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JP6575292B2 - Light irradiation device - Google Patents
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JP6575292B2 - Light irradiation device - Google Patents

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JP6575292B2 JP2015206791A JP2015206791A JP6575292B2 JP 6575292 B2 JP6575292 B2 JP 6575292B2 JP 2015206791 A JP2015206791 A JP 2015206791A JP 2015206791 A JP2015206791 A JP 2015206791A JP 6575292 B2 JP6575292 B2 JP 6575292B2
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Description

本願の発明は、光源の交換のための構造を備えた光照射装置に関する。   The invention of the present application relates to a light irradiation apparatus having a structure for replacing a light source.

対象物の処理のために光エネルギーを利用することは、各種製品の製造プロセスにおいてしばしば行われている。このうち、紫外域の高いエネルギーの光を利用した処理は、感光材の光処理等、盛んに行われており、目的に応じた光源を搭載した各種光照射装置が使用されている。多くの場合、光源は消耗品であり、寿命等により交換する必要がある。このため、光照射装置は、光源の交換を考慮した構造を採用している。   The use of light energy for the treatment of objects is often done in the manufacturing process of various products. Among these, processing using light of high energy in the ultraviolet region is actively performed such as photoprocessing of a photosensitive material, and various light irradiation devices equipped with a light source according to the purpose are used. In many cases, the light source is a consumable item and needs to be replaced depending on the lifetime. For this reason, the light irradiation apparatus employs a structure that takes into account the replacement of the light source.

このような光照射装置のうち、対象物が大型であったり、数多くの対象物に一度に光照射したりするような用途では、広い面積に一度に光照射する必要がある。これに伴い、大型の光源を搭載したり、複数の光源を搭載したりした構造となっており、装置が大型化している。
また、設定された照射領域に均一に光を照射するためにミラーを光源の背後に配置する場合も多く、照射する光の波長を制御するためのフィルタ等の光学素子が光源と照射領域との間に配置される場合も多い。このような点でも、装置の構造は複雑化する傾向にある。
Among such light irradiation devices, in applications where the object is large or a large number of objects are irradiated at once, it is necessary to irradiate a large area at once. Along with this, it has a structure in which a large light source is mounted or a plurality of light sources are mounted, and the apparatus is becoming larger.
In many cases, a mirror is disposed behind the light source in order to irradiate light uniformly to the set irradiation region, and an optical element such as a filter for controlling the wavelength of light to be irradiated is provided between the light source and the irradiation region. In many cases, it is placed between them. Even in this respect, the structure of the device tends to be complicated.

一例を挙げると、近年、液晶ディスプレイの製造プロセスでは、光配向と呼ばれる技術が採用されるようになってきている。この技術は、液晶ディスプレイにおいて必要な配向膜を光照射によって得る技術である。ポリイミドのような樹脂製の膜に紫外域の偏光光を照射すると、膜中の分子が偏光光の向きに配列され、配向膜が得られる。ラビングと呼ばれる機械的な配向処理に比べ、高性能の配向膜が得られることから、高画質の液晶ディスプレイの製造プロセスとして多く採用されるようになってきている。   For example, in recent years, a technique called photo-alignment has been adopted in the manufacturing process of liquid crystal displays. This technique is a technique for obtaining an alignment film necessary for a liquid crystal display by light irradiation. When a film made of resin such as polyimide is irradiated with polarized light in the ultraviolet region, molecules in the film are aligned in the direction of the polarized light, and an alignment film is obtained. Compared to a mechanical alignment process called rubbing, a high-performance alignment film can be obtained, so that it has been widely adopted as a manufacturing process for high-quality liquid crystal displays.

光配向では、膜材(配向膜の元になる膜)付きの液晶基板が光照射の対象物(ワーク)である。ワークは、製品の大型化や一枚のワークからより多くの製品を産出する観点から大型化している。大型化したワークに光照射するための構造として、ある方向に長い領域に光照射しておき(以下、この方向を長さ方向という)、照射領域のうち長さ方向に垂直な方向にワークを搬送して照射領域を通過させる構造が採用され得る(以下、この方向を搬送方向という)。特許文献1は、この種の構造を採用した光照射装置を開示している。照射領域の搬送方向の長さは、ワークに対する照射光量に関連する。ワークの大型化に伴い、また生産性を高くする観点から、照射領域は搬送方向でも大きくなる傾向がある。このようにより広い領域に光照射するため、各々光源を内蔵したランプハウスを複数設置した構造が採用されることもある。この種の構造を採用した光照射装置の一例が、特許文献1に開示されている。   In photo-alignment, a liquid crystal substrate with a film material (film that serves as a base for the alignment film) is an object (work) to be irradiated with light. Workpieces are increasing in size from the viewpoint of increasing the size of products and producing more products from a single workpiece. As a structure for irradiating a large workpiece, light is irradiated to a long region in a certain direction (hereinafter, this direction is referred to as a length direction), and the workpiece is placed in a direction perpendicular to the length direction in the irradiation region. A structure that transports and passes the irradiation region may be employed (hereinafter, this direction is referred to as a transport direction). Patent document 1 is disclosing the light irradiation apparatus which employ | adopted this kind of structure. The length of the irradiation area in the transport direction is related to the amount of light irradiated to the workpiece. From the viewpoint of increasing the size of the workpiece and increasing the productivity, the irradiation area tends to be large in the transport direction. In order to irradiate light to a wider area in this way, a structure in which a plurality of lamp houses each incorporating a light source are installed may be employed. An example of a light irradiation apparatus that employs this type of structure is disclosed in Patent Document 1.

特開2014−191939号公報JP 2014-191939 A 特開2014−197189号公報JP 2014-197189 A

上記のように大型化、複雑化した光照射装置において、光源の交換のための構造が課題となっている。特許文献1では、光源ユニットの上側のユニットを光源ユニットから切り離し、光源ユニットの上側に空間を形成して光源の交換をすることが提案されている。この構造も実用的な構造の一つであるが、複数のランプハウスが搬送方向に並設される場合、問題が生じ得る。特許文献1では、光源の交換の際、ランプハウスに対して搬送方向の手前側又は向こう側に作業者が立って作業を行うことが想定されているが、ランプハウスが搬送方向に三つ以上並設された場合、内側のランプハウス内の光源については交換作業が困難となる。また、ランプハウスが一つのみの場合であっても、何らかの事情で搬送方向の手前側又は向こう側にランプ交換のためのスペースが確保できない場合もあり、この場合には問題が生じ得る。   In the light irradiation apparatus which has been increased in size and complexity as described above, a structure for exchanging the light source is a problem. In Patent Document 1, it is proposed to replace the light source by separating the upper unit of the light source unit from the light source unit and forming a space above the light source unit. This structure is also a practical structure, but a problem may arise when a plurality of lamp houses are arranged in parallel in the transport direction. In Patent Document 1, when replacing the light source, it is assumed that an operator stands and works on the front side or the other side in the transport direction with respect to the lamp house, but there are three or more lamp houses in the transport direction. When arranged side by side, it is difficult to replace the light source in the inner lamp house. Even if there is only one lamp house, there may be a case where a space for lamp replacement cannot be secured on the front side or the other side in the transport direction for some reason, and in this case, a problem may occur.

また、特許文献2では、複数のランプハウスを同一平面上に配設した構造において、それら複数のランプハウスを一体に円弧移動させる構造を開示している。円弧移動の向きは、平面視で搬送方向に向いている。円弧移動によりミラーの開口面が横を向くので、光源の交換が可能となる。
しかしながら、上記特許文献2の構造では、多数のランプハウスを一体に円弧移動させるので、移動機構の構造が複雑である。照射領域の大型化のためにランプハウスの数をさらに多くすると、この問題がより顕著となる。また、特許文献2の構造では、光源の交換の際のランプハウスの配置位置(交換位置)を任意に選択できず、作業性を向上させることが難しい。
本願の発明は、このような課題を解決するために為されたものであって、大面積の照射領域に光照射すべく長尺な光源を採用したり又は複数のランプハウスを備えたりした光照射装置において、光源の交換が容易に行える構造を備えた光照射装置を提供することを目的としている。
Patent Document 2 discloses a structure in which a plurality of lamp houses are integrally moved in a circular arc in a structure in which a plurality of lamp houses are arranged on the same plane. The direction of arc movement is in the transport direction in plan view. Since the opening surface of the mirror faces sideways due to the arc movement, the light source can be exchanged.
However, in the structure of Patent Document 2, the structure of the moving mechanism is complicated because a large number of lamp houses are integrally moved in an arc. This problem becomes more prominent when the number of lamp houses is further increased in order to enlarge the irradiation area. Moreover, in the structure of patent document 2, the arrangement position (exchange position) of the lamp house at the time of exchanging a light source cannot be selected arbitrarily, and it is difficult to improve workability.
The invention of the present application has been made in order to solve such a problem, and employs a long light source or a plurality of lamp houses to irradiate light to a large area irradiation region. An object of the present invention is to provide a light irradiation device having a structure in which a light source can be easily replaced.

上記課題を解決するため、本願の請求項1記載の発明は、光源を収納した光源ユニットと、光源ユニットの上側に配置された上部ユニットとを備え、下方に設定された照射領域に光源からの光を照射する光照射装置であって、
光源ユニットを上下動させる上下移動機構と、上下移動機構により光源ユニットが下方
に移動した際に光源ユニットが載置される架台と、架台に光源ユニットが載置された状態で横方向に架台を移動させることで光源ユニットを上部ユニットの下方位置から退避させる退避機構とが設けられており、
光源ユニットは、光源を交換可能な状態で収容したユニットであり、
退避機構は、光源の交換が可能な交換位置まで架台を移動させることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項2記載の発明は、前記請求項1の構成において、前記光源ユニットは、前記上部ユニットに対して解除可能な状態で連結されており、
前記上下移動機構は、前記上部ユニットに対する連結が解除された状態で前記光源ユニットを下方に移動させて前記架台に載置することが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項3記載の発明は、前記請求項1又は2の構成において、前記光源ユニットの上側には、前記光源を上から覆うミラーを収容したミラーユニットが設けられており、
ミラーユニットは前記光源ユニットに対して解除可能な状態で連結されており、
前記上下移動機構は、ミラーユニットと前記光源ユニットとの連結が解除された状態で前記光源ユニットを上下動させることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項4記載の発明は、前記請求項3の構成において、前記ミラーユニットと前記光源ユニットとの連結が解除された状態で前記上下移動機構が前記光源ユニットを上下動させた際、前記ミラーに対する前記光源の位置を所定の位置にする位置決め部材を備えているという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項5記載の発明は、前記請求項3又は4の構成において、前記上下移動機構は、前記ミラーユニットが前記光源ユニットに連結されている状態で前記ミラーユニット及び前記光源ユニットを一体に上下動させることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項6記載の発明は、前記請求項1乃至5いずれかの構成において、前記光源と前記照射領域の間に位置する光学素子を収容した素子ユニットを備えており、
素子ユニットは前記光源ユニットに連結されたユニットであり、
前記上下移動機構は、前記光源ユニットと素子ユニットとを一体に上下動させて架台に載置することが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項7記載の発明は、前記請求項6の構成において、前記素子ユニットは前記光源ユニットに対して解除可能に連結されたユニットであり
前記上下移動機構は、前記光源ユニットと前記光源ユニットに連結された素子ユニットとを一体に上下動させて架台に載置した後、前記光源ユニットに対する前記素子ユニットの連結が解除された状態で前記光源ユニットを上昇させて前記素子ユニットが前記架台に載置されたままとすることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項8記載の発明は、前記請求項1乃至7いずれかの構成において、前記退避機構は、前記架台の移動をガイドするガイド部材を備えており、ガイド部材が延びる方向の任意の位置で前記架台を停止させることが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項9記載の発明は、前記請求項8の構成において、光照射の対象物を前記照射領域に搬送する搬送機構が設けられており、搬送機構は、対象物が載置されたステージをガイド部材に沿って移動させることで対象物を搬送する機構であり、
前記退避機構のガイド部材は、搬送機構のガイド部材を兼用したものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項10記載の発明は、前記請求項8の構成において、光照射の対象物を前記照射領域に搬送する搬送機構が設けられており、搬送機構は、対象物が載置されたステージをガイド部材に沿って移動させることで対象
物を搬送する機構であり、
前記退避機構のガイド部材は、搬送機構のガイド部材とは別に設けられたものであるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項11記載の発明は、前記請求項1乃至10いずれかの構成において、前記光源ユニット及び前記上部ユニットを備えたランプハウスが複数設けられており、
各ランプハウスにおいて、前記上下移動機構は、他のランプハウスの上下移動機構から独立して駆動されることが可能な機構であって、他のランプハウスの光源ユニットは移動させないで当該上下移動機構が設けられたランプハウスの光源ユニットを移動させて前記架台に載置することが可能な機構であるという構成を有する。
また、上記課題を解決するため、請求項12記載の発明は、前記請求項1乃至10いずれかの構成において、前記光源ユニット及び前記上部ユニットを備えたランプハウスが複数設けられており、
前記上下移動機構は、少なくとも二つのランプハウスの前記光源ユニットを一緒に移動させて前記架台に載置することが可能な機構であるという構成を有する。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present application includes a light source unit that houses a light source, and an upper unit that is disposed on the upper side of the light source unit. A light irradiation device for irradiating light,
A vertical movement mechanism that moves the light source unit up and down, a frame on which the light source unit is placed when the light source unit is moved downward by the vertical movement mechanism, and a horizontal frame with the light source unit mounted on the frame A retraction mechanism that retreats the light source unit from the lower position of the upper unit by moving it,
The light source unit is a unit that houses the light source in a replaceable state,
The retraction mechanism has a configuration in which the gantry can be moved to an exchange position where the light source can be exchanged.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 2 is the configuration of claim 1, wherein the light source unit is connected to the upper unit in a releasable state,
The vertical movement mechanism has a configuration in which the light source unit can be moved downward and placed on the gantry in a state where the connection to the upper unit is released.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 3 is the configuration according to claim 1 or 2, wherein a mirror unit that houses a mirror that covers the light source from above is provided above the light source unit. And
The mirror unit is connected to the light source unit in a releasable state,
The vertical movement mechanism has a configuration in which the light source unit can be moved up and down in a state where the connection between the mirror unit and the light source unit is released.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 4 is the configuration according to claim 3, wherein the up-and-down moving mechanism moves the light source unit in a state where the connection between the mirror unit and the light source unit is released. It has a configuration in which a positioning member is provided to bring the position of the light source with respect to the mirror to a predetermined position when moved up and down.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 5 is the configuration according to claim 3 or 4, wherein the vertical movement mechanism is configured such that the mirror unit is connected to the light source unit. And a mechanism capable of moving the light source unit up and down integrally.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 6 is provided with an element unit containing an optical element located between the light source and the irradiation region in the configuration according to any one of claims 1 to 5. And
The element unit is a unit connected to the light source unit,
The vertical movement mechanism has a configuration in which the light source unit and the element unit can be moved up and down integrally and placed on a gantry.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 7 is the unit according to claim 6, wherein the element unit is releasably connected to the light source unit .
The vertical movement mechanism is configured to move the light source unit and the element unit connected to the light source unit up and down integrally and place the light source unit on a pedestal, and then the connection of the element unit to the light source unit is released. The light source unit is raised, and the element unit is configured to remain mounted on the gantry.
In order to solve the above-mentioned problem, according to an eighth aspect of the present invention, in the configuration according to any of the first to seventh aspects, the retracting mechanism includes a guide member that guides the movement of the gantry, and the guide member It has the structure that it is a mechanism capable of stopping the gantry at an arbitrary position in the extending direction.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 9 is the configuration according to claim 8 , further comprising a transport mechanism for transporting the object to be irradiated with light to the irradiation region. It is a mechanism that conveys the object by moving the stage on which the object is placed along the guide member,
The guide member of the retraction mechanism has a configuration that also serves as the guide member of the transport mechanism.
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 10 is the structure of claim 8 , wherein a transport mechanism for transporting the object to be irradiated with light to the irradiation region is provided. It is a mechanism that conveys the object by moving the stage on which the object is placed along the guide member,
The guide member of the retraction mechanism is provided separately from the guide member of the transport mechanism.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 11 is the structure according to any one of claims 1 to 10, wherein a plurality of lamp houses including the light source unit and the upper unit are provided,
In each lamp house, the vertical movement mechanism is a mechanism that can be driven independently from the vertical movement mechanism of another lamp house, and the vertical movement mechanism without moving the light source unit of the other lamp house. Is a mechanism that can move and place the light source unit of the lamp house on the gantry.
In order to solve the above problem, the invention according to claim 12 is the configuration according to any one of claims 1 to 10, wherein a plurality of lamp houses each including the light source unit and the upper unit are provided.
The vertical movement mechanism has a configuration in which the light source units of at least two lamp houses can be moved together and placed on the gantry.

