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JP6720388B2 - Method for producing antistatic surface protection film - Google Patents
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JP6720388B2 - Method for producing antistatic surface protection film - Google Patents

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Description

本発明は、粘着剤組成物及び表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、帯電防止性能を備えた帯電防止表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染性が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、および帯電防止表面保護フィルムを提供するものである。 The present invention relates to an adhesive composition and a surface protective film. More specifically, it relates to an antistatic surface protective film having antistatic performance. More specifically, the present invention provides a method for producing an antistatic surface protective film, which has little stain resistance to an adherend and has excellent antistatic property for peeling without deterioration with time, and an antistatic surface protective film.

偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。
従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする(いわゆる、糊残りの発生を防ぐ)ためである。
When manufacturing and transporting optical films such as polarizing plates, retardation films, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and displays using the same. Has a surface protective film attached to the surface of the optical film to prevent the surface from being soiled or scratched in a subsequent step. The appearance inspection of the optical film which is a product may be carried out with the surface protective film attached to the optical film in order to remove the surface protective film and to increase the work efficiency by eliminating the work of attaching again.
BACKGROUND ART Conventionally, a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer provided on one surface of a base film has been generally used in the manufacturing process of optical products to prevent adhesion of scratches and stains. The surface protection film is attached to the optical film via a pressure-sensitive adhesive layer having a slight adhesive force. The pressure-sensitive adhesive layer has a slight adhesive strength because it can be easily peeled off when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film and the pressure-sensitive adhesive is an adherend. This is to prevent it from adhering to and remaining on the optical film (so-called adhesive residue is prevented from occurring).

近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーIC等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーICの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を+0.7kV〜−0.7kVの範囲内にすることが求められてきている。
このため、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。
In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, the surface protection film laminated on the optical film, by a peeling electrification voltage generated when peeling and removing, for controlling the display screen of the liquid crystal display panel, The phenomenon that circuit components such as driver ICs are destroyed and the orientation of liquid crystal molecules is damaged occurs even though the number of occurrences is small.
Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is becoming lower, and along with this, the breakdown voltage of the driver IC is also becoming lower. Recently, it has been required to set the peeling electrification voltage within a range of +0.7 kV to -0.7 kV.
Therefore, when the surface protective film is peeled off from the adherend optical film, the pressure-sensitive adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage to be low in order to prevent a defect due to the high electrification electrification voltage. A surface protection film using is proposed.

例えば、特許文献1には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献2には、イオン性液体と酸価が1.0以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献3には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献4には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度0℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献5,6には、表面保護フィルムの粘着剤層の中に、ポリエーテル変性シリコーンを混合することが示されている。
For example, Patent Document 1 discloses a surface protective film using a pressure-sensitive adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and polyisocyanate.
Further, Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition made of an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.
Further, Patent Document 3 discloses an adhesive composition comprising an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anion-adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Further, Patent Document 4 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0° C. or lower, and a surface protective film using the same.
Further, Patent Documents 5 and 6 disclose that a polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protective film.

特開2005−131957号公報JP, 2005-131957, A 特開2005−330464号公報JP, 2005-330464, A 特開2005−314476号公報JP, 2005-314476, A 特開2006−152235号公報JP, 2006-152235, A 特開2009−275128号公報JP, 2009-275128, A 特許第4537450号公報Japanese Patent No. 4537450

上記の特許文献1〜4では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されているが、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。また、LR(Low Reflective)偏光板やAG(Anti Glare)−LR偏光板などの光学用フィルムでは、光学用フィルムの表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理されているため、このような光学用フィルムに使用する表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧が高くなる。 In the above Patent Documents 1 to 4, the antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker, and as the elapsed time passes, the surface protection film is laminated. The amount of the antistatic agent that migrates from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend is larger than that of the adherend. Further, in an optical film such as an LR (Low Reflective) polarizing plate or an AG (Anti Glare)-LR polarizing plate, the surface of the optical film is treated with a silicone compound or a fluorine compound to prevent contamination. The peeling electrification voltage at the time of peeling the surface protection film used for such an optical film from the adherend optical film becomes high.

また、特許文献5,6に記載の、粘着剤層の中にポリエーテル変性シリコーンを混合した場合には、表面保護フィルムの粘着力を微調整することが難しい。また、粘着剤層内に、ポリエーテル変性シリコーンを混ぜているため、粘着剤組成物を基材フィルムの上に塗工・乾燥する条件が変化すると、表面保護フィルムの形成された粘着剤層の表面の特性が、微妙に変化する。さらに、光学用フィルムの表面を保護するという観点から、粘着剤層の厚さを極端に薄くすることができない。そのため、粘着剤層の厚みに応じて、粘着剤層内に混ぜるポリエーテル変性シリコーンの添加量を増やす必要があり、結果的に、被着体表面を汚染し易くなり、経時での粘着力や被着体に対する汚染性が変化する。 Further, when the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to finely adjust the adhesive force of the surface protective film. Further, since the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film change, the pressure-sensitive adhesive layer formed with the surface protective film is The surface characteristics change subtly. Further, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be extremely reduced. Therefore, depending on the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, it is necessary to increase the addition amount of the polyether-modified silicone mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, the surface of the adherend is easily contaminated, and the adhesive force with time or Contamination to the adherend changes.

近年、3Dディスプレイ(立体視ディスプレイ)の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面にFPR(Film Patterned Retarder)フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、FPRフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、FPRフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。 2. Description of the Related Art With the recent spread of 3D displays (stereoscopic displays), there has been an FPR (Film Patterned Retarder) film laminated on the surface of an optical film such as a polarizing plate. The FPR film is attached after the surface protection film attached to the surface of the optical film such as the polarizing plate is peeled off. However, if the surface of an optical film such as a polarizing plate is contaminated with the pressure-sensitive adhesive or antistatic agent used in the surface protective film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. Therefore, the surface protection film used for the purpose is required to have little contamination on the adherend.

一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡(気泡ジミと言うこともある)として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。しかし従来から提案されている、帯電防止剤を含有する粘着剤層を用いた表面保護フィルムでは、当該課題を解決するのが難しい状況にあった。 On the other hand, some liquid crystal panel manufacturers used the method of evaluating the stain resistance of the surface protection film to the adherend by peeling off the surface protection film attached to the optical film such as a polarizing plate once and allowing air bubbles to enter. A method of observing the surface of the adherend by peeling off the surface protection film and then heat-treating the re-bonded product in the above state under predetermined conditions is adopted. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is small, the difference in the surface contamination of the adherend between the part in which the air bubbles are mixed and the part in which the adhesive of the surface protective film is in contact If there is, it remains as a trace of bubbles (sometimes called bubble jimi). Therefore, the method of evaluating the contamination of the surface of the adherend is a very strict evaluation method. In recent years, there has been a demand for a surface protective film that does not have a problem of contamination on the surface of an adherend even if the result of the judgment by such a strict evaluation method is used. However, it has been difficult to solve the problem with the surface protection film using a pressure-sensitive adhesive layer containing an antistatic agent, which has been conventionally proposed.

このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、被着体に対する汚染性が経時変化しないものが必要とされている。さらに、被着体から剥離する時の剥離帯電圧を、低く抑えた表面保護フィルムが求められている。 For this reason, there is a need for a surface protective film used for an optical film, which has very little contamination on an adherend and whose contamination property on the adherend does not change with time. Further, there is a demand for a surface protective film that suppresses the peeling electrification voltage when peeling from an adherend.

本発明者らは、この課題を解決することについて、鋭意、検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、且つ、帯電防止性能の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染している原因と推測される帯電防止剤の添加量を減量させる必要がある。しかし、帯電防止剤の添加量を減量させた場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止剤の添加量の絶対量を増加させないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。その結果、粘着剤組成物の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥させて粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。
The present inventors diligently studied to solve this problem.
In order to reduce the contamination on the adherend and the change in antistatic performance over time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent added, which is presumed to cause the contamination of the adherend. However, when the amount of the antistatic agent added is reduced, the peeling electrification voltage becomes high when the surface protective film is peeled from the adherend. The present inventors have studied a method of suppressing the peeling electrification voltage at the time of peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic agent added. As a result, in the pressure-sensitive adhesive composition, an antistatic agent is not added and mixed to form a pressure-sensitive adhesive layer, but the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer, and then the pressure-sensitive adhesive is laminated. The present invention found that the release electrification voltage can be suppressed low when the surface protective film is peeled from the adherend optical film by applying an appropriate amount of the antistatic agent component to the surface of the layer, Was completed.

本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであって、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムの製造方法、および帯電防止表面保護フィルムを提供することを課題とする。 The present invention is made in view of the above circumstances, there is little contamination on the adherend, and a method for producing an antistatic surface protective film having excellent antistatic peeling performance without deterioration over time, and charging. An object is to provide an anti-surface protection film.

上記の課題を解決するため、本発明の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、その粘着剤層の表面に適量の20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。 In order to solve the above problems, the antistatic surface protective film of the present invention is a liquid at a suitable amount of 20° C. on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the pressure-sensitive adhesive composition is applied and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer. By applying the silicone compound and the antistatic agent as described above, the technical idea is to suppress the contamination property to the adherend to a low level and to suppress the peeling electrification voltage at the time of peeling from the optical film as the adherend to a low level. There is.

上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成されてなり、前記粘着剤層の表面に帯電防止剤が転写されてなる、帯電防止表面保護フィルムの製造方法であって、前記粘着剤層は、アクリル系ポリマーと、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層であり、前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させたアクリル系ポリマーであり、前記(E)架橋促進剤に対する前記(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合として、(E):(F)の重量比が1:80〜1:500であり、樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなる剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後に、前記粘着剤層の表面から前記剥離フィルムを剥がして、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤を転写することを特徴とする帯電防止表面保護フィルムの製造方法を提供する。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises an adhesive layer formed on one surface of a substrate film made of a resin having transparency, and an antistatic agent transferred to the surface of the adhesive layer. A method for producing an antistatic surface protection film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic polymer, (D) a difunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a crosslinking accelerator, and (F) ketoenol tautomerism. Body compound, and a pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking a pressure-sensitive adhesive composition containing the acrylic polymer, wherein the acrylic polymer is at least a (meth)acrylic acid ester monomer having (A) an alkyl group carbon number of C4 to C18. From one type, as a copolymerizable monomer group, (B) a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer, and (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer. Which is an acrylic polymer obtained by copolymerizing at least one selected from the group of copolymerizable monomers, wherein the ratio of the (F) ketoenol tautomer compound to the (E) crosslinking accelerator is , (E):(F) in a weight ratio of 1:80 to 1:500, and a release agent layer containing an antistatic agent is laminated on one surface of the resin film, and the release agent layer is dimethyl. A release film formed of a resin composition containing a release agent containing polysiloxane as a main component, a silicone-based compound that is liquid at 20° C., and an antistatic agent, and the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer. Of the release agent, after peeling the release film from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, to transfer only the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the silicone compound and the antistatic agent of the release agent layer. A method for producing a characteristic antistatic surface protective film is provided.

