物のアミダイトの一般的製法
一般式（Ａ−１１ｃ）で表される化合物は、一般式（Ａ−１０）より、下記の方法により得ることができる。

式中のＱ_１、Ｑ_２、およびＱ_３については前述の「炭素数１〜５のアルキル基」と同意義である。

第１工程
本工程は、上記の一般式（Ａ−１０）で表わされる化合物において、核酸塩基部（Ｂ）がチミン又はチミン誘導体（Ａ−１０ｔ）であるチミジン型化合物から、核酸塩基部（Ｂ）がシトシン又はシトシン誘導体（Ａ−１０ｃ）であるシチジン型化合物を得る工程である。アセトニトリル、ジクロロメタン、ピリジン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリエチルアミン、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の塩基、および２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド等のスルホニルクロリドと、−２０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜３０℃で０．１〜２４時間反応させた後、アンモニア水を加えて、０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜３０℃で０．５〜８時間反応させることにより、一般式（Ａ−１０ｃ）で表わされる化合物を得ることができる。

第２工程
本工程は、一般式（Ａ−１０ｃ）で表わされる化合物から、さらに、シトシン又はシトシン誘導体のアミノ基を修飾して、一般式（Ａ−１１ｃ）で表わされる化合物を得る工程である。Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、ピリジン、アセトニトリル、ジクロロメタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリエチルアミン、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の塩基、およびベンゾイルクロリド、アセチルクロリド等のアシルクロリドあるいは安息香酸無水物、無水酢酸等の酸無水物と、−２０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜３０℃で０．１〜４８時間反応させることにより、一般式（Ａ−１１ｃ）で表わされる化合物を得ることができる。

以下、本発明の核酸誘導体の合成を実施例に基づいてさらに詳しく説明する。
［実施例１］

（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシキルオキシ）−２−ヒドロキシメチル−５−（５−メチル−２，４−ジオキソ−３，４−ジヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）−４−（メチルアミノ）テトラヒドロフラン−２−カルボン酸の合成

工程１化合物２の合成
窒素雰囲気下、化合物1（合成法はＯｒｇａｎｉｃＬｅｔｔｅｒｓ，７，１５６９−１５７２（２００５）に記載の方法に準じる、４．４０ｇ、８．０５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２６ｍＬ）懸濁液に、飽和重曹水（１３ｍＬ）、Ｃｂｚクロリド（１．２６ｍＬ、８．８６ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水（１３ｍＬ）を加え、ジクロロメタン（７５ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水（２５ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチル−イソプロピルエーテル（２：１、６６ｍＬ）を加えた。析出した固体をろ取した後、酢酸エチル−イソプロピルエーテル（１：１）で洗浄し、化合物２（４．８７ｇ、収率９３％）を得た。得られた化合物２の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：8.04(1H, s), 7.54(1H, s), 7.44-7.27(20H, m), 6.59(1H, d, J=7.3 Hz), 5.20(1H, brs), 4.63(1H, brs), 4.17(1H, s), 3.49(1H, dd, J=10.7, 2.4 Hz), 3.39(1H, brs), 3.15(3H, s), 1.36(3H, s).

工程２化合物３の合成
化合物２（４．３５ｇ、６．７２ｍｍｏｌ）、イミダゾール（８１．８ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（９ｍＬ）溶液に、ＴＢＳクロリド（１４０ｍｇ、０．９２９ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温で１９時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（４５ｍＬ）で希釈した後、水（１５ｍＬ）および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５ｍＬ）を氷冷下で加えた。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物３の粗生成物を得た。

工程３化合物４の合成
工程２で得た化合物３の粗生成物のクロロホルム（４０ｍＬ）溶液に、４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素・酢酸エチル溶液（２．００ｍＬ、８．００ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、室温に昇温しながら４．５時間攪拌した。さらに４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素・酢酸エチル溶液（１．３４ｍＬ、５．３６ｍｍｏｌ）を氷冷下で加え、３０分間攪拌した。反応液に水（４０ｍＬ）を氷冷下で加え、有機層を水（４０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物４（２．２０ｇ、収率６３％）と化合物３（１．６８ｇ、収率３３％）を得た。得られた化合物４の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：8.24(1H, s), 7.46(0.8H, s), 7.33-7.24(5.2H, m), 6.42(0.8H, d, J=9.3 Hz), 6.23(0.2H, d, J=8.3 Hz), 5.19-5.05(2H, m), 4.73(0.2H, t, J=7.9 Hz), 4.66(0.8H, t, J=7.3 Hz), 4.49(0.8H, d, J=6.3 Hz), 4.42(0.2H, d, J=5.3 Hz), 4.02(0.8H, s), 3.99(0.2H, s), 3.88(1H, d, J=12.0 Hz), 3.78-3.71(1H, m), 3.07(0.7H, s), 3.06(2.3H, s), 2.38(1H, brs), 1.89(2.3H, s), 1.84(0.7H, s), 0.85(9H, s), 0.01(3H, s), -0.03(3H, s).

また、得られた化合物３の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：8.13(0.4H, s), 8.08(0.6H, s), 7.69(0.4H, s), 7.56(0.6H, s), 7.49-7.20 (20H, m), 6.60-6.55(1H, m), 5.47(0.4H, d, J=11.8 Hz), 5.19(1.2H, s), 4.97(0.6H, dd, J=9.0, 6.4 Hz), 4.87(0.4H, d, J=12.2 Hz), 4.81(0.4H, dd, J=8.7, 5.8 Hz), 4.67(0.6H, d, J=5.9 Hz), 4.47(0.4H, d, J=5.3 Hz), 4.05(0.6H, s), 3.98(0.4H, s), 3.40-3.24(2H, m), 3.16(1.2H, s), 3.12(1.8H, s), 1.41(1.2H, s), 1.34(1.8H, s), 0.82(5.4H, s), 0.77(3.6H, s), -0.03(1.8H, s), -0.09(1.8H, s), -0.21(1.2H, s), -0.26(1.2H, s).

工程４化合物５の合成
化合物４（１．０７ｇ、２．０６ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（１０ｍＬ）溶液に、ＥＤＣ塩酸塩（１．１８ｍｇ、６．１６ｍｍｏｌ）およびパラトルエンスルホン酸ピリジニウム（５１８ｍｇ、２．０６ｍｍｏｌ）を室温で加え、３時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（３０ｍＬ）で希釈した後、水（１０ｍＬ×４回）および飽和食塩水（１０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物５の粗生成物を得た。

工程５化合物６の合成
工程４で得た化合物５の粗生成物のエタノール（４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（２．００ｍＬ、１４．４ｍｍｏｌ）および３７％ホルマリン水溶液（２．００ｍＬ、２６．９ｍｍｏｌ）を室温で加え、８０℃で４時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２０ｍＬ）を氷冷下で加え、酢酸エチル（３０ｍＬおよび２０ｍＬ）で抽出した。有機層を水（２０ｍＬ）および飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物６の粗生成物を得た。

工程６化合物７の合成
工程５で得た化合物６の粗生成物、りん酸二水素ナトリウム二水和物（５５１ｍｇ、３．５３ｍｍｏｌ）および２−メチル−２−ブテン（１．８７ｍＬ、１７．７ｍｍｏｌ）のｔｅｒｔ−ブタノール（１０ｍＬ）、水（３ｍＬ）溶液に、亜塩素酸ナトリウム（８００ｍｇ、８．８５ｍｍｏｌ）の水（５ｍＬ）溶液を氷冷下で滴下した後、反応液を室温に昇温しながら２．５時間攪拌した。反応液に０．２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を加え、トルエン（２０ｍＬ）で洗浄した。有機層を水（５ｍＬ）で抽出し、水層を合わせて２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（４ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（２０ｍＬ×２回）で抽出した。酢酸エチル抽出液を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物７（８１６ｍｇ、ジアステレオマー比率９３％、３工程通算収率７０％）を得た。得られた化合物７の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：11.51(1H, d, J=4.6 Hz), 7.66(0.8H, d, J=4.5 Hz), 7.36-7.21(5.2H, m), 6.59(0.8H, d, J=8.8 Hz), 6.48(0.2H, d, J=9.5 Hz), 5.54-5.49(0.8H, m), 5.22(0.2H, d, J=13.1 Hz), 5.11-4.94(2H, m), 4.66-4.55(1H, m), 4.49(1H, dd, J=6.4, 6.4 Hz), 4.23(0.8H, s), 3.87(0.8H, dd, J=11.7, 3.6 Hz), 3.78(0.2H, d, J=11.2 Hz), 3.72-3.54(1H, m), 2.96(2H, s), 2.91(1H, s), 1.79(2H, s), 1.76(1H, s), 0.89-0.82(9H, m), 0.10-0.00(3H, m), -0.10--0.18(3H, m).

工程７（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシキルオキシ）−２−ヒドロキシメチル−５−（５−メチル−２，４−ジオキソ−３，４−ジヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）−４−（メチルアミノ）テトラヒドロフラン−２−カルボン酸（化合物８）の合成
化合物７（８１６ｍｇ、１．４５ｍｍｏｌ）、１０％パラジウム炭素（７８．０ｍｇ）のメタノール（１６ｍＬ）懸濁液を常圧の水素雰囲気下で５時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液の溶媒を減圧留去し、化合物８の粗生成物を得た。得られた化合物８の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：11.41(1H, s), 7.83(1H, s), 6.07(1H, d, J=5.5 Hz), 5.34(1H, brs), 4.60(1H, d, J=6.0 Hz), 3.85-3.72(3H, m), 2.47(3H, s), 1.83(4H, s), 0.91(9H, s), 0.16(3H, s), 0.15(3H, s).
［実施例２］

（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシキルオキシ）−２−ヒドロキシメチル−５−（５−メチル−２，４−ジオキソ−３，４−ジヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）−４−（２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−メチルアセタミド）テトラヒドロフラン−２−カルボン酸カリウムの合成

工程１化合物９の合成
窒素雰囲気下、化合物１（合成法はＯｒｇａｎｉｃＬｅｔｔｅｒｓ，７，１５６９−１５７２（２００５）に記載の方法に準じる、１３００ｇ、２．５３ｍｏｌ）のＤＭＦ（３．９Ｌ）懸濁液に、ＴＢＳクロリド（１７１７ｇ、１１．３９ｍｏｌ）のＤＭＦ（２．６Ｌ）溶液を５〜１５℃で滴下した。続いて、１０〜２０℃でヨウ化ナトリウム（１１３８ｇ、７．５９ｍｏｌ）を加え、同温下でＮ−メチルイミダゾール（９９９ｍＬ、１２．７ｍｏｌ）を滴下した。２０〜３０℃で６時間撹拌した後、終夜で静置した。反応液を酢酸エチル（３．９Ｌ）と氷水（１０．４Ｌ）の混合物に注加し、更に酢酸エチル（２．６Ｌ）、水（２．６Ｌ）を加えた。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（６．５Ｌ）、１０％炭酸ナトリウム水溶液（６．５Ｌ）、１０％食塩水（６．５Ｌ）で順次洗浄した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣（２．６８ｋｇ）にメタノール（２．６Ｌ）を加えた。再び溶媒を減圧留去し、化合物９の粗生成物（２．６２ｋｇ）を得た。

工程２化合物１０の合成
工程１で得た化合物９の粗生成物（２．６２ｋｇ）のメタノール（６．５Ｌ）溶液に、３５％塩酸（６３３ｍＬ、７．５９ｍｏｌ）を２０〜３０℃で滴下し、４時間撹拌した。反応液をジイソプロピルエーテル（６．５Ｌ）と氷水（３．９Ｌ）の混合物に注加し、更にジイソプロピルエーテル（６．５Ｌ）、水（２．６Ｌ）を加えた。水層をジイソプロピルエーテル（３．２５Ｌ）で洗浄した後、炭酸ナトリウム（１０７３ｇ、１０．１ｍｏｌ）の水（６．５Ｌ）溶液を加え、酢酸エチル（１９．５Ｌおよび６．５Ｌ）で抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にテトラヒドロフラン（２．６Ｌ）を加えた。再び溶媒を減圧留去し、化合物１０の粗生成物（１．０８ｋｇ）を得た。得られた化合物１０の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：0.13 (s, 6H), 0.91 (s, 9H), 1.40-1.55 (br, 1H), 1.79 (s, 3H), 2.28 (s, 3H), 3.15-3.20 (d, J = 4.1Hz, 1H), 3.52-3.65 (m, 2H), 3.85 (s, 1H), 4.30-4.35 (d, J = 4.1Hz, 1H), 5.18-5.24 (br, 1H), 5.64-5.70 (d, J = 7.3Hz), 7.73 (s, 1H), 11.34 (s, 1H).

工程３化合物１１の合成
窒素雰囲気下、工程２で得た化合物１０の粗生成物（１７．７ｇ）およびピリジン（１０．１ｍＬ、１２５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８０ｍＬ）溶液に、０〜１０℃でトリフルオロ酢酸無水物（１７．８ｍＬ、１２５ｍｍｏｌ）を滴下し、１時間撹拌した。反応液を氷冷下、２０％炭酸ナトリウム水溶液（１１２ｍＬ）へ注加し、テトラヒドロフラン（２４ｍＬ）および水（４８ｍＬ）を加えた。氷冷下で２０分間、室温で１時間撹拌した後、酢酸エチル（１１２ｍＬ）、ｎ−ヘキサン（８０ｍＬ）、１０％食塩水（３２ｍＬ）および水（１７６ｍＬ）を加えた。有機層を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（８０ｍＬ）、０．４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（８０ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（８０ｍＬ）、１０％食塩水（８０ｍＬ）で順次洗浄した。各水層はそれぞれ酢酸エチル（８０ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチル（２４ｍＬ）を加え、６０℃に加熱して溶解させた後、ｎ−ヘキサン（７２ｍＬ）を加えた。生じたスラリーを室温まで冷却した後、ろ過して得られた固体を酢酸エチル／ｎ−ヘキサン（３．２ｍＬ／６０．８ｍＬ）で洗浄した後、通風乾燥を１日行い、化合物１１（１５．８ｇ、工程１からの通算収率７９．１％）を得た。得られた化合物１１の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ：-0.01 (2.1H, s), 0.02 (0.9H, s), 0.08 (2.1H, s), 0.09 (s, 0.9H, s), 0.86 (6.3H, s), 0.87 (2.7H, s), 1.78 (0.9H, d, J = 0.8Hz), 1.79 (2.1H, d, J = 0.8Hz), 3.12 (0.9H, s), 3.20 (2.1H, s), 3.61-3.57 (1.0H, m), 3.72-3.67 (1.0H, m), 3.99 (0.7H, q, J = 3.3Hz), 4.02 (0.3H, m), 4.45 (0.3H, m), 4.45 (0.3H, m), 4.52 (0.7H, dd, J = 6.8, 3.3Hz), 4.77 (0.7H, dd, J = 7.6, 6.8Hz), 5.30 (0.7H, t, J = 4.7Hz), 5.38 (0.3H, t, J = 4.7Hz), 6.37 (0.3H, m), 6.39 (0.7H, d, J = 7.6Hz), 7.73 (1.0H, s), 11.44 (0.7H, brs), 11.5 (0.3H, brs).

