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JP6739731B2 - Surface treatment equipment - Google Patents
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Description

この発明は、放電電極から出力する放電エネルギーによって、フィルム等の処理対象の表面を処理する表面処理装置に関する。 The present invention relates to a surface treatment device for treating a surface of a treatment object such as a film with discharge energy output from a discharge electrode.

従来から知られているこの種の表面処理装置は、処理ローラと、この処理ローラに開口部を対向させたチャンバーとを備えるとともに、このチャンバーには、処理ローラに沿って搬送されるフィルムの搬送方向に複数の放電電極を配置し、処理ローラと放電電極とを対向させている。 A conventionally known surface treatment apparatus of this type includes a processing roller and a chamber having an opening facing the processing roller, and the chamber conveys a film conveyed along the processing roller. A plurality of discharge electrodes are arranged in the direction, and the processing roller and the discharge electrode are opposed to each other.

そして、処理ローラを一定の方向に回転させながらフィルムを搬送するとともに、放電電極から放電エネルギーを出力し、この放電エネルギーによってフィルムの表面処理を行う。 Then, the film is conveyed while rotating the processing roller in a certain direction, discharge energy is output from the discharge electrode, and the surface treatment of the film is performed by this discharge energy.

特開2000−007802号公報JP, 2000-007802, A

上記のようにした従来の装置は、その放電電極が高温になって膨張するが、その膨張を押える手段が施されていなかった。そのため、放電処理中に当該放電電極が膨張してしまうが、その膨張は当該放電電極の長さ方向の撓みとして出てくる。
そして、この撓み量が大きくなると、放電電極の長さ方向の一部が処理ローラに接近し、処理ローラとの間のギャップを変化させてしまう。
In the conventional device as described above, the discharge electrode becomes high temperature and expands, but no means for suppressing the expansion is provided. Therefore, the discharge electrode expands during the discharge process, but the expansion appears as a bending of the discharge electrode in the length direction.
Then, when the amount of bending increases, a part of the discharge electrode in the length direction approaches the processing roller, which changes the gap between the processing electrode and the processing roller.

放電電極と処理ローラとのギャップは、その間を通るフィルム等の処理対象の表面処理に微妙に影響するもので、表面処理の品質にも影響するという問題が発生する。
また、放電電極がさらに大きく撓むと、その部分が処理対象に接触してしまうことがある。もし、放電電極が処理対象に接触すると、その処理対象にダメージを与えてしまうという問題も発生する。
The gap between the discharge electrode and the processing roller has a delicate influence on the surface treatment of the object to be treated such as a film passing therethrough, which causes a problem of affecting the quality of the surface treatment.
Further, when the discharge electrode further bends, that portion may come into contact with the processing target. If the discharge electrode comes into contact with the object to be processed, there is a problem that the object to be processed is damaged.

この発明の目的は、放電電極の膨張を押えて、表面処理の品質を維持できる表面処理装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a surface treatment apparatus capable of suppressing expansion of the discharge electrode and maintaining quality of surface treatment.

第1の発明は、フィルムを搬送する処理ローラと、この処理ローラに対向する開口を備えたチャンバーと、このチャンバー内に設けられるとともに、上記フィルムの搬送方向に複数並べられた放電電極と、上記チャンバー内の滞留ガスを吸引する吸引手段とを備えている。
なお、上記「ガス」には、チャンバー内に発生したオゾンや、外部から導入されたエア等が含まれる。
According to a first aspect of the invention, a processing roller for transporting a film, a chamber having an opening facing the processing roller, a discharge electrode provided in the chamber and arranged in plural in a transport direction of the film, And a suction means for sucking the staying gas in the chamber.
The "gas" includes ozone generated in the chamber, air introduced from the outside, and the like.

そして、フィルムの搬送方向上流もしくは下流の少なくとも一方の側、又は双方の側に位置する放電電極の近傍であって、当該放電電極を挟んで上記処理ローラとは反対側に、チャンバー内に流入したフレッシュエアを上記吸引手段の吸引方向にガイドする案内手段が設けられている。 Then, the film flowed into the chamber on at least one of the upstream and downstream sides in the transport direction of the film, or in the vicinity of the discharge electrodes located on both sides, and on the side opposite to the processing roller with the discharge electrode interposed therebetween. Guide means for guiding the fresh air in the suction direction of the suction means is provided.

第2の発明は、上記案内手段が板である点に特徴を有する。 The second invention is characterized in that the guide means is a plate.

第3の発明は、上記案内手段がスリットを1又は複数形成した板である点に特徴を有する。 A third invention is characterized in that the guide means is a plate having one or a plurality of slits formed therein.

