JP6799353B2

JP6799353B2 - 帯電部材および電子写真装置

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Publication number: JP6799353B2
Application number: JP2016208717A
Authority: JP
Inventors: 匠古川; 渡辺　宏暁; 宏暁渡辺; 健哉寺田; 雄也友水; 敏郎鈴木; 謙一矢澤; 和弘下所
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Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2015-10-26
Filing date: 2016-10-25
Publication date: 2020-12-16
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Description

本発明は電子写真装置に用いられる帯電部材および電子写真装置に関する。

電子写真感光体の如き被帯電体を接触帯電させるための帯電部材として、特許文献１には、バインダー樹脂中に分散している導電性炭素粒子を含む最外層を備えた帯電部材が開示されている。また、特許文献１には、導電性炭素粒子に起因する凸部を表面に有している帯電部材が好ましい形態であることが記載されている。

ところで、特許文献２には、帯電ローラの表面への汚れの付着を抑制し得る帯電装置として、帯電部材を感光体に対して周速差を付けて駆動する帯電装置が提案されている。

特開２００８−２７６０２４号公報特開平１１−１７４７８４号公報

本発明者らは、導電性炭素粒子の如き導電性粒子に由来する凸部を表面に有する帯電部材を、特許文献２に記載の帯電装置に適用したところ、感光体を安定に帯電させることができない場合があることを見出した。これは、感光体と主に当接する帯電部材の凸部が、導電性粒子に起因するものであるため、感光体と帯電部材との周速に差がある場合、接触部において帯電部材から感光体に電荷の注入が生じてしまうためであると考えられる。すなわち、電荷注入に伴って、感光体の表面電位が一定の値に収束することなく、感光体が回転して帯電ローラとこすれ合うたびに感光体の表面電位が上昇し、感光体の電位が安定しないことがあるものと考えられる。本明細書において用いられる「絶縁性」は「電気的に絶縁性」ということを意味する。

一方、本発明者らの検討によれば、樹脂粒子のごとき絶縁性粒子に起因する凸部を表面に有する帯電部材では、上記したような電荷注入による感光体の電位の不安定化という課題は生じにくい。しかしながら、絶縁性粒子に起因する凸部を表面に有する帯電部材は、近年の電子写真画像形成装置のプロセススピードの高速化に対応させることが困難であるとの認識を本発明者らは得ている。

すなわち、絶縁性粒子に起因する凸部から放電が生じると、当該凸部に電荷が蓄積されるまでは、当該凸部からは放電し得ないためである。

本発明の一態様は、感光体に対する電荷注入を抑制することができ、かつ、速いプロセススピードの電子写真画像形成装置に用いた場合にも安定して感光体を帯電させ得る帯電部材の提供に向けたものである。

また、本発明の他の態様は、高品位な電子写真画像を与える電子写真装置の提供に向けたものである。

本発明の一態様によれば、
導電性支持体と、導電性の表面層とを備えた帯電部材であって、
該導電性の表面層は、
外表面に、互いに独立した複数の凹部を有し、
該凹部の各々に、絶縁性粒子を保持しており、
該絶縁性粒子は、該帯電部材の表面に露出しており、かつ、該帯電部材の表面に凸部を生じさせており、
該凹部および該凹部に保持されてなる該絶縁性粒子を該支持体の表面に正投影して得られる正投影像において、該絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と、該凹部に由来する投影像の外縁とが離間している部位を有し、
該凹部の壁の一部は、該帯電部材の表面の一部を構成しており、
該絶縁性粒子の平均粒子径が６μｍ以上、３０μｍ以下であり、かつ、該絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と該凹部に由来する投影像の外縁の離間した部位の距離が１０μｍ以上、７０μｍ以下であることを特徴とする帯電部材が提供される。

本発明の別の態様によれば、前記帯電部材と、
該帯電部材に接触配置され、該帯電部材によって帯電可能な被帯電部材とを有する
ことを特徴とする電子写真装置が提供される。

本発明の一態様によれば、感光体に対する電荷注入を抑制することができ、かつ、速いプロセススピードの電子写真画像形成装置に用いた場合にも安定して感光体を帯電させ得る帯電部材を提供することができる。また本発明の他の態様によれば、高品位な電子写真画像を与える電子写真装置を提供することができる。

帯電部材の表面形態の一例を示す図（写真）である。帯電部材の表面形状の一例を示す模式図である。帯電部材の表面形状の一例を示す模式図である。帯電部材の表面形状の一例を示す模式図である。帯電部材の表面形状の一例を示す模式図である。帯電ローラの構成例を示す模式図である。クロスヘッド押出成型機の一例の概略構成図である。クロスヘッド押出口付近の一例の模式図である。帯電部材を有する電子写真装置の一例を模式的に示す構成図である。凹部の形状の例を示す模式図である。凹部の形状の例を示す模式図である。凹部の形状の例を示す模式図である。凹部の形状の例を示す模式図である。凹部の形状の例を示す模式図である。凹部の形状の例を示す模式図である。絶縁性粒子の重心位置に対する間隙の重心位置の配向を説明するための模式図である。

本発明者らは、被帯電体への電荷注入を抑制でき、かつ、プロセススピードの高速化にも対応し得る帯電部材を得るべく検討を重ねた結果、本発明をなすに至った。

本発明の一態様に係る帯電部材は、導電性支持体と、導電性の表面層とを備えている。

表面層は、導電性弾性体で形成することができる。表面層の表面は複数個の互いに独立してなる凹部を有する。そして、表面層は、各々の凹部に、絶縁性粒子を保持している。なお、ここで言う「凹部」は、最終製品としての帯電部材において窪んでいる部分だけを意味するのではなく、絶縁性粒子によって占められている部分も含めた表面層（典型的には導電性弾性体の表面）における窪みを意味する。

絶縁性粒子の各々は、帯電部材の表面に露出しており、凸部を形成している。つまり、この絶縁性粒子は、表面層の構成材料（絶縁性粒子以外）に埋没しておらず、その一部が表面層構成材料（絶縁性粒子以外）から突出している。

凹部およびその凹部に保持された絶縁性粒子を支持体の表面に正投影した時に得られる正投影像において、凹部に由来する投影像の外縁と絶縁性粒子に由来する投影像の外縁が離間して間隙を成している。凹部の壁の一部は、帯電部材の表面の一部を構成している。つまり、凹部の壁の少なくとも一部が、絶縁性粒子によって覆われることなく、表面に露出している。

本発明者らは、本発明の一態様に係る帯電部材の凸部が絶縁性粒子に起因するものであるにも関わらず、速いプロセススピードに対応し得る理由を以下のように推測している。

まず、図１に本発明の帯電部材の表面の一例を示す。図２Ａは帯電部材の表面に対し接線方向を視点とした投影図（断面図）であり、図２Ｂは帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした投影図である。

帯電部材の表面とは、被帯電体と接する面もしくは近接する面である。また、一般的に帯電部材は所定の表面粗さを有するが、帯電部材の表面に対する法線方向や接線方向を定義する基準となる面は、その表面粗さの高さ方向の平均線を通る面とする。表面層を成す材料である導電性ゴム組成物が凹部１１を形成している。このようにして、表面層の外表面には、互いに独立した複数の凹部が存在する。凹部１１に絶縁性粒子が存在する。帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした投影図において、絶縁性粒子の外縁と、この絶縁性粒子が存在する凹部の外縁の少なくとも一部は、離間した状態で存在している。つまり、この投影図において、絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と、凹部に由来する投影像の外縁とが離間している部位が存在する。この部位には、絶縁性粒子の壁と凹部の壁で囲まれた間隙が存在する。絶縁性粒子は、凸部１２を形成している。

