JP6466770B2 - Conductive laminate and touch panel using the same - Google Patents
Conductive laminate and touch panel using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP6466770B2 JP6466770B2 JP2015084416A JP2015084416A JP6466770B2 JP 6466770 B2 JP6466770 B2 JP 6466770B2 JP 2015084416 A JP2015084416 A JP 2015084416A JP 2015084416 A JP2015084416 A JP 2015084416A JP 6466770 B2 JP6466770 B2 JP 6466770B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive
- conductive layer
- poly
- adhesive layer
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
本発明は、導電性積層体及びそれを用いたタッチパネルに関する。 The present invention relates to a conductive laminate and a touch panel using the same.
近年、チオフェン系やアニリン系の高分子は優れた安定性及び導電性を有することから、有機導電性材料としてその活用が期待されている。その活用の一つとして、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の各種デバイスに用いられる透明電極の形成に、上記高分子にドーパントを付加した導電性高分子を溶媒に分散させたコーティング組成物が用いられている。 In recent years, thiophene-based and aniline-based polymers have excellent stability and conductivity, and are expected to be used as organic conductive materials. As one of the applications, a coating composition in which a conductive polymer in which a dopant is added to the above polymer is dispersed in a solvent is used to form a transparent electrode used in various devices such as a liquid crystal display and a transparent touch panel. Yes.
しかし、上記導電性高分子をコーティング組成物として使用し、このコーティング組成物を用いて基材上に導電性膜を形成した場合、高温高湿下(例えば、温度85℃、相対湿度80%)においても導電性膜の電気抵抗値の経時変化を抑制する必要がある。 However, when the conductive polymer is used as a coating composition and a conductive film is formed on a substrate using the coating composition, it is under high temperature and high humidity (for example, a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 80%). In this case, it is necessary to suppress the temporal change of the electric resistance value of the conductive film.
また、タッチパネルに用いられる導電性フィルムは、X軸方向にパターン化された導電性フィルムと、Y軸方向にパターン化された導電性フィルムとを粘着層で貼り合わせて用いることもあるため、貼りあわせ時に導電性フィルムに位置ずれが生じると、導電性フィルムを剥がして再度貼り合わせる必要があり、導電性フィルムに所謂リワーク性が要求される。 In addition, the conductive film used for the touch panel is sometimes used by bonding a conductive film patterned in the X-axis direction and a conductive film patterned in the Y-axis direction with an adhesive layer. If the conductive film is displaced at the time of alignment, the conductive film needs to be peeled off and bonded again, so that the conductive film is required to have so-called reworkability.
このような問題に対して、例えば、特許文献1では、ポリチオフェン系導電剤を含む導電層に、酸性成分を含む粘着層を接触させた導電性積層体が提案されている。 For such a problem, for example, Patent Document 1 proposes a conductive laminate in which an adhesive layer containing an acidic component is brought into contact with a conductive layer containing a polythiophene-based conductive agent.
一方、特許文献2では、伝導性高分子と有機酸化合物とを含む帯電防止コーティング組成物を、偏光フィルムと粘着層との間に塗布した帯電防止偏光フィルムが提案されている。 On the other hand, Patent Document 2 proposes an antistatic polarizing film in which an antistatic coating composition containing a conductive polymer and an organic acid compound is applied between a polarizing film and an adhesive layer.
特許文献1では、高温高湿下での導電性積層体の導電層の電気抵抗値の経時変化を抑制することができることが記載されている。しかし、得られた導電性積層体のリワーク性については考慮されておらず、未だ改良の余地がある。 Patent Document 1 describes that it is possible to suppress the temporal change in the electrical resistance value of the conductive layer of the conductive laminate under high temperature and high humidity. However, reworkability of the obtained conductive laminate is not considered, and there is still room for improvement.
一方、特許文献2では、帯電防止偏光フィルムのリワーク性については記載されているが、高温高湿下での帯電防止層(導電層)の電気抵抗値の経時変化を抑制することは考慮されてない。また、特許文献2では、帯電防止コーティング組成物にはバインダが含まれていないため、当該組成物を基材に塗布する場合、塗膜の厚みを均一にすることが困難で、塗膜の厚みの変化により均一な電気抵抗値を有する導電層を形成することができない。 On the other hand, Patent Document 2 describes the reworkability of the antistatic polarizing film, but it is considered to suppress the temporal change of the electric resistance value of the antistatic layer (conductive layer) under high temperature and high humidity. Absent. Further, in Patent Document 2, since the antistatic coating composition does not contain a binder, it is difficult to make the thickness of the coating film uniform when the composition is applied to a substrate. A conductive layer having a uniform electric resistance value cannot be formed due to the change of the above.
本発明は、上記問題を解消するためになされたものであり、高温高湿下での導電性積層体の導電層の電気抵抗値の経時変化が小さく、リワーク性にも優れた導電性積層体及びそれを用いたタッチパネルを提供する。 The present invention has been made in order to solve the above problems, and has a small change over time in the electrical resistance value of the conductive layer of the conductive laminate under high temperature and high humidity, and has excellent reworkability. And a touch panel using the same.
本発明の導電性積層体は、基材と、前記基材の少なくとも一方の主面に配置された導電層と、前記導電層の上に配置された粘着層とを含む導電性積層体であって、前記導電層は、導電性高分子と、バインダとを含み、前記粘着層は、酸フリー架橋樹脂を含み、前記酸フリー架橋樹脂は、モノマー成分として、水酸基を含む(メタ)アクリル酸エステルを含むことを特徴とする。 The conductive laminate of the present invention is a conductive laminate including a substrate, a conductive layer disposed on at least one main surface of the substrate, and an adhesive layer disposed on the conductive layer. Te, the conductive layer comprises a conductive polymer, a binder, wherein the adhesive layer is observed containing an acid-free crosslinking resins, the acid-free crosslinking resins, as a monomer component, containing a hydroxyl group (meth) acrylic acid ester characterized by containing Mukoto.
また、本発明のタッチバネルは、上記本発明の導電性積層体を含むことを特徴とする。 The touch panel of the present invention includes the conductive laminate of the present invention.
本発明によれば、高温高湿下での導電性積層体の導電層の電気抵抗値の経時変化が小さく、リワーク性に優れた導電性積層体を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the time-dependent change of the electrical resistance value of the conductive layer of the conductive laminated body under high temperature and high humidity is small, and the conductive laminated body excellent in rework property can be provided.
(本発明の導電性積層体)
本発明の透明導電性積層体は、基材と、上記基材の少なくとも一方の主面に配置された導電層と、上記導電層の上に配置された粘着層とを備え、上記導電層は、導電性高分子と、バインダとを含み、上記粘着層は、酸フリー架橋樹脂を含むことを特徴とする。
(Conductive laminate of the present invention)
The transparent conductive laminate of the present invention comprises a substrate, a conductive layer disposed on at least one main surface of the substrate, and an adhesive layer disposed on the conductive layer, and the conductive layer comprises The conductive layer includes a conductive polymer and a binder, and the adhesive layer includes an acid-free crosslinked resin.
<導電層>
本発明の導電性積層体の導電層がバインダを含むことにより、導電性高分子のみからなる導電層に比べて、硬度が高く基材への密着性が高い導電層を形成できる。また、上記導電層がバインダを含むことにより、基材上に厚みのばらつきが小さい導電層を形成できるため、導電層全体の電気抵抗値を均一にできる。更に、上記導電層は、パターニングしてもよく、これによりタッチパネル用途に適した導電層を形成できる。
<Conductive layer>
When the conductive layer of the conductive laminate of the present invention contains a binder, it is possible to form a conductive layer having high hardness and high adhesion to the substrate as compared to a conductive layer made of only a conductive polymer. In addition, since the conductive layer includes a binder, a conductive layer having a small thickness variation can be formed on the base material, so that the electrical resistance value of the entire conductive layer can be made uniform. Furthermore, the conductive layer may be patterned, whereby a conductive layer suitable for touch panel use can be formed.
[導電性高分子]
上記導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用できる。例えば、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリフェニレン系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリアセン系導電性高分子、ポリチオフェンビニレン系導電性高分子、及びこれらの共重合体等が挙げられる。重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子及びポリアニリン系導電性高分子が好ましい。
[Conductive polymer]
As the conductive polymer, any organic polymer having a main chain composed of a π-conjugated system can be used. For example, polypyrrole conductive polymer, polythiophene conductive polymer, polyacetylene conductive polymer, polyphenylene conductive polymer, polyphenylene vinylene conductive polymer, polyaniline conductive polymer, polyacene conductive high Examples thereof include molecules, polythiophene vinylene-based conductive polymers, and copolymers thereof. From the viewpoint of ease of polymerization and stability in air, polypyrrole conductive polymers, polythiophene conductive polymers, and polyaniline conductive polymers are preferred.
上記ポリピロール系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−n−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−デシルピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)等が挙げられる。 Specific examples of the polypyrrole-based conductive polymer include polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-n-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole), poly (3-octylpyrrole), poly (3-decylpyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole) , Poly (3-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly (3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly (3 -Hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly 3-hexyloxy-pyrrole), poly (3-methyl-4-hexyloxy-pyrrole), poly (3-methyl-4-hexyloxy-pyrrole) and the like.
