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JP6774285B2 - Metal-clad laminate - Google Patents
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JP6774285B2 - Metal-clad laminate - Google Patents

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Description

本発明は、金属張積層板に関し、詳しくは、電子製品に使用されるフレキシブル回路基板(FPC)に用いられる金属張積層板に関する。 The present invention relates to a metal-clad laminate, and more particularly to a metal-clad laminate used for a flexible circuit board (FPC) used in an electronic product.

FPCは、可撓性を有し、3次元配線への可能性を有するため、コンピュータ及びその周辺機器、スマートフォンに代表される通信機器などの電子製品等に幅広く適用されている。FPCは、金属層と絶縁樹脂層とが積層された構造を有する金属張積層板の金属層を回路加工することによって製造される。 Since FPC has flexibility and potential for three-dimensional wiring, it is widely applied to electronic products such as computers and their peripheral devices, communication devices represented by smartphones, and the like. The FPC is manufactured by circuit processing a metal layer of a metal-clad laminate having a structure in which a metal layer and an insulating resin layer are laminated.

電子機器の小型化に伴い、FPCの薄型化、高密度化、多機能化が進展している。FPCを薄型化すると、絶縁樹脂層の剛性が低下するため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合が発生しやすくなっている。これらの不具合は、FPCを使用する電子製品の歩留まりや信頼性を低下させるため、その対策が求められている。 With the miniaturization of electronic devices, FPCs are becoming thinner, denser, and more multifunctional. When the FPC is made thinner, the rigidity of the insulating resin layer is lowered, so that problems such as breakage, damage, and peeling of the wiring layer due to bending are likely to occur in the FPC manufacturing process. Since these defects reduce the yield and reliability of electronic products that use FPC, countermeasures are required.

上記問題に対し、片面金属張積層板における絶縁樹脂層に接着層を設け、該接着層の表面を改質処理した後、その改質表面に、直接又は離形材を介在させて、他の片面金属張積層板の絶縁樹脂層を貼り合わせ、FPC加工用の両面金属張積層板を形成することが提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。 In response to the above problem, an adhesive layer is provided on the insulating resin layer of the single-sided metal-clad laminate, the surface of the adhesive layer is modified, and then the modified surface is directly or with a release material interposed therebetween. It has been proposed to bond the insulating resin layers of the single-sided metal-clad laminate to form a double-sided metal-clad laminate for FPC processing (for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

特開2015−168261号公報(図1Eなど)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-168261 (Fig. 1E, etc.) 特開2015−168262号公報(図1Dなど)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-168262 (Fig. 1D, etc.)

上記特許文献1、2の技術では、一旦貼り合わせた片面金属張積層板の絶縁樹脂層と他の片面金属張積層板の絶縁樹脂層(又は離形材)との剥離を容易にするため、接着層の表面にプラズマ処理、紫外線照射などの改質処理を行って、絶縁樹脂層表面の表面エネルギーを低下させている。そのため、通常のFPCの製造プロセスに比べ、改質処理のための工程が余分に必要であり、工程数の増加と設備の複雑化、スループットの低下を招く恐れがある。他方、改質処理を行わない場合には、絶縁樹脂層どうしの接着力が強くなり過ぎるので、剥離強度が大きくなり、剥離が困難であったり、剥離後のFPCに反りが生じたりするという問題があった。 In the techniques of Patent Documents 1 and 2, the insulating resin layer of the single-sided metal-clad laminate once bonded and the insulating resin layer (or release material) of the other single-sided metal-clad laminate are easily peeled off. The surface energy of the surface of the insulating resin layer is reduced by performing modification treatment such as plasma treatment and ultraviolet irradiation on the surface of the adhesive layer. Therefore, as compared with the normal FPC manufacturing process, an extra process for the reforming process is required, which may lead to an increase in the number of processes, complication of equipment, and a decrease in throughput. On the other hand, if the modification treatment is not performed, the adhesive strength between the insulating resin layers becomes too strong, so that the peeling strength becomes large, the peeling becomes difficult, and the FPC after peeling becomes warped. was there.

従って、本発明は、適度な接着性を有するとともに容易に剥離することが可能な、貼り合わせ構造の金属張積層板を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a metal-clad laminate having a bonded structure, which has appropriate adhesiveness and can be easily peeled off.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、絶縁樹脂層側で互いに貼り合せられた2つの片面金属張積層板を含む両面金属張積層板において、貼り合わせ面を形成する樹脂層に所定の体積比率でフィラーを含有させることによって、改質処理を行わずとも容易に剥離可能になることを見出し、本発明を完成した。 As a result of diligent studies, the present inventors have determined a resin layer forming a bonded surface in a double-sided metal-clad laminate including two single-sided metal-clad laminates bonded to each other on the insulating resin layer side. We have found that by containing a filler in a volume ratio, it can be easily peeled off without performing a modification treatment, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、
金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/絶縁樹脂層(C)/金属層(D)を有する金属張積層板であって、
前記絶縁樹脂層(B)は、前記絶縁樹脂層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有するとともに、
前記絶縁樹脂層(C)は、前記絶縁樹脂層(B)に接する樹脂層(C1)を有しており、該樹脂層(C1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有することを特徴とする金属張積層板である。
That is, the present invention
A metal-clad laminate having a metal layer (A) / insulating resin layer (B) / insulating resin layer (C) / metal layer (D).
The insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the insulating resin layer (C), and the resin layer (B1) contains a filler in the range of 1 to 10% by volume. With
The insulating resin layer (C) has a resin layer (C1) in contact with the insulating resin layer (B), and the resin layer (C1) contains a filler in the range of 1 to 10% by volume. It is a metal-clad laminate characterized by this.

本発明においては、樹脂層(B1)と樹脂層(C1)におけるフィラー含有率の差が5体積%以下であるのが良い。 In the present invention, the difference in filler content between the resin layer (B1) and the resin layer (C1) is preferably 5% by volume or less.

また、本発明においては、絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(C)が、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下のベース層を含む多層構造であるのが良い。 Further, in the present invention, the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (C) preferably have a multilayer structure including a base layer having a linear thermal expansion coefficient of 20 × 10-6 (1 / K) or less. ..

また、本発明においては、絶縁樹脂層(B)と絶縁樹脂層(C)との剥離強度が1〜30N/mの範囲内であるのが良い。 Further, in the present invention, the peel strength between the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (C) is preferably in the range of 1 to 30 N / m.

また、本発明においては、樹脂層(B1)及び樹脂層(C1)がポリイミドで形成されているのが良い。 Further, in the present invention, it is preferable that the resin layer (B1) and the resin layer (C1) are made of polyimide.

更に、本発明においては、ポリイミドを構成する全酸無水物成分の50モル%以上が3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)であるのが良い。 Further, in the present invention, it is preferable that 50 mol% or more of the total acid anhydride component constituting the polyimide is 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA).

更にまた、本発明においては、ポリイミドを構成する全ジアミノ成分の50モル%以上が4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)であるのが良い。 Furthermore, in the present invention, it is preferable that 50 mol% or more of all the diamino components constituting the polyimide are 4,4'-diaminodiphenyl ether (DAPE).

本発明の金属張積層板は、2つの片面金属張積層板の貼り合わせ面を形成する樹脂層にそれぞれ所定の体積比率でフィラーを含有するため、適度な接着性を有するとともに剥離が容易であり、剥離不能となったり、剥離後に反りが発生することを抑制できる。本発明の金属張積層板は、容易に剥離可能な両面金属張積層板であるため、両面の金属層に同時に回路配線加工を行った後、剥離することが可能であり、FPC製造プロセスの効率を大幅に向上させることができる。 Since the metal-clad laminate of the present invention contains a filler in a predetermined volume ratio in each of the resin layers forming the bonded surfaces of the two single-sided metal-clad laminates, it has appropriate adhesiveness and is easy to peel off. , It is possible to prevent the peeling from becoming impossible and the occurrence of warpage after peeling. Since the metal-clad laminate of the present invention is a double-sided metal-clad laminate that can be easily peeled off, it is possible to peel off the metal-clad laminates after simultaneously performing circuit wiring processing on both sides, and the efficiency of the FPC manufacturing process. Can be greatly improved.