この帯電部材の表面に対し接線方向を視点とした投影図を模式的に表したものが図２Ａである。導電性の凹部の外縁のうち、絶縁性粒子の外縁と接していない部分と、絶縁性粒子との間に放電が生じ、その放電によって絶縁性粒子の凸部がチャージアップ２１する。そのため、感光体と凸部の電位差が大きくなり、強い放電２２が生じる。よって、絶縁性粒子の凸部であっても、同じ高さの導電性の凸部に匹敵する帯電均一性が得られると推定する。この作用は絶縁性粒子による凸部と凹部に電位差と間隙が必要であり、絶縁性粒子が導電性であったり、絶縁性粒子の外縁の全てが凹部と接していたりする場合には発現しない。

この絶縁性粒子からなる凸部のチャージアップは、感光体と帯電部材とのニップ通過前に発生し、放電可能な感光体と帯電部材との距離になった時に放電する。ニップ通過時には、チャージアップされ蓄積された凸部の電荷は既に減少しており、感光体との接触時の電荷移動はほとんど起こらない。そのため、導電性粒子の場合に起こることのある感光体電位が上昇し続ける現象が起こりにくい。

このような作用を得るための帯電部材の表面形状を断面図２Ｃにて説明する。帯電部材表面に対し法線方向を高さとして表現する。絶縁性粒子の平均粒子径は６μｍ以上、３０μｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が６μｍ以上であれば、感光体の回転方向上流の放電不足に起因して下流での放電が断続的に発生するために起こる横スジ状の画像不良を容易に抑制できる。また、平均粒子径が３０μｍ以下であれば、凸部の周囲にトナーや外添剤や紙粉が付着することにより、帯電電位が低下する事による点状の画像不良（カブリと呼ぶ）が発生する事を容易に抑制できる。

絶縁性粒子の凸部１２の高さ２４は表面形状の高さの平均線２３よりも高く、３μｍ以上高いことが好ましい。凸部の高さが高いことで、感光体の回転方向上流の放電不足に起因して下流での放電が断続的に発生するために起こる横スジ状の画像不良を容易に抑制できる。

絶縁性粒子の壁と凹部の壁で囲まれた間隙の深さ２５は表面形状の高さの平均線２３よりも低く、間隙の深さは平均粒子径の１／３以上が好ましい。

凹部に由来する投影像の外縁２６とは、凹部の輪郭と高さの平均線との交点になる凹部の周囲と定義する。また、絶縁性粒子に由来する投影像の外縁とは、前記正投影像において、絶縁性粒子の輪郭によって形成される外縁を意味する。なお、本明細書において「凹部の外縁」および「絶縁性粒子の外縁」という語は、特に断りの無い限り、それぞれ「凹部に由来する投影像の外縁」および「絶縁性粒子に由来する投影像の外縁」を意味する。

帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした投影図において、絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と凹部に由来する投影像の外縁とが離間した部位の距離（以下、「間隙部距離」ということがある。）について説明する。間隙部距離２７は、帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした面の投影図において、絶縁性粒子の外縁のある１点から法線方向に引いた線と凹部の外縁との交点がなす線分のうち、最も長い線分と定義する（図２Ｄ）。間隙部距離２７は、１０μｍ以上、７０μｍ以下である事が好ましい。間隙部距離２７が１０μｍ以上、７０μｍ以下であれば、凸部と凹部の外縁に存在する凹部の角部分の間で放電が起こり、絶縁性の凸部がチャージアップすることで感光体とのギャップの局所的な電界が強くなる。よって、強い放電が起き、帯電均一性が容易に得られる。

間隙の深さは、間隙部距離２７を１００％とした時に、表面形状の高さの平均線に対し１０％以上、５０％以下の深さである事が好ましい。この比率が１０％以上であると、帯電均一性を得ることが容易であり、５０％以下であると間隙の底部の放電を良好とし、間隙の底と感光体の間の局所的な放電が不足する事に起因した点状の画像不良（カブリと呼ぶ）が発生する事を容易に抑制できる。

凹部の形状は、半球状、半楕円球状、不定形等特に限定は無い。凹部の形状の例を図６に示す。図６Ａ〜図６Ｆはそれぞれ、帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした投影図である。なお図６Ａ〜図６Ｆにおいては、絶縁性粒子１１２を黒抜き円で示す。絶縁性粒子１１２の外縁と凹部の外縁２６の離間した部位の少なくとも一部が、一点鎖線で示した絶縁性粒子との距離が１０μｍの線と、二点鎖線で示した絶縁性粒子との距離が７０μｍの線の間にあれば更に好ましい。

さらに、帯電部材の表面に対し法線方向を視点とした投影図において、絶縁性粒子の外縁と凹部の外縁で囲まれた間隙の重心位置は、絶縁性粒子の重心位置に対し、帯電部材の長手方向（帯電ローラであれば軸方向）に配向していることが好ましい。帯電部材の長手方向に広がる横スジ状の画像不良を更に改善する効果が高いからである。配向の度合いは、帯電部材の表面に対する法線方向を視点とした投影図（図７）において、絶縁性粒子の重心と間隙の重心とを結んだ方向７１と、帯電部材長手方向７２とのなす成す鋭角７３の平均値で表す事ができる。この値は０°から９０°の値になり、９０°は長手方向と直交する方向（帯電ローラであれば回転方向）に配向している事を示し、４５°であると無配向であることを示し、０°は長手方向に配向している事を示す。この角度が４５°未満であれば、絶縁性粒子と間隙が、帯電部材の長手方向に配向していることになる。この角度は、０°以上、２０°以下であることが好ましい。

凹部（絶縁性粒子が存在している凹部）の数は、特に限定されないが、表面層の表面において１００μｍ角あたり、０．２個以上、１０個以下程度を例示することができる。絶縁性粒子が存在していない凹部や、凹部に存在していない絶縁性粒子が存在していてもよい。

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。

＜帯電部材＞
図３に、本発明の帯電部材の一例として帯電ローラの構成図を示す。
帯電ローラ３０は、導電性支持体としての芯金３１と、芯金３１上に形成した表面層３２とからなっている。
続いて、帯電部材を構成する各要素について順に説明する。

（絶縁性粒子）
表面層には絶縁性粒子が露出している。絶縁性粒子としては、体積抵抗が１０^１０Ωｃｍ以上の絶縁性を有していればよい。絶縁性粒子の体積抵抗は、絶縁性粒子を加圧することによってペレット化し、このペレットの体積抵抗を測定する粉体抵抗測定装置（商品名：粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック社製）によって測定することができる。

ペレット化するため、粉体抵抗測定装置の直径２０ｍｍの円筒状のチャンバーに測定する絶縁性粒子を入れる。充填量は、２０ｋＮで加圧した時のペレットの厚みが３〜５ｍｍになるようにする。測定は、２３℃／５０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、印加電圧９０Ｖ、荷重４ｋＮにて測定する。

絶縁性粒子の材質は特に限定されるものではないが、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリウレタン、ナイロン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂等から選ばれる少なくとも一つの樹脂でできた樹脂粒子や、シリカ、アルミナ、ジルコニアから選ばれる少なくとも一つの無機物からできた無機粒子等が例示される。

