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JP6733966B2 - Board assembly apparatus and board assembly method - Google Patents
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Description

本発明は、真空中で基板を貼り合わせる液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等を製造する基板組立装置及び基板組立方法に関する。 The present invention relates to a substrate assembling apparatus and a substrate assembling method for manufacturing a liquid crystal display, an organic EL display, or the like that bonds substrates in a vacuum.

真空中で基板を貼り合わせる基板組立装置に係る技術として、例えば、特許文献1では、真空引き工程中に、上基板を上下動させることで、上基板と下基板間の離間距離を変動させことで、上基板と下基板との間から気体を効率よく排除する基板組立装置が開示されている。
また、特許文献2では、テーブルへ帯電防止手段を備えたワーク貼り合わせ装置が提案されている。
特許文献3には、テーブルの断熱圧縮・温度変化による歪を低減すべく、ワークの非貼合面と接触する第1及び第2保持部材の表面に凸状部及び凹状部を複数形成し、減圧時(真空引き時)の排気を良好にすることで、微小空間における断熱膨張または断熱圧縮による温度変化のワークへの影響を抑制する真空貼り合わせ装置が開示されている。
As a technique relating to a substrate assembling apparatus that bonds substrates in a vacuum, for example, in Patent Document 1, by moving an upper substrate up and down during a vacuuming process, a separation distance between the upper substrate and a lower substrate is changed. Then, a substrate assembling apparatus that efficiently removes gas from between the upper substrate and the lower substrate is disclosed.
Further, Patent Document 2 proposes a work bonding apparatus having a table with an antistatic means.
In Patent Document 3, in order to reduce distortion due to adiabatic compression/temperature change of the table, a plurality of convex portions and concave portions are formed on the surfaces of the first and second holding members that contact the non-bonding surface of the work, There is disclosed a vacuum bonding device that suppresses the influence of temperature change due to adiabatic expansion or adiabatic compression in a minute space on a work by improving exhaust during depressurization (during vacuuming).

また、特許文献4では、減圧下で下テーブル側の残留空気膨張による下基板位置ずれの問題を改善するためシート面に凹凸や溝を形成した基板組立装置が開示されている。
特許文献5には、剥離ピン上下機構や粘着パッド上下機構にてずれが発生せず精度良く貼り合わせを行える基板組立装置が開示されている。
Further, Patent Document 4 discloses a substrate assembling apparatus in which unevenness and grooves are formed on a sheet surface in order to improve the problem of displacement of the lower substrate due to residual air expansion on the lower table side under reduced pressure.
Patent Document 5 discloses a substrate assembling apparatus capable of performing accurate bonding without causing a shift in the peeling pin up/down mechanism or the adhesive pad up/down mechanism.

特開2017−80868号公報JP, 2017-80868, A 特許5654155号公報Japanese Patent No. 5654155 特許6255546号公報Japanese Patent No. 6255546 特開2003−283185号公報JP, 2003-283185, A 特開2005−134687号公報JP, 2005-134687, A

しかしながら、近年、真空中で貼り合わせるガラス基板の大型化が進み、特許文献1乃至特許文献3に開示される組立装置では、真空引き時のテーブル溝内等に残留する空気が、高速で排気されることによる静電気発生、或いは、ガラス基板に生ずる撓みが懸念される。 However, in recent years, the size of glass substrates to be bonded in a vacuum has been increasing, and in the assembling apparatus disclosed in Patent Documents 1 to 3, air remaining in the table groove or the like during vacuuming is exhausted at high speed. There is concern that static electricity may be generated or the glass substrate may be bent.

また、特許文献4及び特許文献5に開示される組立装置においても、高速化に伴う基板上昇動作での撓みの発生が危惧される。 Further, in the assembling apparatuses disclosed in Patent Documents 4 and 5, there is a concern that the substrate may be bent during the ascending operation due to the increase in speed.

そこで、本発明は、基板の撓みを低減し得る基板組立装置及び基板組立方法を提供する。 Therefore, the present invention provides a board assembling apparatus and a board assembling method capable of reducing the bending of the board.

上記課題を解決するため、本発明に係る基板組立装置は、一方の基板を下テーブル上に保持し、他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持し、いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う基板組立装置であって、粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させ、前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする。 To solve the above problems, engaging Ru board assembling apparatus of the present invention holds the one of the substrates on the lower table, and holds the other substrate is opposed to the one of the substrate on the table, either one A substrate assembling apparatus for adhering in a vacuum chamber with an adhesive provided on a substrate of the substrate, comprising: a coarsely arranged first lifter and a densely arranged second lifter; The second lifter is capable of penetrating the lower table, and after raising the substrate by a predetermined amount by the second lifter, further raising the substrate by the first lifter . The second lifter has a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, the purge gas or the atmosphere is discharged from the gap between the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. There characterized that you entering into the back surface of the substrate.

本発明に係る他の基板組立装置は、前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量よりも大きいことを特徴とする。 Another substrate assembling apparatus according to the present invention is characterized in that a lift amount of the substrate by the first lifter is larger than a lift amount of the substrate by the second lifter.

本発明に係る他の基板組立装置は、前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量の略33倍から200倍であることを特徴とする。 Another substrate assembling apparatus according to the present invention is characterized in that an ascending amount of the substrate by the first lifter is approximately 33 to 200 times an ascending amount of the substrate by the second lifter.

また、本発明に係る基板組立方法は、一方の基板を下テーブル上に保持する工程と、他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持する工程と、いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う工程と、を有する基板組立方法であって、粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させ、前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする。 Further, engagement Ru board assembling method of the present invention includes the step of holding one of the substrates on the lower table, a step of holding said is opposed to one substrate on the table the other substrate, one of the A method of assembling a substrate, the method comprising: bonding a substrate in a vacuum chamber with an adhesive provided on the substrate, wherein the first lifter is arranged roughly and the second lifter is arranged densely. The second lifter is capable of penetrating the lower table, and after raising the substrate by a predetermined amount by the second lifter, further raising the substrate by the first lifter , Has a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, a gap between the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. purge gas or air is characterized that you entering into the back surface of the substrate from.

本発明によれば、ガラス基板の撓みを低減し得る基板組立装置及び基板組立方法を提供することが可能となる。
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
According to the present invention, it is possible to provide a substrate assembling apparatus and a substrate assembling method that can reduce the bending of a glass substrate.
Problems, configurations, and effects other than those described above will be clarified by the following description of the embodiments.

本発明の一実施例に係る実施例1の基板組立装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the board|substrate assembly apparatus of Example 1 which concerns on one Example of this invention. 図1に示す基板組立装置を構成する案内機構の説明図である。It is explanatory drawing of the guide mechanism which comprises the board|substrate assembly apparatus shown in FIG. 粘着ピン機構の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of an adhesive pin mechanism. 図3に示す上テーブル及び下テーブル表面の弾性体の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the elastic body of the upper table and the lower table shown in FIG. 図1に示す基板組立装置の動作フローを示すフローチャートである。3 is a flowchart showing an operation flow of the board assembling apparatus shown in FIG. 1. 本発明の他の実施例に係る実施例2の基板組立装置の概略図であって、下テーブルの上面図及び側面図である。It is the schematic of the board|substrate assembly apparatus of Example 2 which concerns on the other Example of this invention, Comprising: It is a top view and side view of a lower table. 実施例2の基板組立装置の動作フローを示すフローチャートである。9 is a flowchart showing an operation flow of the board assembling apparatus according to the second embodiment. 図6に示す第2のリフタにより下ガラス基板を所定量上昇させた状態を示す縦断面図である。FIG. 7 is a vertical cross-sectional view showing a state where the lower glass substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter shown in FIG. 6. 図6に示す第1のリフタにより下ガラス基板を所定量上昇させた状態を示す縦断面図である。FIG. 7 is a vertical cross-sectional view showing a state where the lower glass substrate is raised by a predetermined amount by the first lifter shown in FIG. 6.

