JP6507706B2 - ナノインプリント用モールドの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、複数の細孔からなる微細凹凸構造を表面に有するナノインプリント用モールドの製造方法に関する。
近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有するフィルムなどの物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
物品の表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、該微細凹凸構造の反転構造が表面に形成されたモールド（金型）を用い、該モールドと物品本体（基材）との間に硬化性樹脂組成物を供給して硬化させ、モールドの微細凹凸構造を物品本体の表面に転写する方法（ナノインプリント法）が注目されている。
ナノインプリント用のモールドを製造する方法としては、アルミニウム基材を電解液にて陽極酸化して細孔を有する酸化皮膜を形成する工程と、エッチングにより酸化皮膜の細孔を拡大させる工程とを交互に繰り返し、アルミニウム基材の表面に複数の細孔（凹部）を有する酸化皮膜を形成する方法が知られている（例えば特許文献１、２）。
ロール状のアルミニウム基材の外周面全体を研磨する方法としては、例えば、以下に示す方法が考えられる。
図５に示すように、回転軸１１０によって軸周りに回転するロール状のアルミニウム基材１１２の外周面１１４に、研磨体１１６を押し当てて擦りつつ、アルミニウム基材１１２における軸方向の第１の端部１１２ａから第２の端部１１２ｂまでの範囲で研磨体１１６を軸方向に移動させる方法。
図５に示すように、回転軸１１０によって軸周りに回転するロール状のアルミニウム基材１１２の外周面１１４に、研磨体１１６を押し当てて擦りつつ、アルミニウム基材１１２における軸方向の第１の端部１１２ａから第２の端部１１２ｂまでの範囲で研磨体１１６を軸方向に移動させる方法。
また、研磨を行う前のロール状のアルミニウム基材は、切削加工等の機械加工によりアルミニウム塊から所定の形状に加工されており、研磨にて外周面を鏡面まで仕上げる必要がある。機械加工された外周面を鏡面まで仕上げる研磨方法としては、機械加工により形成された表面の粗い形状を除去する必要があることから、比較的研磨レートの高い研磨方法を用いることが好ましく、アルミニウム基材の表面を溶解しながら機械的研磨を行う、化学機械研磨（ＣＭＰ研磨）を用いる場合がある。
ＣＭＰ研磨においては、研磨砥粒を用いるが、研磨砥粒がアルミニウム基材の表面に付着したまま陽極酸化処理およびエッチング処理を行うと、所望の形状の凹部を有する酸化皮膜を形成することが困難な場合があること、又研摩砥粒や研磨液が陽極酸化設備を汚染して、設備の機能を阻害させる恐れがある。そのために、陽極酸化処理およびエッチング処理等を行う前に、ＣＭＰ研磨に用いた研磨砥粒や研磨液などをアルミニウム基材表面から除去する必要がある。しかしながら、本願発明者らは、アルミニウム基材の表面が一旦乾燥してしまうと、従来公知の洗浄方法ではアルミニウム基材表面から研磨砥粒等を除去することが困難であることを見出した。また、ロール状のアルミニウム基材をＣＭＰ研磨する場合、アルミニウム基材を回転させながら、研磨体をアルミニウム基材に押し付け、研磨体をアルミニウム基材の中心軸方向に沿って移動させながら、アルミニウム基材の表面全体を研磨する方法が用いられるが、この際にアルミニウム基材の表面に縞模様の研磨液の厚みムラが発生してしまう、という問題があることを見出した。このような縞模様のムラが発生すると、研磨液が薄い部分では、すぐに研磨液が乾燥してしまい、研磨砥粒を除去することが難しくなってしまう。
本発明者らは鋭意検討した結果、ＣＭＰ研磨を行い、アルミニウム基材表面を鏡面化した後、アルミニウム基材表面から確実に研磨砥粒等を除去できる方法を見出し、効率的にナノインプリント用モールドを製造する方法を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の特徴を有する。
ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に均一に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に均一に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
本発明者らが鋭意検討した結果、アルミニウム基材を回転駆動した状態で、研磨体とアルミニウム基材との接触部分にスラリーを供給し、研磨体軸方向に移動させてアルミニウム基材表面を研磨した際に、研磨スラリーが濃い部分と薄い部分とが筋状の斑となってアルミニウム基材上に残ってしまうことを見出した。このような筋状の斑が発生すると、洗浄工程を実施する前に、スラリーの薄い筋状の部分が乾燥してしまいアルミニウム基材表面に筋状の斑が発生してしまう。しかし、上記のように構成された方法においては、前記工程（Ｉ）の後に、アルミニウム基材上に均一にスラリーが塗布されるため、上述のような筋状の斑が発生することを抑制することができる。これにより、工程（III）を実施する前に、アルミニウム基材の表面が乾燥してしまい、筋状の斑が残ってしまうことを抑制することができる。
本発明の一態様によれば、前記工程（II）において、前記金型基材の回転速度を周速６５ｍ／分以下とするロール状ナノインプリント用モールドの製造方法が提供される。
本発明の別の一態様によれば、前記工程（Ｉ）および（ＩＩ）において、前記金型基材の回転速度が周速６５ｍ／分以下である、請求項２に記載のロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
また、本発明によれば、以下の特徴を有するロール状ナノインプリント用モールドの製造方法が提供される。
ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と中心軸を中心に回転する前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と中心軸を中心に回転する前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
本発明の一実施態様によれば、前記工程（ＩＩ）において、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、前記研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させながら、前記工程（Ｉ）よりも早い速度で、前記研磨体を前記アルミニウム基材の軸方向に相対的に移動させることを特徴とする、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法が提供される。
本発明の別の一実施態様によれば、前記工程（ＩＩ）において、前記研磨体の移動速度が下記式を満たすことを特徴とする、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法が提供される。
なお、式中Ｌは、前記アルミニウム基材の中心軸に沿った方向の長さ、Ｔはアルミニウム基材の中心軸に沿った方向における前記研磨体の移動速度、Ｗは前記アルミニウム基材の中心軸に沿った方向における前記研磨体の長さ、Ｒは前記アルミニウム基材の半径、Ｓは前記アルミニウム基材の回転速度（周速）を表す。
なお、式中Ｌは、前記アルミニウム基材の中心軸に沿った方向の長さ、Ｔはアルミニウム基材の中心軸に沿った方向における前記研磨体の移動速度、Ｗは前記アルミニウム基材の中心軸に沿った方向における前記研磨体の長さ、Ｒは前記アルミニウム基材の半径、Ｓは前記アルミニウム基材の回転速度（周速）を表す。
本発明の別の一実施態様によれば、前記（III）工程は、洗浄液を前記アルミニウム基材の外周面に供給して、前記研磨スラリーを除去する工程であり、前記洗浄液の温度が５０℃以下であることを特徴とする、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法が提供される。
本発明によれば、アルミニウム基材をＣＭＰ研磨により鏡面化した後、アルミニウム基材表面から確実に研磨砥粒等を除去することができ、効率的にナノインプリント用モールドを製造する方法を提供できる。
本明細書において、「細孔」とは、アルミニウム基材の表面の酸化皮膜に形成された微細凹凸構造の凹部のことをいう。
また、「細孔の間隔」とは、隣接する細孔同士の中心間距離を意味する。
また、「突起」とは、成形体の表面に形成された微細凹凸構造の凸部のことをいう。
また、「微細凹凸構造」とは、凸部または凹部の平均間隔が１０〜４００ｎｍである構造を意味する。
また、「ロール状」とは、外形が円柱状である形態を意味し、中空円柱形状、円柱状や、円柱状の外径に、一部切欠きや凸部等が設けられている略円柱形状も含む。
