Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6368407B2 - Chip peeling apparatus and chip peeling method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6368407B2 - Chip peeling apparatus and chip peeling method - Google Patents

Chip peeling apparatus and chip peeling method Download PDF

Info

Publication number
JP6368407B2
JP6368407B2 JP2017148663A JP2017148663A JP6368407B2 JP 6368407 B2 JP6368407 B2 JP 6368407B2 JP 2017148663 A JP2017148663 A JP 2017148663A JP 2017148663 A JP2017148663 A JP 2017148663A JP 6368407 B2 JP6368407 B2 JP 6368407B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
needle
semiconductor chip
holder
sheet
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017148663A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018026554A (en
Inventor
浩司 船越
浩司 船越
桂 堀口
桂 堀口
高田 勉
勉 高田
Original Assignee
日本ファインテック株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本ファインテック株式会社 filed Critical 日本ファインテック株式会社
Publication of JP2018026554A publication Critical patent/JP2018026554A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6368407B2 publication Critical patent/JP6368407B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、チップ剥離装置及びチップ剥離方法に関する。   The present invention relates to a chip peeling apparatus and a chip peeling method.

特許文献1には、チップ剥離装置が記載されている。このチップ剥離装置は、ダイシングされた半導体チップが貼り付けられたシートの、半導体チップの周囲に取り付けられるシート支持具と、シートに対して半導体チップがある側を表側とし、半導体チップがない側を裏側とするとき、半導体チップに対して表側に配置される吸着コレットを有し、吸着コレットを半導体チップに対して進退させるコレット進退機構と、半導体チップに対して裏側に配置されるニードルを有し、ニードルを半導体チップに対して進退させるニードル進退機構と、半導体チップに対して裏側に配置される、ニードルを収納するホルダーであって、半導体チップと対向する面にニードルが通過可能な開口が形成されたホルダーを有し、ホルダーを半導体チップに対して進退させるホルダー進退機構と、を備えている。
コレット進退機構、ニードル進退機構及びホルダー進退機構は、ニードルをホルダーに収納したまま、吸着コレットとホルダーとで半導体チップを挟み、その後、ニードルの位置を維持したまま、ホルダーを半導体チップから遠ざける。
Patent Document 1 describes a chip peeling device. This chip peeling apparatus includes a sheet support attached to the periphery of a semiconductor chip and a side having the semiconductor chip with respect to the sheet as a front side, and a side without the semiconductor chip as a front side. When the back side is used, it has a suction collet arranged on the front side with respect to the semiconductor chip, a collet advance / retreat mechanism for moving the suction collet back and forth with respect to the semiconductor chip, and a needle arranged on the back side with respect to the semiconductor chip , A needle advancement / retraction mechanism for moving the needle forward / backward with respect to the semiconductor chip, and a holder for housing the needle, which is disposed on the back side of the semiconductor chip, and an opening through which the needle can pass is formed on the surface facing the semiconductor chip A holder advancing / retracting mechanism for moving the holder back and forth with respect to the semiconductor chip.
The collet advance / retreat mechanism, the needle advance / retreat mechanism, and the holder advance / retreat mechanism sandwich the semiconductor chip between the suction collet and the holder while the needle is housed in the holder, and then move the holder away from the semiconductor chip while maintaining the position of the needle.

実用新案登録第3187638号公報Utility Model Registration No. 3187638

ここで一般に、チップ剥離装置においては、半導体チップをシートから剥離する際に、半導体チップの裏面を先端の細いニードルで突き上げたり受けとめたりするため、半導体チップに衝撃力が加わり、損傷する場合がある。
本発明は、半導体チップに与える衝撃力を抑制し、半導体チップが損傷する可能性を低減できるチップ剥離装置及びチップ剥離方法を提供することを目的とする。
Here, in general, in the chip peeling apparatus, when the semiconductor chip is peeled from the sheet, the back surface of the semiconductor chip is pushed up or received by a thin needle at the tip, so that an impact force may be applied to the semiconductor chip and may be damaged. .
An object of the present invention is to provide a chip peeling apparatus and a chip peeling method capable of suppressing the impact force applied to a semiconductor chip and reducing the possibility of damage to the semiconductor chip.

前記目的に沿う第1の発明に係るチップ剥離装置は、シートに貼付された半導体チップを吸着する吸着コレットと、
前記吸着コレットを進退させる吸着コレット進退機構と、
前記シートを吸着する先端面に、該先端面の側からみて前記半導体チップよりも大きい窪みが形成され、該窪みの周囲に前記シートを吸着するための吸着孔が設けられたホルダと、
前記ホルダを進退させるホルダ進退機構と、
前記ホルダに収納され、前記シートに貼付された前記半導体チップを押し出すニードルと、
前記ニードルを進退させるニードル進退機構と、を備え、
前記ニードル進退機構が、前記ニードルが前記半導体チップに与える衝撃を抑制する押出部材緩衝部を有し、
前記ホルダ進退機構が、前記ホルダが前記半導体チップに与える衝撃を抑制するホルダ緩衝部を有し、
前記吸着コレット進退機構が、前記吸着コレットが前記半導体チップに与える衝撃を抑制する吸着コレット緩衝部を有する
A chip peeling apparatus according to the first invention that meets the above-mentioned object is an adsorption collet that adsorbs a semiconductor chip attached to a sheet;
An adsorption collet advance / retreat mechanism for advancing and retracting the adsorption collet;
A holder provided with a suction hole for sucking the sheet around the recess, in which a recess larger than the semiconductor chip as viewed from the tip surface side is formed on the tip surface that sucks the sheet ;
A holder advancing and retracting mechanism for advancing and retracting the holder;
A needle that is housed in the holder and pushes out the semiconductor chip attached to the sheet;
And a needle reciprocating mechanism for advancing and retracting the needle,
The needle reciprocating mechanism, the needle have a pusher member buffer portion suppresses a shock given to the semiconductor chip,
The holder advancing / retreating mechanism has a holder buffer portion for suppressing an impact of the holder on the semiconductor chip;
The suction collet advancing / retreating mechanism has a suction collet buffering part that suppresses an impact of the suction collet on the semiconductor chip .

