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JP6538379B2 - 圧電デバイスとその製造方法 - Google Patents
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JP6538379B2 - 圧電デバイスとその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、圧電デバイスに係り、特に携帯電話機等の高密度実装機器に好適なSAW(弾性表面波)デバイスや発振器などの圧電デバイスとその製造方法に関する。
この種の圧電デバイスの構造についてSAWデバイスを例として説明する。SAWデバイスでは、そのパッケージに圧電効果により電極が振動する作動空間(中空部、あるいはキャビティとも称する)を確保する必要がある。SAWデバイスでは、その櫛歯電極部(IDT電極部)の周囲に所定のキャビティを確保することが不可欠である。なお、水晶片等を用いた振動子や発振器などの圧電デバイスも同様に、その水晶片の作動空間を確保する必要がある。以下では、SAWデバイスを例として説明するが、水晶振動子やMEMS共振器等の他の圧電デバイスにも本発明は適用できるものである。
従来のSAWデバイスでは、その小型化・低背化を図るため、SAW素子チップを金(Au)バンプあるいは半田バンプを用いて配線基板にフリップチップ・ボンディング(フェースダウン・ボンディング)し、樹脂等でSAW素子チップ全体を封止して、SAWデバイスの小型パッケージ・デバイスを構成している。
さらに、SAWデバイスでは、主作動部である櫛歯電極部の周囲に所定の中空部を形成し、この中空部を保持したまま、櫛歯電極側の集合圧電基板(複数のチップを形成したウェハ)全体を樹脂で封止し、外部接続電極を形成した後、ダイシングにより個々のSAWデバイスに分割してなる超小型化されたチップサイズ・パッケージ SAWデバイスが提案されている。
例えば、特許文献1に記載されているSAWデバイスでは、櫛歯電極が形成されているSAWチップ(圧電基板)の上面に感光性樹脂からなる空隙(中空部)形 成層(外囲壁)を形成し、この空隙形成層の上に封止層(天井部)を積層して封止し、櫛歯電極の周囲に空隙(中空部)を形成している。
また、特許文献2に記載されているSAWデバイスでは、櫛歯電極が形成されているSAWチップ(圧電基板)に対面して貫通電極を有するカバーを、金属接合部を介して接合して封止し、SAWチップとカバーの間に櫛歯電極を収容する中空部を形成している。
さらに、特許文献3に記載されているSAWデバイスでは、圧電基板の表面に設けた主作動層部であるSAW素子と、このSAW素子上に中空部を有する第1樹脂部と、この第1樹脂部の上に第2樹脂部を設け、この第2樹脂部にシリカフィラーを添加して、第2樹脂部(天井部)の弾性率を大きくして、撓み難く機械的強度を向上させている。また、特許文献4では、SAW素子を収納した中空部を封止する天井層にフィラーとして無機材料であるマイカを混入した樹脂板を用いている。
図35は、ウエハレベルチップスケール(サイズ)パッケージ型のSAWデバイスの構造例を説明する断面図である。また、図36は、図35に示すSAWデバイスを実装基板に表面実装した状態の説明図である。圧電基板1の主面に櫛歯電極2が形成され、この櫛歯電極2のまわりを樹脂からなる外囲壁層6が包囲して中空部(チャンバー)を形成している。中空部の開口は天井板7で覆って封止されている。
外囲壁層6には複数の開口が設けられ、この開口にメッキ処理で電極柱4が形成されている。この電極柱4の根元は櫛歯電極2の引き出し配線3と電気的に接続している。電極柱4の頂部には実装端子(半田ボール、または半田バンプ等)5が形成されている。実装端子5はその頂部が中空部を形成する天井板7よりも高くなるように設けられている。
実装端子5は、Cuの電解メッキと、Au/Niの無電解メッキを施すことで形成した電極柱4の上にハンダバンプを印刷して形成される。図35に示したSAWデバイスの実装基板への実装は、図36に示したように、実装端子5を用いて行われる。実装基板8に設けられている配線パターンの端子パッドに実装端子5を接続して実装が行われる。このように、実装端子5の形成には複数の工程を必要とする。
図37は、櫛歯電極を収納する中空部を封止する天井板の問題点を説明する要部平面図である。図37の(a)は複数のSAWデバイスを形成した水晶ウェハを覆って耐熱性樹脂板材7’を貼り付けた状態を示す。符号26は最終工程で個片に分離するための切断線(カットライン)を示す。図37の(b)は図37の(a)の一個のSAWデバイス相当分の拡大図である。耐熱性樹脂板材7’には感光性結着剤が混入されている。耐熱性樹脂板材7’としては、低発ガス性であるポリイミド系の熱硬化性樹脂板材が好適であるが、他の同様の特性を有する耐熱性樹脂材を用いることもできる。
図37の(a)の耐熱性樹脂板材7’には、撓みが少なく、櫛歯を収容する中空部を保持するための機械的強度を向上させるために、フィラーとして光透過性のマイカを適宜の量混入してある。ウェハを覆って貼り付けた耐熱性樹脂板材7’の上部に露光マスクを設置し、紫外線を好適とする化学線を照射し、現像するホトリソ工程を用いた技法で、図37の(b)に示したように、電極柱4(図36参照)を設けるための開口4’を形成する。
しかし、上記のホトリソ工程では、樹脂板に混入したフィラーの不均な形状や一様でない分布によって光透過量にムラが生じ、露光マスクの開口パターンが正確に転写されず、また開口壁からフィラーの残渣が突出して、図24の(b)のような不定形なエッジを持つ開口となる場合がある。そのような場合、電極柱やメッキパターンが正確に形成されなくなる。
図38は、電子部品を基板内に実装する基板内蔵部品の製造プロセスの一例を説明する工程図である。携帯端末などの電子機器の小型化・薄型化の要求に対し、実装基板の内部に電子部品を埋め込んで一体化する手法が開発されている。図38において、電子部品を埋設して実装する部品埋蔵基板20には埋蔵するための凹部を形成してある(a)。この凹部に部品端子22を凹部の開放端に向けた姿勢で電子部品21を収容する(図b)。そして、凹部に樹脂23を流し込んで電子部品21を埋め込む(c)。部品端子22の位置に、当該部品端子22に達する開口24を開ける(d)。開口24に電気Cuメッキを施こすことで電極柱25とする(e)。
この方式では、電気Cuメッキで部品の実装端子との接続をとるが、ハンダとの相性が悪いため、ハンダバンプを用いることができない。また、現状の構造では実装端子の配置を変更することは困難であるので、部品内蔵部品として用いるには適しない。
特開2006−108993号公報 特開2006−197554号公報 特開2007−142770号公報 特開2011−147098号公報
前記したように、図35で説明した構造の実装端子は、その形成工程数が多く、コスト高となる。また、図37で説明したように、天井板としてフィラーを混入した樹脂板を用い、ホトリソ工程で部品端子用の開口を形成するものでは、その開口のパターニングが正確に行なわれず、図38に示したような端子構造では、その部品端子の位置変更が困難である。そのため、顧客の希望に添えない場合も生じる。
この種の圧電部品を客先においてトランスファーモールド等で実装用基板等に実装してモジュール等に使用する際には、通常、5MPaから15MPaの圧力が当該圧電部品に付与されるため、特許文献1に記載されているSAWデバイスの空隙(中空部)形成層及び封止層を有機材料のみで構成した場合には、天井板を構成する樹脂層を厚くするか、あるいは硬い材料で構成しなければ、トランスファーモールド等で樹脂封止する際、櫛歯電極を収容する中空部が潰れてしまい、櫛歯電極の電気的特性を損なってしまうおそれがあった。そのため、図37で説明したように、樹脂中にマイカなどの無機質のフィラー(無機フィラー)を混入して機械的強度を大きくしている。
特許文献2に記載されているようなSAWデバイスでは、カバーに対する貫通電極の形成、及びSAWチップ(櫛歯電極を形成した圧電基板)とカバー(端子側圧電基板、天井板)の接合・貼り合せのために別途電極が必要であるとともに、基板同志の貼り合せの際に、基板に“反り”が発生して、櫛歯電極を収容する中空部(チャンバ)の気密が低下するおそれがある。さらに、同一素材(圧電基板)からなる基板(ウェハ)同士を貼り合せるので、圧電部品の製造コストが高くなるおそれがある。さらに、圧電部品の低背化を実現するためには、基板(ウェハ)の薄片化が不可欠であるが、その実現化は、極めて困難であった。