本明細書では、真空中で貼り合わせる基板としてガラス基板を一例に説明するが、貼り合わせる基板はガラス基板に限られるものではない。
以下、図面を用いて本発明の実施例について説明する。
In this specification, a glass substrate is described as an example of a substrate to be bonded in vacuum, but the substrate to be bonded is not limited to a glass substrate.
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施例に係る実施例1の基板組立装置の概略構成図である。図1に示すように、基板組立装置1は、架台15と上フレーム5を剛体支持部材として、その内側に上チャンバ7と下チャンバ8を備えている。なお、上フレーム5は架台15側に設けたZ軸駆動機構2を構成するZ軸駆動モータ2aのボールネジ2bを回転駆動することで、上フレーム5に設けたボールネジ受け部2cを介して上フレーム5が架台15に対して上下方向に移動する構成としてある。上フレーム5が上下動する際の案内機構3は4組設けられている。
図2に、図1に示す基板組立装置を構成する案内機構の説明図を示す。図2では、案内機構3の一部断面図を示している。図2に示すように、架台15側に固定された梁17に2つのリニアガイド3aを上フレーム5側に固定された梁18にリニア移動部3bが設けてある。図2に示すように一方の案内面が他方の案内面に対して垂直となるように組合わされている。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a board assembling apparatus according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the substrate assembly apparatus 1 includes a pedestal 15 and an upper frame 5 as a rigid support member, and an upper chamber 7 and a lower chamber 8 inside thereof. The upper frame 5 rotates the ball screw 2b of the Z-axis drive motor 2a that constitutes the Z-axis drive mechanism 2 provided on the pedestal 15 side, so that the upper frame 5 passes through the ball screw receiving portion 2c provided on the upper frame 5. 5 is configured to move vertically with respect to the pedestal 15. Four guide mechanisms 3 are provided when the upper frame 5 moves up and down.
FIG. 2 shows an explanatory view of a guide mechanism that constitutes the board assembling apparatus shown in FIG. FIG. 2 shows a partial cross-sectional view of the guide mechanism 3. As shown in FIG. 2, the beam 17 fixed to the gantry 15 side is provided with two linear guides 3a, and the beam 18 fixed to the upper frame 5 side is provided with a linear moving portion 3b. As shown in FIG. 2, one guide surface is assembled so as to be perpendicular to the other guide surface.

図1に戻り、架台15の上方には下テーブル10を支持するための複数の下シャフト12が取り付けてある。各下シャフト12は下チャンバ8内と気密性を保つため真空シール(図示せず)を介して下チャンバ8内に突出している。さらに各下シャフト12と下テーブル10の間にはXYθ方向にそれぞれ独立に可動可能なように構成されたXYθ移動ユニット13が取り付けてある。なお、XYθ移動ユニット13は、上下方向に固定で水平方向に自由に移動可能なボールベア等を使用した機構で構成しても良い。下テーブル10の水平方向(X,Y方向)に図示しない複数の下テーブル水平駆動機構が下チャンバ8の外側に設けてあり、駆動機構に設けた軸で下テーブル側面(下テーブルの厚み方向)を押すことでXYθ方向の位置決めを行えるように構成してある。
さらに、下チャンバ8と上チャンバ7は分割できる構成としてあり、その接続部には図示しないシールリングが設けてあり、これにより上チャンバ7及び下チャンバ8とを合体させ、内部を排気した時の空気の漏れを防止している。
Returning to FIG. 1, a plurality of lower shafts 12 for supporting the lower table 10 are attached above the pedestal 15. Each lower shaft 12 projects into the lower chamber 8 via a vacuum seal (not shown) to maintain airtightness with the lower chamber 8. Further, an XYθ moving unit 13 configured to be independently movable in the XYθ directions is attached between each lower shaft 12 and the lower table 10. The XYθ moving unit 13 may be configured by a mechanism that uses a ball bear or the like that is fixed in the vertical direction and is freely movable in the horizontal direction. A plurality of lower table horizontal drive mechanisms (not shown) are provided outside the lower chamber 8 in the horizontal direction (X, Y directions) of the lower table 10, and a side surface of the lower table (thickness direction of the lower table) is provided by a shaft provided in the drive mechanism. By pressing, positioning in the XYθ directions can be performed.
Further, the lower chamber 8 and the upper chamber 7 are configured so as to be separable, and a seal ring (not shown) is provided at the connecting portion thereof, whereby the upper chamber 7 and the lower chamber 8 are united, and when the inside is exhausted. Prevents air leakage.

上フレーム5とZ軸駆動機構2の接続部には、それぞれロードセル4が設けられている。上フレーム5の内側には、上チャンバ7が取り付けてある。上チャンバ7は上フレーム5から支持軸6cとブラケット7bにより、吊り下げられる構造になっており、上フレーム5を上下動させることによって、上チャンバ7を下チャンバ8より離間させることができる。また、上フレーム5には上テーブル9を支持するため、上チャンバ7内に向かって複数の上シャフト6が設けてある。上シャフト6と上チャンバ7間はチャンバ内の気密を保持するために真空シールで接続されている。さらに上テーブル9は上シャフト6に固定されており、ガラス基板を加圧した時の力をロードセル4で検知できる構造となっている。なお、Z軸駆動機構2は上チャンバ7及び上テーブル9を上下に移動できるようになっており、そのため、上チャンバ7を上フレーム5に設けた支持軸6cと、上テーブル9を上フレーム5に設けた支持軸(上シャフト6)とが別々に設けてある。そのため、上チャンバ7の支持軸6cは、上チャンバ7が下チャンバ8に合体すると、上チャンバ7から下チャンバ8に下側に移動する力が作用しないように、遊びのできる支持構成となっている。すなわち、上チャンバ7上部に所定の高さのブラケット7bを取り付け、そのブラケット7b内部に上チャンバ7の支持軸6cの先端にフランジ部が当たるようにしてある。上チャンバ7を持ち上げるときはこのブラケット7bに支持軸6cのフランジ部が接触(当接)して上チャンバ7及び上テーブル9が一体で上方向に移動できる。すなわち、上シャフト6を上昇させ、上テーブル9を上チャンバ7内で所定量上方に移動すると支持軸6cのフランジ部がブラケット7bに当接して、さらに上昇させると上テーブル9と上チャンバ7が一緒に上方に移動する構成となっている。また、上チャンバ7が下側に移動して下チャンバ8と一体になるまでは上チャンバ7と上テーブル9は一体で移動し、上チャンバ7及び下チャンバ8が一体になった後は上テーブル9が下テーブル10側に単独で移動できるようになっている。 A load cell 4 is provided at a connecting portion between the upper frame 5 and the Z-axis drive mechanism 2. Inside the upper frame 5, an upper chamber 7 is attached. The upper chamber 7 is structured to be suspended from the upper frame 5 by the support shaft 6c and the bracket 7b. By vertically moving the upper frame 5, the upper chamber 7 can be separated from the lower chamber 8. Further, the upper frame 5 is provided with a plurality of upper shafts 6 toward the inside of the upper chamber 7 for supporting the upper table 9. A vacuum seal is connected between the upper shaft 6 and the upper chamber 7 in order to maintain airtightness inside the chamber. Further, the upper table 9 is fixed to the upper shaft 6 and has a structure in which the load cell 4 can detect the force when the glass substrate is pressed. The Z-axis drive mechanism 2 can move the upper chamber 7 and the upper table 9 up and down. Therefore, the support shaft 6c provided on the upper frame 5 for the upper chamber 7 and the upper table 9 for the upper table 9 are provided. The support shaft (upper shaft 6) provided in the above is separately provided. Therefore, the support shaft 6c of the upper chamber 7 has a playable support structure so that, when the upper chamber 7 is united with the lower chamber 8, the downward moving force from the upper chamber 7 does not act on the lower chamber 8. There is. That is, the bracket 7b having a predetermined height is attached to the upper portion of the upper chamber 7, and the flange portion contacts the tip of the support shaft 6c of the upper chamber 7 inside the bracket 7b. When the upper chamber 7 is lifted, the flange portion of the support shaft 6c contacts (abuts) the bracket 7b, so that the upper chamber 7 and the upper table 9 can be integrally moved upward. That is, when the upper shaft 6 is lifted and the upper table 9 is moved upward in the upper chamber 7 by a predetermined amount, the flange portion of the support shaft 6c comes into contact with the bracket 7b, and when it is further lifted, the upper table 9 and the upper chamber 7 are separated from each other. It is configured to move upward together. Further, the upper chamber 7 and the upper table 9 move integrally until the upper chamber 7 moves downward and becomes integral with the lower chamber 8, and after the upper chamber 7 and the lower chamber 8 become integral, 9 can be independently moved to the lower table 10 side.

また、上記のように本実施例では、上テーブル9及び下テーブル10は、上チャンバ7及び下チャンバ8とは離間して配置しているため、チャンバ内を減圧した時にチャンバは変形するが、この変形が上テーブル9及び下テーブル10に伝達することなく、ガラス基板を水平に保持することができる。 Further, as described above, in this embodiment, since the upper table 9 and the lower table 10 are arranged apart from the upper chamber 7 and the lower chamber 8, the chamber is deformed when the pressure inside the chamber is reduced, The glass substrate can be held horizontally without this deformation being transmitted to the upper table 9 and the lower table 10.

