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JP7659732B2 - Sterilization and purification equipment - Google Patents
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  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)

Description

本発明の実施形態は、除菌浄化装置に関する。 An embodiment of the present invention relates to a sterilization and purification device.

健康意識の高まりを反映して、電車や自動車などの車内、冷蔵庫内、居住空間などの所謂、閉鎖空間におけるガスの浄化(例えば、空気の浄化)と、細菌やウィルスの除菌や不活性化などの要望が高まっている。例えば、食物から発生するアンモニアやエチレンの除去、タバコ煙に含まれるアセトアルデヒドなどのVOC(Volatile Organic Compounds;揮発性有機化合物)の除去や脱臭、ガスに含まれている細菌やウィルスの除菌や不活性化などの要求が高まっている。 Reflecting growing health consciousness, there is an increasing demand for gas purification (e.g., air purification) and sterilization and inactivation of bacteria and viruses in so-called closed spaces such as the inside of trains and automobiles, refrigerators, and living spaces. For example, there is a growing demand for the removal of ammonia and ethylene generated from food, the removal and deodorization of VOCs (Volatile Organic Compounds) such as acetaldehyde contained in cigarette smoke, and the sterilization and inactivation of bacteria and viruses contained in gas.

そのため、複数の発光ダイオードを有する光源と、光触媒が坦持された光触媒フィルタとを備えた光触媒装置が提案されている。
また、除菌浄化装置が設置された雰囲気に含まれているゴミなどの異物が、処理対象であるガスとともに除菌浄化装置の内部に吸い込まれる場合がある。除菌浄化装置の内部に吸い込まれた異物が、光触媒フィルタや発光ダイオードに付着すると、除菌浄化装置の機能が低下するおそれがある。そのため、ガスの流れ方向において、異物を捕捉するフィルタ(プレフィルタなどとも称される)を、光触媒フィルタの上流側に設ける場合もある。
For this reason, a photocatalyst device has been proposed that includes a light source having a plurality of light-emitting diodes and a photocatalyst filter carrying a photocatalyst.
In addition, foreign matter such as dust contained in the atmosphere in which the sterilization and purification device is installed may be sucked into the sterilization and purification device together with the gas to be treated. If the foreign matter sucked into the sterilization and purification device adheres to the photocatalytic filter or the light-emitting diode, the function of the sterilization and purification device may be reduced. Therefore, a filter (also called a pre-filter) that captures foreign matter in the gas flow direction may be provided upstream of the photocatalytic filter.

一般的には、光触媒フィルタには、いわゆる紫外光応答型の光触媒が坦持されている。そのため、光源には、紫外光を照射する発光ダイオードが用いられる。紫外光には殺菌作用があるので、紫外光を照射する発光ダイオードを備えた光触媒装置とすれば、光触媒作用により生成された活性酸素種などによりガスの浄化を行うことができ、且つ、生成された活性酸素種などと、紫外光とにより、細菌やウィルスをある程度除菌したり、不活性化したりすることができる。 Generally, photocatalytic filters carry a so-called ultraviolet light responsive photocatalyst. For this reason, a light emitting diode that irradiates ultraviolet light is used as the light source. Since ultraviolet light has a bactericidal effect, a photocatalytic device equipped with a light emitting diode that irradiates ultraviolet light can purify gases using active oxygen species generated by photocatalytic action, and bacteria and viruses can be sterilized or inactivated to a certain extent by the generated active oxygen species and ultraviolet light.

この場合、光触媒フィルタの上流側に設けられたフィルタに紫外光を照射しても光触媒作用は発現しない。そのため、一般的には、発光ダイオードから照射された紫外光の利用効率を高めるために、光触媒フィルタを透過する紫外光の光量が少なくなるようにしている。その結果、一般的には、発光ダイオードから照射された紫外光は、光触媒フィルタの上流側に設けられたフィルタにはほとんど届かない。 In this case, even if ultraviolet light is irradiated onto the filter installed upstream of the photocatalytic filter, no photocatalytic action is exhibited. Therefore, in general, in order to increase the efficiency of using the ultraviolet light irradiated from the light-emitting diode, the amount of ultraviolet light that passes through the photocatalytic filter is reduced. As a result, in general, very little of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting diode reaches the filter installed upstream of the photocatalytic filter.

ここで、ガスが除菌浄化装置の内部に吸い込まれた際に、ガスに含まれている細菌やウィルスがフィルタに付着する場合がある。発光ダイオードから照射された紫外光は、フィルタにはほとんど届かないので、紫外光による細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができない。そのため、フィルタに付着した細菌やウィルスの感染力がある程度の期間維持されるので、メンテナンスなどの際に、作業者がフィルタに触ると、作業者が細菌やウィルスに感染するおそれがある。 When gas is sucked into the sterilization and purification device, bacteria and viruses contained in the gas may adhere to the filter. Because the ultraviolet light emitted from the light-emitting diode hardly reaches the filter, it is not possible to sterilize or inactivate the bacteria or viruses using ultraviolet light. As a result, the infectiousness of the bacteria and viruses that adhere to the filter is maintained for a certain period of time, so if an operator touches the filter during maintenance, etc., the operator may become infected with bacteria or viruses.

この場合、フィルタに紫外光を照射する光源をさらに設けることも考えられるが、除菌浄化装置の大型化、高コスト化、設置スペースの増大などを招くことになる。
またさらに、光触媒フィルタと、紫外光を照射する発光ダイオードと、を設けると、光触媒作用が経時的に低下する場合がある。
そこで、簡易な構成で、フィルタに付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができ、且つ、光触媒作用が経時的に低下するのを抑制することができる除菌浄化装置の開発が望まれていた。
In this case, it is possible to further provide a light source for irradiating the filter with ultraviolet light, but this would result in an increase in size, cost, and installation space of the sterilization and purification device.
Furthermore, when a photocatalytic filter and a light-emitting diode that irradiates ultraviolet light are provided, the photocatalytic effect may decrease over time.
Therefore, there was a need for the development of a sterilization and purification device that could sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to a filter with a simple configuration and that could suppress the deterioration of the photocatalytic action over time .

特開2011-218073号公報JP 2011-218073 A

本発明が解決しようとする課題は、簡易な構成で、フィルタに付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができ、且つ、光触媒作用が経時的に低下するのを抑制することができる除菌浄化装置を提供することである。 The problem that the present invention aims to solve is to provide a sterilization and purification device that can sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to a filter with a simple configuration and can suppress the deterioration of photocatalytic action over time .

実施形態に係る除菌浄化装置は、シートと、前記シートに坦持された光触媒と、を有する光触媒フィルタと;前記光触媒フィルタと対向し、第1の発光素子と、第2の発光素子と、を有する光源と;前記光触媒フィルタと対向し、前記光触媒フィルタの、前記光源側とは反対側に設けられたフィルタと;を具備している。前記第1の発光素子は、第1の光を、前記光触媒フィルタに向けて照射する。前記第2の発光素子は、第2の光であって、前記第1の光よりもピーク波長が短い紫外光を、前記光触媒フィルタに向けて照射する。前記光触媒フィルタに照射された前記第2の光の一部が、前記光触媒フィルタを透過して前記フィルタに照射される。前記光源が光を照射した際に、前記光源からガスが放出される。処理の対象となる気体は、前記フィルタ側から、前記光源側に向けて流れ、放出された前記ガスが、前記処理の対象となる前記気体の流れにより、前記光触媒フィルタに到達するのが阻害される。 The sterilization and purification device according to the embodiment includes a photocatalytic filter having a sheet and a photocatalyst supported on the sheet; a light source facing the photocatalytic filter and having a first light-emitting element and a second light-emitting element; and a filter facing the photocatalytic filter and provided on the opposite side of the photocatalytic filter from the light source side. The first light-emitting element irradiates the photocatalytic filter with a first light. The second light-emitting element irradiates the photocatalytic filter with a second light, which is ultraviolet light having a shorter peak wavelength than the first light. A part of the second light irradiated to the photocatalytic filter passes through the photocatalytic filter and is irradiated to the filter . When the light source irradiates light, a gas is released from the light source. The gas to be treated flows from the filter side toward the light source side, and the released gas is prevented from reaching the photocatalytic filter by the flow of the gas to be treated.

本発明の実施形態によれば、簡易な構成で、フィルタに付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができ、且つ、光触媒作用が経時的に低下するのを抑制することができる除菌浄化装置を提供することができる。 According to an embodiment of the present invention, a sterilization and purification device can be provided that has a simple configuration and can sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to a filter, and can suppress the deterioration of photocatalytic activity over time .

本実施の形態に係る除菌浄化装置を例示するための模式分解図である。FIG. 2 is a schematic exploded view illustrating the sterilization and purification device according to the present embodiment. 図1における除菌浄化装置のA-A線方向の模式断面図である。2 is a schematic cross-sectional view of the sterilization and purification device in FIG. 1 taken along line AA. 比較例に係る除菌浄化装置を例示するための模式断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view illustrating a sterilization and purification device according to a comparative example.