第4の発明は、上記案内手段が上記チャンバーの側壁を兼ねる点に特徴を有する。 The fourth invention is characterized in that the guide means also serves as a side wall of the chamber.

この発明によれば、放電電極の近傍に案内手段を設けたので、チャンバーの開口から流入したフレッシュエアは、処理ローラと放電電極との間、及び放電電極と案内手段との間に導かれるので、放電電極はフレッシュエアで冷却されることになる。したがって、放電電極の膨張が押えられ、その撓み量を小さくでき、従来のような問題が発生しない。 According to this invention, since the guide means is provided in the vicinity of the discharge electrode, the fresh air flowing from the opening of the chamber is guided between the processing roller and the discharge electrode and between the discharge electrode and the guide means. The discharge electrode is cooled with fresh air. Therefore, the expansion of the discharge electrode is suppressed, and the amount of flexure of the discharge electrode can be reduced, so that the conventional problem does not occur.

第1実施形態を示す表面処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the surface treatment apparatus which shows 1st Embodiment. 第1実施形態のチャンバー内におけるフレッシュエアの流れを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the flow of fresh air in the chamber of 1st Embodiment. 第2実施形態のチャンバーの外形を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the external shape of the chamber of 2nd Embodiment.

図1及び図2に示した第1実施形態は、搬送するフィルムFの幅分と等しいかそれ以上の軸方向長さを保持した処理ローラRを設けるとともに、この処理ローラRを電気的に接地させている。
このようにした処理ローラRの近傍には、次の構成からなるチャンバーCを設けている。
In the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2, a processing roller R having an axial length equal to or larger than the width of the film F to be conveyed is provided and the processing roller R is electrically grounded. I am making it.
A chamber C having the following configuration is provided near the processing roller R thus configured.

上記チャンバーCは、長辺を処理ローラRの軸方向長さとほぼ等しくした1枚の矩形板1と、この矩形板1の各辺に連続する側壁2〜5とを設け、これら矩形板1と側壁2〜5とでボックスを形成するとともに、上記矩形板1と対向する側に開口6を形成している。
そして、この開口6は、上記処理ローラRの軸方向長さに対応する長さと、処理ローラRの円周方向に対応する所定の幅を維持している。
The chamber C is provided with one rectangular plate 1 whose long side is substantially equal to the axial length of the processing roller R, and side walls 2 to 5 continuous with each side of the rectangular plate 1. A box is formed by the side walls 2 to 5, and an opening 6 is formed on the side facing the rectangular plate 1.
The opening 6 maintains a length corresponding to the axial length of the processing roller R and a predetermined width corresponding to the circumferential direction of the processing roller R.

このようにしたチャンバーCは、上記開口6を処理ローラRに対向させて、処理ローラRに接触する処理対象であるフィルムFと上記開口6とが、わずかな間隔を保って対向するように設置されている。
そして、上記チャンバーC内の矩形板1には、3本の吊り下げ棒7が固定されるとともに、これら各吊り下げ棒7の先端には3つのホルダー8を設け、これら各ホルダー8に3本の放電電極9〜11を保持させている。
なお、図中符号12は、矩形板1に形成した排気孔で、図示していない吸引手段に接続して、チャンバーC内のガスを吸引するようにしている。
The chamber C thus configured is installed such that the opening 6 faces the processing roller R, and the film F, which is a processing target that contacts the processing roller R, and the opening 6 face each other with a slight gap. Has been done.
Then, three hanging rods 7 are fixed to the rectangular plate 1 in the chamber C, three holders 8 are provided at the tip of each hanging rod 7, and three holders 8 are provided in each holder 8. The discharge electrodes 9 to 11 are held.
Reference numeral 12 in the figure is an exhaust hole formed in the rectangular plate 1 and is connected to a suction means (not shown) so as to suck the gas in the chamber C.

上記のようにした3本の放電電極9〜11は、処理ローラRの軸方向に所定の長さを有するとともに、上記フィルムFの搬送方向に平行に並べられ、処理ローラRに接触するフィルムFとの間に放電間隔を保っている。したがって、上記放電電極9〜11に高電圧が作用すると、これら放電電極9〜11と処理ローラRとの間で放電がおこるとともに、このときの放電エネルギーよって、処理ローラRに沿って搬送されるフィルムFが表面処理される。 The three discharge electrodes 9 to 11 as described above have a predetermined length in the axial direction of the processing roller R, are arranged in parallel to the transport direction of the film F, and contact the processing roller R. A discharge interval is maintained between and. Therefore, when a high voltage acts on the discharge electrodes 9 to 11, a discharge is generated between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R, and the discharge energy at this time causes the discharge electrodes 9 to 11 to be conveyed along the processing roller R. The film F is surface-treated.