上テーブル9には鉄製の弾性体プレート11が設けてある。弾性体プレート11のガラス基板と接触する面全体には弾性体11aが設けてある。弾性体プレート11は上テーブル9に埋め込んだ複数の磁石の磁気力とネジ締結により固定し、交換可能に構成してある。ここで、上テーブル9は、例えば、アルミ合金製であり、また、図1では省略しているが、下テーブル10にも同様に鉄製の弾性体プレート11が設けてあり、弾性体プレート11のガラス基板と接触する面全体には弾性体11bが設けてある。なお、本実施例では、上テーブル9に弾性体プレート11及び弾性体11aを設け、下テーブル10に弾性体プレート11及び弾性体11bを設ける構成を示すが必ずしもこれに限られるものではない。すなわち、上テーブル9又は下テーブル10のいずれか一方のみに弾性体プレート及び弾性体を設ける構成としても良い。 An elastic plate 11 made of iron is provided on the upper table 9. An elastic body 11a is provided on the entire surface of the elastic body plate 11 that contacts the glass substrate. The elastic plate 11 is replaceable by being fixed by the magnetic force of a plurality of magnets embedded in the upper table 9 and screw fastening. Here, the upper table 9 is made of, for example, an aluminum alloy, and although omitted in FIG. 1, the lower table 10 is also provided with an elastic plate 11 made of iron. An elastic body 11b is provided on the entire surface in contact with the glass substrate. In this embodiment, the upper table 9 is provided with the elastic plate 11 and the elastic body 11a, and the lower table 10 is provided with the elastic plate 11 and the elastic body 11b. However, the present invention is not limited to this. That is, the elastic plate and the elastic body may be provided on only one of the upper table 9 and the lower table 10.

図3は、粘着ピン機構の概略説明図である。図3に示すように、上チャンバ7上或いは上フレーム5上には上テーブル9とは独立して動作することができる粘着ピン駆動機構14が設置されている。この粘着ピン駆動機構14は、上下駆動用モータ14a、粘着ピン14cを複数取り付けた粘着ピンプレート14b、及び粘着ピン上下機構14dから構成されている。粘着ピンプレート14b及び粘着ピン14cには真空吸着機構を有すると共に粘着ピン14cの先端には粘着シート14eが取り付けられている。また、粘着ピン14cは粘着ピンプレート14bに対して取り外せる構造(ネジ機構により着脱自在にしてある)となっており、交換可能である。粘着ピンプレート14b内は負圧を供給する負圧室と、負圧室から粘着ピン14cの中央部に設けた負圧流路(図示せず)が接続され、粘着ピン14cの先端に設けた開孔に負圧を供給できるようになっている。粘着ピン14cの先端部には開孔部を除いて粘着シート14eが設けてある。なお、粘着ピンプレート14bを上下に移動させる粘着ピン上下機構14dと上チャンバ7との間は蛇腹状の弾性体で接続され、これによって、真空状態を保持できるようにしてある。 FIG. 3 is a schematic explanatory view of the adhesive pin mechanism. As shown in FIG. 3, an adhesive pin drive mechanism 14 that can operate independently of the upper table 9 is installed on the upper chamber 7 or the upper frame 5. The adhesive pin drive mechanism 14 includes a vertical drive motor 14a, an adhesive pin plate 14b having a plurality of adhesive pins 14c attached thereto, and an adhesive pin up/down mechanism 14d. The adhesive pin plate 14b and the adhesive pin 14c have a vacuum suction mechanism, and an adhesive sheet 14e is attached to the tip of the adhesive pin 14c. Further, the adhesive pin 14c has a structure that can be removed from the adhesive pin plate 14b (it is detachable by a screw mechanism) and can be replaced. Inside the adhesive pin plate 14b, a negative pressure chamber for supplying a negative pressure and a negative pressure channel (not shown) provided in the central portion of the adhesive pin 14c from the negative pressure chamber are connected, and an opening provided at the tip of the adhesive pin 14c is connected. Negative pressure can be supplied to the holes. An adhesive sheet 14e is provided at the tip of the adhesive pin 14c except for the opening. The adhesive pin up-and-down mechanism 14d for moving the adhesive pin plate 14b up and down and the upper chamber 7 are connected by a bellows-like elastic body, whereby a vacuum state can be maintained.

図4は、図3に示す上テーブル9及び下テーブル10表面の弾性体(11a,11b)の縦断面図である。図4では、下テーブル10表面の弾性体11bの縦断面図を示しており、縦断面において上部にガラス基板の裏面が当接し得る構造となっている。従って、厳密には、上テーブル9表面の弾性体11aでは、図4に示す縦断面図の上下が反転することになる。また、図4では凸部及び凹部を有する弾性体の断面形状及びそれらの寸法の一例を示すため拡大図として示している。図4に示すように、下テーブル10表面の弾性体11bは、相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有する。凸部の高さは例えば25μm、凸部のピッチ(下テーブル10の幅方向に沿ったピッチ)は約500μmである。また、凸部の下テーブル10の幅方向に沿った長さは約460μmであり、凹部の下テーブル10の幅方向に沿った長さは約40μmである。また、このように相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有する弾性体(11a,11b)は、図示しないが、上面視、複数の凸部が正方格子状、三角格子状、或いは千鳥格子状に配されている。また、一方、上述のように近年、真空中で貼り合わせるガラス基板の大型化が進み、例えば、ガラス基板の寸法が3m×3mとなっている。従って、このようなガラス基板を保持する上テーブル9及び/又は下テーブル10の幅に対する、弾性体11a及び/又は弾性体11bの幅(上テーブル9及び/又は下テーブル10の幅方向に沿った幅)は、10−6から10−4の比率となる。
これにより、真空引き時の弾性体11a及び/又は弾性体11bの凹部(溝部)に残留する空気が排気される際に、大流量の気流が生じることを防止できる。換言すれば、細い排気流路が弾性体11a及び/又は弾性体11bの表面に複数形成されることになり、凹部(溝部)に残留する空気の排気を分散することが可能となる。そしてこの結果として、基板との摩擦帯電によるムラ発生の低減、急速な断熱膨張による温度低下によるムラ発生の防止、基板貼り合わせ精度の向上により、次世代高精細ディスプレイ製造における大型化・薄型化・微細パターン化に対し、色ムラの無いディスプレイ製造に貢献することが可能となる。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the elastic bodies (11a, 11b) on the surfaces of the upper table 9 and the lower table 10 shown in FIG. FIG. 4 shows a vertical cross-sectional view of the elastic body 11b on the surface of the lower table 10, and has a structure in which the back surface of the glass substrate can abut on the upper portion in the vertical cross section. Therefore, strictly speaking, in the elastic body 11a on the surface of the upper table 9, the vertical cross section shown in FIG. 4 is turned upside down. Further, FIG. 4 is an enlarged view showing an example of the cross-sectional shape of the elastic body having the convex portion and the concave portion and their dimensions. As shown in FIG. 4, the elastic body 11b on the surface of the lower table 10 has a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other. The height of the protrusions is, for example, 25 μm, and the pitch of the protrusions (the pitch along the width direction of the lower table 10) is about 500 μm. The length of the convex lower table 10 in the width direction is about 460 μm, and the length of the concave lower table 10 in the width direction is about 40 μm. Further, although not shown, the elastic bodies (11a, 11b) having a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other in this manner are top views, and the plurality of convex portions are in a square lattice shape, a triangular lattice shape, or a staggered pattern. They are arranged in a grid. On the other hand, in recent years, as described above, the size of glass substrates to be bonded in a vacuum is increasing, and the size of the glass substrate is 3 m×3 m, for example. Therefore, the width of the elastic body 11a and/or the elastic body 11b with respect to the width of the upper table 9 and/or the lower table 10 holding such a glass substrate (along the width direction of the upper table 9 and/or the lower table 10) The width) has a ratio of 10 −6 to 10 −4 .
Thereby, when the air remaining in the recesses (grooves) of the elastic body 11a and/or the elastic body 11b during evacuation is exhausted, it is possible to prevent a large flow rate of airflow from being generated. In other words, a plurality of thin exhaust passages are formed on the surface of the elastic body 11a and/or the elastic body 11b, and the exhaust air of the air remaining in the recess (groove) can be dispersed. As a result, by reducing the occurrence of unevenness due to frictional electrification with the substrate, preventing unevenness due to temperature drop due to rapid adiabatic expansion, and improving the bonding accuracy of the substrates, the size and thickness of next-generation high-definition displays can be made smaller and thinner. It is possible to contribute to the manufacture of a display with no color unevenness for forming a fine pattern.