また、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the copolymerizable monomer group further contains (G) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.

また、前記(E)架橋促進剤が、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。 The (E) crosslinking accelerator is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum chelate compounds, titanium chelate compounds, and iron chelate compounds.

また、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーが、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 In addition, the copolymerizable monomer having a hydroxyl group (B) is 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth). ) At least one selected from the group of compounds consisting of acrylate, N-hydroxy(meth)acrylamide, N-hydroxymethyl(meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl(meth)acrylamide is preferable.

また、前記(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 Further, the (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer is selected from polyalkylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate. In addition, it is preferable that at least one or more.

また、前記(D)2官能以上のイソシアネート化合物として、2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であり、ジイソシアネート化合物としては、脂肪族ジイソシアネートであり、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種と、ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種からなり、3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、からなることが好ましい。 Further, as the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound, the bifunctional isocyanate compound is an acyclic aliphatic isocyanate compound which is a compound produced by reacting a diisocyanate compound and a diol compound, and is a diisocyanate compound. Is an aliphatic diisocyanate, one selected from the group of compounds consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2-methyl-1 as the diol compound. , 3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3 -Methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, consisting of one selected from the group of compounds, trifunctional isocyanate compound As the isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate compound, isocyanurate body of isophorone diisocyanate compound, adduct body of hexamethylene diisocyanate compound, adduct body of isophorone diisocyanate compound, burette body of hexamethylene diisocyanate compound, burette body of isophorone diisocyanate compound, Isocyanurate body of tolylene diisocyanate compound, isocyanurate body of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate body of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, adduct body of tolylene diisocyanate compound, adduct body of xylylene diisocyanate compound, hydrogenated xylylene diisocyanate It is preferably composed of an adduct of the compound.

また、前記粘着剤組成物にHLB値が7〜15である(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition contains (H) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15.

また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Further, the silicone compound in the release agent layer is preferably a polyether-modified silicone.

また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 The antistatic agent in the release agent layer is preferably an alkali metal salt.

また、上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないが、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは水酸基を含有しないアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させた共重合体からなるアクリル系ポリマーと、さらに、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層が形成されてなり、前記粘着剤層の表面に、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムが、前記剥離剤層を介して貼り合わせてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤が転写されてなり、前記(E)架橋促進剤に対する前記(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合として、(E):(F)の重量比が1:80〜1:500であることを特徴とする帯電防止表面保護フィルムを提供する。 Moreover, in order to solve the above-mentioned subject, this invention has the number of carbon atoms of (A) alkyl group of C4-C18 (meth)acrylic acid ester monomer on one side of the base material film which consists of resin which has transparency. At least one kind, and a copolymerizable monomer group containing no carboxyl group-containing copolymerizable monomer, but (B) a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer and (C) a hydroxyl group-free nitrogen. Acrylic system comprising a copolymer obtained by copolymerizing at least one selected from the group of copolymerizable monomers consisting of a vinyl monomer containing or an alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer containing no hydroxyl group. A pressure-sensitive adhesive layer obtained by cross-linking a pressure-sensitive adhesive composition containing a polymer, (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, and (F) a keto-enol tautomer compound. A release film formed by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one surface of a resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the release agent layer being laminated via the release agent layer, the release agent The layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone-based compound that is liquid at 20° C., and an antistatic agent. The layer is formed only on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. The silicone compound and the antistatic agent of the release agent layer are transferred, and the weight of (E):(F) as the ratio of the (F) ketoenol tautomer compound to the (E) crosslinking accelerator. Provided is an antistatic surface protective film, characterized in that the ratio is 1:80 to 1:500.

また、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことが好ましい。 Further, it is preferable that the copolymerizable monomer group further contains (G) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.

また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Further, the silicone compound in the release agent layer is preferably a polyether-modified silicone.

また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 The antistatic agent in the release agent layer is preferably an alkali metal salt.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルムを提供する。 The present invention also provides an optical film obtained by laminating the above antistatic surface protective film.

また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学部品を提供する。 The present invention also provides an optical component obtained by laminating the above antistatic surface protective film.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、被着体に対する低汚染性が経時変化しない。また、本発明によれば、LR偏光板やAG−LR偏光板などの、被着体の表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムであっても、帯電防止表面保護フィルムを、被着体から剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供できる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The antistatic surface protective film of the present invention has little stain on the adherend, and its low stain resistance on the adherend does not change with time. Further, according to the present invention, even if the surface of an adherend such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate is an optical film which is antifouling-treated with a silicone compound or a fluorine compound, the antistatic property is prevented. It is possible to suppress the peeling electrification voltage generated when the surface protective film is peeled from the adherend, and to provide an antistatic surface protective film having excellent peeling antistatic performance without deterioration over time.
According to the antistatic surface protection film of the present invention, the surface of the optical film can be reliably protected, so that the productivity and the yield can be improved.

本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the concept of the antistatic surface protection film of this invention. 本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention. 本発明の光学部品の、実施例の1つを示した断面図である。It is sectional drawing which showed one of the Examples of the optical component of this invention.

以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この帯電防止表面保護フィルム10は、透明な基材フィルム1の片面の表面に、粘着剤層2が形成されている。この粘着剤層2の表面には、樹脂フィルム3の表面に剥離剤層4が形成された剥離フィルム5が、貼合されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments.
FIG. 1 is a sectional view showing the concept of an antistatic surface protective film of the present invention. In this antistatic surface protection film 10, an adhesive layer 2 is formed on one surface of a transparent base film 1. A release film 5 having a release agent layer 4 formed on the surface of a resin film 3 is attached to the surface of the adhesive layer 2.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、帯電防止表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム1として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム1は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム1の粘着剤層2が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム1の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
As the base film 1 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the appearance inspection of the optical component can be performed in a state where the antistatic surface protection film is attached to the optical component as the adherend. The film made of a transparent resin used as the base film 1 is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, a film made of other resin can be used as long as it has necessary strength and optical suitability. The base film 1 may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
The thickness of the substrate film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, but for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easy to handle. , And more preferable.
If necessary, an antifouling layer for preventing surface stains, an antistatic layer, a scratch-resistant hard coat layer, etc. may be provided on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the adhesive layer 2 is formed. Can be provided. Further, the surface of the substrate film 1 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると(メタ)アクリレート共重合体を架橋させてなるアクリル系粘着剤を用いるのが一般的である。 The pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is a pressure-sensitive adhesive that adheres to the surface of an adherend and can be easily peeled off after use and does not easily contaminate the adherend. It is not particularly limited as long as it is, but it is common to use an acrylic pressure-sensitive adhesive obtained by crosslinking a (meth)acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film. ..

特に、アクリル系粘着剤の主剤が、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないが、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、の共重合体のアクリル系ポリマーからなる粘着剤層が好ましい。
前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含むことができる。
さらに、前記アクリル系ポリマーに加えて、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層が好ましい。
In particular, the main component of the acrylic pressure-sensitive adhesive is a copolymer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group with at least one (A) alkyl group (A) alkyl group (C4 to C18) (meth)acrylic acid ester monomer. Copolymerization that does not contain a polymerizable monomer, but comprises (B) a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer and (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer. A pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic polymer that is a copolymer of at least one selected from the group of possible monomers is preferable.
The copolymerizable monomer group may further include (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.
Further, a pressure-sensitive adhesive composition comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a crosslinking accelerator, and (F) a ketoenol tautomer compound in addition to the acrylic polymer. A drug layer is preferred.

(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、イソセチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーを50〜95重量部の割合で含有していることが好ましい。
Examples of the (meth)acrylic acid ester monomer having (A) an alkyl group having a C4 to C18 carbon number include butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, and heptyl ( (Meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl ( (Meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, myristyl (meth) Examples thereof include acrylate, isomyristyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, isocetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and isostearyl (meth)acrylate.
When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, the (A) alkyl group contains a C4 to C18 (meth)acrylic acid ester monomer in a proportion of 50 to 95 parts by weight. Is preferred.

(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーとしては、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類や、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有(メタ)アクリルアミド類などが挙げられる。
8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを0.1〜10重量部の割合で含有していることが好ましい。
Examples of the (B) hydroxyl group-containing copolymerizable monomer include 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate. Examples thereof include hydroxyalkyl (meth)acrylates and the like, hydroxyl group-containing (meth)acrylamides such as N-hydroxy(meth)acrylamide, N-hydroxymethyl(meth)acrylamide, N-hydroxyethyl(meth)acrylamide, and the like.
8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) ) It is preferable that at least one selected from the group of compounds consisting of acrylamide and N-hydroxyethyl(meth)acrylamide.
When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer (B) is contained in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight.

前記アクリル系ポリマーが、前記共重合可能なモノマー群として、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーの少なくとも一種以上を含むことが好ましい。 It is preferable that the acrylic polymer contains, as the copolymerizable monomer group, at least one or more of (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer.

