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JP6500339B2 - Heat dissipation sheet, coating liquid for heat dissipation sheet, and power device - Google Patents
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Heat dissipation sheet, coating liquid for heat dissipation sheet, and power device Download PDF

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Description

本発明は、パワー半導体デバイス用に好適に用いられる放熱シートに関する。本発明の放熱シートは、特定の窒化ホウ素二次粒子と特定の板状窒化ホウ素粒子からなり、また、これらの窒化ホウ素二次粒子及び板状粒子を含む放熱シート用塗布液、および放熱シートを用いたパワーデバイス装置に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heat dissipation sheet suitably used for power semiconductor devices. The heat-dissipating sheet of the present invention comprises a specific boron nitride secondary particle and a specific plate-like boron nitride particle, and further, a heat-dissipating sheet coating solution containing these boron nitride secondary particle and plate-like particle, and a heat-dissipating sheet The present invention relates to a power device apparatus used.

近年、鉄道、自動車、一般家電などの様々な分野で使用されているパワー半導体デバイスは、更なる小型・低コスト・高効率化などのために、従来のSiパワー半導体からSiC、AlN、GaNなどを使用したパワー半導体へ移行しつつある。
パワー半導体デバイスは、一般的には、複数の半導体デバイスを共通のヒートシンク上に配してパッケージングしたパワー半導体モジュールとして利用される。
In recent years, power semiconductor devices used in various fields such as railways, automobiles, and general home appliances are from conventional Si power semiconductors to SiC, AlN, GaN, etc. for further miniaturization, cost reduction, and high efficiency. Transition to power semiconductors using
A power semiconductor device is generally used as a power semiconductor module in which a plurality of semiconductor devices are disposed on a common heat sink and packaged.

このようなパワー半導体デバイスの実用化に向けて、種々の課題が指摘されているが、その内の一つにデバイスから発する熱の放熱問題がある。この問題は、一般的に、パワー半導体デバイスは、高出力・高密度化で作動させることにより高温となり、パワー半導体デバイスの信頼性に影響を与える。また、デバイスのスイッチングに伴う発熱なども、信頼性を低下させることが懸念されている。   Although various issues are pointed out toward practical use of such power semiconductor devices, one of the problems is the problem of heat radiation from the devices. In general, power semiconductor devices are heated to a high temperature by operating at high power and high density, which affects the reliability of the power semiconductor devices. In addition, there is a concern that the heat generation associated with the switching of the device may lower the reliability.

近年、特に電気・電子分野では集積回路の高密度化に伴う発熱が大きな問題となっており、いかに熱を放熱するかが緊急の課題となっている。   In recent years, particularly in the electric and electronic fields, heat generation accompanying the densification of integrated circuits has become a major issue, and how to dissipate heat is an urgent issue.

この課題を解決する一つの手法として、パワー半導体デバイスを実装する放熱基板に、アルミナ基板や窒化アルミニウム基板などの熱伝導性の高いセラミック基板が使用されている。しかしながら、これらの基板は多層化が困難であり、加工性も悪く、コストも非常に高いという課題があった。一方、樹脂を利用した放熱シートは、加工性に優れ、積層も可能であるという特徴を有するものの、放熱性の指標である熱伝導率が非常に低いという課題がある。   As one method for solving this problem, a ceramic substrate with high thermal conductivity such as an alumina substrate or an aluminum nitride substrate is used as a heat dissipation substrate on which a power semiconductor device is mounted. However, there is a problem that these substrates are difficult to be multi-layered, the processability is bad, and the cost is very high. On the other hand, although the heat dissipation sheet using resin is characterized by being excellent in processability and capable of being laminated, there is a problem that the thermal conductivity which is an index of heat dissipation is very low.

そこで、組成物の樹脂成分を構成する熱硬化性樹脂として、高熱伝導性のエポキシ樹脂を使用したり、このような高熱伝導性樹脂と高熱伝導性無機フィラーとを複合化したりすることで、組成物を高熱伝導化することが行われている。例えば、特許文献1には、球状の窒化ホウ素凝集体をフィラーとして配合した組成物が記載されている。この組成物は、通常適当な有機溶剤に分散ないし溶解させて適度な粘度に調整された塗布液として銅基板に塗布される。
しかし、以下の通り、従来において、樹脂を用いた放熱シートでは、セラミックス基板に匹敵するような熱伝導性を有するものは未だに開発されていない。
Therefore, as a thermosetting resin constituting the resin component of the composition, a high thermal conductivity epoxy resin is used, or the high thermal conductivity resin and the high thermal conductivity inorganic filler are combined to form a composition. It is practiced to make things highly heat conductive. For example, Patent Document 1 describes a composition in which spherical boron nitride aggregates are blended as a filler. This composition is usually applied to a copper substrate as a coating solution which is dispersed or dissolved in a suitable organic solvent to adjust its viscosity to an appropriate level.
However, as described below, conventionally, as a heat dissipation sheet using a resin, one having thermal conductivity comparable to that of a ceramic substrate has not been developed yet.

従来の組成物において、フィラーとしては窒化ホウ素(BN)が用いられている。窒化ホウ素(BN)は、絶縁性のセラミックスであり、ダイヤモンド構造を持つc−BN、黒鉛構造をもつh−BN(六方晶窒化ホウ素)、乱層構造を持つα−BN、β−BNなど様々な結晶型が知られている。なかでも、黒鉛構造をもつh−BNは、黒鉛と同じ層状構造を有し、合成が比較的容易でかつ熱伝導性、固体潤滑性、化学的安定性、耐熱性に優れるという特徴を備えており、電気・電子材料分野で多く利用されている。   In conventional compositions, boron nitride (BN) is used as a filler. Boron nitride (BN) is an insulating ceramic, c-BN having a diamond structure, h-BN (hexagonal boron nitride) having a graphite structure, α-BN, β-BN having an irregular layer structure, etc. Crystal forms are known. Among them, h-BN having a graphite structure has the same layer structure as graphite, and is characterized by being relatively easy to synthesize and excellent in thermal conductivity, solid lubricity, chemical stability, and heat resistance. Are widely used in the field of electrical and electronic materials.

また、h−BNは、絶縁性であるにもかかわらず、高い熱伝導性を有するという特徴を活かして、このような放熱部材用熱伝導性フィラーとして注目を集めており、放熱性に優
れた放熱シートを形成し得ると考えられる。前述の特許文献1以外にも、従来から窒化ホウ素粉体を用いる技術が知られており、そのような窒化ホウ素として、例えば、特定の粒径、粒度分布を有する窒化ホウ素粉体が知られている(例えば、特許文献2参照)。また、これとは別に表面積、粒度、タップ密度等の粒子特性の異なる二種の混合窒化ホウ素を用いる技術(例えば、特許文献3参照)が知られている。
In addition, h-BN is attracting attention as such a heat conductive filler for a heat radiating member, taking advantage of its high thermal conductivity despite the fact that it is insulating. It is believed that a heat dissipating sheet can be formed. In addition to the above-mentioned patent documents 1, the art which uses boron nitride powder conventionally is known, for example, boron nitride powder which has specific particle diameter and particle size distribution as such boron nitride is known. (See, for example, Patent Document 2). In addition to this, a technique using two types of mixed boron nitride having different particle properties such as surface area, particle size, tap density and the like (see, for example, Patent Document 3) is known.

また、h−BN粉体は、熱伝導性に優れた材料として知られており、粗六方晶窒化ホウ素粉体を水洗後、不活性ガス気流中で1200〜1850℃で加熱処理することで、高結晶性窒化ホウ素を作製する技術が知られている(例えば、特許文献4参照)。この技術では、窒化ホウ素の結晶子の100面の結晶子サイズ(La)を成長させている。また、特許文献5では、粗製六方晶窒化ホウ素粉末に、特定の処理を施すことで、粒子径が大きく、潤滑性に優れる六方晶窒化ホウ素粉末が得られることが記載されている。また、特許文献6には、同じく粗製六方晶窒化ホウ素粉末にランタンを主成分とする化合物を混合し、非酸化性ガス雰囲気下で特定の温度範囲で加熱処理することで、002面の結晶子サイズ(Lc)を成長させて得られる六方晶窒化ホウ素粉末が記載され、この六方晶窒化ホウ素粉末は、分散性に優れ、高結晶性を有することが記載されている。   In addition, h-BN powder is known as a material excellent in thermal conductivity, and after washing the crude hexagonal boron nitride powder, it is heat-treated at 1200 to 1850 ° C. in an inert gas flow, A technique for producing highly crystalline boron nitride is known (see, for example, Patent Document 4). In this technique, a crystallite size (La) of 100 planes of crystallites of boron nitride is grown. Further, Patent Document 5 describes that by subjecting the crude hexagonal boron nitride powder to a specific treatment, a hexagonal boron nitride powder having a large particle diameter and excellent lubricity can be obtained. In addition, Patent Document 6 similarly mixes a compound having lanthanum as a main component with the crude hexagonal boron nitride powder, and heat-processes it in a specific temperature range in a non-oxidizing gas atmosphere to obtain a crystallite of 002 plane. A hexagonal boron nitride powder obtained by growing the size (Lc) is described, and this hexagonal boron nitride powder is described to be excellent in dispersibility and to have high crystallinity.

しかしながら、h−BNは、板状の粒子形状であり、その板面方向(C面方向あるいは(002)面方向)には高い熱伝導性を示すものの(通常、熱伝導率として250W/mK程度)、板厚方向(C軸方向)には低い熱伝導性(通常、熱伝導率として2〜3W/mK程度)しか示さないため、これを樹脂に配合して組成物の塗布液として基板表面に塗布して塗膜を形成し、これを加熱してBステージ化し、更に本硬化を行って放熱シートを製造すると、製造された放熱シートにおいて、板状のBN粒子が塗膜の膜面方向に配向することとなり、形成された放熱シートは、膜面方向には熱伝導率に優れるものの、厚み方向には低い熱伝導率しか示さないという課題があった。   However, h-BN has a plate-like particle shape and exhibits high thermal conductivity in the plate surface direction (C plane direction or (002) plane direction) (usually, the thermal conductivity is about 250 W / mK or so) ), Because it exhibits only low thermal conductivity (generally, about 2 to 3 W / mK as thermal conductivity) in the plate thickness direction (C-axis direction), it is compounded in a resin and the substrate surface as a composition coating solution Is coated to form a coating, this is heated to be B-staged, and main curing is performed to produce a heat dissipation sheet. In the produced heat dissipation sheet, the plate-like BN particles are in the film surface direction of the coating Although the heat-radiating sheet thus formed has excellent thermal conductivity in the film surface direction, it has a problem that it exhibits only low thermal conductivity in the thickness direction.

従来、このようなBN粒子の熱伝導性の異方性を改良するために、窒化ホウ素の一次粒子が集合した二次粒子にすることで熱伝導のシート厚み方向への放熱性を上げる試みが行われてきた。
さらに、板状の窒化ホウ素粒子が配向することを妨げるように、球状窒化ホウ素二次粒子と併せて混合することが提案されている(特許文献7、8)。
In the past, in order to improve the thermal conductivity anisotropy of such BN particles, attempts have been made to increase the heat dissipation properties in the sheet thickness direction of heat conduction by using secondary particles in which primary particles of boron nitride are gathered. It has been done.
Furthermore, it is proposed to mix together with spherical boron nitride secondary particles so as to prevent the plate-like boron nitride particles from being oriented (Patent Documents 7 and 8).

特表2008−510878号公報Japanese Patent Application Publication No. 2008-510878 特開2008−189818号公報JP, 2008-189818, A 特表2010−505729号公報Japanese Patent Publication No. 2010-505729 特開昭61−7260号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-7260 特開平9−263402号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 9-263402 特許第5171798号公報Patent No. 5171798 gazette 特許第5092050号公報Patent No. 5092050 特開2009−144072号公報JP, 2009-144072, A

しかしながら、板状窒化ホウ素粒子の配向を抑えるために、上記文献で混合する球形窒化ホウ素二次粒子は、圧壊強度が高くない。そのため、シート内に形成される空隙をなくすために行うシート成形の際の加圧工程において、球形窒化ホウ素二次粒子がつぶれてしまうため、結果的に板状窒化ホウ素がシート長さ方向に配向してしまい、シートの厚さ方向に対しても効果的に熱伝導性を高めることができなかった。
本発明は、シートの厚さ方向にも高い熱伝導性を有する放熱シートを提供することを課題とする。
However, in order to suppress the orientation of the plate-like boron nitride particles, the spherical boron nitride secondary particles mixed in the above document do not have high crushing strength. Therefore, the spherical boron nitride secondary particles are crushed in the pressing step in forming the sheet to eliminate the voids formed in the sheet, and as a result, the plate-like boron nitride is oriented in the sheet length direction As a result, the thermal conductivity can not be effectively enhanced even in the thickness direction of the sheet.
An object of the present invention is to provide a heat dissipation sheet having high thermal conductivity also in the thickness direction of the sheet.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、放熱シートに含有させるフィラーとして、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子と窒化ホウ素板状粒子を用いることで、上記課題を解決することを見出した。つまり、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子がシート内の空隙をなくすための加圧工程においても圧壊することがなく、それによって併用する板状窒化ホウ素粒子がシート長手方向に配向しない。これによって、パワーデバイスの信頼性を高める高熱伝導性、高耐電圧性を有する放熱シートを提供できることを見出した。   The inventors of the present invention conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, using the secondary particles of boron nitride having a card house structure and the boron nitride plate-like particles as a filler to be contained in the heat dissipation sheet Found to solve. That is, the boron nitride secondary particles having a card house structure do not crush even in the pressing step for eliminating the voids in the sheet, whereby the plate-like boron nitride particles used in combination are not oriented in the sheet longitudinal direction. By this, it discovered that the thermal radiation sheet which has the high thermal conductivity and high voltage resistance which improves the reliability of a power device can be provided.

本発明は、このような知見に基づいて達成されたものであり、以下を要旨とする。
[1]カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子と、板状窒化ホウ素粒子とを含む放熱シート。
[2]前記板状窒化ホウ素粒子の長軸方向の長さが3μm以上であることを特徴とする[1]に記載の放熱シート。
[3]前記板状窒化ホウ素粒子は、XRD測定で100軸と004軸の強度比I(100)/I(004)が3.0より小さい、[1]または[2]に記載の放熱シート。
[4]窒化ホウ素二次粒子/(窒化ホウ素二次粒子+板状窒化ホウ素粒子)で表される、前記窒化ホウ素二次粒子と前記板状窒化ホウ素粒子との含有割合が、0.1以上0.98以下である、[1]〜[3]のいずれかに記載の放熱シート。
[5]前記窒化ホウ素二次粒子は、XRD測定で100軸と004軸の強度比I(100)/I(004)が3.0以上である、[1]〜[4]のいずれかに記載の放熱シート。[6]前記窒化ホウ素二次粒子は、樹脂を内包する粒子である、[1]〜[5]のいずれかに記載の放熱シート。
[7][1]〜[6]のいずれかに記載の放熱シートが支持体に積層されてなる積層放熱シート。
[8][1]〜[7]のいずれかに記載の放熱シートを含むパワーデバイス装置。
The present invention has been achieved based on such findings, and the gist of the present invention is as follows.
[1] A heat dissipation sheet containing secondary boron nitride particles having a card house structure and plate-like boron nitride particles.
[2] The heat dissipation sheet according to [1], wherein the length of the plate-like boron nitride particles in the long axis direction is 3 μm or more.
[3] The heat dissipation sheet according to [1] or [2], wherein the plate-like boron nitride particles have an intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axes to 004 axes smaller than 3.0 in XRD measurement. .
[4] The content ratio of the boron nitride secondary particles and the plate-like boron nitride particles represented by boron nitride secondary particles / (boron nitride secondary particles + plate-like boron nitride particles) is 0.1 or more The thermal radiation sheet in any one of [1]-[3] which is 0.98 or less.
[5] The boron nitride secondary particle according to any one of [1] to [4], wherein the intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axis and 004 axis is 3.0 or more in XRD measurement. Heat dissipation sheet as described. [6] The heat dissipation sheet according to any one of [1] to [5], wherein the boron nitride secondary particles are particles containing a resin.
[7] A laminated heat dissipation sheet in which the heat dissipation sheet according to any one of [1] to [6] is laminated on a support.
[8] A power device apparatus including the heat dissipation sheet according to any one of [1] to [7].

本発明の放熱シートによれば、含有するカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子が、シート内の空隙をなくすための加圧工程においても圧壊することがない。そのため、本発明の放熱シートは高熱伝導性、高耐電圧性を有し、パワーデバイスに適用した際に、高い信頼性を付与することができる。
また、廉価な板状窒化ホウ素を併用することにより、放熱シートの製造コストを下げることができる。
According to the heat-radiating sheet of the present invention, the boron nitride secondary particles having the contained card house structure are not crushed even in the pressing step for eliminating the voids in the sheet. Therefore, the heat dissipation sheet of the present invention has high thermal conductivity and high voltage resistance, and can impart high reliability when applied to a power device.
Moreover, the manufacturing cost of a thermal radiation sheet can be lowered | hung by using cheap plate-like boron nitride together.

