JP7843304B2 - Antistatic surface protective film and optical film - Google Patents
Antistatic surface protective film and optical filmInfo
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Description
本発明は、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルムなどの光学部品(以下、光学用フィルムと称する場合もある。)の表面に貼合される、帯電防止表面保護フィルムに関する。さらに詳細には、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供するものである。 This invention relates to an antistatic surface protection film that is laminated to the surface of optical components such as polarizing plates, phase difference plates, and lens films for displays (hereinafter sometimes referred to as optical films). More specifically, it provides an antistatic surface protection film that minimizes contamination of the adherend and has excellent peel-resistant antistatic performance without deterioration over time.
偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルム等の光学用フィルム、及びそれを用いたディスプレイなどの光学製品を製造、搬送する際には、該光学用フィルムの表面に表面保護フィルムを貼合して、後工程における表面の汚れや傷付きを防止することがなされている。製品である光学用フィルムの外観検査は、表面保護フィルムを剥がして、再び、貼合する手間を省いて作業効率を高めるため、表面保護フィルムを光学用フィルムに貼合したまま行うこともある。
従来から、基材フィルムの片面に、粘着剤層を設けた表面保護フィルムが、光学製品の製造工程において、傷や汚れの付着を防止するために、一般的に使用されている。表面保護フィルムは、微粘着力の粘着剤層を介して光学用フィルムに貼合される。粘着剤層を微粘着力とするのは、使用済みの表面保護フィルムを光学用フィルムの表面から剥離して取り除くときに、容易に剥離でき、且つ、粘着剤が、被着体である製品の光学用フィルムに付着して残留しないようにする(いわゆる、糊残りの発生を防ぐ)ためである。
When manufacturing and transporting optical films such as polarizing plates, phase difference plates, lens films for displays, anti-reflective films, hard coat films, and transparent conductive films for touch panels, as well as optical products such as displays using these films, a surface protection film is laminated to the surface of the optical film to prevent surface contamination and scratches in subsequent processes. To improve work efficiency by eliminating the need to peel off and re-lamin the surface protection film, the visual inspection of the optical film is sometimes performed with the surface protection film still attached to the optical film.
Conventionally, surface protection films, which have an adhesive layer on one side of a base film, have been commonly used in the manufacturing process of optical products to prevent scratches and dirt from adhering. The surface protection film is laminated to the optical film via an adhesive layer with low tackiness. The reason for using a low-tack adhesive layer is to allow the surface protection film to be easily peeled off when used and removed from the surface of the optical film, and to prevent the adhesive from adhering to and remaining on the optical film of the product to which it is attached (i.e., preventing the occurrence of adhesive residue).
近年、液晶ディスプレイパネルの生産工程において、光学用フィルムの上に貼合された表面保護フィルムを、剥離して取り除くときに発生する剥離帯電圧により、液晶ディスプレイパネルの表示画面を制御するための、ドライバーIC等の回路部品が破壊される現象や、液晶分子の配向が損傷する現象が、発生件数は少ないながらも起きている。
また、液晶ディスプレイパネルの消費電力を低減させるため、液晶材料の駆動電圧が低くなってきており、これに伴って、ドライバーICの破壊電圧も低くなっている。最近では、剥離帯電圧を+0.7kV~-0.7kVの範囲内にすることが求められてきている。
このため、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時に、剥離帯電圧が高いことによる不具合を防止するため、剥離帯電圧を低く抑えるための帯電防止剤を含む粘着剤層を用いた表面保護フィルムが、提案されている。
In recent years, during the production process of liquid crystal display panels, there have been a small number of cases where the peeling voltage generated when the surface protective film laminated onto the optical film is peeled off has caused damage to circuit components such as driver ICs that control the display screen of the liquid crystal display panel, as well as damage to the orientation of liquid crystal molecules.
Furthermore, in order to reduce the power consumption of liquid crystal display panels, the driving voltage of the liquid crystal material has been decreasing, and consequently, the breakdown voltage of the driver IC has also decreased. Recently, there has been a demand to keep the delamination zone voltage within the range of +0.7kV to -0.7kV.
Therefore, in order to prevent problems caused by a high peel voltage when peeling the surface protection film from the optical film to which it is adhered, a surface protection film has been proposed that uses an adhesive layer containing an antistatic agent to suppress the peel voltage.
例えば、特許文献1には、アルキルトリメチルアンモニウム塩、水酸基含有アクリル系ポリマー、ポリイソシアネートからなる粘着剤を用いた、表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献2には、イオン性液体と酸価が1.0以下のアクリルポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた粘着シート類が開示されている。
また、特許文献3には、アクリルポリマー、ポリエーテルポリオール化合物、アニオン吸着性化合物により処理したアルカリ金属塩からなる粘着組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献4には、イオン性液体、アルカリ金属塩、ガラス転移温度0℃以下のポリマーからなる粘着剤組成物、及びそれを用いた表面保護フィルムが開示されている。
また、特許文献5,6には、表面保護フィルムの粘着剤層の中に、ポリエーテル変性シリコーンを混合することが示されている。
For example, Patent Document 1 discloses a surface protection film using an adhesive comprising an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and a polyisocyanate.
Furthermore, Patent Document 2 discloses an adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer with an acid value of 1.0 or less, and adhesive sheets using the same.
Furthermore, Patent Document 3 discloses an adhesive composition comprising an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an alkali metal salt treated with an anion-adsorbing compound, and a surface protective film using the same.
Furthermore, Patent Document 4 discloses an adhesive composition comprising an ionic liquid, an alkali metal salt, and a polymer with a glass transition temperature of 0°C or lower, and a surface protective film using the same.
Furthermore, Patent Documents 5 and 6 indicate that polyether-modified silicone is mixed into the adhesive layer of a surface protective film.
上記の特許文献1~4では、粘着剤層の内部に帯電防止剤が添加されているが、粘着剤層の厚みが厚くなる程、また、経過時間が経つにつれて、表面保護フィルムの貼合された被着体に対して、粘着剤層から被着体へ移行する帯電防止剤の量が多くなる。また、LR(Low Reflective)偏光板やAG(Anti Glare)-LR偏光板などの光学用フィルムでは、光学用フィルムの表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理されているため、このような光学用フィルムに使用する表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧が高くなる。 In the above-mentioned Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the adhesive layer. However, as the thickness of the adhesive layer increases, and as time passes, the amount of antistatic agent that migrates from the adhesive layer to the substrate to which the surface protective film is laminated increases. Furthermore, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizers and AG (Anti-Glare)-LR polarizers, the surface of the optical film is treated with anti-fouling agents such as silicone compounds or fluorine compounds. Therefore, the peel voltage when peeling the surface protective film used for such optical films from the laminated optical film becomes high.
また、特許文献5,6に記載の、粘着剤層の中にポリエーテル変性シリコーンを混合した場合には、表面保護フィルムの粘着力を微調整することが難しい。また、粘着剤層内に、ポリエーテル変性シリコーンを混ぜているため、粘着剤組成物を基材フィルムの上に塗工・乾燥する条件が変化すると、表面保護フィルムの形成された粘着剤層の表面の特性が、微妙に変化する。さらに、光学用フィルムの表面を保護するという観点から、粘着剤層の厚さを極端に薄くすることができない。そのため、粘着剤層の厚みに応じて、粘着剤層内に混ぜるポリエーテル変性シリコーンの添加量を増やす必要があり、結果的に、被着体表面を汚染し易くなり、経時での粘着力や被着体に対する汚染性が変化する。 Furthermore, when polyether-modified silicone is mixed into the adhesive layer, as described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to fine-tune the adhesive strength of the surface protection film. Also, because polyether-modified silicone is mixed into the adhesive layer, changes in the coating and drying conditions of the adhesive composition on the base film subtly alter the surface properties of the adhesive layer on which the surface protection film is formed. Moreover, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the adhesive layer cannot be made extremely thin. Therefore, it is necessary to increase the amount of polyether-modified silicone added to the adhesive layer according to its thickness, which consequently makes the adherend surface more susceptible to contamination, and changes in adhesive strength and contamination resistance to the adherend over time.
近年、3Dディスプレイ(立体視ディスプレイ)の普及に伴い、偏光板等の光学用フィルムの表面にFPR(Film Patterned Retarder)フィルムを貼合したものがある。偏光板等の光学用フィルムの表面に貼合されていた表面保護フィルムを剥がした後に、FPRフィルムが貼合される。しかし、偏光板等の光学用フィルムの表面が、表面保護フィルムに使用している粘着剤や帯電防止剤で汚染されていると、FPRフィルムが接着し難いという問題がある。このため、当該用途に用いる表面保護フィルムには、被着体に対する汚染の少ないものが求められている。 In recent years, with the spread of 3D displays (stereoscopic displays), some optical films such as polarizers have an FPR (Film Patterned Retarder) film laminated to their surface. The FPR film is applied after the surface protective film that was previously laminated to the optical film (such as a polarizer) is removed. However, if the surface of the optical film (such as a polarizer) is contaminated with the adhesive or antistatic agent used in the surface protective film, the FPR film may not adhere properly. Therefore, surface protective films used in this application require materials that minimize contamination of the substrate.
一方、いくつかの液晶パネルメーカーにおいては、表面保護フィルムの被着体に対する汚染性の評価方法として、偏光板等の光学用フィルムに貼合されている表面保護フィルムを一度剥がし、気泡を混入させた状態で再貼合したものを所定条件で加熱処理し、その後、表面保護フィルムを剥がして被着体の表面を観察する方法が採用されている。このような評価方法では、被着体の表面汚染が微量であっても、気泡を混入させた部分と、表面保護フィルムの粘着剤が接していた部分とで、被着体の表面汚染の差があると、気泡の跡(気泡ジミと言うこともある)として残る。そのため、被着体の表面に対する汚染性の評価方法としては、非常に厳しい評価方法となる。近年、こうした厳しい評価方法による判定の結果でも、被着体の表面に対する汚染性に問題がない表面保護フィルムが求められている。しかし従来から提案されている、帯電防止剤を含有する粘着剤層を用いた表面保護フィルムでは、当該課題を解決するのが難しい状況にあった。 On the other hand, some LCD panel manufacturers employ a method for evaluating the contamination properties of surface protective films on the substrate. This method involves peeling off the surface protective film laminated to an optical film such as a polarizing plate, re-laminating it with air bubbles incorporated, heat-treating it under predetermined conditions, and then peeling off the surface protective film and observing the substrate surface. In this evaluation method, even if the surface contamination of the substrate is minute, if there is a difference in surface contamination between the area where air bubbles were incorporated and the area where the adhesive of the surface protective film was in contact, it will remain as a trace of the air bubbles (sometimes called an air bubble stain). Therefore, this is a very strict evaluation method for assessing the contamination properties of the substrate surface. In recent years, there has been a demand for surface protective films that do not have problems with contamination properties on the substrate surface even under such strict evaluation conditions. However, conventional surface protective films using an adhesive layer containing an antistatic agent have had difficulty solving this problem.
このため、光学用フィルムに使用する表面保護フィルムであって、被着体に対する汚染が非常に少なく、かつ、被着体に対する汚染性が経時変化しないものが必要とされている。さらに、被着体から剥離する時の剥離帯電圧を、低く抑えた表面保護フィルムが求められている。 Therefore, there is a need for surface protection films used in optical films that minimize contamination of the substrate and whose contamination properties do not change over time. Furthermore, there is a demand for surface protection films that exhibit a low peel voltage when peeling from the substrate.
本発明者らは、この課題を解決することについて、鋭意、検討を行なった。
被着体に対する汚染が少なく、且つ、帯電防止性能の経時変化も少なくするためには、被着体を汚染している原因と推測される帯電防止剤の添加量を減量させる必要がある。しかし、帯電防止剤の添加量を減量させた場合には、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧が高くなってしまう。本発明者らは、帯電防止剤の添加量の絶対量を増加させないで、表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑える方法について検討した。その結果、粘着剤組成物の中に、帯電防止剤を添加し混ぜて粘着剤層を形成するのではなく、粘着剤組成物を塗工・乾燥させて粘着剤層を積層した後に、粘着剤層の表面に、適量の帯電防止剤の成分を付与することにより、表面保護フィルムを、被着体である光学用フィルムから剥離する時の、剥離帯電圧を低く抑えられることを見出し、本発明を完成した。
The inventors of this invention have diligently considered how to solve this problem.
To minimize contamination of the substrate and reduce the change in antistatic performance over time, it is necessary to reduce the amount of antistatic agent added, which is suspected to be the cause of contamination of the substrate. However, when the amount of antistatic agent added is reduced, the peel voltage when peeling the surface protective film from the substrate increases. The inventors of the present invention investigated a method to keep the peel voltage low when peeling the surface protective film from the substrate without increasing the absolute amount of antistatic agent added. As a result, they found that instead of adding and mixing the antistatic agent into the adhesive composition to form an adhesive layer, by applying an appropriate amount of antistatic agent to the surface of the adhesive layer after coating and drying the adhesive composition to laminate the adhesive layer, the peel voltage when peeling the surface protective film from the optical film substrate can be kept low, thus completing the present invention.
