JP6330872B2 - Storage container - Google Patents
Storage container Download PDFInfo
- Publication number
- JP6330872B2 JP6330872B2 JP2016177521A JP2016177521A JP6330872B2 JP 6330872 B2 JP6330872 B2 JP 6330872B2 JP 2016177521 A JP2016177521 A JP 2016177521A JP 2016177521 A JP2016177521 A JP 2016177521A JP 6330872 B2 JP6330872 B2 JP 6330872B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage container
- top plate
- bottom plate
- welded
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
- Butt Welding And Welding Of Specific Article (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
Description
本発明は、オゾンガス等の腐食性物質の貯蔵に適した、少なくとも内面がチタン製の貯蔵容器に関する。 The present invention relates to a storage container suitable for storing corrosive substances such as ozone gas and having at least an inner surface made of titanium.
オゾンガスは、半導体デバイスの製造工程においてADL(Atomic layer Deposition)等で酸化膜を形成する場合の酸化剤として使用されている。そのため、半導体デバイスの製造ラインでは、オゾン発生器で製造したオゾンガスを貯留するオゾンガス貯蔵容器が使用される。 Ozone gas is used as an oxidizing agent when forming an oxide film by ADL (Atomic layer Deposition) or the like in a semiconductor device manufacturing process. Therefore, an ozone gas storage container that stores ozone gas manufactured by an ozone generator is used in a semiconductor device manufacturing line.
従来、オゾンガス貯蔵容器としては、ステンレス製のものが使用されている。ステンレス製のオゾンガス貯蔵容器は、その容器内面を電解研磨により鏡面仕上げし、そこに不動態膜を形成したものである。不動態膜は、鏡面仕上げしたステンレスに、耐酸素比が50%以上のオゾンガスを48時間程度作用させるか(特許文献1)、あるいは濃度20vol%以上のオゾンガスを20時間程度作用させることにより形成される(特許文献2)。 Conventionally, a stainless steel container is used as an ozone gas storage container. The stainless steel ozone gas storage container has a mirror finish on the inner surface of the container by electrolytic polishing, and a passive film is formed thereon. The passive film is formed by allowing ozone gas having an oxygen resistance ratio of 50% or more to act on a mirror-finished stainless steel for about 48 hours (Patent Document 1) or allowing ozone gas having a concentration of 20 vol% or more to act for about 20 hours. (Patent Document 2).
しかしながら、ステンレス製のオゾンガス貯蔵容器の製造工程では、鏡面仕上げしたステンレス鋼の表面に、対酸素比50%以上のオゾンガスを48時間程度、あるいは20vol%以上のオゾンガスを20時間程度作用させるという不動態膜の形成工程が必要となるので、オゾンガス貯蔵容器の製造に要する時間を短縮できず、コストも高くつくという問題がある。 However, in the manufacturing process of a stainless steel ozone gas storage container, a passive state in which ozone gas with an oxygen ratio of 50% or more is applied to a mirror-finished stainless steel surface for about 48 hours or ozone gas with 20 vol% or more for about 20 hours. Since a film forming step is required, there is a problem that the time required for manufacturing the ozone gas storage container cannot be shortened and the cost is high.
