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JP6656590B2 - Photocatalyst device - Google Patents
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JP6656590B2 - Photocatalyst device - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、光触媒装置に関する。   Embodiments of the present invention relate to a photocatalytic device.

健康意識の高まりを反映して、自動車などの車内、冷蔵庫内、居住空間などの所謂、準閉鎖空間における空気の清浄化の要望が高まっている。例えば、食物から発生するアンモニアやエチレンの除去、タバコ煙に含まれるアセトアルデヒドなどのVOC(Volatile Organic Compounds;揮発性有機化合物)の除去、あるいは除菌やウイルスの不活性化などの要求が高まっている。
そのため、発光ダイオードと、光触媒が坦持された光触媒シートとを具備した光触媒装置が提案されている。
ここで、ガスの流れ方向と垂直な方向に延びる光触媒シートをガスの流路の内部に設けたり、ガスの流れ方向と平行な方向に延びる複数の光触媒シートをガスの流路の内壁面から離れた位置に設けたりすれば、ガスをトラップし易くなる。ガスをトラップすることができれば、ガス分解性能を高めることができる。
しかしながら、この様にすると、ガスの流れが遮られるので圧力損失が大きくなる。圧力損失が大きくなると、ガスの流速の高速化やガスの流量の増大が困難となり、処理能力の向上が図れなくなるおそれがある。
そのため、処理能力の向上を図ることができる光触媒装置の開発が望まれていた。
Reflecting the growing awareness of health, there is an increasing demand for purifying air in so-called semi-closed spaces, such as in vehicles such as automobiles, refrigerators, and living spaces. For example, there has been an increasing demand for removing ammonia and ethylene generated from food, removing volatile organic compounds (VOCs) such as acetaldehyde contained in cigarette smoke, or removing bacteria and inactivating viruses. .
Therefore, a photocatalytic device including a light emitting diode and a photocatalyst sheet carrying a photocatalyst has been proposed.
Here, a photocatalyst sheet extending in a direction perpendicular to the gas flow direction is provided inside the gas flow path, or a plurality of photocatalyst sheets extending in a direction parallel to the gas flow direction are separated from the inner wall surface of the gas flow path. If it is provided at a different position, it becomes easier to trap the gas. If gas can be trapped, gas decomposition performance can be improved.
However, in this case, the gas flow is interrupted, so that the pressure loss increases. If the pressure loss increases, it becomes difficult to increase the gas flow rate and increase the gas flow rate, and it may not be possible to improve the processing capacity.
Therefore, development of a photocatalyst device capable of improving the processing capacity has been desired.

特開2013−169408号公報JP 2013-169408 A 特開2011−143133号公報JP 2011-143133 A

本発明が解決しようとする課題は、処理能力の向上を図ることができる光触媒装置を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a photocatalyst device capable of improving the processing capacity.

実施形態に係る光触媒装置は、断面の内形形状が多角形であり、複数の内壁面を有する筒状の筐体と;前記筐体の第1の内壁面に設けられ、複数の第1の発光素子を備え、前記第1の内壁面側とは反対側に前記複数の第1の発光素子による凹凸を有する第1の光源部と;前記筐体の前記第1の内壁面と対峙する第2の内壁面に設けられ、第1の光触媒を有する第1の光触媒部と;前記第2の内壁面の一方の側に隣接する第3の内壁面に設けられ、第2の光触媒を有する第2の光触媒部と;を具備し、前記複数の第1の発光素子の発光面のそれぞれと、前記第1の光触媒部と、の間の距離は、1mm以上、100mm以下である。 Photocatalytic device according to the embodiment is an internal shape is polygonal cross-section, a cylindrical housing having a plurality of inner wall surfaces; provided in the first inner wall surface of the housing, the plurality first A first light source unit having a light-emitting element, and having a plurality of first light-emitting elements having irregularities on a side opposite to the first inner wall surface side ; a first light source unit facing the first inner wall surface of the housing; A first photocatalyst portion provided on the inner wall surface of the second and having a first photocatalyst; a first photocatalyst portion provided on a third inner wall surface adjacent to one side of the second inner wall surface and having a second photocatalyst; 2 of a photocatalyst unit; comprising a distance between the respective light emitting surfaces of the plurality of first light-emitting element, and the first photocatalyst section, is, 1 mm or more, Ru der below 100 mm.

本発明の実施形態によれば、処理能力の向上を図ることができる光触媒装置を提供することができる。   According to the embodiment of the present invention, it is possible to provide a photocatalyst device capable of improving the processing capacity.

本実施の形態に係る光触媒装置1を例示するための模式斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating a photocatalyst device 1 according to the present embodiment. 図1における光触媒装置1のA−A線方向の模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the photocatalyst device 1 in FIG. 1 taken along the line AA. 図1における光触媒装置1をB方向から見た図である。It is the figure which looked at the photocatalyst device 1 in FIG. 1 from the B direction. 光触媒部4を例示するための模式斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view illustrating a photocatalyst unit 4. 他の実施形態に係る光源部3および光触媒部4の配置を例示するための模式断面図である。It is a schematic cross section for illustrating arrangement of light source part 3 and photocatalyst part 4 concerning other embodiments. 他の実施形態に係る筐体12を例示するための模式断面図である。It is a schematic cross section for illustrating the case 12 concerning other embodiments.

以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、本実施の形態に係る光触媒装置1を例示するための模式斜視図である。
図2は、図1における光触媒装置1のA−A線方向の模式断面図である。
なお、図2においては、煩雑となるのを避けるために、内壁面2fに設けられた光触媒部4を省いて描いている。
図3は、図1における光触媒装置1をB方向から見た図である。
図4は、光触媒部4を例示するための模式斜視図である。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. In each of the drawings, similar components are denoted by the same reference numerals, and detailed description will be omitted as appropriate.
FIG. 1 is a schematic perspective view for illustrating a photocatalyst device 1 according to the present embodiment.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the photocatalyst device 1 in FIG.
In FIG. 2, the photocatalyst unit 4 provided on the inner wall surface 2f is omitted to avoid complication.
FIG. 3 is a view of the photocatalyst device 1 in FIG.
FIG. 4 is a schematic perspective view illustrating the photocatalyst unit 4.