第1の発明に係るチップ剥離装置において、
前記吸着コレット進退機構、前記ホルダ進退機構、及び前記ニードル進退機構を制御する制御部を更に備え、
前記制御部が、前記吸着コレットを前記半導体チップに接触させ、該前記シート前記窪みの内側に向かって撓むステップと、撓んだ該シートに前記ニードルを接触させるステップと、前記ホルダを後退させ、前記ニードルにて前記半導体チップを前記シートから押し出すステップと、を実行することが好ましい。
In the chip peeling apparatus according to the first invention,
A control unit for controlling the suction collet advance / retreat mechanism, the holder advance / retreat mechanism, and the needle advance / retreat mechanism;
Retracting the control section, the suction collet into contact with the semiconductor chip, and the flexures no step said said sheet towards the inside of the recess above, a step of causing contact the needle to the seat deflected, the holder And extruding the semiconductor chip from the sheet with the needle .

前記目的に沿う第2の発明に係るチップ剥離方法は、第1の発明に係るチップ剥離装置を用いたチップ剥離方法であって、
前記吸着コレットに前記半導体チップを接触させることによって前記シート前記窪みの内側に向かって撓み、撓んだ該シートに前記ニードルを接触させ、該ニードルにて前記半導体チップを前記シートから押し出し、前記半導体チップを剥離させる。
A chip peeling method according to a second invention that meets the above object is a chip peeling method using the chip peeling apparatus according to the first invention,
I said I flexures the sheet towards the inside of the recess the by contacting the semiconductor chip to the suction collet is brought into contact with the needle to the seat deflected, extruding the semiconductor chip from the sheet with the needle, The semiconductor chip is peeled off.

前記目的に沿う第3の発明に係るチップ剥離方法は、第1の発明に係るチップ剥離装置を用いたチップ剥離方法であって、
前記吸着コレットが前記半導体チップに接触し、該シート前記窪みの内側に向かって撓むステップと、
んだ前記シートに前記ニードルが接触するステップと、
前記ニードルが静止した状態で前記シートを吸着している前記ホルダが後退し、前記ニードルが前記半導体チップを前記シートから押し出し、前記半導体チップ剥離するステップと、を含む。
A chip peeling method according to a third invention that meets the above-mentioned object is a chip peeling method using the chip peeling device according to the first invention,
The contact adsorption collet on the semiconductor chip, and the flexures no step the sheet toward the inside of the recess above,
And a step in which the needle is in contact with wrinkles do it the seat,
The holder which adsorbs the sheet in a state in which the needle is stationary is retracted, the needle extruding said semiconductor chip from the sheet, including the steps of the semiconductor chip is peeled.

前記目的に沿う第4の発明に係るチップ剥離装置は、シートに貼付された半導体チップを吸着する吸着コレットと、
前記吸着コレットを進退させる吸着コレット進退機構と、
前記シートを吸着する先端面に、該先端面側からみて前記半導体チップよりも大きい窪みが形成され、該窪みの周囲に前記シートを吸着するための吸着孔が設けられたホルダと、
前記ホルダを進退させるホルダ進退機構と、
前記ホルダに収納され、前記シートに貼付された前記半導体チップを押し出すニードルと、
前記ニードルを進退させるニードル進退機構と、を備える。
A chip peeling apparatus according to a fourth invention that meets the above-mentioned object is an adsorption collet that adsorbs a semiconductor chip attached to a sheet;
An adsorption collet advance / retreat mechanism for advancing and retracting the adsorption collet;
A holder provided with a suction hole for sucking the sheet around the recess, in which a recess larger than the semiconductor chip as viewed from the tip surface side is formed on the tip surface that sucks the sheet ;
A holder advancing and retracting mechanism for advancing and retracting the holder;
A needle that is housed in the holder and pushes out the semiconductor chip attached to the sheet;
And a needle reciprocating mechanism for advancing and retracting the needle.

本発明によれば、半導体チップに与える衝撃力を抑制し、半導体チップが損傷する可能性を低減できるチップ剥離装置及びチップ剥離方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the chip | tip peeling apparatus and chip | tip peeling method which can suppress the impact force given to a semiconductor chip and can reduce the possibility that a semiconductor chip will be damaged can be provided.

本発明の第1の実施の形態に係るチップ剥離装置の構成を模式的に示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the structure of the chip | tip peeling apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 同チップ剥離装置が備える制御部が生成する、吸着コレット、ホルダ、及びニードルの位置指令を示すグラフである。It is a graph which shows the position command of a suction collet, a holder, and a needle which a control part with which the chip exfoliation device is provided. (A)〜(E)は、同チップ剥離装置が半導体チップを剥離する動作を示す説明図である。(A)-(E) is explanatory drawing which shows the operation | movement in which the chip | tip peeling apparatus peels a semiconductor chip. (A)、(B)は、同チップ剥離装置が半導体チップを剥離する動作を複数回繰り返した際に半導体チップに加わる衝撃力の波形を示すグラフであって、それぞれ、ホルダに窪みが形成されていない場合及び形成されている場合における衝撃力を示すグラフである。(A) and (B) are graphs showing a waveform of an impact force applied to a semiconductor chip when the chip peeling apparatus repeats the operation of peeling the semiconductor chip a plurality of times, each having a recess formed in the holder. It is a graph which shows the impact force in the case where it is not formed and the case where it is formed. (A)〜(E)は、本発明の第2の実施の形態に係るチップ剥離装置が半導体チップを剥離する動作を示す説明図である。(A)-(E) are explanatory drawings which show the operation | movement which the chip peeling apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention peels a semiconductor chip.

続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。なお、図において、説明に関連しない部分は図示を省略する場合がある。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings for understanding of the present invention. It should be noted that in the drawing, illustration of parts not related to the description may be omitted.

〔第1の実施の形態〕
本発明の第1の実施の形態に係るチップ剥離装置10(図1参照)は、ダイシングされた複数の半導体チップCが貼付されたシートSTから所定の半導体チップCを剥離できる。シートSTの厚みは、例えば0.1mmである。半導体チップCは直方体状であり、その長さ及び幅は、それぞれ例えば0.6mm及び0.3mmである。
チップ剥離装置10は、シート支持具(不図示)、吸着コレット20、吸着コレット進退機構22、ホルダ30、ホルダ進退機構32、ニードル40、ニードル進退機構42、及び制御部50を備えている。
[First Embodiment]
The chip peeling apparatus 10 (see FIG. 1) according to the first embodiment of the present invention can peel a predetermined semiconductor chip C from a sheet ST on which a plurality of diced semiconductor chips C are attached. The thickness of the sheet ST is, for example, 0.1 mm. The semiconductor chip C has a rectangular parallelepiped shape, and its length and width are, for example, 0.6 mm and 0.3 mm, respectively.
The chip peeling apparatus 10 includes a sheet support (not shown), a suction collet 20, a suction collet advance / retreat mechanism 22, a holder 30, a holder advance / retreat mechanism 32, a needle 40, a needle advance / retreat mechanism 42, and a control unit 50.