また、図6に示すように、円筒形の胴部2の一端に天板3が溶接され、他端に底板5が溶接され、天板3にオゾンガスの流入口、流出口としてステンレス製パイプ7、8が溶接されている従来のステンレス製のオゾンガス貯蔵容器1Xの製造工程では、まず、胴部2、天板3及び底板5の表面を電解研磨により鏡面仕上げし、天板3にステンレス製パイプ7、8を挿し、これらのパイプ7、8を天板3の表裏両面から隅肉溶接し、次に天板3と胴部2とをTig溶接により嵌め込み溶接すると共に、胴部2と底板5も同様に嵌め込み溶接する。そして容器内にオゾンガスを作用させ、容器内面に不動態膜を形成する。
Further, as shown in FIG. 6, a
しかしながら、嵌め込み溶接による溶接部10xでは、オゾンガス貯蔵容器1Xの外側にはビード11が形成されるが、内側には間隙12が形成されるため、溶接時に発生するパーティクルや周囲の環境に存在するパーティクルが間隙12に溜まる。このパーティクルは、電解研磨や不動態膜の形成後にも存在し、パーティクルによってオゾンガス貯蔵容器1Xに充填したオゾンガスの分解が促進されるという問題がある。
However, in the
これに対し、溶接部10xの容器内側に間隙12が形成されないようにするため、図7に示すように、突き合わせ裏波溶接することが考えられる。
On the other hand, in order to prevent the
しかしながら、ステンレス材を突き合わせ裏波溶接すると、裏波部13には不動態膜が形成されないという問題が生じる。そのため、突き合わせ裏波溶接により形成した容器は、オゾンガス貯蔵容器として使用することができない。
However, when a stainless steel material is butt-welded and back-surface welded, there is a problem that a passive film is not formed on the back-
さらに、従来のステンレス製のオゾンガス貯蔵容器1Xは重量が重く、運搬や設置などにおいて取り扱い難い。 Furthermore, the conventional stainless steel ozone gas storage container 1X is heavy and difficult to handle during transportation and installation.
これらの問題に対し、本発明は、オゾンガス等の腐食性物質の貯蔵に好適な貯蔵容器であって、溶接時に生じるパーティクルが容器内に溜まらず、時間とコストがかかる不動態膜の形成工程を省略することができ、軽量化も図ることのできる新たな貯蔵容器の提供を課題とする。 In response to these problems, the present invention is a storage container suitable for storing corrosive substances such as ozone gas, and particles formed during welding do not accumulate in the container, and the process of forming a passive film, which takes time and cost, is performed. It is an object of the present invention to provide a new storage container that can be omitted and can be reduced in weight.
本発明者は、貯蔵容器の少なくとも内側の面材をチタン製にすると、胴部と天板との溶接や胴部と底板との溶接を突き合わせ裏波溶接にしても、裏波部に緻密な不動態膜が形成されること、しかもこの不動態膜は常温における空気酸化により瞬時に形成でき、また、半導体デバイスの製造ラインでは、該製造ラインで使用する数vol%のオゾンガスを作用させるたけで瞬時に不動態膜を形成できるため、不動態膜の形成工程を別途設けることが不要であることを見出し、本発明を想到した。 The inventor makes the surface material on at least the inner side of the storage container made of titanium. Even if the welding of the body and the top plate or the welding of the body and the bottom plate is butt-welded, the back surface is dense. A passive film is formed, and this passive film can be instantly formed by air oxidation at room temperature. Also, in the semiconductor device production line, only a few vol% ozone gas used in the production line is allowed to act. Since the passive film can be formed instantaneously, it has been found that it is not necessary to separately provide a passivating film forming step, and the present invention has been conceived.
即ち、本発明は、筒形の胴部の一端に天板を有し、他端に底板を有する貯蔵容器であって、少なくとも貯蔵容器内面がチタンで形成されており、天板と底板がそれぞれ胴部とが突き合わせ裏波溶接されている貯蔵容器を提供する。 That is, the present invention is a storage container having a top plate at one end of a cylindrical body and a bottom plate at the other end, at least the inner surface of the storage container is formed of titanium, and the top plate and the bottom plate are respectively Provided is a storage container in which a body portion is butt-back welded.