上記の、絶縁性粒子と凹部の形状（平均粒子径：６から３０μｍ、間隙部距離：１０から７０μｍ）を満たした上で、表面粗さは十点平均粗さＲｚが、６μｍ以上、３０μｍ以下であることが好ましい。ＲｚはＪＩＳＢ０６０１：１９８２による。

６μｍ以上であれば、表面粗さが小さいことによる回転方向上流の放電不足に起因して下流での放電が断続的に発生するために起こる横スジ状の画像不良を容易に抑制できる。３０μｍ以下であれば、表面形状の谷の部分と感光体の間の局所的な放電が不足する事に起因したカブリが発生する事を容易に抑制できる。

絶縁性粒子の平均粒子径は以下の方法によって求められる「長さ平均粒子径」である。まず、絶縁性粒子を走査型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、商品名：ＪＥＯＬＬＶ５９１０）で観察、画像撮影を実施し、撮影画像を画像解析ソフト（商品名：Ｉｍａｇｅ−ＰｒｏＰｌｕｓ、プラネトロン社製）を用いて解析する。解析は写真撮影時のミクロンバーから単位長さあたりの画素数をキャリブレーションし、写真から無作為に選択した１００個の粒子について、画像上の画素数から定方向径を測定し、算術平均粒子直径を求め、絶縁性粒子の平均粒子径とする。

さらに、絶縁性粒子の球形度に関しては下記に示す形状係数ＳＦ１の平均値が１００以上、１６０以下であることが好ましい。ここで、形状係数ＳＦ１は、下記式（１）で表される指数であり、１００に近いほど球形に近いことを意味している。形状係数の平均値が１６０以下であれば、絶縁性粒子が表面層に露出して感光体に直接接触していても、感光体の摩耗や傷つきを容易に抑制できる。

絶縁性粒子の形状係数ＳＦ１の測定は以下の方法によって行える。粒子径の測定と同様に走査型電子顕微鏡で撮影した画像情報を画像解析装置（ニレコ社製、商品名：Ｌｕｓｅｘ３）に入力し、無作為に選んだ１００個の粒子像について、それぞれＳＦ１を下記式（１）によって算出する。平均値はその算術平均をとることで得られる。

ＳＦ１＝｛（ＭＸＬＮＧ）^２／ＡＲＥＡ｝×（π／４）×（１００）・・・・（１）
（ただし、ＭＸＬＮＧは粒子の絶対最大長を、ＡＲＥＡは粒子の投影面積を表す）。

表面層の表面に露出する絶縁性粒子は、２種類以上の絶縁性粒子を併用してもよいし、各樹脂の共重合体からなる絶縁性粒子でも構わない。

（凹部）
導電性の凹部の存在状態の一例として、表面層の表面に形成された導電性エラストマー組成物の一部が窪むことにより形成される凹部を挙げることができる。導電性エラストマー組成物は、好ましくは体積抵抗が１０^３Ωｃｍ以上１０^９Ωｃｍ以下であり、原料エラストマーに導電剤、架橋剤等を適宜配合したエラストマー組成物である。

導電性エラストマー組成物の体積抵抗は、４端子４探針法で測定でき、抵抗率計（商品名：ロレスタＧＰ、三菱化学アナリテック社製）によって測定することができる。サンプル作製のため、ゴム組成物を厚み２ｍｍの金型に入れ、１０ＭＰａ、１６０℃、１０分架橋して、厚さ２ｍｍのゴムシートを得る。このゴムシートの体積抵抗率を４端子４探針法で測定する。測定の条件としては、２３℃／５０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、プローブはＥＳＰプローブ、補正係数は４．５３２、印加電圧は９０Ｖ、荷重は１０Ｎとする。

上記導電性エラストマー組成物としては、従来から帯電部材の導電性弾性層、例えば電子写真装置用の帯電ローラの導電性弾性層に用いられている、ゴムや熱可塑性エラストマー等で形成された導電性エラストマー組成物を用いることができる。

ゴムとしては、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ポリノルボルネンゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム等を含むゴムもしくはゴム組成物が好適に用いられる。

熱可塑性エラストマーとしては、その種類には特に制限はなく、汎用のスチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、アミド系エラストマー、ウレタン系エラストマー、エステル系エラストマーなどから選ばれる１種あるいは複数種の熱可塑性エラストマーを含む熱可塑性エラストマーもしくは熱可塑性エラストマー組成物を好適に用いることができる。

導電性エラストマー組成物の導電機構は、イオン導電機構と電子導電機構の二つに大別される。

イオン導電機構の導電性エラストマー組成物は、エピクロルヒドリンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）に代表される極性エラストマーと、イオン導電剤からなるものが一般的である。このイオン導電剤は、前記極性エラストマーの中で電離し、かつその電離したイオンの移動度が高いイオン導電剤である。しかし、イオン導電機構の導電性エラストマー組成物は、電気抵抗の環境依存性が大きく、イオンが移行することによって導電性が発現するという機構に起因してブリードやブルームを起こしやすいことがある。

それに対し、電子導電機構による導電性エラストマー組成物は、エラストマー中に導電性粒子として、カーボンブラック、カーボンファイバー、グラファイト、金属微粉末、金属酸化物等を分散し、複合したものが一般的である。電子導電機構の導電性エラストマー組成物は、イオン導電機構の導電性エラストマー組成物に比べ、電気抵抗の温湿度依存性が小さい、ブリードやブルームが少ない、安価であるなどの長所がある。

帯電部材においては、感光体と帯電部材の電位差および周速差がある場合に接触部の電荷移動によって感光体が帯電する現象が少ないため、電子導電機構の導電性ゴム組成物を用いるのが好ましい。

導電性粒子としては、ケッチェンブラックＥＣ、アセチレンブラック等の導電性カーボン、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ、ＦＴ、ＭＴ等のゴム用カーボン、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、銅、銀等の金属及び金属酸化物、酸化処理を施したカラー（インク）用カーボン、熱分解カーボン、天然グラファイト、人造グラファイト等が挙げられる。導電性粒子は大きな凸部とならない事が好ましく、平均粒子径が１０ｎｍから３００ｎｍであるものを用いることが好ましい。

これらの導電性粒子の充填量は、原料エラストマー、導電性粒子、及びその他配合剤の種類によって、導電性弾性層（表面層）が所望の電気抵抗となるように、適宜選択することができる。例えば、ポリマー（原料エラストマー）１００質量部に対して、０．５質量部以上、１００質量部以下、好ましくは２質量部以上、６０質量部以下などとすることができる。

また、導電性エラストマー組成物中には、他の導電剤、充填剤、加工助剤、老化防止剤、架橋助剤、架橋促進剤、架橋促進助剤、架橋遅延剤、分散剤等を含有させることができる。

（表面層）
表面層は弾性体からなる表面層を意味する。表面層は多層化することも可能である。ただし、多層化する場合は最表面に絶縁性粒子を含有する層を形成する必要がある。また、導電性支持体と弾性層との間には接着層を形成することも出来る。

本態様において、表面層は単層であることが好ましい。生産工程を簡素化にも資するためである。そして、この場合における表面層の厚さとしては、感光体とのニップ幅を確保するために、０．８ｍｍ以上、４．０ｍｍ以下、特には、１．２ｍｍ以上、３．０ｍｍ以下の範囲が好ましい。

さらに、本態様の帯電部材が有する特定の表面を形成する手段として、クロスヘッド押出によって形成した弾性層の表面をそのまま用いる手段が、生産工程の簡素化のために好ましい。