以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、本実施の形態に係る除菌浄化装置1を例示するための模式分解図である。
図2は、図1における除菌浄化装置1のA-A線方向の模式断面図である。
図1および図2に示すように、除菌浄化装置1は、例えば、フレーム2、蓋3、光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6を有する。
Hereinafter, an embodiment will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted as appropriate.
FIG. 1 is a schematic exploded view illustrating a sterilization and purification device 1 according to the present embodiment.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the sterilization and purification device 1 in FIG. 1 taken along line AA.
As shown in FIGS. 1 and 2 , a sterilization and purification device 1 includes, for example, a frame 2 , a lid 3 , a light source 4 , a photocatalytic filter 5 , and a filter 6 .

フレーム2は、箱状を呈している。ガスGの流入側から見た場合に、フレーム2の輪郭は、略四角形とすることができる。フレーム2の輪郭は、例えば、略多角形や略円形などとすることもできる。ただし、後述する光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6の着脱やスペース効率を考慮すると、フレーム2の輪郭は、略四角形とすることが好ましい。 The frame 2 has a box shape. When viewed from the inflow side of the gas G, the outline of the frame 2 can be approximately rectangular. The outline of the frame 2 can also be, for example, approximately polygonal or approximately circular. However, taking into consideration the attachment and detachment of the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 described below and space efficiency, it is preferable that the outline of the frame 2 be approximately rectangular.

フレーム2の、一方の端部2aは開口している。フレーム2の、端部2aに対向する端部2bは塞がっている。フレーム2の、一方の側面2cには孔2c1が設けられている。フレーム2の、側面2cに対向する側面2dには孔2d1が設けられている。 One end 2a of the frame 2 is open. The end 2b of the frame 2 opposite the end 2a is closed. One side 2c of the frame 2 has a hole 2c1. One side 2d of the frame 2 opposite the side 2c has a hole 2d1.

側面2cの孔2c1、および側面2dの孔2d1は、処理の対象となるガスGの流入口または流出口となる。この場合、図2に示すように、例えば、側面2cの孔2c1をガスGの流入口、側面2dの孔2d1をガスGの流出口とすることができる。孔2d1を流出口とする場合には、側面2dにファン7を設けるようにしてもよい。 The hole 2c1 on the side surface 2c and the hole 2d1 on the side surface 2d serve as an inlet or outlet for the gas G to be treated. In this case, as shown in FIG. 2, for example, the hole 2c1 on the side surface 2c can serve as an inlet for the gas G, and the hole 2d1 on the side surface 2d can serve as an outlet for the gas G. When the hole 2d1 serves as an outlet, a fan 7 can be provided on the side surface 2d.

ファン7は、光源4の、光触媒フィルタ5側とは反対側に設けられている。ファン7は、フレーム2の内部にあるガスGを排気する。ファン7は、フィルタ6側から、光源4側に向けて流れるガスGの流れを形成する。ファン7は、必ずしも必要ではなく省くこともできる。例えば、ガスGの流れの中に除菌浄化装置1を設ける場合には、ファン7を省くことができる。 The fan 7 is provided on the opposite side of the light source 4 from the photocatalytic filter 5 side. The fan 7 exhausts the gas G inside the frame 2. The fan 7 forms a flow of gas G that flows from the filter 6 side toward the light source 4 side. The fan 7 is not necessarily required and can be omitted. For example, if the sterilization and purification device 1 is provided in the flow of gas G, the fan 7 can be omitted.

なお、側面2cの孔2c1をガスGの流出口、側面2dの孔2d1をガスGの流入口としてもよい。すなわち、ガスGが、フィルタ6側から光源4側に向けて流れるようになっていればよい。 The hole 2c1 on the side surface 2c may be an outlet for gas G, and the hole 2d1 on the side surface 2d may be an inlet for gas G. In other words, it is sufficient that gas G flows from the filter 6 side toward the light source 4 side.

ガスGは、例えば、空気を主成分とし、処理の対象となる物質、細菌、ウィルスなどを含む気体とすることができる。なお、処理の対象となる物質は、光触媒作用により浄化可能なものであればよい。処理の対象となる物質は、例えば、アンモニア、エチレン、アセトアルデヒドなどのVOCなどとすることができる。 The gas G may be, for example, a gas containing air as a main component and containing the substance to be treated, bacteria, viruses, etc. The substance to be treated may be anything that can be purified by photocatalysis. The substance to be treated may be, for example, ammonia, ethylene, VOCs such as acetaldehyde, etc.

また、フレーム2の、側面2cおよび側面2dの少なくともいずれかには、格子などを設けることもできる。格子が設けられていれば、指や異物がフレーム2の内部に侵入するのを抑制することができる。 Furthermore, a lattice or the like can be provided on at least one of side 2c and side 2d of frame 2. Providing a lattice can prevent fingers or foreign objects from entering the inside of frame 2.

フレーム2の、側面2cに交差する側面2eには複数の溝2e1が設けられている。フレーム2の、側面2eに対向する側面2fには複数の溝2f1が設けられている。複数の溝2e1および複数の溝2f1は、フレーム2の内部に開口している。複数の溝2e1および複数の溝2f1は、フレーム2の側面2cと側面2dとの間に並べて設けられている。複数の溝2e1および複数の溝2f1は、フレーム2の端部2aと端部2bとの間を延びている。 A plurality of grooves 2e1 are provided on side surface 2e of frame 2, which intersects with side surface 2c. A plurality of grooves 2f1 are provided on side surface 2f of frame 2, which faces side surface 2e. The plurality of grooves 2e1 and the plurality of grooves 2f1 open to the inside of frame 2. The plurality of grooves 2e1 and the plurality of grooves 2f1 are arranged side by side between side surface 2c and side surface 2d of frame 2. The plurality of grooves 2e1 and the plurality of grooves 2f1 extend between end portions 2a and 2b of frame 2.

溝2e1は、対向する溝2f1と略平行に設けられている。互いに対向する一対の溝2e1、2f1は、複数組設けられる。複数組の一対の溝2e1、2f1は、光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6を挿入するスロットとなる。この場合、ガスGの流れの上流側から順に、フィルタ6、光触媒フィルタ5、および光源4を並べて設けることができる。一対の溝2e1、2f1の寸法は、挿入される光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6の寸法に応じて適宜変更することができる。 The groove 2e1 is provided approximately parallel to the opposing groove 2f1. Multiple pairs of opposing grooves 2e1, 2f1 are provided. The multiple pairs of grooves 2e1, 2f1 serve as slots into which the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 are inserted. In this case, the filter 6, photocatalytic filter 5, and light source 4 can be arranged in order from the upstream side of the flow of gas G. The dimensions of the pair of grooves 2e1, 2f1 can be changed as appropriate depending on the dimensions of the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 to be inserted.

一対の溝2e1、2f1に挿入された光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6は、互いに略平行となる。光触媒フィルタ5と光源4とが略平行となれば、光源4から照射された紫外光を光触媒フィルタ5に効率よく入射させることができる。そのため、光触媒フィルタ5によるガスGの浄化を効率よく行うことができ、且つ、光触媒フィルタ5に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を効率よく行うことができる。 The light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 inserted into the pair of grooves 2e1, 2f1 are approximately parallel to each other. When the photocatalytic filter 5 and the light source 4 are approximately parallel, the ultraviolet light irradiated from the light source 4 can be efficiently incident on the photocatalytic filter 5. Therefore, the photocatalytic filter 5 can efficiently purify the gas G, and can efficiently sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to the photocatalytic filter 5.

光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6のそれぞれが挿入される一対の溝2e1、2f1が設けられていれば、光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6を、フレーム2の内部に抜き差し自在に設けることができる。そのため、メンテナンス性の向上を図ることができる。また、ガスGの流量、ガスGに含まれている物質の量、光源4から照射される紫外光の光強度(光量)などに応じて、光源4や光触媒フィルタ5の仕様を変更したり、ガスGに含まれている異物の量や種類などに応じて、フィルタ6の仕様を変更したりするのが容易となる。 If a pair of grooves 2e1, 2f1 into which the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 are inserted are provided, the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 can be freely inserted and removed inside the frame 2. This improves maintainability. In addition, it becomes easy to change the specifications of the light source 4 and photocatalytic filter 5 according to the flow rate of the gas G, the amount of substances contained in the gas G, the light intensity (light amount) of the ultraviolet light irradiated from the light source 4, etc., and to change the specifications of the filter 6 according to the amount and type of foreign matter contained in the gas G.

フレーム2の材料には、特に限定はない。ただし、フレーム2の材料を熱可塑性樹脂とすれば、射出成形法を用いてフレーム2を形成することができる。そのため、製造コストの低減を図ることができる。 There are no particular limitations on the material of the frame 2. However, if the material of the frame 2 is a thermoplastic resin, the frame 2 can be formed using an injection molding method. This can reduce manufacturing costs.