上記ポリチオフェン系導電性高分子の具体例としては、ポリ(チオフェン)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−ヘプチルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−ヨードチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−デシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブテンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)等が挙げられる。 Specific examples of the polythiophene-based conductive polymer include poly (thiophene), poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), Poly (3-hexylthiophene), poly (3-heptylthiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-octadecylthiophene), poly ( 3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3-iodothiophene), poly (3-cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly ( 3,4-dibutylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythio) ), Poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythiophene), poly (3-heptyloxythiophene), poly (3-octyloxythiophene), poly (3 -Decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3-octadecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4-dimethoxythiophene), poly (3,4 Diethoxythiophene), poly (3,4-dipropoxythiophene), poly (3,4-dibutoxythiophene), poly (3,4-dihexyloxythiophene), poly (3,4-diheptyloxythiophene), Poly (3,4-dioctyloxythiophene), poly (3,4-didecyloxythiophene) ), Poly (3,4-didodecyloxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3,4-propylenedioxythiophene), poly (3,4-butenedioxythiophene), Poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly (3-methyl-4-ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl- 4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutylthiophene) and the like.
上記ポリアニリン系導電性高分子の具体例としては、ポリアニリン、ポリ(2−メチルアニリン)、ポリ(3−イソブチルアニリン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)等が挙げられる。 Specific examples of the polyaniline-based conductive polymer include polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutylaniline), poly (2-anilinesulfonic acid), poly (3-anilinesulfonic acid) and the like. Can be mentioned.
これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。上記中でも、透明性及び導電性がより高くなることから、ポリピロール、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)から選ばれる1種又は2種からなる重合体が好ましい。 These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, since transparency and conductivity are higher, polypyrrole, poly (3-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (2-anilinesulfonic acid), poly (3- The polymer which consists of 1 type or 2 types chosen from aniline sulfonic acid) is preferable.
本発明においては導電性高分子の電気伝導度を高めるために、ドーパントを併用することができる。上記ドーパントとしては、ヨウ素、塩素等のハロゲン類、BF3、PF5等のルイス酸類、硝酸、硫酸等のプロトン酸類や、遷移金属、アルカリ金属、アミノ酸、核酸、界面活性剤、色素、クロラニル、テトラシアノエチレン、TCNQ等が使用できる。 In the present invention, a dopant can be used in combination in order to increase the electrical conductivity of the conductive polymer. Examples of the dopant include halogens such as iodine and chlorine, Lewis acids such as BF 3 and PF 5 , proton acids such as nitric acid and sulfuric acid, transition metals, alkali metals, amino acids, nucleic acids, surfactants, dyes, chloranil, Tetracyanoethylene, TCNQ, etc. can be used.
本発明では、上記導電性高分子として、ポリチオフェン系化合物とドーパントとを含むものを用いることが好ましく、上記ポリチオフェン系化合物としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を用い、上記ドーパントとしてポリスチレンスルホン酸とを用いた混合物(PEDOT/PSSともいう。)を用いることが最も好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a polymer containing a polythiophene compound and a dopant as the conductive polymer, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is used as the polythiophene compound, and polystyrene sulfone is used as the dopant. Most preferably, a mixture using an acid (also referred to as PEDOT / PSS) is used.
上記導電性高分子と上記ドーパントとの配合割合は、質量比で導電性高分子:ドーパント=1:2〜1:4が好ましい。 The blending ratio of the conductive polymer and the dopant is preferably conductive polymer: dopant = 1: 2 to 1: 4 in terms of mass ratio.
[バインダ]
上記バインダとしては、アルコキシシランモノマー、アルコキシシランオリゴマー等を架橋して形成したシリコーン系無機バインダ;ポリフッ化ビニリデン樹脂(PVDF)、フッ化ビニリデン−アクリル共重合体、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のフッ素系樹脂を含む有機バインダ;ポリビニルアルコール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂等を含む有機バインダ等が使用できる。上記シリコーン系無機バインダを用いた場合、高硬度の導電層を作製でき、上記フッ素系樹脂を含む有機バインダを用いると、導電層の耐水性と透明性を向上できる。
[Binder]
Examples of the binder include silicone-based inorganic binders formed by crosslinking alkoxysilane monomers, alkoxysilane oligomers, etc .; polyvinylidene fluoride resin (PVDF), vinylidene fluoride-acrylic copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer Organic binder containing fluorine-based resin such as coalescence; organic binder containing polyvinyl alcohol resin, acrylic resin, polyester resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, etc. Can be used. When the silicone inorganic binder is used, a conductive layer having a high hardness can be produced, and when an organic binder containing the fluorine resin is used, the water resistance and transparency of the conductive layer can be improved.
[導電層の特性]
上記導電層の表面電気抵抗値は、50Ω/sq以上10000Ω/sq以下であることが好ましい。更に、上記導電層をタッチパネル用電極として用いる場合には、上記導電層の表面電気抵抗値は、50Ω/sq以上500Ω/sq以下が好ましく、50Ω/sq以上400Ω/sq以下がより好ましい。表面電気抵抗値が小さいほど良好な電気特性を示す。
[Characteristics of conductive layer]
The surface electrical resistance value of the conductive layer is preferably 50Ω / sq or more and 10,000Ω / sq or less. Further, when the conductive layer is used as a touch panel electrode, the surface electrical resistance value of the conductive layer is preferably 50Ω / sq to 500Ω / sq, more preferably 50Ω / sq to 400Ω / sq. The smaller the surface electrical resistance value, the better the electrical characteristics.
上記導電層の厚みは、用途に応じて適宜設定されるものであるが、通常、0.01〜10μm程度である。上記導電層の厚みが薄すぎても厚すぎても、均一な導電層を形成することが困難となる。上記導電性高分子の割合にもよるが、上記導電層の厚みが0.01μmより薄いと、表面電気抵抗値が上昇したり、表面電気抵抗値の場所によるばらつきが大きくなる傾向にあり、上記導電層の厚みが10μmより厚くなると、導電性積層体の厚みが大きくなりすぎて、全光線透過率が低下する傾向にある。 Although the thickness of the said conductive layer is suitably set according to a use, it is about 0.01-10 micrometers normally. If the conductive layer is too thin or too thick, it is difficult to form a uniform conductive layer. Depending on the proportion of the conductive polymer, when the thickness of the conductive layer is less than 0.01 μm, the surface electrical resistance value tends to increase or the variation in the surface electrical resistance value tends to increase. When the thickness of the conductive layer is greater than 10 μm, the thickness of the conductive laminate becomes too large and the total light transmittance tends to decrease.
上記導電層の表面電気抵抗値の場所によるばらつきは、±10%以内が好ましく、±5%以内がより好ましい。上記導電層の表面電気抵抗値のばらつきが、±10%を超えると、上記導電層をタッチパネル用電極として用いることが困難となる。 The variation of the surface electrical resistance value of the conductive layer depending on the location is preferably within ± 10%, more preferably within ± 5%. When the variation in the surface electrical resistance value of the conductive layer exceeds ± 10%, it becomes difficult to use the conductive layer as a touch panel electrode.
上記導電層の表面電気抵抗値の場所P1おけるばらつきSP1は、全測定箇所の表面電気抵抗値の平均値をRA、場所P1の表面電気抵抗値をRP1とすると、下記式(1)により計算する。
SP1(%)=(|RA−RP1|/RA)×100 (1)
The variation S P1 of the surface electrical resistance value of the conductive layer at the location P1 is represented by the following formula (1), where R A is the average value of the surface electrical resistance values of all the measurement locations and R P1 is the surface electrical resistance value of the location P1. Calculate with
S P1 (%) = (| R A −R P1 | / R A ) × 100 (1)
また、上記導電性高分子と上記バインダとの体積比は、1:99〜70:30とすることができる。上記導電性高分子と上記バインダとの体積比が上記範囲内であれば、上記導電層の電気特性、光学特性、物理特性及び耐湿熱性を向上できる。特に、上記導電層をタッチパネル用電極として用いる場合には、上記導電性高分子と上記バインダとのより好ましい体積比は5:95〜45:55である。 The volume ratio between the conductive polymer and the binder can be 1:99 to 70:30. When the volume ratio between the conductive polymer and the binder is within the above range, the electrical characteristics, optical characteristics, physical characteristics, and wet heat resistance of the conductive layer can be improved. In particular, when the conductive layer is used as a touch panel electrode, a more preferable volume ratio of the conductive polymer and the binder is 5:95 to 45:55.
<粘着層>
本発明の導電性積層体の粘着層は、粘着剤として酸フリー架橋樹脂を含んでいる。これにより、高温高湿下での導電層の電気抵抗値の経時変化を抑制でき、更にリワーク性に優れた導電性積層体を形成できる。
<Adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive layer of the conductive laminate of the present invention contains an acid-free crosslinked resin as a pressure-sensitive adhesive. Thereby, the time-dependent change of the electrical resistance value of the conductive layer under high temperature and high humidity can be suppressed, and a conductive laminate excellent in reworkability can be formed.
