JP6653828B2 - 表面処理装置 - Google Patents

Description

この発明は、処理チャンバ内に置換ガスを供給してガス置換放電によってフィルムの表面を改質する表面処理装置に関する。

放電電極を備えた処理チャンバ内に窒素などの置換ガスを供給してガス置換放電を形成し、上記処理チャンバと対向して移動するフィルム表面を改質する表面処理装置が知られている。
例えば、特許文献１に示すものは、アースされた処理ローラに対向して処理チャンバが設けられ、この処理チャンバ内には放電電極が設けられるとともに、置換ガスを供給している。
そして、上記処理ローラに接触して搬送されるフィルムの表面を、ガス置換放電のエネルギーによって処理するようにしている。

このような表面処理装置で、処理チャンバ内で安定したガス置換放電状態を維持するためには、処理チャンバ内のガスの置換度が重要である。
しかし、移動するフィルムの表面には、処理チャンバの外部エアなどが付着して同伴流として処理チャンバ内に流入する可能性がある。処理チャンバ内に同伴流が流入して内部の置換ガスの濃度が低下してしまうと、ガス置換放電状態が不安定になってしまう可能性がある。

そのため、同伴流の流入に対応して処理チャンバへの置換ガスの供給量を増やしたり、同伴流の流入を防止したりしなければならない。
上記置換ガスの供給量を増やしてその消費量が多くなれば、その分コストがかかってしまうという問題がある。また、供給量を増やした置換ガスが処理チャンバの外部へ漏れ出て問題を起こすこともある。例えば、窒素などが大量に外部に流出すれば、外部で酸欠状態を起こすことになる。

そこで、特許文献１の装置では、同伴流の流入を防止するために、フィルム表面に接触して上記処理ローラの回転力に従動して回転するニップローラを処理チャンバの開口に近接させて設けている。この従来の装置は、処理チャンバの近傍に、フィルムに接触して設けられたニップローラによって、フィルム上の同伴流の層が遮断され、同伴流の処理チャンバへの流入が防止されるというものである。

特開２００５−０７６０６３号公報 特開２０００−３０９８７０号公報

上記のような従来の表面処理装置では、フィルムに押し付けられた上記ニップローラと処理ローラとによってフィルムを挟んでいるので、フィルムとニップローラとの接触部でフィルムに同伴する同伴流を確実に遮断することができる。
しかし、処理対象であるフィルムの性質などによっては、その表面に上記ニップローラを押し付けることができない場合がある。フィルムの用途が、わずかな傷でも品質の低下につながるような、例えば光学用などの場合であって、フィルムの材質が傷つきやすいものの場合には、上記ニップローラをフィルム表面に接触させることができない。

つまり、フィルム表面に上記ニップローラを押し付けて同伴流を遮断する上記の表面処理装置は、用いることができないことがあった。
この発明の目的は、フィルム表面にローラを接触させることができる場合はもちろん、接触させることができないような場合でも、処理チャンバ内に同伴流が流入することをより確実に防止でき、処理チャンバ内の置換度を維持できる表面処理装置を提供することである。

この発明は、処理ローラと、この処理ローラに対向し、内部に置換ガスを供給してガス置換放電を形成する処理チャンバとが設けられ、上記処理ローラに接触して移動するフィルム表面を上記ガス置換放電のエネルギーで改質する表面処理装置を前提とする。
上記装置を前提として、第１の発明は、上記処理チャンバより上記フィルムの移動方向上流側であって、上記処理ローラに接触したフィルムに対向する位置に、上記処理チャンバと別体にした同伴流遮断ローラと、この同伴流遮断ローラと上記処理ローラとの対向間隔を調整する間隔調整機構とが設けられている。
上記間隔調整機構は、上記同伴流遮断ローラと上記処理ローラとの対向間隔を調整して、上記同伴流遮断ローラと上記フィルムとを接触させたり、同伴流を刃かい可能な剪断力を作用させる範囲で非接触状態を保ったりして、フィルムに付着した同伴流が上記処理チャンバ内に流入することを防止する構成にしたことを特徴とする。
なお、この装置の処理対象であるフィルムは、上記処理ローラに接触し、その回転によって移動可能なものであれば、材質や厚みは限定されない。