例えば、フレーム2の材料は、ABS樹脂(アクリルニトリルーブタジエンースチレン共重合合成樹脂)とすることができる。フレーム2の材料が、ABS樹脂であれば、成形性の向上と低コスト化を図ることができる。この場合、フレーム2の材料を強化ABS樹脂とすれば、フレーム2の強度を向上させることができる。なお、強化ABS樹脂は、ABS樹脂にガラス繊維などを混合させたものである。 For example, the material of the frame 2 can be ABS resin (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer synthetic resin). If the material of the frame 2 is ABS resin, it is possible to improve moldability and reduce costs. In this case, if the material of the frame 2 is reinforced ABS resin, it is possible to improve the strength of the frame 2. Note that reinforced ABS resin is ABS resin mixed with glass fiber, etc.

また、フレーム2の材料は、例えば、ポリプロピレン樹脂やアクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチル樹脂)などであってもよい。この場合、フレーム2の材料が、アクリル樹脂であれば、光源4から照射された紫外光に対する耐性と、ガスGに含まれるVOCに対する耐性が向上する。また、アクリル樹脂の重合度を10000~15000程度とすれば、発臭を抑制することができる。 The material of the frame 2 may be, for example, polypropylene resin or acrylic resin (polymethyl methacrylate resin). In this case, if the material of the frame 2 is acrylic resin, it will have improved resistance to the ultraviolet light irradiated from the light source 4 and to the VOCs contained in the gas G. Furthermore, if the degree of polymerization of the acrylic resin is about 10,000 to 15,000, odor generation can be suppressed.

また、フレーム2の材料は、金属とすることもできる。フレーム2の材料を金属とすれば、除菌浄化装置1の剛性を高めることができる。金属は、例えば、鉄、ステンレス、アルミニウム合金などとすることができる。 The frame 2 can also be made of a metal. If the frame 2 is made of a metal, the rigidity of the sterilization and purification device 1 can be increased. The metal can be, for example, iron, stainless steel, or an aluminum alloy.

蓋3は、フレーム2の端部2aに設けられている。蓋3は、端部2aに設けられた開口を覆ってる。蓋3が設けられていれば、フレーム2の内部に設けられた光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6が、脱離するのを抑制することができる。また、フレーム2の内部に異物が侵入するのを抑制することができる。蓋3は、ネジなどを用いてフレーム2に取り付けることができる。また、蓋3にフックなどを設け、フレーム2に設けられた凹部や凸部にフックを保持させるようにしてもよい。蓋3がフレーム2に着脱自在に設けられていれば、メンテナンス性の向上を図ることができる。蓋3の材料には特に限定がない。例えば、蓋3の材料は、フレーム2の材料と同じとすることができる。 The lid 3 is provided at the end 2a of the frame 2. The lid 3 covers the opening at the end 2a. The lid 3 can prevent the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 provided inside the frame 2 from coming off. It can also prevent foreign matter from entering the inside of the frame 2. The lid 3 can be attached to the frame 2 using a screw or the like. Also, a hook or the like may be provided on the lid 3, and the hook may be held by a recess or protrusion provided on the frame 2. If the lid 3 is provided on the frame 2 so that it can be easily attached and detached, it is possible to improve maintainability. There is no particular limitation on the material of the lid 3. For example, the material of the lid 3 can be the same as the material of the frame 2.

光源4は、少なくとも1つ設けることができる。光源4は、フレーム2の内部に設けられる。光源4は、光触媒フィルタ5と対向している。ガスGの流れ方向において、光源4は、光触媒フィルタ5の下流側に設けることが好ましい。
なお、ガスGの流れ方向における、光源4と光触媒フィルタ5との配置に関する効果は後述する。
At least one light source 4 can be provided. The light source 4 is provided inside the frame 2. The light source 4 faces the photocatalytic filter 5. In the flow direction of the gas G, the light source 4 is preferably provided downstream of the photocatalytic filter 5.
The effect of the arrangement of the light source 4 and the photocatalytic filter 5 in the flow direction of the gas G will be described later.

光源4は、例えば、基板4a、発光素子4b(第1の発光素子の一例に相当する)、および発光素子4c(第2の発光素子の一例に相当する)を有する。
基板4aは、板状を呈している。基板4aはガスGの流路に設けられる。そのため、基板4aが設けられていると、ガスGの流通が妨げられるおそれがある。この場合、厚み方向を貫通する複数の孔を基板4aに設けることができる。しかしながら、孔の大きさが小さければ圧力損失が大きくなるのでガスGの流通が妨げられる。孔の大きさを大きくすると、発光素子4b、4cと配線パターンの配置や数などに制約が生じる。
The light source 4 includes, for example, a substrate 4a, a light emitting element 4b (corresponding to an example of a first light emitting element), and a light emitting element 4c (corresponding to an example of a second light emitting element).
The substrate 4a has a plate shape. The substrate 4a is provided in the flow path of the gas G. Therefore, if the substrate 4a is provided, there is a risk that the flow of the gas G may be hindered. In this case, a plurality of holes penetrating in the thickness direction may be provided in the substrate 4a. However, if the size of the holes is small, the pressure loss increases, and the flow of the gas G is hindered. If the size of the holes is large, restrictions arise in the arrangement and number of the light emitting elements 4b and 4c and the wiring patterns.

そこで、図1に示すように、基板4aの幅寸法W1は、光触媒フィルタ5の幅寸法W2よりも小さくしている。なお、幅寸法は、一対の溝2e1、2f1が延びる方向における寸法である。この様にすれば、適切なガスGの流通を確保することができるとともに、発光素子4b、4cと配線パターンの配置や数などに制約が生じるのを抑制することができる。
本発明者の得た知見によれば、「W1(mm)/W2(mm)」が、0.5より小さければ、適切なガスGの流通を確保するのが容易となる。
1, the width W1 of the substrate 4a is made smaller than the width W2 of the photocatalytic filter 5. The width is the dimension in the direction in which the pair of grooves 2e1, 2f1 extend. In this way, it is possible to ensure an appropriate flow of gas G and to prevent restrictions on the arrangement and number of the light-emitting elements 4b, 4c and the wiring patterns.
According to the findings of the present inventors, if "W1 (mm)/W2 (mm)" is smaller than 0.5, it is easy to ensure an appropriate flow of gas G.

基板4aの材料や構造には特に限定はない。例えば、基板4aは、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどの無機材料(セラミックス)、紙フェノールやガラスエポキシなどの有機材料などから形成することができる。また、基板4aは、金属板の表面を絶縁材料で被覆したメタルコア基板などであってもよい。 There are no particular limitations on the material or structure of the substrate 4a. For example, the substrate 4a can be made of inorganic materials (ceramics) such as aluminum oxide or aluminum nitride, or organic materials such as paper phenol or glass epoxy. The substrate 4a may also be a metal core substrate in which the surface of a metal plate is covered with an insulating material.

発光素子4b、4cの発熱量が多い場合には、放熱性の観点から熱伝導率の高い材料を用いて基板4aを形成することが好ましい。また、発光素子4b、4cから照射された紫外光に対する耐性が高い材料を用いて基板4aを形成することが好ましい。例えば、基板4aは、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどのセラミックス、メタルコア基板などから形成するのが好ましい。
また、基板4aは、単層構造を有するものであってもよいし、多層構造を有するものであってもよい。
When the light emitting elements 4b and 4c generate a large amount of heat, it is preferable to form the substrate 4a using a material with high thermal conductivity from the viewpoint of heat dissipation. It is also preferable to form the substrate 4a using a material with high resistance to ultraviolet light irradiated from the light emitting elements 4b and 4c. For example, it is preferable to form the substrate 4a from ceramics such as aluminum oxide or aluminum nitride, a metal core substrate, or the like.
Furthermore, the substrate 4a may have a single-layer structure or a multi-layer structure.

発光素子4bは、基板4aの、光触媒フィルタ5と対向する側の面に設けることができる。発光素子4bは、例えば、基板4aの面に設けられた配線パターンと電気的に接続される。発光素子4bの形式には特に限定はない。発光素子4bは、例えば、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)型などの表面実装型の発光素子とすることができる。発光素子4bは、例えば、砲弾型などのリード線を有する発光素子とすることもできる。 The light-emitting element 4b can be provided on the surface of the substrate 4a facing the photocatalytic filter 5. The light-emitting element 4b is, for example, electrically connected to a wiring pattern provided on the surface of the substrate 4a. There are no particular limitations on the type of the light-emitting element 4b. The light-emitting element 4b can be, for example, a surface-mount type light-emitting element such as a PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier) type. The light-emitting element 4b can also be, for example, a light-emitting element having leads such as a bullet type.

また、発光素子4bは、COB(Chip On Board)により実装されるものとしてもよい。COBにより実装される発光素子4bとする場合には、チップ状の発光素子と、発光素子と配線パターンを電気的に接続する配線と、チップ状の発光素子と配線を覆う封止部などと、を基板4aの上に設けることができる。 The light-emitting element 4b may also be mounted by COB (Chip On Board). When the light-emitting element 4b is mounted by COB, a chip-shaped light-emitting element, wiring that electrically connects the light-emitting element to the wiring pattern, and a sealing part that covers the chip-shaped light-emitting element and the wiring can be provided on the substrate 4a.