[酸フリー架橋樹脂]
本発明において酸フリー架橋樹脂とは、カルボキシル基、スルフォン酸基、リン酸基等の酸性基を含まないモノマーを重合して形成した酸フリーポリマーを、更に架橋剤により架橋した架橋ポリマーをいう。上記酸性基を含まないモノマーは、架橋剤との架橋反応を行うため、水酸基、アミノ基等の官能基を含んでいる。但し、上記酸フリー架橋樹脂は酸性基を意識的に有さないものを意味し、酸性基が全く検出されないことを意味するものではなく、また本発明の導電性積層体の製造過程で不可避的に混入する微量の酸は許容する意味である。
[Acid-free cross-linked resin]
In the present invention, the acid-free cross-linked resin refers to a cross-linked polymer obtained by further polymerizing an acid-free polymer formed by polymerizing a monomer not containing an acidic group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group with a cross-linking agent. The monomer not containing an acidic group contains a functional group such as a hydroxyl group or an amino group in order to perform a crosslinking reaction with a crosslinking agent. However, the acid-free cross-linked resin means that the resin does not have an acidic group intentionally, does not mean that no acidic group is detected, and is inevitable in the production process of the conductive laminate of the present invention. A trace amount of acid mixed in is meant to be acceptable.
上記酸フリー架橋樹脂では、水酸基、アミノ基等の極性基を含む酸フリーポリマーが架橋剤と反応して形成されるため、最終的に上記酸フリー架橋樹脂は、極性基の数が減少して粘着層が疎水性となる。そのため、粘着層を通して導電層へ水が浸入することを抑制でき、導電層中の耐水性が低い導電性高分子への水の影響を小さくできるため、高温高湿下での導電層の電気抵抗値の経時変化を抑制できる。また、粘着層中の上記酸フリー架橋樹脂の極性基の数が減少するため、粘着層の被着体に対する粘着力が適度となり、導電性積層体のリワーク性を向上させることができ、導電性積層体を剥がした際の所謂糊残りを少なくすることができる。 In the acid-free crosslinked resin, an acid-free polymer containing a polar group such as a hydroxyl group or an amino group is formed by reacting with a crosslinking agent, so that the acid-free crosslinked resin ultimately has a reduced number of polar groups. The adhesive layer becomes hydrophobic. Therefore, it is possible to suppress water from entering the conductive layer through the adhesive layer, and to reduce the influence of water on the conductive polymer having low water resistance in the conductive layer, so that the electric resistance of the conductive layer under high temperature and high humidity It is possible to suppress the change of the value with time. In addition, since the number of polar groups of the acid-free cross-linked resin in the adhesive layer is reduced, the adhesive force of the adhesive layer to the adherend becomes appropriate, and the reworkability of the conductive laminate can be improved. So-called adhesive residue when the laminate is peeled off can be reduced.
また、粘着剤として単に酸フリーポリマーのみを用いると、架橋しない極性基を多く含む樹脂により粘着層が形成されるため、粘着層が親水性となる。そのため、粘着層を通して導電層へ水が浸入することを抑制できなくなり、導電層中の耐水性が低い導電性高分子への水の影響が大きくなるため、高温高湿下での導電層の電気抵抗値の経時変化が大きくなる。また、粘着層中の樹脂の極性基の数が多いため、粘着層の被着体に対する粘着力が大きくなり、導電性積層体のリワーク性が低下し、導電性積層体を剥がした際の所謂糊残りが多くなる。 Further, when only an acid-free polymer is used as the pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive layer becomes hydrophilic because the pressure-sensitive adhesive layer is formed of a resin containing a large number of polar groups that are not crosslinked. For this reason, it becomes impossible to prevent water from entering the conductive layer through the adhesive layer, and the influence of water on the conductive polymer having low water resistance in the conductive layer becomes large. The resistance value changes with time. In addition, since the number of polar groups of the resin in the adhesive layer is large, the adhesive force of the adhesive layer to the adherend increases, so that the reworkability of the conductive laminate is lowered, so-called when the conductive laminate is peeled off. Increases adhesive residue.
更に、粘着剤として、酸性基を含む架橋樹脂を用いると、架橋反応により粘着剤中の樹脂の酸性基の数は減少しているが、カルボキシル基等の酸性基は、水酸基等の他の極性基より親水性が高いため、残存する酸性基により粘着層が親水性の傾向となり、また粘着層の粘着力が比較的大きくなる。そのため、上記と同様の理由で、高温高湿下での導電層の電気抵抗値の経時変化が大きくなり、導電性積層体のリワーク性が低下し、導電性積層体を剥がした際の所謂糊残りが多くなる。 Furthermore, when a cross-linked resin containing an acidic group is used as the pressure-sensitive adhesive, the number of acidic groups in the resin in the pressure-sensitive adhesive is reduced by the cross-linking reaction, but acidic groups such as carboxyl groups have other polarities such as hydroxyl groups. Since the hydrophilicity is higher than that of the group, the remaining acidic group tends to make the pressure-sensitive adhesive layer hydrophilic, and the pressure-sensitive adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer becomes relatively large. Therefore, for the same reason as described above, the change over time in the electrical resistance value of the conductive layer under high temperature and high humidity increases, the reworkability of the conductive laminate decreases, and the so-called glue when the conductive laminate is peeled off. The rest will increase.
上記酸フリー架橋樹脂の形成に用いる酸性基以外の官能基を有する酸フリーポリマーとしては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂等の少なくとも1種を用いることができる。 As the acid-free polymer having a functional group other than the acidic group used for forming the acid-free crosslinked resin, for example, at least one of acrylic resin, urethane resin, rubber resin, silicone resin, and the like can be used. .
上記アクリル系樹脂は、酸性基以外の官能基を有していれば特に限定されるものではなく、例えば、アルキル基の炭素数が通常2〜18の範囲にある(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、官能基含有モノマーと、必要に応じてこれらと共重合可能な他の改質用モノマーとを、共重合させることにより得られる官能基含有(メタ)アクリル酸系ポリマー等を使用できる。これらの中でも、アルキル基の炭素数が6以上の官能基含有(メタ)アクリル酸系ポリマーが好ましい。本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の両者を意味している。 The acrylic resin is not particularly limited as long as it has a functional group other than an acidic group. For example, (meth) acrylic acid alkyl ester in which the alkyl group usually has 2 to 18 carbon atoms. A functional group-containing (meth) acrylic acid polymer obtained by copolymerizing a functional group-containing monomer and another modifying monomer that can be copolymerized therewith, if necessary, can be used. Among these, a functional group-containing (meth) acrylic acid polymer having 6 or more carbon atoms in the alkyl group is preferable. In this specification, “(meth) acrylic acid” means both acrylic acid and methacrylic acid.
上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ポリエーテル系ウレタン樹脂、無黄変性ポリエーテル系ウレタン樹脂、芳香族イソシアネート・エーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂、無黄変性ポリエステル系ウレタン樹脂、芳香族イソシアネート・エステル系ウレタン樹脂、ポリエーテル・ポリエステル系ウレタン樹脂、無黄変性ポリエーテル・ポリエステル系ウレタン樹脂等が挙げられる。 Examples of the urethane resin include polyether urethane resin, non-yellowing polyether urethane resin, aromatic isocyanate / ether urethane resin, polyester urethane resin, non-yellowing polyester urethane resin, aromatic isocyanate / Examples thereof include ester urethane resins, polyether / polyester urethane resins, and non-yellowing polyether / polyester urethane resins.
上記ゴム系樹脂としては、例えば、クロロプレンゴム(CR)、イソプレンゴム(IR)、ブチルゴム(IIR)、ニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、ウレタンゴム、フッ素ゴム、アクリルゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。 Examples of the rubber resin include chloroprene rubber (CR), isoprene rubber (IR), butyl rubber (IIR), nitrile-butadiene rubber (NBR), natural rubber, styrene-butadiene copolymer rubber (SBR), butadiene rubber ( BR), urethane rubber, fluororubber, acrylic rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, urethane rubber, silicone rubber and the like.
上記シリコーン樹脂としては、例えば、メチルシリコーン樹脂、メチルフェニルシリコーン樹脂、及びエポキシ樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂等で変性された有機樹脂変性シリコーン樹脂等が挙げられる。 Examples of the silicone resin include methyl silicone resin, methylphenyl silicone resin, and organic resin-modified silicone resin modified with epoxy resin, alkyd resin, polyester resin, and the like.
上記酸フリーポリマーとしては、水酸基を含む樹脂が好ましい。例えば、上記酸フリーポリマーとしてアミノ基を有する樹脂を用いると、導電性高分子が酸性である場合、粘着剤のアミノ基と導電性高分子とが反応する可能性があり、導電性高分子の導電性が低下する場合があるからである。 As the acid-free polymer, a resin containing a hydroxyl group is preferable. For example, when a resin having an amino group is used as the acid-free polymer, if the conductive polymer is acidic, the amino group of the adhesive may react with the conductive polymer. This is because the conductivity may decrease.
また、上記酸フリーポリマーのモノマー成分としては、水酸基を含む(メタ)アクリル酸エステルが好ましい。上記水酸基を含む(メタ)アクリル酸エステルを上記酸フリーポリマーのモノマー成分として用いることにより、粘着層の透明性を維持できると共に、上記(メタ)アクリル酸エステルの水酸基が架橋剤と反応するため、粘着層の粘着力を適切な範囲に設定できる。 The monomer component of the acid-free polymer is preferably a (meth) acrylic acid ester containing a hydroxyl group. By using the (meth) acrylic acid ester containing a hydroxyl group as a monomer component of the acid-free polymer, the transparency of the adhesive layer can be maintained, and the hydroxyl group of the (meth) acrylic acid ester reacts with a crosslinking agent. The adhesive strength of the adhesive layer can be set within an appropriate range.