また、本発明は、上述の貯蔵容器の製造方法として、筒形の胴部の一端に天板を有し、他端に底板を有する貯蔵容器の製造方法であって、
少なくとも貯蔵容器内面となる表面がチタンで形成された、筒形の胴部、外周部に立ち上がり部を有する天板、及び外周部に立ち上がり部を有する底板の、該貯蔵容器内面となる表面を研磨する研磨工程、
天板に、少なくとも内面がチタン製のパイプを挿し、該パイプと天板を溶接する工程、
胴部と底板、及び胴部と天板を、それぞれ突き合わせ裏波溶接する工程
を有する貯蔵容器の製造方法を提供する。
Further, the present invention is a method for manufacturing a storage container having a top plate at one end of a cylindrical body and a bottom plate at the other end as a method for manufacturing the above storage container,
Polishing the inner surface of the storage container of at least the cylindrical body, the top plate having the rising portion on the outer peripheral portion, and the bottom plate having the rising portion on the outer peripheral portion. Polishing process,
Inserting a pipe made of titanium at least on the inner surface of the top plate and welding the pipe and the top plate;
Provided is a method of manufacturing a storage container, which includes a step of butt-welding and back welding a body part and a bottom plate, and a body part and a top plate.
本発明の貯蔵容器は、その内面がチタン製であるため、ステンレスに不動態膜を形成する場合のように高濃度のオゾンガスを長時間作用させるという不動態膜形成工程を設けなくても、表面に不動態膜が形成される。よって、貯蔵容器の生産性を高め、製造コストを低下させることができる。 Since the inner surface of the storage container of the present invention is made of titanium, the surface can be formed without providing a passive film forming step of allowing high concentration ozone gas to act for a long time as in the case of forming a passive film on stainless steel. A passive film is formed. Therefore, productivity of a storage container can be improved and manufacturing cost can be reduced.
また、不動態膜は、ステンレス材を突き合わせ裏波溶接した場合の裏波部には形成されないのに対し、チタン材を突き合わせ裏波溶接した場合の裏波部には驚くべき事に容易に形成される。したがって、貯蔵容器を、少なくとも内面がチタンで形成された筒形の胴部と天板と底板から形成し、その内面を不動態膜で覆う場合に、これら天板、胴部、及び底板を突き合わせ裏波溶接することが可能となり、嵌め込み溶接することが不要となる。このため、本発明の貯蔵容器によれば、嵌め込み溶接を行った場合に生じるパーティクルや周囲の環境から容器内に付着したパーティクルの残留の問題が解消される。よって、貯蔵容器内にパーティクルが存在することで容易に分解するオゾンガスを本発明の貯蔵容器に貯蔵した場合、貯蔵している間の分解によるオゾンガス濃度の低減を抑えることができ、本発明はオゾンガスの貯蔵容器として適したものとなる。 In addition, the passive film is not formed on the back wave part when stainless steel is butt-back welded, whereas it is surprisingly easy to form on the back wave part when titanium material is butt-back welded. Is done. Therefore, when the storage container is formed from a cylindrical body, top plate, and bottom plate, the inner surface of which is made of titanium, and the inner surface is covered with a passive film, the top plate, the body, and the bottom plate are butted together. Back wave welding is possible, and it is not necessary to fit and weld. For this reason, according to the storage container of this invention, the problem of the residual of the particle which adheres in the container from the surroundings and the particle | grains produced when fitting welding is performed is eliminated. Therefore, when ozone gas that easily decomposes due to the presence of particles in the storage container is stored in the storage container of the present invention, it is possible to suppress a decrease in ozone gas concentration due to decomposition during storage. It is suitable as a storage container.
さらに、チタンの不動態膜は緻密で強固であるため、本発明の貯蔵容器は、硫化水素、亜硫酸ガス、湿潤塩素ガス等の種々の腐食性ガス、腐食性液体などの腐食性物質の貯蔵容器としても使用することができる。 Further, since the passive film of titanium is dense and strong, the storage container of the present invention is a storage container for corrosive substances such as various corrosive gases such as hydrogen sulfide, sulfurous acid gas and wet chlorine gas, and corrosive liquids. Can also be used.