(a)窒化ホウ素二次粒子のカードハウス構造を示すSEM写真であり、(b)窒化ホウ素二次粒子の断面におけるカードハウス構造の模式図である。(A) It is a SEM photograph which shows the cardhouse structure of a boron nitride secondary particle, (b) It is a schematic diagram of the cardhouse structure in the cross section of a boron nitride secondary particle. 実施例における窒化ホウ素二次粒子のSEM写真である(図面代用写真)。It is a SEM photograph of boron nitride secondary particles in an example (drawing substitute photograph).

以下、本発明を詳しく説明するが、本発明は以下の説明に限定して解釈されるものではなく、その要旨の範囲内で任意に実施することが可能である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail, but the present invention is not interpreted as being limited to the following description, and can be implemented arbitrarily within the scope of the present invention.

[1.放熱シート]
本発明の放熱シートは、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子(以下、単に窒化ホウ素二次粒子ともいう。)と、板状窒化ホウ素粒子の、二種類の窒化ホウ素粒子を含
む。
カードハウス構造とは、例えばセラミックス 43 No.2(2008年 日本セラミックス協会発行)に記載されており、板状粒子が配向せず複雑に積層した構造である。より具体的には、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子とは、窒化ホウ素一次粒子の集合体であって、一次粒子の平面部と端面部が接触している構造を有する窒化ホウ素二次粒子である(図1(a)(b)参照)。
カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子は、その構造上破壊強度が非常に高く、放熱シート成形時に行われる加圧工程においても圧壊しない。そのため、板状の窒化ホウ素粒子と併せて混合して用いることで、通常放熱シートの長手方向に配向する板状窒化ホウ素粒子を、ランダムな方向に存在させることが可能となった。結果として、放熱シートの長手方向のみならず、厚さ方向に対しても高い熱伝導性を達成できることを本発明者らは見出した。
[1. Heat dissipation sheet]
The heat-radiating sheet of the present invention includes two types of boron nitride particles: boron nitride secondary particles having a card house structure (hereinafter, also simply referred to as boron nitride secondary particles) and plate-like boron nitride particles.
The card house structure is, for example, ceramics 43 no. 2 (issued in 2008 by the Japan Ceramics Association), which is a structure in which plate-like particles are laminated in a complicated manner without being oriented. More specifically, the boron nitride secondary particles having a card house structure are an aggregate of boron nitride primary particles, and a boron nitride secondary particle having a structure in which a flat portion and an end portion of the primary particles are in contact with each other. It is a particle (see FIGS. 1 (a) and (b)).
The boron nitride secondary particles having a card house structure have a very high breaking strength due to their structure, and do not crush even in the pressing step performed at the time of forming the heat dissipation sheet. Therefore, by combining and using plate-like boron nitride particles, it has become possible to cause plate-like boron nitride particles normally oriented in the longitudinal direction of the heat dissipation sheet to be present in random directions. As a result, the inventors have found that high thermal conductivity can be achieved not only in the longitudinal direction of the heat dissipation sheet but also in the thickness direction.

[1−1.窒化ホウ素二次粒子]
本発明に用いる窒化ホウ素二次粒子は、カードハウス構造を有する。カードハウス構造は上記説明したとおりであるが、窒化ホウ素二次粒子は、好ましくは窒化ホウ素一次粒子が板状であって、平面部と端面部が接触しているカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子であり、より好ましくは窒化ホウ素一次粒子が多角形状であって、平面部と端面部が接触しているカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子である。
窒化ホウ素二次粒子の凝集形態は走査型電子顕微鏡(SEM)により確認することができる。
[1-1. Boron nitride secondary particles]
The boron nitride secondary particles used in the present invention have a cardhouse structure. Although the card house structure is as described above, the boron nitride secondary particles are preferably boron nitride 2 having a card house structure in which the boron nitride primary particles are plate-like and the flat surface portion and the end surface portion are in contact. It is a secondary particle, more preferably a boron nitride secondary particle having a cardhouse structure in which a primary surface of boron nitride is in a polygonal shape and a flat surface portion and an end surface portion are in contact with each other.
The aggregation form of the boron nitride secondary particles can be confirmed by a scanning electron microscope (SEM).

<ピーク強度比>
窒化ホウ素二次粒子は、XRD測定における100軸と004軸のピーク強度比I(100)/I(004)が、通常3.0以上、好ましくは3.1以上、より好ましくは、3.2以上、特に好ましくは、3.3以上である。通常、上限はないが、10以下である。
この範囲であることにより、窒化ホウ素二次粒子を構成している1次粒子がランダムに配向していることを示し、このような二次粒子は破壊強度が非常に高い。そのため、放熱シートを成形する際のシート内の空隙をなくすための加圧工程の際に加圧しても、窒化ホウ素二次粒子が圧壊することない。それにより、併せて混合している板状窒化ホウ素粒子がランダムに配向することができ、放熱シートの厚さ方向への熱伝導性を高めることができる。
なお、ピーク強度比は粉末X線回折測定により測定された該当するピーク強度の強度比から計算することができる。なお、測定に供する試料は、一次粒子が凝集した窒化ホウ素二次粒子であってもよく、後述する樹脂が内包された窒化ホウ素粒子でもよい。また、成形体(放熱シート)の状態でX線回折測定を行うこともできる。
<Peak intensity ratio>
The boron nitride secondary particles generally have a peak intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axis and 004 axis in the XRD measurement of usually 3.0 or more, preferably 3.1 or more, more preferably 3.2 The above, particularly preferably 3.3 or more. Usually, there is no upper limit, but it is 10 or less.
By being in this range, it is indicated that primary particles constituting the boron nitride secondary particles are randomly oriented, and such secondary particles have very high breaking strength. Therefore, the secondary boron nitride particles are not crushed even if pressure is applied in the pressing step for eliminating the voids in the sheet when the heat dissipating sheet is formed. Thereby, the plate-like boron nitride particles mixed together can be randomly oriented, and the heat conductivity in the thickness direction of the heat dissipation sheet can be enhanced.
The peak intensity ratio can be calculated from the intensity ratio of the corresponding peak intensities measured by powder X-ray diffraction measurement. The sample to be subjected to the measurement may be boron nitride secondary particles in which primary particles are aggregated, or may be boron nitride particles in which a resin described later is contained. Moreover, X-ray-diffraction measurement can also be performed in the state of a molded object (heat dissipation sheet).

<破壊強度>
窒化ホウ素二次粒子の破壊強度は、通常2.5MPa以上、好ましくは3.0MPa以上、より好ましくは3.5MPa以上、更に好ましくは4.0MPa以上であり、通常20MPa以下、好ましくは15MPa以下、更に好ましくは10MPa以下である。上記上限より大きいと、粒子の強度が強すぎるため、成形体とした際に表面平滑性が失われ、熱伝導性が低下する傾向があり、上記下限未満だと、成形体を作製する際の圧力で粒子が変形しやすくなり、熱伝導性が向上しない傾向がある。
なお、破壊強度は、粒子1粒をJIS R 1639−5に従って圧縮試験し、下記式により算出できる。通常、粒子は5点以上測定し、その平均値を採用する。
式:Cs=2.48P/πd2
Cs:破壊強度(MPa)
P:破壊試験力(N)
d:粒子径(mm)
ただし、粒子が変形したりして破壊強度が算出できず、10%強度で表す場合があるが、この場合は破壊強度という概念を適用しない。
<Breaking strength>
The fracture strength of the boron nitride secondary particles is usually 2.5 MPa or more, preferably 3.0 MPa or more, more preferably 3.5 MPa or more, still more preferably 4.0 MPa or more, and usually 20 MPa or less, preferably 15 MPa or less, More preferably, it is 10 MPa or less. If it is larger than the above upper limit, the particle strength is too strong, so the surface smoothness is lost when formed into a molded product, and the thermal conductivity tends to decrease, and if smaller than the above lower limit, the molded product is produced The particles tend to be deformed by pressure, and thermal conductivity tends not to be improved.
The breaking strength can be calculated from the following equation by compression testing one particle according to JIS R 1639-5. Usually, particles are measured at 5 points or more, and the average value is adopted.
Formula: Cs = 2.48P / πd 2
Cs: fracture strength (MPa)
P: Destructive test force (N)
d: Particle size (mm)
However, the particles may be deformed and the fracture strength can not be calculated, and may be expressed as 10% strength. In this case, the concept of the fracture strength is not applied.

<比表面積>
窒化ホウ素二次粒子の比表面積は通常1m2/g以上であるが、好ましくは3m2/g以上50m2/g以下、より好ましくは5m2/g以上40m2/g以下である。この下限以下だと毛管現象が働きにくく、この上限以上だと一次粒子が小さすぎ、後述する樹脂内包窒化ホウ素粒子とすることが難しい。
なお、比表面積は、BET1点法(吸着ガス:窒素)で測定することができる。
<Specific surface area>
The specific surface area of the boron nitride secondary particles is usually 1 m 2 / g or more, preferably 3 m 2 / g to 50 m 2 / g, more preferably 5 m 2 / g to 40 m 2 / g. Below this lower limit, it is difficult for the capillary phenomenon to work, and above this upper limit, the primary particles are too small, and it is difficult to form resin-encapsulated boron nitride particles described later.
The specific surface area can be measured by the BET one-point method (adsorbed gas: nitrogen).

<平均結晶子径>
窒化ホウ素二次粒子の粉末X線回折(XRD)による(002)面ピークから求めた平均結晶子径は、通常375Å以上であり、好ましくは380Å以上、より好ましくは390Å以上、更に好ましくは400Å以上であり、通常5000Å以下、好ましくは2000Å以下、更に好ましくは1000Å以下である。上記上限より大きいと、二次粒子を構成する一次粒子が成長しすぎるため、二次粒子内の間隙が多くなり、毛管現象が生じにくくなるため、後述する樹脂内包窒化ホウ素粒子とすることが難しい。上記下限未満だと、二次粒子を構成する一次粒子内の粒界が増えるため、フォノン散乱が結晶粒界で発生し、低熱伝導になる傾向がある。
なお、ここで、「平均結晶子径」とは、粉末X線回折測定によって得られる(002)面ピークからScherrer式にて求められる結晶子径をさす。なお、測定に供する試料は、一次粒子が凝集した窒化ホウ素二次粒子であってもよく、後述する樹脂が内包された窒化ホウ素粒子でもよい。
<Average crystallite diameter>
The average crystallite diameter of the boron nitride secondary particles determined from the (002) plane peak by powder X-ray diffraction (XRD) is usually 375 Å or more, preferably 380 Å or more, more preferably 390 Å or more, still more preferably 400 Å or more And is usually 5000 Å or less, preferably 2000 Å or less, and more preferably 1000 Å or less. If it is larger than the above upper limit, the primary particles constituting the secondary particles grow too much, so the gaps in the secondary particles increase and the capillary phenomenon becomes difficult to occur, so it is difficult to form resin-encapsulated boron nitride particles described later . If it is less than the above lower limit, grain boundaries in primary particles constituting secondary particles increase, so that phonon scattering tends to occur at grain boundaries, and there is a tendency for low thermal conductivity.
Here, the "average crystallite diameter" refers to the crystallite diameter determined by the Scherrer formula from the (002) plane peak obtained by powder X-ray diffraction measurement. The sample to be subjected to the measurement may be boron nitride secondary particles in which primary particles are aggregated, or may be boron nitride particles in which a resin described later is contained.

<窒化ホウ素一次粒子の大きさ>
本発明に用いる窒化ホウ素二次粒子の別の表現としては、窒化ホウ素一次粒子の長軸が通常0.5〜10μmに成長し、二次粒子の中心側から表面側へ向けて放射状に成長したウニ様の外観を形成しているともできる。窒化ホウ素二次粒子を構成する窒化ホウ素一次粒子の長軸は、好ましくは、0.6〜5μmであり、より好ましくは、0.8〜3μmであり、更に好ましくは、1.0〜3.0μmのh−BNが凝集した粒子である。
尚、長軸とは走査型電子顕微鏡(SEM)測定により得られた粒子1粒を拡大し、1粒の粒子を構成している一次粒子について、画像上で観察できる一次粒子の最大長を平均した値である。
<Size of primary boron nitride particles>
As another expression of the boron nitride secondary particles used in the present invention, the major axis of the boron nitride primary particles is usually grown to 0.5 to 10 μm, and radially grown from the center side to the surface side of the secondary particles It can also form a sea urchin-like appearance. The major axis of the boron nitride primary particles constituting the boron nitride secondary particles is preferably 0.6 to 5 μm, more preferably 0.8 to 3 μm, and still more preferably 1.0 to 3. It is a particle in which 0 μm h-BN is aggregated.
The major axis is an enlargement of one particle obtained by scanning electron microscope (SEM) measurement, and the primary particle constituting one particle is an average of the maximum length of primary particles that can be observed on an image. Value.

<細孔直径>
窒化ホウ素二次粒子は、毛管現象による窒化ホウ素二次粒子中への樹脂の導入を容易にする観点から、細孔直径が10nm以上であることが好ましく、30nm以上がより好ましく、50nm以上が更に好ましい。一方細孔直径が10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましく、3μm以下であることが更に好ましい。細孔直径は、水銀圧入法により測定することができる。
<細孔容積>
窒化ホウ素二次粒子は、好ましくは後述する樹脂が内包された窒化ホウ素二次粒子である。樹脂が内包された窒化ホウ素二次粒子は、毛管現象によって樹脂を空隙に導入しているので、樹脂が内包される前の窒化ホウ素二次粒子は、適度な細孔容積が必要となる。
窒化ホウ素二次粒子の全細孔容積は、通常0.05ml/g以上、好ましくは0.1ml/g以上、より好ましくは0.15ml/g以上、更に好ましくは0.2ml/g以上である。一方通常、5 ml/g以下、好ましくは3 ml/g以下、より好ましくは2 ml/g以下、さらに好ましくは1.5 ml/g以下である。
全細孔容積が小さいものは、窒化ホウ素二次粒子内が密になっているために、熱伝導を阻害する境界面を少なくすることが可能となるものの、窒化ホウ素二次粒子の空隙に樹脂
が入りにくくなり、十分に窒化ホウ素二次粒子の空隙を樹脂で埋めることができなくなる。一方、全細孔容積が大きくなりすぎた場合も、通常は空隙の間隔が大きくなりすぎ、毛管現象が起こりにくくなり、樹脂が窒化ホウ素二次粒子内部に取り込まれにくくなる。
なお、窒化ホウ素二次粒子の全細孔容積は、水銀圧入法で測定することができる。
<Pore diameter>
The boron nitride secondary particles preferably have a pore diameter of 10 nm or more, more preferably 30 nm or more, and further 50 nm or more from the viewpoint of facilitating the introduction of the resin into the boron nitride secondary particles by capillary phenomenon. preferable. On the other hand, the pore diameter is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, and still more preferably 3 μm or less. The pore diameter can be measured by mercury porosimetry.
<Pore volume>
The boron nitride secondary particles are preferably boron nitride secondary particles in which a resin described later is contained. Since the boron nitride secondary particles in which the resin is contained introduce the resin into the voids by capillary action, the boron nitride secondary particles before the resin is contained requires an appropriate pore volume.
The total pore volume of the boron nitride secondary particles is usually 0.05 ml / g or more, preferably 0.1 ml / g or more, more preferably 0.15 ml / g or more, still more preferably 0.2 ml / g or more . On the other hand, it is usually 5 ml / g or less, preferably 3 ml / g or less, more preferably 2 ml / g or less, and still more preferably 1.5 ml / g or less.
If the total pore volume is small, the inside of the boron nitride secondary particles is dense, so it is possible to reduce the interface that inhibits the heat conduction, but the resin in the void of the boron nitride secondary particles It becomes difficult for the resin to fill the voids of the boron nitride secondary particles sufficiently. On the other hand, even when the total pore volume is too large, the space between the voids is usually too large, so that the capillary phenomenon is less likely to occur and the resin is less likely to be taken into the boron nitride secondary particles.
The total pore volume of the boron nitride secondary particles can be measured by mercury porosimetry.

<体積基準の最大粒子径Dmax、平均粒子径D50
窒化ホウ素二次粒子は、体積基準の最大粒子径Dmax(本明細書では、単に「最大粒子径」と記載する場合がある。)が、通常2μm以上であり、好ましくは3μm以上であり、より好ましくは5μm以上であり、特に好ましくは10μm以上である。また、通常300μm以下であり、好ましくは200μm以下であり、より好ましくは100μm以下であり、特に好ましくは80μm以下である。
<Volume-based maximum particle diameter D max , average particle diameter D 50 >
The boron nitride secondary particles generally have a volume-based maximum particle diameter D max (which may be simply referred to as “maximum particle diameter” in this specification), usually 2 μm or more, and preferably 3 μm or more. More preferably, it is 5 μm or more, and particularly preferably 10 μm or more. Also, it is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, and particularly preferably 80 μm or less.