さらに、上記矩形板1の長辺に連続する側壁2,3のそれぞれには、この発明の案内手段である案内板13,14を設けている。この案内板13,14は、放電電極9,11を挟んで処理ローラRとは反対側に位置する。つまり、図1,2では案内板13,14と放電電極9,11とが対向することになる。 Further, the side walls 2 and 3 continuous with the long side of the rectangular plate 1 are provided with guide plates 13 and 14 which are the guide means of the present invention. The guide plates 13 and 14 are located on the opposite side of the processing roller R with the discharge electrodes 9 and 11 interposed therebetween. That is, in FIGS. 1 and 2, the guide plates 13 and 14 and the discharge electrodes 9 and 11 face each other.

以下には、第1実施形態の作用を説明する。
処理ローラRを矢印方向に回転させてフィルムFを搬送させながら、放電電極9〜11に高電圧を作用させると、放電電極9〜11と処理ローラRとの間に放電がおこる。このときの放電エネルギーによって、放電電極9〜11と処理ローラRとの間に電離した電子やイオンが生成されるとともに、この電離した電子やイオンの作用で上記フィルムFが表面処理される。
The operation of the first embodiment will be described below.
When a high voltage is applied to the discharge electrodes 9 to 11 while rotating the processing roller R in the direction of the arrow to convey the film F, electric discharge occurs between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R. By the discharge energy at this time, ionized electrons and ions are generated between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R, and the film F is surface-treated by the action of the ionized electrons and ions.

そして、上記のようにしてイオンが生成されると、それにともなってオゾンが発生するが、このオゾンは人体にも有害なために、チャンバーC内のガスは、上記吸引手段の吸引力で排気孔12から排気される。 Then, when the ions are generated as described above, ozone is generated with it, but this ozone is also harmful to the human body. Therefore, the gas in the chamber C is exhausted by the suction force of the suction means. Exhausted from 12.

また、上記吸引手段の吸引力は、ガスを排気するだけでなく、外のフレッシュエアもチャンバーC内に吸い込む。
なお、図2は、コンピュータによるシミュレーションの結果をプリントアウトしたもので、矢印の方向がフレッシュエアの流れの方向を示している。
The suction force of the suction means not only exhausts the gas, but also sucks the fresh air outside into the chamber C.
Note that FIG. 2 is a printout of the result of computer simulation, and the direction of the arrow indicates the direction of fresh air flow.

そして、上記のようにチャンバーC内に吸い込まれたフレッシュエアは、図2に示すように、フィルムFの搬送方向上流側に位置する放電電極9と処理ローラRとの間、及び下流側に位置する放電電極11と処理ローラRとの間に流入する流れE1及びE2が発生する。 Then, as shown in FIG. 2, the fresh air sucked into the chamber C as described above is located between the discharge electrode 9 located on the upstream side in the transport direction of the film F and the processing roller R, and located on the downstream side. Flows E1 and E2 flowing between the discharging electrode 11 and the processing roller R are generated.

しかも、この流れE1,E2のそれぞれは、中央の放電電極10に衝突して、放電電極10と処理ローラRとの間に流れ込む流れE1a,E2aと、放電電極10の側面に沿って流れる流れE1b,E2bに分かれる。
したがって、中央に位置する放電電極10も、上記流れE1a,E2a及び流れE1b,E2bによって冷却される。
Moreover, each of the flows E1 and E2 collides with the central discharge electrode 10 and flows between the discharge electrode 10 and the processing roller R, and flows E1b and E1b flowing along the side surface of the discharge electrode 10. , E2b.
Therefore, the discharge electrode 10 located at the center is also cooled by the flows E1a, E2a and E1b, E2b.