(C)のうち、(C−1)窒素含有ビニルモノマーとしては、アミド結合を含有するビニルモノマー、アミノ基を含有するビニルモノマー、窒素含有の複素環式構造を有するビニルモノマー等が挙げられる。より具体的には、N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルピリミジン、N−ビニルピペラジン、N−ビニルピラジン、N−ビニルピロール、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾール、N−ビニルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルラウリロラクタム等の、N−ビニル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N−(メタ)アクリロイルモルホリン、N−(メタ)アクリロイルピペラジン、N−(メタ)アクリロイルアジリジン、N−(メタ)アクリロイルアゼチジン、N−(メタ)アクリロイルピロリジン、N−(メタ)アクリロイルピペリジン、N−(メタ)アクリロイルアゼパン、N−(メタ)アクリロイルアゾカン等の、N−(メタ)アクリロイル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド等の、窒素原子及びエチレン系不飽和結合を環内に有する複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド等の無置換又はモノアルキル置換の(メタ)アクリルアミド;N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジプロピルアクリルアミド、N,N−ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジブチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド等のジアルキル置換(メタ)アクリルアミド;N,N−ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノイソプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−エチル−N−メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチル−N−プロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N−メチル−N−イソプロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノ(メタ)アクリレート;N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジイソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エチル−N−メチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−プロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のN,N−ジアルキル置換アミノプロピル(メタ)アクリルアミド;N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド等のN−ビニルカルボン酸アミド類;N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N−メチレンビス(メタ)アクリルアミド等の、(メタ)アクリルアミド類;(メタ)アクリロニトリル等の不飽和カルボン酸ニトリル類;などが挙げられる。 Among (C), examples of the (C-1) nitrogen-containing vinyl monomer include a vinyl monomer having an amide bond, a vinyl monomer having an amino group, and a vinyl monomer having a nitrogen-containing heterocyclic structure. More specifically, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazine, N-vinyl. Cyclic nitrogen vinyl compounds having an N-vinyl-substituted heterocyclic structure, such as pyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholine, N-vinylcaprolactam, N-vinyllaurylolactam; N-( (Meth)acryloylmorpholine, N-(meth)acryloylpiperazine, N-(meth)acryloylaziridine, N-(meth)acryloylazetidine, N-(meth)acryloylpyrrolidine, N-(meth)acryloylpiperidine, N-(meth) ) Acyclic nitrogen vinyl compounds having an N-(meth)acryloyl-substituted heterocyclic structure such as acryloylazepan and N-(meth)acryloylazocan; nitrogen atoms such as N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide; Cyclic nitrogen vinyl compounds having a heterocyclic structure having an ethylenically unsaturated bond in the ring; (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, Nt-butyl(meth) Unsubstituted or monoalkyl-substituted (meth)acrylamide such as acrylamide; N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N,N-dipropylacrylamide, N,N-diisopropyl(meth ) Acrylamide, N,N-dibutyl(meth)acrylamide, N-ethyl-N-methyl(meth)acrylamide, N-methyl-N-propyl(meth)acrylamide, N-methyl-N-isopropyl(meth)acrylamide, etc. Dialkyl-substituted (meth)acrylamide; N,N-dimethylaminomethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoisopropyl (Meth)acrylate, N,N-dimethylaminobutyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminomethyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, N-ethyl-N-methylaminoethyl (meth ) Acrylate, N-methyl-N-propylaminoethyl (meth)acrylate, N-methyl-N-isopropylaminoethyl (meth) A) acrylate, dialkylamino(meth)acrylates such as N,N-dibutylaminoethyl(meth)acrylate, t-butylaminoethyl(meth)acrylate; N,N-dimethylaminopropyl(meth)acrylamide, N,N- Diethylaminopropyl (meth)acrylamide, N,N-dipropylaminopropyl (meth)acrylamide, N,N-diisopropylaminopropyl (meth)acrylamide, N-ethyl-N-methylaminopropyl (meth)acrylamide, N-methyl- N,N-dialkyl-substituted aminopropyl(meth)acrylamides such as N-propylaminopropyl(meth)acrylamide, N-methyl-N-isopropylaminopropyl(meth)acrylamide; N-vinylformamide, N-vinylacetamide, N- N-vinylcarboxylic acid amides such as vinyl-N-methylacetamide; N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-ethoxyethyl (meth)acrylamide, N-butoxymethyl (meth)acrylamide, diacetone acrylamide, N,N -(Meth)acrylamides such as methylenebis(meth)acrylamide; unsaturated carboxylic acid nitriles such as (meth)acrylonitrile; and the like.

(C−1)窒素含有ビニルモノマーとしては、水酸基を含有しないものが好ましく、水酸基およびカルボキシル基を含有しないものがより好ましい。このようなモノマーとしては、上に例示したモノマー、例えば、N,N−ジアルキル置換アミノ基やN,N−ジアルキル置換アミド基を含有するアクリル系モノマー;N−ビニル−2−ピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニル−2−ピペリドンなどのN−ビニル置換ラクタム類;N−(メタ)アクリロイルモルホリンやN−(メタ)アクリロイルピロリジンなどのN−(メタ)アクリロイル置換環状アミン類が好ましい。 As the (C-1) nitrogen-containing vinyl monomer, those not containing a hydroxyl group are preferable, and those not containing a hydroxyl group and a carboxyl group are more preferable. Examples of such a monomer include the above-exemplified monomers, for example, an acrylic monomer containing an N,N-dialkyl-substituted amino group or an N,N-dialkyl-substituted amide group; N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl. N-vinyl-substituted lactams such as caprolactam and N-vinyl-2-piperidone; N-(meth)acryloyl-substituted cyclic amines such as N-(meth)acryloylmorpholine and N-(meth)acryloylpyrrolidine are preferable.

(C)のうち、(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−イソプロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、2−プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2−イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、3−プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3−イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、4−メトキシブチル(メタ)アクリレート、4−エトキシブチル(メタ)アクリレート、4−プロポキシブチル(メタ)アクリレート、4−イソプロポキシブチル(メタ)アクリレート、4−ブトキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらのアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、アルキル(メタ)アクリレートにおけるアルキル基の原子がアルコキシ基で置換された構造を有する。
Among (C), as the (C-2) alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, 2-propoxyethyl (meth)acrylate, 2-isopropoxyethyl (meth)acrylate, 2-butoxyethyl (meth)acrylate, 2-methoxypropyl (meth)acrylate, 2-ethoxypropyl (meth)acrylate, 2-propoxypropyl (meth)acrylate, 2-isopropoxy Propyl (meth)acrylate, 2-butoxypropyl (meth)acrylate, 3-methoxypropyl (meth)acrylate, 3-ethoxypropyl (meth)acrylate, 3-propoxypropyl (meth)acrylate, 3-isopropoxypropyl (meth) Acrylate, 3-butoxypropyl (meth)acrylate, 4-methoxybutyl (meth)acrylate, 4-ethoxybutyl (meth)acrylate, 4-propoxybutyl (meth)acrylate, 4-isopropoxybutyl (meth)acrylate, 4- Butoxy butyl (meth)acrylate etc. are mentioned.
These alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomers have a structure in which the alkyl group atom in the alkyl (meth)acrylate is substituted with an alkoxy group.

共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(C−1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを0〜20重量部の割合で含有していることが好ましい。(C−1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマー及び(C−2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを、それぞれ1種または2種以上併用することもできる。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを含有させなくてもよい。 When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, 0 to 20 parts by weight of the (C-1) hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or (C-2) alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer is used. It is preferably contained in a ratio of parts. The nitrogen-containing vinyl monomer containing no (C-1) hydroxyl group and the alkyl (meth)acrylate monomer containing (C-2) alkoxy group may be used alone or in combination of two or more kinds. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer.

(D)2官能以上のイソシアネート化合物としては、1分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物から選択される、少なくとも1種または2種以上であればよい。ポリイソシアネート化合物には、脂肪族系イソシアネート、芳香族系イソシアネート、非環式系イソシアネート、脂環式系イソシアネートなどの分類があるが、いずれでもよい。ポリイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の脂肪族系イソシアネート化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添キシリレンジイソシアネート(H6XDI)、ジメチルジフェニレンジイソシアネート(TOID)、トリレンジイソシアネート(TDI)等の芳香族系イソシアネート化合物が挙げられる。
3官能以上のイソシアネート化合物としては、2官能イソシアネート化合物(1分子中に2個のNCO基を有する化合物)のビュレット変性体やイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン(TMP)やグリセリン等の3価以上のポリオール(1分子中に少なくとも3個以上のOH基を有する化合物)とのアダクト体(ポリオール変性体)などが挙げられる。
(D)2官能以上のイソシアネート化合物として、(D−1)3官能イソシアネート化合物のみ、または(D−2)2官能イソシアネート化合物のみを用いることも可能である。また、(D−1)3官能イソシアネート化合物と、(D−2)2官能イソシアネート化合物を併用することも可能である。
The (D) difunctional or higher functional isocyanate compound may be at least one or two or more selected from polyisocyanate compounds having at least two isocyanate (NCO) groups in one molecule. The polyisocyanate compound is classified into an aliphatic isocyanate, an aromatic isocyanate, an acyclic isocyanate, an alicyclic isocyanate, and the like, but any of them may be used. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI) and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI) and xylylene diisocyanate (XDI). , Hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyldiphenylene diisocyanate (TOID), tolylene diisocyanate (TDI), and other aromatic isocyanate compounds.
Examples of the trifunctional or higher isocyanate compound include a bifunctional isocyanate compound (compound having two NCO groups in one molecule), a buret modified product, an isocyanurate modified product, trimethylolpropane (TMP), glycerin, or the like having a valence of 3 or more. And the polyol (compound having at least 3 or more OH groups in one molecule) of 1).
It is also possible to use only (D-1) a trifunctional isocyanate compound or (D-2) a bifunctional isocyanate compound as the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound. It is also possible to use the (D-1) trifunctional isocyanate compound and the (D-2) bifunctional isocyanate compound in combination.

さらに、本発明に用いる(D−1)3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体からなる、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含むことが好ましい。(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群とを、併用することが好ましい。本発明では、(D−1)3官能イソシアネート化合物として、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを、併用することにより、低速剥離領域および高速剥離領域の粘着力のバランスをさらに改善することができる。 Further, as the (D-1) trifunctional isocyanate compound used in the present invention, an isocyanurate body of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate body of an isophorone diisocyanate compound, an adduct body of a hexamethylene diisocyanate compound, an adduct body of an isophorone diisocyanate compound, At least one or more selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group consisting of a burette of a hexamethylene diisocyanate compound and a burette of an isophorone diisocyanate compound, and a tolylene diisocyanate compound Isocyanurate body, isocyanurate body of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate body of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, adduct body of tolylene diisocyanate compound, adduct body of xylylene diisocyanate compound, adduct body of hydrogenated xylylene diisocyanate compound And (D-1-2) at least one selected from the second aromatic isocyanate compound group. It is preferable to use (D-1-1) the first aliphatic isocyanate compound group and (D-1-2) the second aromatic isocyanate compound group in combination. In the present invention, as the (D-1) trifunctional isocyanate compound, at least one or more selected from the group of the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound and (D-1-2) ) By using in combination with at least one or more selected from the second aromatic isocyanate compound group, it is possible to further improve the balance of the adhesive strength in the low-speed peeling region and the high-speed peeling region.

