JP6903143B2 - パターン形成用組成物、膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュール - Google Patents

Description

本開示は、パターン形成用組成物、膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュールに関する。

ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このために、赤外線カットフィルタを使用して視感度補正を行うことがある。

また、国際公開第２０１６／１１４３６３号には、吸収層と、反射層とを備え、下記（１）〜（３）の要件を満たすことを特徴とする近赤外線カットフィルタが記載されている。
（１）入射角０°の分光透過率曲線において、波長６２０〜７５０ｎｍの光の平均透過率（Ｒ）が２０％以下であり、波長４９５〜５７０ｎｍの光の平均透過率（Ｇ）が９０％以上であり、かつ前記平均透過率の比（Ｒ）／（Ｇ）が０．２０以下である。
（２）入射角０°の分光透過率曲線における波長６００〜７２５ｎｍの光の透過率の積分値Ｔ_{０（６００−７２５）}と、入射角３０°の分光透過率曲線における波長６００〜７２５ｎｍの光の透過率の積分値Ｔ_{３０（６００−７２５）}の差｜Ｔ_{０（６００−７２５）}−Ｔ_{３０（６００−７２５）}｜が３％・ｎｍ以下である。
（３）波長４５０〜６５０ｎｍの光の最大透過率で規格化した入射角０°の分光透過率曲線において、波長５５０〜７５０ｎｍに透過率が８０％となる波長λＩＲ_{Ｔ（８０）}、５０％となる波長λＩＲ_{Ｔ（５０）}、及び２０％となる波長λＩＲ_{Ｔ（２０）}を有し、かつ前記各波長λＩＲ_{Ｔ（８０）}、λＩＲ_{Ｔ（５０）}及びλＩＲ_{Ｔ（２０）}が、それぞれ次式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を満たしている。
０≦λＩＲ_{Ｔ（８０）}−λ_{Ｔ（８０）}≦３０ｎｍ …（ａ）
０≦λＩＲ_{Ｔ（５０）}−λ_{Ｔ（５０）}≦３５ｎｍ …（ｂ）
０≦λＩＲ_{Ｔ（２０）}−λ_{Ｔ（２０）}≦３７ｎｍ …（ｃ）
（式中、λ_{Ｔ（８０）}、λ_{Ｔ（５０）}及びλ_{Ｔ（２０）}は比視感度曲線において比視感度がそれぞれ０．８、０．５及び０．２を示す長波長側の波長である）

更に、特開２０１３−５０５９３号公報には、ガラス基板上に、有機高分子層と、誘電体多層膜からなる近赤外線反射膜とを有する近赤外線カットフィルタが記載されている。

従来では、赤外線カットフィルタは、平坦膜として用いていた。近年では、赤外線カットフィルタにおいても、パターン形成することが検討されている。例えば、赤外線カットフィルタ上に、カラーフィルタの各画素（例えば、赤色画素、青色画素、緑色画素など）を形成して用いることが検討されている。
しかしながら、本発明者らの検討によれば、赤外線カットフィルタ等に用いられる赤外線吸収性色素は耐熱性が低い（熱分解して赤外線吸収能が低下する）ものが多く、一方、耐熱性の高い硬化膜はパターン形成性（得られるパターンの形状及び現像残渣抑制性）に劣るものが多く、耐熱性とパターン形成性との両立が十分でないことを見出した。

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、現像残渣抑制性に優れ、得られるパターンの形状及び耐熱性に優れるパターン形成用組成物を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記パターン形成用組成物を用いた膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュールを提供することにある。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 赤外線吸収性色素と、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含むパターン形成用組成物。
＜２＞ 上記赤外線吸収性色素が、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、ペリレン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、及び、イミニウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である上記＜１＞に記載のパターン形成用組成物。
＜３＞ 上記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から少なくとも１種の化合物が、酸性基、又は、酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基を有する上記＜１＞又は＜２＞に記載のパターン形成用組成物。
＜４＞ 上記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から少なくとも１種の化合物が、ビニル系重合体、ポリイミド前駆体、及び、ポリベンゾオキサゾール前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種である上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のパターン形成用組成物。
＜５＞ 重合性化合物及び光重合開始剤を更に含む上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のパターン形成用組成物。
＜６＞ 上記樹脂が、式１で表される構成単位を有する樹脂である上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のパターン形成用組成物。

式１中、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^１は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^１は、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基又はスルホンアミド基を表す。

＜７＞ 上記樹脂が、式２で表される構成単位を更に有する樹脂である上記＜６＞に記載のパターン形成用組成物。

式２中、Ｒ^４〜Ｒ^６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^２は、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基又はマレイミド基を表す。

＜８＞ 上記前駆体が、式３又は式４で表される構成単位を有する樹脂である上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のパターン形成用組成物。

式３及び式４中、Ｒ^７は、四価の有機基を表し、Ｒ^８は、二価の有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは脂環基又はフッ素原子を有する有機基であり、Ｒ^９はそれぞれ独立に、水素原子又は有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^９のうち少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは重合性基である。

＜９＞ 上記＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載のパターン形成用組成物を硬化してなる膜。
＜１０＞ 上記＜９＞に記載の膜を有する赤外線カットフィルタ。
＜１１＞ 上記＜９＞に記載の膜を有する赤外線透過フィルタ。
＜１２＞ 上記＜９＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１３＞ 上記＜９＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
＜１４＞ 固体撮像素子と、上記＜１０＞に記載の赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュール。

本発明の一実施形態によれば、現像残渣抑制性に優れ、得られるパターンの形状及び耐熱性に優れるパターン形成用組成物を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記パターン形成用組成物を用いた膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、及び、カメラモジュールを提供することができる。

本開示に係る赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。
本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものとともに置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ａｃはアセチル基を、Ｂｎはベンジル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における透過率は、特に断りのない限り、２５℃における透過率である。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。

＜パターン形成用組成物＞
本開示に係るパターン形成用組成物（以下、「本開示に係る組成物」ともいう。）は、赤外線吸収性色素と、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含む。
本実施形態に係るパターン形成用組成物は、ネガ型のパターン形成用組成物であっても、ポジ型のパターン形成用組成物であってもよいが、解像性の観点から、ネガ型のパターン形成用組成物であることが好ましい。

上述したように、赤外線カットフィルタ等に用いられる赤外線吸収性色素は、耐熱性が十分でなく、熱により熱分解して赤外線吸収能が低下してしまい、赤外線吸収性色素を含む組成物より得られる硬化膜は、耐熱性が十分でないものが多かった。一方、耐熱性の高い材料を用いた場合は、パターン形成性（得られるパターンの形状及び現像残渣抑制性）に劣るものが多かった。
このように、従来の赤外線吸収性色素を含む組成物は、耐熱性とパターン形成性との両立が十分でないこと、また、現像残渣抑制性が十分でないことを本発明者らは見出した。
本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、現像残渣抑制性に優れ、得られるパターンの形状及び耐熱性に優れるパターン形成用組成物が提供できることを見出した。
これによる優れた効果の作用機構は明確ではないが、以下のように推定している。
ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることにより、得られる硬化膜自体が耐熱性に優れるとともに、赤外線吸収性色素の熱分解も抑制し、かつ、現像残渣抑制性、及び、得られるパターン形状性を十分確保できるため、現像残渣抑制性に優れ、得られるパターンの形状及び耐熱性に優れるパターン形成用組成物が得られると推定している。
以下、本開示に係る組成物の各成分について説明する。

（ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物）
本開示に係る組成物は、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂（以下、「特定樹脂」ともいう。）、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体（以下、「特定前駆体」ともいう。また、「得られる樹脂のガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂前駆体」と言い換えることもできる。）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）を含む。
特定樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１５０℃〜３００℃であり、パターン形成性及び得られるパターンの耐熱性の観点から、１５０℃〜２５０℃であることが好ましく、１５０℃〜２３０℃であることがより好ましく、１６０℃〜２２０℃であることが特に好ましい。
また、特定前駆体から得られる樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１５０℃〜３００℃であり、パターン形成性及び得られるパターンの耐熱性の観点から、１８０℃〜２９０℃であることが好ましく、２１０℃〜２８０℃であることがより好ましく、２４０℃〜２７０℃であることが特に好ましい。

本開示における樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、実測によって得られる測定Ｔｇを適用するものとする。具体的には、測定Ｔｇは、エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の示差走査熱量計（ＤＳＣ）ＥＸＳＴＡＲ６２２０を用いて通常の測定条件で測定された値を用いることができる。
ただし、ポリマーの分解等により測定が困難な場合は、下記計算式で算出される計算Ｔｇを適用する。計算Ｔｇは、下記の式（Ｔ）で計算する。
１／Ｔｇ＝Σ（Ｘｉ／Ｔｇｉ） ・・・（Ｔ）
ここで、計算対象となるポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ種のモノマー成分が共重合しているとする。Ｘｉはｉ番目のモノマーの重量分率（ΣＸｉ＝１）、Ｔｇｉはｉ番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。なお、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Ｔｇｉ）はPolymer Handbook(3rd Edition)(J.Brandrup, E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用する。

特定化合物は、パターン形成性の観点から、酸性基、又は、酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基を有することが好ましい。
また、本開示に係るパターン形成用組成物が、ネガ型組成物である場合は、酸性基を有することが好ましく、ポジ型組成物である場合は、酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基を有することが好ましい。
酸性基としては、パターン形成性の観点から、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、スルホ基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、又は、リン酸基が好ましく挙げられ、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、スルホ基、又は、スルホンアミド基がより好ましく挙げられ、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、又は、スルホンアミド基が更に好ましく挙げられ、カルボキシ基が特に好ましく挙げられる。
酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基における酸基としては、パターン形成性の観点から、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、又は、リン酸基が好ましく挙げられ、カルボキシ基、又は、フェノール性ヒドロキシ基がより好ましく挙げられ、カルボキシ基が特に好ましく挙げられる。
また、酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基におけるヒドロキシ基は、フェノール性ヒドロキシ基が好ましく挙げられる。
酸分解性基としては、感度及びパターン形成性の観点から、第三級アルキル基、及び、アセタール型酸分解性基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基が好ましく挙げられ、アセタール型酸分解性基がより好ましく挙げられる。
上記第三級アルキル基としては、ｔ−ブチル基が好ましく挙げられる。
上記アセタール型酸分解性基としては、１−アルコキシアルキル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は、２−テトラヒドロピラニル基が好ましく挙げられる。

特定化合物は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、ビニル系重合体、ポリイミド前駆体、及び、ポリベンゾオキサゾール前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、パターン形成性の観点からは、ビニル系重合体であることがより好ましく、また、耐熱性の観点からは、ポリイミド前駆体、及び、ポリベンゾオキサゾール前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。
また、特定樹脂は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、ビニル系重合体であることが好ましい。
更に、特定前駆体は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、ポリイミド前駆体、及び、ポリベンゾオキサゾール前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
また、特定化合物は、耐熱性の観点から、エチレン性不飽和結合を有するものであることが好ましい。
特定化合物は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、窒素原子を有することが好ましい。
また、特定化合物は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、環構造を有することが好ましく、窒素原子を含む環構造を有することがより好ましく、イミド環構造、ピロリドン構造、又は、カルバゾール構造を有することが特に好ましい。

上記ビニル系樹脂としては、耐熱性及びパターン形成性の観点から、（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、マレイミド化合物、スチレン化合物、及び、Ｎ−ビニル化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物の単独重合体又は共重合体であることが好ましく、（メタ）アクリレート化合物、（メタ）アクリルアミド化合物、マレイミド化合物、スチレン化合物、及び、Ｎ−ビニル化合物よりなる群から選ばれた２種以上の化合物の共重合体であることがより好ましく、（メタ）アクリレート化合物、マレイミド化合物、及び、Ｎ−ビニル化合物よりなる群から選ばれた２種以上の化合物の共重合体であることが特に好ましい。

特定樹脂は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、式１で表される構成単位を有する樹脂であることが好ましい。

式１中、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^１は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^１は、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基又はスルホンアミド基を表す。

Ｒ^１は、水素原子であることが好ましい。
Ｒ^２は、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｒ^３は、水素原子であることが好ましい。
Ｌ^１は、単結合、アルキレン基又はアリーレン基であることが好ましく、単結合又はフェニレン基であることがより好ましく、単結合であることが特に好ましい。
Ｘ^１は、カルボキシ基又はフェノール性ヒドロキシ基であることが好ましく、カルボキシ基であることがより好ましい。

また、特定樹脂は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、式２で表される構成単位を有する樹脂であることが好ましく、上記式１で表される構成単位、及び、式２で表される構成単位を有する樹脂であることがより好ましい。

式２中、Ｒ^４〜Ｒ^６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^２は、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基（−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ_２）又はマレイミド基を表す。

Ｒ^４は、水素原子であることが好ましい。
Ｒ^５は、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｒ^６は、水素原子であることが好ましい。
Ｌ^２は、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合及びエーテル結合よりなる群から選ばれた２種以上の構造を結合した基であることが好ましく、単結合、又は、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合及びエーテル結合よりなる群から選ばれた２種以上の構造を結合した基であることがより好ましく、アルキレン基、エステル結合及びエーテル結合よりなる群から選ばれた２種以上の構造を結合した基であることが特に好ましい。
また、上記アルキレン基及びアリーレン基は、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
Ｘ^２は、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基又は（メタ）アクリルアミド基であることが好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基又はビニル基であることがより好ましい。

特定前駆体は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、式３又は式４で表される構成単位を有する樹脂であることが好ましく、式３で表される構成単位を有する樹脂であることがより好ましい。
式３で表される構成単位を有する樹脂は、熱等により環化してポリイミドを形成する。
また、式４で表される構成単位を有する樹脂は、熱等により環化してポリベンゾオキサゾールを形成する。

式３及び式４中、Ｒ^７は、四価の有機基を表し、Ｒ^８は、二価の有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^７及びＲ^８のうち少なくとも１つは脂環基又はフッ素原子を有する有機基であり、Ｒ^９はそれぞれ独立に、水素原子又は有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^９のうち少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは重合性基である。

Ｒ^７における四価の有機基は、フッ素原子を有する四価の有機基であることが好ましい。
また、Ｒ^７における四価の有機基の炭素数は、６以上４０以下であることが好ましく、６以上３０以下であることがより好ましく、１２以上２０以下であることが特に好ましい。
Ｒ^７における四価の有機基としては、脂肪族炭化水素基であっても、芳香族炭化水素基であってもよく、また、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基及びエーテル結合を２以上組み合わせた基であってもよい。中でも、脂環構造、ビスフェノール構造（ビスフェノール化合物から２つのフェノール性ヒドロキシ基を除いた構造）又はビフェニル構造を有する四価の基であることが好ましく、ビスフェノール構造又はビフェニル構造を有する四価の基であることがより好ましく、ビスフェノール構造を有する四価の基であることが更に好ましく、ビスフェノールＡＦ構造を有する四価の基であることが特に好ましい。
Ｒ^７としては、下記の基が好ましく挙げられる。なお、波線部分は、カルボニル基又は酸素原子との結合位置を表す。

Ｒ^８における二価の有機基は、フッ素原子を有する二価の有機基であることが好ましい。
また、Ｒ^８における二価の有機基の炭素数は、６以上４０以下であることが好ましく、１２以上３０以下であることがより好ましい。
Ｒ^８における二価の有機基としては、脂肪族炭化水素基であっても、芳香族炭化水素基であってもよく、また、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基及びエーテル結合を２以上組み合わせた基であってもよい。中でも、脂環構造、ビスフェノール構造（ビスフェノール化合物から２つのフェノール性ヒドロキシ基を除いた構造）又はビフェニル構造を有する二価の基であることが好ましく、ビスフェノール構造又はビフェニル構造を有する二価の基であることがより好ましく、ビスフェノール構造を有する二価の基であることが更に好ましい。
Ｒ^８としては、下記の基が好ましく挙げられる。なお、波線部分は、窒素原子との結合位置を表す。

Ｒ^９はそれぞれ独立に、水素原子又はエチレン性不飽和基を有する基であることが好ましく、水素原子又は（メタ）アクリロイルオキシ基を有する基であることがより好ましく、水素原子又は（メタ）アクリロイルオキシエチル基であることが特に好ましい。

また、特定樹脂は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、式５又は式６で表される構成単位を有する樹脂であることが好ましく、式５で表される構成単位を有する樹脂であることがより好ましく、式５で表される構成単位及び式６で表される構成単位を有する樹脂であることが特に好ましい。

式５及び式６中、Ｒ^１１〜Ｒ^１６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^３及びＬ^４はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^３は、酸基又はヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基を表し、Ｘ^４は、エポキシ基、オキセタニル基、メチロール基又はアルコキシメチロール基を表す。

Ｒ^１１、Ｒ^１３、Ｒ^１４及びＲ^１６は、水素原子であることが好ましい。
Ｒ^１２及びＲ^１５はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
Ｌ^３及びＬ^４はそれぞれ独立に、単結合、アルキレン基、アリーレン基、又は、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合及びエーテル結合よりなる群から選ばれた２種以上の構造を結合した基であることが好ましく、単結合、又は、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合及びエーテル結合よりなる群から選ばれた２種以上の構造を結合した基であることがより好ましい。
Ｘ^３における酸基又はヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基における酸基としては、パターン形成性の観点から、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、スルホ基、ホスホン酸基、又は、リン酸基が好ましく挙げられ、カルボキシ基、又は、フェノール性ヒドロキシ基がより好ましく挙げられ、カルボキシ基が特に好ましく挙げられる。
Ｘ^３の酸基又はヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基における酸分解性基は、第三級アルキル基、及び、アセタール型酸分解性基よりなる群から選ばれた少なくとも１種の基であることが好ましく、アセタール型酸分解性基であることがより好ましい。
上記第三級アルキル基としては、ｔ−ブチル基が好ましく挙げられる。
上記アセタール型酸分解性基としては、１−アルコキシアルキル基、２−テトラヒドロフラニル基、又は、２−テトラヒドロピラニル基が好ましく挙げられる。
Ｘ^４は、エポキシ基、又は、オキセタニル基であることが好ましく、エポキシ基であることがより好ましい。

特定前駆体は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、式７又は式８で表される構成単位を有する樹脂であることが好ましく、式７で表される構成単位を有する樹脂であることがより好ましい。

式７及び式８中、Ｒ^１７は、四価の有機基を表し、Ｒ^１８は、二価の有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^１７及びＲ^１８のうち少なくとも１つは脂環基又はフッ素原子を有する二価の有機基であり、Ｒ^１９はそれぞれ独立に、水素原子又は有機基を表し、上記前駆体中におけるＲ^１９のうち少なくとも１つは酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。

Ｒ^１７及びＲ^１８の好ましい態様は、上記Ｒ^７及びＲ^８の好ましい態様とそれぞれ同様である。
Ｒ^１９は、水素原子又は酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基であることが好ましく、水素原子又は酸分解性基であることがより好ましい。
上記酸分解性基としては、上述した酸分解性基と同義であり、好ましい態様も同様である。

特定化合物の酸価は、現像残渣及びパターン形成性の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
特定化合物がエチレン性不飽和結合を有する場合、特定化合物におけるＣ＝Ｃ価（ヨウ素価）は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ〜３．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．２ｍｍｏｌ／ｇ〜２．０ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．３ｍｍｏｌ／ｇ〜１．０ｍｍｏｌ／ｇであることが特に好ましい。
本開示における化合物の酸価及びヨウ素価の測定方法は、ＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２）に基づき測定するものとする。なお、本開示におけるヨウ素価（Ｃ＝Ｃ価）は、化合物１ｇあたりのＪＩＳ Ｋ００７０（１９９２）に基づくヨウ素価の測定により求められたエチレン性不飽和結合のモル量とする。

特定化合物の分子量は、耐熱性及びパターン形成性の観点から、重量平均分子量（Ｍｗ）として、３，０００〜１００，０００であることが好ましく、４，０００〜５０，０００であることがより好ましく、５，０００〜３０，０００であることが特に好ましい。

特定化合物の含有量は、パターン形成用組成物の全固形分に対し、耐熱性及びパターニング性の観点から、１０質量％〜９０質量％であることが好ましく、２０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、３０質量％〜７０質量％であることが特に好ましい。
本開示に係る組成物は、特定化合物を、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

（赤外線吸収性色素）
本開示に係る組成物は、赤外線吸収性色素を含む。
赤外線吸収性色素としては、赤外線を吸収する物質であってもよく、赤外線を反射させる物質であってもよい。赤外線を吸収する物質としては、波長７００ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲のいずれかに吸収を有する化合物であることが好ましく、波長７００ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることがより好ましい。

赤外線吸収性色素としては、耐熱性の観点から、ジイミニウム化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、アミニウム化合物、イミニウム化合物、アゾ化合物、アントラキノン化合物、ポルフィリン化合物、ピロロピロール化合物、オキソノール化合物、クロコニウム化合物、ヘキサフィリン化合物、金属ジチオール化合物、銅化合物、タングステン化合物及び金属ホウ化物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、ペリレン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、及び、イミニウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物又はピロロピロール化合物が更に好ましく、スクアリリウム化合物又はピロロピロール化合物が特に好ましい。

ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。

式中、Ｒ^1ap及びＲ^1bpはそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^2p及びＲ^3pはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒ^2p及びＲ^3pは、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^4pはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＢＲ^4ApＲ^4Bp、又は、金属原子を表し、Ｒ^4pは、Ｒ^1ap、Ｒ^1bp及びＲ^3pよりなる群から選ばれる少なくとも１つと共有結合又は配位結合していてもよく、Ｒ^4Ap及びＲ^4Bpはそれぞれ独立に、置換基を表す。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９−２６３６１４号公報の段落００１７〜００４７、特開２０１１−６８７３１号公報の段落００１１〜００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落００１０〜００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

Ｒ^1ap及びＲ^1bpはそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ^1ap及びＲ^1bpが表すアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＯＣＯＲ^11p、−ＳＯＲ^12p、−ＳＯ₂Ｒ^13pなどが挙げられる。Ｒ^11p〜Ｒ^13pはそれぞれ独立に、炭化水素基又はヘテロアリール基を表す。また、置換基としては、特開２００９−２６３６１４号公報の段落００２０〜００２２に記載された置換基が挙げられる。中でも、置換基としては、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＣＯＲ^11p、−ＳＯＲ^12p、−ＳＯ₂Ｒ^13pが好ましい。Ｒ^1ap、Ｒ^1bpで表される基としては、分岐アルキル基を有するアルコキシ基を置換基として有するアリール基、ヒドロキシ基を置換基として有するアリール基、又は、−ＯＣＯＲ^11pで表される基を置換基として有するアリール基であることが好ましい。分岐アルキル基の炭素数は、３〜３０が好ましく、３〜２０がより好ましい。

Ｒ^2p及びＲ^3pの少なくとも一方は電子求引性基が好ましく、Ｒ^2pは電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ^3pはヘテロアリール基を表すことがより好ましい。ヘテロアリール基は、５員環又は６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２〜８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２〜４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１〜３が好ましく、１〜２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ^2p同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ^3p同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｒ^4pは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又は−ＢＲ^4ApＲ^4Bpで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基又は−ＢＲ^4ApＲ^4Bpで表される基であることがより好ましく、−ＢＲ^4ApＲ^4Bpで表される基であることが更に好ましい。Ｒ^4Ap及びＲ^4Bpが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、又は、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ^4p同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９−２６３６１４号公報の段落００１６〜００５８、特開２０１１−６８７３１号公報の段落００３７〜００５２、特開２０１４−１３０３４３号公報の段落００１４〜００２７、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落００１０〜００３３に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。

式（ＳＱ）中、Ａ¹及びＡ²はそれぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基又は式（Ａ−１）で表される基を表す；

式（Ａ−１）中、Ｚ¹は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ²は、アルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表し、ｄは、０又は１を表し、波線は結合手を表す。式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落００２０〜００４９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

スクアリリウム化合物としては、特許第３０９４０３７号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１７８、特開２０１１−２０８１０１号公報の段落００４４〜００４９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

シアニン化合物としては、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ）

式中、Ｚ¹及びＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基を表し、
Ｌ¹は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
ａ及びｂは、それぞれ独立に、０又は１であり、
ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

シアニン化合物としては、特開２００２−１９４０４０号公報の段落００２６〜００３０、特開２００７−２７１７４５号公報の段落００４１〜００４２、特開２００７−３３４３２５号公報の段落００１６〜００１８、特開２００８−８８４２６号公報、特開２００９−１０８２６７号公報の段落００４４〜００４５、特開２００９−１８５１６１号公報、特開２００９−１９１２１３号公報、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１６０、特開２０１３−１５５３５３号公報の段落００４７〜００４９、特開２０１５−１７２００４号公報、特開２０１５−１７２１０２号公報に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物の市販品としては、例えば、Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ（ダイトーケミックス社製）、ＮＫ−３２１２、ＮＫ−５０６０等のＮＫシリーズ（（株）林原製）等を挙げることができる。

銅化合物としては、銅錯体が好ましい。銅錯体としては、銅と、銅に対する配位部位を有する化合物（配位子）との錯体が好ましい。銅に対する配位部位としては、アニオンで配位する配位部位、非共有電子対で配位する配位原子が挙げられる。銅錯体は、配位子を２つ以上有していてもよい。配位子を２つ以上有する場合は、それぞれの配位子は同一であってもよく、異なっていてもよい。銅錯体は、４配位、５配位及び６配位が例示され、４配位及び５配位がより好ましく、５配位が更に好ましい。また、銅錯体は、銅と配位子によって、５員環及び／又は６員環が形成されていることが好ましい。このような銅錯体は、形状が安定であり、錯体安定性に優れる。

銅化合物としては、例えば、式（Ｃｕ−１）で表される銅錯体を用いることができる。この銅錯体は、中心金属の銅に配位子Ｌが配位した銅化合物であり、銅は、通常２価の銅である。例えば銅成分に対して、配位子Ｌとなる化合物又はその塩を混合及び／又は反応等させて得ることができる。
Ｃｕ（Ｌ）_n1・（Ｘ）_n2 式（Ｃｕ−１）
上記式中、Ｌは、銅に配位する配位子を表し、Ｘは、対イオンを表す。ｎ１は、１〜４の整数を表す。ｎ２は、０〜４の整数を表す。

Ｘは、対イオンを表す。銅化合物は、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅化合物の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。

Ｌは、銅に配位する配位子を表す。銅に配位する配位子としては、銅に対する配位部位を有する化合物が挙げられる。例えば、銅に対しアニオンで配位する配位部位、及び、銅に対し非共有電子対で配位する配位原子から選ばれる１種以上を有する化合物が挙げられる。アニオンで配位する配位部位は、解離していてもよく、非解離でも良い。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）が好ましい。また、配位子Ｌは、可視透明性を向上させるために、芳香族などのπ共役系が連続して複数結合していないことが好ましい。配位子Ｌは、銅に対する配位部位を１個有する化合物（単座配位子）と、銅に対する配位部位を２個以上有する化合物（多座配位子）とを併用することもできる。単座配位子としては、銅に対しアニオンで配位する配位部位又は銅に対し非共有電子対で配位する配位原子を１個有する化合物が挙げられる。

配位子Ｌにおけるアニオンとしては、酸素アニオン、窒素アニオン又は硫黄アニオンが好ましい。配位子Ｌにおける非共有電子対で配位する配位原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はリン原子が好ましく、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子がより好ましく、酸素原子、窒素原子が更に好ましく、窒素原子が特に好ましい。非共有電子対で配位する配位原子が窒素原子である場合、窒素原子に隣接する原子が炭素原子、又は、窒素原子であることが好ましく、炭素原子がより好ましい。また、非共有電子対で配位する配位原子は、環に含まれていてもよい。非共有電子対で配位する配位原子が環に含まれる場合、非共有電子対で配位する配位原子を含む環は、単環であっても多環であってもよく、また、芳香族であっても非芳香族であってもよい。非共有電子対で配位する配位原子を含む環は、５〜１２員環が好ましく、５〜７員環がより好ましい。また、配位子Ｌとしては、リン酸エステル化合物やスルホン酸化合物などを用いることもできる。配位子については、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００２２〜００４２、特開２０１５−４３０６３号公報の段落００２１〜００３９、特開２０１６−００６４７６号公報の段落００１３〜００７０などの記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、銅化合物の具体例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報、特開２０１４−０３２３８０号公報、特開２０１４−０２６０７０号公報、特開２０１４−０２６１７８号公報、特開２０１４−１３９６１６号公報、特開２０１４−１３９６１７号公報、特開２０１４−４１３１８号公報、特開２０１５−４３０６３号公報、特開２０１６−００６４７６号公報に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

ジイミニウム化合物としては、例えば、特開平１−１１３４８２号公報、特開平１０−１８０９２２号公報、国際公開第２００３／５０７６号、国際公開第２００４／４８４８０号、国際公開第２００５／４４７８２号、国際公開第２００６／１２０８８８号、特開２００７−２４６４６４号公報、国際公開第２００７／１４８５９５号、特開２０１１−０３８００７号公報、国際公開第２０１１／１１８１７１号の段落０１１８等に記載の化合物等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ジイミニウム化合物の市販品としては、例えば、ＥＰＯＬＩＧＨＴ１１７８等のＥＰＯＬＩＧＨＴシリーズ（Ｅｐｏｌｉｎ社製）、ＣＩＲ−１０８５等のＣＩＲ−１０８Ｘシリーズ及びＣＩＲ−９６Ｘシリーズ（日本カーリット社製）、ＩＲＧ０２２、ＩＲＧ０２３、ＰＤＣ−２２０（日本化薬（株）製）等を挙げることができる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開昭６０−２２４５８９号公報、特表２００５−５３７３１９号公報、特開平４−２３８６８号公報、特開平４−３９３６１号公報、特開平５−７８３６４号公報、特開平５−２２２０４７号公報、特開平５−２２２３０１号公報、特開平５−２２２３０２号公報、特開平５−３４５８６１号公報、特開平６−２５５４８号公報、特開平６−１０７６６３号公報、特開平６−１９２５８４号公報、特開平６−２２８５３３号公報、特開平７−１１８５５１号公報、特開平７−１１８５５２号公報、特開平８−１２０１８６号公報、特開平８−２２５７５１号公報、特開平９−２０２８６０号公報、特開平１０−１２０９２７号公報、特開平１０−１８２９９５号公報、特開平１１−３５８３８号公報、特開２０００−２６７４８号公報、特開２０００−６３６９１号公報、特開２００１−１０６６８９号公報、特開２００４−１８５６１号公報、特開２００５−２２００６０号公報、特開２００７−１６９３４３号公報、特開２０１３−１９５４８０号公報の段落００２６〜００２７等に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物の市販品としては、例えば、ＦＢ−２２、２４等のＦＢシリーズ（山田化学工業（株）製）、Ｅｘｃｏｌｏｒシリーズ、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ７２０、同７０８Ｋ（（株）日本触媒製）、Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７８８（ＢＡＳＦ製）、ＡＢＳ６４３、ＡＢＳ６５４、ＡＢＳ６６７、ＡＢＳ６７０Ｔ、ＩＲＡ６９３Ｎ、ＩＲＡ７３５（Ｅｘｃｉｔｏｎ製）、ＳＤＡ３５９８、ＳＤＡ６０７５、ＳＤＡ８０３０、ＳＤＡ８３０３、ＳＤＡ８４７０、ＳＤＡ３０３９、ＳＤＡ３０４０、ＳＤＡ３９２２、ＳＤＡ７２５７（Ｈ．Ｗ．ＳＡＮＤＳ製）、ＴＡＰ−１５、ＩＲ−７０６（山田化学工業（株）製）等が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開平１１−１５２４１３号公報、特開平１１−１５２４１４号公報、特開平１１−１５２４１５号公報、特開２００９−２１５５４２号公報の段落００４６〜００４９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。クアテリレン化合物としては、例えば、特開２００８−００９２０６号公報の段落００２１に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。クアテリレン化合物の市販品としては、例えば、Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。アミニウム化合物としては、例えば、特開平８−０２７３７１号公報の段落００１８、特開２００７−０３９３４３号公報等に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。アミニウム化合物の市販品としては、例えばＩＲＧ００２、ＩＲＧ００３（日本化薬（株）製）等が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、国際公開第２０１１／１１８１７１号の段落０１１６に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。アゾ化合物としては、例えば、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１１４〜０１１７に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。アントラキノン化合物としては、例えば、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１２８、０１２９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。ポルフィリン化合物としては、例えば、特許第３８３４４７９号公報の式（１）で表される化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。オキソノール化合物としては、例えば、特開２００７−２７１７４５号公報の段落００４６に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。クロコニウム化合物としては、例えば、特開２００７−２７１７４５号公報の段落００４９、特開２００７−３１６４４号公報、特開２００７−１６９３１５号公報等に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ヘキサフィリン化合物としては、例えば、国際公開第２００２／０１６１４４号の式（１）で表される化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ジチオール化合物としては、例えば、特開平１−１１４８０１号公報、特開昭６４−７４２７２号公報、特開昭６２−３９６８２号公報、特開昭６１−８０１０６号公報、特開昭６１−４２５８５号公報、特開昭６１−３２００３号公報等に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。タングステン化合物としては酸化タングステン化合物が好ましく、セシウム酸化タングステン、ルビジウム酸化タングステンがより好ましく、セシウム酸化タングステンが更に好ましい。セシウム酸化タングステンの組成式としてはＣｓ_0.33ＷＯ₃等が挙げられ、またルビジウム酸化タングステンの組成式としてはＲｂ_0.33ＷＯ₃等を挙げることができる。酸化タングステン化合物は、例えば、住友金属鉱山（株）製のＹＭＦ−０２Ａ等のタングステン粒子の分散物としても、入手可能である。金属ホウ化物としては、例えば、特開２０１２−０６８４１８号公報の段落００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。中でも、ホウ化ランタンが好ましい。

また、上記赤外線吸収性色素は、赤外線吸収性色素に置換基を導入した誘導体（以下、「顔料誘導体」ともいう。）であってよい。
顔料誘導体としては、色素の一部が、酸性基、塩基性基、塩構造を有する基で置換した構造を有するものが好ましく、下記式（３Ｄ）で表される顔料誘導体が更に好ましい。下記式（３Ｄ）で表される顔料誘導体は、色素構造Ｐ^３Ｄが、顔料誘導体以外の赤外線吸収性色素の表面に吸着し易いので、組成物中における赤外線吸収性色素の分散性を向上できる。また、組成物が樹脂を含む場合においては、顔料誘導体の末端部Ｘ^３Ｄが、樹脂の吸着部（極性基など）との相互作用で樹脂に吸着するので、赤外線吸収性色素の分散性を更に向上できる。

式（３Ｄ）中、Ｐ^３Ｄは色素構造を表し、Ｌ^３Ｄはそれぞれ独立に、単結合又は連結基を表し、Ｘ^３Ｄはそれぞれ独立に、酸性基、塩基性基又は塩構造を有する基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表す。

Ｐ^３Ｄにおける色素構造は、赤外線遮蔽性及び耐熱性の観点から、ピロロピロール色素構造、スクアリリウム色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、シアニン色素構造、フタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾリノン色素構造、クロコニウム色素構造、オキソノール色素構造、及び、イミニウム色素構造よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、スクアリリウム色素構造、シアニン色素構造、フタロシアニン色素構造、ピロロピロール色素構造、ペリレン色素構造、クロコニウム色素構造、オキソノール色素構造、及び、イミニウム色素構造よりなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましく、スクアリリウム色素構造、及び、ピロロピロール色素構造よりなる群から選ばれる少なくとも１種が特に好ましい。

Ｌ^３Ｄにおける連結基としては、１個〜１００個の炭素原子、０個〜１０個の窒素原子、０個〜５０個の酸素原子、１個〜２００個の水素原子、及び、０個〜２０個の硫黄原子からなる基が好ましく、無置換でも置換基を更に有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子が好ましい。
連結基は、アルキレン基、アリーレン基、含窒素複素環基、−ＮＲ’−、−ＳＯ_２−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ’−、又は、これらを２以上の組み合わせた基が好ましく、アルキレン基、アリーレン基、−ＳＯ_２−、−ＣＯＯ−、又は、これらを２以上の組み合わせた基がより好ましい。Ｒ’は、水素原子、アルキル基（好ましくは、炭素数１〜３０）又はアリール基（好ましくは、炭素数６〜３０）を表す。
アルキレン基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。
アリーレン基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０が更に好ましく、フェニレン基が特に好ましい。
含窒素複素環基は、５員環又は６員環が好ましい。また、含窒素複素環基は、単環又は縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２〜８の縮合環が好ましく、単環又は縮合数が２〜４の縮合環がより好ましい。含窒素複素環基に含まれる窒素原子の数は、１〜３が好ましく、１又は２がより好ましい。含窒素複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子を含んでいてもよい。窒素原子以外のヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子が例示される。窒素原子以外のヘテロ原子の数は０〜３が好ましく、０又は１がより好ましい。
含窒素複素環基としては、ピペラジン環基、ピロリジン環基、ピロール環基、ピペリジン環基、ピリジン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピラジン環基、モルホリン環基、チアジン環基、インドール環基、イソインドール環基、ベンゾイミダゾール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キノキサリン環基、シンノリン環基、カルバゾール環基及び下記式（Ｌ−１）〜式（Ｌ−７）のいずれかで表される基が挙げられる。

式中の＊は、Ｐ^３Ｄ、Ｌ^３Ｄ又はＸ^３Ｄとの結合部位を表し、Ｒは水素原子又は置換基を表す。置換基としては、置換基Ｔが挙げられる。置換基Ｔしては、例えば、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のチオアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、シアノ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）などが挙げられる。これら置換基は、更に置換基を有していてもよい。

連結基の具体例としては、アルキレン基、アリーレン基、−ＳＯ_２−、上記式（Ｌ−１）で表される基、上記式（Ｌ−５）で表される基、−Ｏ−とアルキレン基との組み合わせからなる基、−ＮＲ’−とアルキレン基との組み合わせからなる基、−ＮＲ’−と−ＣＯ−とアルキレン基との組み合わせからなる基、−ＮＲ’−と−ＣＯ−とアルキレン基とアリーレン基の組み合わせからなる基、−ＮＲ’−と−ＣＯ−とアリーレン基との組み合わせからなる基、−ＮＲ’−と−ＳＯ_２−とアルキレン基との組み合わせからなる基、−ＮＲ’−と−ＳＯ_２−とアルキレン基とアリーレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−１）で表される基とアルキレン基との組み合わせからなる基、上記（Ｌ−１）で表される基とアリーレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−１）で表される基と−ＳＯ_２−とアルキレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−１）で表される基と−Ｓ−とアルキレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−１）で表される基と−Ｏ−とアリーレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−１）で表される基と−ＮＲ’−と−ＣＯ−とアリーレン基との組み合わせからなる基、上記式（Ｌ−３）で表される基とアリーレン基との組み合わせからなる基、アリーレン基と−ＣＯＯ−との組み合わせからなる基、アリーレン基と−ＣＯＯ−とアルキレン基との組み合わせからなる基などが挙げられる。

式（３Ｄ）中、Ｘ^３Ｄは、酸性基、塩基性基又は塩構造を有する基を表す。
酸性基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基等が挙げられる。
塩基性基としては、後述する式（Ｘ−３）〜式（Ｘ−８）で表される基が挙げられる。
塩構造を有する基としては、上述した酸性基の塩、塩基性基の塩が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団としては、金属原子、テトラブチルアンモニウムなどが挙げられる。金属原子としては、アルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子がより好ましい。アルカリ金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられる。アルカリ土類金属原子としては、カルシウム、マグネシウム等が挙げられる。
また、置換基としては、置換基Ｔであってもよい。置換基Ｔは、更に他の置換基で置換されていてもよい。他の置換基としては、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基等が挙げられる。

Ｘ^３Ｄは、カルボキシ基、スルホ基、及び、下記式（Ｘ−１）〜式（Ｘ−８）のいずれかで表される基よりなる群から選ばれる少なくとも一種の基が好ましい。

式（Ｘ−１）〜式（Ｘ−８）中、＊は、式（３Ｄ）のＬ^３Ｄとの結合部位を表し、Ｒ^１００〜Ｒ^１０６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、Ｒ^１００とＲ^１０１は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｍはアニオンと塩を構成する原子又は原子団を表す。
アルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。直鎖状のアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８が更に好ましい。分岐状のアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、３〜１２がより好ましく、３〜８が更に好ましい。環状のアルキル基は、単環、多環のいずれであってもよい。環状のアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、４〜１０がより好ましく、６〜１０が更に好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましく、２〜４が更に好ましい。
アリール基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４がより好ましく、６〜１０が更に好ましい。
Ｒ^１００とＲ^１０１とは互いに連結して環を形成していてもよい。環は、脂環であってもよく、芳香族環であってもよい。環は単環であってもよく、複環であってもよい。Ｒ^１００とＲ^１０１が結合して環を形成する場合の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、２価の脂肪族基、２価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基で連結することができる。具体例としては、例えば、ピペラジン環、ピロリジン環、ピロール環、ピペリジン環、ピリジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピラジン環、モルホリン環、チアジン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、シンノリン環、カルバゾール環などが挙げられる。
Ｍはアニオンと塩を構成する原子又は原子団を表す。これらは、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
ｍの上限は、色素構造Ｐ^３Ｄが取りうる置換基の数を表し、例えば、１０以下が好ましく、５以下がより好ましい。ｍが２以上の場合は、複数のＬ^３Ｄ及びＸ^３Ｄは互いに異なっていてもよい。
ｎは１〜３の整数が好ましく、１又は２がより好ましい。ｎが２以上の場合は、複数のＸは互いに異なってもよい。

上記顔料誘導体は、下記式（４Ｄ）で表される顔料誘導体であることが好ましい。下記式（４Ｄ）で表される顔料誘導体は、式（３Ｄ）におけるＰ^３Ｄが、ピロロピロール色素構造である化合物である。

式（４Ｄ）中、Ｒ^４３〜Ｒ^４６はそれぞれ独立に、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^４７及びＲ^４８はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、−ＢＲ^４９Ｒ^５０又は金属原子を表し、Ｒ^４７は、Ｒ^４３又はＲ^４５と、共有結合又は配位結合していてもよく、Ｒ^４８は、Ｒ^４４又はＲ^４６と、共有結合又は配位結合していてもよく、Ｒ^４９及びＲ^５０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、又は、ヘテロアリールオキシ基を表し、Ｒ^４９及びＲ^５０が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｌ^４１及びＬ^４２は、各々独立に、単結合、又は、アルキレン基、アリーレン基、含窒素複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−又はこれらの２以上組み合わせた連結基を表し、Ｒ’は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｘ^４１及びＸ４^２はそれぞれ独立に、酸性基、塩基性基又は塩構造を有する基を表し、ｎ４１及びｎ４２はそれぞれ独立に、０〜４の整数を表し、ｎ４１及びｎ４２の少なくとも一方が１以上である。

式（４Ｄ）のＲ^４３〜Ｒ^４６はそれぞれ独立に、赤外線吸収性の観点から、シアノ基又はヘテロアリール基であることが好ましい。
赤外線吸収性の観点から、Ｒ^４３〜Ｒ^４６のうちの２つは、シアノ基であることが好ましく、Ｒ^５及びＲ^６はシアノ基であることがより好ましい。
また、赤外線吸収性の観点から、Ｒ^４３〜Ｒ^４６のうちの２つは、ヘテロアリール基であることが好ましく、Ｒ^４３及びＲ^４４はヘテロアリール基であることがより好ましい。
Ｒ^４３〜Ｒ^４６におけるヘテロアリール基としては、赤外線吸収性の観点から、窒素原子を少なくとも有することが好ましい。
また、Ｒ^４３〜Ｒ^４６におけるヘテロアリール基としては、赤外線吸収性の観点から、ヘテロアリール環にベンゼン環又はナフタレン環が縮合したヘテロアリール基であることが好ましく、ヘテロアリール環にベンゼン環が縮合したヘテロアリール基であることがより好ましい。
更に、Ｒ^４３〜Ｒ^４６におけるヘテロアリール基におけるヘテロアリール環は、５員環又は６員環であることが好ましく、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、又は、ピラジン環であることがより好ましく、オキサゾール環、チアゾール環、又は、ピラジン環であることが更に好ましい。
式（４Ｄ）のＲ^４７及びＲ^４８はそれぞれ独立に、赤外線吸収性及び分散性の観点から、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又は−ＢＲ^４９Ｒ^４０であることが好ましく、−ＢＲ^４９Ｒ^５０であることがより好ましい。
Ｒ^４９及びＲ^５０はそれぞれ独立に、赤外線吸収性及び分散性の観点から、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアリールオキシ基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましい。
また、Ｒ^４９及びＲ^５０は、同じ基であることが好ましい。
式（４Ｄ）のＸ^４１及びＸ^４２は、式（３Ｄ）のＸ^３Ｄと同義であり、好ましい態様も同様である。

式（４）において、Ｌ^４１及びＬ^４２は、式（３Ｄ）のＬ^３Ｄと同義であり、好ましい態様も同様である。更に合成適性、可視透明性の点から、以下の連結基が特に好ましい。

また、Ｌ^４１は、顔料誘導体の母核構造であるピロロピロール構造に直結するベンゼン環と、Ｘ^４１とをつなぐ鎖を構成する原子の数が１個〜２０個であることが好ましい。下限は、２個以上がより好ましく、３個以上が更に好ましい。上限は、１５個以下がより好ましく、１０個以下が更に好ましい。Ｌ^４２は、顔料誘導体の母核構造であるピロロピロール構造に直結するベンゼン環と、Ｘ^４２とをつなぐ鎖を構成する原子の数が１個〜２０個であることが好ましい。下限は、２個以上がより好ましく、３個以上が更に好ましい。上限は、１５個以下がより好ましく、１０個以下が更に好ましい。この態様によれば、顔料の分散性をより向上させることができる。詳細な理由は不明だが、顔料誘導体の母核構造であるピロロピロール構造と、Ｘ^４１及びＸ^４２との距離を長くすることで、Ｘ^４１及びＸ^４２が立体障害を受けにくくなって樹脂などとの相互作用が働きやすくなり、その結果、顔料の分散性を向上させることができたと推測する。

式（４Ｄ）で表される化合物は、組成物に含まれる溶剤（２５℃）に対する溶解度が０ｇ／Ｌ〜０．１ｇ／Ｌであることが好ましく、０ｇ／Ｌ〜０．０１ｇ／Ｌであることがより好ましい。上記範囲であると、顔料の分散性をより向上させることができる。

式（３Ｄ）で表される顔料誘導体の具体例としては、以下の（３−１）〜（３−２５）が挙げられる。なお、以下の式において、ｍ、ｍ１、ｍ２及びｍ３はそれぞれ独立に、１以上の整数を表す。

式（４Ｄ）で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。以下の構造式において、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、下記表におけるＡｒ−１〜Ａｒ−３１、Ｒ−１〜Ｒ−７は以下である。以下に示す構造における「＊」は連結手である。

赤外線吸収性色素は、７００ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、７５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲に有することがより好ましく、７５０ｎｍ〜１，０００ｎｍの範囲に有することが更に好ましい。
また、赤外線吸収性色素は、分散性の観点から、粒子状であることが好ましい。
赤外線吸収性色素の体積平均粒子径は、分散性の観点から、５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。

赤外線吸収性色素の含有量は、組成物の全固形分に対して、赤外線遮蔽性の観点から、１質量％〜９０質量％であることが好ましく、５質量％〜７０質量％であることがより好ましく、１０質量％〜５０質量％であることが特に好ましい。
赤外線吸収性色素は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。赤外線吸収性色素を２種以上併用する場合は、その合計が上記範囲であることが好ましい。

（溶剤）
本開示に係る組成物は、溶剤を含んでいてもよい。
溶剤は、特に制限はなく、組成物の各成分を均一に溶解或いは分散しうるものであれば、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、水、有機溶剤を用いることができ、有機溶剤が好ましい。
有機溶剤としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール）、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキサイド、スルホラン等が好適に挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
中でも、環状アルキル基を有するエステル類、及び、ケトン類よりなる群から選ばれた少なくとも１種の有機溶剤が好ましく挙げられる。
アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類の具体例としては、特開２０１２−１９４５３４号公報の段落０１３６等に記載のものが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
エステル類、ケトン類、エーテル類の具体例としては、特開２０１２−２０８４９４号公報段落０４９７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落０６０９）に記載のものが挙げられ、更に、酢酸−ｎ−アミル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、硫酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。

溶剤としては、エタノール、メタノール、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−ヘプタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される１種以上が好ましい。

溶剤の含有量は、組成物の全固形分が、１０質量％〜９０質量％となる量が好ましい。下限は、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましい。
溶剤は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（重合性化合物）
本開示に係る組成物は、形成する膜物性の観点から、重合性化合物を更に含むことが好ましく、重合性化合物と重合開始剤とを更に含むことがより好ましい。
重合性化合物は、モノマー、オリゴマー、プレポリマー、ポリマーなどの化学的形態のいずれであってもよい。重合性化合物としては、例えば、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００７０〜０１９１（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落００７１〜０１９２）、特開２０１４−３２３８０号公報の段落００４５〜０２１６等の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、メタクリロイル基を有するウレタン樹脂の市販品としては、８ＵＨ−１００６、及び、８ＵＨ−１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）が挙げられる。

重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよく、例えば、エチレン性不飽和結合、環状エーテル（エポキシ、オキセタン）等の重合性基を含む化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合としては、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アリル基が好ましい。重合性化合物は、重合性基を１個有する単官能化合物であってもよいし、重合性基を２個以上有する多官能重合性化合物であってもよいが、多官能重合性化合物であることが好ましく、多官能（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。組成物が、多官能重合性化合物を含有することにより、膜強度を向上させることができる。
重合性化合物としては、単官能（メタ）アクリレート化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物（好ましくは３〜６官能の（メタ）アクリレート化合物）、多塩基酸変性アクリルオリゴマー、エポキシ樹脂、多官能のエポキシ樹脂などが挙げられる。

重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物を用いることができる。エチレン性不飽和化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬（株）製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール残基、プロピレングリコール残基を介している構造の化合物であることが好ましい。また、これらのオリゴマータイプも使用できる。
また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては、Ｍ−４６０；東亞合成（株）製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ−ＴＭＭＴ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。

エチレン性不飽和化合物は、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。
酸基とエチレン性不飽和化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシ基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。
酸基とエチレン性不飽和化合物の酸価は、０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

本開示においては、重合性化合物として、エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物を用いることができる。エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物としては、側鎖にエポキシ基を有するポリマー、分子内に２個以上のエポキシ基を有するモノマー又はオリゴマーなどが挙げられる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。また単官能又は多官能グリシジルエーテル化合物も挙げられ、多官能脂肪族グリシジルエーテル化合物が好ましい。
重量平均分子量は、５００〜５，０００，０００が好ましく、１，０００〜５００，０００がより好ましい。
これらの化合物は、市販品を用いてもよいし、ポリマーの側鎖へエポキシ基を導入することによっても得られるものを用いてもよい。例えば、サイクロマーＰ ＡＣＡ ２００Ｍ、同ＡＣＡ ２３０ＡＡ、同ＡＣＡ Ｚ２５０、同ＡＣＡ Ｚ２５１、同ＡＣＡ Ｚ３００、同ＡＣＡ Ｚ３２０（以上、ダイセル化学工業（株）製）が挙げられる。

重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、１質量％〜９０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が更に好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下がより好ましく、７５質量％以下が更に好ましい。
重合性化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（重合開始剤）
本開示に係る組成物は、重合性化合物とともに、重合開始剤を含有することが好ましい。本開示に係る組成物は、重合性化合物及び重合開始剤を含有することにより、ネガ型のパターン形成用組成物として好適に用いることができる。
重合開始剤としては、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよいが、光重合開始剤であることが好ましい。
また、重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であっても、カチオン重合開始剤であってもよい。

光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許第１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物、独国特許第３３３７０２４号明細書に記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報に記載の化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載の化合物などが挙げられる。

光ラジカル重合開始剤は、露光感度の観点から、オキシム化合物、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物及び３−アリール置換クマリン化合物よりなる群から選択される化合物が好ましく、オキシム化合物がより好ましい。
オキシム化合物の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６−２１０１２号公報に記載などが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６−１６２）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２−２３２）、特開２０００−６６３８５号公報、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。
市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカオプトマーＮ−１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製）も用いることができる。

また、上記以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のＮ位にオキシムが連結した特表２００９−５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号明細書に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０−１５０２５号公報及び米国特許出願公開第２００９−２９２０３９号明細書に記載の化合物、国際公開第２００９／１３１１８９号に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許第７５５６９１０号明細書に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９−２２１１１４号公報に記載の化合物などを用いてもよい。
好ましくは、例えば、特開２０１３−２９７６０号公報の段落０２７４〜０２７５を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ−１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシム化合物は、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であってもよく、オキシムのＮ−Ｏ結合が（Ｚ）体のオキシム化合物であってもよく、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

式（ＯＸ−１）中、Ｒ^Ｏ１及びＲ^Ｏ２はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、Ｒ^Ｏ３は二価の有機基を表し、Ａｒ^Ｏ１はアリール基を表す。
式（ＯＸ−１）中、Ｒ^Ｏ１で表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、上述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
式（ＯＸ−１）中、Ｒ^Ｏ２で表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基が例示できる。
式（ＯＸ−１）中、Ｒ^Ｏ３で表される二価の有機基としては、炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基が例示できる。

光重合開始剤として、下記式（Ｘ−１）又は式（Ｘ−２）で表される化合物を用いることもできる。

式（Ｘ−１）において、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜３０のアリール基、又は、炭素数７〜３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２がフェニル基の場合、フェニル基同士が結合してフルオレン基を形成してもよく、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素数４〜２０の複素環基を表し、Ｘ^Ａは、単結合又はカルボニル基を示す。

式（Ｘ−２）において、Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４は、式（Ｘ−１）におけるＲ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２、Ｒ^Ｘ３及びＲ^Ｘ４と同義であり、Ｒ^Ｘ５は、−Ｒ^Ｘ６、−ＯＲ^Ｘ６、−ＳＲ^Ｘ６、−ＣＯＲ^Ｘ６、−ＣＯＮＲ^Ｘ６Ｒ^Ｘ６、−ＮＲ^Ｘ６ＣＯＲ^Ｘ６、−ＯＣＯＲ^Ｘ６、−ＣＯＯＲ^Ｘ６、−ＳＣＯＲ^Ｘ６、−ＯＣＳＲ^Ｘ６、−ＣＯＳＲ^Ｘ６、−ＣＳＯＲ^Ｘ６、−ＣＮ、ハロゲン原子又はヒドロキシ基を表し、Ｒ^Ｘ６は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素数４〜２０の複素環基を表し、Ｘ^Ａは、単結合又はカルボニル基を表し、ｘａは０〜４の整数を表す。

上記式（Ｘ−１）及び式（Ｘ−２）において、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル、シクロヘキシル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^Ｘ３はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基又はキシリル基が好ましい。Ｒ^Ｘ４は炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基が好ましい。Ｒ^Ｘ５はメチル基、エチル基、フェニル基、トリル基又はナフチル基が好ましい。Ｘ^Ａは単結合が好ましい。
式（Ｘ−１）及び式（Ｘ−２）で表される化合物の具体例としては、例えば、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落００７６〜００７９に記載された化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。

光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３−１１４２４９号公報の段落００３１〜００４７、特開２０１４−１３７４６６号公報の段落０００８〜００１２及び００７０〜００７９、及び、特許第４２２３０７１号公報の段落０００７〜００２５に記載されている化合物、並びにアデカアークルズＮＣＩ−８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

オキシム化合物は、３５０ｎｍ〜５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するものが好ましく、３６０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものがより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高いものが特に好ましい。
オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００〜３００，０００であることが好ましく、２，０００〜３００，０００であることがより好ましく、５，０００〜２００，０００であることが更に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ−５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

本開示において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。

なお、上記（Ｃ−１２）における−ＯＣ_９Ｆ_１７の例としては、以下の基が挙げられる。

光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。

光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。光カチオン重合開始剤の詳細については特開２００９−２５８６０３号公報の段落０１３９〜０２１４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

光カチオン重合開始剤は市販品を用いることもできる。光カチオン重合開始剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカアークルズ ＳＰシリーズ（例えば、アデカアークルズＳＰ−６０６など）、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２７０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９０などが挙げられる。

重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。
重合開始剤は、１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（光酸発生剤）
本開示に係る組成物は、光酸発生剤を含有することが好ましい。特に、本開示に係る組成物がポジ型のパターン形成用組成物である場合、光酸発生剤を含有することが特に好ましい。
光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましい。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
光酸発生剤としては、ｐＫａが４以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、ｐＫａが３以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、ｐＫａが２以下の酸を発生する光酸発生剤が特に好ましい。なお、本開示において、ｐＫａは、基本的に２５℃の水中におけるｐＫａを指す。水中で測定できないものは、測定に適する溶剤に変更し測定したものを指す。具体的には、化学便覧等に記載のｐＫａが参考にできる。ｐＫａが４以下の酸としては、スルホン酸又はホスホン酸であることが好ましく、スルホン酸であることがより好ましい。

光酸発生剤としては、オニウム塩化合物、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、オニウム塩化合物、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物が好ましく、オニウム塩化合物、オキシムスルホネート化合物がより好ましく、オキシムスルホネート化合物が特に好ましい。光酸発生剤の詳細については、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落００８２〜０１７２、特開２０１６−１８９００６号公報の段落００８４〜０１２２、国際公開第２０１６／１３６４８１号の段落０４４０〜０５０９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。スルホニウム塩としては、下記構造の化合物を用いることもできる。

オキシムスルホネート化合物としては、下記式（ＯＳ−１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物が好ましいものとして例示できる。
式（ＯＳ−１）

式（ＯＳ−１）中、Ｒ²¹は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分はオキシムスルホネート化合物を構成する他の基又は原子との結合手を表す。

式（ＯＳ−１）のＲ²¹が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。Ｒ²¹がアルキル基の場合、Ｒ²¹としては、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。Ｒ²¹のアルキル基は、ハロゲン原子、炭素数６〜１１のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は、環状のアルキル基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されてもよい。Ｒ²¹がアリール基を表す場合、Ｒ²¹としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。Ｒ²¹のアリール基は、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。式（ＯＳ−１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物の詳細については、国際公開第２０１５／０３３８７９号の段落００７１〜００８７、特開２０１４−２３８４３８号公報の段落０１０８〜０１３３を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、式（ＯＳ−１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物の具体例としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。

光酸発生剤の含有量は、パターン形成用組成物の全固形分に対して、０．１質量％〜２０質量％が好ましい。下限は、例えば、０．２質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が特に好ましい。上限は、例えば、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が特に好ましい。

（有彩色着色剤、黒色着色剤、可視光を遮光する着色剤）
本開示に係る組成物は、有彩色着色剤及び黒色着色剤よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することができる（以下、有彩色着色剤と黒色着色剤とを併せて、可視着色剤ともいう）。本開示において、有彩色着色剤とは、白色着色剤及び黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。

−有彩色着色剤−
本開示において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。
顔料は、平均粒径（ｒ）が、２０ｎｍ≦ｒ≦３００ｎｍを満たすことが好ましく、２５ｎｍ≦ｒ≦２５０ｎｍを満たすことがより好ましく、３０ｎｍ≦ｒ≦２００ｎｍを満たすことが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。
また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布（以下、単に「粒径分布」ともいう。）は、（平均粒径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが好ましい。なお、二次粒子の粒径分布は、散乱強度分布を用いて測定することができる。
なお、一次粒子の平均粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを１００個計測し、平均値を算出することによって求めることができる。

顔料は、有機顔料であることが好ましい。また、顔料としては、以下のものを挙げることができる。ただし、本開示は、これらに限定されるものではない。
カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）。
これらの顔料は、単独又は種々組合せて用いることができる。

染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５−０２８１４４号公報、特開２０１５−３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。

また、染料としては、酸性染料及びその誘導体のうちの少なくとも１つが好適に使用できる場合がある。その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、及びこれらの誘導体等のうちの少なくとも１つも有用に使用することができる。

以下に酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、以下の染料及び、これらの染料の誘導体が挙げられる。
ａｃｉｄ ａｌｉｚａｒｉｎ ｖｉｏｌｅｔ Ｎ、
ａｃｉｄ ｂｌｕｅ １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０〜４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２，２４３，３２４：１、
ａｃｉｄ ｃｈｒｏｍｅ ｖｉｏｌｅｔ Ｋ、
ａｃｉｄ Ｆｕｃｈｓｉｎ；ａｃｉｄ ｇｒｅｅｎ １，３，５，９，１６，２５，２７，５０、
ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５、
ａｃｉｄ ｒｅｄ １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４、
ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ６Ｂ，７，９，１７，１９、
ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３、
Ｆｏｏｄ Ｙｅｌｌｏｗ ３

また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ ４４、３８；Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ ｏｒａｎｇｅ ４５；Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂ、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ １１０等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
なかでも、染料としては、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アゾメチン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、アンスラピリドン系ピロメテン系から選ばれる着色剤であることが好ましい。
更に、顔料と染料を組み合わせて使用してもよい。

−黒色着色剤−
黒色着色剤としては、有機の黒色着色剤が好ましい。なお、本開示において、可視光を遮光する着色剤としての黒色着色剤は、可視光を吸収するが、赤外線の少なくとも一部は透過する材料を意味する。したがって、本開示において、可視光を遮光する着色剤としての黒色着色剤は、カーボンブラック及びチタンブラックを含まない。可視光を遮光する着色剤としての黒色着色剤は、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などを用いることもできる。

ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０−５３４７２６号公報、特表２０１２−５１５２３３号公報、特表２０１２−５１５２３４号公報等に記載のものが挙げられる。例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。
ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ３１、３２等が挙げられる。

アゾメチン系化合物としては、特開平１−１７０６０１号公報、特開平２−３４６６４号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化工業（株）製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。アゾ化合物としては、特に限定されないが、下記式（Ａ−１）で表される化合物等を好適に挙げることができる。

−可視光を遮光する着色剤−
本開示に係る組成物を用いて、含有する赤外線吸収性色素が吸収しない領域の赤外線を透過する赤外線透過フィルタを製造する場合は、可視光を遮光する着色剤を含むことが好ましい。
可視光を遮光する着色剤は、複数の着色剤の組み合わせにより、黒色、灰色、又はそれらに近い色を呈することが好ましい。
また、可視光を遮光する着色剤は、紫色から赤色の波長域の光を吸収する材料であることが好ましい。
また、可視光を遮光する着色剤は、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの波長域の光を遮光する着色剤であることが好ましい。
本開示において、可視光を遮光する着色剤は、以下の（１）及び（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましく、（１）の要件を満たしていることが更に好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含む態様。
（２）：黒色着色剤を含む態様。
また、本開示において、可視光を遮光する着色剤としての黒色着色剤は、可視光線を吸収するが、赤外線の少なくとも一部は透過する材料を意味する。したがって、本発開示において、可視光を遮光する着色剤としての有機系黒色着色剤は、可視光線及び赤外線の両方を吸収する黒色着色剤、例えば、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。

上記可視光を遮光する着色剤は、例えば、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長９００ｎｍ〜１，３００ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上であることが好ましい。
上記の特性は、１種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。

可視光を遮光する着色剤として２種以上の有彩色着色剤を含む場合、有彩色着色剤は、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤及びオレンジ色着色剤から選ばれる着色剤であることが好ましい。

有彩色着色剤を２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで可視光を遮光する着色剤を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば、以下が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様
（３）黄色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様
（４）黄色着色剤及び紫色着色剤を含有する態様
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様
（６）紫色着色剤及びオレンジ色着色剤を含有する態様
（７）緑色着色剤、紫色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様
（８）緑色着色剤及び赤色着色剤を含有する態様

上記（１）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９又は１８５と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ
１５：６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。
上記（２）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９又は１８５と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ
１５：６と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。
上記（３）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９又は１８５と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。
上記（４）の態様の具体例としては、黄色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９又は１８５と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３とを含有する態様が挙げられる。
上記（５）の態様の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７又は３６と、青色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。
上記（６）の態様の具体例としては、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３と、オレンジ色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ７１とを含有する態様が挙げられる。
上記（７）の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ
７又は３６と、紫色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。
上記（８）の具体例としては、緑色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ
７又は３６と、赤色顔料としてのＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４又は２２４とを含有する態様が挙げられる。

各着色剤の比率（質量比）としては、例えば、以下が挙げられる。

本開示に係る組成物が、可視着色剤を含有する場合、可視着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対し、０．０１質量％〜５０質量％とすることが好ましい。下限は、０．１質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。
また、可視着色剤の含有量は、赤外線吸収性色素の含有量１００質量部に対し、１０質量部〜１，０００質量部が好ましく、５０質量部〜８００質量部がより好ましい。

（シランカップリング剤）
本開示に係る組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本開示において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂などとの間で相互作用もしくは結合を形成して親和性を示す基が好ましい。例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤として、特開２００９−２８８７０３号公報の段落００１８〜００３６に記載の化合物、特開２００９−２４２６０４号公報の段落００５６〜００６６に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落０２２９〜０２３６に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜１５．０質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上を使用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（界面活性剤）
本開示に係る組成物は、塗布性をより向上させる観点から、界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落０２３８〜０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

本開示に係る組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。

フッ素系界面活性剤中のフッ素原子含有率は、３質量％〜４０質量％が好ましく、５質量％〜３０質量％がより好ましく、７質量％〜２５質量％が特に好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４−４１３１８号公報の段落００６０〜００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落００６０〜００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１−１３２５０３号公報の段落０１１７〜０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６８、ＳＣ−３８１、ＳＣ−３８３、Ｓ−３９３、ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ−２１が挙げられる。

フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
上記ブロックポリマーの重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜５０，０００である。

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０−１６４９６５号公報の段落００５０〜００９０及び段落０２８９〜０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ−１０１、ＲＳ−１０２、ＲＳ−７１８Ｋ、ＲＳ−７２−Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５−１１７３２７号公報の段落００１５〜０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ−１０１、ＮＣＷ−１００１、ＮＣＷ−１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ−６１１２、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。

界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．００１質量％〜５．０質量％が好ましく、０．００５〜３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（紫外線吸収剤）
本開示に係る組成物は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物及びジケトン化合物が挙げられ、共役ジエン化合物が好ましい。共役ジエン化合物は、下記式（ＵＶ−１）で表される化合物がより好ましい。

式（ＵＶ−１）において、Ｒ^Ｕ１及びＲ^Ｕ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、Ｒ^Ｕ１とＲ^Ｕ２とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
Ｒ^Ｕ１及びＲ^Ｕ２は、Ｒ^Ｕ１及びＲ^Ｕ２が結合する窒素原子とともに、環状アミノ基を形成していてもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
Ｒ^Ｕ１及びＲ^Ｕ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜５のアルキル基が更に好ましい。
Ｒ^Ｕ３及びＲ^Ｕ４は、電子求引性基を表す。Ｒ^Ｕ３及びＲ^Ｕ４は、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基又はスルファモイル基が好ましく、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基又はスルファモイル基がより好ましい。また、Ｒ^Ｕ３及びＲ^Ｕ４は、互いに結合して環状の電子求引性基を形成してもよい。Ｒ^Ｕ３及びＲ^Ｕ４が互いに結合して形成する環状の電子求引性基としては例えば、２個のカルボニル基を含む６員環を挙げることができる。
上記のＲ^Ｕ１、Ｒ^Ｕ２、Ｒ^Ｕ３及びＲ^Ｕ４の少なくとも１つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。他のモノマーとの共重合体であってもよい。

式（ＵＶ−１）で表される紫外線吸収剤の置換基の説明は、特開２０１３−６８８１４号公報の段落０３２０〜０３２７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。式（ＵＶ−１）で表される紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。

紫外線吸収剤として用いるジケトン化合物は、下記式（ＵＶ−２）で表される化合物が好ましい。

式（ＵＶ−２）において、Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²はそれぞれ独立に、置換基を表し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に、０〜４の整数を表す。置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基などが挙げられ、アルキル基又はアルコキシ基が好ましい。
アルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖又は分岐が好ましく、分岐がより好ましい。
アルコキシ基の炭素数は、１〜２０が好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状が挙げられ、直鎖又は分岐が好ましく、分岐がより好ましい。
Ｒ¹⁰¹及びＲ¹⁰²の一方がアルキル基で、他方がアルコキシ基である組み合わせが好ましい。
ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に、０〜２の整数が好ましく、０又は１がより好ましく、１が特に好ましい。

式（ＵＶ−２）で表される化合物としては、下記化合物が挙げられる。

紫外線吸収剤は、ユビナールＡ（ＢＡＳＦ社製）を用いることもできる。また、紫外線吸収剤は、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、トリアジン化合物等の紫外線吸収剤を用いることができ、具体例としては特開２０１３−６８８１４号公報に記載の化合物が挙げられる。ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂（株）製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％〜５質量％であることがより好ましい。

（重合禁止剤）
本開示に係る組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能することもある。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜５質量％であることが好ましい。

（その他の成分）
本開示に係る組成物は、必要に応じて、増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする赤外線カットフィルタなどの光学フィルタの安定性、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２−３２２５号公報の段落０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落０２３７）の記載、特開２００８−２５００７４号公報の段落０１０１〜０１０４及び０１０７〜０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
酸化防止剤としては、例えばフェノール化合物、リン系化合物（例えば特開２０１１−９０１４７号公報の段落００４２に記載の化合物）、チオエーテル化合物などを用いることができる。市販品としては、例えば（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブシリーズ（ＡＯ−２０、ＡＯ−３０、ＡＯ−４０、ＡＯ−５０、ＡＯ−５０Ｆ、ＡＯ−６０、ＡＯ−６０Ｇ、ＡＯ−８０、ＡＯ−３３０など）が挙げられる。酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．３質量％〜１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上を使用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

（組成物の調製）
本開示に係る組成物は、上述した各成分を混合することによって調製することができる。また、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン−６、ナイロン−６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）又はナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．０１μｍ〜７．０μｍが好ましく、０．０１μｍ〜３．０μｍがより好ましく、０．０５μｍ〜０．５μｍが更に好ましい。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール（株）（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹなど）、アドバンテック東洋（株）、日本インテグリス（株）又は（株）キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。

（組成物の用途）
本開示に係る組成物は、液状とすることができるため、例えば、本開示に係る組成物を基材などに付与し、乾燥させることにより膜を容易に製造できる。
本開示に係る組成物の粘度は、塗布により膜を形成する場合は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
本開示に係る組成物の全固形分は、塗布方法により変更されるが、例えば、１質量％〜５０質量％であることが好ましい。下限は１０質量％以上がより好ましい。上限は３０質量％以下がより好ましい。

本開示に係る組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタなどに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、本開示に係る組成物に対し、更に、可視光を遮光する着色剤を含有させることで、特定の波長以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。例えば、波長４００ｎｍ〜９００ｎｍまでを遮光し、波長９００ｎｍ以上の赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。

また、本開示に係る組成物は、収納容器に保管されることが好ましい。
収納容器として、原材料や組成物中への不純物の混入防止を目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては、例えば、特開２０１５−１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。

＜膜＞
本開示に係る膜は、本開示に係る組成物からなる膜、又は、本開示に係る組成物を硬化してなる膜であり、本開示に係る組成物を硬化してなる膜であることが好ましい。
上記硬化は、ネガ型組成物の重合による硬化であっても、ポジ型組成物の架橋による硬化であっても、特定前駆体の環化による硬化であってもよく、また、溶剤を含む場合は
乾燥による硬化であってもよい。
本開示に係る膜は、赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることもできる。本開示に係る膜は、支持体上に積層して用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。本開示に係る膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。

本開示に係る膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。

本開示に係る膜は、波長６００ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長７００ｎｍ〜１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長７４０ｎｍ〜９６０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが更に好ましい。

本開示に係る膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本開示に係る膜は以下の（１）〜（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）〜（４）の全ての条件を満たすことが更に好ましい。
（１）波長４００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましく、９０％以上が特に好ましい。
（２）波長５００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長６００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長６５０ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましく、９５％以上が特に好ましい。

本開示に係る膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本開示に係る組成物の欄で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、硬化性化合物、重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、上述した材料が挙げられ、これらを用いることができる。

本開示に係る膜とカラーフィルタとを組み合わせて用いる場合、本開示に係る膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本開示に係る膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本開示に係る膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本開示に係る膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本開示に係る膜が形成されていてもよく、本開示に係る膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。

なお、本開示において、赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本開示において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本開示において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。

本開示に係る膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。

＜膜の製造方法＞
次に、本開示に係る膜の製造方法について説明する。本開示に係る膜は、本開示に係る組成物を塗布する工程を経て製造できる。

本開示に係る膜の製造方法において、組成物は支持体上に塗布することが好ましい。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜など形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した樹脂が挙げられる。また、支持体としては、上述した樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。この態様によれば、より異物の発生が抑制された膜を製造し易い。なお、ソーダガラスなどの支持体側から、支持体上に形成した膜中へ支持体に含まれる成分（例えば、ソーダガラスの場合はナトリウムイオンなど）が移行しやすい支持体を用いた場合、顔料誘導体と支持体から移行してきた成分とが反応して塩などを形成し、結晶が析出することがあったが、本開示に係る組成物によれば、このような支持体上に塗布した場合であっても、異物の発生が抑制された膜を製造できる。このため、本開示に係る組成物は、このような支持体上に膜を形成する場合において特に効果的である。

組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９−１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット−特許に見る無限の可能性−、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ〜１３３ページ）や、特開２００３−２６２７１６号公報、特開２００３−１８５８３１号公報、特開２００３−２６１８２７号公報、特開２０１２−１２６８３０号公報、特開２００６−１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。

組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることが好ましく、８０℃以上とすることがより好ましい。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
プリベーク時間は、１０秒〜３，０００秒が好ましく、４０秒〜２，５００秒がより好ましく、８０秒〜２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。

本開示に係る膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本開示に係る膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。

−フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合−
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本開示に係る組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。

＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３Ｊ／ｃｍ²〜２．５Ｊ／ｃｍ²が好ましく、０．０５Ｊ／ｃｍ²〜１．０Ｊ／ｃｍ²がより好ましく、０．０８Ｊ／ｃｍ²〜０．５Ｊ／ｃｍ²が特に好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、好ましくは１，０００Ｗ／ｍ²〜１００，０００Ｗ／ｍ²（例えば、５，０００Ｗ／ｍ²、１５，０００Ｗ／ｍ²、３５，０００Ｗ／ｍ²）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１０，０００Ｗ／ｍ²、酸素濃度３５体積％で照度２０，０００Ｗ／ｍ²などとすることができる。

＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０℃〜３０℃が好ましい。現像時間は、２０秒〜１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１質量％〜１０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５バイ〜１００倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。

現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば１００℃〜２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００℃〜２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよい。

−ドライエッチング法でパターン形成する場合−
ドライエッチング法でのパターン形成は、組成物を支持体上などに塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３−６４９９３号公報の段落００１０〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

＜赤外線カットフィルタ及びその製造方法＞
本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る膜を有する。
なお、本開示に係る赤外線カットフィルタは、赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタであっても、赤外線領域の全体をカットするフィルタであってもよい。赤外線領域の一部の波長の赤外線のみをカットするフィルタとしては、例えば、近赤外線カットフィルタが挙げられる。
また、本開示に係る赤外線カットフィルタは、７５０ｎｍ〜１，０００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることが好ましく、７５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲の赤外線をカットするフィルタであることがより好ましく、７５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの赤外線をカットするフィルタであることが更に好ましい。
本開示に係る赤外線カットフィルタは、上記膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。また、本開示に係る赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落００４０〜００７０及び０１１９〜０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４−４１３１８号公報の段落０２５５〜０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ−５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ−６０、ＢＧ−６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。

本開示に係る赤外線カットフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。

本開示に係る赤外線カットフィルタは、本開示に係る組成物を用いて得られる膜の画素（パターン）と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒及び無色よりなる群から選ばれる少なくとも１種の画素（パターン）とを有する態様も好ましい態様である。

本開示に係る赤外線カットフィルタの製造方法としては、特に制限はないが、本開示に係る組成物を支持体上に付与して組成物層を形成する工程、上記組成物層をパターン状に露光する工程、及び、上記露光における未露光部を現像除去してパターンを形成する工程を含む方法、又は、本開示に係る組成物を支持体上に付与して組成物層を形成する工程、上記層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、並びに、上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記硬化層をドライエッチングする工程を含む方法であることが好ましい。
本開示に係る赤外線カットフィルタの製造方法における各工程としては、本開示に係る膜の製造方法における各工程を参照することができる。

＜固体撮像素子＞
本開示に係る固体撮像素子は、本開示に係る膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本開示に係る膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。

支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本開示に係る膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本開示に係る膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本開示に係る膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２−２２７４７８号公報、特開２０１４−１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。

＜画像表示装置＞
本開示に係る画像表示装置は、本開示に係る膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本開示に適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３−４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線−高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集−」、技術情報協会、３２６−３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ−４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ−５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ−６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ−７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。

＜赤外線センサ＞
本開示に係る赤外線センサは、本開示に係る膜を有する。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本開示に係る赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。

図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２及び赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。

赤外線カットフィルタ１１１は、本開示に係る組成物を用いて形成することができる。赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。

カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４−４３５５６号公報の段落０２１４〜０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる

赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲における最大値が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることが更に好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。

赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長８００ｎｍ以上（好ましくは８００ｎｍ〜１，３００ｎｍ）の範囲における最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。上記の透過率は、波長８００ｎｍ以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外ＬＥＤの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことがより好ましい。

赤外線透過フィルタ１１４の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
赤外線透過フィルタ１１４の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定する。
膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ製Ｕ−４１００）を用いて、波長３００ｎｍ〜１，３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。

また、例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における、波長８３５ｎｍの光の透過率が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１，０００ｎｍ〜１，３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上であることが好ましい。

図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層、又は、誘電体多層膜を少なくとも有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
また、また、本開示に用いられる赤外線透過フィルタ及び赤外線カットフィルタの吸収波長は、使用光源等に合わせて適宜組み合わせて用いられる。

（カメラモジュール）
本開示に係るカメラモジュールは、固体撮像素子と、本開示に係る赤外線カットフィルタとを有する。
また、本開示に係るカメラモジュールは、レンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。
本開示に係るカメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。
また、本開示に係るカメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。
カメラモジュールの例としては、特開２０１６−６４７６号公報、又は、特開２０１４−１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。

（実施例１〜実施例１３、並びに、比較例１及び比較例２）
＜樹脂の合成＞
＜＜樹脂Ｂ−１〜Ｂ−１１の合成＞＞
表１に記載の各共重合成分を、表１に記載のモル比で混合し、共重合成分の全質量に対し、１４質量％の熱重合開始剤（和光純薬工業（株）製Ｖ−６０１）、３００質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用し、８０℃で２時間滴下重合し、９０℃で２時間後加熱することで、各樹脂Ｂ−１〜Ｂ−４、Ｂ−６〜Ｂ−１１をそれぞれ得た。
Ｂ−５については、ａ−５成分５５モル％とｂ−１成分４５モル％を上記方法で重合した後、グリシジルメタクリレート１０モル％、テトラブチルアンモニウムブロミド０．５モル％、ｐ−メトキシフェノール１，０００ｐｐｍを加え、９０℃で１２時間反応させて得た。表１に得られた樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）、酸価、及び、重量平均分子量（Ｍｗ）をそれぞれ示す。

以下に、表１に記載の共重合成分の詳細を示す。なお、下記に示す共重合成分は、構成単位で記載しており、合成には、対応するモノマー又はその前駆体を使用した。

＜＜樹脂前駆体Ｂ−２１〜Ｂ−２３の合成＞＞
特開２０１３−５０５９３号公報に記載の方法に従って、樹脂前駆体Ｂ−２１〜Ｂ−２３を合成した。Ｂ−２１は酸価１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１６，２００、イミド化後のガラス転移温度２６０℃、Ｂ−２２は酸価１２６ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１８，６００、イミド化後のガラス転移温度２６０℃、Ｂ−２３は酸価１０７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量２２，１００、イミド化後のガラス転移温度３３５℃である。

＜下塗り層付ガラスウェハの作製＞
下記の原料を混合して下塗り層用組成物を調製した。
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）：１９．２０質量部
・乳酸エチル：３６．６７質量部
・樹脂（メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体（モル比＝６０：２０：２０）４１％酢酸エチル溶液）：３０．５１質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート：１２．２０質量部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．００６質量部
・界面活性剤（下記混合物（Ｍｗ＝１４，０００）。下記の式中、構成単位の割合を示す％（６２％及び３８％）の単位は、質量％である。）：０．８３質量部
・光重合開始剤（ＴＡＺ−１０７、みどり化学（株）製）：０．５９質量部

＜下塗り層付きガラスウェハの作製＞
８インチ（＝２０３．２ｍｍ）ガラスウェハ上に、上記下塗り層用組成物をスピンコートして塗布膜を形成した。次いで、形成された塗布膜を１２０℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理した。なお、スピンコートの塗布回転数は、加熱処理後の塗布膜の膜厚が約０．５μｍとなるように調整した。加熱処理後の塗布膜を、更に２２０℃のオーブンで１時間処理し、塗布膜を硬化させて、下塗り層を形成した。以上のようにして、ガラスウェハ上に下塗り層が形成された、下塗り層付きガラスウェハを得た。

＜パターン形成用組成物の調製＞
下記の成分を混合して、パターン形成用組成物を作製した。
・表２に記載の赤外線吸収性色素：５質量部
・表２に記載の樹脂：１３．０質量部
・表２に記載の重合性化合物：４．５質量部
・表２に記載の光重合開始剤：０．８質量部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．００１質量部
・界面活性剤（上記混合物）：０．０３質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製）：１．３質量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：７６質量部

＜赤外線遮蔽性の評価＞
得られた組成物を、下塗り層付きガラスウェハ上に乾燥後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、その後ホットプレートで、１００℃で２分間、２００℃で５分間加熱して硬化膜を形成した。上記で作製した硬化膜について、分光器Ｕ４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、極大吸収波長における入射角度０°での吸光度を測定した。判定基準は以下の通りである。
Ａ：６５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの最小透過率が５％未満
Ｂ：６５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの最小透過率が５％以上１０％未満
Ｃ：６５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの最小透過率が１０％以上２０％未満
Ｄ：６５０ｎｍ〜１，２００ｎｍの最小透過率が２０％以上

＜耐熱性の評価＞
赤外線遮蔽性の評価に用いた硬化膜を、ホットプレートを用いて２６５℃、５分間加熱して耐熱試験を行った。耐熱試験前後の硬化膜の波長４００ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲の透過率を測定し、下記の式から各波長における透過率変化を算出し、４００ｎｍ〜１，２００ｎｍの範囲における透過率変化の最大値を用いて、下記の基準により耐熱性を評価した。
透過率変化＝｜（耐熱試験前の透過率−耐熱試験後の透過率）｜
Ａ：透過率変化の最大値が３％未満である。
Ｂ：透過率変化の最大値が３％以上５％未満である。
Ｃ：透過率変化の最大値が５％以上１０％未満である。
Ｄ：透過率変化の最大値が１０％以上である。

＜パターン形状（パターニング性）の評価＞
得られた組成物を、下塗り層付きシリコンウェハに塗布し、塗布膜を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が１．０μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長で、パターンが３．０μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを通して５０ｍＪ／ｃｍ^２〜１，２００ｍＪ／ｃｍ^２の種々の露光量で露光した。その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウェハ基板をスピンシャワー現像機（ＤＷ−３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ−２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、下塗り層付シリコンウェハに着色パターンを形成した。
着色パターンが形成されたシリコンウェハを、真空チャック方式で水平回転テーブルに固定し、回転装置によってシリコンウェハを回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。
得られた基板を２２０℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行なった。
基板の断面を走査型電子顕微鏡で観察し、最適露光量の３．０μｍ角の正方形ピクセルパターン側壁の角度を測定し、以下のような評価基準で評価した。
Ａ：側壁の角度が８０°以上１００°未満
Ｂ：側壁の角度が７０°以上８０°未満、又は、１００°以上１１０°未満
Ｃ：側壁の角度が７０°未満、又は、１１０°以上

＜現像残渣（現像残渣抑制性）の評価＞
上記で得られた組成物を、塗布後の膜厚が０．７μｍになるように、下塗り層付きシリコンウェハ上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートで、１００℃で２分間加熱して組成物層を得た。次いで、得られた組成物層に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１．１μｍ四方のベイヤーパターンを有するマスクを介して露光（露光量は線幅１．１μｍとなる最適露光量を選択）した。次いで、露光後の組成物層に対し、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗し、パターンを得た。得られたパターンの下地上に残る残渣の量を画像の２値化処理により、下記基準で評価した。
Ａ：残渣量が下地全面積の１．５％未満
Ｂ：残渣量が下地全面積の１．５％以上５％以下
Ｃ：残渣量が下地全面積の５％を超える

評価結果をまとめて表２に示す。

なお、表２の組成物成分において、２種使用した場合に記載している括弧内の数値は、質量比を表す。例えば、実施例７においては、Ａ−１を２．５質量部、及び、Ａ−２を２．５質量部使用した。

以下に、表２に記載の各成分の詳細を示す。なお、表２に記載の樹脂Ｂ−１〜Ｂ−１１及び樹脂前駆体Ｂ−２１〜Ｂ−２３は、上記で合成した樹脂Ｂ−１〜Ｂ−１１及び樹脂前駆体Ｂ−２１〜Ｂ−２３をそれぞれ使用した。

＜赤外線吸収性色素＞
Ａ−１：下記構造のスクアリリウム系化合物
Ａ−２：ＮＫ−５０６０（（株）林原製、シアニン系化合物、極大吸収波長８６５ｎｍ（膜））
Ａ−３：Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ（（株）日本触媒製、フタロシアニン系化合物、極大吸収波長７５５ｎｍ（膜））
Ａ−４：下記構造のピロロピロール系化合物
Ａ−５：下記構造のピロロピロール系化合物
Ａ−６：下記構造のピロロピロール系化合物

＜重合性化合物＞
Ｃ−１：アロニックスＭ−３０５（東亞合成（株）製、下記化合物の混合物、トリアクリレートの含有量が５５質量％〜６３質量％）
Ｃ−２：ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ−１０４０（エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、日本化薬（株）製）
Ｃ−３：アロニックスＭ−５１０（多官能アクリレート化合物、東亞合成（株）製）

＜光重合開始剤＞
Ｄ−１：下記構造の化合物
Ｄ−２：下記構造の化合物

（実施例１４）
上記赤外線吸収性色素、ポジ型の特定化合物、及び、光酸発生剤を含むポジ型パターン形成用組成物としても、実施例１等と同様の効果が得られる。

（実施例１５〜実施例１７）
＜パターン形成用組成物の調製２＞
下記の成分を混合して、パターン形成用組成物を作製した。
・表３に記載の赤外線吸収性色素：５質量部
・表３に記載の樹脂：１３．０質量部
・表３に記載の重合性化合物：４．５質量部
・表３に記載の光重合開始剤：０．８質量部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．００１質量部
・界面活性剤（上記混合物）：０．０３質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製）：１．３質量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：７６質量部

得られたパターン形成用組成物を用い、実施例１〜１３と同様の評価を行った。評価結果をまとめて表３に示す。

以下に、表３に記載の各成分の詳細を示す。
（赤外線吸収性色素）
Ａ−７〜Ａ−９：下記構造のスクアリリウム系化合物

（実施例２１〜実施例４４、並びに、比較例３及び比較例４）
＜分散液の調製＞
下記表４に記載の赤外線吸収性色素１３質量部と、下記表４に記載の分散樹脂７．８質量部と、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１５０質量部と、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部とを混合し、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。なお、分散液１〜４、分散液９、分散液１１、分散液１３、分散液１６、分散液２０〜２２、および分散液２４は、更に下記表４に記載の顔料誘導体の１質量部を加えて分散処理を行った。

＜赤外線吸収性色素＞
Ａ−２１〜Ａ−２２：下記構造のピロロピロール系化合物
Ａ−２３〜Ａ−４２：下記構造のスクアリリウム系化合物

＜分散樹脂＞
Ｅ−１：下記構造の樹脂（酸価＝３２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価＝４５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝２２９００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Ｅ−２：下記構造を有する樹脂（酸価＝９９．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝３８０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。

＜顔料誘導体＞
ａ−１〜ａ−６：下記構造の化合物

＜パターン形成用組成物の調製３＞
下記の成分を混合して、パターン形成用組成物を作製した。
・表５に記載の分散液：５５質量部
・表５に記載の樹脂：７．０質量部
・表５に記載の重合性化合物：４．５質量部
・表５に記載の光重合開始剤：０．８質量部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．００１質量部
・界面活性剤（上記混合物）：０．０３質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製）：１．３質量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：３１質量部

得られたパターン形成用組成物を用い、実施例１〜１３と同様の評価を行った。評価結果をまとめて表５に示す。

（実施例５１〜実施例６１、並びに、比較例５及び比較例６）
＜樹脂の合成＞
（樹脂Ｂ−３１〜Ｂ−４０の合成）
表６に記載の各共重合成分を、表６に記載のモル比で混合し、共重合成分の全質量に対し、１４質量％の熱重合開始剤（和光純薬工業（株）製Ｖ−６０１）、３００質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用し、８０℃で２時間滴下重合し、９０℃で２時間後加熱することで、各樹脂Ｂ−３１〜Ｂ−４０をそれぞれ得た。表６に得られた樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）、酸価、及び、重量平均分子量（Ｍｗ）をそれぞれ示す。

以下に、表６に記載の共重合成分の詳細を示す。なお、下記に示す共重合成分は、構成単位で記載しており、合成には、対応するモノマー又はその前駆体を使用した。

（樹脂前駆体Ｂ−４１〜Ｂ−４３の合成）
特開２０１３−５０５９３号公報に記載の方法に従って、樹脂前駆体Ｂ−５１〜Ｂ−５３を合成した。Ｂ−５１は重量平均分子量１４，２００、イミド化後のガラス転移温度２６０℃、Ｂ−５２は重量平均分子量１６，６００、イミド化後のガラス転移温度２６０℃、Ｂ−５３は重量平均分子量２０，１００、イミド化後のガラス転移温度３３５℃である。

＜パターン形成用組成物の調製４＞
下記の成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過し、パターン形成用組成物を作製した。
・表７に記載の赤外線吸収性色素：２．５４質量部
・表７に記載の樹脂：１４．０８質量部
・表７に記載の架橋剤：２．８２質量部
・表７に記載の光酸発生剤：０．３４質量部
・表７に塩基性化合物：０．０２質量部
・表７に記載の界面活性剤：０．０２質量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：８０．１８質量部

得られたパターン形成用組成物を用い、実施例１〜１３と同様の評価を行った。評価結果をまとめて表７に示す。

以下に、表７に記載の各成分の詳細を示す。
＜架橋剤＞
Ｇ−１：下記構造の化合物（ＪＥＲ ＹＸ４０００ＨＫ、三菱化学（株）製、ビフェニル型２官能エポキシ、分子量３５４）
Ｇ−２：下記構造の化合物（ＪＥＲ １０３１Ｓ、三菱化学（株）製、４官能エポキシ、分子量６２３）
Ｇ−３：下記構造の化合物（２官能オキセタン、分子量３６４）
Ｇ−４：下記構造の化合物（２官能オキセタン、分子量３３４）

＜光酸発生剤＞
Ｈ−１：下記構造の化合物（ＰＡＧ−１０３、ＢＡＳＦ社製）
Ｈ−２：下記構造の化合物（ＧＳＩＤ−２６−１、ＢＡＳＦ社製、トリアリールスルホニウム塩）
Ｈ−３：下記構造の化合物
Ｈ−４：下記構造の化合物

＜塩基性化合物＞
塩基性化合物１：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン
塩基性化合物２：下記構造の化合物

＜界面活性剤＞
界面活性剤１：シリコーン系界面活性剤（（株）東レ・ダウコーニング製、ＳＨ８４００ＦＬＵＩＤ）
界面活性剤２：フッ素系界面活性剤（ネオス社製、フタージェントＦＴＸ−２１８）
界面活性剤３：パーフルオロアルキル基含有ノニオン系界面活性剤（ＤＩＣ（株）製、Ｆ−５５４）

（実施例７１〜実施例９４、並びに、比較例７及び比較例８）
＜パターン形成用組成物の調製５＞
下記の成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過し、パターン形成用組成物を作製した。
・表８に記載の分散液：３３．３７質量部
・表８に記載の樹脂：１２．８３質量部
・表８に記載の架橋剤：２．５６質量部
・表８に記載の光酸発生剤：０．３４質量部
・表８に塩基性化合物：０．０２質量部
・表８に記載の界面活性剤：０．０２質量部
・溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：５０．８６質量部

得られたパターン形成用組成物を用い、実施例１〜１３と同様の評価を行った。評価結果をまとめて表８に示す。

（実施例１０１〜実施例１１３、実施例１１５〜実施例１１７、実施例１２１〜実施例１４４、実施例１５１〜実施例１６１、及び、実施例１７１〜実施例１９４）
実施例１〜実施例１３、実施例１５〜実施例１７、実施例２１〜実施例４４、実施例５１〜実施例６１、又は、実施例７１〜実施例９４で得られた組成物を、製膜後の膜厚が１．０μｍになるように、シリコンウェハ上にスピンコート法で塗布した。その後ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱した。次いでドライエッチング法により２μｍ四方のパターン（赤外線カットフィルタ）を形成した。

次に、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのパターン上に、Ｒｅｄ組成物をパターニングした。同様にＧｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物を順次パターニングし、赤、緑及び青の着色パターン（Ｂａｙｅｒパターン）を形成した。
なお、Ｂａｙｅｒパターンとは、米国特許第３，９７１，０６５号明細書に開示されているような、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、二個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子とを有する色フィルタ素子の２×２アレイを繰り返したパターンであるが、本実施例においては、一個の赤色（Ｒｅｄ）素子と、一個の緑色（Ｇｒｅｅｎ）素子と、一個の青色（Ｂｌｕｅ）素子と、一個の赤外線透過フィルタ素子を有するフィルタ素子の２×２アレイを繰り返したＢａｙｅｒパターンを形成した。

次に、上記パターン形成した膜上に、赤外線透過フィルタ形成用組成物（下記組成１００又は組成１０１）を、製膜後の膜厚が２．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で２μｍ四方のＢａｙｅｒパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、赤外線カットフィルタのＢａｙｅｒパターンのうち、上記着色パターンが形成されていない抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
得られた固体撮像素子について、低照度の環境下（０．００１ルクス（Ｌｕｘ））で赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）により赤外線を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。実施例１〜実施例１３、実施例１５〜実施例１７、実施例２１〜実施例４４、実施例５１〜実施例６１、又は、実施例７１〜実施例９４で得られたいずれの組成物を使用した場合でも、低照度の環境下であっても画像をはっきりと認識できた。

実施例１０１〜実施例１１３、実施例１１５〜実施例１１７、実施例１２１〜実施例１４４、実施例１５１〜実施例１６１、及び、実施例１７１〜実施例１９４で使用したＲｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物は、以下の通りである。

−Ｒｅｄ組成物−
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｒｅｄ組成物を調製した。
Ｒｅｄ顔料分散液：５１．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．６質量部
重合性化合物４：０．６質量部
光重合開始剤１：０．３質量部
界面活性剤１：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４２．６質量部

−Ｇｒｅｅｎ組成物−
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｇｒｅｅｎ組成物を調製した。
Ｇｒｅｅｎ顔料分散液：７３．７質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：０．３質量部
重合性化合物１：１．２質量部
光重合開始剤１：０．６質量部
界面活性剤１：４．２質量部
紫外線吸収剤（ＵＶ−５０３、大東化学（株）製）：０．５質量部
ＰＧＭＥＡ：１９．５質量部

−Ｂｌｕｅ組成物−
下記成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、Ｂｌｕｅ組成物を調製した。
Ｂｌｕｅ顔料分散液：４４．９質量部
樹脂４（４０質量％ＰＧＭＥＡ溶液）：２．１質量部
重合性化合物１：１．５質量部
重合性化合物４：０．７質量部
光重合開始剤１：０．８質量部
界面活性剤１：４．２質量部
ＰＧＭＥＡ：４５．８質量部

−赤外線透過フィルタ形成用組成物−
下記組成における成分を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤外線透過フィルタ形成用組成物を調製した。

＜組成１００＞
顔料分散液１−１：４６．５質量部
顔料分散液１−２：３７．１質量部
重合性化合物５：１．８質量部
樹脂４：１．１質量部
光重合開始剤２：０．９質量部
界面活性剤１：４．２質量部
重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール）：０．００１質量部
シランカップリング剤：０．６質量部
ＰＧＭＥＡ：７．８質量部

＜組成１０１＞
顔料分散液２−１：１，０００質量部
重合性化合物（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）：５０質量部
樹脂：１７質量部
光重合開始剤（１−［４−（フェニルチオ）］−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム））：１０質量部
ＰＧＭＥＡ：１７９質量部
アルカリ可溶性重合体Ｆ−１：１７質量部（固形分濃度３５質量部）

＜アルカリ可溶性重合体Ｆ−１の合成例＞
反応容器に、ベンジルメタクリレート１４部、Ｎ−フェニルマレイミド１２部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、スチレン１０部及びメタクリル酸２０部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部に溶解し、更に２，２’−アゾイソブチロニトリル３部及びα−メチルスチレンダイマー５部を投入した。反応容器内を窒素パージ後、撹拌及び窒素バブリングしながら８０℃で５時間加熱し、アルカリ可溶性重合体Ｆ−１を含む溶液（固形分濃度３５質量％）を得た。この重合体は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が９，７００、数平均分子量が５，７００であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．７０であった。

＜顔料分散液２−１＞
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３２を６０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を２０部、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を２０部、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパース７６５００を８０部（固形分濃度５０質量％）、アルカリ可溶性重合体Ｆ−１を含む溶液を１２０部（固形分濃度３５質量％）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを７００部混合し、ペイントシェーカーを用いて８時間分散し、着色剤分散液２−１を得た。

Ｒｅｄ組成物、Ｇｒｅｅｎ組成物、Ｂｌｕｅ組成物、及び、赤外線透過フィルタ形成用組成物に使用した原料は、以下の通りである。

・Ｒｅｄ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４を９．６質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９を４．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を６．８質量部、ＰＧＭＥＡを７９．３質量部とからなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｒｅｄ顔料分散液を得た。

・Ｇｒｅｅｎ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６を６．４質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５０を５．３質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．２質量部、ＰＧＭＥＡを８３．１質量部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｇｒｅｅｎ顔料分散液を得た。

・Ｂｌｕｅ顔料分散液
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６を９．７質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３を２．４質量部、分散剤（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）を５．５部、ＰＧＭＥＡを８２．４部からなる混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）により３時間混合及び分散して、顔料分散液を調製した。その後更に、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２，０００ｋｇ／ｃｍ^３の圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返し、Ｂｌｕｅ顔料分散液を得た。

・顔料分散液１−１
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３９）からなる混合顔料：１１．８質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：９．１質量部
・ＰＧＭＥＡ：７９．１質量部

・顔料分散液１−２
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液１−２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３）からなる混合顔料：１２．６質量部
・樹脂（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）：２．０質量部
・樹脂Ａ：３．３質量部
・シクロヘキサノン：３１．２質量部
・ＰＧＭＥＡ：５０．９質量部

樹脂Ａ：下記構造（Ｍｗ＝１４，０００、各構成単位における比はモル比である。）

・重合性化合物１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物、日本化薬（株）製）
・重合性化合物４：下記構造

・重合性化合物５：下記構造（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）

・樹脂４：下記構造（酸価：７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｍｗ＝１１，０００、各構成単位における比はモル比である。）

・光重合開始剤１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（１−［４−（フェニルチオ）］−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、ＢＡＳＦ社製）
・光重合開始剤２：下記構造

・界面活性剤１：下記混合物（Ｍｗ＝１４，０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、構成単位の割合を示す％（６２％及び３８％）の単位は、質量％である。

・シランカップリング剤：下記構造の化合物。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基を表す。

（実施例２０１）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例２０１のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１のパターン形成用組成物：２２．６７質量部
顔料分散液２−１：５１．２３質量部
実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に耐熱性、パターン形状、及び、現像残渣の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例２０１のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。

（実施例２０２）
下記組成を混合し、撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、実施例２０２のパターン形成用組成物を調製した。
実施例１のパターン形成用組成物：３６．９９質量部
顔料分散液１−１：４６．５質量部
顔料分散液１−２：３７．１質量部
実施例２０２のパターン形成用組成物を用いて、実施例１と同様に耐熱性、パターン形状、及び、現像残渣の評価を行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。また、実施例２０２のパターン形成用組成物を用いて得られた硬化膜は、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させることができた。

（実施例３０１）
上記実施例１〜実施例１３、実施例１５〜実施例１７、実施例２１〜実施例４４、実施例５１〜実施例６１、又は、実施例７１〜実施例９４で得られた組成物を用い、基板としてガラス基板を用い、カラス基板上に上記組成物を塗布した以外は実施例１と同様に赤外線遮蔽性、耐熱性、パターン形状、及び、現像残渣の評価を行っても、実施例１〜実施例１３、実施例１５〜実施例１７、実施例２１〜実施例４４、実施例５１〜実施例６１、及び、実施例７１〜実施例９４と同様の効果が得られる。

（実施例３０２）
上記実施例２０１及び実施例２０２で得られた組成物を用い、基板としてガラス基板を用い、カラス基板上に上記組成物を塗布した以外は実施例２０１又は実施例２０２と同様に耐熱性、パターン形状、及び、現像残渣の評価を行っても、実施例２０１及び実施例２０２と同様の効果が得られる。

２０１７年９月１９日に出願された日本国特許出願第２０１７−１７９１５３号の開示、及び、２０１８年８月２１日に出願された日本国特許出願第２０１８−１５４６７０号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (13)

1. 赤外線吸収性色素と、
   ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂Ａ、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂Ｂの前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物とを含み、
   前記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂Ａが、（ａ−１）〜（ａ−９）のいずれかで表される構成単位、及び、式１で表される構成単位を有する樹脂であり、
   前記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂Ｂの前駆体が、式３又は式４で表される構成単位を有する樹脂である
   パターン形成用組成物。
   

   

   
   

   

   
   式１中、Ｒ ^１ 〜Ｒ ^３ はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ ^１ は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ ^１ は、カルボキシ基、フェノール性ヒドロキシ基又はスルホンアミド基を表す。
   

   

   
   式３及び式４中、Ｒ ^７ は、四価の有機基を表し、Ｒ ^８ は、二価の有機基を表し、前記前駆体中におけるＲ ^７ 及びＲ ^８ のうち少なくとも１つは脂環基又はフッ素原子を有する有機基であり、Ｒ ^９ はそれぞれ独立に、水素原子又は有機基を表し、前記前駆体中におけるＲ ^９ のうち少なくとも１つは水素原子であり、少なくとも１つは重合性基である。
2. 前記赤外線吸収性色素が、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、ペリレン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、及び、イミニウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載のパターン形成用組成物。
3. 前記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から少なくとも１種の化合物が、酸性基、又は、酸基若しくはヒドロキシ基が酸分解性基で保護された基を有する請求項１又は請求項２に記載のパターン形成用組成物。
4. 前記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂、及び、ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂の前駆体よりなる群から少なくとも１種の化合物が、ビニル系重合体、ポリイミド前駆体、及び、ポリベンゾオキサゾール前駆体よりなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のパターン形成用組成物。
5. 重合性化合物及び光重合開始剤を更に含む請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のパターン形成用組成物。
6. 前記ガラス転移温度が１５０℃〜３００℃である樹脂Ａが、式２で表される構成単位を更に有する樹脂である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のパターン形成用組成物。
   

   

   
   式２中、Ｒ^４〜Ｒ^６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表し、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘ^２は、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基又はマレイミド基を表す。
7. 前記式１で表される構成単位が、（ｂ−１）〜（ｂ−３）のいずれかで表される構成単位である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のパターン形成用組成物。
   

   
8. 請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のパターン形成用組成物を硬化してなる膜。
9. 請求項８に記載の膜を有する赤外線カットフィルタ。
10. 請求項８に記載の膜を有する赤外線透過フィルタ。
11. 請求項８に記載の膜を有する固体撮像素子。
12. 請求項８に記載の膜を有する赤外線センサ。
13. 固体撮像素子と、請求項９に記載の赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュール。
    

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