シート支持具は、支持したシートSTを、シートSTに貼付された複数の半導体チップCが並ぶ方向に移動させ、剥離すべき半導体チップCを吸着コレット20及びホルダ30の間に位置決めすることができる。   The sheet support can move the supported sheet ST in the direction in which the plurality of semiconductor chips C attached to the sheet ST are arranged, and can position the semiconductor chip C to be peeled between the suction collet 20 and the holder 30. .

吸着コレット20は、図1の矢印Aで示すように、一方向及びその反対方向に進退できる。吸着コレット20の先端面には、エア吸着用の吸着孔202が形成されており、シートSTに貼付された半導体チップCをエア吸着できる。   The adsorption collet 20 can advance and retreat in one direction and the opposite direction, as indicated by an arrow A in FIG. An adsorption hole 202 for air adsorption is formed in the tip surface of the adsorption collet 20, and the semiconductor chip C attached to the sheet ST can be adsorbed by air.

吸着コレット進退機構22は、吸着コレット緩衝部222及び吸着コレット20を進退させる駆動源となるサーボモータSVM2を有し、吸着コレット緩衝部222を介して吸着コレット20を半導体チップCに対して進退させることができる。
吸着コレット緩衝部222は、例えば、バネである。吸着コレット緩衝部222は、空気圧を用いた緩衝器やゴム(弾性体)であってもよい。なお、吸着コレット緩衝部222は、少なくとも弾性要素を有していればよく、更に粘性要素を有していてもよい。
従って、吸着コレット緩衝部222は、吸着コレット20が半導体チップCに与える衝撃を抑制できる。
The suction collet advance / retreat mechanism 22 has a servo motor SVM2 as a driving source for moving the suction collet buffer 222 and the suction collet 20 forward and backward, and advances and retracts the suction collet 20 with respect to the semiconductor chip C via the suction collet buffer 222. be able to.
The suction collet buffer 222 is, for example, a spring. The suction collet buffering part 222 may be a shock absorber or rubber (elastic body) using air pressure. In addition, the adsorption collet buffer part 222 should just have an elastic element at least, and may have a viscous element further.
Therefore, the suction collet buffer 222 can suppress the impact of the suction collet 20 on the semiconductor chip C.

ホルダ30は、吸着コレット20が進退する方向に進退し、その先端面にてシートSTを吸着できる。
ホルダ30には、先端面の中央部に窪み302が形成されている。
窪み302は、吸着コレット20の先端面側からみて半導体チップCと類似した形状をしている。窪み302の長さ及び幅は、それぞれ半導体チップCのサイズより大きく設定されている。ただし、窪み302の形状は、半導体チップCの形状に類似した形状でなくてもよく、例えば円形状や菱型状であってもよい。窪み302の深さは、使用するシートSTの厚み及び弾力性等のシートの機械的特性に基づいて設定される。
窪み302の周囲には、半導体チップCが貼付されたシートSTをエア吸着するための吸着孔304が複数設けられている。
なお、ホルダは基部と基部に対して着脱可能な先端部とを有する分割構造であってもよい。ホルダを分割構造とし、それぞれ寸法が異なる各種の窪みが形成された複数の先端部を予め準備することで、複数の寸法の半導体チップに対応することが容易となる。
The holder 30 advances and retreats in the direction in which the suction collet 20 advances and retreats, and the sheet ST can be sucked by the front end surface.
In the holder 30, a recess 302 is formed at the center of the tip surface.
The recess 302 has a shape similar to that of the semiconductor chip C when viewed from the front end surface side of the suction collet 20. The length and width of the recess 302 are set larger than the size of the semiconductor chip C, respectively. However, the shape of the recess 302 may not be a shape similar to the shape of the semiconductor chip C, and may be, for example, a circular shape or a diamond shape. The depth of the recess 302 is set based on the mechanical properties of the sheet such as the thickness and elasticity of the sheet ST to be used.
Around the recess 302, a plurality of suction holes 304 are provided for air suction of the sheet ST to which the semiconductor chip C is stuck .
The holder may have a divided structure having a base and a tip that can be attached to and detached from the base. By making the holder into a divided structure and preparing in advance a plurality of tip portions in which various recesses having different dimensions are formed, it becomes easy to cope with semiconductor chips having a plurality of dimensions.

ホルダ進退機構32は、ホルダ緩衝部322及びホルダ30を進退させる駆動源となるサーボモータSVM3を有し、ホルダ緩衝部322を介してホルダ30を進退させることができる。
ホルダ緩衝部322は、例えば、バネである。ホルダ緩衝部322は、空気圧を用いた緩衝器やゴム(弾性体)であってもよい。なお、ホルダ緩衝部322は、少なくとも弾性要素を有していればよく、更に粘性要素を有していてもよい。
従って、ホルダ緩衝部322は、ホルダ30が半導体チップCに与える衝撃を抑制できる。
The holder advancing / retracting mechanism 32 includes a holder buffer 322 and a servo motor SVM3 serving as a drive source for moving the holder 30 back and forth, and can move the holder 30 forward and backward via the holder buffer 322.
The holder buffer 322 is, for example, a spring. The holder buffer 322 may be a shock absorber or rubber (elastic body) using air pressure. In addition, the holder buffer part 322 should just have an elastic element at least, and may have a viscous element further.
Therefore, the holder buffer 322 can suppress the impact that the holder 30 gives to the semiconductor chip C.

ニードル(押出部材の一例)40は、先端が細く形成された丸棒状の部材である。ニードル40は、ホルダ30に設けられた窪み302の底面の中央部に形成された孔306の内部に収納されている。ニードル40は、ホルダ30が進退する方向に進退し、その先端部がシートSTを突き破ることで、シートSTに貼付された半導体チップCをシートSTの側から押し出すことができる。   The needle (an example of an extrusion member) 40 is a round bar-shaped member having a thin tip. The needle 40 is accommodated in a hole 306 formed at the center of the bottom surface of the recess 302 provided in the holder 30. The needle 40 advances and retreats in the direction in which the holder 30 advances and retreats, and the tip portion thereof breaks through the sheet ST, so that the semiconductor chip C attached to the sheet ST can be pushed out from the sheet ST side.