さらに、特許文献3に記載されているSAWデバイスでは、第2樹脂部(天井部)を構成する感光性樹脂にシリカのフィラーを添加して弾性率の向上を図っている。しかし、添加するフィラーの平均サイズが0.01μmから8μmと大きいため十分な耐モールド圧力効果が得られない。フィラーとしてマイカを用いた特許文献4に開示のSAWデバイスでは、ホトリソ工程を用いた場合に、混入したマイカのフィラーによる露光むらに起因してパターニングが不正確になる可能性があった
本発明は、前記した課題を含む諸課題を解決するための圧電デバイスの新規な構造とその製造方法を提供することにある。その代表的な構成を記述すると次のとおりである。なお、発明の理解を容易にするために、対応する実施例の符号を付記する。
(1)本発明に係る圧電デバイスは、圧電基板1と、前記圧電基板の主面に形成された櫛歯電極2と、前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板1の外縁に延設された引出し配線3と、前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して設置されて前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6と、前記外囲壁層に橋絡して前記中空部を封止する天井板7とを有し、
前記天井板7は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなり、
前記引出し配線3は、前記外囲壁層の対向する一対の側面側にそれぞれ形成されており、
前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に絶縁された金属メッキ層10’が形成されており、
前記金属メッキ層10’は、前記圧電基板1の前記外縁で前記引出し配線3と電気的に接続され、
前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子11とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線10とし
前記外囲壁層6の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する側面に、前記天井板から前記外囲壁層6にかけて漸次なだらかに湾曲する傾斜面を有せしめたことを特徴とする。
(2)また、本発明に係る圧電デバイスは、圧電基板1と、前記圧電基板の主面に形成された櫛歯電極2と、前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板1の外縁に延設された引出し配線3と、前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して設置されて前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6と、前記外囲壁層に橋絡して前記中空部を封止する天井板7とを有し、
前記天井板7は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなり、
前記引出し配線3は、前記外囲壁層の対向する一対の側面側にそれぞれ形成されており、
前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に絶縁された金属メッキ層10’が形成されており、
前記金属メッキ層10’は、前記圧電基板1の前記外縁で前記引出し配線3と電気的に接続され、
前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子11とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線10とし
前記天井板7に設ける実装端子11の周囲を含み、前記圧電基板1の前記外縁に有する前記金属メッキ層10’に至る前記側面に半田流れ防止層31を有せしめたことを特徴とする。
)また、本発明は、前記(2)に記載の前記半田流れ防止層31を前記実装端子11の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を除く前記天井板7および前記側面の全面に設けたことを特徴とする。
)また、本発明は、前記()に記載の前記半田流れ防止層31を前記実装端子11のそれぞれに対して独立に設けたことを特徴とする。
)また、本発明は、前記()に記載の前記実装端子11の上にバリアメタル層を有せしめたことを特徴とする。
)本発明に係る圧電デバイスの製造方法は、圧電基板1を構成する圧電ウェハの主面に櫛歯電極2、および前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設する引出し配線3を前記圧電基板1の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する電極形成工程と、
前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成するための外囲壁層6を設置する作動空間形成工程と、
無機フィラーを混入した耐熱樹脂板からなる天井板を前記外囲壁層6に周縁を橋絡して前記中空部を封止する天井板設置工程と、
前記天井板7を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離する天井板パターニング工程と、
前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に金属メッキ層10’を形成する金属メッキ層形成工程と、
前記した各工程を経た後に、貼り合わせた前記圧電ウェハと前記天井板を個々のSAWデバイスに分割する個片化工程と、
を含み、
前記金属メッキ層10’で前記圧電基板1の前記外縁で前記引出し配線3と電気的に接続されて、前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子11とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線10とし
前記天井板パターニング工程として、テーパー角の付いたダイシングブレードによるカッテイング法を用いたことを特徴とする。
また、本発明に係る圧電デバイスの製造方法は、圧電基板1を構成する圧電ウェハの主面に櫛歯電極2、および前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設する引出し配線3を前記圧電基板1の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する電極形成工程と、
前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成するための外囲壁層6を設置する作動空間形成工程と、
無機フィラーを混入した耐熱樹脂板からなる天井板を前記外囲壁層6に周縁を橋絡して前記中空部を封止する天井板設置工程と、
前記天井板7を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離する天井板パターニング工程と、
前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に金属メッキ層10’を形成する金属メッキ層形成工程と、
前記した各工程を経た後に、貼り合わせた前記圧電ウェハと前記天井板を個々のSAWデバイスに分割する個片化工程と、
を含み、
前記金属メッキ層10’で前記圧電基板1の前記外縁で前記引出し配線3と電気的に接続されて、前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子11とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線10とし
前記金属メッキ層10’を形成する金属メッキ層形成工程の後に、前記実装端子11の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を避けた前記天井板7の上面と前記圧電基板1の前記外縁に有する前記金属メッキ層10’に至る前記側面に半田流れ防止層31を形成する半田流れ防止層形成工程を有することを特徴とする。