第２の発明は、上記同伴流遮断ローラを回転させる駆動機構と、この駆動機構と上記同伴流遮断ローラとの間を接続したり遮断したりする切換機構とが設けられたことを特徴とする。

第３の発明は、上記間隔調整機構によって上記同伴流遮断ローラが上記フィルムに対して非接触位置に保たれ、上記駆動機構によって上記同伴流遮断ローラの周速度と上記フィルムの移動速度との間に速度差が保たれる構成にしたことを特徴とする。

第４の発明は、上記間隔調整機構によって上記同伴流遮断ローラが上記フィルムに接触する位置に保たれ、上記切換機構によって上記同伴流遮断ローラと上記駆動機構との連結が遮断される構成にしたことを特徴とする。

第５の発明は、上記同伴流遮断ローラと上記処理チャンバとの距離を調整する距離調整機構が設けられたことを特徴とする。

第６の発明は、上記同伴流遮断ローラの表面から上記置換ガスを流出させる置換ガス流出機構が設けられたことを特徴とする。

第１の発明によれば、処理チャンバと別体にした同伴流遮断ローラを、処理チャンバの上流側においてフィルムに対して接触させたり、非接触にして処理ローラとの対向間隔を調整したりして最適位置に設けることができる。
例えば、同伴流遮断ローラをフィルムに接触させた場合には、同伴流遮断ローラが、処理ローラとの間にフィルムを挟んで、フィルムの同伴流をより確実に遮断し、同伴流が処理チャンバへ流入することを防止できる。
また、移動するフィルムを上記ローラで押さえることによって、フィルムのずれなどを抑制してより安定した移動を実現できる。その結果、フィルム表面と処理チャンバとの位置関係が保たれ、均一な表面改質ができる。

さらに、同伴流遮断ローラによってフィルムを処理ローラに密着させることができるので、処理チャンバと対向する部分においても、フィルムと処理ローラとの間に空洞ができることを防止できる。そのため、上記空洞によって放電状態が変化し、部分的に改質不良になるようなことも防止でき、均一な表面改質ができる。

一方で、表面に同伴流遮断ローラを接触させたくないフィルムに対しては、非接触状態を保ちながら、最適間隔を保つことができる。したがって、フィルムにダメージを与えることなく、処理チャンバ内に同伴流が流入することを防止できる。
同伴流の流入が防止できれば、処理チャンバ内の置換度を保つことができ、置換ガスの消費量を抑えて安定したガス置換放電状態を維持できる。さらに、同伴流によって放電が乱されることもない。

第２の発明によれば、同伴流遮断ローラをフィルムに接触させた場合には、上記同伴流遮断ローラと駆動機構との接続を切り、同伴流遮断ローラをフリー回転状態としてフィルムの移動に応じて回転させることができるし、同伴流遮断ローラをフィルムと非接触にしているときには、駆動機構を接続して同伴流遮断ローラの回転を任意に制御することができる。

第３の発明によれば、フィルム表面にローラを接触させたくない場合にも、同伴流遮断ローラの周速とフィルムの移動速度との速度差によって、フィルム上の同伴流の層を破壊して、処理チャンバ内に同伴流が流入することを防止できる。

第４の発明によれば、フィルムが同伴流遮断ローラと処理ローラとで挟まれるため、同伴流遮断ローラの接触部において同伴流をより確実に遮断することができる。また、フィルムが両ローラで挟持されるため、フィルムのバタつきを防止することができる。
さらに、同伴流遮断ローラがフィルムの移動に従動して回転するため、駆動機構を制御する必要がない。