ニードル進退機構(押出部材進退機構の一例)42は、ニードル緩衝部422及びニードル40を進退させる駆動源となるサーボモータSVM4を有し、ニードル緩衝部(押出部材緩衝部の一例)422を介してニードル40を進退させることができる。
ニードル緩衝部422は、例えば、バネである。ニードル緩衝部422は、空気圧を用いた緩衝器やゴム(弾性体)であってもよい。なお、ニードル緩衝部422は、少なくとも弾性要素を有していればよく、更に粘性要素を有していてもよい。
従って、ニードル緩衝部422は、ニードル40が半導体チップCに与える衝撃を抑制できる。
The needle advance / retreat mechanism (an example of the push-out member advance / retreat mechanism) 42 includes a needle buffer portion 422 and a servo motor SVM4 serving as a drive source for moving the needle 40 forward and backward, and the needle buffer portion (an example of the push-out member buffer portion) 422. The needle 40 can be advanced and retracted.
The needle buffering part 422 is a spring, for example. The needle buffering part 422 may be a shock absorber or rubber (elastic body) using air pressure. In addition, the needle buffer part 422 should just have an elastic element at least, and may have a viscous element further.
Therefore, the needle buffering part 422 can suppress the impact of the needle 40 on the semiconductor chip C.

制御部50は、サーボモータSVM2、SVM3、SVM4を駆動するサーボアンプ(不図示)及びサーボアンプに接続されたコントローラ(不図示)を有し、吸着コレット進退機構22、ホルダ進退機構32、及びニードル進退機構42の動作を制御できる。
また、制御部50は、吸着コレット20及びホルダ30によるエア吸着動作を制御できる。
更に、制御部50は、シートSTに貼付された半導体チップCの撮像画像を処理する画像処理部(不図示)に接続され、この画像処理部によって得られた半導体チップCの位置情報に基づいて、シート支持具(不図示)の動作を制御できる。
The control unit 50 includes a servo amplifier (not shown) that drives the servo motors SVM2, SVM3, and SVM4, and a controller (not shown) connected to the servo amplifier. The suction collet advance / retreat mechanism 22, the holder advance / retreat mechanism 32, and the needle The operation of the advance / retreat mechanism 42 can be controlled.
Further, the control unit 50 can control the air suction operation by the suction collet 20 and the holder 30.
Further, the control unit 50 is connected to an image processing unit (not shown) that processes a captured image of the semiconductor chip C attached to the sheet ST, and based on the position information of the semiconductor chip C obtained by the image processing unit. The operation of the sheet support (not shown) can be controlled.

次に、チップ剥離装置10の動作(チップ剥離方法)について、図2及び図3に基づいて説明する。シートSTに貼付された半導体チップCは、次の工程S1〜S9に従って剥離される。
なお、前述の通り、制御部50が、吸着コレット進退機構22、ホルダ進退機構32、及びニードル進退機構42等を制御する。
Next, the operation (chip peeling method) of the chip peeling apparatus 10 will be described based on FIG. 2 and FIG. The semiconductor chip C attached to the sheet ST is peeled according to the following steps S1 to S9.
As described above, the control unit 50 controls the suction collet advance / retreat mechanism 22, the holder advance / retreat mechanism 32, the needle advance / retreat mechanism 42, and the like.

(工程S1)
シートST(図1参照)を支持したシート支持具(不図示)が、剥離すべき半導体チップCが吸着コレット20及びホルダ30の間に位置するように、シートSTを位置決めする。
次に、位置決めされたシートSTに向かってホルダ30及びニードル40が進出する。詳細には、図3(A)に示すように、ホルダ30及びニードル40が、シートSTに接触すると考えられる目標位置まで進出する。
その後、時刻t1より前の期間p0(図2参照)において、吸着コレット20、ホルダー30、及びニードルは静止した状態を維持する。
(Process S1)
A sheet support (not shown) that supports the sheet ST (see FIG. 1) positions the sheet ST so that the semiconductor chip C to be peeled is positioned between the suction collet 20 and the holder 30.
Next, the holder 30 and the needle 40 advance toward the positioned sheet ST. Specifically, as shown in FIG. 3A, the holder 30 and the needle 40 advance to a target position that is considered to contact the sheet ST.
Thereafter, in the period p0 (see FIG. 2) prior to time t1, the suction collet 20, the holder 30, and the needle remain stationary.

(工程S2)
時刻t1において、ホルダ30がシートSTをエア吸着する。また、吸着コレット20が対向する半導体チップCの方向に向かって進出を開始し、期間p1の所定の時刻にて減速する。
(Process S2)
At time t1, the holder 30 air-sucks the sheet ST. Further, the suction collet 20 starts to advance toward the facing semiconductor chip C, and decelerates at a predetermined time in the period p1.

時刻t2において、ホルダ30及びニードル40が、コレット20の方向に向かって進出を開始する。   At time t <b> 2, the holder 30 and the needle 40 start to advance toward the collet 20.

(工程S3)
時刻t3において、吸着コレット20が進出を停止する。一方、吸着コレット20が進出を停止した時刻t3以降の期間p3においても、ホルダ30及びニードル40は、吸着コレット20の方向に向かって更に進出する。すなわち、半導体チップCが貼付されたシートSTは、ホルダ30によって吸着コレット20の方向へ移動する。
(Process S3)
At time t3, the suction collet 20 stops advancing. On the other hand, also in the period p3 after the time t3 when the suction collet 20 stops the advancement, the holder 30 and the needle 40 further advance toward the suction collet 20. That is, the sheet ST with the semiconductor chip C attached is moved in the direction of the suction collet 20 by the holder 30.

(工程S4)
時刻t4において、吸着コレット20が半導体チップCに接触する(図3(B)参照)。吸着コレット20が半導体チップCに接触した際、シートSTは窪み302の内側に向かって(シートSTの厚み方向に)撓むことになる。その結果、シートSTが緩衝材として作用し、半導体チップCに加わる衝撃力が抑制される。加えて、ホルダ緩衝部322及び吸着コレット衝撃部222が設けられているので、半導体チップCに加わる衝撃力が更に抑制される。
接触後、半導体チップCは、吸着コレット20にエア吸着される。
(Process S4)
At time t4, the suction collet 20 contacts the semiconductor chip C (see FIG. 3B). When the suction collet 20 comes into contact with the semiconductor chip C, the sheet ST bends toward the inside of the recess 302 (in the thickness direction of the sheet ST). As a result, the sheet ST acts as a buffer material, and the impact force applied to the semiconductor chip C is suppressed. In addition, since the holder buffering part 322 and the suction collet impacting part 222 are provided, the impact force applied to the semiconductor chip C is further suppressed.
After the contact, the semiconductor chip C is air adsorbed by the adsorption collet 20.