上記酸フリー架橋樹脂を形成するための架橋剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、イミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、メラミン系架橋剤等を用いることができる。これらの中でも、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤及び金属キレート系架橋剤を用いることが好ましい。エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、金属キレート系架橋剤を用いることで、室温等の比較的低温な条件であっても、酸性基以外の官能基を有する酸フリーポリマーの架橋が進行するからである。 The crosslinking agent for forming the acid-free crosslinking resin is not particularly limited. For example, an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, an imine crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent, and a melamine crosslinking agent. An agent or the like can be used. Among these, it is preferable to use an epoxy-based crosslinking agent, an isocyanate-based crosslinking agent, and a metal chelate-based crosslinking agent. By using an epoxy-based crosslinking agent, an isocyanate-based crosslinking agent, and a metal chelate-based crosslinking agent, crosslinking of an acid-free polymer having a functional group other than an acidic group proceeds even under relatively low temperature conditions such as room temperature. It is.
上記エポキシ系架橋剤としては、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエリスリトール、ジグリセロールポリグリシジルエーテル等を用いることができる。 Examples of the epoxy crosslinking agent include bisphenol A / epichlorohydrin type epoxy resin, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, Methylolpropane triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl erythritol, diglycerol polyglycidyl ether, and the like can be used.
上記イソシアネート系架橋剤としては、公知の芳香族ポリイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等を用いることができる。 As said isocyanate type crosslinking agent, well-known aromatic polyisocyanate, aliphatic polyisocyanate, araliphatic polyisocyanate, alicyclic polyisocyanate, etc. can be used.
上記金属キレート系架橋剤として、Alを中心金属とするアルミニウムキレート化合物、Zrを中心金属とするジルコニウムキレート化合物を用いることができる。 As the metal chelate crosslinking agent, an aluminum chelate compound having Al as a central metal and a zirconium chelate compound having Zr as a central metal can be used.
上記酸フリーポリマーに対する架橋剤の添加量としては、酸フリーポリマーの種類等によっても異なるが、酸フリーポリマー100質量部に対して、例えば、0.01質量部以上10質量部以下の範囲、好ましくは、0.1質量部以上1質量部以下の範囲とすることができる。 The amount of the crosslinking agent added to the acid-free polymer varies depending on the type of the acid-free polymer, but is, for example, in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acid-free polymer, preferably Can be in the range of 0.1 to 1 part by mass.
上記架橋剤の添加量が過度に少ない場合、粘着層の粘着力が上昇すると共に粘着層の凝集力の向上を図ることができず、導電性積層体を剥がした際の所謂糊残りが多くなる。また、上記架橋剤の添加量が過度に多い場合、未反応の架橋剤による物性の経時変化や、被着体の汚染等の不具合が生じる場合がある。 When the addition amount of the crosslinking agent is excessively small, the adhesive strength of the adhesive layer increases and the cohesive strength of the adhesive layer cannot be improved, and so-called adhesive residue is increased when the conductive laminate is peeled off. . Moreover, when the addition amount of the crosslinking agent is excessively large, problems such as changes in physical properties due to unreacted crosslinking agent and contamination of the adherend may occur.
[その他の成分]
上記粘着層には、粘着力を制御するため、必要に応じて粘着付与剤を添加してもよい。上記粘着付与剤としては、酸性基を含まなければ特に限定されないが、例えば、酸性基を含まないテルペン系樹脂、テルペンフェノール系樹脂、合成石油系樹脂、及びこれらの水添系樹脂等が挙げられる。
[Other ingredients]
In order to control the adhesive strength, a tackifier may be added to the adhesive layer as necessary. The tackifier is not particularly limited as long as it does not contain an acid group, and examples thereof include terpene resins, terpene phenol resins, synthetic petroleum resins, and hydrogenated resins thereof that do not contain an acid group. .
[粘着層の特性]
上記粘着層のガラス板に対する粘着力は1.5N/10mm以上が好ましく、4.0N/10mm以上がより好ましい。ここで、本実施の形態において、ガラス板に対する粘着力とは、JIS Z0237(2009)に規定される粘着力試験と同様の方法で測定したガラス板に対する180°引き剥がし粘着力をいう。
[Characteristics of adhesive layer]
The adhesive strength of the adhesive layer to the glass plate is preferably 1.5 N / 10 mm or more, and more preferably 4.0 N / 10 mm or more. Here, in this Embodiment, the adhesive force with respect to a glass plate means 180 degree peeling adhesive force with respect to the glass plate measured by the method similar to the adhesive force test prescribed | regulated to JISZ0237 (2009).
上記粘着層のガラス板に対する粘着力が、1.5N/10mmよりも小さい場合、本発明の導電性積層体、液晶表示装置や有機EL表示装置等の表示装置の透明パネル等に貼り付けた場合に、本発明の導電性積層体が剥がれたりずれたりするおそれがある。また、上記粘着層のガラス板に対する粘着力は、8N/10mm以下であることが好ましい。上記粘着層のガラス板に対する粘着力が過度に大きい場合、本発明の導電性積層体のリワーク性が低下するおそれがある。この場合、透明パネルを再利用する場合等において本発明の導電性積層体を剥離するときに糊残りが生じる場合がある。 When the adhesive strength of the adhesive layer to the glass plate is less than 1.5 N / 10 mm, when pasted to a transparent panel of a display device such as the conductive laminate of the present invention, a liquid crystal display device or an organic EL display device In addition, the conductive laminate of the present invention may be peeled off or displaced. Moreover, it is preferable that the adhesive force with respect to the glass plate of the said adhesion layer is 8 N / 10mm or less. When the adhesive force of the adhesive layer to the glass plate is excessively large, the reworkability of the conductive laminate of the present invention may be reduced. In this case, when the transparent panel is reused, an adhesive residue may occur when the conductive laminate of the present invention is peeled off.
上記粘着層の厚みは、5μm以上200μm以下であることが好ましく、8μm以上100μm以下であることがより好ましい。上記粘着層の厚みが5μm未満である場合、必要な粘着力を得ることができない場合があり、上記粘着層の厚みが200μmより厚い場合、全光線透過率が低くなる傾向にある。 The thickness of the adhesive layer is preferably 5 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 8 μm or more and 100 μm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 5 μm, necessary adhesive strength may not be obtained. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is greater than 200 μm, the total light transmittance tends to be low.
<基材>
本発明の導電性積層体に用いる基材としては特に限定されないが、透明性を有する透明基材が好ましい。上記透明基材の材質としては、例えば、樹脂、ゴム、ガラス、セラミックス等の種々のものが使用できる。
<Base material>
Although it does not specifically limit as a base material used for the electroconductive laminated body of this invention, The transparent base material which has transparency is preferable. As the material for the transparent substrate, for example, various materials such as resin, rubber, glass and ceramics can be used.
<引き出し電極>
本発明の導電性積層体は、上記導電層と上記粘着層との間に引き出し電極を更に備えることができる。上記引き出し電極の材料としては、導電性の高い銀ペースト等の金属ペーストや、アルミニウム、モリブテン等の金属材料が適するが、これらに限定するものではない。また、上記引き出し電極の形成方法は、上記金属ペーストを用いた印刷法、上記金属材料を用いたスパッタリング法等の公知の手法が適宜利用できる。
<Extraction electrode>
The conductive laminate of the present invention can further include a lead electrode between the conductive layer and the adhesive layer. As the material for the extraction electrode, a metal paste such as a highly conductive silver paste or a metal material such as aluminum or molybdenum is suitable, but is not limited thereto. In addition, as a method for forming the extraction electrode, a known method such as a printing method using the metal paste or a sputtering method using the metal material can be appropriately used.
<導電性積層体>
本発明の導電性積層体の全光線透過率は、83%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上である。また、上記導電性積層体のヘイズは、2.0%以下が好ましく、1.5%以下がより好ましい。全光線透過率及びヘイズが高いほど良好な光学特性を示す。上記全光線透過率及び上記ヘイズは、分光光度計、例えば、日本分光社製の“V−570”により測定可能である。
<Conductive laminate>
The total light transmittance of the conductive laminate of the present invention is preferably 83% or more, and more preferably 90% or more. Further, the haze of the conductive laminate is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.5% or less. The higher the total light transmittance and haze, the better the optical properties. The total light transmittance and the haze can be measured with a spectrophotometer such as “V-570” manufactured by JASCO Corporation.