第５の発明によれば、同伴流遮断ローラの位置を、処理チャンバの上流側における最適位置に調整できる。同伴流遮断ローラと処理チャンバとの距離が離れすぎた場合には、上記同伴流遮断ローラで同伴流を遮断したとしても、その下流側で、外気が再度同伴してしまう可能性がある。一方、処理チャンバの近傍には他の部材が設けられていて、同伴流遮断ローラをそれほど近接させられない場合もある。
この発明の距離調整機を用いれば、上記のような様々な条件を考慮して、最適な位置に同伴流遮断ローラを設置することができる。

第６の発明によれば、同伴流遮断ローラとフィルムとの対向部において、同伴流遮断ローラから流出する置換ガスが、外気の同伴流を押し退けて遮断することができる。さらに、上記同伴流を遮断した後にフィルムに置換ガスが付着して置換ガスの層が形成されれば、外気が同伴しにくくなるとともに、この置換ガスが処理チャンバに流入し、処理チャンバ内の置換度を下げることはない。
このように、同伴流遮断ローラとしてのローラから流出した置換ガスを、積極的にフィルムに同伴させることによって外気の同伴を防止し、処理チャンバ内の置換度の低下を防止することができる。

第１実施形態の装置の概念図で、同伴流遮断ローラをフィルムに接触させた状態を示した図である。 第１実施形態の装置の概念図で、同伴流遮断ローラとフィルムとを非接触状態に保ったときの図である。 第２実施形態の同伴流遮断ローラ近傍の概念図である。 第２実施形態の同伴流遮断ローラ近傍の概念図である。

図１，２に示す第１実施形態の装置は、アースされた処理ローラ１に処理対象であるフィルムＦが架け回されるとともに、このフィルムＦを介して上記処理ローラ1と対向する位置には処理チャンバ２と、同伴流遮断ローラ６とが設けられている。
上記処理ローラ１は図示しない駆動機構によって矢印ｘ方向に回転し、フィルムＦを矢印ａ方向に移動させる機能を備えている。

また、上記処理チャンバ２には、内部にフィルムＦの幅をまたぐ長さの棒状の放電電極３が設けられるとともに、置換ガスを供給するガス供給管４，５を備えている。上記ガス供給管４は、放電電極３内に噴出口を開口させて、放電電極３の先端付近に置換ガスを供給するための管で、ガス供給管５は処理チャンバ２内全体に置換ガスを供給するためのものである。そして、図中の破線の矢印は置換ガスを示している。

なお、上記置換ガスとは、処理チャンバ２の外部の雰囲気以外で、ガス置換放電を形成するためにチャンバ内を置換するガスのことである。
そして、上記放電電極３に高電圧を印加して放電させ、上記処理ローラ１に接触して搬送されるフィルムＦの表面を、ガス置換放電のエネルギーによって処理するようにしている。
なお、この装置の処理対象であるフィルムＦは、上記処理ローラ１に接触し、その回転によって移動可能なものであれば、材質や厚みは限定されない。特にＪＩＳ規格で規定されている包装材用の樹脂製フィルムの厚み２５０〔μｍ〕より厚いものであってもよいし、樹脂のほか金属や紙なども処理可能である。

上記同伴流遮断ローラ６は、上記処理チャンバ２のフィルム移動方向ａの上流側であって、フィルムＦが処理ローラ１に接触している位置で、フィルムＦの全幅をまたぐ長さを備えている。
また、この同伴流遮断ローラ６には切換機構７を介して駆動機構８が接続されるとともに、この駆動機構８にはこれを制御する制御機構９が接続されている。上記切換機構７は、上記同伴流遮断ローラ６と駆動機構８との間を接続したり遮断したりして駆動機構８の駆動力の伝達を切り換える機構である。上記同伴流遮断ローラ６と駆動機構８との間が、接続状態のときには、上記同伴流遮断ローラ６は駆動機構８によって回転駆動され、遮断状態のときには、上記同伴流遮断ローラ６はフリー回転状態となる。