発光素子4bは、少なくとも1つ設けることができる。ただし、複数の発光素子4bが設けられていれば、光触媒フィルタ5の広い領域に紫外光を照射することができる。複数の発光素子4bは、直列接続することができる。複数の発光素子4bの配置には特に限定はないが、基板4aの面にほぼ均等に設けることが好ましい。複数の発光素子4bが、基板4aの面にほぼ均等に設けられていれば、光触媒フィルタ5(シート5a)の面に均等に紫外光を照射するのが容易となる。 At least one light-emitting element 4b can be provided. However, if multiple light-emitting elements 4b are provided, ultraviolet light can be irradiated over a wide area of the photocatalytic filter 5. The multiple light-emitting elements 4b can be connected in series. There are no particular limitations on the arrangement of the multiple light-emitting elements 4b, but it is preferable to provide them approximately evenly on the surface of the substrate 4a. If multiple light-emitting elements 4b are provided approximately evenly on the surface of the substrate 4a, it becomes easier to irradiate the surface of the photocatalytic filter 5 (sheet 5a) with ultraviolet light evenly.

ここで、光触媒フィルタ5に設けられている光触媒5bの反応の速度は、光触媒5bの吸収波長領域と紫外光の強度(光量)によって変化する。そのため、複数の発光素子4bの配置や数は、1つの発光素子4bが照射する紫外光の光量と、光触媒フィルタ5(シート5a)の面の面積と、発光素子4bの発光面と光触媒フィルタ5(シート5a)との間の距離と、に基づいて決定することができる。 Here, the reaction speed of the photocatalyst 5b provided in the photocatalyst filter 5 varies depending on the absorption wavelength region of the photocatalyst 5b and the intensity (amount of light) of the ultraviolet light. Therefore, the arrangement and number of the multiple light-emitting elements 4b can be determined based on the amount of ultraviolet light emitted by one light-emitting element 4b, the surface area of the photocatalyst filter 5 (sheet 5a), and the distance between the light-emitting surface of the light-emitting element 4b and the photocatalyst filter 5 (sheet 5a).

発光素子4bは、所定の波長を有する紫外光(第1の紫外光の一例に相当する)を、光触媒フィルタ5に向けて照射する。この場合、光触媒5bの材料や組成が変われば、光触媒5bの吸収波長領域が変化する。そのため、光触媒5bの吸収波長領域に応じて、適切な波長の紫外光を照射する発光素子4bを選択する。 The light-emitting element 4b irradiates ultraviolet light having a predetermined wavelength (corresponding to an example of the first ultraviolet light) toward the photocatalytic filter 5. In this case, if the material or composition of the photocatalyst 5b changes, the absorption wavelength range of the photocatalyst 5b changes. Therefore, a light-emitting element 4b that irradiates ultraviolet light of an appropriate wavelength is selected according to the absorption wavelength range of the photocatalyst 5b.

例えば、光触媒5bの吸収波長領域が、365nm以上、405nm以下であれば、発光素子4bは、ピーク波長が、365nm以上、405nm以下の紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることができる。例えば、発光素子4bは、ピーク波長が400nm、紫外光の強度(光量)が700mWの発光ダイオードとすることができる。 For example, if the absorption wavelength range of the photocatalyst 5b is 365 nm or more and 405 nm or less, the light-emitting element 4b can be a light-emitting diode or a laser diode that irradiates ultraviolet light with a peak wavelength of 365 nm or more and 405 nm or less. For example, the light-emitting element 4b can be a light-emitting diode with a peak wavelength of 400 nm and an intensity (amount of light) of ultraviolet light of 700 mW.

発光素子4cは、基板4aの、発光素子4bが設けられる面に設けることができる。前述した発光素子4bと同様に、発光素子4cは、PLCC型などの表面実装型の発光素子、砲弾型などのリード線を有する発光素子、COBにより実装されるチップ状の発光素子のいずれであってもよい。 The light-emitting element 4c can be provided on the surface of the substrate 4a on which the light-emitting element 4b is provided. As with the light-emitting element 4b described above, the light-emitting element 4c can be any of a surface-mount type light-emitting element such as a PLCC type, a light-emitting element having leads such as a bullet type, and a chip-shaped light-emitting element mounted by COB.

発光素子4cは、少なくとも1つ設けることができる。ただし、複数の発光素子4cが設けられていれば、光触媒フィルタ5の広い領域に紫外光を照射することができる。また、光触媒フィルタ5を透過してフィルタ6に到達する紫外光の強度(光量)を大きくしたり、フィルタ6の広い領域に紫外光を入射させたりすることができる。 At least one light-emitting element 4c can be provided. However, if multiple light-emitting elements 4c are provided, ultraviolet light can be irradiated onto a wide area of the photocatalytic filter 5. In addition, the intensity (amount of light) of the ultraviolet light that passes through the photocatalytic filter 5 and reaches the filter 6 can be increased, and ultraviolet light can be made to enter a wide area of the filter 6.

発光素子4cは、例えば、基板4aの面に設けられた配線パターンと電気的に接続される。この場合、例えば、発光素子4cと発光素子4bとを直列接続することもできるし、発光素子4cと発光素子4bとを並列接続することもできる。また、例えば、複数の発光素子4cと複数の発光素子4bとを直列接続することもできるし、複数の発光素子4cと複数の発光素子4bとを並列接続することもできる。 The light-emitting element 4c is electrically connected to, for example, a wiring pattern provided on the surface of the substrate 4a. In this case, for example, the light-emitting element 4c and the light-emitting element 4b can be connected in series, or the light-emitting element 4c and the light-emitting element 4b can be connected in parallel. Also, for example, multiple light-emitting elements 4c and multiple light-emitting elements 4b can be connected in series, or multiple light-emitting elements 4c and multiple light-emitting elements 4b can be connected in parallel.

複数の発光素子4cの配置には特に限定はないが、基板4aの面にほぼ均等に設けることが好ましい。複数の発光素子4cが、基板4aの面にほぼ均等に設けられていれば、フィルタ6の面に均等に紫外光を照射するのが容易となる。例えば、発光素子4cと発光素子4bとを交互に設けたり、複数の発光素子4cからなる列と、複数の発光素子4bからなる列とを基板4aの面の幅方向に並べて設けることができる。なお、図1に例示をした光源4の場合には、1つの発光素子4cが基板4aの略中央に設けられ、発光素子4cを挟んで2つの発光素子4bが設けられている。 Although there is no particular limitation on the arrangement of the multiple light-emitting elements 4c, it is preferable to arrange them approximately evenly on the surface of the substrate 4a. If the multiple light-emitting elements 4c are arranged approximately evenly on the surface of the substrate 4a, it becomes easier to irradiate the surface of the filter 6 with ultraviolet light evenly. For example, the light-emitting elements 4c and the light-emitting elements 4b can be arranged alternately, or a row of multiple light-emitting elements 4c and a row of multiple light-emitting elements 4b can be arranged in the width direction of the surface of the substrate 4a. In the case of the light source 4 illustrated in FIG. 1, one light-emitting element 4c is arranged approximately in the center of the substrate 4a, and two light-emitting elements 4b are arranged on either side of the light-emitting element 4c.

発光素子4cの数は、発光素子4bの数と同じとすることもできるし、異なるものとすることもできる。 The number of light-emitting elements 4c can be the same as the number of light-emitting elements 4b, or can be different.

ここで、ガスGが、フレーム2の内部を流れた際に、ガスGに含まれていた細菌やウィルスなどが光触媒フィルタ5(シート5a)の表面に付着する場合がある。紫外光には殺菌作用があるので、発光素子4bから、例えば、ピーク波長が365nm以上、405nm以下の紫外光が照射されれば、細菌やウィルスをある程度除菌したり、不活性化したりすることができる。 When the gas G flows inside the frame 2, bacteria and viruses contained in the gas G may adhere to the surface of the photocatalytic filter 5 (sheet 5a). Since ultraviolet light has a sterilizing effect, if the light-emitting element 4b irradiates ultraviolet light with a peak wavelength of, for example, 365 nm or more and 405 nm or less, bacteria and viruses can be sterilized or inactivated to a certain extent.

しかしながら、近年においては、閉鎖空間におけるガスGの浄化とともに、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことが求められている。この場合、紫外光のピーク波長が短くなれば殺菌作用が高くなる。
そこで、発光素子4cは、発光素子4bから照射される紫外光よりもピーク波長が短い紫外光(第2の紫外光の一例に相当する)を、光触媒フィルタ5に向けて照射するものとしている。この場合、光源4に、発光素子4cのみを設ければ、ガスGの浄化と、細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことが可能となる。しかしながら、ピーク波長が短い紫外光を照射する発光素子4cは、発光素子4bに比べて価格が高くなる。そのため、光源4に、発光素子4cのみを設ければ、除菌浄化装置1の製造コストが高くなる。発光素子4cの数は、細菌やウィルスの除菌や不活性化の効果と、製造コストとを考慮して適宜決定することができる。
However, in recent years, in addition to purifying the gas G in a closed space, there is a demand for effective sterilization and inactivation of bacteria, viruses, etc. In this case, the shorter the peak wavelength of the ultraviolet light, the stronger the sterilizing effect.
Therefore, the light-emitting element 4c is configured to irradiate the photocatalytic filter 5 with ultraviolet light (corresponding to an example of the second ultraviolet light) having a shorter peak wavelength than the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b. In this case, if only the light-emitting element 4c is provided in the light source 4, it is possible to purify the gas G and effectively sterilize and inactivate bacteria and viruses. However, the light-emitting element 4c that irradiates ultraviolet light with a short peak wavelength is more expensive than the light-emitting element 4b. Therefore, if only the light-emitting element 4c is provided in the light source 4, the manufacturing cost of the sterilization and purification device 1 will be high. The number of light-emitting elements 4c can be appropriately determined in consideration of the effect of sterilization and inactivation of bacteria and viruses and the manufacturing cost.