また、(D−1)3官能イソシアネート化合物は、前記(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、前記(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含み、前記共重合体の100重量部に対して、合計して0.5〜5.0重量部含まれることが好ましい。また、(D−1−1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(D−1−2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上との混合比率は、(D−1−1):(D−1−2)が重量比で10%:90%〜90%:10%の範囲内であることが好ましい。 Further, the (D-1) trifunctional isocyanate compound is at least one or more selected from the (D-1-1) first aliphatic isocyanate compound group, and the (D-1-2) ) At least one selected from the second aromatic isocyanate compound group, and 0.5 to 5.0 parts by weight in total with respect to 100 parts by weight of the copolymer. Preferably. In addition, at least one selected from the group of (D-1-1) the first aliphatic isocyanate compound, and (D-1-2) of the second aromatic isocyanate compound group. The mixing ratio with at least one selected from (D-1-1):(D-1-2) is in the range of 10%:90% to 90%:10% by weight. Is preferred.

さらに、本発明に用いる(D−2)2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であることが好ましい。
例えば、一般式「O=C=N−X−N=C=O」(ただし、Xは2価基)でジイソシアネート化合物を、一般式「HO−Y−OH」(ただし、Yは2価基)でジオール化合物を表すとき、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物としては、例えば、次の一般式Zで表される化合物が挙げられる。
Further, the (D-2) difunctional isocyanate compound used in the present invention is preferably an acyclic aliphatic isocyanate compound which is produced by reacting a diisocyanate compound and a diol compound.
For example, a diisocyanate compound is represented by the general formula "O=C=N-X-N=C=O" (where X is a divalent group) and a general formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group). When the diol compound is represented by ), examples of the compound produced by reacting the diisocyanate compound with the diol compound include compounds represented by the following general formula Z.

〔一般式Z〕
O=C=N−X−(NH−CO−O−Y−O−CO−NH−X)−N=C=O
[General formula Z]
O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X) n- N=C=O

ここで、nは0以上の整数である。nが0の場合、一般式Zは、「O=C=N−X−N=C=O」を表す。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物として、一般式Zにおいてnが0の化合物(ジオール化合物に対して未反応のジイソシアネート化合物)を含んでもよいが、nが1以上の整数である化合物を必須成分として含むことが好ましい。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物は、一般式Zにおけるnが異なる、複数の化合物からなる混合物であってもよい。 Here, n is an integer of 0 or more. When n is 0, the general formula Z represents "O=C=N-X-N=C=O". As the bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound, a compound in which n is 0 in the general formula Z (a diisocyanate compound not reacted with the diol compound) may be contained, but a compound in which n is an integer of 1 or more is an essential component. It is preferable to include as. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture of a plurality of compounds having different n in the general formula Z.

一般式「O=C=N−X−N=C=O」で表されるジイソシアネート化合物は、脂肪族ジイソシアネートである。Xは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記脂肪族ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 The diisocyanate compound represented by the general formula "O=C=N-X-N=C=O" is an aliphatic diisocyanate. X is preferably an acyclic, aliphatic divalent group. The aliphatic diisocyanate is preferably composed of one or more selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate.

一般式「HO−Y−OH」で表されるジオール化合物は、脂肪族ジオールである。Yは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記ジオール化合物としては、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 The diol compound represented by the general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2. -Butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, polypropylene glycol It is preferable to be composed of one kind or two or more kinds selected.

前記(D−1)3官能イソシアネート化合物と、(D−2)2官能イソシアネート化合物との重量比(D−1/D−2)が、1〜90であることが好ましい。前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、前記(D)2官能以上のイソシアネート化合物が、0.1〜10重量部であることが好ましい。 The weight ratio (D-1/D-2) of the (D-1) trifunctional isocyanate compound and the (D-2) difunctional isocyanate compound is preferably 1 to 90. It is preferable that the amount of the (D) bifunctional or more isocyanate compound is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

(E)架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、前記共重合体と架橋剤との反応(架橋反応)に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物や有機錫化合物が好ましい。 The crosslinking accelerator (E) may be a substance which functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) between the copolymer and the crosslinking agent when a polyisocyanate compound is used as the crosslinking agent, and a tertiary amine Examples thereof include amine compounds, metal chelate compounds, organotin compounds, organolead compounds, organozinc compounds, and other organometallic compounds. In the present invention, a metal chelate compound or an organic tin compound is preferable as the crosslinking accelerator.

金属キレート化合物としては、中心金属原子Mに、1以上の多座配位子Lが結合した化合物である。金属キレート化合物は、金属原子Mに結合する1以上の単座配位子Xを有してもよく、有しなくてもよい。例えば、金属原子Mが1つである金属キレート化合物の一般式を、M(L)(X)で表すとき、m≧1、n≧0である。mが2以上の場合、m個のLは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。nが2以上の場合、n個のXは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。 The metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to the central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more monodentate ligand X bonded to the metal atom M. For example, when a general formula of a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M(L) m (X) n , m≧1 and n≧0. When m is 2 or more, m Ls may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, n Xs may be the same ligand or different ligands.

金属原子Mとしては、Fe,Ni,Mn,Cr,V,Ti,Ru,Zn,Al,Zr,Sn等が挙げられる。
多座配位子Lとしては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン(別名2,4−ペンタンジオン)、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ケトエノール互変異性体化合物であり、多座配位子Lにおいてはエノールが脱プロトンしたエノラート(例えばアセチルアセトネート)であってもよい。
単座配位子Xとしては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、2−エチルヘキサノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。
Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr and Sn.
Examples of the polydentate ligand L include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate and stearyl acetoacetate, acetylacetone (also known as 2,4-pentanedione), Examples include β-diketones such as 2,4-hexanedione and benzoylacetone. These are keto-enol tautomeric compounds, and in the polydentate ligand L, an enol deprotonated enolate (eg acetylacetonate) may be used.
Examples of the monodentate ligand X include halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, pentanoyl group, hexanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, dodecanoyl group and octadecanoyl group. Examples thereof include alkoxy groups such as a group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and a butoxy group.

金属キレート化合物の具体例としては、トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)、鉄トリスアセチルアセトネート、チタニウムトリスアセチルアセトネート、ルテニウムトリスアセチルアセトネート、亜鉛ビスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネート、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)鉄(III)、ビス(2,4−ヘキサンジオナト)亜鉛、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)チタン、トリス(2,4−ヘキサンジオナト)アルミニウム、テトラキス(2,4−ヘキサンジオナト)ジルコニウム等が挙げられる。 Specific examples of the metal chelate compound include tris(2,4-pentanedionato)iron(III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, and aluminum tris. Acetylacetonate, zirconium tetrakisacetylacetonate, tris(2,4-hexanedionate)iron(III), bis(2,4-hexanedionato)zinc, tris(2,4-hexanedionato)titanium, tris Examples include (2,4-hexanedionate)aluminum and tetrakis(2,4-hexanedionate)zirconium.

有機錫化合物としては、ジアルキル錫オキシドや、ジアルキル錫の脂肪酸塩、第1錫の脂肪酸塩等が挙げられる。従来、ジブチル錫化合物が多く使用されてきたが、近年、有機錫化合物の毒性の問題が指摘され、特にジブチル錫化合物に含まれるトリブチル錫(TBT)は、内分泌攪乱物質としても懸念されている。安全性の観点から、ジオクチル錫化合物等の長鎖アルキル錫化合物が好ましい。具体的な有機錫化合物としては、ジオクチル錫オキシド、ジオクチル錫ジラウレート等が挙げられる。暫定的にはSn化合物も使用可能であるが、将来的には、より安全性の高い物質の使用が要求される趨勢に鑑み、Snに比べて安全性の高い、Al,Ti,Fe等の金属キレート化合物を用いることが好ましい。
本発明に係わる粘着剤組成物における(E)架橋促進剤としては、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物からなる群の中から選択された少なくとも1種以上であることが好ましい。
(E)架橋促進剤は、共重合体の100重量部に対して、0.001〜0.5重量部含まれることが好ましい。
Examples of the organotin compound include dialkyltin oxide, fatty acid salt of dialkyltin, and fatty acid salt of stannous tin. Conventionally, many dibutyltin compounds have been used, but in recent years, the toxicity problem of organotin compounds has been pointed out, and tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds has been feared as an endocrine disrupting substance. From the viewpoint of safety, long-chain alkyltin compounds such as dioctyltin compounds are preferable. Specific examples of the organic tin compound include dioctyl tin oxide and dioctyl tin dilaurate. Temporarily, Sn compounds can also be used, but in view of the trend of requiring the use of substances with higher safety in the future, such as Al, Ti, Fe, etc., which have higher safety than Sn, can be used. It is preferable to use a metal chelate compound.
The (E) crosslinking accelerator in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum chelate compounds, titanium chelate compounds, and iron chelate compounds.
The crosslinking accelerator (E) is preferably contained in an amount of 0.001 to 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.

(F)ケトエノール互変異性体化合物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ−ケトエステルや、アセチルアセトン、2,4−ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ−ジケトンが挙げられる。これらは、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする粘着剤組成物において、架橋剤の有するイソシアネート基をブロックすることにより、架橋剤の配合後における粘着剤組成物の過剰な粘度上昇やゲル化を抑制し、粘着剤組成物のポットライフを延長することができる。
(F)ケトエノール互変異性体化合物は、共重合体の100重量部に対して、0.1〜200重量部含まれることが好ましい。
Examples of the (F) keto-enol tautomer compound include β-keto esters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate and stearyl acetoacetate, acetylacetone, and 2,4-hexanedione. , Β-diketones such as benzoylacetone. These are, in a pressure-sensitive adhesive composition using a polyisocyanate compound as a cross-linking agent, by blocking the isocyanate group of the cross-linking agent, to suppress excessive viscosity increase and gelation of the pressure-sensitive adhesive composition after the incorporation of the cross-linking agent. The pot life of the pressure-sensitive adhesive composition can be extended.
The (F) ketoenol tautomer compound is preferably contained in an amount of 0.1 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the copolymer.