)また、本発明に係る圧電デバイスの製造方法は、前記()に記載の前記半田流れ防止層31を前記実装端子11の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を除く前記天井板7および前記側面の全面に設けたことを特徴とする。
)また、本発明に係る圧電デバイスの製造方法は、前記()に記載の前記半田流れ防止層31を前記実装端子11のそれぞれに対して独立に設けたことを特徴とする。
10)また、本発明に係る圧電デバイスの製造方法は、前記()に記載の前記実装端子11の上にバリアメタル層を形成するバリアメタル層形成工程を有することを特徴とする。
11)なお、本発明は、上記の構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能である。
上記した本発明に係る圧電デバイスおよびその製造方法によれば、簡略な工程で実装端子(本デバイスの部品端子)を所望の位置に形成でき、従来のような電極柱やハンダボールあるいはバンプで基板面高さを設定する必要がないので、低コストで圧電デバイスを得ることができる。
また、前記図38で説明したような基板内蔵部品として使用する際には、実装端子にハンダボールやハンダバンプを必要としないので、Cuメッキによる接続が可能となる。
さらに、面積が大きい天井層を構成する樹脂部に実装端子を形成するので、実装端子の位置を任意に選定できるため、顧客が希望する箇所に実装端子を配置することができる。
さらにまた、圧電デバイスの側壁部に櫛歯電極部と実装端子を接続する配線(側面配線)を形成することで、外囲壁層と天井層の接合部分の密封構造が確実に強化される。したがって、中空部の気密が向上する。
そして、天井層に実装電極形成のための開口を形成するパターニング工程を要しないため、製造工程の大幅な簡略化が可能となる。また、天井層の加工にダイシングブレードなどによる機械的加工も用いることができる。機械的加工を採用することにより、前記図24で説明したようなフィラー残渣に起因する不定型な開口形状の発生を回避できる。
そして、半田流れ防止層を設けたことで、半田ボールなどを用いて実装基板の表面に有する端子パッドにフェースダウン実装する際の側面配線部分への半田の回り込みに起因する実装端子と端子パッドの間に介在する半田量の減少を回避し、半田付不良や実装基板との間の隙間の不安定化が防止される。
そして又、天井板の上面に潰れ防止層を設けたことで、圧電デバイスの製造工程における加圧や基板への実装工程での加圧で櫛型電極を収容する中空部の潰れが防止される。さらに、圧電デバイスをモジュール化する際の耐モールド性の向上も期待できる。
このように、本発明によれば、耐モールド圧力性に極めて優れ、かつ、低背化・小型化された圧電デバイスを、部品の厚みを増大することなく、また、実装端子の配置に自由度を持つ圧電デバイスを低コストで製造できる。なお、前記したように、本発明は、SAWデバイスに限らず、水晶発振器などの圧電デバイス、MEMS共振器などの同様の圧電デバイスにも適用できる。
本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例1の構造を説明する断面図である。 図1の断面図で示した本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例1の上面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する主要な工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図3に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図4に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図5に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図6に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図7に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図8に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例1の製造方法を説明する図9に続く工程図である。 本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例2の構造を説明する断面図である。 図11の断面図で示した本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例2の上面図である。 本発明の実施例2に係るSAWデバイスの製造方法を説明する主要な工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図13に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図14に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図15に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図16に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図17に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図18に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図19に続く工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例2の製造方法を説明する図20に続く工程図である。 図11に示したSAWデバイスを実装基板の端子パッドに半田付けで搭載する状態の説明図である。 半田流れによって実装端子と端子パッドの間の半田が側面配線に濡れ上がった状態の説明図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例3を説明する図25のX−X線に沿った断面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例3を説明する平面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例3の半田ボールを設けた状態を説明する図27のX−X線に沿った断面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例3を説明する平面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例4を説明する図29のX−X線に沿った断面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例4を説明する平面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例3を適用したSAWデバイスの製造方法の要部を説明する工程図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例5の要部を説明する図32のX−X線に沿った断面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例5の要部を説明する平面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例5を説明する図34のX−X線に沿った断面図である。 本発明の圧電デバイスを適用したSAWデバイスの実施例5を説明する平面図である。 ウエハレベルチップスケール(サイズ)パッケージ型のSAWデバイスの構造例を説明する断面図である。 図35に示すSAWデバイスを実装基板に表面実装した状態の説明図である。 櫛歯電極を収納する中空部を封止する天井板の問題点を説明する要部平面図である。 電子部品を基板内に実装する基板内蔵部品の製造プロセスの一例を説明する工程図である。