以下に説明する通り、本願の請求項1記載の発明によれば、光源ユニットが架台に載置されて退避するので、ランプハウスの直下位置とは別の位置で光源の交換作業を行うことができる。このため、光源の交換が容易となる。
また、請求項2の発明によれば、上記効果に加え、上部ユニットに対する連結が解除された状態で光源ユニットが下降して架台に載置されるので、この点で構造が簡略化し、交換位置の選択の自由度も高くなる。
また、請求項3の発明によれば、上記効果に加え、光源ユニットに対するミラーユニットの連結を解除した状態で光源ユニットを下降させて架台に載置することができるので、ミラーのない状態で光源の交換が行える。このため、光源の交換作業がより容易となる。
また、請求項4の発明によれば、上記効果に加え、ミラーに対する光源の位置決めが精度良く行われる。このため、最適な光照射状態とする作業が容易となる。
また、請求項5の発明によれば、上記効果に加え、ワークに対して最適な照射距離を確保するのが容易となる。
また、請求項6の発明によれば、上記効果に加え、光源ユニットの架台への載置の際、素子ユニットも一緒に下降して架台に載るので、構造的に簡略になる。
また、請求項7の発明によれば、上記効果に加え、素子ユニットを架台に載置した際、光源ユニットとの連結を切り離して光源ユニットを上昇させることができるので、素子ユニットのメンテナンス作業も容易である。
また、請求項8の発明によれば、上記効果に加え、架台は任意の位置で停止され得るので、任意の位置で光源の交換等のメンテナンス作業が行えることになり、作業性が高くなる。
また、請求項9の発明によれば、上記効果に加え、退避機構が搬送機構のガイド部材を兼用しているので、構造的に簡略化される。
また、請求項10の発明によれば、上記効果に加え、退避機構が専用のガイド部材を備えているので、架台の退避位置の選択の自由度が高くなる。
また、請求項11の発明によれば、上記効果に加え、個々のランプハウスについて独立して光源ユニットの架台への載置が行えるので、光源の交換が必要なランプハウスについてのみ載置動作を行えば良く、構造や作業が簡略化される。
また、請求項12の発明によれば、上記効果に加え、複数のランプハウスについて一緒に架台への載置が行えるので、複数のランプハウスについて一括して光源の交換等のメンテナンス作業を行う場合、作業が簡略化される。
As described below, according to the invention described in claim 1 of the present application, the light source unit is placed and retracted on the gantry, so that the light source can be replaced at a position different from the position directly below the lamp house. it can. For this reason, replacement of the light source becomes easy.
According to the invention of claim 2, in addition to the above effect, the light source unit is lowered and placed on the gantry in a state where the connection to the upper unit is released. The degree of freedom of selection is also increased.
According to the invention of claim 3, in addition to the above effect, the light source unit can be lowered and placed on the gantry in a state where the connection of the mirror unit to the light source unit is released. Can be exchanged. For this reason, it is easier to replace the light source.
According to the invention of claim 4, in addition to the above effect, the positioning of the light source with respect to the mirror is performed with high accuracy. For this reason, the operation | work which makes an optimal light irradiation state becomes easy.
According to the invention of claim 5, in addition to the above effect, it becomes easy to secure an optimum irradiation distance for the workpiece.
According to the invention of claim 6, in addition to the above effect, when the light source unit is placed on the gantry, the element unit is also lowered and placed on the gantry, so that the structure is simplified.
According to the invention of claim 7, in addition to the above effect, when the element unit is placed on the gantry, the connection with the light source unit can be disconnected and the light source unit can be raised. Easy.
According to the eighth aspect of the invention, in addition to the above effect, the gantry can be stopped at an arbitrary position, so that maintenance work such as replacement of a light source can be performed at an arbitrary position, and workability is improved.
According to the ninth aspect of the invention, in addition to the above effect, the retracting mechanism also serves as the guide member of the transport mechanism, so that the structure is simplified.
According to the invention of claim 10, in addition to the above effects, the retracting mechanism includes the dedicated guide member, so that the degree of freedom in selecting the retracted position of the gantry is increased.
According to the eleventh aspect of the invention, in addition to the above effects, the individual lamp houses can be independently mounted on the gantry of the light source unit, so that only the lamp house requiring replacement of the light source can be mounted. This can be done, and the structure and work are simplified.
According to the invention of claim 12, in addition to the above-described effect, since a plurality of lamp houses can be placed together on a gantry, maintenance work such as light source replacement is performed collectively for a plurality of lamp houses. , Work is simplified.

本願発明の第一の実施形態に係る光照射装置の斜視概略図である。1 is a schematic perspective view of a light irradiation apparatus according to a first embodiment of the present invention. 一つのランプハウス1を示した側面断面概略図である。1 is a schematic side sectional view showing one lamp house 1. FIG. 選択機構7の主要部の斜視概略図である。3 is a schematic perspective view of a main part of a selection mechanism 7. FIG. 図3に示す選択機構7における選択用スライダ72の斜視概略図である。FIG. 4 is a schematic perspective view of a selection slider 72 in the selection mechanism 7 shown in FIG. 3. 選択機構7の動作状態を示した斜視概略図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing an operation state of the selection mechanism 7. 選択機構7の動作状態を示した斜視概略図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing an operation state of the selection mechanism 7. 各ユニットの移動状態について示した側面断面概略図である。It is the side surface sectional schematic shown about the movement state of each unit. 各ユニットの移動状態について示した側面断面概略図である。It is the side surface sectional schematic shown about the movement state of each unit. 各ユニットの移動状態について示した側面断面概略図である。It is the side surface sectional schematic shown about the movement state of each unit. 光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。It is the front sectional schematic diagram shown about the retraction | saving operation | movement of the light source unit 10 for replacement | exchange of the light source 11. FIG. 光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。It is the front sectional schematic diagram shown about the retraction | saving operation | movement of the light source unit 10 for replacement | exchange of the light source 11. FIG. 光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。It is the front sectional schematic diagram shown about the retraction | saving operation | movement of the light source unit 10 for replacement | exchange of the light source 11. FIG. 光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。It is the front sectional schematic diagram shown about the retraction | saving operation | movement of the light source unit 10 for replacement | exchange of the light source 11. FIG. 光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。It is the front sectional schematic diagram shown about the retraction | saving operation | movement of the light source unit 10 for replacement | exchange of the light source 11. FIG. 第二の実施形態に係る光照射装置の斜視概略図である。It is a perspective schematic diagram of the light irradiation apparatus concerning a second embodiment.

次に、本願発明を実施するための形態(実施形態)について説明する。
図1は、本願発明の第一の実施形態に係る光照射装置の斜視概略図である。図1に示す光照射装置は、光源11を収納した光源ユニット10を含むランプハウス1と、設定された照射領域に光源11からの光が照射されている状態で照射領域を通過するようにしてワークWを搬送する搬送機構2とを備えている。
Next, modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic perspective view of a light irradiation apparatus according to the first embodiment of the present invention. The light irradiation apparatus shown in FIG. 1 passes through the irradiation area in a state where the light from the light source 11 is irradiated to the lamp area 1 including the light source unit 10 that houses the light source 11 and the set irradiation area. And a transport mechanism 2 that transports the workpiece W.

この実施形態の装置において、ワークWは液晶基板のような方形基板となっており、ワークWが載置されるステージ21が設けられている。搬送機構2は、ワークWが載置されたステージ21を水平方向に直線移動させる機構である。以下、説明の都合上、この直線移動の方向(搬送方向)をX方向とし、X方向に垂直な水平方向をY方向とする。尚、ステージ21には、ワークWを真空吸着によって吸着する機構が適宜設けられる。   In the apparatus of this embodiment, the workpiece W is a rectangular substrate such as a liquid crystal substrate, and a stage 21 on which the workpiece W is placed is provided. The transport mechanism 2 is a mechanism that linearly moves the stage 21 on which the workpiece W is placed in the horizontal direction. Hereinafter, for convenience of explanation, the direction of linear movement (conveyance direction) is defined as the X direction, and the horizontal direction perpendicular to the X direction is defined as the Y direction. The stage 21 is appropriately provided with a mechanism for sucking the workpiece W by vacuum suction.

搬送機構2は、図1に示すようにX方向に沿って設けられた左右一対のリニアガイド(以下、搬送用リニアガイドという)22と、一対のリニアガイド22の間に設けられた直線駆動源(以下、搬送用直線駆動源という)23等から構成されている。
搬送用直線駆動源23としては、例えばリニアモータが採用される。リニアモータは、X方向に沿って交互に異なる磁極の電磁石を備えたものとされる。ステージ21の下面には、リニアモータに磁気的に結合する不図示の永久磁石が設けられており、リニアモータの各磁極の切り替えによってステージ21をX方向に移動させる。
As shown in FIG. 1, the transport mechanism 2 includes a pair of left and right linear guides (hereinafter referred to as a transport linear guide) 22 provided along the X direction, and a linear drive source provided between the pair of linear guides 22. (Hereinafter referred to as a linear driving source for conveyance) 23 and the like.
As the conveyance linear drive source 23, for example, a linear motor is employed. The linear motor is provided with electromagnets having different magnetic poles alternately along the X direction. A permanent magnet (not shown) that is magnetically coupled to the linear motor is provided on the lower surface of the stage 21, and the stage 21 is moved in the X direction by switching each magnetic pole of the linear motor.

搬送機構2による搬送路上の一方の側(例えば図1上の左側)に設定されたロード位置の付近には、不図示のロボットが配置されている。この実施形態では、ステージ21は、搬送路上を往復動してロード位置に戻るようになっており、ロボットは、ロード位置においてワークWをステージ21に載置するとともに、ロード位置に戻ってきたステージ21からワークWを取り去るようティーチングされている。
尚、ステージ21は、不図示のアライメント機構を備えている。アライメント機構は、ワークWに設けられた不図示のマークを読み取ってワークWの位置や姿勢を微調整する機構である。
A robot (not shown) is disposed in the vicinity of the load position set on one side (for example, the left side in FIG. 1) on the conveyance path by the conveyance mechanism 2. In this embodiment, the stage 21 reciprocates on the conveyance path and returns to the load position, and the robot places the workpiece W on the stage 21 at the load position and returns to the load position. Teaching is performed so as to remove the workpiece W from 21.
The stage 21 includes an alignment mechanism (not shown). The alignment mechanism is a mechanism that finely adjusts the position and posture of the workpiece W by reading a mark (not shown) provided on the workpiece W.

図1に示すように、この実施形態の装置は、多灯式即ち複数のランプハウス1を備えた装置となっており、具体的には三つのランプハウス1がX方向に並設されている。各ランプハウス1は、同様の構造のものである。図2は、一つのランプハウス1を示した側面断面概略図である。図2は、X方向での断面概略図となっている。
図1に示すように、ランプハウス1に収容された光源11は、棒状の光源となっている。より具体的には、この実施形態の装置は紫外線をワークWに照射する装置となっており、光源11は高圧水銀ランプのような紫外線ランプとなっている。図1に示すように、棒状である各光源11は、Y方向に長さ方向が向くよう配置されており、従って互いに平行な姿勢である。
As shown in FIG. 1, the apparatus of this embodiment is a multi-lamp type, that is, an apparatus including a plurality of lamp houses 1, and specifically, three lamp houses 1 are juxtaposed in the X direction. . Each lamp house 1 has a similar structure. FIG. 2 is a schematic side sectional view showing one lamp house 1. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view in the X direction.
As shown in FIG. 1, the light source 11 accommodated in the lamp house 1 is a rod-shaped light source. More specifically, the apparatus of this embodiment is an apparatus that irradiates the work W with ultraviolet rays, and the light source 11 is an ultraviolet lamp such as a high-pressure mercury lamp. As shown in FIG. 1, the light sources 11 each having a rod shape are arranged so that the length direction thereof faces in the Y direction, and thus are in a posture parallel to each other.