工程４化合物１２の合成
窒素雰囲気下、化合物１１（４５０ｇ、９３５ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（１．３５Ｌ）溶液に、ＥＤＣ（５３８ｇ、２８００ｍｍｏｌ）、ＤＭＳＯ（６７５ｍＬ）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム（２３５ｇ、９３５ｍｍｏｌ）およびＤＭＳＯ（２２５ｍＬ）を順次加え、２０〜３０℃で２．５時間撹拌した。続いて１０〜２０℃で酢酸エチル（４．５Ｌ）、水（２．２５Ｌ）および酢酸エチル（２．２５Ｌ）を順次加えた。有機層を水（２．２５Ｌ）で２回洗浄した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣にアセトニトリル（９００ｍＬ）を加えた。再び溶媒を減圧留去し、化合物１２の粗生成物（５４０ｇ）を得た。

工程５化合物１３の合成
まず工程５で行うアルドール反応の条件検討を行った。具体的には、用いる塩基の種類・量、試薬の種類・量、溶媒の種類・量、反応温度、反応時間について組み合わせ検討を行い、目的物、副生物の生成率、原料の残存率をＨＰＬＣにて分析した。その結果を以下の表に示す。

上記条件９にしたがい、工程４で得られた化合物１２の粗生成物（５４０ｇ）のアセトニトリル（１．８Ｌ）溶液に、３７％ホルマリン水溶液（９００ｍＬ）、Ｎ−メチルモルホリン（９００ｍＬ）を順次加え、７０〜８０℃で４時間撹拌した。反応液を２０〜３０℃へ冷却した後、酢酸エチル（２．２５Ｌ）を加え、続いて１０〜２０℃で４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２．２５Ｌ）を加えた。有機層を水（２．２５Ｌ）で２回洗浄し、化合物１３を含有する酢酸エチル溶液を得た。

工程６（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシキルオキシ）−２−ヒドロキシメチル−５−（５−メチル−２，４−ジオキソ−３，４−ジヒドロピリミジン−１（２Ｈ）−イル）−４−（２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−メチルアセタミド）テトラヒドロフラン−２−カルボン酸カリウム（化合物１４）の合成
工程５で得られた化合物１３を含有する酢酸エチル溶液にリン酸二水素ナトリウム２水和物（２９２ｇ、１８７０ｍｍｏｌ）の水（１．３５Ｌ）水溶液、スクアレン（８９８ｍＬ、１８７０ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（１．３５Ｌ）を順次加えた。２０〜３０℃で亜塩素酸ナトリウム（４２３ｇ、４６７０ｍｍｏｌ）の水（２．２５Ｌ）溶液を滴下し、３時間撹拌した。続いて１０〜１５℃で０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３．６Ｌ）、チオ硫酸ナトリウム５水和物（１１６０ｇ、４６７０ｍｍｏｌ）を順次加え、５〜１５℃で２０分間撹拌した。反応液に酢酸エチル（９００ｍＬ）および水（９００ｍＬ）を加え、有機層を水（９００ｍＬ）で洗浄した。水層を合わせて酢酸エチル（９００ｍＬ）で洗浄した後、水層に酢酸エチル（５．４Ｌ）および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（２．２５Ｌ）を加えた。有機層を１０％食塩水（２．２５Ｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。混合物をろ過、乾燥剤を酢酸エチル（１．３５Ｌ）で洗浄して得られたろ液に酢酸カリウム（８２．５ｇ、８４１ｍｍｏｌ）およびエタノール（３３８ｍＬ）を加えた。混合物を２０〜３０℃で１時間撹拌した。生じたスラリーをろ過して得られた固体を酢酸エチル／エタノール（３８６０ｍＬ／１９３ｍＬ）で洗浄した後、通風乾燥を１日行い、化合物１４（２８３ｇ、工程４からの通算収率５３．８％）を得た。得られた化合物１４の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（DMSO-d₆）δ ：-0.11 (1.8H, s), -0.09 (1.2H, s), 0.09 (1.8H, s), 0.10 (1.2H, s), 0.82 (3.6H, s), 0.83 (5.4H, s), 1.77 (1.2H, s), 1.78 (1.8H, s), 3.18 (1.2H, s), 3.33 (1.8H, s), 3.54 (1.0H, d, J = 10.8Hz), 3.68 (0.6H, d, J = 10.8Hz), 3.69 (0.4H, d, J = 10.8Hz), 4.18 (0.4H, dd, J = 8.6, 7.8Hz), 4.49 (0.4H, d, J = 8.6Hz), 4.51 (0.6H, d, J = 8.6Hz), 4.73 (0.6H, dd, J = 8.6, 7.8Hz), 6.1 (1H, br), 6.90 (0.4H, d, J = 7.8Hz), 6.92 (0.6H, d, J = 7.8Hz), 7.61 (0.6H, s), 7.65 (0.4H, s).
［実施例３］

Ｔアミダイトの合成

工程１化合物１５の合成
窒素雰囲気下、化合物１４（４５５ｍｇ、０．８０７ｍｍｏｌ）のピリジン（４ｍＬ）懸濁液に、１ｍｏｌ／ＬＴＢＡＦ−テトラヒドロフラン溶液（０．８８８ｍＬ、０．８８８ｍｍｏｌ）を滴下し、６０〜７０℃で９時間撹拌した後、終夜室温で静置した。翌日さらに６０〜７０℃で９時間撹拌した後、終夜室温で静置した。ＥＤＣ塩酸塩（３１０ｍｇ、１．６２ｍｍｏｌ）を加え、６０〜７０℃で９時間撹拌した後、ＥＤＣ塩酸塩（３１０ｍｇ、１．６２ｍｍｏｌ）を追加し、終夜室温で静置した。ＤＭＴｒ（４，４’−ジメトキシトリチル）クロリド（５４７ｍｇ、１．６１ｍｍｏｌ）を加えて室温で５時間撹拌した後、さらにＤＭＴｒクロリド（５４７ｍｇ、１．６１ｍｍｏｌ）を加え、２時間撹拌した。反応液に５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍＬ）で抽出した後、水（５ｍＬ）で３回洗浄した。それぞれの水洗浄液は酢酸エチル（５ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせて溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物１５（３３４ｍｇ、収率６９．１％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.70 (s, 3H), 1.97 (d, J = 5.1Hz, 1H), 3.02 (s, 3H), 3.61 (d, J = 12.3Hz, 1H), 3.79 (s, 6H), 3.95 (d, J = 12.3Hz, 1H), 4.11 (s, 1H), 4.37 (d, J = 4.9Hz, 1H), 5.41 (s, 1H), 6.85 (dd, J = 8.5, 2.5Hz, 4H), 7.23-7.36 (m, 7H), 7.45 (d, J = 7.7Hz, 2H), 7.76 (s, 1H), 8.55 (s, 1H).

工程２化合物１６（Ｔアミダイト）の合成
ＷＯ２０１１／０５２４３６Ａ１に記載の方法に準じた方法に従って、化合物１６を合成した。

化合物１４から化合物１５に至る経路については、以下の通り脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法でも合成できる。

工程１化合物３０の合成
メタノール溶液（１ｍｌ）に０℃で水素化ホウ素ナトリウム（４７ｍｇ、６eq.）を加えた後、化合物１４（１００ｍｇ）を加え、室温で３．５時間撹拌した。原料が消失しなかったので、さらに水素化ホウ素ナトリウム（３２ｍｇ）を加え、室温で１時間撹拌した後、塩酸―メタノール溶液にて、pH=3に調整し、さらに１時間撹拌した。反応液はそのまま濃縮し、化合物３０の粗生成物（２１８ｍｇ）を得た。得られた化合物３０の粗生成物は精製を行わず、収率は定量的とし次工程に進めた。

工程２化合物３１の合成
前工程で得られた化合物３０の粗生成物（１９６ｍｇ）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１．４ｍｌ）に懸濁した後、ＥＤＣ塩酸塩（７６ｍｇ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応液をろ過することにより無機物をろ別した後（Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１．５ｍｌ）にて洗浄）、水（３．３ｍｌ）を加えて、スラリー状の固形物を析出させた。固形物をろ取、水洗、乾燥することにより化合物３１（３６．５ｍｇ、化合物１４からの収率＝６３％）を無色固体として得た。

工程３化合物３２の合成
化合物３１をピリジン中、４，４’−ジメトキシトリチルクロリドで処理することにより、化合物３２を得た。
工程４化合物３２から化合物１５への変換
化合物３２をテトラブチルアンモニウムフロリド−テトラヒドロフラン溶液で処理することにより、化合物１５を得た。
［実施例４］

Ａ（Ｂｚ）アミダイトの合成

工程１化合物１７の合成
工程１で行うトランスグリコシル化反応の条件検討を行った。具体的には、試薬量、溶媒の種類について組み合わせ検討を行い、目的物、副生物の生成率、原料の残存率をＨＰＬＣにて分析した。その結果を以下の表に示す。

上記条件６に準じ、窒素雰囲気下、化合物１４（１７０ｇ、２７１ｍｍｏｌ）および６−Ｎ−ベンゾイルアデニン（６４．９ｇ、２７１ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（１７００ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（４６６ｍＬ、１９００ｍｍｏｌ）およびＴＭＳＯＴｆ（９８ｍＬ、５４３ｍｍｏｌ）を加え、７０〜７３℃で４時間撹拌した。反応液に氷冷下、テトラヒドロフラン（２９２０ｍＬ）、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１７００ｍＬ）および水（１０２０ｍＬ）を加えた後、有機層と水層に分配し、有機層を０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１７００ｍＬ）および水（１７００ｍＬ）で洗浄した。溶媒を減圧留去して得られた残渣にクロロホルム（３４０ｍＬ）を加え、２０分攪拌して得られたスラリーをろ過した。ろ取した固体をクロロホルム（５１０ｍＬ）で洗浄した後、風乾することにより化合物１７（１６５ｇ、収率８０．９％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：-0.06 (s, 3H), 0.13 (s, 2.1H), 0.14 (s, 0.9H), 0.89 (s, 9H), 3.22 (s, 0.9H), 3.31 (s, 2.1H), 3.82 (d, J = 12.0Hz, 1H), 3.89-3.95 (m, 1H), 4.70 (d, J = 7.3Hz, 0.3H), 4.75 (d, J = 7.3Hz, 0.7H), 5.04 (t, J = 7.5Hz, 0.3H), 5.41 (brs, 0.7H), 5.49 (t, J = 8.0Hz, 0.7H), 5.55 (brs, 0.3H), 7.02 (d, J = 8.5Hz, 0.3H), 7.04 (d, J = 8.5Hz, 0.7H), 7.56 (t, J = 7.4Hz, 2H), 7.66 (t, J = 7.4Hz, 1H), 8.04 (d, J = 7.8Hz, 2H), 8.78 (s, 1H), 8.80 (s, 1H), 11.31 (s, 1H), 13.34 (brs, 1H).

工程２化合物１８の合成
窒素雰囲気下、化合物１７（４．７５ｇ、７．４４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／ＬＴＢＡＦ−テトラヒドロフラン溶液（１４．９ｍＬ、１４．９ｍｍｏｌ）を滴下し、６０〜６５℃で３．５時間撹拌した。ＥＤＣ塩酸塩（１．７１ｇ、８．９２ｍｍｏｌ）を加え、６０〜６５℃で１時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣にアセトニトリル（５０ｍＬ）を加え、再び溶媒を減圧留去することを３回繰り返し、化合物１８の粗生成物（９．１２ｇ）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：3.14 (s, 3H), 4.09 (dd, J = 13.8, 6.8Hz, 1H), 4.18 (dd, J = 14.0, 3.3Hz, 1H), 4.37 (s, 1H), 4.64 (s, 1H), 5.26 (m, 1H), 5.89 (s, 1H), 6.46(brs, 1H), 7.52 (t, J = 7.5Hz, 2H), 7.60 (t, J = 7.3Hz, 1H), 8.01 (d, J = 7.7Hz, 2H), 8.56(s, 1H), 8.78 (s, 1H), 9.31 (s, 1H).

工程３化合物１９の合成
窒素雰囲気下、工程２で得た化合物１８の粗生成物（９．１２ｇ）のジクロロメタン（２５ｍＬ）溶液に、ＤＡＢＣＯ（２．０９ｇ、１８．６ｍｍｏｌ）およびＤＭＴｒクロリド（５．０４ｇ、１４．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。ＤＭＴｒクロリド（１．２６ｇ、３．７２ｍｍｏｌ）を追加し、さらに２時間撹拌した。反応液に５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）およびジクロロメタン（５０ｍＬ）を加え、有機層を水（５０ｍｌ）で洗浄し、水洗浄液はジクロロメタン（５０ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせてメタノール（５０ｍＬ）を加え、重量が６０ｇになるまで溶媒を留去した後、再びメタノール（５０ｍＬ）を加え、重量が６７ｇになるまで溶媒を留去した。再びメタノール（２５ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌して得られたスラリーをろ過した。ろ取した固体をメタノール（３５ｍＬ）で洗浄した後、風乾することにより化合物１９（４．３１ｇ、工程２からの通算収率８１．３％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：2.98 (s, 3H), 3.26 (d, J = 11.0Hz, 1H), 3.42 (d, J = 11.7Hz, 1H), 3.73 (s, 6H), 4.67 (s, 1H), 4.79 (brs, 1H), 6.14 (s, 1H), 6.19 (brs, 1H), 6.88 (d, J = 8.3Hz, 4H), 7.21-7.32 (m, 7H), 7.39 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.57 (t, J = 7.4 Hz, 2H), 7.67 (t, J = 7.4Hz, 1H), 8.06 (d, J = 7.4Hz, 2H), 8.53 (s, 1H), 8.84 (s, 1H), 11.33 (brs, 1H). ¹H-NMR（CDCl₃）δ：8.98(1H, s), 8.81 (1H, s), 8.39 (1H, s), 8.03 (1H, d, J=8.0 Hz), 7.63 (1H, t, J=8.0 Hz), 7.55 (2H, t, J=8.0 Hz), 7.46 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.38-7.24 (7H, m), 6.86 (4H, d, J=8.0 Hz), 5.89 (1H, s), 4.51 (1H, s), 4.47 (1H, m), 3.91 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.79 (6H, s), 3.73 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.15 (3H, s), 2.07 (1H, br s, 4.0 Hz).LC-MS: UPLC 4min base 2.28 min M+H = 713

工程４化合物２０（Ａアミダイト）の合成

窒素雰囲気下、化合物１９（１０７ｇ、１５０ｍｍｏｌ）およびＤＩＥＡ（７９ｍＬ、４５０ｍｍｏｌ、３．０ｅｑ．）のピリジン（４２８ｍＬ、４Ｖ）懸濁液に氷冷下、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミジト（５３．６ｍＬ、２４０ｍｍｏｌ、１．６ｅｑ．）を滴下し、室温で２時間撹拌した。反応液に氷冷下、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１．１Ｌ）を加え、酢酸エチル（１．１Ｌ）で抽出した。有機層を３％塩化ナトリウム水溶液（１．１Ｌ）で２回洗浄し、洗浄液はそれぞれ酢酸エチル（１．１Ｌ）で再抽出し、有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）により精製し、化合物２０ (１２０ｇ、ピリジン２．０ｗｔ％、酢酸エチル５．０ｗｔ％含有、収率８１．５％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：0.87 (d, J = 6.8Hz, 2H), 0.92 (d, J = 6.5Hz, 4H), 1.06 (d, J = 6.8Hz, 2H), 1.08 (d, J = 6.8Hz, 4H), 2.55 (dd, J = 11.7, 5.4Hz, 1.3H), 2.70 (m, 0.7H), 2.99 (s, 2H), 3.01 (s, 1H), 3.18 (d, J = 11.5Hz, 0.7H), 3.22 (d, J = 11.5Hz, 0.3H), 3.43-3.57 (m, 4.3H), 3.65-3.70 (m, 0.7H), 3.72 (s, 2H), 3.73 (s, 4H), 4.98 (s, 1H), 5.04 (d, J = 4.8Hz, 0.3H), 5.12 (d, J = 7.8Hz, 0.7H), 6.28 (s, 0.7H), 6.29 (s, 0.3H), 6.85-6.89 (m, 4H), 7.21-7.31 (m, 7H), 7.36-7.39 (m, 2H), 7.57 (t, J = 7.5Hz, 2H), 7.66 (t, J = 7.3Hz, 1H), 8.06 (d, J = 7.5Hz, 2H), 8.50 (s, 0.3H), 8.52 (s, 0.7H), 8.83 (s, 1H), 11.31 (brs, 1H).
31P-NMR（DMSO-d6）δ：150.13 (s, 0.3H), 150.42 (s, 0.7H).