窒化ホウ素二次粒子(以下、単にフィラーともいう。)の最大粒子径が、上記上限以下であることにより、マトリクス樹脂とフィラー界面が減少する結果、熱抵抗が小さくなり、高熱伝導化を達成できるとともに、表面荒れなどのない良質な膜を形成できる。最大粒子径が上記下限より小さいと、パワー半導体デバイスに求められる熱伝導性フィラーとしての熱伝導性向上効果が小さくなる。高熱伝導性のフィラーを用いた場合、複合材料として熱伝導性を発現するためには、熱伝導性フィラーと樹脂の界面密着性、複合材料と基材の密着性などが重要であり、これらの界面が最も熱伝導性減衰の要因となると考えられている。特に、パワー半導体デバイス用の放熱シートとしては、200μm〜300μm厚みの放熱シートが適用されるケースが多いが、シートの厚みに対して上述の界面の影響が顕著になるのは放熱シート厚みに対する熱伝導性フィラーの大きさが1/10以下の場合であると考えられる。したがって、熱伝導性の観点からはフィラーの体積基準の最大粒子径は上記下限より大きいことが好ましい。フィラーの体積基準の最大粒子径が上記上限を超えると、硬化した後の放熱シートの表面にフィラーが突出して、放熱シートの表面形状が悪化し、銅基板との張り合わせシートを作製する際の密着性が低下し、耐電圧特性が低下する傾向となる。一方で、フィラーの最大粒子径が小さ過ぎると、熱伝導性に及ぼす上述の界面の影響が顕著になる以外に、フィラー粒子が小さいことにより必要となる熱伝導パス数が増加して、放熱シートの厚み方向に一方の面から他方の面まで繋がる確率が小さくなり、熱伝導性の高いマトリクス樹脂と組み合わせても、放熱シートの厚み方向の熱伝導率向上効果が不十分となったり、マトリクス樹脂とフィラーの界面面積が大きくなり、耐電圧特性が低下する傾向がある。   When the maximum particle diameter of the boron nitride secondary particles (hereinafter, also simply referred to as a filler) is less than or equal to the above upper limit, the interface between the matrix resin and the filler decreases, so the thermal resistance decreases and high thermal conductivity can be achieved. In addition, it is possible to form a high quality film free from surface roughness and the like. When the maximum particle diameter is smaller than the above lower limit, the effect of improving the thermal conductivity as the thermally conductive filler required for the power semiconductor device is reduced. When high thermal conductivity fillers are used, in order to express thermal conductivity as a composite material, the interface adhesion between the thermal conductive filler and the resin, the adhesion between the composite material and the substrate, etc. are important. It is believed that the interface is the most responsible for heat transfer damping. In particular, a heat dissipation sheet with a thickness of 200 μm to 300 μm is often applied as a heat dissipation sheet for power semiconductor devices, but the effect of the above-mentioned interface on the thickness of the sheet becomes remarkable It is considered that the size of the conductive filler is 1/10 or less. Therefore, from the viewpoint of thermal conductivity, the volume-based maximum particle diameter of the filler is preferably larger than the above lower limit. When the volume-based maximum particle diameter of the filler exceeds the above upper limit, the filler protrudes on the surface of the heat-radiating sheet after curing, the surface shape of the heat-radiating sheet is deteriorated, and adhesion when producing a laminated sheet with a copper substrate The tendency is that the resistance is lowered and the withstand voltage characteristics are lowered. On the other hand, when the maximum particle diameter of the filler is too small, the influence of the above-mentioned interface on the thermal conductivity becomes remarkable, and the number of heat conduction paths required due to the small filler particles increases. The probability of connecting from one side to the other side in the thickness direction of the sheet is small, and even when combined with a matrix resin with high thermal conductivity, the effect of improving the thermal conductivity in the thickness direction of the heat dissipation sheet becomes insufficient. The interface area of the filler and the filler tends to be large, and the withstand voltage characteristics tend to be lowered.

一般的には、パワー半導体デバイス用放熱シートは、更なる高速化・高容量化などの性能向上のために、200℃〜300℃の高温で使用されることが想定されているが、この200℃以上の高温下での使用でも周辺部材の寿命を延ばし、高熱伝導性および耐電圧特性などの信頼性を確保するためには、配合されるフィラーの最大粒子径は、放熱シートの厚みに対して通常1/10以上、好ましくは1/5以上、より好ましくは1/4以上であり、通常1/2以下、好ましくは1/3以下である。   In general, it is assumed that the heat dissipation sheet for power semiconductor devices is used at a high temperature of 200 ° C. to 300 ° C. in order to further improve performance such as speeding up and capacity increase. In order to extend the life of peripheral members and ensure reliability such as high thermal conductivity and withstand voltage characteristics even when used at high temperatures above 0 ° C, the maximum particle diameter of the blended filler is relative to the thickness of the heat dissipation sheet It is usually 1/10 or more, preferably 1/5 or more, more preferably 1/4 or more, and usually 1/2 or less, preferably 1/3 or less.

また、窒化ホウ素二次粒子の体積基準の平均粒子径D50(以下、単に「平均粒径」と記載する場合がある。)については特に制限はないが、上記体積基準の最大粒子径の値と同様な理由から、通常1μm以上、好ましくは2μm以上、より好ましくは3μm以上、さらに好ましくは5μm以上である。また、通常250μm以下、好ましくは150μm以下、より好ましくは90μm以下、さらに好ましくは70μm以下である。平均粒径D50を上記範囲とすることにより、放熱シートの厚み方向に十分な熱伝導率を有し、耐電圧特性も良好な放熱シートを得ることができる。 Also, the volume-based average particle diameter D 50 of the boron nitride secondary particles (hereinafter sometimes referred to simply as “average particle diameter”) is not particularly limited, but the value of the above-mentioned volume-based maximum particle diameter For the same reason as in the above, it is usually 1 μm or more, preferably 2 μm or more, more preferably 3 μm or more, and still more preferably 5 μm or more. Also, it is usually 250 μm or less, preferably 150 μm or less, more preferably 90 μm or less, and still more preferably 70 μm or less. By the average particle size D 50 in the above range, a sufficient thermal conductivity in the thickness direction of the heat radiation sheet, the withstand voltage characteristics can be obtained a good heat dissipation sheet.

上記最大粒子径及び平均粒径は、例えば、これを適当な溶剤に分散させ、具体的には、分散安定剤としてヘキサメタリン酸ナトリウムを含有する純水媒体中に窒化ホウ素二次粒
子を分散させた試料に対して、堀場製作所社製レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置LA−920にて粒度分布を測定し、得られた粒度分布から窒化ホウ素二次粒子の最大粒子径及び平均粒径を求めることができる。
後述する、樹脂内包窒化ホウ素二次粒子の平均粒径及び最大粒子径についても同様に、これを適当な溶剤に分散させ、上記と同様の装置で測定することが可能である。
The above maximum particle size and average particle size are, for example, dispersed in an appropriate solvent, and specifically, boron nitride secondary particles are dispersed in a pure water medium containing sodium hexametaphosphate as a dispersion stabilizer For the sample, the particle size distribution is measured by a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring apparatus LA-920 manufactured by Horiba, Ltd., and the maximum particle size and the average particle size of the boron nitride secondary particles are determined from the obtained particle size distribution. be able to.
The average particle diameter and the maximum particle diameter of the resin-incorporated boron nitride secondary particles, which will be described later, can be similarly dispersed in an appropriate solvent and measured with the same apparatus as described above.

窒化ホウ素球状二次粒子は、カードハウス構造を有し、好ましくは上記物性を満たすものであれば、その製造方法は限定されない。以下に、窒化ホウ素二次粒子の製造方法の詳細を例示する。   The manufacturing method of the boron nitride spherical secondary particles is not limited as long as it has a cardhouse structure and preferably satisfies the above-mentioned physical properties. The details of the method for producing boron nitride secondary particles are exemplified below.

[1−2.窒化ホウ素二次粒子の製造方法]
窒化ホウ素二次粒子を製造する方法としては、制限はないが、特にカードハウス構造とするためには、原料となる窒化ホウ素(以下、これを粉砕したものとともに原料BN粉末と記することがある。)を粉砕工程で粉砕した後、造粒工程で凝集させることにより造粒し、更に加熱処理する加熱工程を経ることが好ましい。より具体的には、原料BN粉末を一旦媒体中に分散させて原料BN粉末のスラリー(以下、「BNスラリー」と記することがある。)とした後、粉砕処理を施し、その後得られたスラリーを用いて球形の粒子に造粒し、造粒した凝集BN造粒粒子の結晶化を行うために加熱処理を施すことが好ましい。
[1-2. Method of producing boron nitride secondary particles]
The method for producing the boron nitride secondary particles is not particularly limited, but in order to form a card house structure, in particular, boron nitride as a raw material (hereinafter, it may be described as raw BN powder together with a pulverized one thereof) ) Is crushed in a crushing step, and then granulated by aggregating in a granulation step, and it is preferable to go through a heating step of further heat treatment. More specifically, the raw material BN powder was once dispersed in a medium to form a slurry of the raw material BN powder (hereinafter sometimes referred to as "BN slurry"), and then subjected to a grinding treatment, and then obtained. It is preferable to heat-process in order to crystallize to spherical particle | grains using a slurry and to crystallize the granulated aggregated BN granulated particle.

<原料BN粉末>
窒化ホウ素二次粒子(以下、凝集BN粒子ともいう。)を製造する場合には、以下に説明する窒化ホウ素の粒子を原料として用いることが可能である。ただし、本発明の凝集BN粒子の原料としては以下のものに特に限定されない。
より具体的には、市販のh−BN、市販のαおよびβ−BN、ホウ素化合物とアンモニアの還元窒化法により作製されたBN、ホウ素化合物とメラミンなどの含窒素化合物から合成されたBN、ホウ水素ナトリウムと塩化アンモニウムから作製されるBNなど何れも制限なく使用できるが、特にh−BNが好ましく用いられる。
Raw material BN powder
When producing boron nitride secondary particles (hereinafter, also referred to as aggregated BN particles), it is possible to use particles of boron nitride described below as a raw material. However, the raw material of the agglomerated BN particles of the present invention is not particularly limited to the following.
More specifically, commercially available h-BN, commercially available .alpha. And .beta.-BN, BN prepared by the reduction nitriding method of a boron compound and ammonia, BN synthesized from a boron compound and a nitrogen-containing compound such as melamine, boro Any of sodium hydrogen and BN prepared from ammonium chloride can be used without any limitation, but h-BN is particularly preferably used.

h−BN結晶成長の観点からは、原料となるh−BN等の原料BN粉末中に酸素がある程度存在することが好ましく、原料BN粉末中の全酸素含有量は1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、原料BN粉末中の全酸素含有量はより好ましくは3質量%以上10質量%以下、さらに好ましくは3質量%以上9質量%以下である。   From the viewpoint of h-BN crystal growth, it is preferable that oxygen be present in the raw material BN powder such as h-BN as a raw material to some extent, and the total oxygen content in the raw material BN powder is 1% by mass or more and 10% by mass or less The total oxygen content in the raw material BN powder is preferably 3% by mass to 10% by mass, and more preferably 3% by mass to 9% by mass.

全酸素含有量が上記範囲内である原料BN粉末は、一次粒子径が小さく、結晶が未発達のものが多いため、加熱処理により結晶が成長し易い。造粒により原料BN粉末が凝集したBN造粒粒子を加熱処理することでBN結晶を成長させることが好ましいが、上記全酸素含有量の範囲の原料BN粉末を用いることで、BN結晶の一次粒子がa軸を外に向けるように法線方向へカードハウス構造を形成するように成長させる、すなわちBN一次粒子を得られる凝集BN粒子表面において放射状、かつ、BN一次粒子の平面部と端面部が接触するように配置することができる。
凝集BN粒子が、一次粒子を表面で放射状に、かつ、BN一次粒子の平面部と端面部が接触するように配置することにより、毛管現象により、樹脂が窒化ホウ素二次粒子内の中心部まで導入されやすくなるという利点もある。
The raw material BN powder having a total oxygen content in the above range has small primary particle diameter and many undeveloped crystals, so crystals tend to grow by heat treatment. It is preferable to grow BN crystals by heat-treating BN granulated particles in which raw material BN powder is aggregated by granulation, but primary particles of BN crystal are obtained by using raw material BN powder in the range of the total oxygen content. Is grown to form a cardhouse structure in the normal direction so that the a-axis points out, that is, the flat and end portions of the BN primary particles are radial on the surface of the agglomerated BN particles from which BN primary particles can be obtained. It can be arranged to be in contact.
The agglomerated BN particles arrange the primary particles radially on the surface and in such a manner that the flat surface portion and the end surface portion of the BN primary particles are in contact with each other, whereby the resin reaches the central portion in the boron nitride secondary particles by capillary action. It also has the advantage of being easy to introduce.

原料BN粉末の全酸素含有量が上記下限未満の場合、原料BN自体の純度、結晶性が良いために、C面の結晶成長が十分になされず、凝集BN粒子表面において、BN一次粒子を放射状に、かつ、カードハウス構造に配置することができず、逆に上記上限を超えると、加熱処理後も酸素含有量が高い状態となって、放熱シートとして用いた際に高熱伝導化が図れなくなるため好ましくない。
原料BN粉末の全酸素含有量を上記範囲に調整する方法としては、BN加熱時の加熱温
度を2500℃以下の低温で行う方法などが挙げられる。
When the total oxygen content of the raw material BN powder is less than the above lower limit, the crystal growth of the C surface is not sufficiently performed because the purity and crystallinity of the raw material BN itself are good, and the BN primary particles are radially emitted on the aggregated BN particle surface And, it can not be disposed in the card house structure, conversely, if the above upper limit is exceeded, the oxygen content becomes high even after heat treatment, and high thermal conductivity can not be achieved when used as a heat dissipation sheet Unfavorable.
As a method of adjusting the total oxygen content of raw material BN powder to the said range, the method of performing the heating temperature at the time of BN heating at the low temperature of 2500 degrees C or less, etc. are mentioned.

また、全酸素含有量が上記好適範囲の原料BN粉末としては市販品を用いることもでき、例えば、日新リフラテック社製のh−BN「ABN」やMARUKA社製のh−BN「AP170S」などが挙げられる。
なお、原料BN粉末の酸素含有量は、不活性ガス融解−赤外線吸収法によりHORIBA製酸素・窒素分析計を用いて測定することができる。
Moreover, a commercial item can also be used as a raw material BN powder whose total oxygen content is the said suitable range, For example, h-BN "ABN" by Nisshin Lifratec, h-BN "AP170S" by MARUKA, etc. Can be mentioned.
The oxygen content of the raw material BN powder can be measured by an inert gas melting-infrared absorption method using an HORIBA oxygen / nitrogen analyzer.

また、原料BN粉末の他の物性としては、例えば、原料BN粉末の全細孔容積は通常1.0cm3/g以下であるが、好ましくは0.3cm3/g以上1.0cm3/g以下、より好ましくは0.5cm3/g以上1.0cm3/g以下である。
また、原料BN粉末の比表面積は通常20m2/g以上であるが、好ましくは20m2/g以上500m2/g以下、より好ましくは50m2/g以上200m2/g以下である。
全細孔容積が1.0cm3/g以下であることにより、原料BN粉末が密になっているために凝集BN粒子を構成する一次粒子として用いた場合に、球形度の高い造粒が可能となる。また、比表面積が20m2/g以上であることにより、造粒による球形化の際に用いるBNスラリー中の分散粒子径を小さくすることができるため好ましい。
Moreover, as other physical properties of the raw material BN powder, for example, the total pore volume of the raw material BN powder is usually 1.0 cm 3 / g or less, preferably 0.3 cm 3 / g or more and 1.0 cm 3 / g Or less, more preferably 0.5 cm 3 / g or more and 1.0 cm 3 / g or less.
The specific surface area of the raw material BN powder is usually 20 m 2 / g or more, preferably 20 m 2 / g to 500 m 2 / g, and more preferably 50 m 2 / g to 200 m 2 / g.
When the total pore volume is 1.0 cm 3 / g or less, granulation of high sphericity is possible when the raw material BN powder is dense and it is used as primary particles constituting agglomerated BN particles It becomes. In addition, when the specific surface area is 20 m 2 / g or more, the dispersed particle diameter in the BN slurry used in the spheroidization by granulation can be reduced, which is preferable.

なお、原料BN粉末の全細孔容積は、水銀圧入法で測定することができ、比表面積は、BET1点法(吸着ガス:窒素)で測定することができる。   The total pore volume of the raw material BN powder can be measured by the mercury intrusion method, and the specific surface area can be measured by the BET one-point method (adsorbed gas: nitrogen).

<BNスラリーの調製>
BNスラリーの調製に用いる媒体としては特に制限はなく、水及び/又は各種の有機溶剤を用いることができるが、噴霧乾燥の容易さ、装置の簡素化などの観点から、水(純水)を用いることが好ましい。
水の使用量は、多過ぎると噴霧乾燥時の負荷が増大し、少な過ぎると均一分散が困難であることから、原料BN粉末に対して通常0.5〜20質量倍、特に0.5〜10質量倍とすることが好ましい。
Preparation of BN Slurry
The medium used to prepare the BN slurry is not particularly limited, and water and / or various organic solvents can be used, but water (pure water) is used in view of easiness of spray drying, simplification of the apparatus, etc. It is preferred to use.
If the amount of water used is too large, the load at the time of spray drying will increase and if it is too small, uniform dispersion will be difficult. It is preferable to make it 10 mass times.