また、チャンバーC内には、上記のように放電電極9,11と処理ローラRとの間に流れ込む流れ以外に、チャンバーCの側壁2,3に沿って排気孔12方向に直接向かう流れE3,E4も発生する。
しかし、上記側壁2,3には案内板13,14が設けられているので、側壁2,3に沿ったフレッシュエアの流れE3,E4は、案内板13,14で強制的に方向転換されて、案内板13,14と放電電極9,11との対向間隔に向かって流れる。
このようにして放電電極9〜11の周囲には、フレッシュエアがまんべんなく行き渡るので、放電電極9〜11が冷却されてそれが大きく膨張するのを防止できる。
In addition to the flow flowing between the discharge electrodes 9 and 11 and the processing roller R in the chamber C as described above, the flow E3 directly flowing toward the exhaust hole 12 along the side walls 2 and 3 of the chamber C. E4 also occurs.
However, since the guide plates 13 and 14 are provided on the side walls 2 and 3, the fresh air flows E3 and E4 along the side walls 2 and 3 are forcibly turned by the guide plates 13 and 14. , Flows toward the facing interval between the guide plates 13 and 14 and the discharge electrodes 9 and 11.
In this way, the fresh air is evenly distributed around the discharge electrodes 9 to 11, so that the discharge electrodes 9 to 11 can be prevented from being cooled and greatly expanded.

もし、案内板13,14がなければ、チャンバーC内に流入したフレッシュエアは、流動抵抗が比較的大きい放電電極9,11と処理ローラRとの間を避けて、流動抵抗が小さい側壁2,3に沿った方向に流れやすくなる。そのために、放電電極9〜11に対するフレッシュエアの冷却効果が弱くなる。 If the guide plates 13 and 14 are not provided, the fresh air flowing into the chamber C avoids the space between the discharge electrodes 9 and 11 having a relatively large flow resistance and the processing roller R, and the side walls 2 having a small flow resistance. It becomes easy to flow in the direction along 3. Therefore, the cooling effect of the fresh air on the discharge electrodes 9 to 11 becomes weak.

しかし、上記案内板13,14があれば、上記したようにフレッシュエアが放電電極9〜11の周囲に行き渡るので、所期の冷却効果を発揮させることができる。
放電電極9〜11が冷却されれば、それが膨張したとしても、当該放電電極9〜11の長さ方向の撓み量を小さくできる。
However, if the guide plates 13 and 14 are provided, the fresh air spreads around the discharge electrodes 9 to 11 as described above, so that the desired cooling effect can be exerted.
If the discharge electrodes 9 to 11 are cooled, even if the discharge electrodes 9 to 11 expand, the amount of bending of the discharge electrodes 9 to 11 in the longitudinal direction can be reduced.

なお、上記実施形態では、案内板を側壁2,3のそれぞれに設けたが、いずれか一方の側壁だけに案内板を設けてもよい。
この場合には、案内板を設けていない側の放電電極9あるいは11の冷却効果が多少落ちるが、実験の結果では、案内板がまったくない場合よりも、その放電電極の温度上昇が抑えられた。それは、3本の放電電極9〜11のうち2本が冷却されれば、相対的に高い温度の放電電極の熱が、低い温度の放電電極に吸収されるからと考えられる。
Although the guide plates are provided on the side walls 2 and 3 in the above embodiment, the guide plates may be provided on only one of the side walls.
In this case, the cooling effect of the discharge electrode 9 or 11 on the side where the guide plate is not provided is somewhat reduced, but the experimental result shows that the temperature rise of the discharge electrode is suppressed more than in the case without the guide plate. .. It is considered that when two of the three discharge electrodes 9 to 11 are cooled, the heat of the discharge electrode having a relatively high temperature is absorbed by the discharge electrode having a low temperature.

一方、案内板13,14で排気孔12に向かう流れに絞り抵抗が付与されるので、上記放電電極9〜11と処理ローラRとの狭い間を通る流速が速くなる。
このように流速が速くなれば、放電電極9〜11と処理ローラRとの間に生成されるオゾンなどもいち早く上記流れに乗って排気孔12に向かう。
On the other hand, throttling resistance is given to the flow toward the exhaust hole 12 by the guide plates 13 and 14, so that the flow velocity passing through the narrow space between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R becomes faster.
When the flow velocity is increased in this way, ozone and the like generated between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R quickly travels to the exhaust hole 12 along with the flow.

このように速い流れでオゾンなどをいち早く排出できるので、放電電極9〜11と処理ローラRとの間にガスが滞留し難くなり、オゾンとフィルムからの炭素成分とが化学反応を起こすこともなる。したがって、それらの化学反応にもとづくシュウ酸等の結晶状異物も生成しなくなる。 Since ozone and the like can be quickly discharged in such a fast flow, it becomes difficult for gas to stay between the discharge electrodes 9 to 11 and the processing roller R, and ozone and a carbon component from the film may chemically react. .. Therefore, crystalline foreign substances such as oxalic acid based on these chemical reactions are not generated.