ここで、半導体チップCが吸着コレット20に接触した際に半導体チップCに加わる衝撃力は、ホルダ30の先端に窪み302が形成されておらず平面となっている場合は図4(A)に示すような波形となる。一方、本実施の形態におけるチップ剥離装置10のように、ホルダ30の先端に窪み302が形成されている場合には、半導体チップCに加わる衝撃力は、図4(B)に示すような波形となる。すなわち、シートSTが窪み302の内側に向かって撓むことにより、衝撃力が低減される。
なお、図4(A)及び図4(B)に示すグラフは、吸着コレット20の部分にロードセルを設け、半導体チップCを剥離する際にこのロードセルから得られた測定データを衝撃力とみなしたものである。
Here, when the semiconductor chip C comes into contact with the suction collet 20, the impact force applied to the semiconductor chip C is as shown in FIG. 4A when the recess 302 is not formed at the tip of the holder 30 and is flat. The waveform is as shown. On the other hand, when the recess 302 is formed at the tip of the holder 30 as in the chip peeling apparatus 10 in the present embodiment, the impact force applied to the semiconductor chip C has a waveform as shown in FIG. It becomes. That is, the impact force is reduced by bending the sheet ST toward the inside of the recess 302.
In the graphs shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B), the load collet 20 is provided with a load cell, and the measurement data obtained from the load cell when the semiconductor chip C is peeled is regarded as the impact force. Is.

なお、吸着コレット20が、半導体チップC及びシートSTを介してホルダ30又はニードル40に接触している間、吸着コレット20、ホルダ30、及びニードル40の静的な位置はそれぞれ吸着コレット緩衝部222、ホルダ緩衝部322、及びニードル緩衝部422のバネ定数によって定まる。従って、吸着コレット20、ホルダ30、及びニードル40の実際の位置は、図2に示す制御部50のコントローラ(不図示)が生成する位置指令とは偏差が生じることとなる。   Note that while the suction collet 20 is in contact with the holder 30 or the needle 40 via the semiconductor chip C and the sheet ST, the static positions of the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 are respectively the suction collet buffer portion 222. , Determined by the spring constants of the holder buffer 322 and the needle buffer 422. Therefore, the actual positions of the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 deviate from the position commands generated by the controller (not shown) of the control unit 50 shown in FIG.

(工程S5)
半導体チップCが吸着コレット20に接触した時刻t4から時刻t5までの期間p4において、吸着コレット20の位置が保持された状態で、吸着コレット20に対してホルダ30及びニードル40が更に進出する。すなわち、シートSTはシートSTの厚み方向に更に撓むことになる。なお、ホルダ30及びニードル40が更に進出するのは、半導体チップCの厚みの寸法公差を考慮し、この寸法公差を吸収するためである。
図3(C)に示すように、シートSTが窪み302の内側に向かって(シートSTの厚み方向に)更に撓み、ニードル40が撓んだシートSTに接触して突き刺さる。ただし、ニードル40は、先端部が半導体チップの裏面Cb(図1参照)に接触しない位置で待機する。
(Process S5)
In a period p4 from time t4 to time t5 when the semiconductor chip C contacts the suction collet 20, the holder 30 and the needle 40 further advance with respect to the suction collet 20 while the position of the suction collet 20 is maintained. That is, the sheet ST is further bent in the thickness direction of the sheet ST. The holder 30 and the needle 40 further advance in order to absorb the dimensional tolerance in consideration of the dimensional tolerance of the thickness of the semiconductor chip C.
As shown in FIG. 3C, the sheet ST is further bent toward the inside of the depression 302 (in the thickness direction of the sheet ST), and the needle 40 comes into contact with and pierces the bent sheet ST. However, the needle 40 stands by at a position where the tip does not contact the back surface Cb (see FIG. 1) of the semiconductor chip.

(工程S6)
時刻t5から時刻t6までの期間p5において、ニードル40がニードル40の原点位置に対して静止し、ニードル40の位置が保持された状態で、シートSTを吸着しているホルダ30が後退する。
ホルダ30が後退した直後は、ホルダ30の動きにつられて、半導体チップCの表面Cfを吸着する吸着コレット20が進出することになる。また、ホルダ30が後退すると、図3(D)に示すようにシートSTに突き刺さったニードル40がシートSTを突き破り、半導体チップCの裏面Cbに接触した状態で半導体チップCがシートSTから押し出されて剥離する。
(Step S6)
In a period p5 from time t5 to time t6, the needle 40 is stationary with respect to the origin position of the needle 40, and the holder 30 adsorbing the sheet ST moves backward while the position of the needle 40 is maintained.
Immediately after the holder 30 is retracted, the suction collet 20 that sucks the surface Cf of the semiconductor chip C advances as the holder 30 moves. When the holder 30 moves backward, as shown in FIG. 3D, the needle 40 pierced into the sheet ST breaks through the sheet ST, and the semiconductor chip C is pushed out of the sheet ST in contact with the back surface Cb of the semiconductor chip C. And peel off.

なお、図3(C)に示す状態から図3(D)に示す状態へ移行する過程において、従来は、ホルダ30が後退する速度と吸着コレット20が進出する速度の差に起因して、ニードル40の先端部と半導体チップCの裏面Cbとの間で接触と離間とを速い周期で繰り返すチャタリングが発生し、半導体チップCの裏面Cbに衝撃力を与えていた。
この点、本実施の形態に係るチップ剥離装置10は、吸着コレット緩衝部222、ホルダ緩衝部322、及びニードル緩衝部422を有しているので、半導体チップCに与える衝撃力が抑制されることとなる。
In the process of shifting from the state shown in FIG. 3C to the state shown in FIG. 3D, conventionally, the needle 30 is caused by the difference between the speed at which the holder 30 retracts and the speed at which the suction collet 20 advances. Chattering that repeats contact and separation at a fast cycle occurred between the front end portion of the semiconductor chip 40 and the back surface Cb of the semiconductor chip C, giving an impact force to the back surface Cb of the semiconductor chip C.
In this respect, since the chip peeling apparatus 10 according to the present embodiment includes the suction collet buffer part 222, the holder buffer part 322, and the needle buffer part 422, the impact force applied to the semiconductor chip C is suppressed. It becomes.