さらに、表面層の非粘着化、表面層内部からのブリードおよびブルーム防止等の目的で紫外線や電子線を照射することによる表面処理を行ってもよい。

（導電性の支持体）
導電性支持体は、導電性を有し、表面層等を支持可能であって、かつ、帯電部材としての、典型的には帯電ローラとしての強度を維持し得るものであればよい。

＜帯電部材の製造方法＞
本態様に係る帯電部材の製造方法の一例として、製造工程が簡略であるという観点から有効な方法を説明する。すなわち、押出成型によって、凹部に絶縁性粒子が存在し、その絶縁性粒子によって形成された凸部を有し、凹部と凸部の外縁の少なくとも一部が離間して間隙を成している表面を形成する製造方法を説明する。

その製造方法とは、次の２つの工程を含む、絶縁性粒子と導電性ゴム組成物の界面が剥離した間隙を表面に形成する帯電ローラの製造方法である。
・導電性ゴム組成物と平均粒子径が６μｍ以上、３０μｍ以下の絶縁性粒子からなり、破断点伸度を適度な値に制御した未加硫ゴム組成物を調製する工程。
・押出成型における引取率（後述）が１００％以下になるように、未加硫ゴム組成物を伸長させながら芯金と一体にクロスヘッド押出成型する工程。

まず、表面層を構成する導電性ゴム組成物と絶縁性粒子を含む未加硫ゴム組成物を調製する。

未加硫ゴム組成物中の絶縁性粒子の含有量は、原料ゴムの１００質量部に対して、５質量部以上、５０質量部以下が好ましい。５質量部以上であれば絶縁性粒子が充分な量、表面に存在することが容易であり、感光体との接触面積を特に小さくする事ができる。また、５０質量部以下であれば絶縁性粒子の配合量が多くなって表面層が硬くなることを容易に抑制できる。

本発明者らは、間隙部距離を、未加硫ゴムの引張試験における破断点伸度によって制御できることを見出した。

破断点伸度の測定は、引張試験機（商品名：ＲＴＧ−１２２５、株式会社エー・アンド・デイ製）を用い、ＪＩＳＫ６２５４−１９９３に準拠して行う。その際、引張速度は５００ｍｍ／分、破断点計測感度は０．０１Ｎ、標線間距離は２０ｍｍ、サンプル幅は１０ｍｍ、厚みは２ｍｍ、試験温度は２５℃、測定回数は２回として行う。

破断点伸度は、直径３μｍ以下の微小な亀裂（空孔）が発生することにより応力が緩和していることの指標になると考えている。そのため、絶縁性粒子と導電性ゴム組成物の界面で応力が集中した際に界面が剥離することによってできる間隙は、微小な亀裂により応力が緩和しやすい場合に発生しにくい。つまり、間隙は、破断点伸度が小さい未加硫ゴムにおいて発生しにくいと言える。微小な亀裂による応力緩和を制御するためには、補強性の低い充填剤を混合することが好ましい。特に炭酸カルシウムは、添加量による破断点伸度の調整幅が広いため好ましい。適切な大きさの間隙を形成するために、破断点伸度は５０％以上、８０％以下であることが好ましい。

その他、未加硫ゴム組成物のムーニー粘度や絶縁性粒子と導電性ゴム組成物の極性差や粘着性によっても、剥離による間隙の形成を制御する事ができる。原料ゴムとしては、ムーニー粘度が高いほど間隙を大きくする事ができる。

この未加硫ゴム組成物を用いて、絶縁性粒子と導電性ゴム組成物との界面を剥離させて間隙を形成するため、クロスヘッド押出し成形機を用い、未加硫ゴム組成物を引き延ばしながら成型する。クロスヘッド押出成型機とは、未加硫ゴム組成物と所定の長さの芯金とが同時に送り込まれ、芯金の外周に所定の厚さのゴム材料が均等に被覆された未加硫ゴムローラがクロスヘッドの出口から押し出される成型機である。

図４Ａは、クロスヘッド押出し成形機４の概略構成図である。クロスヘッド押出し成形機４は、芯金４１の全周にわたって未加硫ゴム組成物４２を均等に被覆して、中心に芯金４１が入った未加硫ゴムローラ４３を製造するための装置である。

クロスヘッド押出し成形機４には、芯金４１と未加硫ゴム組成物４２が送り込まれるクロスヘッド４４と、クロスヘッド４４に芯金４１を送り込む搬送ローラ４５と、クロスヘッド４４に未加硫ゴム組成物４２を送り込むシリンダ４６と、が設けられている。

搬送ローラ４５は、複数本の芯金４１を軸方向に連続的にクロスヘッド４４に送り込む。シリンダ４６は内部にスクリュ４７を備え、スクリュ４７の回転により未加硫ゴム組成物４２をクロスヘッド４４内に送り込む。

芯金４１は、クロスヘッド４４内に送り込まれると、シリンダ４６からクロスヘッド内に送り込まれた未加硫ゴム組成物４２に全周を覆われる。そして、芯金４１は、クロスヘッド４４の出口のダイス４８から、表面に未加硫ゴム組成物４２が被覆された未加硫ゴムローラ４３として送り出される。

クロスヘッドの押出口の隙間に比べ未加硫ゴム組成物の厚みが薄くなるように成型することで、つまり、未加硫ゴムを引き延ばしながら成型することで、絶縁性粒子と導電性ゴム組成物の界面が剥離し、間隙が形成される。図４Ｂに、クロスヘッド押出口付近の模式図を示す。クロスヘッド押出口のダイスの内径をＤ、未加硫ゴムローラの外径をｄ、芯金の外径をｄ_０とした際に、「（未加硫ゴム組成物の厚み）÷（押出口の隙間）」に相当する（ｄ−ｄ_０）／（Ｄ−ｄ_０）を引取率（％）と定義する。この値は１００％のとき押出口の隙間と同じ未加硫ゴム組成物の厚みを意味する。この引取率が小さいほど引き延ばしながら成型することを示し、大きな間隙が形成される。引取率としては、９０％以下、８０％以上であると適度な大きさの間隙ができるため好ましい。一般的な成形においては通常、押出口から吐出された未加硫ゴム組成物はダイスウェルによって収縮し、引取率は１００％以上になる。

引取率の調整は、芯金４１の搬送ローラ４５による芯金送り速度と、シリンダ４６からの未加硫ゴム組成物送り速度との相対比を変化させることで行う。この時、シリンダ４６からクロスヘッド４４への未加硫ゴム組成物４２の送り速度は一定とする。芯金４１の送り速度と未加硫ゴム組成部４２の送り速度の比によって、未加硫ゴム組成物４２の肉厚が決定される。

未加硫ゴム組成物は、各芯金４１の長手方向の中央部において端部より外径（肉厚）が大きい、いわゆるクラウン形状に成型する。こうして未加硫ゴムローラ４３を得る。

次いで、架橋が必要な場合には未加硫ゴムローラを加熱して、加硫ゴムローラを得る。加熱処理の方法の具体例としては、ギアオーブンによる熱風炉加熱、遠赤外線による加熱加硫、加硫缶による水蒸気加熱などを挙げることができる。中でも熱風炉加熱や遠赤外線加熱は、連続生産に適しているため好ましい。熱可塑性エラストマーを用いて表面層を形成する場合など、架橋が必要無い場合には、熱可塑性エラストマーからなる未加硫ゴムローラを適宜冷却するなどして、そのまま加硫ゴムローラの代わりに用いる事ができる。