以下、本発明の実施例について、貼付の図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例1の構造を説明する断面図である。また、図2は、図1の断面図で示した本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例1の上面図である。実施例1に係るSAWデバイスは、圧電基板1としてタンタル酸リチウムを用い、この圧電基板1の主面に櫛歯電極(IDT)2と、この櫛歯電極2に接続して前記圧電基板の外縁に延設した引出し配線3を有する。なお、圧電基板1には水晶板やニオブ酸リチウムなども使用できるが、ここではタンタル酸リチウムを用いるものとして説明する。前記引出し配線3を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、櫛歯電極2の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6が形成されている。この外囲壁層6に端部周縁を橋絡して天井板7が固着されて、櫛歯電極2の作動空間となる中空部(チャンバー)を封止している。天井板7は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなる。この実施例では、フィラーとしてホワイトマイカを用いた。
図1、図2に示されたように、本実施例のSAWデバイスでは、櫛歯電極2の引出し配線3は、外囲壁層6の対向する一対の側面側(図2の紙面に向かって左右側)にそれぞれ3個宛形成されている。図1に示されたとおり、本実施例のSAWデバイスは、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する側面に、天井板7の側面から外囲壁層6にかけて漸次なだらかに湾曲する傾斜面を有している。そして、外囲壁層6の上記左右に対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する上面と圧電基板1の外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する圧電基板1の外縁にわたって複数の区画に絶縁されて形成された金属メッキ層が形成されている。
金属メッキ層は、圧電基板1の外縁で引出し配線3と電気的に接続され、金属メッキ層の前記天井板7の上面を実装端子11とし、金属メッキ層の外囲壁層の側面を引出し配線3と実装端子11を接続する側面配線10としている。この構造としたことで、実装端子11に図35に示したような電極柱やハンダボールあるいはハンダバンプで基板面に対する高さを設定する必要がないので、低コストでSAWデバイスを得ることができる。また、実装端子にハンダボールやハンダバンプを使用しないので、図38で説明したような基板内蔵部品として使用する際にCuメッキによる接続が可能となる。
また、本実施例によれば、面積が大きい天井層7を構成する樹脂部に実装端子を形成するので、実装端子の位置を任意に選定できるため、顧客が希望する箇所に実装端子を配置することができる。
また、本実施例によれば、SAWデバイスの側壁部に櫛歯電極部と実装端子を接続する配線(側面配線)10を形成することで、外囲壁層6と天井層7の接合部分の密封構造が確実となり、中空部の気密を向上することができる。
以上のように、本実施例によれば、耐モールド圧力性に極めて優れ、かつ、低背化・小型化されたSAWデバイスを、部品の厚みを増大することなく、また、実装端子の配置に自由度を持つSAWデバイスを低コストで製造できる。
次に、図3乃至図10を参照して実施例1のSAWデバイスの製造方法を説明する。圧電基板であるタンタル酸リチウムのウェハ(圧電ウェハ)1の主面に櫛歯電極(IDT電極)2、および櫛歯電極2に接続して前記圧電ウェハの外縁に延設する一対の引出し配線3を外囲壁層6の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する。この櫛歯電極2と引出し配線3は、Al、Cu、Au、Cr、Ru、Ni、Mg、Ti、W、V、Ta、Mo、Ag、In、Snのうちのいずれか一つを主成分とする材料、またはこれらの材料と酸素、窒素、珪素との化合物、あるいはこれらの材料の合金、または金属間化合物、これらを多層に積層した薄膜のパターニングで形成する。
次に、引出し配線3の延在部分を含んだ圧電基板1の外周を周回して、当該櫛歯電極2の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6を設置する。外囲壁層6はポリイミドやエポキシ樹脂を好適とする感光性の耐熱性樹脂の塗布と露光マスクを用いたホトリソ工程により形成する。この外囲壁層6を構成する樹脂にはホワイトマイカを好適とする無機フィラーを混入し、弾性率を向上させて機械的強度を大きくするのが望ましい。
外囲壁層6を覆って上記と同様の無機フィラーを混入したポリイミドやエポキシ樹脂を好適とする耐熱性樹脂板を固着し、天井板7の構成材とする。天井板7の構成材は、各櫛歯電極2を囲む外囲壁層6に周縁を橋絡して櫛歯電極2の作動空間を確保する中空部を封止する。・・・図3
次に、天井板7の構成材を個片対応のSAWデバイス毎のパターンに分離する。本実施例では、この個片分離のために、図4に示したような曲面のテーパー角が付いたダイシングブレード12によるカッテイング法を用いる。このようなテーパー角の付いたダイシングブレード12を用いることで、個片対応で個々の天井板7に分離された状態では、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する側面に、天井板7から外囲壁層6にかけて漸次なだらかに湾曲する傾斜面が形成される。・・・図4
天井板7の構成材を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離した後、天井板7から外囲壁層6にかけて漸次なだらかに湾曲する傾斜面と隣接する個片のSAWデバイスとの間にある引き出し線3を覆って金属膜を成膜する。この金属膜は後工程の電解メッキを用いた側面配線や実装端子の形成のためのシード層15となる。
シード層15はCuやAuなど、メッキが付着する金属なら、種別を特に問わない。本実施例では、Tiを200Å製膜した上に、Cuを4000Åの厚さに形成した。天井層7としてポリイミドなどの樹脂を用いた場合、金属との密着性が悪いため、前処理として樹脂面にプラズマ処理やブラスト処理を施すことにより、表面粗化処理を行なうことで、密着性を改善することができる。実験によれば、ポリイミド系の樹脂をブラスト処理で表面粗さRaを0.3〜0.5μmに粗化した場合、密着性の良好な金属膜が得られることが確認されている。・・・図5
なお、図5以降は隣接する二個のSAWデバイスの部分のみを拡大して表示する、図の左右部分は簡略して示す。図5に示したシード層15の上に、感光性レジストを塗布し、露光マスクを用いたホトリソ工程で上記側面配線や実装端子をメッキする部分のシード層15を露出させる。メッキが不要な部分にはレジスト16を残す。・・・図6
レジストのパターンを用い、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する面に連接する前記圧電基板1の外縁にわたって複数の区画(図2参照)に露出したシード層15の上に金属メッキ層10’を成長させる。メッキする金属としては、Ni、Au、Cuなどを用いる。本実施例では、硫酸銅メッキでCuを10μm程度の厚さに形成した。なお、必要に応じて、このメッキ層10’の実装端子となる部分の上に印刷などの手段を用いてハンダバンプを形成してもよい。・・・図7
なお、図5乃至図7で説明した工程は、電解メッキを用いて実装端子11や側面配線10となるメッキ層10’を形成する方法であるが、無電解メッキでメッキ層10’を形成することもできる。無電解メッキを採用する場合は、例えばスパッタによるシード層の成膜時にメタルマスクを用いてメッキ層10’が形成される箇所に選択的にスパッタ成膜を行なってもよい。
メッキ層10’を形成した後、レジスト16をアセトンなどの溶液で溶解して除去する。レジストが除去された部分にはシード層15が露出する。・・・図8
エッチング液を用いて、天上板7の表面と外囲壁層6及び圧電基板1の表面に露出したシード層15をエッチング処理して除去する。・・・図9
前記した各工程を経た後、個々のSAWデバイスの境界で圧電基板1をダイシング加工で切断し、個片のSAWデバイスに分離する。分離した個片のSAWデバイスは前記図1、図2に示したものとなる。・・・図10