ランプハウス1は、光源ユニット10を含む複数のユニットを備えている。具体的には、ランプハウス1は、図2に示すように、光源ユニット10と、光源11を上側から覆うミラー3を収容したミラーユニット30と、ミラーユニット30の上側に配置された上部ユニット40と、光源ユニット10の下側に配置された素子ユニット50とを備えている。
光源ユニット10は、光源11と、光源11を保持した光源保持フレーム12等から構成されている。光源保持フレーム12には、受け具13と押さえ具14とが設けられている。図2では詳細の図示が省略されているが、光源11は、両端の口金の部分が受け具13に載り、その上から押さえ具14で押さえることで光源保持フレーム12に保持されている。
The lamp house 1 includes a plurality of units including a light source unit 10. Specifically, as illustrated in FIG. 2, the lamp house 1 includes a light source unit 10, a mirror unit 30 that houses a mirror 3 that covers the light source 11 from above, and an upper unit 40 that is disposed above the mirror unit 30. And an element unit 50 disposed below the light source unit 10.
The light source unit 10 includes a light source 11 and a light source holding frame 12 that holds the light source 11. The light source holding frame 12 is provided with a receiving tool 13 and a pressing tool 14. Although the detailed illustration is omitted in FIG. 2, the light source 11 is held by the light source holding frame 12 by the portions of the caps at both ends being placed on the receiver 13 and being pressed by the presser 14 from above.

尚、光源11は、例えば3000mm程度と非常に長尺なものとなっている。このため、点灯時には昇温により撓んでしまう可能性がある。これを考慮し、この実施形態では、光源11を支持する支持具15を長さ方向の途中の数カ所に設けている。支持具15には、光源11の封体に対して熱衝撃性を少なくすることや光遮蔽を少なくする観点から、石英製のものが使用される。支持具の詳細については、特開2011−222347号公報に開示されているので、これを参照することができる。   Note that the light source 11 is very long, for example, about 3000 mm. For this reason, at the time of lighting, there is a possibility that it will bend by temperature rise. In consideration of this, in this embodiment, the support 15 that supports the light source 11 is provided at several locations in the length direction. The support 15 is made of quartz from the viewpoint of reducing thermal shock resistance against the envelope of the light source 11 and reducing light shielding. About the detail of a support tool, since it is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-222347, this can be referred.

ミラーユニット30は、ミラー3と、ミラー保持フレーム31等から構成されている。ミラー3は、この実施形態では、光源11の長さ方向に長い一対のものから成っている。一対のミラー3は、光源11の真上にスリットを形成した状態で配置されており、一対でほぼ樋状のミラー3を形成するようになっている。尚、各ミラー3は、図2に成す断面形状で解るように湾曲している。この湾曲の形状は、楕円の一部又は放物線を成すものとされる。
各ミラー3は、基材上に反射膜を蒸着したものや、アルミのような金属で形成される。蒸着膜で反射させる構造の場合、蒸着膜形成の都合から複数のミラーをセグメント状に並べて一つの長尺なミラーとすることもある。また、蒸着膜として、対象物の昇温を抑えるため、熱線を透過させて反射しないようにした特性のものが採用されることもある。
The mirror unit 30 includes a mirror 3, a mirror holding frame 31, and the like. In this embodiment, the mirror 3 is composed of a pair that is long in the length direction of the light source 11. The pair of mirrors 3 are arranged in a state where a slit is formed immediately above the light source 11, and a pair of substantially mirror-like mirrors 3 is formed. Each mirror 3 is curved so as to have a sectional shape shown in FIG. This curved shape is assumed to form a part of an ellipse or a parabola.
Each mirror 3 is formed by depositing a reflective film on a base material or a metal such as aluminum. In the case of a structure that reflects with a vapor deposition film, a plurality of mirrors may be arranged in a segment to form one long mirror for convenience of vapor deposition film formation. Moreover, in order to suppress the temperature rise of a target object, the thing of the characteristic which permeate | transmits a heat ray and was not reflected may be employ | adopted as a vapor deposition film.

ミラー保持フレーム31は、各ミラー3を背後から保持するであり、各ミラー3を上端と下端において緩衝具32を介して保持するものである。ミラー保持フレーム31は、ミラー3が熱線を透過させるタイプのものである場合、熱線を受けて昇温するため、熱容量の大きいものとし、背後に放熱フィン33を設けた構造とされる。尚、ミラー保持フレーム31は、ミラーユニット30の外枠となっているミラーユニット34枠に固定されている。   The mirror holding frame 31 holds each mirror 3 from the back, and holds each mirror 3 via a buffer 32 at the upper end and the lower end. When the mirror 3 is of a type that allows heat rays to pass therethrough, the mirror holding frame 31 is heated to receive heat rays, so that the mirror holding frame 31 has a large heat capacity and is provided with a radiation fin 33 behind it. The mirror holding frame 31 is fixed to a mirror unit 34 frame that is an outer frame of the mirror unit 30.

素子ユニット50は、光源11と照射領域との間に配置される光学素子(以下、照射側光学素子という)51,52と、照射側光学素子51,52を保持した素子保持フレーム53等から構成されている。照射側光学素子51,52としては、適宜のものを選択し得るが、この実施形態の光照射装置は、ワークWに偏光光を照射するものであるため、一つの照射側光学素子51は偏光素子となっている。より具体的には、この実施形態ではグリッド偏光素子が照射側光学素子51として使用されている。グリッド偏光素子は、透明基板上に微細な縞状格子(グリッド)を形成したもので、縞状格子を構成する各線状部の長さ方向に電界成分が向いている直線偏光光を遮断し、各線状部の長さ方向に垂直な方向に電界成分が向いている直線偏光光を透過させることで光を偏光させる光学素子である。   The element unit 50 includes optical elements (hereinafter referred to as irradiation side optical elements) 51 and 52 disposed between the light source 11 and the irradiation region, an element holding frame 53 that holds the irradiation side optical elements 51 and 52, and the like. Has been. The irradiation side optical elements 51 and 52 can be selected as appropriate. However, since the light irradiation apparatus of this embodiment irradiates the work W with polarized light, one irradiation side optical element 51 is polarized. It is an element. More specifically, in this embodiment, a grid polarizing element is used as the irradiation side optical element 51. The grid polarization element is formed by forming a fine striped grid (grid) on a transparent substrate, and blocks linearly polarized light whose electric field component is oriented in the length direction of each linear part constituting the striped grid, An optical element that polarizes light by transmitting linearly polarized light having an electric field component oriented in a direction perpendicular to the length direction of each linear portion.

光源11と背後のミラー3による照射パターンは方形となっており、照射領域も方形の領域として設定されている。照射側光学素子51,52は、照射領域をカバーするものとなっている。グリッド偏光素子51については、大面積のものを製作するのが難しいため、複数並べて配置され、照射領域をカバーしている。グリッド偏光素子51は、不図示の素子枠に嵌め込まれ、素子台座54の上に取り付けられている。素子台座54は、素子保持フレーム53上に設けられており、照射側光学素子3は、素子保持フレーム53によって保持されている。   The irradiation pattern by the light source 11 and the rear mirror 3 is a square, and the irradiation area is also set as a rectangular area. The irradiation side optical elements 51 and 52 cover the irradiation area. Since it is difficult to manufacture a grid polarizing element 51 having a large area, a plurality of grid polarizing elements 51 are arranged side by side to cover the irradiation area. The grid polarization element 51 is fitted in an element frame (not shown) and attached on the element base 54. The element base 54 is provided on the element holding frame 53, and the irradiation side optical element 3 is held by the element holding frame 53.

また、この実施形態では、グリッド偏光素子51とは別の照射側光学素子52として、フィルタが内蔵されている。フィルタ52は照射側光学素子3を上側から覆った状態で設けられている。フィルタ52は、素子保持フレーム53上にフィルタ枠55を介して取り外し可能に取り付けられている。フィルタ52としては、例えば、照射する光の波長を選択する波長選択フィルタが用いられる。   In this embodiment, a filter is incorporated as the irradiation side optical element 52 different from the grid polarizing element 51. The filter 52 is provided so as to cover the irradiation side optical element 3 from above. The filter 52 is detachably attached to the element holding frame 53 via the filter frame 55. As the filter 52, for example, a wavelength selection filter that selects a wavelength of light to be irradiated is used.

一方、上部ユニット40は、ランプハウス1全体の冷却のための空間を確保する等の目的で設けられたユニットである。上部ユニット40は、全体としてはミラーユニット30や光源ユニット10等と同程度の長さ及び幅を有する箱状である。上部ユニット40は、下面にミラーユニット30からの冷却風が流入する流入口41を有し、上面に冷却筒42を有している。冷却筒42は、生産ラインに配備された冷却用の排気筒400に嵌め込まれている。但し、両者は固定されておらず隙間があり、静止した排気筒400に対して上部ユニット40全体が上下動することが可能となっている。   On the other hand, the upper unit 40 is a unit provided for the purpose of ensuring a space for cooling the entire lamp house 1. The upper unit 40 has a box shape having the same length and width as the mirror unit 30 and the light source unit 10 as a whole. The upper unit 40 has an inlet 41 through which cooling air from the mirror unit 30 flows on the lower surface, and a cooling cylinder 42 on the upper surface. The cooling cylinder 42 is fitted into a cooling exhaust cylinder 400 provided in the production line. However, both are not fixed and there is a gap, and the entire upper unit 40 can move up and down with respect to the stationary exhaust pipe 400.

流入口41は、光源11の長さに対して十分な構造(大きさ、数等)で設けられている。排気筒400から排気がされると、ランプハウス1内全体に冷却風が流れる。冷却風は、上部ユニット40内の空間を経由して排出される。この冷却により、光源11やミラー3、照射側光学素子51,52などの昇温が抑えられるようになっている。この他、上部ユニット40には、光源11の点灯回路等の設備が収容され得る。   The inflow port 41 is provided with a structure (size, number, etc.) sufficient for the length of the light source 11. When the exhaust tube 400 is exhausted, cooling air flows through the entire lamp house 1. The cooling air is discharged through the space in the upper unit 40. By this cooling, the temperature rise of the light source 11, the mirror 3, the irradiation side optical elements 51 and 52, etc. is suppressed. In addition, the upper unit 40 can accommodate facilities such as a lighting circuit of the light source 11.

実施形態の光照射装置は、前述した問題を解決すべく、光源11の交換を容易にした構造を採用している。以下、この点について説明する。
まず、実施形態の光照射装置は、光源ユニット10を上下動させる上下移動機構6を備えている。この実施形態では、光源11の交換を含むメンテナンスを容易にするため、上部ユニット40、ミラーユニット30、光源ユニット10及び素子ユニット50について、全てのユニットを一緒に上下動させたり、任意の境界部分で上下に分離させて上側のユニット又はユニット群(以下、上側ユニット群と総称する)のみを上下動させたりすることができるようになっている。
The light irradiation apparatus of the embodiment employs a structure that facilitates replacement of the light source 11 in order to solve the above-described problems. Hereinafter, this point will be described.
First, the light irradiation apparatus of the embodiment includes a vertical movement mechanism 6 that moves the light source unit 10 up and down. In this embodiment, in order to facilitate maintenance including replacement of the light source 11, the upper unit 40, the mirror unit 30, the light source unit 10, and the element unit 50 are all moved up and down together, or an arbitrary boundary portion. Thus, only the upper unit or unit group (hereinafter collectively referred to as the upper unit group) can be moved up and down.

具体的に説明すると、この実施形態では、最も上側に位置するのは上部ユニット40であり、上下移動機構6は、直接的には上部ユニット40を上下動させるものとなっている。図1に示すように、上下移動機構6は、上部ユニット40に連結された上下用直線駆動源61と、上下用直線駆動源61による上部ユニット40の上下動をガイドする上下リニアガイド62とから主に構成されている。
上下用直線駆動源61としては、この実施形態ではボールねじとサーボモータを組み合わせたものが使用されている。上部ユニット40は平面視でY方向に長い長方形であるが、上下用直線駆動源61は、上部ユニット40の長手方向の両側に設けられている。各上下用直線駆動源61の出力軸は、後述する選択用スライダ72を介して上部ユニット40に連結されている。各上下用直線駆動源61は同期して(即ち、同じタイミングで同じストロークで)駆動されるようになっており、この駆動により上部ユニット40が上下動する。尚、上下用直線駆動源61としては、エアシリンダ等の流体圧を利用した駆動源が採用されることもある。
Specifically, in this embodiment, the uppermost unit 40 is positioned on the uppermost side, and the vertical movement mechanism 6 directly moves the upper unit 40 up and down. As shown in FIG. 1, the vertical movement mechanism 6 includes a vertical linear drive source 61 connected to the upper unit 40 and a vertical linear guide 62 that guides the vertical movement of the upper unit 40 by the vertical linear drive source 61. It is mainly composed.
As the vertical linear drive source 61, a combination of a ball screw and a servo motor is used in this embodiment. The upper unit 40 has a rectangular shape that is long in the Y direction in plan view, but the vertical drive source 61 for vertical movement is provided on both sides of the upper unit 40 in the longitudinal direction. The output shaft of each vertical drive source 61 for each vertical is connected to the upper unit 40 via a selection slider 72 described later. The vertical drive sources 61 for vertical movement are driven synchronously (that is, with the same stroke at the same timing), and the upper unit 40 moves up and down by this drive. As the vertical drive source 61 for vertical movement, a drive source using fluid pressure such as an air cylinder may be employed.

上下リニアガイド62は、上部ユニット40の長手方向の両側に設けられており、図1に示すように片側二本、計四本の上下リニアガイド62が設けられている。上部ユニット40の長手方向の両端には、各上下リニアガイド62に対応した位置に各々上下スライダが固定されており、各上下スライダに上下リニアガイド62が挿通されている。尚、ランプハウス1は、不図示の支持台によって全体に支持されている。各上下リニアガイド62及び各上下用直線駆動源61は、支持台に設けられたベース63上に固定されている。また、上部ユニット40は、上下用直線駆動源61によって駆動された際に歪み等が生じないように、不図示の骨格部材によって保持されている。   The upper and lower linear guides 62 are provided on both sides of the upper unit 40 in the longitudinal direction, and as shown in FIG. 1, two upper and lower linear guides 62 are provided on one side. At both ends in the longitudinal direction of the upper unit 40, vertical sliders are fixed at positions corresponding to the vertical linear guides 62, and the vertical linear guides 62 are inserted through the vertical sliders. The lamp house 1 is supported on the whole by a support base (not shown). Each vertical linear guide 62 and each vertical linear drive source 61 are fixed on a base 63 provided on a support base. Further, the upper unit 40 is held by a skeletal member (not shown) so that distortion and the like do not occur when driven by the vertical linear drive source 61.