加硫ゴムローラの両端部の加硫ゴム組成物は、後の別工程にて除去され、加硫ゴムローラが完成する。したがって、完成した加硫ゴムローラは芯金の両端部が露出している。

芯金の両端部の露出した部分を把持する電子写真装置の場合には、帯電ローラ端部の荷重が大きくなり、電子導電性の導電性ゴム組成物の場合には、荷重による劣化によって端部が高抵抗になり、横スジ状の画像不良が発生しやすいことがある。この製造方法において、クラウン形状にする場合には、引取率はローラの中央部に比べ端部で小さく、端部の方が大きな間隙が形成される。そのため、端部の横スジ状の画像不良を抑制する効果が特に高い。端部と中央部の間隙部距離の比率は、中央部の間隙部距離を１とした時に端部の間隙部距離が１．１以上、１．３以下であると更に好ましい。

表面層には、紫外線や電子線を照射することによる表面処理を行ってもよい。

その他の製造方法としては、次の様な例があげられる。
まず、発泡剤を含有した未加硫ゴム組成物を調製する。この未加硫ゴム組成物を押出成型により加硫ゴムローラにする。加硫ゴムローラの表面を研磨し、発泡してできた空孔による凹部を露出させる。この凹部に凹部の長径よりも短い直径の熱可塑性絶縁性粒子を塗布する。その後、熱可塑性絶縁性粒子の融点より高い温度で加熱し、絶縁性粒子を密着させる。

この方法に比べて、破断点伸度や引取率を制御しながら押し出す製造方法で得られた帯電ローラは、絶縁性粒子と間隙の重心位置が、帯電ローラの軸方向に配向する。そのため、横スジ状の画像ムラを改善する効果が高く、好ましい。

続いて、本態様に係る帯電部材を有する電子写真装置の例の構成図（図５）を用い、電子写真画像形成プロセスを説明する。被帯電部材としての電子写真感光体（感光体）５１は、導電性支持体５１ｂと、支持体５１ｂ上に形成した感光層５１ａとからなり、円筒形状を有する。そして、軸５１ｃを中心に図上時計周りに所定の周速度をもって駆動される。被帯電部材（感光体５１）は、帯電部材（帯電ローラ５２）によって帯電可能である。帯電部材の汚れ除去の観点から、被帯電部材の周速度に対し、帯電部材の周速度を１．０５倍以上、もしくは０．９５倍以下で帯電部材を駆動可能であることが好ましい。

帯電ローラ５２は感光体５１に接触配置されて感光体５１を所定の電位に帯電する。帯電ローラ５２は、芯金５２ａと、芯金５２ａ上に形成した表面層５２ｂとからなる。芯金５２ａの両端部が不図示の押圧手段で電子写真感光体５１に押圧されており、帯電ローラは感光体５１に対し従動回転もしくは一定の速度差を持って回転する。電源５３から摺擦電極５３ａを介して、芯金５２ａに所定の直流電圧が印加されることで、感光体５１が所定の電位に帯電される。

帯電された感光体５１は、次いで露光手段５４により、その周面に目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。その静電潜像は、次いで、現像部材５５により、トナー画像として順次に可視像化される。このトナー画像は、転写材５７に順次転写されていく。転写材５７は不図示の給紙手段部から感光体５１の回転と同期取りされて適正なタイミングをもって感光体５１と転写手段５６との間の転写部へ搬送される。転写手段５６は転写ローラであり、転写材５７の裏からトナーと逆極性の帯電を行うことで感光体５１側のトナー画像が転写材５７に転写される。表面にトナー画像の転写を受けた転写材５７は、感光体５１から分離されて不図示の定着手段へ搬送されてトナーが定着され、画像形成物として出力される。像転写後の感光体５１の周面は、弾性ブレードに代表されるクリーニング部材５８によって感光体５１の表面に残留しているトナーなどが除去される。クリーニングされた感光体５１の周面は次のサイクルの電子写真画像形成プロセスに移る。

以下に実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、これらは、本発明を限定するものではない。なお、以下、特に明記しない限り、試薬等で指定のないものは市販の高純度品を用いた。なお各例では、帯電ローラを作製した。

〔実施例１〕
（表面層用の未加硫ゴム組成物の調製）
表１に示す材料を混合してＡ練りゴム組成物を得た。混合機は、６リットル加圧ニーダー（製品名：ＴＤ６−１５ＭＤＸ、トーシン社製）を用いた。混合条件は、充填率７０ｖｏｌ％、ブレード回転数３０ｒｐｍ、１６分間とした。

次いで、上記Ａ練ゴム組成物と表２に示す材料を混合し、未加硫ゴム組成物−１を得た。混合機は、ロール径１２インチ（０．３０ｍ）のオープンロールを用いた。混合条件は、前ロール回転数１０ｒｐｍ、後ロール回転数８ｒｐｍで、ロール間隙２ｍｍとして合計２０回左右の切り返しを行った後、ロール間隙を０．５ｍｍとして１０回薄通しを行った。

さらに、未加硫ゴム組成物−１と絶縁性粒子として球状ＰＭＭＡ粒子（商品名：ガンツパールＧＭ−０８０１、アイカ工業株式会社製、以下、「粒子Ｎｏ．３」ともいう）２０質量部と混合し、粒子Ｎｏ．３を含む未加硫ゴム組成物−１Ａを得た。混合機は、ロール径１２インチ（０．３０ｍ）のオープンロールを用いた。混合条件は、前ロール回転数８ｒｐｍ、後ロール回転数１０ｒｐｍで、ロール間隙２ｍｍとして合計２０回左右の切り返しを行った後、ロール間隙を０．５ｍｍとして１０回薄通しを行った。なおＰＭＭＡはポリメタクリル酸メチル樹脂を意味する。

（破断点伸度の測定）
引っ張り試験機を用い、未加硫ゴムシートの破断点伸度を測定した。未加硫ゴムシートは、表面層用の未加硫ゴム組成物−１Ａを用い、厚さ２ｍｍの長方形型の金型で成形した。成形条件は、温度：８０℃、圧力：１０ＭＰａとした。測定はテンシロン万能試験機ＲＴＧ−１２２５（商品名：株式会社オリエンテック製）を用いＪＩＳＫ−６２５１に則って行った。このとき、未加硫ゴムシートはダンベル状１号形の試験片とし、引っ張り速度は５００ｍｍ／ｍｉｎ、２３℃／５０％ＲＨ（相対湿度）の環境下とした。
破断点伸度は、７２％であった。

（ゴム組成物の体積抵抗率測定）
球状ＰＭＭＡ粒子を含有する未加硫ゴム組成物−１Ａの球状ＰＭＭＡ粒子を除いたゴム組成物の体積抵抗率を測定するため、前述の（表面層用の未加硫ゴム組成物の調製）において、球状ＰＭＭＡ粒子を添加しない以外は同様の方法で、ゴム組成物を得た。このゴム組成物を厚み２ｍｍの金型に入れ、１０ＭＰａ、１６０℃、１０分架橋して、厚さ２ｍｍのゴムシートを得た。このゴムシートの体積抵抗率を４端子４探針法で測定した。測定の条件としては抵抗率計（商品名：ロレスタＧＰ、三菱化学アナリテック社製）にて、２３℃／５０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、印加電圧９０Ｖ、荷重１０Ｎとした。体積抵抗率は２５００Ωｃｍであった。