本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであって、被着体に対する汚染が少なく、且つ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供することを課題とする。 This invention has been made in view of the above circumstances, and aims to provide an antistatic surface protective film that exhibits minimal contamination of the adherend and has excellent peel-resistant antistatic performance without deterioration over time.
上記の課題を解決するため、本発明の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤組成物を塗工・乾燥して粘着剤層を積層した後に、その粘着剤層の表面に適量の20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を付与することにより、被着体に対する汚染性を低く抑えた上、被着体である光学用フィルムから剥離する時の剥離帯電圧を低く抑えることを技術思想としている。 To solve the above problems, the antistatic surface protection film of the present invention is based on the technical concept of applying an appropriate amount of liquid silicone compound and antistatic agent at 20°C to the surface of the adhesive layer after coating and drying an adhesive composition to form an adhesive layer. This minimizes contamination of the adherend and reduces the peel voltage when peeling from the adherend, which is an optical film.
上記の課題を解決するため、本発明は、基材フィルムの片面に粘着剤層が形成された帯電防止表面保護フィルムの、前記粘着剤層の表面のみに、帯電防止剤を転写することができる帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムであって、前記粘着剤層が、アクリル系ポリマーと、架橋剤とを含有する粘着剤組成物を架橋させて形成されてなり、前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、共重合可能なモノマー群として、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは水酸基を含有しないアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させた共重合体からなり、前記架橋剤が、2官能以上のイソシアネート化合物であり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物として、ポリエーテル変性シリコーンと、前記帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100重量部に対して、前記ポリエーテル変性シリコーンおよび前記帯電防止剤を固形分として5~100重量部の割合で含有してなり、前記帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを、前記剥離剤層を介して前記粘着剤層の表面に貼り合せたときに、前記粘着剤層の表面のみに、前記剥離剤層の前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤を転写することができることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム用剥離フィルムを提供する。 To solve the above problems, the present invention provides a release film for an antistatic surface protection film, in which an antistatic agent can be transferred only to the surface of the adhesive layer of an antistatic surface protection film having an adhesive layer formed on one side of a base film, wherein the adhesive layer is formed by crosslinking an adhesive composition containing an acrylic polymer and a crosslinking agent, and the acrylic polymer is copolymerized with (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 C in the alkyl group, (B) copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and at least one selected from a copolymerizable monomer group consisting of (C) copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, and (E) nitrogen-containing vinyl monomer that does not contain a hydroxyl group or alkyl (meth)acrylate monomer that does not contain a hydroxyl group. The present invention provides a release film for an antistatic surface protection film, characterized in that it is made of a copolymer, the crosslinking agent is a bifunctional or more isocyanate compound, the release film for the antistatic surface protection film has a release layer containing an antistatic agent laminated on one side of a resin film, the release layer is formed from a resin composition containing a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a polyether-modified silicone as a liquid silicone compound at 20°C, and the antistatic agent, the polyether-modified silicone and the antistatic agent are contained in a ratio of 5 to 100 parts by weight of solids per 100 parts by weight of solids of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, and when the release film for the antistatic surface protection film is laminated to the surface of the adhesive layer via the release layer, the silicone compound and the antistatic agent of the release layer can be transferred only to the surface of the adhesive layer.
また、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーが、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) is at least one compound selected from the group consisting of 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide.
また、前記(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーが、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルテトラヒドロフタル酸からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the (C) carboxyl group is at least one compound selected from the group consisting of (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropyl hexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl succinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl maleic acid, carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate, and 2-(meth)acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid.
また、前記(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer is at least one selected from polyalkylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate.
また、前記アクリル系ポリマーが、前記共重合可能なモノマー群として、前記(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーの少なくとも一種以上を含むことが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the acrylic polymer contains at least one of the following copolymerizable monomers: (E) nitrogen-containing vinyl monomers that do not contain hydroxyl groups, or alkyl (meth)acrylate monomers containing alkoxy groups.
また、前記(F)2官能以上のイソシアネート化合物として、2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であり、ジイソシアネート化合物としては、脂肪族ジイソシアネートであり、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種と、ジオール化合物としては、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-2-ブチル-1,3-プロパンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種からなり、3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、からなることが好ましい。 Furthermore, as the (F) isocyanate compound with two or more functions, the bifunctional isocyanate compound is an acyclic aliphatic isocyanate compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound, the diisocyanate compound is an aliphatic diisocyanate selected from the group of compounds consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate, and the diol compound is 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypiva The trifunctional isocyanate compound is preferably composed of one compound selected from the group consisting of phosphate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol, and preferably consists of an isocyanurate form of a hexamethylene diisocyanate compound, an isocyanurate form of an isophorone diisocyanate compound, an adduct form of a hexamethylene diisocyanate compound, an adduct form of an isophorone diisocyanate compound, a burette form of a hexamethylene diisocyanate compound, an adduct form of an isophorone diisocyanate compound, an isocyanurate form of a tolylene diisocyanate compound, an isocyanurate form of a xylylene diisocyanate compound, an isocyanurate form of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, an adduct form of a tolylene diisocyanate compound, an adduct form of a xylylene diisocyanate compound, and an adduct form of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound.
また、前記粘着剤組成物にHLB値が7~15である(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物を含むことが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the adhesive composition contains an (I) polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15.
また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone.
また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.
また、上記の課題を解決するため、本発明は、透明性を有する樹脂からなる基材フィルムの片面に、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、を含む共重合体のアクリル系ポリマーからなる粘着剤層と、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層された剥離フィルムとが、前記粘着剤層と前記剥離剤層が接するように、順に積層してなり、前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されてなり、前記粘着剤層の剥離帯電圧が±0.6kV以下であることを特徴とする帯電防止表面保護フィルムを提供する。 Furthermore, in order to solve the above problems, the present invention provides a substrate film made of a transparent resin on one side, comprising: (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 C in its alkyl group; and a group of copolymerizable monomers, consisting of: (B) copolymerizable monomers containing a hydroxyl group; (C) copolymerizable monomers containing a carboxyl group; (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer; and (E) nitrogen-containing vinyl monomer or alkyl (meth)acrylate monomer containing an alkoxy group that does not contain a hydroxyl group. The present invention provides an antistatic surface protective film comprising an adhesive layer made of an acrylic polymer copolymer containing at least one monomer selected from a group of copolymerizable monomers, and a release film having a release layer containing an antistatic agent laminated on one side of a resin film, laminated sequentially so that the adhesive layer and the release layer are in contact, wherein the release layer is formed from a resin composition containing a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a silicone compound that is liquid at 20°C, and an antistatic agent, and the release band voltage of the adhesive layer is ±0.6 kV or less.
また、前記剥離剤層中のシリコーン系化合物が、ポリエーテル変性シリコーンであることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the silicone compound in the release agent layer is a polyether-modified silicone.
また、前記剥離剤層中の前記帯電防止剤が、アルカリ金属塩であることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.
また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学用フィルムを提供する。 Furthermore, the present invention provides an optical film formed by laminating the above-mentioned antistatic surface protective film.
また、本発明は、上記の帯電防止表面保護フィルムが貼り合わされてなる光学部品を提供する。 Furthermore, the present invention provides an optical component to which the above-mentioned antistatic surface protective film is laminated.
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なく、被着体に対する低汚染性が経時変化しない。また、本発明によれば、LR偏光板やAG-LR偏光板などの、被着体の表面が、シリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある光学用フィルムであっても、帯電防止表面保護フィルムを、被着体から剥離する時に発生する剥離帯電圧を低く抑えることができ、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有する帯電防止表面保護フィルムを提供できる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムによれば、光学用フィルムの表面を確実に保護することができることから、生産性の向上と歩留まりの向上を図ることができる。
The antistatic surface protection film of the present invention causes minimal contamination of the adherend, and its low contamination properties do not change over time. Furthermore, according to the present invention, even if the adherend surface of the adherend is an optical film such as an LR polarizer or an AG-LR polarizer that has been treated with an anti-fouling agent such as a silicone compound or a fluorine compound, the peel voltage generated when peeling the antistatic surface protection film from the adherend can be kept low, and an antistatic surface protection film with excellent peel-and-static performance that does not deteriorate over time can be provided.
The antistatic surface protection film of the present invention can reliably protect the surface of optical films, thereby improving productivity and yield.
以下、実施の形態に基づいて、本発明を詳しく説明する。
図1は、本発明の帯電防止表面保護フィルムの、概念を示した断面図である。この帯電防止表面保護フィルム10は、透明な基材フィルム1の片面の表面に、粘着剤層2が形成されている。この粘着剤層2の表面には、樹脂フィルム3の表面に剥離剤層4が形成された剥離フィルム5が、貼合されている。
The present invention will be described in detail below based on embodiments.
Figure 1 is a conceptual cross-sectional view of the antistatic surface protection film of the present invention. In this antistatic surface protection film 10, an adhesive layer 2 is formed on one side of a transparent base film 1. A release film 5, which has a release agent layer 4 formed on the surface of a resin film 3, is laminated to the surface of this adhesive layer 2.
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1としては、透明性及び可撓性を有する樹脂からなる基材フィルムが用いられる。これにより、帯電防止表面保護フィルムを、被着体である光学部品に貼合した状態で、光学部品の外観検査を行うことができる。基材フィルム1として用いる透明性を有する樹脂からなるフィルムは、好適には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが用いられる。ポリエステルフィルムのほか、必要な強度を有し、かつ光学適性を有するものであれば、他の樹脂からなるフィルムも使用可能である。基材フィルム1は、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される基材フィルム1の厚みは、特に限定はないが、例えば、12~100μm程度の厚みが好ましく、20~50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、基材フィルム1の粘着剤層2が形成された面の反対側の面に、表面の汚れを防止する防汚層、帯電防止層、傷つき防止のハードコート層などを設けることができる。また、基材フィルム1の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
The base film 1 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is a base film made of a transparent and flexible resin. This allows the optical component to be visually inspected while the antistatic surface protection film is laminated to the optical component. Preferably, the transparent resin film used as the base film 1 is a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, or polybutylene terephthalate. In addition to polyester films, films made of other resins can also be used as long as they have the necessary strength and optical suitability. The base film 1 may be an unoriented film or a uniaxially or biaxially stretched film. Furthermore, the stretching ratio of the stretched film and the orientation angle of the axial shape formed during crystallization of the stretched film may be controlled to specific values.
The thickness of the base film 1 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention is not particularly limited, but for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferred, and a thickness of about 20 to 50 μm is easier to handle and therefore more preferred.
Furthermore, if necessary, an anti-fouling layer to prevent surface soiling, an antistatic layer, a hard coat layer to prevent scratches, etc., can be provided on the surface opposite to the side of the base film 1 where the adhesive layer 2 is formed. In addition, the surface of the base film 1 may be subjected to easy-adhesion treatments such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.
また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2は、被着体の表面に接着し、用済み後に簡単に剥がせ、かつ、被着体を汚染しにくい粘着剤であれば特に限定されるものではないが、光学用フィルムに貼合後の耐久性などを考慮すると(メタ)アクリレート共重合体を架橋させてなるアクリル系粘着剤を用いるのが一般的である。 Furthermore, the adhesive layer 2 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited as long as it adheres to the surface of the adherend, can be easily peeled off after use, and does not easily contaminate the adherend. However, considering durability after lamination to optical films, it is common to use an acrylic adhesive made by crosslinking (meth)acrylate copolymers.
特に、アクリル系粘着剤の主剤が、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、を含む共重合体のアクリル系ポリマーからなる粘着剤層が好ましい。
さらに、前記アクリル系ポリマーに加えて、(F)2官能以上のイソシアネート化合物と、(G)架橋促進剤と、(H)ケトエノール互変異性体化合物と、を含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層が好ましい。
In particular, an acrylic adhesive layer is preferred in which the main component of the acrylic adhesive is an acrylic polymer copolymer comprising (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group, and at least one selected from the copolymerizable monomer group consisting of (B) copolymerizable monomers containing a hydroxyl group, (C) copolymerizable monomers containing a carboxyl group, (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, and (E) nitrogen-containing vinyl monomer or alkyl(meth)acrylate monomer containing an alkoxy group that does not contain a hydroxyl group.
Furthermore, in addition to the acrylic polymer, an adhesive layer comprising an adhesive composition containing (F) a bifunctional or more isocyanate compound, (G) a crosslinking accelerator, and (H) a ketoenol tautomer compound is preferable.
(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、イソセチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーを50~95重量部の割合で含有していることが好ましい。
(A) Examples of (meth)acrylic acid ester monomers with C4 to C18 in the alkyl group include butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, and undecyl Examples include methacrylate, dodecyl methacrylate, tridecyl methacrylate, tetradecyl methacrylate, pentadecyl methacrylate, hexadecyl methacrylate, heptadecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, myristyl methacrylate, isomiristyl methacrylate, cetyl methacrylate, isocetyl methacrylate, stearyl methacrylate, isostearyl methacrylate, and others.
When the total amount of the acrylic polymer in the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that (A) the copolymer contains 50 to 95 parts by weight of (meth)acrylic acid ester monomers having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group.