(F)ケトエノール互変異性体化合物は、(E)架橋促進剤とは反対に、架橋を抑制する効果を有することから、(E)架橋促進剤に対する(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合を適切に設定することが好ましい。粘着剤組成物のポットライフを長くし、貯蔵安定性を向上させるには、(E):(F)の重量比が、好ましくは1:1〜1:500の範囲であり、さらに好ましくは、1:30〜1:500であり、最も好ましくは、1:80〜1:500である。 Since the (F) ketoenol tautomeric compound has an effect of suppressing crosslinking, contrary to the (E) crosslinking accelerator, the ratio of the (F) ketoenol tautomeric compound to the (E) crosslinking accelerator. Is preferably set appropriately. In order to increase the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition and improve the storage stability, the weight ratio of (E):(F) is preferably in the range of 1:1 to 1:500, and more preferably, It is 1:30 to 1:500, and most preferably 1:80 to 1:500.

前記アクリル系ポリマーは、前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを任意に含有することができる。(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールの有する複数の水酸基のうち、一つの水酸基が(メタ)アクリル酸エステルとしてエステル化された化合物であればよい。(メタ)アクリル酸エステル基が重合性基となるので、主剤ポリマーに共重合することができる。他の水酸基は、OHのままでもよく、メチルエーテルやエチルエーテル等のアルキルエーテルや、酢酸エステル等の飽和カルボン酸エステル等となっていてもよい。
ポリアルキレングリコールの有するアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられるが、これらに限定されない。ポリアルキレングリコールが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等の2種以上のポリアルキレングリコールの共重合体であってもよい。ポリアルキレングリコールの共重合体としては、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール等が挙げられ、該共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体であってもよい。
(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3〜14であることが好ましい。「アルキレンオキサイドの平均繰り返し数」とは、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーの分子構造に含まれる「ポリアルキレングリコール鎖」の部分において、アルキレンオキサイド単位が繰り返す平均の数である。
The acrylic polymer may further contain (G) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. The (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer may be a compound in which one of the plural hydroxyl groups of the polyalkylene glycol is esterified as a (meth)acrylic acid ester. Since the (meth)acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can be copolymerized with the base polymer. The other hydroxyl group may be OH as it is, or may be an alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, or a saturated carboxylic acid ester such as acetic acid ester.
Examples of the alkylene group contained in the polyalkylene glycol include, but are not limited to, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and the like. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polybutylene glycol. Examples of the polyalkylene glycol copolymer include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol, and the like. It may be a block copolymer or a random copolymer.
The (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer preferably has an average number of repeating alkylene oxides constituting the polyalkylene glycol chain of 3 to 14. The “average number of repeating alkylene oxides” is the average number of repeating alkylene oxide units in the “polyalkylene glycol chain” portion contained in the molecular structure of the (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer. is there.

(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
より具体的には、ポリエチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−モノ(メタ)アクリレート;メトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート;エトキシポリエチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレート、エトキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリブチレングリコール−(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0〜50重量部の割合で含有していることが好ましい。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含有させなくてもよい。
(G) The polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer is selected from polyalkylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate. It is preferably at least one kind.
More specifically, polyethylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-mono(meth)acrylate, polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-poly. Butylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate; methoxy polyethylene glycol-(meth)acrylate, methoxy polypropylene glycol -(Meth)acrylate, methoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polypropylene glycol-polybutylene Glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate; ethoxypolyethylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolybutylene glycol-(meth). Acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol -Polybutylene glycol-(meth)acrylate etc. are mentioned.
When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable to contain the (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer in a proportion of 0 to 50 parts by weight. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition may not contain the (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.

粘着剤組成物は、(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を任意に含有することができる。(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、ポリエーテル基を有するシロキサン化合物であり、通常のシロキサン単位〔−SiR −O−〕の他に、ポリエーテル基を有するシロキサン単位〔−SiR(RO(RO))−O−〕を有する。ここで、Rは1種又は2種以上のアルキル基又はアリール基、R及びRは1種又は2種以上のアルキレン基、Rは1種又は2種以上のアルキル基やアシル基等(末端基)を示す。ポリエーテル基としては、ポリオキシエチレン基〔(CO)〕やポリオキシプロピレン基〔(CO)〕等のポリオキシアルキレン基が挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive composition can optionally contain (H) a polyether-modified siloxane compound. (H) a polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, in addition to the normal siloxane units [-SiR 1 2 -O-], siloxane units having polyether groups [-SiR 1 (R having 2 O (R 3 O) n R 4) -O- ]. Here, R 1 is one or more kinds of alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 are one or more kinds of alkylene groups, and R 4 is one or more kinds of alkyl groups or acyl groups. Etc. (terminal group). Examples of the polyether group include polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene group [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxypropylene group [(C 3 H 6 O) n ].

(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、HLB値が7〜15であるポリエーテル変性シロキサン化合物であることが好ましい。また、共重合体の100重量部に対して、(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物が0.01〜1.0重量部含まれることが好ましい。より好ましくは、0.1〜0.5重量部である。
HLBとは、例えばJIS K3211(界面活性剤用語)等に規定する親水親油バランス(親水性親油性比)である。
The (H) polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Further, it is preferable that the (H) polyether-modified siloxane compound is contained in an amount of 0.01 to 1.0 part by weight based on 100 parts by weight of the copolymer. More preferably, it is 0.1 to 0.5 parts by weight.
HLB is a hydrophilic-lipophilic balance (hydrophilic-lipophilic ratio) defined in JIS K3211, (surfactant term), for example.

(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、例えば、水素化ケイ素基を有するポリオルガノシロキサン主鎖に対し、不飽和結合及びポリオキシアルキレン基を有する有機化合物をヒドロシリル化反応によりグラフトさせることによって得ることができる。具体的には、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン重合体等が挙げられる。
(H)ポリエーテル変性シロキサン化合物を粘着剤組成物に配合することにより、粘着剤の粘着力及びリワーク性能を改善することができる。粘着剤組成物がポリエーテル変性シロキサン化合物を含有しない場合、より低コストとなる。
The (H) polyether-modified siloxane compound can be obtained by, for example, grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group onto a polyorganosiloxane main chain having a silicon hydride group by a hydrosilylation reaction. it can. Specifically, dimethyl siloxane/methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethyl siloxane/methyl (polyoxyethylene) siloxane/methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethyl siloxane/methyl (polyoxypropylene) Examples thereof include siloxane polymers.
By blending the (H) polyether-modified siloxane compound in the pressure-sensitive adhesive composition, the pressure-sensitive adhesive strength and rework performance of the pressure-sensitive adhesive can be improved. When the pressure-sensitive adhesive composition does not contain the polyether-modified siloxane compound, the cost becomes lower.

さらに、その他成分として、アルキレンオキサイドを含有する共重合可能な(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルアミドモノマー、ジアルキル置換アクリルアミドモノマー、界面活性剤、硬化促進剤、可塑剤、充填剤、硬化遅延剤、加工助剤、老化防止剤、酸化防止剤などの公知の添加剤を適宜に配合することが出来る。これらは、単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 Further, as other components, copolymerizable (meth)acrylic monomer containing alkylene oxide, (meth)acrylamide monomer, dialkyl-substituted acrylamide monomer, surfactant, curing accelerator, plasticizer, filler, curing retarder, Known additives such as processing aids, antioxidants, and antioxidants can be appropriately blended. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の粘着剤組成物に用いられる主剤の共重合体は、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、を共重合させることで合成することができる。前記共重合可能なモノマー群として、さらに、(G)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含んでもよい。共重合体の重合方法は特に限定されるものではなく、溶液重合、乳化重合等、適宜の重合方法が使用可能である。
本発明の粘着剤組成物は、上記の共重合体に、(D)2官能以上のイソシアネート化合物、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物、さらに適宜任意の添加剤を配合することで調製することができる。
The copolymer of the main component used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is a monomer group that is copolymerizable with at least one (A) alkyl group (C)-C18 (meth)acrylate monomer. It is selected from the group of copolymerizable monomers consisting of (B) a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer and (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer. It can be synthesized by copolymerizing at least one of these. The copolymerizable monomer group may further include (G) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer. The polymerization method of the copolymer is not particularly limited, and an appropriate polymerization method such as solution polymerization or emulsion polymerization can be used.
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention comprises: (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a cross-linking accelerator, (F) a ketoenol tautomer compound, and an optional additive in addition to the above copolymer. Can be prepared by blending.

前記共重合体は、アクリル系ポリマーであることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルモノマーや(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド類などのアクリル系モノマーを50〜100重量%含むことが好ましい。
前記アクリル系ポリマーが、共重合可能なモノマー群として、カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含まないことにより、架橋速度の向上および粘着力の安定化に効果がある。架橋剤として使用される(D)2官能以上のイソシアネート化合物と反応するモノマーとして、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを用いることが好ましい。前記共重合体の好ましいモノマー組成としては、前記(A)と前記(B)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(C)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(G)とからそれぞれ1種以上、前記(A)と前記(B)と前記(C)と(G)とからそれぞれ1種以上、などが挙げられる。
The copolymer is preferably an acrylic polymer, and preferably contains 50 to 100% by weight of an acrylic monomer such as (meth)acrylic acid ester monomer, (meth)acrylic acid, or (meth)acrylamide.
Since the acrylic polymer does not contain a carboxyl group-containing copolymerizable monomer as a copolymerizable monomer group, it is effective in improving the crosslinking rate and stabilizing the adhesive force. It is preferable to use (B) a hydroxyl group-containing copolymerizable monomer as the monomer that reacts with the (D) bifunctional or higher functional isocyanate compound used as a crosslinking agent. As a preferable monomer composition of the copolymer, one or more each of the (A) and the (B), one or more each of the (A), the (B) and the (C), and the ( One or more kinds each from A), the above (B) and the above (G), one or more kinds each from the above (A), the above (B), the above (C) and (G), and the like.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、低速の剥離速度0.3m/minでの粘着力が0.05〜0.1N/25mmであり、高速の剥離速度30m/minでの粘着力が1.0N/25mm以下であることが好ましい。これにより、粘着力が剥離速度によっても変化が少ない性能が得られ、高速剥離によっても、速やかに剥離することが可能になる。また、貼り直しのため、一旦、表面保護フィルムを剥がすときにも、過大な力を必要とせず、被着体から剥がし易い。 The pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition has an adhesive force of 0.05 to 0.1 N/25 mm at a low peeling speed of 0.3 m/min and a high peeling speed of 30 m/min. The adhesive strength is preferably 1.0 N/25 mm or less. As a result, it is possible to obtain a performance in which the adhesive strength is less changed by the peeling speed, and the peeling can be performed quickly even by the high speed peeling. Further, since the film is reattached, even when the surface protection film is once peeled off, it does not require an excessive force and can be easily peeled off from the adherend.