また、本発明の金属張積層板は、片面金属張積層板の状態に比べて剛性が高いため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。従って、本発明の金属張積層板を用いることによって、FPC自体及びFPCを使用する電子製品の歩留まりと信頼性を向上させることができる。 Further, since the metal-clad laminate of the present invention has higher rigidity than the state of the single-sided metal-clad laminate, it is possible to prevent the occurrence of defects such as breakage, damage, and peeling of the wiring layer due to bending in the FPC manufacturing process. .. Therefore, by using the metal-clad laminate of the present invention, the yield and reliability of the FPC itself and the electronic product using the FPC can be improved.

本発明の一実施の形態の両面金属張積層板の構成を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the structure of the double-sided metal-clad laminate of one Embodiment of this invention. 図1の両面金属張積層板を構成する2つの片面金属張積層板の構成を示す模式的断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the structure of the two single-sided metal-clad laminates constituting the double-sided metal-clad laminate of FIG.

本発明の金属張積層板は、金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/絶縁樹脂層(C)/金属層(D)がこの順に積層された構造を有する両面金属張積層板である。つまり、金属層(A)と金属層(D)は、それぞれ外側に位置し、その間に絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(C)が介在配置される。ここで、絶縁樹脂層(B)は、絶縁樹脂層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%含有する。また、絶縁樹脂層(C)は、絶縁樹脂層(B)に接する樹脂層(C1)を有しており、該樹脂層(C1)に、フィラーを1〜10体積%含有する。 The metal-clad laminate of the present invention is a double-sided metal-clad laminate having a structure in which the metal layer (A) / insulating resin layer (B) / insulating resin layer (C) / metal layer (D) are laminated in this order. .. That is, the metal layer (A) and the metal layer (D) are respectively located on the outside, and the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (C) are interposed between them. Here, the insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the insulating resin layer (C), and the resin layer (B1) contains 1 to 10% by volume of a filler. Further, the insulating resin layer (C) has a resin layer (C1) in contact with the insulating resin layer (B), and the resin layer (C1) contains 1 to 10% by volume of a filler.

[両面金属張積層板]
本発明の一実施の形態について、適宜図面を参照して説明する。図1は、本実施の形態の両面金属張積層板100の構成を示す模式的断面図である。図2は、図1の両面金属張積層板100を構成する2つの片面金属張積層板120,120’の構成を示す模式的断面図である。本実施の形態の両面金属張積層板100は、図1に示すように、金属層(A)及び金属層(D)としての金属層101,101’と、絶縁樹脂層(B)及び絶縁樹脂層(C)としてのポリイミド層110,110’を備えている。ここで、ポリイミド層110,110’は、ベース層としての低熱膨張性ポリイミド層102,102’と、樹脂層(B1)及び樹脂層(C1)としての熱可塑性ポリイミド層103,103’とを備えた積層構造の複数のポリイミド層によって構成されている。また、両面金属張積層板100は、ポリイミド層110,110’の両表面に、金属層101,101’を備えた構造をしている。金属層101,101’に直接接着している低熱膨張性ポリイミド層102,102’、さらにこれと接着している熱可塑性ポリイミド層103,103’は、いずれもキャスティング法により形成されている。熱可塑性ポリイミド層103,103’は、接触面104で貼り合わされて両面金属張積層板100を形成している。熱可塑性ポリイミド層103,103’は、所定量のフィラー105を含有している。なお、ポリイミド層110,110’は、それぞれ2層構造に限らず、1層でもよいし、3層以上のポリイミド層を有していてもよい。
[Double-sided metal-clad laminate]
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configurations of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120'constituting the double-sided metal-clad laminate 100 of FIG. As shown in FIG. 1, the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment includes metal layers 101 and 101'as metal layers (A) and metal layers (D), and an insulating resin layer (B) and an insulating resin. The polyimide layers 110 and 110'as the layer (C) are provided. Here, the polyimide layers 110 and 110' include low heat-expandable polyimide layers 102 and 102' as a base layer and thermoplastic polyimide layers 103 and 103' as a resin layer (B1) and a resin layer (C1). It is composed of a plurality of polyimide layers having a laminated structure. Further, the double-sided metal-clad laminate 100 has a structure in which the metal layers 101 and 101'are provided on both surfaces of the polyimide layers 110 and 110'. The low thermal expansion polyimide layers 102, 102'directly adhered to the metal layers 101, 101'and the thermoplastic polyimide layers 103, 103'adhering to the metal layers 101, 101'are both formed by a casting method. The thermoplastic polyimide layers 103 and 103'are bonded at the contact surface 104 to form the double-sided metal-clad laminate 100. The thermoplastic polyimide layers 103 and 103'contain a predetermined amount of the filler 105. The polyimide layers 110 and 110'are not limited to the two-layer structure, respectively, and may be one layer or may have three or more polyimide layers.

本実施の形態の両面金属張積層板100は、機械力によって、両面金属張積層板100を構成する2つの片面金属張積層板120,120’を引き離すことができる。両面金属張積層板100を2つの片面金属張積層板120又は120’へ分離するために必要な剥離強度(引き剥がし強度)は、例えば1〜30N/mの範囲であることが好ましく、さらには5〜20N/mの範囲であることがより好適である。剥離強度が1N/mを満たないと、FPC製造プロセスにおける機械的な外力により接触面104での剥離が生じ易くなる。剥離強度が30N/mを上回ると、2つの片面金属張積層板120又は120’への分離が不能になったり、剥離できたとしても分離時に金属張積層板が引き伸ばされ反りが発生し易くなる。 In the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment, the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120'constituting the double-sided metal-clad laminate 100 can be separated by mechanical force. The peel strength (peeling strength) required to separate the double-sided metal-clad laminate 100 into two single-sided metal-clad laminates 120 or 120'is preferably in the range of, for example, 1 to 30 N / m, and further. More preferably, it is in the range of 5 to 20 N / m. If the peel strength is less than 1 N / m, peeling on the contact surface 104 is likely to occur due to a mechanical external force in the FPC manufacturing process. If the peel strength exceeds 30 N / m, it becomes impossible to separate the two single-sided metal-clad laminates 120 or 120', or even if the peeling is possible, the metal-clad laminates are stretched and warped easily during separation. ..

両面金属張積層板100は、片面金属張積層板120又は120’に比べて厚みを有するため、片面金属張積層板120又は120’の剛性を補強し、より優れた機械性質を付与することができる。そのため、両面金属張積層板100は、露光、現像、エッチング、メッキ加工などのウェットプロセス加工、ベーキング、高速プレスなどの高温域の加工を含むFPCの加工プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。 Since the double-sided metal-clad laminate 100 is thicker than the single-sided metal-clad laminate 120 or 120', it is possible to reinforce the rigidity of the single-sided metal-clad laminate 120 or 120'and impart better mechanical properties. it can. Therefore, the double-sided metal-clad laminate 100 is broken or damaged by bending in the FPC processing process including wet process processing such as exposure, development, etching, and plating processing, and processing in a high temperature region such as baking and high-speed pressing. , It is possible to prevent the occurrence of problems such as peeling.