化合物１４から化合物１９に至る経路については、以下の通り脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法でも合成できる。

工程１化合物３３の合成
窒素雰囲気下、化合物１４（５．０ｇ、８．０７ｍｍｏｌ）およびアデニン（１．０９１ｇ、８．０７ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（５０ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（１３．８５ｍＬ、５６．５ｍｍｏｌ）およびＴＭＳＯＴｆ（２．９２ｍＬ、１６．１５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で４時間撹拌した。反応液に氷冷下、酢酸エチル（５０ｍＬ）、０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（４０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）を加え、有機層と水層に分配した後、得られた有機層を０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１１０ｍＬ）および水（１１０ｍＬ）で洗浄した。溶媒を減圧留去して得られた残渣に酢酸エチル（５０ｍＬ）、n-ヘキサン（５０ｍｌ）を加えて、攪拌して得られたスラリーをろ過した。ろ取した固体を酢酸エチルとn-ヘキサンの混合溶媒（１：１、２０ｍｌ）で洗浄した後、風乾することにより化合物３３（３．５８ｇ、収率８３％）を得た。

工程２化合物３４の合成
化合物３３（３０９ｍｇ、０．５７８ｍｍｏｌ）のエタノール（３ｍｌ）溶液に、０°Ｃで１ｍｏｌ／Ｌリチウムボロヒドリドーテトラヒドロフラン溶液（１．１５６ｍｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。
反応液に４ｍｏｌ／Ｌ塩化水素―ジオキサン溶液（０．５７８ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌した後、ＥＤＣ塩酸塩（２２２ｍｇ、１．１５６ｍｍｏｌ.）を加え、６５°Ｃで２時間撹拌した。放冷後、得られた固体をろ取、メタノールで洗浄した後、風乾することにより化合物３４（１８７ｍｇ、収率７７％）を得た。
LC-MS:UPLC 4min base 1.57 min, M+H = 420

工程３化合物３５の合成
窒素気流下、２０ｍｌのファルコンチューブに化合物３４（１４９ｍｇ、０．３５４ｍｍｏｌ）、メタノール（４．５ｍＬ）を加えた後、室温にてフッ化アンモニウム（５２．５ｍｇ，１．４１７ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で８時間加熱還流した．放冷後、メタノール（１．５ｍｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍｌ）を加えた後、生成したスラリーをろ取することにより、化合物３５（８９．５ｍｇ、収率８９．５％）を白色固体として得た。

工程４化合物３６の合成
５００ｍｌの１Ｌナスコルベンにて、化合物３５（８．００ｇ、１９．９ｍｍｏｌ）をピリジン（８０ｍｌ）での共沸脱水操作を３回繰り返した後、ピリジン（８０ｍｌ）に懸濁した。Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドージメチルアセタール（８．０ｍＬ）を添加して室温で１時間撹拌した。生じた橙色溶液をそのまま濃縮し、残渣をピリジン（８０ｍｌ）での１回共沸脱水操作を行った後にピリジン（８０ｍｌ）に溶解した。４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（１０．１ｇ、ＭＲ＝１．５）を添加して室温で３時間撹拌した。反応液にメタノール（５．０ｍｌ）を滴加して４０分間撹拌後、酢酸エチルで希釈した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過、濃縮した。再び、ピリジン（１００ｍｌ）に溶解して、２５％アンモニア水（３０ｍｌ）を添加して室温で２０時間撹拌した。反応液をそのまま濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノール, 10/0→9/1)にて精製することにより、化合物３６(８．８３g、純度９３%, 収率７３％)を黄色粉末として得た。

工程５化合物３６からＡ（Ｂｚ）−ＤＭＴｒ体（化合物１９）への変換
窒素気流下、１００ｍＬナスフラスコＡにＨＯＢｔ（１．３８ｇ，１０．１９ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（２０ｍＬ）、Ｎ−メチルモルホリン（２．１７ｍＬ，１９．７２ｍｍｏｌ）を加えた。その後、ＢｚＣｌ（１．１５ｍＬ，９．８６ｍｍｏｌ）を室温にて滴下してＢｚ−ＯＢｔを調整した。窒素気流下、１００ｍＬナスフラスコＢに化合物３６（２．００ｇ，３．２９ｍｍｏｌ）、ピリジン（２０ｍＬ）、Ｎ−メチルモルホリン（２．１７ｍＬ，１９．７２ｍｍｏｌ）を加えた。続いて室温にて、クロロトリメチルシラン（１．６８ｍＬ，１３．１４ｍｍｏｌ）を滴下し、白色懸濁液を得た。フラスコＢに対してフラスコＡの溶液を室温で滴下し、一晩撹拌した。反応が５％程度しか進行しなかったため、同量のＢｚＯｔ溶液を調製し、反応液に室温で滴下した。その後、５０℃にて１２時間撹拌し、室温で週末静置した。反応完結を確認後、反応溶液を酢酸エチルにあけ、有機層を分液操作により飽和重層水、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを添加し３０分撹拌後、濾過、減圧濃縮、乾燥を行い、粗精製のジベンゾイル体を得た。残渣をメタノール（２０ｍＬ）に溶解し、０℃で炭酸カリウム（２．７２ｇ，１９．７２ｍｍｏｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。その後、濾過、減圧濃縮、乾燥を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール、１０／０→９／１）にて精製し、化合物１９（１．７６ｇ，７５．１％）を白色泡状固体として得た。

（比較例１）従来のトランスグリコシル化反応によるＡ（Ｂｚ）アミダイトの合成

工程１化合物３７の合成
化合物１４をトリメチルシリルジアゾメタン-n-ヘキサン溶液／メタノールで処理することにより、化合物３７を得た。

工程２化合物３８の合成
化合物３７を実施例２の工程２と同様な条件に付すことにより、化合物３８を得た。

工程３化合物３９の合成
窒素気流下、１０ｍＬナスフラスコに化合物３７（７８．０ｍｇ、０．１０ｍｍｏｌ）、Ｎ−ベンゾイルアデニン（４７．８ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン（１ｍＬ）、ＢＳＡ（０．１５ｍＬ、０．６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を６０℃に加熱し４０分間撹拌した後に室温へ放冷した。室温にてトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（０．０２０ｍＬ、０．１１ｍｍｏｌ）を加えた後に、４時間加熱還流した。原料消失後、室温へと放冷し、飽和重層水で反応を停止した。続いて反応溶液を酢酸エチルで希釈した後に、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを添加し３０分撹拌後、濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン：１／９→２／３）にて精製し、化合物３９（８６．４ｍｇ、９７．０％）を白色泡状固体として得た。得られた化合物の物性データは、以下のとおりであった。
¹H-NMR（CDCl₃, 5:1 mixture of rotamers）δ：8.80(1H, s), 8.19 (1H, s), 8.02 (2H, d, J=4.0 Hz), 7.72-7.30 (14H, m), 6.83 (1H, d, J=12.0 Hz), 5.32 (1H, t, J=8.0 Hz), 4.93 (1H, d, 8.0 Hz), 4.20 (1H, d, J=12.0Hz), 4.05 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.80 (3H, s), 3.39 (3H, s), 1.14 (9H, s), 1.00 (9H, s), 0.03 (3H, s), 0.00 (3H, s). LC-MS: UPLC 4min base 3.60 min, M+H = 892

工程４化合物４０の合成
化合物３９をＮａＯＨ／メタノールで処理することにより、化合物３８を得た。

工程５化合物４０から化合物３５への変換
実施例４の工程３と同様な条件にて実施することにより化合物３５を得た。

工程６化合物３５からＡ（Ｂｚ）アミダイト（化合物２０）への変換
実施例４の脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法の工程５および実施例４の工程４と同条件で実施した。
［実施例５］

Ａ（Ｐａｃ）アミダイト体の合成

工程１化合物３３の合成
実施例４の脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法の工程１と同条件で実施した。

工程２化合物３３から化合物３５への変換
実施例４の工程２と同様なルートで合成した。

工程３化合物３５から化合物３６への変換
実施例４の脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法の工程４と同条件で実施した。

工程４化合物４２の合成
窒素気流下、１００ｍＬのナスフラスコに化合物４０（５．６８ｇ、９．３３ｍｍｏｌ）、ピリジン（５７ｍｌ、１０Ｖ）、Ｎ−メチルモルホリン（６．２ｍＬ，ＭＲ＝６）を入れ、撹拌溶解後、氷冷バスで冷却した。クロロトリメチルシラン（４．７ｍＬ，ＭＲ＝４）を５分間滴加、そのまま２０分間さらに室温で１時間撹拌した。
窒素気流下、２００ｍＬのナスフラスコにＨＯＢｔ（３．９１ｇ，ＭＲ＝３．１）、ジクロロメタン（５７ｍＬ）を入れた懸濁液にＮ−メチルモルホリン（６．２ｍＬ，ＭＲ＝６）を添加した。室温でＰａｃＣｌ（３．８５ｍＬ）を３分間で滴下した後、２０分間撹拌し、Ｐａｃ−ＯＢｔを調製した。本反応液に上述のトリメチルシリル化反応液を添加して一晩撹拌した後、反応が未完結であったので、同量のＰａｃ−Ｂｔ溶液を追加して、さらに２３時間撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、有機層を分離した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。各水層をジクロロメタンで再抽出して、有機層を合一し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。残渣をトルエンで共沸操作を行ってピリジンを除いた後、乾燥し、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、フッ化水素・トリエチルアミン錯体（４ｍｌ）を添加して室温で４０分間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和食塩水で順次洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/アセトン, １００／０→８０／２０)にて精製することにより、化合物４２ (９．９１g、純度９６%, 収率８４％)をベージュ色粉末として得た。

工程５化合物４３（Ａ（Ｐａｃ）アミダイト）の合成
窒素雰囲気下、化合物４２（５．５４ｇ、７．４６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５５ｍＬ）−テトラヒドロフラン（５．５ｍｌ）の混合溶液にジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（１．３４ｇ、ＭＲ＝１．０５）を添加した後、２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト（３．３７ｇ、ＭＲ＝１．５）を３分間程度で滴下し、室温で７時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を２回のシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１回目）ヘキサン/酢酸エチル/アセトン２／１／１、 (２回目）酢酸エチル）により精製し、化合物４３（６．２０ｇ、収率７１％、２種のジアステレオマー比（¹H-NMRの積分値より算出）＝６０：４０））を得た。
¹H-NMR (CDCl3)δ:（major diastereomer）9.54 (1H, br s), 8.82 (1H, s), 8.54 (1H, s), 7.45 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.40-7.25 (9H, m), 7.09 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.08 (1H, m), 6.89-6.83 (4H, m), 5.96 (1H, s, H-1 of sugar), 4.88 (2H, s), 4.68 (1H, dd, J=8.5, 1.0 Hz), 4.64 (1H, s), 3.96 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.81 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.57-3.39 (4H, m), 3.47 (1H, d, J=12.8 Hz), 3.12 (3H, s, -NCH3), 2.27 (2H, t, J=6.3 Hz), 1.09 (6H, d, J=6.8 Hz), 0.90 (6H, d, J=6.8 Hz).（minor diastereomer）9.54 (1H, br s), 8.84 (1H, s), 8.54 (1H, s), 7.45 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.40-7.25 (9H, m), 7.09 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.08 (1H, m), 6.89-6.83 (4H, m), 5.96 (1H, s, H-1 of sugar), 4.88 (2H, s), 4.76 (1H, s, H-2 of sugar), 4.65 (1H, dd, J=5.0, 1.2 Hz), 3.89 (1H, d, J=12.3 Hz), 3.80 (6H, s), 3.70-3.55 (2H, m), 3.52 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.49-3.38 (2H, m), 3.14 (3H, s, -NCH3), 2.44-2.39 (2H, m), 1.08 (6H, d, J = 6.8 Hz), 0.89 (6H, d, J = 6.8 Hz).

さらに、化合物４０から以下の経路によってＡ（アミジン）アミダイト体の合成が可能となる。

工程１化合物４４の合成
窒素気流下、１００ｍＬナスフラスコに化合物４０（１．８２ｇ，２．９９ｍｍｏｌ）、ピリジン（２０ｍＬ）を加えた。その後、１，１−ジメトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルメタンアミン（１．１９２ｍｌ，８．９７ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分撹拌した。反応溶液を減圧下で濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／メタノール、１０／０→９／１）にて精製し、化合物４４（１．７４ｇ、８７．７％）を白色泡状固体として得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：8.99(1H, s), 8.51 (1H, s), 8.25 (1H, s), 7.47-7.21 (9H, m), 6.86 (4H, d, J=8.0 Hz), 5.84 (1H, s), 4.50 (1H, s), 4.44 (1H, s), 3.91 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.78 (6H, s), 3.71 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.24 (3H, s), 3.21 (3H, s), 3.12 (3H, s).LC-MS: UPLC 4min base 2.05 min, M+H = 664

工程２化合物４５の合成
窒素気流下、１００ｍＬのナスフラスコに化合物４４（１．７０ｇ，２．５６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．６８ｍＬ、１５．３７ｍｍｏｌ）、クロロホルム（１７ｍＬ）を加えた。その後、０℃にて２−シアノエチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミジト（１．７１４ｍｌ、７．６８ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温し４時間撹拌した。反応溶液に飽和重層水を加えて反応を停止した。溶液を酢酸エチルにあけ、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。得られた有機層に硫酸ナトリウムを添加し３０分撹拌後、濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製することにより、化合物４５（１．７６ｇ，７９．５％）を白色泡状固体として得た。
¹H-NMR（CDCl₃, 1:1 mixture of diastereomers) δ：9.04(1H, s), 8.56 (1H, s), 8.42 (1H, s), 7.45 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.36-7.21 (9H, m), 6.84 (4H, m), 5.93 (1H, s), 4.72 (1H, s), 4.60 (1H, s), 4.14 (1H, d, J=8.0Hz), 3.80 (6H, s), 3.52-3.40 (5H, m), 3.30 (3H, s), 3.24 (3H, s), 3.12 (3H, s), 2.38 (1H, m), 1.10 (6H, t, J=8.0 Hz), 0.90 (6H, t, J=8.0 Hz). ³¹P-NMR（CDCl₃）δ：150.8 (s), 150.0 (s). LC-MS: UPLC 4min base 2.67 min, M+H = 864
［実施例６］

Ｇ（Ｐａｃ）アミダイトの合成

工程１化合物２１の合成
窒素雰囲気下、化合物１４（１５．０ｇ、２６．６ｍｍｏｌ）およびグアニン（４．０２ｇ、２６．６ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（１３５ｍＬ）懸濁液にＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（６５．１ｍＬ、２６６ｍｍｏｌ）およびシクロペンチルメチルエーテル（７．５ｍＬ）を加え、６０〜７０℃で１０分間攪拌した後、ＴＭＳＯＴｆ（１１．８３ｇ、５３．２０ｍｍｏｌ）およびシクロペンチルメチルエーテル（７．５ｍＬ）を加え、２時間撹拌した。反応液に２０〜３０℃で酢酸エチル（１５０ｍＬ）を加え、さらに１５〜３０℃で２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（７５ｍＬ）、テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）および水（７５ｍＬ）を加え、有機層を水（１５０ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄液は合わせて酢酸エチル（１５０ｍＬ）で抽出し、水（７５ｍＬ）で洗浄した。有機層を合わせて溶媒を減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチル（３７．５ｍＬ）およびｎ−ヘキサン（１１２．５ｍＬ）を加え、室温で２０分間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、ろ取した固体を酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（１：９、７５ｍＬ）で洗浄した後、風乾することにより化合物２１（１４．３５ｇ、収率９１．８％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ ：-0.09 (3H, s), 0.11 (3H, s), 0.85 (9H, s), 3.10 - 3.60 (4H, m), 3.74 (1H, dd, J = 11.8, 6.8Hz), 3.90 (1H, dd, J = 11.9, 9.4Hz), 4.65 (1H, m), 5.09 (1H, t, J = 8.2Hz), 6.50 - 6.70 (3H, m), 8.00 (1H, d, J = 9.0Hz), 10.74 (1H, s), 13.24 (1H, brs).