一方、実施形態の光照射装置は、上記のように上下移動機構6が上部ユニット40を上下動させる際、上部ユニット40と一体に移動させるユニットを選択するための選択機構7を備えている。選択機構7について、図2、図3及び図4を使用して説明する。図3は、選択機構7の主要部の斜視概略図、図4は図3に示す選択機構7における選択用スライダ72の斜視概略図である。
選択機構7は、ピンブロック71と、ピンブロック71をスライドさせる選択用スライダ72等から構成されている。選択用スライダ72は、上部ユニット40よりも少し長い長方形の枠状の部材である。長辺の方向は、図1に示すY方向となっており、短辺の方向がX方向である。選択用スライダ72の短辺のうち、一方は選択操作の際に掴んで操作される部位となっている。以下、この短辺の側を操作側と呼び、操作側とは反対側を奥側と呼ぶ。
On the other hand, the light irradiation apparatus of the embodiment includes the selection mechanism 7 for selecting a unit that moves together with the upper unit 40 when the vertical movement mechanism 6 moves the upper unit 40 up and down as described above. The selection mechanism 7 is demonstrated using FIG.2, FIG3 and FIG.4. 3 is a schematic perspective view of a main part of the selection mechanism 7, and FIG. 4 is a schematic perspective view of a selection slider 72 in the selection mechanism 7 shown in FIG.
The selection mechanism 7 includes a pin block 71, a selection slider 72 for sliding the pin block 71, and the like. The selection slider 72 is a rectangular frame-like member that is slightly longer than the upper unit 40. The direction of the long side is the Y direction shown in FIG. 1, and the direction of the short side is the X direction. One of the short sides of the selection slider 72 is a part that is gripped and operated during the selection operation. Hereinafter, the short side is referred to as the operation side, and the opposite side to the operation side is referred to as the back side.

一方、図2に示すように、上部ユニット40は、外カバー43を有している。外カバー43は、光源11よりも少し長い長方形の水平断面形状を成す枠状である。図2に示すように、外カバー43には、袖板44が固定されている。袖板44は、外カバー43の内面から内側に突出するよう設けられている。外カバー43も同様に平面視でY方向に長い長方形であるが、袖板44は、外カバー43の長辺方向の側板部に設けられており、長辺方向に少なくとも二箇所に設けられている。そして、袖板44には、選択用スライダ72用の開口が形成されており、この開口に選択用スライダ72が挿通されている。   On the other hand, as shown in FIG. 2, the upper unit 40 has an outer cover 43. The outer cover 43 has a frame shape having a rectangular horizontal cross section that is slightly longer than the light source 11. As shown in FIG. 2, a sleeve plate 44 is fixed to the outer cover 43. The sleeve plate 44 is provided so as to protrude inward from the inner surface of the outer cover 43. Similarly, the outer cover 43 has a rectangular shape that is long in the Y direction in plan view, but the sleeve plate 44 is provided on a side plate portion in the long side direction of the outer cover 43 and is provided in at least two places in the long side direction. Yes. An opening for the selection slider 72 is formed in the sleeve plate 44, and the selection slider 72 is inserted through this opening.

図4に示すように、ピンブロック71は、選択用スライダ72に固定されている。ピンブロック71は複数設けられており、選択用スライダ72の各長辺の部分に2個〜3個程度設けられている。各ピンブロック71は、第一から第三の三つのピン73,74,75を有している。第一ピン73は、各ピンブロック71においてやや上部に位置し、奥側の端面から奥側に向けて水平に突出している。第二ピン74は、各ピンブロック71において第一ピン73よりも下部に位置し、操作側の端面から操作側に水平に突出している。第三ピン75は、ピンブロック71の下面から下方に突出している。   As shown in FIG. 4, the pin block 71 is fixed to the selection slider 72. A plurality of pin blocks 71 are provided, and about two to three are provided on each long side portion of the selection slider 72. Each pin block 71 has first to third three pins 73, 74, 75. The first pin 73 is located slightly above each pin block 71 and protrudes horizontally from the end face on the back side toward the back side. The second pin 74 is positioned below the first pin 73 in each pin block 71 and protrudes horizontally from the end surface on the operation side to the operation side. The third pin 75 protrudes downward from the lower surface of the pin block 71.

ピンブロック71における第一から第三ピン73,74,75が選択的に係合するものとして、ミラーユニット30は第一ピン孔ブロック35を備えており、光源ユニット10は第二ピン孔ブロック16を備えている。また、素子ユニット50は一対の係合フック56を備えている。
図3に示すように、ミラー保持フレーム31はフランジ部(以下、ミラー保持フランジ部)311を有しており、第一ピン孔ブロック35はミラー保持フランジ部311に固定されている。また、同様に、光源保持フレーム12はフランジ部(以下、光源保持フランジ部)121を有しており、第二ピン孔ブロック16は光源保持フランジ部121に固定されている。
The first to third pins 73, 74, and 75 in the pin block 71 are selectively engaged with each other. The mirror unit 30 includes a first pin hole block 35, and the light source unit 10 includes the second pin hole block 16. It has. The element unit 50 includes a pair of engagement hooks 56.
As shown in FIG. 3, the mirror holding frame 31 has a flange portion (hereinafter, mirror holding flange portion) 311, and the first pin hole block 35 is fixed to the mirror holding flange portion 311. Similarly, the light source holding frame 12 has a flange portion (hereinafter, light source holding flange portion) 121, and the second pin hole block 16 is fixed to the light source holding flange portion 121.

また、素子保持フレーム53には、一対の係合フック56が固定されている。図3に示すように、素子保持フレーム53には、外側に突出するようにブラケット57が固定されており、ブラケット57上に一対の係合フック56が固定されている。一対の係合フック56は、選択用スライダ72の短辺方向に並んで設けられたものであり、互いに向かい合った状態となっている。一対の係合フック56の上端は、互いに近づく向きに曲がっており、先端は少し離間していてスリットが形成されている。
第三ピン75は、逆T字状であって垂直部と水平部とから成る。垂直部の厚さ(X方向の幅)は、一対の係合フック56が形成するスリットより少し小さい。水平部はX方向に長くその長さは、一対の係合フック56の垂直部分の離間間隔より小さい。このため、選択用スライダ72が長辺の方向に移動した際、第三ピン75は、一対の係合フック56の間を通り過ぎたり、一対の係合フック56の間に収まった状態になったりするようになっている。
A pair of engagement hooks 56 are fixed to the element holding frame 53. As shown in FIG. 3, a bracket 57 is fixed to the element holding frame 53 so as to protrude outward, and a pair of engagement hooks 56 are fixed on the bracket 57. The pair of engaging hooks 56 are provided side by side in the short side direction of the selection slider 72 and are in a state of facing each other. The upper ends of the pair of engagement hooks 56 are bent toward each other, and the tips are slightly separated to form slits.
The third pin 75 has an inverted T shape and includes a vertical portion and a horizontal portion. The thickness of the vertical portion (X-direction width) is slightly smaller than the slit formed by the pair of engagement hooks 56. The horizontal portion is long in the X direction and its length is smaller than the spacing between the vertical portions of the pair of engaging hooks 56. For this reason, when the selection slider 72 moves in the direction of the long side, the third pin 75 passes between the pair of engagement hooks 56 or is in a state of being accommodated between the pair of engagement hooks 56. It is supposed to be.

通常状態では、素子ユニット50の上に光源ユニット10が載り、光源ユニット10の上にミラーユニット30が載り、ミラーユニット30の上に上部ユニット40が載っている。即ち、図2及び図3に示すように、素子ユニット50の素子保持フレーム53上に光源保持フランジ部121が載っており、光源保持フランジ部121の上にミラー保持フランジ部311が載っており、ミラー保持フランジ部311の上に上部ユニット40の外カバー43を支持するフレームが載っている。尚、上部ユニット40の外カバー43は、ミラーユニット30や光源ユニット10についての目隠しにもなっており、通常状態では外カバー43により内部のミラーユニット30や光源ユニット10が見えないようになっている。   In the normal state, the light source unit 10 is placed on the element unit 50, the mirror unit 30 is placed on the light source unit 10, and the upper unit 40 is placed on the mirror unit 30. That is, as shown in FIGS. 2 and 3, the light source holding flange 121 is placed on the element holding frame 53 of the element unit 50, and the mirror holding flange 311 is placed on the light source holding flange 121. A frame that supports the outer cover 43 of the upper unit 40 is placed on the mirror holding flange portion 311. The outer cover 43 of the upper unit 40 is also a blindfold for the mirror unit 30 and the light source unit 10, and the inner mirror unit 30 and the light source unit 10 cannot be seen by the outer cover 43 in a normal state. Yes.

尚、ピンブロック71や第一ピン孔ブロック35が光源保持フランジ部121に干渉しないよう、図3に示すように、光源保持フランジ部121には切り欠き(符号省略)が設けられている。通常状態では、ピンブロック71や第一ピン孔ブロック35はこの切り欠き内に位置する。
また、第一ピン孔ブロック35には、選択用スライダ72の長辺方向(Y方向)に貫通したピン孔(以下、第一ピン孔)351が形成されており、第二ピン孔ブロック16にも、長辺方向に貫通したピン孔(以下、第二ピン孔)161が形成されている。
In order to prevent the pin block 71 and the first pin hole block 35 from interfering with the light source holding flange 121, the light source holding flange 121 is provided with a notch (not shown) as shown in FIG. In a normal state, the pin block 71 and the first pin hole block 35 are located in this notch.
The first pin hole block 35 is formed with a pin hole (hereinafter referred to as a first pin hole) 351 penetrating in the long side direction (Y direction) of the selection slider 72. Also, a pin hole (hereinafter referred to as a second pin hole) 161 penetrating in the long side direction is formed.

長方形の枠状である選択用スライダ72のうち、操作側の短辺721は、図4に示すように取っ手状となっている(以下、取っ手部と呼ぶ)。上下動させるユニットの切り替えの際には、作業者がこの取っ手部721を掴み、手前側に選択用スライダ72を引いたり奥側に押したりして選択用スライダ72の位置を調節する。この点について、図5〜図9を使用して説明する。図5及び図6は、選択機構7の動作状態を示した斜視概略図、図7〜9は、各ユニットの移動状態について示した側面断面概略図である。   The short side 721 on the operation side of the selection slider 72 having a rectangular frame shape has a handle shape as shown in FIG. 4 (hereinafter referred to as a handle portion). When switching the unit to be moved up and down, the operator grasps the handle portion 721 and pulls the selection slider 72 toward the front side or pushes it toward the rear side to adjust the position of the selection slider 72. This point will be described with reference to FIGS. 5 and 6 are schematic perspective views showing the operating state of the selection mechanism 7, and Figs. 7 to 9 are schematic side sectional views showing the moving state of each unit.

選択機構7は、四つのユニット10,20,30,40を全体に上下動させる第一モード(通常モード)と、上部ユニット40のみ上下動させる第二モードと、上部ユニット40及びミラーユニット30を一体に上下動させる第三モードと、上部ユニット40、ミラーユニット30及び光源ユニット10を一体に上下動させる第四モードの中から任意のモードを選択して上下移動機構6を動作させる機構となっている。   The selection mechanism 7 includes a first mode (normal mode) in which the four units 10, 20, 30, and 40 are moved up and down as a whole, a second mode in which only the upper unit 40 is moved up and down, and the upper unit 40 and the mirror unit 30. A mechanism for operating the up-and-down moving mechanism 6 by selecting an arbitrary mode from the third mode for moving up and down integrally and the fourth mode for moving the upper unit 40, mirror unit 30 and light source unit 10 up and down together. ing.

第一モードで上下移動機構6を動作させる場合、図3に示す状態から選択用スライダ71が水平移動し、第三ピン75が一対の係合フック56の間に収まった位置(以下、この位置を第一モード位置と呼ぶ)とする。この位置で、上下用直線駆動原61が動作する。図2に示すように、選択用スライダ72は上部ユニット40の袖板44に貫通しているので、上下移動機構6が動作して上部ユニット40を上下動させると、上部ユニット40とともに選択用スライダ72が上下動する。この際、第三ピン75は、一対の係合フック56内に収まっているので、選択用スライダ71はピンブロック71を介して素子保持フレーム53を保持した状態となる。このため、素子ユニット50が上下動し、これに伴い素子ユニット40の上に載っている光源ユニット10、ミラーユニット30及び上部ユニット40が一体に上下動する。   When operating the vertical movement mechanism 6 in the first mode, the selection slider 71 moves horizontally from the state shown in FIG. 3 and the position where the third pin 75 is located between the pair of engagement hooks 56 (hereinafter this position). Is called the first mode position). In this position, the vertical linear driving source 61 operates. As shown in FIG. 2, since the selection slider 72 penetrates the sleeve plate 44 of the upper unit 40, when the vertical movement mechanism 6 operates to move the upper unit 40 up and down, the selection slider 72 is moved together with the upper unit 40. 72 moves up and down. At this time, since the third pin 75 is accommodated in the pair of engagement hooks 56, the selection slider 71 holds the element holding frame 53 via the pin block 71. For this reason, the element unit 50 moves up and down, and accordingly, the light source unit 10, the mirror unit 30, and the upper unit 40 mounted on the element unit 40 move up and down together.

第二、第三、第四モードは、四つのユニット10,20,30,40がいずれかの境界で上下に切り離され、上側ユニット群のみを上下動させるモードである。下側のユニット又はユニット群(以下、下側ユニット群と総称する)は、後述する架台81に載置された状態とされる。
まず、第二モードで上下移動機構6を動作させる場合、図3に示すように、ピンブロック71が第一ピン孔ブロック35と第二ピン孔ブロック16の丁度真ん中の位置になるように選択用スライダ72の位置を調節する。この位置(以下、第二モード位置と呼ぶ)では、第一ピン73は第一ピン孔ブロック35から離れた状態であり、第一ピン孔351には挿入されていない状態である。また、第二ピン74についても、第二ピン孔ブロック16から離れた状態であり、第二ピン孔161には挿入されていない状態である。さらに、第三ピン75は、一対の係合フック56の間には収まっていない状態である。
The second, third, and fourth modes are modes in which the four units 10, 20, 30, and 40 are vertically separated at any boundary and only the upper unit group is moved up and down. The lower unit or unit group (hereinafter collectively referred to as the lower unit group) is placed on a gantry 81 to be described later.
First, when operating the up-and-down moving mechanism 6 in the second mode, as shown in FIG. 3, the pin block 71 is selected so that it is located at the center between the first pin hole block 35 and the second pin hole block 16. The position of the slider 72 is adjusted. At this position (hereinafter referred to as the second mode position), the first pin 73 is in a state of being separated from the first pin hole block 35 and not being inserted into the first pin hole 351. Further, the second pin 74 is also in a state of being separated from the second pin hole block 16 and not being inserted into the second pin hole 161. Furthermore, the third pin 75 is in a state that does not fit between the pair of engagement hooks 56.