例えば、発光素子4cは、ピーク波長が265nm以上、280nm以下の紫外光を照射する発光ダイオードやレーザダイオードなどとすることができる。例えば、発光素子4cは、ピーク波長が280nm、紫外光の強度(光量)が40mWの発光ダイオードとすることができる。 For example, the light-emitting element 4c can be a light-emitting diode or a laser diode that emits ultraviolet light with a peak wavelength of 265 nm or more and 280 nm or less. For example, the light-emitting element 4c can be a light-emitting diode with a peak wavelength of 280 nm and an intensity (amount of light) of ultraviolet light of 40 mW.

発光素子4cが設けられていれば、発光素子4bから照射される紫外光よりも殺菌作用の高い紫外光を光触媒フィルタ5(シート5a)の表面に照射することができるので、光触媒フィルタ5(シート5a)に付着した細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化を行うことができる。また、フレーム2の内部を流れるガスGに含まれている細菌やウィルスなどの効果的な除菌や不活性化も可能となる。 If light-emitting element 4c is provided, ultraviolet light having a stronger bactericidal effect than the ultraviolet light emitted from light-emitting element 4b can be irradiated onto the surface of photocatalytic filter 5 (sheet 5a), thereby enabling effective sterilization and inactivation of bacteria, viruses, etc. attached to photocatalytic filter 5 (sheet 5a). It also enables effective sterilization and inactivation of bacteria, viruses, etc. contained in gas G flowing inside frame 2.

例えば、発光素子4bのみを設けた場合には、通電開始から30分経過後の浮遊菌の除去率が45%程度であったが、発光素子4bと発光素子4cを設けた場合には、通電開始から30分経過後の浮遊菌の除去率を99%以上とすることができた。また、発光素子4bと発光素子4cを設けた場合には、発光素子4bのみを設けた場合に比べて、浮遊菌の除去率が99%となる時間を1/5程度にまで短縮することができた。 For example, when only light-emitting element 4b was provided, the removal rate of airborne bacteria 30 minutes after the start of power supply was about 45%, but when light-emitting elements 4b and 4c were provided, the removal rate of airborne bacteria 30 minutes after the start of power supply was 99% or more. Furthermore, when light-emitting elements 4b and 4c were provided, the time required for the removal rate of airborne bacteria to reach 99% could be shortened to about 1/5 compared to when only light-emitting element 4b was provided.

光触媒フィルタ5は、例えば、シート5a、および、複数の光触媒5bを有する。
シート5aは、例えば、複数の線状体を含む織物とすることができる。
ここで、一般的には、光触媒を坦持するシートは、複数のガラス繊維を用いて形成される。複数のガラス繊維から形成されたシートは剛性が低いので、シートの周縁を保持する枠状部材が必要となる。
The photocatalytic filter 5 includes, for example, a sheet 5a and a plurality of photocatalysts 5b.
The sheet 5a may be, for example, a woven fabric including a plurality of linear bodies.
Generally, a sheet carrying a photocatalyst is formed using a plurality of glass fibers. Since a sheet formed from a plurality of glass fibers has low rigidity, a frame-shaped member for holding the periphery of the sheet is required.

また、近年においては、処理能力の向上が求められており、シートを透過するガスGの流量や流速が増加する傾向にある。そのため、シートの中央領域の変形を抑制するために、枠状部材に桟などが設けられる場合がある。枠状部材や桟などを設けると、発光素子4b、4cから照射された紫外光が入射できない領域や、ガスGが流通できない領域が生じるので、処理能力の向上が図れなくなる。 In addition, in recent years, there has been a demand for improved processing capacity, and the flow rate and flow speed of the gas G that permeates the sheet tend to increase. For this reason, bars or the like may be provided on the frame-shaped member to suppress deformation in the central region of the sheet. If a frame-shaped member or bars or the like is provided, there will be areas where the ultraviolet light irradiated from the light-emitting elements 4b and 4c cannot enter, or areas where the gas G cannot flow, making it impossible to improve processing capacity.

そこで、本実施の形態に係るシート5aは、金属を含む複数の線状体から形成されている。線状体の材料は、例えば、ステンレス、ニッケル、モネル、リン青銅、チタン、銅、銅合金、銀、銀合金などである。
線状体の線径(太さ)は、例えば、0.016mm以上、2.0mm以下とすることができる。
Therefore, the sheet 5a according to the present embodiment is formed of a plurality of linear bodies including a metal, such as stainless steel, nickel, Monel, phosphor bronze, titanium, copper, a copper alloy, silver, or a silver alloy.
The wire diameter (thickness) of the linear body can be, for example, not less than 0.016 mm and not more than 2.0 mm.

この様な線状体を用いてシート5aを形成すれば、シート5aの剛性を高めることができるので、シート5aを透過するガスGの流量や流速を増加させることができる。また、補強のための枠状部材や桟などを設ける必要もない。そのため、除菌浄化装置1の処理能力の向上を図ることができる。 By forming the sheet 5a using such linear bodies, the rigidity of the sheet 5a can be increased, and the flow rate and flow velocity of the gas G passing through the sheet 5a can be increased. In addition, there is no need to provide frame-shaped members or bars for reinforcement. This allows the processing capacity of the sterilization and purification device 1 to be improved.

ここで、線状体が金属を含んでいると、線状体の表面に付着した細菌やウィルスなどの感染力がある程度の間維持される。しかしながら、前述したように、発光素子4cから照射される紫外光は、殺菌作用が高いので、線状体の表面に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を容易に行うことができる。
また、線状体の材料が、銅や銅合金などの銅イオンを発生させる金属であれば、銅イオンにより、線状体の表面に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うこともできる。線状体の材料が、銀や銀合金などの銀イオンを発生させる金属であれば、銀イオンにより、線状体の表面に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うこともできる。
Here, if the linear body contains metal, the infectivity of bacteria, viruses, etc. attached to the surface of the linear body will be maintained for a certain period of time. However, as described above, the ultraviolet light emitted from the light-emitting element 4c has a high bactericidal effect, so that the bacteria and viruses attached to the surface of the linear body can be easily disinfected or inactivated.
Furthermore, if the material of the linear body is a metal that generates copper ions, such as copper or a copper alloy, the copper ions can be used to disinfect or inactivate bacteria or viruses attached to the surface of the linear body. If the material of the linear body is a metal that generates silver ions, such as silver or a silver alloy, the silver ions can be used to disinfect or inactivate bacteria or viruses attached to the surface of the linear body.

複数の線状体を織り込むと、線状体により画された領域に隙間が生ずる。すなわち、シート5aには、厚み方向を貫通する複数の隙間が設けられる。厚み方向を貫通する複数の隙間が設けられていれば、複数の隙間がガスGの流路となる。
複数の線状体の織り方には特に限定はない。複数の線状体の織り方は、例えば、平織、綾織、平畳織、綾畳織などとすることができる。
When a plurality of linear bodies are woven, gaps are generated in the regions defined by the linear bodies. That is, a plurality of gaps penetrating the sheet 5a in the thickness direction are provided. If a plurality of gaps penetrating the sheet 5a in the thickness direction are provided, the plurality of gaps become flow paths for the gas G.
There is no particular limitation on the weaving method of the multiple linear bodies, and the weaving method of the multiple linear bodies can be, for example, plain weave, twill weave, plain tatami weave, twill tatami weave, etc.

ここで、1インチ(25.4mm)の間にある隙間の数、すなわち、メッシュ数が大きくなると、断面積の小さな隙間が設けられることになる。隙間の断面積が小さくなると、隙間を通過するガスGの圧力損失が大きくなる。この場合、圧力損失が50Paを越えると、シート5aを透過するガスGの流量が少なくなり、所望の処理能力が得られなくなるおそれがある。本発明者の得た知見によれば、メッシュ数を500以下にすれば、圧力損失を50Pa以下とすることができる。 Here, if the number of gaps per inch (25.4 mm), i.e., the number of meshes, increases, the gaps will have a smaller cross-sectional area. If the cross-sectional area of the gap decreases, the pressure loss of the gas G passing through the gap increases. In this case, if the pressure loss exceeds 50 Pa, the flow rate of the gas G passing through the sheet 5a will decrease, and there is a risk that the desired processing capacity will not be obtained. According to the knowledge gained by the inventors, if the number of meshes is set to 500 or less, the pressure loss can be reduced to 50 Pa or less.