また、「細孔の間隔」とは、隣接する細孔同士の中心間距離を意味する。
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また、「ロール状」とは、外形が円柱状である形態を意味し、中空円柱形状、円柱状や、円柱状の外径に、一部切欠きや凸部等が設けられている略円柱形状も含む。
本発明のロール状ナノインプリント用モールド（以下、単に「モールド」という。）の製造方法は、ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドの製造方法である。
以下、本発明のモールドの製造方法および該製造方法に用いられる研磨装置の一例を示して説明する。
まず、本発明において用いられる研磨装置について、図１、２を参照しながら説明する。
本発明において用いられる研磨装置は、図１および図２に示されるように、ロール状のアルミニウム基材１０の軸方向の長さＬよりも、該軸方向に沿った長さＷが短い領域でロール状のアルミニウム基材表面と当接する研磨手段１４を備えている。研磨手段１４は、例えば帯状の研磨体１８と、研磨体１８をアルミニウム基材に当接させながら、その長手方向に搬送する研磨ロール２０と、研磨スラリーを供給する研磨スラリー供給部２２と、を有している。
研磨手段１４と、アルミニウム基材１０とは、擦動手段（図示されず）により、ロール状のアルミニウム基材表面と研摩手段１４とが当接する領域において相対的に移動され、研磨手段１４とアルミニウム基材１０とが擦動されるように構成される。研磨手段１４とアルミニウム基材１０とは、例えばアルミニウム基材１０がその中心軸を中心に回転駆動され、アルミニウム基材１０の回転方向と、研磨体１８が搬送される方向とが逆方向となるように、研磨体１８が搬送ロール２０によって搬送されることで、互いに擦動されてもよい。また、研磨手段１４の研磨体１８が固定された状態で、アルミニウム基材１０が中心軸を中心に回転駆動されることで、互いに擦動されてもよい。
本発明において用いられる研磨装置は、少なくともアルミニウム基材１０と研磨手段１４とが当接される領域に（すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１２における研磨体１８との接触部分２４に）、研磨スラリーを供給する研磨スラリー供給部２２（研磨スラリー供給手段）を備える。研磨スラリー供給部２２は、例えば研磨スラリーを送液する配管２２ａと、配管２２ａの先端に設けられたノズル２２ｂと、から構成される。
本発明において用いられる研磨装置は、研磨手段１４と、アルミニウム基材１０とを、アルミニウム基材の軸方向に沿って相対的に移動させる移動手段（図示されず）を備えている。移動手段は、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって外周面１２の全体を研磨できるよう、アルミニウム基材１０の外周面１２に押し当てている研磨体１８を、アルミニウム基材１０の軸方向に沿って相対的に移動させるものである。
なお、本発明において用いられる研磨装置は、上記のものに限定されず、例えば図６（ａ）のように、アルミニウム基材１０の外周面の一部の反転構造を有する押圧部材２６により、研磨体１８をアルミニウム基材１０に押し当てる構成であってもよい。また、例えば図６（ｂ）に示されるように、二本のテンションロール２８によりピンと張った状態とされた研磨体１８に、アルミニウム基材１０に押し当てる構成であっても構わない。
ついで、本発明のモールドの製造方法の一例を示して説明する。
本実施形態のモールドの製造方法は、下記の工程（Ｉ）乃至工程（IV）を有する。
（Ｉ）図１及び図２に示すように、ロール状のアルミニウム基材１０の軸方向の長さＬよりも該軸方向に沿った長さＷが短い研磨体１８と、アルミニウム基材１０との間に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、アルミニウム基材１０と研磨体１８とを軸方向に相対的に移動させながら、研磨体１８とアルミニウム基材１０とを擦動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２を研磨する。
（II）工程（Ｉ）の後に、研磨体１８とアルミニウム基材１０の外周面１２との間に研磨スラリーを供給し、研磨体１８とアルミニウム基材１０の外周面１２とを擦動させながら、工程（Ｉ）よりも早い速度で、研磨体１８をアルミニウム基材１０の軸方向に相対的に移動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２に均一に研磨スラリーを塗布する。
（III）工程（II）の後に、アルミニウム基材１０の外周面１２を洗浄する。
（IV）工程（III）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１２に酸化皮膜２４を形成する。
（Ｉ）図１及び図２に示すように、ロール状のアルミニウム基材１０の軸方向の長さＬよりも該軸方向に沿った長さＷが短い研磨体１８と、アルミニウム基材１０との間に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、アルミニウム基材１０と研磨体１８とを軸方向に相対的に移動させながら、研磨体１８とアルミニウム基材１０とを擦動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２を研磨する。
（II）工程（Ｉ）の後に、研磨体１８とアルミニウム基材１０の外周面１２との間に研磨スラリーを供給し、研磨体１８とアルミニウム基材１０の外周面１２とを擦動させながら、工程（Ｉ）よりも早い速度で、研磨体１８をアルミニウム基材１０の軸方向に相対的に移動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２に均一に研磨スラリーを塗布する。
（III）工程（II）の後に、アルミニウム基材１０の外周面１２を洗浄する。
（IV）工程（III）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１２に酸化皮膜２４を形成する。
［工程（Ｉ）］
この例の工程（Ｉ）では、ロール状のアルミニウム基材１０は、中心軸を中心として軸周りに回転するようになっている。
アルミニウム基材１０の外周面１２は、アルミニウム基材１０の軸方向に移動する研磨手段１４によって研磨されるようになっている。研磨手段１４は、帯状の研磨体１８と、研磨体１８をアルミニウム基材１０に押圧しつつ、研磨体１８を搬送する研磨ロール２０と、研磨液を供給する研磨スラリー供給部２２と、を有している。
この例の工程（Ｉ）では、ロール状のアルミニウム基材１０は、中心軸を中心として軸周りに回転するようになっている。
アルミニウム基材１０の外周面１２は、アルミニウム基材１０の軸方向に移動する研磨手段１４によって研磨されるようになっている。研磨手段１４は、帯状の研磨体１８と、研磨体１８をアルミニウム基材１０に押圧しつつ、研磨体１８を搬送する研磨ロール２０と、研磨液を供給する研磨スラリー供給部２２と、を有している。
研磨体１８は、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＷ（図２）が、アルミニウム基材１０の軸方向の長さＬ（図２）よりも短くなっている。
研磨体１８は、アルミニウム基材の表面を所望の状態まで研磨できるものであればよく、例えば、不織布タイプ、スウェードタイプの研磨パッド等が挙げられる。
研磨体１８は、アルミニウム基材の表面を所望の状態まで研磨できるものであればよく、例えば、不織布タイプ、スウェードタイプの研磨パッド等が挙げられる。
研磨ロール２０は、研磨体１８をアルミニウム基材１０の外周面１２に押し当てつつ、研磨体１８をその長手方向に搬送するようになっている。
この例では、アルミニウム基材１０の外周面１２と研磨体１８とが接触する部分において、アルミニウム基材１０の回転方向と、研磨体１８が搬送される方向とが逆方向となるように、研磨体１８が研磨ロール２０によって搬送されるようになっている。
この例では、アルミニウム基材１０の外周面１２と研磨体１８とが接触する部分において、アルミニウム基材１０の回転方向と、研磨体１８が搬送される方向とが逆方向となるように、研磨体１８が研磨ロール２０によって搬送されるようになっている。
研磨スラリー供給部２２は、研磨スラリーを送液する配管２２ａと、配管２２ａの先端に設けられたノズル２２ｂと、を有している。研磨スラリー供給部２２は、アルミニウム基材１０の外周面１２における研磨体１８との接触部分２４に研磨スラリーを供給するように配置されている。
研磨に用いる研磨スラリーは、化学機械研磨用の研磨スラリーであり、アルミニウム基材１０の外周面１２に付いた傷を消す、外周面１２を鏡面化する等の各種の目的に応じて適宜選択すればよい。
化学機械研磨用の研磨スラリーとしては、例えば、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２等の研磨材（研磨砥粒）が、アルミニウムを腐食させる効果を有する酸性又はアルカリ性の溶液（研磨液）に分散された研磨スラリー等が挙げられる。アルミニウム基材の機械加工面の粗い表面状態には酸性の研磨スラリー、鏡面に仕上げるにはアルカリ性の研磨スラリーを用いると研磨効率が良い。
化学機械研磨用の研磨スラリーとしては、例えば、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２等の研磨材（研磨砥粒）が、アルミニウムを腐食させる効果を有する酸性又はアルカリ性の溶液（研磨液）に分散された研磨スラリー等が挙げられる。アルミニウム基材の機械加工面の粗い表面状態には酸性の研磨スラリー、鏡面に仕上げるにはアルカリ性の研磨スラリーを用いると研磨効率が良い。
研磨手段１４は、アルミニウム基材１０の軸方向に移動できるようになっている。すなわち、アルミニウム基材１０の外周面１２に押し当てている研磨体１８を、アルミニウム基材１０の軸方向に移動させることで、アルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂにわたって外周面１２の全体を研磨できるようになっている。
この例の工程（Ｉ）では、アルミニウム基材１０を軸周りに回転させ、そのアルミニウム基材１０の外周面１２に研磨体１８を押し当てて擦りながら、一方の軸方向端部から他方の軸方向端部まで研磨体１８を軸方向に沿って移動させて、アルミニウム基材１０の外周面１２全体を研磨する。この動作をアルミニウム基材１０の外周面１２が所望の状態となるまで繰り返す。このとき、アルミニウム基材１０の外周面１２における研磨体１８との接触部分２４には、研磨スラリー供給部２２から研磨スラリーを供給する。アルミニウム基材１０の回転速度（アルミニウム基材１０を中心軸に沿った方向で観察した平面視において、アルミニウム基材１２の周方向における研磨体１８との相対的移動速度（以下、単に周速と記載する。））は、アルミニウム基材１０の外周面１２を均一に鏡面化できれば任意に設定してよいが、周速を遅くするとアルミニウム基材の研磨に必要な時間が長くなる場合があるため、６０ｍ／分以上とすることが好ましい。また、研磨体１８の移動速度は、同様の観点から、５ｍｍ／分以上であることが好ましい。
アルミニウム基材１０のアルミニウムの純度は、９９．５質量％以上が好ましく、９９．９質量％以上がより好ましい。アルミニウムの純度が下限値以上であれば、工程（ＩＶ）において、規則性の高い細孔をより高い精度で形成することができる。
アルミニウム基材１０は、純度の高いアルミニウムを用いた場合、ロール状に加工する際に、アルミニウム基材が柔らかすぎて加工しにくい場合がある。この場合は、アルミニウムにマグネシウムを添加してロール状に加工したものを、アルミニウム基材１０として用いてもよい。マグネシウムを添加することで、アルミニウムの強度が高まるため加工しやすくなる。
アルミニウムにマグネシウムを添加する場合、マグネシウムの添加量は、アルミニウム基材１０の総質量に対して０．１〜３質量％が好ましい。
アルミニウムにマグネシウムを添加する場合、マグネシウムの添加量は、アルミニウム基材１０の総質量に対して０．１〜３質量％が好ましい。
［工程（II）］
前述の工程（Ｉ）において、アルミニウム基材１０の外周面１２を研磨する際に、アルミニウム基材１０の周速と研磨体１８との移動速度に応じて、アルミニウム基材１０の外周面１２に図４（ａ）および（ｂ）に示されるような、研磨スラリーが縞模様のムラとなって残ってしまう。この縞模様のムラは、研磨スラリーが厚い部分と、薄い部分とにより形成されている。研磨スラリーには、例えばＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２等の研磨砥粒が分散されているが、研磨スラリーが乾燥してしまうと、これらの研磨砥粒をアルミニウム基材１０の外周面１２から除去することが著しく困難になる。研磨砥粒が表面に残った状態で後述する陽極酸化工程を行うと、所望の細孔を形成できなかったり、研磨材のムラが成形体に転写され、光学性能が低下する場合がある。そのため、研磨スラリーを研磨終了後に洗浄除去する必要がある。しかしながら、図４（ａ）や（ｂ）のように研磨スラリーが厚く塗布された部分と、薄く塗布された部分とが発生すると、研磨スラリーが薄く塗布された部分がすぐに乾燥してしまい、外周面１２に筋状の研磨液乾燥ムラが残ってしまう、ということを本願発明者らは見出した。
前述の工程（Ｉ）において、アルミニウム基材１０の外周面１２を研磨する際に、アルミニウム基材１０の周速と研磨体１８との移動速度に応じて、アルミニウム基材１０の外周面１２に図４（ａ）および（ｂ）に示されるような、研磨スラリーが縞模様のムラとなって残ってしまう。この縞模様のムラは、研磨スラリーが厚い部分と、薄い部分とにより形成されている。研磨スラリーには、例えばＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２等の研磨砥粒が分散されているが、研磨スラリーが乾燥してしまうと、これらの研磨砥粒をアルミニウム基材１０の外周面１２から除去することが著しく困難になる。研磨砥粒が表面に残った状態で後述する陽極酸化工程を行うと、所望の細孔を形成できなかったり、研磨材のムラが成形体に転写され、光学性能が低下する場合がある。そのため、研磨スラリーを研磨終了後に洗浄除去する必要がある。しかしながら、図４（ａ）や（ｂ）のように研磨スラリーが厚く塗布された部分と、薄く塗布された部分とが発生すると、研磨スラリーが薄く塗布された部分がすぐに乾燥してしまい、外周面１２に筋状の研磨液乾燥ムラが残ってしまう、ということを本願発明者らは見出した。
このような研磨スラリーの筋状のムラの発生を抑制する方法として、工程（II）においては、工程（Ｉ）終了後に研磨スラリーが乾燥する前に、アルミニウム基材１０の外周面１２に均一に研磨スラリーを塗布することが有効である。これにより、研磨スラリーが薄く塗布された部分において研磨スラリーが乾燥してしまい、研磨材がアルミニウム基材１０の表面に固着してしまうことを抑制することができる。
本発明の一実施形態によれば、工程（II）において、研磨体１８とアルミニウム基材１０との接触部分に研磨スラリーを供給しつつ、アルミニウム基材１０を中心軸を中心に所定の速度で回転させながら、研磨体１８をアルミニウム基材１０の軸方向端部から他方の端部に向けて移動させることで、アルミニウム基材１０の外周面１２に研磨スラリーが均一に塗布される。、工程（II）におけるアルミニウム基材１０の回転速度（周速）は、６５ｍ／分以下であることが好ましく、４０ｍ／分以下であることがより好ましい。これは、アルミニウム基材１０の周速が早いほど遠心力が大きく、研磨スラリーの塗布ムラがそのまま維持される傾向が高いためである。アルミニウム基材１０の周速を６０ｍ／分以下とすることで、前述の工程（Ｉ）および工程（II）において研磨スラリーの塗布ムラが発生しても、ムラを自然に消すことができる。また、アルミニウム基材１０の回転速度（周速）が５ｍ／分を下回ると、アルミニウム基材１０の重力方向下方向に研磨スラリーが偏在してしまい、工程（II）終了後にアルミニウム基材１０の重力方向上方において直ぐに研磨スラリーの乾燥が始まってしまう場合がある。そのため、工程(II)におけるアルミニウム基材１０の回転速度は、５ｍ／分以上であることが好ましい。
アルミニウム基材１０の外周面１２に研磨スラリーを均一に塗布する方法としては、アルミニウム基材１０を中心軸を中心に回転させながら、研磨体１８とアルミニウム基材１０との接触部分に研磨スラリーを供給しつつ、研磨体１８をアルミニウム基材１０の軸方向端部から他方の端部に向けて移動させればよい。この際に、アルミニウム基材１０の回転速度（すなわち周速）および／または研磨パッドの移動速度とを適切に設定することで、研磨スラリーをアルミニウム基材１０の表面に均一に塗布することができる。
工程（II）において、アルミニウム基材１０の周速は６５ｍ／分以下あることが好ましく、４０ｍ／分以下であることがより好ましい。これは、アルミニウム基材１０の周速が早いほど遠心力が大きく、研磨スラリーの塗布ムラがそのまま維持される傾向が高いためである。アルミニウム基材１０の周速を６０ｍ／分以下とすることで、ある程度研磨スラリーの塗布ムラが発生しても、ムラを自然に消すことができる。
また、研磨スラリーの塗布ムラが発生した場合でも、研磨スラリーが乾燥する前に洗浄すれば、研磨スラリーが乾燥してしまい筋状のムラが発生することを抑制することができる。すなわち、アルミニウム基材１０の軸方向一方端部から他方の端部に向けて、研磨体１８を素早く移動させて、研磨スラリーをアルミニウム基材１０の外周面１２に塗布し、研磨スラリーが乾燥する前にこれを洗浄除去することにより、筋状のムラが発生することを抑制することができる。
本発明の一実施形態によれば、工程(II)において、研磨体１８が工程（Ｉ）よりも早い移動速度で、アルミニウム基材１０の軸方向一方端部から他方端部へと移動される。これにより、工程(II)を実施中に研磨スラリーの乾燥が開始することを抑制しつつ、後述する工程（III）を素早く開始できるため、工程（I）および工程（II）において研磨スラリーの塗布ムラが発生しても、これを容易に洗浄除去できるために、アルミニウム基材１０の表面に筋状のムラが発生することを抑制することができる。なお、アルミニウム基材の半径をＲ、周速をＳ、研磨体の移動速度をＴ、研磨体１８の、アルミニウム基材１０の中心軸方向に沿った方向の幅をＷとした場合、それぞれの値が下記式（１）を満たすことが好ましい。Ｗが左辺の値を超えてしまうと、研磨スラリーの塗布ムラが助長されてしまう傾向にある。また、後述するように、研磨スラリー塗布後に２分以上が経過すると、塗布した研磨スラリーの乾燥が始まってしまう場合があることから、アルミニウム基材１０の中心軸方向をＬとした場合に、研磨体１８の移動速度Ｔは、Ｌ／２＜Ｔを満たす値であることが好ましい。また、式（１）から導かれるように移動速度Ｔは、下記式（２）を満たす範囲であることが好ましい。
・・・（式１）
・・・（式２）
・・・（式１）
・・・（式２）
［工程（III）］
工程（II）においてアルミニウム基材１０の外周面１２に均一に塗布された研磨スラリーが乾燥する前に、アルミニウム基材１０の外周面１２から研磨スラリーを洗浄除去する。なお、前述の工程（II）後において、研磨スラリーの塗布ムラが確認される場合、２分以上が経過すると研磨スラリーが薄く塗布された部分の乾燥が始まってしまうため、工程（III）は、工程（II）の終了後２分以内に開始することが好ましく、１分以内に洗浄を開始することがより好ましい。前述の工程（II）後において、研磨スラリーが均一に塗布され塗布ムラが確認されない場合は、２分以内に洗浄工程を開始する必要はないが、いずれの場合にせよ研磨スラリーの乾燥が始まる前に工程（III）を実施し、研磨スラリーを洗浄除去する必要がある。研磨スラリーを洗浄除去する方法としては、アルミニウム基材１２を洗浄槽に保持された洗浄液に浸漬する方法や、アルミニウム基材１２を回転させながら、外周面１２に洗浄液を供給する方法等が挙げられる。しかしながら、アルミニウム基材１０を洗浄液に浸漬するような方法では、アルミニウム基材１０を洗浄槽に搬送する間に研磨スラリーが乾燥してしまう恐れがある。そのため、工程(I)および工程(II)と同様に、アルミニウム基材１０を研磨装置に取り付けた状態で、アルミニウム基材１０を回転させながら、アルミニウム基材１０の外周面１２に洗浄液を供給し、研磨スラリーを洗浄除去する方法が好ましい。
工程（II）においてアルミニウム基材１０の外周面１２に均一に塗布された研磨スラリーが乾燥する前に、アルミニウム基材１０の外周面１２から研磨スラリーを洗浄除去する。なお、前述の工程（II）後において、研磨スラリーの塗布ムラが確認される場合、２分以上が経過すると研磨スラリーが薄く塗布された部分の乾燥が始まってしまうため、工程（III）は、工程（II）の終了後２分以内に開始することが好ましく、１分以内に洗浄を開始することがより好ましい。前述の工程（II）後において、研磨スラリーが均一に塗布され塗布ムラが確認されない場合は、２分以内に洗浄工程を開始する必要はないが、いずれの場合にせよ研磨スラリーの乾燥が始まる前に工程（III）を実施し、研磨スラリーを洗浄除去する必要がある。研磨スラリーを洗浄除去する方法としては、アルミニウム基材１２を洗浄槽に保持された洗浄液に浸漬する方法や、アルミニウム基材１２を回転させながら、外周面１２に洗浄液を供給する方法等が挙げられる。しかしながら、アルミニウム基材１０を洗浄液に浸漬するような方法では、アルミニウム基材１０を洗浄槽に搬送する間に研磨スラリーが乾燥してしまう恐れがある。そのため、工程(I)および工程(II)と同様に、アルミニウム基材１０を研磨装置に取り付けた状態で、アルミニウム基材１０を回転させながら、アルミニウム基材１０の外周面１２に洗浄液を供給し、研磨スラリーを洗浄除去する方法が好ましい。
ここで図５を参照に、アルミニウム基材１０に塗布された研磨スラリーを洗浄除去する具体例について説明する。図５は本発明において用いられる洗浄装置の一例を示した図である。
図５に示す洗浄装置は、アルミニウム基材１０を回転可能に保持する機構は、図１に示された研磨装置と同様の構成を有しており、図１に示された研磨装置の機構をそのまま用いることができる。洗浄装置は、アルミニウム基材１０に洗浄液を供給する洗浄ノズル３０と、洗浄ノズル３０をアルミニウム基材１０の中心軸方向に沿って、アルミニウム基材１０に対して相対的に移動させる移動手段（図示されず）とを備えている。
洗浄ノズル３０は、アルミニウム基材１０に一定幅で洗浄液を吹き掛けるものである。一定幅の大きさについては特に制限されないが、アルミニウム基材１０の軸方向の長さよりも狭いことが好ましい。洗浄ノズルの洗浄液の吐出口形状としては、一定幅で洗浄液を吹き掛けるものであれば特に限定はされず、矩形状、円形状、楕円形状などが挙げられる。また、ノズルの孔形状としては、複数の孔が直線状に並んだ形状や、細長い連続スロット形状などが挙げられる。
洗浄ノズル３０は、アルミニウム基材１０に対する向きが下記（１）〜（３）を満たすように配置されることが好ましい。
（１）アルミニウム基材１０を水平方向から見たとき（図５正面図参照）、アルミニウム基材１０の中心軸と、洗浄ノズルの先端中心とを結ぶ線と、が成す鋭角（ノズル迎え角α）が５度以上（９０度）未満である。
（２）アルミニウム基材１０を重力方向上方から見たとき（図５平面図参照）、洗浄ノズルの先端中心と直交する直線と、アルミニウム基材１０の中心軸と、が成す鋭角（ノズル振り角β）が、が１０度以上９０度未満である。
（３）アルミニウム基材１０の中心軸に沿った方向、かつ洗浄ノズルの後方から見たとき（図５側面図参照）、洗浄ノズル３０がアルミニウム基材１０の中心軸上方に配置され、かつ洗浄ノズルから洗浄液を供給する供給方向が、アルミニウム基材１０の回転方向に対向する。
（１）アルミニウム基材１０を水平方向から見たとき（図５正面図参照）、アルミニウム基材１０の中心軸と、洗浄ノズルの先端中心とを結ぶ線と、が成す鋭角（ノズル迎え角α）が５度以上（９０度）未満である。
（２）アルミニウム基材１０を重力方向上方から見たとき（図５平面図参照）、洗浄ノズルの先端中心と直交する直線と、アルミニウム基材１０の中心軸と、が成す鋭角（ノズル振り角β）が、が１０度以上９０度未満である。
（３）アルミニウム基材１０の中心軸に沿った方向、かつ洗浄ノズルの後方から見たとき（図５側面図参照）、洗浄ノズル３０がアルミニウム基材１０の中心軸上方に配置され、かつ洗浄ノズルから洗浄液を供給する供給方向が、アルミニウム基材１０の回転方向に対向する。
ここで、図５を参照しながら上記（１）〜（３）について説明する。以下、（１）〜（３）を条件（１）〜（３）という。
条件（１）：
条件（１）は、図５（ａ）の正面図に示すように、アルミニウム基材１０を水平方向から見たとき、アルミニウム基材１０の中心軸と、洗浄ノズルの先端中心とを結ぶ線と、が成す鋭角（ノズル迎え角）が５度以上９０度未満の範囲内にされる。
ノズル迎え角が上記範囲内であれば、アルミニウム基材１０の周面に洗浄液を十分に吹き掛けることができると共に、周面に研磨スラリーを洗浄ノズルの移動方向前方へと送ることができる。従って、洗浄除去された研磨スラリーが、洗浄ノズルの移動方向後方に回り込んでしまい、洗浄後のアルミニウム基材１０の表面を汚染してしまうことを抑制することができる。
ノズル迎え角が５度以下であると、回転するアルミニウム基材１０の同伴流の影響を受けて洗浄液と研磨スラリーとが洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込んでしまい、アルミニウム基材１０から研磨スラリーを十分に洗浄除去できない場合がある。一方、ノズル迎え角が９０度以上になると、回転するアルミニウム基材１０の外周面１２に十分に洗浄液が掛からず、洗浄に長時間が必要となる傾向にある。ノズル迎え角は８度以上６０度以下であることが好ましく、１０度以上４５度以下であることがより好ましい。
条件（１）は、図５（ａ）の正面図に示すように、アルミニウム基材１０を水平方向から見たとき、アルミニウム基材１０の中心軸と、洗浄ノズルの先端中心とを結ぶ線と、が成す鋭角（ノズル迎え角）が５度以上９０度未満の範囲内にされる。
ノズル迎え角が上記範囲内であれば、アルミニウム基材１０の周面に洗浄液を十分に吹き掛けることができると共に、周面に研磨スラリーを洗浄ノズルの移動方向前方へと送ることができる。従って、洗浄除去された研磨スラリーが、洗浄ノズルの移動方向後方に回り込んでしまい、洗浄後のアルミニウム基材１０の表面を汚染してしまうことを抑制することができる。
ノズル迎え角が５度以下であると、回転するアルミニウム基材１０の同伴流の影響を受けて洗浄液と研磨スラリーとが洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込んでしまい、アルミニウム基材１０から研磨スラリーを十分に洗浄除去できない場合がある。一方、ノズル迎え角が９０度以上になると、回転するアルミニウム基材１０の外周面１２に十分に洗浄液が掛からず、洗浄に長時間が必要となる傾向にある。ノズル迎え角は８度以上６０度以下であることが好ましく、１０度以上４５度以下であることがより好ましい。
条件（２）：
条件（２）は、図５（ｂ）の上面図に示すように、アルミニウム基材１０を重力方向上方から見たとき、洗浄ノズルの先端中心と直交する直線と、アルミニウム基材１０の中心軸と、が成す鋭角（ノズル振り角）が、１０度以上９０度未満の範囲内にされる。
ノズル振り角が９０°未満であれば、アルミニウム基材１０の周面に付着した研磨スラリーが、洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込むことを抑制しつつ、効率よくアルミニウム基材１０の外周面１２を洗浄することができる。ノズル振り角は１５度以上６０度以下であることが好ましく、２０度以上４５度以下であることがより好ましい。
条件（２）は、図５（ｂ）の上面図に示すように、アルミニウム基材１０を重力方向上方から見たとき、洗浄ノズルの先端中心と直交する直線と、アルミニウム基材１０の中心軸と、が成す鋭角（ノズル振り角）が、１０度以上９０度未満の範囲内にされる。
ノズル振り角が９０°未満であれば、アルミニウム基材１０の周面に付着した研磨スラリーが、洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込むことを抑制しつつ、効率よくアルミニウム基材１０の外周面１２を洗浄することができる。ノズル振り角は１５度以上６０度以下であることが好ましく、２０度以上４５度以下であることがより好ましい。
条件（３）：
条件（３）は、図５（ｃ）の側面図に示すように、アルミニウム基材１０の中心軸に沿った方向、かつ洗浄ノズルの後方から見たとき、洗浄ノズル３０がアルミニウム基材１０の中心軸上方に配置され、かつ洗浄ノズルから洗浄液を供給する供給方向が、アルミニウム基材１０の回転方向に対向するように、洗浄ノズル３０が配置される。
上記のように洗浄ノズルを配置することにより、回転するアルミニウム基材１０の同伴流の影響を受けて洗浄液と研磨スラリーとが洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込んでしまい、アルミニウム基材１０から研磨スラリーを十分に洗浄除去できなくなることを抑制することができる。
また、洗浄ノズル３０は、アルミニウム基材１０の外周面１２から洗浄ノズル３０までの最短水平距離が５０〜２００ｍｍとなるように配置されるのが好ましい。
条件（３）は、図５（ｃ）の側面図に示すように、アルミニウム基材１０の中心軸に沿った方向、かつ洗浄ノズルの後方から見たとき、洗浄ノズル３０がアルミニウム基材１０の中心軸上方に配置され、かつ洗浄ノズルから洗浄液を供給する供給方向が、アルミニウム基材１０の回転方向に対向するように、洗浄ノズル３０が配置される。
上記のように洗浄ノズルを配置することにより、回転するアルミニウム基材１０の同伴流の影響を受けて洗浄液と研磨スラリーとが洗浄ノズル３０の移動方向後方に回り込んでしまい、アルミニウム基材１０から研磨スラリーを十分に洗浄除去できなくなることを抑制することができる。
また、洗浄ノズル３０は、アルミニウム基材１０の外周面１２から洗浄ノズル３０までの最短水平距離が５０〜２００ｍｍとなるように配置されるのが好ましい。
洗浄に用いる洗浄液としては、アルコール、水、有機溶剤等の従来公知の洗浄液を用いればよく、水を用いることが好ましい。また、洗浄液の温度は、５０℃以下とされる。本発明においては、高純度のアルミニウムからなるアルミニウム基材１０が用いられる。高純度アルミニウムは、高温環境下で水と接触すると、白色の水酸化アルミニウムを形成する場合がある。アルミニウム基材１０の外周面１２が水酸化アルミニウム層を形成すると、後述する陽極酸化処理で所望の細孔を形成できない場合がある。そのため、洗浄液の温度は５０℃以下のものが用いられ、４０℃以下のものを用いることがより好ましい。
また、本発明においては、高純度のアルミニウムからなるアルミニウム基材１０が用いられるが、高純度アルミニウムは非常に軟質な材料である。研磨スラリーが表面に塗布されたアルミニウム基材１０に、高圧で洗浄液を供給すると、研磨スラリーに含まれる研磨材がアルミニウム基材１０の表面に刺さった状態となり、研磨スラリーを除去できなくなる場合がある。そのため、比較的低い圧力で、流量を多くして洗浄液をアルミニウム基材１０の外周面１２に供給することが好ましい。洗浄液をアルミニウム基材１０の外周面１２に供給する圧力は１５ＭＰａ以下であることが好ましく、１０ＭＰａ以下であることがより好ましい。また、洗浄液の流量は、０，５リットル／毎分以上であることが好ましく、１リットル／毎分以上であることがより好ましく、２リットル／毎分以上であることがさらに好ましい。
また、洗浄液の乾燥ムラが発生すると、特にナノオーダーの微細凹凸構造を有するモールドの場合は、このような乾燥ムラの影響が顕著に表れる。従って、研磨スラリーの洗浄除去後は、洗浄液が自然乾燥する前に、エアノズル等から気体をアルミニウム基材１０の表面に吹き付け、アルミニウム基材１０の外周面１２から洗浄液を除去し、アルミニウム基材１０を乾燥することが好ましい。アルミニウム基材１０の乾燥は、洗浄液が自然乾燥する前にアルミニウム基材１０の表面から洗浄液を除去できる方法であればよく、例えば、前述した洗浄ノズルと同様に構成されたエアノズルを用いることができる。なお、洗浄液として水を用いる場合、高温のガスをアルミニウム基材１０に吹き掛けると、表面に水酸化アルミニウム層が形成されてしまう場合があるため、吹き掛ける気体の温度は５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましい。
［工程（IV）］
工程（III）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１２に、複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成する。前記酸化皮膜を形成する方法としては、例えば、下記工程（ａ）〜（ｆ）を有する方法が挙げられる。
（ａ）アルミニウム基材１０を電解液中において定電圧下で陽極酸化して、図３に示すように、アルミニウム基材１０の外周面１２に酸化皮膜３４を形成する。
（ｂ）酸化皮膜３４の一部または全てを除去し、アルミニウム基材１０の外周面１２に陽極酸化の細孔発生点３６を形成する。
（ｃ）アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化し、細孔発生点３６に細孔３８を有する酸化皮膜３４を形成する。
（ｄ）酸化皮膜３４の一部を除去し、細孔３８の径を拡大させる。
（ｅ）工程（ｄ）の後、アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化する。
（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、外周面１２に複数の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成されたロール状ナノインプリント用モールド１（以下、「モールド１」という。）を得る。
工程（III）の後に、陽極酸化によってアルミニウム基材１０の外周面１２に、複数の細孔を有する酸化皮膜（陽極酸化ポーラスアルミナ）を形成する。前記酸化皮膜を形成する方法としては、例えば、下記工程（ａ）〜（ｆ）を有する方法が挙げられる。
（ａ）アルミニウム基材１０を電解液中において定電圧下で陽極酸化して、図３に示すように、アルミニウム基材１０の外周面１２に酸化皮膜３４を形成する。
（ｂ）酸化皮膜３４の一部または全てを除去し、アルミニウム基材１０の外周面１２に陽極酸化の細孔発生点３６を形成する。
（ｃ）アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化し、細孔発生点３６に細孔３８を有する酸化皮膜３４を形成する。
（ｄ）酸化皮膜３４の一部を除去し、細孔３８の径を拡大させる。
（ｅ）工程（ｄ）の後、アルミニウム基材１０を電解液中で再度陽極酸化する。
（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、外周面１２に複数の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成されたロール状ナノインプリント用モールド１（以下、「モールド１」という。）を得る。
（工程（ａ））
アルミニウム基材１０を電解液中で、定電圧下で陽極酸化すると、外周面１２に、細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成される。
電解液としては、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等が挙げられる。
アルミニウム基材１０を電解液中で、定電圧下で陽極酸化すると、外周面１２に、細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成される。
電解液としては、硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等が挙げられる。
電解液としてシュウ酸水溶液を用いる場合、シュウ酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．７Ｍ以下であれば、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜３４の表面が粗くなることを抑制しやすい。
また、この場合、印加電圧は、３０〜６０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、この場合、印加電圧は、３０〜６０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
電解液として硫酸水溶液を用いる場合、硫酸の濃度は、０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍ以下であれば、電流値が高くなりすぎることを抑制しやすくなるため、定電圧を維持しやすくなる。
また、この場合、印加電圧は、２５〜３０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、この場合、印加電圧は、２５〜３０Ｖが好ましい。印加電圧が前記範囲内であれば、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
また、電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」といわれる現象が起こることを抑制しやすくなるため、規則性の高い細孔３８を形成しやすい。
（工程（ｂ））
酸化皮膜３４の一部または全てを一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点３６にする。これにより、細孔の規則性を高めることができる。また、工程（ｂ´）で示されたように、酸化皮膜３４の全てを除去せずに一部を残した状態としても、酸化皮膜３４の残存した部分において規則性が充分に高くなっていれば、酸化皮膜除去による効果が得られる。
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸とリン酸の混合液等が挙げられる。
酸化皮膜３４の一部または全てを一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点３６にする。これにより、細孔の規則性を高めることができる。また、工程（ｂ´）で示されたように、酸化皮膜３４の全てを除去せずに一部を残した状態としても、酸化皮膜３４の残存した部分において規則性が充分に高くなっていれば、酸化皮膜除去による効果が得られる。
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸とリン酸の混合液等が挙げられる。
（工程（ｃ））
酸化皮膜３４の少なくとも一部を除去したアルミニウム基材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３８を形成できる。工程（ｂ）の効果が失われない範囲であれば、工程（ｃ）での陽極酸化の電圧、電解液の種類、温度等は適宜調整できる。
酸化皮膜３４の少なくとも一部を除去したアルミニウム基材１０を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３８を形成できる。工程（ｂ）の効果が失われない範囲であれば、工程（ｃ）での陽極酸化の電圧、電解液の種類、温度等は適宜調整できる。
（工程（ｄ））
細孔３８の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という。）を行う。
細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に、酸化皮膜を浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。酸化皮膜を溶解する溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
細孔３８の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という。）を行う。
細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に、酸化皮膜を浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。酸化皮膜を溶解する溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
（工程（ｅ））
工程（ｄ）の後に、アルミニウム基材１０を、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３８の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔３８がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３８を形成できる。
工程（ｄ）の後に、アルミニウム基材１０を、再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔３８の底部から下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔３８がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔３８を形成できる。
（工程（ｆ））
工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すと、アルミニウム基材１０の外周面１２に、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成されたモールド１が得られる。
最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すと、アルミニウム基材１０の外周面１２に、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成されたモールド１が得られる。
最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
工程（ｄ）と工程（ｅ）の繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が３回以上であれば、充分な直径の細孔３８を有する酸化皮膜３４が形成されたモールド１が得られやすい。そのため、モールド１によってモスアイ構造を転写した物品において、反射率低減効果等が得られやすい。
細孔３８の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられる。なかでも、細孔３８の形状としては、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔３８間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。細孔３８間の平均間隔は、２０ｎｍ以上が好ましい。
細孔３８間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔３８間の間隔（細孔３８の中心から隣接する細孔３８の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
細孔３８間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔３８間の間隔（細孔３８の中心から隣接する細孔３８の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均したものである。
細孔３８の深さは、平均間隔が１００ｎｍの場合は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。
細孔３８の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔３８の最底部と、細孔３８間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔３８のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
細孔３８の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で観察したときにおける、細孔３８の最底部と、細孔３８間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔３８のアスペクト比（細孔の深さ／細孔間の平均間隔）は、０．８〜５．０が好ましく、１．２〜４．０がより好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
例えば、樹脂成形体の表面に、モールド１の外周面に形成した酸化皮膜３４を押し付けることにより、酸化皮膜３４に形成された細孔３８の形状と相補的な形状の突起からなる微細凹凸構造を表面に有する物品が得られる。
［作用効果］
ロール状のアルミニウム基材の外周面を、該アルミニウム基材よりも軸方向の長さが短い研磨体により、該研磨体を軸方向に移動させつつ研磨する場合、アルミニウム基材の外周面に研磨スラリーが厚く残った部分と、薄く残った部分とが筋状のムラとなって残ってしまう場合がある。特に、研磨スラリーが薄く残った部分は、研磨スラリーが自然乾燥しやすい。研磨スラリーが自然乾燥してしまうと、研磨スラリーに含まれる研磨材がアルミニウム基材の外周面に固着してしまい、洗浄除去することが著しく困難になる。
また、研磨材が表面に固着した状態では、陽極酸化工程で所望の細孔を得ることが難かしい場合があり、微細凹凸構造を有する物品の光学性能が損なわれる場合がある。
ロール状のアルミニウム基材の外周面を、該アルミニウム基材よりも軸方向の長さが短い研磨体により、該研磨体を軸方向に移動させつつ研磨する場合、アルミニウム基材の外周面に研磨スラリーが厚く残った部分と、薄く残った部分とが筋状のムラとなって残ってしまう場合がある。特に、研磨スラリーが薄く残った部分は、研磨スラリーが自然乾燥しやすい。研磨スラリーが自然乾燥してしまうと、研磨スラリーに含まれる研磨材がアルミニウム基材の外周面に固着してしまい、洗浄除去することが著しく困難になる。
また、研磨材が表面に固着した状態では、陽極酸化工程で所望の細孔を得ることが難かしい場合があり、微細凹凸構造を有する物品の光学性能が損なわれる場合がある。
これに対して、前記した方法では、アルミニウム基材１０の外周面１２を研磨した後、均一に研磨スラリーをアルミニウム基材１０の外周面１２に塗布した後、アルミニウム基材１０から研磨スラリーを洗浄除去する。そのため、アルミニウム基材１０の外周面１２において、研磨スラリーが自然乾燥し、ムラ等が発生することが抑制される。このように、研磨後のアルミニウム基材１０の外周面１２に、研磨スラリーの乾燥による欠陥が生じることが抑制されることから、高い生産性でモールド１を製造することができる。
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
［表面粗さ］
各例におけるアルミニウム基材の外周面において、株式会社東京精密製の表面粗さ形状測定機ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＤＸにてＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４の規格に基づき、算術平均粗さＲａを測定した。
各例におけるアルミニウム基材の外周面において、株式会社東京精密製の表面粗さ形状測定機ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＤＸにてＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９９４の規格に基づき、算術平均粗さＲａを測定した。
［実施例１］
図１および図２に示したように、ロール状のアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで研磨体１８を軸方向に移動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２全体を、算術平均粗さＲａが２０ｎｍになるまで粗研磨した。
アルミニウム基材１０としては、アルミニウムの純度が９９．９９％で、軸方向の長さＬが６００ｍｍ、半径Ｒが１００ｍｍのロール状のアルミニウム基材を用いた。また、研磨体１８としては、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＷが１００ｍｍのポリエステル製不織布研磨パッドを用いた。そして、研磨スラリーとして、平均粒径１μｍのアルミナ粒子を含む、ｐＨ２〜６の酸性のスラリーを用い、粗研磨を行った。粗研磨の際には、研磨体１８の軸方向に沿った移動速度を２０ｍｍ／分としてアルミニウム基材１０全体を研磨できるように繰り返し往復移動させ、アルミニウム基材１０の回転速度（周速）は７５ｍ／分とした。
その後、研磨スラリーとして、平均粒径０．１μｍのＳｉＯ２粒子を含むｐＨ８〜１４のスラリーを用い、研磨体１８の軸方向に沿った移動速度を４００ｍｍ／分とした以外は、前記と同様にして研磨を行い、算術平均粗さＲａが５ｎｍの鏡面となるまで仕上げ研磨を行った。
図１および図２に示したように、ロール状のアルミニウム基材１０の第１の端部１０ａから第２の端部１０ｂまで研磨体１８を軸方向に移動させ、アルミニウム基材１０の外周面１２全体を、算術平均粗さＲａが２０ｎｍになるまで粗研磨した。
アルミニウム基材１０としては、アルミニウムの純度が９９．９９％で、軸方向の長さＬが６００ｍｍ、半径Ｒが１００ｍｍのロール状のアルミニウム基材を用いた。また、研磨体１８としては、アルミニウム基材１０の軸方向に沿った長さＷが１００ｍｍのポリエステル製不織布研磨パッドを用いた。そして、研磨スラリーとして、平均粒径１μｍのアルミナ粒子を含む、ｐＨ２〜６の酸性のスラリーを用い、粗研磨を行った。粗研磨の際には、研磨体１８の軸方向に沿った移動速度を２０ｍｍ／分としてアルミニウム基材１０全体を研磨できるように繰り返し往復移動させ、アルミニウム基材１０の回転速度（周速）は７５ｍ／分とした。
その後、研磨スラリーとして、平均粒径０．１μｍのＳｉＯ２粒子を含むｐＨ８〜１４のスラリーを用い、研磨体１８の軸方向に沿った移動速度を４００ｍｍ／分とした以外は、前記と同様にして研磨を行い、算術平均粗さＲａが５ｎｍの鏡面となるまで仕上げ研磨を行った。
その後、アルミニウム基材の回転速度を周速３８ｍ／分とし、研磨体１８の軸方向に沿った移動速度を２００ｍｍ／分とし、研磨体１８をアルミニウム基材１０の軸方向に沿って一方向に運動させ、前述の研磨で用いた研磨スラリーが乾燥する前に、アルミニウム基材１０の外周面１２に研磨スラリーを塗布する塗布工程を行った。外観を目視で確認したが、研磨スラリーの塗布ムラは確認されなかった。
塗布工程後２分以内にアルミニウム基材１０の洗浄を開始した。洗浄は、ノズル迎え角約１５度、ノズル振り角約３０度、アルミニウム基材１０からノズルまでの距離（高さ）１０ｃｍの位置に配置され、アルミニウム基材１０の回転方向に対向するように水を放出する洗浄ノズルから、水温２０℃の水を４リットル／毎分、水圧７ＭＰａで供給しつつ、アルミニウム基材を３０ｒｐｍで回転させながら、洗浄ノズルを２００ｃｍ／毎分で、アルミニウム基材１０の中心軸方向に沿って移動させ、アルミニウム基材１０を洗浄した。その後、アルミニウム基材１０から水を除去し乾燥させた後、アルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラ等は確認されなかった。
［実施例２］
塗布工程における研磨体１８の移動速度を４００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認されたが、研磨体１８の移動後すぐに塗布ムラが消失した。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
［実施例２］
塗布工程における研磨体１８の移動速度を４００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認されたが、研磨体１８の移動後すぐに塗布ムラが消失した。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
［実施例３］
塗布工程における研磨体１８の移動速度を８００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認されたが、研磨体１８の移動後すぐに塗布ムラが消失した。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
塗布工程における研磨体１８の移動速度を８００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認されたが、研磨体１８の移動後すぐに塗布ムラが消失した。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
［実施例４］
塗布工程における研磨体１８の移動速度を１２００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが薄く確認されたが、研磨スラリーが乾燥しだす前に洗浄工程を実施できたため、洗浄後のアルミニウム基材１０の表面に磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
塗布工程における研磨体１８の移動速度を１２００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが薄く確認されたが、研磨スラリーが乾燥しだす前に洗浄工程を実施できたため、洗浄後のアルミニウム基材１０の表面に磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
［実施例５］
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１９ｍ／分とした以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中および塗布工程後も研磨スラリーの塗布ムラは確認されなかった。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１９ｍ／分とした以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中および塗布工程後も研磨スラリーの塗布ムラは確認されなかった。また、洗浄後にアルミニウム基材１０の外観を目視で検査したが、研磨スラリーの乾燥による筋状のムラは確認されなかった。
［比較例１］
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１１３ｍ／分とした以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に、強い縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認され、塗布工程終了後も縞模様は消失しなかった。実施例１と同様に洗浄を開始したが、洗浄終了後に研磨スラリーの乾燥による縞状のムラが確認された。
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１１３ｍ／分とした以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に、強い縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認され、塗布工程終了後も縞模様は消失しなかった。実施例１と同様に洗浄を開始したが、洗浄終了後に研磨スラリーの乾燥による縞状のムラが確認された。
［比較例２］
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１１３ｍ／分とし、研磨体１８の移動速度を３００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に、強い縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認された。さらに、塗布工程が終了する前に、一部の研磨スラリーが乾燥してしまった。その後、実施例１と同様に洗浄を開始したが、洗浄終了後に研磨スラリーの乾燥による縞状のムラが確認された。
塗布工程におけるアルミニウム基材１０の回転速度を周速１１３ｍ／分とし、研磨体１８の移動速度を３００ｍｍ／分とした以外は実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程中および塗布工程後に外観を目視で確認したところ、塗布工程中にはアルミニウム基材１０の外周面に、強い縞模様の研磨スラリーの塗布ムラが確認された。さらに、塗布工程が終了する前に、一部の研磨スラリーが乾燥してしまった。その後、実施例１と同様に洗浄を開始したが、洗浄終了後に研磨スラリーの乾燥による縞状のムラが確認された。
［比較例３］
洗浄に水温６０℃の水を用いた以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程における研磨スラリー塗布ムラは確認されず、洗浄により研磨スラリーは除去されていたが、アルミニウム基材の表面が白濁していた。
洗浄に水温６０℃の水を用いた以外は、実施例１と同様の工程を実施した。塗布工程における研磨スラリー塗布ムラは確認されず、洗浄により研磨スラリーは除去されていたが、アルミニウム基材の表面が白濁していた。
本発明のモールドの製造方法によって得られたモールドは、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、撥水性物品の効率的な量産にとって有用である。
１０ アルミニウム基材
１２ 外周面
１４ 研磨手段
１８ 研磨体
２０ 研磨ロール
２２ 研磨スラリー供給手段
２４ 接触部分
２６ 押圧部材
２８ テンションロール
３０ 洗浄ノズル
３４ 酸化皮膜
３６ 細孔発生点
３８ 細孔
１２ 外周面
１４ 研磨手段
１８ 研磨体
２０ 研磨ロール
２２ 研磨スラリー供給手段
２４ 接触部分
２６ 押圧部材
２８ テンションロール
３０ 洗浄ノズル
３４ 酸化皮膜
３６ 細孔発生点
３８ 細孔
Claims (5)
- ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と中心軸を中心に回転する前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に均一に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。 - 前記工程（II）において、前記金型基材の回転速度を周速６５ｍ／分以下とする、請求項１記載のロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
- 前記工程（Ｉ）において、前記金型基材の回転速度が周速６５ｍ／分以下である、請求項２に記載のロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
- ロール状のアルミニウム基材の外周面に、複数の細孔を有する酸化皮膜が形成されたロール状ナノインプリント用モールドの製造方法であって、
前記アルミニウム基材の軸方向の長さよりも該軸方向に沿った長さが短い研磨体と、前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、研磨砥粒と研磨液とを含む研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材とを軸方向に相対的に移動させながら、前記研磨体と中心軸を中心に回転する前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させ、前記アルミニウム基材の外周面を研磨する工程（Ｉ）と、
前記工程（Ｉ）の後に連続して、前記アルミニウム基材の外周面に前記研磨スラリーを塗布する工程（II）と、
前記工程（II）の後に、前記アルミニウム基材の外周面を洗浄する工程（III）と、
前記工程（III）の後に、陽極酸化によって前記アルミニウム基材の外周面に前記酸化皮膜を形成する工程（IV）と、を有し、
前記工程（Ｉ）〜前記工程（III）において、前記アルミニウム基材の外周面が常に湿潤した状態を維持する、ロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。 - 前記工程（ＩＩ）において、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面における前記研磨体との接触部分に、前記研磨スラリーを供給し、前記研磨体と前記アルミニウム基材の外周面とを擦動させながら、前記工程（Ｉ）よりも早い速度で、前記研磨体を前記アルミニウム基材の軸方向に相対的に移動させることを特徴とする、請求項４に記載のロール状ナノインプリント用モールドの製造方法。
Priority Applications (1)
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| JP2015032456A JP6507706B2 (ja) | 2015-02-23 | 2015-02-23 | ナノインプリント用モールドの製造方法 |
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