また、本発明の貯蔵容器は少なくも内面がチタン製であるため、ステンレス製の容器に対して重量を軽量化することができ、特に貯蔵容器全体を純チタンから形成した場合には、その重量が60%程度に軽量化される。よって、運搬や設置が容易となる。 Further, since the storage container of the present invention is made of titanium at least on the inner surface, the weight can be reduced with respect to the stainless steel container. In particular, when the entire storage container is made of pure titanium, the weight is reduced. Is reduced to about 60%. Therefore, transportation and installation become easy.
以下、図面を参照しつつ本発明を具体的に説明する。なお、各図中、同一符号は同一又は同等の構成要素を表している。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to the drawings. In each figure, the same numerals indicate the same or equivalent components.
図1Aは、本発明の一実施例のチタン製の貯蔵容器1の斜視図であり、図1BはそのA−A断面図である。この貯蔵容器1は、筒形の胴部2の一端に天板3を有し、他端に底板5を有している。これらは全てチタンで形成されている。より具体的には、純チタン材から形成されており、例えば第2種のチタン材が好ましい。
FIG. 1A is a perspective view of a
なお、本発明の貯蔵容器は、少なくともその内面がチタンで形成されていればよく、貯蔵容器全体がチタンで形成されていなくてもよい。したがって、例えば、胴部、天板及び底板を、ステンレス、アルミニウム等の金属とチタンとの2層以上のクラッド材から形成してもよい。貯蔵容器全体をチタンで形成すると、クラッド材を使用する場合に比して貯蔵容器を軽量化することができる。一方、チタンとステンレスとのクラッド材を使用すると貯蔵容器全体をチタンで形成した場合に比して強度を高め、材料コストを低下させることが可能となり、チタンとアルミニウムとのクラッド材を使用すると軽量化することが可能となる。 In addition, the storage container of this invention should just be the inner surface being formed with titanium at least, and the whole storage container does not need to be formed with titanium. Therefore, for example, the body portion, the top plate, and the bottom plate may be formed of a clad material having two or more layers of metal such as stainless steel or aluminum and titanium. When the entire storage container is formed of titanium, the storage container can be reduced in weight compared to the case where a clad material is used. On the other hand, using titanium and stainless clad material increases the strength and reduces the material cost compared to the case where the entire storage container is made of titanium, while using titanium and aluminum clad material makes it lighter. Can be realized.
胴部2は板厚t2が0.1〜20mmの円筒状とすることができ、天板3と底板5は、それぞれ概略円盤状であり、中央部の板厚を0.1〜30mmとすることができる。天板3と底板5はそれぞれ外周部に立ち上がり部4、6を有する。天板3の立ち上がり部4の壁厚t4と、底板5の立ち上がり部6の壁厚t6は、それぞれ胴部2の壁厚t2に等しく、天板3の立ち上がり部4と胴部2とが突き合わせ裏波溶接され、底板5の立ち上がり部6と胴部2も突き合わせ裏波溶接されており、これらの溶接部10の貯蔵容器内側には裏波部13が形成されている。したがって、貯蔵容器1の内側には、胴部2と天板3、又は胴部2と底板5を嵌め込み溶接した場合に形成される間隙12(図6)が存在せず、溶接時に発生するパーティクルが溜まりにくい構造となっている。
The
また、天板3の角隅部3a(立ち上がり部4の基部)と、底板5の角隅部5a(立ち上がり部6の基部)には、貯蔵容器1の内面にパーティクルが溜まらないようにするため、それぞれ丸みを付けることが好ましい。