図1、図2、および図3に示すように、光触媒装置1には、筐体2、光源部3、および光触媒部4が設けられている。   As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the photocatalyst device 1 includes a housing 2, a light source unit 3, and a photocatalyst unit 4.

筐体2は、筒状を呈している。筐体2は、複数の内壁面を有する。
筐体2の断面の内形形状は、光源部3および光触媒部4の取り付けやすさを考慮すると、多角形とすることが好ましい。なお、図1に例示をした筐体2の断面の内形形状は四角形である。そのため、筐体2は、内壁面2c(第1の内壁面の一例に相当する)、内壁面2d(第2の内壁面の一例に相当する)、および内壁面2e(第4の内壁面の一例に相当する)、内壁面2f(第3の内壁面の一例に相当する)を有する。
筐体2の一方の端部2aと、筐体2の他方の端部2bは、開口している。
例えば、筐体2の端部2aは、ガスの流入口となる。筐体2の端部2bは、ガスの流出口となる。なお、ガスは、例えば、空気を主成分とする気体である。
The housing 2 has a tubular shape. The housing 2 has a plurality of inner wall surfaces.
The inner shape of the cross section of the housing 2 is preferably a polygon in consideration of ease of attachment of the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4. The inner shape of the cross section of the housing 2 illustrated in FIG. 1 is a quadrangle. Therefore, the housing 2 includes an inner wall surface 2c (corresponding to an example of a first inner wall surface), an inner wall surface 2d (corresponding to an example of a second inner wall surface), and an inner wall surface 2e (corresponding to a fourth inner wall surface). And an inner wall surface 2f (corresponding to an example of a third inner wall surface).
One end 2a of the housing 2 and the other end 2b of the housing 2 are open.
For example, the end 2a of the housing 2 serves as a gas inlet. The end 2b of the housing 2 serves as a gas outlet. The gas is, for example, a gas containing air as a main component.

筐体2の材料には、特に限定はない。
ただし、筐体2の材料を熱可塑性樹脂とすれば、射出成形法を用いて筐体2を形成することができる。
この場合、筐体2の材料をアクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチル樹脂)とすれば、光源部3から照射された紫外線に対する耐性と、ガスに含まれるVOCに対する耐性を向上させることができる。なお、アクリル樹脂の重合度を10000〜15000程度とすれば、発臭を抑制することができる。
また、筐体2の材料をABS樹脂(アクリルニトリルーブタジエンースチレン共重合合成樹脂)とすれば、成形性の向上と低コスト化を図ることができる。この場合、筐体2の材料を強化ABS樹脂とすれば、筐体2の強度を向上させることができる。なお、強化ABS樹脂は、ABS樹脂にガラス繊維などを混合させたものである。
The material of the housing 2 is not particularly limited.
However, if the material of the housing 2 is a thermoplastic resin, the housing 2 can be formed using an injection molding method.
In this case, if the material of the housing 2 is an acrylic resin (polymethyl methacrylate resin), it is possible to improve the resistance to the ultraviolet rays emitted from the light source unit 3 and the resistance to the VOC contained in the gas. When the degree of polymerization of the acrylic resin is about 10,000 to 15,000, odor can be suppressed.
Further, if the material of the housing 2 is ABS resin (acrylonitrile butadiene-styrene copolymer synthetic resin), it is possible to improve the moldability and reduce the cost. In this case, if the material of the housing 2 is a reinforced ABS resin, the strength of the housing 2 can be improved. The reinforced ABS resin is a mixture of ABS resin and glass fiber.

また、発光素子3bの発熱量が多い場合には、放熱性の観点から熱伝導率の高い材料を用いて筐体2を形成することができる。
熱伝導率の高い材料としては、例えば、金属、高熱伝導性樹脂、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどのセラミックスなどを例示することができる。
高熱伝導性樹脂は、例えば、PET(polyethylene terephthalate)やナイロン等の樹脂に、熱伝導率の高い酸化アルミニウム等からなるフィラーを混合させたものである。
When the light emitting element 3b generates a large amount of heat, the casing 2 can be formed using a material having high thermal conductivity from the viewpoint of heat dissipation.
Examples of the material having high thermal conductivity include metal, high thermal conductive resin, and ceramics such as aluminum oxide and aluminum nitride.
The high thermal conductive resin is, for example, a resin such as PET (polyethylene terephthalate) or nylon mixed with a filler made of aluminum oxide or the like having high thermal conductivity.

光源部3は、光触媒部4に向けて所定の波長を有する光を照射する。
光源部3は、筐体2の内部に設けられている。光源部3は、筐体2が延びる方向に延びる形態を有している。光源部3は、筒状の筐体2の内壁面2cに設けられている。光源部3に設けられた発光素子3bの発光面3b1は、光触媒部4に設けられた光触媒シート4bと対峙している。
The light source unit 3 irradiates light having a predetermined wavelength toward the photocatalyst unit 4.
The light source unit 3 is provided inside the housing 2. The light source unit 3 has a form extending in the direction in which the housing 2 extends. The light source unit 3 is provided on the inner wall surface 2c of the cylindrical housing 2. The light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b provided in the light source unit 3 faces the photocatalyst sheet 4b provided in the photocatalyst unit 4.

光源部3は、基板3aおよび発光素子3bを有する。
基板3aは、板状を呈している。基板3aの一方の表面には、配線パターンが設けられている。
基板3aの材料や構造には特に限定はない。例えば、基板3aは、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどの無機材料(セラミックス)、紙フェノールやガラスエポキシなどの有機材料などから形成することができる。また、基板3aは、金属板の表面を絶縁材料で被覆したものであってもよい。なお、金属板の表面を絶縁材料で被覆する場合には、絶縁材料は、有機材料からなるものであってもよいし、無機材料からなるものであってもよい。
The light source unit 3 has a substrate 3a and a light emitting element 3b.
The substrate 3a has a plate shape. A wiring pattern is provided on one surface of the substrate 3a.
The material and structure of the substrate 3a are not particularly limited. For example, the substrate 3a can be formed from an inorganic material (ceramic) such as aluminum oxide or aluminum nitride, or an organic material such as paper phenol or glass epoxy. Further, the substrate 3a may be a metal plate whose surface is covered with an insulating material. When the surface of the metal plate is coated with an insulating material, the insulating material may be made of an organic material or may be made of an inorganic material.