また、第三モードで上下移動機構6を動作させる場合、図5に示すように、選択用スライダ72を奥側に押し出し、第一ピン73が第一ピン孔351に挿入される状態とする(この位置を、第三モード位置と呼ぶ)。第四モードで上下移動機構6を動作させる場合は、これとは逆で、図6に示すように、選択用スライダ72を手前側に引き、第二ピン74が第二ピン孔161に挿入された状態とする(この位置を、第四モード位置と呼ぶ)。   Further, when operating the vertical movement mechanism 6 in the third mode, as shown in FIG. 5, the selection slider 72 is pushed out to the back side and the first pin 73 is inserted into the first pin hole 351 ( This position is called the third mode position). When operating the up-and-down moving mechanism 6 in the fourth mode, on the contrary, as shown in FIG. 6, the selection slider 72 is pulled toward the front side, and the second pin 74 is inserted into the second pin hole 161. (This position is referred to as a fourth mode position).

第二モードの場合には、ピンブロック71の第一第二のいずれのピン73,94もピン孔351,161に挿入されておらず、第三ピン75も一対の係合フック56の間に収まっていないので、ピンブロック71は、第一第二のピン孔ブロック35,16及び一対の係合フック56のいずれからも切り離され、選択用スライダ72とともに上下動する。このため、図7に示すように、ミラーユニット30、光源ユニット10及び素子ユニット50は架台81に載置された状態であり、上部ユニット40のみが上下動する。   In the second mode, none of the first and second pins 73 and 94 of the pin block 71 are inserted into the pin holes 351 and 161, and the third pin 75 is also interposed between the pair of engaging hooks 56. The pin block 71 is separated from any of the first and second pin hole blocks 35, 16 and the pair of engagement hooks 56 and moves up and down together with the selection slider 72. For this reason, as shown in FIG. 7, the mirror unit 30, the light source unit 10, and the element unit 50 are in a state of being placed on the gantry 81, and only the upper unit 40 moves up and down.

また、第三モードの状態で上下移動機構6が動作すると、図5に示すように、第一ピン73が第一ピン孔351に挿入された状態で選択用スライダ72が上昇するので、第一ピン孔ブロック35を介して選択用スライダ72がミラーユニット30を保持した状態となる。このため、図8に示すように、上部ユニット40とミラーユニット30とが一体に上下動する。   Further, when the vertical movement mechanism 6 operates in the state of the third mode, as shown in FIG. 5, the selection slider 72 rises with the first pin 73 inserted into the first pin hole 351, so that the first The selection slider 72 holds the mirror unit 30 via the pin hole block 35. For this reason, as shown in FIG. 8, the upper unit 40 and the mirror unit 30 move up and down integrally.

また、第四モードの状態で上下移動機構6が動作すると、図6に示すように、第二ピン74が第二ピン孔161に挿入された状態で選択用スライダ72が上昇するので、第二ピン孔ブロック16を介して選択用スライダ72が光源ユニット10を保持した状態となる。このため、図9に示すように、上部ユニット40とミラーユニット30と光源ユニット10とが一体に上下動する。   Further, when the vertical movement mechanism 6 operates in the state of the fourth mode, as shown in FIG. 6, the selection slider 72 rises with the second pin 74 inserted into the second pin hole 161. The selection slider 72 holds the light source unit 10 through the pin hole block 16. For this reason, as shown in FIG. 9, the upper unit 40, the mirror unit 30, and the light source unit 10 move up and down integrally.

尚、図4に示すように、選択機構7は、上記各モードでの上下移動機構6の動作が確実に行えるようピンブロック71の位置をモニタするセンサ751〜754を備えている。センサ751〜754は、スライダ72の位置を検出することで間接的にピンブロック71の位置をモニタするようになっている。具体的には、図4に示すように、スライダ72の一方の長辺のうち、取っ手部721に近い位置には、検出板76が固定されている。   As shown in FIG. 4, the selection mechanism 7 includes sensors 751 to 754 that monitor the position of the pin block 71 so that the vertical movement mechanism 6 can be reliably operated in each mode. The sensors 751 to 754 indirectly monitor the position of the pin block 71 by detecting the position of the slider 72. Specifically, as shown in FIG. 4, a detection plate 76 is fixed at a position close to the handle portion 721 on one long side of the slider 72.

そして、図4に示すように、検出板76の位置を検出する四つのセンサ751〜754が設けられている。四つのセンサ751〜754は、いずれもフォトセンサであり、検出板76によって遮光されることで位置を検出するものである。四つのセンサのうち、第一センサ751はピンブロック71が第一モード位置に位置すると検出板76が遮光する位置に設けられている。第二センサ752はピンブロック71が第二モード位置に位置すると検出板76が遮光する位置に設けられている。第三センサ753はピンブロック71が第三モード位置に位置すると検出板76が遮光する位置に設けられている。第四センサ754はピンブロック71が第四モード位置に位置すると検出板76が遮光する位置に設けられている。   And as shown in FIG. 4, the four sensors 751-754 which detect the position of the detection board 76 are provided. The four sensors 751 to 754 are all photosensors and detect positions by being shielded from light by the detection plate 76. Of the four sensors, the first sensor 751 is provided at a position where the detection plate 76 shields light when the pin block 71 is positioned at the first mode position. The second sensor 752 is provided at a position where the detection plate 76 shields light when the pin block 71 is positioned at the second mode position. The third sensor 753 is provided at a position where the detection plate 76 shields light when the pin block 71 is positioned at the third mode position. The fourth sensor 754 is provided at a position where the detection plate 76 shields light when the pin block 71 is positioned at the fourth mode position.

また、水平方向の位置合わせのため、適宜の位置に位置決め部材が設けられている。位置決め部材としては、例えば円錐状の先端部を有する位置決めピンと、位置決めピンの選択が嵌り込む円錐状の内面を有する凹部の組合せが採用できる。
具体的には、ミラーユニット30と光源ユニット10との位置決めを例にすると、図2に拡大して示すように、光源保持フレーム12の上面に位置決めピン101が固定され、ミラーユニット枠34の当該箇所の下面に凹部301が形成されている。位置決めピン101は、光源保持フレーム12の平面視方形の枠の対角付近の位置に二箇所設けられており、それに対応してミラーユニット枠34にも凹部301が二箇所設けられている。
In addition, a positioning member is provided at an appropriate position for horizontal alignment. As the positioning member, for example, a combination of a positioning pin having a conical tip portion and a concave portion having a conical inner surface into which selection of the positioning pin fits can be adopted.
Specifically, taking the positioning of the mirror unit 30 and the light source unit 10 as an example, a positioning pin 101 is fixed to the upper surface of the light source holding frame 12 as shown in an enlarged view in FIG. A recess 301 is formed on the lower surface of the part. The positioning pins 101 are provided at two positions near the diagonal of the rectangular frame of the light source holding frame 12, and the mirror unit frame 34 is also provided with two recesses 301 correspondingly.

尚、上部ユニット40は、上下リニアガイド62に規制されて水平方向には移動しないようになっており、その位置は上下リニアガイド62によって精度良く保持される。そして、ミラーユニット30も、不図示の位置決めピンと凹部の構造により上部ユニット40に対して位置決めされるようになっている。したがって、光源ユニット10がミラーユニット30に対して位置決めされると、光源ユニット10も同様に位置決めされる。素子ユニット50も同様で、位置決めピンと凹部の構造によって光源ユニット10に対して位置決めされるようになっている。   The upper unit 40 is regulated by the upper and lower linear guides 62 so as not to move in the horizontal direction, and the position thereof is accurately held by the upper and lower linear guides 62. The mirror unit 30 is also positioned with respect to the upper unit 40 by a structure of positioning pins and recesses (not shown). Therefore, when the light source unit 10 is positioned with respect to the mirror unit 30, the light source unit 10 is similarly positioned. Similarly, the element unit 50 is positioned with respect to the light source unit 10 by the structure of positioning pins and recesses.

一方、このような構造及び動作である上下移動機構6とは別に、実施形態の光照射装置は、架台81及び退避機構82を備えている。架台81は、ランプハウス1が任意の境界で切り離された際、下側ユニット群が載置される台である。退避機構82は、光源11の交換等のメンテナンスのため、下側ユニット群が載置された架台81をランプハウス1の下側から退避させる機構である。   On the other hand, apart from the vertical movement mechanism 6 having such a structure and operation, the light irradiation apparatus of the embodiment includes a gantry 81 and a retraction mechanism 82. The gantry 81 is a pedestal on which the lower unit group is placed when the lamp house 1 is separated at an arbitrary boundary. The retraction mechanism 82 is a mechanism for retreating the base 81 on which the lower unit group is placed from the lower side of the lamp house 1 for maintenance such as replacement of the light source 11.

図1に示すように、架台81は水平な台であり、水平方向の大きさはランプハウス1より少し大きい。退避機構82は、直線移動機構によって構成されており、架台81を支持した左右の脚部811の下部に設けられた退避用スライダが嵌合している一対のリニアガイドと、リニアガイドが延びる方向に架台81を移動させる退避用直線駆動源821等から構成されている。退避用直線駆動源821としては、例えばリニアモータが使用できる。尚、図1に示すように、退避機構82においてリニアガイドは、搬送用リニアガイド22が兼用されている。   As shown in FIG. 1, the gantry 81 is a horizontal pedestal, and its horizontal size is slightly larger than that of the lamp house 1. The retraction mechanism 82 is configured by a linear movement mechanism, and a pair of linear guides fitted with retraction sliders provided below the left and right legs 811 that support the gantry 81, and a direction in which the linear guides extend. The retraction linear drive source 821 for moving the gantry 81 is constructed. As the receding linear drive source 821, for example, a linear motor can be used. As shown in FIG. 1, the linear guide 22 is also used as the linear guide 22 in the retracting mechanism 82.

退避用直線駆動源821は、搬送用直線駆動源23と干渉しないよう配置される。この実施形態では、Y方向の中央位置に搬送用直線駆動源23としてのリニアモータが配置され、その両脇に退避用直線駆動源821としてのリニアモータが配置される。尚、退避用直線駆動源821としては、各脚部811の下端部に貫通して設けられたねじ孔に螺合するボールねじとボールねじを回転させるサーボモータの組み合わせが採用されることもある。   The retracting linear drive source 821 is disposed so as not to interfere with the transporting linear drive source 23. In this embodiment, a linear motor as the conveying linear drive source 23 is disposed at the center position in the Y direction, and a linear motor as the retracting linear drive source 821 is disposed on both sides thereof. As the receding linear drive source 821, a combination of a ball screw screwed into a screw hole penetrating the lower end portion of each leg portion 811 and a servo motor that rotates the ball screw may be employed. .

尚、架台81に対して下側ユニット群を載置すべく、前述した第一モードにおける上下移動機構6の動作量が設定されている。この点について、図2を使用して説明する。ランプハウス1の直下の位置は、通常、ワークWが載置されたステージ21が通過する位置であるが、説明のため、メンテナンス状態として、架台81がランプハウス1の直下の位置に位置した状態が図2には描かれている。
実施形態の光照射装置において、上下方向の基準位置(以下、基準高さという)が設定されている。搬送機構2を構成する搬送用リニアガイド22は、水平に直線性良く配置された部材であるので、例えば搬送用リニアガイド22の上面の高さが基準高さとして設定され得る。
ランプハウス1においても、上下方向の原点位置(以下、高さ方向原点という)が設定されている。原点位置は、基準高さに対する離間距離として設定され、例えば素子ユニット50の下端の位置について基準高さから200mm離れた位置として設定される。
In order to mount the lower unit group on the gantry 81, the operation amount of the vertical movement mechanism 6 in the first mode is set. This point will be described with reference to FIG. The position immediately below the lamp house 1 is normally a position through which the stage 21 on which the workpiece W is placed passes, but for the sake of explanation, the stand 81 is positioned at a position immediately below the lamp house 1 as a maintenance state. Is depicted in FIG.
In the light irradiation apparatus of the embodiment, a reference position in the vertical direction (hereinafter referred to as a reference height) is set. Since the linear guide 22 for conveyance which comprises the conveyance mechanism 2 is a member arrange | positioned horizontally with sufficient linearity, the height of the upper surface of the linear guide 22 for conveyance can be set as a reference | standard height, for example.
Also in the lamp house 1, an origin position in the vertical direction (hereinafter referred to as a height direction origin) is set. The origin position is set as a separation distance with respect to the reference height. For example, the position of the lower end of the element unit 50 is set as a position 200 mm away from the reference height.

前述した第一モードでは、素子ユニット50を含む四つのユニットがすべて上下動する状態となる。この場合、上下移動機構6の各上下用直線駆動源61に対して、素子ユニット50の下端と架台81の上面との離間距離(図2のL)の分のだけ下降させるストローク(載置用ストローク)が指示できるようになっている。ランプハウス1が高さ方向原点にある場合、載置用ストロークLは、基準高さに対する高さ方向原点の離間距離に等しい。上下移動機構6の各上下用直線駆動源61が載置用ストロークLの分だけ下方に駆動すると、素子ユニット50の下端が架台81の上面に接触し、下側ユニット群が架台81の上に載る。   In the first mode described above, all four units including the element unit 50 move up and down. In this case, with respect to each vertical drive source 61 for vertical movement of the vertical movement mechanism 6, a stroke (placement for lowering) by a distance (L in FIG. 2) between the lower end of the element unit 50 and the upper surface of the gantry 81. Stroke) can be indicated. When the lamp house 1 is at the height direction origin, the placement stroke L is equal to the separation distance of the height direction origin with respect to the reference height. When each of the vertical linear drive sources 61 of the vertical movement mechanism 6 is driven downward by the placement stroke L, the lower end of the element unit 50 comes into contact with the upper surface of the gantry 81, and the lower unit group is placed on the gantry 81. Appear.

尚、実施形態の光照射装置は、全体を制御する不図示の主制御部を備えている。主制御部は、搬送機構2や各ランプハウス1内の光源11の点灯電源等を制御する他、上下移動機構6の各上下用直線駆動源61も制御するよう構成されている。   In addition, the light irradiation apparatus of embodiment is provided with the main control part not shown which controls the whole. The main control unit is configured to control the vertical power source 61 for the vertical movement mechanism 6 in addition to controlling the lighting power source of the light source 11 in the transport mechanism 2 and each lamp house 1.