次に、本発明の導電性積層体を図面に基づき説明する。図1は、本発明の導電性積層体の一例を示す模式断面図である。図1において、導電性積層体10は、基材11と、基材11の上にパターニングされて配置された導電層12と、導電層12の上に配置された粘着層13とを備えている。図1では、導電層12のパターニング部分は省略して図示してある。また、前述のとおり、導電層12は導電性高分子とバインダとを含み、粘着層13は、酸フリー架橋樹脂を含んでいる。
Next, the conductive laminate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the conductive laminate of the present invention. In FIG. 1, the
また、図2は、本発明の導電性積層体の他の例を示す導電性積層体の模式断面図である。図2おいて、導電性積層体20は、基材21と、基材21の上にパターニングされて配置された導電層22と、導電層22の上に配置された引き出し電極24と、引き出し電極24の上に配置された粘着層23とを備えている。図2では、導電層22のパターニング部分は省略して図示してある。また、前述のとおり、導電層22は導電性高分子とバインダとを含み、粘着層23は、酸フリー架橋樹脂を含んでいる。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a conductive laminate showing another example of the conductive laminate of the present invention. In FIG. 2, the
(本発明のタッチパネル)
本発明のタッチパネルは、上記本発明の導電性積層体を含むことを特徴とする。上記本発明の導電性積層体を備えたタッチパネルは、上記導電性積層体の粘着層の成分に酸フリー架橋樹脂を用いているので、酸性成分を含む粘着層と比べて、上記粘着層と接触する引出配線(金属)等の劣化を起こしにくい。また、酸性成分を含む粘着層では、酸成分が引出配線(金属)等に影響を及ぼし、電気抵抗値が変化して、タッチパネルの感度に経時変化が生じる問題があるが、酸フリー架橋樹脂を用いた導電性積層体を備えた本発明のタッチパネルではこのような問題はなく、長期間使用しても感度が変化しないタッチパネルを提供することができる。
(Touch panel of the present invention)
The touch panel of the present invention includes the conductive laminate of the present invention. Since the touch panel provided with the conductive laminate of the present invention uses an acid-free crosslinked resin as a component of the adhesive layer of the conductive laminate, the touch panel is in contact with the adhesive layer as compared with the adhesive layer containing an acidic component. It is difficult to cause deterioration of the lead wiring (metal). Moreover, in the adhesive layer containing an acidic component, there is a problem that the acid component affects the lead-out wiring (metal) and the like, the electrical resistance value changes, and the sensitivity of the touch panel changes over time. The touch panel of the present invention provided with the conductive laminate used does not have such a problem, and can provide a touch panel whose sensitivity does not change even when used for a long time.
(本発明の導電性積層体の製造方法)
本発明の導電性積層体の製造方法は、導電性高分子と、バインダと、溶媒とを含む導電層形成用塗料を作製する工程と、上記導電層形成用塗料を基材の上に塗布して乾燥することにより、上記基材の上に導電層を形成する工程と、上記導電層の上に、酸フリー架橋樹脂を含む粘着層を形成又は配置する工程とを備えることができる。
(Method for producing conductive laminate of the present invention)
The method for producing a conductive laminate of the present invention comprises a step of producing a conductive layer forming paint containing a conductive polymer, a binder, and a solvent, and applying the conductive layer forming paint on a substrate. And drying, a step of forming a conductive layer on the substrate and a step of forming or arranging an adhesive layer containing an acid-free crosslinked resin on the conductive layer can be provided.
また、本発明の導電性積層体の製造方法は、上記導電層上の導電パターンを形成する位置にレジスト膜を形成する工程と、導電性を失活させる不活性剤を用いて、上記レジスト膜をマスクとして、上記導電層の露出部の導電性を失活させて上記導電層をパターニングする工程とを更に備えることができる。 Further, the method for producing a conductive laminate of the present invention includes a step of forming a resist film at a position where a conductive pattern is formed on the conductive layer, and an inert agent that deactivates the conductivity. And a step of patterning the conductive layer by deactivating the conductivity of the exposed portion of the conductive layer.
更に、本発明の導電性積層体の製造方法は、上記導電層と上記粘着層との間に引き出し電極を形成する工程を備えることもできる。 Furthermore, the method for producing a conductive laminate according to the present invention can include a step of forming a lead electrode between the conductive layer and the adhesive layer.
<導電層形成用塗料>
上記導電層形成用塗料に用いる導電性高分子としては、前述のポリチオフェン系化合物としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と、ドーパントとしてポリスチレンスルホン酸とを含む混合物(PEDOT/PSS)等を用いることができる。
<Paint for forming conductive layer>
Examples of the conductive polymer used for the conductive layer forming coating include a mixture (PEDOT / PSS) containing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) as the polythiophene compound and polystyrene sulfonic acid as a dopant. Can be used.
上記導電層形成用塗料における上記導電性高分子の含有量は、上記導電層形成用塗料に含まれる全固形成分の質量に対して0.7質量%以上70.0質量%以下であることが好ましい。上記導電性高分子の含有量が、上記導電層形成用塗料に含まれる全固形成分の質量に対して0.7質量%を下回ると導電層の導電性が低下し、70.0質量%を超えると導電層の物理特性や耐湿熱性が低下する傾向にある。 Content of the said conductive polymer in the said coating material for conductive layer formation is 0.7 mass% or more and 70.0 mass% or less with respect to the mass of the total solid component contained in the said coating material for conductive layer formation. preferable. When the content of the conductive polymer is less than 0.7% by mass with respect to the mass of all solid components contained in the conductive layer forming coating material, the conductivity of the conductive layer is decreased, and 70.0% by mass is obtained. If it exceeds, the physical properties and wet heat resistance of the conductive layer tend to be lowered.
上記導電層形成用塗料に用いるバインダとしては、前述のシリコーン系無機バインダ、フッ素系樹脂を含む有機バインダ等を用いることができる。 As the binder used for the conductive layer-forming coating material, the above-described silicone-based inorganic binder, an organic binder containing a fluorine-based resin, or the like can be used.
上記フッ素系樹脂としては、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)が好ましい。PVDFは、バインダとしての役割を果たすものであり、これにより導電層と基材との密着性を向上できる。PVDFは、上記導電層形成用塗料を用いて形成される導電層中に均一に分散させて透光性を向上させるため、上記導電層形成用塗料中におけるPVDFの分散粒子径は0.3μm以下に設定することが好ましい。 As the fluororesin, polyvinylidene fluoride (PVDF) is preferable. PVDF plays a role as a binder, thereby improving the adhesion between the conductive layer and the substrate. PVDF is uniformly dispersed in the conductive layer formed using the conductive layer forming paint to improve translucency, so that the dispersed particle size of PVDF in the conductive layer forming paint is 0.3 μm or less. It is preferable to set to.
更に、上記有機バインダには、PVDF以外にフッ化ビニリデン−アクリル共重合体、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキサイド、シラン化合物、ポリエステルエマルジョン、ポリオレフィンエマルジョン等の樹脂を含んでいてもよい。 In addition to PVDF, the organic binder includes vinylidene fluoride-acrylic copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer, hydroxyethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, silane compound, polyester emulsion, polyolefin emulsion, and the like. Resin may be included.
上記バインダの含有量は、上記導電層形成用塗料に含まれる全固形成分の質量に対して30.0質量%以上99.3質量%以下が好ましく、より好ましくは55質量%以上95.0質量%以下である。上記バインダの含有量が少なすぎると、十分な硬度を有する導電層が得られにくい傾向にあり、上記バインダの含有量が多すぎると、導電層が白濁化し、光学特性が悪化する傾向にある。 The content of the binder is preferably 30.0% by mass or more and 99.3% by mass or less, more preferably 55% by mass or more and 95.0% by mass with respect to the mass of all solid components contained in the conductive layer forming coating material. % Or less. When the content of the binder is too small, a conductive layer having sufficient hardness tends to be difficult to obtain, and when the content of the binder is too large, the conductive layer becomes cloudy and optical characteristics tend to deteriorate.
上記導電層形成用塗料に用いる溶媒は、プロトン性極性溶媒と非プロトン性極性溶媒とを含んでいることが好ましい。プロトン性極性溶媒と非プロトン性極性溶媒とを併用することにより、比較的低い乾燥温度で透明性に優れた透明導電性膜を得ることができる。 The solvent used for the conductive layer-forming coating material preferably contains a protic polar solvent and an aprotic polar solvent. By using a protic polar solvent and an aprotic polar solvent in combination, a transparent conductive film excellent in transparency can be obtained at a relatively low drying temperature.
上記プロトン性極性溶媒としては、例えば、水、エチルアルコール、メチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、酢酸等が挙げられ、上記非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。 Examples of the protic polar solvent include water, ethyl alcohol, methyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, acetic acid, and the like. Examples of the polar solvent include dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, acetonitrile, acetone, tetrahydrofuran and the like.
上記非プロトン性極性溶媒の含有量は、上記溶媒の全質量に対して1.0質量%以上50.0質量%以下であることが好ましい。上記非プロトン性極性溶媒の含有量が、上記溶媒の全質量に対して1.0質量%を下回ると導電層の光学特性が低下する傾向にあり、50.0質量%を超えると導電層の耐湿熱性が低下する傾向にある。 The content of the aprotic polar solvent is preferably 1.0% by mass or more and 50.0% by mass or less with respect to the total mass of the solvent. If the content of the aprotic polar solvent is less than 1.0% by mass with respect to the total mass of the solvent, the optical properties of the conductive layer tend to deteriorate, and if it exceeds 50.0% by mass, There exists a tendency for heat-and-moisture resistance to fall.
上記溶媒の含有量は特に限定されないが、上記導電層形成用塗料の全質量に対して、50.0質量%以上99.5質量%以下とすればよい。また、上記溶媒には、無極性溶媒を含んでいてもよい。 Although content of the said solvent is not specifically limited, What is necessary is just to be 50.0 mass% or more and 99.5 mass% or less with respect to the total mass of the said coating material for conductive layer formation. The solvent may contain a nonpolar solvent.