さらに、この第１実施形態の装置は、上記同伴流遮断ローラ６と処理ローラ１との間隔を調整する図示しない間隔調整機構と、上記同伴流遮断ローラ６とから上記処理チャンバ２までの距離を調整する距離調整機構とを備えている。
上記間隔調整機構は、上記同伴流遮断ローラ６と上記処理ローラ1との対向間隔を調整する機構であり、図１において一点鎖線の矢印Ａ方向に上記ローラを移動可能にするものである。

一方、上記距離調整機構は、上記同伴流遮断ローラ６と上記処理チャンバ２との距離を調整するもので、矢印Ｂで示した処理ローラ１の外周面に沿った方向の距離を調整するものである。これら間隔調整機構及び距離調整機構は、例えば、同伴流遮断ローラ６を回転可能に支持する支持部材ごと移動可能にしたり、この支持部材と同伴流遮断ローラ６の回転軸とを相対移動可能にしたりした機構である。これにより、上記同伴流遮断ローラ６において処理ローラ１に対向する対向部と処理ローラ１との間隔ｄ（図２参照）及び上記同伴流遮断ローラ６と処理チャンバ２の開口端２ａとの距離が調整できる。

なお、上記間隔ｄは、上記同伴流遮断ローラ６の外周と処理ローラ１の外周との距離の内の最短距離である。
また、図中の波線の矢印ｂは、フィルムＦに同伴する外気の同伴流で、この同伴流ｂが上記処理チャンバ２に流入すると、内部の置換度が低下してしまう。

この第１実施形態の装置では、上記間隔調整機構によって、上記同伴流遮断ローラ６と処理ローラ１との間隔を調整し、上記同伴流遮断ローラ６をフィルムＦに接触させたり、非接触状態にしたりすることができる。
図１に示すように、上記間隔ｄをほぼゼロにして上記同伴流遮断ローラ６をフィルムＦに接触させることができる。この場合には、上記切換機構７によって上記同伴流遮断ローラ６と駆動機構８との接続を遮断し、同伴流遮断ローラ６をフリー回転状態に維持する。

このようにすれば、フィルムＦに接触した上記同伴流遮断ローラ６は、処理ローラ１によって移動するフィルムＦの移動にしたがって回転方向ｙに回転する。
図１のように、上記同伴流遮断ローラ６が、処理ローラ１との間にフィルムＦを挟んだ状態では、上記同伴流遮断ローラ６とフィルムＦとの接点Ｐにおいて上記同伴流ｂを遮断し、同伴流ｂの処理チャンバ２への流入を防止できる。

一方、図２は、上記間隔調整機構によって上記間隔ｄを広げ、同伴流遮断ローラ６とフィルムＦとを非接触に保った状態である。例えば、同伴流遮断ローラ６によってフィルムＦの表面を傷つけてしまうことが懸念されるようなときの設定である。
ただし、上記間隔ｄは、上記同伴流ｂの層に剪断力を作用させ、同伴流ｂの層を破壊可能な狭さにする必要がある。そのため、フィルムＦ上に形成される同伴流ｂの層の厚みに応じて設定する必要があり、具体的には数〔ｍｍ〕程度である。
そして、このときには、上記切換機構７は同伴流遮断ローラ６と駆動機構８とを接続し、制御機構９が駆動機構８を制御して同伴流遮断ローラ６を回転方向ｘに回転させている。

図２の非接触状態では、フィルムＦ上の同伴流ｂは、上記同伴流遮断ローラ６とフィルムＦの表面との間の上記間隔ｄにおいてその層が破壊され、この同伴流遮断ローラ６より下流側の処理チャンバ２内への流入が防止される。
特に、図２に示すように、上記同伴流遮断ローラ６を回転方向ｘに回転させると、この回転が同伴流ｂの流れ方向に逆行するため、上記同伴流ｂの勢いがキャンセルされる効果もあり、さらに遮断効果が上がる。
ただし、上記同伴流遮断ローラ６の回転方向はｘに限らず、図１に示す回転方向ｙであっても構わない。いずれの場合にも、同伴流遮断ローラ６の周速とフィルムＦの移動速度とに速度差を付けることによって、フィルムＦ上の同伴流ｂの層を破壊しやすくなる。