そして、金属メッキ層10’で圧電基板1の外縁にある引出し配線3と電気的に接続された金属メッキ層の天井板7の上面を実装端子(部品端子)11とする。引出し配線3と実装端子11とを外囲壁層6の側面を経由する側面配線10で接続する構成であるため、従来技術で説明したような外囲壁層の開口加工や天井板の開口加工を必要としないため、低コストでSAWデバイスを製造できる。
このように、本実施例に係る製造方法で製造したSAWデバイスは、面積が大きい天井層を構成する樹脂部に実装端子を形成するので、実装端子の位置を任意に選定でき、顧客は希望する箇所に実装端子を配置することができる。また、SAWデバイスの側壁部に櫛歯電極部と実装端子を接続する配線(側面配線)が形成されることで、外囲壁層と天井層の接合部分の密封構造が確実となり、中空部の気密が向上する。
図11は、本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例2の構造を説明する断面図である。また、図12は、図11の断面図で示した本発明に係る圧電デバイスをSAWデバイスに適用した実施例2の上面図である。図11は図12のX−X線に沿った断面に相当する。実施例2に係るSAWデバイスは、実施例1と同様に、圧電基板1としてタンタル酸リチウムを用い、この圧電基板1の主面に櫛歯電極2と、この櫛歯電極2に接続して前記圧電基板の外縁に延設した引出し配線3を有する。なお、圧電基板1には水晶板やニオブ酸リチウムなども使用できるが、ここではタンタル酸リチウムを用いるものとして説明する。前記引出し配線3を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、櫛歯電極2の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6が形成されている。この外囲壁層6に端部周縁を橋絡して天井板7が固着されて、櫛歯電極2の作動空間となる中空部を封止している。天井板7は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなる。この実施例では、フィラーとしてホワイトマイカを用いた。
図11、図12に示されたように、本実施例のSAWデバイスでは、櫛歯電極の引出し配線3は、外囲壁層6の対向する一対の側面側(図12の紙面に向かって左右側)にそれぞれ3個宛形成されている。図11に示されたとおり、本実施例のSAWデバイスは、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する側面に、天井板7の側面から外囲壁層6にかけて階段となる段差面を有している。そして、外囲壁層6の上記左右に対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する上面と圧電基板1の外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する圧電基板1の外縁にわたって複数の区画に絶縁されて形成された金属メッキ層が形成されている。
金属メッキ層は、圧電基板1の外縁で引出し配線3と電気的に接続され、金属メッキ層の前記天井板7の上面を実装端子11とし、金属メッキ層の外囲壁層の側面を引出し配線3と実装端子11を接続する側面配線10としている。この構造としたことで、実装端子11に図35に示したような電極柱やハンダボールあるいはハンダバンプで基板面に対する高さを設定する必要がないので、低コストでSAWデバイスを得ることができる。また、実装端子にハンダボールやハンダバンプを使用しないので、図38で説明したような基板内蔵部品として使用する際にCuメッキによる接続が可能となる。
また、本実施例によれば、面積が大きい天井層を構成する樹脂部に実装端子を形成するので、実装端子の位置を任意に選定できるため、顧客が希望する箇所に実装端子を配置することができる。
また、本実施例によれば、SAWデバイスの側壁部に櫛歯電極部と実装端子を接続する配線(側面配線)を形成することで、外囲壁層と天井層の接合部分の密封構造が確実となり、中空部の気密を向上することができる。
以上のように、本実施例によれば、耐モールド圧力性に極めて優れ、かつ、低背化・小型化されたSAWデバイスを、部品の厚みを増大することなく、また、実装端子の配置に自由度を持つSAWデバイスを低コストで製造できる。
次に、図13乃至図21を参照して実施例1のSAWデバイスの製造方法を説明する。実施例1と同様に、圧電基板であるタンタル酸リチウムのウェハ(圧電ウェハ)1の主面に櫛歯電極(IDT電極)2、および櫛歯電極2に接続して前記圧電ウェハの外縁に延設する一対の引出し配線3を外囲壁層6の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する。この櫛歯電極2と引出し配線3は、Al、Cu、Au、Cr、Ru、Ni、Mg、Ti、W、V、Ta、Mo、Ag、In、Snのうちのいずれか一つを主成分とする材料、またはこれらの材料と酸素、窒素、珪素との化合物、あるいはこれらの材料の合金、または金属間化合物、これらを多層に積層した薄膜のパターニングで形成する。
次に、引出し配線3の延在部分を含んだ圧電基板1の外周を周回して、当該櫛歯電極2の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層6を設置する。外囲壁層6はポリイミドやエポキシ樹脂を好適とする感光性の耐熱性樹脂の塗布と露光マスクを用いたホトリソ工程により形成する。この外囲壁層6を構成する樹脂にはホワイトマイカを好適とする無機フィラーを混入し、弾性率を向上させて機械的強度を大きくするのが望ましい。
外囲壁層6を覆って上記と同様の無機フィラーを混入したポリイミドやエポキシ樹脂を好適とする感光性で耐熱性の樹脂板材を固着し、天井板7の構成材とする。天井板7の樹脂板材は、各櫛歯電極2を囲む外囲壁層6に周縁を橋絡して櫛歯電極2の作動空間を確保する中空部を封止する。・・・図13
次に、天井板7の構成材を個片対応のSAWデバイス毎のパターンに分離する。この個片分離には、天井板7となる感光性の耐熱性樹脂板材に露光マスク13を用い、紫外線露光と現像を行なうホトリソ工程で個片分離部分の耐熱性樹脂板材を除去する。・・・図14
このホトリソ工程を用いた加工により、個片対応で個々の天井板7に分離された状態では、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する一対の側面に連接する側面に、天井板7から外囲壁層6にかけて階段状の段差面が形成される。・・・図15
天井板7の構成材を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離した後、天井板7から外囲壁層6にかけて階段状となった段差面と隣接する個片のSAWデバイスとの間にある引き出し線3を覆って金属膜を成膜する。この金属膜は後工程の電解メッキを用いた側面配線や実装端子の形成のためのシード層15となる。・・・図16
シード層15はCuやAuなど、メッキが付着する金属なら、種別を特に問わない。本実施例では、Tiを200Å製膜した上に、Cuを4000Åの厚さに形成した。天井層としてポリイミドなどの樹脂を用いた場合、金属との密着性が悪いため、前処理として樹脂面にプラズマ処理やブラスト処理を施すことにより、表面粗化処理を行なうことで、密着性を改善することができる。実験によれば、ポリイミド系の樹脂をブラスト処理で表面粗さRaを0.3〜0.5μmに粗化した場合、密着性の良好な金属膜が得られることを確認している。
なお、図15以降は隣接する二個のSAWデバイスの部分のみを拡大して表示する、図の左右部分は簡略して示す。図16に示したシード層15の上に、感光性レジストを塗布し、露光マスクを用いたホトリソ工程で上記側面配線や実装端子をメッキする部分のシード層15を露出させる。メッキが不要な部分にはレジスト16を残す。・・・図17
レジストのパターンを用い、外囲壁層6の対向する一対の側面と天井板7の前記外囲壁層6の対向する面に連接する前記圧電基板1の外縁にわたって複数の区画(図12参照)に露出したシード層15の上に金属メッキ層10’を成長させる。メッキする金属としては、Ni、Au、Cuなどを用いる。本実施例では、硫酸銅メッキでCuを10μm程度の厚さに形成した。なお、必要に応じて、このメッキ層10’の実装端子となる部分の上に印刷などの手段を用いてハンダバンプを形成してもよい。・・・図18
なお、図16乃至図18で説明した工程は、電解メッキを用いて実装端子11や側面配線10となるメッキ層10’を形成する方法であるが、無電解メッキでメッキ層10’を形成することもできる。無電解メッキを採用する場合は、例えばスパッタによるシード層の成膜時にメタルマスクを用いてメッキ層10’が形成される箇所に選択的にスパッタ成膜を行なってもよい。
メッキ層10’を形成した後、レジスト16を剥離剤で剥離し、あるいはアセトンなどの溶液で溶解して除去する。レジストが除去された部分にはシード層15が露出する。・・・図19
エチング液を用いて、天上板7の表面と外囲壁層6及び圧電基板1の表面に露出したシード層15をエッチング処理して除去する。・・・図20
前記した各工程を経た後、個々のSAWデバイスの境界で圧電基板1をダイシング加工で切断し、個片のSAWデバイスに分離する。分離した個片のSAWデバイスは前記図1、図2に示したものとなる。・・・図21
そして、金属メッキ層10’で圧電基板1の外縁にある引出し配線3と電気的に接続された金属メッキ層の天井板7の上面を実装端子11とする。引出し配線3と実装端子11とを外囲壁層6の側面を経由する側面配線10で接続する構成であるため、従来技術で説明したような外囲壁層の開口加工や天井板の開口加工を必要としないため、低コストでSAWデバイスを製造できる。
このように、本実施例に係る製造方法で製造したSAWデバイスは、面積が大きい天井層を構成する樹脂部に実装端子を形成するので、実装端子の位置を任意に選定でき、顧客が希望する箇所に実装端子を配置することができる。また、SAWデバイスの側壁部に櫛歯電極部と実装端子を接続する配線(側面配線)が形成されることで、外囲壁層と天井層の接合部分の密封構造が確実となり、中空部の気密が向上する。
以上説明した各実施例では、天井板7の側面から外囲壁層6の側面を経て圧電基板1の周縁に引き出された引き出し線3を電気的に接続する側面配線10と天井板7の上面において実装端子(部品端子)11を形成するためのメッキ層を、実施例1では「漸次なだらかに湾曲する傾斜面」とし、実施例2では「階段状に屈曲する段差面」としているが、本発明はこれに限るものではなく、「天井板7の側面と外囲壁層6の側面を面一な垂直にして、この垂直な側面に側面配線10を形成してもよい。
なお、上記の面一な垂直とする加工は、前記実施例1で説明したダイシングブレードの刃形状の選択により、あるいは前記実施例2で説明したホトリソ工程で天井板7から外囲壁層6をパターニングすることで形成できる。
ところで、例えば、前記図11に示した本発明の実施例2に係るSAWデバイスを実装基板に搭載する場合に、デバイスの端子(部品端子)に半田ボールを設けて実装基板の端子パッドに半田溶着する場合を考える。図11に示したSAWデバイスでは、実装端子(部品端子)11をメッキピラーや半田バンプを用いることなく天井板7上の金属層で構成された実装端子11に配置できるようにしている。すなわち、天井板7上には、固定した位置にメッキピラーや半田バンプは形成されていない。
図22は、図11に示したSAWデバイスを実装基板の端子パッドに半田付けで搭載する状態の説明図である。先ず、SAWデバイスの実装端子11に半田ボール5を取り付ける。半田ボール5は半田ボール分配装置を用いて実装端子11上に配置することができる。
半田ボール5を取り付けたSAWデバイスを実装基板8に搭載する場合、実装機を用いて図22に示したように半田ボール5が実装端子11に形成されている端子パッド9に位置づけし、リフロー炉に通す。リフロー炉を通る間に、半田ボール5が溶融して実装端子11を端子パッド9に溶着する。しかし、このとき、溶融した半田が側面配線10を濡れ上る半田流れが生じて、実装端子11と端子パッド9の間に必要とする半田量を確保できなくなる現象が生じることがある。図23は、半田流れによって実装端子11と端子パッド9の間の半田が側面配線に濡れ上がった状態の説明図である。実装端子11と端子パッド9の間の半田量が減少した結果、両者間の導通不良や間隔の不均一が発生する可能性が出てくる。本実施例は、このような半田流れの発生を防止する構成としたものである。
図24は、半田流れ防止層を設けた本発明の圧電デバイスの実施例3を適用したSAWデバイスを説明する図25のX−X線に沿った断面図である。そして、図25は、半田流れ防止層を設けた本発明の圧電デバイスの実施例3を適用したSAWデバイスの平面図である。図24と図25において、前記各実施例の図面と同一機能部分には同一符号を付してある。また、符号31は半田流れ防止層、32はバリアメタルを示す。
なお、半田流れ防止層31は、バリアメタル32を形成する部分を除く天井板7とその側面および外囲壁層6を経て圧電基板1の上面外周にいたる領域に形成されているが、図25では、天井板の上に半田流れ防止層31が位置することを示すため、半田流れ防止層31の周縁位置を天井板7の端縁から後退させて図示してある。以下の同様な図面においても同じように図示してある。
実施例3に係るSAWデバイスでは、天井板7に設ける実装端子11の周囲を含み、圧電基板1の外縁(圧電基板1の上面外周)に有する金属メッキ層10’に至る側面を含むディスクの上部全面に半田流れ防止層31を設けている。半田流れ防止層31は、ポリイミドなどの熱硬化樹脂の溶液や液体ガラスをスプレー塗布あるいはスピンコートで塗布し、焼成して形成する。あるいは、シリカ(SiO2)をスパッタすることで形成することができる。
図24に示した実装端子11の部分にある半田流れ防止層31を、ホトリソ法を用いて除去し、図25に示したように開口させる。この開口に露呈した実装端子11を構成する部分に対し、実装端子11が銅(Cu)メッキである場合はニッケル(Ni)メッキをし、さらに酸化防止膜として金(Au)メッキを施してバリアメタル32の層を形成する。金(Au)メッキは必須ではない。このバリアメタル32の上に半田ボールを設けて実装基板の端子パッドに溶着して搭載する。なお、バリアメタル32を形成しないで、端子窓33に直接半田ボールあるいは半田バンプを設けることもできる。バリアメタル32は必須構成ではないが、半田を用いて実装基板端子に搭載することを考えると、これを設けておくのが望ましい。
図26は、半田流れ防止層を設けた本発明の圧電デバイスの実施例3を適用したSAWデバイスの実装端子(部品端子)に半田ボールを設けた状態を説明する図27のX−X線に沿った断面図である。図27は、半田流れ防止層を設けた本発明の圧電デバイスの実施例3を適用したSAWデバイスの平面図である。
図26と図27において、天井板7の上に有する実装端子11に形成したバイリアメタル32に半田ボール5を設ける。半田ボール5は半田ボール分配装置を用いて配置する。このように、半田ボール5を設けたSAWデバイスを前記22で説明したように実装基板8に搭載する場合、実装基板8の端子パッド9の半田ボール5を乗せ、リフロー炉を通すことで、端子パッド9に半田溶着する。
本実施例によれば、半田流れ防止層31を設けたことで、半田ボールなどを用いて実装基板8の表面に有する端子パッド9にフェースダウン実装する際の側面配線部分への半田の回り込みに起因する実装端子11(バリアメタル32)と端子パッド9の間に介在する半田量の減少が回避され、半田付不良や実装基板との間の隙間の不安定化が防止される。
図28は、本発明の圧電デバイスの実施例4を適用したSAWデバイスを説明する図29のX−X線に沿った断面図である。図29は、本発明の圧電デバイスの実施例4を適用したSAWデバイスの平面図で、図28は図29のX−X船に沿った断面に相当する。本実施例では、半田流れ防止層31を実装端子11(バリアメタル32)のそれぞれに対して独立に設けたものである。図28、図29に示されたように、本実施例の半田流れ防止層31は側面配線10と実装端子11の周囲に個別に形成してあり、天井板7、外囲壁層6などの部分には形成されていない。バリアメタル32やその他の構成は実施例3と同様である。
本実施例によっても、半田流れ防止層31を設けたことで、半田ボールなどを用いて実装基板8の表面に有する端子パッド9にフェースダウン実装する際の側面配線部分への半田の回り込みに起因する実装端子11(バリアメタル32)と端子パッド9の間に介在する半田量の減少が回避され、半田付不良や実装基板との間の隙間の不安定化が防止される。
図30は、半田流れ防止層を設けた本発明の実施例3で説明したSAWデバイスの製造方法の要部を説明する工程図である。前記図13乃至図20で説明した工程を経た状態のSAWデバイスを図30(a)に示す。天井板7から引き出し配線に至る実装端子11と側面配線10を構成するメッキ層10’は銅(Cu)又はニッケル(Ni)あるいはそれらの合金からなる。
図30(b)はポリイミド溶液をスプレー塗布し、これを焼成し硬化して半田流れ防止層31とした状態を示す。なお、ポリイミド溶液の塗布にはスプレー塗布の外、スピン塗布、あるいは印刷法を用いることができる。また、ポリイミド溶液に限らず、その他の熱硬化樹脂、あるいはガラスの塗布膜、シリカ(SiO2)のスパッタ膜とすることもできる。
図30(c)は実装端子形成部分に窓(端子窓33)を形成した状態を示す。ポリイミドの半田流れ防止層31にホトレジストを塗布し、所定の開口を備えた露光マスクを介しての紫外光による露光と現像工程を経るホトリソ工程で端子窓33を形成する。
図30(d)は実装端子形成部分に設けた端子窓33にニッケル(Ni)メッキをし、その後に金(Au)メッキを施してバリアメタル32とする。このバリアメタル32の上に図26での説明と同様に、半田ボールを設けて実装基板の端子パッドに溶着して搭載する。なお、バリアメタルを形成しないで、端子窓33に直接半田ボールあるいは半田バンプを設けることもできる。
本実施例によっても、実施例3と同様、半田流れ防止層31を設けたことで、半田ボールなどを用いて実装基板8の表面に有する端子パッド9にフェースダウン実装する際の側面配線部分への半田の回り込みに起因する実装端子11(バリアメタル32)と端子パッド9の間に介在する半田量の減少が回避され、半田付不良や実装基板との間の隙間の不安定化が防止される。
図31は、本発明の圧電デバイスの実施例5を適用したSAWデバイスの要部を説明する図32のX−X線に沿った断面図である。また、図32は、本発明の圧電デバイスの実施例5を適用したSAWデバイスの要部を説明する平面図である。実施例5は、デバイスを構成する天井板とデバイスに潰れ防止層を設けたものである。前記の図3あるいは図13で説明した天井板材7の貼り合せ工程や、実装基板への搭載工程における圧力印加に対して作動空間(IDT部を収容するチャンバー、中空部)に潰れが発生するのをさらに防止できるようにしたものである。さらに、圧電デバイスをモジュール化する際の耐モールド性の向上も期待できる。
本実施例のSAWデバイスは、前記したデバイスの側面と天井板7の上面に渡って、電気的に分離された複数の側面配線10や実装端子(部品端子)11を形成すると共に、上記側面配線10や実装端子(部品端子)11を避けた部分に潰れ防止層34を設けた。この潰れ防止層34は、金属あるいは樹脂を用いて形成する。金属の場合は、例えば銅(Cu),ニッケル(Ni)等のメッキ、あるいは蒸着やスパッタで形成する。潰れ防止層34は側面配線10や実装端子(部品端子)11と同時に形成することもできる。
また、潰れ防止層34としてポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂の層を用いることもできる。これらの樹脂溶液をスプレーやスピンで塗布し、ホトリソ工程で図32に示したような領域に潰れ防止層34を形成する。
本実施例では、上記した潰れ防止層34の上に半田流れ防止層31を設け、その後に図24で説明した実施例3と同様の半田流れ防止層31を形成する。図33は、潰れ防止層34の上に半田流れ防止層31を設けたSAWデバイスを説明する図34のX−X線に沿った断面図である。図34は、潰れ防止層の上に半田流れ防止層を設けたSAWデバイスの平面図である。図33、図34に示したように、半田流れ防止層31に実装端子のための開口を形成し、必要に応じてこの開口にバリアメタル32を設ける。なお、半田流れ防止層31は実施例4と同様のものとすることもできる。
本実施例により、天井板材の貼り合せ工程や、実装基板への搭載工程における圧力印加に対して作動空間(IDT部を収容するチャンバー、中空部)が潰れるのをさらに防止できる。そして、この潰れ防止層の上に前記実施例と同様の半田流れ防止層31を設けたことで、半田ボールなどを用いて実装基板8の表面に有する端子パッド9にフェースダウン実装する際の側面配線部分への半田の回り込みに起因する実装端子11(バリアメタル32)と端子パッド9の間に介在する半田量の減少が回避され、半田付不良や実装基板との間の隙間の不安定化が防止される。
本発明は、上記実施例におけるSAWデバイスに限るものではなく、水晶発振器やMEMS共振器、その他同様の課題を有する電子デバイスにも適用できるものであることは言うまでも無い。
1 圧電基板
2 櫛歯電極(IDT電極)
3 引き出し配線
4 電極柱
5 実装端子
6 外囲壁層
7 天井板
8 実装基板
9 端子パッド
10 側面配線
10’ メッキ層
11 実装端子(部品端子)
12 ダイシングブレード
13 ホトマスク
14 紫外線
15 シード層
16 レジスト
20 部品埋蔵基板
21 電子部品
22 部品端子
23 樹脂
24 開口
25 電極柱
26 カットライン
31 半田流れ防止層
32 バリアメタル
32 端子窓
32 潰れ防止層

Claims (10)

  1. 圧電基板と、前記圧電基板の主面に形成された櫛歯電極と、前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設された引出し配線と、前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して設置されて前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層と、前記外囲壁層に橋絡して前記中空部を封止する天井板とを有し、
    前記天井板は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなり、
    前記引出し配線は、前記外囲壁層の対向する一対の側面側にそれぞれ形成されており、
    前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に絶縁された金属メッキ層が形成されており、
    前記金属メッキ層は、前記圧電基板の前記外縁で前記引出し配線と電気的に接続され、
    前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線とし
    前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する側面に、前記天井板から前記外囲壁層にかけて漸次なだらかに湾曲する傾斜面を有せしめたことを特徴とする圧電デバイス。
  2. 圧電基板と、前記圧電基板の主面に形成された櫛歯電極と、前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設された引出し配線と、前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して設置されて前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成する外囲壁層と、前記外囲壁層に橋絡して前記中空部を封止する天井板とを有し、
    前記天井板は、無機材料のフィラーを混入して機械的強度を向上させた耐熱性樹脂からなり、
    前記引出し配線は、前記外囲壁層の対向する一対の側面側にそれぞれ形成されており、
    前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に絶縁された金属メッキ層が形成されており、
    前記金属メッキ層は、前記圧電基板の前記外縁で前記引出し配線と電気的に接続され、
    前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線とし
    前記天井板に設ける実装端子の周囲を含み、前記圧電基板の前記外縁に有する前記金属メッキ層に至る前記側面に半田流れ防止層を有せしめたことを特徴とする圧電デバイス。
  3. 請求項において、
    前記半田流れ防止層を、前記実装端子の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を除く前記天井板および前記側面の全面に設けたことを特徴とする圧電デバイス。
  4. 請求項において、
    前記半田流れ防止層を、前記実装端子のそれぞれに対して独立に設けたことを特徴とする圧電デバイス。
  5. 請求項において、
    前記実装端子の上にバリアメタル層を有せしめたことを特徴とする圧電デバイス。
  6. 圧電基板を構成する圧電ウェハの主面に櫛歯電極、および前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設する引出し配線を前記圧電基板の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する電極形成工程と、
    前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成するための外囲壁層を設置する作動空間形成工程と、
    無機フィラーを混入した耐熱樹脂板からなる天井板を前記外囲壁層に周縁を橋絡して前記中空部を封止する天井板設置工程と、
    前記天井板を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離する天井板パターニング工程と、
    前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に金属メッキ層を形成する金属メッキ層形成工程と、
    前記した各工程を経た後に、貼り合わせた前記圧電ウェハと前記天井板を個々のSAWデバイスに分割する個片化工程と、
    を含み、
    前記金属メッキ層で前記圧電基板の前記外縁で前記引出し配線と電気的に接続されて、前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線とし
    前記天井板パターニング工程として、テーパー角の付いたダイシングブレードによるカッテイング法を用いたことを特徴とする圧電デバイスの製造方法。
  7. 圧電基板を構成する圧電ウェハの主面に櫛歯電極、および前記櫛歯電極に接続して前記圧電基板の外縁に延設する引出し配線を前記圧電基板の対向する一対の側面側にそれぞれ形成する電極形成工程と、
    前記引出し配線を含んだ前記圧電基板の外周を周回して、前記櫛歯電極の作動空間となる中空部を形成するための外囲壁層を設置する作動空間形成工程と、
    無機フィラーを混入した耐熱樹脂板からなる天井板を前記外囲壁層に周縁を橋絡して前記中空部を封止する天井板設置工程と、
    前記天井板を個片のSAWデバイス毎のパターンに分離する天井板パターニング工程と、
    前記外囲壁層の対向する一対の側面と前記天井板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する上面と前記圧電基板の前記外囲壁層の対向する一対の側面に連接する前記圧電基板の前記外縁にわたって複数の区画に金属メッキ層を形成する金属メッキ層形成工程と、
    前記した各工程を経た後に、貼り合わせた前記圧電ウェハと前記天井板を個々のSAWデバイスに分割する個片化工程と、
    を含み、
    前記金属メッキ層で前記圧電基板の前記外縁で前記引出し配線と電気的に接続されて、前記金属メッキ層の前記天井板の上面を実装端子とし、前記金属メッキ層の前記外囲壁層の側面を前記引出し配線と前記実装端子を接続する側面配線とし
    前記金属メッキ層を形成する金属メッキ層形成工程の後に、前記実装端子の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を避けた前記天井板の上面と前記圧電基板の前記外縁に有する前記金属メッキ層に至る前記側面に半田流れ防止層を形成する半田流れ防止層形成工程を有することを特徴とする圧電デバイスの製造方法。
  8. 請求項において、
    前記半田流れ防止層を前記実装端子の一部であるバリアメタルもしくは端子窓を除く前記天井板および前記側面の全面に設けたことを特徴とする圧電デバイスの製造方法。
  9. 請求項において、
    前記半田流れ防止層を前記実装端子のそれぞれに対して独立に設けたことを特徴とする圧電デバイスの製造方法。
  10. 請求項において、
    前記実装端子の上にバリアメタル層を形成するバリアメタル層形成工程を有することを特徴とする圧電デバイスの製造方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018221172A1 (ja) * 2017-06-01 2018-12-06 株式会社村田製作所 フィルタ装置
JP6702438B2 (ja) * 2017-06-30 2020-06-03 株式会社村田製作所 弾性波装置
KR102163886B1 (ko) 2017-12-19 2020-10-12 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 탄성파 장치
JP6996467B2 (ja) * 2017-12-19 2022-01-17 株式会社村田製作所 弾性波装置
WO2019130943A1 (ja) 2017-12-26 2019-07-04 株式会社村田製作所 弾性波装置および弾性波モジュール
DE102019115971A1 (de) * 2019-06-12 2020-12-17 RF360 Europe GmbH Elektrisches Bauelement, elektrische Vorrichtung undVerfahren zur Herstellung einer Vielzahl von elektrischenBauelementen
JP7443168B2 (ja) * 2020-06-26 2024-03-05 NDK SAW devices株式会社 弾性表面波デバイス
JP2022020084A (ja) * 2020-06-26 2022-02-01 NDK SAW devices株式会社 弾性表面波デバイス
KR102393573B1 (ko) * 2020-07-06 2022-05-03 (주)와이솔 표면 탄성파 웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제작 방법
US12470201B2 (en) * 2021-08-27 2025-11-11 Skyworks Solutions, Inc. Packaged multilayer piezoelectric surface acoustic wave device with conductive pillar

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006324894A (ja) * 2005-05-18 2006-11-30 Hitachi Media Electoronics Co Ltd 表面弾性波デバイスおよびその製造方法
JP4524474B2 (ja) * 2005-11-17 2010-08-18 富士通メディアデバイス株式会社 弾性波デバイスおよびその製造方法
DE102007058951B4 (de) * 2007-12-07 2020-03-26 Snaptrack, Inc. MEMS Package
JP2010118522A (ja) * 2008-11-13 2010-05-27 Renesas Technology Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP5721500B2 (ja) * 2011-03-30 2015-05-20 京セラ株式会社 弾性波装置およびその製造方法
JP2013046168A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Seiko Epson Corp 振動デバイスの製造方法
WO2013128823A1 (ja) * 2012-02-28 2013-09-06 パナソニック株式会社 弾性波装置およびその製造方法
JP2014099781A (ja) * 2012-11-15 2014-05-29 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電部品
JP2014120966A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電部品

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