<導電層の形成>
上記導電層形成用塗料を基材の上に塗布する方法としては、例えば、バーコート法、リバース法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法、ディッピング法、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法等の塗布方法を用いることができる。
<Formation of conductive layer>
Examples of the method for applying the conductive layer-forming coating material on a substrate include a bar coating method, a reverse method, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a die coating method, a dipping method, a spin coating method, a slit coating method, A coating method such as a spray coating method can be used.
上記塗布後の加熱は、上記導電層形成用塗料の溶媒成分が蒸発する条件であればよく、100〜150℃で5〜60分間行うことが好ましい。溶媒が導電層に残っていると強度が劣る傾向にある。加熱方法としては、例えば、熱風乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、自然乾燥等により行うことができる。また、必要に応じて、塗膜にUV光やEB光を照射して塗膜を硬化させたりして、透明導電性膜を形成してもよい。 The heating after the application may be performed under the condition that the solvent component of the conductive layer-forming coating material evaporates, and is preferably performed at 100 to 150 ° C. for 5 to 60 minutes. If the solvent remains in the conductive layer, the strength tends to be inferior. As the heating method, for example, a hot air drying method, a heating drying method, a vacuum drying method, natural drying, or the like can be used. Further, if necessary, the transparent conductive film may be formed by irradiating the coating film with UV light or EB light to cure the coating film.
<導電パターンの形成工程>
上記導電層上の導電パターンを形成する位置に形成されるレジスト膜は、例えば、レジスト剤を上記導電層上にスクリーン印刷することにより形成できる。上記レジスト剤は特に限定されず、適宜選択できる。
<Process for forming conductive pattern>
The resist film formed at the position where the conductive pattern on the conductive layer is formed can be formed, for example, by screen printing a resist agent on the conductive layer. The said resist agent is not specifically limited, It can select suitably.
上記導電層の露出部の導電性を失活させるために用いる不活性剤としては、上記導電性高分子を失活できるものであればよく、例えば、酸化性化合物、塩基性化合物が挙げられる。 As an inert agent used in order to deactivate the electroconductivity of the exposed part of the said conductive layer, what is necessary is just to be able to deactivate the said conductive polymer, For example, an oxidizing compound and a basic compound are mentioned.
上記酸化性化合物としては、例えば、過酸化水素系化合物、過塩素酸系化合物、次亜塩素酸系化合物、過酢酸系化合物、メタクロロ安息香酸系化合物、亜硫酸系化合物等が挙げられる。 Examples of the oxidizing compound include hydrogen peroxide compounds, perchloric acid compounds, hypochlorous acid compounds, peracetic acid compounds, metachlorobenzoic acid compounds, sulfite compounds, and the like.
また、上記塩基性化合物としては、例えば、アンモニア、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、4−メチルピリジン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられる。 Examples of the basic compound include ammonia, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, pyridine, 4-methylpyridine, and tetramethylammonium hydroxide.
上記導電パターンの形成工程において、上記導電層はバインダを含んでいるため、上記不活性剤が上記導電層に浸透しにくい。このため、上記導電層に上記不活性剤が徐々に浸透するため、導電パターンを精度よく形成できる。 In the step of forming the conductive pattern, since the conductive layer contains a binder, the inert agent hardly penetrates into the conductive layer. For this reason, since the inactive agent gradually penetrates into the conductive layer, a conductive pattern can be formed with high accuracy.
<粘着層の形成>
上記導電層の上に粘着層を形成するには、前述の酸フリーポリマーと、架橋剤と、溶媒とを含む粘着層形成用塗料を塗布して乾燥すればよい。上記導電層の上に上記粘着層形成用塗料を塗布して乾燥する方法は特に限定されず、各種の塗工装置、乾燥装置を用いることができる。また、上記溶媒は特に限定されず、上記酸フリーポリマーと上記架橋剤を混合できるものであればよい。
<Formation of adhesive layer>
In order to form an adhesive layer on the conductive layer, an adhesive layer-forming coating material containing the acid-free polymer, a crosslinking agent, and a solvent may be applied and dried. The method for applying and drying the adhesive layer-forming coating material on the conductive layer is not particularly limited, and various coating devices and drying devices can be used. The solvent is not particularly limited as long as it can mix the acid-free polymer and the crosslinking agent.
また、上記導電層の上に粘着層を配置するには、上記粘着層形成用塗料を用いて粘着層を別途セパレータ上に形成し、この別途形成した粘着層を、上記導電層の上に貼りつけることなどにより配置すればよい。 Further, in order to dispose the adhesive layer on the conductive layer, the adhesive layer is separately formed on the separator using the adhesive layer forming coating material, and the separately formed adhesive layer is pasted on the conductive layer. What is necessary is just to arrange | position by attaching.
以下、実施例を用いて本発明を詳細に述べる。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。特に指摘がない場合、下記において、「部」は「質量部」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to the following examples. Unless otherwise indicated, in the following, “part” means “part by mass”.
(実施例1)
<粘着層形成用塗料の調製>
酸フリーポリマーであるアクリル系粘着剤(サイデン化学社製、商品名“サイビノールTPO3232”、固形分濃度:35質量%、水酸基価:2.7mg/g、重量平均分子量Mw:50万)100部に対して、金属キレート系架橋剤であるジルコニウムキレート化合物(マツモトファインケミカル社製、商品名“オルガチックスZC700”、固形分濃度:20質量%)0.8部を添加し、イソプロピルアルコールとトルエンとの混合溶媒(体積混合比率=1:1)を用いて固形分濃度が23質量%となるように希釈して、粘着層形成用塗料aを得た。
Example 1
<Preparation of adhesive layer forming coating>
100 parts of acrylic pressure-sensitive adhesive (trade name “Cybinol TPO3232”, solid content concentration: 35 mass%, hydroxyl value: 2.7 mg / g, weight average molecular weight Mw: 500,000), an acid-free polymer On the other hand, 0.8 parts of zirconium chelate compound (made by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., trade name “Orga Tix ZC700”, solid content concentration: 20% by mass), which is a metal chelate crosslinking agent, is added and mixed with isopropyl alcohol and toluene. Dilution was carried out using a solvent (volume mixing ratio = 1: 1) so that the solid content concentration was 23% by mass to obtain a coating material a for forming an adhesive layer.
<導電層形成用塗料の調製>
以下の成分を添加、混合して導電層形成用塗料Aを調製した。
(1)導電性高分子分散液(ヘレウス社製、商品名“PH1000”、導電性高分子:PEDOT−PSS、固形分濃度:1.0質量%、溶媒:水):46.0部
(2)バインダ樹脂(アクリル樹脂、固形分濃度:30.0質量%、溶媒:水):4.6部
(3)プロトン性極性溶媒(エチルアルコール):12.0部
(4)非プロトン性極性溶媒(エチレングリコール):36.0部
(5)水:1.4部
<Preparation of paint for forming conductive layer>
The following components were added and mixed to prepare a conductive layer forming coating material A.
(1) Conductive polymer dispersion (manufactured by Heraeus, trade name “PH1000”, conductive polymer: PEDOT-PSS, solid content concentration: 1.0 mass%, solvent: water): 46.0 parts (2 ) Binder resin (acrylic resin, solid content concentration: 30.0% by mass, solvent: water): 4.6 parts (3) Protic polar solvent (ethyl alcohol): 12.0 parts (4) Aprotic polar solvent (Ethylene glycol): 36.0 parts (5) Water: 1.4 parts
<導電性シートの形成>
次に、厚さ100μmのPETフィルム(全光線透過率:92.0%)を基板として用い、基板の一方の主面に上記導電層形成用塗料Aを、バーコータを用いて塗布し、その後100℃で5分間加熱した。これにより、一方の主面に導電層が形成された実施例1の導電性フィルムを作製した。上記導電層の厚みは、0.3μmであった。
<Formation of conductive sheet>
Next, a PET film (total light transmittance: 92.0%) having a thickness of 100 μm was used as a substrate, and the conductive layer forming coating material A was applied to one main surface of the substrate using a bar coater. Heat at 5 ° C. for 5 minutes. Thereby, the electroconductive film of Example 1 in which the electroconductive layer was formed in one main surface was produced. The thickness of the conductive layer was 0.3 μm.
<レジスト膜の形成>
上記導電性フィルムの導電層側の主面の中央部の5cm角の領域にスクリーン印刷法によりレジスト剤(ヘレウス社製、商品名“Clvious SET S”)を印刷し、その後100℃で5分間加熱した。これにより、導電層上にレジスト膜を形成した。
<Formation of resist film>
A resist agent (product name “Clvious SET S”, manufactured by Heraeus Co., Ltd.) is printed on the 5 cm square region of the central portion of the main surface on the conductive layer side of the conductive film, and then heated at 100 ° C. for 5 minutes. did. Thereby, a resist film was formed on the conductive layer.