（絶縁性粒子の粉体抵抗率測定）
粒子Ｎｏ．３、すなわち、球状ＰＭＭＡ粒子（商品名：ガンツパールＧＭ−０８０１、アイカ工業株式会社製）の体積抵抗を粉体抵抗率測定装置（商品名：粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック社製）によって測定した。測定は、２３℃／５０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、印加電圧９０Ｖ、荷重４ｋＮにて測定した。体積抵抗率は１０^１０Ωｃｍ以上の絶縁性であった。以後の実施例および比較例を含め、用いる絶縁性粒子は１０^１０Ωｃｍ以上であれば絶縁性、１０^３Ωｃｍ以下であれば導電性として表３に示す。

（加硫ゴム層の成形）
まず、加硫ゴム層を接着する接着層を有する芯金を得るため、次の操作を行った。すなわち、直径６ｍｍ、長さ２５２ｍｍの円柱形の導電性芯金（鋼製、表面はニッケルメッキ）の軸方向の中央部２２２ｍｍに導電性加硫接着剤（商品名：メタロックＵ−２０；東洋化学研究所製）を塗布し、８０℃で３０分間乾燥した。

この接着層を有する芯金に表面層用の未加硫ゴム組成物−１Ａをクロスヘッド押出成型機にて被覆し、クラウン形状の未加硫ゴムローラを得た。成型温度は１００℃、スクリュ回転数は１０ｒｐｍとして、芯金の送り速度を変えながら成型した。未加硫ゴムローラの軸方向を平均した引取率は８７％とした。クロスヘッド押出成型機のダイス内径は８．９ｍｍ、未加硫ゴムローラの軸方向の中央の外径は８．６ｍｍ、端部の外径は８．４ｍｍであった。

その後、電気炉にて温度１６０℃で４０分間加熱して未加硫ゴム組成物の層を加硫して加硫ゴム層とした。加硫ゴム層の両端部を切断し、軸方向の長さを２３２ｍｍとした。

（押出後の加硫ゴム層の電子線照射）
得られた押出後の加硫ゴムローラの表面に電子線を照射して、弾性層（表面層）の表面に硬化された領域を有する帯電ローラを得た。電子線の照射には、最大加速電圧１５０ｋＶ・最大電子電流４０ｍＡの電子線照射装置（岩崎電気株式会社製）を用い、照射時には窒素を充填した。電子線の照射条件は加速電圧：１５０ｋＶ、電子電流：３５ｍＡ、線量：１３２３ｋＧｙ、処理速度：１ｍ／ｍｉｎ、酸素濃度：１００ｐｐｍであった。

（表面粗さの測定）
弾性層表面の十点平均粗さＲｚを測定した。測定器は表面粗さ測定器（商品名：サーフコーダーＳＥ３４００、小坂研究所社製）を、プローブは先端半径２μｍのダイヤモンド製接触針を用いた。測定はＪＩＳＢ０６０１：１９８２に基づき、測定スピードは０．５ｍｍ／ｓ、カットオフ周波数λｃは０．８ｍｍ、基準長さは０．８ｍｍ、評価長さは８．０ｍｍとした。帯電ローラのＲｚの値としては、帯電ローラ１本当たり、軸方向３点×周方向２点の計６点について測定して、それら６点の平均値を用いた。
その結果、Ｒｚは１５μｍであった。

（絶縁性粒子の観察）
コンフォーカル顕微鏡（商品名：オプティクスハイブリッド、レーザーテック株式会社製）により、帯電ローラ表面の絶縁性粒子を観察した。観察条件は、対物レンズ５０倍、画素数１０２４ピクセル、高さ分解能０．１μｍとした。絶縁性粒子は露出した状態で存在していた。

（間隙部距離の測定）
間隙部距離とは、表面に対し法線方向を視点とした面の投影図において、絶縁性粒子の外縁から法線方向に引いた線と凹部の外縁との交点がなす線分のうち、最も長い線分の長さである。間隙部距離を以下の方法で測定した。まず、コンフォーカル顕微鏡（商品名：オプティクスハイブリッド、レーザーテック株式会社製）により、帯電ローラ表面の高さ像を測定した。観察条件は、対物レンズ５０倍、画素数１０２４ピクセル、高さ分解能０．１μｍとし、取得した画像を２次曲面にて平面補正した値を高さの値とした。

続いて、画像処理ソフト（商品名「Ｉｍａｇｅ−ＰｒｏＰｌｕｓ」：プラネトロン株式会社製）を用いて、間隙部距離を計算した。まず、高さの平均値を閾値として、高さ像を２値化した。次に、カウント／サイズによって高さの平均値より低い部分のオブジェクトを自動抽出した。このオブジェクトに接する絶縁性粒子の外縁から法線を引き、凹部の外縁との距離が最も長くなる部分の距離を計測した。抽出された高さの平均値より低い部分のオブジェクトについて面積の大きな順に、このような操作をローラの軸方向中央付近の１００点および加硫ゴム層の端部から２０ｍｍ付近の１００点について行って、平均値を抽出した。この平均値を、間隙部距離とした。この距離が１０μｍ以上、７０μｍ以下であれば、本発明の効果を優れて発揮することができる。

間隙部距離は、３８μｍであった。また、中央部の間隙部距離に対する、端部の間隙部距離の比は１．２であった。なお、中央部の間隙部距離は、前述の軸方向中央付近の１００点の距離の平均値であり、端部の間隙部距離は、前述の加硫ゴム層端部から２０ｍｍ付近の１００点の距離の平均値である。

（絶縁性粒子の凸部の高さ、間隙の深さの長径に対する比率の測定）
絶縁性粒子の凸部の高さ、および、間隙の深さの間隙部距離に対する比率を以下の方法で測定した。まず、コンフォーカル顕微鏡（商品名：オプティクスハイブリッド、レーザーテック株式会社製）により、帯電ローラ表面の高さ像を測定した。観察条件は、対物レンズ５０倍、画素数１０２４ピクセル、高さ分解能０．１μｍとし、取得した画像を２次曲面にて平面補正した値を高さの値とした。

この高さ像のから、絶縁性粒子の凸部の周囲にできた間隙の周辺部分の断面プロファイルを抜き出し、高さの平均線から凸部の頂点までの距離を求めた。この値を１００点（１００個の凸部）平均した値を凸部の高さとした。同様に高さの平均線から間隙の底までの距離を出し、間隙部距離で割った値を求めた。この値を１００点（１００個の凹部）平均した値を間隙の深さの間隙部距離に対する比率（百分率）とした。
凸部の高さは、４μｍであった。また、間隙の深さの、間隙部距離に対する比率は２３％であった。

（絶縁性粒子と凹部が離間している事により形成された間隙の重心位置と絶縁性粒子の重心位置の配向の測定）
絶縁性粒子と凹部が離間している事により形成された間隙の重心位置と絶縁性粒子の重心位置の配向を測定するため、透過型電子顕微鏡（ＴｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎＥｌｅｃｔｒｏｎＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）（以降「ＴＥＭ」と略）の画像を取得した。ＴＥＭで観察するサンプルとしては、表面形状の高さの平均面に沿って凹部を切断するように表面層を切断した薄片を用いた。薄片は超薄切片法によって調製した。切削装置は、クライオミクロトーム（商品名「ＬｅｉｃａＥＭＦＣＳ」、ライカマイクロシステムズ株式会社製）を用いた。切削温度は、−１００℃とした。この切片を観察するＴＥＭとしては、株式会社日立ハイテクノロジーズ製Ｈ−７１００ＦＡ（商品名）を用いた。加速電圧は１００ｋＶに、視野は明視野にした。この薄片をＴＥＭで観察した画像を、間隙（空孔）、絶縁性粒子、導電性ゴム組成物のそれぞれにコントラスト差があるよう撮影した。必要であれば、画像処理により間隙（空孔）、絶縁性粒子、導電性ゴム組成物を３値化した画像を用いた。