本実施の形態の両面金属張積層板100は、図2に示すように、ポリイミド層110,110’と金属層101,101’とを有する片面金属張積層板120又は120’の貼付・剥離可能面103a,103a’同士を加熱圧着して製造される。片面金属張積層板120又は120’におけるポリイミド層110,110’が2層以上の複数層からなる場合には、上記したように熱可塑性ポリイミド層103,103’と低熱膨張性ポリイミド層102,102’を含むことができる。ここで、「熱可塑性ポリイミド層」は、加熱圧着温度で他のポリイミド層との接着性を担保するのに必要な熱可塑性を有しているものをいう。また、「低熱膨張性ポリイミド層」とは、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲であるポリイミド層をいう。 As shown in FIG. 2, the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment can be attached / detached from the single-sided metal-clad laminate 120 or 120'having a polyimide layer 110, 110'and a metal layer 101, 101'. It is manufactured by heat-bonding the surfaces 103a and 103a'to each other. When the polyimide layers 110 and 110'in the single-sided metal-clad laminate 120 or 120'consist of two or more layers, the thermoplastic polyimide layers 103 and 103' and the low thermal expansion polyimide layers 102 and 102 are as described above. Can include'. Here, the "thermoplastic polyimide layer" refers to a layer having the thermoplasticity necessary for ensuring the adhesiveness with other polyimide layers at the heat-bonding temperature. The "low thermal expansion polyimide layer" has a linear thermal expansion coefficient of 20 x 10-6 (1 / K) or less, preferably 1 x 10-6 to 17 x 10-6 (1 / K). A polyimide layer.

2つの片面金属張積層板120,120’のポリイミド層110,110’を貼り合わせるときの加熱圧着は、例えば次のような方法を選択することができる。すなわち、ハイドロプレス、真空タイプのハイドロプレス、オートクレーブ加圧式真空プレス、連続式熱ラミネータなどを使用することができる。このうち生産性に優れる点から、一対の加熱ロールを用いて加圧を行う連続式熱ラミネータがより好適な加熱圧着方法である。 For heat crimping when the polyimide layers 110 and 110'of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120' are bonded together, for example, the following method can be selected. That is, a hydropress, a vacuum type hydropress, an autoclave pressurizing vacuum press, a continuous thermal laminator, or the like can be used. Of these, a continuous thermal laminator that pressurizes using a pair of heating rolls is a more preferable heat crimping method because of its excellent productivity.

加熱圧着時の加熱圧着温度(熱プレス温度)については、特に限定されるものではないが、片面金属張積層板120,120’の最外層に位置する熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドのガラス転移点温度以上であることが望ましい。また、熱プレス圧力については、使用するプレス機器の種類にもよるが、0.1〜50MPa(約1〜約500kg/cm)が適当である。加熱圧着時のプレス温度が高くなりすぎると金属層101,101’およびポリイミド層110,110’の劣化等の不具合が発生する懸念があるため、この点においてもガラス転移点温度が比較的低い熱可塑性ポリイミド層103,103’同士を貼り合わせる方が好ましい。 The heat crimping temperature (heat pressing temperature) at the time of heat crimping is not particularly limited, but constitutes the thermoplastic polyimide layers 103, 103'located in the outermost layer of the single-sided metal-clad laminates 120, 120'. It is desirable that the temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the thermoplastic polyimide. The hot press pressure is 0.1 to 50 MPa (about 1 to about 500 kg / cm 2 ), although it depends on the type of press equipment used. If the press temperature during heat crimping becomes too high, problems such as deterioration of the metal layers 101, 101'and the polyimide layers 110, 110'may occur. Therefore, the glass transition temperature is also relatively low in this respect. It is preferable to bond the plastic polyimide layers 103 and 103'to each other.

<片面金属張積層板>
片面金属張積層板120,120’の製造においては、逐次的に複数のポリアミド酸の樹脂層を形成した後に一括してイミド化し、ポリイミド層110,110’とする方法が好ましいが、これに限定されるものではない。すなわち、多層ダイ等により複数のポリアミド酸の樹脂層を一括して塗布し、これを乾燥した後に一括して熱処理によるイミド化を行うことで複数のポリイミド層を形成してもよいし、あるいは、複数のポリアミド酸の樹脂層を逐次的に塗布した後に一括して乾燥、イミド化を行ってもよい。また、複数のポリアミド酸の樹脂溶液の塗布乾燥からイミド化までを逐次的に行うことで1層ずつポリイミド層を形成してもよい。複数のポリイミド層を形成するに当たって、これらの各処理は任意に組み合わせることができる。
<Single-sided metal-clad laminate>
In the production of the single-sided metal-clad laminates 120 and 120', a method of sequentially forming a plurality of polyamic acid resin layers and then imidizing them collectively to form the polyimide layers 110 and 110' is preferable, but the method is limited to this. It is not something that is done. That is, a plurality of polyimide layers may be formed by collectively applying a plurality of polyamic acid resin layers with a multilayer die or the like, drying the resin layers, and then performing imidization by heat treatment collectively. After the resin layers of a plurality of polyamic acids are sequentially applied, they may be dried and imidized all at once. Further, the polyimide layer may be formed one by one by sequentially applying and drying a plurality of polyamic acid resin solutions to imidization. In forming the plurality of polyimide layers, each of these treatments can be arbitrarily combined.

<金属層>
金属層101,101’は、接着性の観点からは金属箔を用いることが好ましく、当該金属箔の金属として、銅、アルミニウム、ステンレス、鉄、銀、パラジウム、ニッケル、クロム、モリブデン、タングステン、ジルコニウム、金、コバルト、チタン、タンタル、亜鉛、鉛、錫、シリコン、ビスマス、インジウム又はこれらの合金などから選択される金属を挙げることができる。導電性の点で特に好ましいものは銅箔である。なお、本実施の形態の両面金属張積層板100及び片面金属張積層板120,120’を連続的に生産する場合には、金属箔として、所定の厚さのものがロール状に巻き取られた長尺状の金属箔が用いられる。
<Metal layer>
It is preferable to use a metal foil for the metal layers 101 and 101'from the viewpoint of adhesiveness, and the metal of the metal foil is copper, aluminum, stainless steel, iron, silver, palladium, nickel, chromium, molybdenum, tungsten, zirconium. , Gold, cobalt, titanium, tantalum, zinc, lead, tin, silicon, bismuth, indium or metals selected from alloys thereof and the like. Copper foil is particularly preferable in terms of conductivity. When the double-sided metal-clad laminate 100 and the single-sided metal-clad laminate 120, 120'of the present embodiment are continuously produced, a metal foil having a predetermined thickness is wound into a roll. A long metal foil is used.

また、金属層101,101’のポリイミド層110,110’と直接接する面の表面粗さは、Rzで0.5〜4μmであることが好ましい。この範囲であれば、ポリイミド層110,110’との接着力がより良好となるためである。さらにはRzが0.5〜2.5μmであれば、好適な接着力と高密度配線形成時に求められる良好なエッチング性との両立を図ることができるため、より好ましい。ここで、Rzは、JIS B 0601(1994)に規定される十点平均粗さを示す。 Further, the surface roughness of the surface of the metal layers 101, 101 ′ that is in direct contact with the polyimide layers 110, 110 ′ is preferably 0.5 to 4 μm in Rz. This is because the adhesive strength with the polyimide layers 110 and 110'is better within this range. Further, when Rz is 0.5 to 2.5 μm, it is more preferable because it is possible to achieve both a suitable adhesive force and a good etching property required when forming a high-density wiring. Here, Rz indicates the ten-point average roughness defined in JIS B 0601 (1994).