Further, in order to prevent particles from collecting on the inner surface of the
なお、図2に示すように、天板3に立ち上がり部4を形成せず、平板状の天板3と胴部2を突き合わせ裏波溶接することもできるが、天板3と胴部2で形成される角隅部に丸みを持たせることが困難である。そのため、天板3に立ち上がり部4を設け、立ち上がり部4と胴部2を突き合わせ裏波溶接することが好ましい。底板5と胴部2の溶接も同様である。
In addition, as shown in FIG. 2, the rising plate 4 is not formed on the
一方、天板3には、貯蔵物の流入口としてチタン製パイプ7が溶接され、貯蔵物の流出口としてチタン製パイプ8が溶接されている。なお、本発明では、これらのパイプも少なくともその内面がチタンで形成されていればよい。
On the other hand, a
パイプ7、8は、それらの先端側から溶接されており、これらの溶接部10bの貯蔵容器内側にはビード11が形成されている。なお、溶接部10bの貯蔵容器外側には間隙14が存在するが、この間隙14は貯蔵容器1の外側であるため、貯蔵容器1内の貯蔵物に対してパーティクルの混入原因にはならない。
The
また、本発明において、天板3とパイプ7、8との溶接では、図3に示すように、貯蔵容器内側及と外側の双方にビード11が形成されるように、天板3の表裏両側から天板3とパイプ7、8とを隅肉溶接してもよいが、溶接強度の点からは天板3の片側にビードが形成されるようにすれば足り、貯蔵容器1の内面にパーティクルが溜まらないようにする点から、図1Bに示したように貯蔵容器内側にビード11が形成されるように溶接することが好ましい。
Further, in the present invention, when the
一方、胴部2と天板3、胴部2と底板5、天板3とパイプ7、8の溶接には後述するように純チタンからなる溶接棒が使用される。したがって、本実施例の貯蔵容器1では、胴部2、天板3、底板5、流入口用のパイプ7、流出口用のパイプ8、これらの溶接部10、10bの全てがチタンで形成されている。
On the other hand, a welding rod made of pure titanium is used for welding the
さらに、貯蔵容器1の内面の表面粗さ(Ra)は、好ましくは0.14μm以下と平滑である。なお、表面粗さ(Ra)は市販の表面粗さ測定器(例えば、サーフテストSJ−201シリーズ、株式会社ミツトヨ)により測定することができる。
Furthermore, the surface roughness (Ra) of the inner surface of the
このように本発明の貯蔵容器によれば、内面全面がチタンで平滑に形成されているので、この貯蔵容器を常温の空気下におくことにより、また半導体デバイスの製造ラインにおいて、オゾン発生器で製造した数vol%のオゾンガスを作用させることにより、瞬時に内面全面に緻密な不動態膜が形成される。また、仮に外部衝撃等により内面の不動態膜が損傷を受けても、損傷した不動態膜は、容器内部にオゾンガスを導入することにより瞬時に自己再生する。したがって、この貯蔵容器1をオゾンガス貯蔵容器として使用した場合、従来のステンレス製のオゾンガス貯蔵容器に比べると、充填したオゾンガスの濃度が容器内部の不動態膜の損傷により保管中に大きく低減するという事態が起こらず、また、保管中のオゾンガス濃度の低減割合も抑えることができる。よって、本発明の貯蔵容器は、半導体デバイスの製造ラインなどにおいて好適に使用することができる。
As described above, according to the storage container of the present invention, since the entire inner surface is formed of titanium smoothly, by placing the storage container in air at room temperature, or in the production line of semiconductor devices, an ozone generator By applying the produced ozone gas of several vol%, a dense passive film is instantaneously formed on the entire inner surface. Further, even if the inner passive film is damaged by an external impact or the like, the damaged passive film is instantly regenerated by introducing ozone gas into the container. Therefore, when this
実施例の貯蔵容器1は次のようにして製造することができる。