もし、結晶状異物が生成すれば、それが放電電極9,11周りに付着して、放電電極9〜11の放熱性を悪くするので、放電電極9〜11がますます膨張しやすくなる。
しかし、この実施形態によれば、結晶状異物が生成されないので、放電電極9〜11に結晶状異物が付着したりしない。したがって、放電電極9〜11が高温化して大きく膨張するようなこともなくなる。
If crystalline foreign matter is generated, it adheres around the discharge electrodes 9 and 11 and deteriorates heat dissipation of the discharge electrodes 9 to 11, so that the discharge electrodes 9 to 11 are more likely to expand.
However, according to this embodiment, since the crystalline foreign matter is not generated, the crystalline foreign matter does not adhere to the discharge electrodes 9 to 11. Therefore, the discharge electrodes 9 to 11 do not increase in temperature and greatly expand.

また、上記したように結晶状異物が生成されないので、チャンバー内に結晶状異物が残らないので、チャンバー内に放置された結晶状異物が再飛散するような問題も発生しない。
なお、上記第1実施形態の案内板13,14にスリットを形成し、このスリットを介して、フレッシュエアが流れるようにしてもよい。
Further, as described above, since the crystalline foreign matter is not generated, the crystalline foreign matter does not remain in the chamber, so that the problem that the crystalline foreign matter left in the chamber is scattered again does not occur.
It should be noted that slits may be formed in the guide plates 13 and 14 of the first embodiment, and fresh air may flow through the slits.

図3に示した第2実施形態は、チャンバーCを図示の形状にして案内板13,14を省略したものである。すなわち、上記チャンバーCは、上記案内板13,14を設ける位置に相当する部分を内側に曲げて、この曲面15をこの発明の案内手段にしたものである。このようにした案内手段としての曲面15はチャンバーCの側壁を兼ねるものである。
そして、この第2実施形態の作用・効果は、第1実施形態と同様であり、その詳細は省略する。
In the second embodiment shown in FIG. 3, the chamber C has the illustrated shape and the guide plates 13 and 14 are omitted. That is, in the chamber C, a portion corresponding to the position where the guide plates 13 and 14 are provided is bent inward, and the curved surface 15 is used as the guide means of the present invention. The curved surface 15 as the guiding means thus configured also serves as the side wall of the chamber C.
The operation and effect of this second embodiment are the same as those of the first embodiment, and their details are omitted.

放電電極から出力する放電エネルギーによって、フィルムの表面を処理する表面処理装置に最適である。 It is most suitable for the surface treatment device that treats the surface of the film with the discharge energy output from the discharge electrode.

R…処理ローラ、C…チャンバー、6…開口、9〜11…放電電極、13,14…案内手段である案内板、15…案内手段である曲面 R... Processing roller, C... Chamber, 6... Opening, 9-11... Discharge electrode, 13, 14... Guide plate as guide means, 15... Curved surface as guide means

Claims (4)

フィルムを搬送する処理ローラと、
この処理ローラに対向する開口を備えたチャンバーと、
このチャンバー内に設けられるとともに、上記フィルムの搬送方向に複数並べられた放電電極と、
上記チャンバー内のガスを吸引する吸引手段と、を備える一方、
フィルムの搬送方向上流又は下流の少なくとも一方の側もしくは双方の側に位置する放電電極の近傍であって、当該放電電極を挟んで上記処理ローラとは反対側に、チャンバー内に流入したフレッシュエアをガイドする案内手段が設けられ、上記フレッシュエアが放電電極と上記案内手段との対向間隔に導かれる表面処理装置。
A processing roller for transporting the film,
A chamber having an opening facing the processing roller,
A plurality of discharge electrodes provided in the chamber and arranged in the transport direction of the film,
While including a suction means for sucking the gas in the chamber,
In the vicinity of the discharge electrode located on at least one side or both sides of the film transport direction upstream or downstream, on the side opposite to the processing roller across the discharge electrode, fresh air flowing into the chamber is provided. A surface treatment apparatus which is provided with guide means for guiding, and the fresh air is guided to a facing interval between the discharge electrode and the guide means.
上記案内手段は、上記放電電極と間隔を保持した板である請求項1に記載された表面処理装置。 The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the guide means is a plate that maintains a distance from the discharge electrode. 上記案内手段は、上記放電電極と間隔を保持するとともに、スリットが1又は複数形成された板である請求項1又は2に記載された表面処理装置。 The surface treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein the guide means is a plate that maintains a distance from the discharge electrode and has one or more slits formed therein. 上記案内手段が上記チャンバーの側壁を兼ねる請求項1に記載された表面処理装置。
The surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the guiding means also serves as a side wall of the chamber.
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