発光素子3bの発熱量が多い場合には、放熱性の観点から熱伝導率の高い材料を用いて基板3aを形成することが好ましい。熱伝導率の高い材料としては、例えば、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどのセラミックス、高熱伝導性樹脂、金属板の表面を絶縁材料で被覆したものなどを例示することができる。
また、基板3aは、単層であってもよいし、多層であってもよい。
When the light emitting element 3b generates a large amount of heat, it is preferable to form the substrate 3a using a material having high thermal conductivity from the viewpoint of heat dissipation. Examples of the material having a high thermal conductivity include ceramics such as aluminum oxide and aluminum nitride, a high thermal conductive resin, and a metal plate whose surface is coated with an insulating material.
Further, the substrate 3a may be a single layer or a multilayer.

発光素子3bは、基板3aの一方の表面に設けられている。発光素子3bは、基板3aの表面に設けられた配線パターンと電気的に接続されている。
発光素子3bの形式には特に限定はない。
発光素子3bは、例えば、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)型などの表面実装型の発光素子とすることができる。
発光素子3bは、例えば、砲弾型などのリード線を有する発光素子とすることもできる。
The light emitting element 3b is provided on one surface of the substrate 3a. The light emitting element 3b is electrically connected to a wiring pattern provided on the surface of the substrate 3a.
The type of the light emitting element 3b is not particularly limited.
The light emitting element 3b can be, for example, a surface mounted light emitting element such as a PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier) type.
The light emitting element 3b may be, for example, a light emitting element having a lead wire such as a shell type.

また、発光素子3bは、COB(Chip On Board)により実装されるものとすることもできる。COBにより実装される発光素子3bとする場合には、チップ状の発光素子3bと、発光素子3bと配線パターンを電気的に接続する配線と、チップ状の発光素子3bや配線などを覆う封止部などと、を基板3aの上に設けることができる。   Further, the light emitting element 3b can be mounted by a COB (Chip On Board). When the light-emitting element 3b is mounted by COB, the chip-shaped light-emitting element 3b, wiring for electrically connecting the light-emitting element 3b to the wiring pattern, and sealing for covering the chip-shaped light-emitting element 3b and the wiring are provided. And the like can be provided on the substrate 3a.

発光素子3bは、例えば、発光ダイオードとすることができる。発光素子3bは、複数設けることができる。複数の発光素子3bは、直列接続することができる。複数の発光素子3bの配設形態には、特に限定はない。複数の発光素子3bは、筐体2が延びる方向に沿って並べて設けることができる。図1に例示をした複数の発光素子3bは、筐体2が延びる方向に沿って1列に並んでいる。ただし、複数の発光素子3bは、例えば、マトリクス状に並べて設けることもできる。また、複数の発光素子3bを並べて設ける場合には、複数の発光素子3bを等ピッチ間隔で並べることもできるし、複数の発光素子3bを異なるピッチ寸法で並べることもできる。   The light emitting element 3b can be, for example, a light emitting diode. A plurality of light emitting elements 3b can be provided. The plurality of light emitting elements 3b can be connected in series. The arrangement of the plurality of light emitting elements 3b is not particularly limited. The plurality of light emitting elements 3b can be provided side by side along the direction in which the housing 2 extends. The plurality of light emitting elements 3b illustrated in FIG. 1 are arranged in a line along the direction in which the housing 2 extends. However, the plurality of light emitting elements 3b can be provided, for example, in a matrix. When a plurality of light emitting elements 3b are arranged side by side, the plurality of light emitting elements 3b can be arranged at equal pitch intervals, or the plurality of light emitting elements 3b can be arranged at different pitch dimensions.

ここで、光触媒反応の速度は、光触媒の吸収波長領域と光強度(光量)によって変化する。そのため、複数の発光素子3bの配設形態や数は、1つの発光素子3bが照射する光の光量と、光触媒を坦持している光触媒シート4bの面積と、発光素子3bの発光面3b1と光触媒シート4bとの間の距離Lとに基づいて決定することができる。
例えば、光触媒シート4b上における光照射強度が1mW/cm以上となるように、複数の発光素子3bの配設形態や数などを設定することができる。
Here, the speed of the photocatalytic reaction varies depending on the absorption wavelength region of the photocatalyst and the light intensity (light amount). Therefore, the disposition mode and the number of the plurality of light emitting elements 3b are determined by the amount of light emitted by one light emitting element 3b, the area of the photocatalyst sheet 4b carrying the photocatalyst, and the light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b. It can be determined based on the distance L to the photocatalyst sheet 4b.
For example, the arrangement form and number of the plurality of light emitting elements 3b can be set so that the light irradiation intensity on the photocatalyst sheet 4b is 1 mW / cm 2 or more.

また、光触媒の材料や組成が変われば、光触媒の吸収波長領域が変化する。そのため、光触媒の吸収波長領域に応じて、適切な波長の光を照射する発光素子3bが適宜選択される。
例えば、光触媒が酸化チタンなどの紫外光応答型の光触媒である場合には、発光素子3bは、ピーク波長が380nm以下の光を照射するものとすることができる。
また、光触媒が酸化タングステンなどの可視光応答型の光触媒である場合には、発光素子3bは、ピーク波長が380nm以上(例えば、400nm〜600nm程度)の光を照射するものとすることができる。
Further, if the material or composition of the photocatalyst changes, the absorption wavelength region of the photocatalyst changes. Therefore, the light emitting element 3b that emits light of an appropriate wavelength is appropriately selected according to the absorption wavelength region of the photocatalyst.
For example, when the photocatalyst is an ultraviolet light responsive photocatalyst such as titanium oxide, the light emitting element 3b can emit light having a peak wavelength of 380 nm or less.
When the photocatalyst is a visible light responsive photocatalyst such as tungsten oxide, the light emitting element 3b can emit light having a peak wavelength of 380 nm or more (for example, about 400 nm to 600 nm).