前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、表面抵抗率が5.0×10+12Ω/□以下であり、剥離帯電圧が「±0.6kV以下」であることが好ましい。なお、本発明において、「±0.6kV以下」とは、0〜−0.6kV及び0〜+0.6kV、すなわち、−0.6〜+0.6kVを意味する。表面抵抗率が大きいと、剥離時に帯電で発生した静電気を逃がす性能に劣るため、表面抵抗率を十分に小さくすることにより、粘着剤層を被着体が剥がす時に発生する静電気に伴って生じる剥離帯電圧が低減され、被着体の電気制御回路等に影響することを抑制することができる。 The pressure-sensitive adhesive layer obtained by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition preferably has a surface resistivity of 5.0×10 +12 Ω/□ or less and a peeling electrification voltage of “±0.6 kV or less”. In the present invention, “±0.6 kV or less” means 0 to −0.6 kV and 0 to +0.6 kV, that is, −0.6 to +0.6 kV. If the surface resistivity is large, the performance to dissipate static electricity generated by electrification at the time of peeling is inferior, so by making the surface resistivity sufficiently small, peeling caused by static electricity generated when peeling the adhesive layer from the adherend The electrification voltage is reduced, and it is possible to suppress the influence on the electrical control circuit and the like of the adherend.

本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層(架橋後の粘着剤)のゲル分率は、95〜100%であることが好ましい。このようにゲル分率が高いことにより、低速の剥離速度において、粘着力が過大にならず、共重合体からの未重合モノマーあるいはオリゴマーの溶出が低減して、リワーク性や高温・高湿度における耐久性が改善され、被着体の汚染を抑制することができる。 The pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention (pressure-sensitive adhesive after crosslinking) preferably has a gel fraction of 95 to 100%. Due to such a high gel fraction, the adhesive force does not become excessive at a low peeling speed, the elution of unpolymerized monomer or oligomer from the copolymer is reduced, and reworkability and high temperature and high humidity are reduced. The durability is improved, and contamination of the adherend can be suppressed.

本発明の粘着フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなる。また、本発明の表面保護フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面に形成してなる表面保護フィルムである。本発明の粘着剤組成物は、上記の(A)〜(F)の各成分がバランスよく配合されているため、優れた帯電防止性能を備え、低速の剥離速度、及び高速の剥離速度において、粘着力のバランスが優れ、さらに、耐久性能、及びリワーク性能(粘着剤層を介して表面保護フィルムの上をボールペンでなぞった後に、被着体に汚染移行のないこと)にも優れたものとなる。このため、偏光板の表面保護フィルムの用途として好適に使用することができる。 The pressure-sensitive adhesive film of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on one side or both sides of a resin film. The surface protective film of the present invention is a surface protective film obtained by forming a pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on one surface of a resin film. Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains the components (A) to (F) described above in a well-balanced manner, it has excellent antistatic performance, and at low peeling speeds and high peeling speeds, It has an excellent balance of adhesive strength, and also has excellent durability performance and rework performance (that there is no migration of contamination to the adherend after tracing with a ballpoint pen on the surface protective film through the adhesive layer). Become. Therefore, it can be preferably used as a surface protection film for a polarizing plate.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2の厚みは、特に限定はないものの、例えば、5〜40μm程度の厚みが好ましく、10〜30μm程度の厚みがより好ましい。帯電防止表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度(粘着力)が、0.03〜0.3N/25mm程度の、微粘着力を有する粘着剤層2であることが、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、帯電防止表面保護フィルム10から剥離フィルム5を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム5の粘着剤層2からの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。 Although the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 5 to 40 μm is preferable, and a thickness of about 10 to 30 μm is more preferable. From the adherend, the antistatic surface protective film is a pressure-sensitive adhesive layer 2 having a peel strength (adhesive strength) of about 0.03 to 0.3 N/25 mm with respect to the surface of the adherend. It is preferable because it is excellent in operability when peeling off the antistatic surface protective film. Further, the peeling force of the peeling film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 2 is preferably 0.2 N/50 mm or less because the operability when peeling the peeling film 5 from the antistatic surface protection film 10 is excellent.

また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される剥離フィルム5は、樹脂フィルム3の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物を用いた剥離剤層4が形成されている。 The release film 5 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention comprises a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone compound which is liquid at 20° C., on one surface of the resin film 3. The release agent layer 4 is formed using a resin composition containing an antistatic agent.

樹脂フィルム3としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム3の厚みは、特に限定はないが、例えば、12〜100μm程度の厚みが好ましく、20〜50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム3の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
Examples of the resin film 3 include a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, and the like. However, the polyester film is particularly preferable because of its excellent transparency and relatively low price. .. The resin film may be a non-stretched film or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the draw ratio of a stretched film and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.
The thickness of the resin film 3 is not particularly limited, but for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm is easier to handle and more preferable.
Further, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to an easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.

剥離剤層4を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、KS−776A、KS−847T、KS−779H、KS−837、KS−778、KS−830(信越化学工業(株)製)、SRX−211、SRX−345、SRX−357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC−300B、LTC−350G、LTC−310(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、SRX−290、SYLOFF−23(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、TPR−6501、TPR−6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製)、X62−7622(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、X62−7205(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。 Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component that constitutes the release agent layer 4 include known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type and radical polymerization type. Commercially available products as addition reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). , SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. Examples of commercially available products of the condensation reaction type include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available products of the cationic polymerization type include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). ) And the like. Examples of commercially available products of radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

剥離剤層4を構成する20℃において液体のシリコーン系化合物としては、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、カルビノール高級脂肪酸エステル変性シリコーンなどが挙げられる。本発明では、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために、ジメチルポリシロキサンを主成分とした剥離剤層の中に相溶している状態の20℃において液体のシリコーン系化合物が用いられる。本発明の用途には、変性シリコーン化合物の中でも、ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、KF−351A、KF−352A、KF−353、KF−354L、KF−355A、KF−642(信越化学工業(株)製)、SH8400、SH8700、SF8410(東レダウコーニング(株)製)、TSF−4440、TSF−4441、TSF−4445、TSF−4446、TSF−4450(モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製)、BYK−300、BYK−306、BYK−307、BYK−320、BYK−325、BYK−330(ビックケミー社製)などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する20℃において液体のシリコーン系化合物の添加量は、シリコーン化合物の種類や剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the silicone compound that is liquid at 20° C. that constitutes the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, carbinol higher fatty acid ester-modified silicone, and the like. In the present invention, in order to improve the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone-based compound which is liquid at 20° C. in a state of being compatible with the release agent layer containing dimethylpolysiloxane as a main component is used. To be Among the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferred for use in the present invention. The polyether chain in the polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc. For example, by selecting the molecular weight of polyethylene oxide used for the side chain, the physical properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect. Is adjusted.
In addition, products commercially available as polyether-modified silicone include, for example, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials), BYK-300, BYK. -306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Big Chemie) and the like can be mentioned.
The amount of the silicone compound that is liquid at 20° C. with respect to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of the silicone compound and the degree of compatibility with the release agent. It may be set in consideration of a desired peeling electrification voltage, a stain resistance to an adherend, an adhesive property, and the like when peeling from.

剥離剤層4を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としてはアルカリ金属塩が好適である。 The antistatic agent forming the release agent layer 4 has good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component, and inhibits curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. Those that do not are preferred. As such an antistatic agent, an alkali metal salt is suitable.

アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩があげられ、具体的には、たとえば、Li、Na、Kよりなるカチオンと、Cl、Br、I、BF 、PF 、SCN、ClO 、CFSO 、(CFSO、(CSO、(CFSOよりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。なかでも特に、LiBr、LiI、LiBF、LiPF、LiSCN、LiClO、LiCFSO、Li(CFSON、Li(CSON、Li(CFSOCなどのリチウム塩が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of the alkali metal salt include metal salts composed of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, cations composed of Li + , Na + and K + and Cl , Br , I and BF 4 are used. -, PF 6 -, SCN - , ClO 4 -, CF 3 SO 3 -, (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 3 C - A metal salt composed of an anion composed of is preferably used. Among them, especially LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 ). Lithium salts such as SO 2 ) 3 C are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. A compound containing a polyoxyalkylene structure may be added to stabilize the ionic substance.
The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component depends on the type of the antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when the antistatic surface protective film is released from the adherend. It may be set in consideration of desired peeling electrification voltage, stain resistance to adherend, adhesive property and the like.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちにポリエーテル変性シリコーン及び帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、シロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後ポリエーテル変性シリコーンと帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。 There is no particular limitation on the method of mixing the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component with the polyether-modified silicone and the antistatic agent. A method in which a polyether-modified silicone and an antistatic agent are added to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, and after mixing, a catalyst for curing the release agent is added and mixed, and a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is added. The agent is diluted with an organic solvent in advance, and then a polyether-modified silicone and an antistatic agent and a catalyst for curing the release agent are added and mixed, and the release agent containing siloxane as a main component is diluted with the organic solvent in advance and then the catalyst is added. May be added and mixed, and then the polyether modified silicone and the antistatic agent may be added and mixed. Further, if necessary, an adhesion improver such as a silane coupling agent or a material such as a compound containing a polyoxyalkylene group, which assists the antistatic effect, may be added.

ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を固形分として5〜100程度の割合が好ましい。ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して5の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して100の割合を越えると、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。 The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the polyether-modified silicone and the antistatic agent is not particularly limited, but the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is 100: The proportion of the polyether-modified silicone and the antistatic agent as solids is preferably about 5 to 100. If the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content is less than 5 relative to 100 of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the antistatic property of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is prevented. The transfer amount of the agent also decreases, and it becomes difficult for the pressure-sensitive adhesive to exert its antistatic function. Further, when the addition amount of the polyether-modified silicone and the antistatic agent in terms of solid content exceeds 100 with respect to 100 of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the polyether-modified silicone and the antistatic agent are added. The release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the agent is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, which may reduce the adhesive property of the pressure-sensitive adhesive.

本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10の基材フィルム1に、粘着剤層2を形成する方法、及び剥離フィルム5を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、(1)基材フィルム1の片面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム5を貼合する方法、(2)剥離フィルム5の表面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム1を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。 The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method for laminating the release film 5 on the base film 1 of the antistatic surface protective film 10 according to the present invention may be performed by known methods and are not particularly limited. Specifically, (1) a method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one surface of the base film 1, drying the pressure-sensitive adhesive layer to form the pressure-sensitive adhesive layer, and then laminating the release film 5 thereon, (2) A method of coating the resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5 and drying the resin composition to form the pressure-sensitive adhesive layer, and then laminating the base film 1 may be mentioned. Either method may be used.