なお、本実施例では、上テーブル9に弾性体プレート11及び弾性体11aを設け、下テーブル10に弾性体プレート11及び弾性体11bを設ける構成、或いは、上テーブル9又は下テーブル10のいずれか一方のみに弾性体プレート及び弾性体を設ける構成について説明したが、これに限られるものではない。例えば、アルミ合金製の上テーブル9のガラス基板を保持する面に、上述のように相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有するエンボスシートを接着剤にて貼付する構成としても良い。ここでエンボスシートは、例えばポリエチレンテレフタレート(polyethylene terephthalate:PETと称される)のシートにエンボス加工を施すことによって波型形状に形成される。また、同様に、アルミ合金製の下テーブル10のガラス基板を保持する面に、上述のように相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有するエンボスシートを接着剤にて貼付する構成としても良い。或いは、上テーブル9又は下テーブル10のいずれか一方のみにエンボスシートを接着剤にて貼付する構成としても良い。
このように、相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有するエンボスシートを用いることで、既存の基板組立装置を構成する上テーブル及び/又は下テーブルに上述のエンボスシートを接着剤にて貼付することのみで、本実施例の基板組立装置1を得ることが可能となる。
In this embodiment, the elastic plate 11 and the elastic body 11a are provided on the upper table 9, and the elastic plate 11 and the elastic body 11b are provided on the lower table 10, or either the upper table 9 or the lower table 10 is provided. Although the configuration in which the elastic plate and the elastic body are provided on only one side has been described, the present invention is not limited to this. For example, an embossed sheet having a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other as described above may be attached to the surface of the aluminum alloy upper table 9 holding the glass substrate with an adhesive. Here, the embossed sheet is formed in a corrugated shape by, for example, embossing a polyethylene terephthalate (referred to as PET) sheet. Further, similarly, as a configuration in which an embossed sheet having a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other as described above is attached to the surface of the lower table 10 made of aluminum alloy holding the glass substrate with an adhesive. Is also good. Alternatively, the embossed sheet may be attached to only one of the upper table 9 and the lower table 10 with an adhesive.
As described above, by using the embossed sheet having the plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other, the above-mentioned embossed sheet is bonded to the upper table and/or the lower table constituting the existing board assembling apparatus with an adhesive. The substrate assembling apparatus 1 of the present embodiment can be obtained only by sticking.

次に、基板組立装置1の動作について説明する。図5は、図1に示す基板組立装置1の動作フローを示すフローチャートである。
図5に示すように、ステップS11では、図示しないロボットハンドを用いて貼り合わせ面を下テーブル10側に向けた上ガラス基板を上テーブル9下面に搬入する。上テーブル9から図示しない複数の吸着サポートノズルと粘着ピン駆動機構14(図3)を下げて、まず上ガラス基板を吸着サポートノズル(図示せず)の先端に吸着する。その後、吸着サポートノズルの先端が粘着ピン面位置になるまで吸着サポートノズルを上昇し、粘着ピン14c(図3)に設けられた粘着ピン吸引吸着孔(図示せず)に負圧を供給し上ガラス基板を粘着シート14e面に保持する。なお、本実施例では粘着ピン機構とは別に吸着サポートノズルを用いる構成としたがこれに限らず、吸着サポートノズルを設けずに、粘着ピン14cのみを用いて吸引吸着・粘着保持する構成としても良い。粘着ピン14cの先端設けた粘着シート14eに上ガラス基板を保持した状態で粘着ピン14cを上昇させ上ガラス基板が上テーブル9に取り付けた弾性体プレート11の弾性体11a面に接触保持させる。
Next, the operation of the board assembly apparatus 1 will be described. FIG. 5 is a flowchart showing an operation flow of the board assembling apparatus 1 shown in FIG.
As shown in FIG. 5, in step S11, the upper glass substrate whose bonding surface faces the lower table 10 side is carried into the lower surface of the upper table 9 using a robot hand (not shown). The plurality of suction support nozzles (not shown) and the adhesive pin driving mechanism 14 (FIG. 3) are lowered from the upper table 9 to first suck the upper glass substrate onto the tip of the suction support nozzle (not shown). After that, the suction support nozzle is raised until the tip of the suction support nozzle reaches the position of the adhesive pin surface, and a negative pressure is supplied to the adhesive pin suction suction hole (not shown) provided in the adhesive pin 14c (FIG. 3). The glass substrate is held on the surface of the adhesive sheet 14e. In the present embodiment, the suction support nozzle is used separately from the adhesive pin mechanism. However, the present invention is not limited to this, and the suction support nozzle may not be provided and only the adhesive pin 14c may be used for suction suction/adhesion holding. good. With the upper glass substrate being held by the adhesive sheet 14e provided at the tip of the adhesive pin 14c, the adhesive pin 14c is lifted to bring the upper glass substrate into contact with and hold the elastic body 11a surface of the elastic plate 11 attached to the upper table 9.

ステップS12では、下ガラス基板面に環状に接着剤(シール剤)が塗布されて、その接着剤で囲まれた領域に適量の液晶を滴下された下ガラス基板を下テーブル10の位置までロボットハンドで搬入し、サポートピン上に載置する。なお、接着剤は、下ガラス基板に設けることに代えて、上ガラス基板側に設けても良く、上下両ガラス基板に設けても良い。 In step S12, a ring-shaped adhesive (sealant) is applied to the surface of the lower glass substrate, and the lower glass substrate on which an appropriate amount of liquid crystal has been dropped in the area surrounded by the adhesive is moved to the position of the lower table 10 by the robot hand. And load it on the support pin. Note that the adhesive may be provided on the upper glass substrate side instead of being provided on the lower glass substrate, or may be provided on both upper and lower glass substrates.

次に、サポートピンを先端部がテーブル面又はテーブル面より内側になるまで下テーブル10側に後退させ、下テーブル10に設けられた吸着孔に負圧を供給し保持する。なお、下テーブル10には静電吸着機構が設けてあり、チャンバ内を真空状態にした場合にもガラス基板がずれないように保持できるようにしてある。なお、下テーブル10も上テーブル9と同様に粘着ピン機構を設ける構成としても良い。この場合、粘着ピンの移動距離は上テーブル9に比べて小さく設定できる。 Next, the support pin is retracted to the lower table 10 side until the tip end is on the table surface or inside the table surface, and negative pressure is supplied to and held in the suction holes provided in the lower table 10. It should be noted that the lower table 10 is provided with an electrostatic adsorption mechanism so that the glass substrate can be held so as not to be displaced even when the chamber is evacuated. The lower table 10 may be provided with an adhesive pin mechanism like the upper table 9. In this case, the moving distance of the adhesive pin can be set smaller than that of the upper table 9.