このような構成である実施形態の光照射装置の動作について、以下に説明する。
AGV(Auto Guided Vehicle)のようなロット搬送機構、又はエアコンベアのような枚葉搬送機構により各ワークWが不図示のロボットの動作範囲内の位置まで搬送される。主制御部は、ロボットに制御信号を送り、一枚のワークWをステージ21に載置させた後、アライメント機構に制御信号を送り、アライメントを行わせる。
The operation of the light irradiation apparatus according to the embodiment having such a configuration will be described below.
Each workpiece W is transferred to a position within the operation range of a robot (not shown) by a lot transfer mechanism such as an AGV (Auto Guided Vehicle) or a single wafer transfer mechanism such as an air conditioner bearer. The main control unit sends a control signal to the robot, places one workpiece W on the stage 21, and then sends a control signal to the alignment mechanism to perform alignment.

主制御部は、各ランプハウス1の点灯電源に制御信号を送り、予め各光源11を所定の電力で点灯させている。この状態で、主制御部は、搬送機構2に制御信号を送り、ステージ21をX方向に移動させる。ステージ21は、三つの照射領域を完全に通過した後、反転してロード位置に戻る。「完全に通過」とは、ステージ21上のワークWの搬送方向後方の縁が三つの照射領域を過ぎることである。   The main control unit sends a control signal to the lighting power source of each lamp house 1 to turn on each light source 11 with predetermined power in advance. In this state, the main control unit sends a control signal to the transport mechanism 2 to move the stage 21 in the X direction. After the stage 21 has completely passed through the three irradiation areas, the stage 21 is reversed and returned to the load position. “Completely passing” means that the rear edge of the workpiece W on the stage 21 in the conveyance direction passes through the three irradiation areas.

このような往復移動によりワークWに光照射がされる。この実施形態では、各照射領域には各ランプハウス1内に設けられたグリッド偏光素子により偏光光が照射されており、ワークWの上面に存在する膜材に偏光光が照射され、これにより光配向が行われる。ロボットは、ロード位置に戻ったステージ21からワークWを取り去り、次のワークWをステージ21に載置する。このようにして、各ワークWに対して偏光光を照射し、光配向を行う。   The workpiece W is irradiated with light by such a reciprocating movement. In this embodiment, each irradiation region is irradiated with polarized light by a grid polarizing element provided in each lamp house 1, and the film material existing on the upper surface of the workpiece W is irradiated with polarized light, thereby light. Orientation takes place. The robot removes the workpiece W from the stage 21 that has returned to the loading position, and places the next workpiece W on the stage 21. In this way, each workpiece W is irradiated with polarized light to perform photo-alignment.

このような動作を繰り返す実施形態の光照射装置において、光源11の交換を含むメンテナンスが適宜の時期に行われる。メンテナンスは、任意のランプハウス1において行われる。この際、作業者は、当該ランプハウス(以下、メンテ対象ランプハウス)1全体を架台81に載置した後、メンテ対象ランプハウス1における選択用スライダ72の取っ手部721を掴み、手前側に選択用スライダ72を引いたり奥側に押したりして選択用スライダ72の位置を調節し、第二から第四のうちの任意のモードを選択する。   In the light irradiation apparatus according to the embodiment in which such an operation is repeated, maintenance including replacement of the light source 11 is performed at an appropriate time. Maintenance is performed in an arbitrary lamp house 1. At this time, the operator places the entire lamp house 1 (hereinafter referred to as “maintenance target lamp house”) 1 on the mount 81, and then grasps the handle 721 of the selection slider 72 in the maintenance target lamp house 1 and selects the front side The position of the selection slider 72 is adjusted by pulling the slider 72 or pushing it to the back side, and an arbitrary mode from the second to the fourth is selected.

光源11を交換する場合、第二モードが選択される。光源ユニット10を架台81に載せて退避させる動作について、図10〜14を使用して説明する。図10〜図14は、光源11の交換のための光源ユニット10の退避動作について示した正面断面概略図である。   When the light source 11 is replaced, the second mode is selected. The operation of placing the light source unit 10 on the base 81 and retracting it will be described with reference to FIGS. 10 to 14 are schematic front sectional views showing the retracting operation of the light source unit 10 for replacing the light source 11.

各ランプハウス1において、選択用スライダ72の位置は、通常モードである第一モード位置となっており、この位置で装置は稼働している。図10に示すように、架台81は、所定の待機位置で待機している。光源11の交換をする場合、作業者は、主制御部を操作し、主制御部から退避機構82に制御信号を送らせ、図11に示すように、架台81をメンテ対象ランプハウス1の直下に位置させる。
次に、作業者は、制御対象のランプハウス1の上下移動機構6に対して載置用ストロークだけ下降するよう主制御部から制御信号を送る。この際、選択用スライダ72の位置は、第一モード位置のままとされる。この結果、図12に示すように、全てのユニットが下降し、架台81の上に載る。
In each lamp house 1, the position of the selection slider 72 is the first mode position which is the normal mode, and the apparatus is operating at this position. As shown in FIG. 10, the gantry 81 stands by at a predetermined standby position. When replacing the light source 11, the operator operates the main control unit to send a control signal from the main control unit to the retraction mechanism 82, and as shown in FIG. 11, the gantry 81 is directly below the maintenance target lamp house 1. To be located.
Next, the operator sends a control signal from the main control unit so as to descend by the mounting stroke to the vertical movement mechanism 6 of the lamp house 1 to be controlled. At this time, the position of the selection slider 72 remains at the first mode position. As a result, as shown in FIG. 12, all the units are lowered and placed on the gantry 81.

次に、作業者は、第二モードとなるよう選択用スライダ72の位置を調節し、主制御部を操作して所定の距離だけ上部ユニット40とミラーユニット30とを上昇させる。この結果、図13に示すように、素子ユニット50と光源ユニット10のみが架台81に残った状態となる。   Next, the operator adjusts the position of the selection slider 72 so as to be in the second mode, and operates the main control unit to raise the upper unit 40 and the mirror unit 30 by a predetermined distance. As a result, as shown in FIG. 13, only the element unit 50 and the light source unit 10 remain on the gantry 81.

次に、作業者は、主制御部から制御信号を送り、退避機構82を動作させる。この結果、図14に示すように、退避機構82が所定距離、所定の向きで移動し、架台81上の素子ユニット50及び光源ユニット10は、メンテ対象ランプハウス1の下側空間から退避して退避位置に位置する。
退避位置に位置した架台81上では、素子ユニット50の上に光源ユニット10が載った状態であり、光源ユニット10は上側に露出している。したがって、光源ユニット10の上側のスペースを利用して容易に光源11の交換を行うことができる。即ち、押さえ具14を取り外した上で光源11を上に持ち上げて取り去り、新しい光源11を上方から装着する。
Next, the worker sends a control signal from the main control unit to operate the retracting mechanism 82. As a result, as shown in FIG. 14, the retracting mechanism 82 moves by a predetermined distance and in a predetermined direction, and the element unit 50 and the light source unit 10 on the gantry 81 are retracted from the lower space of the maintenance target lamp house 1. Located in the retracted position.
On the gantry 81 located at the retracted position, the light source unit 10 is placed on the element unit 50, and the light source unit 10 is exposed to the upper side. Therefore, the light source 11 can be easily replaced using the space above the light source unit 10. That is, after removing the presser 14, the light source 11 is lifted and removed, and a new light source 11 is mounted from above.

光源11の交換後、素子ユニット50及び光源ユニット10をメンテ対象ランプハウス1に戻し、元の状態にする。即ち、退避機構82を動作させて架台81上の素子ユニット50及び光源ユニット10をメンテ対象ランプハウス1の直下の位置とする。そして、選択用スライダ72の位置を第二モードのままとした状態で主制御部から上下移動機構6に制御信号を送り、上部ユニット40とミラーユニット30とを一体に所定の距離だけ下降させる。この距離は、ミラーユニット30の下端が光源ユニット10の上端に接触するのに必要な下降距離である。   After the light source 11 is replaced, the element unit 50 and the light source unit 10 are returned to the maintenance target lamp house 1 to return to the original state. That is, the retracting mechanism 82 is operated so that the element unit 50 and the light source unit 10 on the gantry 81 are positioned immediately below the lamp house 1 to be maintained. Then, a control signal is sent from the main control unit to the vertical movement mechanism 6 while the position of the selection slider 72 remains in the second mode, and the upper unit 40 and the mirror unit 30 are lowered together by a predetermined distance. This distance is a descending distance necessary for the lower end of the mirror unit 30 to contact the upper end of the light source unit 10.

上部ユニット40とミラーユニット30が下降してミラーユニット30の下端が光源ユニット10の上端に接触すると、下降が停止する。次に、作業者は、選択用スライダ72を調節し、第一モードに戻す。この状態で、主制御部から上下移動機構6に制御信号を送り、載置用ストロークLと同じ距離だけ各上下用直線駆動源61を動作させる。この結果、四つのユニット10,30,40,50(ランプハウス1全体)が一体に上昇する。そして、ランプハウス1全体が高さ方向原点に達すると、上昇が停止する。これで、元の状態に復帰したことになる。   When the upper unit 40 and the mirror unit 30 are lowered and the lower end of the mirror unit 30 comes into contact with the upper end of the light source unit 10, the lowering stops. Next, the operator adjusts the selection slider 72 to return to the first mode. In this state, a control signal is sent from the main control unit to the vertical movement mechanism 6 to operate the vertical driving sources 61 for vertical movement by the same distance as the mounting stroke L. As a result, the four units 10, 30, 40, and 50 (the entire lamp house 1) rise together. When the entire lamp house 1 reaches the height direction origin, the ascent is stopped. This returns to the original state.

上記は光源11の交換であったが、他のメンテナンスの作業も、上下移動機構6及び退避機構82を適宜使用して行われる。例えば、上記のように素子ユニット50及び光源ユニット10を退避させた場合、ミラーユニット30の下側の空間が開放される。したがって、作業者がランプハウス1の下に入ってミラー3の反射面の清掃等のメンテナンスを行うことができる。この場合、上部ユニット40及びミラーユニット30を一体に上昇させて作業をやり易くすることも可能である。   The above is the replacement of the light source 11, but other maintenance work is also performed using the vertical movement mechanism 6 and the retraction mechanism 82 as appropriate. For example, when the element unit 50 and the light source unit 10 are retracted as described above, the space below the mirror unit 30 is opened. Therefore, an operator can enter under the lamp house 1 and perform maintenance such as cleaning of the reflecting surface of the mirror 3. In this case, the upper unit 40 and the mirror unit 30 can be lifted together to facilitate the work.

また、全体を架台81に載置した後、第一モードから第二モードに変更して上部ユニット40のみを上昇させると、ミラーユニット30の上側の空間が開放される。ミラーユニット30を含む下側ユニット群を任意の位置に退避させて作業を行うと、より作業が容易となる。   Further, after the whole is placed on the gantry 81, when the first mode is changed to the second mode and only the upper unit 40 is raised, the space above the mirror unit 30 is opened. If the lower unit group including the mirror unit 30 is retracted to an arbitrary position and the work is performed, the work becomes easier.

さらに、全体を架台81に載置した後、第一モードから第四モードに変更して上部ユニット40、ミラーユニット30及び光源ユニット10を全体に上昇させると、素子ユニット50の上側の空間が開放される。このため、照射側光学素子51,52の交換等の作業が容易に行える。この場合も、架台81を任意の位置に退避させて作業を行うと、より作業が容易となる。   Furthermore, after the whole is placed on the gantry 81, when the first mode is changed to the fourth mode and the upper unit 40, the mirror unit 30 and the light source unit 10 are raised as a whole, the space above the element unit 50 is opened. Is done. For this reason, operations such as replacement of the irradiation side optical elements 51 and 52 can be easily performed. In this case as well, the work becomes easier if the work is performed by retracting the gantry 81 to an arbitrary position.

上記実施形態では三つのランプハウス1が設けられているが、各上下移動機構6については全く同じ構成となっている。主制御部には、メンテ対象のランプハウス1を指定させる信号が入力されるようになっており、指定されたランプハウス1の上下移動機構6について上述したような各ユニットの上下動が行われる。また、三つ並んだランプハウス1の位置は、X方向の原点からの距離という形で特定される。架台81に下側ユニットを載置する際、主制御部からは選択されたランプハウス1の直下の位置に架台81が位置するよう退避機構82に対して制御信号が予め送られ、この位置で架台81が待機する。   Although the three lamp houses 1 are provided in the above embodiment, the vertical movement mechanisms 6 have the same configuration. A signal for designating the lamp house 1 to be maintained is input to the main control unit, and the vertical movement of each unit as described above with respect to the vertical movement mechanism 6 of the designated lamp house 1 is performed. . The positions of the three lamp houses 1 arranged are specified in the form of the distance from the origin in the X direction. When the lower unit is placed on the gantry 81, a control signal is sent in advance from the main control unit to the retracting mechanism 82 so that the gantry 81 is positioned at a position directly below the selected lamp house 1. The gantry 81 waits.

尚、架台81上に載る下側ユニット群の高さが最も高くなるのは、ミラーユニット30、光源ユニット10及び素子ユニット50が載った際の高さであるが、その場合でも、他のランプハウス1の下端(素子ユニット50の下端)よりも低い高さとなるよう架台81の高さが選定されている。このため、三つのユニット10,30,50が載った状態で退避動作が行われても、他のランプハウス1にぶつかることはない。   The height of the lower unit group placed on the gantry 81 is the highest when the mirror unit 30, the light source unit 10, and the element unit 50 are placed. The height of the gantry 81 is selected so as to be lower than the lower end of the house 1 (lower end of the element unit 50). For this reason, even if the retreat operation is performed in a state where the three units 10, 30, and 50 are mounted, they do not collide with other lamp houses 1.