また、基材フィルム1の表面に、粘着剤層2を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 The adhesive layer 2 may be formed on the surface of the base film 1 by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating and air knife coating can be used.

また、同様に、樹脂フィルム3に、剥離剤層4を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Similarly, the release agent layer 4 may be formed on the resin film 3 by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

図2は、本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図1に示した帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5を剥がすことにより、剥離フィルム5の剥離剤層4に含まれる、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤(符号7)の一部が、帯電防止表面保護フィルム10の粘着剤層2の表面に、転写される(付着する)。そのため、図2においては、帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を、符号7の斑点で模式的に示している。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルムでは、図2に示した剥離フィルムを剥がした状態の帯電防止表面保護フィルム11を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where the release film is peeled off from the antistatic surface protection film of the present invention.
By peeling off the release film 5 from the antistatic surface protective film 10 shown in FIG. 1, the liquid silicone compound and the antistatic agent (reference numeral 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5 at 20° C. A part is transferred (attached) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protection film 10. Therefore, in FIG. 2, the silicone compound and the antistatic agent, which are liquid at 20° C. and are transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protective film, are schematically shown by the spots 7.
In the antistatic surface protective film according to the present invention, the antistatic surface protective film 11 in the state where the release film shown in FIG. 2 is peeled off is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 when it is attached to an adherend. Further, the silicone compound and the antistatic agent which are liquid at 20° C. come into contact with the surface of the adherend. Thereby, the peeling electrification voltage at the time of peeling the antistatic surface protective film from the adherend again can be suppressed to be low.

図3は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5が剥がされて、粘着剤層2が表出した状態で、その粘着剤層2を介して被着体である光学部品8に貼合される。
すなわち、図3には、本発明の帯電防止表面保護フィルム10が貼合された光学部品20を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、低反射処理偏光板(LR偏光板)やアンチグレア低反射処理偏光板(AG−LR偏光板)などの光学用フィルムの、防汚染処理した面に貼合される、帯電防止表面保護フィルムとして好適に使用することができる。
本発明の光学部品によれば、帯電防止表面保護フィルム10を、被着体である光学部品(光学用フィルム)から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができるので、ドライバーIC、TFT素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
FIG. 3 is a sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the antistatic surface protection film 10 of the present invention, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is stuck to the optical component 8 as an adherend. It
That is, FIG. 3 shows an optical component 20 to which the antistatic surface protection film 10 of the present invention is attached. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate also serving as a retardation plate, and a polarizing plate also serving as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel, various instruments, and an optical system device. Examples of the optical component also include optical films such as antireflection films, hard coat films, and transparent conductive films for touch panels. In particular, the surface of an optical film such as a low-reflection treated polarizing plate (LR polarizing plate) or an anti-glare low-reflection treated polarizing plate (AG-LR polarizing plate) whose surface is treated to prevent contamination with a silicone compound, a fluorine compound, etc. It can be suitably used as an antistatic surface protective film that is attached to the surface subjected to the contamination treatment.
According to the optical component of the present invention, when the antistatic surface protective film 10 is peeled and removed from the optical component (optical film) that is the adherend, the peeling electrification voltage can be suppressed to a sufficiently low level. There is no risk of damaging circuit components such as ICs, TFT elements, gate line drive circuits, etc., and production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel or the like can be improved and reliability of the production process can be maintained.

次に、実施例により、本発明をさらに説明する。 Next, the present invention will be further described with reference to examples.

<粘着剤組成物の製造>
[実施例1]
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置に2−エチルヘキシルアクリレート100重量部、8−ヒドロキシオクチルアクリレート5.0重量部とともに溶剤(酢酸エチル)を60重量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.1重量部を2時間かけて滴下させ、65℃で6時間反応させ、重量平均分子量50万の、実施例1のアクリル共重合体溶液を得た。このアクリル共重合体溶液に対して、アセチルアセトン8.5重量部を加え撹拌したのち、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体)を2.0重量部、チタニウムトリスアセチルアセトネート0.1重量部を加えて撹拌混合して実施例1の粘着剤組成物を得た。
<Production of adhesive composition>
[Example 1]
Nitrogen gas was introduced into a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, and the air in the reactor was replaced with nitrogen gas. Then, 60 parts by weight of a solvent (ethyl acetate) was added to the reactor together with 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate and 5.0 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate. Then, 0.1 parts by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was added dropwise over 2 hours and reacted at 65° C. for 6 hours to obtain an acrylic copolymer solution of Example 1 having a weight average molecular weight of 500,000. Obtained. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred, and then 2.0 parts by weight of Coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 parts by weight of titanium trisacetylacetonate. Parts were added and mixed by stirring to obtain an adhesive composition of Example 1.

[実施例2〜6及び比較例1〜3]
実施例1の粘着剤組成物の組成を各々、表1及び表2の記載のようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6及び比較例1〜3の粘着剤組成物を得た。表1及び表2中、アクリル共重合体に含まれる(共重合される)モノマーは、(A)、(B)、(C)、(G)、及び「カルボキシル基含有モノマー」である。
[Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]
The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 were as described in Table 1 and Table 2, respectively. I got a thing. In Tables 1 and 2, the monomers contained (copolymerized) in the acrylic copolymer are (A), (B), (C), (G), and “carboxyl group-containing monomer”.

Figure 0006720388
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表1及び表2は、各成分の配合比を示す一体の表を2つに分けたものであり、いずれも(A)群の合計を100重量部として求めた重量部の数値を括弧で囲んで示す。また、表1及び表2に用いた各成分の略記号の化合物名を、表3及び表4に示す。なお、コロネート(登録商標)HX、同HL及び同Lは日本ポリウレタン工業株式会社の商品名であり、タケネート(登録商標)D−140N、D−127N、D−110Nは三井化学株式会社の商品名である。 Tables 1 and 2 are an integrated table showing the compounding ratio of each component divided into two. In each case, the numerical value of the weight part obtained by taking the total of the (A) group as 100 parts by weight is enclosed in parentheses. Indicate. Further, the compound names of the abbreviations of the components used in Tables 1 and 2 are shown in Tables 3 and 4. Coronate (registered trademark) HX, HL and L are trade names of Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Takenate (registered trademark) D-140N, D-127N and D-110N are trade names of Mitsui Chemicals, Inc. Is.

Figure 0006720388
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<2官能イソシアネート化合物の合成>
合成例1,2の、2官能イソシアネート化合物は、下記の方法で合成した。表5及び表6に示すように、ジイソシアネートとジオール化合物を、モル比:NCO/OH=16の比率で混合し、120℃で3時間反応させ、その後、薄膜蒸発装置を使用して減圧下で未反応のジイソシアネートを除去し、目的の2官能イソシアネート化合物を得た。
<Synthesis of bifunctional isocyanate compound>
The bifunctional isocyanate compounds of Synthesis Examples 1 and 2 were synthesized by the following method. As shown in Table 5 and Table 6, the diisocyanate and the diol compound were mixed in a molar ratio of NCO/OH=16 and reacted at 120° C. for 3 hours, and thereafter, using a thin film evaporator under reduced pressure. Unreacted diisocyanate was removed to obtain the desired bifunctional isocyanate compound.

Figure 0006720388
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<帯電防止表面保護フィルムの作製>
[実施例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、ポリエーテル変性シリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SH8400)0.15重量部、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、実施例1の剥離フィルムを得た。
実施例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、実施例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
<Preparation of antistatic surface protection film>
[Example 1]
5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning, product name: SRX-345), 0.15 part by weight of polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning, product name: SH8400), perchloric acid 5 parts by weight of a 10% ethyl acetate solution of lithium, 95 parts by weight of a mixed solvent of 1:1 of toluene and ethyl acetate, and 0.05 parts by weight of a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 Catalyst). Were mixed, stirred and mixed to prepare a coating material for forming the release agent layer of Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, the coating material for forming the release agent layer of Example 1 was applied by a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and the hot air circulating oven at 120° C. And dried for 1 minute to obtain a release film of Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied onto the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying would be 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100° C. for 2 minutes. To form an adhesive layer. After that, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 produced above was attached to the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm at 40° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive, and the antistatic surface protective film of Example 1 was obtained.

[実施例2〜6]
実施例1の粘着剤組成物を各々、実施例2〜6の粘着剤組成物にした以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜6の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Examples 2 to 6]
Antistatic surface protective films of Examples 2 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure sensitive adhesive compositions of Example 1 were changed to the pressure sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6, respectively.

[比較例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−345)5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX−212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、比較例1の剥離フィルムを得た。
比較例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
5 parts by weight of addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning, product name: SRX-345), 95 parts by weight of a mixed solvent of toluene and ethyl acetate of 1:1 and platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning) (Product name: SRX-212 Catalyst) 0.05 part by weight was mixed and stirred to mix to prepare a coating material forming the release agent layer of Comparative Example 1. On the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, the coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied with a Mayer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and the hot air circulating oven at 120° C. And dried for 1 minute to obtain a release film of Comparative Example 1.
The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying would be 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100° C. for 2 minutes. To form an adhesive layer. After that, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 produced above was attached to the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained pressure-sensitive adhesive film was kept warm in an environment of 40° C. for 5 days to cure the pressure-sensitive adhesive and obtain an antistatic surface protective film of Comparative Example 1.

[比較例2]
比較例1の粘着剤組成物を、比較例2の粘着剤組成物にした以外は、比較例1と同様にして、比較例2の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative example 2]
An antistatic surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as Comparative Example 1 except that the adhesive composition of Comparative Example 1 was changed to the adhesive composition of Comparative Example 2.

[比較例3]
実施例1の粘着剤組成物を、比較例3の粘着剤組成物にした以外は、実施例1と同様にして、比較例3の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 3]
An antistatic surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the pressure sensitive adhesive composition of Example 1 was changed to the pressure sensitive adhesive composition of Comparative Example 3.

表7に、実施例1〜6及び比較例1〜3の帯電防止表面保護フィルムにおける、剥離剤層の組成及び厚さを示す。 Table 7 shows the composition and thickness of the release agent layer in the antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3.

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<試験方法及び評価>
実施例1〜6、及び比較例1〜3における表面保護フィルムを、23℃、50%RHの雰囲気下で7日間エージングした後、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして、粘着剤層を表出させたものを、表面抵抗率の測定試料とした。
さらに、この粘着剤層を表出させた表面保護フィルムを、粘着剤層を介して液晶セルに貼られた偏光板の表面に貼り合わせ、1日放置した後、50℃、5気圧、20分間オートクレーブ処理し、室温でさらに12時間放置したものを、粘着力、剥離帯電圧、及びリワーク性の測定試料とした。
<Test method and evaluation>
The surface protection films in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were aged in an atmosphere of 23° C. and 50% RH for 7 days, and then the release film (a PET film coated with a silicone resin) was peeled off to give an adhesive property. The exposed surface of the agent layer was used as a surface resistivity measurement sample.
Further, the surface protective film showing this pressure-sensitive adhesive layer was bonded to the surface of the polarizing plate bonded to the liquid crystal cell via the pressure-sensitive adhesive layer, and left for 1 day, then, at 50° C., 5 atmospheric pressure, 20 minutes. An autoclave-treated sample, which was left at room temperature for 12 hours, was used as a sample for measuring adhesive strength, peeling electrification voltage, and reworkability.

<粘着力>
上記で得られた測定試料(25mm幅の表面保護フィルムを偏光板の表面に貼り合わせたもの)を、180°方向に引張試験機を用いて低速の剥離速度(0.3m/min)及び高速の剥離速度(30m/min)において剥がして、測定した剥離強度を粘着力とした。
<Adhesive strength>
The measurement sample (having a surface protective film with a width of 25 mm attached to the surface of a polarizing plate) obtained above was used in a 180° direction using a tensile tester to give a low peeling speed (0.3 m/min) and a high speed. Was peeled at a peeling speed (30 m/min), and the peel strength measured was taken as the adhesive strength.

<表面抵抗率>
エージングした後、偏光板に貼り合わせる前に、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして粘着剤層を表出し、抵抗率計ハイレスタUP−HT450(三菱化学アナリテック製)を用いて粘着剤層の表面抵抗率を測定した。
<Surface resistivity>
After aging, before sticking to the polarizing plate, the release film (PET film coated with silicone resin) was peeled off to expose the adhesive layer, and a resistivity meter Hiresta UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) was used. The surface resistivity of the adhesive layer was measured.

<剥離帯電圧>
上記で得られた測定試料を、30m/minの引張速度で180°剥離した際に偏光板が帯電して発生する電圧(帯電圧)を、高精度静電気センサSK−035、SK−200(株式会社キーエンス製)を用いて測定し、測定値の最大値を剥離帯電圧とした。
<Peeling electrification voltage>
The voltage (charge voltage) generated when the polarizing plate was charged when the measurement sample obtained above was peeled 180° at a pulling speed of 30 m/min was measured using high-precision electrostatic sensors SK-035, SK-200 (stock (Manufactured by KEYENCE CORPORATION), and the maximum measured value was defined as the peeling electrification voltage.

<リワーク性>
上記で得られた測定試料の、表面保護フィルムの上をボールペンで(荷重500g、3往復)なぞった後、偏光板から表面保護フィルムを剥離して偏光板の表面を観察し、偏光板に汚染移行の無いことを確認した。評価目標基準は、偏光板に汚染移行の無い場合を「○」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って少なくとも一部に汚染移行が確認された場合を「△」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って汚染移行が確認され、粘着剤表面からも粘着剤の離脱が確認された場合を「×」と評価した。
<Reworkability>
After tracing the surface protection film of the measurement sample obtained above with a ballpoint pen (load 500 g, 3 reciprocations), peel the surface protection film from the polarizing plate, observe the surface of the polarizing plate, and contaminate the polarizing plate. I confirmed that there was no migration. The evaluation target criteria are "○" when there is no contamination transfer on the polarizing plate, "△" when at least a part of contamination transfer is confirmed along the trajectory traced by the ballpoint pen, and along the trajectory traced by the ballpoint pen. The case where the transfer of contamination was confirmed and the release of the adhesive from the adhesive surface was also confirmed was evaluated as “x”.

表8に、評価結果を示す。なお、表面抵抗率は、「m×10+n」を「mE+n」とする方式(ただし、mは任意の実数値、nは正の整数)により表記した。 Table 8 shows the evaluation results. The surface resistivity is expressed by a method in which “m×10 +n ”is set to “mE+n” (where m is an arbitrary real value and n is a positive integer).

Figure 0006720388
Figure 0006720388

表8に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例1〜6の帯電防止表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、シリコーン化合物および帯電防止剤を粘着剤層に添加した比較例1の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤層の表面抵抗率は低く良好であるが、粘着力が大きいため、剥離帯電圧は高く、リワーク性に劣るものであった。また、比較例2では、架橋促進剤の添加量が多いためか、粘着剤がゲル化し、塗工できなくなった。また、比較例3では、カルボキシル基を含有するモノマーを含むことから、粘着力が大きく、リワーク性がやや劣っていた。
すなわち、粘着剤に、シリコーン化合物と帯電防止剤とを混合させた比較例1、2では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。他方、剥離剤層に、シリコーン化合物および帯電防止剤を添加した後、粘着剤層の表面に、シリコーン化合物および帯電防止剤を転写させた実施例1〜6では、少量の添加量で剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、良好な帯電防止表面保護フィルムが得られた。
The measurement results shown in Table 8 show the following.
The antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have appropriate adhesive strength, no contamination on the surface of the adherend, and the antistatic surface protective film when peeled from the adherend. The peeling electrification voltage is low.
On the other hand, the antistatic surface protective film of Comparative Example 1 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the pressure-sensitive adhesive layer was good in that the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer was low, but the peeling electrification voltage was It was high and inferior in reworkability. In Comparative Example 2, the adhesive gelled and the coating could not be performed, probably because the amount of the crosslinking accelerator added was large. Further, in Comparative Example 3, since the monomer containing the carboxyl group was included, the adhesive strength was large and the reworkability was slightly inferior.
That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the silicone compound and the antistatic agent are mixed in the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of peeling electrification voltage and contamination of the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6 in which the silicone compound and the antistatic agent were added to the release agent layer and then the silicone compound and the antistatic agent were transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the release electrification voltage was small. As a result, there was no contamination on the adherend and a good antistatic surface protective film was obtained.

本発明の帯電防止表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等の表面を保護するために用いることができる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、LR偏光板やAG−LR偏光板などの光学用フィルムの帯電防止表面保護フィルムとして使用する場合には、被着体から剥離する時に、静電気の発生量を少なくすることができる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なくさらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有することから生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。
The antistatic surface protective film of the present invention is, for example, a film for optical use such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film for a display, and the like, in the production process of various optical parts and the like, the surface of the optical parts and the like. Can be used to protect In particular, when it is used as an antistatic surface protective film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate whose surface is treated to prevent contamination with a silicone compound or a fluorine compound, it is peeled off from the adherend. When doing so, the amount of static electricity generated can be reduced.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The antistatic surface protective film of the present invention can improve the yield of the production process because it has less stains on the adherend and further has excellent antistatic property for peeling without deterioration over time, and has an industrial utility value. Is large.

1…基材フィルム、2…粘着剤層、3…樹脂フィルム、4…剥離剤層、5…剥離フィルム、7…20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤、8…被着体(光学部品)、10…帯電防止表面保護フィルム、11…剥離フィルムを剥がした帯電防止表面保護フィルム、20…帯電防止表面保護フィルムを貼合した光学部品。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Base material film, 2... Adhesive layer, 3... Resin film, 4... Release agent layer, 5... Release film, 7... Silicone compound and antistatic agent which are liquid at 20 degreeC, 8... Adhesive (optical Parts) 10... Antistatic surface protective film, 11... Antistatic surface protective film with peeling film peeled off, 20... Optical component with laminated antistatic surface protective film.

Claims (2)

透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、粘着剤層が形成されてなり、前記粘着剤層の表面に帯電防止剤が転写されてなる、帯電防止表面保護フィルムの製造方法であって、
前記粘着剤層は、アクリル系ポリマーと、(D)2官能以上のイソシアネート化合物と、(E)架橋促進剤と、(F)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物を架橋させた粘着剤層であり、
前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4〜C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させたアクリル系ポリマーであり、
前記(E)架橋促進剤が、金属キレート化合物であり、
前記(E)架橋促進剤に対する前記(F)ケトエノール互変異性体化合物の割合として、(E):(F)の重量比が1:80〜1:500であり、
樹脂フィルムの片面に、帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなる剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せた後に、前記粘着剤層の表面から前記剥離フィルムを剥がして、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤を転写することを特徴とする帯電防止表面保護フィルムの製造方法。
A method for producing an antistatic surface protective film, comprising a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a substrate film made of a resin having transparency, and an antistatic agent transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. ,
The pressure-sensitive adhesive layer cross-links a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic polymer, (D) a bifunctional or higher functional isocyanate compound, (E) a crosslinking accelerator, and (F) a ketoenol tautomer compound. It is a pressure-sensitive adhesive layer,
A copolymer in which the acrylic polymer (A) has a hydroxyl group (B) as a monomer group that is copolymerizable with at least one kind of a (meth)acrylic acid ester monomer having a C4 to C18 alkyl group. Copolymerizable monomer with at least one selected from the group of copolymerizable monomers consisting of (C) a hydroxyl group-free nitrogen-containing vinyl monomer or an alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomer. Is an acrylic polymer,
The (E) crosslinking accelerator is a metal chelate compound,
As a ratio of the (F) ketoenol tautomer compound to the (E) crosslinking accelerator, the weight ratio of (E):(F) is 1:80 to 1:500,
A release agent layer containing an antistatic agent is laminated on one surface of a resin film, and the release agent layer contains a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, a silicone-based compound that is liquid at 20° C. A release film formed of a resin composition containing an inhibitor, after bonding to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, peel the release film from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, A method for producing an antistatic surface protective film, which comprises transferring the silicone compound and the antistatic agent of the release agent layer only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.
請求項1に記載の帯電防止表面保護フィルムの製造方法により製造された帯電防止表面保護フィルムを、前記粘着剤層を介して、被着体である光学部品に貼合することを特徴とする帯電防止表面保護フィルムを貼合した光学部品の製造方法。 An antistatic surface protective film produced by the method for producing an antistatic surface protective film according to claim 1, which is attached to an optical component as an adherend via the pressure-sensitive adhesive layer. A method for manufacturing an optical component, which is obtained by laminating an anti-surface protective film.
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