BNスラリーの、25℃1atmにおける粘度は、通常100mPa・s以上であり、好ましくは300mPa・s以上である。また通常3000mPa・s以下であり、好ましくは2000mPa・s以下である。この範囲であることで、樹脂を内包しやすい窒化ホウ素二次粒子を製造し易くなる。   The viscosity of the BN slurry at 25 ° C. and 1 atm is usually 100 mPa · s or more, preferably 300 mPa · s or more. Also, it is usually 3000 mPa · s or less, preferably 2000 mPa · s or less. It becomes easy to manufacture the boron nitride secondary particle which is easy to contain resin by being this range.

<界面活性剤>
BNスラリーには、後述の粉砕処理時のスラリーの粘度上昇を抑制すると共に、BN粒子の分散安定性(凝集抑制)の観点から、種々の界面活性剤を添加してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤等を用いることができ、これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
<Surfactant>
Various surfactants may be added to the BN slurry from the viewpoint of the dispersion stability (aggregation suppression) of the BN particles as well as suppressing the increase in viscosity of the slurry during the pulverization treatment described later.
As surfactant, anionic surfactant, cationic surfactant, nonionic surfactant etc. can be used, These may be used individually by 1 type, and 2 or more types are mixed, You may use it.

BNスラリーに界面活性剤を添加して用いる場合、BNスラリーの界面活性剤濃度は通常0.1質量%以上10質量%以下、特に0.5質量%以上5質量%以下の割合となるように用いることが好ましい。BNスラリーの濃度が上記下限以上であることにより、界面活性剤を添加したことによる上記効果を十分に得ることができ、また、上記上限以下であることにより、原料BN粉末の含有量の高いBNスラリーを調製した後、造粒し、さらに加熱処理を施した際の残存炭素の影響を小さくすることができる。
なお、界面活性剤は、以下の粉砕処理の前に添加してもよく、粉砕処理後に添加してもよい。
When a surfactant is added to the BN slurry and used, the concentration of the surfactant in the BN slurry is usually 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, particularly 0.5% by mass or more and 5% by mass or less It is preferred to use. When the concentration of the BN slurry is the above lower limit or more, the above-mentioned effect by adding the surfactant can be sufficiently obtained, and by being below the above upper limit, BN having a high content of the raw material BN powder After the slurry is prepared, it is possible to reduce the influence of residual carbon when granulated and subjected to heat treatment.
The surfactant may be added before the following pulverizing treatment, or may be added after the pulverizing treatment.

<バインダー>
BNスラリーは、原料BN粉末を効果的に凝集粒子に造粒するために、バインダーを含むことが好ましい。バインダーは、元来、粒子同士が接着性のない原料BN粉末を強固に結びつけ、造粒粒子の形状を安定化するために作用する。
<Binder>
The BN slurry preferably contains a binder in order to effectively granulate the raw material BN powder into agglomerated particles. The binder acts to firmly bind the raw material BN powder, which is inherently non-adhesive, to stabilize the shape of the granulated particles.

BNスラリーに用いるバインダーとしては、BN粉末同士の接着性を高めることができるものであればよいが、造粒粒子は凝集化後に加熱処理されるため、この加熱処理工程における高温条件に対する耐熱性を有するものが好ましい。   The binder used for the BN slurry may be any binder as long as it can improve the adhesion between BN powders, but granulated particles are heat-treated after aggregation, so heat resistance to high temperature conditions in this heat treatment step It is preferable to have.

このようなバインダーとしては金属酸化物が好ましく、具体的には酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、酸化カルシウム、酸化珪素、酸化ホウ素、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタンなどが好ましく用いられる。これらの中でも、酸化物としての熱伝導性と耐熱性、BN粉末同士を結合する結合力などの観点から、酸化アルミニウム、酸化イットリウムが好適である。なお、バインダーはアルミナゾルのような液状バインダーであってもよく、有機金属化合物のように焼成により金属酸化物に変換されるものを用いてもよい。
これらのバインダーは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
As such a binder, metal oxides are preferable, and specifically, aluminum oxide, magnesium oxide, yttrium oxide, calcium oxide, silicon oxide, silicon oxide, boron oxide, cerium oxide, zirconium oxide, titanium oxide and the like are preferably used. Among these, aluminum oxide and yttrium oxide are preferable from the viewpoints of thermal conductivity and heat resistance as oxides, bonding strength for bonding BN powders, and the like. The binder may be a liquid binder such as alumina sol, or a binder such as an organic metal compound which is converted to a metal oxide by firing may be used.
One of these binders may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

バインダーの使用量(液状バインダーの場合は、固形分としての使用量)は、BNスラリー中の原料BN粉末に対して、通常1質量%以上30質量%以下であり、好ましくは1質量%以上20質量%以下、より好ましくは5質量%以上20質量%以下である。バインダーの使用量が上記下限未満の場合、BN粉末同士を結着させる効果が小さくなるため造粒粒子が造粒後の形状を保てなくなるおそれがあり、上記上限を超えると造粒粒子中のBNの含有量が少なくなり、結晶成長に影響するばかりか熱伝導性のフィラーとして用いた場合に熱伝導率改善効果が小さくなるおそれがある。   The amount of binder used (in the case of liquid binder, the amount used as solid content) is usually 1% by mass or more and 30% by mass or less, preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less based on the raw material BN powder in the BN slurry. It is the mass% or less, more preferably 5 mass% or more and 20 mass% or less. If the amount of binder used is less than the above lower limit, the effect of binding the BN powders will be small, and there is a possibility that the granulated particles can not maintain the shape after granulation, and if it exceeds the above upper limit The content of BN decreases and not only influences the crystal growth, but when used as a thermally conductive filler, the effect of improving the thermal conductivity may be reduced.

<粉砕処理>
BNスラリーは、そのまま噴霧乾燥による造粒工程に供してもよいが、造粒に先立ち、スラリー中の原料BN粉末を粉砕処理して微細化することが好ましく、微細化することにより、凝集化を円滑に行うことができるようになる。
即ち、原料BN粉末の粒子径にもよるが、原料BN粉末をそのまま媒体中に分散させた場合、BN粉末は平板状粒子であるために、凝集化の工程で造粒されない粒子が多くなる傾向にあるが、微細化で、効率的な凝集化を行える。
<Crushing treatment>
The BN slurry may be used as it is in a granulation step by spray drying, but prior to granulation, it is preferable to pulverize the raw material BN powder in the slurry to make it finer, and aggregation is achieved by making it finer You will be able to do it smoothly.
That is, depending on the particle diameter of the raw material BN powder, when the raw material BN powder is dispersed as it is in a medium, since the BN powder is flat particles, there is a tendency that many particles not granulated in the aggregation step. However, miniaturization and efficient aggregation can be performed.

粉砕には、ビーズミル、ボールミル、ピンミルなど通常の粉砕方法を用いることができるが、スラリーとして大量に循環粉砕可能で粉砕粒子径を制御しやすいという観点からビーズミルが好適である。また、粉砕によりBN粒子が微粒子化することで、BNスラリーの粘度が上昇するため、より高濃度、高粘度でも粉砕が可能なものがよく、加えて、粉砕が進むにつれてBNスラリーの温度上昇も生じるため、冷却システムが備えられているものが好ましい。このような装置としては、例えばフロイントターボ社製「OBミル」、アシザワ・ファインテック社製「スターミルLMZシリーズ」などが挙げられる。   For pulverization, usual pulverization methods such as bead mill, ball mill and pin mill can be used, but bead mill is preferable from the viewpoint of being able to carry out mass circulation pulverization as slurry and controlling the pulverized particle size easily. In addition, since the viscosity of the BN slurry is increased by pulverizing the BN particles into fine particles, it is preferable that the BN slurry can be crushed even at a high concentration and high viscosity, and additionally, the temperature increase of the BN slurry as the crushing proceeds Preferably, a cooling system is provided as it occurs. As such an apparatus, for example, "OB mill" manufactured by Freundt Turbo, "Star Mill LMZ series" manufactured by Ashizawa Finetech, etc. may be mentioned.

<造粒(凝集化)>
BNスラリーから凝集BN粒子である造粒粒子を得るには、特に制限はないがスプレードライ法が好適に用いられる。スプレードライ法では、原料となるスラリーの濃度、装置に導入する単位時間当たりの送液量と送液したスラリーを噴霧する際の圧空圧力及び圧空量により、所望の大きさの造粒粒子を製造することが可能であって、球状の造粒粒子を得ることも可能である。球状化に際して使用するスプレードライ装置に制限はないが、より大きな球状BN造粒粒子とするためには、回転式ディスクによるものが最適である。この
ような装置としては、大川原化工機社製スプレードライヤーFシリーズ、藤崎電機社製スプレードライヤー「MDL−050M」などが挙げられる。
Granulation (aggregation)
Although there is no restriction in particular in order to obtain granulated particles which are agglomerated BN particles from BN slurry, a spray dry method is suitably used. In the spray drying method, granulated particles of a desired size are produced by the concentration of the slurry serving as the raw material, the amount of liquid feed per unit time introduced into the apparatus, and the pressure and pressure of the pressure of the fed slurry. It is also possible to obtain spherical granulated particles. There is no limitation on the spray-drying apparatus used for the spheroidization, but in order to obtain larger spherical BN granulated particles, a rotary disc is most suitable. As such an apparatus, the spray dryer F series by Ogawara Chemical Industries, Ltd., the spray dryer "MDL-050M" by Fujisaki Electric Co., etc. are mentioned.

造粒により得られた造粒粒子の最大粒子径は、加熱処理後に本発明の凝集BN粒子として体積基準の最大粒子径の範囲を25μmより大きく200μm以下とするために、体積基準の平均粒子径D50で通常1μm以上、特に10μm以上150μm以下、とりわけ10μm以上100μm以下であることが好ましい。ここで、造粒粒子の体積基準の平均粒子径D50は、例えば、日機装社製「マイクロトラックHRA」で測定することができる。 The maximum particle size of the granulated particles obtained by granulation is an average particle size on a volume basis in order to set the range of the maximum particle size on a volume basis to be larger than 25 μm and 200 μm or less as aggregated BN particles of the present invention after heat treatment. D 50 in the normal 1μm or more, particularly 10μm or 150μm or less, it is preferable that especially 10μm or 100μm or less. Here, the average particle diameter D 50 based on volume of the granulated particles, for example, can be measured by Nikkiso Co., Ltd. "Microtrac HRA".

<加熱処理>
上記の造粒により得られた窒化ホウ素の造粒粒子は、更に非酸化性ガス雰囲気下に加熱処理されるのが好ましい。
ここで、非酸化性ガス雰囲気とは、窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス、アンモニアガス、水素ガス、メタンガス、プロパンガス、一酸化炭素ガスなどの雰囲気のことである。ここで用いる雰囲気ガスの種類により凝集BN粒子の結晶化速度が異なるものとなり、例えばアルゴンガスでは、結晶化の速度が遅くなり、加熱処理時間が長時間に及ぶ。結晶化を短時間で行うためには特に窒素ガス、もしくは窒素ガスと他のガスを併用した混合ガスが好適に用いられる。この加熱処理の条件を適切に選択することも、凝集BN粒子の比表面積や全細孔容積を特定の範囲としながら、表面に窒化ホウ素一次粒子を放射状に配置させる上で、重要である。
<Heat treatment>
The granulated particles of boron nitride obtained by the above granulation are preferably further heat-treated in a non-oxidizing gas atmosphere.
Here, the non-oxidizing gas atmosphere is an atmosphere such as nitrogen gas, helium gas, argon gas, ammonia gas, hydrogen gas, methane gas, propane gas, carbon monoxide gas and the like. The crystallization rate of the agglomerated BN particles differs depending on the type of the atmosphere gas used here. For example, in the case of argon gas, the crystallization rate becomes slow, and the heat treatment time is extended for a long time. In order to carry out crystallization in a short time, in particular, nitrogen gas or a mixed gas in which nitrogen gas and another gas are used in combination is preferably used. Proper selection of the heat treatment conditions is also important for radially arranging the primary particles of boron nitride on the surface, with the specific surface area and the total pore volume of the agglomerated BN particles in a specific range.

加熱処理温度は通常1300℃〜2500℃であるが、好ましくは1300℃〜2300℃、更に好ましくは1400℃〜2200℃である。加熱処理温度が下記下限未満では、h−BNの結晶化が不十分となり、熱伝導性フィラーとした場合の熱伝導率改善効果が小さくなる。加熱処理温度が、上記上限を超えると、添加したバインダー成分が溶融・分解して凝集BN粒子同士が凝集し、本来の形状を保てなくなったり、BNの分解などが生じてしまうおそれがある。   The heat treatment temperature is usually 1300 ° C. to 2500 ° C., preferably 1300 ° C. to 2300 ° C., more preferably 1400 ° C. to 2200 ° C. When the heat treatment temperature is less than the lower limit described below, the crystallization of h-BN is insufficient, and the thermal conductivity improvement effect when it is used as a thermally conductive filler is reduced. When the heat treatment temperature exceeds the above upper limit, the added binder component melts and decomposes, the aggregated BN particles aggregate, and there is a possibility that the original shape can not be maintained or BN is decomposed.

加熱処理時間は、通常1時間以上、50時間以下であり、より好ましくは3時間以上、40時間以下、特に好ましくは5時間以上、30時間以下である。更に、上記加熱処理時間内に、特に1300℃〜1500℃で3時間以上の保持工程を導入することが好ましい。前記温度範囲で保持工程を導入することにより、より効率的にh−BNの結晶化が行われるため、上限の加熱処理温度を低下できる傾向にある。加熱処理時間が上記下限未満の場合、結晶化が不十分となり、上記上限を超えるとh−BNが一部分解するおそれがある。   The heat treatment time is usually 1 hour or more and 50 hours or less, more preferably 3 hours or more and 40 hours or less, and particularly preferably 5 hours or more and 30 hours or less. Furthermore, it is preferable to introduce a holding step for at least 3 hours at 1300 ° C. to 1500 ° C. within the above heat treatment time. By introducing the holding step in the above temperature range, h-BN can be crystallized more efficiently, so the upper heat treatment temperature tends to be able to be reduced. If the heat treatment time is less than the above lower limit, crystallization is insufficient, and if it exceeds the above upper limit, h-BN may be partially decomposed.

加熱処理は、非酸化性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、このためには、通常、炉内を真空ポンプで引きながら加熱し、加熱に伴う分解ガスなどが少なくなるまで排気を行った後、非酸化性ガスを導入しながら、続けて所望の温度まで加熱して昇温することが好ましい。真空ポンプで排気を行う温度の目安としては、200〜500℃、例えば、400℃付近まで30〜60分程度で加熱昇温した後、その温度を保持しながら30〜60分程度排気を続け、真空度が10Pa以下となるまで真空引きを行い、その後、非酸化性ガスを導入することが好ましい。非酸化性ガスの流量は、炉の大きさにもよるが、通常2L(リットル)/分以上であれば問題ない。その後、非酸化性ガスを導入しながら1500℃程度まで50〜100℃/時で昇温し、その後1500℃から所定の加熱処理温度まで30〜50℃/時で昇温する。この温度で上記加熱処理時間中、加熱した後、5〜50℃/分程度で室温まで降温することが好ましい。   The heat treatment is preferably performed in a non-oxidizing gas atmosphere, and for this purpose, the furnace is generally heated while being drawn by a vacuum pump, and exhausting is performed until the decomposition gas accompanying heating is reduced, It is preferable to continue heating to a desired temperature while introducing a non-oxidizing gas. As a standard of the temperature which exhausts with a vacuum pump, after heating temperature rising to 200-500 ° C, for example, around 400 ° C for about 30-60 minutes, exhausting is continued for about 30-60 minutes, maintaining the temperature, It is preferable to perform evacuation until the degree of vacuum is 10 Pa or less, and then introduce a non-oxidizing gas. Although the flow rate of the non-oxidizing gas depends on the size of the furnace, there is usually no problem if it is 2 L (liter) or more. Thereafter, while introducing a non-oxidizing gas, the temperature is raised to about 1500 ° C. at 50 to 100 ° C./hour, and thereafter, the temperature is raised from 1500 ° C. to a predetermined heat treatment temperature at 30 to 50 ° C./hour. After heating at this temperature during the heat treatment time, it is preferable to lower the temperature to room temperature at about 5 to 50 ° C./minute.