まず、筒形の胴部2、外周部に立ち上がり部4を有する天板3、及び外周部に立ち上がり部6を有する底板5を純チタン材、好ましくは第2種チタン材から形成する機械加工を行う。この場合、天板3及び底板5には切削加工によって立ち上がり部4、6や角隅部3a、5aの丸みを形成することが好ましい。なお、胴部2、天板3及び底板5を絞り加工や鋳造等で成形することもできるが、コストを抑える点から切削加工が好ましい。また、純チタン材で形成された鏡板を使用してもよい。
The
First, machining is performed to form a
次に、胴部2、天板3及び底板5の研磨工程を行う。この研磨工程では、貯蔵容器の少なくとも内側となる表面を粗さ(Ra)0.14μm以下の鏡面に仕上げることが好ましい。そのため研磨方法としては、例えば、まず貯蔵容器の少なくとも内側となる表面をバフ研磨し、次に化学研磨又は電解研磨を行うことが好ましい。バフ研磨では、#400番のバフを使用し、化学研磨では硫酸、硝酸及びフッ化水素酸の混合液(例えば、エスクリーンS−22、佐々木化学薬品株式会社)等を使用し、その濃度、温度等に応じて数秒〜十数秒浸漬処理することが好ましい。
Next, the grinding | polishing process of the trunk |
次に、天板3のチタン製パイプ7、8を挿し、これらのパイプ7、8と天板3とを溶接する。この溶接では、天板3にパイプ7、8の先端を挿し、そのパイプ7、8の先端側から天板3とパイプ7、8を隅肉溶接することが好ましい。また、溶接方法としては、純チタンからなる溶接棒を使用してアーク溶接することが好ましく、より具体的にはシールドガスとして不活性ガスを使用するTig溶接を行うことが好ましい。
Next, the
次にパイプ7、8を溶接した天板3の立ち上がり部4と胴部2を突き合わせ裏波溶接すると共に、底板5の立ち上がり部6を突き合わせ裏波溶接する。この場合の溶接方法も、純チタンからなる溶接棒を使用してTig溶接等のアーク溶接を行うことが好ましい。
Next, the rising portion 4 and the
こうして天板3、胴部2、底板5及びパイプ7、8を溶接により貯蔵容器に組み立てた後、洗浄工程、乾燥工程、及び検査工程を順次行うことが好ましい。
Thus, after assembling the
洗浄工程では、例えば、貯蔵容器にRO水を満たし、超音波19.5kHz〜3MHzを5〜180分間かける超音波洗浄を行う。 In the cleaning step, for example, the storage container is filled with RO water, and ultrasonic cleaning is performed by applying ultrasonic waves of 19.5 kHz to 3 MHz for 5 to 180 minutes.
乾燥工程では、例えば、貯蔵容器の容量が50Lの場合、まず、オーブン乾燥(常圧、常温〜100℃、1〜24時間)を行い、次に、真空ポンプを用いて真空乾燥(温度:常温〜100℃、圧力:10-4Pa以下、1〜24時間)行い、次に、窒素ガス(酸素含有量10ppb未満、水含有量120ppb未満)を流す窒素ブロー乾燥(流量1〜5L/分、1〜24時間)を行う。
In the drying process, for example, when the capacity of the storage container is 50 L, first, oven drying (normal pressure, normal temperature to 100 ° C., 1 to 24 hours) is performed, and then vacuum drying (temperature: normal temperature) using a vacuum pump. ~ 100 ° C, pressure: 10 -4 Pa or less, 1 to 24 hours), then nitrogen blow drying (flow
こうして、パーティクルや金属汚染がなく、清浄度が向上した貯蔵容器を得ることができ、この貯蔵容器にオゾンガスを貯蔵した場合のオゾンガス濃度の減衰量は、従前のステンレス製のオゾンガス貯蔵容器よりも少なくなる。 Thus, it is possible to obtain a storage container having no particle or metal contamination and having improved cleanliness. When ozone gas is stored in this storage container, the attenuation amount of the ozone gas concentration is less than that of a conventional stainless steel ozone gas storage container. Become.
本発明の貯蔵容器が、オゾンガスの貯蔵性能に優れていることを確認するため、次のようにオゾンガス濃度の減衰試験を行った。 In order to confirm that the storage container of the present invention is excellent in ozone gas storage performance, an ozone gas concentration attenuation test was performed as follows.