<フィラー>
本実施の形態では、加熱圧着に供される2つの片面金属張積層板120又は120’の両方の最外層(最表面)に位置する熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドは、フィラー105を1〜10体積%の範囲内で含有することが好ましく、さらには2〜6体積%の範囲内で含有することがより好適である。熱可塑性ポリイミド層103,103’におけるフィラー105の含有量が1体積%に満たないと、接触面104の密着力が強固となり、両面金属張積層板100を2つの片面金属張積層板120又は120’へ分離する際に、分離が不能になったり、剥離できたとしても分離時に片面金属張積層板120又は120’が引き伸ばされ反りが発生し易くなる。一方、フィラー105の含有量が10体積%を超えると表面の凹凸が大きくなり外観的に平滑性が損なわれたり、接触面104の密着力が低下してFPC製造プロセスにおける機械的な外力により接触面104で剥離が生じ易くなる。
<Filler>
In the present embodiment, the polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'located on the outermost layers (outermost surfaces) of both the two single-sided metal-clad laminates 120 or 120'to be subjected to heat crimping is a filler. It is preferable to contain 105 in the range of 1 to 10% by volume, and more preferably in the range of 2 to 6% by volume. If the content of the filler 105 in the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'is less than 1% by volume, the adhesive force of the contact surface 104 becomes strong, and the double-sided metal-clad laminate 100 becomes two single-sided metal-clad laminates 120 or 120. At the time of separation into ‘, even if the separation becomes impossible or even if the separation is possible, the single-sided metal-clad laminate 120 or 120 ′ is stretched and warped easily. On the other hand, when the content of the filler 105 exceeds 10% by volume, the unevenness of the surface becomes large and the smoothness is impaired in appearance, or the adhesion force of the contact surface 104 decreases and the contact is made by a mechanical external force in the FPC manufacturing process. Peeling is likely to occur on the surface 104.

熱可塑性ポリイミド層103,103’におけるフィラー105の含有量は、上記範囲内であれば、同じであってもよいし、異なっていてもよい。フィラー105の含有量が異なる場合、熱可塑性ポリイミド層103と、熱可塑性ポリイミド層103’におけるフィラー105の含有率の差は、接着力を同程度にコントロールする観点から、5体積%以下であることが好ましい。 The content of the filler 105 in the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'may be the same or different as long as it is within the above range. When the contents of the filler 105 are different, the difference in the content of the filler 105 between the thermoplastic polyimide layer 103 and the thermoplastic polyimide layer 103'should be 5% by volume or less from the viewpoint of controlling the adhesive force to the same extent. Is preferable.

なお、フィラー105は、ポリイミド層110,110’の全体に分布していてもよい。すなわち、低熱膨張性ポリイミド層102,102’もフィラー105を含有していてもよい。 The filler 105 may be distributed throughout the polyimide layers 110 and 110'. That is, the low thermal expansion polyimide layers 102, 102'may also contain the filler 105.

フィラー105の材質としては、シリカ、アルミナ、窒化アルミニウム等が挙げられるが、これらの中でもシリカが好ましい。 Examples of the material of the filler 105 include silica, alumina, and aluminum nitride, and among these, silica is preferable.

フィラー105の形状としては、樹脂中への分散の均一性の観点から破砕状ではなく、球状であることが好ましい。さらには、フィラー105の平均粒子径が1〜10μmであることがより好ましい。なお、本発明において、球状とは、真球又は実質的に角のない丸味のある粒子状態であるものをいい、破砕状とは、破砕粒子が有する角のある任意の形状をもつ粒子状態であるものをいい、電子顕微鏡又は他の顕微鏡により確認することができる。 The shape of the filler 105 is preferably spherical rather than crushed from the viewpoint of uniformity of dispersion in the resin. Furthermore, it is more preferable that the average particle size of the filler 105 is 1 to 10 μm. In the present invention, the spherical shape means a true sphere or a rounded particle state having substantially no corners, and the crushed state means a particle state having an arbitrary shape with corners possessed by the crushed particles. Something, which can be confirmed with an electron microscope or another microscope.

<ポリイミド>
次に、ポリイミド層110,110’を構成するポリイミドについて説明する。本発明でポリイミドという場合、ポリイミドの他、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリシロキサンイミド、ポリベンズイミダゾールイミドなど、分子構造中にイミド基を有するポリマーからなる樹脂を意味する。
<Polyimide>
Next, the polyimides constituting the polyimide layers 110 and 110'will be described. The term polyimide in the present invention means a resin composed of a polymer having an imide group in its molecular structure, such as polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polysiloxaneimide, and polybenzimidazolimide, in addition to polyimide.

<熱可塑性ポリイミド>
熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドとしては、酸無水物成分として、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を50モル%以上含有する酸無水物を用い、これとジアミノ化合物と反応させて得られたものが好ましい。BTDAを50モル%以上含有するものとすることで、熱可塑性ポリイミド層103,103’層間の剥離性が向上し、分離時に片面金属張積層板120又は120’(あるいは、回路加工済みのもの)が引き伸ばされ反りが発生するリスクが抑えられる。BTDAのより好ましい含有量は70〜100モル%の範囲である。
<Thermoplastic polyimide>
The thermoplastic polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'contains 50 mol% or more of 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) as an acid anhydride component. It is preferably obtained by reacting an acid anhydride with a diamino compound. By containing 50 mol% or more of BTDA, the peelability between the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'is improved, and the single-sided metal-clad laminate 120 or 120'(or circuit-processed one) at the time of separation. Is stretched and the risk of warping is reduced. A more preferred content of BTDA is in the range of 70-100 mol%.

熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成する熱可塑性ポリイミドとしては、ジアミノ成分として、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)を50モル%以上含有するジアミノ化合物を用い、これと酸無水物と反応させて得られたものが好ましい。DAPEを50モル%以上含有するものとすることで、熱可塑性ポリイミド層103,103’の層間の剥離性が向上し、分離時に片面金属張積層板120又は120’(あるいは、回路加工済みのもの)が引き伸ばされ反りが発生するリスクが抑えられる。DAPEのより好ましい含有量は70〜100モル%の範囲である。 As the thermoplastic polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103', a diamino compound containing 50 mol% or more of 4,4'-diaminodiphenyl ether (DAPE) as a diamino component is used, and this is reacted with an acid anhydride. It is preferable that the obtained product is obtained. By containing 50 mol% or more of DAPE, the peelability between the layers of the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'is improved, and the single-sided metal-clad laminate 120 or 120'(or circuit-processed one) at the time of separation. ) Is stretched and the risk of warpage is reduced. A more preferred content of DAPE is in the range of 70-100 mol%.

ジアミノ化合物のうちDAPE以外のものとしては、NH−Ar1−NHで表される芳香族ジアミノ化合物が好適なものとして挙げられる。ここで、Ar1は下記式で表される基から選択されるものであり、アミノ基の置換位置は任意であるが、p,p’位が好ましい。Ar1は置換基を有することもできるが、好ましくは有しないか、有する場合にはその置換基は炭素数1〜6の低級アルキルまたは低級アルコキシ基であるのがよい。これらの芳香族ジアミノ化合物は1種のみを使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。 As the diamino compound other than DAPE, an aromatic diamino compound represented by NH 2- Ar1-NH 2 is preferable. Here, Ar1 is selected from the groups represented by the following formulas, and the substitution position of the amino group is arbitrary, but the p and p'positions are preferable. Ar1 may have a substituent, but preferably does not, or if it does, the substituent is a lower alkyl or lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Only one of these aromatic diamino compounds may be used, or two or more thereof may be used in combination.