このように実施形態の光照射装置は、光源ユニット10が架台81に載置されて退避するので、ランプハウス1の直下位置とは別の位置で光源11の交換作業を行うことができる。このため、光源11の交換が容易となる。
また、光源ユニット10が上部ユニット40に対して解除可能に連結されており、架台81への載置の際に光源ユニット10は上部ユニット40から切り離された状態となるので、構造が簡略化し、交換位置の選択の自由度も高くなる。本願発明の実施に際しては、光源ユニット10が上部ユニット40に解除できない状態で連結されている構造が採用されることもあり得る。例えば、上部ユニット40が伸縮ダクトを介して排気筒400に接続されていて、特に分離されない構造であり、この上部ユニット40に解除できない状態で光源ユニット10が連結される構造の場合もあり得る。このような場合も、伸縮ダクトを適宜の長さに伸長可能なものにしておけば、特に分離が必要ない場合もある。但し、長く伸長可能な伸縮ダクトの使用は構造が複雑化する欠点があり、また伸縮ダクトの使用は退避位置が限定される欠点もある。上部ユニット40に対して光源ユニット10の連結が解除可能な構造は、このような欠点がないため好適である。
As described above, in the light irradiation apparatus of the embodiment, the light source unit 10 is placed on the gantry 81 and retracted, so that the light source 11 can be exchanged at a position different from the position directly below the lamp house 1. For this reason, replacement of the light source 11 is facilitated.
Further, the light source unit 10 is releasably connected to the upper unit 40, and the light source unit 10 is separated from the upper unit 40 when placed on the gantry 81, so that the structure is simplified. The degree of freedom in selecting the exchange position is also increased. In implementing the present invention, a structure in which the light source unit 10 is connected to the upper unit 40 in a state where it cannot be released may be employed. For example, the upper unit 40 may be connected to the exhaust pipe 400 via an extendable duct and not particularly separated, and the light source unit 10 may be connected to the upper unit 40 in a state where it cannot be released. Even in such a case, if the telescopic duct is made to be extensible to an appropriate length, separation may not be particularly required. However, the use of a telescopic duct that can be extended for a long time has a drawback that the structure is complicated, and the use of the telescopic duct has a disadvantage that the retreat position is limited. A structure capable of releasing the connection of the light source unit 10 with respect to the upper unit 40 is preferable because it does not have such a defect.

また、光源ユニット10に対するミラーユニット30の連結を解除した状態で光源ユニット11を下降させて架台81に載置することができるので、ミラー3のない状態で光源11の交換が行える。このため、光源11の交換作業がより容易となる。
この際、ミラー3に対する光源11の位置決めを行う位置決めピン101及び凹部301が設けられているので、ミラー3に対する光源11の位置決めが精度良く行われる。ミラー3が断面楕円ミラーや断面放物面ミラーである場合、発光部の中心が焦点に位置するよう光源11は精度良く配置される必要があるが、これが容易に実現される。位置決めピン101及び凹部301は位置決め部材の一例であるが、この他、リミットスイッチや各種センサを位置決め部材として用いることもできる。
Further, since the light source unit 11 can be lowered and placed on the gantry 81 with the connection of the mirror unit 30 to the light source unit 10 released, the light source 11 can be replaced without the mirror 3. For this reason, the replacement work of the light source 11 becomes easier.
At this time, since the positioning pin 101 and the concave portion 301 for positioning the light source 11 with respect to the mirror 3 are provided, the light source 11 is accurately positioned with respect to the mirror 3. When the mirror 3 is a cross-sectional elliptical mirror or a cross-sectional parabolic mirror, the light source 11 needs to be arranged with high precision so that the center of the light emitting unit is located at the focal point, but this is easily realized. The positioning pins 101 and the recesses 301 are examples of positioning members, but other than this, limit switches and various sensors can also be used as positioning members.

実施形態の装置は素子ユニット50を備えているが、上記光源ユニット10の架台81への載置の際、素子ユニット50も一緒に下降して架台81に載るので、構造的に簡略になっている。素子ユニット50が一緒に下降しない場合、素子ユニット50との連結を切り離して光源ユニット10を横に取り出してから下降させるような機構が必要になり構造的に複雑になるが、実施形態ではそのような複雑な機構は不要である。
また、素子ユニット50を架台81に載置した際、光源ユニット10との連結を切り離して光源ユニット10を上昇させることができるので、素子ユニット50のメンテナンス作業も容易である。
尚、上記説明から解るように、架台81は搬送用リニアガイド22上の任意の位置で停止され得る。この点は、任意の位置で光源11の交換等のメンテナンス作業が行えることを意味し、作業性が高いことを意味する。
The apparatus of the embodiment includes the element unit 50. However, when the light source unit 10 is placed on the gantry 81, the element unit 50 is also lowered and placed on the gantry 81, so that the structure is simplified. Yes. When the element unit 50 does not descend together, a mechanism for disconnecting the light source unit 10 after disconnecting the connection with the element unit 50 and lowering the light source unit 10 is required, which is structurally complicated. A complicated mechanism is unnecessary.
Further, when the element unit 50 is placed on the gantry 81, the connection with the light source unit 10 can be disconnected and the light source unit 10 can be raised, so that maintenance work of the element unit 50 is also easy.
As can be seen from the above description, the gantry 81 can be stopped at any position on the conveying linear guide 22. This means that maintenance work such as replacement of the light source 11 can be performed at an arbitrary position, and workability is high.

また、実施形態の構造において、素子ユニット50が架台81に載置されていない状態で第一モードから他のモードへの切り替えが誤って行われると、素子ユニット50を含むユニットが落下する事故が生じ得る。これを防止するには、例えば素子ユニット50の下面にセンサを設け、架台81に載置された場合に限り第一モードから他のモードへの切り替えを許可するよう選択用スライダ72にインターロック機構を設けると好適である。   Further, in the structure of the embodiment, if the switching from the first mode to another mode is erroneously performed in a state where the element unit 50 is not placed on the gantry 81, there is an accident that the unit including the element unit 50 falls. Can occur. In order to prevent this, for example, a sensor is provided on the lower surface of the element unit 50, and the interlock mechanism is provided in the selection slider 72 so as to permit switching from the first mode to another mode only when the sensor unit 50 is placed on the mount 81. Is preferably provided.

次に、第二の実施形態について説明する。図15は、第二の実施形態に係る光照射装置の斜視概略図である。第二の実施形態の装置は、退避機構82の構成が第一の実施形態と異なっている。即ち、第二の実施形態では、退避機構82は搬送機構2とは別に設けられていて搬送機構2の要素を兼用しないものとして設けられており、搬送用リニアガイド22と別に設けられた退避用リニアガイド822と、退避用リニアガイド822に沿って架台81を移動させる退避用直線駆動源821等から構成されている。退避用直線駆動源821には、同様にリニアモータが採用され得る。   Next, a second embodiment will be described. FIG. 15 is a schematic perspective view of a light irradiation apparatus according to the second embodiment. The apparatus of the second embodiment is different from the first embodiment in the configuration of the retracting mechanism 82. That is, in the second embodiment, the retracting mechanism 82 is provided separately from the transport mechanism 2 and does not serve as an element of the transport mechanism 2, and the retracting mechanism 82 is provided separately from the transport linear guide 22. The linear guide 822 includes a retraction linear drive source 821 that moves the gantry 81 along the retraction linear guide 822. Similarly, a linear motor can be employed as the receding linear drive source 821.

この実施形態では、退避機構82が搬送機構2の要素を兼用していないので、構造的には複雑になっているが、その一方でメリットもある。即ち、ステージ21の位置とは無関係に架台81を任意の位置に配置することができるというメリットである。
第一の実施形態では、退避機構82が搬送用リニアガイド22を兼用しているので、ステージ21を越えた先に移動することができない。例えばステージ21がロード位置に位置している場合、退避機構82は、ロード位置よりもさらに外側(ランプハウス1から離れる側)に架台81を退避させることはできない。一方、第二の実施形態では、図15に示すように、退避用リニアガイド822にガイドされて架台81が移動する際、架台81は、ステージ21よりも少し高い位置を移動してステージ21をまたぐことができる。このため、ステージ21よりもさらに外側に移動することができ、退避位置の選択の自由度が高くなっている。その他の動作及び作用効果については、第二の実施形態は第一の実施形態と同様である。
In this embodiment, since the retracting mechanism 82 does not serve as an element of the transport mechanism 2, the structure is complicated, but there is also a merit. That is, the gantry 81 can be arranged at an arbitrary position regardless of the position of the stage 21.
In the first embodiment, since the retracting mechanism 82 also serves as the conveyance linear guide 22, it cannot move beyond the stage 21. For example, when the stage 21 is located at the load position, the retreat mechanism 82 cannot retreat the gantry 81 further to the outer side (the side away from the lamp house 1) than the load position. On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG. 15, when the gantry 81 moves while being guided by the retraction linear guide 822, the gantry 81 moves a position slightly higher than the stage 21 to move the stage 21. You can straddle. For this reason, it can move to the further outer side than the stage 21, and the freedom degree of selection of a retracted position is high. About other operation | movement and an effect, 2nd embodiment is the same as that of 1st embodiment.

上述した各実施形態の光照射装置において、各モードの選択は手動で行い、各ユニットの上下動は上下移動機構6により行ったが、各モードの選択も自動機構により行う構成もあり得る。具体的には、選択用スライダ72に前後移動機構を設け、主制御部からの信号により選択用スライダ72の位置を自動制御する。前後移動機構には、ボールねじとサーボモータを組み合わせた機構が採用でき、主制御部からは各モードに応じて選択用スライダ72の停止位置を指定する信号が送られる。前後移動機構は、前述した手動の場合と同じ位置に主制御部からの信号に従って選択用スライダ72を位置させる。尚、下側ユニット群を架台81に載置して退避させるために、主制御部にはシーケンスプログラムが実装される。シーケンスプログラムは、例えば選択用スライダ72を第一モードの位置に位置させた状態で上下移動機構6に対して載置用ストロークの分だけ下降するように制御信号を送り、その後、第三モードに切り替えて上部ユニット40とミラーユニット30を所定距離上昇させてから、退避機構82に動作信号を送るようプログラミングされる。   In the light irradiation apparatus of each embodiment described above, each mode is selected manually, and each unit is moved up and down by the up-and-down movement mechanism 6. However, each mode can also be selected by an automatic mechanism. Specifically, the selection slider 72 is provided with a back-and-forth movement mechanism, and the position of the selection slider 72 is automatically controlled by a signal from the main control unit. A mechanism that combines a ball screw and a servo motor can be employed as the forward / backward movement mechanism, and a signal for designating the stop position of the selection slider 72 is sent from the main control unit according to each mode. The back-and-forth movement mechanism positions the selection slider 72 at the same position as in the above-described manual operation according to a signal from the main control unit. Note that a sequence program is installed in the main control unit in order to place and retract the lower unit group on the gantry 81. The sequence program, for example, sends a control signal to the vertical movement mechanism 6 with the selection slider 72 positioned at the first mode position so as to be lowered by the placement stroke, and then enters the third mode. It is programmed to send the operation signal to the retracting mechanism 82 after switching and raising the upper unit 40 and the mirror unit 30 by a predetermined distance.

また、架台81は、一定の高さの位置で水平方向に移動するように説明したが、架台81に昇降機構を設けて高さを可変としても良い。例えば、左右の脚部811にエアシリンダのような駆動機構を設けて伸縮可能とする構成が考えられる。
尚、第一モードは、ランプハウス1全体が上下動するモードであるが、このモードは、照射距離(光源11から照射領域までの距離)を調整するために利用されることもある。ランプハウス1全体の上限位置は不図示のストッパで規定されるが、上限より下方の位置で任意の位置のランプハウス1を配置し、照射距離の調整が必要に応じて行われる。このようにランプハウス1全体を上下動させて照射距離を調整する構造であると、ワークWに対して最適な照射距離を確保するのが容易である。尚、照射距離の調整には、光源ユニット10及びミラーユニット30が一体に上下動すれば足り、他のユニットは上下動しなくても良い。
Further, although the gantry 81 has been described as moving in the horizontal direction at a certain height, the gantry 81 may be provided with an elevating mechanism so that the height can be varied. For example, a configuration in which a drive mechanism such as an air cylinder is provided on the left and right leg portions 811 so that the left and right leg portions 811 can expand and contract is conceivable.
The first mode is a mode in which the entire lamp house 1 moves up and down, but this mode may be used to adjust the irradiation distance (the distance from the light source 11 to the irradiation region). Although the upper limit position of the entire lamp house 1 is defined by a stopper (not shown), the lamp house 1 at an arbitrary position is disposed at a position below the upper limit, and the irradiation distance is adjusted as necessary. Thus, when the irradiation distance is adjusted by moving the entire lamp house 1 up and down, it is easy to secure an optimal irradiation distance for the workpiece W. It is sufficient that the light source unit 10 and the mirror unit 30 move up and down together to adjust the irradiation distance, and other units do not need to move up and down.

また、上記各実施形態では、複数設けられたランプハウス1のそれぞれに上下移動機構6が設けられており、各上下移動機構6は主制御部からの制御信号により各々独立して動作する。この点は、ランプハウス1の数が多くなっても必要なランプハウス1についてのみ上下移動機構を動作させて所望の下側ユニット群を架台81に載置してメンテナンスが行えるというメリットがある。
また、複数のランプハウス1について一斉に点検するようなメンテナンスも考えられ、この場合には、複数(少なくとも二つ)のランプハウス1について下側ユニット群を一緒に架台81に移載できると好適である。具体的には、複数のランプハウス1について、上部ユニット40を連結する連結フレームを設け、連結フレームを上下動させることで、各ランプハウス1の上部ユニットが各上下リニアガイド62に沿って上下動するように構成する。各ランプハウス1の下側ユニット群は、各選択機構により選択されて一緒に架台81の上に載る。架台81は、各ランプハウス1の下側ユニット群が一度に載るよう、適宜の大きさとされる。
Moreover, in each said embodiment, the up-and-down moving mechanism 6 is provided in each of the plurality of lamp houses 1, and each up-and-down moving mechanism 6 operate | moves independently according to the control signal from a main control part. This has the advantage that even if the number of lamp houses 1 increases, only the necessary lamp houses 1 are operated to operate the vertical movement mechanism so that the desired lower unit group can be placed on the mount 81 and maintenance can be performed.
In addition, maintenance such as inspecting a plurality of lamp houses 1 at the same time is also conceivable. In this case, it is preferable that the lower unit groups of a plurality of (at least two) lamp houses 1 can be transferred together to the gantry 81. It is. Specifically, for each of the plurality of lamp houses 1, a connection frame for connecting the upper unit 40 is provided, and the connection frame is moved up and down so that the upper unit of each lamp house 1 moves up and down along each vertical linear guide 62. To be configured. The lower unit group of each lamp house 1 is selected by each selection mechanism and placed on the gantry 81 together. The gantry 81 is appropriately sized so that the lower unit group of each lamp house 1 can be mounted at a time.