即ち、図4に示すように、水の電気分解によりオゾンを発生させるオゾン発生器20を、貯蔵容器1(容積50L)のパイプ7にバルブを介して接続し、紫外線吸収法でオゾン濃度を測定するオゾンガス濃度計21(荏原実業株式会社、PG−620シリーズ)を貯蔵容器1のパイプ8にバルブを介して接続した。
That is, as shown in FIG. 4, an
オゾン発生器20に超純水を供給してオゾン含有ガスを発生させた。オゾン発生器20から発生したオゾン含有ガスのガス濃度を測定したところ、オゾン215g/Nm3(オゾン10vol%、窒素90vol%)であった。
Ultra pure water was supplied to the
オゾン発生器20で発生させたオゾン含有ガスを貯蔵容器1に74時間通気して該容器内の空気をオゾンガスで置換し、通気74時間経過後に貯蔵容器1から排出されたオゾン含有ガスの濃度をオゾンガス濃度計21で測定した。このとき、オゾン濃度は214g/Nm3であった。
The ozone-containing gas generated by the
次に、オゾン発生器20から供給されるオゾン含有ガスを貯蔵容器1に封入して常温で16時間保持した。16時間の保持後に貯蔵容器1からオゾン含有ガスを排出させ、排出させたガス中のオゾン濃度をオゾンガス濃度計21で測定した。このとき、オゾン濃度は04g/Nm3であった。
Next, the ozone-containing gas supplied from the
こうして測定されたオゾン濃度と時間の関係を図5に示す。図5から、本発明の貯蔵容器1で16時間保持しても、オゾン含有ガス中のオゾン濃度は容器内のガス全体に対して0.47vol%しか低減していないことがわかる。
FIG. 5 shows the relationship between the ozone concentration thus measured and time. From FIG. 5, it can be seen that the ozone concentration in the ozone-containing gas is reduced only by 0.47 vol% with respect to the entire gas in the container even when held in the
また、本発明の貯蔵容器内に、溶接時に形成されるパーティクルが残存していないことを確認するため、貯蔵容器に通した窒素ガス1CF(キュービックフィート)中のパーティクルをパーティクルカウンタで計測した。より具体的には、貯蔵容器に清浄な窒素ガスを送り、貯蔵容器から排出されたガス1CFに含まれる粒径0.1μm以上のパーティクルをパーティクルカウンタ(PMS社、HPGP−101)で計測した。この計測は3回繰り返したが、粒径0.1μm以上のパーティクルは検出されなかった。 Further, in order to confirm that particles formed during welding did not remain in the storage container of the present invention, particles in nitrogen gas 1CF (cubic feet) passed through the storage container were measured with a particle counter. More specifically, clean nitrogen gas was sent to the storage container, and particles having a particle diameter of 0.1 μm or more contained in the gas 1CF discharged from the storage container were measured with a particle counter (PMS, HPGP-101). This measurement was repeated three times, but no particles having a particle size of 0.1 μm or more were detected.