例えば、窒素ガス雰囲気下で加熱処理を行う場合は、2000℃前後で5時間程度、アルゴンガス雰囲気の場合は、2000℃前後で5〜15時間程度の条件とすることで、放
射状に成長させることができる。
加熱処理を施す焼成炉は、マッフル炉、管状炉、雰囲気炉などのバッチ式炉やロータリーキルン、スクリューコンベヤ炉、トンネル炉、ベルト炉、プッシャー炉、竪型連続炉などの連続炉が挙げられ、目的に応じて使い分けられる。
For example, when heat treatment is performed in a nitrogen gas atmosphere, radial growth is performed under the conditions of about 2000 ° C. for about 5 hours, and in the case of an argon gas atmosphere, about 2000 ° C. for about 5 to 15 hours. Can.
The baking furnace to which the heat treatment is applied includes batch furnaces such as muffle furnaces, tubular furnaces and atmosphere furnaces, rotary kilns, screw conveyor furnaces, tunnel furnaces, belt furnaces, pusher furnaces, and continuous furnaces such as vertical furnaces. It can be used properly depending on

なお、凝集BN粒子は、製造直後では、得られた粒子が更に凝集して、本発明に好適な粒子径の範囲を満たさない場合がある。そのため、凝集BN粒子は、必要に応じて、本発明に好適な粒子径の範囲を満たすように粉砕してもよい。
凝集BN粒子の粉砕の方法は特に限定されず、ジルコニアビーズ等の粉砕用メディアと共に攪拌混合する方法や、ジェット噴射等の従来公知の粉砕方法を適用できる。
Immediately after the production of the agglomerated BN particles, the obtained particles may be further agglomerated to fail to satisfy the particle diameter range suitable for the present invention. Therefore, the agglomerated BN particles may be crushed so as to satisfy the range of particle sizes suitable for the present invention, if necessary.
The method of grinding the agglomerated BN particles is not particularly limited, and a method of stirring and mixing with a grinding medium such as zirconia beads or a conventionally known grinding method such as jet injection can be applied.

<分級>
上記加熱処理後の凝集BN粒子は、平均粒子径を大きくし、しかも組成物に配合したときの粘度上昇を抑制するために、好ましくは分級処理する。この分級は、通常、造粒粒子の加熱処理後に行われるが、加熱処理前の造粒粒子について行い、その後加熱処理に供してもよい。
<Classification>
The agglomerated BN particles after the above heat treatment are preferably classified in order to increase the average particle diameter and to suppress the increase in viscosity when blended into the composition. This classification is usually performed after the heat treatment of the granulated particles, but may be performed on the granulated particles before the heat treatment and then subjected to the heat treatment.

分級は湿式、乾式のいずれでも良いが、h−BNの分解を抑制するという観点からは、乾式の分級が好ましい。特に、バインダーが水溶性を有する場合には、特に乾式分級が好ましく用いられる。
乾式の分級には、篩による分級のほか、遠心力と流体抗力の差によって分級する風力分級などがあるが、分級精度の観点からは、風力分級が好ましく、旋回気流式分級機、強制渦遠心式分級機、半自由渦遠心式分級機などの分級機を用いて行うことができる。これらの中で、サブミクロンからシングルミクロン領域の小さな微粒子を分級するには旋回気流式分級機を、それ以上の比較的大きな粒子を分級するには半自由渦遠心式分級機など、分級する粒子の粒子径に応じて適宜使い分ければよい。
Classification may be either wet or dry, but dry classification is preferable from the viewpoint of suppressing the decomposition of h-BN. In particular, when the binder has water solubility, dry classification is particularly preferably used.
In dry classification, there is classification by a sieve, or air classification classified by difference between centrifugal force and fluid drag, but from the viewpoint of classification accuracy, wind classification is preferable, and a swirling current classifier, forced vortex centrifugal It can carry out using classifiers, such as a formula classifier and a semi-free-vortex centrifugal classifier. Among these, particles to be classified such as a swirling flow classifier to classify small particles in the submicron to single micron region, and a semi-free-vortex centrifugal classifier to classify relatively large particles larger than that It may be properly used according to the particle diameter of.

体積基準の最大粒子径が25μm以上、200μm以下の凝集BN粒子を得るために、旋回気流式分級機を用いて微粒子の除去のための分級操作および/又は半自由渦遠心式分級を行うことが好ましい。   In order to obtain agglomerated BN particles having a volume-based maximum particle diameter of 25 μm or more and 200 μm or less, classification operation for removing fine particles and / or semi-free vortex centrifugal classification may be performed using a swirling flow classifier. preferable.

<窒化ホウ素二次粒子の形状>
上述のようにして、原料BN粉末を造粒し、加熱処理をすることによって、その形状を保持したままh−BNの結晶を成長させることで、上述した物性の別の態様として、表面に通常0.05μm以上5μm以下の窒化ホウ素一次粒子(以下、「BN一次粒子」と記載する場合がある。)を配置することが可能となり、カードハウス構造を有する凝集粒子とすることができる。好ましくは板状のBN一次粒子の平面部と端面部が接触しているカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子とすることができ、より好ましくは多角形状の窒化ホウ素一次粒子の平面部と端面部が接触しているカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子とすることができる。。更に好ましくは、凝集BN粒子が球状であるという上記物性の別の形態として表すことができる。尚、「球状」とは、アスペクト比(長径と短径の比)が1以上2以下、好ましくは1以上1.5以下であることをさす。凝集BN粒子は、後述の原料BN粉末を凝集させて造粒された粒子であり、この造粒粒子が「球状」であることが好ましく、「球状であることが好ましい」とは、一次粒子の形状が球状であることが好ましいというものではない。凝集BN粒子のアスペクト比は、走査型電子顕微鏡(SEM)で撮影された画像から200個以上の粒子を任意に選択し、それぞれの長径と短径の比を求めて平均値を算出することにより決定する。
<Shape of boron nitride secondary particles>
As described above, the raw material BN powder is granulated, and heat treatment is carried out to grow h-BN crystals while maintaining its shape, and as a further aspect of the above-mentioned physical properties, the surface is usually It becomes possible to arrange boron nitride primary particles (hereinafter sometimes referred to as “BN primary particles”) of 0.05 μm or more and 5 μm or less, and aggregate particles having a cardhouse structure can be obtained. Preferably, the boron nitride secondary particles may have a cardhouse structure in which the flat portion of the plate-like BN primary particle and the end face are in contact with each other. More preferably, the flat portion and the end face of the polygonal boron primary particle It can be set as the boron nitride secondary particle which has the card house structure which the part is contacting. . More preferably, it can be expressed as another form of the above-mentioned physical property that the agglomerated BN particles are spherical. Here, "spherical" means that the aspect ratio (the ratio of the major axis to the minor axis) is 1 or more and 2 or less, preferably 1 or more and 1.5 or less. The agglomerated BN particles are particles granulated by aggregating raw material BN powder to be described later, and the granulated particles are preferably “spherical” and “spherical” is a primary particle. It is not preferred that the shape is spherical. The aspect ratio of the agglomerated BN particles can be selected by arbitrarily selecting 200 or more particles from the image taken with a scanning electron microscope (SEM), calculating the ratio of the major axis to the minor axis, and calculating the average value. decide.

なお、凝集BN粒子の表面には、平均粒子径0.05μm以上のBN一次粒子が存在するが、「平均粒子径0.05μm以上のBN一次粒子」の「0.05μm以上」とは、当
該BN一次粒子の粒子径に相当する長さを指す。このBN一次粒子の結晶の大きさは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、2万倍程度の倍率で観察して、表面に観察される任意の100個の粒子の最大粒子サイズを計測して、平均値を求めることで測定することができる。
In addition, although BN primary particles having an average particle diameter of 0.05 μm or more exist on the surface of the aggregated BN particles, “0.05 μm or more” of “BN primary particles having an average particle diameter of 0.05 μm or more” means It refers to the length corresponding to the particle diameter of BN primary particles. The crystal size of this BN primary particle is observed at a magnification of about 20,000 times using a scanning electron microscope (SEM) to measure the maximum particle size of any 100 particles observed on the surface. Then, it can measure by finding an average value.

凝集BN粒子において、結晶がどのように成長しているかは、高熱伝導性フィラーとしての用途において重要な要件の一つである。
本発明では、このような特異的な結晶成長によりカードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子が得られることで、熱伝導性の等方性、マトリクス樹脂との混練性、耐崩壊性に優れるという効果を奏する。
In agglomerated BN particles, how crystals are grown is one of the important requirements in the application as a high thermal conductivity filler.
In the present invention, by obtaining the boron nitride secondary particles having a card house structure by such specific crystal growth, it is said that the thermal conductivity isotropy, the kneading property with the matrix resin, and the collapse resistance are excellent. Play an effect.

凝集BN粒子の調製方法の一手段として、全酸素含有量が通常1質量%以上10質量%以下のh−BN粉末を原料に用い、更に、加熱処理の条件を前述のように制御することで製造が可能になる。   As a method of preparing aggregated BN particles, h-BN powder having a total oxygen content of usually 1% by mass or more and 10% by mass or less is used as a raw material, and heat treatment conditions are controlled as described above. It becomes possible to manufacture.

具体的には、凝集BN粒子では、h−BNの結晶成長方向は球に対して中心から放射状、即ち、BN結晶の一次粒子がa軸を外に向けるように法線方向へ成長し、かつ、カードハウス構造となるのに対して、全酸素含有量が1質量%未満の原料h−BNを用いた場合は、円周方向に結晶成長(h−BNのC面を外に向けるように成長)しており、この結果、カードハウス構造が得られず、また比表面積が小さく、全細孔容積も大きいものとなると考えられる。   Specifically, in agglomerated BN particles, the crystal growth direction of h-BN is radial to the sphere from the center, ie, the primary particles of BN crystal grow in the normal direction so that the a-axis is directed outward, and In the case of using raw material h-BN having a total oxygen content of less than 1% by mass, while having a card house structure, crystal growth (c-plane of h-BN is directed outward in the circumferential direction As a result, it is considered that a card house structure can not be obtained, the specific surface area is small, and the total pore volume is also large.

[1−3.板状窒化ホウ素粒子]
本発明の放熱シートは、板状窒化ホウ素粒子を含有する。板状窒化ホウ素粒子は、特段限定されないが、XRD測定における100軸と004軸のピーク強度比I(100)/I(004)が、通常3.0以下、好ましくは、2.95以下、特に好ましくは2.9以下、より好ましくは2.85以下である。通常下限値は限定されないが、1.0以上である。
[1-3. Plate-like boron nitride particles]
The heat dissipation sheet of the present invention contains plate-like boron nitride particles. The plate-like boron nitride particles are not particularly limited, but the peak intensity ratio I (100) / I (004) in the 100-axis and 004-axis in the XRD measurement is usually 3.0 or less, preferably 2.95 or less, in particular Preferably it is 2.9 or less, More preferably, it is 2.85 or less. Usually, the lower limit is not limited, but is 1.0 or more.

<板状窒化ホウ素粒子のサイズ>
板状窒化ホウ素粒子の長軸方向のサイズ平均長さは、通常3μm以上300μm以下、好ましくは6μm以上200μm以下、より好ましくは7μm以上150μm以下、特に好ましくは8μm以上100μm以下である。I(100)/I(004)及び長軸方向のサイズがこの範囲にあることにより、上述の窒化ホウ素二次粒子との混合により、シート厚さ方向への熱伝導性を高めることができ、好ましい。この範囲を外れると、空隙が多くなり、熱伝導性が高められない恐れがあり、耐電圧性も上げられない恐れがある。
上記範囲を満たす板状窒化ホウ素としては市販品も存在し、市販品としては、デンカ社製 デンカボロンナイトライド SGP、MGP、GP、HGP、SP−2 などやモメンティブ社製 PT−110、PT−120、PT−140、PT−180、PT−160、PT−180などがある。I(100)/I(004)については、市販品の板状窒化ホウ素であればその範囲を充足するものが市販品として存在し、適宜選択すればよい。一方、長軸方向のサイズは、大きい場合には分級等によりサイズダウンすることで、上記範囲とすることができる。
なお、板状窒化ホウ素粒子の長軸方向のサイズ平均長さは、電子顕微鏡で20粒子以上観察した平均値である。
<Size of plate-like boron nitride particles>
The size average length in the long axis direction of the plate-like boron nitride particles is usually 3 μm to 300 μm, preferably 6 μm to 200 μm, more preferably 7 μm to 150 μm, and particularly preferably 8 μm to 100 μm. When I (100) / I (004) and the size in the long axis direction are in this range, the thermal conductivity in the sheet thickness direction can be enhanced by mixing with the above-mentioned secondary particles of boron nitride, preferable. If the thickness is out of this range, the number of voids increases, the heat conductivity may not be enhanced, and the voltage resistance may not be enhanced.
Commercially available products exist as plate-like boron nitride satisfying the above range, and commercially available products include Denka boron nitride SGP, MGP, GP, HGP, SP-2 and the like manufactured by Denka Co., and PT-110 and PT- manufactured by Momentive. 120, PT-140, PT-180, PT-160, PT-180 and the like. With regard to I (100) / I (004), commercially available plate-like boron nitrides that satisfy the range exist as commercially available products, and may be selected appropriately. On the other hand, when the size in the long axis direction is large, the size can be reduced by classification or the like to be in the above range.
In addition, the size average length of the plate-like boron nitride particles in the long axis direction is an average value observed for 20 or more particles with an electron microscope.

放熱シートにおける、窒化ホウ素二次粒子と板状窒化ホウ素粒子との重量含有比率は特に限定されないが、窒化ホウ素二次粒子/(窒化ホウ素二次粒子+板状窒化ホウ素粒子)は、通常0.1以上0.98以下、好ましくは、0.2以上0.95以下、より好ましくは0.3以上0.9以下、特に好ましくは0.4以上0.85以下である。
上記範囲とすることで、窒化ホウ素二次粒子と板状窒化ホウ素粒子とが適当な比率で放熱シート中に含有され、板状窒化ホウ素粒子がランダムな方向に配置されることで、高い熱伝導率を達成できる。
The weight content ratio of the boron nitride secondary particles and the plate-like boron nitride particles in the heat dissipation sheet is not particularly limited, but the boron nitride secondary particles / (boron nitride secondary particles + plate-like boron nitride particles) are usually 0. It is 1 or more and 0.98 or less, preferably 0.2 or more and 0.95 or less, more preferably 0.3 or more and 0.9 or less, and particularly preferably 0.4 or more and 0.85 or less.
By setting it as the said range, a boron nitride secondary particle and plate-shaped boron nitride particle are contained in a thermal radiation sheet by a suitable ratio, and high heat conduction is carried out by arranging plate-shaped boron nitride particles in a random direction. Rates can be achieved.

[1−4.マトリクス樹脂]
放熱シートにおいて通常、熱伝導性の担い手は、上述のフィラーである窒化ホウ素二次粒子および板状窒化ホウ素粒子であるが、パワー半導体デバイス用の放熱シートは、10W/mK以上の高い熱伝導性を必要とされるため、放熱シートに用いられるマトリクス樹脂の熱伝導性も高いことが望ましい。
フィラーとの複合化で高い熱伝導性を得るために、マトリクス樹脂の熱伝導率は0.2W/mK以上であることが好ましく、特に0.22W/mK以上であることが好ましい。
[1-4. Matrix resin]
In the heat dissipating sheet, usually, the heat transfer agent is the above-mentioned filler, ie, boron nitride secondary particles and plate-like boron nitride particles. However, the heat dissipating sheet for power semiconductor devices has a high heat conductivity of 10 W / mK or more. Therefore, it is desirable that the thermal conductivity of the matrix resin used for the heat dissipating sheet is also high.
In order to obtain high thermal conductivity by complexation with the filler, the thermal conductivity of the matrix resin is preferably 0.2 W / mK or more, and particularly preferably 0.22 W / mK or more.

なお、放熱シート中のマトリクス樹脂の熱伝導率は、放熱シート用塗布液を構成する成分のうち、マトリクス樹脂と有機溶剤と、更に塗布液中に硬化剤を含む場合には硬化剤のみを用いて、通常の硬化方法に従って硬化膜を形成し、この硬化膜について、以下の方法で求めた値である。   The thermal conductivity of the matrix resin in the heat dissipation sheet is determined by using only the curing agent in the coating liquid and the matrix resin and the organic solvent among the components constituting the heat dissipation sheet coating liquid. The cured film is formed according to a common curing method, and this cured film is a value determined by the following method.

<マトリクス樹脂の熱伝導率の測定方法>
マトリクス樹脂の硬化膜について、以下の装置を用いて、熱拡散率、比重、及び比熱を測定し、この3つの測定値を乗じることで熱伝導率を求める。
(1)熱拡散率:アイフェイズ社製 「アイフェイズ・モバイル 1u」
(2)比重:メトラー・トレド社製 「天秤 XS−204」
(固体比重測定キット使用)
(3)比熱:セイコーインスツル社製 「DSC320/6200」
<Method of measuring thermal conductivity of matrix resin>
The thermal diffusivity, specific gravity, and specific heat of the cured film of the matrix resin are measured using the following apparatus, and the thermal conductivity is determined by multiplying these three measured values.
(1) Thermal diffusivity: "I-phase mobile 1u" manufactured by I-phase
(2) Specific gravity: manufactured by METTLER TOLEDO "balance XS-204"
(Use of solid specific gravity measurement kit)
(3) Specific heat: Seiko Instruments Inc. "DSC320 / 6200"

マトリクス樹脂としては、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも制限なく用いることが出来る。硬化性樹脂としては、熱硬化性、光硬化性、電子線硬化性などの架橋可能なものであればよいが、耐熱性、吸水性、寸法安定性などの点で、熱硬化性樹脂が好ましく用いられる。   As a matrix resin, any of a curable resin and a thermoplastic resin can be used without limitation. The curable resin may be any one that is crosslinkable such as thermosetting, light curing, electron beam curing, etc. However, in view of heat resistance, water absorption, dimensional stability, etc., thermosetting resin is preferable. Used.

熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂としては、例えばWO2013/081061に例示されたものを用いることができる。このうち、熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、特にエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
エポキシ樹脂としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有するフェノキシ樹脂が好ましい。中でも、耐熱性がより一層高められることから、フルオレン骨格及び/又はビフェニル骨格を有するフェノキシ樹脂が特に好ましく、とりわけビルフェノールA骨格、ビスフェノールF骨格及びビフェニル骨格のうちの少なくとも1つ以上の骨格を有するフェノキシ樹脂であることが好ましい。
As a thermosetting resin and a thermosetting resin, what was illustrated by WO2013 / 081061 can be used, for example. Among these, it is preferable to use a thermosetting resin, and in particular, it is preferable to use an epoxy resin.
The epoxy resin is preferably a phenoxy resin having at least one skeleton selected from the group consisting of a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, a biphenyl skeleton, an anthracene skeleton, a pyrene skeleton, a xanthene skeleton, an adamantane skeleton and a dicyclopentadiene skeleton. Among them, a phenoxy resin having a fluorene skeleton and / or a biphenyl skeleton is particularly preferable because heat resistance is further enhanced, and in particular, it has at least one skeleton of biphenol A skeleton, bisphenol F skeleton and biphenyl skeleton. It is preferable that it is a phenoxy resin.

放熱シート中のマトリクス樹脂の含有量は、通常2wt%以上、好ましくは5wt%以上、より好ましくは7wt%以上であり、通常70wt%以下、好ましくは60wt%以下、より好ましくは40wt%以下である。
また、放熱シート中の窒化ホウ素(窒化ホウ素二次粒子および板状窒化ホウ素粒子)の含有量は、通常30wt%以上、好ましくは40wt%以上、より好ましくは50wt%以上であり、通常99wt%以下、好ましくは98wt%以下、より好ましくは95wt%以下である。
また、放熱シート中の窒化ホウ素二次粒子の含有量は、通常3wt%以上、好ましくは10wt%以上、より好ましくは15wt%以上であり、通常97wt%以下、好ましく
は95wt%以下、より好ましくは90wt%以下である。
また、放熱シート中の板状窒化ホウ素粒子の含有量は、通常3wt%以上、好ましくは10wt%以上、より好ましくは15wt%以上であり、通常97wt%以下、好ましくは95wt%以下、より好ましくは90wt%以下である。
放熱シート中に上記範囲でマトリクス樹脂、及び窒化ホウ素を含有させることで、高い熱伝導性を発揮することができる。
The content of the matrix resin in the heat dissipation sheet is usually 2 wt% or more, preferably 5 wt% or more, more preferably 7 wt% or more, and usually 70 wt% or less, preferably 60 wt% or less, more preferably 40 wt% or less .
The content of boron nitride (boron nitride secondary particles and plate-like boron nitride particles) in the heat dissipation sheet is usually 30 wt% or more, preferably 40 wt% or more, more preferably 50 wt% or more, and usually 99 wt% or less Preferably it is 98 wt% or less, More preferably, it is 95 wt% or less.
The content of the boron nitride secondary particles in the heat dissipation sheet is usually 3 wt% or more, preferably 10 wt% or more, more preferably 15 wt% or more, and usually 97 wt% or less, preferably 95 wt% or less, more preferably It is 90 wt% or less.
In addition, the content of plate-like boron nitride particles in the heat dissipation sheet is usually 3 wt% or more, preferably 10 wt% or more, more preferably 15 wt% or more, and usually 97 wt% or less, preferably 95 wt% or less, more preferably It is 90 wt% or less.
By containing the matrix resin and the boron nitride in the above range in the heat dissipation sheet, high thermal conductivity can be exhibited.

[1−5.樹脂内包窒化ホウ素二次粒子]
放熱シートに含有される窒化ホウ素二次粒子は、樹脂を内包する窒化ホウ素二次粒子であってもよい。
窒化ホウ素二次粒子は、カードハウス構造を有することから適度な細孔容積を有し、毛管現象により、窒化ホウ素二次粒子内に樹脂を導入することができる。
樹脂内包窒化ホウ素二次粒子を用いることで、窒化ホウ素二次粒子内への溶剤の吸収や、窒化ホウ素二次粒子内の空隙をなくすことができ、高い熱伝導性、高い耐電圧性を達成することができる。
[1-5. Resin-containing boron nitride secondary particles]
The boron nitride secondary particles contained in the heat dissipation sheet may be boron nitride secondary particles containing a resin.
The boron nitride secondary particles have an adequate pore volume due to having a cardhouse structure, and the resin can be introduced into the boron nitride secondary particles by capillary action.
By using resin-incorporated boron nitride secondary particles, it is possible to eliminate absorption of the solvent in the boron nitride secondary particles and voids in the boron nitride secondary particles, achieving high thermal conductivity and high voltage resistance. can do.

樹脂内包窒化ホウ素二次粒子における内包樹脂の重量比率であるが、通常5wt%以上50wt%以下、好ましくは8wt%以上45wt%以下、さらに好ましくは、10wt%以上40wt%以下、特に好ましくは、15wt%以上35wt%以下である。この上限値以上であると樹脂が窒化ホウ素二次粒子外にはみ出してしまい、粒子が凝集し易くなり、取り扱いにくくなる。一方、この下限以下の場合は、窒化ホウ素二次粒子を十分に樹脂で覆うことができず、組成物中において溶剤の吸収量を十分に抑えることができず、スラリー化しにくくなる。   The weight ratio of the encapsulated resin in the resin-encapsulated boron nitride secondary particles is usually 5 wt% to 50 wt%, preferably 8 wt% to 45 wt%, more preferably 10 wt% to 40 wt%, particularly preferably 15 wt%. % Or more and 35 wt% or less. If it is above the upper limit value, the resin will stick out of the boron nitride secondary particles, making the particles easy to aggregate and difficult to handle. On the other hand, when the content is below the lower limit, the boron nitride secondary particles can not be sufficiently covered with the resin, and the absorption amount of the solvent can not be sufficiently suppressed in the composition, which makes it difficult to form a slurry.

窒化ホウ素二次粒子に含まれる内包樹脂は、水に対する溶解度が通常5wt%以下、好ましくは4wt%以下、さらに好ましくは3wt%以下、特に好ましくは2wt%以下である。これは、窒化ホウ素のベーサル面は疎水的であるためである。毛管現象により窒化ホウ素二次粒子内部に樹脂を導入させるためには、用いられる溶剤は非水溶性であり、さらには内包樹脂も非水溶性溶剤に溶解することが求められるためである。つまり内包樹脂に求められる樹脂は疎水性樹脂であることが好ましい。加えて非水溶性溶剤を除去後、内包樹脂が窒化ホウ素二次粒子内部を満たした場合においても、窒化ホウ素と内包樹脂との密着を上げるために、疎水性樹脂であることが望ましい。   The encapsulated resin contained in the boron nitride secondary particles has a solubility in water of usually 5 wt% or less, preferably 4 wt% or less, more preferably 3 wt% or less, particularly preferably 2 wt% or less. This is because the basal plane of boron nitride is hydrophobic. In order to introduce the resin into the inside of the boron nitride secondary particles by capillary phenomenon, the solvent to be used is non-water-soluble, and further, the inclusion resin is also required to be dissolved in the non-water-soluble solvent. That is, the resin required for the contained resin is preferably a hydrophobic resin. In addition, even after the non-water-soluble solvent is removed, the hydrophobic resin is desirable in order to increase the adhesion between the boron nitride and the encapsulating resin even when the encapsulating resin fills the inside of the boron nitride secondary particles.

また、窒化ホウ素粒子に内包される樹脂は、硬化性樹脂を含むことが好ましく、また、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。さらに、ビスフェノールA骨格、ビスフェノールF骨格およびビフェニル骨格からなる群のうち、少なくとも1つ以上の骨格を有するフェノキシ樹脂を含むことが好ましい。これらの樹脂を含むことで、放熱シートとした際に良好な放熱性を出すことができる。
また、内包樹脂には、界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の添加量としては、内包樹脂全量に対して通常0.001〜5質量%であり、0.005〜3質量%が好ましい。界面活性剤の添加量が上記下限未満では、内包樹脂が窒化ホウ素二次粒子内に十分に浸透できない場合があり、また上記上限を超えると窒化ホウ素と内包樹脂との密着性が劣り、好ましくない。
また、後述する硬化剤、その他の添加剤を、内包樹脂に含有させてもよい。含有量等は、後述する説明を参照できる。
また、内包樹脂と、マトリクス樹脂とを別の樹脂とすることで、異なる機能を放熱シートに付与することができ、好ましい。
The resin contained in the boron nitride particles preferably contains a curable resin, and preferably contains an epoxy resin. Furthermore, it is preferable to include a phenoxy resin having at least one or more skeletons in the group consisting of bisphenol A skeleton, bisphenol F skeleton and biphenyl skeleton. By including these resins, good heat dissipation can be obtained when the heat dissipation sheet is formed.
Further, a surfactant can be added to the contained resin. The amount of surfactant added is usually 0.001 to 5% by mass, preferably 0.005 to 3% by mass, based on the total amount of the encapsulating resin. If the addition amount of the surfactant is less than the above lower limit, the inclusion resin may not sufficiently penetrate into the boron nitride secondary particles, and if it exceeds the above upper limit, the adhesion between the boron nitride and the inclusion resin is poor, which is not preferable. .
In addition, a curing agent described later and other additives may be contained in the encapsulating resin. The content etc. can refer to the description mentioned later.
Moreover, different functions can be imparted to the heat dissipation sheet by using the internal resin and the matrix resin as different resins, which is preferable.

樹脂内包窒化ホウ素二次粒子を製造するためには、窒化ホウ素二次粒子内に樹脂を導入できれば、いかなる方法を用いてもよいが、窒化ホウ素二次粒子内に毛管現象を用いて樹
脂を導入する場合は、溶剤を用いることが好ましい。用いる溶剤は特に制限はないが、窒化ホウ素のベーサル面は、疎水的な表面を有しているために、有機溶剤が好ましい。
In order to produce the resin-encapsulated boron nitride secondary particles, any method may be used as long as the resin can be introduced into the boron nitride secondary particles, but the resin is introduced into the boron nitride secondary particles using capillary action. When using, it is preferable to use a solvent. Although the solvent to be used is not particularly limited, an organic solvent is preferable because the basal surface of boron nitride has a hydrophobic surface.

有機溶剤としては、例えば、以下に例示するアルコール系溶剤、芳香族系溶剤、アミド系溶剤、アルカン系溶剤、エチレングリコールエーテル及びエーテル・エステル系容易剤、プロピレングリコールエーテル及びエーテル・エステル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤の中から、樹脂の溶解性等を考慮して、好適に選択して用いることができる。
有機溶剤の具体例としては、WO2013/081061に例示されたものを用いることができる。
有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組合せ及び比率で併用してもよい。
As the organic solvent, for example, alcohol solvents, aromatic solvents, amide solvents, alkane solvents, ethylene glycol ether and ether / ester easer, propylene glycol ether and ether / ester solvents, ketone exemplified below From among the system solvents and the ester solvents, it can be suitably selected and used in consideration of the solubility of the resin and the like.
As a specific example of the organic solvent, those exemplified in WO2013 / 081061 can be used.
The organic solvents may be used alone or in any combination of two or more in any proportion.

<その他の無機物質>
樹脂内包窒化ホウ素二次粒子は、必要に応じて窒化ホウ素以外の無機物質を含有してもよく、シリカ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、および酸化マグネシウムの中から選ばれる1種以上の無機フィラーを含有してもよい。
これらの無機フィラーの含有量は、通常50wt%以下、好ましくは40wt%以下、より好ましくは30wt%以下である。また、通常0.5wt%以上である。
<Other inorganic substances>
The resin-encapsulated boron nitride secondary particles may optionally contain an inorganic substance other than boron nitride, and one or more inorganic fillers selected from silica, alumina, aluminum nitride, silicon nitride, and magnesium oxide. May be contained.
The content of these inorganic fillers is usually 50 wt% or less, preferably 40 wt% or less, more preferably 30 wt% or less. Moreover, it is usually 0.5 wt% or more.

[1−6.その他成分]
<硬化剤>
放熱シートに含まれるマトリクス樹脂は、必要に応じて硬化剤を含有していてもよい。
本発明で用いる硬化剤とは、エポキシ樹脂のエポキシ基等などの、マトリクス樹脂の架橋基間の架橋反応に寄与する物質を示す。
エポキシ樹脂においては、必要に応じて、エポキシ樹脂用の硬化剤、硬化促進剤が共に用いられる。
[1-6. Other ingredients]
<Hardening agent>
The matrix resin contained in the heat dissipation sheet may contain a curing agent, if necessary.
The curing agent used in the present invention indicates a substance that contributes to the crosslinking reaction between the crosslinking groups of the matrix resin, such as the epoxy group of the epoxy resin.
In the epoxy resin, as needed, a curing agent for epoxy resin and a curing accelerator are used together.

硬化促進剤は、用いられるマトリクス樹脂や硬化剤の種類に応じて適宜選べばよい。例えば前記酸無水系硬化剤用の硬化促進剤としては、例えば三フッ化ホウ素モノエチルアミン、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−イソブチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。これらの硬化促進剤は、通常、エポキシ樹脂100質量部に対して0.1〜5質量部の範囲で用いられる。   The curing accelerator may be appropriately selected according to the type of matrix resin and curing agent used. For example, as a curing accelerator for the acid anhydride curing agent, for example, boron trifluoride monoethylamine, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-isobutyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole It can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more may be mixed and used. These curing accelerators are usually used in the range of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin.

硬化剤としては、特に制限はなく、用いる熱硬化性樹脂の種類に応じて選択使用される。熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂の場合、一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものはすべて使用できる。例えば、フェノール系硬化剤、脂肪族アミン、ポリエーテルアミン、脂環式アミン、芳香族アミンなどのアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、アミド系硬化剤、第3級アミン、イミダゾール及びその誘導体、有機ホスフィン類、ホスホニウム塩、テトラフェニルボロン塩、有機酸ジヒドラジド、ハロゲン化ホウ素アミン錯体、ポリメルカプタン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。
硬化剤の具体例としては、WO2013/081061に例示されたものを用いることができる。
これらの硬化剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。
硬化剤の中でも、イミダゾール又はその誘導体やジシアンジアミン化合物が好適に用いられる。
硬化剤の含有量は、マトリクス樹脂100質量部に対して、通常0.1〜60質量部であり、0.5〜40質量部が好ましい。
There is no restriction | limiting in particular as a hardening agent, According to the kind of thermosetting resin to be used, it selects and uses. When the thermosetting resin is an epoxy resin, any one generally known as an epoxy resin curing agent can be used. For example, amine curing agents such as phenolic curing agents, aliphatic amines, polyether amines, alicyclic amines and aromatic amines, acid anhydride curing agents, amide curing agents, tertiary amines, imidazoles and the like Derivatives, organic phosphines, phosphonium salts, tetraphenylboron salts, organic acid dihydrazides, halogenated boron amine complexes, polymercaptan-based curing agents, isocyanate-based curing agents, blocked isocyanate-based curing agents and the like can be mentioned.
As specific examples of the curing agent, those exemplified in WO2013 / 081061 can be used.
One of these curing agents may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used in any combination and ratio.
Among the curing agents, imidazole or a derivative thereof or a dicyandiamine compound is suitably used.
The content of the curing agent is usually 0.1 to 60 parts by mass, preferably 0.5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the matrix resin.

特に、硬化剤がフェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤の場合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基と硬化剤中の官能基との当量比で、通常0.8〜1.5の範囲となるように用いることが好ましい。この範囲外であると未反応のエポキシ基や硬化剤の官能基が残留し、所望の物性が得られないことがある。   In particular, when the curing agent is a phenolic curing agent, an amine curing agent, or an acid anhydride curing agent, the equivalent ratio of the epoxy group in the epoxy resin to the functional group in the curing agent is usually 0.8 to 1 It is preferable to use in the range of .5. If the content is out of this range, unreacted epoxy groups and functional groups of the curing agent may remain, and desired physical properties may not be obtained.

また、硬化剤がアミド系硬化剤、第3級アミン、イミダゾール及びその誘導体、有機ホスフィン類、ホスホニウム塩、テトラフェニルボロン塩、有機酸ジヒドラジド、ハロゲン化ホウ素アミン錯体、ポリメルカプタン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等の場合は、エポキシ樹脂100質量部に対して、通常0.1〜20質量部の範囲で用いることが好ましく、0.5〜10質量部がより好ましい。
また、ジシアンジアミン化合物の場合は、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部の範囲で用いることが好ましく、通常0.5〜6質量部がより好ましい。
In addition, the curing agent is an amide type curing agent, tertiary amine, imidazole and derivatives thereof, organic phosphines, phosphonium salt, tetraphenyl boron salt, organic acid dihydrazide, boron halide amine complex, polymercaptan type curing agent, isocyanate type In the case of a curing agent, a block isocyanate type curing agent, etc., it is preferably used in a range of usually 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin.
Moreover, in the case of the dicyan diamine compound, it is preferable to use in 0.1-10 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins, and 0.5-6 mass parts is more preferable normally.