(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーとしては、8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類や、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の水酸基含有(メタ)アクリルアミド類などが挙げられる。
8-ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、6-ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、N-ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドからなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーを0.1~10重量部の割合で含有していることが好ましい。
(B) Examples of copolymerizable monomers containing hydroxyl groups include hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, as well as hydroxyl group-containing (meth)acrylamides such as N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide.
Preferably, it is at least one compound selected from the group consisting of 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide.
When the total amount of the acrylic polymer copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) is contained in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight.
(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーが、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルテトラヒドロフタル酸からなる化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを0~1.0重量部の割合で含有していることが好ましい。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーを含有させなくてもよい。
(C) Preferably, the copolymerizable monomer containing a carboxyl group is at least one selected from the group of compounds consisting of (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxypropylhexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl succinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl maleic acid, carboxypolycaprolactone mono(meth)acrylate, and 2-(meth)acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid.
When the total amount of the acrylic polymer copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the copolymerizable monomer containing the (C) carboxyl group is contained in a proportion of 0 to 1.0 part by weight. In the adhesive layer according to the present invention, the adhesive composition does not need to contain the copolymerizable monomer containing the (C) carboxyl group.
(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールの有する複数の水酸基のうち、一つの水酸基が(メタ)アクリル酸エステルとしてエステル化された化合物であればよい。(メタ)アクリル酸エステル基が重合性基となるので、主剤ポリマーに共重合することができる。他の水酸基は、OHのままでもよく、メチルエーテルやエチルエーテル等のアルキルエーテルや、酢酸エステル等の飽和カルボン酸エステル等となっていてもよい。
ポリアルキレングリコールの有するアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられるが、これらに限定されない。ポリアルキレングリコールが、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール等の2種以上のポリアルキレングリコールの共重合体であってもよい。ポリアルキレングリコールの共重合体としては、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール-ポリブチレングリコール、ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール等が挙げられ、該共重合体は、ブロック共重合体、ランダム共重合体であってもよい。
(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーが、ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数が3~14であることが好ましい。「アルキレンオキサイドの平均繰り返し数」とは、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーの分子構造に含まれる「ポリアルキレングリコール鎖」の部分において、アルキレンオキサイド単位が繰り返す平均の数である。
(D) The polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer can be any compound in which one of the multiple hydroxyl groups of the polyalkylene glycol is esterified as a (meth)acrylic acid ester. Since the (meth)acrylic acid ester group is a polymerizable group, it can be copolymerized with the main polymer. The other hydroxyl groups may remain as OH groups, or they may be alkyl ethers such as methyl ether or ethyl ether, or saturated carboxylic acid esters such as acetate esters, etc.
The alkylene groups in polyalkylene glycol include, but are not limited to, ethylene groups, propylene groups, and butylene groups. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more polyalkylene glycols, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol. Examples of polyalkylene glycol copolymers include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, and polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol, and the copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.
(D) The polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer preferably has an average repeating number of alkylene oxides constituting the polyalkylene glycol chain of 3 to 14. The "average repeating number of alkylene oxides" is the average number of repeating alkylene oxide units in the "polyalkylene glycol chain" portion included in the molecular structure of (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.
(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートの中から選択された、少なくとも一種以上であることが好ましい。
より具体的には、ポリエチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール-ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-モノ(メタ)アクリレート;メトキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシ-ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシ-ポリエチレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシ-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、メトキシ-ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート;エトキシポリエチレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシ-ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシ-ポリエチレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシ-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレート、エトキシ-ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール-ポリブチレングリコール-(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、前記(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを0~50重量部の割合で含有していることが好ましい。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーを含有させなくてもよい。
(D) The polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer is preferably at least one selected from polyalkylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate.
More specifically, polyethylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-mono(meth)acrylate, polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate; methoxypolyethylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol Examples include polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate; ethoxypolyethylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, and ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate.
When the total amount of the acrylic polymer copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid monomer is contained in a proportion of 0 to 50 parts by weight. In the adhesive layer according to the present invention, the adhesive composition does not need to contain the (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid monomer.
前記アクリル系ポリマーが、前記共重合可能なモノマー群として、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーの少なくとも一種以上を含むことが好ましい。 The acrylic polymer preferably contains, as part of the copolymerizable monomer group, at least one of (E) nitrogen-containing vinyl monomers that do not contain hydroxyl groups or alkyl (meth)acrylate monomers containing alkoxy groups.
(E)のうち、(E-1)窒素含有ビニルモノマーとしては、アミド結合を含有するビニルモノマー、アミノ基を含有するビニルモノマー、窒素含有の複素環式構造を有するビニルモノマー等が挙げられる。より具体的には、N-ビニル-2-ピロリドン、N-ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、N-ビニルピリジン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピリミジン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルオキサゾール、N-ビニルモルホリン、N-ビニルカプロラクタム、N-ビニルラウリロラクタム等の、N-ビニル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N-(メタ)アクリロイルモルホリン、N-(メタ)アクリロイルピペラジン、N-(メタ)アクリロイルアジリジン、N-(メタ)アクリロイルアゼチジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルアゼパン、N-(メタ)アクリロイルアゾカン等の、N-(メタ)アクリロイル置換の複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;N-シクロヘキシルマレイミド、N-フェニルマレイミド等の、窒素原子及びエチレン系不飽和結合を環内に有する複素環式構造を有する環状窒素ビニル化合物;(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-t-ブチル(メタ)アクリルアミド等の無置換又はモノアルキル置換の(メタ)アクリルアミド;N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジプロピルアクリルアミド、N,N-ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジブチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル-N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-プロピル(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド等のジアルキル置換(メタ)アクリルアミド;N,N-ジメチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノイソプロピル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチルアミノブチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノメチル(メタ)アクリレート、N,N-ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N-エチル-N-メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N-メチル-N-プロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N-メチル-N-イソプロピルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t-ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノ(メタ)アクリレート;N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジイソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-エチル-N-メチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-プロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-イソプロピルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等のN,N-ジアルキル置換アミノプロピル(メタ)アクリルアミド;N-ビニルホルムアミド、N-ビニルアセトアミド、N-ビニル-N-メチルアセトアミド等のN-ビニルカルボン酸アミド類;N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N-メチレンビス(メタ)アクリルアミド等の、(メタ)アクリルアミド類;(メタ)アクリロニトリル等の不飽和カルボン酸ニトリル類;などが挙げられる。 Among (E), (E-1) nitrogen-containing vinyl monomers include vinyl monomers containing amide bonds, vinyl monomers containing amino groups, and vinyl monomers having a nitrogen-containing heterocyclic structure. More specifically, these include N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholine, N-vinylcaprolactam, N-vinyllaurillolactam, and other vinyl monomers having an N-vinyl-substituted heterocyclic structure. Cyclic nitrogen vinyl compounds; cyclic nitrogen vinyl compounds having an N-(meth)acryloyl-substituted heterocyclic structure, such as N-(meth)acryloylmorpholine, N-(meth)acryloylpiperazine, N-(meth)acryloylaziridine, N-(meth)acryloylazetidine, N-(meth)acryloylpyrrolidine, N-(meth)acryloylpiperidine, N-(meth)acryloylazepane, and N-(meth)acryloylazokane. ;cyclic nitrogen vinyl compounds having a heterocyclic structure with a nitrogen atom and an ethylene-based unsaturated bond in the ring, such as N-cyclohexylmaleimide and N-phenylmaleimide; unsubstituted or monoalkyl-substituted (meth)acrylamides such as (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, and N-t-butyl(meth)acrylamide; dialkyl-substituted (meth)acrylamides such as N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N,N-dipropylacrylamide, N,N-diisopropyl(meth)acrylamide, N,N-dibutyl(meth)acrylamide, N-ethyl-N-methyl(meth)acrylamide, N-methyl-N-propyl(meth)acrylamide, and N-methyl-N-isopropyl(meth)acrylamide; N,N-dimethylaminomethyl(meth) Dialkylamino(meth)acrylates such as acrylate, N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminoisopropyl (meth)acrylate, N,N-dimethylaminobutyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminomethyl (meth)acrylate, N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate, N-ethyl-N-methylaminoethyl (meth)acrylate, N-methyl-N-propylaminoethyl (meth)acrylate, N-methyl-N-isopropylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dibutylaminoethyl (meth)acrylate, t-butylaminoethyl (meth)acrylate; N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, N,N-diethylaminopropyl (meth)acrylamide, N,N-dipropyl Examples include N,N-dialkyl-substituted aminopropyl (meth)acrylamides such as minopropyl (meth)acrylamide, N,N-diisopropylaminopropyl (meth)acrylamide, N-ethyl-N-methylaminopropyl (meth)acrylamide, N-methyl-N-propylaminopropyl (meth)acrylamide, and N-methyl-N-isopropylaminopropyl (meth)acrylamide; N-vinyl carboxylic acid amides such as N-vinylformamide, N-vinylacetamide, and N-vinyl-N-methylacetamide; (meth)acrylamides such as N-methoxymethyl (meth)acrylamide, N-ethoxyethyl (meth)acrylamide, N-butoxymethyl (meth)acrylamide, diacetone acrylamide, and N,N-methylenebis(meth)acrylamide; and unsaturated carboxylic acid nitriles such as (meth)acrylonitrile.
(E-1)窒素含有ビニルモノマーとしては、水酸基を含有しないものが好ましく、水酸基およびカルボキシル基を含有しないものがより好ましい。このようなモノマーとしては、上に例示したモノマー、例えば、N,N-ジアルキル置換アミノ基やN,N-ジアルキル置換アミド基を含有するアクリル系モノマー;N-ビニル-2-ピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、N-ビニル-2-ピペリドンなどのN-ビニル置換ラクタム類;N-(メタ)アクリロイルモルホリンやN-(メタ)アクリロイルピロリジンなどのN-(メタ)アクリロイル置換環状アミン類が好ましい。 (E-1) Nitrogen-containing vinyl monomers are preferably those that do not contain hydroxyl groups, and more preferably those that do not contain both hydroxyl and carboxyl groups. Suitable monomers include those exemplified above, for example, acrylic monomers containing N,N-dialkyl-substituted amino groups or N,N-dialkyl-substituted amide groups; N-vinyl-substituted lactams such as N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinylcaprolactam, and N-vinyl-2-piperidone; and N-(meth)acryloyl-substituted cyclic amines such as N-(meth)acryloylmorpholine and N-(meth)acryloylpyrrolidine.
(E)のうち、(E-2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーとしては、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、2-プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2-イソプロポキシエチル(メタ)アクリレート、2-ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2-メトキシプロピル(メタ)アクリレート、2-エトキシプロピル(メタ)アクリレート、2-プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2-イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、3-メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3-エトキシプロピル(メタ)アクリレート、3-プロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3-イソプロポキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ブトキシプロピル(メタ)アクリレート、4-メトキシブチル(メタ)アクリレート、4-エトキシブチル(メタ)アクリレート、4-プロポキシブチル(メタ)アクリレート、4-イソプロポキシブチル(メタ)アクリレート、4-ブトキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
これらのアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、アルキル(メタ)アクリレートにおけるアルキル基の原子がアルコキシ基で置換された構造を有する。
Among (E), the (E-2) alkoxy group-containing alkyl (meth)acrylate monomers include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, 2-propoxyethyl (meth)acrylate, 2-isopropoxyethyl (meth)acrylate, 2-butoxyethyl (meth)acrylate, 2-methoxypropyl (meth)acrylate, 2-ethoxypropyl (meth)acrylate, 2-propoxypropyl (meth)acrylate, 2-isopropoxypropyl (meth)acrylate, and 2- Examples include toxypropyl (meth)acrylate, 3-methoxypropyl (meth)acrylate, 3-ethoxypropyl (meth)acrylate, 3-propoxypropyl (meth)acrylate, 3-isopropoxypropyl (meth)acrylate, 3-butoxypropyl (meth)acrylate, 4-methoxybutyl (meth)acrylate, 4-ethoxybutyl (meth)acrylate, 4-propoxybutyl (meth)acrylate, 4-isopropoxybutyl (meth)acrylate, and 4-butoxybutyl (meth)acrylate.
These alkoxy-containing alkyl (meth)acrylate monomers have a structure in which the alkyl group atoms in the alkyl (meth)acrylate are substituted with alkoxy groups.
共重合体のアクリル系ポリマーの合計を100重量部とする時、(E-1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは(E-2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを0~20重量部の割合で含有していることが好ましい。(E-1)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマー及び(E-2)アルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを、それぞれ1種または2種以上併用することもできる。本発明に係わる粘着剤層において、粘着剤組成物に(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーを含有させなくてもよい。 When the total amount of the acrylic polymer copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that it contains (E-1) nitrogen-containing vinyl monomer without hydroxyl groups or (E-2) alkyl (meth)acrylate monomer containing alkoxy groups in a proportion of 0 to 20 parts by weight. (E-1) nitrogen-containing vinyl monomer without hydroxyl groups and (E-2) alkyl (meth)acrylate monomer containing alkoxy groups can each be used individually or in combination of two or more types. In the adhesive layer according to the present invention, the adhesive composition does not necessarily have to contain (E) nitrogen-containing vinyl monomer without hydroxyl groups or alkyl (meth)acrylate monomer containing alkoxy groups.
(F)2官能以上のイソシアネート化合物としては、1分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート(NCO)基を有するポリイソシアネート化合物から選択される、少なくとも1種または2種以上であればよい。ポリイソシアネート化合物には、脂肪族系イソシアネート、芳香族系イソシアネート、非環式系イソシアネート、脂環式系イソシアネートなどの分類があるが、いずれでもよい。ポリイソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI)等の脂肪族系イソシアネート化合物や、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)、水添キシリレンジイソシアネート(H6XDI)、ジメチルジフェニレンジイソシアネート(TOID)、トリレンジイソシアネート(TDI)等の芳香族系イソシアネート化合物が挙げられる。
3官能以上のイソシアネート化合物としては、2官能イソシアネート化合物(1分子中に2個のNCO基を有する化合物)のビュレット変性体やイソシアヌレート変性体、トリメチロールプロパン(TMP)やグリセリン等の3価以上のポリオール(1分子中に少なくとも3個以上のOH基を有する化合物)とのアダクト体(ポリオール変性体)などが挙げられる。
(F)2官能以上のイソシアネート化合物として、(F-1)3官能イソシアネート化合物のみ、または(F-2)2官能イソシアネート化合物のみを用いることも可能である。また、(F-1)3官能イソシアネート化合物と、(F-2)2官能イソシアネート化合物を併用することも可能である。
(F) The isocyanate compound with two or more functions may be at least one or more selected from polyisocyanate compounds having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule. Polyisocyanate compounds can be classified into aliphatic isocyanates, aromatic isocyanates, acyclic isocyanates, and alicyclic isocyanates, and any of these may be used. Specific examples of polyisocyanate compounds include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), and aromatic isocyanate compounds such as diphenylmethane diisocyanate (MDI), xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyl diphenyl diisocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI).
Examples of isocyanate compounds with three or more functions include bifunctional isocyanate compounds (compounds having two NCO groups in one molecule), such as bifunctional isocyanate compounds, isocyanurate compounds, and adduct compounds (polyol-modified compounds) with trivalent or higher polyols (compounds having at least three OH groups in one molecule) such as trimethylolpropane (TMP) and glycerin.
(F) As the isocyanate compound with two or more functions, it is also possible to use only a (F-1) trifunctional isocyanate compound or only a (F-2) bifunctional isocyanate compound. Furthermore, it is also possible to use a combination of a (F-1) trifunctional isocyanate compound and a (F-2) bifunctional isocyanate compound.
さらに、本発明に用いる(F-1)3官能イソシアネート化合物としては、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のアダクト体、イソホロンジイソシアネート化合物のアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のビュレット体、イソホロンジイソシアネート化合物のビュレット体からなる、(F-1-1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、トリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体、トリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体、水添キシリレンジイソシアネート化合物のアダクト体からなる、(F-1-2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含むことが好ましい。(F-1-1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群と、(F-1-2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群とを、併用することが好ましい。本発明では、(F-1)3官能イソシアネート化合物として、(F-1-1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(F-1-2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを、併用することにより、低速剥離領域および高速剥離領域の粘着力のバランスをさらに改善することができる。 Furthermore, the (F-1) trifunctional isocyanate compound used in the present invention is selected from the (F-1-1) first aliphatic isocyanate compound group, which consists of the isocyanurate form of a hexamethylene diisocyanate compound, the isocyanurate form of an isophorone diisocyanate compound, the adduct form of a hexamethylene diisocyanate compound, the adduct form of an isophorone diisocyanate compound, the burette form of a hexamethylene diisocyanate compound, and the burette form of an isophorone diisocyanate compound. It is preferable to include at least one of the above and at least one selected from the second aromatic isocyanate compound group (F-1-2), which consists of isocyanurate forms of tolylene diisocyanate compounds, isocyanurate forms of xylylene diisocyanate compounds, isocyanurate forms of hydrogenated xylylene diisocyanate compounds, adduct forms of tolylene diisocyanate compounds, adduct forms of xylylene diisocyanate compounds, and adduct forms of hydrogenated xylylene diisocyanate compounds. It is preferable to use the first aliphatic isocyanate compound group (F-1-1) and the second aromatic isocyanate compound group (F-1-2) in combination. In this invention, by using a combination of (F-1-1) a trifunctional isocyanate compound, which is selected from the first aliphatic isocyanate compound group, and (F-1-2) a trifunctional isocyanate compound, which is selected from the second aromatic isocyanate compound group, the balance of adhesive strength in the low-speed peeling region and the high-speed peeling region can be further improved.
また、(F-1)3官能イソシアネート化合物は、前記(F-1-1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、前記(F-1-2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上とを含み、前記共重合体の100重量部に対して、合計して0.5~5.0重量部含まれることが好ましい。また、(F-1-1)第1の脂肪族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上と、(F-1-2)第2の芳香族系のイソシアネート化合物群の中から選択された、少なくとも一種以上との混合比率は、(F-1-1):(F-1-2)が重量比で10%:90%~90%:10%の範囲内であることが好ましい。 Furthermore, the (F-1) trifunctional isocyanate compound preferably comprises at least one compound selected from the (F-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and at least one compound selected from the (F-1-2) second aromatic isocyanate compound group, in a total amount of 0.5 to 5.0 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer. The mixing ratio of at least one compound selected from the (F-1-1) first aliphatic isocyanate compound group and at least one compound selected from the (F-1-2) second aromatic isocyanate compound group is preferably within the weight range of (F-1-1):(F-1-2) 10%:90% to 90%:10%.
さらに、本発明に用いる(F-2)2官能イソシアネート化合物としては、非環式脂肪族イソシアネート化合物で、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物であることが好ましい。
例えば、一般式「O=C=N-X-N=C=O」(ただし、Xは2価基)でジイソシアネート化合物を、一般式「HO-Y-OH」(ただし、Yは2価基)でジオール化合物を表すとき、ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させて生成された化合物としては、例えば、次の一般式Zで表される化合物が挙げられる。
Furthermore, the (F-2) bifunctional isocyanate compound used in the present invention is preferably an acyclic aliphatic isocyanate compound, which is a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound.
For example, when a diisocyanate compound is represented by the general formula "O=C=N-X-N=C=O" (where X is a divalent group) and a diol compound is represented by the general formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group), a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound is, for example, a compound represented by the following general formula Z.
〔一般式Z〕
O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X)n-N=C=O
[General formula Z]
O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X) n -N=C=O
ここで、nは0以上の整数である。nが0の場合、一般式Zは、「O=C=N-X-N=C=O」を表す。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物として、一般式Zにおいてnが0の化合物(ジオール化合物に対して未反応のジイソシアネート化合物)を含んでもよいが、nが1以上の整数である化合物を必須成分として含むことが好ましい。2官能非環式脂肪族イソシアネート化合物は、一般式Zにおけるnが異なる、複数の化合物からなる混合物であってもよい。 Here, n is a non-negative integer. When n is 0, the general formula Z represents "O=C=N-X-N=C=O". The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may include a compound where n is 0 in the general formula Z (an unreacted diisocyanate compound with respect to the diol compound), but it is preferable to include a compound where n is a non-negative integer as an essential component. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may also be a mixture of multiple compounds where n in the general formula Z is different.
一般式「O=C=N-X-N=C=O」で表されるジイソシアネート化合物は、脂肪族ジイソシアネートである。Xは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記脂肪族ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 Diisocyanate compounds represented by the general formula "O=C=N-X-N=C=O" are aliphatic diisocyanates. X is preferably an acyclic, aliphatic divalent group. The aliphatic diisocyanate is preferably one or more compounds selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
一般式「HO-Y-OH」で表されるジオール化合物は、脂肪族ジオールである。Yは、非環式で脂肪族の2価基であることが好ましい。前記ジオール化合物としては、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-2-プロピル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-2-ブチル-1,3-プロパンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオールモノヒドロキシピバレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールからなる化合物群の中から選択された一種又は二種以上からなることが好ましい。 The diol compound represented by the general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is preferably an acyclic, aliphatic divalent group. The diol compound is preferably one or more compounds selected from the group consisting of 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol.
前記(F-1)3官能イソシアネート化合物と、(F-2)2官能イソシアネート化合物との重量比(F-1/F-2)が、1~90であることが好ましい。前記アクリル系ポリマー100重量部に対して、前記(F)2官能以上のイソシアネート化合物が、0.1~10重量部であることが好ましい。 The weight ratio (F-1/F-2) of the (F-1) trifunctional isocyanate compound to the (F-2) bifunctional isocyanate compound is preferably 1 to 90. It is also preferable that the amount of the (F) bifunctional or more isocyanate compound is 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the acrylic polymer.
(G)金属キレート化合物の架橋促進剤は、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする場合に、前記共重合体と架橋剤との反応(架橋反応)に対して触媒として機能する物質であればよく、第三級アミン等のアミン系化合物、金属キレート化合物、有機錫化合物、有機鉛化合物、有機亜鉛化合物等の有機金属化合物等が挙げられる。本発明では、架橋促進剤として、金属キレート化合物や有機錫化合物が好ましい。 (G) The crosslinking accelerator for the metal chelate compound can be any substance that functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) between the copolymer and the crosslinking agent when a polyisocyanate compound is used as the crosslinking agent. Examples include amine compounds such as tertiary amines, metal chelate compounds, organotin compounds, organolead compounds, organozinc compounds, and other organometallic compounds. In this invention, metal chelate compounds and organotin compounds are preferred as crosslinking accelerators.
金属キレート化合物としては、中心金属原子Mに、1以上の多座配位子Lが結合した化合物である。金属キレート化合物は、金属原子Mに結合する1以上の単座配位子Xを有してもよく、有しなくてもよい。例えば、金属原子Mが1つである金属キレート化合物の一般式を、M(L)m(X)nで表すとき、m≧1、n≧0である。mが2以上の場合、m個のLは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。nが2以上の場合、n個のXは同一の配位子でもよく、異なる配位子でもよい。 A metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to a central metal atom M. A metal chelate compound may or may not have one or more monodentate ligands X bonded to the metal atom M. For example, when the general formula of a metal chelate compound with one metal atom M is represented as M(L) m (X) n , m≧1 and n≧0. When m is 2 or more, the m L ligands may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, the n X ligands may be the same ligand or different ligands.
金属原子Mとしては、Fe,Ni,Mn,Cr,V,Ti,Ru,Zn,Al,Zr,Sn等が挙げられる。
多座配位子Lとしては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ-ケトエステルや、アセチルアセトン(別名2,4-ペンタンジオン)、2,4-ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ-ジケトンが挙げられる。これらは、ケトエノール互変異性体化合物であり、多座配位子Lにおいてはエノールが脱プロトンしたエノラート(例えばアセチルアセトネート)であってもよい。
単座配位子Xとしては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、2-エチルヘキサノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基等のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基などが挙げられる。
Examples of metal atoms M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, and Sn.
Examples of polydentate ligand L include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, as well as β-diketones such as acetylacetone (also known as 2,4-pentanedione), 2,4-hexanedione, and benzoylacetone. These are ketoenol tautomer compounds, and in the case of polydentate ligand L, the enol may be deprotonated enolates (e.g., acetylacetonate).
Examples of monodentate ligand X include halogen atoms such as chlorine and bromine atoms, acyloxy groups such as pentanoyl, hexanoyl, 2-ethylhexanoyl, octanoyl, nonanoyl, decanoyl, dodecanoyl, and octadecanoyl groups, and alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, and butoxy groups.
金属キレート化合物の具体例としては、トリス(2,4-ペンタンジオナト)鉄(III)、鉄トリスアセチルアセトネート、チタニウムトリスアセチルアセトネート、ルテニウムトリスアセチルアセトネート、亜鉛ビスアセチルアセトネート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラキスアセチルアセトネート、トリス(2,4-ヘキサンジオナト)鉄(III)、ビス(2,4-ヘキサンジオナト)亜鉛、トリス(2,4-ヘキサンジオナト)チタン、トリス(2,4-ヘキサンジオナト)アルミニウム、テトラキス(2,4-ヘキサンジオナト)ジルコニウム等が挙げられる。 Specific examples of metal chelate compounds include tris(2,4-pentanedionato)iron(III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, aluminum trisacetylacetonate, zirconium tetrakisacetylacetonate, tris(2,4-hexanedionato)iron(III), bis(2,4-hexanedionato)zinc, tris(2,4-hexanedionato)titanium, tris(2,4-hexanedionato)aluminum, and tetrakis(2,4-hexanedionato)zirconium.