1X 従来のオゾンガス貯蔵容器
1 実施例の貯蔵容器
2 胴部
3 天板
3a 天板の角隅部
4 立ち上がり部
5 底板
5a 底板の角隅部
6 立ち上がり部
7 パイプ(ガス流入口)
8 パイプ(ガス流出口)
10、10b 溶接部
11 ビード
12 間隙
13 裏波部
14 間隙
20 オゾン発生器
21 オゾンガス濃度計
t2、t4、t5 板厚
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1X Conventional ozone
8 Pipe (gas outlet)
10, 10b Welded
Claims (10)
少なくとも貯蔵容器内面となる表面がチタンで形成された、筒形の胴部、外周部に立ち上がり部を有する天板、及び外周部に立ち上がり部を有する底板の、該貯蔵容器内面となる表面を研磨する研磨工程、
天板に、少なくとも内面がチタン製のパイプを挿し、該パイプと天板を溶接する工程、
胴部と底板、及び胴部と天板を、それぞれ突き合わせ裏波溶接する工程
を有する貯蔵容器の製造方法。 A method of manufacturing a storage container having a top plate at one end of a cylindrical body and a bottom plate at the other end,
Polishing the inner surface of the storage container of at least the cylindrical body, the top plate having the rising portion on the outer peripheral portion, and the bottom plate having the rising portion on the outer peripheral portion. Polishing process,
Inserting a pipe made of titanium at least on the inner surface of the top plate and welding the pipe and the top plate;
The manufacturing method of the storage container which has the process of butt-butting and welding a trunk | drum and a baseplate and a trunk | drum and a top plate, respectively.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016177521A JP6330872B2 (en) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | Storage container |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016177521A JP6330872B2 (en) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | Storage container |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018083663A Division JP6729628B2 (en) | 2018-04-25 | 2018-04-25 | Storage container |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018044560A JP2018044560A (en) | 2018-03-22 |
| JP6330872B2 true JP6330872B2 (en) | 2018-05-30 |
Family
ID=61694604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016177521A Active JP6330872B2 (en) | 2016-09-12 | 2016-09-12 | Storage container |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6330872B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117189869B (en) * | 2023-11-02 | 2024-02-20 | 山东豪迈机械制造有限公司 | Bend pipe component of pressure vessel and pressure vessel |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007182927A (en) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Adeka Corp | Fluid container with valve |
| JP6381121B2 (en) * | 2014-10-23 | 2018-08-29 | 昭和電工株式会社 | High pressure gas container |
-
2016
- 2016-09-12 JP JP2016177521A patent/JP6330872B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2018044560A (en) | 2018-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6663498B2 (en) | Treatment liquid and substrate cleaning method | |
| JP6914918B2 (en) | Material, storage container using this material, valve attached to this storage container, ClF storage method, ClF storage container usage method | |
| JP6330872B2 (en) | Storage container | |
| JP3045576B2 (en) | Method of forming passive film on stainless steel and stainless steel | |
| JP2009094509A (en) | Cleaning method of silicon wafer | |
| WO2019044871A1 (en) | Drug solution purification method | |
| JP6729628B2 (en) | Storage container | |
| KR20020027301A (en) | Semiconductor wafer treatment | |
| TW201330092A (en) | System including a gas supply tube for coating and a method for applying a coating | |
| JPH0760446A (en) | Welding method, welding apparatus, and process apparatus for forming a chromium oxide passivation film on a weld | |
| CN110732753A (en) | Welding process for manufacturing inner container of low-temperature liquid storage tanks | |
| JPH0285358A (en) | pressure reducing device | |
| JP2976333B2 (en) | Stainless steel, its manufacturing method and pressure reducing device | |
| JP6381121B2 (en) | High pressure gas container | |
| WO1994015749A1 (en) | Welding method and welded structure for forming passivated chromium oxide film on weld | |
| JP2005154888A (en) | Method for manufacturing carried type palladium film used for purifying high-purity hydrogen gas | |
| JP7068483B2 (en) | Chemical solution | |
| JPH07323374A (en) | Material to be welded for butt welding and its cutting method as well as welding method and wire | |
| JP5097331B2 (en) | Surface treatment method | |
| KR101309980B1 (en) | Chemical treatment method to improve the corrosion resistance highly-alloyed duplex stainless steel welds | |
| JP2678754B2 (en) | Manufacturing method of stainless steel manifold for supplying high purity gas | |
| JP3037928B2 (en) | Stainless steel, its manufacturing method and pressure reducing device | |
| JP7482448B1 (en) | Manufacturing method of welded stainless steel coated with hydrogen barrier film | |
| KR102410400B1 (en) | Manufacturing Method of Aluminum Gas Line | |
| JP2006522226A (en) | Method for reducing degradation of reactive compounds during transport |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180327 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180409 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6330872 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |