JP6886782B2 - A photosensitive resin composition, a cured film, a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element, a substrate for an organic EL element, an organic EL element, a method for producing a cured film, a method for producing a bank, and a method for producing an organic EL element. - Google Patents
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- FQJOMAYWNOVABJ-NFSLGCCLSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1-c1ccccc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1-c1ccccc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O FQJOMAYWNOVABJ-NFSLGCCLSA-N 0.000 description 1
- WYROXAWLWCFBFS-URLVUCEESA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1N1CC[O](CCC(O/N=C(/C(c(cc2)ccc2Sc(cc2)ccc2C(c2c(C)cccc2)=O)=O)\c(c(C)c2)ccc2[N+]([O-])=O)=O)CC1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c(cc1)ccc1N1CC[O](CCC(O/N=C(/C(c(cc2)ccc2Sc(cc2)ccc2C(c2c(C)cccc2)=O)=O)\c(c(C)c2)ccc2[N+]([O-])=O)=O)CC1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O WYROXAWLWCFBFS-URLVUCEESA-N 0.000 description 1
- VVDPCVVLMAZRAT-LVYIWIAJSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1cc2ccccc2cc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1cc2ccccc2cc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O VVDPCVVLMAZRAT-LVYIWIAJSA-N 0.000 description 1
- FNLMLYBXRWLQFO-CCFHIKDMSA-N CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1ccccc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c(cc1)ccc1Sc(cc1)ccc1C(c1ccccc1)=O)=O)\c(c(C)c1)ccc1[N+]([O-])=O)=O FNLMLYBXRWLQFO-CCFHIKDMSA-N 0.000 description 1
- NAHAMGCXTZHESG-YYDJUVGSSA-N CC1(C=CC(/C(/C(c(cc2)ccc2Sc(cc2)ccc2[N+]([O-])=O)=O)=N\OC(C)=O)=C(C)C1)[N+]([O-])=O Chemical compound CC1(C=CC(/C(/C(c(cc2)ccc2Sc(cc2)ccc2[N+]([O-])=O)=O)=N\OC(C)=O)=C(C)C1)[N+]([O-])=O NAHAMGCXTZHESG-YYDJUVGSSA-N 0.000 description 1
- 0 Cc1ccc(*(*)c(cc2)c-3cc2C(*)=O)c-3c1 Chemical compound Cc1ccc(*(*)c(cc2)c-3cc2C(*)=O)c-3c1 0.000 description 1
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- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
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Description
本発明は、発生ガス量の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、前述の感光性樹脂組成物用いて形成される硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクと、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板及び有機EL素子と、前述の感光性樹脂組成物を用いる硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクの製造方法と、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板を用いる有機EL素子の製造方法とに関する。 The present invention comprises a photosensitive resin composition capable of forming a cured film with a small amount of generated gas, a cured film formed by using the above-mentioned photosensitive resin composition, and a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element. A substrate and an organic EL element for an organic EL element having the above-mentioned bank, a method for manufacturing a bank for partitioning a light emitting layer in a cured film and an organic EL element using the above-mentioned photosensitive resin composition, and the above-mentioned bank are provided. The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL element using a substrate for an organic EL element.
従来より、有機EL表示素子や、カラーフィルタ、有機TFTアレイ等の光学素子は、基板上に、画素を取り囲むバンク(隔壁)を形成した後に、バンクに囲まれた領域内に、種々の機能層を設けることで製造されている。このようなバンクを容易に形成する方法として、感光性樹脂組成物を用いるフォトリソグラフィー法によりバンクを形成する方法が知られている(特許文献1及び特許文献2を参照)。 Conventionally, optical elements such as organic EL display elements, color filters, and organic TFT arrays have various functional layers in a region surrounded by banks after forming a bank (partition wall) surrounding pixels on a substrate. It is manufactured by providing. As a method for easily forming such a bank, a method for forming a bank by a photolithography method using a photosensitive resin composition is known (see Patent Document 1 and Patent Document 2).
しかし、特許文献1及び2に記載の方法に従って、バンクとして使用され得る硬化膜を形成する場合、硬化膜からのガス発生量が多くなることが懸念される。有機EL素子において、バンクは、ITO等の電極層や、発光層に接するように設けられる。そして、電極層や発光層がバンクから発生するガスで汚染されてしまうと、これらの劣化が促進されることが懸念される。
このため、発生ガス量の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物が望まれている。
However, when a cured film that can be used as a bank is formed according to the methods described in Patent Documents 1 and 2, there is a concern that the amount of gas generated from the cured film will increase. In the organic EL element, the bank is provided so as to be in contact with an electrode layer such as ITO or a light emitting layer. Then, if the electrode layer and the light emitting layer are contaminated with the gas generated from the bank, there is a concern that these deteriorations will be promoted.
Therefore, a photosensitive resin composition capable of forming a cured film with a small amount of generated gas is desired.
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、発生ガス量の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、前述の感光性樹脂組成物用いて形成される硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクと、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板及び有機EL素子と、前述の感光性樹脂組成物を用いる硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクの製造方法と、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板を用いる有機EL素子の製造方法とを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is a photosensitive resin composition capable of forming a cured film having a small amount of generated gas, and a cured film and an organic substance formed by using the above-mentioned photosensitive resin composition. A bank for partitioning a light emitting layer in an EL element, a substrate and an organic EL element for an organic EL element having the above-mentioned bank, and a curing film using the above-mentioned photosensitive resin composition and a partition for a light emitting layer in the organic EL element. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a bank of the above, and a method for manufacturing an organic EL device using a substrate for an organic EL device provided with the above-mentioned bank.
本発明者らは、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性モノマー(B)と、光重合開始剤(C)と、1分子中に複数個のエポキシ基又はオキセタニル基を備える多官能架橋性化合物(D)とを含む感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂(A)にカルド骨格を有する樹脂を含有させ、多官能架橋性化合物(D)としてエポキシ当量又はオキセタニル当量が50〜350g/eqである化合物を用いることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。 The present inventors have a polyfunctional crosslinkability having an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule. In the photosensitive resin composition containing the compound (D), the alkali-soluble resin (A) contains a resin having a cardo skeleton, and the polyfunctional crosslinkable compound (D) has an epoxy equivalent or an oxetanyl equivalent of 50 to 350 g / eq. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by using the above-mentioned compound, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.
本発明の第1の態様は、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性モノマー(B)と、光重合開始剤(C)と、1分子中に複数個のエポキシ基又はオキセタニル基を備える多官能架橋性化合物(D)とを含み、
アルカリ可溶性樹脂(A)が、カルド骨格を有する樹脂を含み、
多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量又はオキセタニル当量が50〜350g/eqである、感光性樹脂組成物である。
The first aspect of the present invention includes an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule. Including the functionally crosslinkable compound (D)
The alkali-soluble resin (A) contains a resin having a cardo skeleton and contains.
A photosensitive resin composition having an epoxy equivalent or an oxetanyl equivalent of the polyfunctional crosslinkable compound (D) of 50 to 350 g / eq.
本発明の第2の態様は、第1の態様にかかる感光性樹脂組成物を硬化させてなる硬化膜である。 A second aspect of the present invention is a cured film obtained by curing the photosensitive resin composition according to the first aspect.
本発明の第3の態様は、第1の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、有機EL素子における発光層の区画用のバンクの形成に用いられる感光性樹脂組成物を硬化させてなる、有機EL素子における発光層の区画用のバンクである。 A third aspect of the present invention is the photosensitive resin composition according to the first aspect, which is obtained by curing a photosensitive resin composition used for forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element. , A bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.
本発明の第4の態様は、第3の態様にかかるバンクを備える、有機EL素子用の基板である。 A fourth aspect of the present invention is a substrate for an organic EL device including the bank according to the third aspect.
本発明の第5の態様は、第3の態様にかかるバンクを備える、有機EL素子である。 A fifth aspect of the present invention is an organic EL device including the bank according to the third aspect.
本発明の第6の態様は、第1の態様にかかる感光性樹脂組成物を塗布することで、塗布膜を形成する工程と、
塗布膜を露光する工程と、
露光された塗布膜を硬化する工程と、を含む硬化膜の製造方法である。
A sixth aspect of the present invention includes a step of forming a coating film by applying the photosensitive resin composition according to the first aspect.
The process of exposing the coating film and
This is a method for producing a cured film, which comprises a step of curing the exposed coating film.
本発明の第7の態様は、基板上に、有機EL素子における発光層の区画用のバンクを製造する方法であって、
第1の態様にかかる感光性樹脂組成物であって、有機EL素子における発光層の区画用のバンクの形成に用いられる感光性樹脂組成物を塗布することで、塗布膜を基板上に形成する工程と、
塗布膜中のバンクの位置に対応する箇所を、位置選択的に露光する工程と、
露光された塗布膜を現像する工程と、
現像された塗布膜を硬化する工程と、を含む方法である。
A seventh aspect of the present invention is a method of manufacturing a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element on a substrate.
A coating film is formed on a substrate by applying the photosensitive resin composition according to the first aspect, which is used for forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element. Process and
A process of regioselectively exposing a portion of the coating film corresponding to the position of the bank,
The process of developing the exposed coating film and
It is a method including a step of curing the developed coating film.
本発明の第8の態様は、第4の態様にかかる有機EL素子用の基板における、バンクで区画された領域内に発光層を形成する工程を含む、有機EL素子の製造方法である。 An eighth aspect of the present invention is a method for manufacturing an organic EL element, which comprises a step of forming a light emitting layer in a region partitioned by a bank in the substrate for the organic EL element according to the fourth aspect.
本発明によれば、発生ガス量の少ない硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、前述の感光性樹脂組成物用いて形成される硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクと、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板及び有機EL素子と、前述の感光性樹脂組成物を用いる硬化膜及び有機EL素子における発光層の区画用のバンクの製造方法と、前述のバンクを備える有機EL素子用の基板を用いる有機EL素子の製造方法とを提供することができる。 According to the present invention, a photosensitive resin composition capable of forming a cured film with a small amount of generated gas, a cured film formed by using the above-mentioned photosensitive resin composition, and a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element. A method for manufacturing a substrate and an organic EL element for an organic EL element having the above-mentioned bank, a method for manufacturing a bank for partitioning a light emitting layer in the cured film and the organic EL element using the above-mentioned photosensitive resin composition, and the above-mentioned bank. It is possible to provide a method for manufacturing an organic EL element using a substrate for the organic EL element provided with the above.
以下、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明を行う。なお、本明細書中における「〜」は、とくに断りがなければ以上(下限値)から以下(上限値)を表す。 Hereinafter, the present invention will be described based on preferred embodiments. In addition, "~" in this specification represents the above (lower limit value) to the following (upper limit value) unless otherwise specified.
≪感光性樹脂組成物≫
感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性モノマー(B)と、光重合開始剤(C)と、1分子中に複数個のエポキシ基又はオキセタニル基を備える多官能架橋性化合物(D)とを含む。
アルカリ可溶性樹脂(A)は、カルド骨格を有する樹脂を含む。
多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量又はオキセタニル当量は、50〜350g/eqである。
上記の構成を備える感光性樹脂組成物は、ガス発生が抑制された硬化膜を形成可能である。
以下、感光性樹脂組成物の、必須又は任意の成分と、感光性樹脂組成物の調製方法とについて説明する。
<< Photosensitive resin composition >>
The photosensitive resin composition is a polyfunctional crosslink containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule. Includes sex compound (D).
The alkali-soluble resin (A) includes a resin having a cardo skeleton.
The epoxy equivalent or oxetanyl equivalent of the polyfunctional crosslinkable compound (D) is 50-350 g / eq.
The photosensitive resin composition having the above structure can form a cured film in which gas generation is suppressed.
Hereinafter, essential or arbitrary components of the photosensitive resin composition and a method for preparing the photosensitive resin composition will be described.
<アルカリ可溶性樹脂(A)>
感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)(本明細書において「(A)成分」とも記す。)を含む。アルカリ可溶性樹脂(A)は、(A1)カルド構造を有する樹脂(以下、「(A1)カルド樹脂」とも記す。)を含む。
ここで、本明細書において、アルカリ可溶性樹脂(A)とは、分子内にアルカリ可溶性をもたせる官能基(例えば、フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基等)を備える樹脂を指す。
<Alkali-soluble resin (A)>
The photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A) (also referred to as “component (A)” in the present specification). The alkali-soluble resin (A) includes a resin having a (A1) cardo structure (hereinafter, also referred to as "(A1) cardo resin").
Here, in the present specification, the alkali-soluble resin (A) refers to a resin having a functional group (for example, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, etc.) having alkali solubility in the molecule.
本実施形態の感光性樹脂組成物がガス発生の抑制された硬化膜を形成可能である点について、定かなものではないが以下の影響があるものと考えられる。
すなわち、まず、(A1)カルド樹脂は、カルド構造の嵩高さを有している。
一方、感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する際においては、(A1)カルド樹脂と、1分子中に複数個のエポキシ基又はオキセタニル基を備える多官能架橋性化合物(D)との間での架橋が生じる。
これらの影響が相まって、感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する際、感光性樹脂組成物の硬化膜を備える積層構造体を加工して種々の素子を形成する際、及び感光性樹脂組成物の硬化膜を備える種々の素子を使用する際等に硬化膜からガスが発生することが抑制されると考えられる。
The fact that the photosensitive resin composition of the present embodiment can form a cured film in which gas generation is suppressed is considered to have the following effects, although it is not clear.
That is, first, the (A1) cardo resin has a bulky cardo structure.
On the other hand, when forming a cured film using the photosensitive resin composition, the (A1) cardo resin and the polyfunctional crosslinkable compound (D) having a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule are used. Cross-linking occurs between them.
Combined with these effects, when a cured film is formed using a photosensitive resin composition, when a laminated structure including a cured film of a photosensitive resin composition is processed to form various elements, and when a photosensitive resin is formed. It is considered that the generation of gas from the cured film is suppressed when various elements including the cured film of the composition are used.
(A1)カルド骨格を有する樹脂は、所定のアルカリ可溶性を有する樹脂であれば特に限定されない。カルド骨格とは、第1の環状構造を構成している1つの環炭素原子に、第2の環状構造と第3の環状構造とが結合した骨格をいう。なお、第2の環状構造と、第3の環状構造とは、同一の構造であっても異なった構造であってもよい。
カルド骨格の代表的な例としては、フルオレン環の9位の炭素原子に2つの芳香環(例えばベンゼン環)が結合した骨格が挙げられる。
The resin having the (A1) cardo skeleton is not particularly limited as long as it is a resin having a predetermined alkali solubility. The cardo skeleton is a skeleton in which a second cyclic structure and a third cyclic structure are bonded to one ring carbon atom constituting the first cyclic structure. The second annular structure and the third annular structure may have the same structure or different structures.
A typical example of a cardo skeleton is a skeleton in which two aromatic rings (for example, a benzene ring) are bonded to a carbon atom at the 9-position of the fluorene ring.
(A1)カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式(a−1)で表される樹脂が好ましい。 The resin having the (A1) cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among them, the resin represented by the following formula (a-1) is preferable.
式(a−1)中、Xaは、下記式(a−2)で表される基を示す。m1は0〜20の整数を示す。 Wherein (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2). m1 represents an integer from 0 to 20.
上記式(a−2)中、Ra1は、それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ra2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ra3は、それぞれ独立に直鎖又は分岐鎖のアルキレン基を示し、m2は、0又は1を示しWaは、下記式(a−3)で表される基を示す。 In the above formula (a-2), Ra1 independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and Ra2 independently represents a hydrogen atom or a methyl group. , R a3 each independently represent an alkylene group of straight or branched chain, m2 is W a represents 0 or 1, a group represented by the following formula (a3).
式(a−2)中、Ra3としては、炭素原子数1〜20のアルキレン基が好ましく、炭素原子数1〜10のアルキレン基がより好ましく、炭素原子数1〜6のアルキレン基が特に好ましく、エタン−1,2−ジイル基、プロパン−1,2−ジイル基、及びプロパン1,3−ジイル基が最も好ましい。 Wherein (a-2), as the R a3, preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, particularly preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms , Ethan-1,2-diyl group, propane-1,2-diyl group, and propane1,3-diyl group are most preferred.
式(a−3)中の環Aは、芳香族環と縮合していてもよく置換基を有していてもよい脂肪族環を示す。脂肪族環は、脂肪族炭化水素環であっても、脂肪族複素環であってもよい。
脂肪族環としては、モノシクロアルカン、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等が挙げられる。
具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンが挙げられる。
脂肪族環に縮合してもよい芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族複素環でもよく、芳香族炭化水素環が好ましい。具体的にはベンゼン環、及びナフタレン環が好ましい。
Ring A in the formula (a-3) represents an aliphatic ring that may be condensed with an aromatic ring or may have a substituent. The aliphatic ring may be an aliphatic hydrocarbon ring or an aliphatic heterocycle.
Examples of the aliphatic ring include monocycloalkane, bicycloalkane, tricycloalkane, tetracycloalkane and the like.
Specific examples thereof include monocycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane, and adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane and tetracyclododecane.
The aromatic ring that may be condensed with the aliphatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, and an aromatic hydrocarbon ring is preferable. Specifically, a benzene ring and a naphthalene ring are preferable.
式(a−3)で表される2価基の好適な例としては、下記の基が挙げられる。
式(a−1)中の2価基Xaは、残基Zaを与えるテトラカルボン酸二無水物と、下式(a−2a)で表されるジオール化合物とを反応させることにより、(A1)カルド樹脂中に導入される。
式(a−2a)中、Ra1、Ra2、Ra3、及びm2は、式(a−2)について説明した通りである。式(a−2a)中の環Aについては、式(a−3)について説明した通りである。 In the formula (a-2a), Ra1 , Ra2 , Ra3 , and m2 are as described in the formula (a-2). The ring A in the formula (a-2a) is as described in the formula (a-3).
式(a−2a)で表されるジオール化合物は、例えば、以下の方法により製造し得る。
まず、下記式(a−2b)で表されるジオール化合物が有するフェノール性水酸基中の水素原子を、必要に応じて、常法に従って、−Ra3−OHで表される基に置換した後、エピクロルヒドリン等を用いてグリシジル化して、下記式(a−2c)で表されるエポキシ化合物を得る。
次いで、式(a−2c)で表されるエポキシ化合物を、アクリル酸又はメタアクリル酸と反応させることにより、式(a−2a)で表されるジオール化合物が得られる。
式(a−2b)及び式(a−2c)中、Ra1、Ra3、及びm2は、式(a−2)について説明した通りである。式(a−2b)及び式(a−2c)中の環Aについては、式(a−3)について説明した通りである。
なお、式(a−2a)で表されるジオール化合物の製造方法は、上記の方法に限定されない。
First, the hydrogen atom in the phenolic hydroxyl group of the diol compound represented by the following formula (a-2b) is replaced with a group represented by −R a3 −OH according to a conventional method, if necessary. Glysidylation is performed using epichlorohydrin or the like to obtain an epoxy compound represented by the following formula (a-2c).
Then, the epoxy compound represented by the formula (a-2c) is reacted with acrylic acid or methacrylic acid to obtain a diol compound represented by the formula (a-2a).
In the formulas (a-2b) and (a-2c), Ra1 , Ra3 , and m2 are as described in the formula (a-2). The ring A in the formula (a-2b) and the formula (a-2c) is as described in the formula (a-3).
The method for producing the diol compound represented by the formula (a-2a) is not limited to the above method.
式(a−2b)で表されるジオール化合物の好適な例としては、以下のジオール化合物が挙げられる。
上記式(a−1)中、Ra0は水素原子又は−CO−Ya−COOHで表される基である。ここで、Yaは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。 In the formula (a-1), R a0 is a group represented by hydrogen or a -CO-Y a -COOH. Here, Y a represents the residue obtained by removing dicarboxylic acid anhydride from the acid anhydride group (-CO-O-CO-). Examples of dicarboxylic acid anhydrides are maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydro. Examples thereof include phthalic anhydride and glutaric anhydride.
また、上記式(a−1)中、Zaは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、下記式(a−4)で表されるテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を示す。
Further, in the above formula (a-1), Z a represents a residue obtained by removing two acid anhydride groups from a tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydrides include tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (a-4), pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, and biphenyltetracarboxylic dianhydride. Examples thereof include biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride and the like.
Further, in the above formula (a-1), m represents an integer of 0 to 20.
式(a−4)中のRa4として選択され得るアルキル基は、炭素原子数が1〜10のアルキル基である。アルキル基の備える炭素原子数をこの範囲に設定することで、得られるカルボン酸エステルの耐熱性を一段と向上させることができる。Ra4がアルキル基である場合、その炭素原子数は、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、1〜6が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜4がさらに好ましく、1〜3が特に好ましい。
Ra4がアルキル基である場合、当該アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。
The alkyl group that can be selected as Ra4 in the formula (a-4) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. By setting the number of carbon atoms contained in the alkyl group in this range, the heat resistance of the obtained carboxylic acid ester can be further improved. When R a4 is an alkyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, further preferably 1 to 4, and 1 to 3 from the viewpoint that a cardo resin having excellent heat resistance can be easily obtained. Is particularly preferable.
When R a4 is an alkyl group, the alkyl group may be linear or branched.
式(a−4)中のRa4としては、耐熱性に優れるカルド樹脂を得やすい点から、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基がより好ましい。式(a−4)中のRa4は、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基又はイソプロピル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
式(a−4)中の複数のRa4は、高純度のテトラカルボン酸二無水物の調製が容易であることから、同一の基であるのが好ましい。
As R a4 in the formula (a-4), a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable independently from the viewpoint that a cardo resin having excellent heat resistance can be easily obtained. R a4 in the formula (a-4) is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
The plurality of Ra4s in the formula (a-4) are preferably the same group because it is easy to prepare a high-purity tetracarboxylic dianhydride.
式(a−4)中のm3は0〜12の整数を示す。m3の値を12以下とすることによって、テトラカルボン酸二無水物の精製を容易にすることができる。
テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、m3の上限は5が好ましく、3がより好ましい。
テトラカルボン酸二無水物の化学的安定性の点から、m3の下限は1が好ましく、2がより好ましい。
式(a−4)中のm3は、2又は3が特に好ましい。
M3 in the formula (a-4) represents an integer from 0 to 12. Purification of the tetracarboxylic dianhydride can be facilitated by setting the value of m3 to 12 or less.
The upper limit of m3 is preferably 5 and more preferably 3 because the tetracarboxylic dianhydride can be easily purified.
From the viewpoint of the chemical stability of the tetracarboxylic dianhydride, the lower limit of m3 is preferably 1 and more preferably 2.
The m3 in the formula (a-4) is particularly preferably 2 or 3.
式(a−4)中のRa5、及びRa6として選択され得る炭素原子数1〜10のアルキル基は、Ra4として選択され得る炭素原子数1〜10のアルキル基と同様である。
Ra5、及びRa6は、テトラカルボン酸二無水物の精製が容易である点から、水素原子、又は炭素原子数1〜10(好ましくは1〜6、より好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜3)のアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのが特に好ましい。
R a5, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which can be selected as R a6 in the formula (a4) is a same as the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which can be selected as R a4.
R a5 and R a6 have hydrogen atoms or 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 5) because the tetracarboxylic acid dianhydride can be easily purified. It is preferably an alkyl group of 1 to 4, particularly preferably 1 to 3), and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
式(a−4)で表されるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物(別名「ノルボルナン−2−スピロ−2’−シクロペンタノン−5’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物」)、メチルノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−(メチルノルボルナン)−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロヘキサノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物(別名「ノルボルナン−2−スピロ−2’−シクロヘキサノン−6’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物」)、メチルノルボルナン−2−スピロ−α−シクロヘキサノン−α’−スピロ−2’’−(メチルノルボルナン)−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロプロパノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロブタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロヘプタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロオクタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロノナノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロウンデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロドデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロトリデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロテトラデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタデカノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−(メチルシクロペンタノン)−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物、ノルボルナン−2−スピロ−α−(メチルシクロヘキサノン)−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride represented by the formula (a-4) include norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride (also known as "norbornane-2-spir-2'-cyclopentanone-5'-spiro-2"-norbornane-5,5'', 6,6'' -Tetracarboxylic acid dianhydride "), methylnorbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-(methylnorbornane) -5,5", 6,6 "-tetra Norbornane dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclohexanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride (also known as "norbornane-" 2-Spiro-2'-Cyclohexanone-6'-Spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid dianhydride"), methylnorbornane-2-spiro-α- Cyclohexanone-α'-spiro-2''- (methylnorbornane) -5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopropanol-α'- Spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclobutanone-α'-spiro-2''-norbornane-5, 5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloheptanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6' '-Tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclooctanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride , Norbornane-2-spiro-α-cyclononanonone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclodecanone -Α'-Spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloundecanone-α'-spiro-2' '-Norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride, Norbornane-2-spiro-α-cyclododecanone-α'-Spyro-2''-norbornane-5,5' ', 6, 6''-Tetracarboxylic acid dianhydride, Norbornane Nan-2-spiro-α-cyclotridecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α- Cyclotetradecanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'', 6,6''-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopentadecanone-α' -Spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid dianhydride, norbornane-2-spiro-α- (methylcyclopentanone) -α'-spiro-2' '-Norbornane-5,5'', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride, Norbornane-2-spiro-α- (methylcyclohexanone) -α'-Spiro-2''-norbornane-5,5 '', 6,6''-Tetracarboxylic acid dianhydride and the like can be mentioned.
(A1)カルド樹脂の重量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。 The weight average molecular weight of the (A1) cardo resin is preferably 1000 to 40,000, more preferably 2000 to 30,000. Within the above range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained while obtaining good developability.
アルカリ可溶性樹脂(A)は、(A1)カルド樹脂以外のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。かかるアルカリ可溶性樹脂としては、(A2)アクリル系樹脂が挙げられる。 The alkali-soluble resin (A) may contain an alkali-soluble resin other than the (A1) cardo resin. Examples of such an alkali-soluble resin include (A2) acrylic resins.
(A2)アクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル酸に由来する構成単位、及び/又は(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位を含むものを用いる。(メタ)アクリル酸は、アクリル酸、又はメタアクリル酸である。(メタ)アクリル酸エステルは、下記式(a−5)で表されるものであって、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されない。 As the (A2) acrylic resin, a resin containing a structural unit derived from (meth) acrylic acid and / or a structural unit derived from (meth) acrylic acid ester is used. The (meth) acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. The (meth) acrylic acid ester is represented by the following formula (a-5), and is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
上記式(a−5)中、Ra7は、水素原子又はメチル基であり、Ra8は、一価の有機基である。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。 In the above formula (a-5), R a7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R a8 is a monovalent organic group. This organic group may contain a bond or a substituent other than the hydrocarbon group such as a hetero atom in the organic group. Further, the organic group may be linear, branched or cyclic.
Ra8の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アミノ基(−NH2、−NHR、−NRR’:R及びR’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す)等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。 The substituent other than a hydrocarbon group in the organic group R a8, the effect is not particularly limited as long as they do not impair the present invention, a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a sulfide group, a cyano group, an isocyano group, a cyanato group , Isocyanato group, thiocyanato group, isothiocyanato group, silyl group, silanol group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, nitro group, nitroso group, carboxyl group, carboxylate group, acyl group, acyloxy group, sulfino Group, sulfo group, sulfonate group, phosphino group, phosphinyl group, phosphono group, phosphonato group, hydroxyimino group, alkyl ether group, alkyl thioether group, aryl ether group, aryl thioether group, amino group (-NH 2 , -NHR, -NRR': R and R'independently indicate a hydrocarbon group) and the like. The hydrogen atom contained in the above substituent may be substituted with a hydrocarbon group. The hydrocarbon group contained in the substituent may be linear, branched or cyclic.
Ra8としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基が好ましく、これらの基は、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、又は複素環基で置換されていてもよい。また、これらの基がアルキレン部分を含む場合、アルキレン部分は、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合により中断されていてもよい。 R a8 is preferably an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group, and these groups may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, or a heterocyclic group. When these groups contain an alkylene moiety, the alkylene moiety may be interrupted by an ether bond, a thioether bond, or an ester bond.
アルキル基が、直鎖状又は分岐鎖状のものである場合、その炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜15がより好ましく、1〜10が特に好ましい。好適なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、イソデシル基等が挙げられる。 When the alkyl group is linear or branched, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and particularly preferably 1 to 10. Examples of suitable alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec. -Pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, Examples thereof include an isodecyl group.
アルキル基が、脂環式基、又は脂環式基を含む基である場合、アルキル基に含まれる好適な脂環式基としては、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等単環の脂環式基や、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、及びテトラシクロドデシル基等の多環の脂環式基が挙げられる。 When the alkyl group is an alicyclic group or a group containing an alicyclic group, suitable alicyclic groups contained in the alkyl group include a cyclopentyl group, a monocyclic alicyclic group such as a cyclohexyl group, and the like. , Adamantyl group, norbornyl group, isobornyl group, tricyclononyl group, tricyclodecyl group, tetracyclododecyl group and other polycyclic alicyclic groups.
また、(A2)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸、及び(メタ)アクリル酸エステル以外の他の化合物をさらに重合させたものであってもよい。このような他の化合物としては、(メタ)アクリルアミド類、不飽和カルボン酸類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Further, the (A2) acrylic resin may be obtained by further polymerizing a compound other than (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester. Examples of such other compounds include (meth) acrylamides, unsaturated carboxylic acids, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, styrenes and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
(メタ)アクリルアミド類としては、(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、N−アリール(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド、N,N−アリール(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N-aryl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, N, N-aryl (meth) acrylamide, and N. Examples thereof include -methyl-N-phenyl (meth) acrylamide and N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide.
不飽和カルボン酸類としては、クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸;これらジカルボン酸の無水物;等が挙げられる。 Examples of unsaturated carboxylic acids include monocarboxylic acids such as crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; and anhydrides of these dicarboxylic acids.
アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類;アリルオキシエタノール;等が挙げられる。 Examples of the allyl compound include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, and allyl lactate; allyloxyethanol; and the like. Can be mentioned.
ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル;ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル;等が挙げられる。 Examples of vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether and hydroxyethyl vinyl ether. , Diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether and other alkyl vinyl ethers; vinyl phenyl ether, vinyl trill ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-di Vinyl aryl ethers such as chlorphenyl ether, vinyl naphthyl ether and vinyl anthranyl ether; and the like can be mentioned.
ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。 Examples of vinyl esters include vinyl butyrate, vinylisobutyrate, vinyltrimethylacetate, vinyldiethylacetate, vinylvalate, vinylcaproate, vinylchloracetate, vinyldichloroacetate, vinylmethoxyacetate, vinylbutoxyacetate, and vinylfu. Examples thereof include enyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate and the like.
スチレン類としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン;メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン;クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン;等が挙げられる。 Examples of styrenes include styrene; methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, cyclohexylstyrene, decylstyrene, benzylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxy. Alkylstyrene such as methylstyrene and acetoxymethylstyrene; alkoxystyrene such as methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene and dimethoxystyrene; chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, Examples thereof include halostyrene such as dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene.
(A2)アクリル系樹脂における、(メタ)アクリル酸に由来する構成単位の量と、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位の量とは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。(A2)アクリル系樹脂における、(メタ)アクリル酸に由来する構成単位の量は、アクリル系樹脂の質量に対して、5〜50質量%が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。また、(A2)アクリル系樹脂における、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位の量は、アクリル系樹脂の質量に対して、10〜95質量%が好ましく、30〜90質量%がより好ましい。 The amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid and the amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid ester in the (A2) acrylic resin are not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. .. The amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid in the (A2) acrylic resin is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 30% by mass, based on the mass of the acrylic resin. The amount of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester in the (A2) acrylic resin is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 30 to 90% by mass, based on the mass of the acrylic resin. ..
(A2)アクリル系樹脂における、(メタ)アクリル酸に由来する構成単位の量と、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位の量との合計は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されないが、(A2)アクリル系樹脂の質量に対して、5〜100質量%が好ましく、10〜100質量%がより好ましい。 The total of the amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid and the amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid ester in the (A2) acrylic resin is particularly large as long as the object of the present invention is not impaired. Although not limited, it is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 10 to 100% by mass, based on the mass of the (A2) acrylic resin.
(A2)アクリル系樹脂の重量平均分子量は、2000〜200000であることが好ましく、5000〜30000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The weight average molecular weight of the (A2) acrylic resin is preferably 2000 to 20000, more preferably 5000 to 30000. Within the above range, the film-forming ability of the photosensitive resin composition and the developability after exposure tend to be easily balanced.
アルカリ可溶性樹脂(A)の質量に占める、(A1)カルド樹脂の質量の割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましく、90質量%以上が特に好ましく、100質量%が最も好ましい。 The ratio of the mass of the (A1) cardo resin to the mass of the alkali-soluble resin (A) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. It is particularly preferable, and 100% by mass is most preferable.
(A)アルカリ可溶性樹脂の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して20〜85質量%であることが好ましく、25〜75質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、ガスを発生させにくい硬化膜を形成でき、現像性に優れる感光性樹脂組成物を得やすい。 The content of the alkali-soluble resin (A) is preferably 20 to 85% by mass, preferably 25 to 75% by mass, based on the mass of the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. More preferably. Within the above range, a cured film that does not easily generate gas can be formed, and a photosensitive resin composition having excellent developability can be easily obtained.
<光重合性モノマー(B)>
光重合性モノマー(B)としては、エチレン性不飽和基を有するモノマーを好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
<Photopolymerizable monomer (B)>
As the photopolymerizable monomer (B), a monomer having an ethylenically unsaturated group can be preferably used. The monomer having an ethylenically unsaturated group includes a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of the monofunctional monomer include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-methylol ( Meta) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-Methylpropanesulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (Meta) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropylphthalate, Glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3 -Tetrafluoropropyl (meth) acrylate, half (meth) acrylate of phthalic acid derivative and the like can be mentioned. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、又はヘキサメチレンジイソシアネート等と2−ビドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物)、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol Di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylpropantri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipenta Ellisritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxidiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxipolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3 -(Meta) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin poly Glycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, reaction product of tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc. and 2-vidroxyethyl (meth) acrylate), methylenebis (meth) acrylamide, Examples thereof include polyfunctional monomers such as (meth) acrylamide methylene ether, a condensate of polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide, and triacrylic formal. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの中でも、感光性樹脂組成物の基板への密着性、感光性樹脂組成物の硬化後の強度を高める傾向にある点から、3官能以上の多官能モノマーが好ましく、4官能以上の多官能モノマーがより好ましく、5官能以上の多官能モノマーがさらに好ましい。 Among these monomers having ethylenically unsaturated groups, a polyfunctional monomer having three or more functionalities tends to increase the adhesion of the photosensitive resin composition to the substrate and the strength of the photosensitive resin composition after curing. Is preferable, a polyfunctional monomer having four or more functionalities is more preferable, and a polyfunctional monomer having five or more functionalities is further preferable.
光重合性モノマー(B)の組成物中の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して1〜50質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The content of the photopolymerizable monomer (B) in the composition is preferably 1 to 50% by mass, preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. % Is more preferable. Within the above range, it tends to be easy to balance sensitivity, developability, and resolution.
<光重合開始剤(C)>
光重合開始剤(C)としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
<Photopolymerization initiator (C)>
The photopolymerization initiator (C) is not particularly limited, and conventionally known photopolymerization initiators can be used.
光重合開始剤(C)として具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル],1−(O−アセチルオキシム)、(9−エチル−6−ニトロ−9H−カルバゾール−3−イル)[4−(2−メトキシ−1−メチルエトキシ)−2−メチルフェニル]メタノンO−アセチルオキシム、2−(ベンゾイルオキシイミノ)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1−オクタノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Specifically, as the photopolymerization initiator (C), 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-Hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2- Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, etanone, 1- [9-ethyl-6- ( 2-Methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl], 1- (O-acetyloxime), (9-ethyl-6-nitro-9H-carbazole-3-yl) [4- (2-methoxy-1) -Methylethoxy) -2-methylphenyl] methanone O-acetyloxime, 2- (benzoyloxyimino) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1-octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide , 4-Benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2- Ethylhexyl benzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamyl benzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyl dimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propandion-2- (O-ethoxycarbonyl) oxime, o- Methyl benzoyl benzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-Methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoylperoxide, cumenehydroperoxide, 2 -Mercaptobe Nzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl Ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone , P-Dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosverone, Pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylaclysine, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) Propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methyl) Phenyl-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (tric) Loromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4) -Methoxy) Phenyl-s-Triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-) Bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine and the like can be mentioned. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、オキシム系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。オキシム系の光重合開始剤の中で、特に好ましいものとしては、O−アセチル−1−[6−(2−メチルベンゾイル)−9−エチル−9H−カルバゾール−3−イル]エタノンオキシム、エタノン,1−[9−エチル−6−(ピロール−2−イルカルボニル)−9H−カルバゾル−3−イル],1−(O−アセチルオキシム)、及び1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]が挙げられる。 Among these, it is particularly preferable to use an oxime-based photopolymerization initiator in terms of sensitivity. Among the oxime-based photopolymerization initiators, particularly preferable ones are O-acetyl-1- [6- (2-methylbenzoyl) -9-ethyl-9H-carbazole-3-yl] etanone oxime and etanone. , 1- [9-ethyl-6- (pyrrole-2-ylcarbonyl) -9H-carbazol-3-yl], 1- (O-acetyloxime), and 1,2-octanedione, 1- [4- (Phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)].
光重合開始剤としては、また、下記式(c1)で表されるオキシム系化合物を用いることも好ましい。
n1は0〜4の整数であり、
n2は0、又は1であり、
Rc2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
Rc3は、水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。)
As the photopolymerization initiator, it is also preferable to use an oxime compound represented by the following formula (c1).
n1 is an integer from 0 to 4,
n2 is 0 or 1,
R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent.
R c3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. )
式(c1)中、Rc1は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rc1が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。n1が2〜4の整数である場合、Rc1は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。 In the formula (c1), R c1 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples of the case where R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a benzoyloxy which may have a substituent. A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent. A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, an amino group, 1 , Or an amino group substituted with 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like. When n1 is an integer of 2 to 4, R c1 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent further possessed by the substituent.
Rc1がアルキル基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc1がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc1がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc1がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c1 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. When R c1 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R c1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. When R c1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (−O−) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
Rc1がアルコキシ基である場合、炭素原子数1〜20が好ましく、炭素原子数1〜6がより好ましい。また、Rc1がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc1がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc1がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is an alkoxy group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. When R c1 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R c1 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, and n. -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. When R c1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (−O−) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.
Rc1がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3〜10が好ましく、炭素原子数3〜6がより好ましい。Rc1がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc1がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6 carbon atoms. Specific examples of the case where R c1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like. Specific examples of the case where R c1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group and the like.
Rc1が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc1が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc1が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples of the case where R c1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n. -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples of the case where R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, an n-butanoyloxy group, a 2-methylpropanoyloxy group, an n-pentanoyloxy group, and 2, 2-Dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like can be mentioned.
Rc1がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2〜20が好ましく、炭素原子数2〜7がより好ましい。Rc1がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 7 carbon atoms. Specific examples of the case where R c1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxylcarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and Examples thereof include an isodecyloxycarbonyl group.
Rc1がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7〜20が好ましく、炭素原子数7〜10がより好ましい。またRc1がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11〜20が好ましく、炭素原子数11〜14がより好ましい。Rc1がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rc1がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc1が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc1は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10 carbon atoms. When R c1 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms is preferably 11 to 20, and more preferably 11 to 14 carbon atoms. Specific examples of the case where R c1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of the case where R c1 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. .. When R c1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, Rc1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.
Rc1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Rc1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the monocycles are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indol, Examples thereof include isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxalin. When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
Rc1が1、又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc1と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and carbon. Saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 atoms, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, and phenyl which may have a substituent and which has 7 to 20 carbon atoms. Examples thereof include an alkyl group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. Be done. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R c1 . Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include a methylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, an n-propylamino group, a di-n-propylamino group, an isopropylamino group, and an n-. Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naftylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples thereof include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.
Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c1 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having a number of 2 to 7, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. , Dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, cyano group and the like. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R c1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R c1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
Rc1の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、及び炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。 Among R c1 , alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and 1 to 6 carbon atoms because they are chemically stable, have few steric obstacles, and facilitate the synthesis of an oxime ester compound. A group selected from the group consisting of an alkoxy group of 6 and a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms is preferable, an alkyl having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.
Rc1がフェニル基に結合する位置は、Rc1が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を1位とし、メチル基の位置を2位とする場合に、4位、又は5位が好ましく、5位がよりに好ましい。また、n1は、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0、又は1が特に好ましい。 Position R c1 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R c1 are attached the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group In addition, the 4th or 5th position is preferable, and the 5th position is more preferable. Further, n1 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.
Rc2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Rc2が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数1〜6のアルキル基で置換されていてもよい。 R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent. When R c2 is a carbazolyl group which may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Rc2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアルコキシ基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルコキシ基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。 In R c2 , the substituent contained in the phenyl group or the carbazolyl group is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Examples of suitable substituents that the phenyl group or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 3 carbon atoms. Cycloalkyl group of 10 to 10, cycloalkoxy group of 3 to 10 carbon atoms, saturated aliphatic acyl group of 2 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group of 2 to 20 carbon atoms, saturation of 2 to 20 carbon atoms An aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, and a substituent. It may have a phenoxycarbonyl group which may have a group, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent and has 7 to 20 carbon atoms, and a substituent. A naphthyl group, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a naphthoyloxy group which may have a substituent. , A naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group, 1, or 2 Examples thereof include an amino group substituted with an organic group, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like.
Rc2がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 When R c2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms. , Saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, and a substituent. A phenoxycarbonyl group may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a naphthoyl group which may have a substituent. It has a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 to 20 carbon atoms, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. A good heterocyclylcarbonyl group and the like can be mentioned. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1、又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc1と同様である。 Specific examples of the substituent which the phenyl group or the carbazolyl group may have are an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. For phenylalkyl groups which may have groups, naphthylalkyl groups which may have substituents, heterocyclyl groups which may have substituents, and amino groups substituted with one or two organic groups. , R c1 .
Rc2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In R c2 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is an example of a substituent when the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group further have a substituent. An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; a phenyl group. Naftyl group; benzoyl group; naphthoyl group; benzoyl substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, and a phenyl group. Group; Monoalkylamino group having an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms; Dialkylamino group with an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms; Morphorin-1-yl group; Piperazin-1-yl group; Halogen; Nitro Group; cyano group can be mentioned. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1 to 4 are preferable. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
Rc2の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式(c2)、又は(c3)で表される基が好ましく、下記式(c2)で表される基がより好ましく、下記式(c2)で表される基であって、AがSである基が特に好ましい。 Among R c2, the group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferable, and the group represented by the following formula (c2) is more preferable, from the viewpoint that a photopolymerization initiator having excellent sensitivity can be easily obtained. , A group represented by the following formula (c2), in which A is S, is particularly preferable.
式(c2)におけるRc4が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(c2)においてRc4が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1〜6のアルキル基;炭素原子数1〜6のアルコキシ基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。 When R c4 in the formula (c2) is an organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. A preferred example of the case where R c4 is an organic group in the formula (c2) is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic group having 2 to 7 carbon atoms. Acyl group; alkoxycarbonyl group with 2 to 7 carbon atoms; saturated aliphatic acyloxy group with 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, morpholin A benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of a -1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a monoalkylamino group having 1 to 6 carbon atoms; Examples thereof include a dialkylamino group having an alkyl group of 1 to 6; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; a cyano group.
Rc4の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 In R c4 , it is substituted with a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, and a phenyl group. Benzoyl group; nitro group is preferable, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferable.
また、式(c2)において、n3は、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0、又は1であるのが特に好ましい。n3が1である場合、Rc4の結合する位置は、Rc4が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 Further, in the formula (c2), n3 is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1. If n3 is 1, binding position of R c4, to the bond to the phenyl group R c4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom, it is preferably in the para position.
式(c3)におけるRc5は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rc5の好適な例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 R c5 in the formula (c3) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of R c5 are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. An alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a carbon atom number 7 which may have a substituent. It may have a phenylalkyl group of ~ 20, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.
Rc5の中では、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 Among R c5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
式(c3)におけるRc6は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc6として好適な基の具体例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc6として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基がより好ましく、2−メチルフェニル基が特に好ましい。 R c6 in the formula (c3) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Specific examples of a group suitable as R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Heterocyclyl groups may be mentioned. Among these groups, a phenyl group which may have a substituent is more preferable as R c6, and a 2-methylphenyl group is particularly preferable.
Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms. An alkoxy group of 6, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl having 1 to 6 carbon atoms. Examples thereof include a monoalkylamino group having a group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1 to 4 are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
式(c1)におけるRc3は、水素原子、又は炭素原子数1〜6のアルキル基である。Rc3としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 R c3 in the formula (c1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. As R c3 , a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.
式(c1)で表されるオキシムエステル化合物は、pが0である場合、例えば、下記スキーム1に従って合成することができる。具体的には、下記式(c1−1)で表される芳香族化合物を、下記式(c1−2)で表されるハロカルボニル化合物を用いて、フリーデルクラフツ反応によりアシル化して、下記式(c1−3)で表されるケトン化合物を得、得られたケトン化合物(c1−3)を、ヒドロキシルアミンによりオキシム化して下記式(c1−4)で表されるオキシム化合物を得、次いで式(c1−4)のオキシム化合物中のヒドロキシ基をアシル化して、下記式(c1−7)で表されるオキシムエステル化合物を得ることができる。アシル化剤としては、下記式(c1−5)で表される酸無水物((Rc3CO)2O)、又は下記式(c1−6)で表される酸ハライド(Rc3COHal、Halはハロゲン。)を用いるのが好ましい。なお、下記式(c1−2)において、Halはハロゲンであり、下記式(c1−1)、(c1−2)、(c1−3)、(c1−4)、及び(c1−7)において、Rc1、Rc2、Rc3、及びn1は、式(c1)と同様である。 The oxime ester compound represented by the formula (c1) can be synthesized, for example, according to the following scheme 1 when p is 0. Specifically, an aromatic compound represented by the following formula (c1-1) is acylated by a Friedercrafts reaction using a halocarbonyl compound represented by the following formula (c1-2), and the following formula is used. A ketone compound represented by (c1-3) was obtained, and the obtained ketone compound (c1-3) was oximeized with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by the following formula (c1-4), followed by the formula. The hydroxy group in the oxime compound of (c1-4) can be acylated to obtain an oxime ester compound represented by the following formula (c1-7). Examples of the acylating agent include acid anhydrides ((R c3 CO) 2 O) represented by the following formula (c1-5) or acid halides (R c3 COHal, Hal) represented by the following formula (c1-6). Is a halogen.) Is preferably used. In the following formula (c1-2), H is a halogen, and in the following formulas (c1-1), (c1-2), (c1-3), (c1-4), and (c1-7). , R c1 , R c2 , R c3 , and n1 are the same as in equation (c1).
<スキーム1>
式(c1)で表されるオキシムエステル化合物は、n2が1である場合、例えば、下記スキーム2に従って合成することができる。具体的には、下記式(c2−1)で表されるケトン化合物に、塩酸の存在下に下記式(c2−2)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基。)を反応させて、下記式(c2−3)で表されるケトオキシム化合物を得、次いで、下記式(c2−3)で表されるケトオキシム化合物中のヒドロキシ基をアシル化して、下記式(c2−6)で表されるオキシムエステル化合物を得ることができる。アシル化剤としては、下記式(c2−4)で表される酸無水物((Rc3CO)2O)、又は下記式(c2−5)で表される酸ハライド(Rc3COHal、Halはハロゲン。)を用いるのが好ましい。なお、下記式(c2−1)、(c2−3)、(c2−4)、(c2−5)、及び(c2−6)において、Rc1、Rc2、Rc3、及びn1は、式(c1)と同様である。 The oxime ester compound represented by the formula (c1) can be synthesized, for example, according to the following scheme 2 when n2 is 1. Specifically, the ketone compound represented by the following formula (c2-1) is nitrite ester represented by the following formula (c2-2) in the presence of hydrochloric acid (RONO and R have 1 to 6 carbon atoms). The alkyl group of.) Is reacted to obtain a ketooxime compound represented by the following formula (c2-3), and then the hydroxy group in the ketooxime compound represented by the following formula (c2-3) is acylated. An oxime ester compound represented by the following formula (c2-6) can be obtained. As the acylating agent, an acid anhydride represented by the following formula (c2-4) ((R c3 CO) 2 O) or an acid halide represented by the following formula (c2-5) (R c3 COHal, Hal) Is a halogen.) Is preferably used. In the following formulas (c2-1), (c2-3), (c2-4), (c2-5), and (c2-6), R c1 , R c2 , R c3 , and n1 are formulas. It is the same as (c1).
<スキーム2>
また、式(c1)で表されるオキシムエステル化合物は、n2が1であり、Rc1がメチル基であって、Rc1が結合するベンゼン環に結合するメチル基に対して、Rc1がパラ位に結合する場合、例えば、下記式(c2−7)で表される化合物を、スキーム1と同様の方法で、オキシム化、及びアシル化することによって合成することもできる。なお、下記式(c2−7)において、Rc2は、式(c1)と同様である。 Further, in the oxime ester compound represented by the formula (c1), n2 is 1, R c1 is a methyl group, and R c1 is paralyzed with respect to the methyl group bonded to the benzene ring to which R c1 is bonded. In the case of binding to the position, for example, the compound represented by the following formula (c2-7) can be synthesized by oximeization and acylation in the same manner as in Scheme 1. In the following formula (c2-7), R c2 is the same as the formula (c1).
式(c1)で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のPI−1〜PI−42が挙げられる。
また、下記式(c4)で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤として好ましい。 An oxime ester compound represented by the following formula (c4) is also preferable as a photopolymerization initiator.
ここで、式(c4)のオキシムエステル化合物を製造するためのオキシム化合物としては、下式(c5)で表される化合物が好適である。 Here, as the oxime compound for producing the oxime ester compound of the formula (c4), the compound represented by the following formula (c5) is suitable.
式(c4)及び(c5)中、Rc7は、水素原子、ニトロ基又は1価の有機基である。Rc7は、式(c4)中のフルオレン環上で、−(CO)n5−で表される基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。式(c4)中、Rc7のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式(c4)で表される化合物が1以上のRc7を有する場合、式(c4)で表される化合物の合成が容易であること等から、1以上のRc7のうちの1つがフルオレン環中の2位に結合するのが好ましい。Rc7が複数である場合、複数のRc7は同一であっても異なっていてもよい。 In formulas (c4) and (c5), R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group. R c7 is attached to a 6-membered aromatic ring on the fluorene ring in the formula (c4), which is different from the 6-membered aromatic ring attached to the group represented by − (CO) n5-. In the formula (c4), the binding position of R c7 with respect to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by the formula (c4) has 1 or more R c7 , one of the 1 or more R c7 is a fluorene ring because the compound represented by the formula (c4) can be easily synthesized. It is preferable to bind to the 2-position of the inside. If R c7 is more, a plurality of R c7 is independently in may be the same or different.
Rc7が有機基である場合、Rc7は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rc7が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。 When R c7 is an organic group, R c7 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples of the case where R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a benzoyloxy which may have a substituent. A group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, and a substituent. It has a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like.
Rc7がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rc7がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc7がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc7がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c7 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 6. When R c7 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R c7 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. When R c7 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (−O−) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
Rc7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、Rc7がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc7がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 6. When R c7 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of the case where R c7 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, and n. -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like. When R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (−O−) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.
Rc7がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。Rc7がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc7がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10 and more preferably 3 to 6. Specific examples of the case where R c7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like. Specific examples of the case where R c7 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group and the like.
Rc7が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。Rc7が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc7が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, more preferably 2 to 7. Specific examples of the case where R c7 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n. -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples of the case where R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, an n-butanoyloxy group, a 2-methylpropanoyloxy group, an n-pentanoyloxy group, 2, 2-Dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like can be mentioned.
Rc7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。Rc7がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチルオキシカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 7. Specific examples of the case where R c7 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and Examples thereof include an isodecyloxycarbonyl group.
Rc7がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、Rc7がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。Rc7がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。Rc7がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc7が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc7は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, more preferably 7 to 10. When R c7 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11 to 20, more preferably 11 to 14. Specific examples of the case where R c7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of the case where R c7 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. .. When R c7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, Rc7 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.
Rc7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Rc7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the monocycles are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indol. Isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin, piperazine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, tetrahydrofuran and the like. Be done. When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
Rc7がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rc7がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R c7 is a heterocyclyl carbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclyl carbonyl group is the same as when R c7 is a heterocyclyl group.
Rc7が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc7と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c7 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. Saturated aliphatic acyl group of number 2 to 21, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenylalkyl which may have a substituent and may have 7 to 20 carbon atoms. Examples thereof include a group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent and having 11 to 20 carbon atoms, and a heterocyclyl group. .. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R c7 . Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include a methylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, an n-propylamino group, a di-n-propylamino group, an isopropylamino group, and an n-. Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naftylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples thereof include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.
Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c7 further have a substituent, the substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having a number of 2 to 7, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. , Dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, cyano group and the like. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c7 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
以上説明した基の中でも、Rc7としては、ニトロ基、又はRc12−CO−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Rc12は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc12として好適な基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc12として、これらの基の中では、2−メチルフェニル基、チオフェン−2−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、Rc7が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Rc7が水素原子であり且つRc10が後述の式(c4a)又は(c4b)で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。
Among the groups described above, as R c7 , a nitro group or a group represented by R c12- CO- tends to improve the sensitivity and is preferable. R c12 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Examples of a suitable group as R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. A good heterocyclyl group is mentioned. Among these groups, 2-methylphenyl group, thiophen-2-yl group, and α-naphthyl group are particularly preferable as R c12.
Further, when R c7 is a hydrogen atom, the transparency tends to be good, which is preferable. If R c7 is a hydrogen atom and R c10 is a group represented by the formula (c4a) or (c4b) described later, the transparency tends to be better.
式(c4)中、Rc8及びRc9は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Rc8とRc9とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Rc8及びRc9として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Rc8及びRc9が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In the formula (c4), R c8 and R c9 are a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, respectively. R c8 and R c9 may be coupled to each other to form a ring. Among these groups, as R c8 and R c9 , a chain alkyl group which may have a substituent is preferable. When R c8 and R c9 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.
Rc8及びRc9が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。Rc8及びRc9が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc8及びRc9がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 6. Specific examples of cases where R c8 and R c9 are chain alkyl groups include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. , N-Pentyl group, Isopentyl group, sec-Pentyl group, tert-Pentyl group, n-Hexyl group, n-Heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Examples include a group, an isononyl group, an n-decyl group, and an isodecyl group. Further, when R c8 and R c9 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (−O−) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
Rc8及びRc9が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Rc7がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Rc7がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Rc7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。
When R c8 and R c9 are chain alkyl groups having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 6. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as in the preferred example when R c7 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as in the preferred example when R c7 is a heterocyclyl group. When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, preferably linear. The number of carbon atoms of the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6.
鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1〜20であり、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。 When the chain alkyl group has a substituent, the number of the substituent is not particularly limited. The number of preferred substituents depends on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, more preferably 1-6.
Rc8及びRc9が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Rc8及びRc9が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Rc8及びRc9が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as when R c8 and R c9 are chain alkyl groups.
Rc8及びRc9が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, whether the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond. , It is preferable that the group is formed by condensing a plurality of benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing a plurality of benzene rings, the number of rings of the benzene ring contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited. 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferred specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like.
Rc8及びRc9が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 10. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, isobornyl group, tricyclononyl group, tricyclodecyl group, Examples thereof include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.
Rc8及びRc9がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 When R c8 and R c9 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocyclic rings, or such monocyclic and benzene rings. Is a heterocyclyl group condensed with. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indol. Isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxalin, piperazine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, tetrahydrofuran and the like. Be done.
Rc8とRc9とは相互に結合して環を形成してもよい。Rc8とRc9とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Rc8とRc9とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R c8 and R c9 may be coupled to each other to form a ring. The group consisting of the ring formed by R c8 and R c9 is preferably a cycloalkylidene group. When R c8 and R c9 are combined to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.
Rc8とRc9とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R c8 and R c9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of rings that may be fused with a cycloalkylene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, and a pyridine. Rings, pyrazine rings, pyrimidine rings and the like can be mentioned.
以上説明したRc8及びRc9の中でも好適な基の例としては、式−A1−A2で表される基が挙げられる。式中、A1は直鎖アルキレン基であり、A2は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Examples of suitable groups among R c8 and R c9 described above include groups represented by the formula −A 1 −A 2. In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, an alkyl halide group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.
A1の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。A2がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。A2がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。A2がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。A2が環状有機基である場合、環状有機基の例は、Rc8及びRc9が置換基として有する環状有機基と同様である。A2がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Rc8及びRc9が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms of the linear alkylene group of A 1 is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, preferably linear. The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is an alkyl halide group, the halogen atom contained in the alkyl halide group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. The alkyl halide group may be linear or branched, preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as those of the cyclic organic group that R c8 and R c9 have as substituents. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of alkoxycarbonyl groups are similar to the alkoxycarbonyl groups that R c8 and R c9 have as substituents.
Rc8及びRc9の好適な具体例としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基等のアルキル基;2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、5−メトキシ−n−ペンチル基、6−メトキシ−n−ヘキシル基、7−メトキシ−n−ヘプチル基、8−メトキシ−n−オクチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、5−エトキシ−n−ペンチル基、6−エトキシ−n−ヘキシル基、7−エトキシ−n−ヘプチル基、及び8−エトキシ−n−オクチル基等のアルコキシアルキル基;2−シアノエチル基、3−シアノ−n−プロピル基、4−シアノ−n−ブチル基、5−シアノ−n−ペンチル基、6−シアノ−n−ヘキシル基、7−シアノ−n−ヘプチル基、及び8−シアノ−n−オクチル基等のシアノアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、6−フェニル−n−ヘキシル基、7−フェニル−n−ヘプチル基、及び8−フェニル−n−オクチル基等のフェニルアルキル基;2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基、5−シクロヘキシル−n−ペンチル基、6−シクロヘキシル−n−ヘキシル基、7−シクロヘキシル−n−ヘプチル基、8−シクロヘキシル−n−オクチル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチル−n−プロピル基、4−シクロペンチル−n−ブチル基、5−シクロペンチル−n−ペンチル基、6−シクロペンチル−n−ヘキシル基、7−シクロペンチル−n−ヘプチル基、及び8−シクロペンチル−n−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、4−メトキシカルボニル−n−ブチル基、5−メトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−メトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−メトキシカルボニル−n−ヘプチル基、8−メトキシカルボニル−n−オクチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、4−エトキシカルボニル−n−ブチル基、5−エトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−エトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−エトキシカルボニル−n−ヘプチル基、及び8−エトキシカルボニル−n−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2−クロロエチル基、3−クロロ−n−プロピル基、4−クロロ−n−ブチル基、5−クロロ−n−ペンチル基、6−クロロ−n−ヘキシル基、7−クロロ−n−ヘプチル基、8−クロロ−n−オクチル基、2−ブロモエチル基、3−ブロモ−n−プロピル基、4−ブロモ−n−ブチル基、5−ブロモ−n−ペンチル基、6−ブロモ−n−ヘキシル基、7−ブロモ−n−ヘプチル基、8−ブロモ−n−オクチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferable specific examples of R c8 and R c9 are alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl. Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkyl alkyl groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n Cyanalkyl groups such as −pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl Phenyl such as group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group. Alkyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n -Heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-pentyl group, 6-cyclopentyl- Cycloalkylalkyl groups such as n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxy Carbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxy Carbonyl ethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-etoki An alkoxycarbonylalkyl group such as a sicarbonyl-n-heptyl group and an 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5- Chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4- Bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-tri Examples thereof include a fluoropropyl group and an alkyl halide group such as 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.
Rc8及びRc9として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−フェニルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基である。 As R c8 and R c9 , the preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-Cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,5,5,5-hepta It is a fluoro-n-pentyl group.
Rc10の好適な有機基の例としては、Rc7と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Rc7について説明したものと同様である。また、Rc10としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rc7に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Examples of suitable organic groups for R c10 include alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups and substituents , as in R c7. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, A naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group which may have a group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like. Specific examples of these groups are similar to those described for R c7. Further, as R c10 , a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are also preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group contained in R c7 may have.
有機基の中でも、Rc10としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among the organic groups, R c10 includes an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, and a phenylthio which may have a substituent on the aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the phenylthioalkyl groups that may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.
また、Rc10としては、−A3−CO−O−A4で表される基も好ましい。A3は、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。A4は、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 As the R c10, a group represented by -A 3 -CO-O-A 4 are also preferred. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group.
A3がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。A3がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。 When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, preferably linear. When A 3 is an alkylene group, the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 4.
A4の好適な例としては、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、及び炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられる。A4の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferred examples of A 4 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Specific preferable examples of A 4 is methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, isobutyl group, sec- butyl group, tert- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl Examples thereof include a group, a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group and the like.
−A3−CO−O−A4で表される基の好適な具体例としては、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−n−プロピルオキシカルボニルエチル基、2−n−ブチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フェノキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ブチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ペンチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ヘキシルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−ベンジルオキシカルボニル−n−プロピル基、及び3−フェノキシカルボニル−n−プロピル基等が挙げられる。 Preferable specific examples of the group represented by −A 3 −CO—O—A 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n. -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group and the like.
以上、Rc10について説明したが、Rc10としては、下記式(c4a)又は(c4b)で表される基が好ましい。
式(c4a)中のRc13及びRc14についての有機基の例は、Rc7と同様である。Rc13としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rc13がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、Rc13はメチル基であるのが最も好ましい。Rc13とRc14とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(c4a)で表される基であって、Rc13とRc14とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(c4a)中、n6は0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。 Examples of organic groups for R c13 and R c14 in formula (c4a) are similar to R c7. As R c13 , an alkyl group or a phenyl group is preferable. When R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R c13 is most preferably a methyl group. When R c13 and R c14 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (c4a) in which R c13 and R c14 form a ring include a naphthalene-1-yl group and 1,2,3,4-. Examples thereof include a tetrahydronaphthalene-5-yl group. In the above formula (c4a), n6 is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
上記式(c4b)中、Rc15は有機基である。有機基としては、Rc7について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。Rc15としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (c4b), R c15 is an organic group. Examples of the organic group include groups similar to the organic group described for R c7. Among the organic groups, an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3. As R c15 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.
上記式(c4b)中、n8は1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(c4b)中、n9は0〜(n8+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(c4b)中、n7は1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。 In the above formula (c4b), n8 is an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1 or 2. In the above formula (c4b), n9 is 0 to (n8 + 3), an integer of 0 to 3 is preferable, an integer of 0 to 2 is more preferable, and 0 is particularly preferable. In the above formula (c4b), n7 is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.
式(c4)中、Rc11は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Rc11がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Rc7がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In the formula (c4), R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Examples of the substituent that R c11 may have when it is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. Further, as the substituent which may be possessed when R c7 is an aryl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom and the like are preferably exemplified.
式(c4)中、Rc11としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In the formula (c4), as R c11 , a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified. Of these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.
式(c4)で表される化合物は、前述の式(c5)で表される化合物に含まれるオキシム基(>C=N−OH)を、>C=N−O−CORc11で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。Rc11は、式(c4)中のRc11と同様である。 The compound represented by the formula (c4) has an oxime group (> C = N-OH) contained in the compound represented by the above formula (c5) represented by> C = NO-COR c11. Manufactured by a method comprising the step of converting to an oxime ester group. R c11 are the same as R c11 in formula (c4).
オキシム基(>C=N−OH)の、>C=N−O−CORc11で表されるオキシムエステル基への変換は、前述の式(c5)で表される化合物と、アシル化剤とを反応させることにより行われる。
−CORc11で表されるアシル基を与えるアシル化剤としては、(Rc11CO)2Oで表される酸無水物や、Rc11COHal(Halはハロゲン原子)で表される酸ハライドが挙げられる。
The conversion of the oxime group (> C = N-OH) to the oxime ester group represented by> C = NO-COR c11 is carried out by using the compound represented by the above formula (c5) and an acylating agent. It is done by reacting.
The acylating agent to give the acyl group represented by -COR c11, (R c11 CO) or an acid anhydride represented by 2 O, R c11 COHal (Hal is a halogen atom) include acid halide represented by Be done.
一般式(c4)で表される化合物は、n5が0である場合、例えば、下記スキーム3に従って合成することができる。スキーム3では、下記式(c3−1)で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。Rc7がニトロ基又は1価の有機基である場合、式(c3−1)で表されるフルオレン誘導体は、9位をRc8及びRc9で置換されたフルオレン誘導体に、周知の方法によって、置換基Rc7を導入して得ることができる。9位をRc8及びRc9で置換されたフルオレン誘導体は、例えば、Rc8及びRc9がアルキル基である場合、特開平06−234668号公報に記載されるように、アルカリ金属水酸化物の存在下に、非プロトン性極性有機溶媒中で、フルオレンとアルキル化剤とを反応させて得ることができる。また、フルオレンの有機溶媒溶液中に、ハロゲン化アルキルのようなアルキル化剤と、アルカリ金属水酸化物の水溶液と、ヨウ化テトラブチルアンモニウムやカリウムtert−ブトキシドのような相間移動触媒とを添加してアルキル化反応を行うことで、9,9−アルキル置換フルオレンを得ることができる。 The compound represented by the general formula (c4) can be synthesized, for example, according to the following scheme 3 when n5 is 0. In Scheme 3, a fluorene derivative represented by the following formula (c3-1) is used as a raw material. When R c7 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) is replaced with a fluorene derivative in which the 9-position is substituted with R c8 and R c9 by a well-known method. It can be obtained by introducing a substituent R c7. The fluorene derivative in which the 9-position is substituted with R c8 and R c9 is, for example, an alkali metal hydroxide as described in JP-A-06-234668 when R c8 and R c9 are alkyl groups. It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in the presence of an aprotic polar organic solvent. Further, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene. By carrying out the alkylation reaction, 9,9-alkyl substituted fluorene can be obtained.
式(c3−1)で表されるフルオレン誘導体に、フリーデルクラフツアシル化反応により、−CO−Rc10で表されるアシル基を導入し、式(c3−3)で表されるフルオレン誘導体が得られる。を、−CO−Rc10で表されるアシル基を導入するためのアシル化剤は、ハロカルボニル化合物であってもよく、酸無水物であってもよい。アシル化剤としては、式(c3−2)で表されるハロカルボニル化合物が好ましい。式(c3−2)中、Halはハロゲン原子である。フルオレン環上にアシル基が導入される位置は、フリーデルクラフツ反応の条件を適宜変更したり、アシル化される位置の他の位置に保護及び脱保護を施したりする方法で、選択することができる。 An acyl group represented by -CO-R c10 is introduced into the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) by a Friedel-Crafts acylation reaction, and the fluorene derivative represented by the formula (c3-3) is obtained. can get. The acylating agent for introducing an acyl group represented by -CO-R c10 may be a halocarbonyl compound or an acid anhydride. As the acylating agent, a halocarbonyl compound represented by the formula (c3-2) is preferable. In formula (c3-2), H is a halogen atom. The position at which the acyl group is introduced on the fluorene ring can be selected by appropriately changing the conditions of the Friedel-Crafts reaction or by protecting and deprotecting other positions at the acylated position. it can.
次いで、得られる式(c3−3)で表されるフルオレン誘導体中の−CO−Rc10で表される基を、−C(=N−OH)−Rc10で表される基に変換し、式(c3−4)で表されるオキシム化合物を得る。−CO−Rc10で表される基を、−C(=N−OH)−Rc10で表される基に変換する方法は特に限定されないが、ヒドロキシルアミンによるオキシム化が好ましい。式(c3−4)のオキシム化合物と、下式(c3−5)で表される酸無水物((Rc11CO)2O)、又は下記式(c3−6)で表される酸ハライド(Rc11COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、下記式(c3−7)で表される化合物を得ることができる。 Next, the group represented by -CO-R c10 in the obtained fluorene derivative represented by the formula (c3-3) is converted into a group represented by -C (= N-OH) -R c10. The oxime compound represented by the formula (c3-4) is obtained. The method for converting the group represented by -CO-R c10 to the group represented by -C (= N-OH) -R c10 is not particularly limited, but oxime formation with hydroxylamine is preferable. The oxime compound of the formula (c3-4) and the acid anhydride ((R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c3-5), or the acid halide represented by the following formula (c3-6) ( R c11 COHal and Hal are halogen atoms.) To obtain a compound represented by the following formula (c3-7).
なお、式(c3−1)、(c3−2)、(c3−3)、(c3−4)、(c3−5)、(c3−6)、及び(c3−7)において、Rc7、Rc8、Rc9、Rc10、及びRc11は、式(c4)と同様である。 In the formulas (c3-1), (c3-2), (c3-3), (c3-4), (c3-5), (c3-6), and (c3-7), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , and R c11 are the same as in the formula (c4).
また、スキーム3において、式(c3−2)、式(c3−3)、及び式(c3−4)それぞれに含まれるRc10は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式(c3−2)、式(c3−3)、及び式(c3−4)中のRc10は、スキーム3として示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。Rc10が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 Further, in Scheme 3, R c10 contained in each of the formula (c3-2), the formula (c3-3), and the formula (c3-4) may be the same or different. That is, R c10 in the formulas (c3-2), formula (c3-3), and formula (c3-4) may undergo chemical modification in the synthetic process represented as Scheme 3. Examples of chemical modifications include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of hydrogen atoms in amino groups with organic groups, and the like. The chemical modifications that R c10 may undergo are not limited to these.
<スキーム3>
式(c4)で表される化合物は、n5が1である場合、例えば、下記スキーム4に従って合成することができる。スキーム4では、下記式(c4−1)で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。式(c4−1)で表されるフルオレン誘導体は、スキーム3と同様の方法によって、式(c3−1)で表される化合物に、フリーデルクラフツ反応によって−CO−CH2−Rc10で表されるアシル基を導入して得られる。アシル化剤としては、式(c3−8):Hal−CO−CH2−Rc10で表されるカルボン酸ハライドが好ましい。次いで、式(c4−1)で表される化合物中の、Rc10とカルボニル基との間に存在するメチレン基をオキシム化して、下式(c4−3)で表されるケトオキシム化合物を得る。メチレン基をオキシム化する方法は特に限定されないが、塩酸の存在下に下記一般式(c4−2)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基。)を反応させる方法が好ましい。次いで、下記式(c4−3)で表されるケトオキシム化合物と、下記式(c4−4)で表される酸無水物(Rc11CO)2O)、又は下記式(c4−5)で表される酸ハライド(Rc11COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、下記式(c4−6)で表される化合物を得ることができる。なお、下記式(c4−1)、(c4−3)、(c4−4)、(c4−5)、及び(c4−6)において、Rc7、Rc8、Rc9、Rc10、及びRc11は、式(c4)と同様である。
n5が1である場合、式(c4)で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン中での異物の発生をより低減できる傾向がある。
The compound represented by the formula (c4) can be synthesized, for example, according to the following scheme 4 when n5 is 1. In Scheme 4, a fluorene derivative represented by the following formula (c4-1) is used as a raw material. Table fluorene derivative represented by the formula (C4-1) carries out the same method as in Scheme 3, the compound represented by the formula (c3-1), with -CO-CH 2 -R c10 by Friedel-Crafts reaction It is obtained by introducing the acyl group to be used. As the acylating agent, a carboxylic acid halide represented by the formula (c3-8): Hal-CO-CH 2- R c10 is preferable. Next, the methylene group existing between the R c10 and the carbonyl group in the compound represented by the formula (c4-1) is oxime-ized to obtain the keto-oxime compound represented by the following formula (c4-3). The method for oxime-forming the methylene group is not particularly limited, but in the presence of hydrochloric acid, a nitrite ester represented by the following general formula (c4-2) (RONO and R are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms) is used. The method of reacting is preferable. Next, the ketooxime compound represented by the following formula (c4-3) and the acid anhydride (R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c4-4), or the following formula (c4-5). The compound represented by the following formula (c4-6) can be obtained by reacting with the acid halide (R c11 COHal, Hal is a halogen atom). In the following formulas (c4-1), (c4-3), (c4-4), (c4-5), and (c4-6), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , and R c11 is the same as the equation (c4).
When n5 is 1, there is a tendency that the generation of foreign substances in the pattern formed by using the photosensitive resin composition containing the compound represented by the formula (c4) can be further reduced.
また、スキーム4において、式(c3−8)、式(c4−1)、及び式(c4−3)それぞれに含まれるRc10は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式(c3−8)、式(c4−1)、及び式(c4−3)中のRc10は、スキーム4として示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。Rc10が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 Further, in Scheme 4, R c10 contained in each of the formula (c3-8), the formula (c4-1), and the formula (c4-3) may be the same or different. That is, R c10 in formulas (c3-8), formula (c4-1), and formula (c4-3) may undergo chemical modification in the synthetic process represented as Scheme 4. Examples of chemical modifications include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of hydrogen atoms in amino groups with organic groups, and the like. The chemical modifications that R c10 may undergo are not limited to these.
<スキーム4>
式(c4)で表される化合物の好適な具体例としては、以下のPI−43〜PI−83が挙げられる。
光重合開始剤(C)の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して0.5〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましい。光重合開始剤(C)の含有量を上記の範囲とすることにより、パターン形状の不良が生じにくい感光性樹脂組成物を得ることができる。 The content of the photopolymerization initiator (C) is preferably 0.5 to 30% by mass, preferably 1 to 20% by mass, based on the mass of the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. More preferably, it is by mass%. By setting the content of the photopolymerization initiator (C) in the above range, it is possible to obtain a photosensitive resin composition in which defects in the pattern shape are unlikely to occur.
また、光重合開始剤(C)に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセン、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−5−メトキシベンゾチアゾール、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、3−メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Further, the photopolymerization initiator (C) may be combined with a photoinitiator aid. Photoinitiator aids include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoate 2-. Ethylhexyl, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9, 10-Diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-5-methoxybenzothiazole, 3-mercaptopropion Examples thereof include thiol compounds such as acid, methyl 3-mercaptopropionate, pentaeristol tetramercaptoacetate and 3-mercaptopropionate. These photoinitiator aids can be used alone or in combination of two or more.
<多官能架橋性化合物(D)>
感光性樹脂組成物は、多官能架橋性化合物(D)を含む。多官能架橋性化合物(D)は、1分子中に複数個のエポキシ基又はオキセタニル基を備える架橋性の化合物である。
また、多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量又はオキセタニル当量は、50〜350g/eqである。
感光性樹脂組成物が、このような範囲のエポキシ当量又はオキセタニル当量を有する多官能架橋性化合物を含むことにより、感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する際に、アルカリ可溶性樹脂(A)が密に架橋され、硬化膜からのガスの発生を抑制しやすい。
また、かかる効果をより顕著に発現させる観点からは、多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量又はオキセタニル当量は、60〜320g/eqであることがより好ましく、70〜300g/eqであることがさらに好ましく、75〜280g/eqであることが殊更に好ましい。
<Polyfunctional crosslinkable compound (D)>
The photosensitive resin composition contains a polyfunctional crosslinkable compound (D). The polyfunctional crosslinkable compound (D) is a crosslinkable compound having a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule.
The epoxy equivalent or oxetanyl equivalent of the polyfunctional crosslinkable compound (D) is 50 to 350 g / eq.
When the photosensitive resin composition contains a polyfunctional crosslinkable compound having an epoxy equivalent or an oxetanyl equivalent in such a range, an alkali-soluble resin (A) is formed when a cured film is formed using the photosensitive resin composition. ) Is densely crosslinked, and it is easy to suppress the generation of gas from the cured film.
Further, from the viewpoint of more remarkably expressing such an effect, the epoxy equivalent or oxetanyl equivalent of the polyfunctional crosslinkable compound (D) is more preferably 60 to 320 g / eq, and more preferably 70 to 300 g / eq. Is even more preferable, and 75 to 280 g / eq is particularly preferable.
硬化膜を形成する際の架橋反応性の点から、多官能架橋性化合物(D)は1分子あたり2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を含むのが好ましく、1分子あたり3つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を含むのがより好ましい。
多官能架橋性化合物(D)中の、1分子あたり2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物の含有量は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましく、90質量%以上が特に好ましく、100質量%が最も好ましい。
From the viewpoint of cross-linking reactivity when forming a cured film, the polyfunctional cross-linking compound (D) preferably contains an epoxy compound having two or more epoxy groups per molecule, and three or more epoxides per molecule. More preferably, it contains an epoxy compound having a group.
The content of the epoxy compound having two or more epoxy groups per molecule in the polyfunctional crosslinkable compound (D) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more. It is preferable, 90% by mass or more is particularly preferable, and 100% by mass is most preferable.
多官能架橋性化合物(D)としては、エポキシ当量又はオキセタニル当量が所定の範囲内である限りにおいて、従来から種々の硬化性組成物に配合されている、多官能エポキシ化合物又は多官能オキセタン化合物を用いることができる。
多官能架橋性化合物(D)に含まれる多官能エポキシ化合物又は多官能オキセタン化合物の分子量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。多官能エポキシ化合物又は多官能オキセタン化合物の分子量は、立体的な障害が少なくアルカリ可溶性樹脂(A)の分子鎖間を効率よく架橋しやすいことから、5000以下が好ましく、4500以下がより好ましく、4000以下が特に好ましい。
この分子量の下限値はとくに限定されないが、例えば、150以上である。
The polyfunctional crosslinkable compound (D) includes a polyfunctional epoxy compound or a polyfunctional oxetane compound conventionally blended in various curable compositions as long as the epoxy equivalent or oxetane equivalent is within a predetermined range. Can be used.
The molecular weight of the polyfunctional epoxy compound or the polyfunctional oxetane compound contained in the polyfunctional crosslinkable compound (D) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The molecular weight of the polyfunctional epoxy compound or polyfunctional oxetane compound is preferably 5000 or less, more preferably 4500 or less, and more preferably 4000 or less, because there are few steric obstacles and it is easy to efficiently crosslink the molecular chains of the alkali-soluble resin (A). The following are particularly preferred.
The lower limit of this molecular weight is not particularly limited, but is, for example, 150 or more.
多官能架橋性化合物(D)は、芳香族基を含む化合物であっても、芳香族基を含まない化合物であってもよい。ガス発生が少ない硬化物を形成できる感光性樹脂組成物を得やすいことから、多官能架橋性化合物(D)は、芳香族基を含まない化合物であるのが好ましい。 The polyfunctional crosslinkable compound (D) may be a compound containing an aromatic group or a compound not containing an aromatic group. The polyfunctional crosslinkable compound (D) is preferably a compound containing no aromatic group because it is easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured product with less gas generation.
好適な多官能架橋性化合物(D)の一例として、脂環式エポキシ基を有する多官能の脂環式エポキシ化合物が挙げられる。かかる脂環式エポキシ化合物の具体例としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、及びトリシクロデセンオキサイド基を有する多官能エポキシ化合物や、下記式(d1−1)〜(d1−5)で表される化合物が挙げられる。
これらの脂環式エポキシ化合物は単独で用いても2種以上混合して用いてもよい。
An example of a suitable polyfunctional crosslinkable compound (D) is a polyfunctional alicyclic epoxy compound having an alicyclic epoxy group. Specific examples of such an alicyclic epoxy compound include 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meth-dioxane and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl). Adipate, Bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3', 4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate, ε-caprolactone-modified 3 , 4-Epoxycyclohexylmethyl-3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, trimethylcaprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone modified 3 , 4-Epoxycyclohexylmethyl-3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexanemethyl) ether, ethylenebis (3,4-) (Epoxycyclohexanecarboxylate), polyfunctional epoxy compounds having a tricyclodecene oxide group, and compounds represented by the following formulas (d1-1) to (d1-5) can be mentioned.
These alicyclic epoxy compounds may be used alone or in combination of two or more.
連結基Zとしては、例えば、2価の炭化水素基、−O−、−O−CO−、−S−、−SO−、−SO2−、−CBr2−、−C(CBr3)2−、−C(CF3)2−、及び−Ra19−O−CO−からなる群より選択される2価の基及びこれらが複数個結合した基等を挙げることができる。 Examples of the linking group Z include divalent hydrocarbon groups, -O-, -O-CO-, -S-, -SO-, -SO 2- , -CBr 2- , and -C (CBr 3 ) 2. Examples thereof include a divalent group selected from the group consisting of −, −C (CF 3 ) 2− , and −R a19 −O—CO−, and a group to which a plurality of these are bonded.
連結基Zである二価の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数が1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等を挙げることができる。炭素原子数が1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等を挙げることができる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等を挙げることができる。 Examples of the divalent hydrocarbon group as the linking group Z include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a divalent alicyclic hydrocarbon group and the like. .. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, a dimethylene group, a trimethylene group and the like. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group and 1,3-. Examples thereof include a cycloalkylene group (including a cycloalkylidene group) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group and a cyclohexylidene group.
Rd19は、炭素原子数1〜8のアルキレン基であり、メチレン基又はエチレン基であるのが好ましい。 R d19 is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is preferably a methylene group or an ethylene group.
(式(d1−2)中、Rd1〜Rd12は、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。) (In the formula (d1-2), R d1 to R d12 are groups selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, and an organic group.)
式(d1−1)〜(d1−5)中、Ra1〜Ra18が有機基である場合、有機基は本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、炭化水素基であっても、炭素原子とハロゲン原子とからなる基であっても、炭素原子及び水素原子とともにハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ケイ素原子のようなヘテロ原子を含むような基であってもよい。ハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、及びフッ素原子等が挙げられる。 Wherein (d1-1) ~ (d1-5), when R a1 to R a18 is an organic group, the organic group is not particularly limited within a range not inhibiting the object of the present invention, it is a hydrocarbon radical , A group consisting of a carbon atom and a halogen atom, or a group containing a heteroatom such as a halogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom and a silicon atom together with a carbon atom and a hydrogen atom. .. Examples of halogen atoms include chlorine atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom and the like.
有機基としては、炭化水素基と、炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基と、ハロゲン化炭化水素基と、炭素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基と、炭素原子、水素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基とが好ましい。有機基が炭化水素基である場合、炭化水素基は、芳香族炭化水素基でも、脂肪族炭化水素基でも、芳香族骨格と脂肪族骨格とを含む基でもよい。有機基の炭素原子数は1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜5が特に好ましい。 Examples of the organic group include a hydrocarbon group, a group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom, a halogenated hydrocarbon group, a group consisting of a carbon atom, an oxygen atom, and a halogen atom, a carbon atom, and a hydrogen atom. , An oxygen atom, and a group consisting of a halogen atom are preferable. When the organic group is a hydrocarbon group, the hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group, or a group containing an aromatic skeleton and an aliphatic skeleton. The number of carbon atoms of the organic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 5.
炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、及びn−イコシル基等の鎖状アルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−n−プロペニル基(アリル基)、1−n−ブテニル基、2−n−ブテニル基、及び3−n−ブテニル基等の鎖状アルケニル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基;フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ビフェニル−4−イル基、ビフェニル−3−イル基、ビフェニル−2−イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、α−ナフチルエチル基、及びβ−ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group. , N-Heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group , N-Heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadesyl group, n-icosyl group and other chain alkyl groups; vinyl group, 1-propenyl group, 2-n-propenyl group (allyl group), 1-n Chain alkenyl groups such as -butenyl group, 2-n-butenyl group, and 3-n-butenyl group; cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, and cycloheptyl group; phenyl group , O-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, biphenyl-4-yl group, biphenyl-3-yl group, biphenyl-2-yl group, anthryl group, And aryl groups such as phenanthryl groups; aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, α-naphthylethyl group and β-naphthylethyl group can be mentioned.
ハロゲン化炭化水素基の具体例は、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、及びパーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、及びパーフルオロデシル基等のハロゲン化鎖状アルキル基;2−クロロシクロヘキシル基、3−クロロシクロヘキシル基、4−クロロシクロヘキシル基、2,4−ジクロロシクロヘキシル基、2−ブロモシクロヘキシル基、3−ブロモシクロヘキシル基、及び4−ブロモシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基;2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2,3−ジクロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基等のハロゲン化アリール基;2−クロロフェニルメチル基、3−クロロフェニルメチル基、4−クロロフェニルメチル基、2−ブロモフェニルメチル基、3−ブロモフェニルメチル基、4−ブロモフェニルメチル基、2−フルオロフェニルメチル基、3−フルオロフェニルメチル基、4−フルオロフェニルメチル基等のハロゲン化アラルキル基である。 Specific examples of the halogenated hydrocarbon group include chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, tribromomethyl group, fluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2. , 2-Trifluoroethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, perfluorobutyl group, and perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, perfluoroheptyl group, perfluorooctyl group, perfluorononyl group, and Chain alkyl group halides such as perfluorodecyl group; 2-chlorocyclohexyl group, 3-chlorocyclohexyl group, 4-chlorocyclohexyl group, 2,4-dichlorocyclohexyl group, 2-bromocyclohexyl group, 3-bromocyclohexyl group , And cycloalkyl halide groups such as 4-bromocyclohexyl group; 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,3-dichlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group. , 2,6-dichlorophenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl Group, aryl halide such as 4-fluorophenyl group; 2-chlorophenylmethyl group, 3-chlorophenylmethyl group, 4-chlorophenylmethyl group, 2-bromophenylmethyl group, 3-bromophenylmethyl group, 4-bromophenyl It is a halogenated aralkyl group such as a methyl group, a 2-fluorophenylmethyl group, a 3-fluorophenylmethyl group, and a 4-fluorophenylmethyl group.
炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基の具体例は、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシ−n−プロピル基、及び4−ヒドロキシ−n−ブチル基等のヒドロキシ鎖状アルキル基;2−ヒドロキシシクロヘキシル基、3−ヒドロキシシクロヘキシル基、及び4−ヒドロキシシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基;2−ヒドロキシフェニル基、3−ヒドロキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル基、2,3−ジヒドロキシフェニル基、2,4−ジヒドロキシフェニル基、2,5−ジヒドロキシフェニル基、2,6−ジヒドロキシフェニル基、3,4−ジヒドロキシフェニル基、及び3,5−ジヒドロキシフェニル基等のヒドロキシアリール基;2−ヒドロキシフェニルメチル基、3−ヒドロキシフェニルメチル基、及び4−ヒドロキシフェニルメチル基等のヒドロキシアラルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、及びn−イコシルオキシ基等の鎖状アルコキシ基;ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、2−n−プロペニルオキシ基(アリルオキシ基)、1−n−ブテニルオキシ基、2−n−ブテニルオキシ基、及び3−n−ブテニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基;フェノキシ基、o−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、p−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基、β−ナフチルオキシ基、ビフェニル−4−イルオキシ基、ビフェニル−3−イルオキシ基、ビフェニル−2−イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α−ナフチルメチルオキシ基、β−ナフチルメチルオキシ基、α−ナフチルエチルオキシ基、及びβ−ナフチルエチルオキシ基等のアラルキルオキシ基;メトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−n−プロポキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、3−エトキシ−n−プロピル基、3−n−プロポキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、4−エトキシ−n−ブチル基、及び4−n−プロポキシ−n−ブチル基等のアルコキシアルキル基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、n−プロポキシメトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基、2−n−プロポキシエトキシ基、3−メトキシ−n−プロポキシ基、3−エトキシ−n−プロポキシ基、3−n−プロポキシ−n−プロポキシ基、4−メトキシ−n−ブチルオキシ基、4−エトキシ−n−ブチルオキシ基、及び4−n−プロポキシ−n−ブチルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基;2−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、及び4−メトキシフェニル基等のアルコキシアリール基;2−メトキシフェノキシ基、3−メトキシフェノキシ基、及び4−メトキシフェノキシ基等のアルコキシアリールオキシ基;ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、及びデカノイル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、α−ナフトイル基、及びβ−ナフトイル基等の芳香族アシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、及びn−デシルオキシカルボニル基等の鎖状アルキルオキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、α−ナフトキシカルボニル基、及びβ−ナフトキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、及びデカノイルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基;ベンゾイルオキシ基、α−ナフトイルオキシ基、及びβ−ナフトイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基である。 Specific examples of the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, and an oxygen atom are hydroxy chains such as a hydroxymethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 3-hydroxy-n-propyl group, and a 4-hydroxy-n-butyl group. Alkyl group; Cycloalkyl halide group such as 2-hydroxycyclohexyl group, 3-hydroxycyclohexyl group, and 4-hydroxycyclohexyl group; 2-hydroxyphenyl group, 3-hydroxyphenyl group, 4-hydroxyphenyl group, 2,3 Hydroxyaryl groups such as −dihydroxyphenyl group, 2,4-dihydroxyphenyl group, 2,5-dihydroxyphenyl group, 2,6-dihydroxyphenyl group, 3,4-dihydroxyphenyl group, and 3,5-dihydroxyphenyl group. Hydroxyaralkyl groups such as 2-hydroxyphenylmethyl group, 3-hydroxyphenylmethyl group, and 4-hydroxyphenylmethyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy Group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy Group, n-undecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyloxy group, n-heptadecyloxy group, n-octadecyloxy group, Chain alkoxy groups such as n-nonadesyloxy group and n-icosyloxy group; vinyloxy group, 1-propenyloxy group, 2-n-propenyloxy group (allyloxy group), 1-n-butenyloxy group, 2-n-butenyloxy Group and chain alkenyloxy group such as 3-n-butenyloxy group; phenoxy group, o-tolyloxy group, m-tolyloxy group, p-tolyloxy group, α-naphthyloxy group, β-naphthyloxy group, biphenyl-4 Aryloxy groups such as −yloxy group, biphenyl-3-yloxy group, biphenyl-2-yloxy group, anthryloxy group, and phenanthryloxy group; benzyloxy group, phenethyloxy group, α-naphthylmethyloxy group, Aralkyloxy groups such as β-naphthylmethyloxy group, α-naphthylethyloxy group, and β-naphthylethyloxy group; methoxymethyl group, ethoxymethyl group, n-propoxymethi Lu group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-n-propoxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 3-n-propoxy-n-propyl Ekalkalkyl groups such as groups, 4-methoxy-n-butyl groups, 4-ethoxy-n-butyl groups, and 4-n-propoxy-n-butyl groups; methoxymethoxy groups, ethoxymethoxy groups, n-propoxymethoxy groups. , 2-Methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 2-n-propoxyethoxy group, 3-methoxy-n-propoxy group, 3-ethoxy-n-propoxy group, 3-n-propoxy-n-propoxy group, Alkoxyalkoxy groups such as 4-methoxy-n-butyloxy group, 4-ethoxy-n-butyloxy group, and 4-n-propoxy-n-butyloxy group; 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, and 4- An alkoxyaryl group such as a methoxyphenyl group; an alkoxyaryloxy group such as a 2-methoxyphenoxy group, a 3-methoxyphenoxy group, and a 4-methoxyphenoxy group; a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butanoyl group, a pentanoyl group, and a hexanoyl group. An aliphatic acyl group such as a group, a heptanoyle group, an octanoyl group, a nonanoyl group, and a decanoyyl group; an aromatic acyl group such as a benzoyl group, an α-naphthoyl group, and a β-naphthoyl group; -Propoxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, n-hexylcarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, and n-decyl Chain alkyloxycarbonyl groups such as oxycarbonyl groups; aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl groups, α-naphthoxycarbonyl groups, and β-naphthoxycarbonyl groups; formyloxy groups, acetyloxy groups, propionyloxy groups, pigs An aliphatic acyloxy group such as a noyloxy group, a pentanoyloxy group, a hexanoyloxy group, a heptanoiloxy group, an octanoyloxy group, a nonanoyloxy group, and a decanoyloxy group; a benzoyloxy group, an α-naphthoyloxy group, And aromatic acyloxy groups such as β-naphthoyloxy group.
Rd1〜Rd18は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、及び炭素原子数1〜5のアルコキシ基からなる群より選択される基が好ましく、特に機械的特性に優れる硬化膜を形成しやすいことから、Ra1〜Ra18が全て水素原子であるのがより好ましい。 R d1 to R d18 are preferably groups independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, particularly mechanically. curing film since easily forming excellent in characteristics, the R a1 to R a18 are all hydrogen atoms is more preferred.
式(d1−2)〜(d1−5)中、Rd1〜Rd12は、式(d1−1)におけるRd1〜Rd12と同様である。式(d1−2)及び式(d1−4)において、Rd2及びRd10が、互いに結合する場合に形成される2価の基としては、例えば、−CH2−、−C(CH3)2−が挙げられる。式(P1−3)において、Rd2及びRd8が、互いに結合する場合に形成される2価の基としては、例えば、−CH2−、−C(CH3)2−が挙げられる。 Wherein (d1-2) ~ (d1-5), R d1 ~R d12 is the same as R d1 to R d12 in formula (d1-1). In the formulas (d1-2) and (d1-4), examples of the divalent group formed when R d2 and R d10 are bonded to each other include -CH 2- and -C (CH 3 ). 2 − can be mentioned. In the formula (P1-3), examples of the divalent group formed when R d2 and R d8 are bonded to each other include −CH 2 − and −C (CH 3 ) 2 −.
式(d1−1)で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式(d1−1a)、式(d1−1b)、及び式(d1−1c)で表される脂環式エポキシ化合物や、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)プロパン[=2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン]等を挙げることができる。
式(d1−2)で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、下記式(d1−2a)で表されるビシクロノナジエンジエポキシド、又はジシクロノナジエンジエポキシド等が挙げられる。
式(d1−3)で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、Sスピロ[3−オキサトリシクロ[3.2.1.02,4]オクタン−6,2’−オキシラン]等が挙げられる。 Among the alicyclic epoxy compounds represented by the formula (d1-3), specific examples of suitable compounds include S spiro [3-oxatricyclo [3.2.1.0 2,4 ] octane-6. , 2'-Oxylan] and the like.
式(d1−4)で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、4−ビニルシクロヘキセンジオキシド、ジペンテンジオキシド、リモネンジオキシド、1−メチルー4−(3−メチルオキシラン−2−イル)−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン等が挙げられる。 Among the alicyclic epoxy compounds represented by the formula (d1-4), specific examples of suitable compounds include 4-vinylcyclohexenedioxide, dipentenedioxide, limonene dioxide, and 1-methyl-4- (3-). Methyloxylan-2-yl) -7-oxabicyclo [4.1.0] heptane and the like can be mentioned.
式(d1−5)で表される脂環式エポキシ化合物のうち、好適な化合物の具体例としては、1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。 Among the alicyclic epoxy compounds represented by the formula (d1-5), specific examples of suitable compounds include 1,2,5,6-diepoxycyclooctane and the like.
多官能架橋性化合物(D)として好適に使用し得る、以上説明した脂環式エポキシ化合物以外のエポキシ化合物の例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、及びビスフェノールADノボラック型エポキシ樹脂等のノボラックエポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の環式脂肪族エポキシ樹脂;ナフタレン型フェノール樹脂のエポキシ化物等の芳香族エポキシ樹脂;9,9−ビス[4−(グリシジルオキシ)フェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−[2−(グリシジルオキシ)エトキシ]フェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−[2−(グリシジルオキシ)エチル]フェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−(グリシジルオキシ)−3−メチルフェニル]−9H−フルオレン、9,9−ビス[4−(グリシジルオキシ)−3,5−ジメチルフェニル]−9H−フルオレン、及び9,9−ビス(6‐グリシジルオキシナフタレン−2−イル)−9H−フルオレン等のエポキシ基含有フルオレン化合物;ダイマー酸グリシジルエステル、及びトリグリシジルエステル等のグリシジルエステル型エポキシ樹脂;テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、及びテトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ樹脂;フロログリシノールトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシビフェニルトリグリシジルエーテル、トリヒドロキシフェニルメタントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]エチル]フェニル]プロパン、及び1,3−ビス[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−1−[4−[1−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチル]フェノキシ]−2−プロパノール等の3官能型エポキシ樹脂;テトラヒドロキシフェニルエタンテトラグリシジルエーテル、テトラグリシジルベンゾフェノン、ビスレゾルシノールテトラグリシジルエーテル、及びテトラグリシドキシビフェニル等の4官能型エポキシ樹脂;2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物が挙げられる。2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物は、EHPE−3150(ダイセル社製)として市販される。 Examples of epoxy compounds other than the alicyclic epoxy compound described above that can be suitably used as the polyfunctional crosslinkable compound (D) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Bifunctional epoxy resins such as bisphenol AD type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and biphenyl type epoxy resin; phenol novolac type epoxy resin, brominated phenol novolac type epoxy resin, orthocresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin , And novolak epoxy resin such as bisphenol AD novolak type epoxy resin; ring-type aliphatic epoxy resin such as epoxidized product of dicyclopentadiene type phenol resin; aromatic epoxy resin such as epoxidized product of naphthalene type phenol resin; 9,9- Bis [4- (glycidyloxy) phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- [2- (glycidyloxy) ethoxy] phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- [2-] (Glysidyloxy) ethyl] phenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (glycidyloxy) -3-methylphenyl] -9H-fluorene, 9,9-bis [4- (glycidyloxy) -3 , 5-Dimethylphenyl] -9H-fluorene, and 9,9-bis (6-glycidyloxynaphthalene-2-yl) -9H-fluorene and other epoxy group-containing fluorene compounds; dimeric acid glycidyl ester, triglycidyl ester, etc. Glycidyl ester type epoxy resin; glycidylamine type epoxy resin such as tetraglycidylaminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, tetraglycidylmethaxylylene diamine, and tetraglycidylbisaminomethylcyclohexane; heterocycle such as triglycidyl isocyanurate. Formula epoxy resin; fluoroglycinol triglycidyl ether, trihydroxybiphenyl triglycidyl ether, trihydroxyphenylmethane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [ 4- [1,1-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] ethyl] phenyl] propane, and 1,3-bis [4- [1- [4- (2,3-epoxypropoxy)) Phenyl] -1- [4- [1- [4- (2,3) -Epoxy propoxy) phenyl] -1-methylethyl] phenyl] ethyl] phenoxy] -2-propanol and other trifunctional epoxy resins; tetrahydroxyphenylethane tetraglycidyl ether, tetraglycidyl benzophenone, bisresorcinol tetraglycidyl ether, and tetra Tetrafunctional epoxy resins such as glycidoxybiphenyl; 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adducts of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol can be mentioned. The 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol is commercially available as EHPE-3150 (manufactured by Daicel).
多官能架橋性化合物(D)として好適に使用し得るオキセタン化合物としては、ビス−1−エチル−3−オキセタニルメチルエーテル、1,4−ビス−3−エチルオキセタン−3−イルメトキシメチルベンゼン等の二官能以上のオキセタン化合物が挙げられる。 Examples of the oxetane compound that can be suitably used as the polyfunctional crosslinkable compound (D) include bis-1-ethyl-3-oxetanyl methyl ether and 1,4-bis-3-ethyloxetane-3-ylmethoxymethylbenzene. Examples include bifunctional or higher oxetane compounds.
さらに、下記式(d1−6)で表される化合物を多官能架橋性化合物(D)として好適に使用し得る。 Further, the compound represented by the following formula (d1-6) can be suitably used as the polyfunctional crosslinkable compound (D).
式(d1−6)中、Rd20とE1、Rd21とE2、及びRd22とE3で示される基は、例えば、少なくとも2つが、それぞれ、下記式(d1−6a)で表される基であることが好ましく、いずれもが、それぞれ、下記式(d1−6a)で表される基であることがより好ましい。1つの化合物に結合する複数の式(d1−6a)で表される基は、同じ基であることが好ましい。
−L−Cd (d1−6a)
(式(d1−6a)中、Lは直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基、アリーレン基、−O−、−C(=O)−、−NH−及びこれらの組み合わせからなる基であり、Cdはエポキシ基及びオキセタニル基からなる群より選択される少なくとも1種である。式(d1−6a)中、LとCdとが結合して環状構造を形成していてもよい。)
In the formula (d1-6) , for example, at least two groups represented by R d20 and E 1 , R d21 and E 2 , and R d22 and E 3 are each represented by the following formula (d1-6a). It is preferable that each group is a group represented by the following formula (d1-6a). The groups represented by the plurality of formulas (d1-6a) bonded to one compound are preferably the same group.
-LC d (d1-6a)
(In the formula (d1-6a), L is a group consisting of a linear, branched or cyclic alkylene group, an arylene group, -O-, -C (= O)-, -NH- and a combination thereof. C d is at least one selected from the group consisting of an epoxy group and an oxetanyl group. In the formula (d1-6a), L and C d may be bonded to form a cyclic structure. )
式(d1−6a)中、Lとしての直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキレン基としては、炭素原子数1〜10のアルキレン基が好ましく、また、Lとしてのアリーレン基としては、炭素原子数5〜10のアリーレン基が好ましい。式(d1−6a)中、Lは、直鎖状の炭素原子数1〜3のアルキレン基、フェニレン基、−O−、−C(=O)−、−NH−及びこれらの組み合わせからなる基であることが好ましく、メチレン基等の直鎖状の炭素原子数1〜3のアルキレン基及びフェニレン基の少なくとも1種、又は、これらと、−O−、−C(=O)−及びNH−の少なくとも1種との組み合わせからなる基が好ましい。 In the formula (d1-6a), the linear, branched or cyclic alkylene group as L is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and the arylene group as L is a carbon atom. An arylene group having a number of 5 to 10 is preferable. In the formula (d1-6a), L is a linear group consisting of an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, a phenylene group, -O-, -C (= O)-, -NH-, and a combination thereof. At least one of a linear alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and a phenylene group such as a methylene group, or with these, −O−, −C (= O) − and NH− A group consisting of a combination of at least one of the above is preferable.
式(d1−6a)中、LとCdとが結合して環状構造を形成している場合としては、例えば、分岐鎖状のアルキレン基とエポキシ基とが結合して環状構造(脂環構造のエポキシ基を有する構造)を形成している場合、下記式(d1−6b)又は(d1−6c)で表される有機基が挙げられる。
以下、式(d1−6)で表される化合物の例としてオキシラニル基、オキセタニル基、及び脂環式エポキシ基からなる群より選択される少なくとも1つの基を有するエポキシ化合物の例を示すが、これらに限定されるものではない。
また、多官能架橋性化合物(D)として好適に使用し得る化合物としては、分子内に2以上のグリシジル基を有するシロキサン化合物(以下、単に「シロキサン化合物」とも記す。)を挙げることができる。 Further, examples of the compound that can be suitably used as the polyfunctional crosslinkable compound (D) include a siloxane compound having two or more glycidyl groups in the molecule (hereinafter, also simply referred to as “siloxane compound”).
シロキサン化合物は、シロキサン結合(Si−O−Si)により構成されたシロキサン骨格と、2以上のグリシジル基とを分子内に有する化合物である。
シロキサン化合物におけるシロキサン骨格としては、例えば、環状シロキサン骨格やポリシロキサン骨格(例えば、直鎖状又は分岐鎖状のシリコーン(直鎖状又は分岐鎖状ポリシロキサン)や、かご型やラダー型のポリシルセスキオキサン等)等を挙げることができる。
The siloxane compound is a compound having a siloxane skeleton composed of a siloxane bond (Si—O—Si) and two or more glycidyl groups in the molecule.
Examples of the siloxane skeleton in the siloxane compound include a cyclic siloxane skeleton, a polysiloxane skeleton (for example, linear or branched silicone (linear or branched polysiloxane), and a cage-type or ladder-type polysil. Sesquioxane, etc.) and the like can be mentioned.
シロキサン化合物としては、なかでも、下記式(d1−7)で表される環状シロキサン骨格を有する化合物(以下、「環状シロキサン」という場合がある)が好ましい。
式(d1−7)中、Rd24、及びRd25は、グリシジル基を含有する一価の基又はアルキル基を示す。ただし、式(d1−7)で表される化合物におけるx1個のRd24及びx1個のRd25のうち、少なくとも2個はグリシジル基を含有する一価の基である。また、式(d1−7)中のx1は3以上の整数を示す。尚、式(d1−7)で表される化合物におけるRd24、Rd25は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、複数のRd24は同一であってもよいし、異なっていてもよい。複数のRd25も同一であってもよいし、異なっていてもよい。 Wherein (d1-7), R d24, and R d25 represents a monovalent group or an alkyl group containing a glycidyl group. However, among the x1 amino R d24 and x1 amino R d25 in the compound represented by formula (d1-7), of at least two is a univalent group containing a glycidyl group. Further, x1 in the equation (d1-7) indicates an integer of 3 or more. Incidentally, R d24, R d25 in the compound represented by formula (d1-7) may be the same or different. Further, the plurality of R d24s may be the same or different. The plurality of R d25s may be the same or different.
上記グリシジル基を含有する一価の基としては、−D−O−Rd26で表されるグリシジルエーテル基[Dはアルキレン基を示し、Rd26はグリシジル基を示す]が好ましい。上記D(アルキレン基)としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基等の炭素原子数が1〜18の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基等を挙げることができる。 As the monovalent group containing the glycidyl group, a glycidyl ether group represented by −DOR d26 [D represents an alkylene group and R d26 represents a glycidyl group] is preferable. Examples of the D (alkylene group) include linear or branched alkylene groups having 1 to 18 carbon atoms such as methylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, dimethylene group and trimethylene group. be able to.
上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素原子数1〜18(好ましくは炭素原子数1〜6、特に好ましくは炭素原子数1〜3)の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。 Examples of the alkyl group include linear chains having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 3 carbon atoms) such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Alkyl groups in the form of or branched chains can be mentioned.
式(d1−7)中のx1は3以上の整数を示し、なかでも、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点で3〜6の整数が好ましい。 X1 in the formula (d1-7) represents an integer of 3 or more, and among them, an integer of 3 to 6 is preferable in terms of excellent cross-linking reactivity when forming a cured film.
シロキサン化合物が分子内に有するグリシジル基の数は2個以上であり、硬化膜を形成する際の架橋反応性に優れる点から2〜6個が好ましく、特に好ましくは2〜4個である。 The number of glycidyl groups contained in the molecule of the siloxane compound is 2 or more, preferably 2 to 6 from the viewpoint of excellent cross-linking reactivity when forming a cured film, and particularly preferably 2 to 4.
感光性樹脂組成物は、式(d1−7)で表されるシロキサン化合物以外にも、脂環式エポキシ基含有環状シロキサン、特開2008−248169号公報に記載の脂環式エポキシ基含有シリコーン樹脂、及び特開2008−19422号公報に記載の1分子中に少なくとも2個のエポキシ官能性基を有するオルガノポリシルセスキオキサン樹脂等のシロキサン骨格を有する化合物を含有していてもよい。 In addition to the siloxane compound represented by the formula (d1-7), the photosensitive resin composition includes an alicyclic epoxy group-containing cyclic siloxane and an alicyclic epoxy group-containing silicone resin described in JP-A-2008-248169. , And a compound having a siloxane skeleton such as an organopolysilsesquioxane resin having at least two epoxy functional groups may be contained in one molecule described in JP-A-2008-19422.
シロキサン化合物としては、より具体的には、下記式で表される、分子内に2以上のグリシジル基を有する環状シロキサン等を挙げることができる。また、シロキサン化合物としては、例えば、商品名「X−40−2670」、「X−40−2701」、「X−40−2728」、「X−40−2738」、「X−40−2740」(以上、信越化学工業社製)等の市販品を用いることができる。 More specific examples of the siloxane compound include cyclic siloxanes having two or more glycidyl groups in the molecule, which are represented by the following formulas. Examples of the siloxane compound include trade names "X-40-2670", "X-40-2701", "X-40-2728", "X-40-2738", and "X-40-2740". Commercially available products such as (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can be used.
多官能架橋性化合物(D)の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して1〜40質量%であることが好ましく、3〜30質量%であることがより好ましい。多官能架橋性化合物(D)の含有量を上記の範囲とすることにより、ガスの発生が少ない硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。 The content of the polyfunctional crosslinkable compound (D) is preferably 1 to 40% by mass, preferably 3 to 30% by mass, based on the mass of the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. More preferably. By setting the content of the polyfunctional crosslinkable compound (D) in the above range, it is easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured film that generates less gas.
感光性樹脂組成物におけるアルカリ可溶性樹脂(A)の含有量[g]と、多官能架橋性化合物(D)の含有量[g]との比は、15:1〜0.5:1の範囲内であるのが好ましく、10:1〜1:1の範囲内であることがより好ましく、8:1〜2:1の範囲内であることがさらに好ましい。アルカリ可溶性樹脂(A)と、多官能架橋性化合物(D)とをかかる範囲内の比率で用いることで、特に、ガスの発生が少ない硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。 The ratio of the content [g] of the alkali-soluble resin (A) to the content [g] of the polyfunctional crosslinkable compound (D) in the photosensitive resin composition is in the range of 15: 1 to 0.5: 1. It is preferably in the range of 10: 1 to 1: 1 and even more preferably in the range of 8: 1 to 2: 1. By using the alkali-soluble resin (A) and the polyfunctional crosslinkable compound (D) in a ratio within such a range, it is particularly easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured film that generates less gas.
<着色剤(E)>
感光性樹脂組成物は着色剤(E)を含んでいてもよい。着色剤(E)としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)において、ピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを用いるのが好ましい。
<Colorant (E)>
The photosensitive resin composition may contain a colorant (E). The colorant (E) is not particularly limited, but for example, a compound classified as Pigment in the Color Index (CI; The Society of Dyers and Colorists), specifically, a compound. It is preferable to use one having a color index (CI) number as shown below.
好適に使用できる黄色顔料の例としては、C.I.ピグメントイエロー1(以下、「C.I.ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73,74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、及び185が挙げられる。 Examples of preferably usable yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "CI Pigment Yellow" is the same and only the number is described), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53. , 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 , 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180. , And 185.
好適に使用できる橙色顔料の例としては、C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、及び73が挙げられる。 Examples of preferably usable orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "CI Pigment Orange" is the same and only the number is described), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46. , 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.
好適に使用できる紫色顔料の例としては、C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、及び50が挙げられる。 Examples of suitably usable purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1 (hereinafter, "CI Pigment Violet" is the same and only the number is described), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, and 50. Can be mentioned.
好適に使用できる赤色顔料の例としては、C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、及び265が挙げられる。 Examples of preferably usable red pigments include C.I. I. Pigment Red 1 (Hereinafter, "CI Pigment Red" is the same and only the number is described.) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.
好適に使用できる青色顔料の例としては、C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、及び66が挙げられる。 Examples of preferably usable blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "CI Pigment Blue" is the same, and only the number is described.) 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 , And 66.
好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37等の緑色顔料、C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28等の茶色顔料、C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7等の黒色顔料が挙げられる。 Examples of pigments of the above other hues that can be suitably used include C.I. I. Pigment Green 7, C.I. I. Pigment Green 36, C.I. I. Pigment Green 37 and other green pigments, C.I. I. Pigment Brown 23, C.I. I. Pigment Brown 25, C.I. I. Pigment Brown 26, C.I. I. Pigment Brown 28 and other brown pigments, C.I. I. Pigment Black 1, C.I. I. Examples thereof include black pigments such as Pigment Black 7.
また、感光性樹脂組成物は、着色剤(E)として遮光剤を含んでいてもよい。遮光剤を含む感光性樹脂組成物は、液晶表示パネルにおけるブラックマトリックス又はブラックカラムスペーサの形成や、有機EL素子における発光層の区画用のバンクの形成に好適に用いられる。
前述の通り、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜はガスの発生が少ない。このため、感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクは、有機EL素子において有機発光材料(発光層)や電極にダメージを与えにくい。そして、バンクが遮光剤を含む場合、有機EL素子内での内部反射や有機EL素子内への不要な光の入光を防ぎやすい。
以上より、遮光剤を含む感光性樹脂組成物は、有機EL素子における発光層の区画用のバンクの形成に特に好ましく用いられる。
Further, the photosensitive resin composition may contain a light-shielding agent as the colorant (E). The photosensitive resin composition containing a light-shielding agent is suitably used for forming a black matrix or a black column spacer in a liquid crystal display panel, or forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.
As described above, the cured film formed by using the photosensitive resin composition generates less gas. Therefore, the bank formed by using the photosensitive resin composition is less likely to damage the organic light emitting material (light emitting layer) and the electrode in the organic EL element. When the bank contains a light-shielding agent, it is easy to prevent internal reflection in the organic EL element and unnecessary light entering the organic EL element.
From the above, the photosensitive resin composition containing a light-shielding agent is particularly preferably used for forming a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element.
着色剤(E)を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料や紫顔料を用いることが好ましい。黒色顔料や紫顔料の例としては、カーボンブラック、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。 When the colorant (E) is used as a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment or a purple pigment as the light-shielding agent. Examples of black pigments and purple pigments include carbon blacks, perylene pigments, lactam pigments, titanium blacks, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver and other metal oxides and composite oxides. , Metal sulfides, metal sulfates, metal carbonates, and other pigments, regardless of whether they are organic or inorganic.
カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができる。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。 As the carbon black, known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used. Further, resin-coated carbon black may be used.
カーボンブラックとしては、酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックも好ましい。カーボンブラックに導入される酸性基は、ブレンステッドの定義による酸性を示す官能基である。酸性基の具体例としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等が挙げられる。カーボンブラックに導入された酸性基は、塩を形成していてもよい。酸性基と塩を形成するカチオンは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カチオンの例としては、種々の金属イオン、含窒素化合物のカチオン、アンモニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン等のアルカリ金属イオンや、アンモニウムイオンが好ましい。 As the carbon black, carbon black that has been subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group that exhibits acidity as defined by Bronsted. Specific examples of the acidic group include a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and the like. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation forming the salt with the acidic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions and the like, and alkali metal ions such as sodium ion, potassium ion and lithium ion, and ammonium ions are preferable.
以上説明した酸性基を導入する処理を施されたカーボンブラックの中では、感光性樹脂組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の高抵抗を達成する観点で、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、及びスルホン酸塩基からなる群より選択される1種以上の官能基を有するカーボンブラックが好ましい。 Among the carbon blacks that have been subjected to the treatment for introducing the acidic groups described above, carboxylic acid groups and carboxylic acids are used from the viewpoint of achieving high resistance of the light-shielding cured film formed by using the photosensitive resin composition. Carbon black having one or more functional groups selected from the group consisting of a base, a sulfonic acid group, and a sulfonic acid base is preferable.
カーボンブラックに酸性基を導入する方法は特に限定されない。酸性基を導入する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
1)濃硫酸、発煙硫酸、クロロスルホン酸等を用いる直接置換法や、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩等を用いる間接置換法により、カーボンブラックにスルホン酸基を導入する方法。
2)アミノ基と酸性基とを有する有機化合物と、カーボンブラックとをジアゾカップリングさせる方法。
3)ハロゲン原子と酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとをウィリアムソンのエーテル化法により反応させる方法。
4)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物と、水酸基を有するカーボンブラックとを反応させる方法。
5)ハロカルボニル基と保護基により保護された酸性基とを有する有機化合物を用いて、カーボンブラックに対してフリーデルクラフツ反応を行った後、脱保護する方法。
The method for introducing an acidic group into carbon black is not particularly limited. Examples of the method for introducing an acidic group include the following methods.
1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, etc., or an indirect substitution method using sulfite, hydrogen sulfite, etc.
2) A method of diazo-coupling an organic compound having an amino group and an acidic group with carbon black.
3) A method in which an organic compound having a halogen atom and an acidic group and carbon black having a hydroxyl group are reacted by Williamson's etherification method.
4) A method of reacting an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.
5) A method of deprotecting carbon black after conducting a Friedel-Crafts reaction using an organic compound having a halocarbonyl group and an acidic group protected by a protecting group.
これらの方法の中では、酸性基の導入処理が、容易且つ安全であることから、方法2)が好ましい。方法2)で使用されるアミノ基と酸性基とを有する有機化合物としては、芳香族基にアミノ基と酸性基とが結合した化合物が好ましい。このような化合物の例としては、スルファニル酸のようなアミノベンゼンスルホン酸や、4−アミノ安息香酸のようなアミノ安息香酸が挙げられる。 Among these methods, method 2) is preferable because the process of introducing an acidic group is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acidic group used in the method 2), a compound in which an amino group and an acidic group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzenesulfonic acids such as sulfanilic acid and aminobenzoic acids such as 4-aminobenzoic acid.
カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。カーボンブラックに導入される酸性基のモル数は、カーボンブラック100gに対して、1〜200mmolが好ましく、5〜100mmolがより好ましい。 The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is preferably 1 to 200 mmol, more preferably 5 to 100 mmol, based on 100 g of carbon black.
酸性基を導入されたカーボンブラックは、樹脂による被覆処理を施されていてもよい。
樹脂により被覆されたカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物を用いる場合、遮光性及び絶縁性に優れ、表面反射率が低い遮光性の硬化膜を形成しやすい。なお、樹脂による被覆処理によって、感光性樹脂組成物を用いて形成される遮光性の硬化膜の誘電率に対する悪影響は特段生じない。カーボンブラックの被覆に使用できる樹脂の例としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、エポキシ樹脂、アルキルベンゼン樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレンスルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。カーボンブラックに対する樹脂の被覆量は、カーボンブラックの質量と樹脂の質量の合計に対して、1〜30質量%が好ましい。
The carbon black into which an acidic group has been introduced may be coated with a resin.
When a photosensitive resin composition containing carbon black coated with a resin is used, it is easy to form a light-shielding cured film having excellent light-shielding properties and insulating properties and low surface reflectance. The coating treatment with the resin does not cause any adverse effect on the dielectric constant of the light-shielding cured film formed by using the photosensitive resin composition. Examples of resins that can be used for coating carbon black include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyptal resin, epoxy resin, and alkylbenzene resin, and polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and poly. Examples thereof include thermoplastic resins such as butylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulphon, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyether sulfopolyphenylensulphon, polyarylate, and polyether ether ketone. The coating amount of the resin on the carbon black is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total of the mass of the carbon black and the mass of the resin.
また、遮光剤としてはペリレン系顔料も好ましい。ペリレン系顔料の具体例としては、下記式(e−1)で表されるペリレン系顔料、下記式(e−2)で表されるペリレン系顔料、及び下記式(e−3)で表されるペリレン系顔料が挙げられる。市販品では、BASF社製の製品名K0084、及びK0086や、ピグメントブラック21、30、31、32、33、及び34等を、ペリレン系顔料として好ましく用いることができる。 Further, a perylene-based pigment is also preferable as the light-shielding agent. Specific examples of the perylene-based pigment include a perylene-based pigment represented by the following formula (e-1), a perylene-based pigment represented by the following formula (e-2), and a perylene-based pigment represented by the following formula (e-3). Perylene-based pigments can be mentioned. As commercial products, product names K0084 and K0083 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as perylene-based pigments.
上記の式(e−1)で表される化合物、式(e−2)で表される化合物、及び式(e−3)で表される化合物は、例えば、特開昭62−1753号公報、特公昭63−26784号公報に記載の方法を用いて合成することができる。すなわち、ペリレン−3,5,9,10−テトラカルボン酸又はその二無水物とアミン類とを原料とし、水又は有機溶媒中で加熱反応を行う。そして、得られた粗製物を硫酸中で再沈殿させるか、又は、水、有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒中で再結晶させることによって目的物を得ることができる。 The compound represented by the above formula (e-1), the compound represented by the formula (e-2), and the compound represented by the formula (e-3) are, for example, JP-A-62-1753. , No. 63-26784 can be synthesized by using the method described in Japanese Patent Publication No. 63-26784. That is, a heating reaction is carried out in water or an organic solvent using perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its dianhydride or amines as raw materials. Then, the desired product can be obtained by reprecipitating the obtained crude product in sulfuric acid or recrystallizing it in water, an organic solvent or a mixed solvent thereof.
組成物中においてペリレン系顔料を良好に分散させるためには、ペリレン系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。 In order to disperse the perylene-based pigment well in the composition, the average particle size of the perylene-based pigment is preferably 10 to 1000 nm.
また、遮光剤としては、ラクタム系顔料を含ませることもできる。ラクタム系顔料としては、例えば、下記式(e−4)で表される化合物が挙げられる。 Further, the light-shielding agent may contain a lactam pigment. Examples of the lactam pigment include compounds represented by the following formula (e-4).
式(e−4)中、Xeは二重結合を示し、幾何異性体としてそれぞれ独立にE体又はZ体であり、Re9は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、臭素原子、塩素原子、フッ素原子、カルボキシ基、又はスルホ基を示し、Re10は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、又はフェニル基を示し、Re11は、各々独立に、水素原子、メチル基、又は塩素原子を示す。
式(e−4)で表される化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Re9は、式(e−4)で表される化合物の製造が容易である点から、ジヒドロインドロン環の6位に結合するのが好ましく、Re11はジヒドロインドロン環の4位に結合するのが好ましい。同様の観点から、Re9、Re10、及びRe11は、好ましくは水素原子である。
式(e−4)で表される化合物は、幾何異性体としてEE体、ZZ体、EZ体を有するが、これらのいずれかの単一の化合物であってもよいし、これらの幾何異性体の混合物であってもよい。
式(e−4)で表される化合物は、例えば、国際公開第2000/24736号,国際公開第2010/081624号に記載された方法により製造することができる。
In formula (e-4), X e shows a double bond and is an E-form or a Z-form independently as geometric isomers, and Re9 is independently a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, and a methoxy. Represents a group, a bromine atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a carboxy group, or a sulfo group, Re 10 independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group, and Re 11 independently represents a hydrogen atom. , Methyl group, or chlorine atom.
The compound represented by the formula (e-4) can be used alone or in combination of two or more.
R e9 is preferably bonded to the 6-position of the dihydroindron ring because the compound represented by the formula (e-4) can be easily produced, and Re11 is bonded to the 4-position of the dihydroindron ring. It is preferable to do so. From the same viewpoint, R e9, R e10, and R e11 are preferably hydrogen atom.
The compound represented by the formula (e-4) has an EE form, a ZZ form, and an EZ form as geometric isomers, but may be a single compound of any one of these, or these geometric isomers. May be a mixture of.
The compound represented by the formula (e-4) can be produced, for example, by the methods described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/081624.
組成物中においてラクタム系顔料を良好に分散させるためには、ラクタム系顔料の平均粒子径は10〜1000nmであるのが好ましい。 In order to disperse the lactam pigment well in the composition, the average particle size of the lactam pigment is preferably 10 to 1000 nm.
さらに、銀錫(AgSn)合金を主成分とする微粒子(以下、「AgSn合金微粒子」という。)も遮光剤として好ましく用いられる。このAgSn合金微粒子は、AgSn合金が主成分であればよく、他の金属成分として、例えば、Ni、Pd、Au等が含まれていてもよい。
このAgSn合金微粒子の平均粒子径は、1〜300nmが好ましい。
Further, fine particles containing silver-tin (AgSn) alloy as a main component (hereinafter, referred to as "AgSn alloy fine particles") are also preferably used as a light-shielding agent. The AgSn alloy fine particles may be mainly composed of the AgSn alloy, and may contain, for example, Ni, Pd, Au, etc. as other metal components.
The average particle size of the AgSn alloy fine particles is preferably 1 to 300 nm.
AgSn合金は、化学式AgxSnにて表した場合、化学的に安定したAgSn合金が得られるxの範囲は1≦x≦10であり、化学的安定性と黒色度とが同時に得られるxの範囲は3≦x≦4である。
ここで、上記xの範囲でAgSn合金中のAgの質量比を求めると、
x=1の場合、 Ag/AgSn=0.4762
x=3の場合、 3・Ag/Ag3Sn=0.7317
x=4の場合、 4・Ag/Ag4Sn=0.7843
x=10の場合、10・Ag/Ag10Sn=0.9008
となる。
したがって、このAgSn合金は、Agを47.6〜90質量%含有した場合に化学的に安定なものとなり、Agを73.17〜78.43重量%含有した場合にAg量に対し効果的に化学的安定性と黒色度とを得ることができる。
When the AgSn alloy is represented by the chemical formula AgxSn, the range of x in which a chemically stable AgSn alloy can be obtained is 1 ≦ x ≦ 10, and the range of x in which both chemical stability and blackness can be obtained at the same time is. 3 ≦ x ≦ 4.
Here, when the mass ratio of Ag in the AgSn alloy is obtained in the range of x above,
When x = 1, Ag / AgSn = 0.4762
When x = 3, 3.Ag / Ag3Sn = 0.7317
When x = 4, 4. Ag / Ag4Sn = 0.7843
When x = 10, 10 · Ag / Ag10Sn = 0.9008
Will be.
Therefore, this AgSn alloy becomes chemically stable when it contains 47.6 to 90% by mass of Ag, and is effective with respect to the amount of Ag when it contains 73.17 to 78.43% by weight of Ag. Chemical stability and blackness can be obtained.
このAgSn合金微粒子は、通常の微粒子合成法を用いて作製することができる。微粒子合成法としては、気相反応法、噴霧熱分解法、アトマイズ法、液相反応法、凍結乾燥法、水熱合成法等が挙げられる。 The AgSn alloy fine particles can be produced by using a usual fine particle synthesis method. Examples of the fine particle synthesis method include a gas phase reaction method, a spray pyrolysis method, an atomizing method, a liquid phase reaction method, a freeze-drying method, and a hydrothermal synthesis method.
AgSn合金微粒子は絶縁性の高いものであるが、感光性樹脂組成物の用途によっては、さらに絶縁性を高めるため、表面を絶縁膜で覆うようにしても構わない。このような絶縁膜の材料としては、金属酸化物又は有機高分子化合物が好適である。
金属酸化物としては、絶縁性を有する金属酸化物、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化イットリウム(イットリア)、酸化チタン(チタニア)等が好適に用いられる。
また、有機高分子化合物としては、絶縁性を有する樹脂、例えば、ポリイミド、ポリエーテル、ポリアクリレート、ポリアミン化合物等が好適に用いられる。
The AgSn alloy fine particles have high insulating properties, but depending on the application of the photosensitive resin composition, the surface may be covered with an insulating film in order to further improve the insulating properties. As a material for such an insulating film, a metal oxide or an organic polymer compound is suitable.
As the metal oxide, insulating metal oxides such as silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), ittrium oxide (itria), titanium oxide (titania) and the like are preferably used. Be done.
Further, as the organic polymer compound, a resin having an insulating property, for example, a polyimide, a polyether, a polyacrylate, a polyamine compound or the like is preferably used.
絶縁膜の膜厚は、AgSn合金微粒子の表面の絶縁性を十分に高めるためには1〜100nmの厚みが好ましく、より好ましくは5〜50nmである。
絶縁膜は、表面改質技術あるいは表面のコーティング技術により容易に形成することができる。特に、テトラエトキシシラン、アルミニウムトリエトキシド等のアルコキシドを用いれば、比較的低温で膜厚の均一な絶縁膜を形成することができるので好ましい。
The thickness of the insulating film is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 50 nm in order to sufficiently enhance the insulating property of the surface of the AgSn alloy fine particles.
The insulating film can be easily formed by a surface modification technique or a surface coating technique. In particular, it is preferable to use an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxyde because an insulating film having a uniform film thickness can be formed at a relatively low temperature.
遮光剤としては、上述のペリレン系顔料、ラクタム系顔料、AgSn合金微粒子単独でも用いてもよいし、これらを組み合わせて用いてもよい。
その他、遮光剤は、色調の調整の目的等で、上記の黒色顔料や紫顔料とともに、赤、青、緑、黄等の色相の色素を含んでいてもよい。黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素は、公知の色素から適宜選択することができる。例えば、黒色顔料や紫顔料の他の色相の色素としては、上記の種々の顔料を用いることができる。黒色顔料や紫顔料以外の他の色相の色素の使用量は、遮光剤の全質量に対して、15質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。
As the light-shielding agent, the above-mentioned perylene-based pigment, lactam-based pigment, and AgSn alloy fine particles may be used alone, or these may be used in combination.
In addition, the light-shielding agent may contain a pigment having a hue such as red, blue, green, or yellow in addition to the above-mentioned black pigment or purple pigment for the purpose of adjusting the color tone. The pigments having other hues of the black pigment and the purple pigment can be appropriately selected from known pigments. For example, as the pigments having other hues of black pigments and purple pigments, the above-mentioned various pigments can be used. The amount of the pigment having a hue other than the black pigment and the purple pigment is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the total mass of the light-shielding agent.
上記の着色剤を組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
なお、分散剤に起因する硬化膜からのガス発生が生じる場合がある。このため、着色剤が、分散剤を用いることなく分散処理されるのも好ましい。
Further dispersants may be used to uniformly disperse the colorants in the composition. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.
In addition, gas may be generated from the cured film due to the dispersant. Therefore, it is also preferable that the colorant is dispersed without using a dispersant.
また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は2種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量100質量部に対して、有機顔料を10〜80質量部の範囲で用いることが好ましく、20〜40質量部の範囲で用いることがより好ましい。 Further, the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more, but when they are used in combination, 10 to 80 parts by mass of the organic pigment is used with respect to 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment. It is preferable to use it in the range of 20 to 40 parts by mass, and it is more preferable to use it in the range of 20 to 40 parts by mass.
なお、感光性樹脂組成物は、着色剤(E)として顔料以外にも染料を用いることができる。この染料は公知の材料のなかから適宜選択すればよい。
本実施形態の感光性樹脂組成物に適用可能な染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、アントラキノン染料、トリフェニルメタン染料、キサンテン染料、シアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、フタロシアニン染料等を挙げることができる。
また、これら染料については、レーキ化(造塩化)することで有機溶媒等に分散させ、これを着色剤(E)として用いることができる。
これらの染料以外にも、例えば、特開2013−225132号公報、特開2014−178477号公報、特開2013−137543号公報、特開2011−38085号公報、特開2014−197206号公報等に記載の染料等も好ましく用いることができる。
これら染料もまた、前述の顔料(例えば、ペリレン系顔料、ラクタム系顔料、AgSn合金微粒子等)と組み合わせて使用することもできる。
In the photosensitive resin composition, a dye can be used as the colorant (E) in addition to the pigment. This dye may be appropriately selected from known materials.
Examples of dyes applicable to the photosensitive resin composition of the present embodiment include azo dyes, metal complex salt azo dyes, anthraquinone dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, and methine dyes. Examples include phthalocyanine dyes.
Further, these dyes can be raked (chlorinated) to be dispersed in an organic solvent or the like, and this can be used as a colorant (E).
In addition to these dyes, for example, JP-A-2013-225132, JP-A-2014-178477, JP-A-2013-137543, JP-A-2011-38085, JP-A-2014-197206, etc. The dyes and the like described can also be preferably used.
These dyes can also be used in combination with the above-mentioned pigments (for example, perylene-based pigments, lactam-based pigments, AgSn alloy fine particles, etc.).
感光性樹脂組成物における着色剤(E)の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して、5〜70質量%が好ましく、25〜60質量%がより好ましい。 The amount of the colorant (E) used in the photosensitive resin composition can be appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention, and typically, the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. It is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 25 to 60% by mass, based on the mass of the product.
着色剤(E)は分散剤の存在下又は不存在下に適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。
尚、本明細書においては、上述の着色剤(E)の使用量について、この存在する分散剤も含む値として定義することができる。
The colorant (E) is preferably added to the photosensitive resin composition after being prepared as a dispersion liquid dispersed in the presence or absence of the dispersant at an appropriate concentration.
In this specification, the amount of the above-mentioned colorant (E) used can be defined as a value including the existing dispersant.
<フッ素系樹脂(F)>
感光性樹脂組成物は、フッ素系樹脂(F)(以下、「(F)成分」ともいう。)を含んでいてもよい。感光性樹脂組成物がフッ素系樹脂(F)を含有する場合、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜に撥液性が付与される。
例えば、感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクを備える有機EL素子用の基板上において、バンクにより区画された領域内に、インクジェット法等の印刷法により発光層を形成する場合に、バンクがインクを弾くことによって、バンクへのインクの付着やバンクに囲まれた領域内にインクを注入する際の隣接する画素とのインクの混合を防ぐことができる。
<Fluorine resin (F)>
The photosensitive resin composition may contain a fluororesin (F) (hereinafter, also referred to as “component (F)”). When the photosensitive resin composition contains the fluororesin (F), liquid repellency is imparted to the cured film formed by using the photosensitive resin composition.
For example, when a light emitting layer is formed in a region partitioned by a bank by a printing method such as an inkjet method on a substrate for an organic EL element having a bank formed by using a photosensitive resin composition, the bank By repelling the ink, it is possible to prevent the ink from adhering to the bank and the ink from being mixed with the adjacent pixels when the ink is injected into the area surrounded by the bank.
フッ素系樹脂(F)は、フッ素原子を含有する樹脂であって、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜に撥液性を付与できる樹脂であれば特に限定されない。フッ素系樹脂(F)は、フッ素原子を含むモノマーの単独重合体、又はフッ素原子を含むモノマーと、フッ素原子を含まないモノマーとの共重合体であってよい。 The fluorine-based resin (F) is not particularly limited as long as it is a resin containing fluorine atoms and can impart liquid repellency to the cured film formed by using the photosensitive resin composition. The fluorine-based resin (F) may be a homopolymer of a monomer containing a fluorine atom, or a copolymer of a monomer containing a fluorine atom and a monomer not containing a fluorine atom.
フッ素系樹脂(F)の好適な例としては、(f1)エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマーと、(f2)(メタ)アクリル酸とを少なくとも共重合させた共重合体が挙げられる。このようなフッ素系樹脂(F)を用いる場合、感光性樹脂組成物を用いて、撥液性に優れる硬化膜、特に撥液性に優れる有機EL素子用のバンクを形成しやすい。 Preferable examples of the fluororesin (F) include a copolymer obtained by at least copolymerizing (f1) a monomer having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom with (f2) (meth) acrylic acid. .. When such a fluororesin (F) is used, it is easy to use the photosensitive resin composition to form a cured film having excellent liquid repellency, particularly a bank for an organic EL element having excellent liquid repellency.
((f1)エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマー)
エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマー(以下、「(f1)モノマー」ともいう。)は、エチレン性不飽和基とフッ素原子とを有していれば特に限定されない。このような(f1)モノマーとしては、下式(f1−1)で表される化合物等が挙げられる。これらの(f1)モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
((F1) Monomer having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom)
The monomer having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom (hereinafter, also referred to as “(f1) monomer”) is not particularly limited as long as it has an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom. Examples of such a (f1) monomer include compounds represented by the following formula (f1-1). These (f1) monomers can be used alone or in combination of two or more.
式(f1−1)中、X1及びX2はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子を示し、X3は水素原子、フッ素原子、メチル基、又はパーフルオロメチル基を示し、X4及びX5は水素原子、フッ素原子、又はパーフルオロメチル基を示す。Rfは炭素原子数1〜40の含フッ素アルキル基又は炭素原子数2〜100のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基を示し、aは0〜3の整数を示し、b及びcはそれぞれ独立に0又は1を示す。Rfが含フッ素アルキル基である場合、炭素原子数は2〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜6が特に好ましい。Rfがエーテル結合を有する含フッ素アルキル基である場合、炭素原子数は2〜50が好ましく、3〜20がより好ましく、4〜6が特に好ましい。 In formula (f1-1), X 1 and X 2 independently represent a hydrogen atom or a fluorine atom, X 3 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or a perfluoromethyl group, and X 4 and X 5 Indicates a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoromethyl group. Rf represents a fluorine-containing alkyl group having 1 to 40 carbon atoms or a fluorine-containing alkyl group having an ether bond having 2 to 100 carbon atoms, a represents an integer of 0 to 3, and b and c are independently 0. Or 1 is indicated. When Rf is a fluorine-containing alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 2 to 20, more preferably 3 to 10, and particularly preferably 4 to 6. When Rf is a fluorine-containing alkyl group having an ether bond, the number of carbon atoms is preferably 2 to 50, more preferably 3 to 20, and particularly preferably 4 to 6.
(f1)モノマーから誘導されるユニットの含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して30〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは40〜60質量%の範囲である。フッ素系樹脂(F)における(f1)モノマーから誘導されるユニットの含有量を上記の範囲とする場合、感光性樹脂組成物により撥液性に優れる硬化膜を形成しやすく、感光性樹脂組成物における、フッ素系樹脂(F)と、他の成分との相溶性が良好となる傾向がある。 The content of the unit derived from the (f1) monomer is preferably 30 to 80% by mass, more preferably 40 to 60% by mass, based on the mass of the fluororesin (F). When the content of the unit derived from the (f1) monomer in the fluororesin (F) is within the above range, the photosensitive resin composition can easily form a cured film having excellent liquid repellency, and the photosensitive resin composition The compatibility between the fluororesin (F) and other components in the above tends to be good.
また、(f1)モノマーにおいては、−(CF2)tF(t=1〜10)で表される基を有するものが好ましい。tは1〜8であることがより好ましく、2〜6であることがさらに好ましい。(f1)モノマーが上記の基を有する場合、感光性樹脂組成物により撥液性に優れる硬化膜を形成しやすい。 Further, the (f1) monomer preferably has a group represented by − (CF 2 ) t F (t = 1 to 10). t is more preferably 1 to 8, and even more preferably 2 to 6. (F1) When the monomer has the above group, it is easy to form a cured film having excellent liquid repellency due to the photosensitive resin composition.
<(f2)(メタ)アクリル酸>
フッ素系樹脂(F)は、感光性樹脂組成物の現像性を向上させるために、カルボキシル基を有するモノマーである(f2)(メタ)アクリル酸に由来する単位を含むのが好ましい。
<(F2) (meth) acrylic acid>
The fluororesin (F) preferably contains a unit derived from (f2) (meth) acrylic acid, which is a monomer having a carboxyl group, in order to improve the developability of the photosensitive resin composition.
(f2)(メタ)アクリル酸に由来する単位の含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して0.1〜20質量%であることが好ましい。フッ素系樹脂(F)における(f2)(メタ)アクリル酸に由来する単位の含有量を上記の範囲とする場合、現像性が良好であり、撥液性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。 The content of the unit derived from (f2) (meth) acrylic acid is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the mass of the fluororesin (F). When the content of the unit derived from (f2) (meth) acrylic acid in the fluororesin (F) is within the above range, a photosensitive resin capable of forming a cured film having good developability and excellent liquid repellency. Easy to obtain composition.
フッ素系樹脂(F)には、必要に応じて、上記の(f1)モノマー及び(f2)モノマー以外の他のモノマーを共重合させてもよい。このような他のモノマーとしては、以下に記述する種々のモノマーが挙げられる。 If necessary, the fluororesin (F) may be copolymerized with a monomer other than the above-mentioned (f1) monomer and (f2) monomer. Examples of such other monomers include various monomers described below.
((f3)エチレン性不飽和基及びエポキシ基を有するモノマー)
フッ素系樹脂(F)は、さらに、エチレン性不飽和基及びエポキシ基を有するモノマー(以下、「(f3)モノマー」ともいう。)を共重合させた共重合体であることが好ましい。(f3)モノマーを共重合させることにより、感光性樹脂組成物により形成される硬化膜の撥液性をより向上させることができる。
((F3) Monomer having an ethylenically unsaturated group and an epoxy group)
The fluororesin (F) is preferably a copolymer obtained by further copolymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group and an epoxy group (hereinafter, also referred to as “(f3) monomer”). By copolymerizing the (f3) monomer, the liquid repellency of the cured film formed by the photosensitive resin composition can be further improved.
(f3)モノマーとしては、グリシジル(メタ)アクリレート、下記式(f3−1)〜(f3−3)で表される脂環式エポキシ化合物、(メタ)アクリル酸のカルボキシル基と二官能以上のエポキシ化合物のエポキシ基とを反応させて得られるモノマー、側鎖に水酸基やカルボキシル基を有するアクリル系モノマーの水酸基又はカルボキシル基と二官能以上のエポキシ化合物のエポキシ基とを反応させて得られるモノマー等が挙げられる。中でも、グリシジル(メタ)アクリレートが好ましい。これらの(f3)モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 As the (f3) monomer, glycidyl (meth) acrylate, an alicyclic epoxy compound represented by the following formulas (f3-1) to (f3-3), a carboxyl group of (meth) acrylic acid and a bifunctional or higher epoxy. Monomers obtained by reacting with the epoxy groups of compounds, monomers obtained by reacting the hydroxyl groups or carboxyl groups of acrylic monomers having hydroxyl groups or carboxyl groups in the side chains with the epoxy groups of bifunctional or higher epoxy compounds, etc. Can be mentioned. Of these, glycidyl (meth) acrylate is preferable. These (f3) monomers can be used alone or in combination of two or more.
式(f3−1)、(f3−2)、(f3−3)中、Rf0は、水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を示し、Rf1は水素原子又はメチル基を示し、uは1〜10の整数を示し、v及びwはそれぞれ独立に1〜3の整数を示す。 In the formulas (f3-1), (f3-2), and (f3-3), R f0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R f1 represents a hydrogen atom or a methyl group. u represents an integer of 1 to 10, and v and w each independently represent an integer of 1 to 3.
フッ素系樹脂(F)が(f3)モノマーに由来する単位を含む場合、フッ素系樹脂(F)中の当該単位の含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して1〜40質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。フッ素系樹脂(F)における(f3)モノマーに由来する単位の含有量を上記の範囲とする場合、撥液性が良好な硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。 When the fluororesin (F) contains a unit derived from the (f3) monomer, the content of the unit in the fluororesin (F) is 1 to 40% by mass with respect to the mass of the fluororesin (F). Is preferable, and 5 to 15% by mass is more preferable. When the content of the unit derived from the (f3) monomer in the fluororesin (F) is within the above range, it is easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured film having good liquid repellency.
((f4)式(f4−1)で表される構造を有するモノマー)
フッ素系樹脂(F)は、さらに、エチレン性不飽和基及び下記式(f4−1)で表される構造を有するモノマー(以下、「(f4)モノマー」ともいう。)を共重合させた共重合体であることが好ましい。(f4)モノマーを共重合させることにより、現像性に優れる感光性樹脂組成物を得やすく、感光性樹脂組成物におけるフッ素系樹脂(F)と他の成分との相溶性を向上させることができる。
(Monomer having a structure represented by the formula (f4) (f4-1))
The fluororesin (F) is further copolymerized with an ethylenically unsaturated group and a monomer having a structure represented by the following formula (f4-1) (hereinafter, also referred to as “(f4) monomer”). It is preferably a polymer. By copolymerizing the (f4) monomer, it is easy to obtain a photosensitive resin composition having excellent developability, and the compatibility between the fluororesin (F) and other components in the photosensitive resin composition can be improved. ..
(f4)モノマーは、エチレン性不飽和基及び下記式(f4−2)で表される構造を有するものがより好ましい。 The monomer (f4) more preferably has an ethylenically unsaturated group and a structure represented by the following formula (f4-2).
式(f4−1)、(f4−2)中、Rf2は炭素原子数1〜5のアルキレン基を示し、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、炭素原子数1〜3のアルキレン基が好ましく、エチレン基が最も好ましい。Rf3は水素原子、水酸基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基を示し、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。上記置換基としては、カルボキシル基、水酸基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基等が挙げられる。xは1以上の整数を示し、1〜60の整数が好ましく、1〜12の整数がより好ましい。 In the formulas (f4-1) and (f4-2), R f2 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and may be linear or branched. Among them, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and an ethylene group is most preferable. R f3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a substituent, and may be linear or branched. Among them, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a methyl group is most preferable. Examples of the substituent include a carboxyl group, a hydroxyl group, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. x indicates an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 60, and more preferably an integer of 1 to 12.
このような(f4)モノマーとしては、下記式(f4−3)で表される化合物等が挙げられる。これらの(f4)モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
式(f4−3)中、Rf4は水素原子又はメチル基を示す。Rf2、Rf3、xは上記式(f4−1)、(f4−2)と同義である。 In formula (f4-3), R f4 represents a hydrogen atom or a methyl group. R f2 , R f3 , and x are synonymous with the above formulas (f4-1) and (f4-2).
(f4)モノマーから誘導されるユニットの含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して1〜40質量%であることが好ましく、より好ましくは5〜25質量%の範囲である。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の現像性や、感光性樹脂組成物におけるフッ素系樹脂(F)と他の成分との相溶性が良好となる傾向があり好ましい。 The content of the unit derived from the (f4) monomer is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 25% by mass, based on the mass of the fluororesin (F). Within the above range, the developability of the photosensitive resin composition and the compatibility between the fluororesin (F) and other components in the photosensitive resin composition tend to be good, which is preferable.
((f5)ケイ素原子を有するモノマー)
フッ素系樹脂(F)は、さらに、ケイ素原子を有するモノマー(以下、「(f5)モノマー」ともいう。)を共重合させた共重合体であることが好ましい。(f5)モノマーは、エチレン性不飽和基及びケイ素原子に結合した少なくとも1つのアルコキシ基を有するものであれば特に限定されない。この(f5)モノマーを共重合させることにより、感光性樹脂組成物により形成される硬化膜の撥液性をより向上させることができる。
((F5) Monomer having a silicon atom)
The fluororesin (F) is preferably a copolymer obtained by further copolymerizing a monomer having a silicon atom (hereinafter, also referred to as “(f5) monomer”). The (f5) monomer is not particularly limited as long as it has an ethylenically unsaturated group and at least one alkoxy group bonded to a silicon atom. By copolymerizing this (f5) monomer, the liquid repellency of the cured film formed by the photosensitive resin composition can be further improved.
このような(f5)モノマーとしては、下記式(f5−1)で表される化合物等が挙げられる。これらの(f5)モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of such a (f5) monomer include compounds represented by the following formula (f5-1). These (f5) monomers can be used alone or in combination of two or more.
式(f5−1)中、Rf5は水素原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基を示し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Rf6は炭素原子数1〜20のアルキレン基又はフェニレン基を示し、好ましくは炭素原子数1〜10のアルキレン基である。Rf7、Rf8はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10のアルキル基又はフェニル基を示し、好ましくは炭素原子数1〜3のアルキル基である。Siに複数のRf7が結合している場合、該複数のRf7は同一であっても異なっていてもよい。また、Siに複数の(ORf8)が結合している場合、該複数の(ORf8)は同一であっても異なっていてもよい。pは0又は1であり、好ましくは1である。qは1〜3の整数であり、好ましくは2又は3であり、より好ましくは3である。 In the formula (f5-1), R f5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R f6 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or a phenylene group, and is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. R f7 and R f8 independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group, and are preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. When multiple R f7 is bonded to Si, R f7 the plurality of may be the same or different. Also, if a plurality of Si is (OR f8) are attached, the plurality of (OR f8) may or may not be the same. p is 0 or 1, preferably 1. q is an integer of 1-3, preferably 2 or 3, and more preferably 3.
(f5)モノマーから誘導されるユニットの含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して20質量%以下が好ましく、より好ましくは10質量%以下の範囲である。上記の範囲とすることにより、撥液性及び感光性樹脂組成物の他の成分との相溶性が良好となる傾向があり好ましい。 The content of the unit derived from the (f5) monomer is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the mass of the fluororesin (F). Within the above range, the liquid repellency and compatibility with other components of the photosensitive resin composition tend to be good, which is preferable.
上記のモノマーの他のモノマーとしては、エチレン性不飽和基を有する種々のモノマーを用いることができ、中でも、アクリル系モノマーが好ましい。アクリル系モノマーの好適な例としては、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド(N−MAA)、メチルメタクリレート(MAA)、シクロヘキシルメタクリレート(CHMA)、イソボニルメタクリレート(IBMA)等が挙げられる。フッ素系樹脂(F)おける、これらの他のモノマーに由来する単位の含有量は、フッ素系樹脂(F)の質量に対して0〜25質量%であることが好ましい。 As the other monomer of the above-mentioned monomer, various monomers having an ethylenically unsaturated group can be used, and among them, an acrylic monomer is preferable. Preferable examples of the acrylic monomer include 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), N-hydroxymethylacrylamide (N-MAA), methyl methacrylate (MAA), cyclohexyl methacrylate (CHMA), isobonyl methacrylate (IBMA) and the like. Can be mentioned. The content of the unit derived from these other monomers in the fluororesin (F) is preferably 0 to 25% by mass with respect to the mass of the fluororesin (F).
(f1)モノマー及び(f2)モノマー並びに必要に応じてその他のモノマーを反応させて共重合体を得る方法としては、公知の方法を用いることができる。 A known method can be used as a method for obtaining a copolymer by reacting the (f1) monomer, the (f2) monomer, and other monomers if necessary.
フッ素系樹脂(F)の質量平均分子量は、2000〜50000であることが好ましく、より好ましくは5000〜20000である。フッ素系樹脂(F)の質量平均分子量を2000以上にすることにより、感光性樹脂組成物により形成される硬化膜の耐熱性及び強度を向上させることができ、また50000以下にすることにより感光性樹脂組成物の現像性を高めることができる。 The mass average molecular weight of the fluororesin (F) is preferably 2000 to 50000, and more preferably 5000 to 20000. By setting the mass average molecular weight of the fluororesin (F) to 2000 or more, the heat resistance and strength of the cured film formed by the photosensitive resin composition can be improved, and by setting it to 50,000 or less, the photosensitive film is photosensitive. The developability of the resin composition can be improved.
感光性樹脂組成物におけるフッ素系樹脂(F)の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性樹脂組成物の質量に対して、0.1〜10質量%であるのが好ましく、0.2〜5質量%であるのがより好ましい。感光性樹脂組成物がこのような量でフッ素系樹脂(F)を含有する場合、感光性樹脂組成物を感度、現像性、及び解像性に優れるものとしつつ、感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜に良好な撥液性を付与しやすい。 The content of the fluororesin (F) in the photosensitive resin composition is 0.1 to 10% by mass with respect to the mass of the photosensitive resin composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. Is preferable, and 0.2 to 5% by mass is more preferable. When the photosensitive resin composition contains the fluororesin (F) in such an amount, the photosensitive resin composition is used while making the photosensitive resin composition excellent in sensitivity, developability, and resolution. It is easy to impart good liquid repellency to the cured film formed in the above process.
<有機溶剤(S)>
感光性樹脂組成物は、塗布性の改善や、粘度調整のため、有機溶剤(S)を含むことが好ましい。
<Organic solvent (S)>
The photosensitive resin composition preferably contains an organic solvent (S) in order to improve coatability and adjust the viscosity.
有機溶剤(S)として具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルイソブチルアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルカプロラクタム、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ピリジン、及びN,N,N’,N’−テトラメチルウレア等含窒素極性有機溶剤;等が挙げられる。 Specifically, the organic solvent (S) includes ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol mono. -N-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono- n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, etc. (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates; other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone; 2- Lactate alkyl esters such as methyl hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, Ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl -3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate , N-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate and other esters; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylisobutylamide, N, N-diethylacetamide, N, Examples thereof include N-diethylformamide, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, and nitrogen-containing polar organic solvents such as N, N, N', N'-tetramethylurea; and the like.
これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。
また、各成分の溶解性や、着色剤(E)の分散性等の点で、有機溶剤(S)が、含窒素極性有機溶剤を含むのも好ましい。含窒素極性有機溶剤としては、N,N,N’,N’−テトラメチルウレアが好ましい。
これらの溶剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, the above-mentioned other ethers, lactic acid alkyl esters, and the above-mentioned other esters are preferable, and alkylene glycol monoalkyl ether acetates, the above-mentioned. Other ethers and other esters described above are more preferred.
Further, it is preferable that the organic solvent (S) contains a nitrogen-containing polar organic solvent in terms of the solubility of each component and the dispersibility of the colorant (E). As the nitrogen-containing polar organic solvent, N, N, N', N'-tetramethylurea are preferable.
These solvents can be used alone or in combination of two or more.
有機溶剤(S)の含有量は、特に限定されず、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。感光性樹脂組成物の粘度は5〜500cpであることが好ましく、10〜50cpであることがより好ましく、20〜30cpであることがさらに好ましい。また、固形分濃度は5〜100質量%であることが好ましく、15〜50質量%であることがより好ましい。 The content of the organic solvent (S) is not particularly limited, and is a concentration that can be applied to a substrate or the like, and is appropriately set according to the coating film thickness. The viscosity of the photosensitive resin composition is preferably 5 to 500 cp, more preferably 10 to 50 cp, and even more preferably 20 to 30 cp. The solid content concentration is preferably 5 to 100% by mass, more preferably 15 to 50% by mass.
<その他の成分>
感光性樹脂組成物には、必要に応じて、界面活性剤、密着性向上剤、熱重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤等の添加剤を含有させることができる。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。
感光性樹脂組成物は、形状が良好で、基板への密着性に優れる硬化膜を形成しやすいことから、シランカップリング剤を含むものが好ましい。シランカップリング剤としては、従来知られるものを特に制限なく使用することができる。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の化合物が挙げられ、熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられ、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系化合物等が挙げられる。
<Other ingredients>
The photosensitive resin composition may contain additives such as a surfactant, an adhesion improver, a thermal polymerization inhibitor, an antifoaming agent, and a silane coupling agent, if necessary. As any of the additives, conventionally known ones can be used.
The photosensitive resin composition preferably contains a silane coupling agent because it has a good shape and easily forms a cured film having excellent adhesion to a substrate. As the silane coupling agent, conventionally known ones can be used without particular limitation.
Examples of the surfactant include anionic, cationic and nonionic compounds, examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether, and examples of the antifoaming agent include silicone and fluorine. Examples include compounds.
<感光性樹脂組成物の調製方法>
以上説明した感光性樹脂組成物は、上記各成分を、それぞれ所定量混合した後、撹拌機で均一に混合することにより得られる。なお、得られた混合物がより均一なものとなるようフィルタを用いて濾過してもよい。
<Method of preparing photosensitive resin composition>
The photosensitive resin composition described above can be obtained by mixing each of the above components in a predetermined amount and then uniformly mixing them with a stirrer. In addition, you may filter using a filter so that the obtained mixture becomes more uniform.
≪硬化膜、及び有機EL素子における発光層の区画用のバンク、バンクを備える有機EL素子用の基板、及びバンクを備える有機EL素子≫
以上説明した、感光性樹脂組成物を用いて形成された薄膜を、露光及び加熱により硬化させることにより、硬化膜が形成される。
硬化膜の用途としては、絶縁膜が挙げられる。感光性樹脂組成物が着色剤(E)を含まない場合には、透明絶縁膜が形成される。感光性樹脂組成物が着色剤(E)を含む場合には、着色された絶縁膜が形成される。特に、着色剤(E)が遮光剤である場合、遮光性の絶縁膜が形成される。
遮光性の黒色絶縁膜の好適な例としては、種々の画像表示装置用のパネルが備える、ブラックマトリクス中の黒色の隔壁や、ブラックカラムスペーサが挙げられる。
また、感光性樹脂組成物がRGB等の有彩色の着色剤(E)を含む場合、ブラックマトリクスにより区画された領域に着色された硬化膜を形成してカラーフィルタを製造することができる。
例えば、上記のブラックマトリクスや、有彩色の硬化膜を硬化物として含むカラーフィルタは、種々の表示装置において好適に使用される。
<< A bank for partitioning a cured film and a light emitting layer in an organic EL element, a substrate for an organic EL element having a bank, and an organic EL element having a bank >>
A cured film is formed by curing the thin film formed by using the photosensitive resin composition described above by exposure and heating.
Applications of the cured film include an insulating film. When the photosensitive resin composition does not contain the colorant (E), a transparent insulating film is formed. When the photosensitive resin composition contains the colorant (E), a colored insulating film is formed. In particular, when the colorant (E) is a light-shielding agent, a light-shielding insulating film is formed.
Preferable examples of the light-shielding black insulating film include a black partition wall in a black matrix and a black column spacer provided in panels for various image display devices.
When the photosensitive resin composition contains a chromatic colorant (E) such as RGB, a colored cured film can be formed in a region partitioned by a black matrix to produce a color filter.
For example, the above-mentioned black matrix and a color filter containing a chromatic cured film as a cured product are suitably used in various display devices.
また、前述の通り、かかる硬化膜からはガス発生が少ない。このため、感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜は、有機EL素子における発光層の区画用のバンクとして好適に用いられる。
バンクは、有機EL素子用の基板上に、ITO等の電極層と、有機発光材料からなる発光層とに接するように形成される。発光層がバンクにより区画することで画素が形成される。ここで、電極層や発光層が、バンクから発生する種々の成分を含むガスで汚染されると、劣化が促進される。
しかし、以上説明した感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜をバンクとして適用すると、バンクからのガスの発生が抑制されるため、電極層や発光層が劣化しにくく、有機EL素子の耐久性が向上する。つまり、以上説明した感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜をバンクとして備える有機EL素子は、耐久性に優れる。
Further, as described above, less gas is generated from the cured film. Therefore, the cured film formed by using the photosensitive resin composition is suitably used as a bank for partitioning the light emitting layer in the organic EL element.
The bank is formed on a substrate for an organic EL element so as to be in contact with an electrode layer such as ITO and a light emitting layer made of an organic light emitting material. Pixels are formed by partitioning the light emitting layer by banks. Here, when the electrode layer and the light emitting layer are contaminated with gas containing various components generated from the bank, deterioration is promoted.
However, when the cured film formed by using the photosensitive resin composition described above is applied as a bank, the generation of gas from the bank is suppressed, so that the electrode layer and the light emitting layer are less likely to deteriorate, and the organic EL element Durability is improved. That is, the organic EL device including the cured film formed by using the photosensitive resin composition described above as a bank has excellent durability.
また、以上説明した感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクを備える基板は、有機EL素子用の基板として有用である。かかる有機EL素子用の基板を用いると、電極層や発光層の劣化が抑制された、耐久性に優れる有機EL素子を製造できる。 Further, a substrate having a bank formed by using the photosensitive resin composition described above is useful as a substrate for an organic EL element. By using such a substrate for an organic EL element, it is possible to manufacture an organic EL element having excellent durability in which deterioration of the electrode layer and the light emitting layer is suppressed.
≪硬化膜の製造方法≫
硬化膜の製造方法としては、感光性樹脂組成物の薄膜中において、光重合性モノマー(B)を重合させ、且つ、アルカリ可溶性樹脂(A)と多官能架橋性化合物(D)との架橋反応を生じさせることにより、硬化膜を形成できる方法であれば特に限定されない。
≪Manufacturing method of cured film≫
As a method for producing a cured film, a photopolymerizable monomer (B) is polymerized in a thin film of a photosensitive resin composition, and a cross-linking reaction between an alkali-soluble resin (A) and a polyfunctional cross-linking compound (D) is performed. The method is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a cured film by producing.
光重合性モノマー(B)を重合させるためには、通常、露光が行われる。また、アルカリ可溶性樹脂(A)と多官能架橋性化合物(D)との架橋反応を生じさせるためには、露光された又は未露光の感光性樹脂組成物の薄膜に対して加熱が行われる。 In order to polymerize the photopolymerizable monomer (B), exposure is usually performed. Further, in order to cause a cross-linking reaction between the alkali-soluble resin (A) and the polyfunctional cross-linking compound (D), the thin film of the exposed or unexposed photosensitive resin composition is heated.
硬化膜の好適な製造方法としては、
感光性樹脂組成物を塗布することで、塗布膜を形成する工程と、
塗布膜を露光する工程と、
露光された塗布膜を硬化する工程と、を含む方法が挙げられる。
A suitable method for producing the cured film is
The process of forming a coating film by applying the photosensitive resin composition and
The process of exposing the coating film and
Examples thereof include a step of curing the exposed coating film and a method including.
感光性樹脂組成物を用いて硬化膜を形成するには、感光性樹脂組成物を硬化膜の用途に応じて選択された基板上に塗布して塗布膜を形成する。塗布膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて行われる。 In order to form a cured film using the photosensitive resin composition, the photosensitive resin composition is applied onto a substrate selected according to the application of the cured film to form a coating film. The method for forming the coating film is not particularly limited, but for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater is used. It is said.
塗布された感光性樹脂組成物は、必要に応じて乾燥され、塗布膜を構成する。乾燥方法は、特に限定されず、例えば、(1)ホットプレートにて80〜120℃、好ましくは90〜100℃の温度にて60〜120秒間乾燥させる方法、(2)室温にて数時間〜数日間放置する方法、(3)温風ヒータや赤外線ヒータ中に数十分間〜数時間入れて溶剤を除去する方法等が挙げられる。 The coated photosensitive resin composition is dried, if necessary, to form a coating film. The drying method is not particularly limited, and for example, (1) a method of drying on a hot plate at a temperature of 80 to 120 ° C., preferably 90 to 100 ° C. for 60 to 120 seconds, and (2) a method of drying at room temperature for several hours to Examples include a method of leaving the solvent for several days, and (3) a method of removing the solvent by putting it in a warm air heater or an infrared heater for several tens of minutes to several hours.
次いで塗布膜に対する露光が行われる。露光は、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して行われる。露光は、例えば、ネガ型のマスクを介して露光を行う方法等により、位置選択的に行われてもよい。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば40〜200mJ/cm2程度が好ましい。 Next, the coating film is exposed. The exposure is performed by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light. The exposure may be regioselective, for example, by a method of performing exposure through a negative mask. The energy dose to be irradiated varies depending on the composition of the photosensitive resin composition, but is preferably about 40 to 200 mJ / cm 2, for example.
塗布膜が位置選択的に露光された場合、露光後の膜を、現像液により現像することによって所望の形状にパターニングする。現像方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液は、感光性樹脂組成物の組成に応じて適宜選択される。現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の塩基性の水溶液を用いることができる。 When the coating film is exposed in a regioselective manner, the exposed film is patterned with a developing solution to form a desired shape. The developing method is not particularly limited, and for example, a dipping method, a spraying method, or the like can be used. The developer is appropriately selected according to the composition of the photosensitive resin composition. As the developing solution, for example, a basic aqueous solution such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and a quaternary ammonium salt can be used.
次いで、露光された塗布膜、又は現像後のパターン化された塗布膜を硬化させて、硬化膜が形成される。かかる硬化では、アルカリ可溶性樹脂(A)と多官能架橋性化合物(D)との架橋反応を生じさせる。このため、硬化を行うためには、露光された塗布膜、又は現像後のパターン化された塗布膜に対して、ベークが行われる。
ベーク温度は、硬化が良好に進行する限り特に限定されないが、180〜280℃が好ましく、190〜260℃がより好ましい。
以上のようにベークを行うことにより、感光性樹脂組成物の硬化膜が得られる。
The exposed coating film or the developed patterned coating film is then cured to form a cured film. Such curing causes a cross-linking reaction between the alkali-soluble resin (A) and the polyfunctional cross-linking compound (D). Therefore, in order to perform curing, baking is performed on the exposed coating film or the patterned coating film after development.
The baking temperature is not particularly limited as long as the curing proceeds well, but is preferably 180 to 280 ° C, more preferably 190 to 260 ° C.
By baking as described above, a cured film of the photosensitive resin composition can be obtained.
≪有機EL素子における発光層の区画用のバンクを製造する方法≫
有機EL素子における発光層の区画用のバンクを製造する方法は、有機EL素子用の基板上の所定の位置にバンクを製造可能な方法であれば特に限定されない。
好ましい方法としては、
感光性樹脂組成物を塗布することで、塗布膜を有機EL素子用の基板上に形成する工程と、
塗布膜中のバンクの位置に対応する箇所を、位置選択的に露光する工程と、
露光された塗布膜を現像する工程と、
現像された塗布膜を硬化する工程と、を含む方法が挙げられる。
<< Method of manufacturing a bank for partitioning the light emitting layer in an organic EL element >>
The method for producing a bank for partitioning the light emitting layer in the organic EL element is not particularly limited as long as the bank can be produced at a predetermined position on the substrate for the organic EL element.
The preferred method is
A process of forming a coating film on a substrate for an organic EL element by applying a photosensitive resin composition, and
A process of regioselectively exposing a portion of the coating film corresponding to the position of the bank,
The process of developing the exposed coating film and
Examples thereof include a step of curing the developed coating film and a method including.
基板の典型例としては、主面の一方に、発光層が形成される箇所に対応する箇所にITO等からなる透明な電極層(アノード)を備える、透明な基板が挙げられる。
バンクは、透明な電極層の端部に接しつつ、発光層が形成される領域を囲うように形成される。
A typical example of a substrate is a transparent substrate having a transparent electrode layer (anode) made of ITO or the like at a portion corresponding to a portion where a light emitting layer is formed on one of the main surfaces.
The bank is formed so as to surround the region where the light emitting layer is formed while being in contact with the end portion of the transparent electrode layer.
有機EL素子用の基板に感光性樹脂組成物を塗布する方法、塗布膜中のバンクの位置に対応する箇所を、位置選択的に露光する方法と、露光された塗布膜を現像する方法と、現像された塗布膜を硬化する方法とについては、硬化膜の製造方法について前述した方法と同様である。 A method of applying a photosensitive resin composition to a substrate for an organic EL element, a method of position-selectively exposing a portion corresponding to the position of a bank in the coating film, a method of developing the exposed coating film, and a method of developing the exposed coating film. The method for curing the developed coating film is the same as the method described above for the method for producing the cured film.
以上説明した方法により、有機EL素子用の基板の所定の位置に、発光層の区画用のバンクを備える基板が得られる。 By the method described above, a substrate having a bank for partitioning the light emitting layer can be obtained at a predetermined position on the substrate for the organic EL element.
≪有機EL素子の製造方法≫
以上説明した、バンクを備える有機EL素子用の基板を用いて有機EL素子が製造される。
当該方法は、有機EL素子用の基板における、バンクで区画された領域内に発光層を形成する工程を含む。
バンクを備える有機EL素子用の基板は、バンクで区画された領域内においてITO等からなる透明な電極層(アノード)が露出している。
典型的な方法では、電極層(アノード)上に、正孔輸送層が積層される。そして、正孔輸送層上に電子輸送層と、電極層(カソード)とがこの順で積層され、有機EL素子が製造される。必要に応じて、さらに、TFTや、カラーフィルタ等が適宜組み合わせられる。
バンクで区画された領域内に、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等を形成する方法は特に限定されず、蒸着法であっても印刷法であってもよい。層形成用の材料のロスが少ないことや、所定の位置に所望する膜厚の層を速やかに形成しやすいことから、印刷法が好ましく、印刷法としてはインクジェット法が特に好ましい。
≪Manufacturing method of organic EL element≫
The organic EL element is manufactured by using the substrate for the organic EL element provided with the bank described above.
The method includes a step of forming a light emitting layer in a region partitioned by a bank in a substrate for an organic EL element.
In the substrate for an organic EL element provided with a bank, a transparent electrode layer (anode) made of ITO or the like is exposed in a region partitioned by the bank.
In a typical method, a hole transport layer is laminated on the electrode layer (anode). Then, the electron transport layer and the electrode layer (cathode) are laminated on the hole transport layer in this order, and an organic EL element is manufactured. If necessary, a TFT, a color filter, or the like is further combined as appropriate.
The method of forming the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer and the like in the region partitioned by the bank is not particularly limited, and may be a vapor deposition method or a printing method. The printing method is preferable, and the inkjet method is particularly preferable as the printing method because the loss of the material for layer formation is small and it is easy to quickly form a layer having a desired film thickness at a predetermined position.
以上の方法により製造される有機EL素子は、ガスの発生の少ないバンクを備えるため、電極層や発光層の劣化が抑制され、耐久性に優れる。 Since the organic EL element manufactured by the above method includes a bank that generates less gas, deterioration of the electrode layer and the light emitting layer is suppressed, and the durability is excellent.
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.
〔調製例1〕
1500mL四つ口フラスコ中に、下記式で表されるエポキシ化合物275g(0.5モル、エポキシ当量292)と、2,6−ジ−tertブチル−4−メチルフェノール100mg及びアクリル酸72gを触媒とともに仕込み、これに25mL/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。
In a 1500 mL four-necked flask, 275 g (0.5 mol, epoxy equivalent 292) of an epoxy compound represented by the following formula, 100 mg of 2,6-di-tertbutyl-4-methylphenol and 72 g of acrylic acid are placed together with a catalyst. It was charged and melted by heating at 90 to 100 ° C. while blowing air into it at a rate of 25 mL / min.
次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。ここで溶液は次第に透明粘稠になったがそのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下式の構造のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート347.4g(0.5モル)にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート650gを加えて溶解した後、下記式(b1)−1の化合物(以下、化合物(b1)−1とも記す、)(0.25モル)、を触媒とともに混合し、徐々に昇温して130℃で4時間反応させた。
なお、化合物(b1)−1は、下記式で表されるテトラカルボン酸二無水物(ノルボルナン−2−スピロ−α−シクロペンタノン−α’−スピロ−2’’−ノルボルナン−5,5’’,6,6’’−テトラカルボン酸二無水物)である。
Compound (b1) -1 is a tetracarboxylic dianhydride represented by the following formula (norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'. ', 6, 6''-tetracarboxylic dianhydride).
酸無水物基の消失を確認した後、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸30gを混合し、90℃で6時間反応させ、ビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートと、酸無水物(化合物(b1)−1)とから生成したカルド樹脂である樹脂A1を得た。酸無水物の消失はIRスペクトルにより確認した。 After confirming the disappearance of the acid anhydride group, 30 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 ° C. for 6 hours to obtain a bisphenol fluorene type epoxy acrylate and an acid anhydride (compound (b1). ) -1) and resin A1 which is a cardo resin produced from the above were obtained. The disappearance of the acid anhydride was confirmed by IR spectrum.
〔調製例2〕
1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸30gを用いる反応を行わない他は、調製例1と同様にしてカルド樹脂である樹脂A2を得た。
[Preparation Example 2]
Resin A2, which is a cardo resin, was obtained in the same manner as in Preparation Example 1 except that the reaction using 30 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was not carried out.
〔調製例3〕
化合物(b1)−1の代わりに、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を等モルで用いた他は実施例1と同様にして、カルド樹脂である樹脂A3を得た。
[Preparation Example 3]
Resin A3, which is a cardo resin, was used in the same manner as in Example 1 except that 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was used in equimolar amounts instead of compound (b1) -1. Obtained.
〔調製例4〕
1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸30gを用いる反応を行わない他は、調製例3と同様にしてカルド樹脂である樹脂A4を得た。
[Preparation Example 4]
Resin A4, which is a cardo resin, was obtained in the same manner as in Preparation Example 3 except that the reaction using 30 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was not carried out.
〔調製例5〕
調製例1に対して、1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸の添加量を15gに変更する以外は、調製例1と同様にして、カルド樹脂である樹脂A5を得た。
[Preparation Example 5]
Resin A5, which is a cardo resin, was obtained in the same manner as in Preparation Example 1 except that the amount of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride added was changed to 15 g with respect to Preparation Example 1.
〔実施例1〜10、比較例1、及び比較例2〕
実施例、及び比較例では、アルカリ可溶性樹脂(A)((A)成分)として、調製例1〜5で得た樹脂A1〜A5と、下記構造の樹脂A6とを用いた。下式中の括弧の右下の数値は樹脂A6中の各構成単位の比率(質量%)である。
In Examples and Comparative Examples, the resins A1 to A5 obtained in Preparation Examples 1 to 5 and the resins A6 having the following structure were used as the alkali-soluble resins (A) (component (A)). The numerical value at the lower right of the parentheses in the following formula is the ratio (mass%) of each structural unit in the resin A6.
実施例、及び比較例では、光重合性モノマー(B)((B)成分)として、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いた。 In Examples and Comparative Examples, dipentaerythritol hexaacrylate was used as the photopolymerizable monomer (B) (component (B)).
実施例、及び比較例では、光重合開始剤(C)((C)成分)として、下記構造の化合物を用いた。
実施例、及び比較例では、多官能架橋性化合物(D)として以下のD1、D2、及びD4と、シロキサン系多官能エポキシ化合物D3(分子量:3400、エポキシ当量:147g/eq、1分子中のエポキシ基数:約23)とを用いた。
D1の分子量は737.27であり、エポキシ当量は184g/eq.であり、1分子中のエポキシ基数は4である。
D2の分子量は381.42であり、エポキシ当量は127g/eq.であり、1分子中のエポキシ基数は3である。
D4の分子量は252.31であり、エポキシ当量は126g/eq.であり、1分子中のエポキシ基数は2である。
The molecular weight of D1 is 737.27, and the epoxy equivalent is 184 g / eq. The number of epoxy groups in one molecule is 4.
The molecular weight of D2 is 381.42, and the epoxy equivalent is 127 g / eq. The number of epoxy groups in one molecule is 3.
The molecular weight of D4 is 252.31, and the epoxy equivalent is 126 g / eq. The number of epoxy groups in one molecule is 2.
実施例、及び比較例では、着色剤(E)((E)成分)として遮光剤である以下のE1〜E3を用いた。
E1:ラクタム系顔料
E2:ペリレン系顔料
E3:AgSn顔料
In Examples and Comparative Examples, the following E1 to E3, which are light-shielding agents, were used as the colorants (E) (component (E)).
E1: Lactam pigment E2: Perylene pigment E3: AgSn pigment
表1に記載の種類及び量の(A)成分と、(B)成分7質量部と、(C)成分8質量部と、表1に記載の種類の(D)成分10質量部と、表1に記載の種類の(E)成分45質量部とを、有機溶剤以外の成分の質量比率が20質量%であるように有機溶剤中に均一に混合して、各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を得た。
なお、比較例1では、多官能架橋性化合物(D)を用いずに、(A)成分を40質量部用いた。
また、有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート60質量%と、3−メトキシブチルアセテート20質量%と、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア20質量%とからなる混合溶剤を用いた。
Table 1, the type and amount of (A) component, (B) component 7 parts by mass, (C) component 8 parts by mass, and the type and amount of (D) component 10 parts by mass shown in Table 1. 45 parts by mass of the component (E) of the type described in 1 is uniformly mixed in the organic solvent so that the mass ratio of the components other than the organic solvent is 20% by mass, and the photosensitivity of each Example and Comparative Example is obtained. A sex resin composition was obtained.
In Comparative Example 1, 40 parts by mass of the component (A) was used without using the polyfunctional crosslinkable compound (D).
As the organic solvent, a mixed solvent consisting of 60% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 20% by mass of 3-methoxybutyl acetate, and 20% by mass of N, N, N', N'-tetramethylurea is used. There was.
<ガス発生評価>
10cm×10cmのガラス基板上に各実施例、及び比較例の感光性樹脂組成物を塗布した後、100℃で120秒間乾燥して塗布膜を形成した。
次いで、塗布膜に高圧水銀ランプを使用した露光機を用いて、露光量50mJ/cm2で全面露光を行った。
露光された塗布膜に対して、230℃で30分間ポストベークを行い、膜厚2μmの硬化膜を得た。
<Gas generation evaluation>
The photosensitive resin compositions of Examples and Comparative Examples were applied onto a 10 cm × 10 cm glass substrate, and then dried at 100 ° C. for 120 seconds to form a coating film.
Next, the entire surface was exposed at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 using an exposure machine using a high-pressure mercury lamp for the coating film.
The exposed coating film was post-baked at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a cured film having a film thickness of 2 μm.
形成された硬化膜を試料に用いて、パージ&トラップサンプラー(加熱脱着装置)を取り付けたガスクロマトグラフィー質量分析法(P&T−GC/MS)により発生ガス量を評価した。測定とガスの定量は下記(i)〜(iii)の手順に沿って行った。
(i)ガス発生と二次吸着管への捕集
一次トラップ管に硬化膜1mgを入れ、加熱脱着装置(Perkin Elmer製:Tarbo Matrix ATD)を用いて、230℃で10分間加熱し、脱離したガスを二次トラップ管に吸着させた。
(ii)GC/MS分析
二次トラップ管を250℃で1分間加熱し、脱離したガスをGC/MS(Agilent Technologies社製:7890B(GC)、5977AMSD(MS))にて分析した。
(iii)定量分析
樹脂組成物のPT−GC/MS分析で得られたチャートの各ピーク面積から定量を行った。具体的に、検出されたアウトガスのピークの合計エリア%を評価値として定めた。
Using the formed cured film as a sample, the amount of generated gas was evaluated by gas chromatography-mass spectrometry (P & T-GC / MS) equipped with a purge & trap sampler (heat desorption device). The measurement and the quantification of gas were carried out according to the procedures (i) to (iii) below.
(I) Gas generation and collection in the secondary adsorption tube Put 1 mg of the cured film in the primary trap tube and heat it at 230 ° C. for 10 minutes using a heat desorption device (manufactured by PerkinElmer: Tarbo Matrix ATD) to desorb. The gas was adsorbed on the secondary trap tube.
(Ii) GC / MS analysis The secondary trap tube was heated at 250 ° C. for 1 minute, and the desorbed gas was analyzed by GC / MS (manufactured by Agilent Technologies: 7890B (GC), 5977AMSD (MS)).
(Iii) Quantitative analysis Quantitative analysis was performed from each peak area of the chart obtained by PT-GC / MS analysis of the resin composition. Specifically, the total area% of the detected outgas peaks was set as the evaluation value.
得られた評価値(合計エリア%)に基づいて、下記の基準に従って発生ガス量を評価した。3〜5の評価であれば、ガス発生量が少ないと解される。評価結果を表1に記す。
5:評価値の値が1.0E8未満。
4:評価値の値が1.0E8以上2.5E8未満。
3:評価値の値が2.5E8以上5.0E8未満。
2:評価値の値が5.0E8以上1.0E9未満。
1:評価値の値が1.0E9以上。
Based on the obtained evaluation value (total area%), the amount of generated gas was evaluated according to the following criteria. If the evaluation is 3 to 5, it is understood that the amount of gas generated is small. The evaluation results are shown in Table 1.
5: less than the value of the evaluation value is 1.0E 8.
4: less than the value of the evaluation value is 1.0E 8 more than 2.5E 8.
3: The evaluation value is 2.5E 8 or more and less than 5.0E 8.
2: The evaluation value is 5.0E 8 or more and less than 1.0E 9.
1: The evaluation value is 1.0E 9 or more.
実施例によれば、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性モノマー(B)と、光重合開始剤(C)と、多官能架橋性化合物(D)とを含み、アルカリ可溶性樹脂(A)が、カルド樹脂を含み、多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量が50〜350g/eqである、感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜は、ガス発生量が少ないことが分かる。
比較例によれば、感光性樹脂組成物が多官能架橋性化合物(D)を含まない場合や、感光性樹脂組成物がアルカリ可溶性樹脂(A)としてカルド樹脂ではなく、アクリル系樹脂を含む場合、感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜からのガス発生量が多いことが分かる。
According to the examples, the alkali-soluble resin (A), the photopolymerizable monomer (B), the photopolymerization initiator (C), and the polyfunctional crosslinkable compound (D) are contained, and the alkali-soluble resin (A) is contained. However, it can be seen that the cured film formed by using the photosensitive resin composition containing the cardo resin and having an epoxy equivalent of the polyfunctional crosslinkable compound (D) of 50 to 350 g / eq has a small amount of gas generated. ..
According to the comparative example, when the photosensitive resin composition does not contain the polyfunctional crosslinkable compound (D), or when the photosensitive resin composition contains an acrylic resin as the alkali-soluble resin (A) instead of the cardo resin. It can be seen that the amount of gas generated from the cured film formed by using the photosensitive resin composition is large.
Claims (15)
前記アルカリ可溶性樹脂(A)が、カルド骨格を有する樹脂を含み、
前記多官能架橋性化合物(D)のエポキシ当量又はオキセタニル当量が50〜350g/eqであり、前記多官能架橋性化合物(D)が分子内に3以上のエポキシ基を有するシロキサン化合物を含み、前記アルカリ可溶性樹脂(A)の含有量[g]と、前記多官能架橋性化合物(D)の含有量[g]との比が15:1〜0.5:1の範囲にある、感光性樹脂組成物。 An alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable monomer (B), a photopolymerization initiator (C), and a polyfunctional crosslinkable compound (D) having a plurality of epoxy groups or oxetanyl groups in one molecule. Including
The alkali-soluble resin (A) contains a resin having a cardo skeleton, and the alkali-soluble resin (A) contains a resin.
Wherein an epoxy equivalent or oxetanyl equivalent 50 to 350 g / eq polyfunctional crosslinking compounds (D), see containing the polyfunctional crosslinkable compound (D) is a siloxane compound having three or more epoxy groups in the molecule, The ratio of the content [g] of the alkali-soluble resin (A) to the content [g] of the polyfunctional crosslinkable compound (D) is in the range of 15: 1 to 0.5: 1, and is photosensitive. Resin composition.
で表される樹脂である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。 The resin having the cardo skeleton is the following formula (a-1):
The photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 4, which is a resin represented by.
で表される化合物である、請求項5に記載の感光性樹脂組成物。 The tetracarboxylic dianhydride is based on the following formula (a-4):
The photosensitive resin composition according to claim 5, which is a compound represented by.
前記塗布膜を露光する工程と、
露光された前記塗布膜を硬化する工程と、を含む硬化膜の製造方法。 A step of forming a coating film by applying the photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 6.
The step of exposing the coating film and
A method for producing a cured film, which comprises a step of curing the exposed coating film.
露光する前記工程と、硬化する前記工程との間に、さらに、露光された前記塗布膜を現像する工程を含む、請求項12に記載の硬化膜の製造方法。 In the step of exposure, the coating film is regioselectively exposed.
The method for producing a cured film according to claim 12 , further comprising a step of developing the exposed coating film between the step of exposing and the step of curing.
請求項7に記載の感光性樹脂組成物を塗布することで、塗布膜を前記基板上に形成する工程と、
前記塗布膜中の前記バンクの位置に対応する箇所を、位置選択的に露光する工程と、
露光された前記塗布膜を現像する工程と、
現像された前記塗布膜を硬化する工程と、を含む方法。 A method of manufacturing a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element on a substrate.
A step of forming a coating film on the substrate by applying the photosensitive resin composition according to claim 7.
A step of regioselectively exposing a portion of the coating film corresponding to the position of the bank,
The process of developing the exposed coating film and
A method comprising a step of curing the developed coating film.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016131056A JP6886782B2 (en) | 2016-06-30 | 2016-06-30 | A photosensitive resin composition, a cured film, a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element, a substrate for an organic EL element, an organic EL element, a method for producing a cured film, a method for producing a bank, and a method for producing an organic EL element. |
| TW106120387A TWI731989B (en) | 2016-06-30 | 2017-06-19 | Photosensitive resin composition, cured film, bank for partitioning light emitting layer of organic el element, substrate for organic el element, organic el element, manufacturing method of cured film, manufacturing method of bank, and manufacturing method of organic el element |
| CN202211088336.9A CN115343912A (en) | 2016-06-30 | 2017-06-28 | Photosensitive resin composition and application thereof |
| CN201710509058.2A CN107561860B (en) | 2016-06-30 | 2017-06-28 | Photosensitive resin composition and application thereof |
| KR1020170083484A KR102422588B1 (en) | 2016-06-30 | 2017-06-30 | Photosensitive Resin Composition, Cured Film, Bank for Partitioning Light Emitting Layer of Organic EL Element, Substrate for Organic EL Element, Organic EL Element, Manufacturing Method of Cured Film, Manufacturing Method of Bank, and Manufacturing Method of Organic EL Element |
| JP2021083085A JP7175346B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-05-17 | Photosensitive resin composition, cured film, bank for partitioning light-emitting layer in organic EL element, substrate for organic EL element, organic EL element, method for producing cured film, method for producing bank, and method for producing organic EL element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016131056A JP6886782B2 (en) | 2016-06-30 | 2016-06-30 | A photosensitive resin composition, a cured film, a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element, a substrate for an organic EL element, an organic EL element, a method for producing a cured film, a method for producing a bank, and a method for producing an organic EL element. |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2021083085A Division JP7175346B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-05-17 | Photosensitive resin composition, cured film, bank for partitioning light-emitting layer in organic EL element, substrate for organic EL element, organic EL element, method for producing cured film, method for producing bank, and method for producing organic EL element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018004920A JP2018004920A (en) | 2018-01-11 |
| JP6886782B2 true JP6886782B2 (en) | 2021-06-16 |
Family
ID=60944958
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016131056A Active JP6886782B2 (en) | 2016-06-30 | 2016-06-30 | A photosensitive resin composition, a cured film, a bank for partitioning a light emitting layer in an organic EL element, a substrate for an organic EL element, an organic EL element, a method for producing a cured film, a method for producing a bank, and a method for producing an organic EL element. |
| JP2021083085A Active JP7175346B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-05-17 | Photosensitive resin composition, cured film, bank for partitioning light-emitting layer in organic EL element, substrate for organic EL element, organic EL element, method for producing cured film, method for producing bank, and method for producing organic EL element |
Family Applications After (1)
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Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP6886782B2 (en) |
| KR (1) | KR102422588B1 (en) |
| CN (2) | CN115343912A (en) |
| TW (1) | TWI731989B (en) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109415582B (en) * | 2016-10-10 | 2021-09-24 | 株式会社Lg化学 | Infrared transmissive ink composition for inkjet, method for preparing bezel pattern, bezel pattern and display panel using the same |
| JP6877202B2 (en) * | 2016-12-28 | 2021-05-26 | 太陽インキ製造株式会社 | Negative photocurable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board |
| WO2018123826A1 (en) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | 太陽インキ製造株式会社 | Negative photocurable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board |
| TWI778035B (en) * | 2018-03-27 | 2022-09-21 | 奇美實業股份有限公司 | Negative white photosensitive resin composition and application thereof |
| KR102497175B1 (en) * | 2018-11-29 | 2023-02-07 | 동우 화인켐 주식회사 | Colored photo sensitive resin composition, a color filter comprising the same, and a display devide comprising the color filter |
| JP7313136B2 (en) * | 2018-11-29 | 2023-07-24 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, and patterned cured film |
| KR102497183B1 (en) * | 2018-11-29 | 2023-02-07 | 동우 화인켐 주식회사 | A colored photo sensitive resin composition, a color filter comprising the same, and a display devide comprising the color filter |
| KR102538041B1 (en) * | 2018-12-26 | 2023-05-30 | 주식회사 엘지화학 | Black resin composition |
| JP2020109440A (en) * | 2019-01-04 | 2020-07-16 | 株式会社Joled | Photomask manufacturing method, display panel manufacturing method, and photomask |
| JP7282631B2 (en) * | 2019-08-19 | 2023-05-29 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, and patterned cured film |
| JP2021064467A (en) * | 2019-10-10 | 2021-04-22 | 東京応化工業株式会社 | Manufacturing method of substrate for organic el panel, substrate for organic el panel and negative photosensitive resin composition |
| CN114761875A (en) * | 2019-11-28 | 2022-07-15 | 东京应化工业株式会社 | Photosensitive composition, cured product, and method for producing cured product |
| CN114746808B (en) * | 2019-11-28 | 2026-03-06 | 东京应化工业株式会社 | Photosensitive composition, cured product and method for manufacturing cured product |
| JP7202282B2 (en) * | 2019-12-16 | 2023-01-11 | 株式会社タムラ製作所 | Photosensitive resin composition and dry film containing photosensitive resin composition |
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| JP7376347B2 (en) * | 2019-12-25 | 2023-11-08 | 東京応化工業株式会社 | Resin composition, cured product, and siloxane-modified (meth)acrylic resin |
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| JP6224829B2 (en) * | 2014-05-27 | 2017-11-01 | 富士フイルム株式会社 | Light-shielding composition |
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| JP6621233B2 (en) * | 2014-07-25 | 2019-12-18 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition for forming insulating film in organic EL display element |
| JP6401545B2 (en) * | 2014-08-19 | 2018-10-10 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition, carbon black, and method for producing photosensitive resin composition |
| JP6693128B2 (en) * | 2014-09-26 | 2020-05-13 | 東レ株式会社 | Organic EL display device |
| KR20160061060A (en) * | 2014-11-21 | 2016-05-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
-
2016
- 2016-06-30 JP JP2016131056A patent/JP6886782B2/en active Active
-
2017
- 2017-06-19 TW TW106120387A patent/TWI731989B/en active
- 2017-06-28 CN CN202211088336.9A patent/CN115343912A/en active Pending
- 2017-06-28 CN CN201710509058.2A patent/CN107561860B/en not_active Expired - Fee Related
- 2017-06-30 KR KR1020170083484A patent/KR102422588B1/en active Active
-
2021
- 2021-05-17 JP JP2021083085A patent/JP7175346B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI731989B (en) | 2021-07-01 |
| KR102422588B1 (en) | 2022-07-20 |
| CN115343912A (en) | 2022-11-15 |
| CN107561860A (en) | 2018-01-09 |
| JP2018004920A (en) | 2018-01-11 |
| CN107561860B (en) | 2022-09-27 |
| JP2021120761A (en) | 2021-08-19 |
| JP7175346B2 (en) | 2022-11-18 |
| KR20180003476A (en) | 2018-01-09 |
| TW201831994A (en) | 2018-09-01 |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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