[その他の添加剤]
放熱シートには、機能性の更なる向上を目的として、本発明の効果を損なわない範囲において、各種の添加剤(その他の添加剤)を含んでいてもよい。その他の添加剤としては、例えば、液晶性エポキシ樹脂等の、前記のマトリクス樹脂に機能性を付与した機能性樹脂、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、繊維状窒化ホウ素等の窒化物粒子、アルミナ、繊維状アルミナ、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化チタン等の絶縁性金属酸化物、ダイヤモンド、フラーレン等の絶縁性炭素成分、樹脂硬化剤、樹脂硬化促進剤、粘度調整剤、分散安定剤が挙げられる。
[Other additives]
In order to further improve the functionality, the heat dissipation sheet may contain various additives (other additives) as long as the effects of the present invention are not impaired. Other additives include, for example, functional resins obtained by adding functionality to the above matrix resin, such as liquid crystalline epoxy resin, nitride particles such as aluminum nitride, silicon nitride, and fibrous boron nitride, alumina, fibrous Insulating metal oxides such as alumina, zinc oxide, magnesium oxide, beryllium oxide and titanium oxide, insulating carbon components such as diamond and fullerene, resin curing agents, resin curing accelerators, viscosity modifiers, dispersion stabilizers .

さらに、その他の添加剤としては、基材との接着性やマトリクス樹脂と無機フィラーとの接着性を向上させるための添加成分として、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤等のカップリング剤、保存安定性向上のための紫外線防止剤、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤、着色剤、分散剤、流動性改良剤、基材との密着性向上剤等が挙げられる。
また、放熱シートには、成形時の流動性改良及び基材との密着性向上の観点より、熱可塑性のオリゴマー類を含有させることもできる。
Furthermore, as other additives, coupling agents such as silane coupling agents and titanate coupling agents, as additives for improving the adhesion to the substrate and the adhesion between the matrix resin and the inorganic filler, and storage Examples thereof include UV inhibitors for improving stability, antioxidants, plasticizers, flame retardants, colorants, dispersants, flow improvers, adhesion improvers with a substrate, and the like.
In addition, the heat dissipating sheet can also contain thermoplastic oligomers from the viewpoint of improving the fluidity at the time of molding and the adhesion with the base material.

その他、組成物或いは塗布液中での各成分の分散性を向上させる、界面活性剤や、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤等を添加することもできる。
これらは、いずれも1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。
添加剤の具体例については、WO2013/081061に例示されたものを用いることができ、添加量についてもWO2013/081061に記載の範囲とすることができる。
In addition, a surfactant, an emulsifier, a low-elasticity agent, a diluent, an antifoaming agent, an ion trap agent, etc. which improve the dispersibility of each component in a composition or a coating liquid can also be added.
Any of these may be used alone, or two or more may be mixed and used in any combination and ratio.
As specific examples of the additive, those exemplified in WO 2013/081061 can be used, and the addition amount can also be in the range described in WO 2013/081061.

[2.放熱シート用塗布液]
本発明の別の実施態様は、放熱シート用塗布液であり、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子と、板状窒化ホウ素粒子の、二種類の窒化ホウ素粒子を含む。また、放熱シート用塗布液は、マトリクス樹脂、溶剤およびその他の添加剤を含有してもよい。これらの構成材料を分散・混合することを目的として、ペイントシェーカーやビーズミル、プラネタリミキサ、攪拌型分散機、自公転攪拌混合機、三本ロール、ニーダー、単軸又は二軸混練機等の一般的な混練装置などを用いて混合することが好ましい。
[2. Coating fluid for heat dissipation sheet]
Another embodiment of the present invention is a coating solution for a heat dissipation sheet, which comprises two types of boron nitride particles: boron nitride secondary particles having a card house structure and plate-like boron nitride particles. Moreover, the coating liquid for heat dissipation sheets may contain a matrix resin, a solvent and other additives. In order to disperse and mix these constituent materials, paint shakers, bead mills, planetary mixers, stirring type dispersing machines, revolution-revolution stirring mixers, three-rolls, kneaders, and single- or twin-screw kneaders are generally used. It is preferable to mix using a suitable kneading apparatus or the like.

放熱シート用塗布液の固形分濃度は、通常5wt%以上、好ましくは10wt%以上、より好ましくは15wt%以上、特に好ましくは20wt%以上である。また通常90wt%以下であり、好ましくは80wt%以下であり、より好ましくは70wt%以下であり、特に好ましくは60wt%以下である。
放熱シート用塗布液の固形分濃度がこの上限以上の場合、スラリーが増粘しすぎて、レベリング性が悪くなり、均一な塗布膜を形成することができない。一方、この下限以下の場合、放熱シートに所望のドライ膜厚を得るためには、ウェット膜厚を厚くすることが必要となる。ウェット膜厚を厚くすると、それを乾燥するための製造コストが高くなるだけでなく、タクトタイムも長くなってしまう。さらに、乾燥におけるムラの発生が起こる恐れがある。
The solid content concentration of the heat-dissipating sheet coating solution is usually 5 wt% or more, preferably 10 wt% or more, more preferably 15 wt% or more, and particularly preferably 20 wt% or more. Also, it is usually 90 wt% or less, preferably 80 wt% or less, more preferably 70 wt% or less, and particularly preferably 60 wt% or less.
When the solid content concentration of the coating liquid for heat release sheet is above this upper limit, the slurry is too thick, and the leveling properties deteriorate, so that a uniform coating film can not be formed. On the other hand, below the lower limit, in order to obtain a desired dry film thickness for the heat dissipation sheet, it is necessary to increase the wet film thickness. When the wet film thickness is increased, not only the manufacturing cost for drying the film becomes high but also the tact time becomes long. Furthermore, the occurrence of unevenness in drying may occur.

放熱シート用塗布液は、上述のマトリクス樹脂に添加することができる添加剤(上述の窒化ホウ素以外の無機材料、硬化剤、分散剤など)を用いることができる。
放熱シート用塗布液の各配合成分の混合順序も、反応や沈殿物が発生するなど特段の問題がない限り任意であり、組成物及び組成物塗布液の構成成分のうち、何れか2成分又は3成分以上を予め混合し、その後に残りの成分を混合してもよいし、一度に全部を混合してもよい。
The heat sink sheet coating solution can use additives (inorganic materials other than the above-mentioned boron nitride, a curing agent, a dispersing agent, etc.) which can be added to the above-mentioned matrix resin.
The order of mixing the respective components of the heat sink sheet coating solution is also arbitrary as long as there is no particular problem such as reaction or precipitation, and any two components of the composition and the composition coating liquid or The three or more components may be premixed, and then the remaining components may be mixed, or all may be mixed at one time.

[3.成形体の製造方法]
上記放熱シート用塗布液を用いて、各種の成形体を製造することができる。
この成形体を成形する方法は、樹脂組成物の成形に一般に用いられる方法を用いることができる。
例えば、放熱シート用塗布液を所望の形状で、例えば、型へ充てんした状態で硬化させることによって成形することができる。このような成形体の製造法としては、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、及び圧縮成形法を用いることができる。
また、放熱シート用塗布液がエポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂組成物を含む場合、成形体の成形、すなわち硬化は、それぞれの組成に応じた硬化温度条件で行うことができる。
[3. Manufacturing method of molded body]
Various molded articles can be manufactured using the coating liquid for heat dissipation sheets.
As a method of molding this molded body, a method generally used for molding of a resin composition can be used.
For example, it can be molded by curing the heat dissipation sheet coating liquid in a desired shape, for example, in a state of being filled in a mold. An injection molding method, an injection compression molding method, an extrusion molding method, and a compression molding method can be used as a manufacturing method of such a molded object.
Moreover, when the coating liquid for heat dissipation sheets contains a thermosetting resin composition such as an epoxy resin or a silicone resin, molding of the molded body, that is, curing can be performed under curing temperature conditions corresponding to the respective compositions.

また、放熱シート用塗布液が熱可塑性樹脂組成物を含む場合、成形体の成形は、熱可塑性樹脂の溶融温度以上の温度及び所定の成形速度や圧力の条件で行うことができる。また、放熱シート用塗布液を成形硬化した固形状の材料から所望の形状に削り出すことによって成形体を得ることもできる。
以下、本発明の放熱シートを製造する方法を具体的に説明する。
Moreover, when the coating liquid for thermal radiation sheet contains a thermoplastic resin composition, shaping | molding of a molded object can be performed on the conditions more than the melting temperature of a thermoplastic resin, and predetermined | prescribed shaping | molding speed and pressure. Moreover, a molded object can also be obtained by shaving off the coating material for thermal radiation sheet | seats to a desired shape from the solid-like material which shape | molded hardened | cured.
Hereinafter, the method of manufacturing the heat dissipation sheet of the present invention will be specifically described.

<塗布工程>
まず基板の表面に、放熱シート用塗布液で塗膜を形成する。
即ち、放熱シート用塗布液を用いて、ディップ法、スピンコート法、スプレーコート法、ブレード法、その他の任意の方法で塗膜を形成する。組成物塗布液の塗布には、スピンコーター、スリットコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどの塗布装置を用いることにより、基板上に所定の膜厚の塗膜を均一に形成することが可能であり、好ましい。
なお、基板としては、後述の厚さの銅箔が一般的に用いられるが、何ら銅基板に限定されるものではない。
<Coating process>
First, a coating film is formed on the surface of the substrate with the coating liquid for heat dissipation sheet.
That is, a coating film is formed by a dip method, a spin coat method, a spray coat method, a blade method, or any other method using the coating liquid for heat dissipation sheet. By using a coating apparatus such as a spin coater, a slit coater, a die coater, or a blade coater for coating the composition coating liquid, it is possible to uniformly form a coating of a predetermined film thickness on the substrate. preferable.
In addition, although the copper foil of the below-mentioned thickness is generally used as a board | substrate, it is not limited to a copper board | substrate at all.

<乾燥工程>
放熱シート用塗布液を塗布することにより形成された塗膜を、溶剤や低分子成分の除去のために、通常10〜150℃、好ましくは25〜100℃、より好ましくは、30〜90℃、特に好ましくは、40〜80℃の任意の温度で乾燥することができる。ただし、溶剤の沸点を越えないことが望ましい。この温度範囲の上限以上の場合、溶剤除去時に、溶剤の対流のために、塗布膜表面が荒れてしまうことがある。加えて、放熱シート塗布液が熱硬化性樹脂を含む場合、塗布液が硬化してしまい、その後のプレスプロセスで樹脂が流れなくなり、ボイドを除去することができない恐れがある。なお、この温度範囲の下限以下であると、効果的に溶剤を取り除くことができず、溶剤除去に時間がかかってしまう恐れがある。乾燥時間は、通常5分〜10日間、好ましくは、10分〜3日間、より好まし
くは20分〜1日間、特に好ましくは、30分から4時間の加熱処理を行って乾燥膜を形成する。
乾燥時間が短すぎると、十分に溶剤が除去できず、残留溶剤が放熱シート内のボイドになってしまう恐れがある。乾燥時間が長すぎると、生産性があげられず、製造プロセスコストが高くなる恐れがある。
<Drying process>
The coating film formed by applying the heat sink sheet coating solution is generally 10 to 150 ° C., preferably 25 to 100 ° C., more preferably 30 to 90 ° C. for removing the solvent and low molecular components. Particularly preferably, drying can be performed at any temperature of 40 to 80 ° C. However, it is desirable not to exceed the boiling point of the solvent. If it is above the upper limit of this temperature range, the coating film surface may be roughened due to the convection of the solvent at the time of solvent removal. In addition, when the heat-dissipating sheet coating solution contains a thermosetting resin, the coating solution may be cured, and the resin may not flow in the subsequent press process, and the void may not be removed. If the temperature is below the lower limit of this temperature range, the solvent can not be removed effectively, which may take time to remove the solvent. The drying time is usually 5 minutes to 10 days, preferably 10 minutes to 3 days, more preferably 20 minutes to 1 day, and particularly preferably 30 minutes to 4 hours to form a dried film.
If the drying time is too short, the solvent can not be sufficiently removed, and the residual solvent may be a void in the heat dissipation sheet. If the drying time is too long, the productivity can not be increased and the manufacturing process cost may be increased.

<加圧工程>
乾燥工程の後には、加圧工程を行ってもよい。シート化工程は、窒化ホウ素同士を接合させヒートパスを形成する目的、シート内のボイドや空隙をなくす目的、基材との密着をさせる目的、窒化ホウ素粒子に含まれる内包樹脂を押し出しシート内の結合を行う目的から加圧することが望ましい。加圧工程は、銅基板上の乾燥膜に通常10kgf/cm2〜2000kgf/cm2、好ましくは50kgf/cm2〜1000kgf/cm2、より好ましくは80kgf/cm2〜800kgf/cm2、特に好ましくは100kgf/cm2〜500kgf/cm2の加重をかけて実施することが望ましい。この加圧時の加重を上記上限以下とすることにより、窒化ホウ素二次粒子が破壊することなく、シート中に空隙などがない高い熱伝導性を有するシートを得ることが出来る。また、加重を上記下限以上とすることにより、凝集BN粒子間の接触が良好となり、熱伝導パスを形成しやすくなるため、高い熱伝導性を有するシートを得ることが出来る。
加圧工程では、銅基板に塗布、乾燥した組成物膜を通常25〜300℃、好ましくは40〜250℃、より好ましくは50〜200℃、特に好ましくは60〜160℃で加熱することが望ましい。この温度範囲でシート化工程を行うことにより、加熱は乾燥膜中の樹脂の溶融粘度を低下させることができ、シート内のボイドや空隙をなくすことができる。この温度範囲以上で行うと、有機成分が分解する恐れや残留溶剤が蒸気となり、ボイドを形成する恐れがある。
加圧工程は、通常30秒〜4時間、好ましくは1分〜2時間、より好ましくは3分〜1時間、特に好ましくは5分〜45分である。この上限時間以上では、放熱シートの製造プロセス時間が長すぎ、生産コストが高くなる恐れがある。この下限時間以下では、シート内の空隙やボイドを十分に取り除けないため、熱伝達性能や耐電圧特性に影響を与える恐れがある。
<Pressure process>
After the drying step, a pressure step may be performed. In the sheet forming step, the purpose is to join the boron nitrides to form a heat path, the purpose to eliminate voids and voids in the sheet, the purpose to adhere to the substrate, and the resin in the boron nitride particles to be bonded in the sheet It is desirable to apply pressure for the purpose of The pressing step is usually 10 kgf / cm 2 to 2000 kgf / cm 2 , preferably 50 kgf / cm 2 to 1000 kgf / cm 2 , more preferably 80 kgf / cm 2 to 800 kgf / cm 2 , particularly preferably to a dried film on a copper substrate. It should be carried out by applying a load of 100kgf / cm 2 ~500kgf / cm 2 . By setting the weight at the time of pressure application to the above upper limit or less, it is possible to obtain a sheet having high thermal conductivity without voids or the like in the sheet without breakage of the boron nitride secondary particles. Further, by setting the weight to the above lower limit or more, the contact between the agglomerated BN particles is improved and the heat conduction path is easily formed, so that a sheet having high heat conductivity can be obtained.
In the pressing step, it is desirable to heat the composition film coated and dried on a copper substrate usually at 25 to 300 ° C., preferably 40 to 250 ° C., more preferably 50 to 200 ° C., particularly preferably 60 to 160 ° C. . By performing the sheet forming process in this temperature range, heating can reduce the melt viscosity of the resin in the dried film, and voids and voids in the sheet can be eliminated. If the temperature is higher than this range, the organic component may be decomposed or the residual solvent may be vapor to form a void.
The pressurizing step is usually 30 seconds to 4 hours, preferably 1 minute to 2 hours, more preferably 3 minutes to 1 hour, and particularly preferably 5 minutes to 45 minutes. Above this upper limit time, the manufacturing process time of the heat dissipation sheet may be too long, and the production cost may be high. Below this lower limit time, the voids and voids in the sheet can not be removed sufficiently, which may affect the heat transfer performance and the withstand voltage characteristics.

完全に硬化反応を行わせる硬化工程は、加圧下で行ってもよく、無加圧で行ってもよいが、加圧する場合は、上記と同様の理由から、上記の加圧工程と同様の条件で行うことが望ましい。なお、加圧工程と硬化工程を同時におこなっても構わない。
特に加圧工程と硬化工程を経るシート化工程においては、上記の範囲の加重をかけて、後述の圧縮率の範囲となるように加圧、硬化を行うことが好ましい。
The curing process for allowing the curing reaction to be carried out completely may be carried out under pressure or without pressure, but in the case of pressure, the same conditions as the above-mentioned pressure process for the same reasons as above. It is desirable to The pressing process and the curing process may be performed simultaneously.
In particular, in the sheet forming step through the pressing step and the curing step, it is preferable to apply pressure in the above-mentioned range to perform pressing and curing so as to be within the range of compression ratio described later.