工程２化合物２２の合成
窒素雰囲気下、化合物２１（１４．０ｇ、２３．９ｍｍｏｌ）およびＮ−メチルイミダゾール（７．６０ｍＬ、９５．４ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（７０ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／ＬＴＢＡＦ−テトラヒドロフラン溶液（２８．６ｍＬ、２８．６ｍｍｏｌ）およびＤＭＡ（１４ｍＬ）を加え、７０〜８０℃で８時間撹拌した。ＥＤＣ塩酸塩（１３．７２ｇ、７１．５５ｍｍｏｌ）およびＤＭＡ（７ｍＬ）を２０〜３０℃で加え、４時間撹拌した。反応液にＮ−メチルイミダゾール（７．６０ｍＬ、９５．４ｍｍｏｌ）を加えた後、ＴＢＳクロリド（１４．３８ｇ、９５．４０ｍｍｏｌ）を２０℃以下で加え、室温で２時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（２８０ｍＬ）および１０％食塩水（１４０ｍＬ）を加え、有機層を水（１４０ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄液はそれぞれ酢酸エチル（１４０ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせて溶媒を減圧留去し、得られた残渣にアセトニトリル（５６ｍＬ）、イソプロピルアルコール（２８ｍＬ）および水（２６６ｍＬ）を室温で順次加え、０〜１０℃で１時間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、ろ取した固体をアセトニトリル−水（１：９、７０ｍＬ）で洗浄した後、減圧下、６０℃で乾燥し、化合物２２（７．７１ｇ、収率７４．１％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ ：-0.09 (3H, s), 0.10 (3H, s), 0.81 (9H, s), 2.92 (3H, s), 3.89 (2H, dd, J = 33.0, 12.7Hz), 4.33 (2H, s), 5.67 (1H, s), 5.93 (1H, brs), 6.54 (2H, brs), 7.69 (1H, s), 10.72 (1H, brs).

工程３化合物２３の合成
窒素雰囲気下、化合物２２（７．５０ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）のピリジン（３７．５ｍＬ、４６４ｍｍｏｌ）懸濁液に、１０〜２０℃でトリメチルシリルクロリド（９．３３ｇ、８５．９ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で３０分間撹拌した。次に０〜５℃でフェノキシアセチルクロリド（３．５２ｇ、２０．６ｍｍｏｌ）を滴下した後、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（１５０ｍＬ）で希釈した後、０〜１０℃で１０％食塩水（３７．５ｍＬ）および濃塩酸（３０．０ｍＬ）の混合液を滴下した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（７５ｍＬ）および水（７５ｍＬ）で２回洗浄し、次に酢酸エチル（３７．５ｍＬ）および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸メタノール溶液（３８．７ｍＬ、７７．４ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で１時間撹拌した。得られたスラリーにメタノール（１５ｍＬ）を加え、室温で３０分間撹拌した後，ろ過し、ろ取した固体を酢酸エチル（４５ｍＬ）で洗浄した後、風乾することにより化合物２３（５．５１ｇ、収率７０．３％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ ：2.95 (3H, s), 3.68 (1H, d, J = 13.6Hz), 3.82 (1H, d, J = 13.3Hz), 4.35 (1H, s), 4.41 (1H, s), 4.92 (2H, s), 5.80 (1H, s), 6.99 (3H, m), 7.32 (2H, m), 8.19(1H, s), 11.82(2H, br).

工程４化合物２４（Ｇアミダイト）の合成
窒素雰囲気下、化合物２３（５００ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（３．５ｍＬ）溶液に、ＤＭＴｒクロリド（１．１１ｇ、３．２９ｍｍｏｌ）およびＤＡＢＣＯ（３６９ｍｇ、３．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応液に１０℃以下でＤＡＢＣＯ（３６９ｍｇ、３．２１ｍｍｏｌ）および２−シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジト（０．５８７ｍＬ、２．６３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（１０ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２．５ｍＬ）および１０％食塩水（２．５ｍＬ）を加え、有機層を１０％食塩水（５ｍＬ）で２回洗浄した。洗浄液は合わせて酢酸エチル（２．５ｍＬ）で抽出した。有機層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、化合物２４（７２０ｍｇ、酢酸エチル９．９ｗｔ％含有、収率６１．７％）を得た。
1H-NMR (DMSO-d6)δ: 11.87 (1.0H, br s), 11.77 (1.0H, br s), 8.07 (1.0H, s), 7.40 (1.9H, t, J = 7.4 Hz), 7.35-7.23 (9.0H, m), 7.02-6.97 (3.0H, m), 6.93-6.88 (4.0H, m), 6.08 (1.0H, s), 4.91 (2.0H, s), 4.78 (1.0H, s), 4.64 (0.7H, d, J = 8.8 Hz), 4.59 (0.3H, d, J = 6.0 Hz), 3.75 (4.2H, s), 3.74 (1.8H, s), 3.72-3.60 (0.6H, m), 3.60-3.49 (1.3H, m), 3.48-3.39 (1.4H, m), 3.21 (0.7H, dd, J = 15.4, 11.6 Hz), 2.98 (0.9H, s), 2.97 (2.1H, s), 2.70 (0.6H, dd, J = 10.1, 5.4 Hz), 2.58 (1.4H, t, J = 5.9 Hz), 1.09-1.05 (6.0H, m), 0.91-0.83 (6.0H, m).
31P-NMR (CDCl3) δ: 148.90, 149.98

化合物１４から化合物２１ａに至る経路については、以下の通り脱ＴＦＡ化反応を経由しない方法でも合成できる。

工程１化合物４６の合成
窒素気流下、化合物１４（５．５６ｇ，８．８８ｍｍｏｌ）、２−アセタミド−９Ｈ−プリン−６−イル−ジフェニルカルバマート（３．７９ｇ、９．７７ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（５０ｍＬ、１０Ｖ）懸濁液に、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ、２１．７５ｍＬ、８９ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で２０分間撹拌した後、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート（３．９５ｍＬ、１７．７６ｍｍｏｌ）を加え、同温度で４時間加熱した．室温に冷却した後、酢酸エチル（１００ｍｌ、２０Ｖ）を加え、続いて市水（７．５ｍｌ、１．５Ｖ）を滴下した。不溶物をろ別した後、ろ液を１０％食塩水（１５ｍｌ、３Ｖ）に加え、有機層と水層に分配した。有機層を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸（５０ｍｌ、１０Ｖ）および市水（５０ｍｌ、１０Ｖ）にて順次洗浄した後、濃縮することにより、化合物４６（９．５２ｇ）の粗生成物を得た。
¹H-NMR（DMSO-d₆) δ：8.65(2H, d, J=8.0 Hz), 7.91 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.51 (1H, t, J=4.0 Hz), 7.43 (2H, m), 6.89 (1H, d, 12.0 Hz), 5.36 (1H, t, J=8.0Hz), 4.61 (1H, d, J=8.0 Hz), 3.79 (1H, d, J=12.0 Hz), 3.70 (1H, d, J=12.0Hz), 3.26 (1H, s), 2.38 (3H, s), 0.77 (9H, s), 0.06 (3H, s), -0.19 (3H, s). LC-MS: UPLC 4min base 1.91 min, M+H = 789

工程２化合物４７の合成
粗製の化合物４６（９．５２ｇ、８．８８ｍｍｏｌ相当）のメタノール（２５ｍｌ）溶液に２８％アンモニア水溶液（２５ｍｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。酢酸エチル（２５０ｍｌ）と１０％食塩水（６０ｍｌ）を加えた後、析出したスラリー状の固体をろ取した。得られた固体を酢酸エチル（２５ｍｌ）で洗浄後、風乾することにより、化合物４７（３．８９ｇ、純度＝９１．４ｗｔ％、化合物１４からの収率７０．６％）を得た。

工程３化合物４８の合成
化合物４６（５４７ｍｇ、純度＝９１．４ｗｔ％、０．８８１ｍｍｏｌ相当）のテトラヒドロフラン懸濁液（５ｍｌ）に１．８ｍｏｌ／Ｌリチウムボロヒドリドーテトラヒドロフラン溶液（１．７６ｍｌ）を滴下し、室温で１５分間撹拌した。撹拌を継続しながら、メタノール（５００・Ｌ）、アセトン（５００・Ｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸−メタノール溶液（３．５２ｍｌ）を順次加えた後、室温でＥＤＣ塩酸塩（５０７ｍｇ，２．６４ｍｍｏｌ、３ｅｑ．）を加え、６０〜７０℃で１．５時間撹拌した。ＥＤＣ塩酸塩（４２２ｍｇ，２．２０ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ．）、ジメチルアセタミド（１ｍｌ）を追加した後、同温度で２．５時間撹拌した。室温に冷却し、１０％食塩水（１０ｍｌ）を加えた後、反応液がスラリーになるまで、溶媒を留去した（残渣重量：１２．９５ｇ）。一晩放置後、得られた固体をろ取し、固体を５％メタノール水溶液（５ｍｌ）で洗浄、風乾することにより、化合物４８（２７３ｍｇ、収率７０．９％）を得た。
LC-MS: UPLC 4min base 1.41 min, M+H = 437

工程４化合物４８から化合物２１ａへの変換
化合物４８（１００ｍｇ、０．２２９ｍｍｏｌ）に室温にてメタノール（１．５ｍＬ）、フッ化アンモニウム（１７ｍｇ，０．４５８ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で４．５時間加熱還流した。室温に冷却した後、析出物をろ取し、メタノール（０．５ｍｌ）にて洗浄、風乾することにより、化合物２１ａ（５１ｍｇ、収率６８．９％）を得た。

（比較例２）従来のトランスグリコシル化反応によるＧ（Ｐａｃ）アミダイトの合成

工程１
比較例１の工程１と同条件で実施した。

工程２
比較例１の工程２と同条件で実施した。

工程３
化合物３８（１２ｍｇ，１５ｕｍｏｌ）およびＯ−Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル−Ｎ−アセチルグアニン（１２ｍｇ、３１ｕｍｏｌ）をナスフラスコ（１０ｍＬ）中でトルエン共沸した（１ｍＬ、１回）。真空ライン下で乾燥した後に、窒素雰囲気下で１，２−ジクロロエタン（１ｍＬ）を加えた。Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（ＢＳＡ，３８μＬ、１５４μｍｏｌ）を加えて，６０℃に加熱して１０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（ＴＭＳＯＴｆ、３μＬ、２８μｍｏｌ）を加えた。１３分間リフラックスして再び室温に戻した。反応液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（１０ｍＬ）と酢酸エチル（１０ｍＬ，２回）で抽出し，有機層を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過を行い、濃縮乾固したサンプルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２：１から１：１）にて精製して無色アモルファス状の化合物４９（１０ｍｇ、９．６μｍｏｌ，収率６２％）を得た。

工程４
化合物４９（５ｍｇ，４．８μｍｏｌ）を尖端バイアル中で酢酸エチル（０．２ｍＬ）に溶解し、ヨウ化リチウム（１．２ｍｇ，９．６ｕｍｏｌ）を加えた。１３．５時間リフラックスした後に反応液を１０％硫酸ナトリウム水溶液（５ｍＬ）とクロロホルム（５ｍＬ、２回）で抽出した。有機層を合わせて０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、水、飽和食塩水で順に洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、濃縮乾固することにより、化合物５０を無色アモルファス状サンプル（４ｍｇ）として得た。

工程５
実施例６の脱ＴＦＡ化反応を経由しないルートの工程３と同様なルートで合成した。

工程６
実施例６の工程３と同様なルートで合成した。

工程７
実施例６の工程４と同条件で実施した。
［実施例７］

Ｇ（Ｐａｃ）アミダイト体の合成（その２）

工程１化合物２１の合成
実施例６の工程１と同条件で実施した。

工程２化合物２１ａの合成
実施例６の工程２と同様な条件で実施した。

工程３化合物２３の合成
窒素気流下、化合物２１ａ（１９．５ｇ、６０．５ｍｍｏｌ）をピリジン（２００ｍｌ）、ジクロロメタン（２０ｍｌ）でスラリー液とし、氷冷でクロロトリメチルシラン（６５．７ｇ、６０５ｍｍｏｌ）の滴下を行った。滴下後、室温まで内温を上げ、１．５時間撹拌し、再び氷冷下まで反応液を冷却し、ＰａｃＣｌ（１１．５ｇ、６７．４ｍｍｏｌ）の滴下を行った。滴下後、室温まで内温を上げ、１．５時間撹拌し、再び氷冷下まで反応液を冷却し、メタノール（６０ｍｌ）の滴下を行った。その後、室温で２日間撹拌を行い、反応液を濃縮することにより、化合物２３の粗生成物を得た。

工程４化合物２３ａの合成
化合物２３の粗生成物をピリジン共沸（６０ｍｌｘ３回）して得られた残渣にピリジン（２００ｇ）、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（２１．５ｇ、６３．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応液を酢酸エチル（４００ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍｌ）に添加した後、分液を行い、水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）で再抽出、得られた有機層を合一し、飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル/アセトニトリル)で精製した後、アセトニトリル（１００ｇ）、酢酸エチル（１４５ｇ）でスラリー洗浄を行い、次いでろ過、乾燥することにより、化合物２３ａ(２８．３g、収率６２％)を得た。

工程５化合物２４の合成
化合物２３ａ（２８．３ｇ，３７３ｍｍｏｌ）に窒素気流下でアセトニトリル（２２０ｍｌ）、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）を添加し、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（７．３４ｇ，４２．９ｍｍｏｌ）、次いで、２−シアノエチルＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト（１６．９ｇ，５５．９ｍｍｏｌ）を添加した。３０℃で４時間撹拌した後、酢酸エチル（２００ｍｌ）、飽和重曹水（２０ｍｌ）に反応液を添加し、分液を行った。得られた水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）で再抽出し、有機層を合わせて、飽和食塩水（８０ｍｌ）で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（イソプロピルエーテル／酢酸エチル／アセトニトリル）により精製し、化合物２４（１７．０ｇ、収率４９％）を得た。
［実施例８］

Ｇ（Ａｃ）アミダイト体の合成

工程１〜工程５実施例６と同様な条件で実施できる。
［実施例９］

５’−Ｏ−Ｌｅｖ−Ｇ（Ｐａｃ）アミダイト体の合成

工程１化合物５８の合成
化合物２３（実施例６に記載の方法にて合成）のジクロロメタン溶液にレブリン酸、ＥＤＣ塩酸塩、４−ジメチルアミノピリジンを加え、室温で１晩撹拌することにより、化合物５８を得ることが出来る。

工程２化合物５９の合成
実施例６の工程４と同様な方法にて化合物５９を合成できる。
［実施例１０］

５’−Ｏ−ＴＢＤＰＳ−Ｇ（Ｐａｃ）アミダイト体の合成

工程１化合物６０の合成
化合物２１ａ（実施例６に記載の方法にて合成）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液にtert-ブチル-ジフェニルシリルクロリドとイミダゾールを加え、室温で反応し、５’位水酸基がＴＢＤＰＳ化された生成物を得た後、ピリジン溶液にトリメチルシリルクロリド、フェノキシアセチルクロリドを加え、室温で反応させることにより、化合物６０を得ることが出来る。

工程２化合物６１の合成
実施例６の工程４と同様な方法にて化合物６１を合成できる。
［実施例１１］

ＭｅＣ（Ｂｚ）アミダイトの合成

工程１化合物２５の合成
化合物１５１０８．１ｇ（純度：９２．５３％、含量：１００ｇ、０．１６７ｍｏｌ）、ＤＭＦ３００ｍｌ、イミダゾール４７．８ｇ（４．２ｅｑ．）、ＴＢＳＣｌ５１．６ｇ（２．０５ｅｑ．）を仕込み２５℃付近で２３時間撹拌を行った。ＡｃＯＥｔ６００ｍｌ、水６００ｍｌを加えて分液を行い、水層をＡｃＯＥｔ３００ｍｌで再抽出を行った。有機層を混合し、５％ＮａＨＣＯ_３６００ｍｌ、５％ＮａＣｌ６００ｍｌで洗浄を行い、溶媒を回収した。ＴＢＳＯＨの除去を目的にトルエン５００ｍｌ×３回溶媒置換を行った後、アモルファスを固化させたものをほぐして目的の化合物２５（１３２．６ｇ、粗収率１１１．２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 8.33 (1H, s), 7.89 (1H, s), 7.41 (2H, d, J = 7.0 Hz), 7.33-7.21 (7H, m), 6.82 (4H, dd, J = 8.8, 5.6 Hz), 5.43 (1H, s), 4.50 (1H, s), 4.04 (1H, s), 3.87 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.789 (3H, s), 3.787 (3H, s), 3.41 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.00 (3H, s), 1.56 (3H, s), 0.75 (9H, s), 0.04 (2H, s), -0.04 (2H, s).

工程２化合物２６の合成
化合物２５１３２．６ｇ（０．１６７ｍｏｌ相当）、ＭｅＣＮ８００ｍｌ、ＴＥＡ５０．７ｇ（３ｅｑ．）、ＤＭＡＰ２．０ｇ（０．１ｅｑ．）、ＴＰＢＳＯ２Ｃｌ６５．８ｇ（１．３ｅｑ．）を加え、２５℃付近で２２時間撹拌した。２５％ＮＨ_３ａｑ．８００ｍｌを加え２５℃付近で２時間撹拌した。ＭｅＣＮを粗く回収し、ＡｃＯＥｔ４００ｍｌ、水４００ｍｌを加えて分液を行い、水層をＡｃＯＥｔ３００ｍｌで再抽出した。有機層を混合し、５％ＮａＣｌ４００ｍｌ×２回洗浄を行い、溶媒を回収した。アモルファスを固化させたものをほぐして目的の化合物２６（１９２．８ｇ、粗収率１６１．９％ｆｒｏｍ化合物１５）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 7.97 (1H, s), 7.53 (2H, d, J = 7.2 Hz), 7.35-7.25 (7H, m), 6.83 (4H, dd, J = 8.8, 6.8 Hz), 5.51 (1H, s), 4.46 (1H, s), 4.19 (1H, s), 3.88 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.79 (6H, s), 3.39 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.02 (3H, s), 1.85 (3H, s), 1.66 (3H, s), 0.74 (9H, s), 0.04 (2H, s), -0.04 (2H, s).

工程３化合物２７の合成
化合物２６１９２．８ｇ（０．１６７ｍｏｌ相当）、ＤＭＦ５００ｍｌ、Ｂｚ_２Ｏ７５．６ｇ（２ｅｑ．）を加え、２５℃付近で２２ｈ撹拌した。ＡｃＯＥｔ１０００ｍｌ、５％ＮａＨＣＯ_３１０００ｍｌを加えて分液を行い、水層をＡｃＯＥｔ５００ｍｌで再抽出した。有機層を混合し、５％ＮａＨＣＯ_３５００ｍｌ、５％ＮａＣｌ５００ｍｌで洗浄を行い、溶媒を回収して粗製の化合物５を得た。シリカゲル１．３ｋｇ、展開溶媒Ｈｅｘ／ＡｃＯＥｔ＝８／２→６／４で精製を行い、アモルファスを固化させたものをほぐして目的の化合物２７（１２４．１ｇ、収率９１％ｆｒｏｍ化合物１５）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 8.33 (2H, d, J = 7.2 Hz), 8.05 (1H, s), 7.53 (1H, dd, J = 7.4, 7.4 Hz), 7.49-7.41 (5H, m), 7.35-7.28 (7H, m), 7.25 (1H, m), 6.84 (4H, dd, J = 8.8, 6.4 Hz), 5.49(1H, s), 4.51 (1H, s), 4.10 (1H, s), 3.90 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.803 (3H, s), 3.800 (3H, s), 3.42 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.11 (3H, s), 1.85 (3H, s), 0.74 (9H, s), 0.04 (2H, s), -0.04 (2H, s).

工程４化合物２８の合成
化合物２７１２４．１ｇ（０．１５２ｍｏｌ）、ＴＨＦ８６９ｍｌ、１Ｍ−ＴＢＡＦ／ＴＨＦ１８２ｍｌ（１．２ｅｑ．）を加え２時間撹拌を行った。溶媒を回収し、ＡｃＯＥｔ６２０ｍｌ、５％ＮａＨＣＯ_３６２０ｍｌを加えて分液を行った。５％ＮａＣｌ６２０ｍｌで洗浄し溶媒を回収した。ＴＢＳＯＨの除去を目的にトルエン６２０ｍｌ×３回溶媒置換を行った後、アモルファスを固化させたものをほぐして目的の化合物２８（１１９．２ｇ、収率１１９％ｆｒｏｍ化合物２７）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 13.44 (1H, br s), 8.32 (2H, d, J = 7.5 Hz), 7.92 (1H, s), 7.55 (1H, dd, J = 7.3, 7.3 Hz), 7.50-7.43 (4H, m), 7.40-7.30 (7H, m), 7.26 (1H, m), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 3.6 Hz), 5.46 (1H, s), 4.37 (1H, br.s), 4.16 (1H, s), 3.92 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.803 (3H, s), 3.800 (3H, s), 3.57-3.42 (4H, m), 3.63 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.03 (3H, s), 1.90 (3H, s).

工程５化合物２９（ＭｅＣ（Ｂｚ）アミダイト）の合成
化合物２８１０８．２ｇ（０．１３８ｍｏｌ相当）、ジクロロメタン５６４ｍｌ、ＤＩＰＥＡ３５．７ｇ（２ｅｑ．）を仕込み５℃以下で２−シアノエチルジイソプロピルクロロホスフォロアミダイト４９．０ｇ（１．５ｅｑ．）を滴下した。その後、２５℃付近で２時間撹拌した。５％ＮａＨＣＯ_３５６４ｍｌを加え分液し、溶媒を回収して粗製のＭｅＣ（Ｂｚ）を得た。シリカゲル２．３ｋｇ、展開溶媒Ｈｅｘ／ＡｃＯＥｔ＝７／３→５／５で精製を行い、アモルファスを固化させたものをほぐして目的の化合物２９（ＭｅＣ（Ｂｚ）アミダイト、１０５．２ｇ、収率８４％ｆｒｏｍ化合物２７、２種のジアステレオマー比（ＨＰＬＣの積分値より算出）＝５４：４６）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ:（major diastereomer）13.47 (1H, br s), 8.33 (2H, d, J = 7.4 Hz), 7.98 (1H, s), 7.52 (1H, dd, J = 7.4, 7.4 Hz),7.50-7.42 (4H, m), 7.37-7.24 (8H, m), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 6.6 Hz), 5.52 (1H, s), 4.64 (1H, d, J = 6.9 Hz), 4.37 (1H, s), 3.92 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.812 (3H, s), 3.807 (3H, s), 3.57-3.42 (4H, m), 3.51 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.02 (3H, s), 2.36 (2H, t, J = 5.9 Hz), 1.77 (3H, s), 1.14 (6H, d, J = 6.8 Hz), 1.05 (6H, d, J = 6.8 Hz).（minor diastereomer）13.47 (1H, br s), 8.33 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.98 (1H, s), 7.56 (1H, dd, J = 7.3, 7.3 Hz), 7.47-7.43 (4H, m), 7.35-7.28 (7H, m), 7.22 (1H, m), 6.86 (4H, dd, J = 8.8, 5.5 Hz), 5.51 (1H, s), 4.60 (1H, d, J = 4.3 Hz), 4.43 (1H, s), 3.88 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.802 (3H, s), 3.798 (3H, s), 3.64 (1H, m), 3.52 (1H, d, J = 11.7 Hz), 3.52-3.44 (3H, m), 3.04 (3H, s), 2.60-2.52 (2H, m), 1.79 (3H, s), 1.11 (6H, d, J = 6.8 Hz), 0.99 (6H, d, J = 6.8 Hz).
31P-NMR (CDCl3) δ: 151.24, 151.05.
［実施例１２］

^ＭｅＣ（Ｂｚ）体の合成

工程１
窒素雰囲気下、化合物１４（１００ｍｇ、０．１７７ｍｍｏｌ）および６−Ｎ−ベンゾイルメチルシトシン（４９ｍｇ、０．２１３ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（２ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．３０４ｍＬ、１．２４ｍｍｏｌ）およびＴＭＳＯＴｆ（０．０６４１ｍＬ、０．３５５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で４時間撹拌した。反応液に氷冷下、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２０ｍＬ）を加えて分配した後、有機層を０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１１０ｍＬ）および水（１１０ｍＬ）で洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製することにより，化合物６２（８４ｍｇ、収率７５％）を得た。¹H-NMRでは７１：２９のロータマー混合物として観測された。
¹H-NMR（CD3OD）δ：(Major) 8.30-8.17 (2H, m), 7.96 (1H, br.s), 7.56 (1H, dd, J=7.3
7.3 Hz), 7.48 (2H, d, J=7.5, 7.3 Hz), 6.95 (1H, J=8.6 Hz, H-1 of sugar), 4.99 (1H, dd,
J=8.6, 8.0 Hz), 4.79 (1H, d, J=8.0 Hz), 4.10 (1H, d, J=11.9 Hz), 3.90 (1H, d, J=11.9 Hz), 2.11 (3H, s), 0.93 (9H, s), 0.21 (3H, s), -0.01 (3H, s). (Minor) 8.30-8.17 (2H, m), 7.98 (1H, br.s), 7.56 (1H, dd, J=7.3, 7.3 Hz), 7.48 (2H, d, J=7.5, 7.3 Hz), 6.90 (1H, J=7.8 Hz, H-1 of sugar), 4.73 (1H, d, J=6.8 Hz), 4.51 (1H, dd, J=7.8, 6.8 Hz), 4.12 (1H, d, J=11.9 Hz), 3.86 (1H, d, J=11.9 Hz), 2.11 (3H, s), 0.93 (9H, s), 0.21 (3H, s), -0.01 (3H, s).

工程２
実施例２の工程２と同様な条件で合成した。

工程３
実施例２の工程３と同様な条件で合成した。

工程４
実施例１１の工程５と同条件で合成した。
［実施例１３］

^ＭｅＣ（Ａｃ）体の合成

工程１化合物２５の合成
実施例１１の工程１と同条件で合成した。

工程２化合物２６の合成
実施例１１の工程２と同条件で合成した。

工程３化合物６４の合成
窒素気流下、2Lの４口フラスコに化合物２６（粗製、１０１．７ｇ）、ピリジン（３００ｍｌ）を加え、撹拌溶解した。無水酢酸（５０ｍＬ）を添加して室温で１時間撹拌した後、酢酸エチルで希釈、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２回）、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、ろ過、濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン/酢酸エチル＝２／１→１／１→ ２／３→ ０／１）で精製することにより、化合物６４（４９．１ｇ、化合物２５からの収率７７％）をベージュ粉末として得た。

工程４化合物６５の合成
窒素気流下、１Lの４口フラスコに化合物６４（６１．７ｇ）、テトラヒドロフラン（３０５ｍｌ）を加え、撹拌溶解した。１mol/l テトラブチルアンモニウムフロリド／テトラヒドロフラン溶液（９８ｍｌ、１．２ｅｑ．）を加え、室温で１時間撹拌した後、そのまま濃縮した。残渣を酢酸エチルと水で分配して得られた有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン/酢酸エチル＝１／０→１／１）で精製して、化合物６５（１７．１ｇ）を得た。

工程５化合物６６の合成
窒素雰囲気下、５００ｍLの４口フラスコに化合物６５（１７．０ｇ、２６．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルアンモニウムテトラゾリド（３．４１ｇ、ＭＲ＝０．７５）を入れ、アセトニトリル（１７０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（５７ｍｌ）を加えて、１５分間撹拌した後、２−シアノエチルーＮ，Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト（９．６０ｇ、ＭＲ＝１．２）を添加して３０℃で３時間撹拌した。室温にて酢酸エチルー５％炭酸水素ナトリウム水溶液にて分配後、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル/アセトン１０／１）にて精製した後、ジクロロメタンとヘキサンの混合溶媒にて洗浄することにより、化合物６６（１５．４ｇ、２種のジアステレオマー比（¹H-NMRの積分値より算出）＝７２：２８））を得た。
¹H-NMR (CDCl3)δ:（major diastereomer）8.06 (1H, br s), 7.44 (2H, d, J=7.3 Hz), 7.37-7.24 (8H, m), 6.88-6.80 (4H, m), 5.56 (1H, br.s, H-1 of sugar), 4.59 (1H, d, J=7.5 Hz), 4.47 (1H, br.s), 3.90 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.802 (3H, s), 3.798 (3H, s), 3.58-3.40 (5H, m), 3.03 (3H, s, -NCH3), 2.69 (2H, br.s), 1.58 (3H, s), 1.14 (6H, d, J=6.8 Hz), 1.03 (6H, d, J=6.8 Hz).（minor diastereomer）8.06 (1H, br s), 7.43 (2H, d, J=7.3 Hz), 7.37-7.24 (8H, m), 6.88-6.80 (4H, m), 5.54 (1H, br.s, H-1 of sugar), 4.57 (1H, dd, J=5.8, 1.5 Hz), 4.47 (1H, br.s), 3.87 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.792 (3H, s), 3.789 (3H, s), 3.78 (1H, m), 3.61 (1H, m), 3.54 (1H, d, J = 11.8 Hz), 3.52-3.41 (2H, m), 3.05 (3H, s, -NCH3), 2.69 (2H, br.s), 1.58 (3H, s), 1.10 (6H, d, J=6.8 Hz), 0.98 (6H, d, J=6.8 Hz).
［実施例１４］

Ｃ（Ｂｚ）アミダイト体の合成

工程１
窒素雰囲気下、化合物１４（１００ｍｇ、０．１７７ｍｍｏｌ）および６−Ｎ−ベンゾイルウリジン（４９ｍｇ、０．２１３ｍｍｏｌ）のシクロペンチルメチルエーテル（２ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド（０．３０４ｍＬ、１．２４ｍｍｏｌ）およびＴＭＳＯＴｆ（０．０６４１ｍＬ、０．３５５ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で４時間撹拌した。反応液に氷冷下、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（２０ｍＬ）を加えて分配した後、有機層を０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸（１１０ｍＬ）および水（１１０ｍＬ）で洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール）にて精製することにより、化合物６７（８０ｍｇ、収率７５％）を得た。

工程２
実施例２の工程２と同様な条件で合成した。

工程３
実施例２の工程３と同様な条件で合成した。

工程４
実施例１１の工程５と同様な条件で合成した。

以下に、アミド架橋型核酸誘導体のその他の架橋型核酸誘導体の合成ルートを示す。

参考例１

グルコース法
2'-(R)-(トリフルオロアセチル)-N-メチルアミノ-3',5'-ジ-O-ベンジル-4'-tert-ブチルジフェニルシリルオキシメチルチミジン（2'-(R)-(trifluoroacetyl)-N-methylamino-3',5'-di-O-benzyl-4'-tert-butyldiphenylsilyloxymethylthymidine）の合成法（その１）

工程１化合物１０２の合成
国際公開第２０１１／０５２４３６号に記載の方法にてＤ−グルコースより誘導した化合物１０１（３．５ｋｇ、４．７８２ｍｏ１）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド溶液（１０．５Ｌ、３Ｖ）に、炭酸カリウム（１６５２ｇ、１１．９５ｍｏｌ、２．５ｅｑ）、パラメトキシベンジルクロリド（８２３．８ｇ、５．２６０ｍｏｌ，１．１ｅｑ）を加え、室温にて１９時間撹拌した。この反応液に酢酸エチル３５．００Ｌ（１０ｖ／ｗ）、市水３５．００Ｌ（１０ｖ／ｗ）を加えて抽出、分液を行い、有機層Iと水層Iを得た。そして、水層Iを酢酸エチル１０．５０Ｌ（３ｖ／ｗ）で抽出を行い、有機層IIを得た。得られた有機層IとIIを合わせ、水２４．５０Ｌ（７ｖ／ｗ）、１０％食塩水２４．５０Ｌ（７ｖ／ｗ）でそれぞれ洗浄し、濃縮、減圧乾燥を行い、化合物１０２（４４７０ｇ）の粗生成物を褐色油状物として得た。得られた化合物１０２は精製を行わず、収率は定量的とし次工程に進めた。

工程２化合物１０３の合成
化合物１０２（粗製、４４７０ｇ）をテトラヒドロフラン（１６．３０Ｌ、４ｖ／ｗ）に溶解させ、市水（４０７．５ｇ、０．１ｗ／ｗ）を加えた。次いで、液温３０℃以下でｎ−トリブチルホスフィン（１２５８ｇ、６．２１８ｍｏｌ、１．３ｅｑ）を滴下し、同温にて５時間撹拌した。この反応液にジクロロメタン（２４．５０Ｌ、６ｖ／ｗ）、市水（４．１００Ｌ、１ｖ／ｗ）を加えて抽出、分液を行い、得られた有機層を留出がほぼなくなるまで濃縮を行った。ジクロロメタン（５．０００Ｌ、１．２ｖ／ｗ）×２回で共沸させた後、減圧乾燥を行い、化合物１０３（５５５７ｇ）の粗生成物を褐色油状物として得た。前工程同様、得られた化合物１０３は精製を行わず、収率は定量的とし次工程に進めた。

工程３化合物１０４の合成
化合物１０３（粗製、５５５７ｇ）をジクロロメタン（７．９００Ｌ（２ｖ／ｗ））に溶解させ、ピリジン（９４５．６ｇ、１１．９５ｍｏｌ、２．５ｅｑ）を加えた。次いで、液温３５℃以下でＴＦＡＡ（１５０７ｇ、７．１７５ｍｏｌ、１．５ｅｑ）を滴下し、同温にて２時間撹拌した。この反応液をＣＨ_２Ｃｌ_２（１９．７５Ｌ、５ｖ／ｗ）、冷１０％Ｎａ_２ＣＯ_３ａｑ．（１１．８５Ｌ、３ｖ／ｗ）に滴下し、抽出、分液を行い、得られた有機層を５％ＮａＨＣＯ_３ａｑ．（２４．５０Ｌ、７ｖ／ｗ）で洗浄し、濃縮、減圧乾燥を行い、化合物１０４（６５５０ｇ）を赤褐色固体として得た。これにジクロロメタン（２．０００Ｌ、０．５ｖ／ｗ）を加え、液温４０℃にて加熱溶解させ、イソプロピルエーテル（３９．５０Ｌ、１０ｖ／ｗ）を徐々に加えて、室温まで自然放冷した後、１８時間撹拌した。そして、液温５℃以下にて１時間撹拌し、析出した結晶をろ過した。得られた結晶をイソプロピルエーテル（１０．００Ｌ、２．５ｖ／ｗ）で洗浄後、減圧乾燥を行い、化合物１０４＋ｎ−Ｂｕ_３ＰＯ（４３９２ｇ）を淡桃色結晶化合物として得た。この結晶の^１Ｈ−ＮＭＲを測定し、化合物１０４は３５４４ｇ（３．８４４ｍｏｌ）含有していると換算した。化合物１０１からの収率＝８０．４％。

工程４化合物１０５の合成
化合物１０４＋ｎ−Ｂｕ_３ＰＯ（４３９２ｇ）を液温５０℃でＤＭＦ１０．６０Ｌ（３ｖ／ｗ）に溶解させ、炭酸カリウム（１０６２ｇ、７．６８４ｍｏｌ、２ｅｑ）を加えた。次いで、液温５５℃以下でヨードメタン（８１８．３ｇ、５．７６５ｍｏｌ，１．５ｅｑ）を滴下し、同温にて７時間、室温にて１５時間撹拌した。この反応液に酢酸エチル（３５．５０Ｌ、１０ｖ／ｗ）、５％食塩水（２４．８０Ｌ、７ｖ／ｗ）を加えて抽出、分液を行い、有機層Iと水層Iを得た。そして、水層Iを酢酸エチル（１０．００Ｌ、２．８ｖ／ｗ）で抽出を行い、有機層IIを得た。得られた有機層IとIIを合わせ、Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３・５Ｈ_２Ｏ１９０８ｇ（７．６８８ｍｏｌ、２ｅｑ）＋市水２４．８０Ｌ（７ｖ／ｗ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２４．８０Ｌ、７ｖ／ｗ）、１０％食塩水（２４．８０Ｌ、７ｖ／ｗ）でそれぞれ洗浄し、濃縮、減圧乾燥を行い、化合物１０５の粗生成物（４３８６ｇ）を黄褐色油状物として得た。得られた化合物１０５の粗生成物は精製を行わず、収率は定量的とし次工程に進めた。

工程５化合物１０６の合成
化合物１０５の粗生成物（４３８６ｇ）をアセトニトリル（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）に溶解させ、液温３０℃以下で、ＣＡＮ７５８６ｇ（１３．８４ｍｏｌ，３．６ｅｑ）＋市水（９．０００Ｌ、２．５ｖ／ｗ）溶液を３０分間で滴下し、同温にて２時間撹拌した。この反応液に酢酸エチル（３６．００Ｌ、１０ｖ／ｗ）、市水（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）を加えて抽出、分液を行い、得られた有機層を市水（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）で洗浄した。ここに５％酸水素ナトリウム水溶液（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）を加え、生成した不溶物をろ過後（洗浄でＡｃＯＥｔ８．０００Ｌ（２．２ｖ／ｗ）使用）、分液を行い、得られた有機層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）、１０％食塩水（２５．２０Ｌ、７ｖ／ｗ）でそれぞれ洗浄し、濃縮、減圧乾燥を行った。
得られた残渣を１０％酢酸エチル−ｎ−ヘキサン溶液（５．０００Ｌ）溶解させたものを、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：４３．００ｋｇ、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝０／１〜１／４（ｖ／ｖ））により精製した後、トルエン（４０００ｇ）にて再結晶することにより、化合物１０６（２３９８ｇ、化合物１０４からの収率＝７６．５％）を微黄色結晶として得た。¹H-NMRでは８：２のロータマー混合物として観測された。
¹H-NMR（CDCl₃）・：(Major) 8.17 (1H, br.s), 7.66-7.05 (21H, m), 6.58 (1H, d, J=9.7 Hz), 5.17 (1H, dd, J = 9.7, 5.7Hz), 4.69-4.48 (4H, m), 4.44 (1H, d, J = 11.3 Hz), 3.97 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.75 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.65 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.60 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.20 (3H, s), 2.36 (3H, s), 1.03 (9H, s).（Minor）8.10 (1H, br.s), 7.66-7.05 (21H, m), 6.53 (1H, d, J=9.0 Hz), 3.69 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.55 (1H, d, J = 10.2 Hz), 3.15 (3H, s), 2.36 (3H, s), 1.03 (9H, s).

2'-(R)-(トリフルオロアセチル)-N-メチルアミノ-3',5'-ジ-O-ベンジル-4'-tert-ブチルジフェニルシリルオキシメチルチミジン（2'-(R)-(trifluoroacetyl)-N-methylamino-3',5'-di-O-benzyl-4'-tert-butyldiphenylsilyloxymethylthymidine）の合成法（その２）

工程１化合物１０７の合成
国際公開第２０１１／０５２４３６号に記載の方法にてＤ−グルコースより誘導した化合物１００（２．３８ｍｍｏｌ）をメチルアミン（２０ｍＬ、２．０ｍｏｌ／ＬＴＨＦ溶液，４０ｍｍｏｌ）に溶解させ，マイクロウェーブを用いて６０℃まで加熱し８時間攪拌した。反応液を濃縮乾固し、化合物１０７を得た。得られた化合物は精製せずそのまま次の反応に進めた。

工程２化合物１０７から化合物１０６への変換
前工程で得られた化合物１０７をジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶解させ、ピリジン（４８１μｌ、５．９６ｍｍｏｌ）加え、ＴＦＡＡ（５０４μＬ、３．５８ｍｍｏｌ）を滴下し室温で２時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製し、化合物１０６（１ｇ、収率５１％）を得た。
LC-MS: UPLC 4min acid 3.29 min, M+H = 816

Ａ（Ｂｚ）アミダイトの合成例

工程１化合物１０７の合成
窒素気流下、２０Ｌフラスコに化合物１０６（５９９．６０ｇ，７３４．８５ｍｍｏｌ）、Ｂｚ−アデニン（３５１．８２ｇ，２ｅｑ．）、１，２−ＤＣＥ（３０００ｍｌ，５ｖ／ｗ）を加えてこれを撹拌溶解した。この溶液にＢＳＡ（８９９．５０ｇ、６ｅｑ．）を加え昇温し、４９℃に保ちながら１時間撹拌した。２４℃まで冷却後、ＴＭＳＯＴｆ（４９．５５ｇ，０．３ｅｑ．）を加え再度昇温し、６０℃に保ちながら５．５時間撹拌した。反応溶液を５℃まで冷却した後、８％炭酸水素ナトリウム水溶液（９００ｇ）を滴加した。滴加終了後、室温でこれを１５時間撹拌した（ベージュ色スラリー状）。これにＤＣＭ（７８００ｇ）を加え、１時間室温で撹拌し、セライト濾過により固体を濾別した。濾別した残渣をＤＣＭ（４８００ｇ）により再度スラリー洗浄し、セライト濾過により固体を濾別した。さらにその残渣をＤＣＭ（３０００ｇ）によりスラリー洗浄し、吸引濾過により固体を濾別した（この操作を２回繰り返した）。得られた母液全てを２０Ｌ水洗釜に移し、８％炭酸水素ナトリウム水溶液（９００ｇ）を加えて有機層を洗浄し、水層をＤＣＭ（９００ｇ）で再抽出した。得られた有機層に硫酸ナトリウム（６００ｇ）を添加し３０分撹拌後、濾過、減圧濃縮、乾燥を行い、化合物１０７（６４５ｇ，収率９４．４％）を黄褐色アモルファス固体として得た。

工程２化合物１０８の合成
窒素気流下、化合物１０７（６４５ｇ，６９４．２４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２９０ｍｌ，２ｖ／ｗ）溶液に１．０ｍｏｌ／Ｌ−ＴＢＡＦ／ＴＨＦ溶液（７６６．４４ｇ、１．２ｅｑ．）を室温で加えた後、２４℃で２１時間保温撹拌した。反応溶液を減圧濃縮した後、これを酢酸エチル（１７４３ｇ）に溶解して１０Ｌ水洗釜に移し、市水（２１４２ｇ）で洗浄した。有機層を５％食塩水（１２９０ｇ）で再度洗浄し、この食塩水を酢酸エチル（３２２ｇ）で再度抽出した。得られた有機層を減圧濃縮した後、トルエン（１０００ｇ）共沸を行った。これを乾燥して得られた粗体（４０５ｇ）にジクロロメタン（７１２ｇ）を加えて、４０℃に加温溶解した。これをシリカゲル（シリカゲルの担体量：３８７０ｇ、酢酸エチル／トルエン＝１／２→１／１→ ２／１→１／０）により精製し、化合物１０８（４０５ｇ、収率８４．５％）を白色固体として得た。

工程３化合物１０９の合成
窒素気流下、１０Ｌの四つ口フラスコに化合物１０８（４０２ｇ、５８２．０４ｍｍｏｌ）、アセトニトリル（３２１６ｍｌ、８ｖ／ｗ）、１ｍｏｌ／ｌ酢酸水溶液（５４３ｍｌ、１．３５ｖ／ｗ）、１ｍｏｌ／ｌ酢酸ナトリウム水溶液（１０８５ｍｌ，２．７ｖ／ｗ）、ＴＥＭＰＯ（９．０９ｇ，０．１ｅｑ．）、８０％亜塩素酸ナトリウム（１３８．１３ｇ，２．１ｅｑ．）、９％次亜塩素酸ナトリウム（６．０ｍｌ，０．０１５ｖ／ｗ）を順次加え、内温を３６℃まで昇温し、保温撹拌した。４．５時間撹拌後、９％次亜塩素酸ナトリウム（２ｍｌ、０．００５ｖ／ｗ）を追加し、さらに１６時間保温撹拌した。反応溶液を６℃まで冷却した後、２０％亜硫酸ナトリウム水溶液（８０４ｇ）を滴加し、続けて酢酸（１７７ｇ）を添加した。この混合溶液を分液し、水層を酢酸エチル（１１２３ｇ）で再抽出し、得られた有機層を１５％食塩水（１３７３ｇ）で洗浄した。この有機層を減圧濃縮し、トルエン（１２００ｍｌ×２）共沸、乾燥を行い、化合物１０９（４６８ｇ）を白色固体として得た。