有機錫化合物としては、ジアルキル錫オキシドや、ジアルキル錫の脂肪酸塩、第1錫の脂肪酸塩等が挙げられる。従来、ジブチル錫化合物が多く使用されてきたが、近年、有機錫化合物の毒性の問題が指摘され、特にジブチル錫化合物に含まれるトリブチル錫(TBT)は、内分泌攪乱物質としても懸念されている。安全性の観点から、ジオクチル錫化合物等の長鎖アルキル錫化合物が好ましい。具体的な有機錫化合物としては、ジオクチル錫オキシド、ジオクチル錫ジラウレート等が挙げられる。暫定的にはSn化合物も使用可能であるが、将来的には、より安全性の高い物質の使用が要求される趨勢に鑑み、Snに比べて安全性の高い、Al,Ti,Fe等の金属キレート化合物を用いることが好ましい。
本発明に係わる粘着剤組成物における金属キレート化合物としては、アルミニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、鉄キレート化合物、錫キレート化合物(但し、TBTを含まないもの)からなる群の中から選択された少なくとも1種以上含まれることが好ましい。
(G)金属キレート化合物の架橋促進剤は、共重合体の100重量部に対して、0.001~0.5重量部含まれることが好ましい。
Examples of organotin compounds include dialkyltin oxides, fatty acid salts of dialkyltin, and fatty acid salts of stannous tin. Conventionally, dibutyltin compounds have been widely used, but in recent years, concerns have been raised about the toxicity of organotin compounds, and tributyltin (TBT), contained in dibutyltin compounds, is particularly concerning as an endocrine disruptor. From a safety standpoint, long-chain alkyltin compounds such as dioctyltin compounds are preferred. Specific examples of organotin compounds include dioctyltin oxide and dioctyltin dilaurate. While Sn compounds can be used provisionally, in light of the trend towards requiring safer substances in the future, it is preferable to use metal chelate compounds such as Al, Ti, and Fe, which are safer than Sn.
In the adhesive composition according to the present invention, it is preferable that the metal chelating compound includes at least one selected from the group consisting of aluminum chelating compounds, titanium chelating compounds, iron chelating compounds, and tin chelating compounds (provided that TBT is not included).
(G) The crosslinking accelerator of the metal chelate compound is preferably present in an amount of 0.001 to 0.5 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer.
(H)ケトエノール互変異性体化合物としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ-ケトエステルや、アセチルアセトン、2,4-ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ-ジケトンが挙げられる。これらは、ポリイソシアネート化合物を架橋剤とする粘着剤組成物において、架橋剤の有するイソシアネート基をブロックすることにより、架橋剤の配合後における粘着剤組成物の過剰な粘度上昇やゲル化を抑制し、粘着剤組成物のポットライフを延長することができる。
(H)ケトエノール互変異性体化合物は、共重合体の100重量部に対して、0.1~200重量部含まれることが好ましい。
Examples of (H) ketoenol tautomer compounds include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, as well as β-diketones such as acetylacetone, 2,4-hexanedione, and benzoylacetone. In adhesive compositions using polyisocyanate compounds as crosslinking agents, these compounds block the isocyanate groups of the crosslinking agent, thereby suppressing excessive viscosity increases and gelation of the adhesive composition after the addition of the crosslinking agent, and extending the pot life of the adhesive composition.
(H) The ketoenol tautomer compound is preferably present in an amount of 0.1 to 200 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer.
(H)ケトエノール互変異性体化合物は、(G)金属キレート化合物の架橋促進剤とは反対に、架橋を抑制する効果を有することから、(G)金属キレート化合物の架橋促進剤に対する(H)ケトエノール互変異性体化合物の割合を適切に設定することが好ましい。粘着剤組成物のポットライフを長くし、貯蔵安定性を向上させるには、(G):(H)の重量比が、好ましくは1:1~1:300の範囲であり、さらに好ましくは、1:30~1:300であり、最も好ましくは、1:80~1:300である。 (H) Ketoenol tautomer compounds have an inhibitory effect on crosslinking, in contrast to the crosslinking promoter effect of (G) metal chelate compounds. Therefore, it is preferable to appropriately set the ratio of (H) ketoenol tautomer compounds to the crosslinking promoter effect of (G) metal chelate compounds. To extend the pot life of the adhesive composition and improve storage stability, the weight ratio of (G):(H) is preferably in the range of 1:1 to 1:300, more preferably 1:30 to 1:300, and most preferably 1:80 to 1:300.
粘着剤組成物は、(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物を任意に含有することができる。(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、ポリエーテル基を有するシロキサン化合物であり、通常のシロキサン単位〔-SiR1 2-O-〕の他に、ポリエーテル基を有するシロキサン単位〔-SiR1(R2O(R3O)nR4)-O-〕を有する。ここで、R1は1種又は2種以上のアルキル基又はアリール基、R2及びR3は1種又は2種以上のアルキレン基、R4は1種又は2種以上のアルキル基やアシル基等(末端基)を示す。ポリエーテル基としては、ポリオキシエチレン基〔(C2H4O)n〕やポリオキシプロピレン基〔(C3H6O)n〕等のポリオキシアルキレン基が挙げられる。 The adhesive composition may optionally contain (I) a polyether-modified siloxane compound. (I) The polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, and in addition to the usual siloxane unit [-SiR 1 2 -O-], it has a siloxane unit having a polyether group [-SiR 1 (R 2 O (R 3 O) n R 4 ) -O-]. Here, R 1 represents one or more alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 represent one or more alkylene groups, and R 4 represents one or more alkyl groups or acyl groups (terminal groups). Examples of polyether groups include polyoxyethylene groups [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxyalkylene groups such as polyoxypropylene groups [(C 3 H 6 O) n ].
(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、HLB値が7~15であるポリエーテル変性シロキサン化合物であることが好ましい。また、共重合体の100重量部に対して、(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物が0.01~1.0重量部含まれることが好ましい。より好ましくは、0.1~0.5重量部である。
HLBとは、例えばJIS K3211(界面活性剤用語)等に規定する親水親油バランス(親水性親油性比)である。
(I) The polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Furthermore, it is preferable that the polyether-modified siloxane compound is present in an amount of 0.01 to 1.0 parts by weight per 100 parts by weight of the copolymer. More preferably, it is 0.1 to 0.5 parts by weight.
HLB refers to the hydrophilic-lipophilic balance (hydrophilic-lipophilic ratio) as defined in standards such as JIS K3211 (surfactant terminology).
(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物は、例えば、水素化ケイ素基を有するポリオルガノシロキサン主鎖に対し、不飽和結合及びポリオキシアルキレン基を有する有機化合物をヒドロシリル化反応によりグラフトさせることによって得ることができる。具体的には、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチル(ポリオキシプロピレン)シロキサン重合体等が挙げられる。
(I)ポリエーテル変性シロキサン化合物を粘着剤組成物に配合することにより、粘着剤の粘着力及びリワーク性能を改善することができる。粘着剤組成物がポリエーテル変性シロキサン化合物を含有しない場合、より低コストとなる。
(I) Polyether-modified siloxane compounds can be obtained, for example, by grafting an organic compound having unsaturated bonds and polyoxyalkylene groups onto a polyorganosiloxane main chain having silicon hydride groups via a hydrosilylation reaction. Specifically, examples include dimethylsiloxane-methyl(polyoxyethylene)siloxane copolymer, dimethylsiloxane-methyl(polyoxyethylene)siloxane-methyl(polyoxypropylene)siloxane copolymer, and dimethylsiloxane-methyl(polyoxypropylene)siloxane polymer.
(I) By incorporating a polyether-modified siloxane compound into the adhesive composition, the adhesive strength and rework performance of the adhesive can be improved. If the adhesive composition does not contain a polyether-modified siloxane compound, the cost will be lower.
さらに、その他成分として、アルキレンオキサイドを含有する共重合可能な(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルアミドモノマー、ジアルキル置換アクリルアミドモノマー、界面活性剤、硬化促進剤、可塑剤、充填剤、硬化遅延剤、加工助剤、老化防止剤、酸化防止剤などの公知の添加剤を適宜に配合することが出来る。これらは、単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 Furthermore, other known additives containing alkylene oxides, such as copolymerizable (meth)acrylic monomers, (meth)acrylamide monomers, dialkyl-substituted acrylamide monomers, surfactants, curing accelerators, plasticizers, fillers, curing retarders, processing aids, anti-aging agents, and antioxidants, can be appropriately blended as other components. These can be used individually or in combination of two or more.
本発明の粘着剤組成物に用いられる主剤の共重合体は、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも一種と、共重合可能なモノマー群として(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたはアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも一種と、を共重合させることで合成することができる。共重合体の重合方法は特に限定されるものではなく、溶液重合、乳化重合等、適宜の重合方法が使用可能である。
本発明の粘着剤組成物は、上記の共重合体に、(F)2官能以上のイソシアネート化合物、(G)金属キレート化合物の架橋促進剤と、(H)ケトエノール互変異性体化合物、さらに適宜任意の添加剤を配合することで調製することができる。
The copolymer of the main component used in the adhesive composition of the present invention can be synthesized by copolymerizing (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 C in its alkyl group with at least one selected from the copolymerizable monomer group consisting of (B) copolymerizable monomers containing a hydroxyl group, (C) copolymerizable monomers containing a carboxyl group, (D) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, and (E) nitrogen-containing vinyl monomer or alkyl(meth)acrylate monomer containing an alkoxy group that does not contain a hydroxyl group. The polymerization method of the copolymer is not particularly limited, and any suitable polymerization method such as solution polymerization or emulsion polymerization can be used.
The adhesive composition of the present invention can be prepared by blending the above copolymer with (F) a bifunctional or more isocyanate compound, (G) a crosslinking promoter of a metal chelate compound, (H) a ketoenol tautomer compound, and any other additives as appropriate.
前記共重合体は、アクリル系ポリマーであることが好ましく、(メタ)アクリル酸エステルモノマーや(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド類などのアクリル系モノマーを50~100重量%含むことが好ましい。
また、アクリル系ポリマーの酸価は、0.01~8.0であることが好ましい。これにより、汚染性を改善し、糊残りの発生防止性能を向上することができる。
ここで、「酸価」とは、酸の含有量を表す指標の一つであり、カルボキシル基を含有するポリマー1gを中和するのに要する、水酸化カリウムのmg数で表される。
The copolymer is preferably an acrylic polymer, and more preferably contains 50 to 100% by weight of an acrylic monomer such as (meth)acrylic acid ester monomer, (meth)acrylic acid, or (meth)acrylamide.
Furthermore, the acid value of the acrylic polymer is preferably 0.01 to 8.0. This improves stain resistance and enhances the ability to prevent adhesive residue.
Here, "acid value" is one of the indicators that represents the acid content, and is expressed as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of polymer containing carboxyl groups.
前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、低速の剥離速度0.3m/minでの粘着力が0.05~0.1N/25mmであり、高速の剥離速度30m/minでの粘着力が1.0N/25mm以下であることが好ましい。これにより、粘着力が剥離速度によっても変化が少ない性能が得られ、高速剥離によっても、速やかに剥離することが可能になる。また、貼り直しのため、一旦、表面保護フィルムを剥がすときにも、過大な力を必要とせず、被着体から剥がし易い。 Preferably, the adhesive layer formed by crosslinking the aforementioned adhesive composition has an adhesive strength of 0.05 to 0.1 N/25 mm at a low peeling speed of 0.3 m/min, and an adhesive strength of 1.0 N/25 mm or less at a high peeling speed of 30 m/min. This results in a performance where the adhesive strength does not change significantly with peeling speed, and allows for quick peeling even at high speeds. Furthermore, when removing the surface protective film for reapplication, excessive force is not required, making it easy to peel from the adherend.
前記粘着剤組成物を架橋させてなる粘着剤層の、表面抵抗率が5.0×10+12Ω/□以下であり、剥離帯電圧が「±0.6kV以下」であることが好ましい。なお、本発明において、「±0.6kV以下」とは、0~-0.6kV及び0~+0.6kV、すなわち、-0.6~+0.6kVを意味する。表面抵抗率が大きいと、剥離時に帯電で発生した静電気を逃がす性能に劣るため、表面抵抗率を十分に小さくすることにより、粘着剤層を被着体が剥がす時に発生する静電気に伴って生じる剥離帯電圧が低減され、被着体の電気制御回路等に影響することを抑制することができる。 Preferably, the adhesive layer formed by crosslinking the adhesive composition has a surface resistivity of 5.0 × 10 + 12 Ω/□ or less, and a peel band voltage of "±0.6 kV or less". In this invention, "±0.6 kV or less" means 0 to -0.6 kV and 0 to +0.6 kV, i.e., -0.6 to +0.6 kV. If the surface resistivity is high, the performance of dissipating static electricity generated by charging during peeling is poor. By making the surface resistivity sufficiently low, the peel band voltage generated by static electricity when the adherend peels off the adhesive layer can be reduced, and it is possible to suppress the effect on the electrical control circuit of the adherend, etc.
本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層(架橋後の粘着剤)のゲル分率は、95~100%であることが好ましい。このようにゲル分率が高いことにより、低速の剥離速度において、粘着力が過大にならず、共重合体からの未重合モノマーあるいはオリゴマーの溶出が低減して、リワーク性や高温・高湿度における耐久性が改善され、被着体の汚染を抑制することができる。 The gel fraction of the adhesive layer (adhesive after crosslinking) formed by crosslinking the adhesive composition of the present invention is preferably 95 to 100%. This high gel fraction prevents excessive adhesion at low peeling speeds, reduces the elution of unpolymerized monomers or oligomers from the copolymer, improves reworkability and durability at high temperatures and humidity, and suppresses contamination of the adherend.
本発明の粘着フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面または両面に形成してなる。また、本発明の表面保護フィルムは、本発明の粘着剤組成物を架橋してなる粘着剤層を、樹脂フィルムの片面に形成してなる表面保護フィルムである。本発明の粘着剤組成物は、上記の(A)~(H)の各成分がバランスよく配合されているため、優れた帯電防止性能を備え、低速の剥離速度、及び高速の剥離速度において、粘着力のバランスが優れ、さらに、耐久性能、及びリワーク性能(粘着剤層を介して表面保護フィルムの上をボールペンでなぞった後に、被着体に汚染移行のないこと)にも優れたものとなる。このため、偏光板の表面保護フィルムの用途として好適に使用することができる。 The adhesive film of the present invention is formed by creating an adhesive layer on one or both sides of a resin film, which is formed by crosslinking the adhesive composition of the present invention. The surface protection film of the present invention is a surface protection film formed by creating an adhesive layer on one side of a resin film, which is formed by crosslinking the adhesive composition of the present invention. Because the adhesive composition of the present invention contains a well-balanced blend of components (A) to (H) above, it possesses excellent antistatic properties, a superior balance of adhesive strength at both low and high peeling speeds, and excellent durability and reworkability (no contamination transfer to the adherend after tracing the surface protection film with a ballpoint pen via the adhesive layer). Therefore, it can be suitably used as a surface protection film for polarizing plates.
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される粘着剤層2の厚みは、特に限定はないものの、例えば、5~40μm程度の厚みが好ましく、10~30μm程度の厚みがより好ましい。帯電防止表面保護フィルムの被着体の表面に対する剥離強度(粘着力)が、0.03~0.3N/25mm程度の、微粘着力を有する粘着剤層2であることが、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の操作性に優れることから好ましい。また、帯電防止表面保護フィルム10から剥離フィルム5を剥がす時の操作性に優れることから、剥離フィルム5の粘着剤層2からの剥離力が、0.2N/50mm以下であることが好ましい。 The thickness of the adhesive layer 2 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, but for example, a thickness of about 5 to 40 μm is preferred, and a thickness of about 10 to 30 μm is more preferred. It is preferable that the adhesive layer 2 has a weak adhesive force, with a peel strength (adhesion) of about 0.03 to 0.3 N/25 mm, when peeling the antistatic surface protection film from the adherend, as this provides excellent operability when peeling the antistatic surface protection film from the adherend. Furthermore, it is preferable that the peel force of the release film 5 from the adhesive layer 2 is 0.2 N/50 mm or less, as this provides excellent operability when peeling the release film 5 from the antistatic surface protection film 10.
また、本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10に使用される剥離フィルム5は、樹脂フィルム3の片面に、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物と、帯電防止剤とを含む樹脂組成物を用いた剥離剤層4が形成されている。 Furthermore, the release film 5 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention has a release agent layer 4 formed on one side of the resin film 3, using a resin composition containing a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a silicone-based compound that is liquid at 20°C, and an antistatic agent.
樹脂フィルム3としては、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられるが、透明性に優れていることや価格が比較的に安価であることから、ポリエステルフィルムが特に好ましい。樹脂フィルムは、無延伸フィルムであっても、一軸または二軸延伸されたフィルムであってもよい。また、延伸フィルムの延伸倍率や、延伸フィルムの結晶化に伴い形成される軸方法の配向角度を、特定の値に制御してもよい。
樹脂フィルム3の厚みは、特に限定はないが、例えば、12~100μm程度の厚みが好ましく、20~50μm程度の厚みであれば取り扱い易く、より好ましい。
また、必要に応じて、樹脂フィルム3の表面に、コロナ放電による表面改質、アンカーコート剤の塗付などの易接着処理を施してもよい。
Examples of resin film 3 include polyester film, polyamide film, polyethylene film, polypropylene film, and polyimide film, but polyester film is particularly preferred due to its excellent transparency and relatively low cost. The resin film may be an unoriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. Furthermore, the stretching ratio of the stretched film and the orientation angle of the axial shape formed during crystallization of the stretched film may be controlled to specific values.
The thickness of the resin film 3 is not particularly limited, but a thickness of about 12 to 100 μm is preferred, and a thickness of about 20 to 50 μm is easier to handle and therefore more preferable.
Furthermore, if necessary, the surface of the resin film 3 may be subjected to easy-adhesion treatments such as surface modification by corona discharge or application of an anchor coating agent.
剥離剤層4を構成するジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤には、付加反応型、縮合反応型、カチオン重合型、ラジカル重合型などの、公知のシリコーン系剥離剤が挙げられる。付加反応型シリコーン系剥離剤として市販されている製品には、例えば、KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工業(株)製)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。縮合反応型として市販されている製品には、例えば、SRX-290、SYLOFF-23(東レダウコーニング(株)製)などが挙げられる。カチオン重合型として市販されている製品には、例えば、TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(モメンティブ・パーフォーマンス・マテリアルズ社製)、X62-7622(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。ラジカル重合型として市販されている製品には、例えば、X62-7205(信越化学工業(株)製)などが挙げられる。 The release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane that constitutes the release agent layer 4 includes known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type. Examples of commercially available addition reaction type silicone-based release agents include KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, and LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available condensation reaction type products include SRX-290 and SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.). Examples of commercially available cationic polymerization products include TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), and X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Examples of commercially available radical polymerization products include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
剥離剤層4を構成する20℃において液体のシリコーン系化合物としては、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、カルビノール高級脂肪酸エステル変性シリコーンなどが挙げられる。本発明では、粘着剤層の表面の帯電防止性を向上するために、ジメチルポリシロキサンを主成分とした剥離剤層の中に相溶している状態の20℃において液体のシリコーン系化合物が用いられる。本発明の用途には、変性シリコーン化合物の中でも、ポリエーテル変性シリコーンが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンにおけるポリエーテル鎖は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどで構成され、例えば、側鎖に用いるポリエチレンオキサイドの分子量を選択することにより、シリコーン剥離剤との相溶性や帯電防止効果などの物性が調整される。
また、ポリエーテル変性シリコーンとして市販されている製品には、例えば、KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(信越化学工業(株)製)、SH8400、SH8700、SF8410(東レダウコーニング(株)製)、TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(モメンティブパーフォーマンス・マテリアルズ社製)、BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(ビックケミー社製)などが挙げられる。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する20℃において液体のシリコーン系化合物の添加量は、シリコーン化合物の種類や剥離剤との相溶性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of liquid silicone compounds at 20°C that constitute the release agent layer 4 include polyether-modified silicone, alkyl-modified silicone, and carbinol higher fatty acid ester-modified silicone. In the present invention, in order to improve the antistatic properties of the surface of the adhesive layer, a liquid silicone compound at 20°C that is compatible with the release agent layer mainly composed of dimethylpolysiloxane is used. Among the modified silicone compounds, polyether-modified silicone is preferred for the applications of the present invention. The polyether chain in polyether-modified silicone is composed of ethylene oxide, propylene oxide, etc., and by selecting, for example, the molecular weight of polyethylene oxide used in the side chain, physical properties such as compatibility with the silicone release agent and antistatic effect can be adjusted.
Other commercially available polyether-modified silicones include, for example, KF-351A, KF-352A, KF-353, KF-354L, KF-355A, KF-642 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), SH8400, SH8700, SF8410 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4441, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4450 (manufactured by Momentive Performance Materials, Inc.), and BYK-300, BYK-306, BYK-307, BYK-320, BYK-325, BYK-330 (manufactured by Bic Chemie Inc.).
The amount of liquid silicone compound added at 20°C to a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane will vary depending on the type of silicone compound and its degree of compatibility with the release agent. However, it should be set considering the desired peel voltage, contamination of the substrate, and adhesive properties when peeling the antistatic surface protective film from the substrate.
剥離剤層4を構成する帯電防止剤としては、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤溶液に対して分散性の良いもので、かつ、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の硬化を阻害しないものが好ましい。こうした帯電防止剤としてはアルカリ金属塩が好適である。 The antistatic agent constituting the release agent layer 4 is preferably one that disperses well in the release agent solution mainly composed of dimethylpolysiloxane and does not inhibit the hardening of the release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane. Alkali metal salts are suitable as such antistatic agents.
アルカリ金属塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムからなる金属塩があげられ、具体的には、たとえば、Li+、Na+、K+よりなるカチオンと、Cl-、Br-、I-、BF4
-、PF6
-、SCN-、ClO4
-、CF3SO3
-、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-よりなるアニオンから構成される金属塩が好適に用いられる。なかでも特に、LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3Cなどのリチウム塩が好ましく用いられる。これらのアルカリ金属塩は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。イオン性物質の安定化のため、ポリオキシアルキレン構造を含有する化合物を添加しても良い。
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に対する帯電防止剤の添加量は、帯電防止剤の種類や剥離剤との親和性の度合いにより異なるが、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離する時の、望まれる剥離帯電圧、被着体に対する汚染性、粘着特性などを考慮して設定すればよい。
Examples of alkali metal salts include metal salts composed of lithium, sodium, and potassium. Specifically, metal salts composed of cations consisting of Li + , Na + , and K + , and anions consisting of Cl- , Br- , I- , BF4- , PF6- , SCN- , ClO4- , CF3SO3- , ( CF3SO2 ) 2N- , ( C2F5SO2 ) 2N- , and ( CF3SO2 ) 3C- are preferably used . In particular, lithium salts such as LiBr, LiI, LiBF₄, LiPF₄, LiSCN, LiClO₄, LiCF₃SO₃, Li(CF₃SO₂)₂N , Li ( C₂F₅SO₂ ) ₂N , and Li ( CF₃SO₂ ) ₃C are preferably used. These alkali metal salts may be used individually or in mixtures of two or more . Compounds containing a polyoxyalkylene structure may be added to stabilize the ionic substance.
The amount of antistatic agent added to a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane varies depending on the type of antistatic agent and its affinity for the release agent, but it should be set considering the desired peel voltage when peeling the antistatic surface protective film from the substrate, the degree of contamination on the substrate, and the adhesive properties.
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合方法には、特に限定はない。ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤に、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を添加して、混合した後に剥離剤硬化用の触媒を添加・混合する方法、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤を、あらかじめ有機溶剤で希釈したのちにポリエーテル変性シリコーン及び帯電防止剤と剥離剤硬化用の触媒を添加、混合する方法、シロキサンを主成分とする剥離剤をあらかじめ有機溶剤に希釈後、触媒を添加・混合し、その後ポリエーテル変性シリコーンと帯電防止剤を添加、混合する方法など、いずれの方法でも良い。また、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着向上剤やポリオキシアルキレン基を含有する化合物などの帯電防止効果を補助する材料、を添加しても良い。 There are no particular limitations on the method of mixing the release agent, which mainly consists of dimethylpolysiloxane, with the polyether-modified silicone and the antistatic agent. Any method is acceptable, such as adding the polyether-modified silicone and antistatic agent to the dimethylpolysiloxane-based release agent, mixing them, and then adding and mixing a catalyst for curing the release agent; diluting the dimethylpolysiloxane-based release agent with an organic solvent beforehand, then adding and mixing the polyether-modified silicone, antistatic agent, and catalyst for curing the release agent; or diluting the siloxane-based release agent with an organic solvent beforehand, adding and mixing the catalyst, and then adding and mixing the polyether-modified silicone and antistatic agent. Furthermore, if necessary, adhesion enhancers such as silane coupling agents or materials that support the antistatic effect, such as compounds containing polyoxyalkylene groups, may be added.
ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤との混合比率は、特に限定はないが、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤を固形分として5~100程度の割合が好ましい。ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して5の割合より少ないと、粘着剤層の表面への帯電防止剤の転写量も少なくなり、粘着剤に帯電防止の機能が発揮され難くなる。また、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤の固形分換算の添加量が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤の固形分100に対して100の割合を越えると、ポリエーテル変性シリコーンおよび帯電防止剤とともにジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤も、粘着剤層の表面に転写されてしまうため、粘着剤の粘着特性を低下させる可能性がある。 The mixing ratio of the release agent, primarily composed of dimethylpolysiloxane, to the polyether-modified silicone and antistatic agent is not particularly limited, but a ratio of approximately 5 to 100 units of solids of the polyether-modified silicone and antistatic agent per 100 units of solids of the release agent primarily composed of dimethylpolysiloxane is preferable. If the amount of polyether-modified silicone and antistatic agent added (in terms of solids) is less than 5 units per 100 units of solids of the release agent primarily composed of dimethylpolysiloxane, the amount of antistatic agent transferred to the surface of the adhesive layer will be reduced, making it difficult for the adhesive to exhibit its antistatic function. Furthermore, if the amount of polyether-modified silicone and antistatic agent added (in terms of solids) exceeds 100 units per 100 units of solids of the release agent primarily composed of dimethylpolysiloxane, the release agent primarily composed of dimethylpolysiloxane will be transferred to the surface of the adhesive layer along with the polyether-modified silicone and antistatic agent, potentially reducing the adhesive properties of the adhesive.
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルム10の基材フィルム1に、粘着剤層2を形成する方法、及び剥離フィルム5を貼合する方法は、公知の方法で行えばよく、特に限定されない。具体的には、(1)基材フィルム1の片面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布、乾燥し粘着剤層を形成した後に、剥離フィルム5を貼合する方法、(2)剥離フィルム5の表面に、粘着剤層2を形成するための樹脂組成物を塗布・乾燥し粘着剤層を形成した後に、基材フィルム1を貼合する方法などが挙げられるが、いずれの方法を用いても良い。 The method for forming the adhesive layer 2 on the base film 1 and the method for laminating the release film 5 to the antistatic surface protection film 10 according to the present invention may be carried out by known methods and is not particularly limited. Specifically, examples include (1) a method of applying a resin composition for forming the adhesive layer 2 to one side of the base film 1, drying it to form the adhesive layer, and then laminating the release film 5; and (2) a method of applying a resin composition for forming the adhesive layer 2 to the surface of the release film 5, drying it to form the adhesive layer, and then laminating the base film 1. Any of these methods may be used.
また、基材フィルム1の表面に、粘着剤層2を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、リバースコーティング、コンマコーティング、グラビアコーティング、スロットダイコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Furthermore, the adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 can be formed by known methods. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating, and air knife coating can be used.
また、同様に、樹脂フィルム3に、剥離剤層4を形成するのは、公知の方法で行えばよい。具体的には、グラビアコーティング、メイヤーバーコーティング、エアーナイフコーティングなどの、公知の塗工方法を使用することができる。 Similarly, the release agent layer 4 on the resin film 3 can be formed using a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Meyer bar coating, and air knife coating can be used.
図2は、本発明の帯電防止表面保護フィルムから、剥離フィルムを剥がした状態を示す断面図である。
図1に示した帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5を剥がすことにより、剥離フィルム5の剥離剤層4に含まれる、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤(符号7)の一部が、帯電防止表面保護フィルム10の粘着剤層2の表面に、転写される(付着する)。そのため、図2においては、帯電防止表面保護フィルムの粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤を、符号7の斑点で模式的に示している。
本発明に係わる帯電防止表面保護フィルムでは、図2に示した剥離フィルムを剥がした状態の帯電防止表面保護フィルム11を、被着体に貼合するに当たり、この粘着剤層2の表面に転写された、20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤が、被着体の表面に接触する。そのことにより、再度、被着体から帯電防止表面保護フィルムを剥がす時の、剥離帯電圧を低く抑えることができる。
Figure 2 is a cross-sectional view showing the antistatic surface protective film of the present invention after the release film has been peeled off.
When the release film 5 is peeled off from the antistatic surface protection film 10 shown in Figure 1, a portion of the liquid silicone-based compound and antistatic agent (reference numeral 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5, which are liquid at 20°C, are transferred (adhered) to the surface of the adhesive layer 2 of the antistatic surface protection film 10. Therefore, in Figure 2, the liquid silicone-based compound and antistatic agent transferred to the surface of the adhesive layer 2 of the antistatic surface protection film, which are liquid at 20°C, are schematically shown as spots labeled reference numeral 7.
In the antistatic surface protection film according to the present invention, when the antistatic surface protection film 11, which has had the release film shown in Figure 2 peeled off, is bonded to an adherend, the silicone-based compound and antistatic agent, which are liquid at 20°C and transferred to the surface of the adhesive layer 2, come into contact with the surface of the adherend. As a result, the peel voltage when peeling the antistatic surface protection film from the adherend again can be kept low.
図3は、本発明の光学部品の実施例を示した断面図である。
本発明の帯電防止表面保護フィルム10から、剥離フィルム5が剥がされて、粘着剤層2が表出した状態で、その粘着剤層2を介して被着体である光学部品8に貼合される。
すなわち、図3には、本発明の帯電防止表面保護フィルム10が貼合された光学部品20を示している。光学部品としては、偏光板、位相差板、レンズフィルム、位相差板兼用の偏光板、レンズフィルム兼用の偏光板などの光学用フィルムが挙げられる。このような光学部品は、液晶表示パネルなどの液晶表示装置、各種計器類の、光学系装置等の構成部材として使用される。また、光学部品としては、反射防止フィルム、ハードコートフィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムなどの、光学用フィルムも挙げられる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、低反射処理偏光板(LR偏光板)やアンチグレア低反射処理偏光板(AG-LR偏光板)などの光学用フィルムの、防汚染処理した面に貼合される、帯電防止表面保護フィルムとして好適に使用することができる。
本発明の光学部品によれば、帯電防止表面保護フィルム10を、被着体である光学部品(光学用フィルム)から剥離除去するとき、剥離帯電圧を充分に低く抑制することができるので、ドライバーIC、TFT素子、ゲート線駆動回路などの回路部品を破壊する恐れがなく、液晶表示パネル等を製造する工程での生産効率を高め、生産工程の信頼性を保つことができる。
Figure 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.
The release film 5 is peeled off from the antistatic surface protective film 10 of the present invention, exposing the adhesive layer 2, and the film is then bonded to the optical component 8, which is the object to be adhered to, via the adhesive layer 2.
Specifically, Figure 3 shows an optical component 20 to which the antistatic surface protection film 10 of the present invention is laminated. Examples of optical components include polarizing plates, phase difference plates, lens films, polarizing plates that also function as phase difference plates, and polarizing plates that also function as lens films. Such optical components are used as components of optical systems for liquid crystal display devices such as liquid crystal display panels, and various instruments. Examples of optical components also include optical films such as anti-reflective films, hard coat films, and transparent conductive films for touch panels. In particular, the antistatic surface protection film can be suitably used as a laminate to the anti-fouling treated surface of optical films such as low-reflection polarizing plates (LR polarizing plates) and anti-glare low-reflection polarizing plates (AG-LR polarizing plates), whose surfaces are treated with anti-fouling agents such as silicone compounds or fluorine compounds.
According to the optical component of the present invention, when the antistatic surface protective film 10 is peeled off from the adherend, the peeling voltage can be suppressed to a sufficiently low level. Therefore, there is no risk of damaging circuit components such as driver ICs, TFT elements, and gate line drive circuits, thereby increasing production efficiency in the process of manufacturing liquid crystal display panels and the like, and maintaining the reliability of the production process.
次に、実施例により、本発明をさらに説明する。 Next, the present invention will be further explained with reference to examples.
<粘着剤組成物の製造>
[実施例1]
撹拌機、温度計、還流冷却器及び窒素導入管を備えた反応装置に、窒素ガスを導入して、反応装置内の空気を窒素ガスで置換した。その後、反応装置に2-エチルヘキシルアクリレート100重量部、8-ヒドロキシオクチルアクリレート3.0重量部、ポリプロピレングリコールモノアクリレート(ポリアルキレングリコール鎖を構成するアルキレンオキサイドの平均繰り返し数n=12)10重量部とともに溶剤(酢酸エチル)を60重量部加えた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.1重量部を2時間かけて滴下させ、65℃で6時間反応させ、重量平均分子量50万の、実施例1のアクリル共重合体溶液を得た。このアクリル共重合体溶液に対して、アセチルアセトン8.5重量部を加え撹拌したのち、コロネートHX(ヘキサメチレンジイソシアネート化合物のイソシアヌレート体)を2.0重量部、チタニウムトリスアセチルアセトネート0.1重量部を加えて撹拌混合して実施例1の粘着剤組成物を得た。
<Manufacturing of adhesive compositions>
[Example 1]
Nitrogen gas was introduced into a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen inlet tube to replace the air in the reactor with nitrogen gas. Then, 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 3.0 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, 10 parts by weight of polypropylene glycol monoacrylate (average repeat number n=12 of alkylene oxides constituting the polyalkylene glycol chain) were added to the reactor along with 60 parts by weight of solvent (ethyl acetate). Subsequently, 0.1 parts by weight of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours as a polymerization initiator, and the reaction was carried out at 65°C for 6 hours to obtain the acrylic copolymer solution of Example 1 with a weight-average molecular weight of 500,000. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred, and then 2.0 parts by weight of Coronate HX (isocyanurate of a hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 parts by weight of titanium trisacetylacetonate were added and stirred to obtain the adhesive composition of Example 1.
[実施例2~6及び比較例1~2]
実施例1の粘着剤組成物の組成を各々、表1及び表2の記載のようにした以外は、実施例1と同様にして、実施例2~6及び比較例1~2の粘着剤組成物を得た。
[Examples 2-6 and Comparative Examples 1-2]
Except for the composition of the adhesive composition of Example 1 being as described in Tables 1 and 2, the adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 2 were obtained in the same manner as in Example 1.
表1及び表2は、各成分の配合比を示す一体の表を2つに分けたものであり、いずれも(A)群の合計を100重量部として求めた重量部の数値を括弧で囲んで示す。また、表1及び表2に用いた各成分の略記号の化合物名を、表3及び表4に示す。なお、コロネート(登録商標)HX、同HL及び同Lは日本ポリウレタン工業株式会社の商品名であり、タケネート(登録商標)D-140N、D-127N、D-110Nは三井化学株式会社の商品名であり、デスモジュール(登録商標)N3400は住化バイエルウレタン株式会社の商品名である。 Tables 1 and 2 are two separate tables showing the mixing ratios of each component. In both tables, the values in parts by weight are shown in parentheses, calculated with the total of group (A) set at 100 parts by weight. Tables 3 and 4 show the compound names of the abbreviated symbols used for each component in Tables 1 and 2. Note that Coronate® HX, HL, and L are product names of Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Takenate® D-140N, D-127N, and D-110N are product names of Mitsui Chemicals, Inc., and Desmodule® N3400 is a product name of Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.
<2官能イソシアネート化合物の合成>
合成例1,2の、2官能イソシアネート化合物は、下記の方法で合成した。表5及び表6に示すように、ジイソシアネートとジオール化合物を、モル比:NCO/OH=16の比率で混合し、120℃で3時間反応させ、その後、薄膜蒸発装置を使用して減圧下で未反応のジイソシアネートを除去し、目的の2官能イソシアネート化合物を得た。
<Synthesis of bifunctional isocyanate compounds>
The bifunctional isocyanate compounds in Synthesis Examples 1 and 2 were synthesized by the following method. As shown in Tables 5 and 6, diisocyanate and diol compounds were mixed in a molar ratio of NCO/OH = 16 and reacted at 120°C for 3 hours. Then, unreacted diisocyanate was removed under reduced pressure using a thin-film evaporator to obtain the desired bifunctional isocyanate compounds.
<帯電防止表面保護フィルムの作製>
[実施例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX-345)5重量部、ポリエーテル変性シリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SH8400)0.15重量部、過塩素酸リチウム10%酢酸エチル溶液5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX-212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、実施例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、実施例1の剥離フィルムを得た。
実施例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、実施例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、実施例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
<Manufacturing of antistatic surface protective film>
[Example 1]
A coating for forming the release agent layer of Example 1 was prepared by mixing 5 parts by weight of addition-type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 0.15 parts by weight of polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400), 5 parts by weight of 10% lithium perchlorate ethyl acetate solution, 95 parts by weight of a 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and 0.05 parts by weight of platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 catalyst) and stirring. The coating for forming the release agent layer of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm using a meyer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and the film was dried in a hot air circulating oven at 120°C for 1 minute to obtain the release film of Example 1.
The adhesive composition of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm to a dry thickness of 20 μm, and then dried in a hot air circulating oven at 100°C for 2 minutes to form an adhesive layer. Subsequently, the release layer (silicone-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was laminated to the surface of this adhesive layer. The resulting adhesive film was kept warm in a 40°C environment for 5 days to cure the adhesive, and the antistatic surface protective film of Example 1 was obtained.
[実施例2~6]
実施例1の粘着剤組成物を各々、実施例2~6の粘着剤組成物にした以外は、実施例1と同様にして、実施例2~6の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Examples 2-6]
The antistatic surface protective films of Examples 2 to 6 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the adhesive composition of Example 1 was replaced with the adhesive compositions of Examples 2 to 6, respectively.
[比較例1]
付加反応型のシリコーン(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX-345)5重量部、トルエンと酢酸エチルの1:1の混合溶媒95重量部、及び白金触媒(東レダウコーニング(株)製、品名:SRX-212キャタリスト)0.05重量部を混ぜ合わせて撹拌・混合して、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を調整した。厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、比較例1の剥離剤層を形成する塗料を、乾燥後の厚さが0.2μmになるようにメイヤバーにて塗布し、120℃の熱風循環式オーブンにて1分間乾燥し、比較例1の剥離フィルムを得た。
比較例1の粘着剤組成物を、厚みが38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように、塗布した後、100℃の熱風循環式オーブンにて2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、この粘着剤層の表面に、上記にて作製した、比較例1の剥離フィルムの剥離剤層(シリコーン処理面)を貼合した。得られた粘着フィルムを40℃の環境下で5日間保温し、粘着剤を硬化させて、比較例1の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
A coating for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was prepared by mixing 5 parts by weight of addition-type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 95 parts by weight of a 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and 0.05 parts by weight of platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 catalyst) and stirring. The coating for forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm using a meyer bar so that the thickness after drying would be 0.2 μm, and the film was dried in a hot air circulating oven at 120°C for 1 minute to obtain the release film of Comparative Example 1.
The adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 38 μm to a dry thickness of 20 μm, and then dried in a hot air circulating oven at 100°C for 2 minutes to form an adhesive layer. Subsequently, the release layer (silicone-treated surface) of the release film of Comparative Example 1, prepared as described above, was laminated to the surface of this adhesive layer. The resulting adhesive film was kept warm in a 40°C environment for 5 days to cure the adhesive, and the antistatic surface protective film of Comparative Example 1 was obtained.
[比較例2]
比較例1の粘着剤組成物を、比較例2の粘着剤組成物にした以外は、比較例1と同様にして、比較例2の帯電防止表面保護フィルムを得た。
[Comparative Example 2]
The antistatic surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the adhesive composition of Comparative Example 1 was replaced with the adhesive composition of Comparative Example 2.
表7に、実施例1~6及び比較例1,2の帯電防止表面保護フィルムにおける、剥離剤層の組成及び厚さを示す。 Table 7 shows the composition and thickness of the release agent layer in the antistatic surface protective films of Examples 1-6 and Comparative Examples 1 and 2.
<試験方法及び評価>
実施例1~6、及び比較例1,2における表面保護フィルムを、23℃、50%RHの雰囲気下で7日間エージングした後、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして、粘着剤層を表出させたものを、表面抵抗率の測定試料とした。
さらに、この粘着剤層を表出させた表面保護フィルムを、粘着剤層を介して液晶セルに貼られた偏光板の表面に貼り合わせ、1日放置した後、50℃、5気圧、20分間オートクレーブ処理し、室温でさらに12時間放置したものを、粘着力、剥離帯電圧、及びリワーク性の測定試料とした。
<Testing Methods and Evaluation>
The surface protective films from Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were aged for 7 days in an atmosphere of 23°C and 50% RH. After that, the release film (silicone resin-coated PET film) was peeled off to expose the adhesive layer, and these were used as samples for surface resistivity measurement.
Furthermore, this surface protection film with the adhesive layer exposed was bonded to the surface of a polarizing plate attached to a liquid crystal cell via the adhesive layer, left for one day, then autoclaved at 50°C and 5 atmospheres for 20 minutes, and left at room temperature for another 12 hours. This was used as a sample for measuring adhesive strength, peel voltage, and reworkability.
<粘着力>
上記で得られた測定試料(25mm幅の表面保護フィルムを偏光板の表面に貼り合わせたもの)を、180°方向に引張試験機を用いて低速の剥離速度(0.3m/min)及び高速の剥離速度(30m/min)において剥がして、測定した剥離強度を粘着力とした。
<Adhesive strength>
The sample obtained above (a 25 mm wide surface protective film laminated onto the surface of a polarizing plate) was peeled off in the 180° direction using a tensile testing machine at a low peeling speed (0.3 m/min) and a high peeling speed (30 m/min), and the measured peel strength was defined as the adhesive strength.
<表面抵抗率>
エージングした後、偏光板に貼り合わせる前に、剥離フィルム(シリコーン樹脂コートされたPETフィルム)を剥がして粘着剤層を表出し、抵抗率計ハイレスタUP-HT450(三菱化学アナリテック製)を用いて粘着剤層の表面抵抗率を測定した。
<Surface resistivity>
After aging, before bonding to the polarizing plate, the release film (silicone resin-coated PET film) was peeled off to expose the adhesive layer, and the surface resistivity of the adhesive layer was measured using a resistivity meter, Hi-Resta UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytec).
<剥離帯電圧>
上記で得られた測定試料を、30m/minの引張速度で180°剥離した際に偏光板が帯電して発生する電圧(帯電圧)を、高精度静電気センサSK-035、SK-200(株式会社キーエンス製)を用いて測定し、測定値の最大値を剥離帯電圧とした。
<Strip voltage>
The voltage (band voltage) generated when the polarizing plate becomes charged during the peeling of the sample obtained above at a tensile speed of 30 m/min at 180° was measured using high-precision electrostatic sensors SK-035 and SK-200 (manufactured by Keyence Corporation), and the maximum value of the measured value was defined as the peeled band voltage.
<リワーク性>
上記で得られた測定試料の、表面保護フィルムの上をボールペンで(荷重500g、3往復)なぞった後、偏光板から表面保護フィルムを剥離して偏光板の表面を観察し、偏光板に汚染移行の無いことを確認した。評価目標基準は、偏光板に汚染移行の無い場合を「○」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って少なくとも一部に汚染移行が確認された場合を「△」、ボールペンでなぞった軌跡に沿って汚染移行が確認され、粘着剤表面からも粘着剤の離脱が確認された場合を「×」と評価した。
<Reworkability>
After tracing the surface protective film of the measurement sample obtained above with a ballpoint pen (load 500g, 3 back-and-forth strokes), the surface protective film was peeled off the polarizing plate and the surface of the polarizing plate was observed to confirm that there was no contamination transfer to the polarizing plate. The evaluation criteria were as follows: "○" if there was no contamination transfer to the polarizing plate, "△" if contamination transfer was confirmed at least partially along the traced path of the ballpoint pen, and "×" if contamination transfer was confirmed along the traced path of the ballpoint pen and the adhesive was also confirmed to have detached from the adhesive surface.
表8に、評価結果を示す。なお、表面抵抗率は、「m×10+n」を「mE+n」とする方式(ただし、mは任意の実数値、nは正の整数)により表記した。 Table 8 shows the evaluation results. Surface resistivity is expressed using the formula "mE + n" instead of "m × 10 + n " (where m is an arbitrary real number and n is a positive integer).
表8に示した測定結果から、以下のことが分かる。
本発明に係わる実施例1~6の帯電防止表面保護フィルムは、適度な粘着力があり、被着体の表面に対する汚染がなく、かつ、帯電防止表面保護フィルムを被着体から剥離した時の剥離帯電圧が低い。
一方、シリコーン化合物および帯電防止剤を粘着剤層に添加した比較例1の帯電防止表面保護フィルムは、粘着剤層の表面抵抗率は低く良好であるが、粘着力が大きいため、剥離帯電圧は高く、リワーク性に劣るものであった。また、比較例2では、適度な粘着力があるものの、粘着剤層の表面抵抗率が高いため、剥離帯電圧は高く、リワーク性に劣るものであった。
すなわち、粘着剤に、シリコーン化合物と帯電防止剤とを混合させた比較例1、2では、剥離帯電圧の低減と被着体に対する汚染性を両立することが難しい。他方、剥離剤層に、シリコーン化合物および帯電防止剤を添加した後、粘着剤層の表面に、シリコーン化合物および帯電防止剤を転写させた実施例1~6では、少量の添加量で剥離帯電圧の低減効果があるため、被着体に対する汚染もなく、良好な帯電防止表面保護フィルムが得られた。
The following can be seen from the measurement results shown in Table 8.
The antistatic surface protection films of Examples 1 to 6 according to the present invention have appropriate adhesive strength, do not contaminate the surface of the adherend, and have a low peel voltage when the antistatic surface protection film is peeled off from the adherend.
On the other hand, the antistatic surface protection film of Comparative Example 1, in which a silicone compound and an antistatic agent were added to the adhesive layer, had a low and good surface resistivity of the adhesive layer, but due to its high adhesive strength, the peel voltage was high and its reworkability was poor. In Comparative Example 2, although it had moderate adhesive strength, the high surface resistivity of the adhesive layer resulted in a high peel voltage and poor reworkability.
In other words, in Comparative Examples 1 and 2, where a silicone compound and an antistatic agent were mixed in the adhesive, it was difficult to achieve both a reduction in the release voltage and contamination of the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6, where a silicone compound and an antistatic agent were added to the release agent layer and then transferred to the surface of the adhesive layer, a small amount of additive was sufficient to reduce the release voltage, resulting in no contamination of the adherend and a good antistatic surface protective film.
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、例えば、偏光板、位相差板、ディスプレイ用のレンズフィルム、などの光学用フィルム、その他、各種の光学部品等の生産工程などにおいて、該光学部品等の表面を保護するために用いることができる。特に、表面がシリコーン化合物やフッ素化合物などで防汚染処理してある、LR偏光板やAG-LR偏光板などの光学用フィルムの帯電防止表面保護フィルムとして使用する場合には、被着体から剥離する時に、静電気の発生量を少なくすることができる。
本発明の帯電防止表面保護フィルムは、被着体に対する汚染が少なくさらには、経時劣化しないで優れた剥離帯電防止性能を有することから生産工程の歩留まりを向上させることができ、産業上の利用価値が大である。
The antistatic surface protection film of the present invention can be used, for example, to protect the surface of optical films such as polarizers, phase difference plates, and lens films for displays, as well as various other optical components, in production processes. In particular, when used as an antistatic surface protection film for optical films such as LR polarizers and AG-LR polarizers whose surfaces have been treated with anti-fouling agents such as silicone compounds or fluorine compounds, the amount of static electricity generated when peeling the film from the adherend can be reduced.
The antistatic surface protective film of the present invention has great industrial value because it causes minimal contamination of the adherend, does not deteriorate over time, and possesses excellent peel-resistant antistatic properties, thereby improving the yield of the production process.
1…基材フィルム、2…粘着剤層、3…樹脂フィルム、4…剥離剤層、5…剥離フィルム、7…20℃において液体のシリコーン系化合物および帯電防止剤、8…被着体(光学部品)、10…帯電防止表面保護フィルム、11…剥離フィルムを剥がした帯電防止表面保護フィルム、20…帯電防止表面保護フィルムを貼合した光学部品。 1…Base film, 2…Adhesive layer, 3…Resin film, 4…Release layer, 5…Release film, 7…Liquid silicone compound and antistatic agent at 20°C, 8…Substrate (optical component), 10…Antistatic surface protection film, 11…Antistatic surface protection film with release film removed, 20…Optical component with antistatic surface protection film laminated to it.
Claims (2)
前記粘着剤層が、アクリル系ポリマーと、架橋剤とを含有する粘着剤組成物を架橋させて形成されてなり、
前記アクリル系ポリマーが、(A)アルキル基の炭素数が、C4~C18の(メタ)アクリル酸エステルモノマーの少なくとも1種と、(B)水酸基を含有する共重合可能なモノマーと、共重合可能なモノマー群として、(C)カルボキシル基を含有する共重合可能なモノマーと、(D)ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリル酸エステルモノマーと、(E)水酸基を含有しない窒素含有ビニルモノマーまたは水酸基を含有しないアルコキシ基含有アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、からなる共重合可能なモノマー群の中から選択された少なくとも1種と、を共重合させた共重合体からなり、
前記架橋剤が、2官能以上のイソシアネート化合物であり、
前記剥離フィルムが、樹脂フィルムの片面に帯電防止剤を含有する剥離剤層が積層されてなり、
前記剥離剤層が、ジメチルポリシロキサンを主成分とする剥離剤と、20℃において液体のシリコーン系化合物としてポリエーテル変性シリコーンと、帯電防止剤とを含む樹脂組成物により形成されており、
前記剥離剤層に含まれている前記シリコーン系化合物および前記帯電防止剤が、前記粘着剤層の表面のみに転写され、前記粘着剤層の内部には、帯電防止剤が含有されていないとともに、前記粘着剤層の、低速の剥離速度0.3m/minでの粘着力が0.05~0.1N/25mmであり、高速の剥離速度30m/minでの粘着力が1.0N/25mm以下であり、前記粘着剤層の表面抵抗率が3.41×10+11Ω/□以下であり、前記粘着剤層の剥離帯電圧が±0.6kV以下であることを特徴とする帯電防止表面保護フィルム。 An antistatic surface protection film having an adhesive layer formed on one side of a base film, with a release film laminated on the adhesive layer,
The adhesive layer is formed by crosslinking an adhesive composition containing an acrylic polymer and a crosslinking agent.
The acrylic polymer is a copolymer obtained by copolymerizing (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms in its alkyl group, (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and at least one selected from a copolymerizable monomer group consisting of (C) a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (D) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, and (E) a nitrogen-containing vinyl monomer that does not contain a hydroxyl group or an alkoxy-group-containing alkyl (meth)acrylate monomer that does not contain a hydroxyl group.
The crosslinking agent is a bifunctional or more isocyanate compound.
The aforementioned release film is formed by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one side of a resin film.
The aforementioned release agent layer is formed from a resin composition containing a release agent mainly composed of dimethylpolysiloxane, a polyether-modified silicone as a liquid silicone compound at 20°C, and an antistatic agent.
An antistatic surface protective film characterized in that the silicone compound and the antistatic agent contained in the release agent layer are transferred only to the surface of the adhesive layer, the interior of the adhesive layer does not contain the antistatic agent, the adhesive strength of the adhesive layer is 0.05 to 0.1 N/25 mm at a low peeling speed of 0.3 m/min, the adhesive strength of the adhesive layer is 1.0 N/25 mm or less at a high peeling speed of 30 m/min, the surface resistivity of the adhesive layer is 3.41 × 10 + 11 Ω/□ or less, and the peel band voltage of the adhesive layer is ±0.6 kV or less.
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Citations (6)
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| JP2011178828A (en) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Marubishi Oil Chem Co Ltd | Antistatic release agent composition |
| JP2013235024A (en) | 2012-05-02 | 2013-11-21 | Fujimori Kogyo Co Ltd | Surface protective film and optical component laminated with the film |
| JP2013244667A (en) | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Fujimori Kogyo Co Ltd | Release film for adhesive film and adhesive film using the same |
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