放熱シートの製造にあたっては、このように乾燥膜に大きな加重を加えることによりシート化することで本発明の効果を発揮しやすい傾向がある。
XRD測定でカードハウス構造を有さない窒化ホウ素二次粒子を用いて、放熱シートを製造した場合、窒化ホウ素二次粒子は、加圧工程により圧壊され、シート面内方向に低熱伝導面が配向してしまい、また、板状窒化ホウ素粒子がシートの長さ方向に配向することから、シート厚み方向では低熱伝導性しか得られない。これに対して、破壊強度が高い、特定の窒化ホウ素二次粒子と特定の板状窒化ホウ素粒子を放熱シートに含有させることで、加圧工程において窒化ホウ素二次粒子の構造が圧壊されにくく、板状窒化ホウ素粒子がシート中にランダムに存在し、シートの厚さ方向であっても熱伝導性を有するシートとすることができる。
In the manufacture of the heat-radiating sheet, there is a tendency that the effects of the present invention can be easily exhibited by forming the dry film into a sheet by thus applying a large weight.
When a heat dissipation sheet is manufactured using boron nitride secondary particles having no card house structure by XRD measurement, the boron nitride secondary particles are crushed by a pressing process, and the low thermal conductive surface is oriented in the sheet in-plane direction In addition, since the plate-like boron nitride particles are oriented in the longitudinal direction of the sheet, only low thermal conductivity can be obtained in the sheet thickness direction. On the other hand, by containing specific boron nitride secondary particles and specific plate-like boron nitride particles having high fracture strength in the heat dissipation sheet, the structure of the boron nitride secondary particles is unlikely to be crushed in the pressing step, Plate-like boron nitride particles may be randomly present in the sheet, and the sheet may be thermally conductive even in the thickness direction of the sheet.

放熱シートは、上述のように大きな加重下でシート化を行って製造されるが、特に加重をかける前の硬化前シート厚みと加重をかけて完全に硬化させた後の硬化シート厚みの比((硬化シート厚み)/(硬化前シート厚み))から計算される圧縮率(1−(硬化シー
ト厚み)/(硬化前シート厚み))が0.2以上0.8以下の圧縮率の時に、厚み方向に10W/mK以上50W/mK以下の高熱伝導性が発現する。この圧縮率は、より好ましくは0.3以上0.7以下、更に好ましくは0.4以上0.7以下、特に好ましくは0.5以上0.7以下である。圧縮率を上記上限以下とすることにより、窒化ホウ素二次粒子を破壊することなく、シート中に空隙などがない高い熱伝導性を有するシートを得ることが出来る。また、圧縮率を上記下限以上とすることにより、窒化ホウ素二次粒子間の接触が良好となり、熱伝導パスを形成しやすくなるため、高い熱伝導性を有するシートを得ることが出来る。
また、このような圧縮率で硬化させて得られる本発明の放熱シートの厚み方向の熱伝導率は、より好ましくは15〜40W/mK、特に好ましくは20〜40W/mKである。
また、上記放熱シートは、XRD測定で100軸と004軸の強度比I(100)/I(004)が3.0以上であることが好ましい。上記範囲であることで、加圧工程においても窒化ホウ素二次粒子が圧壊せず、板状窒化ホウ素粒子がランダムに配向されており、放熱シートの厚み方向において高い熱伝導率を達成できる。
The heat-radiating sheet is produced by sheeting under a large load as described above, and in particular, the ratio of the sheet thickness before curing and the thickness of the cured sheet after being completely cured by applying a weight ( When the compression ratio (1- (hardened sheet thickness) / (unhardened sheet thickness)) calculated from (hardened sheet thickness) / (pre-hardened sheet thickness) is 0.2 or more and 0.8 or less, High thermal conductivity of 10 W / mK to 50 W / mK is expressed in the thickness direction. The compression ratio is more preferably 0.3 or more and 0.7 or less, still more preferably 0.4 or more and 0.7 or less, and particularly preferably 0.5 or more and 0.7 or less. By setting the compression ratio to the upper limit or less, it is possible to obtain a sheet having high thermal conductivity without voids in the sheet without destroying the boron nitride secondary particles. Further, by setting the compression ratio to the above lower limit or more, the contact between the boron nitride secondary particles becomes good and the heat conduction path is easily formed, so that a sheet having high thermal conductivity can be obtained.
The thermal conductivity of the heat-radiating sheet of the present invention obtained by curing with such a compression ratio is more preferably 15 to 40 W / mK, particularly preferably 20 to 40 W / mK.
Moreover, it is preferable that the said heat dissipation sheet is 3.0 or more in intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axis | shaft and 004 axis | shaft by XRD measurement. Within the above range, the secondary boron nitride particles are not crushed even in the pressing step, and the plate-like boron nitride particles are randomly oriented, and high thermal conductivity can be achieved in the thickness direction of the heat dissipation sheet.

[4.積層放熱シート]
本発明の別の実施態様は、放熱シートを支持体に積層させてなる積層放熱シートである。支持体は特段限定されないが、熱伝導性を高くするために、特に銅箔を用いることが好まれ、例えば、上述の放熱シートの製造方法により製造され、銅箔が積層一体化されたものが好ましい。
[4. Laminated heat dissipation sheet]
Another embodiment of the present invention is a laminated heat dissipating sheet formed by laminating a heat dissipating sheet on a support. The support is not particularly limited, but in order to increase the thermal conductivity, it is particularly preferred to use a copper foil, for example, one manufactured by the above-described method for producing a heat dissipating sheet and laminated and integrated with a copper foil preferable.

本発明の放熱シート又は上記積層放熱シートの厚さについては特に制限はないが、通常100〜300μm、特に150〜250μmであることが好ましい。放熱シートの厚さが上記下限未満では、硬化膜の厚さが薄すぎて、耐電圧特性が悪化し、絶縁破壊電圧が低くなるため好ましくなく、上記上限を超えるとパワー半導体デバイスの小型化や薄型化が達成できなくなるため好ましくない。
また、銅箔の厚さは通常、十分な放熱性を確保するという理由から、30〜200μm、特に30〜150μmであることが好ましい。
The thickness of the heat dissipating sheet of the present invention or the laminated heat dissipating sheet is not particularly limited, but it is preferably 100 to 300 μm, particularly preferably 150 to 250 μm. If the thickness of the heat dissipation sheet is less than the above lower limit, the thickness of the cured film is too thin, the withstand voltage characteristics deteriorate, and the dielectric breakdown voltage becomes low, which is not preferable. It is not preferable because thinning can not be achieved.
In addition, the thickness of the copper foil is preferably 30 to 200 μm, particularly 30 to 150 μm, in order to ensure sufficient heat dissipation.

[5.パワーデバイス装置]
上記放熱シート又は積層放熱シートは、放熱基板としてパワーデバイス装置に実装することができる。上記放熱シート及び積層放熱シートを備えたパワーデバイス装置は、高い熱伝導性による放熱効果で、高い信頼性のもとに、高出力、高密度化が可能である。パワー半導体デバイス装置において、放熱シート又は積層放熱シート以外のアルミ配線、封止材、パッケージ材、ヒートシンク、サーマルペースト、はんだというような部材は従来公知の部材を適宜採用できる。
[5. Power device equipment]
The heat dissipating sheet or the laminated heat dissipating sheet can be mounted on a power device as a heat dissipating substrate. The power device apparatus provided with the heat dissipation sheet and the laminated heat dissipation sheet can achieve high output and high density with high reliability due to the heat dissipation effect by high thermal conductivity. In the power semiconductor device device, conventionally known members can be appropriately adopted as members such as aluminum wiring, sealing material, package material, heat sink, thermal paste, and solder other than the heat dissipation sheet or laminated heat dissipation sheet.

以下、製造例により本発明をさらに詳細に説明する。
<窒化ホウ素二次粒子の製造例1>
以下に記載する方法で、BN−A凝集粒子を調製した。
BN−A凝集粒子を作製するためには、原料として、粉末X線回折測定によりえられる(002)面ピークの半値幅が2θ=0.67°、酸素濃度が7.5質量%であるh−BN(以下原料h−BN粉末と記載)を用いた。
・BNスラリーからの凝集粒子の作製
[スラリーA]
以下の配合で粘度が810mPa・sのスラリーAを調製した。
スラリーA配合
原料h−BN粉末:10000g
純水:0g
バインダー(多木化学(株)製「タキセラムM160L」、固形分濃度21質量%):1
1496g
界面活性剤(花王(株)製界面活性剤「アンモニウムラウリルサルフェート」:固形分濃度14質量%):250g
[スラリーの調製]
原料h−BN粉末を樹脂製のボトルに所定量計量し、次いで純水、バインダーの順に所定量添加した。さらに、界面活性剤を所定量添加した後、ジルコニア性のセラミックボールを添加して、ポットミル回転台で撹拌した。撹拌は、1〜5時間所望の粘度になるまで実施した。
[造粒]
BNスラリーからの造粒は、大河原化工機株式会社製FOC−20を用いて造粒した。
ディスク回転数20000〜23000rpm、乾燥温度80℃で実施した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of production examples.
<Production Example 1 of boron nitride secondary particles>
BN-A agglomerated particles were prepared by the method described below.
In order to produce BN-A agglomerated particles, as a raw material, the half width of the (002) plane peak obtained by powder X-ray diffraction measurement is 2θ = 0.67 °, and the oxygen concentration is 7.5 mass% h -BN (hereinafter described as raw material h-BN powder) was used.
・ Preparation of agglomerated particles from BN slurry
[Slurry A]
Slurry A having a viscosity of 810 mPa · s was prepared by the following composition.
Slurry A composition Raw material h-BN powder: 10000 g
Pure water: 0 g
Binder (Takiceram M160L, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd., solid concentration 21% by mass): 1
1496 g
Surfactant (Kao Co., Ltd. surfactant "ammonium lauryl sulfate": solid concentration 14% by mass): 250 g
[Slurry preparation]
A predetermined amount of raw material h-BN powder was weighed into a resin-made bottle, and then a predetermined amount of pure water and a binder were sequentially added. Further, after a predetermined amount of surfactant was added, zirconia ceramic balls were added and the mixture was stirred by a pot mill rotary table. Stirring was carried out until the desired viscosity was reached for 1 to 5 hours.
[Granulation]
Granulation from BN slurry was performed using FOC-20 manufactured by Ogawara Kako Co., Ltd.
It implemented by disc rotation speed 20000-23000 rpm, and the drying temperature of 80 degreeC.

[BN−A凝集粒子の作製]
上記BN造粒粒子を、2000℃で5時間、窒素ガス流通下に加熱処理した。
加熱処理時の昇温および降温は、以下のように行った。
室温で真空引きをした後、窒素ガスを導入して復圧し、そのまま窒素ガスを導入しながら2000℃まで83℃/時で温度を上げ、2000℃到達後、5時間保持した。その後、室温まで冷却し、BN−A凝集粒子を得た。
[分級]
更に、上記加熱処理後のBN凝集粒子を、乳鉢および乳棒を用いて軽粉砕した後、目開き90μmの篩を用いて分級した。分級後、BN−A凝集粒子の平均結晶子径、D50、XRD測定による(100)面と(004)面のピーク強度比を測定した。測定結果は表1に示す。また、BN−AのSEM写真を図2に示す。図2より、製造したBN二次粒子は、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子であることがわかる。
[Preparation of BN-A Aggregated Particles]
The BN granulated particles were heat-treated at 2000 ° C. for 5 hours under nitrogen gas flow.
The temperature elevation and temperature lowering during the heat treatment were performed as follows.
After evacuation at room temperature, nitrogen gas was introduced and pressure was restored, and while the nitrogen gas was introduced as it was, the temperature was raised to 2000 ° C. at 83 ° C./hour and held for 5 hours after reaching 2000 ° C. Then, it cooled to room temperature and obtained BN-A aggregation particle | grains.
[Classification]
Furthermore, the BN agglomerated particles after the above heat treatment were lightly crushed using a mortar and a pestle, and then classified using a sieve with an opening of 90 μm. After classification, the average crystallite diameter of BN-A agglomerated particles, D 50 , and peak intensity ratio of (100) plane to (004) plane by XRD measurement were measured. The measurement results are shown in Table 1. Moreover, the SEM photograph of BN-A is shown in FIG. It can be seen from FIG. 2 that the BN secondary particles produced are boron nitride secondary particles having a cardhouse structure.

<放熱シートの製造>
上記製造したBN二次粒子と板状窒化ホウ素とエポキシ樹脂とを、水に添加して混合し、放熱シート用スラリーを調製する。調製後のスラリーを銅板上にシート状に塗布し、乾燥させて水を除去することで、放熱用シートを得る。
<Manufacture of heat dissipation sheet>
The manufactured BN secondary particles, plate-like boron nitride, and an epoxy resin are added to water and mixed to prepare a slurry for a heat dissipation sheet. The prepared slurry is applied in a sheet form on a copper plate and dried to remove water, whereby a heat dissipation sheet is obtained.

上記製造例により製造された、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子は、板状の窒化ホウ素粒子と共にフィラーとして放熱シートに含有させることで、非常に有利な効果を奏する。まず、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子は、その構造上破壊強度が非常に高く、放熱シート成形時に行われる加圧工程においても圧壊しない。そのため、板状の窒化ホウ素粒子と併せて混合して用いることで、通常放熱シートの長手方向に配向する板状窒化ホウ素粒子を、ランダムな方向に存在させることが可能となった。その結果、厚さ方向に対しても高い熱伝導性を達成できる放熱シートを提供することができる。
また、カードハウス構造を有する窒化ホウ素二次粒子は、加圧工程においても圧壊しないことで、放熱シートに含有させた際に高熱伝導性、高耐電圧性を有する放熱シートとすることが可能である。当該放熱シートは、パワーデバイスに適用した際に、高い信頼性を付与することができる。
The boron nitride secondary particles having a card house structure produced according to the above-described production example exhibit very advantageous effects by being contained in the heat dissipation sheet as a filler together with the plate-like boron nitride particles. First, the boron nitride secondary particles having a card house structure have a very high breaking strength due to their structure, and do not crush even in the pressing step performed at the time of forming the heat-radiating sheet. Therefore, by combining and using plate-like boron nitride particles, it has become possible to cause plate-like boron nitride particles normally oriented in the longitudinal direction of the heat dissipation sheet to be present in random directions. As a result, it is possible to provide a heat dissipating sheet capable of achieving high thermal conductivity also in the thickness direction.
In addition, by not collapsing boron nitride secondary particles having a card house structure even in the pressing step, it is possible to obtain a heat dissipation sheet having high thermal conductivity and high voltage resistance when contained in a heat dissipation sheet. is there. The heat dissipation sheet can provide high reliability when applied to a power device.

Claims (8)

カードハウス構造を有し、一次粒子が二次粒子の表面において放射状になるように配置され、かつ、破壊強度が20MPa以下である窒化ホウ素二次粒子と、板状窒化ホウ素粒子とを含む放熱シート。 A heat dissipation sheet having a card house structure, primary particles arranged radially on the surface of secondary particles, and secondary particles of boron nitride having a breaking strength of 20 MPa or less and plate-like boron nitride particles . 前記板状窒化ホウ素粒子の長軸方向の長さがμm以上100μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の放熱シート。 The heat sink sheet according to claim 1, wherein the length of the plate-like boron nitride particles in the long axis direction is 8 μm or more and 100 μm or less . 前記板状窒化ホウ素粒子は、XRD測定で100軸と004軸の強度比I(100)/I(004)が3.0より小さい、請求項1または2に記載の放熱シート。   The heat dissipation sheet according to claim 1 or 2, wherein the plate-like boron nitride particles have an intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axes to 004 axes smaller than 3.0 as measured by XRD. 窒化ホウ素二次粒子/(窒化ホウ素二次粒子+板状窒化ホウ素粒子)で表される、前記窒化ホウ素二次粒子と前記板状窒化ホウ素粒子との含有割合が、0.1以上0.98以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の放熱シート。   The content ratio of the boron nitride secondary particles and the plate-like boron nitride particles represented by boron nitride secondary particles / (boron nitride secondary particles + plate-like boron nitride particles) is 0.1 or more and 0.98. The heat dissipation sheet according to any one of claims 1 to 3, which is the following. 前記窒化ホウ素二次粒子は、XRD測定で100軸と004軸の強度比I(100)/I(004)が3.0以上である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の放熱シート。   The heat dissipation according to any one of claims 1 to 4, wherein the boron nitride secondary particles have an intensity ratio I (100) / I (004) of 100 axes to 004 axes of 3.0 or more as measured by XRD. Sheet. 前記窒化ホウ素二次粒子は、樹脂を内包する粒子である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の放熱シート。   The heat dissipation sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the boron nitride secondary particles are particles containing a resin. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の放熱シートが支持体に積層されてなる積層放熱シート。   The lamination | stacking heat-radiation sheet by which the heat-radiation sheet of any one of Claims 1-6 is laminated | stacked on a support body. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の放熱シートを含むパワーデバイス装置。   The power device apparatus containing the thermal radiation sheet of any one of Claims 1-7.
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