なお、チャタリングを更に抑制する観点から、吸着コレット緩衝部222のバネ定数が、ホルダ緩衝部322のバネ定数及びニードル緩衝部422のバネ定数と一致していないことが好ましい。ただし、ここでいう吸着コレット緩衝部222のバネ定数とは、吸着コレット緩衝部222がバネではない場合には、バネ定数に相当する等価バネ定数である。同様に、ホルダ緩衝部322のバネ定数とは、ホルダ緩衝部322がバネではない場合には、バネ定数に相当する等価バネ定数であり、ニードル緩衝部422のバネ定数とは、ニードル緩衝部422がバネではない場合には、バネ定数に相当する等価バネ定数である。   From the viewpoint of further suppressing chattering, it is preferable that the spring constant of the suction collet buffer portion 222 does not match the spring constant of the holder buffer portion 322 and the spring constant of the needle buffer portion 422. However, the spring constant of the suction collet buffer portion 222 here is an equivalent spring constant corresponding to the spring constant when the suction collet buffer portion 222 is not a spring. Similarly, the spring constant of the holder buffer 322 is an equivalent spring constant corresponding to the spring constant when the holder buffer 322 is not a spring, and the spring constant of the needle buffer 422 is the needle buffer 422. When is not a spring, it is an equivalent spring constant corresponding to the spring constant.

(工程S7)
時刻t6から時刻t7までの期間p6において、吸着コレット20、ホルダ30及びニードル40は静止し、それぞれの位置が保持される。期間p6において吸着コレット20、ホルダ30及びニードル40の位置が保持されることによって、シートSTから半導体チップCが安定して剥離し、剥離に失敗する可能性が低減される。
(Step S7)
In a period p6 from time t6 to time t7, the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 are stationary and their respective positions are held. By holding the positions of the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 in the period p6, the possibility that the semiconductor chip C is stably peeled from the sheet ST and the peeling fails is reduced.

(工程S8)
時刻t7から時刻t8までの期間p7において、図3(E)に示すように、ニードル40及びホルダ30を後退させるとともに、半導体チップCを吸着した吸着コレット20を後退させる。
なお、期間p7においては、まずホルダ30及びニードル40が後退を開始し、その後吸着コレット20が後退を開始しているが、吸着コレット20、ホルダ30、及びニードル40がそれぞれ時刻t7にて同時に後退を開始してもよい。また、まず吸着コレット20が後退を開始し、その後ホルダ30及びニードル40が後退してもよい。
(Process S8)
In a period p7 from time t7 to time t8, as shown in FIG. 3E, the needle 40 and the holder 30 are moved backward, and the suction collet 20 that has sucked the semiconductor chip C is moved backward.
In the period p7, first, the holder 30 and the needle 40 start moving backward, and then the suction collet 20 starts moving backward. However, the suction collet 20, the holder 30 and the needle 40 simultaneously move backward at time t7. May start. Alternatively, the suction collet 20 may first start to retract, and then the holder 30 and the needle 40 may retract.

(工程S9)
時刻t8において、ホルダ30によるシートSTのエア吸着は解除される。
その後の時刻t9までの期間p8において、剥離された半導体チップCは、吸着コレット20によって所定の位置に搬送される。
以降、剥離対象となる半導体チップCに対して前述の工程S1〜S9が繰り返されることにより、一枚のシートSTに貼り付けられた全ての半導体チップCが剥離される。
(Process S9)
At time t8, the air adsorption of the sheet ST by the holder 30 is released.
In the subsequent period p8 until time t9, the peeled semiconductor chip C is transported to a predetermined position by the suction collet 20.
Thereafter, by repeating the above-described steps S1 to S9 for the semiconductor chip C to be peeled, all the semiconductor chips C attached to one sheet ST are peeled off.

〔第2の実施の形態〕
続いて、本発明の第2の実施の形態に係るチップ剥離装置10について説明する。
第2の実施の形態に係るチップ剥離装置10は、第1の実施の形態に係るチップ剥離装置10とは、その動作(チップ剥離方法)のみが相違する。
従って、以下、本実施の形態に係るチップ剥離装置10の動作について説明する。
[Second Embodiment]
Subsequently, a chip peeling apparatus 10 according to a second embodiment of the present invention will be described.
The chip peeling apparatus 10 according to the second embodiment is different from the chip peeling apparatus 10 according to the first embodiment only in its operation (chip peeling method).
Therefore, the operation of the chip peeling apparatus 10 according to the present embodiment will be described below.

まず、図5(A)に示すように、ホルダ30が、シートSTに接触すると考えられる目標位置まで進出し、ニードル40が、シートSTに接触する手前と考えられる目標位置まで進出する。
次に、図5(B)に示すように、吸着コレット20が半導体チップCに接触する。
次に、図5(C)に示すように、ホルダ30及びニードル40が更に進出すると、シートSTが窪み302の内側に向かって(シートSTの厚み方向に)撓み、ニードル40が撓んだシートSTに突き破ることなく接触する。
次に、図5(D)に示すように、シートSTに接触したニードル40がニードル40の原点位置に対して静止し、ニードル40の位置が保持された状態で、シートSTを吸着しているホルダ30が後退する。ホルダ30が後退するとシートSTが引き伸ばされ、半導体チップCが押し出される。
最後に、図5(E)に示すように、ニードル40及びホルダ30を後退させるとともに、半導体チップCを吸着した吸着コレット20を後退させ、半導体チップCが剥離される。
First, as shown in FIG. 5A, the holder 30 advances to a target position that is considered to be in contact with the sheet ST, and the needle 40 advances to a target position that is considered to be in front of the contact with the sheet ST.
Next, as shown in FIG. 5B, the suction collet 20 contacts the semiconductor chip C.
Next, as shown in FIG. 5C, when the holder 30 and the needle 40 further advance, the sheet ST bends toward the inside of the recess 302 (in the thickness direction of the sheet ST) and the needle 40 is bent. Contact ST without breaking through.
Next, as shown in FIG. 5D, the needle 40 in contact with the sheet ST is stationary with respect to the origin position of the needle 40, and the sheet ST is adsorbed while the position of the needle 40 is maintained. The holder 30 moves backward. When the holder 30 moves backward, the sheet ST is stretched and the semiconductor chip C is pushed out.
Finally, as shown in FIG. 5E, the needle 40 and the holder 30 are retracted, and the suction collet 20 that has adsorbed the semiconductor chip C is retracted, and the semiconductor chip C is peeled off.