この画像の各凹部にある絶縁性粒子と間隙の重心Ｘ座標、重心Ｙ座標を画像処理ソフト（商品名「Ｉｍａｇｅ−ＰｒｏＰｌｕｓ」：プラネトロン株式会社製）のカウント／サイズ機能で計測した。その２点の座標を結ぶ方向とローラ軸方向とのなす鋭角を１００点（１００個の凹部）について測定し、その平均値を絶縁性粒子と凹部が離間している事により形成された間隙の重心位置と絶縁性粒子の重心位置の配向角とした。配向角は０°であった。以上、実施例１の帯電ローラの詳細および粒子Ｎｏ．３を含む未加硫ゴム組成物１Ａの破断点強度を表３−１に示す。

（評価１）帯電均一性の評価
作製した帯電ローラを、電子写真装置（商品名：ＬＢＰ７２００Ｃキヤノン株式会社製、Ａ４紙縦出力用、）の記録メディアの出力スピードが２００ｍｍ／ｓｅｃになるよう改造した改造機のブラックカートリッジに装着した。この改造機により、１５℃／１０％ＲＨ（相対湿度）の環境下で、画像の出力を行った。

画像出力条件としては、Ａ４紙の画像形成領域の１面積％にランダムに印字した画像を使用し、１枚画像を出力すると電子写真装置を停止させ、１０秒後また画像形成動作を再開するという動作を繰り返し３万枚の画像出力耐久試験を行った。３万枚耐久後の評価用画像の出力条件は、ハーフトーン画像（感光体の回転方向に対して垂直な方向に幅１ドット、間隔２ドットの横線を描く、中間濃度の画像）を１枚出力した。この画像を用い、以下の基準で横スジ状の画像ムラの有無による帯電均一性の評価を行った。評価は帯電ローラの軸方向中央部付近および、加硫ゴム層の両端部から２０ｍｍ付近の画像を観察することで行った。
Ａ：横スジ状の画像ムラがなかった。
Ｂ：横スジ状の画像ムラはなかったが、画像にやや粒状感があった。
Ｃ：実用上問題にならない程度の、軽微な横スジ状の画像ムラがあった。
Ｄ：横スジ状の画像ムラがあり、画像品位を損なっていた。
Ｅ：横スジ状の画像ムラがあり、画像品位を著しく損なっていた。

実施例１では、凸部の高さ、間隙部距離、絶縁性粒子と凹部が離間している事により形成された間隙の重心位置と絶縁性粒子の重心位置の配向、中央部と端部の間隙部距離の比、Ｒｚといった表面形状が適正であった。そのため、横スジ状の画像ムラの有無による帯電均一性の評価はランクＡになり、高い画像品位を保っていた。

（評価２）耐久試験前後の電位評価
上記の電子写真装置の感光体の帯電ローラは従動回転する。この電子写真装置の感光体と帯電ローラを独立に駆動することのできる治具に組み込み、上記の耐久試験前後の電位の変化を測定した。評価は、接触による電荷の移動を評価するため、３０℃／９０％ＲＨの環境下、帯電ローラ電位５００Ｖ、感光体の回転速度２００ｍｍ／ｓｅｃ、帯電ローラの回転速度２２０ｍｍ／ｓｅｃで行った。この条件で感光体が１回転した時の電位を耐久試験前後の帯電ローラについて測定し、その差を耐久試験前後の電位差とした。
その結果、実施例１の帯電ローラの耐久試験前後の電位差は２８Ｖであった。

（評価３）帯電不足による評価３
評価１で用いた電子写真装置で、１枚目に、評価用のハーフトーン画像（感光体の回転方向に対して垂直な方向に幅１ドット、間隔２ドットの横線を描く、中間濃度の画像）を１枚出力した。この画像を用い、以下の基準でカブリの評価を行った。
Ａ：点状の画像ムラがなかった。
Ｂ：ごく軽微な点状の画像ムラがあった。
Ｃ：実用上問題にならない程度の、軽微な点状の画像ムラがあった。
Ｄ：点状の画像ムラが画像の広範囲にあり、画像品位を著しく損なっていた。

この評価は、間隙からの放電が不足する事によって点状の画像ムラ（カブリと呼ぶ）を評価するものである。

実施例１では、間隙部距離、間隙部距離に対する間隙の深さの比、Ｒｚといった表面形状が適正であった。そのため、点状の画像ムラの評価はランクＡになり、高い画像品位を保っていた。上記評価１〜３の結果を表５−１に示す。

〔実施例２〜１２、比較例１〜３〕
実施例１における、粒子Ｎｏ．３を含む未加硫ゴム組成物−１Ａを、表３−１および表３−２に示す通りの配合割合の、粒子含有未加硫ゴム組成物を調製した。また、押出成型時の引取率を変えた。これら以外は、実施例１と同様の方法で実施例２〜１２および比較例１〜３の帯電ローラを作製し、評価した。なお、実施例１２では、ＮＢＲに替えてヒドリンゴムを用いた。また、比較例２では絶縁性粒子を添加しなかった。実施例２〜１２および比較例１〜３の帯電ローラの詳細および加工条件を表３−１、表３−２に示す。また、評価結果を表５−１、表５−２に示す。さらに、各実施例および各比較例に用いた粒子の材料および平均粒子径を表６にまとめて示す。

〔比較例４〕
実施例１と同様に成型した加硫ゴムローラの表面に、被覆層を形成した帯電ローラを作成し、実施例１と同様の測定および評価を行った。帯電ローラは次のようにして作成した。

表４に示す材料を混合し混合液を調製した。

ポリオールは、被覆層のバインダーとなるポリオール（商品名「プラクセルＤＣ２０１６」：ダイセル化学工業株式会社製）（固形分７０質量％）である。
ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）は、被覆層のバインダーとなるイソシアネートモノマーとして添加されるブロックイソシアネートＩＰＤＩ（商品名「ベスタナートＢ１３７０」：デグサ・ヒュルス社製）である。
ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）は、被覆層のバインダーとなるイソシアネートモノマーとして添加されるブロックイソシアネートＨＤＩ（商品名「デュラネートＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ」：旭化成工業株式会社製）である。
カーボンブラックは導電性粒子である。

ガラス瓶に混合液と平均粒径０．８ｍｍのガラスビーズとを共に入れ、ペイントシェーカー分散機を用いて６０時間分散して被覆層用塗料１を調製した。実施例１と同様に成型した加硫ゴムローラに被覆層用塗料１をディッピング塗工した。その後、常温で３０分間以上風乾して、１６０℃１時間加熱することで、本比較例の帯電ローラを得た。被覆層の膜厚は２μｍであった。
比較例４の帯電ローラの詳細および評価結果を表３に示す。

〔実施例１３〕
実施例１の未加硫ゴム組成物−１（ＮＢＲを１００質量部とする）と、発泡剤として炭酸水素ナトリウム（商品名：セルマイク２６６、三協化成株式会社製）５質量部と混合し、発泡剤を含有する未加硫ゴム組成物−２を得た。混合機は、ロール径１２インチ（０．３０ｍ）のオープンロールを用いた。混合条件は、前ロール回転数８ｒｐｍ、後ロール回転数１０ｒｐｍで、ロール間隙２ｍｍとして合計２０回左右の切り返しを行った後、ロール間隙を０．５ｍｍとして１０回薄通しを行った。

この接着層を有する芯金に表面層用未加硫ゴム組成物−２をクロスヘッド押出成型機にて被覆し、非クラウン形状の未加硫ゴムローラを得た。成型温度は１００℃、スクリュ回転数は１０ｒｐｍとして、芯金の送り速度は一定にして成型した。ローラ未加硫ゴムローラの軸方向を平均した引取率は１０３％とした。クロスヘッド押出成型機のダイス内径は９．０ｍｍ、未加硫ゴムローラの軸方向の中央の外径は９．１ｍｍ、端部の外径は９．１ｍｍであった。

その後は、実施例１の（加硫ゴム層の成形）と同様に、電気炉にて温度１６０℃で４０分間加熱して未加硫ゴム組成物の層を加硫して加硫ゴム層とした。加硫ゴム層の両端部を切断し、軸方向の長さを２３２ｍｍとした。続いて、加硫ゴム層の表面をプランジカットの研磨方式の研磨機で研磨し、端部直径８．４ｍｍ、中央部直径８．６ｍｍのクラウン形状とした。こうして発泡剤が発泡した空孔による凹部が表面に形成された加硫ゴム層を有する加硫ゴムローラを得た。

水に対し球状ポリエチレン粒子（商品名：ミペロンＰＭ２００、三井化学株式会社製）が０．１質量％になるように絶縁性粒子と水を混合し、超音波洗浄機で分散した。この絶縁性粒子分散液に加硫ゴムローラを浸漬した後、５０ｍｍ／秒の速さで未加硫ゴムローラを引き上げ、風乾して水を蒸発させ球状樹脂粒子を加硫ゴム層に塗布した。電気炉にて温度１８０℃で１５分間加熱して球状ポリエチレン粒子を融解させることで、球状ポリエチレン粒子を加硫ゴムローラの表面に融着させた。続いて、加硫ゴムローラの両端部の芯金を把持し６０ｒｐｍで回転させながら、ラッピングフィルム（商品名：３Ｍラッピングフィルムシート＃４０００、３Ｍ社製）を圧接させることで研磨して、凹部以外に付着した球状ポリエチレン粒子を除去した。こうして実施例１３の帯電ローラを得た。実施例１３の帯電ローラの詳細を表３に示す。また、評価結果を表５−２に示す。

実施例１〜１３、比較例１〜４に用いた絶縁性粒子の球形度（形状係数ＳＦ１）はすべて１００以上１６０以下であった。

表５−１および表５−２に示した通り、本発明に係る実施例１〜１３の帯電部材では、帯電均一性の評価がランクＡ〜Ｃ、耐久試験前後の電位差が５０Ｖ以下に抑えられ、カブリの評価がランクＡ〜Ｃであった。

実施例１〜１３の中では、凸部の高さが高く、間隙部距離が適正で、絶縁粒子と間隙の配向度が０°に近いほど横スジの抑制が良化する傾向が見られた。また、中央部の間隙部距離に比べ端部の間隙部距離の比が大きく、Ｒｚが大きいほど横スジの抑制が良化する傾向が見られた。また、凸部の高さが高く、Ｒｚが大きく、凸部の導電性が低いほど耐久試験前後の電位差が小さくなる傾向が見られた。実施例１２はイオン導電性のヒドリンゴムを使用しており、接触による電荷移動がＮＢＲに比べておこりやすく、電位差が４９Ｖであった。カブリ評価では、間隙部距離が短く、間隙部距離に対する間隙の深さの比が小さく、Ｒｚが小さいほどカブリは少ない傾向が見られた。

一方、比較例１は、間隙を有しないため、帯電均一性の評価は中央部がランクＣ、端部がランクＤであった。比較例２は、絶縁性粒子がないため、Ｒｚが小さく、帯電均一性は中央部・端部共にＥ評価で、耐久試験前後電位差は８７Ｖであった。比較例３では、導電性粒子が用いられたため、感光体との接触による電荷移動が多く、耐久後電位差が１１２Ｖであった。また、比較例４は、絶縁性粒子の表面が導電性の被覆層で被覆されているため、帯電均一性の評価が中央部・端部共にランクＤ、耐久試験前後の電位差が７８Ｖであった。帯電均一性の評価がランクＤであったのは、凸部と凹部が共に導電性のため凸部と凹部の間の放電によるチャージアップが起こらなかったためと推察する。また、凸部に導電性があるため、耐久試験前後の電位差が高くなった。

なお、評価３のカブリの評価の結果から、実施例１〜１３においては、トナー等による凸部の周囲の汚れも抑制されていたと判断できる。

１１導電性ゴム組成物により形成された凹部
１２絶縁性粒子からなる凸部
２１チャージアップ（を概念的に示したもの）
２２放電
２３表面形状の高さの平均線
２４絶縁性粒子の凸部の高さ
２５間隙の深さ
２６凹部の外縁
２７間隙部距離
３０帯電ローラ
３１芯金
３２表面層
４クロスヘッド押出し成形機
４１芯金
４２未加硫ゴム組成物
４３未加硫ゴムローラ
４４クロスヘッド
４５搬送ローラ
４６押し出し成形機シリンダ
４７スクリュ
Ｄダイス内径
ｄ未加硫ゴムローラ外径
ｄ_０芯金外径
５１感光体
５２帯電ローラ
５３電源
５４露光手段
５５現像部材
５６転写手段
５７転写材
５８クリーニング部材
７１絶縁性粒子の重心と間隙の重心とを結んだ方向
７２帯電部材長手方向
７３絶縁性粒子の重心と間隙の重心とを結んだ方向と、帯電部材長手方向とのなす成す鋭角
１１２絶縁性粒子

Claims

導電性支持体と、導電性の表面層とを備えた帯電部材であって、
該導電性の表面層は、
外表面に、互いに独立した複数の凹部を有し、
該凹部の各々に、絶縁性粒子を保持しており、
該絶縁性粒子は、該帯電部材の表面に露出しており、かつ、該帯電部材の表面に凸部を生じさせており、
該凹部および該凹部に保持されてなる該絶縁性粒子を該導電性支持体の表面に正投影して得られる正投影像において、該絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と、該凹部に由来する投影像の外縁とが離間している部位を有し、
該凹部の壁の一部は、該帯電部材の表面の一部を構成しており、
該絶縁性粒子の平均粒子径が６μｍ以上、３０μｍ以下であり、かつ、該絶縁性粒子に由来する投影像の外縁と該凹部に由来する投影像の外縁の離間した部位の距離が１０μｍ以上、７０μｍ以下であることを特徴とする帯電部材。
前記正投影像において、前記絶縁性粒子と前記凹部が離間していることにより形成された間隙の重心位置と前記絶縁性粒子の重心位置が、前記帯電部材の長手方向に配向している請求項１に記載の帯電部材。
請求項１または２に記載の帯電部材と、
該帯電部材に接触配置され、該帯電部材によって帯電可能な被帯電部材と、を有することを特徴とする電子写真装置。
前記被帯電部材の周速度に対し、該帯電部材の周速度を１．０５倍以上、もしくは０．９５倍以下で帯電部材を駆動可能な、請求項３に記載の電子写真装置。