複数の光触媒5bは、シート5aに坦持されている。複数の光触媒5bは、例えば、粒状体である。発光素子4bから照射された紫外光は、光触媒5bに入射する。そのため、光触媒5bは、紫外光応答型の光触媒とすることができる。紫外光応答型の光触媒は、例えば、酸化チタンなどを含んでいる。 The multiple photocatalysts 5b are supported on the sheet 5a. The multiple photocatalysts 5b are, for example, granular bodies. The ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b is incident on the photocatalysts 5b. Therefore, the photocatalysts 5b can be ultraviolet light-responsive photocatalysts. The ultraviolet light-responsive photocatalysts contain, for example, titanium oxide.

光触媒フィルタ5は、少なくとも1つ設けることができる。複数の光触媒フィルタ5を設ける場合には、複数の光触媒フィルタ5を、ガスGの流れ方向に並べて設けることができる。例えば、複数の光触媒フィルタ5を、フレーム2の側面2cと側面2dの間に並べて設けることができる。 At least one photocatalytic filter 5 can be provided. When multiple photocatalytic filters 5 are provided, the multiple photocatalytic filters 5 can be arranged side by side in the flow direction of the gas G. For example, the multiple photocatalytic filters 5 can be arranged side by side between side 2c and side 2d of the frame 2.

この場合、光触媒フィルタ5の数を多くすれば、活性酸素種による、ガスGの浄化と細菌やウィルスの除菌や不活性化などが容易となる。しかしながら、光触媒フィルタ5の数を多くすれば、圧力損失が大きくなる。そのため、光触媒フィルタ5の数は、ガスGの流量、要求される浄化能力(例えば、ガスGに含まれている物質の量)、シート5aのメッシュ数などに応じて適宜変更することができる。 In this case, increasing the number of photocatalytic filters 5 makes it easier to purify the gas G and to sterilize and inactivate bacteria and viruses using active oxygen species. However, increasing the number of photocatalytic filters 5 increases pressure loss. Therefore, the number of photocatalytic filters 5 can be changed as appropriate depending on the flow rate of the gas G, the required purification capacity (e.g., the amount of substances contained in the gas G), the number of meshes of the sheet 5a, etc.

光触媒フィルタ5は、例えば、以下のようにして形成することができる。
まず、複数の線状体を織り込んでシート5aを形成する。
次に、エマルジョン溶液を生成する。
例えば、純水に燐酸などを加えて、pH(水素イオン濃度)を2~7に調整した水溶液を生成する。
続いて、水溶液に、複数の光触媒5bを加える。例えば、光触媒5bの平均粒度は、200nm程度とすることができる。
以上の様にして、エマルジョン溶液を生成することができる。
The photocatalytic filter 5 can be formed, for example, as follows.
First, a plurality of linear bodies are woven together to form a sheet 5a.
Next, an emulsion solution is produced.
For example, phosphoric acid or the like is added to pure water to produce an aqueous solution whose pH (hydrogen ion concentration) is adjusted to 2-7.
Next, a plurality of photocatalysts 5b are added to the aqueous solution. For example, the average particle size of the photocatalysts 5b may be about 200 nm.
In this manner, an emulsion solution can be produced.

次に、シート5aをエマルジョン溶液に10分間程度浸漬させる。
次に、エマルジョン溶液からシート5aを引き上げて乾燥させる。乾燥は、加熱乾燥とすることができる。例えば、加熱温度は100℃程度、加熱時間は2時間程度とすることができる。
以上の様にして、光触媒フィルタ5を形成することができる。
Next, the sheet 5a is immersed in the emulsion solution for about 10 minutes.
Next, the sheet 5a is pulled out of the emulsion solution and dried. The drying can be performed by heating. For example, the heating temperature can be about 100° C. and the heating time can be about 2 hours.
In this manner, the photocatalytic filter 5 can be formed.

フィルタ6は、光触媒フィルタ5と対向し、光触媒フィルタ5の、光源4側とは反対側に設けられている。フィルタ6は、例えば、シート状を呈し、複数の線状体を含んでいる。フィルタ6は、例えば、複数の線状体を含む織物とすることもできるし、複数の線状体を堆積させたものとすることもできる。線状体の材料は、紫外光に対する耐性が有れば特に限定はない。線状体の材料は、例えば、ガラス繊維や金属とすることができる。 The filter 6 faces the photocatalytic filter 5 and is provided on the side of the photocatalytic filter 5 opposite the light source 4. The filter 6 is, for example, sheet-like and includes a plurality of linear bodies. The filter 6 can be, for example, a woven fabric including a plurality of linear bodies, or can be a stack of a plurality of linear bodies. There are no particular limitations on the material of the linear bodies as long as it is resistant to ultraviolet light. The material of the linear bodies can be, for example, glass fiber or metal.

この場合、フィルタ6が、金属を含む線状体から形成されていれば、フィルタ6の剛性を高めることができる。そのため、フィルタ6を透過するガスGの流量や流速を増加させることができる。また、補強のための枠状部材や桟などを設ける必要もない。金属を含む線状体は、例えば、シート5aに用いられる線状体と同じとすることができる。フィルタ6の寸法は、例えば、光触媒フィルタ5(シート5a)の寸法と同じとすることができる。例えば、フィルタ6の幅寸法はW2とすることができる。 In this case, if the filter 6 is formed from a linear body containing metal, the rigidity of the filter 6 can be increased. Therefore, the flow rate and flow speed of the gas G passing through the filter 6 can be increased. In addition, there is no need to provide a frame-shaped member or a crosspiece for reinforcement. The linear body containing metal can be, for example, the same as the linear body used in the sheet 5a. The dimensions of the filter 6 can be, for example, the same as the dimensions of the photocatalytic filter 5 (sheet 5a). For example, the width dimension of the filter 6 can be W2.

フィルタ6を複数の線状体を含む織物とする場合、複数の線状体の織り方には特に限定はない。複数の線状体の織り方は、例えば、平織、綾織、平畳織、綾畳織などとすることができる。この場合、メッシュ数を大きくすると、捕捉可能な異物の大きさを小さくすることができるが、フィルタ6を透過するガスGの圧力損失が大きくなる。そのため、メッシュ数を大きくし過ぎると、フィルタ6を透過するガスGの流量が少なくなり、所望の処理能力が得られなくなるおそれがある。例えば、フィルタ6のメッシュ数は、100程度とすることができる。 When the filter 6 is a woven fabric containing multiple linear bodies, there is no particular limit to the way in which the multiple linear bodies are woven. The way in which the multiple linear bodies are woven can be, for example, plain weave, twill weave, plain tatami weave, twill tatami weave, etc. In this case, if the number of meshes is increased, the size of the foreign matter that can be captured can be reduced, but the pressure loss of the gas G passing through the filter 6 increases. Therefore, if the number of meshes is made too large, the flow rate of the gas G passing through the filter 6 will be reduced, and there is a risk that the desired processing capacity will not be obtained. For example, the number of meshes of the filter 6 can be about 100.

次に、本実施の形態に係る除菌浄化装置1の効果について説明する。
例えば、除菌浄化装置1を長時間稼働させると、要素の交換や清掃などのメンテナンスが必要となる場合がある。例えば、発光素子4b、4cが故障したり、経時的に発光素子4b、4cの機能が低下したりした場合には、光源4の交換や清掃などが必要となる。例えば、光触媒5bが汚れたり、経時的に光触媒5bの機能が低下したりした場合には、光触媒フィルタ5の交換や清掃などが必要となる。例えば、フィルタ6が破損したり、フィルタ6が汚れたりした場合には、フィルタ6の交換や清掃などが必要となる。
Next, the effects of the sterilization and purification device 1 according to this embodiment will be described.
For example, when the sterilization and purification device 1 is operated for a long time, maintenance such as replacement and cleaning of elements may be required. For example, when the light-emitting elements 4b and 4c break down or the function of the light-emitting elements 4b and 4c deteriorates over time, replacement and cleaning of the light source 4 is required. For example, when the photocatalyst 5b becomes dirty or the function of the photocatalyst 5b deteriorates over time, replacement and cleaning of the photocatalyst filter 5 is required. For example, when the filter 6 is damaged or dirty, replacement and cleaning of the filter 6 is required.

この様な場合には、作業者がフレーム2から、光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6を取り外すことになる。この場合、光源4および光触媒フィルタ5には、発光素子4cから照射された紫外光が直接入射するので、光源4および光触媒フィルタ5に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化が行われている。そのため、作業者が光源4や光触媒フィルタ5に触れても、作業者が細菌やウィルスに感染するおそれは低い。 In such a case, the worker will remove the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 from the frame 2. In this case, the ultraviolet light irradiated from the light emitting element 4c is directly incident on the light source 4 and photocatalytic filter 5, so bacteria and viruses adhering to the light source 4 and photocatalytic filter 5 are sterilized and inactivated. Therefore, even if the worker touches the light source 4 or photocatalytic filter 5, there is a low risk of the worker becoming infected with bacteria or viruses.