以降、剥離対象となる半導体チップCに対して前述の図5(A)〜図5(E)に示す動作が繰り返されることにより、一枚のシートSTに貼り付けられた全ての半導体チップCが剥離される。
なお、本実施の形態におけるホルダ30、ニードル40、及びコレット20動作タイミングは、それぞれ、第1の実施の形態における動作タイミング(図2参照)と実質的に同一である。
このように、本実施の形態に係るチップ剥離装置10の動作によれば、ニードル40が半導体チップCの裏面に直接接触しないので、シートSTが緩衝材となり、半導体チップCに加わる衝撃力が第1の実施の形態に係る動作よりも緩和される。
Thereafter, the operations shown in FIGS. 5A to 5E are repeated for the semiconductor chip C to be peeled, so that all the semiconductor chips C attached to one sheet ST are obtained. It is peeled off.
The operation timing of the holder 30, the needle 40, and the collet 20 in the present embodiment is substantially the same as the operation timing (see FIG. 2) in the first embodiment.
As described above, according to the operation of the chip peeling apparatus 10 according to the present embodiment, since the needle 40 does not directly contact the back surface of the semiconductor chip C, the sheet ST serves as a buffer material and the impact force applied to the semiconductor chip C is the first. This is more relaxed than the operation according to the first embodiment.

以上説明したように、チップ剥離装置10は、吸着コレット緩衝部222、ホルダ緩衝部322、及びニードル緩衝部422を備えることにより、半導体チップCに加わる衝撃力が抑制される。また、ホルダ30に形成された窪み302が形成されていることにより、シートSTが撓んで緩衝材として作用し、半導体チップCに加わる衝撃力が更に抑制される。
その結果、半導体チップCが損傷する可能性が低減され、チップ剥離装置10の全体の処理速度を向上することが可能となる。
As described above, the chip peeling apparatus 10 includes the suction collet buffer 222, the holder buffer 322, and the needle buffer 422, so that the impact force applied to the semiconductor chip C is suppressed. Further, since the recess 302 formed in the holder 30 is formed, the sheet ST bends and acts as a cushioning material, and the impact force applied to the semiconductor chip C is further suppressed.
As a result, the possibility of damage to the semiconductor chip C is reduced, and the overall processing speed of the chip peeling apparatus 10 can be improved.

以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は、上記した形態に限定されるものでなく、要旨を逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用範囲である。
前述の実施の形態において、吸着コレット20、ホルダ30、及びニードル40が進退する方向は、任意の方向でよい。すなわち、吸着コレット20、ホルダ30、及びニードル40が進退する方向は、上下方向であってもよいし、水平方向であってもよい。
押出部材は、当業者において一般的にいわれるニードルに限定されるものではない。押出部材は、半導体チップを押し出すことができれば任意の部材でよい。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and all changes in conditions and the like that do not depart from the gist are within the scope of the present invention.
In the above-described embodiment, the direction in which the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 advance and retract may be any direction. That is, the direction in which the suction collet 20, the holder 30, and the needle 40 advance or retreat may be the vertical direction or the horizontal direction.
The extruded member is not limited to a needle generally referred to by those skilled in the art. The extrusion member may be any member as long as it can extrude the semiconductor chip.

チップ剥離装置10は、吸着コレット緩衝部222、ホルダ緩衝部322、又はニードル緩衝部422を備えることなくホルダ30に窪み302が形成されていても前述の効果を奏する。
また、チップ剥離装置10は、ホルダ30に窪み302が形成されておらず、吸着コレット緩衝部222、ホルダ緩衝部322、及びニードル緩衝部422のうち、少なくとも一つの緩衝部を備えていても前述の効果を奏する。
The chip peeling apparatus 10 does not include the suction collet buffering part 222, the holder buffering part 322, or the needle buffering part 422, and has the above-described effects even when the recess 302 is formed in the holder 30.
In addition, the chip peeling device 10 does not have the recess 302 formed in the holder 30, and may include at least one of the suction collet buffer 222, the holder buffer 322, and the needle buffer 422. The effect of.

10 チップ剥離装置
20 吸着コレット
22 吸着コレット進退機構
30 ホルダ
32 ホルダ進退機構
40 ニードル
42 ニードル進退機構
50 制御部
202 吸着孔
222 吸着コレット緩衝部
302 窪み
304 吸着孔
306 孔
322 ホルダ緩衝部
422 ニードル緩衝部
C 半導体チップ
Cf 半導体チップの表面
Cb 半導体チップの裏面
ST シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Chip peeling apparatus 20 Adsorption collet 22 Adsorption collet advance / retreat mechanism 30 Holder 32 Holder advance / retreat mechanism 40 Needle 42 Needle advance / retreat mechanism 50 Control part 202 Adsorption hole 222 Adsorption collet buffer part 302 Depression 304 Adsorption hole 306 Hole 322 Holder buffer part 422 Needle buffer part C Semiconductor chip Cf Semiconductor chip front surface Cb Semiconductor chip back surface ST sheet

Claims (5)