光触媒部4は、光触媒を有している。光触媒部4は、光触媒作用により、ガスに含まれる有害物質の分解除去、除菌、ウイルスの不活性化などを行う。
光触媒部4は、筐体2の内部に設けられている。光触媒部4は、筐体2が延びる方向に延びる形態を有している。光触媒部4は、筐体2の内壁面2dに設けられ、光源部3と対峙している。すなわち、光触媒を有する光触媒部4は、筐体2の、光源部3が設けられる内壁面2cと対峙する内壁面2dに設けられている。
光触媒シート4bは、発光素子3bの発光面3b1と対峙している。
なお、筐体2の断面の内形形状が四角形であるため、光触媒部4は光源部3と平行となっているが、筐体2の断面の内形形状によっては、光触媒部4は光源部3に対して傾いていてもよい。ただし、光触媒部4が光源部3と平行となっていれば、より均一な光の照射が行われるので処理能力の向上を図ることができる。
光源部3と、光触媒部4との間の空間は、ガスが流通する流路となる。
The photocatalyst unit 4 has a photocatalyst. The photocatalyst unit 4 decomposes and removes harmful substances contained in the gas, removes bacteria, inactivates viruses, and the like by photocatalysis.
The photocatalyst unit 4 is provided inside the housing 2. The photocatalyst unit 4 has a form extending in the direction in which the housing 2 extends. The photocatalyst unit 4 is provided on the inner wall surface 2 d of the housing 2 and faces the light source unit 3. That is, the photocatalyst unit 4 having the photocatalyst is provided on the inner wall surface 2d of the housing 2 facing the inner wall surface 2c on which the light source unit 3 is provided.
The photocatalyst sheet 4b faces the light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b.
Note that the photocatalyst unit 4 is parallel to the light source unit 3 because the inner shape of the cross section of the housing 2 is square, but depending on the inner shape of the cross section of the housing 2, the photocatalyst unit 4 is 3 may be inclined. However, if the photocatalyst unit 4 is parallel to the light source unit 3, more uniform light irradiation is performed, so that the processing capacity can be improved.
The space between the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 is a flow path through which gas flows.

光触媒部4は複数設けることができる。なお、3つの光触媒部4が設けられる場合を例示したが、光触媒部4の数は、適宜変更することができる。
例えば、光触媒装置1は、筐体2の内壁面2cと対峙する内壁面2dに設けられ、第1の光触媒を有する第1の光触媒部と、内壁面2dの一方の側に隣接する内壁面2fに設けられ、第2の光触媒を有する第2の光触媒部と、を備えることができる。
また、光触媒装置1は、内壁面2fと対峙する内壁面2eに設けられ、第1の光触媒または第2の光触媒を有する第3の光触媒部を更に備えることができる。
第1の光触媒の組成と、第2の光触媒の組成が異なっていてもよい。第1の光触媒の組成と、第2の光触媒の組成が同じであってもよい。
この場合、光触媒部4の数を多くすれば、処理能力の向上を図ることができる。すなわち、光源部3が設けられる内壁面以外の内壁面に光触媒部4を設けるようにすることが好ましい。
A plurality of photocatalyst units 4 can be provided. Although the case where three photocatalyst units 4 are provided is illustrated, the number of photocatalyst units 4 can be changed as appropriate.
For example, the photocatalyst device 1 is provided on an inner wall surface 2d facing the inner wall surface 2c of the housing 2, and has a first photocatalyst portion having a first photocatalyst and an inner wall surface 2f adjacent to one side of the inner wall surface 2d. And a second photocatalyst unit having a second photocatalyst.
Further, the photocatalyst device 1 can further include a third photocatalyst provided on the inner wall surface 2e facing the inner wall surface 2f and having the first or second photocatalyst.
The composition of the first photocatalyst and the composition of the second photocatalyst may be different. The composition of the first photocatalyst and the composition of the second photocatalyst may be the same.
In this case, if the number of the photocatalyst units 4 is increased, the processing capacity can be improved. That is, it is preferable to provide the photocatalyst unit 4 on an inner wall surface other than the inner wall surface on which the light source unit 3 is provided.

図1に示すように、光源部3と1つの光触媒部4は対峙している。光源部3と他の2つの光触媒部4は隣接させて設けられている。例えば、内壁面2cには、光源部3を設けることができる。内壁面2d、内壁面2e、および内壁面2fには、光触媒部4を設けることができる。
内壁面2d、内壁面2e、および内壁面2fに光触媒部4を設ければ、光触媒シート4bの面積を大きくすることができる。また、後述する様に、ガス流G2およびガス流G3に含まれるガスと内壁面2e、2fに設けられた光触媒シート4bとが接触しやすくなる。そのため、処理能力の向上を図ることができる。
As shown in FIG. 1, the light source unit 3 and one photocatalyst unit 4 face each other. The light source unit 3 and the other two photocatalyst units 4 are provided adjacent to each other. For example, the light source unit 3 can be provided on the inner wall surface 2c. A photocatalyst unit 4 can be provided on the inner wall surface 2d, the inner wall surface 2e, and the inner wall surface 2f.
If the photocatalyst unit 4 is provided on the inner wall surface 2d, the inner wall surface 2e, and the inner wall surface 2f, the area of the photocatalyst sheet 4b can be increased. Further, as described later, the gas contained in the gas flow G2 and the gas flow G3 easily comes into contact with the photocatalyst sheet 4b provided on the inner wall surfaces 2e and 2f. Therefore, the processing capacity can be improved.