このように、第１実施形態の装置によれば、フィルムＦの表面に同伴流遮断ローラ６を接触させることができないような場合にも、同伴流ｂを遮断して、処理チャンバ２内への上記同伴流ｂの流入を防止できる。
したがって、同伴流ｂによって処理チャンバ２内の置換度が低下することがなく、置換度が保たれる。したがって、置換度を保つために処理チャンバ２へ置換ガスを大量に供給する必要もなく、置換ガスの消費量を抑えることができる。
また、処理チャンバ２への同伴流ｂの流入が無ければ、同伴流ｂの気流によって処理チャンバ２内の放電状態が乱されることもない。

また、上記同伴流遮断ローラ６と処理チャンバ２との距離は、上記距離調整機構によって、調整可能である。処理ローラ１の外周に沿った矢印Ｂ方向の距離は、上記同伴流遮断ローラ６から処理チャンバ２の開口端２ａまでのフィルムＦの移動距離に対応するので、もし、上記距離が大き過ぎると、上記同伴流遮断ローラ６で同伴流ｂを遮断した後に、同伴流遮断ローラ６の下流側において新たな同伴流の層が形成される可能性がある。

そのため、上記距離は小さい方が好ましいと考えられるが、処理チャンバ２の近傍の装置条件によってはそれほど上記距離を小さくできないこともある。そのような場合であっても、上記同伴流遮断ローラ６と処理ローラ１との対向部で、より完璧に同伴流ｂを遮断するようにすれば、上記同伴流遮断ローラ６の下流側において新たに形成される外気の同伴流の影響を小さくすることができる。すなわち、上記間隔調整機構及び距離調整機構によって、上記同伴流遮断ローラ６を最適距離に設定することが可能である。
なお、この第１実施形態において、上記同伴流遮断ローラ６を、フィルムＦが処理ローラ１に接触している範囲内に設けているが、その理由は、移動するフィルムＦのずれなどが少なく、最適な上記間隔ｄを維持することができるからである。

図３，４に示す第２実施形態は、上記同伴流遮断ローラ６に替えて、多孔層１１を備えた同伴流遮断ローラ１０を用いたものである。その他の構成は、上記第１実施形態と同じである。図３，４では、同伴流遮断ローラ１０の近傍のみを示しているが、図示していない他の部分においても、上記第１実施形態と同様の構成要素については、図１，２と同じ符号を用いて説明する。
上記ローラ１０は、図１，２に示す第１実施形態の同伴流遮断ローラ６のように、上記間隔保持機構によって処理ローラ１との間隔を調整可能にし、上記フィルムＦと接触あるいは非接触の状態を保って用いられるローラである。

この同伴流遮断ローラ１０は、中心のガス供給管１２の外周に多孔層１１を備え、上記ガス供給管１２の側壁には複数の流出孔１２ａが形成されている。そして、ガス供給管１２の端部には、図示しない置換ガス供給源が接続されている。
上記置換ガス供給源から供給された置換ガスは、上記流出孔１２ａから多孔層１１を介して上記同伴流遮断ローラ１０の外周から外部に向かって流出する。上記置換ガス供給源、ガス供給管１２、流出孔１２ａ及び多孔層１１によって、この発明の置換ガス流出機構を構成している。
なお、上記多孔質の多孔層１１は、例えば、焼結セラミックや、連続気泡を備えた発泡樹脂などで形成することができる。

そして、上記のような同伴流遮断ローラ１０を、上記間隔調整機構を制御して図３に示すようにフィルムＦに接触させて用いれば、ローラ１０の上流側の同伴流ｂが、多孔層１１から流出する破線の矢印ｃで示す置換ガスによって同伴流ｂが押し退けられるとともに、フィルムＦとの接点Ｐにおいてより確実に遮断される。その結果、ローラ１０の上流側の同伴流ｂが、接点Ｐを越えて下流側まで移動することがなくなるとともに、ローラ１０の下流側ではフィルムＦ上に置換ガスの層が付着して外気の同伴流を形成しにくくする。