<導電性の低下>
次に、導電層上にレジスト膜が形成された導電性フィルムを、塩素系不活性剤(ヘレウス社製、商品名“Clvious Etch”)を10%水溶液に調製した溶液に20分間浸漬した後、蒸留水で洗浄し、100℃で5分間加熱した。これにより、導電層の露出部の導電性を低下させた。
<Decrease in conductivity>
Next, after immersing the conductive film having a resist film formed on the conductive layer in a solution prepared by preparing a 10% aqueous solution of a chlorine-based inert agent (trade name “Clvious Etch”, manufactured by Heraeus) for 20 minutes, Washed with distilled water and heated at 100 ° C. for 5 minutes. Thereby, the conductivity of the exposed portion of the conductive layer was lowered.
<レジスト膜の剥離>
次に、上記導電性フィルムをトルエンに3分間浸漬し、レジスト膜を剥離した後、蒸留水で洗浄し、100℃で5分間乾燥して、パターニングされた導電層を備えた導電性フィルムを作製した。
<Removal of resist film>
Next, the conductive film is immersed in toluene for 3 minutes, the resist film is peeled off, washed with distilled water, and dried at 100 ° C. for 5 minutes to produce a conductive film provided with a patterned conductive layer. did.
<導電層の表面電気抵抗値のばらつきの測定>
前述の式(1):SP1(%)=(|RA−RP1|/RA)×100を用いて、上記導電層上の10点の表面電気抵抗値のばらつきを測定した。上記測定の結果、導電層の表面電気抵抗値のばらつきが、10点全て±10%以内の場合、良好と判断し、上記導電層の表面電気抵抗値のばらつきが、一点でも±10%を超えると、不良と判断した。
<Measurement of variation in surface electrical resistance value of conductive layer>
Using the above-described formula (1): S P1 (%) = (| R A −R P1 | / R A ) × 100, variations in the surface electric resistance values at 10 points on the conductive layer were measured. As a result of the above measurement, when the variation of the surface electrical resistance value of the conductive layer is within ± 10% for all 10 points, it is judged as good, and the variation of the surface electrical resistance value of the conductive layer exceeds ± 10% even at one point. It was judged as bad.
<導電層の表面電気抵抗値の変化率の測定>
先ず、上記導電性フィルムの導電層の初期の表面電気抵抗値を、三菱化学アナリテック社製の抵抗率測定装置“Loresta−GP”(MCP−T610型)とLSPプローブを用いて測定した。
<Measurement of change rate of surface electric resistance value of conductive layer>
First, the initial surface electrical resistance value of the conductive layer of the conductive film was measured using a resistivity measuring device “Loresta-GP” (MCP-T610 type) manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. and an LSP probe.
次に、上記導電性フィルムを恒温恒湿槽に入れ85℃、相対湿度80%で240時間保存した。続いて、保存後の上記導電性フィルムの導電層の表面電気抵抗値を上記と同様にして測定した。最後に、下記式(2)により表面電気抵抗値の変化率を算出した。
表面電気抵抗値の変化率(%)=〔(保存後の表面電気抵抗値−初期の表面電気抵抗値)/初期の表面電気抵抗値〕×100 (2)
Next, the conductive film was placed in a constant temperature and humidity chamber and stored at 85 ° C. and a relative humidity of 80% for 240 hours. Subsequently, the surface electrical resistance value of the conductive layer of the conductive film after storage was measured in the same manner as described above. Finally, the change rate of the surface electrical resistance value was calculated by the following formula (2).
Rate of change in surface electrical resistance value (%) = [(surface electrical resistance value after storage−initial surface electrical resistance value) / initial surface electrical resistance value] × 100 (2)
上記測定の結果、表面電気抵抗値の変化率が10%未満の場合、高温高湿下での導電性積層体の導電層の電気抵抗値の経時変化が小さく、耐湿熱性は良好と判断し、表面電気抵抗値の変化率が10%を超えた場合、耐湿熱性は不良と判断した。 As a result of the above measurement, when the rate of change of the surface electrical resistance value is less than 10%, it is determined that the electrical resistance value of the conductive layer of the electrically conductive laminate under high temperature and high humidity changes little with time, and the heat and moisture resistance is good, When the change rate of the surface electrical resistance value exceeded 10%, the heat and humidity resistance was judged to be poor.
<粘着層の形成>
上記パターニングされた導電層を備えた導電性フィルムの導電層側に、前述の粘着層形成用塗料aをバーコータを用いて塗布し、導電性フィルムの上に粘着層を形成して、実施例1の粘着層付き導電性フィルム(本発明の導電性積層体)を得た。
<Formation of adhesive layer>
Example 1 The above-mentioned adhesive layer-forming coating material a was applied to the conductive layer side of the conductive film having the patterned conductive layer using a bar coater to form an adhesive layer on the conductive film. A conductive film with an adhesive layer (conductive laminate of the present invention) was obtained.
<リワーク性の評価>
次に、上記粘着層付き導電性フィルムの粘着層側をガラス板に貼りあわせ、JIS Z0237(2009)に規定される粘着力試験と同様の方法でガラス板に対する180°引き剥がし粘着力を測定した。また、引き剥がし後のガラス板の糊残りを目視で観測した。その結果、糊残りが全く無かった場合にはリワーク性は良好と判断し、糊残りが観察された場合にはリワーク性は不良と判断した。
<Evaluation of reworkability>
Next, the adhesive layer side of the conductive film with an adhesive layer was bonded to a glass plate, and the adhesive strength was measured by peeling it 180 ° to the glass plate in the same manner as the adhesive strength test defined in JIS Z0237 (2009). . Moreover, the adhesive residue of the glass plate after peeling was observed visually. As a result, when there was no adhesive residue, the reworkability was judged to be good, and when adhesive residue was observed, the reworkability was judged to be poor.
(実施例2)
<粘着層形成用塗料の調製>
酸フリーポリマーであるアクリル系粘着剤(日本合成化学工業社製、商品名“コーポニールN−7520”、固形分濃度:35質量%、水酸基価:50.0mg/g、重量平均分子量Mw:70万)100部に対して、金属キレート系架橋剤であるチタンキレート化合物(マツモトファインケミカル社製、商品名“オルガチックスTC1040”、固形分濃度:75質量%)0.8部を添加し、メチルエチルケトンとトルエンとの混合溶媒(体積混合比率=1:1)を用いて固形分濃度が23質量%となるように希釈し、粘着層形成用塗料bを得た。
(Example 2)
<Preparation of adhesive layer forming coating>
Acrylic pressure-sensitive adhesive which is an acid-free polymer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name “Cooponyl N-7520”, solid content concentration: 35 mass%, hydroxyl value: 50.0 mg / g, weight average molecular weight Mw: 70) 10,000 parts of titanium chelate compound (manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., trade name “Orgatechs TC1040”, solid content concentration: 75% by mass) is added to 100 parts by weight, and methyl ethyl ketone and Dilution was carried out using a mixed solvent with toluene (volume mixing ratio = 1: 1) so that the solid content concentration became 23% by mass to obtain a coating material b for forming an adhesive layer.
<導電層形成用塗料の調製>
以下の成分を添加、混合して導電層形成用塗料Bを調製した。
(1)導電性高分子分散液(ヘレウス社製、商品名“PH1000”、導電性高分子:PEDOT−PSS、固形分濃度:1.0質量%、溶媒:水):46.0部
(2)バインダ樹脂分散液(PVDF分散液、PVDF粒子の平均分散粒子径:0.2μm、固形分濃度:35質量%、溶媒:水):3.9部
(3)プロトン性極性溶媒(エチルアルコール):12.0部
(4)非プロトン性極性溶媒(エチレングリコール):36.0部
(5)水:2.1部
<Preparation of paint for forming conductive layer>
The following components were added and mixed to prepare a conductive layer forming coating material B.
(1) Conductive polymer dispersion (manufactured by Heraeus, trade name “PH1000”, conductive polymer: PEDOT-PSS, solid content concentration: 1.0 mass%, solvent: water): 46.0 parts (2 ) Binder resin dispersion (PVDF dispersion, average dispersion particle size of PVDF particles: 0.2 μm, solid content concentration: 35 mass%, solvent: water): 3.9 parts (3) Protic polar solvent (ethyl alcohol) : 12.0 parts (4) Aprotic polar solvent (ethylene glycol): 36.0 parts (5) Water: 2.1 parts
上記粘着層形成用塗料b及び上記導電層形成用塗料Bを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2の粘着層付き導電性フィルムを作製し、実施例1と同様にして、導電層の表面電気抵抗値のばらつき及び変化率の測定、粘着力の測定及びリワーク性の評価を行った。 A conductive film with an adhesive layer of Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer-forming paint b and the conductive layer-forming paint B were used. Measurement of variation and change rate of surface electric resistance value of conductive layer, measurement of adhesive strength and evaluation of reworkability were performed.
(実施例3)
<粘着層形成用塗料の調製>
酸フリーポリマーであるアクリル系粘着剤(日本合成化学工業社製、商品名“コーポニールN−7520”、固形分濃度:35質量%、水酸基価:50.0mg/g、重量平均分子量Mw:70万)100部に対して、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名“コロネートHX”、固形分濃度:100質量%)0.5部を添加し、メチルエチルケトンとトルエンとの混合溶媒(体積混合比率=1:1)を用いて固形分濃度が23質量%となるように希釈し、粘着層形成用塗料cを得た。
(Example 3)
<Preparation of adhesive layer forming coating>
Acrylic pressure-sensitive adhesive which is an acid-free polymer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name “Cooponyl N-7520”, solid content concentration: 35 mass%, hydroxyl value: 50.0 mg / g, weight average molecular weight Mw: 70) To 100 parts by weight, 0.5 part of an isocyanate-based crosslinking agent (trade name “Coronate HX” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., solid content concentration: 100% by mass) is added, and a mixed solvent of methyl ethyl ketone and toluene ( The mixture was diluted so that the solid content concentration became 23% by mass using a volume mixing ratio = 1: 1) to obtain a coating material c for forming an adhesive layer.