Figure 0006774285
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ジアミノ化合物と反応させるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸およびその酸無水物、エステル化物、ハロゲン化物などが挙げられるが、芳香族テトラカルボン酸化合物が好適であり、ポリアミド酸の合成の容易さの点で、その酸無水物が好ましい。なお、芳香族テトラカルボン酸化合物としては、O(CO)Ar2(CO)Oで表される化合物が好適なものとして挙げられる。ここで、Ar2は、下記式で表される4価の芳香族基であることが好ましく、酸無水物基[(CO)O]の置換位置は任意であるが、対称の位置が好ましい。Ar2は、置換基を有することもできるが、好ましくは有しないか、有する場合にはその置換基は炭素数1〜6の低級アルキル基であるのがよい。より好ましい芳香族テトラカルボン酸化合物のうちBTDA以外のものとしては、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)、ピロメリット酸無水物(PMDA)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、および4,4’−オキシジフタル酸無水物(ODPA)又はこれらの組合せであるのがよい。これらのテトラカルボン酸化合物は1種のみを使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound to be reacted with the diamino compound include aromatic tetracarboxylic acid and its acid anhydride, esterified product, and halide, but aromatic tetracarboxylic acid compound is preferable, and polyamic acid is synthesized. The acid anhydride is preferred in terms of ease. As the aromatic tetracarboxylic acid compound, a compound represented by O (CO) 2 Ar2 (CO) 2 O is preferable. Here, Ar @ 2 is preferably a tetravalent aromatic group represented by the following formula, although the substitution position of an acid anhydride group [(CO) 2 O] is optional, the position of symmetry is preferred. Ar2 may have a substituent, but preferably does not have it, or if it does, the substituent is preferably a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Among the more preferable aromatic tetracarboxylic acid compounds, those other than BTDA include biphenyltetracarboxylic acid anhydride (BPDA), pyromellitic acid anhydride (PMDA), 3,3', 4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic acid. It is preferably an acid dianhydride (DSDA) and a 4,4'-oxydiphthalic acid anhydride (ODPA) or a combination thereof. Only one kind of these tetracarboxylic acid compounds may be used, or two or more kinds may be used in combination.

Figure 0006774285
Figure 0006774285

<低熱膨張性ポリイミド>
低熱膨張性ポリイミド層102,102’を構成するポリイミドは、上記した熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドの場合と同様に、NH−Ar1−NHで表される芳香族ジアミノ化合物とテトラカルボン酸化合物と反応させて得られたものが好ましい。ただし、低熱膨張性ポリイミド層102,102’の線熱膨張係数を20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲とするのがよく、この条件を達成する上で好適な芳香族ジアミノ化合物を選択することが好ましい。例えば、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル(m-TB)を50モル%以上含有するジアミノ化合物をテトラカルボン酸化合物と反応させて得られたものが好適なものとして挙げられ、さらには70モル%以上含有するジアミノ化合物を選択することがより好ましい。
<Low thermal expansion polyimide>
The polyimide constituting the low thermal expansion polyimide layers 102, 102'is an aromatic diamino compound represented by NH 2- Ar1-NH 2 as in the case of the polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103, 103' described above. And the one obtained by reacting with a tetracarboxylic acid compound is preferable. However, the coefficient of linear thermal expansion of the low thermal expansion polyimide layers 102, 102'is 20 × 10-6 (1 / K) or less, preferably in the range of 1 × 10-6 to 17 × 10-6 (1 / K). It is preferable to select an aromatic diamino compound suitable for achieving this condition. For example, a compound obtained by reacting a diamino compound containing 50 mol% or more of 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl (m-TB) with a tetracarboxylic acid compound is preferable. Further, it is more preferable to select a diamino compound containing 70 mol% or more.

ジアミノ化合物と反応させるテトラカルボン酸化合物としては、上記した熱可塑性ポリイミド層103,103’を構成するポリイミドの場合と同様の化合物を使用することができる。線熱膨張係数を20×10−6(1/K)以下、好ましくは1×10−6〜17×10−6(1/K)の範囲とする上でより好ましい芳香族テトラカルボン酸化合物は、ビフェニルテトラカルボン酸無水物(BPDA)、ピロメリット酸無水物(PMDA)又はこれらの組合せである。 As the tetracarboxylic acid compound to be reacted with the diamino compound, the same compound as in the case of the polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'described above can be used. A more preferable aromatic tetracarboxylic acid compound for setting the linear thermal expansion coefficient in the range of 20 × 10 -6 (1 / K) or less, preferably 1 × 10 -6 to 17 × 10 -6 (1 / K). , Biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) or a combination thereof.

<ポリイミド層(絶縁樹脂層全体)>
加熱圧着に供される2つの片面金属張積層板120,120’のポリイミド層110,110’の全体の線熱膨張係数については、好ましくは両方のポリイミド層110,110’が15×10−6〜35×10−6(1/K)の範囲であり、さらには16×10−6〜33×10−6(1/K)の範囲であることがより好適である。ポリイミド層110,110’の全体の線熱膨張係数が前記範囲外である場合、片面金属張積層板120,120’を得る工程において、片面金属張積層板120,120’の幅方向端部の反りが大きくなり、安定生産に支障が生じ易くなる。さらには2つの片面金属張積層板120,120’を加熱圧着して両面金属張積層板100を得る工程においても、幅方向端部の反りが内側に折れ込み易くなり、安定生産に支障が生じてしまうおそれがある。
<Polyimide layer (entire insulating resin layer)>
Regarding the overall coefficient of linear thermal expansion of the polyimide layers 110 and 110'of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120'to be subjected to heat crimping, preferably both polyimide layers 110 and 110' are 15 × 10-6. It is more preferably in the range of ~ 35 × 10 -6 (1 / K), and more preferably in the range of 16 × 10 -6 to 33 × 10 -6 (1 / K). When the overall coefficient of linear thermal expansion of the polyimide layers 110, 110'is out of the above range, in the step of obtaining the single-sided metal-clad laminate 120, 120', the widthwise end portion of the single-sided metal-clad laminate 120, 120' The warp becomes large, and stable production is likely to be hindered. Furthermore, even in the process of heat-pressing two single-sided metal-clad laminates 120 and 120'to obtain a double-sided metal-clad laminate 100, the warp at the end in the width direction tends to fold inward, which hinders stable production. There is a risk that it will end up.

熱可塑性ポリイミド層103,103’と低熱膨張性ポリイミド層102,102’を構成するポリイミドは、例えば次のような方法により製造することができる。すなわち、溶媒中で、上記のジアミノ化合物およびテトラカルボン酸二無水物をほぼ等モルの割合で混合し、反応温度0〜200℃の範囲で、好ましくは0〜100℃の範囲で反応させて、ポリアミド酸の樹脂溶液を得て、さらに、これをイミド化することによりポリイミドを得る方法がある。 The polyimide constituting the thermoplastic polyimide layers 103, 103'and the low thermal expansion polyimide layers 102, 102' can be produced, for example, by the following method. That is, the above diamino compound and tetracarboxylic dianhydride are mixed in a solvent at a ratio of approximately equimolar amounts, and reacted at a reaction temperature in the range of 0 to 200 ° C., preferably in the range of 0 to 100 ° C. There is a method of obtaining a resin solution of polyamic acid and further imidizing the solution to obtain polyimide.

溶媒としては、N−メチルピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルフォキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルフォラン、ブチロラクトン、クレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジグライム、トリグライムなどが挙げられる。 As the solvent, N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol, cyclohexanone, Examples thereof include dioxane, tetrahydrofuran, jiglime and triglime.

通常、ポリアミド酸の合成は、金属層101,101’への塗布前に、反応容器等の中で行われる。そして、ポリアミド酸の樹脂溶液を金属層101,101’上に塗布乾燥してポリアミド酸層を形成し、続く熱処理によってポリアミド酸層をイミド化することでポリイミド層を得る。当然、すでに形成されているポリアミド酸層上あるいはポリイミド層上に塗布してもよい。 Usually, the synthesis of polyamic acid is carried out in a reaction vessel or the like before application to the metal layers 101, 101'. Then, a resin solution of polyamic acid is applied and dried on the metal layers 101 and 101'to form a polyamic acid layer, and the polyamic acid layer is imidized by a subsequent heat treatment to obtain a polyimide layer. Of course, it may be applied on the already formed polyamic acid layer or on the polyimide layer.

乾燥および加熱イミド化処理の方法としては、例えばバッチ処理方式、連続処理方式などの任意の方法を選択可能である。バッチ処理方式は、ポリアミド酸の樹脂溶液を長尺状の金属箔に塗布した後、イミド化していない状態でその積層体をロール状に巻き取り、所定の温度に設定可能な熱風乾燥炉の中に一定時間静置し、最終的に200℃以上の高温にて熱処理することでイミド化を完了させる方法である。連続処理方式は、ポリアミド酸の樹脂溶液を長尺状の金属箔に塗布した後、乾燥炉内を連続移動させて所定の熱処理時間を確保させた上で、最終的に200℃以上の高温にて熱処理を行う方法である。 As a method for drying and heat imidization treatment, any method such as a batch treatment method or a continuous treatment method can be selected. In the batch processing method, a resin solution of polyamic acid is applied to a long metal foil, and then the laminate is wound into a roll in a non-imidized state in a hot air drying furnace that can be set to a predetermined temperature. This is a method of completing imidization by allowing the resin to stand for a certain period of time and finally heat-treating it at a high temperature of 200 ° C. or higher. In the continuous treatment method, after applying a resin solution of polyamic acid to a long metal foil, it is continuously moved in a drying furnace to secure a predetermined heat treatment time, and finally the temperature is raised to 200 ° C. or higher. This is a method of performing heat treatment.

これらは、生産性や歩留り等の観点からいずれの方法を選択してもよいが、金属層101,101’の酸化を防ぐことを目的として、200℃以上の高温における熱処理は減圧環境下、還元性気体雰囲気下あるいは還元性気体雰囲気下かつ減圧環境下にて行うことが好ましい。 Any of these methods may be selected from the viewpoint of productivity, yield, etc., but for the purpose of preventing oxidation of the metal layers 101 and 101', heat treatment at a high temperature of 200 ° C. or higher is reduced under a reduced pressure environment. It is preferable to carry out the treatment in a acidic gas atmosphere or a reducing gas atmosphere and a reduced pressure environment.

なお、乾燥およびイミド化処理工程における加熱によってポリアミド酸樹脂の溶媒が除去され、イミド化されるわけであるが、この際、高温で急激に熱処理を行うと樹脂表面にスキン層が生成して溶媒が蒸発しづらくなったり、発砲が生じたりするため、低温から段階的に高温まで上昇させながら熱処理を行うことが好ましい。また、加熱イミド化工程においては最終的に300〜400℃の温度で熱処理することが好ましい。 The solvent of the polyamic acid resin is removed and imidized by heating in the drying and imidization treatment steps. At this time, if a rapid heat treatment is performed at a high temperature, a skin layer is formed on the resin surface and the solvent is formed. Is difficult to evaporate and foaming occurs. Therefore, it is preferable to perform the heat treatment while gradually raising the temperature from a low temperature to a high temperature. Further, in the heating imidization step, it is preferable to finally heat-treat at a temperature of 300 to 400 ° C.

金属層101,101’に塗布するポリアミド酸の樹脂溶液の濃度は、ポリマーであるポリアミド酸の重合度にもよるが、5〜30重量%が好ましく、さらに好ましくは10〜20重量%である。ポリマー濃度が5重量%以上であれば1回の塗布で十分な膜厚が得られ、30重量%以下であれば当該樹脂溶液の粘度が高くなり過ぎず、均一かつ平滑に塗布することができるためである。 The concentration of the polyamic acid resin solution applied to the metal layers 101, 101'is preferably 5 to 30% by weight, more preferably 10 to 20% by weight, although it depends on the degree of polymerization of the polyamic acid as a polymer. If the polymer concentration is 5% by weight or more, a sufficient film thickness can be obtained by one application, and if it is 30% by weight or less, the viscosity of the resin solution does not become too high, and the resin solution can be applied uniformly and smoothly. Because.

以上、詳述したように、本実施の形態の両面金属張積層板100は、2つの片面金属張積層板120,120’の貼り合わせ面を形成する熱可塑性ポリイミド層103,103’にそれぞれ所定の体積比率でフィラー105を含有するため、適度な接着性を有するとともに、剥離が容易であり、剥離不能となったり、剥離後に反りが発生することを抑制できる。本実施の形態の両面金属張積層板100は、接触面104で容易に剥離可能であるため、両面の金属層101,101’に同時に回路配線加工を行った後、剥離することが可能であり、FPC製造プロセスの効率を大幅に向上させることができる。 As described in detail above, the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment is predetermined to the thermoplastic polyimide layers 103 and 103'that form the bonding surface of the two single-sided metal-clad laminates 120 and 120', respectively. Since the filler 105 is contained in the volume ratio of the above, it has an appropriate adhesiveness and is easy to peel off, so that it is possible to prevent the peeling from becoming impossible or the occurrence of warpage after peeling. Since the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment can be easily peeled off at the contact surface 104, it is possible to peel off the metal layers 101 and 101'on both sides after simultaneously performing circuit wiring processing. , The efficiency of the FPC manufacturing process can be significantly improved.

また、本実施の形態の両面金属張積層板100は、片面金属張積層板120,120’の状態に比べて剛性が高いため、FPCの製造プロセスにおいて、折り曲げによる配線層の破断、損傷、剥離などの不具合の発生を防止できる。従って、本実施の形態の両面金属張積層板100を用いることによって、FPC自体及びFPCを使用する電子製品の歩留まりと信頼性を向上させることができる。 Further, since the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment has higher rigidity than the state of the single-sided metal-clad laminates 120 and 120', the wiring layer is broken, damaged, or peeled off due to bending in the FPC manufacturing process. It is possible to prevent the occurrence of such problems. Therefore, by using the double-sided metal-clad laminate 100 of the present embodiment, the yield and reliability of the FPC itself and the electronic product using the FPC can be improved.

以下、実施例により、本発明の実施の形態についてより具体的に説明する。また、比較例を示すことにより、本実施の形態の優位性を明らかにする。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Moreover, the superiority of this embodiment will be clarified by showing a comparative example.

1.各種物性測定および性能試験方法
[ガラス転移点温度の測定]
銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルム(10mm×22.6mm)をDMAにて20℃から500℃まで5℃/分で昇温させたときの動的粘弾性を測定し、ガラス転移点温度Tg(tanδ極大値)を求めた。
1. 1. Various physical property measurement and performance test method [Measurement of glass transition temperature]
The dynamic viscoelasticity of a polyimide film (10 mm × 22.6 mm) obtained by etching and removing a copper foil when the temperature was raised from 20 ° C. to 500 ° C. at 5 ° C./min by DMA was measured, and the glass transition was performed. The point temperature Tg (tan δ maximum value) was determined.

[線熱膨張係数の測定]
銅箔をエッチングして得られたポリイミドフィルムを、セイコーインスツルメンツ製のサーモメカニカルアナライザーを使用し、250℃まで昇温し、更にその温度で10分保持した後、5℃/分の速度で冷却し、240℃から100℃までの平均熱膨張係数(線熱膨張係数)を求めた。
[Measurement of coefficient of linear thermal expansion]
The polyimide film obtained by etching the copper foil is heated to 250 ° C. using a thermomechanical analyzer manufactured by Seiko Instruments, held at that temperature for 10 minutes, and then cooled at a rate of 5 ° C./min. , The average coefficient of thermal expansion (linear thermal expansion coefficient) from 240 ° C. to 100 ° C. was determined.

[剥離強度の測定]
2つの片面フレキシブル銅張積層板を貼り合せて得られた両面フレキシブル銅張積層板を25mm×100mmにカットし、引っ張り試験器にて180°引き剥がし法により剥離強度を測定した。
[Measurement of peel strength]
A double-sided flexible copper-clad laminate obtained by laminating two single-sided flexible copper-clad laminates was cut into a size of 25 mm × 100 mm, and the peel strength was measured by a 180 ° peeling method with a tensile tester.

[外観性状]
250mm×250mmサイズの片面フレキシブル銅張積層板の樹脂面側を目視で観察し、直径が100μm以上の突起が確認された場合、これを「外観不良」と判断した。
[Appearance]
The resin surface side of the single-sided flexible copper-clad laminate having a size of 250 mm × 250 mm was visually observed, and when a protrusion having a diameter of 100 μm or more was confirmed, this was judged to be “poor appearance”.

[剥離後反りの測定]
フレキシブル銅張積層板から10cm×10cmサイズのシートを作成し、このシートを机上に載置したときに最も机の面から浮き上がった部分の机の面からの高さをノギスを用いて測定し、これを反り量とした。
[Measurement of warpage after peeling]
A sheet with a size of 10 cm x 10 cm was prepared from a flexible copper-clad laminate, and when this sheet was placed on the desk, the height of the part that was most raised from the desk surface was measured using a caliper. This was taken as the amount of warpage.

2.ポリアミド酸樹脂の合成
合成例1(フィラー含有なし):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、312.20gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に4,4’−ジアミノジフェニルエーテル14.67g(0.073モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、23.13g(0.072モル)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,960mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液aを得た。なお、溶液粘度は、E型粘度計による25℃でのみかけ粘度の値である(以下、同様)。このポリアミド酸の樹脂溶液aから得られたポリイミドのガラス転移点温度は312℃で、線熱膨張係数は45×10−6(1/K)であった。
2. Synthesis of polyamic acid resin Synthesis example 1 (without filler):
312.20 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 14.67 g (0.073 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was dissolved in this reaction vessel with stirring in the vessel. Next, 23.13 g (0.072 mol) of 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was added. Then, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution a having a solution viscosity of 2,960 mPa · s. The solution viscosity is a value of the apparent viscosity at 25 ° C. by an E-type viscometer (hereinafter, the same applies). The glass transition temperature of the polyimide obtained from the resin solution a of the polyamic acid was 312 ° C., and the coefficient of linear thermal expansion was 45 × 10 -6 (1 / K).

合成例2(フィラー含有量1体積%):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、312.20gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に球状フィラー(シリカ、平均粒径1.2μm、アドマテックス社製、「SE4050」;以下、同様である)を0.60g加え、超音波分散装置にて3時間分散させた。この溶液に4,4’−ジアミノジフェニルエーテル14.67g(0.073モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、23.13g(0.072モル)の3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度3,160mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液bを得た。
Synthesis Example 2 (filler content 1% by volume):
312.20 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. To this reaction vessel, 0.60 g of a spherical filler (silica, average particle size 1.2 μm, manufactured by Admatex, “SE4050”; the same applies hereinafter) was added, and the mixture was dispersed by an ultrasonic disperser for 3 hours. 14.67 g (0.073 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether was dissolved in this solution with stirring in a container. Next, 23.13 g (0.072 mol) of 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was added. Then, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution b having a solution viscosity of 3,160 mPa · s.

合成例3(フィラー含有量10体積%):
球状フィラーを6.60gとしたこと以外は合成例2と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液cを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液cの溶液粘度は3,500mPa・sであった。
Synthesis Example 3 (filler content 10% by volume):
A resin solution c of polyamic acid was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the amount of the spherical filler was 6.60 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution c was 3,500 mPa · s.

合成例4(フィラー含有量15体積%):
球状フィラーを10.50gとしたこと以外は合成例2と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液dを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液dの溶液粘度は4,100mPa・sであった。
Synthesis Example 4 (filler content 15% by volume):
A resin solution d of polyamic acid was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that the amount of the spherical filler was 10.50 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution d was 4,100 mPa · s.

合成例5(フィラー含有なし):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、308.00gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン27.14g(0.066モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、14.86g(0.068モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,850mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液eを得た。このポリアミド酸の樹脂溶液eから得られたポリイミドのガラス転移点温度は290℃で、線熱膨張係数は55×10−6(1/K)であった。
Synthesis Example 5 (without filler):
308.00 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 27.14 g (0.066 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane was dissolved in this reaction vessel with stirring in the vessel. Next, 14.86 g (0.068 mol) of pyromellitic dianhydride was added. Then, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution e having a solution viscosity of 2,850 mPa · s. The glass transition temperature of the polyimide obtained from the resin solution e of the polyamic acid was 290 ° C., and the coefficient of linear thermal expansion was 55 × 10 -6 (1 / K).

合成例6(フィラー含有量1体積%):
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、308.00gのN,Nジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に球状フィラーを0.70g加え、超音波分散装置にて3時間分散させた。この溶液に2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン27.14g(0.066モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、14.86g(0.068モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度2,960mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液fを得た。
Synthesis Example 6 (filler content 1% by volume):
308.00 g of N, N dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. 0.70 g of spherical filler was added to this reaction vessel, and the mixture was dispersed by an ultrasonic disperser for 3 hours. 27.14 g (0.066 mol) of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane was dissolved in this solution with stirring in a container. Next, 14.86 g (0.068 mol) of pyromellitic dianhydride was added. Then, stirring was continued for 3 hours to obtain a polyamic acid resin solution f having a solution viscosity of 2,960 mPa · s.

合成例7(フィラー含有量10体積%):
球状フィラーを7.30gとしたこと以外は合成例6と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液gを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液gの溶液粘度は3,200mPa・sであった。
Synthesis Example 7 (filler content 10% by volume):
A resin solution g of polyamic acid was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the amount of the spherical filler was 7.30 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution g was 3,200 mPa · s.

合成例8(フィラー含有量15体積%):
球状フィラーを11.65gとしたこと以外は合成例6と同様にしてポリアミド酸の樹脂溶液hを得た。ポリアミド酸の樹脂溶液hの溶液粘度は3,700mPa・sであった。
Synthesis Example 8 (filler content 15% by volume):
A resin solution h of polyamic acid was obtained in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the amount of the spherical filler was 11.65 g. The solution viscosity of the polyamic acid resin solution h was 3,700 mPa · s.

合成例9
熱電対および攪拌機を備えると共に窒素導入が可能な反応容器に、297.50gのN,N−ジメチルアセトアミドを入れた。この反応容器に4,4’−ジアミノ−2,2’ジメチルビフェニル25.27g(0.119モル)を容器中で撹拌しながら溶解させた。次に、6.87g(0.023モル)の3,3’−4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物および20.36g(0.093モル)のピロメリット酸二無水物を加えた。その後、3時間撹拌を続け、溶液粘度21,000mPa・sのポリアミド酸の樹脂溶液iを得た。このポリアミド酸の樹脂溶液iから得られたポリイミドのガラス転移点温度は360℃で、線熱膨張係数は15×10−6(1/K)であった。
Synthesis example 9
297.50 g of N, N-dimethylacetamide was placed in a reaction vessel equipped with a thermocouple and a stirrer and capable of introducing nitrogen. In this reaction vessel, 25.27 g (0.119 mol) of 4,4'-diamino-2,2'dimethylbiphenyl was dissolved with stirring in the vessel. Next, 6.87 g (0.023 mol) of 3,3'-4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 20.36 g (0.093 mol) of pyromellitic dianhydride were added. .. Then, stirring was continued for 3 hours to obtain a resin solution i of polyamic acid having a solution viscosity of 21,000 mPa · s. The glass transition temperature of the polyimide obtained from the resin solution i of the polyamic acid was 360 ° C., and the coefficient of linear thermal expansion was 15 × 10 -6 (1 / K).

(実施例1)
厚さ12μmで長尺状の電解銅箔の片面に合成例9で調製したポリアミド酸の樹脂溶液iを均一に塗布した後(第1層目)、130℃で加熱乾燥し溶媒を除去した。次に、この塗布面側に合成例2で調製したポリアミド酸の樹脂溶液bを均一に塗布し(第2層目)、130℃で加熱乾燥し溶媒を除去した。この長尺状の積層体を130℃から開始して300℃まで段階的に温度が上がるように設定した連続硬化炉にて、合計10分程度の時間をかけて熱処理し、ポリイミド層の厚みが25μmの片面フレキシブル銅張積層板を得た。続いてこの片面フレキシブル銅張積層板2つを、そのポリイミド層面同士で貼り合わせ、同時に一対の加熱ロール間に1m/分の速度で連続的に供給して加熱加圧することで積層し、長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。このときロール表面温度は380℃であり、ロール間の線圧は134kN/mであった。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 1)
After uniformly applying the resin solution i of the polyamic acid prepared in Synthesis Example 9 to one side of a long electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm (first layer), the solvent was removed by heating and drying at 130 ° C. Next, the polyamic acid resin solution b prepared in Synthesis Example 2 was uniformly applied to the coated surface side (second layer) and dried by heating at 130 ° C. to remove the solvent. This long laminate is heat-treated in a continuous curing furnace set to start from 130 ° C. and gradually increase the temperature to 300 ° C. over a total time of about 10 minutes to increase the thickness of the polyimide layer. A 25 μm single-sided flexible copper-clad laminate was obtained. Subsequently, the two single-sided flexible copper-clad laminates are laminated with each other on the polyimide layer surfaces, and at the same time, they are continuously supplied between a pair of heating rolls at a speed of 1 m / min and laminated by heating and pressurizing. A double-sided flexible copper-clad laminate was obtained. At this time, the roll surface temperature was 380 ° C., and the linear pressure between the rolls was 134 kN / m. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(実施例2)
第2層目を合成例3で調製したポリアミド酸の樹脂溶液cにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 2)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution c prepared in Synthesis Example 3. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(実施例3)
第2層目を合成例6で調製したポリアミド酸の樹脂溶液fにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 3)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution f prepared in Synthesis Example 6. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(実施例4)
第2層目を合成例7で調製したポリアミド酸の樹脂溶液gにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Example 4)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution g prepared in Synthesis Example 7. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(比較例1)
第2層目を合成例1で調製したポリアミド酸の樹脂溶液aにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Comparative Example 1)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution a prepared in Synthesis Example 1. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(比較例2)
第2層目を合成例4で調製したポリアミド酸の樹脂溶液dにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は一部剥離が生じ貼り付き性が不十分であった。
(Comparative Example 2)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution d prepared in Synthesis Example 4. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing were partially peeled off and had insufficient stickability.

(比較例3)
第2層目を合成例5で調製したポリアミド酸の樹脂溶液eにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は相互に剥がれることはなく接着していた。
(Comparative Example 3)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution e prepared in Synthesis Example 5. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing did not peel off from each other and adhered to each other.

(比較例4)
第2層目を合成例8で調製したポリアミド酸の樹脂溶液hにより形成したこと以外は実施例1と同様にして長尺状の両面フレキシブル銅張積層板を得た。加熱加圧により積層したポリイミド層は一部剥離が生じ貼り付き性が不十分であった。
(Comparative Example 4)
A long double-sided flexible copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second layer was formed of the polyamic acid resin solution h prepared in Synthesis Example 8. The polyimide layers laminated by heating and pressurizing were partially peeled off and had insufficient stickability.

以上の結果をまとめて表1に示す。 The above results are summarized in Table 1.

Figure 0006774285
Figure 0006774285

以上、本発明の実施の形態を例示の目的で詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に制約されることはない。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail for the purpose of illustration, the present invention is not limited to the above embodiments.

100…両面金属張積層板、101,101’…金属層、102,102’…低熱膨張性ポリイミド層、103,103’…熱可塑性ポリイミド層、103a,103a’…貼付・剥離可能面、104…接触面、105…フィラー、110,110’…ポリイミド層、120,120’…片面金属張積層板 100 ... Double-sided metal-clad laminate, 101, 101'... Metal layer, 102, 102' ... Low thermal expansion polyimide layer, 103, 103' ... Thermoplastic polyimide layer, 103a, 103a' ... Stickable / peelable surface, 104 ... Contact surface, 105 ... Filler, 110, 110'... Polyimide layer, 120, 120' ... Single-sided metal-clad laminate

Claims (7)

金属層(A)/絶縁樹脂層(B)/絶縁樹脂層(C)/金属層(D)を有する金属張積層板であって、
前記絶縁樹脂層(B)は、前記絶縁樹脂層(C)に接する樹脂層(B1)を有しており、該樹脂層(B1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有するとともに、
前記絶縁樹脂層(C)は、前記絶縁樹脂層(B)に接する樹脂層(C1)を有しており、該樹脂層(C1)に、フィラーを1〜10体積%の範囲内で含有することを特徴とする金属張積層板。
A metal-clad laminate having a metal layer (A) / insulating resin layer (B) / insulating resin layer (C) / metal layer (D).
The insulating resin layer (B) has a resin layer (B1) in contact with the insulating resin layer (C), and the resin layer (B1) contains a filler in the range of 1 to 10% by volume. With
The insulating resin layer (C) has a resin layer (C1) in contact with the insulating resin layer (B), and the resin layer (C1) contains a filler in the range of 1 to 10% by volume. A metal-clad laminate characterized by this.
前記樹脂層(B1)と前記樹脂層(C1)におけるフィラー含有率の差が5体積%以下である請求項1に記載の金属張積層板。 The metal-clad laminate according to claim 1, wherein the difference in filler content between the resin layer (B1) and the resin layer (C1) is 5% by volume or less. 前記絶縁樹脂層(B)及び前記絶縁樹脂層(C)が、線熱膨張係数が20×10−6(1/K)以下のベース層を含む多層構造である請求項1又は2に記載の金属張積層板。 The first or second claim, wherein the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (C) have a multilayer structure including a base layer having a linear thermal expansion coefficient of 20 × 10-6 (1 / K) or less. Metal-clad laminate. 前記絶縁樹脂層(B)と前記絶縁樹脂層(C)との剥離強度が1〜30N/mの範囲内である請求項1から3のいずれか1項に記載の金属張積層板。 The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the peel strength between the insulating resin layer (B) and the insulating resin layer (C) is in the range of 1 to 30 N / m. 前記樹脂層(B1)及び前記樹脂層(C1)がポリイミドで形成される請求項1から4のいずれか1項に記載の金属張積層板。 The metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin layer (B1) and the resin layer (C1) are formed of polyimide. 前記ポリイミドを構成する全酸無水物成分の50モル%以上が3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)である請求項5に記載の金属張積層板。 The metal-clad laminate according to claim 5, wherein 50 mol% or more of the total acid anhydride component constituting the polyimide is 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA). 前記ポリイミドを構成する全ジアミノ成分の50モル%以上が4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DAPE)である請求項5又は6に記載の金属張積層板。
The metal-clad laminate according to claim 5 or 6, wherein 50 mol% or more of all the diamino components constituting the polyimide is 4,4'-diaminodiphenyl ether (DAPE).
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