一方、フィルタ6に紫外光を照射しても光触媒作用は発現しない。そのため、一般的には、発光素子から照射された紫外光の利用効率を高めるために、光触媒フィルタを透過する紫外光の光量が少なくなるような光触媒フィルタの構成にしている。その結果、一般的には、発光素子から照射された紫外光は、光触媒フィルタの上流側に設けられたフィルタ6にはほとんど届かない。つまり、一般的には、発光素子から照射された紫外光により、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化が行われることがない。細菌やウィルスの除菌や不活性化が行われないと、細菌やウィルスの感染力がある程度の期間維持されるので、作業者がフィルタ6に触ると、作業者が細菌やウィルスに感染するおそれがある。 On the other hand, even if the filter 6 is irradiated with ultraviolet light, the photocatalytic action does not occur. Therefore, in general, in order to increase the efficiency of use of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element, the photocatalytic filter is configured so that the amount of ultraviolet light passing through the photocatalytic filter is reduced. As a result, in general, the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element hardly reaches the filter 6 provided upstream of the photocatalytic filter. In other words, in general, the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element does not sterilize or inactivate bacteria or viruses attached to the filter 6. If bacteria or viruses are not sterilized or inactivated, the infectiousness of the bacteria or viruses will be maintained for a certain period of time, so if a worker touches the filter 6, the worker may become infected with bacteria or viruses.

この場合、フィルタ6に紫外光を照射する光源をさらに設けることも考えられるが、除菌浄化装置1の大型化、高コスト化、設置スペースの増大などを招くことになる。
本実施の形態に係る除菌浄化装置1においては、発光素子4cから光触媒フィルタ5に照射された紫外光の一部が、光触媒フィルタ5を透過してフィルタ6に照射される様になっている。発光素子4cから照射された紫外光の一部が、フィルタ6に照射されれば、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができる。そのため、作業者が、フィルタ6に触ったとしても、作業者が細菌やウィルスに感染するのを抑制することができる。また、フィルタ6に紫外光を照射する光源をさらに設ける必要もないので、除菌浄化装置1の小型化、低コスト化、設置スペースの減少などを図ることもできる。 すなわち、本実施の形態に係る除菌浄化装置1とすれば、簡易な構成で、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができる。
In this case, it is possible to further provide a light source for irradiating the filter 6 with ultraviolet light, but this would result in an increase in size of the sterilization and purification device 1, higher costs, and an increase in the installation space.
In the sterilization and purification device 1 according to the present embodiment, a part of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c to the photocatalytic filter 5 is transmitted through the photocatalytic filter 5 and irradiated to the filter 6. If a part of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c is irradiated to the filter 6, bacteria and viruses attached to the filter 6 can be sterilized and inactivated. Therefore, even if an operator touches the filter 6, the operator can be prevented from being infected with bacteria or viruses. In addition, since there is no need to further provide a light source for irradiating the filter 6 with ultraviolet light, the sterilization and purification device 1 can be made smaller, less expensive, and requires less installation space. That is, the sterilization and purification device 1 according to the present embodiment can sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to the filter 6 with a simple configuration.

なお、発光素子4bから照射された紫外光の一部も、光触媒フィルタ5を透過してフィルタ6に照射される。そのため、発光素子4bから照射された紫外光によっても、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を行うことができる。ただし、前述した様に、発光素子4cから照射された紫外光のピーク波長は、発光素子4bから照射された紫外光のピーク波長よりも短いので、発光素子4cから照射された紫外光の殺菌作用は、発光素子4bから照射された紫外光の殺菌作用よりも高い。そのため、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化の効果は、発光素子4cから照射された紫外光の照度により評価することができる。 In addition, a portion of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b also passes through the photocatalytic filter 5 and is irradiated to the filter 6. Therefore, the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b can also sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to the filter 6. However, as described above, the peak wavelength of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c is shorter than the peak wavelength of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b, so the bactericidal effect of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c is greater than that of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b. Therefore, the effect of sterilization and inactivation of bacteria and viruses attached to the filter 6 can be evaluated by the illuminance of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c.

ここで、発光素子4bから照射された紫外光の一部も、光触媒フィルタ5を透過するので、光触媒フィルタ5を透過する紫外光の光量を多くし過ぎると、光触媒フィルタ5における光触媒作用が不充分となるおそれがある。光触媒フィルタ5を透過する紫外光の光量を少なくし過ぎると、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化が不充分となるおそれがある。 Here, a portion of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4b also passes through the photocatalytic filter 5, so if the amount of ultraviolet light passing through the photocatalytic filter 5 is too large, the photocatalytic action of the photocatalytic filter 5 may be insufficient. If the amount of ultraviolet light passing through the photocatalytic filter 5 is too small, the sterilization and inactivation of bacteria and viruses attached to the filter 6 may be insufficient.

本発明者の得た知見によれば、発光素子4cから光触媒フィルタ5に照射された紫外光の照度をL1(mW/cm)、発光素子4cから光触媒フィルタ5を介してフィルタ6に照射された紫外光の照度をL2(mW/cm)とした場合に、「0.2≦L2/L1≦0.3」となるようにすることが好ましい。この様にすれば、光触媒フィルタ5における光触媒作用の低下を抑制することができ、且つ、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化を効果的に行うことができる。 According to the knowledge obtained by the present inventors, when the illuminance of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c to the photocatalytic filter 5 is L1 (mW/cm 2 ), and the illuminance of the ultraviolet light irradiated from the light-emitting element 4c to the filter 6 via the photocatalytic filter 5 is L2 (mW/cm 2 ), it is preferable to make the relationship "0.2≦L2/L1≦0.3". In this way, it is possible to suppress the deterioration of the photocatalytic action of the photocatalytic filter 5, and it is possible to effectively sterilize and inactivate bacteria and viruses attached to the filter 6.

この場合、L2/L1は、光触媒フィルタ5に設けられたシート5aのメッシュ数により調整することができる。例えば、メッシュ数を300にすれば、前述した照度L1を42.4(mW/cm)、前述した照度L2を10.8(mW/cm)とすることができる。この場合、L2/L1は、0.25となる。なお、前述した照度L1と、前述した照度L2とは、紫外線積算光量計(例えば、UIT-250(ウシオ電機))を用いて測定することができる。
本発明者の得た知見によれば、シート5aのメッシュ数は、50以上、400以下とすることが好ましい。
In this case, L2/L1 can be adjusted by the number of meshes of the sheet 5a provided on the photocatalytic filter 5. For example, if the number of meshes is set to 300, the above-mentioned illuminance L1 can be set to 42.4 (mW/cm 2 ), and the above-mentioned illuminance L2 can be set to 10.8 (mW/cm 2 ). In this case, L2/L1 is 0.25. The above-mentioned illuminance L1 and the above-mentioned illuminance L2 can be measured using an ultraviolet integrating light meter (for example, UIT-250 (Ushio Electric)).
According to the knowledge obtained by the present inventors, it is preferable that the mesh number of the sheet 5a is 50 or more and 400 or less.

また、前述したように、一対の溝2e1、2f1に挿入された光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6は、互いに略平行となっている。そのため、光源4から照射された紫外光が光触媒フィルタ5を透過し易くなり、且つ、光触媒フィルタ5を透過した紫外光をフィルタ6に効率よく入射させることができる。その結果、フィルタ6に付着した細菌やウィルスの除菌や不活性化がさらに容易となる。 As described above, the light source 4, photocatalytic filter 5, and filter 6 inserted into the pair of grooves 2e1, 2f1 are approximately parallel to each other. This makes it easier for the ultraviolet light irradiated from the light source 4 to pass through the photocatalytic filter 5, and allows the ultraviolet light that has passed through the photocatalytic filter 5 to be efficiently incident on the filter 6. As a result, it becomes even easier to disinfect and inactivate bacteria and viruses attached to the filter 6.

次に、ガスGの流れ方向における、光源4と光触媒フィルタ5との配置の効果について説明する。
図3は、比較例に係る除菌浄化装置100を例示するための模式断面図である。
図3に示すように、除菌浄化装置100は、フレーム2、蓋3、光源4、光触媒フィルタ5、およびフィルタ6を有する。また、前述した除菌浄化装置1と同様に、ファン7をさらに備えることができる。
Next, the effect of the arrangement of the light source 4 and the photocatalytic filter 5 in the flow direction of the gas G will be described.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a sterilization and purification device 100 according to a comparative example.
3, the sterilization and purification device 100 has a frame 2, a lid 3, a light source 4, a photocatalytic filter 5, and a filter 6. In addition, like the sterilization and purification device 1 described above, a fan 7 may be further provided.

図3に示すように、除菌浄化装置1と除菌浄化装置100とでは、光源4および光触媒フィルタ5の配置が異なる。すなわち、除菌浄化装置1の場合には、図2に示すように、ガスGの流れの上流側から順に、フィルタ6、光触媒フィルタ5、および光源4が並べて設けられている。これに対し、除菌浄化装置100の場合には、図3に示すように、ガスGの流れの上流側から順に、フィルタ6、光源4、および光触媒フィルタ5が並べて設けられている。 As shown in FIG. 3, the arrangement of the light source 4 and the photocatalytic filter 5 is different between the sterilization and purification device 1 and the sterilization and purification device 100. That is, in the case of the sterilization and purification device 1, as shown in FIG. 2, the filter 6, the photocatalytic filter 5, and the light source 4 are arranged in order from the upstream side of the flow of the gas G. In contrast, in the case of the sterilization and purification device 100, as shown in FIG. 3, the filter 6, the light source 4, and the photocatalytic filter 5 are arranged in order from the upstream side of the flow of the gas G.

ここで、発光素子4b、4cには、封止材としてシリコーン樹脂が用いられている。シリコーン樹脂は紫外光に対する耐性が高いが、発光素子4b、4cが紫外光を照射した際にシリコーン樹脂の一部が分解する場合がある。この場合、照射される紫外光のピーク波長が短くなるほどシリコーン樹脂の分解が生じ易くなる。そのため、発光素子4cに用いられているシリコーン樹脂の分解がさらに生じ易くなる。
また、発光素子4b、4cが紫外光を照射した際に熱が発生する。発生した熱により、シリコーン樹脂が加熱されると、シリコーン樹脂の分解がさらに生じ易くなる。
Here, silicone resin is used as a sealant for the light-emitting elements 4b and 4c. Although silicone resin has high resistance to ultraviolet light, a part of the silicone resin may decompose when the light-emitting elements 4b and 4c are irradiated with ultraviolet light. In this case, the shorter the peak wavelength of the irradiated ultraviolet light, the easier it is for the silicone resin to decompose. Therefore, the silicone resin used for the light-emitting element 4c is even more likely to decompose.
Furthermore, when the light emitting elements 4b and 4c irradiate the ultraviolet light, heat is generated. If the silicone resin is heated by the generated heat, the silicone resin becomes more likely to decompose.

シリコーン樹脂が分解されると、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子4b、4cから放出される。発光素子4b、4cから放出されたガスは、フレーム2の内部を流れるガスGの流れに乗ってフレーム2の外部に排出される。 When the silicone resin is decomposed, gas containing silicone resin components is released from the light-emitting elements 4b and 4c. The gas released from the light-emitting elements 4b and 4c is carried by the flow of gas G flowing inside the frame 2 and is discharged to the outside of the frame 2.

この際、図3に示すように、フレーム2の内部を流れるガスGの流れの上流側に光源4(発光素子4b、4c)が設けられ、光源4よりも下流側に光触媒フィルタ5が設けられていると、ガスGに含まれているシリコーン樹脂の成分が、光触媒フィルタ5の光触媒5bに付着しやすくなる。シリコーン樹脂の成分が光触媒5bに付着すると、紫外光が光触媒5bに入射し難くなったり、ガスGが光触媒5bに接触し難くなったりする。そのため、除菌浄化装置100の機能(ガスの浄化、細菌やウィルスの除菌や不活性化など)が経時的に低下する。例えば、動作開始から1600時間経過後の脱臭性能維持率が19%程度となる場合がある。 In this case, as shown in FIG. 3, if the light source 4 (light-emitting elements 4b, 4c) is provided upstream of the flow of gas G flowing inside the frame 2 and the photocatalytic filter 5 is provided downstream of the light source 4, the silicone resin component contained in the gas G is likely to adhere to the photocatalyst 5b of the photocatalytic filter 5. If the silicone resin component adheres to the photocatalyst 5b, it becomes difficult for ultraviolet light to enter the photocatalyst 5b, or for the gas G to come into contact with the photocatalyst 5b. As a result, the functions of the sterilization and purification device 100 (gas purification, sterilization and inactivation of bacteria and viruses, etc.) decrease over time. For example, the deodorizing performance maintenance rate after 1600 hours from the start of operation may be about 19%.

これに対して、本実施の形態に係る除菌浄化装置1においては、図2に示すように、フレーム2の内部を流れるガスGの流れの上流側に光触媒フィルタ5が設けられ、光触媒フィルタ5よりも下流側に光源4(発光素子4b、4c)が設けられている。そのため、シリコーン樹脂の成分を含むガスが、発光素子4b、4cから放出されたとしても、ガスGの流れにより、放出されたガスが光触媒フィルタ5に到達するのが阻害される。その結果、除菌浄化装置1の機能(ガスの浄化、細菌やウィルスの除菌や不活性化など)が経時的に低下するのを抑制することができる。例えば、動作開始から1600時間経過後の脱臭性能維持率を84%程度とすることができた。 In contrast, in the sterilization and purification device 1 according to this embodiment, as shown in FIG. 2, a photocatalytic filter 5 is provided upstream of the flow of gas G flowing inside the frame 2, and a light source 4 (light-emitting elements 4b, 4c) is provided downstream of the photocatalytic filter 5. Therefore, even if gas containing silicone resin components is released from the light-emitting elements 4b and 4c, the flow of gas G prevents the released gas from reaching the photocatalytic filter 5. As a result, it is possible to suppress the deterioration over time of the functions of the sterilization and purification device 1 (gas purification, sterilization and inactivation of bacteria and viruses, etc.). For example, the deodorizing performance maintenance rate after 1600 hours from the start of operation was about 84%.

以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。 Although several embodiments of the present invention have been illustrated above, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, modifications, etc. can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their variations are included within the scope and gist of the invention, as well as within the scope of the invention and its equivalents described in the claims. Furthermore, the above-mentioned embodiments can be implemented in combination with each other.

1 除菌浄化装置、2 フレーム、4 光源、4a 基板、4b 発光素子、4c 発光素子、5 光触媒フィルタ、5a シート、5b 光触媒、6 フィルタ、7 ファン、G ガス 1 sterilization and purification device, 2 frame, 4 light source, 4a substrate, 4b light emitting element, 4c light emitting element, 5 photocatalytic filter, 5a sheet, 5b photocatalytic element, 6 filter, 7 fan, G gas

Claims (6)

シートと、前記シートに坦持された光触媒と、を有する光触媒フィルタと;
前記光触媒フィルタと対向し、第1の発光素子と、第2の発光素子と、を有する光源と;
前記光触媒フィルタと対向し、前記光触媒フィルタの、前記光源側とは反対側に設けられたフィルタと;
を具備し、
前記第1の発光素子は、第1の光を、前記光触媒フィルタに向けて照射し、
前記第2の発光素子は、第2の光であって、前記第1の光よりもピーク波長が短い紫外光を、前記光触媒フィルタに向けて照射し、
前記光触媒フィルタに照射された前記第2の光の一部が、前記光触媒フィルタを透過して前記フィルタに照射され
前記光源が光を照射した際に、前記光源からガスが放出され、
処理の対象となる気体は、前記フィルタ側から、前記光源側に向けて流れ、放出された前記ガスが、前記処理の対象となる前記気体の流れにより、前記光触媒フィルタに到達するのが阻害される除菌浄化装置。
A photocatalytic filter having a sheet and a photocatalyst supported on the sheet;
a light source facing the photocatalytic filter and having a first light-emitting element and a second light-emitting element;
a filter disposed opposite the photocatalytic filter and on the opposite side of the photocatalytic filter from the light source;
Equipped with
The first light emitting element irradiates a first light toward the photocatalytic filter,
The second light emitting element irradiates the second light, which is ultraviolet light having a shorter peak wavelength than the first light, toward the photocatalytic filter;
A part of the second light irradiated to the photocatalytic filter is transmitted through the photocatalytic filter and irradiated to the filter ,
When the light source irradiates light, gas is released from the light source,
A sterilization and purification device in which the gas to be treated flows from the filter side toward the light source side, and the flow of the gas to be treated prevents the released gas from reaching the photocatalyst filter .
前記光触媒フィルタに照射された前記第2の光の照度をL1(mW/cm)とし、前記フィルタに照射された前記第2の光の照度をL2(mW/cm)とした場合に、以下の式を満足する請求項1記載の除菌浄化装置。
0.2≦L2/L1≦0.3
The sterilization and purification device according to claim 1, which satisfies the following formula when the illuminance of the second light irradiated to the photocatalytic filter is L1 (mW/ cm2 ) and the illuminance of the second light irradiated to the filter is L2 (mW/ cm2 ).
0.2≦L2/L1≦0.3
前記シートは、複数の線状体を含む織物であり、
前記複数の線状体は、金属を含み、
前記シートのメッシュ数は、50以上、400以下である請求項1または2に記載の除菌浄化装置。
The sheet is a woven fabric including a plurality of linear bodies,
the plurality of linear bodies includes a metal,
3. The sterilization and purification device according to claim 1, wherein the sheet has a mesh number of 50 or more and 400 or less.
前記第2の光のピーク波長は、265nm以上、280nm以下である請求項1~3のいずれか1つに記載の除菌浄化装置。 The sterilization and purification device according to any one of claims 1 to 3, wherein the peak wavelength of the second light is 265 nm or more and 280 nm or less. 前記第1の光のピーク波長は、365nm以上、405nm以下である請求項1~4のいずれか1つに記載の除菌浄化装置。 The sterilization and purification device according to any one of claims 1 to 4, wherein the peak wavelength of the first light is 365 nm or more and 405 nm or less. 前記フィルタ側から、前記光源側に向けて流れる前記気体の流れを形成するファンをさらに備えた請求項1~5のいずれか1つに記載の除菌浄化装置。 The sterilization and purification device according to any one of claims 1 to 5 , further comprising a fan that forms a flow of the gas from the filter side toward the light source side.
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