そして、上記同伴流遮断ローラ１０の下流側においてフィルムＦに形成された置換ガスの層が処理チャンバ２に流入したとしても、処理チャンバ２内の置換度を下げることにはならないので問題はない。
なお、上記同伴流遮断ローラ１０をフィルムＦに接触させる際には、上記切換機構７によって、上記駆動機構８と同伴流遮断ローラ１０との接続を遮断して、同伴流遮断ローラ１０をフリー回転状態にしておく。

また、この第２実施形態においても、上記間隔調整機構によって処理ローラ１と同伴流遮断ローラ１０との間隔を調整して、フィルムＦに対して同伴流遮断ローラ１０を非接触状態に保持することができる。
図４には、同伴流遮断ローラ１０をフィルムＦに対して非接触にした状態を示しているが、その場合には、上記切換機構７によって上記駆動機構８を接続し、駆動機構８によって同伴流遮断ローラ１０を回転方向ｘ又は方向ｙ（図４参照）に回転させるようにする。

同伴流遮断ローラ１０を図４に示すｘ方向に回転させた場合には、置換ガスｃの流れが、上記ローラ１０の回転によって同伴流遮断ローラ１０の上流側における外気の同伴流ｂと逆行するので、この置換ガスの流れが同伴流ｂの勢いをキャンセルして上記同伴流ｂを遮断することができる。
そのうえで、同伴流遮断ローラ１０の下流側ではフィルムＦに向かって流出した置換ガスｃがフィルムＦに同伴することで外気の再同伴を防止し、処理チャンバ２内の置換度が下がることを防止できる。

また、同伴流遮断ローラ１０をｙ方向に回転させた場合にも、上記図２に示す第１実施形態と同様に、同伴流遮断ローラ１０とフィルムＦとの対向間隔内で同伴流ｂを遮断できる。特に、同伴流遮断ローラ１０の周速とフィルムＦの移動速度とに速度差を付ければ、同伴流ｂの層を破壊しやすくなり、より確実に遮断できる。そのうえで、同伴流遮断ローラ１０の下流側では、上記と同様にフィルムＦに向かって流出した置換ガスｃがフィルムＦに同伴することで外気の再同伴を防止し、処理チャンバ２内の置換度が下がることを防止できる。
この第２実施形態においても、フィルムＦ対して同伴流遮断ローラ１０を接触状態から非接触状態まで調整することができ、フィルムＦの特性に応じた設定が可能である。

なお、この第２実施形態では、上記同伴流遮断ローラ１０の側面全体から置換ガスが流出することになるが、その量はフィルムＦとの対向部分において同伴流ｂの流通を遮断できる程度であればよく、処理チャンバ２へ供給される置換ガスと比べれば、無視できるほどの量で足りる。そのため、同伴流遮断ローラ１０の外部に置換ガスを流出させても、消費量については特に問題はない。
ただし、置換ガスが有害ガスの場合に、この同伴流遮断ローラ１０を用いたときには、その周囲を別の手段で排気する必要がある。

上記第１，２実施形態の表面処理装置では、いずれも、同伴流遮断ローラを処理チャンバ２と別体にするとともに、間隔調整機構及び距離調整機構を備えることによって、上記ローラを接触させことができないような場合であっても、効率的な同伴流の遮断が可能な位置に、上記同伴流遮断ローラを設けることができるようにしている。その結果、処理チャンバ２へ同伴流が流入することをより確実に防止しながら、様々な特性のフィルムに対応することができる。