シートに貼付された半導体チップを吸着する吸着コレットと、
前記吸着コレットを進退させる吸着コレット進退機構と、
前記シートを吸着する先端面に、該先端面の側からみて前記半導体チップよりも大きい窪みが形成され、該窪みの周囲に前記シートを吸着するための吸着孔が設けられたホルダと、
前記ホルダを進退させるホルダ進退機構と、
前記ホルダに収納され、前記シートに貼付された前記半導体チップを押し出すニードルと、
前記ニードルを進退させるニードル進退機構と、を備え、
前記ニードル進退機構が、前記ニードルが前記半導体チップに与える衝撃を抑制する押出部材緩衝部を有し、
前記ホルダ進退機構が、前記ホルダが前記半導体チップに与える衝撃を抑制するホルダ緩衝部を有し、
前記吸着コレット進退機構が、前記吸着コレットが前記半導体チップに与える衝撃を抑制する吸着コレット緩衝部を有するチップ剥離装置。
An adsorption collet that adsorbs the semiconductor chip attached to the sheet;
An adsorption collet advance / retreat mechanism for advancing and retracting the adsorption collet;
A holder provided with a suction hole for sucking the sheet around the recess, in which a recess larger than the semiconductor chip as viewed from the tip surface side is formed on the tip surface that sucks the sheet ;
A holder advancing and retracting mechanism for advancing and retracting the holder;
A needle that is housed in the holder and pushes out the semiconductor chip attached to the sheet;
And a needle reciprocating mechanism for advancing and retracting the needle,
The needle reciprocating mechanism, the needle have a pusher member buffer portion suppresses a shock given to the semiconductor chip,
The holder advancing / retreating mechanism has a holder buffer portion for suppressing an impact of the holder on the semiconductor chip;
The chip peeling apparatus in which the suction collet advance / retreat mechanism has a suction collet buffer portion that suppresses an impact of the suction collet on the semiconductor chip .
請求項記載のチップ剥離装置において、
前記吸着コレット進退機構、前記ホルダ進退機構、及び前記ニードル進退機構を制御する制御部を更に備え、
前記制御部が、前記吸着コレットを前記半導体チップに接触させ、該前記シート前記窪みの内側に向かって撓むステップと、撓んだ該シートに前記ニードルを接触させるステップと、前記ホルダを後退させ、前記ニードルにて前記半導体チップを前記シートから押し出すステップと、を実行するチップ剥離装置。
The chip peeling apparatus according to claim 1 ,
A control unit for controlling the suction collet advance / retreat mechanism, the holder advance / retreat mechanism, and the needle advance / retreat mechanism;
Retracting the control section, the suction collet into contact with the semiconductor chip, and the flexures no step said said sheet towards the inside of the recess above, a step of causing contact the needle to the seat deflected, the holder And a step of extruding the semiconductor chip from the sheet with the needle .
請求項記載のチップ剥離装置を用いたチップ剥離方法であって、
前記吸着コレットに前記半導体チップを接触させることによって前記シート前記窪みの内側に向かって撓み、撓んだ該シートに前記ニードルを接触させ、該ニードルにて前記半導体チップを前記シートから押し出し、前記半導体チップを剥離させるチップ剥離方法。
A chip peeling method using the chip peeling apparatus according to claim 1 ,
I said I flexures the sheet towards the inside of the recess the by contacting the semiconductor chip to the suction collet is brought into contact with the needle to the seat deflected, extruding the semiconductor chip from the sheet with the needle, A chip peeling method for peeling the semiconductor chip.
請求項記載のチップ剥離装置を用いたチップ剥離方法であって、
前記吸着コレットが前記半導体チップに接触し、該シート前記窪みの内側に向かって撓むステップと、
んだ前記シートに前記ニードルが接触するステップと、
前記ニードルが静止した状態で前記シートを吸着している前記ホルダが後退し、前記ニードルが前記半導体チップを前記シートから押し出し、前記半導体チップ剥離するステップと、を含むチップ剥離方法。
A chip peeling method using the chip peeling apparatus according to claim 1 ,
The contact adsorption collet on the semiconductor chip, and the flexures no step the sheet toward the inside of the recess above,
And a step in which the needle is in contact with wrinkles do it the seat,
The holder is retracted to the needle is adsorbing the sheet in a state where the stationary and the needle pushes the semiconductor chip from the sheet, the chip peeling method comprising the steps of the semiconductor chip is peeled.
シートに貼付された半導体チップを吸着する吸着コレットと、
前記吸着コレットを進退させる吸着コレット進退機構と、
前記シートを吸着する先端面に、該先端面側からみて前記半導体チップよりも大きい窪みが形成され、該窪みの周囲に前記シートを吸着するための吸着孔が設けられたホルダと、
前記ホルダを進退させるホルダ進退機構と、
前記ホルダに収納され、前記シートに貼付された前記半導体チップを押し出すニードルと、
前記ニードルを進退させるニードル進退機構と、を備えたチップ剥離装置。
An adsorption collet that adsorbs the semiconductor chip attached to the sheet;
An adsorption collet advance / retreat mechanism for advancing and retracting the adsorption collet;
A holder provided with a suction hole for sucking the sheet around the recess, in which a recess larger than the semiconductor chip as viewed from the tip surface side is formed on the tip surface that sucks the sheet ;
A holder advancing and retracting mechanism for advancing and retracting the holder;
A needle that is housed in the holder and pushes out the semiconductor chip attached to the sheet;
Chip peeling apparatus and a needle reciprocating mechanism for advancing and retracting the needle.
JP2017148663A 2016-08-04 2017-07-31 Chip peeling apparatus and chip peeling method Active JP6368407B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016153707 2016-08-04
JP2016153707 2016-08-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018026554A JP2018026554A (en) 2018-02-15
JP6368407B2 true JP6368407B2 (en) 2018-08-01

Family

ID=61195438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017148663A Active JP6368407B2 (en) 2016-08-04 2017-07-31 Chip peeling apparatus and chip peeling method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6368407B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024068416A (en) * 2022-11-08 2024-05-20 ヤマハ発動機株式会社 Parts transfer device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4850780A (en) * 1987-09-28 1989-07-25 Kulicke And Soffa Industries Inc. Pre-peel die ejector apparatus
JPH09181150A (en) * 1995-12-25 1997-07-11 Rohm Co Ltd Semiconductor chip pickup device and pickup method using the same
JP3213273B2 (en) * 1997-12-24 2001-10-02 ティーディーケイ株式会社 Chip pickup device
WO2007026497A1 (en) * 2005-08-31 2007-03-08 Shibaura Mechatronics Corporation Device and method for picking up semiconductor chip
JP4629624B2 (en) * 2006-07-06 2011-02-09 芝浦メカトロニクス株式会社 Semiconductor chip pickup device and pickup method
JP5284144B2 (en) * 2009-03-11 2013-09-11 芝浦メカトロニクス株式会社 Semiconductor chip pickup device and pickup method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018026554A (en) 2018-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101265830B1 (en) Edge Grip Device and Robot Including the Same
JP5488966B2 (en) Ejector
JP2010161155A (en) Chip transfer method and chip transfer apparatus
CN112005362B (en) Method and apparatus for increasing transfer speed of semiconductor device by fine adjustment
JP6777998B2 (en) Robot hand and industrial robot
JP6426361B2 (en) Method for discharging a workpiece from a processing machine and processing machine
JP6208601B2 (en) Robot hand having workpiece positioning function, robot system, and workpiece positioning and gripping method
KR101617095B1 (en) Apparatus for cutting a diagnostic card
CN109956319B (en) Workpiece holding jig
US11007663B2 (en) Device for releasing catch between precut substrates, robot, and robot system therefor
JP6474369B2 (en) Work transfer system and work transfer method
JP6368407B2 (en) Chip peeling apparatus and chip peeling method
KR101503151B1 (en) Apparatus for bonding dies and method of bonding dies using the apparatus
KR20190129994A (en) Pickup Device and Pickup Method
CN111434482A (en) 3D printing device, picking device and method, control device, storage medium
JP2005302932A (en) Chip separation apparatus
JP5936384B2 (en) Picking equipment
JP6161450B2 (en) Imprint apparatus and device manufacturing method using the same
TWI585022B (en) Grain sorting methods and equipment
JP7144097B1 (en) Chip peeling device and taping machine
CN108473316B (en) Extraction device and extraction method
JP3187638U (en) Chip peeling device
JP2009229249A (en) Driving unit, driving method of contact member, characteristic inspection device, workpiece supply device, and taping device
JP2010040657A (en) Chip peeling device and chip peeling method
JP5214739B2 (en) Chip peeling method, semiconductor device manufacturing method, and chip peeling apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171222

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180408

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180608

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180706

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6368407

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350