工程４化合物１１０の合成
窒素気流下、化合物１０９（４６８ｇ、中身量４１０ｇ，５８２．０４ｍｍｏｌ）のメタノール（２８００ｍｌ、６ｖ／ｗ）溶液に２５％アンモニア水（４６８ｍｌ，１ｖ／ｗ）を室温下で加えた後、３９℃まで昇温し、保温撹拌した。６時間撹拌後、２５％アンモニア水（１４０ｍｌ、０．３ｖ／ｗ）を追加し、さらに１６時間撹拌後、２５％アンモニア水（９４ｍｌ、０．２ｖ／ｗ）を追加した。８時間保温撹拌後、反応溶液を放冷し、さらに１６時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、トルエン（２５００ｍｌ×２）共沸、乾燥を行い、化合物１１０（４７０ｇ、ＨＰＬＣから算出した純度：８０．８％）を橙色固体として得た。

工程５化合物１１１の合成
窒素気流下、１０Ｌの四つ口フラスコに化合物１１０（４７０ｇ、中身量２９４ｇ、５８２．０４ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（１８００ｍｌ、６．１ｖ／ｗ）を加え、２４℃で保温撹拌した。溶解確認後、ＥＤＣ塩酸塩（１６９ｇ、１．５ｅｑ．）を加え、保温撹拌した。５時間撹拌後、ＥＤＣ塩酸塩（２３ｇ、０．２ｅｑ．）を追加しさらに１７．５時間保温撹拌した後、市水（５１２４ｇ）を１５分かけて滴加した。このスラリー溶液を１時間撹拌した後、吸引濾過により結晶を濾過、市水でかけ洗い、結晶を乾燥し、化合物１１１（２２６ｇ，化合物１０８から３工程での収率７９．９％）をクリーム色結晶として得た。

工程６化合物１１２の合成
窒素気流下、３Ｌフラスコに化合物１１１（２２５ｇ、４６２．４７ｍｍｏｌ）と酢酸（１１２５ｍｌ、５ｖ／ｗ）を加え、５０℃まで昇温し撹拌溶解した。これに２０％Ｐｄ（ＯＨ）_２−Ｃ（４４．９８ｇ、０．２ｗ／ｗ）を添加し系内を水素置換した後、続けて水素を反応溶液に吹き込みながら保温撹拌した。６時間撹拌後、２０％Ｐｄ（ＯＨ）_２−Ｃ（２２．４９ｇ、０．１ｗ／ｗ）を追加した。２．５時間撹拌後、２０％Ｐｄ（ＯＨ）_２−Ｃ（１１．２５ｇ、０．０５ｗ／ｗ）をさらに追加し、さらに３時間撹拌した。その後反応溶液を吸引濾過し、メタノール（２０３０ｇ）でかけ洗い、母液を約１Ｌまで減圧濃縮した。トルエン（１３００ｍｌ×２）共沸を行った後（約１Ｌまで減圧濃縮）、トルエン（１０００ｍｌ）を加え室温で撹拌し、吸引濾過により固体をろ取、乾燥し、化合物１１２（１３９．７ｇ、９８．７％）を淡い灰色固体として得た。

化合物１０６から化合物１１０に至る経路については、以下の方法でも合成できる。

工程１化合物１１３の合成
前出の参考例１のＡ（Ｂｚ）アミダイトの合成の工程２と同様な条件で合成できる。

工程２化合物１１４の合成
前出の参考例１のＡ（Ｂｚ）アミダイトの合成の工程３と同様な条件で合成できる。

工程３化合物１１４から化合物１１０への誘導
化合物１１４（１４ｍｇ、０．０２３ｍｍｏｌ）をジクロロエタン１ｍＬに溶解させ、Ｎ−ベンゾイルグアニン１６ｍｇ（０．０６９ｍｍｏｌ）と（Ｅ）−トリメチルシリルＮ−トリメチルシリルアセトアミド４２ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）を加え６０℃まで加熱し２０分攪拌した。反応液を室温まで低下させた後にＴＭＳＯＴｆ（４μｌ、０．０２３ｍｍｏｌ）を加え再び６０℃まで加熱し６時間攪拌した。反応液をそのまま、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１０／１）にて精製することにより、化合物１１０（５ｍｇ、収率３０％）を得た。LC-MS: UPLC 4min acid 2.50, 2.59(回転異性体) min, M+H = 719

Ｇアミダイトの合成例

工程１化合物１１５の合成
窒素気流下、Ｏ−Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル−Ｎ−イソブチルグアニン（９３．０ｇ，２２３ｍｍｏｌ），１、２―ジクロロエタン（７６０ｍｌ）を仕込み、氷冷下でＢＳＡ（１３６．２ｇ，６７０ｍｍｏｌ）の滴下を行った。内温を６０℃まで加熱し、３０分間撹枠した。その後氷冷下まで内温を下げ、化合物１０６（１５２ｇ，１８６ｍｍｏｌ）を添加、１，２―ジクロロエタン（ｌ５０ｍｌ）で洗い込みを行った後、ＴＭＳＯＴｆ（ｌ２．４ｇ、５５．８ｍｍｏｌ）の滴下を行った。再び６０℃まで加温し、２時間撹拌を行った。反応液を氷冷下にて飽和重曹水（６７５ｍｌ）を滴下し、次いでろ過助剤としてＫＣフロック（４５ｇ）を添加した。反応液をろ過した後、酢酸エチルでヌッチェ洗浄を行い、有機溶媒を濃縮した。濃縮液を酢酸エチルで３回抽出した後、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、濃縮することにより、化合物１１５（ｌ９２．９ｇ，１７４ｍｍｏｌ、収率９４％）を得た。

工程２化合物１１６の合成
化合物１１５（１９２．５ｇ，１．７４ｍｍｏｌ）のメタノール（５００ｇ）溶液に室温でフッ化アンモニウム（７７．３ｇ，２．０９ｍｏｌ）を加えた後、バス温を６８℃まで上げ、３．５時間撹枠を行った。室温まで冷却し、水（１Ｌ）と酢酸エチル（１．５Ｌ）に反応液を添加した。分液を行い、さらに水層を酢酸エチル（５００ｍｌｘ２）で抽出した後、有機層を合わせて飽和食塩水（５００ｍｌ）で洗浄、濃縮した。得られた粗体を
シリカゲルカラムクロマトクロマトグラフィー（シリカゲルの担体量：１．１ｋｇ、ヘキサン・酢酸エチル・メタノール）で精製することにより、化合物１１６（８７．０ｇ、収率６８．５％）を得た。

工程３化合物１１７の合成
室温下、化合物１１６（８７ｇ）をアセトニトリル（４４０ｇ）に溶解させ、１ｍｏｌ／Ｌ酢酸（８７ｍｌ）、１ｍｏｌ／Ｌ酢酸ナトリウム（１７４ｍｌ）を添加した。さらにＴＥＭＰＯ（１．８ｇ，１１．６ｍｍｏｌ）を加え、８０％亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ２、２７．５ｇ，２４３ｍｍｏｌ）及び１２％次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ、１．５ｍｌ）を加えた。２８℃付近で２．５時間撹拌し、１２％次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ、１．５ｍｌ）を追加した（反応液が燈色から茶褐色へと変化した）。そのまま１夜撹拌した後、２―メチルー２―ブテン（８０ｍｌ）を添加し、４０分間撹拌した（反応液が茶褐色から燈色に変化）。この溶液に酢酸（３５ｍｌ）を添加し、酢酸エチル（２００ｍｌ）で抽出した後、飽和食塩水（５０ｍｌ）で洗浄、濃縮し、トルエン（１００ｍｌｘ３回）で共沸を行うことにより、化合物１１７（１１３ｇ）の粗生成物を得た。

工程４化合物１１８の合成
粗製の化合物１１７（１１３ｇ）をメタノール（４００ｇ）に溶解させ、２５％アンモニア水（２００ｍｌ）を加え、４０℃で一晩撹拌した。反応液を濃縮し、トルエン（２００ｍｌｘ３回）で共沸を行うことにより、化合物１１８（１１２．８ｇ）の粗生成物を得た。

工程５化合物１１９の合成
窒素気流下、室温で化合物１１８（１１２．８ｇ，１１５．７ｍｍｏｌ相当とする）をＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（４４０ｇ）に溶解させ、ＥＤＣ塩酸塩（３３．３ｇ，１７３．６ｍｍｏｌ）を添加した。そのまま撹枠を行い、反応進行を確認しながら、ＥＤＣ塩酸塩（１７．８ｇ，９２．８ｍｍｏｌ）を添加した。反応の終了確認後、反応液を水（１７６０ｇ）と酢酸エチル（２５ｇ）撹拌下で分散を行った。生じた結晶をろ取し、水（３００ｇ）及び酢酸エチル／ヘキサン（１／４）（１５０ｍｌ）にて洗浄、減圧乾燥を行うことにより、化合物１１９（４０ｇ，７９．６ｍｍｏｌ、化合物１１６から収率：４５．９％）を無色固体として得た。

工程６化合物１１９から化合物２１ａへの変換
窒素気流下、室温で化合物１１９（４０ｇ，７９．６ｍｍｏｌ）を酢酸（４００ｍｌ）と混合し、水酸化パラジウム（１２．５ｇ）を添加後、水素雰囲気下で２４時間、３０℃で撹拌した。反応系中で結晶が析出するため、水（８０ｇ）を添加し、さらに２日間撹拌した後、触媒をろ別し、ろ液を濃縮した。トルエン（８０ｇｘ２回）で共沸を行った後、得られた固体をメタノール（５０ｇ）にてスラリー洗浄、乾燥し、化合物２１ａ（１９．５ｇ，６０．５ｍｍｏｌ、収率７６．２％）で得た。

化合物２１ａからＧ（Ｐａｃ）アミダイト（２４）へは実施例６に記載の方法にて誘導した。

化合物１０６から化合物１１８に至る経路については、以下のスキームに記載の方法でも合成できる。

Ｔアミダイトの合成例
化合物１０６から化合物１４ｂへの変換は以下のスキームに記載の方法で実施できる。化合物１４ｂからは、実施例３あるいは国際公開第２０１１／０５２４３６号に記載の方法で合成することができる。

参考例２

グルコサミンルート
グルコサミンを出発原料とした合成法（その１）

工程１化合物１２４の合成
ＣｈｅｍｉｓｃｈｅＢｅｒｉｃｈｔｅ、１０１（７）, ２２８９−９３（１９６８）．に記載の方法にて、D-グルコサミン塩酸塩より化合物１２４を得た。

工程２化合物１２５の合成
窒素気流下、水素化ナトリウム（０．８９ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）懸濁液に、５〜７℃で化合物１２４（５．２ｇ，１７．１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）溶液を滴下し、３０分間撹拌した。続いて臭化ベンジル（２．４ｍＬ，２０．５ｍｍｏｌ）を７〜８℃で反応液に滴下して、室温にて９０分間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出後、有機層を水および飽和食塩水で洗浄した。その後硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、化合物１２５（５．１ｇ，１２．９ｍｍｏｌ）を淡黄色固体として得た。
¹H-NMR (CDCl₃)δ: 8.04 (2H, dt, J = 6.71, 1.60 Hz), 7.53-7.32 (10H, m), 6.25 (1H, d, J = 5.19 Hz), 5.02 (1H, d, J = 11.44 Hz), 4.84 (1H, dd, J = 6.71, 5.34 Hz), 4.71 (1H, d, J = 11.29 Hz), 4.42 (1H, td, J = 7.02, 2.90 Hz), 4.28 (1H, dd, J = 8.69, 6.86 Hz), 4.04-3.88 (3H, m), 1.40 (3H, s), 1.39 (4H, s).

工程３化合物１２６の合成
窒素気流下、チミン（１．４３ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１５ｍＬ）懸濁液にＮ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド（４．７ｍＬ，１８．９ｍｍｏｌ）を加えて８０℃下で６０分間撹拌した。その後、化合物１２５（３．０ｇ，７．６ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１５ｍＬ）溶液および四塩化スズ（０．８９ｍＬ，７．６ｍｍｏｌ）を加えて、８０℃下で６時間撹拌した。室温まで冷ました後飽和重層水を加えて、析出した固体をセライトろ過により除去した。反応液を減圧濃縮後、残渣から酢酸エチルで抽出し、水および飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮することで粗生成物１２５ａ（４．１ｇ）を得た。続いて、粗生成物１２６（４．１ｇ）をメタノール（３０ｍＬ）および水（１０ｍＬ）に溶解させ、室温にてカンファースルホン酸（０．７３ｇ，３．１ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した後、減圧濃縮した。残渣から酢酸エチルで抽出して水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し減圧濃縮した。再結晶（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）により化合物１２６（３．２ｇ，６．７ｍｍｏｌ）を白色固体として得た。
¹H-NMR (CD₃OD)δ: 7.83 (1H, d, J = 1.18 Hz), 7.75-7.72 (2H, m), 7.55-7.52 (1H, m), 7.46-7.25 (7H, m), 6.19 (1H, d, J = 8.39 Hz), 4.91 (1H, dd, J = 8.48, 5.79 Hz), 4.75 (1H, d, J = 11.92 Hz), 4.55 (1H, d, J = 11.92 Hz), 4.36-4.32 (2H, m), 3.90 (1H, td, J = 5.75, 3.58 Hz), 3.61 (2H, d, J = 5.88 Hz), 1.91 (3H, d, J = 1.18 Hz).

工程４化合物１２７の合成
室温下、化合物１２６（３．４ｇ，７．１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロン―水混合溶液（１：１，３０ｍＬ）に過ヨウ素酸ナトリウム（２．３ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）を加えて、１時間撹拌した。エチレングリコール（０．４ｍＬ，７．１ｍｍｏｌ）を加えてしばらく撹拌した後、生じた白色固体をろ過により除去した。有機層を酢酸エチルで抽出した後、水および飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧留去して、粗生成物１２７（３．６ｇ）を得た。

工程５化合物１２８の合成
粗生成物１２７（３．４ｇ、７．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロンフラン（２０ｍＬ）溶液を−１０℃まで冷却後、３７％ホルムアルデヒド（１．４ｍＬ、１８．２ｍｍｏｌ）および２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１１ｍＬ、２２ｍｍｏｌ）を加えて、２℃下で３時間撹拌した。２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧留去して、粗生成物１２８（３．６ｇ）を得た。

工程６化合物１２９の合成
室温下、粗生成物１２８（３．６ｇ）のｔｅｒｔ−ブタノール‐水‐テトラヒドロフラン（５：５：１，３３ｍＬ）混合溶液に２−メチル−２−ブテン（７．８ｍＬ、７５ｍｍｏｌ）、リン酸二水素ナトリウム（２．７ｇ、２２．５ｍｍｏｌ）、亜塩素酸ナトリウム（１．４ｇ、１５ｍｍｏｌ）を加えて２時間３０分撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加えて反応液をｐＨ２〜３に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層を減圧留去して、粗生成物１２９（３．７ｇ）を得た。

工程７化合物１３０の合成
室温にて、粗生成物１２９（３．７ｇ）のトルエン−メタノール溶液（２：１、３０ｍＬ）に２ｍｏｌ／Ｌトリメチルシリルジアゾメタン溶液（４．９ｍＬ、９．７ｍｍｏｌ）を滴下して４０分間撹拌した。酢酸（０．２ｍＬ）を加えた後、反応液を減圧濃縮した。得られた固体を酢酸エチル／メタノールから再結晶して、化合物１３０（１．５４ｇ、３．１ｍｍｏｌ）を白色固体として得た。
¹H-NMR (CD₃OD)δ: 7.81 (1H, d, J = 1.22 Hz), 7.68-7.66 (2H, m), 7.53-7.51 (1H, m), 7.42-7.40 (3H, m), 7.26-7.21 (6H, m), 6.36 (1H, d, J = 8.69 Hz), 4.96-4.87 (28H, m), 4.66 (1H, d, J = 11.13 Hz), 4.60-4.51 (3H, m), 4.12 (1H, dd, J = 13.12, 9.46 Hz), 3.88 (2H, t, J = 10.98 Hz), 3.72 (3H, s), 1.91 (3H, t, J = 3.13 Hz).

工程３で行うグリコシル化反応の条件検討を行った。具体的には、酸触媒、溶媒の種類について組み合わせ検討を行ない、生成物、原料残存量をHPLC等で分析した。その結果、以下の表のように条件７に示す組み合わせが目的物の生成率が最も高く、原料残存率および副生物生成率が最も低い結果を与える最適条件であることを見出した。

グルコサミンを出発原料とした合成法（その２）
グルコサミンを出発原料とした合成法（その１）で合成した化合物１３２は以下に記載のルートでも合成することができる。

参考例３

環化反応を利用したルート

工程１
既知の手法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、１９９８、５４、３６０７．など)により合成した化合物１４８(２．０ｇ、４．７０ｍｍｏｌ)をアセトニトリル(２０ｍｌ)及び酢酸緩衝液(６ｍｌ)に溶解させた。氷冷下２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル (７４ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ)、亜塩素酸ナトリウム（８９４ｍｇ、９．８８ｍｍｏｌ）及び５％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１ｍｌ）を加え、室温にて一晩攪拌した。反応液に２-メチル-２-ブテン（２ｍｌ）を加え、室温にて２時間攪拌し、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡オレンジ色のオイルを得た。再結晶(酢酸エチル／ヘキサン)により、化合物１４９(１．５８ｇ、収率８１％)を白色固体として得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 12.68 (1H, s), 7.37-7.29 (10H, m), 5.78 (1H, d, J = 3.8 Hz), 4.76 (1H, t, J = 4.5 Hz), 4.60 (2H, dd, J = 50.7, 11.9 Hz), 4.14 (1H, d, J = 5.3 Hz), 3.66 (2H, t, J = 10.7 Hz), 1.49 (3H, s), 1.29 (3H, s).

工程２
第１工程で得られた化合物１４９（７２０ｍｇ、１．７４ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５．５ｍｌ）に溶解させた。室温にて２ｍｏｌ／Ｌメタンアミンのテトラヒドロフラン溶液（２．６ｍｌ、５．２２ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物（２９３ｍｇ、１．９１ｍｍｏｌ）及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（３６６ｍｇ、１．９１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて８時間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物１５０（７５３ｍｇ）を淡オレンジ色固体として得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 7.44 (1H, d, J = 4.6 Hz), 7.37-7.27 (10H, m), 5.86 (1H, d, J = 4.3 Hz), 4.82 (1H, t, J = 4.8 Hz), 4.60 (2H, dd, J = 40.0, 12.0 Hz), 4.48 (2H, dd, J = 14.2, 12.8 Hz), 4.12 (1H, d, J = 5.5 Hz), 3.63 (2H, dd, J = 56.9, 10.2 Hz), 2.63 (3H, d, J = 4.6 Hz), 1.41 (3H, s), 1.30 (3H, s).

工程３
第２工程で得られた化合物１５０（５００ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）を酢酸（１．２ｍｌ、２１．１３ｍｍｏｌ）に溶解させた。無水酢酸（０．５８ｍｌ、６．１２ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下濃硫酸（０．０１２ｍｌ、０．２２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温にて７時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（５ｍｌ）にて希釈し、氷水に注いだ。氷冷下、水酸化ナトリウム水溶液にて中和し、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を２０％炭酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物１５１（５４３ｍｇ）を粗オイルとして得た。

工程４
第３工程で得られた化合物１５１（５４０ｍｇ、１．１１ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（３ｍｌ）に溶解した。室温にて５−メチルウリジン（１８８ｍｇ、１．４９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド（０．５６ｍｌ、２．２９ｍｍｏｌ）を加え、５５℃にて１５分間攪拌した。トリメチルシリルトリフラート（０．２３ｍｌ、１．２６ｍｍｏｌ）を加え、７５℃にて３．５時間攪拌した。氷冷下、反応液に３％飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物１５２（５４９ｍｇ、収率９３％）をアモルファスとして得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 11.39 (1H, s), 8.26 (1H, d, J = 4.5 Hz), 7.61 (1H, s), 7.36 (10H, m), 6.31 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.39 (1H, dd, J = 8.3, 4.9 Hz), 4.72 (1H, d, J = 11.7 Hz), 4.62 (2H, dd, J = 11.2, 6.9 Hz), 4.49 (2H, dd, J = 16.1, 7.8 Hz), 4.12 (1H, d, J = 10.3 Hz), 3.73 (1H, d, J = 10.3 Hz), 2.61 (3H, d, J = 4.3 Hz), 2.02 (3H, s), 1.43 (3H, s).

工程５
第４工程で得られた化合物１５２(５４９ｍｇ、１．０３ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン（１．５ｍｌ）に溶解させた。室温にて４０％メタンアミン水溶液（０．４９ｍｌ、５．８９ｍｍｏｌ)を加え、室温にて３時間攪拌した。氷冷下反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルにて抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物１５３（４９８ｍｇ、収率９８％）をアモルファスとして得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 11.36 (1H, s), 8.08 (1H, d, J = 4.6 Hz), 7.57 (1H, s), 7.38-7.29 (10H, m), 6.09 (1H, d, J = 8.4 Hz), 5.59 (1H, d, J = 6.3 Hz), 4.80 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.66 (1H, d, J = 11.7 Hz), 4.58 (2H, d, J = 10.7 Hz), 4.44 (1H, dd, J = 12.4, 6.8 Hz), 4.17 (1H, d, J = 4.3 Hz), 4.05 (1H, d, J = 10.7 Hz), 3.68 (1H, d, J = 10.2 Hz), 2.60 (3H, d, J = 4.5 Hz), 1.50 (3H, s).

工程６
第５工程で得られた化合物１５３(４８０ｍｇ、０．９７ｍｍｏｌ)をピリジン（１．５ｍｌ）に溶解させた。氷冷下メシルクロライド（０．１８ｍｌ、２．２８ｍｍｏｌ)を加え、０℃にて３０分間攪拌した。反応液を酢酸エチルにて希釈し、水を加え、抽出を行なった。得られた有機層を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水で３回洗浄後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、化合物１５４（５２０ｍｇ、収率９３％）をアモルファスとして得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 11.46 (1H, s), 8.28 (1H, d, J = 4.6 Hz), 7.55 (1H, s), 7.40-7.32 (10H, m), 6.31 (1H, d, J = 8.2 Hz), 5.36 (1H, dd, J = 8.0, 4.6 Hz), 4.73-4.60 (5H, m), 4.10 (1H, d, J = 10.3 Hz), 3.77 (1H, d, J = 10.3 Hz), 3.23 (3H, s), 2.61 (3H, d, J = 4.5 Hz), 1.43 (3H, s).

工程７
工程６で得られた化合物１５４(５１５ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ)をアセトニトリル（５ｍｌ）に溶解させた。室温にてジアザビシクロウンデセン（０．１８ｍｌ、１．２０ｍｍｏｌ)を加え、室温にて７時間攪拌した。氷冷下反応液に酢酸エチルを加えて希釈し、５％クエン酸水溶液を加え、抽出した。得られた有機層を５％クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色オイルを得た。再結晶（酢酸エチル／ヘキサン）により化合物１５５（３７４ｍｇ、収率８７％）を白色固体として得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 7.96 (1H, d, J = 4.6 Hz), 7.75 (1H, s), 7.37-7.26 (8H, m), 7.08 (2H, d, J = 7.2 Hz), 6.53 (1H, d, J = 5.9 Hz), 5.47 (1H, d, J = 5.9 Hz), 4.65 (2H, dd, J = 57.6, 11.5 Hz), 4.43 (1H, s), 4.24 (2H, dd, J = 32.7, 12.6 Hz), 3.69 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.32 (1H, d, J = 10.8 Hz), 2.61 (3H, d, J = 4.5 Hz), 1.84 (3H, s).

工程８
ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（１８ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．６ｍｌ）溶液に、第７工程で得られた化合物１５５(３０ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ)を加え、室温にて１．５時間攪拌した。氷冷下酢酸エチルにて希釈し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシムにて乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）にて精製し、化合物１２２（１９ｍｇ、収率６３％）をアモルファスとして得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆)δ: 11.47 (1H, s), 7.38-7.28 (11H, m), 5.48 (1H, s), 4.62 (4H, dd, J = 20.7, 10.5 Hz), 4.40 (1H, s), 4.14 (1H, s), 3.92 (1H, d, J = 11.9 Hz), 3.79 (1H, d, J = 11.8 Hz), 2.87 (3H, s), 1.48 (3H, s).

工程９
第８工程で得られた化合物１２２(１７ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ)をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）及びメタノール（０．２ｍｌ）の混合溶媒に溶解させた。２０％水酸化パラジムカーボン（８ｍｇ）を加え、水素雰囲気下２時間攪拌した。窒素置換を行い、触媒をろ過により除去し、ろ液を減圧下溶媒を留去した。得られた無色オイルの再結晶（メタノール／クロロホルム）により化合物１４ｂ（１０ｍｇ、収率９３％）を白色固体として得た。
¹H-NMR (MeOD)δ: 7.84 (1H, s), 5.47 (1H, s), 4.30 (1H, s), 4.15 (1H, s), 4.06 (1H, d, J = 13.3 Hz), 3.89 (1H, d, J = 13.6 Hz), 3.03 (3H, s), 1.91 (3H, s).

化合物１４ｂより実施例３、実施例１１あるいは国際公開第２０１１／０５２４３６号に記載の方法により、Ｔアミダイト（化合物１６）およびＭｅＣ（Ｂｚ）アミダイト（化合物２９）を得ることができる。

環化反応の条件検討
工程９で行う環化反応の条件検討を行った。具体的には、塩基、溶媒の種類、反応温度について検討を行ない、生成物（化合物１２２）、副生成物（化合物１５６）をHPLC等で分析した。その結果、以下の表のように条件８に示す組み合わせが目的物の生成率が最も高く、原料残存率および副生物生成率が最も低い結果を与える最適条件であることを見出した。

アミダイトへの変換
化合物１２２を 1）ＮａＯＨａｑ．／ＴＨＦ２）（ＣＦ_３ＣＯ）_２Ｏ／ピリジンで処理することにより、２工程で化合物１５６を得た。化合物１５６は、参考例１の方法により、Ａ（Ｂｚ）アミダイト（化合物２０）、Ｇ（Ｐａｃ）アミダイト（化合物２４）に誘導できる。

Claims

一般式（Ｉ）で表される化合物を塩基の存在下でアルドール反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｒ_１及びＲ_２は、同一または異なって、水素原子、核酸合成のアミノ基の保護基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、シリル基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基、−Ｐ（Ｒ₇）Ｒ₈［式中、Ｒ₇およびＲ₈は、同一または異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数１〜６のシアノアルコキシ基、または、炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基を示す］；
Ｒ_３は、水素原子、核酸合成の水酸基の保護基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、シリル基、リン酸基、核酸合成の保護基で保護されたリン酸基、−Ｐ（Ｒ_９）Ｒ_１０［式中、Ｒ_９およびＲ_１０は、同一または異なって、水酸基、核酸合成の保護基で保護された水酸基、メルカプト基、核酸合成の保護基で保護されたメルカプト基、アミノ基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数１〜６のシアノアルコキシ基、または、炭素数１〜５のアルキル基で置換されたアミノ基を示す］；
Ｒ_４は、水素原子、水酸基、または、炭素数１〜５のアルコキシ基；
Ｒ_５及びＲ_６は、同一または異なって、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、またはアリール基；
Ｂは、置換基を有していてもよい核酸塩基部分）
を含む、一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。
一般式（Ｉ）で表される化合物を塩基の存在下で式：Ｒ_５Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_６で表される化合物と反応させる以下に示す工程：

（式中、各定義は請求項１と同意義）を含む、一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。
前記塩基が、共役酸のｐＫａが６〜１０のものである請求項１または２記載の製造方法。
前記塩基が、トリエチルアミン、またはＮ−メチルモルホリンである請求項３記載の製造方法。
請求項１〜４のいずれかに記載の方法により一般式（ＩＩ）で表される化合物を得た後、Ｒ_４が、水素原子である場合、得られた一般式（ＩＩ）で表される化合物を酸化反応に付する以下の工程：

（式中、Ｒ_４は水素原子、それ以外の定義は請求項１と同意義）を含む、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の製造方法。
Ｒ₁およびＲ₂のいずれか一方が核酸合成のアミノ基の保護基であり、その他方が水素原子またはアルキル基である請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
Ｒ₃が核酸合成の水酸基の保護基である請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
Ｒ₄が水素原子である請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
Ｒ₅およびＲ₆がいずれも水素原子である請求項１〜８のいずれかに記載の製造方法。
Ｂが置換基を有していてもよい、ピリミジン核酸塩基もしくはプリン核酸塩基である請求項１〜９のいずれかに記載の製造方法。
下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物およびその塩。

（式中、Ｒ_３は核酸合成の水酸基の保護基、それ以外の定義は請求項１と同意義）
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を脱シリル化剤と反応させ、その反応液に縮合剤を反応させる以下に示す工程：

（式中、Ｒ_１は、炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ_２は、トリフルオロアセチル基、Ｒ_３は核酸合成の水酸基の保護基であってシリル基を有する保護基、それ以外の定義は請求項１と同意義）
を含む、一般式（ＩＶ）で表される化合物の製造方法。
請求項１２に記載の方法により一般式（ＩＶ）で表される化合物を得た後、得られた一般式（ＩＶ）で表される化合物に、核酸合成の水酸基の保護に使用する試薬を反応させる以下に示す工程：

（式中、Ｒ_７は核酸合成の水酸基の保護基、それ以外の定義は請求項１２と同意義）
を含む、一般式（Ｖ）で表される化合物の製造方法。
下記一般式（Ｖ）で表される化合物およびその塩。

（式中、各定義は、請求項１３と同意義）
下記一般式（ＶＩ）で表される化合物をトランスグリコシル化反応に付する以下に示す工程：

（式中、Ｂ_１は置換基を有していてもよいピリミジン核酸塩基、Ｂ_２は置換基を有していてもよいピリミジン以外の核酸塩基、Ｘは水素原子、ナトリウム原子またはカリウム原子、それ以外の定義は請求項１と同義）
を含む、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物の製造方法。
下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物およびその塩。

（式中、各定義は、請求項１５と同意義）