この場合、光触媒部4の構成は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。構成が異なる光触媒部4は、例えば、紫外光応答型の光触媒が含まれている光触媒部4と、可視光応答型の光触媒が含まれている光触媒部4とすることができる。この場合、光源部3に設けられた複数の発光素子3bの一部をピーク波長が380nm以下の光を照射するものとし、残りの発光素子3bをピーク波長が380nm以上(例えば、400nm〜600nm程度)の光を照射するものとすればよい。
異なる構成の光触媒部4を設けるようにすれば、それぞれの光触媒部4において吸着性能が優れるガス種を異なるようにできる。そのため、例えば、複数種類のガス種が混在するガスを処理する場合に、効率良く、ガスを分解、除去することができる。
In this case, the configuration of the photocatalyst unit 4 may be the same or different. The photocatalyst units 4 having different configurations can be, for example, a photocatalyst unit 4 including an ultraviolet light responsive photocatalyst and a photocatalyst unit 4 including a visible light responsive photocatalyst. In this case, a part of the plurality of light emitting elements 3b provided in the light source unit 3 is irradiated with light having a peak wavelength of 380 nm or less, and the remaining light emitting elements 3b have a peak wavelength of 380 nm or more (for example, about 400 nm to 600 nm). ) May be applied.
If the photocatalyst units 4 having different configurations are provided, gas types having excellent adsorption performance in the respective photocatalyst units 4 can be made different. Therefore, for example, when processing a gas in which a plurality of types of gas are mixed, the gas can be efficiently decomposed and removed.

図4に示すように、光触媒部4は、枠部4aおよび光触媒シート4bを有する。
枠部4aは、枠状を呈し、光触媒シート4bの周縁を保持する。枠部4aの中央部分は、光触媒シート4bが露出する窓部4a1となっている。
また、光触媒シート4bの面積が大きい場合などには、光触媒シート4bの中央領域における撓みを抑制するために梁4a2を設けることができる。
As shown in FIG. 4, the photocatalyst part 4 has a frame part 4a and a photocatalyst sheet 4b.
The frame portion 4a has a frame shape and holds the periphery of the photocatalyst sheet 4b. The central portion of the frame 4a is a window 4a1 from which the photocatalyst sheet 4b is exposed.
When the area of the photocatalyst sheet 4b is large, the beam 4a2 can be provided to suppress the bending in the central region of the photocatalyst sheet 4b.

枠部4aは、一対設けられている。一対の枠部4aにより、光触媒シート4bを挟み込むことで、光触媒シート4bが保持される。
この場合、一方の枠部4aの周縁部に突起部を設け、他方の枠部4aの周縁部に突起部に嵌合する凹部を設けることができる。そして、一対の枠部4aにより、光触媒シート4bを挟み込んだ際に、突起部を凹部に嵌め合わせて一対の枠部4a同士を固定するようにすることができる。なお、超音波溶着法などを用いて、一対の枠部4a同士を固定するようにしてもよい。
The frame part 4a is provided as a pair. The photocatalyst sheet 4b is held by sandwiching the photocatalyst sheet 4b between the pair of frame portions 4a.
In this case, a protrusion can be provided on the peripheral edge of one frame 4a, and a recess can be provided on the peripheral edge of the other frame 4a so as to be fitted to the projection. Then, when the photocatalyst sheet 4b is sandwiched between the pair of frame portions 4a, the projections are fitted into the concave portions so that the pair of frame portions 4a can be fixed to each other. The pair of frame portions 4a may be fixed to each other by using an ultrasonic welding method or the like.

光触媒シート4bは、例えば、ガラス繊維織物と、光触媒を有する。
ガラス繊維織物は、例えば、透明なガラス繊維を束ねた横糸群と縦糸群とからなる織物とすることができる。
多数の光触媒微粒子は、ガラス繊維同士の間に坦持されている。
この場合、光触媒シート4bは、例えば、以下の様にして作成することができる。
まず、純水に燐酸を加えて、pH(水素イオン濃度)を2〜7に調整した水溶液を生成し、光触媒を加えてエマルジョン溶液を生成する。
次に、ガラス繊維織物をエマルジョン溶液に10分間程度浸漬させる。
次に、エマルジョン溶液からガラス繊維織物を引き上げて乾燥させる。
この様にして、ガラス繊維同士の間に多数の光触媒微粒子が坦持された光触媒シート4bを作成することができる。
The photocatalyst sheet 4b has, for example, a glass fiber fabric and a photocatalyst.
The glass fiber woven fabric can be, for example, a woven fabric composed of a group of weft yarns and a group of warp yarns obtained by bundling transparent glass fibers.
A large number of photocatalyst fine particles are supported between glass fibers.
In this case, the photocatalyst sheet 4b can be created, for example, as follows.
First, phosphoric acid is added to pure water to produce an aqueous solution whose pH (hydrogen ion concentration) is adjusted to 2 to 7, and a photocatalyst is added to produce an emulsion solution.
Next, the glass fiber fabric is immersed in the emulsion solution for about 10 minutes.
Next, the glass fiber fabric is pulled up from the emulsion solution and dried.
Thus, the photocatalyst sheet 4b in which a large number of photocatalyst fine particles are carried between glass fibers can be produced.

また、光触媒シート4bは、例えば、セラミックス基板と、光触媒を有するものとすることもできる。セラミックス基板は、例えば、多孔質のアルミナ基板とすることができる。多数の光触媒微粒子は、セラミックス基板の孔の内部や基板表面に坦持されている。
この場合、光触媒シート4bは、例えば、以下の様にして作成することができる。
まず、前述したものと同様にしてエマルジョン溶液を生成する。
次に、セラミックス基板をエマルジョン溶液に浸漬させる。
次に、エマルジョン溶液からセラミックス基板を引き上げて、加熱炉などによりセラミックス基板を加熱する。加熱温度は100℃程度、加熱時間は2時間程度とすることができる。
この様にして、孔の内部や表面に多数の光触媒微粒子が坦持された光触媒シート4bを作成することができる。
Further, the photocatalyst sheet 4b may have, for example, a ceramic substrate and a photocatalyst. The ceramic substrate can be, for example, a porous alumina substrate. A large number of photocatalyst fine particles are carried inside the holes of the ceramic substrate or on the substrate surface.
In this case, the photocatalyst sheet 4b can be created, for example, as follows.
First, an emulsion solution is generated in the same manner as described above.
Next, the ceramic substrate is immersed in the emulsion solution.
Next, the ceramic substrate is pulled up from the emulsion solution, and the ceramic substrate is heated by a heating furnace or the like. The heating temperature can be about 100 ° C., and the heating time can be about 2 hours.
In this manner, the photocatalyst sheet 4b in which a large number of photocatalyst fine particles are carried inside or on the surface of the hole can be produced.

光触媒は、例えば、粒状を呈するものとすることができる。光触媒は、光触媒装置1の用途などに応じて適宜選択することができる。例えば、光触媒は、紫外光応答型の光触媒や可視光応答型の光触媒などとすることができる。紫外光応答型の光触媒は、例えば、酸化チタンなどとすることができる。可視光応答型の光触媒は、例えば、酸化タングステン、窒素などをドープした酸化チタン、異種金属をイオン注入した酸化チタンなどとすることができる。   The photocatalyst may have, for example, a granular shape. The photocatalyst can be appropriately selected according to the use of the photocatalyst device 1 and the like. For example, the photocatalyst can be an ultraviolet light responsive photocatalyst, a visible light responsive photocatalyst, or the like. The ultraviolet light responsive photocatalyst can be, for example, titanium oxide. The visible light responsive photocatalyst can be, for example, tungsten oxide, titanium oxide doped with nitrogen or the like, titanium oxide ion-implanted with a different metal, or the like.

また、光触媒装置1には、配線パターンを介して発光素子3bに電力を供給する電源10を設けることもできる。その他、光触媒装置1には、基板3aに設けられた配線パターンと電源10とを電気的に接続するための配線やコネクタなどを適宜設けることができる。   Further, the photocatalyst device 1 may be provided with a power supply 10 for supplying power to the light emitting element 3b via a wiring pattern. In addition, the photocatalyst device 1 can be appropriately provided with a wiring, a connector, and the like for electrically connecting the power supply 10 to the wiring pattern provided on the substrate 3a.

ここで、ガスの流れ方向と垂直な方向に延びる光触媒部4(光触媒シート4b)を筐体2の内部に設けたり、筐体2の内部であって、内壁面から離れた位置に複数の光触媒部4(光触媒シート4b)を設けたりすることもできる。この様にすれば、ガスをトラップし易くなるので、ガス分解性能を高めることができる。
ところが、この様にすれば、ガスの流れが遮られるので圧力損失が大きくなる。圧力損失が大きくなると、ガスの流速の高速化やガスの流量の増大が困難となり、処理能力の向上が図れなくなるおそれがある。
Here, a photocatalyst portion 4 (photocatalyst sheet 4b) extending in a direction perpendicular to the gas flow direction is provided inside the housing 2, or a plurality of photocatalysts are provided inside the housing 2 at a position away from the inner wall surface. A part 4 (photocatalyst sheet 4b) can also be provided. This makes it easier to trap the gas, so that the gas decomposition performance can be improved.
However, in this case, the gas flow is interrupted, so that the pressure loss increases. If the pressure loss increases, it becomes difficult to increase the gas flow rate and increase the gas flow rate, and it may not be possible to improve the processing capacity.

本実施の形態に係る光触媒装置1においては、光源部3は筐体2の内壁面2cに設けられている。また、光触媒部4は筐体2の内壁面2d〜2fに設けられている。そのため、ガスの流れが遮られるのを抑制することができる。その結果、ガスの流速の高速化やガスの流量の増大が可能となり、ひいては処理能力の向上を図ることができる。   In the photocatalyst device 1 according to the present embodiment, the light source unit 3 is provided on the inner wall surface 2c of the housing 2. In addition, the photocatalyst unit 4 is provided on the inner wall surfaces 2d to 2f of the housing 2. Therefore, it is possible to suppress the gas flow from being interrupted. As a result, it is possible to increase the flow rate of the gas and increase the flow rate of the gas, thereby improving the processing capacity.

ここで、ガスの流れが円滑になると、光触媒が坦持された光触媒シート4bに近づかずに、筐体2の内部を単に通過するガスの量が増えるおそれがある。筐体2の内部を単に通過するガスの量が増えると、処理能力が低下するおそれがある。
図2に示すように、光源部3と光触媒部4との間に形成されるガス流G1およびガス流G2は、ガスの流れを遮るものが少ないので、ガスの流れの乱れが少なくなる。
この場合、ガス流G1は、ガスの流れの乱れが少なくても光触媒部4の近くを流れるので、ガスと光触媒シート4bとが接触しやすくなる。そのため、光触媒シート4bの光触媒作用により、ガスに含まれる有害物質の分解除去などを行うことができる。
Here, if the flow of gas is smooth, there is a possibility that the amount of gas that simply passes through the inside of the housing 2 without approaching the photocatalyst sheet 4b carrying the photocatalyst may increase. If the amount of gas that simply passes through the inside of the housing 2 increases, the processing capacity may be reduced.
As shown in FIG. 2, the gas flow G <b> 1 and the gas flow G <b> 2 formed between the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 have little obstruction to the gas flow, so that the gas flow disturbance is reduced.
In this case, the gas flow G1 flows near the photocatalyst unit 4 even if the flow of the gas is small, so that the gas easily comes into contact with the photocatalyst sheet 4b. Therefore, by the photocatalytic action of the photocatalyst sheet 4b, harmful substances contained in the gas can be decomposed and removed.

一方、ガス流G3は、複数の発光素子3bからなる凹凸により、ガスの流れが乱される。ガス流G3の流れが乱れれば、隣接するガス流G2の流れを乱すことができる。ガス流G2およびガス流G3の流れが乱れれば、ガス流G2およびガス流G3に含まれるガスと内壁面2e、2fに設けられた光触媒シート4bとが接触しやすくなる。そのため、処理能力の向上を図ることができる。   On the other hand, the gas flow G3 is disturbed by the unevenness formed by the plurality of light emitting elements 3b. If the flow of the gas flow G3 is disturbed, the flow of the adjacent gas flow G2 can be disturbed. If the flows of the gas flow G2 and the gas flow G3 are disturbed, the gas contained in the gas flow G2 and the gas flow G3 easily comes into contact with the photocatalyst sheet 4b provided on the inner wall surfaces 2e and 2f. Therefore, the processing capacity can be improved.

この場合、発光素子3bの発光面3b1と、光触媒シート4bの表面との間の距離Lが長くなりすぎると、ガス流G2およびガス流G3に含まれるガスと内壁面2dに設けられた光触媒シート4bとが接触し難くなる。一方、発光素子3bの発光面3b1と、光触媒シート4bの表面との間の距離Lが短くなりすぎると、圧力損失が大きくなりすぎるおそれがある。すなわち、距離Lが長くなりすぎても、短くなりすぎても処理能力が低下するおそれがある。   In this case, if the distance L between the light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b and the surface of the photocatalyst sheet 4b is too long, the gas contained in the gas flow G2 and the gas flow G3 and the photocatalyst sheet provided on the inner wall surface 2d 4b becomes difficult to contact. On the other hand, if the distance L between the light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b and the surface of the photocatalyst sheet 4b is too short, the pressure loss may be too large. That is, even if the distance L is too long or too short, the processing capability may be reduced.

本発明者の得た知見によれば、ガスの流速が0.04m/s以上、0.50m/s以下であれば、距離Lは、1mm以上、100mm以下とすることが好ましい。この様にすれば、処理能力の向上を図ることができる。   According to the knowledge obtained by the present inventor, if the gas flow velocity is 0.04 m / s or more and 0.50 m / s or less, the distance L is preferably 1 mm or more and 100 mm or less. By doing so, the processing capacity can be improved.

図5は、他の実施形態に係る光源部3および光触媒部4の配置を例示するための模式断面図である。
図5に示すように、光源部3および光触媒部4は2組設けることができる。なお、筐体2の断面の内形形状が四角形であるため2組の光源部3および光触媒部4を例示したが、光源部3および光触媒部の組数は、筐体2の断面の内形形状に応じて適宜変更することができる。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating the arrangement of the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 according to another embodiment.
As shown in FIG. 5, two sets of the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 can be provided. Although the inside shape of the cross section of the housing 2 is a quadrangle, two sets of the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 are illustrated. It can be changed appropriately according to the shape.

図5に示すように、一方の光源部3と光触媒部4は対峙している。他方の光源部3と光触媒部4は対峙している。例えば、内壁面2cおよび内壁面2eのそれぞれには、光源部3を設けることができる。内壁面2dおよび内壁面2fのそれぞれには、光触媒部4を設けることができる。
すなわち、光触媒装置1は、筐体の内壁面2cに設けられ、第1の発光素子を有する第1の光源部と、内壁面2fと対峙する内壁面2eに設けられ、第2の発光素子を有する第2の光源部と、を備えることができる。
光源部3および光触媒部4を複数組設ければ、処理能力の向上を図ることができる。
As shown in FIG. 5, one light source unit 3 and photocatalyst unit 4 face each other. The other light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 face each other. For example, the light source unit 3 can be provided on each of the inner wall surface 2c and the inner wall surface 2e. A photocatalyst unit 4 can be provided on each of the inner wall surface 2d and the inner wall surface 2f.
That is, the photocatalyst device 1 is provided on the inner wall surface 2c of the housing, and provided on the first light source unit having the first light emitting element and the inner wall surface 2e facing the inner wall surface 2f. And a second light source unit.
If a plurality of sets of the light source unit 3 and the photocatalyst unit 4 are provided, the processing capability can be improved.

この場合、2組の光源部3および光触媒部4の構成は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
2組の光源部3および光触媒部4の構成を異なるものとする場合には、例えば、第1の発光素子が照射する光のピーク波長と、第2の発光素子が照射する光のピーク波長が異なるようにすることができる。例えば、一方の光源部3はピーク波長が380nm以下の光を照射するものとし、当該光源部3に対峙する光触媒部4には紫外光応答型の光触媒が含まれているようにする。他方の光源部3はピーク波長が380nm以上(例えば、400nm〜600nm程度)の光を照射するものとし、当該光源部3に対峙する光触媒部4には可視光応答型の光触媒が含まれているようにする。
異なる構成の光触媒部4を設けるようにすれば、それぞれの光触媒部4において吸着性能が優れるガス種を異なるようにできる。そのため、例えば、複数種類のガス種が混在するガスを処理する場合に、効率良く、ガスを分解、除去することができる。
In this case, the configurations of the two light source units 3 and the photocatalyst unit 4 may be the same or different.
When the two light source units 3 and the photocatalyst unit 4 have different configurations, for example, the peak wavelength of the light emitted by the first light emitting element and the peak wavelength of the light emitted by the second light emitting element are different. It can be different. For example, one light source unit 3 emits light having a peak wavelength of 380 nm or less, and the photocatalyst unit 4 facing the light source unit 3 includes an ultraviolet light responsive photocatalyst. The other light source unit 3 emits light having a peak wavelength of 380 nm or more (for example, about 400 nm to 600 nm), and the photocatalyst unit 4 facing the light source unit 3 includes a visible light responsive photocatalyst. To do.
If the photocatalyst units 4 having different configurations are provided, gas types having excellent adsorption performance in the respective photocatalyst units 4 can be made different. Therefore, for example, when processing a gas in which a plurality of types of gas are mixed, the gas can be efficiently decomposed and removed.

図6は、他の実施形態に係る筐体12を例示するための模式断面図である。
図6に示すように、筐体12の断面の内形形状は、長方形とすることができる。
この場合、長方形の長辺側の内壁面12cに光源部3を設け、長方形の長辺側の内壁面12dに光触媒部4を設けるようにすることが好ましい。
この様にすれば、発光素子3bの発光面3b1と、光触媒シート4bの表面との間の距離Lを短くすることができる。距離Lを短くすることができれば、光触媒シート4bに照射される光の強度を高めることができる。また、前述したガス流G2およびガス流G3に含まれるガスと光触媒シート4bとが接触しやすくなる。
また、長方形の長辺側の内壁面12dに光触媒部4を設ければ、光触媒シート4bの面積を大きくすることができる。
そのため、処理能力の向上を図ることができる。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a housing 12 according to another embodiment.
As shown in FIG. 6, the inner shape of the cross section of the housing 12 can be a rectangle.
In this case, it is preferable that the light source unit 3 be provided on the inner wall surface 12c on the long side of the rectangle and the photocatalyst unit 4 be provided on the inner wall surface 12d on the long side of the rectangle.
By doing so, the distance L between the light emitting surface 3b1 of the light emitting element 3b and the surface of the photocatalyst sheet 4b can be reduced. If the distance L can be shortened, the intensity of light applied to the photocatalyst sheet 4b can be increased. Further, the gas contained in the gas flow G2 and the gas flow G3 described above easily comes into contact with the photocatalyst sheet 4b.
Further, if the photocatalyst portion 4 is provided on the inner wall surface 12d on the long side of the rectangle, the area of the photocatalyst sheet 4b can be increased.
Therefore, the processing capacity can be improved.

なお、長方形の短辺側の内壁面12e、12fにも光触媒部4を設ければ、光触媒シート4bの面積をさらに大きくすることができる。
そのため、処理能力のさらなる向上を図ることができる。
If the photocatalyst portion 4 is provided also on the inner wall surfaces 12e and 12f on the shorter side of the rectangle, the area of the photocatalyst sheet 4b can be further increased.
Therefore, the processing capacity can be further improved.

以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。   While some embodiments of the present invention have been described above, these embodiments have been presented by way of example only, and are not intended to limit the scope of the inventions. These new embodiments can be implemented in other various forms, and various omissions, replacements, changes, and the like can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and their equivalents. The above-described embodiments can be implemented in combination with each other.

1 光触媒装置、2 筐体、2c 内壁面、2d 内壁面、2e 内壁面、2f 内壁面、3 光源部、3a 基板、3b 発光素子、4 光触媒部、4a 枠部、4b 光触媒シート、10 電源、12 筐体、12c 内壁面、12d 内壁面、12e 内壁面、12f 内壁面   Reference Signs List 1 photocatalyst device, 2 housing, 2c inner wall surface, 2d inner wall surface, 2e inner wall surface, 2f inner wall surface, 3 light source section, 3a substrate, 3b light emitting element, 4 photocatalyst section, 4a frame section, 4b photocatalyst sheet, 10 power supply, 12 housing, 12c inner wall surface, 12d inner wall surface, 12e inner wall surface, 12f inner wall surface

Claims (6)

断面の内形形状が多角形であり、複数の内壁面を有する筒状の筐体と;
前記筐体の第1の内壁面に設けられ、複数の第1の発光素子を備え、前記第1の内壁面側とは反対側に前記複数の第1の発光素子による凹凸を有する第1の光源部と;
前記筐体の前記第1の内壁面と対峙する第2の内壁面に設けられ、第1の光触媒を有する第1の光触媒部と;
前記第2の内壁面の一方の側に隣接する第3の内壁面に設けられ、第2の光触媒を有する第2の光触媒部と;
を具備し
前記複数の第1の発光素子の発光面のそれぞれと、前記第1の光触媒部と、の間の距離は、1mm以上、100mm以下である光触媒装置。
A cylindrical housing having a polygonal cross-sectional inner shape and a plurality of inner wall surfaces;
Wherein provided on the first inner wall surface of the housing includes a plurality of first light-emitting element, wherein the first inner wall surface first with irregularities by the plurality of first light emitting element on the opposite side A light source section;
A first photocatalyst unit provided on a second inner wall surface facing the first inner wall surface of the housing and having a first photocatalyst;
A second photocatalyst unit provided on a third inner wall surface adjacent to one side of the second inner wall surface and having a second photocatalyst;
Equipped with,
The photocatalyst device, wherein a distance between each of the light emitting surfaces of the plurality of first light emitting elements and the first photocatalyst unit is 1 mm or more and 100 mm or less .
前記第1の光触媒の組成と、前記第2の光触媒の組成が異なる請求項1記載の光触媒装置。   The photocatalyst device according to claim 1, wherein a composition of the first photocatalyst is different from a composition of the second photocatalyst. 前記第1の光触媒の組成と、前記第2の光触媒の組成が同じである請求項1記載の光触媒装置。   The photocatalyst device according to claim 1, wherein the composition of the first photocatalyst is the same as the composition of the second photocatalyst. 前記第3の内壁面と対峙する第4の内壁面に設けられ、第2の発光素子を有する第2の光源部を更に備えた請求項1〜3のいずれか1つに記載の光触媒装置。   The photocatalyst device according to any one of claims 1 to 3, further comprising a second light source unit provided on a fourth inner wall surface facing the third inner wall surface and having a second light emitting element. 前記第3の内壁面と対峙する第4の内壁面に設けられ、前記第1の光触媒または前記第2の光触媒を有する第3の光触媒部を更に備えた請求項1〜3のいずれか1つに記載の光触媒装置。   4. The device according to claim 1, further comprising a third photocatalyst provided on a fourth inner wall surface facing the third inner wall surface and having the first photocatalyst or the second photocatalyst. 5. The photocatalyst device according to item 1. 前記第1の発光素子が照射する光のピーク波長と、前記第2の発光素子が照射する光のピーク波長が異なる請求項4記載の光触媒装置。   The photocatalyst device according to claim 4, wherein a peak wavelength of light emitted by the first light emitting element is different from a peak wavelength of light emitted by the second light emitting element.
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