上記粘着層形成用塗料c及び実施例2で作製した導電層形成用塗料Bを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例3の粘着層付き導電性フィルムを作製し、実施例1と同様にして、導電層の表面電気抵抗値のばらつき及び変化率の測定、粘着力の測定及びリワーク性の評価を行った。 A conductive film with an adhesive layer of Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer-forming paint c and the conductive layer-forming paint B produced in Example 2 were used. In the same manner as described above, variation in the surface electrical resistance value of the conductive layer and measurement of the rate of change, measurement of adhesive strength, and evaluation of reworkability were performed.
(比較例1)
<粘着層形成用塗料の調製>
酸性基含有ポリマーであるアクリル系粘着剤(綜研化学社製、商品名“SK−2094”、固形分濃度:25質量%、酸価:6.8mg/g)100部に対して、エポキシ系架橋剤(綜研化学社製、商品名“E-AX”、固形分濃度:5質量%)0.27部を添加し、トルエンを用いて固形分濃度が20質量%となるように希釈し、粘着層形成用塗料dを得た。
(Comparative Example 1)
<Preparation of adhesive layer forming coating>
Epoxy-based cross-linking with respect to 100 parts of an acrylic pressure-sensitive adhesive that is an acidic group-containing polymer (manufactured by Soken Chemicals, trade name “SK-2094”, solid content concentration: 25 mass%, acid value: 6.8 mg / g) 0.27 parts of an agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name “E-AX”, solid content concentration: 5% by mass) was added, diluted with toluene to a solid content concentration of 20% by mass, and adhered. A layer-forming paint d was obtained.
上記粘着層形成用塗料d及び実施例2で作製した導電層形成用塗料Bを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例1の粘着層付き導電性フィルムを作製し、実施例1と同様にして、導電層の表面電気抵抗値のばらつき及び変化率の測定、粘着力の測定及びリワーク性の評価を行った。 A conductive film with an adhesive layer of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer-forming paint d and the conductive layer-forming paint B produced in Example 2 were used. In the same manner as described above, variation in the surface electrical resistance value of the conductive layer and measurement of the rate of change, measurement of adhesive strength, and evaluation of reworkability were performed.
(比較例2)
バインダ樹脂を添加しなかった以外は実施例1と同様にして、導電層形成用塗料Cを作製した。実施例1で作製した粘着層形成用塗料a及び上記導電層形成用塗料Cを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例2の粘着層付き導電性フィルムを作製し、実施例1と同様にして、導電層の表面電気抵抗値のばらつき及び変化率の測定、粘着力の測定及びリワーク性の評価を行った。
(Comparative Example 2)
A conductive layer-forming coating material C was prepared in the same manner as in Example 1 except that no binder resin was added. A conductive film with an adhesive layer of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer forming coating material a and the conductive layer forming coating material C prepared in Example 1 were used. In the same manner as described above, variation in the surface electrical resistance value of the conductive layer and measurement of the rate of change, measurement of adhesive strength, and evaluation of reworkability were performed.
以上の実施例1〜3及び比較例1〜2の結果を表1に示す。 The results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1.
表1から、本発明の実施例1〜3では、表面電気抵抗値の変化率及びばらつきが良好であると共に、リワーク性も良好であることが分かる。一方、粘着層に酸フリー架橋樹脂を用いなかった比較例1では表面電気抵抗値の変化率及びリワーク性に劣り、導電層にバインダを加えなかった比較例2では表面電気抵抗値のばらつきが大きいことが分かる。 From Table 1, it can be seen that in Examples 1 to 3 of the present invention, the rate of change and variation of the surface electrical resistance value are good and the reworkability is also good. On the other hand, Comparative Example 1 in which no acid-free crosslinked resin was used for the adhesive layer was inferior in the rate of change in surface electrical resistance and reworkability, and in Comparative Example 2 in which no binder was added to the conductive layer, the variation in surface electrical resistance was large. I understand that.
10、20 導電性積層体
11、21 基材
12、22 導電層
13、23 粘着層
24 引き出し電極
10, 20
Claims (9)
前記導電層は、導電性高分子と、バインダとを含み、
前記粘着層は、酸フリー架橋樹脂を含み、
前記酸フリー架橋樹脂は、モノマー成分として、水酸基を含む(メタ)アクリル酸エステルを含むことを特徴とする導電性積層体。 A conductive laminate comprising a substrate, a conductive layer disposed on at least one main surface of the substrate, and an adhesive layer disposed on the conductive layer,
The conductive layer includes a conductive polymer and a binder,
The adhesive layer is observed containing an acid-free crosslinking resins,
The acid-free crosslinking resins, as a monomer component, containing a hydroxyl group (meth) conductive laminate according to claim containing Mukoto acrylic acid ester.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015084416A JP6466770B2 (en) | 2015-04-16 | 2015-04-16 | Conductive laminate and touch panel using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015084416A JP6466770B2 (en) | 2015-04-16 | 2015-04-16 | Conductive laminate and touch panel using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016203414A JP2016203414A (en) | 2016-12-08 |
| JP6466770B2 true JP6466770B2 (en) | 2019-02-06 |
Family
ID=57488483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015084416A Active JP6466770B2 (en) | 2015-04-16 | 2015-04-16 | Conductive laminate and touch panel using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6466770B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7481805B2 (en) * | 2019-03-05 | 2024-05-13 | 日東電工株式会社 | Polarizing film with conductive layer and method for producing same |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI381303B (en) * | 2010-02-09 | 2013-01-01 | Oji Paper Co | Conductive laminate and touch panel made there of |
| KR102238910B1 (en) * | 2012-09-04 | 2021-04-09 | 키모토 컴파니 리미티드 | Lamiante and surface protection plate |
| JP6050076B2 (en) * | 2012-09-27 | 2016-12-21 | グンゼ株式会社 | Transparent conductive laminate and touch panel |
| JP6130181B2 (en) * | 2013-03-25 | 2017-05-17 | 国立大学法人名古屋大学 | Conductive polymer composition and conductor |
| JP2014232375A (en) * | 2013-05-28 | 2014-12-11 | 信越ポリマー株式会社 | Sensor sheet and method for manufacturing the same |
-
2015
- 2015-04-16 JP JP2015084416A patent/JP6466770B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016203414A (en) | 2016-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1857504B1 (en) | Electroconductive-polymer solution, antistatic coating material, antistatic hard coating layer, optical filter, electroconductive coating film, antistatic pressure-sensitive adhesive, antistatic pressure-sensitive adhesive layer, protective material, and process for producing the same | |
| CN103189931B (en) | Transparent conducting glass substrate | |
| KR101442987B1 (en) | Antistatic release agent, antistatic release coating film and antistatic release substrate | |
| KR20200015881A (en) | Water-based antistatic releasing coating composition and antistatic releasing film | |
| JP6837387B2 (en) | Conductive polymer dispersion, antistatic substrate and its manufacturing method | |
| JP6803806B2 (en) | Conductive polymer dispersion liquid and its manufacturing method, conductive film and its manufacturing method, and conductive glass substrate and its manufacturing method | |
| JP6560570B2 (en) | Transparent conductive adhesive sheet | |
| JP6548329B2 (en) | Alcohol-containing conductive polymer dispersion liquid and method for producing conductive film | |
| JP6466770B2 (en) | Conductive laminate and touch panel using the same | |
| JP7269816B2 (en) | Conductive release film and manufacturing method thereof | |
| JP2025182066A (en) | Organic conductive film manufacturing method, organic conductive film and laminate | |
| JP5456072B2 (en) | Conductive coating | |
| JP6419008B2 (en) | Method for producing antistatic film, conductive release agent and antistatic film | |
| JP2017157530A (en) | Conductive film and method of producing the same | |
| JP6845096B2 (en) | Method for manufacturing conductive polymer dispersion | |
| JP2017037760A (en) | Transparent conductive substrate, method of manufacturing the same, and touch panel using the same | |
| JP2015140200A (en) | Cover tape for packaging electronic parts | |
| JP7241473B2 (en) | Conductive polymer dispersion, method for producing same, and method for producing conductive film | |
| JP2008243532A (en) | Transparent conductive film | |
| TWI922492B (en) | Manufacturing method of organic conductive thin film, organic conductive thin film and laminate | |
| JP2024008379A (en) | Conductive polymer dispersion, conductive laminate and manufacturing method thereof | |
| JP5162941B2 (en) | Transparent conductive film and method for producing the same | |
| JP6678070B2 (en) | Transparent conductive coating composition, transparent conductive sheet and method for producing the same | |
| JP2007128280A (en) | Conductive sheet for coordinate input device, manufacturing method thereof and coordinate input device | |
| JP6746276B2 (en) | Transparent conductive sheet and method for manufacturing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180116 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180913 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181122 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181225 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190110 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6466770 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |