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JP6841166B2 - Method for producing phenylalkoxysilane-treated silica - Google Patents
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Description

本発明は、フェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法に関する。より詳しくは、樹脂用の添加剤等として好適に用いることができるフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing phenylalkoxysilane treated silica. More specifically, the present invention relates to a method for producing phenylalkoxysilane-treated silica, which can be suitably used as an additive for a resin or the like.

シリカ粒子は、例えば、封止材料、フィルム材料、トナー用材料、歯科材料等の各種材料において添加剤等として広く使用されている。シリカ粒子表面は親水性であるため、樹脂等との親和性を高めること等を目的として、表面を疎水化処理する技術が種々開発されている。例えば、フェニルシラン処理シリカの製造方法として、フェニルアルコキシシランと水を含む溶媒にシリカを含浸させたのち、水を含む溶媒を留去する方法が開示されている(特許文献1参照)。また別の方法として、シリカに対してシラン化合物を乾式処理する方法が開示されている(特許文献2、3参照)。 Silica particles are widely used as additives in various materials such as sealing materials, film materials, toner materials, and dental materials. Since the surface of silica particles is hydrophilic, various techniques for hydrophobizing the surface have been developed for the purpose of increasing the affinity with resins and the like. For example, as a method for producing phenylsilane-treated silica, a method of impregnating a solvent containing phenylalkoxysilane and water with silica and then distilling off the solvent containing water is disclosed (see Patent Document 1). As another method, a method of dry-treating a silane compound on silica is disclosed (see Patent Documents 2 and 3).

特開2005−022915号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-022915 特開平01−203478号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 01-203478 特開2010−228997号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-228997

従来、シリカ表面へのフェニルシラン処理は、通常湿式で行われているが、湿式でフェニルシラン処理を行う場合の、フェニルシラン製造メーカーが推奨するフェニルシラン処理液の濃度は0.1〜2.0%であり、大量の溶媒が必要なために製造コストが高くなり、また大量の溶媒を揮発させる必要があるために環境負荷が高くなるという課題があるため、工業的な製造には不向きであった。上記特許文献2、3には、シリカ表面へのシラン処理を乾式で行う方法が記載されており、シラン化合物を加水分解により前処理しなくても高い疎水化度が得られる結果となっているが、フェニルアルコキシシランの場合は加水分解なしでは所望の表面処理効果(疎水化度)が得られない。また、特許文献2、3の方法をフェニルアルコキシシランに適用した場合には処理液中のフェニルシラン濃度が高くなることによってフェニルシランの自己縮合が生じてシリカ表面への結合が妨げられ、所望の表面処理効果(疎水化度)が得られないという課題があった。 Conventionally, the phenylsilane treatment on the silica surface is usually performed in a wet manner, but when the phenylsilane treatment is performed in a wet manner, the concentration of the phenylsilane treatment liquid recommended by the phenylsilane manufacturer is 0.1 to 2. It is 0%, which is unsuitable for industrial production because it has a problem that the production cost is high because a large amount of solvent is required and the environmental load is high because a large amount of solvent needs to be volatilized. there were. The above Patent Documents 2 and 3 describe a method of dryly performing a silane treatment on the silica surface, resulting in a high degree of hydrophobicity without pretreatment of the silane compound by hydrolysis. However, in the case of phenylalkoxysilane, the desired surface treatment effect (degree of hydrophobicity) cannot be obtained without hydrolysis. Further, when the methods of Patent Documents 2 and 3 are applied to phenylalkoxysilane, self-condensation of phenylsilane occurs due to an increase in the concentration of phenylsilane in the treatment liquid, and bonding to the silica surface is hindered, which is desired. There is a problem that the surface treatment effect (degree of hydrophobicity) cannot be obtained.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、従来よりも製造コストや環境負荷が低く、かつ、疎水化度の高いフェニルアルコキシシラン処理シリカを製造することができる方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and provides a method capable of producing phenylalkoxysilane-treated silica having a lower production cost and environmental load than the conventional one and having a high degree of hydrophobicity. The purpose.

本発明者は、シリカ表面へのフェニルアルコキシシラン処理をする方法について種々検討したところ、フェニルアルコキシシランを加水分解する工程と、加水分解工程後のシラン化合物でシリカを表面処理する工程とを含む方法とし、加水分解処理工程で使用する水の重量、有機溶剤の重量、フェニルアルコキシシランの重量、並びに、表面処理工程で使用するシリカの重量及び比表面積が所定の関係を満たす条件下で、これら加水分解工程及び表面処理工程を行うことで、従来よりも製造コストや環境負荷が低い方法でありながら、疎水化度の高いフェニルアルコキシシラン処理シリカを製造することができることを見出し、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明を完成するに至った。 The present inventor has studied various methods for treating the surface of silica with phenylalkoxysilane. As a result, a method including a step of hydrolyzing phenylalkoxysilane and a step of surface-treating silica with a silane compound after the hydrolysis step. Under the condition that the weight of water used in the hydrolysis treatment step, the weight of the organic solvent, the weight of phenylalkoxysilane, and the weight and specific surface area of silica used in the surface treatment step satisfy a predetermined relationship, these water additions are made. By performing the decomposition step and the surface treatment step, it was found that a phenylalkoxysilane-treated silica having a high degree of hydrophobicity can be manufactured while having a lower manufacturing cost and environmental load than the conventional method, and the above-mentioned problems are brilliantly solved. I came up with the idea that it could be solved and completed the present invention.

すなわち本発明は、フェニルアルコキシシランで処理したシリカを製造する方法であって、該製造方法は、フェニルアルコキシシランを水と有機溶剤とを含む溶媒中で加水分解する工程と該加水分解後のシラン化合物でシリカを表面処理する工程とを含み、該加水分解工程で使用する水の重量をag、有機溶剤の重量をbg、フェニルアルコキシシランの重量をcgとし、該表面処理工程で使用するシリカの重量をdg、比表面積をem/gとすると、該加水分解工程は、a/bが2〜4、かつ、(c/(a+b))×100が8〜42の条件で行われ、該表面処理工程は、(a+b+c)/(d×e)が0.01〜0.03の条件で行われることを特徴とするフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法である。 That is, the present invention is a method for producing silica treated with phenylalkoxysilane, which comprises a step of hydrolyzing phenylalkoxysilane in a solvent containing water and an organic solvent and silane after the hydrolysis. Including a step of surface-treating silica with a compound, the weight of water used in the hydrolysis step is ag, the weight of an organic solvent is bb, and the weight of phenylalkoxysilane is cg. Assuming that the weight is dl and the specific surface area is em 2 / g, the hydrolysis step is carried out under the conditions that a / b is 2 to 4 and (c / (a + b)) × 100 is 8 to 42. The surface treatment step is a method for producing a phenylalkoxysilane-treated silica, characterized in that (a + b + c) / (d × e) is carried out under the conditions of 0.01 to 0.03.

上記加水分解工程は、pHが3〜4の条件で行われることが好ましい。 The hydrolysis step is preferably carried out under the condition of pH 3-4.

上記加水分解工程で使用する有機溶剤は、メタノールであることが好ましい。 The organic solvent used in the hydrolysis step is preferably methanol.

本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法は、従来のフェニルシラン処理の方法に比べて水や有機溶剤の使用量が少なく、製造コストや環境負荷の低い方法でありながら、疎水化度の高いフェニルアルコキシシラン処理シリカを製造することができる有用な製造方法である。 The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention uses less water and organic solvent than the conventional phenylsilane-treated method, and has a high degree of hydrophobicity while being a method with low production cost and environmental load. It is a useful production method capable of producing phenylalkoxysilane treated silica.

以下、本発明の一例について具体的に説明するが、本発明は以下の記載のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で適宜変更して適用することができる。 Hereinafter, an example of the present invention will be specifically described, but the present invention is not limited to the following description, and can be appropriately modified and applied without changing the gist of the present invention.

本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法は、フェニルアルコキシシランを水と有機溶剤とを含む溶媒中で加水分解する工程と、加水分解後のシラン化合物でシリカを表面処理する工程とを含む。
以下においては、これらの工程について記載する。
The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention includes a step of hydrolyzing phenylalkoxysilane in a solvent containing water and an organic solvent, and a step of surface-treating the silica with a silane compound after hydrolysis.
In the following, these steps will be described.

<加水分解工程>
本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法における加水分解工程は、フェニルアルコキシシランを水と有機溶剤とを含む溶媒中で加水分解する工程であって、加水分解工程で使用する水の重量をag、有機溶剤の重量をbg、フェニルアルコキシシランの重量をcgとすると、a/bが2〜4、かつ、(c/(a+b))×100が8〜42の条件で行われることを特徴とする。このような方法でフェニルアルコキシシランの加水分解を行うと、従来の湿式の方法に比べて少ない水や有機溶剤の量でフェニルアルコキシシランを充分に加水分解させて、アルコキシ基の一部又は全部を水酸基にすることができる。
<Hydrolyzed process>
The hydrolysis step in the method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention is a step of hydrolyzing phenylalkoxysilane in a solvent containing water and an organic solvent, and the weight of water used in the hydrolysis step is ag. Assuming that the weight of the organic solvent is bb and the weight of the phenylalkoxysilane is cg, a / b is 2 to 4, and (c / (a + b)) × 100 is 8 to 42. To do. When the phenylalkoxysilane is hydrolyzed by such a method, the phenylalkoxysilane is sufficiently hydrolyzed with a smaller amount of water or an organic solvent as compared with the conventional wet method, and a part or all of the alkoxy groups are removed. It can be a hydroxyl group.

加水分解工程で使用する水と有機溶剤との重量比a/bは2〜4であればよい。加水分解反応には水が必要であり、また、フェニルアルコキシシランは疎水性のため、水となじませるための有機溶剤が必要である。いずれが少なすぎても加水分解速度が遅くなるが、重量比a/bが2〜4であれば、加水分解反応を良好な速度で進めることができる。a/bは、好ましくは、2〜3である。 The weight ratio a / b of water used in the hydrolysis step to the organic solvent may be 2 to 4. Water is required for the hydrolysis reaction, and since phenylalkoxysilane is hydrophobic, an organic solvent is required to make it compatible with water. If the amount is too small, the hydrolysis rate will be slow, but if the weight ratio a / b is 2 to 4, the hydrolysis reaction can proceed at a good rate. a / b is preferably 2 to 3.

また加水分解工程で使用する水と有機溶剤の合計重量に対するフェニルアルコキシシランの重量比である(c/(a+b))×100は8〜42であればよい。水と有機溶剤の合計重量に対してフェニルアルコキシシランが多すぎると加水分解したフェニルアルコキシシラン同士の距離が近くなり、自己縮合するおそれがあるが、このような重量比であると、水や有機溶剤を多量に使用することなく、加水分解したフェニルアルコキシシラン同士の自己縮合も効果的に抑制することができる。(c/(a+b))×100は、好ましくは、8〜20であり、より好ましくは10〜19である。 The weight ratio of phenylalkoxysilane to the total weight of water and the organic solvent used in the hydrolysis step (c / (a + b)) × 100 may be 8 to 42. If the amount of phenylalkoxysilane is too large with respect to the total weight of water and the organic solvent, the hydrolyzed phenylalkoxysilanes may become close to each other and self-condensate. Self-condensation between hydrolyzed phenylalkoxysilanes can also be effectively suppressed without using a large amount of solvent. (C / (a + b)) × 100 is preferably 8 to 20, and more preferably 10 to 19.

加水分解工程は、pHが3〜4の条件で行われることが好ましい。pHが3〜4の条件で行うことで、フェニルアルコキシシランの加水分解を短時間で進行させることができる。また、pHが4以下の条件で行うことで、フェニルアルコキシシランの自己縮合を効果的に抑制することができる。pHは、より好ましくは3.5〜4である。pHは、酸やアルカリを用いて適宜調整すればよい。 The hydrolysis step is preferably carried out under the condition of pH 3-4. Hydrolysis of phenylalkoxysilane can be promoted in a short time by carrying out under the condition of pH 3 to 4. Further, the self-condensation of phenylalkoxysilane can be effectively suppressed by carrying out under the condition of pH 4 or less. The pH is more preferably 3.5-4. The pH may be appropriately adjusted using an acid or an alkali.

加水分解工程は、攪拌して行われることが好ましい。攪拌することで、フェニルアルコキシシランをより充分に加水分解させることができる。
加水分解工程を行う時間は特に制限されないが、20〜40分であることが好ましい。より好ましくは、30〜40分である。このような時間とすることで、フェニルアルコキシシランの自己縮合を抑制しつつ、加水分解をより充分に進めることができる。
The hydrolysis step is preferably carried out with stirring. By stirring, the phenylalkoxysilane can be hydrolyzed more sufficiently.
The time for performing the hydrolysis step is not particularly limited, but is preferably 20 to 40 minutes. More preferably, it takes 30 to 40 minutes. By setting such a time, hydrolysis can be promoted more sufficiently while suppressing self-condensation of phenylalkoxysilane.

加水分解工程における攪拌手段は、特に限定されないが、撹拌羽根による撹拌、振とう攪拌、ミキサーによる撹拌、スターラーによる撹拌等が挙げられる。 The stirring means in the hydrolysis step is not particularly limited, and examples thereof include stirring with a stirring blade, shaking stirring, stirring with a mixer, and stirring with a stirrer.

加水分解工程を行う温度は特に制限されないが、10〜60℃で行うことが好ましい。より好ましくは、20〜60℃である。 The temperature at which the hydrolysis step is carried out is not particularly limited, but it is preferably carried out at 10 to 60 ° C. More preferably, it is 20 to 60 ° C.

<表面処理工程>
本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法における表面処理工程は、加水分解後のシラン化合物でシリカを表面処理する工程であって、加水分解工程で使用する水の重量をag、有機溶剤の重量をbg、フェニルアルコキシシランの重量をcg、とし、表面処理工程で使用するシリカの重量をdg、比表面積をem/gとすると、(a+b+c)/(d×e)が0.01〜0.03の条件で行われることを特徴とする。表面処理工程は、加水分解工程で得られた加水分解後のシラン化合物、水及び有機溶剤を含む分散液でシリカを表面処理する工程である。
シリカに対して、加水分解後のシラン化合物と水と有機溶剤とを含むフェニルアルコキシシラン加水分解液が少なすぎると、シリカ粒子全体に加水分解したフェニルアルコキシシランが馴染まず、均一に表面処理ができないおそれがあり、フェニルアルコキシシラン加水分解液が多すぎると、シリカ粒子にフェニルアルコキシシラン加水分解液を添加した後(特に後述する静置時間を設けた場合には静置時に)シリカ粒子がフェニルアルコキシシラン加水分解液中で沈降して、均一に表面処理ができないおそれがある。表面処理するシリカの重量とその比表面積とを考慮した(a+b+c)/(d×e)が0.01〜0.03となる条件で表面処理工程を行うことで、フェニルアルコキシシラン含有溶液を多量に使用することなく、シリカ表面を充分に疎水化することができる。
(a+b+c)/(d×e)は0.01〜0.03であればよいが、好ましくは、0.01〜0.02である。
<Surface treatment process>
The surface treatment step in the method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention is a step of surface-treating silica with a silane compound after hydrolysis, in which the weight of water used in the hydrolysis step is ag and the weight of an organic solvent. Is bg, the weight of phenylalkoxysilane is cg, the weight of silica used in the surface treatment step is dg, and the specific surface area is em 2 / g, then (a + b + c) / (d × e) is 0.01 to 0. It is characterized in that it is performed under the condition of .03. The surface treatment step is a step of surface-treating silica with a dispersion liquid containing the hydrolyzed silane compound, water and an organic solvent obtained in the hydrolysis step.
If the amount of the phenylalkoxysilane hydrolyzed solution containing the hydrolyzed silane compound, water and an organic solvent is too small with respect to silica, the hydrolyzed phenylalkoxysilane does not blend into the entire silica particles, and uniform surface treatment cannot be performed. If there is too much phenylalkoxysilane hydrolyzed solution, the silica particles will become phenylalkoxy after adding the phenylalkoxysilane hydrolyzed solution to the silica particles (especially when the standing time is provided, which will be described later). It may settle in the silane hydrolyzed solution and the surface treatment may not be uniform. By performing the surface treatment step under the condition that (a + b + c) / (d × e) is 0.01 to 0.03 in consideration of the weight of silica to be surface-treated and its specific surface area, a large amount of phenylalkoxysilane-containing solution is produced. The silica surface can be sufficiently hydrophobized without being used in.
(A + b + c) / (d × e) may be 0.01 to 0.03, but is preferably 0.01 to 0.02.

表面処理工程では、加水分解後のシラン化合物をシリカに添加した後、攪拌することが好ましい。攪拌することで加水分解したシラン化合物のシラノール基とシリカ表面のシラノール基との反応を充分に進めてシリカの表面処理度(疎水化度)をより高くすることができる。
攪拌する時間は特に制限されないが、20〜60分であることが好ましい。より好ましくは、30〜60分である。
攪拌する手段としては、ブレンダ―、ボールミルなどが挙げられる。
In the surface treatment step, it is preferable to add the hydrolyzed silane compound to the silica and then stir. By stirring, the reaction between the silanol group of the hydrolyzed silane compound and the silanol group on the silica surface can be sufficiently advanced to further increase the surface treatment degree (hydrophobicity) of the silica.
The stirring time is not particularly limited, but is preferably 20 to 60 minutes. More preferably, it takes 30 to 60 minutes.
Examples of the stirring means include a blender and a ball mill.

また表面処理工程では、加水分解後のシラン化合物をシリカに添加した後、静置する時間を設けることが好ましい。
加水分解後のシラン化合物と水と有機溶剤とを含む液をシリカに添加すると、シリカ粒子間にフェニルアルコキシシラン加水分解液が染み込み、シラン化合物とシリカ粒子とが化学結合してシリカの表面が疎水化される。静置時間を設けることで、シラン化合物とシリカ粒子とが化学結合の形成をより充分に進行させることができ、シリカの表面処理度(疎水化度)を上げることができる。より好ましくは、加水分解後のシラン化合物をシリカに添加した後、攪拌し、その後に静置する時間を設けることである。
シリカの表面処理度(疎水化度)を上げることと生産性とを考慮すると、静置する時間は、5〜40時間であることが好ましい。なお、静置時間を設ける場合、有機溶剤や水の揮発を抑えるため、密閉静置することが好ましい。
Further, in the surface treatment step, it is preferable to provide a time for allowing the hydrolyzed silane compound to stand after being added to the silica.
When a solution containing the hydrolyzed silane compound, water, and an organic solvent is added to silica, the phenylalkoxysilane hydrolyzate is impregnated between the silica particles, and the silane compound and the silica particles are chemically bonded to form a hydrophobic silica surface. Be made. By providing the standing time, the formation of chemical bonds between the silane compound and the silica particles can proceed more sufficiently, and the degree of surface treatment (degree of hydrophobicity) of silica can be increased. More preferably, the hydrolyzed silane compound is added to the silica, stirred, and then allowed to stand for a period of time.
Considering increasing the surface treatment degree (hydrophobicity degree) of silica and productivity, the standing time is preferably 5 to 40 hours. When the standing time is provided, it is preferable to keep the standing still in a closed state in order to suppress the volatilization of the organic solvent and water.

表面処理工程を行う温度は特に制限されないが、10〜50℃で行うことが好ましい。より好ましくは、20〜40℃である。 The temperature at which the surface treatment step is performed is not particularly limited, but is preferably 10 to 50 ° C. More preferably, it is 20 to 40 ° C.

表面処理工程は、フェニルアルコキシシランを加水分解して得られるシラン化合物を表面処理剤として使用する限り、更にその他の表面処理剤を併用してもよいが、シラン化合物とその他の表面処理剤との合計100質量%中、その他の表面処理剤の割合は50質量%以下であることが好ましい。より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは10質量%以下、特に好ましくは1質量%以下であり、最も好ましくは、0質量%、すなわち、表面処理剤として、フェニルアルコキシシランを加水分解して得られるシラン化合物のみを用いることである。
その他の表面処理剤は1種又は2種以上を用いることができる。
In the surface treatment step, as long as the silane compound obtained by hydrolyzing phenylalkoxysilane is used as the surface treatment agent, other surface treatment agents may be further used in combination, but the silane compound and the other surface treatment agent are used in combination. The proportion of the other surface treatment agent in the total 100% by mass is preferably 50% by mass or less. More preferably 30% by mass or less, further preferably 10% by mass or less, particularly preferably 1% by mass or less, and most preferably 0% by mass, that is, obtained by hydrolyzing phenylalkoxysilane as a surface treatment agent. It is to use only the silane compound which is obtained.
As the other surface treatment agent, one kind or two or more kinds can be used.

また表面処理工程では、必要に応じて、シリカ粒子以外の他の無機酸化物粒子を使用してもよい。シリカ粒子以外の他の無機酸化物粒子を使用すると、表面処理されたケイ素含有複合無機粒子が得られる。
他の無機酸化物粒子としては特に限定されないが、例えば、元素周期表II〜VI族の元素を含むものが好ましく、より好ましくは元素周期表III〜IV族の元素を含むものである。中でも、Al、Ti及び/又はZrが好ましい。他の無機酸化物粒子の使用量は、用途等に応じて適宜設定すればよいが、例えば、原料無機酸化物粒子の総量(シリカ粒子と他の無機酸化物粒子との合計量)100質量%に対し、50質量%以下であることが好ましい。より好ましくは30質量%以下、更に好ましくは10質量%以下、特に好ましくは1質量%以下、最も好ましくは、0質量%、すなわち、シリカ粒子のみを用いることである。
他の無機酸化物粒子は1種又は2種以上を用いることができる。
Further, in the surface treatment step, inorganic oxide particles other than the silica particles may be used, if necessary. When inorganic oxide particles other than silica particles are used, surface-treated silicon-containing composite inorganic particles are obtained.
The other inorganic oxide particles are not particularly limited, but for example, those containing elements of Group II to VI of the Periodic Table of the Elements are preferable, and those containing elements of Groups III to IV of the Periodic Table of the Elements are more preferable. Of these, Al, Ti and / or Zr are preferable. The amount of the other inorganic oxide particles used may be appropriately set according to the intended use, and for example, the total amount of the raw material inorganic oxide particles (total amount of the silica particles and the other inorganic oxide particles) is 100% by mass. On the other hand, it is preferably 50% by mass or less. More preferably 30% by mass or less, further preferably 10% by mass or less, particularly preferably 1% by mass or less, most preferably 0% by mass, that is, only silica particles are used.
As the other inorganic oxide particles, one kind or two or more kinds can be used.

<その他の工程>
本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法は、表面処理工程で得られたシリカを乾燥する工程を含むことが好ましい。
乾燥工程の温度や時間は、表面処理工程で得られたシリカが充分に乾燥される限り特に制限されないが、乾燥工程の温度は、100〜200℃であることが好ましい。より好ましくは、120〜200℃である。
また乾燥工程の時間は、1〜10時間であることが好ましい。より好ましくは、2〜5時間である。
<Other processes>
The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention preferably includes a step of drying the silica obtained in the surface treatment step.
The temperature and time of the drying step are not particularly limited as long as the silica obtained in the surface treatment step is sufficiently dried, but the temperature of the drying step is preferably 100 to 200 ° C. More preferably, it is 120 to 200 ° C.
The time of the drying step is preferably 1 to 10 hours. More preferably, it is 2 to 5 hours.

本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法は、加水分解工程、表面処理工程及び乾燥工程以外に、更にその他の工程を含んでいてもよい。 The method for producing a phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention may further include other steps in addition to the hydrolysis step, the surface treatment step and the drying step.

<フェニルアルコキシシラン>
本発明において用いるフェニルアルコキシシランは、フェニル基及びアルコキシ基を含有し、かつSi−O結合を有する化合物であればよいが、中でも、下記一般式(1):
−Si−(OR)4−m (1)
(式中、Xは、置換基を有していてもよいフェニル基を表す。Rは、炭素数1〜5のアルキル基を表す。mは、1〜3の整数を表す。)で表される化合物が好ましい。
<Phenylalkoxysilane>
The phenylalkoxysilane used in the present invention may be a compound containing a phenyl group and an alkoxy group and having a Si—O bond. Among them, the following general formula (1):
X m- Si- (OR) 4-m (1)
(In the formula, X represents a phenyl group which may have a substituent. R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. M represents an integer of 1 to 3). Compounds are preferred.

上記一般式(1)中、Xは、置換基を有していてもよいフェニル基を表す。置換基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子等が挙げられる。中でも、本発明の製造方法で得られるフェニルアルコキシシラン処理シリカの樹脂等への分散安定性を高める観点から、アミノ基を含有しないこと、すなわちアミノ基非含有フェニル基が好適である。より好ましくは、置換基を有しないこと、すなわち非置換フェニル基である。 In the above general formula (1), X represents a phenyl group which may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group and a halogen atom. Above all, from the viewpoint of enhancing the dispersion stability of the phenylalkoxysilane-treated silica obtained by the production method of the present invention in a resin or the like, an amino group-free phenyl group, that is, an amino group-free phenyl group is preferable. More preferably, it does not have a substituent, that is, it is an unsubstituted phenyl group.

Rは、炭素数1〜5のアルキル基を表す。直鎖、分岐鎖又は環状のいずれであってもよいが、直鎖又は分岐鎖のアルキル基であることが好ましい。炭素数は、好ましくは1〜4、より好ましくは1〜3、更に好ましくは1〜2である。 R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It may be linear, branched or cyclic, but is preferably a linear or branched alkyl group. The number of carbon atoms is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2.

mは、1〜3の整数を表す。好ましくは1又は2であり、より好ましくは1である。すなわち上記一般式(1)で表される化合物としてより好ましくは、フェニルトリアルコキシシランである。 m represents an integer of 1 to 3. It is preferably 1 or 2, and more preferably 1. That is, phenyltrialkoxysilane is more preferable as the compound represented by the general formula (1).

上記フェニルアルコキシシランとして具体的には、例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランが好適である。
本発明の製造方法においては、フェニルアルコキシシランを1種用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
Specifically, for example, phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane are suitable as the phenylalkoxysilane.
In the production method of the present invention, one type of phenylalkoxysilane may be used, or two or more types may be used.

<有機溶剤>
加水分解工程に用いる有機溶剤は、フェニルアルコキシシランを加水分解させることができる限り特に制限されないが、メタノール、エタノールのいずれか又は両方を用いることが好ましい。このような低級アルコールを用いることで加水分解が進みやすくなる。より好ましくは、メタノールである。
<Organic solvent>
The organic solvent used in the hydrolysis step is not particularly limited as long as it can hydrolyze phenylalkoxysilane, but it is preferable to use either or both of methanol and ethanol. By using such a lower alcohol, hydrolysis is facilitated. More preferably, it is methanol.

<シリカ>
本発明において用いるシリカは、無水ケイ酸及び含水ケイ酸のいずれであってもよい。例えば無水ケイ酸としては、乾式法(火炎燃焼法等)により製造されるシリカ(ヒュームドシリカ)の他、石英、トリディマイト、クリストバル石、コーサイト、スティショフ石、石英ガラス等が挙げられる。含水ケイ酸としては、シリカヒドロゾルをゲル化し乾燥して得られる、いわゆる非晶質のシリカゲルの他、コロイダルシリカ、シリケートオリゴマー、ミセルテンプレート型シリカ等が挙げられる。中でも、非晶質シリカがより好ましい。
シリカは、1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
<Silica>
The silica used in the present invention may be either silicic anhydride or hydrous silicic acid. For example, as silicic anhydride, silica (fumed silica) produced by a dry method (flame combustion method or the like), quartz, tridymite, cristobalite, coesite, tridymite, quartz glass and the like can be mentioned. Examples of the hydrous silicic acid include so-called amorphous silica gel obtained by gelling and drying silica hydrosol, colloidal silica, silicate oligomer, micelle template type silica and the like. Of these, amorphous silica is more preferable.
As the silica, one type may be used, or two or more types may be used.

本発明において用いるシリカは、比表面積が2〜15m/gであるものが好ましい。より好ましくは、2〜10m/gであるものであり、更に好ましくは、2〜7m/gであるものである。 The silica used in the present invention preferably has a specific surface area of 2 to 15 m 2 / g. More preferably, those wherein 2 to 10 m 2 / g, more preferably those wherein 2~7m 2 / g.

本明細書中、比表面積は、BET法により得られたBET比表面積(SSAとも称す)を意味する。BET法は、窒素等の気体粒子を固体粒子に吸着させ、吸着した量から比表面積を測定する気体吸着法であり、圧力Pと吸着量Vとの関係からBET式によって単分子吸着量VMを求めることで、比表面積が定まる。本明細書中の比表面積の詳しい測定方法は、後述の実施例において説明する。 In the present specification, the specific surface area means the BET specific surface area (also referred to as SSA) obtained by the BET method. The BET method is a gas adsorption method in which gas particles such as nitrogen are adsorbed on solid particles and the specific surface area is measured from the adsorbed amount. Based on the relationship between the pressure P and the adsorption amount V, the single molecule adsorption amount VM is determined by the BET formula. By finding it, the specific surface area is determined. A detailed method for measuring the specific surface area in the present specification will be described in Examples described later.

本発明において用いるシリカは粒子状のものであり、粒子の形状は特に限定されないが、本発明の製造方法で得られるフェニルアルコキシシラン処理シリカを溶媒や樹脂に分散させた分散体の長期安定性向上の観点から、略球状(球状又は球状に近い形状)であることが好ましい。
粒子形状は、走査型電子顕微鏡等によって観察することができる。
The silica used in the present invention is in the form of particles, and the shape of the particles is not particularly limited, but the long-term stability of the dispersion obtained by dispersing the phenylalkoxysilane-treated silica obtained by the production method of the present invention in a solvent or resin is improved. From the viewpoint of the above, it is preferable that the shape is substantially spherical (spherical or close to spherical).
The particle shape can be observed with a scanning electron microscope or the like.

<フェニルアルコキシシラン処理シリカ>
本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法で得られるフェニルアルコキシシラン処理シリカは、疎水化度が15〜35%であることが好ましい。疎水化度が15〜35%であると、比誘電率が5〜30の溶媒との親和性が向上する。半導体分野では、比誘電率が5〜30の溶媒との馴染みがよい樹脂が使用されるため、疎水化度が15〜35%のフェニルアルコキシシラン処理シリカは、半導体分野で使用される樹脂への添加剤として好適に用いることができる。
フェニルアルコキシシラン処理シリカの疎水化度は、より好ましくは、20〜35%である。
<Phenylalkoxysilane treated silica>
The phenylalkoxysilane-treated silica obtained by the method for producing a phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention preferably has a degree of hydrophobicity of 15 to 35%. When the degree of hydrophobization is 15 to 35%, the affinity with a solvent having a relative permittivity of 5 to 30 is improved. In the semiconductor field, a resin that is compatible with a solvent having a relative permittivity of 5 to 30 is used. Therefore, a phenylalkoxysilane-treated silica having a hydrophobicity of 15 to 35% can be used as a resin used in the semiconductor field. It can be suitably used as an additive.
The degree of hydrophobization of the phenylalkoxysilane-treated silica is more preferably 20 to 35%.

比誘電率が5〜30である溶媒としては、例えば、シクロヘキサノン(比誘電率:18.3(20℃))、メチルエチルケトン(比誘電率:18.5(20℃))、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(比誘電率:8.3)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(比誘電率:12.3)、エタノール(比誘電率:24.3(25℃))、n−プロピルアルコール(比誘電率:20.1(25℃))、ベンジルアルコール(比誘電率:13.1(20℃))、フェノール(比誘電率:9.78(60℃))、m−クレゾール(比誘電率:11.8(25℃))、アセトン(比誘電率:20.7(25℃))、テトラヒドロフラン(比誘電率:7.6)等が挙げられる。 Examples of the solvent having a relative permittivity of 5 to 30 include cyclohexanone (relative permittivity: 18.3 (20 ° C)), methyl ethyl permittivity (relative permittivity: 18.5 (20 ° C)), and propylene glycol monomethyl ether acetate. (Relative permittivity: 8.3), propylene glycol monomethyl ether (relative permittivity: 12.3), ethanol (relative permittivity: 24.3 (25 ° C)), n-propyl alcohol (relative permittivity: 20. 1 (25 ° C)), benzyl alcohol (relative permittivity: 13.1 (20 ° C)), phenol (relative permittivity: 9.78 (60 ° C)), m-cresol (relative permittivity: 11.8 (relative permittivity)) (25 ° C))), acetone (relative permittivity: 20.7 (25 ° C)), tetrahydrofuran (relative permittivity: 7.6) and the like.

比誘電率が5〜30の溶媒との馴染みがよい樹脂としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin having good compatibility with a solvent having a relative permittivity of 5 to 30 include acrylic resin and epoxy resin.

本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法で得られるフェニルアルコキシシラン処理シリカは、樹脂への分散安定性に優れるため、封止材料や、フィルム材料、トナー材料、歯科材料等の各種用途に使用される樹脂の添加剤として好適に用いることができる。 The phenylalkoxysilane-treated silica obtained by the method for producing phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention has excellent dispersion stability in a resin, and is therefore used in various applications such as sealing materials, film materials, toner materials, and dental materials. It can be suitably used as an additive for the resin to be used.

本発明を詳細に説明するために以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。特に断りのない限り、「%」は「質量%(重量%)」を、「部」は「質量部(重量部)」を、それぞれ意味する。 Examples will be given below to explain the present invention in detail, but the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, "%" means "mass% (% by weight)" and "parts" means "parts by mass (parts by weight)".

実施例1
(フェニルトリメトキシシラン加水分解液の調製)
水14gにメタノール6gを投入した後、25℃に保持し、酢酸を添加することによりpHを3.8にした。25℃に保持したpH3.8の水とメタノール溶液にフェニルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製 KBM−103)を2g投入し、スターラーで35分間撹拌することによりフェニルトリメトキシシラン加水分解液を調製した。
Example 1
(Preparation of phenyltrimethoxysilane hydrolyzate)
After adding 6 g of methanol to 14 g of water, the pH was adjusted to 3.8 by keeping the temperature at 25 ° C. and adding acetic acid. 2 g of phenyltrimethoxysilane (KBM-103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to a pH 3.8 water and methanol solution maintained at 25 ° C., and the mixture was stirred with a stirrer for 35 minutes to prepare a phenyltrimethoxysilane hydrolyzate. Prepared.

(シリカ粒子の表面処理)
内容積1L、高さ170mmの円筒形広口瓶に比表面積6.8m/gのシリカ200gとフェニルトリメトキシシラン加水分解液を投入し、広口瓶の蓋を閉め、100回上下反転した後、広口瓶の蓋を閉めたまま7時間静置した。静置後、広口瓶からステンレス製のバットにシリカを移し、130℃に設定した乾燥機で3時間熱をかけ、表面処理シリカを得た。得られた表面処理シリカの疎水化度は19%であった。なお、シリカの比表面積、及び、表面処理シリカの疎水化度は以下の方法により測定又は算出した。
[シリカの比表面積(BET比表面積)の測定方法]
BET比表面積は、試料を窒素雰囲気中、200℃で40分間熱処理し、マイクロメリティクス社製GEMINI VII2390を用いて測定した。
[表面処理シリカの疎水化度]
200mLビーカーにイオン交換水を50mL入れ、その後、表面処理シリカ0.200gを入れ、スターラーで攪拌しながら、ビュレットを用いてメタノールを滴下し、液面上に浮いた表面処理シリカが完全沈むまで滴下したメタノール量を読み取り、下記式より疎水化度を算出した。
疎水化度(%)={滴定量(mL)/[滴定量(mL)+50(mL)]}×100
(Surface treatment of silica particles)
200 g of silica having a specific surface area of 6.8 m 2 / g and a phenyltrimethoxysilane hydrolyzate were put into a cylindrical wide-mouthed bottle having an internal volume of 1 L and a height of 170 mm, the lid of the wide-mouthed bottle was closed, and the bottle was turned upside down 100 times. The wide-mouthed bottle was allowed to stand for 7 hours with the lid closed. After standing, silica was transferred from a wide-mouthed bottle to a stainless steel vat and heated in a dryer set at 130 ° C. for 3 hours to obtain surface-treated silica. The degree of hydrophobization of the obtained surface-treated silica was 19%. The specific surface area of silica and the degree of hydrophobicity of surface-treated silica were measured or calculated by the following methods.
[Measuring method of specific surface area of silica (BET specific surface area)]
The BET specific surface area was measured by heat-treating the sample in a nitrogen atmosphere at 200 ° C. for 40 minutes and using GEMINI VII2390 manufactured by Micromeritics.
[Hydrophobicity of surface-treated silica]
Put 50 mL of ion-exchanged water in a 200 mL beaker, then put 0.200 g of surface-treated silica, and while stirring with a stirrer, add methanol using a burette and drop until the surface-treated silica floating on the liquid surface completely sinks. The amount of methanol was read and the degree of hydrophobicity was calculated from the following formula.
Hydrophobicity (%) = {titration (mL) / [titration (mL) + 50 (mL)]} x 100

実施例2〜8、比較例1〜6
使用する水、有機溶剤、フェニルアルコキシシランの量、シリカの量や比表面積、及び、フェニルアルコキシシランの加水分解液調製時の攪拌時間を表1に記載のとおりに変更した以外は実施例1と同様にして表面処理シリカを製造した。表1には得られた表面処理シリカの疎水化度も示した。
Examples 2-8, Comparative Examples 1-6
Example 1 except that the amount of water, organic solvent, phenylalkoxysilane used, the amount and specific surface area of silica, and the stirring time at the time of preparing the hydrolyzed solution of phenylalkoxysilane were changed as shown in Table 1. Surface-treated silica was produced in the same manner. Table 1 also shows the degree of hydrophobization of the obtained surface-treated silica.

Figure 0006841166
Figure 0006841166

表1の結果から、本発明のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法の要件を満たす製造方法により表面処理シリカを製造することで、水や有機溶剤を多量に使用することなく、充分に表面処理がされた疎水化度の高いシリカを得ることができることが確認された。 From the results in Table 1, by producing the surface-treated silica by a manufacturing method that satisfies the requirements of the manufacturing method of the phenylalkoxysilane-treated silica of the present invention, the surface treatment can be sufficiently performed without using a large amount of water or an organic solvent. It was confirmed that silica having a high degree of hydrophobicity can be obtained.

Claims (3)

フェニルアルコキシシランで処理したシリカを製造する方法であって、
該製造方法は、フェニルアルコキシシランを水と有機溶剤とを含む溶媒中で加水分解する工程と
該加水分解後のシラン化合物でシリカを表面処理する工程とを含み、
該加水分解工程で使用する水の重量をag、有機溶剤の重量をbg、フェニルアルコキシシランの重量をcgとし、該表面処理工程で使用するシリカの重量をdg、比表面積をem/gとすると、
該加水分解工程は、a/bが2〜4、かつ、(c/(a+b))×100が8〜42の条件で行われ、
該表面処理工程は、(a+b+c)/(d×e)が0.01〜0.03の条件で行われる
ことを特徴とするフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法。
A method for producing silica treated with phenylalkoxysilane.
The production method includes a step of hydrolyzing phenylalkoxysilane in a solvent containing water and an organic solvent, and a step of surface-treating silica with the hydrolyzed silane compound.
The weight of water used in the hydrolysis step is ag, the weight of organic solvent is bg, the weight of phenylalkoxysilane is cg, the weight of silica used in the surface treatment step is dg, and the specific surface area is em 2 / g. Then,
The hydrolysis step is carried out under the conditions that a / b is 2 to 4 and (c / (a + b)) × 100 is 8 to 42.
The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica, wherein the surface treatment step is carried out under the condition that (a + b + c) / (d × e) is 0.01 to 0.03.
前記加水分解工程は、pHが3〜4の条件で行われることを特徴とする請求項1に記載のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法。 The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica according to claim 1, wherein the hydrolysis step is carried out under conditions of pH 3 to 4. 前記加水分解工程で使用する有機溶剤は、メタノールであることを特徴とする請求項1又は2に記載のフェニルアルコキシシラン処理シリカの製造方法。 The method for producing phenylalkoxysilane-treated silica according to claim 1 or 2, wherein the organic solvent used in the hydrolysis step is methanol.
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