ステップS13では、粘着ピン14c及び下テーブル10にそれぞれ上下ガラス基板を保持し終わると、Z軸駆動機構2を動作させて、上フレーム5及び上チャンバ7、上テーブル9を下降させ、上チャンバ7と下チャンバ8とをシールリングを介して合体させ真空チャンバを形成する。この動作と同期して粘着ピン駆動機構14も上下駆動用モータ14aと粘着ピン上下機構14dを使用して上テーブル9との位置関係が変化しないように下降させる。なお、この時上テーブル9に保持された上基板と下テーブル10に保持された下基板の対向面の間隔は数ミリ程度保っておき、上基板と下基板は接触させない。その後、図示していないが下チャンバ8側に設けた排気口から真空チャンバ内の空気を排気して真空チャンバ内を減圧する。真空チャンバ内が貼り合わせをするための減圧状態になると、下ユニット側に設けた焦点深度の深いカメラ(図示せず)を用いて上ガラス基板と下ガラス基板に予め設けてある位置決めマークのずれ量を求める。しかし、カメラの焦点深度の浅い場合は、カメラを上下動作させる機構を設けてまず上ガラス基板の位置決めマークを認識してからカメラを下方に移動させ下ガラス基板の位置決めマークを認識して上下ガラス基板の位置決めマークのずれ量を求める方法をとる。その後、XYθ移動ユニット13を駆動することで下テーブル10を移動して上下基板のXYθ方向のずれを修正する。なお、この位置決め動作は貼り合わせをするための減圧過程の途中で行うこともできる。
ステップS14では、上下基板の位置合わせが終了すると、Z軸駆動機構2を動作させてフレーム5を介して上テーブル9を移動させると共に、それに同期して粘着ピン駆動機構14を下テーブル10側に移動させることで上下ガラス基板を接触させる。上下ガラス基板が接触した状態で再度上下ガラス基板の位置決めマークのずれ量を確認し、もしずれている場合は再度位置決め動作を行う。確認及び位置決め動作が終了すると更に上テーブル9のみが下降し、加圧を行うと共に粘着ピン14cから上ガラス基板を離脱させる。基板を加圧する際に上テーブル9に取り付いている弾性体プレート11上の弾性体11aが変形することによって基板全体を均一に加圧することができる。なお加圧時に両テーブル上に保持しているガラス基板が位置ずれを起こす場合もあり、時々位置決めマークを観測して位置ずれ補正を行ったほうが良い。
In step S13, when the upper and lower glass substrates are respectively held on the adhesive pin 14c and the lower table 10, the Z-axis drive mechanism 2 is operated to lower the upper frame 5, the upper chamber 7, and the upper table 9, and the upper chamber 7 The lower chamber 8 and the lower chamber 8 are united via a seal ring to form a vacuum chamber. In synchronization with this operation, the adhesive pin drive mechanism 14 is also lowered using the vertical drive motor 14a and the adhesive pin up/down mechanism 14d so that the positional relationship with the upper table 9 does not change. At this time, the distance between the opposing surfaces of the upper substrate held by the upper table 9 and the lower substrate held by the lower table 10 is kept about several millimeters, and the upper substrate and the lower substrate are not brought into contact with each other. Thereafter, although not shown, the air in the vacuum chamber is exhausted from the exhaust port provided on the lower chamber 8 side to reduce the pressure in the vacuum chamber. When the inside of the vacuum chamber is in a reduced pressure state for bonding, a positioning mark that is previously provided on the upper glass substrate and the lower glass substrate is misaligned using a camera (not shown) with a deep depth of focus provided on the lower unit side. Find the amount. However, when the depth of focus of the camera is shallow, a mechanism for moving the camera up and down is provided to first recognize the positioning mark of the upper glass substrate and then move the camera downward to recognize the positioning mark of the lower glass substrate and recognize the upper and lower glass. A method of obtaining the displacement amount of the positioning mark on the substrate is used. After that, the XYθ moving unit 13 is driven to move the lower table 10 to correct the displacement of the upper and lower substrates in the XYθ directions. It should be noted that this positioning operation can be performed during the depressurization process for bonding.
In step S14, when the alignment of the upper and lower substrates is completed, the Z-axis drive mechanism 2 is operated to move the upper table 9 via the frame 5, and the adhesive pin drive mechanism 14 is moved to the lower table 10 side in synchronization therewith. The upper and lower glass substrates are brought into contact by moving. While the upper and lower glass substrates are in contact with each other, the amount of displacement of the positioning marks on the upper and lower glass substrates is checked again, and if they are displaced, the positioning operation is performed again. When the checking and positioning operations are completed, only the upper table 9 is further lowered to apply pressure and separate the upper glass substrate from the adhesive pin 14c. When the substrate is pressed, the elastic body 11a on the elastic plate 11 attached to the upper table 9 is deformed, so that the entire substrate can be uniformly pressed. There is a case where the glass substrates held on both tables are displaced during pressing, and it is better to observe the positioning mark from time to time to correct the displacement.

ステップ15では、上下のガラス基板を加圧して貼り合わせが終了すると、真空チャンバ内に図示しないパージガスブロー機構よりパージガスを導入する。このとき大気も導入して、大気圧に戻す。ガラス基板は、大気圧に戻すことでさらに押し付け力が作用して、規定の厚みまで加圧される。その状態で、図示していないUV照射機構を動作させて、複数箇所接着剤を硬化させて仮止めを行い、液晶基板の貼り合わせが終了する。 In step 15, when the upper and lower glass substrates are pressurized and the bonding is completed, a purge gas is introduced into the vacuum chamber by a purge gas blow mechanism (not shown). At this time, the atmosphere is also introduced to return to atmospheric pressure. When the glass substrate is returned to the atmospheric pressure, the pressing force is further applied, and the glass substrate is pressed to a specified thickness. In that state, a UV irradiation mechanism (not shown) is operated to cure the adhesive at a plurality of points to temporarily fix the adhesive, and the bonding of the liquid crystal substrates is completed.

上記の動作では粘着ピン14cによる基板の保持は、上下ガラス基板がどちらか一方のガラス基板に設けた接着剤(シール剤)に接触するまでとし、それ以上は粘着ピン14cを下方向に移動させずに上テーブル9のみを下方向に移動させることで粘着ピン14cを基板面から剥すようにしている。なおこのとき、粘着ピン14cをガラス基板の移動方向とは逆方向に移動させることで、確実に基板面から粘着ピン14cを剥すことができる。
なお、基板に加圧力を加える時も粘着ピンも同時に下テーブル10側に移動させて、加圧終了後、大気圧に戻した後で、テーブルは加圧時と同じ状態を保持し、その状態で粘着ピン駆動機構14を上昇させて粘着ピンを基板から離脱することもできる。なお、このとき、粘着ピンの先端の吸引吸着孔へ正圧のガス又は清浄な空気を送り込みながら粘着ピンを上昇させることで、粘着ピンを基板面から容易に剥すことができる。
In the above operation, the substrate is held by the adhesive pin 14c until the upper and lower glass substrates come into contact with the adhesive (sealant) provided on one of the glass substrates, and the adhesive pin 14c is moved downward beyond that. Instead, by moving only the upper table 9 downward, the adhesive pin 14c is peeled off from the substrate surface. At this time, by moving the adhesive pin 14c in the direction opposite to the moving direction of the glass substrate, the adhesive pin 14c can be reliably peeled from the substrate surface.
When the pressure is applied to the substrate, the adhesive pin is moved to the lower table 10 side at the same time, and after the pressurization is completed, the pressure is returned to the atmospheric pressure, and then the table maintains the same state as that in the pressurization. It is also possible to lift the adhesive pin drive mechanism 14 to separate the adhesive pin from the substrate. At this time, the adhesive pin can be easily peeled off from the substrate surface by raising the adhesive pin while feeding a positive pressure gas or clean air into the suction adsorption hole at the tip of the adhesive pin.

ステップS16では、貼り合わせ後の基板が図示しないロボットハンドを用いて真空チャンバの外へ搬出される。 In step S16, the bonded substrates are carried out of the vacuum chamber using a robot hand (not shown).

以上の通り本実施例によれば、ガラス基板の撓みを低減し得る基板組立装置及び基板組立方法を提供することが可能となる。
また、本実施例によれば、基板との摩擦帯電によるムラ発生の低減、急速な断熱膨張による温度低下によるムラ発生の防止、基板貼り合わせ精度の向上により、次世代高精細ディスプレイ製造における大型化・薄型化・微細パターン化に対し、色ムラの無いディスプレイ製造に貢献することが可能となる。
As described above, according to this embodiment, it is possible to provide a substrate assembling apparatus and a substrate assembling method capable of reducing the bending of the glass substrate.
Further, according to the present embodiment, the generation of unevenness due to frictional electrification with the substrate is reduced, the occurrence of unevenness due to the temperature decrease due to rapid adiabatic expansion is prevented, and the bonding accuracy of the substrate is improved. -For thinning and fine patterning, it is possible to contribute to the manufacture of displays without color unevenness.

図6は、本発明の他の実施例に係る実施例2の基板組立装置の概略図であって、下テーブルの上面図及び側面図である。本実施例では、粗に配される第1のリフタ21と、下テーブル10を貫通可能な密に配される第2のリフタ22とを備える点が上述の実施例1と異なる。以下では実施例1と同様な構成要素に同一符号を付し、実施例1と重複する説明を省略する。 FIG. 6 is a schematic view of a board assembling apparatus according to a second embodiment of the present invention, which is a top view and a side view of a lower table. The present embodiment differs from the above-described first embodiment in that the first lifter 21 that is roughly arranged and the second lifter 22 that is densely arranged so as to be able to penetrate the lower table 10 are provided. In the following, the same components as those in the first embodiment will be designated by the same reference numerals, and the description overlapping with the first embodiment will be omitted.

図6に、本実施例の基板組立装置1を構成する下テーブル10の上面図と側面図を示している。上面図に示すように、本実施例の基板組立装置1は、一方向に延在する棒状の第1のリフタ21と、側面図に示すように、下テーブル10に設けられた貫通孔23内に配され上下動可能な第2のリフタ22を備える。図6では説明の便宜上、第1のリフタ21を2本、第2のリフタ22を24本有する場合を示すが、第1のリフタ21及び第2のリフタ22の本数はこれに限られるものではない。但し、図6に示されるように、第1のリフタ21の配置密度は粗であり、第2のリフタ22の配置密度は密である。換言すれば、第1のリフタ21が粗に配され第2のリフタ22が密に配される構成であれば、第1のリフタ21及び第2のリフタ22の本数は適宜設定すれば良い。 FIG. 6 shows a top view and a side view of the lower table 10 that constitutes the substrate assembly apparatus 1 of this embodiment. As shown in the top view, the board assembling apparatus 1 according to the present embodiment includes a rod-shaped first lifter 21 extending in one direction and a through hole 23 provided in the lower table 10 as shown in the side view. And a second lifter 22 that is vertically movable. For convenience of description, FIG. 6 shows a case where two first lifters 21 and 24 second lifters 22 are provided, but the number of first lifters 21 and second lifters 22 is not limited to this. Absent. However, as shown in FIG. 6, the arrangement density of the first lifters 21 is coarse, and the arrangement density of the second lifters 22 is high. In other words, if the first lifters 21 are roughly arranged and the second lifters 22 are densely arranged, the number of the first lifters 21 and the second lifters 22 may be set appropriately.

図7は、本実施例の基板組立装置の動作フローを示すフローチャートである。
図7におけるステップS21〜ステップS25までは、上述の実施例1における図5に示したステップS11〜ステップS15までと同様であるため、ここでは説明を省略する。
FIG. 7 is a flow chart showing the operation flow of the board assembly apparatus of this embodiment.
Since steps S21 to S25 in FIG. 7 are the same as steps S11 to S15 shown in FIG. 5 in the above-described first embodiment, description thereof will be omitted here.

ステップS27では、第2のリフタ22が所定量上昇し、貼り合わせ後の基板を所定量だけ下テーブル10の保持面(表面)より突出させて下テーブル10の保持面(表面)より貼り合わせ後の基板を浮かせる。ここで、図8に、図6に示す第2のリフタ22により下ガラス基板16を所定量上昇させた状態を示す縦断面図を示す。図8では、説明の便宜上、下ガラス基板16を所定量上昇させた状態を示しているがこれは貼り合わせ後の基板を意味する。図8に示すように、第2のリフタ22のピッチP1(下テーブル10の幅方向に沿ったピッチ)は、例えば80mm〜100mmであり、第2のリフタ22の直径D1は例えば5mmであり、貫通孔23の孔径は例えば8mmである。また、第2のリフタ22の下テーブル10の保持面(表面)からの上昇量h1は、例えば1mm〜3mmである。なお、第2のリフタ22は、例えば、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン;polyetheretherketone)材の樹脂により形成され、下ガラス基板16の裏面と当接する先端部は所定の曲率半径を有する曲面状となっており、下ガラス基板16の裏面への損傷或いは傷の発生を防止できる。パージガスブロー機構より導入されるパージガス、または、大気は図8に矢印にて示すように、貫通孔23の内周面と第2のリフタ22の外周面との間隙を通過し下ガラス基板16の裏面に吹き付けられる。換言すれば、パージガス、または、大気が貫通孔23の内周面と第2のリフタ22の外周面との間隙から下ガラス基板16の裏面に侵入する。 In step S27, the second lifter 22 is lifted by a predetermined amount, the bonded substrate is protruded by a predetermined amount from the holding surface (front surface) of the lower table 10, and after bonding from the holding surface (front surface) of the lower table 10. Float the substrate. Here, FIG. 8 is a vertical cross-sectional view showing a state where the lower glass substrate 16 is raised by a predetermined amount by the second lifter 22 shown in FIG. For convenience of description, FIG. 8 shows a state in which the lower glass substrate 16 is raised by a predetermined amount, but this means the substrate after being bonded. As shown in FIG. 8, the pitch P1 of the second lifter 22 (the pitch along the width direction of the lower table 10) is, for example, 80 mm to 100 mm, and the diameter D1 of the second lifter 22 is, for example, 5 mm. The hole diameter of the through hole 23 is, for example, 8 mm. The amount of rise h1 from the holding surface (surface) of the lower table 10 of the second lifter 22 is, for example, 1 mm to 3 mm. The second lifter 22 is formed of, for example, a resin of PEEK (polyetheretherketone), and the tip end portion that comes into contact with the back surface of the lower glass substrate 16 is a curved surface having a predetermined radius of curvature. Therefore, it is possible to prevent the back surface of the lower glass substrate 16 from being damaged or scratched. The purge gas or the atmosphere introduced by the purge gas blowing mechanism passes through the gap between the inner peripheral surface of the through hole 23 and the outer peripheral surface of the second lifter 22 as shown by the arrow in FIG. Sprayed on the back. In other words, the purge gas or the atmosphere enters the back surface of the lower glass substrate 16 through the gap between the inner peripheral surface of the through hole 23 and the outer peripheral surface of the second lifter 22.

図7に戻り、ステップS27では、第1のリフタ21が所定量上昇し、下ガラス基板16を下テーブル10の保持面(表面)から更に離間させる。ここで、図9に、図6に示す第1のリフタ21により下ガラス基板16を所定量上昇させた状態を示す縦断面図を示す。図9においても図8と同様に説明の便宜上、下ガラス基板16を所定量上昇させた状態を示しているがこれは貼り合わせ後の基板を意味する。図9に示すように、第1のリフタ21のピッチP2(下テーブル10の幅方向に沿ったピッチ)は、例えば200mm〜250mmであり、第1のリフタ21の下テーブル10の保持面(表面)からの上昇量h2は、例えば100〜200mmである。従って、第1のリフタ21の下テーブル10の保持面(表面)からの上昇量h2は、第2のリフタ22の下テーブル10の保持面(表面)からの上昇量h1の略33倍から200倍である。 Returning to FIG. 7, in step S27, the first lifter 21 is raised by a predetermined amount to further separate the lower glass substrate 16 from the holding surface (front surface) of the lower table 10. Here, FIG. 9 is a vertical cross-sectional view showing a state where the lower glass substrate 16 is raised by a predetermined amount by the first lifter 21 shown in FIG. For convenience of explanation, FIG. 9 also shows a state in which the lower glass substrate 16 is raised by a predetermined amount for convenience of description, but this means the substrate after bonding. As shown in FIG. 9, the pitch P2 of the first lifter 21 (the pitch along the width direction of the lower table 10) is, for example, 200 mm to 250 mm, and the holding surface (the surface of the lower table 10 of the first lifter 21). The amount of increase h2 from () is, for example, 100 to 200 mm. Therefore, the amount of rise h2 from the holding surface (front surface) of the lower table 10 of the first lifter 21 is approximately 33 times to 200 times the amount of rise h1 from the holding surface (front surface) of the lower table 10 of the second lifter 22. Double.

このように、上述のステップS26にて、貼り合わせ後の基板を構成する下ガラス基板16の裏面が下テーブル10の保持面(表面)より離間する初期段階において、パージガス、または、大気が貫通孔23の内周面と第2のリフタ22の外周面との間隙から下ガラス基板16の裏面に侵入する。このとき、下ガラス基板16の裏面と下テーブル10の保持面(表面)との間の負圧は、貫通孔23を介して逃がされ、負圧による貼り合わせ後の基板の撓みを防止することが可能となる。そして、上述のステップS27にて、第1のリフタ21により下ガラス基板16が下テーブル10の保持面(表面)から更に離間させるため、貼り合わせ後の基板の撓みを防止しつつ、好適に貼り合わせ後の基板を下テーブル10の保持面(表面)から更に離間させることが可能となる。そしてこの結果として、ガラス基板の撓みによるムラ発生を防止し、次世代高精細ディスプレイ製造における大型化・薄型化・微細パターン化に対し、色ムラの無いディスプレイ製造に貢献し、品質向上・歩留まり向上・コスト低減・生産性を向上することが可能となる。 As described above, in step S26 described above, in the initial stage in which the back surface of the lower glass substrate 16 that constitutes the bonded substrates is separated from the holding surface (front surface) of the lower table 10, the purge gas or the atmosphere penetrates through holes. It penetrates into the back surface of the lower glass substrate 16 through the gap between the inner peripheral surface of 23 and the outer peripheral surface of the second lifter 22. At this time, the negative pressure between the back surface of the lower glass substrate 16 and the holding surface (front surface) of the lower table 10 is released through the through holes 23, and the bending of the substrates after the bonding due to the negative pressure is prevented. It becomes possible. Then, in step S27 described above, the lower glass substrate 16 is further separated from the holding surface (front surface) of the lower table 10 by the first lifter 21, so that the substrates after bonding can be suitably bonded while preventing the substrates from bending. It is possible to further separate the combined substrate from the holding surface (front surface) of the lower table 10. As a result, it prevents the occurrence of unevenness due to the bending of the glass substrate, contributes to the manufacture of next-generation high-definition displays in the manufacture of large-sized, thin-shaped, and fine-patterned products, and improves quality and yield. -It is possible to reduce costs and improve productivity.

図7に戻り、ステップS28では、第1のリフタ21により下テーブル10の保持面(表面)から離間された、貼り合わせ後の基板は図示しないロボットハンドに受け渡され、ロボットハンドにより真空チャンバの外へ搬出される。 Returning to FIG. 7, in step S28, the bonded substrates separated from the holding surface (front surface) of the lower table 10 by the first lifter 21 are transferred to a robot hand (not shown), and the robot hand moves the vacuum chamber to the vacuum chamber. It is carried out.

以上の通り本実施例によれば、ガラス基板の撓みを低減し得る基板組立装置及び基板組立方法を提供することが可能となる。
また、本実施例によれば、ガラス基板の撓みによるムラ発生を防止し、次世代高精細ディスプレイ製造における大型化・薄型化・微細パターン化に対し、色ムラの無いディスプレイ製造に貢献し、品質向上・歩留まり向上・コスト低減・生産性を向上することが可能となる。
As described above, according to this embodiment, it is possible to provide a substrate assembling apparatus and a substrate assembling method capable of reducing the bending of the glass substrate.
In addition, according to the present embodiment, it is possible to prevent the occurrence of unevenness due to the bending of the glass substrate, and contribute to the production of a display with no color unevenness in the production of next-generation high-definition displays that are large, thin, and have a fine pattern. It is possible to improve, improve yield, reduce cost, and improve productivity.

以上の各実施例の記載を纏めると、実施例の基板組立装置及び基板組立方法は、次の特徴を有している。
(1)基板組立装置は、一方の基板を下テーブル上に保持し、他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持し、いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う基板組立装置であって、
前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に、相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有し、前記凹部の幅が前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの幅に対し、10−6から10−4の比率となることを特徴とする。
(2)(1)の基板組立装置において、
前記相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部は、エンボスシートに形成され、前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に接着剤にて貼付されていることを特徴とする。
(3)(2)の基板組立装置において、
前記エンボスシートは、ポリエチレンテレフタレート製であって縦断面が波型形状であることを特徴とする。
(4)(1)の基板組立装置において、
前記相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部は、前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に設けられた弾性体プレートに形成されていることを特徴とする。
(5)(2)乃至(4)のうちいずれか一つの基板組立装置において、
チャンバの内側に設けられた前記上テーブルに、前記上テーブルとは独立して上下することが可能な吸着ピンプレートに複数の吸着ピンを備えた真空吸着機構とパージガスブロー機構を備えることを特徴とする。
(6)他の基板組立装置は、一方の基板を下テーブル上に保持し、他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持し、いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う基板組立装置であって、
粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させることを特徴とする。
(7)(6)の基板組立装置において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量よりも大きいことを特徴とする。
(8)(6)又は(7)の基板組立装置において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量の略33倍から200倍であることを特徴とする。
(9)(6)乃至(8)のうちいずれか一つの基板組立装置において、
前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする。
(10)基板組立方法は、一方の基板を下テーブル上に保持する工程と、
他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持する工程と、
いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う工程と、を有する基板組立方法であって、
前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に、相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部を有し、前記凹部の幅が前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの幅に対し、10−6から10−4の比率となることを特徴とする。
(11)(10)の基板組立方法において、
前記相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部は、エンボスシートに形成され、前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に接着剤にて貼付されていることを特徴とする。
(12)(11)の基板組立方法において、
前記エンボスシートは、ポリエチレンテレフタレート製であって縦断面が波型形状であることを特徴とする。
(13)(10)の基板組立方法において、
前記相互に隣接配置される複数の凸部及び凹部は、前記上テーブル及び/又は前記下テーブルの前記基板を保持する面に設けられた弾性体プレートに形成されていることを特徴とする。
(14)他の基板組立方法は、一方の基板を下テーブル上に保持する工程と、
他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持する工程と、
いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う工程と、を有する基板組立方法であって、
粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させることを特徴とする。
(15)(14)の基板組立方法において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量よりも大きいことを特徴とする。
(16)(14)又は(15)の基板組立方法において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量の略33倍から200倍であることを特徴とする。
(17)(14)乃至(16)のうちいずれか一つの基板組立方法において、
前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。
Summarizing the above description of each embodiment, the board assembling apparatus and the board assembling method according to the embodiments have the following features.
(1) The substrate assembling apparatus holds one substrate on the lower table, holds the other substrate on the upper table so as to face the one substrate, and vacuums with an adhesive provided on one of the substrates. A substrate assembly apparatus for bonding in a chamber,
The surface of the upper table and/or the lower table holding the substrate has a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other, and the width of the concave portion is the width of the upper table and/or the lower table. In contrast, the ratio is 10-6 to 10-4.
(2) In the board assembly apparatus of (1),
The plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other are formed on an embossed sheet, and are adhered to a surface of the upper table and/or the lower table holding the substrate with an adhesive. To do.
(3) In the board assembly apparatus of (2),
The embossed sheet is made of polyethylene terephthalate and has a corrugated longitudinal section.
(4) In the board assembly apparatus of (1),
The plurality of protrusions and recesses arranged adjacent to each other are formed on an elastic plate provided on a surface of the upper table and/or the lower table that holds the substrate.
(5) In the board assembly apparatus according to any one of (2) to (4),
The upper table provided inside the chamber is provided with a vacuum suction mechanism and a purge gas blow mechanism having a plurality of suction pins on a suction pin plate that can move up and down independently of the upper table. To do.
(6) Another board assembly apparatus holds one board on a lower table, holds the other board on an upper table so as to face the one board, and uses an adhesive provided on one of the boards. A substrate assembling device for bonding in a vacuum chamber,
It has a first lifter arranged roughly and a second lifter arranged densely, the second lifter is capable of penetrating the lower table, and the second lifter allows a predetermined amount of the substrate. After raising, the substrate is further raised by the first lifter.
(7) In the board assembly device of (6),
The amount of rise of the substrate by the first lifter is larger than the amount of rise of the substrate by the second lifter.
(8) In the board assembly device of (6) or (7),
The amount of rise of the substrate by the first lifter is approximately 33 to 200 times the amount of rise of the substrate by the second lifter.
(9) In the board assembly apparatus according to any one of (6) to (8),
The lower table is provided with a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. The purge gas or the atmosphere penetrates into the back surface of the substrate through a gap between the substrate and the substrate.
(10) A board assembling method includes a step of holding one board on a lower table,
A step of holding the other substrate on the upper table so as to face the one substrate,
A substrate assembling method comprising a step of bonding in a vacuum chamber with an adhesive provided on one of the substrates,
A surface of the upper table and/or the lower table that holds the substrate has a plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other, and the width of the concave portion is the width of the upper table and/or the lower table. In contrast, the ratio is 10-6 to 10-4.
(11) In the board assembly method of (10),
The plurality of convex portions and concave portions arranged adjacent to each other are formed on an embossed sheet, and are adhered to a surface of the upper table and/or the lower table holding the substrate with an adhesive. To do.
(12) In the board assembly method of (11),
The embossed sheet is made of polyethylene terephthalate and has a corrugated longitudinal section.
(13) In the board assembly method of (10),
The plurality of protrusions and recesses arranged adjacent to each other are formed on an elastic plate provided on a surface of the upper table and/or the lower table that holds the substrate.
(14) Another board assembly method includes a step of holding one board on a lower table,
A step of holding the other substrate on the upper table so as to face the one substrate,
A substrate assembling method comprising a step of bonding in a vacuum chamber with an adhesive provided on one of the substrates,
It has a first lifter arranged roughly and a second lifter arranged densely, the second lifter is capable of penetrating the lower table, and the second lifter allows a predetermined amount of the substrate. After raising, the substrate is further raised by the first lifter.
(15) In the board assembly method of (14),
The amount of rise of the substrate by the first lifter is larger than the amount of rise of the substrate by the second lifter.
(16) In the board assembly method of (14) or (15),
The amount of rise of the substrate by the first lifter is approximately 33 to 200 times the amount of rise of the substrate by the second lifter.
(17) In the board assembly method according to any one of (14) to (16),
The lower table is provided with a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. The purge gas or the atmosphere penetrates into the back surface of the substrate through a gap between the substrate and the substrate.
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, but includes various modifications. For example, the above-described embodiments have been described in detail for the purpose of explaining the present invention in an easy-to-understand manner, and are not necessarily limited to those having all the configurations described. Further, a part of the configuration of a certain embodiment can be replaced with the configuration of another embodiment, and the configuration of another embodiment can be added to the configuration of a certain embodiment.

1…基板組立装置
2…Z軸駆動機構
2a…Z軸駆動モータ
2b…ボールネジ
2c…ボールネジ受け部
3…案内機構
3a…リニアガイド
3b…リニア移動部
4…ロードセル
5…上フレーム
6…上シャフト
7…上チャンバ
7b…ブラケット
8…下チャンバ
9…上テーブル
10…下テーブル
11…弾性体プレート
11a,11b…弾性体
12…下シャフト
13…XYθ移動ユニット
14…粘着ピン駆動機構
14a…上下駆動用モータ
14b…粘着ピンプレート
14c…粘着ピン
14d…粘着ピン上下機構
14e…粘着シート
15…架台
16…下ガラス基板
17,18…梁
21…第1のリフタ
22…第2のリフタ
23…貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Board assembly apparatus 2... Z-axis drive mechanism 2a... Z-axis drive motor 2b... Ball screw 2c... Ball screw receiving part 3... Guide mechanism 3a... Linear guide 3b... Linear moving part 4... Load cell 5... Upper frame 6... Upper shaft 7 ...Upper chamber 7b ...Bracket 8 ...Lower chamber 9 ...Upper table 10 ...Lower table 11 ...Elastic body plates 11a, 11b ...Elastic body 12 ...Lower shaft 13 ...XYθ moving unit 14 ...Adhesive pin drive mechanism 14a ...Vertical drive motor 14b... Adhesive pin plate 14c... Adhesive pin 14d... Adhesive pin up/down mechanism 14e... Adhesive sheet 15... Frame 16... Lower glass substrate 17, 18... Beam 21... First lifter 22... Second lifter 23... Through hole

Claims (6)

一方の基板を下テーブル上に保持し、他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持し、いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う基板組立装置であって、
粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させ
前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする基板組立装置。
A substrate in which one substrate is held on the lower table, the other substrate is held on the upper table so as to face the one substrate, and the substrates are bonded in a vacuum chamber with an adhesive provided on one of the substrates. An assembly device,
The first lifter is arranged roughly and the second lifter is arranged densely, the second lifter is capable of penetrating the lower table, and the second lifter holds a substrate by a predetermined amount. After raising, the substrate is further raised by the first lifter ,
The lower table is provided with a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. A substrate assembling apparatus, wherein the purge gas or the atmosphere enters the back surface of the substrate through a gap between the substrate and the substrate.
請求項1に記載の基板組立装置において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量よりも大きいことを特徴とする基板組立装置。
The board assembly apparatus according to claim 1,
The substrate assembling apparatus according to claim 1, wherein a lift amount of the substrate by the first lifter is larger than a lift amount of the substrate by the second lifter.
請求項1又は請求項2に記載の基板組立装置において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量の略33倍から200倍であることを特徴とする基板組立装置。
The board assembly apparatus according to claim 1 or 2,
The substrate assembling apparatus according to claim 1, wherein an ascending amount of the substrate by the first lifter is approximately 33 to 200 times an ascending amount of the substrate by the second lifter.
一方の基板を下テーブル上に保持する工程と、
他方の基板を上テーブルに前記一方の基板に対向させて保持する工程と、
いずれか一方の基板に設けた接着剤にて真空チャンバ内で貼り合わせを行う工程と、を有する基板組立方法であって、
粗に配される第1のリフタと密に配される第2のリフタとを有し、前記第2のリフタは前記下テーブルを貫通可能であって、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させた後、前記第1のリフタにて前記基板を更に上昇させ
前記下テーブルは、前記第2のリフタが貫通可能な貫通孔を備え、前記第2のリフタにより基板を所定量上昇させたとき、前記貫通孔の内周面と前記第2のリフタの外周面との間隙からパージガス又は大気が前記基板の裏面へと侵入することを特徴とする基板組立方法。
A step of holding one of the substrates on the lower table,
A step of holding the other substrate on the upper table so as to face the one substrate,
A substrate assembling method comprising a step of bonding in a vacuum chamber with an adhesive provided on one of the substrates,
The first lifter is arranged roughly and the second lifter is arranged densely, the second lifter is capable of penetrating the lower table, and the second lifter holds a substrate by a predetermined amount. After raising, the substrate is further raised by the first lifter ,
The lower table is provided with a through hole through which the second lifter can penetrate, and when the substrate is raised by a predetermined amount by the second lifter, the inner peripheral surface of the through hole and the outer peripheral surface of the second lifter. A method of assembling a substrate, characterized in that the purge gas or the atmosphere penetrates into the back surface of the substrate through a gap between the substrate and the substrate.
請求項に記載の基板組立方法において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量よりも大きいことを特徴とする基板組立方法。
The board assembly method according to claim 4 ,
The substrate assembling method according to claim 1, wherein an amount of ascent of the substrate by the first lifter is larger than an amount of ascent of the substrate by the second lifter.
請求項又は請求項に記載の基板組立方法において、
前記第1のリフタによる前記基板の上昇量は、前記第2のリフタによる基板の上昇量の略33倍から200倍であることを特徴とする基板組立方法。
The board assembly method according to claim 4 or 5 ,
The substrate assembling method according to claim 1, wherein an ascending amount of the substrate by the first lifter is approximately 33 to 200 times an ascending amount of the substrate by the second lifter.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111822991A (en) * 2020-06-22 2020-10-27 宁波市鄞州特尔斐电子有限公司 Jig device of liquid crystal display ACF pressing equipment and using method thereof
JP7580129B2 (en) * 2022-04-12 2024-11-11 Aiメカテック株式会社 Substrate superposition device and substrate superposition method
CN120871479A (en) * 2025-09-15 2025-10-31 深圳市深鸿海智能装备有限公司 ODF laminating machine for laminating liquid crystal panel

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5523941A (en) 1978-08-09 1980-02-20 Agency Of Ind Science & Technol Immobilization of enzyme using water-soluble photo- crosslinkable resin
JPS5654155U (en) 1979-10-02 1981-05-12
JPS56112958A (en) 1980-02-12 1981-09-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd Impact-resistant resin composition
JPS6255546U (en) 1985-09-28 1987-04-06
JP2002365644A (en) * 2001-06-08 2002-12-18 Display Technologies Inc Manufacturing method and manufacturing apparatus of liquid crystal display device
JP3819797B2 (en) 2002-03-27 2006-09-13 株式会社 日立インダストリイズ Board assembly equipment
JP4131164B2 (en) * 2002-11-27 2008-08-13 セイコーエプソン株式会社 Substrate fixing method and display device manufacturing method
JP3848942B2 (en) 2003-10-31 2006-11-22 株式会社 日立インダストリイズ Substrate assembly method and apparatus
KR100803452B1 (en) * 2004-01-16 2008-02-14 샤프 가부시키가이샤 Substrate Adsorption and Substrate Bonding
JP3882004B2 (en) * 2004-04-09 2007-02-14 信越エンジニアリング株式会社 Adhesive chuck device
KR100920384B1 (en) * 2005-12-28 2009-10-07 주식회사 에이디피엔지니어링 Lift pin module of flat panel display device manufacturing device
JP4078487B2 (en) * 2005-05-25 2008-04-23 株式会社日立プラントテクノロジー Substrate assembly apparatus and method
JP4379435B2 (en) * 2006-05-17 2009-12-09 株式会社日立プラントテクノロジー Board assembly apparatus and board assembly method using the same
JP2008034435A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Shin-Etsu Engineering Co Ltd Substrate holding chuck device
KR20090042726A (en) * 2007-10-26 2009-04-30 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 Substrate Bonding Apparatus and Method
WO2010095215A1 (en) * 2009-02-17 2010-08-26 信越エンジニアリング株式会社 Work transfer apparatus and vacuum bonding method
KR101247900B1 (en) * 2010-02-23 2013-03-26 가부시키가이샤 히타치플랜트테크놀로지 Liquid crystal substrate bonding system
JP2012247507A (en) * 2011-05-25 2012-12-13 Shibaura Mechatronics Corp Substrate bonding device
JP2013055093A (en) * 2011-09-01 2013-03-21 Creative Technology:Kk Adhesive chuck device and adhesion holding method of work-piece
JP5759086B2 (en) * 2013-03-29 2015-08-05 東京応化工業株式会社 Pasting method
KR102215641B1 (en) * 2013-12-18 2021-02-16 주성엔지니어링(주) Lift pin assembly and substrate processing apparatus having the same
JP5654155B1 (en) * 2014-04-04 2015-01-14 信越エンジニアリング株式会社 Work bonding machine
JP5810207B1 (en) * 2014-11-14 2015-11-11 株式会社日立製作所 Board assembly apparatus and board assembly method using the same
CN106796913A (en) * 2014-11-25 2017-05-31 旭硝子株式会社 Bonding apparatus and bonding method of substrates, and manufacturing method of electronic device
CN107428151A (en) * 2015-04-09 2017-12-01 信越工程株式会社 Laminating equipment manufacturing equipment
JP6737575B2 (en) * 2015-09-30 2020-08-12 Aiメカテック株式会社 Board assembly system, board assembly apparatus used in the system, and board assembly method using the system
JP6659307B2 (en) 2015-10-30 2020-03-04 Aiメカテック株式会社 Board assembly apparatus, board assembly system using the apparatus, and board assembly method using the system
JP6255546B1 (en) * 2016-10-17 2017-12-27 信越エンジニアリング株式会社 Vacuum bonding equipment for bonding devices

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