また、上記各実施形態において、上下移動機構6は垂直方向の直線移動機構であったが、光源ユニット10等が架台81に載置され得るように下方にシフトするものであれば良く、円弧移動をするものや、水平移動の後に上下方向移動をするものであっても良い。
また、上記各実施時形態では、退避機構82は、直線駆動原821によって架台81を移動させるものであったが、特に駆動源はなくて手動にて移動させる機構であっても良い。例えば、退避機構は架台81を移動させるガイドレールのような部材であっても良く、架台81の各脚部の下端に設けられたキャスターのような機構であっても良い。ガイド部材については、リニアガイドの他、磁気結合によって架台81の移動をガイドする磁石列等も採用され得る。ガイドは直線的である必要はなく、カーブした経路にガイドしても良い。
尚、退避機構82による退避の方向は、上下方向に対する横方向であるが、この方向は、搬送方向(X方向)である必要はなく、これと垂直な水平方向(Y方向)でも良い。また、多少斜め上又は斜め下の方向であっても、ランプハウス1の直下の位置から退避できる限り問題はない。
In each of the above embodiments, the up-and-down moving mechanism 6 is a vertical linear moving mechanism. However, any mechanism that moves downward so that the light source unit 10 and the like can be placed on the gantry 81 may be used. It may be one that moves or moves up and down after horizontal movement.
Further, in each of the above embodiments, the retraction mechanism 82 moves the gantry 81 by the linear drive source 821, but it may be a mechanism that moves manually without any drive source. For example, the retracting mechanism may be a member such as a guide rail that moves the gantry 81, or may be a mechanism such as a caster provided at the lower end of each leg portion of the gantry 81. As the guide member, in addition to the linear guide, a magnet row or the like for guiding the movement of the gantry 81 by magnetic coupling may be employed. The guide need not be straight, but may be guided along a curved path.
The retraction direction by the retraction mechanism 82 is a horizontal direction with respect to the vertical direction, but this direction does not have to be the transport direction (X direction) and may be a horizontal direction (Y direction) perpendicular thereto. Further, even if the direction is slightly upward or downward, there is no problem as long as it can be retreated from the position immediately below the lamp house 1.

また、上記各実施形態において、特許第5344105号公報に開示されているように二つのステージを設け、交互に照射領域を往復させる構成が採用されることもあり得る。即ち、搬送機構2による搬送路の一方の側に設定されたロード位置から一方のステージが照射領域に向かって進み、照射領域を通過した後に反転して一方の側に戻るとともに、他方の側に設定されたロード位置から他方のステージが照射領域に向かって進み、照射領域を通過した後に反転して他方の側に戻る構成が採用されることもある。この場合、架台81は、各ステージのロード位置よりもさらに外側(照射領域から離れた側)で待機することになる。但し、図15に示す第二の実施形態の場合、ステージ21は架台81の下方を通って移動可能なので、架台81の待機位置を照射領域とロード位置との間の位置とすることも可能である。   Moreover, in each said embodiment, the structure which provides two stages and is made to reciprocate an irradiation area | region alternately as disclosed by the patent 5344105 may be employ | adopted. That is, one stage advances from the load position set on one side of the conveyance path by the conveyance mechanism 2 toward the irradiation area, reverses after passing through the irradiation area, returns to one side, and moves to the other side. A configuration may be employed in which the other stage advances from the set load position toward the irradiation region, passes through the irradiation region, and then reverses and returns to the other side. In this case, the gantry 81 stands by on the outer side (side away from the irradiation area) from the loading position of each stage. However, in the case of the second embodiment shown in FIG. 15, the stage 21 can move below the gantry 81, so that the stand-by position of the gantry 81 can be set between the irradiation region and the load position. is there.

尚、上記各実施形態において、架台81は単独の構造体としたが、ステージ21と一体化したもの、又は連結されるものとしてもよい。また、ランプハウス1からの光による照度を測定する測定器や偏光軸の方向を測定する測定器を取り付ける台座に架台81が兼用されることもある。即ち、これらのうち少なくとも一つの測定器が架台81に取り付けられ、架台81を移動して任意のランプハウス1の直下の位置に配置して照度測定及び又は偏光軸の向きの測定が行われることもあり得る。   In addition, in each said embodiment, although the mount frame 81 was made into the independent structure, it is good also as what was integrated with the stage 21 or connected. The pedestal 81 may also be used as a pedestal to which a measuring instrument that measures the illuminance by light from the lamp house 1 or a measuring instrument that measures the direction of the polarization axis is attached. That is, at least one measuring device is attached to the gantry 81, and the gantry 81 is moved and arranged at a position directly below the arbitrary lamp house 1 to perform illuminance measurement and / or measurement of the direction of the polarization axis. There is also a possibility.

光照射装置の用途としては、前述した光配向膜を得るための偏光光照射以外にも各種の用途があり得る。例えば、視野角補償フィルムを得るための偏光光照射処理に使用される場合もある。また、紫外線硬化型樹脂を硬化させるために紫外線を照射する用途や、フォトレジストの処理のために光照射する用途があり得る。これらの用途においても、照射領域の大面積化によりランプハウス1が大型化したり複雑化したりした場合、本願発明は好適に利用され得る。   As a use of the light irradiation device, there can be various uses other than the irradiation of polarized light for obtaining the above-described photo-alignment film. For example, it may be used for polarized light irradiation treatment to obtain a viewing angle compensation film. In addition, there may be an application of irradiating ultraviolet rays for curing an ultraviolet curable resin and an application of irradiating light for processing a photoresist. Also in these applications, the present invention can be suitably used when the lamp house 1 is enlarged or complicated due to the increase in the area of the irradiation region.

1 ランプハウス
11光源
10 光源ユニット
12 光源保持フレーム
2 搬送機構
21 ステージ
22 搬送用リニアガイド
23 搬送用直線駆動源
3 ミラー
30 ミラーユニット
31 ミラー保持フレーム
40 上部ユニット
43 外カバー
44 袖板
50 素子ユニット
51 照射側光学素子
52 照射側光学素子
53 素子保持フレーム
6 上下移動機構
61 上下用直線駆動源
62 上下リニアガイド
7 選択機構
71 ピンブロック
72 選択用スライダ
73 第一ピン
74 第二ピン
75 第三ピン
81 架台
82 退避機構
821 退避用直線駆動源
822 退避用リニアガイド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lamphouse 11 Light source 10 Light source unit 12 Light source holding frame 2 Transfer mechanism 21 Stage 22 Transfer linear guide 23 Transfer linear drive source 3 Mirror 30 Mirror unit 31 Mirror holding frame 40 Upper unit 43 Outer cover 44 Sleeve plate 50 Element unit 51 Irradiation side optical element 52 Irradiation side optical element 53 Element holding frame 6 Vertical movement mechanism 61 Vertical linear drive source 62 Vertical linear guide 7 Selection mechanism 71 Pin block 72 Selection slider 73 First pin 74 Second pin 75 Third pin 81 Base 82 Retraction mechanism 821 Retraction linear drive source 822 Retraction linear guide

Claims (12)

光源を収納した光源ユニットと、光源ユニットの上側に配置された上部ユニットとを備え、下方に設定された照射領域に光源からの光を照射する光照射装置であって、
光源ユニットを上下動させる上下移動機構と、上下移動機構により光源ユニットが下方に移動した際に光源ユニットが載置される架台と、架台に光源ユニットが載置された状態で横方向に架台を移動させることで光源ユニットを上部ユニットの下方位置から退避させる退避機構とが設けられており、
光源ユニットは、光源を交換可能な状態で収容したユニットであり、
退避機構は、光源の交換が可能な交換位置まで架台を移動させることが可能な機構であることを特徴とする光照射装置。
A light irradiation device that includes a light source unit that houses a light source, and an upper unit that is disposed on the upper side of the light source unit, and irradiates light from the light source to an irradiation region set below,
A vertical movement mechanism that moves the light source unit up and down, a frame on which the light source unit is placed when the light source unit is moved downward by the vertical movement mechanism, and a horizontal frame with the light source unit mounted on the frame A retraction mechanism that retreats the light source unit from the lower position of the upper unit by moving it,
The light source unit is a unit that houses the light source in a replaceable state,
The retracting mechanism is a light irradiation device characterized in that the cradle can be moved to an exchange position where the light source can be exchanged.
前記光源ユニットは、前記上部ユニットに対して解除可能な状態で連結されており、
前記上下移動機構は、前記上部ユニットに対する連結が解除された状態で前記光源ユニットを下方に移動させて前記架台に載置することが可能な機構であることを特徴とする請求項1記載の光照射装置。
The light source unit is connected in a releasable state with respect to the upper unit,
2. The light according to claim 1, wherein the vertical movement mechanism is a mechanism capable of moving the light source unit downward and placing the light source unit on the gantry in a state where the connection to the upper unit is released. Irradiation device.
前記光源ユニットの上側には、前記光源を上から覆うミラーを収容したミラーユニットが設けられており、
ミラーユニットは前記光源ユニットに対して解除可能な状態で連結されており、
前記上下移動機構は、ミラーユニットと前記光源ユニットとの連結が解除された状態で前記光源ユニットを上下動させることが可能な機構であることを特徴とする請求項1又は2記載の光照射装置。
On the upper side of the light source unit, a mirror unit that houses a mirror that covers the light source from above is provided,
The mirror unit is connected to the light source unit in a releasable state,
The light irradiation device according to claim 1, wherein the vertical movement mechanism is a mechanism capable of moving the light source unit up and down in a state where the connection between the mirror unit and the light source unit is released. .
前記ミラーユニットと前記光源ユニットとの連結が解除された状態で前記上下移動機構が前記光源ユニットを上下動させた際、前記ミラーに対する前記光源の位置を所定の位置にする位置決め部材を備えていることを特徴とする請求項3記載の光照射装置。   A positioning member is provided for setting the position of the light source with respect to the mirror to a predetermined position when the vertical movement mechanism moves the light source unit up and down in a state where the connection between the mirror unit and the light source unit is released. The light irradiation apparatus according to claim 3. 前記上下移動機構は、前記ミラーユニットが前記光源ユニットに連結されている状態で前記ミラーユニット及び前記光源ユニットを一体に上下動させることが可能な機構であることを特徴とする請求項3又は4記載の光照射装置。   5. The vertical movement mechanism is a mechanism capable of integrally moving the mirror unit and the light source unit up and down in a state where the mirror unit is coupled to the light source unit. The light irradiation apparatus of description. 前記光源と前記照射領域の間に位置する光学素子を収容した素子ユニットを備えており、
素子ユニットは前記光源ユニットに連結されたユニットであり、
前記上下移動機構は、前記光源ユニットと素子ユニットとを一体に上下動させて架台に載置することが可能な機構であることを特徴とする請求項1乃至5いずれかに記載の光照射装置。
Comprising an element unit containing an optical element located between the light source and the irradiation region;
The element unit is a unit connected to the light source unit,
The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the vertical movement mechanism is a mechanism that allows the light source unit and the element unit to be moved up and down integrally and placed on a gantry. .
前記素子ユニットは前記光源ユニットに対して解除可能に連結されたユニットであり、
前記上下移動機構は、前記光源ユニットと前記光源ユニットに連結された素子ユニットとを一体に上下動させて架台に載置した後、前記光源ユニットに対する前記素子ユニットの連結が解除された状態で前記光源ユニットを上昇させて前記素子ユニットが前記架台に載置されたままとすることが可能な機構であることを特徴とする請求項6記載の光照射装置。
The element unit is a unit releasably connected to the light source unit,
The vertical movement mechanism is configured to move the light source unit and the element unit connected to the light source unit up and down integrally and place the light source unit on a pedestal, and then the connection of the element unit to the light source unit is released. The light irradiation apparatus according to claim 6, wherein the light irradiation device is a mechanism capable of raising the light source unit and keeping the element unit mounted on the gantry.
前記退避機構は、前記架台の移動をガイドするガイド部材を備えており、ガイド部材が延びる方向の任意の位置で前記架台を停止させることが可能な機構であることを特徴とする請求項1乃至7いずれかに記載の光照射装置。   The retraction mechanism includes a guide member that guides movement of the gantry, and is a mechanism that can stop the gantry at an arbitrary position in a direction in which the guide member extends. 7. The light irradiation apparatus according to any one of 7. 光照射の対象物を前記照射領域に搬送する搬送機構が設けられており、搬送機構は、対象物が載置されたステージをガイド部材に沿って移動させることで対象物を搬送する機構であり、
前記退避機構のガイド部材は、搬送機構のガイド部材を兼用したものであることを特徴とする請求項8に記載の光照射装置。
A transport mechanism that transports the object to be irradiated with light to the irradiation region is provided, and the transport mechanism is a mechanism that transports the target object by moving a stage on which the target object is placed along the guide member. ,
The light irradiation apparatus according to claim 8, wherein the guide member of the retracting mechanism is also used as a guide member of the transport mechanism.
光照射の対象物を前記照射領域に搬送する搬送機構が設けられており、搬送機構は、対象物が載置されたステージをガイド部材に沿って移動させることで対象物を搬送する機構であり、
前記退避機構のガイド部材は、搬送機構のガイド部材とは別に設けられたものであることを特徴とする請求項8に記載の光照射装置。
A transport mechanism that transports the object to be irradiated with light to the irradiation region is provided, and the transport mechanism is a mechanism that transports the target object by moving a stage on which the target object is placed along the guide member. ,
The light irradiation apparatus according to claim 8, wherein the guide member of the retracting mechanism is provided separately from the guide member of the transport mechanism.
前記光源ユニット及び前記上部ユニットを備えたランプハウスが複数設けられており、
各ランプハウスにおいて、前記上下移動機構は、他のランプハウスの上下移動機構から独立して駆動されることが可能な機構であって、他のランプハウスの光源ユニットは移動させないで当該上下移動機構が設けられたランプハウスの光源ユニットを移動させて前記架台に載置することが可能な機構であることを特徴とする請求項1乃至10いずれかに記載の光照射装置。
A plurality of lamp houses including the light source unit and the upper unit are provided,
In each lamp house, the vertical movement mechanism is a mechanism that can be driven independently from the vertical movement mechanism of another lamp house, and the vertical movement mechanism without moving the light source unit of the other lamp house. The light irradiation apparatus according to claim 1, wherein the light irradiation unit is a mechanism capable of moving the light source unit of the lamp house provided with the lamp house and placing the light source unit on the frame.
前記光源ユニット及び前記上部ユニットを備えたランプハウスが複数設けられており、
前記上下移動機構は、少なくとも二つのランプハウスの前記光源ユニットを一緒に移動させて前記架台に載置することが可能な機構であることを特徴とする請求項1乃至10いずれかに記載の光照射装置。
A plurality of lamp houses including the light source unit and the upper unit are provided,
The light according to claim 1, wherein the vertical movement mechanism is a mechanism capable of moving the light source units of at least two lamp houses together and placing the light source units on the gantry. Irradiation device.
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