なお、上記実施形態では、処理チャンバ２内に置換ガスを供給するガス供給管４，５を設けているが、ガス供給管、放電電極及び処理チャンバ２の構成は上記実施形態に限定されない。処理チャンバ２は、内部に置換ガスを導いてガス置換放電を形成できるものであれば、どのような構成でも構わない。
また、図１，２では、処理ローラ１に対して処理チャンバ２を上方に位置させているが、処理ローラ１と処理チャンバ２との位置関係もこれに限らない。両者は、処理対象であるフィルムＦを挟んで対向配置されていればよく、例えば、処理ローラ１の横や下方に、処理チャンバ２を位置させてもよい。
さらに、処理ローラ１に対してフィルムＦが巻き付けられる接触長さも特に限定されない。ただし、処理チャンバ２及び上記同伴流遮断ローラを、フィルムＦに対向して設けることができる長さは必要である。

また、同伴流遮断ローラの材質も限定されない。ただし、その表面にある程度の弾性を備えたものであれば、処理ローラ１との間にフィルムＦを挟んだときに、フィルムＦへのダメージを与えにくくなるので、上記同伴流遮断ローラを接触状態で使用できる範囲が広くなる。
さらに、上記実施形態では、処理ローラ１をアースに接続しているが、処理チャンバ２内の放電電極３との間でガス置換放電が形成可能な電位差を保つことができれば、処理ローラ１はアース電位でなくてもよい。

ガス置換放電によって様々な特性のフィルム表面を改質する表面処理装置に適用可能である。

１ 処理ローラ
２ 処理チャンバ
３ 放電電極
４ ガス供給管
５ ガス供給管
６ 同伴流遮断ローラ
７ 切換機構
８ 駆動機構
１０ 同伴流遮断ローラ
１１ 多孔層
１２ ガス供給管
１２ａ 流出孔
Ｆ フィルム
Ｐ 接点
ｂ 同伴流
ｃ （置換ガスの）流れ

Claims (6)

1. 処理ローラと、
   この処理ローラに対向し、内部に置換ガスを供給してガス置換放電を形成する処理チャンバとが設けられ、
   上記処理ローラに接触して移動するフィルム表面を上記ガス置換放電のエネルギーで改質する表面処理装置において、
   上記処理チャンバより上記フィルムの移動方向上流側であって、上記処理ローラに接触したフィルムに対向する位置に、上記処理チャンバと別体にした同伴流遮断ローラと、
   上記同伴流遮断ローラと上記処理ローラとの対向間隔を調整する間隔調整機構とが設けられ、
   上記間隔調整機構は、上記対向間隔を調整し、
   上記同伴流遮断ローラを上記フィルムに対して接触位置に保ったり、上記フィルムに付着した同伴流に対して当該同伴流の層を破壊可能な剪断力を作用させる範囲内で上記同伴流遮断ローラと上記フィルムとを非接触状態に保ったりし、
   上記同伴流遮断ローラで、フィルムに付着した同伴流が上記処理チャンバ内に流入することを防止する構成にした表面処理装置。
2. 上記同伴流遮断ローラを回転させる駆動機構と、
   この駆動機構と上記同伴流遮断ローラとの間を接続したり遮断したりする切換機構とが設けられた請求項１に記載の表面処理装置。
3. 上記間隔調整機構によって上記同伴流遮断ローラが上記フィルムに対して非接触位置に保たれ、上記駆動機構によって上記同伴流遮断ローラの周速度と上記フィルムの移動速度との間に速度差が保たれる構成にした請求項２に記載の表面処理装置。
4. 上記間隔調整機構によって上記同伴流遮断ローラが上記フィルムに接触する位置に保たれ、上記切換機構によって上記同伴流遮断ローラと上記駆動機構との連結が遮断される構成にした請求項２に記載の表面処置装置。
5. 上記同伴流遮断ローラと上記処理チャンバとの距離を調整する距離調整機構が設けられた請求項１〜４のいずれか１に記載の表面処理装置。
6. 上記同伴流遮断ローラの表面から上記置換ガスを流出させる置換ガス流出機構が設けられた請求項１〜５のいずれか１に記載の表面処理装置。

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