JP6917349B2 - ガスセンサ素子 - Google Patents
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Description
前記電解質層の一方面に積層された第一絶縁体(3)と、
前記電解質層の他方面に積層された第二絶縁体(4)と、
前記電解質層と前記第一絶縁体とに囲まれるとともに被測定ガス(G)が導入される測定ガス室(5)と、
前記電解質層と前記第二絶縁体とに囲まれるとともに基準ガス(A)が導入される基準ガス室(6)と、
前記第一絶縁体に埋設されたヒータ(7)と、を有するガスセンサ素子(1)であって、
前記配置穴と前記固体電解質体との境界部(23)の少なくとも一部は、前記第一絶縁体の第一挟持部(33)と、前記第二絶縁体の第二挟持部(45)とによって挟持されており、
前記第一挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記測定ガス室が配された全領域に形成されており、
前記第二挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記基準ガス室が配された全領域に形成されており、
前記境界部は、前記ガスセンサ素子の幅方向(Y)に対向する一対の第一境界部(231)を有し、少なくとも一対の前記第一境界部の全体は、前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、ガスセンサ素子にある。
本発明の他の態様は、厚み方向(Z)に貫通形成された配置穴(220)を備える保持板(22)、及び前記配置穴に配されるとともに酸素イオン伝導性を有する固体電解質体(21)を備える電解質層(2)と、
前記電解質層の一方面に積層された第一絶縁体(3)と、
前記電解質層の他方面に積層された第二絶縁体(4)と、
前記電解質層と前記第一絶縁体とに囲まれるとともに被測定ガス(G)が導入される測定ガス室(5)と、
前記電解質層と前記第二絶縁体とに囲まれるとともに基準ガス(A)が導入される基準ガス室(6)と、を有するガスセンサ素子(1)であって、
前記固体電解質体及び前記基準ガス室は、前記ガスセンサ素子の長手方向(X)の基端位置まで形成されており、
前記配置穴と前記固体電解質体との境界部(23)の少なくとも一部は、前記第一絶縁体の第一挟持部(33)と、前記第二絶縁体の第二挟持部(45)とによって挟持されており、
前記第一挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記測定ガス室が配された全領域に形成されており、
前記第二挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記基準ガス室が配された全領域に形成されており、
前記境界部は、前記ガスセンサ素子の幅方向(Y)に対向する一対の第一境界部(231)を有し、少なくとも一対の前記第一境界部の全体は、前記ガスセンサ素子の長手方向の基端位置まで前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、ガスセンサ素子にある。
なお、特許請求の範囲及び課題を解決する手段に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
ガスセンサ素子の実施形態につき、図1〜図5を用いて説明する。
本実施形態のガスセンサ素子1は、図1、図2に示すごとく、電解質層2と第一絶縁体3と第二絶縁体4と測定ガス室5と基準ガス室6とを有する。電解質層2は、保持板22及び固体電解質体21を備える。保持板22は、保持板22の厚み方向(以後、Z方向という。)に貫通形成された配置穴220を備える。固体電解質体21は、配置穴220に配されている。固体電解質体21は、酸素イオン伝導性を有する。第一絶縁体3は、電解質層2の一方面に積層されている。第二絶縁体4は、電解質層2の他方面に積層されている。測定ガス室5は、電解質層2と第一絶縁体3とに囲まれている。図2に示すごとく、測定ガス室5は、被測定ガスGが導入される。基準ガス室6は、電解質層2と第二絶縁体4とに囲まれている。基準ガス室6は、基準ガスAが導入される。
以後、本実施形態につき、詳説する。
ガスセンサ10の軸方向は、X方向となるよう形成されている。換言すると、ガスセンサ素子1の長手方向は、ガスセンサ10の軸方向と平行である。ガスセンサ10は、ガスセンサ素子1、第一インシュレータ102、ハウジング103、第二インシュレータ104、複数の接点端子105を備える。第一インシュレータ102は、ガスセンサ素子1を保持する。ハウジング103は、第一インシュレータ102を保持する。第二インシュレータ104は、第一インシュレータ102に連結されている。複数の接点端子105は、第二インシュレータ104に保持されてガスセンサ素子1のセンサ端子15とヒータ端子16とに接触している。
本実施形態のガスセンサ10において、保持板22の配置穴220と固体電解質体21との境界部23の少なくとも一部は、第一絶縁体3の第一挟持部33と第二絶縁体4の第二挟持部45とによって挟持されている。そして、第一挟持部33は、少なくとも、Z方向における測定ガス室5が配された全領域に形成されている。また、第二挟持部45は、少なくとも、Z方向における基準ガス室6が配された全領域に形成されている。すなわち、境界部23の少なくとも一部は、比較的剛性の高い構造体で構成される第一挟持部33及び第二挟持部45により挟持されている。それゆえ、境界部23の少なくとも一部を挟持する第一挟持部33及び第二挟持部45の剛性を確保しやすく、固体電解質体21を配置穴220に安定して保持しやすい。
本実施形態は、図6〜図8に示すごとく、実施形態1に対して、電解質層2の形状を変更した実施形態である。
なお、実施形態2以降において用いた符号のうち、既出の実施形態において用いた符号と同一のものは、特に示さない限り、既出の実施形態におけるものと同様の構成要素等を表す。
その他、実施形態1と同様の作用効果を有する。
2 電解質層
21 固体電解質体
22 保持板
220 配置穴
23 境界部
3 第一絶縁体
33 第一挟持部
4 第二絶縁体
45 第二挟持部
Claims (4)
- 厚み方向(Z)に貫通形成された配置穴(220)を備える保持板(22)、及び前記配置穴に配されるとともに酸素イオン伝導性を有する固体電解質体(21)を備える電解質層(2)と、
前記電解質層の一方面に積層された第一絶縁体(3)と、
前記電解質層の他方面に積層された第二絶縁体(4)と、
前記電解質層と前記第一絶縁体とに囲まれるとともに被測定ガス(G)が導入される測定ガス室(5)と、
前記電解質層と前記第二絶縁体とに囲まれるとともに基準ガス(A)が導入される基準ガス室(6)と、
前記第一絶縁体に埋設されたヒータ(7)と、を有するガスセンサ素子(1)であって、
前記配置穴と前記固体電解質体との境界部(23)の少なくとも一部は、前記第一絶縁体の第一挟持部(33)と、前記第二絶縁体の第二挟持部(45)とによって挟持されており、
前記第一挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記測定ガス室が配された全領域に形成されており、
前記第二挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記基準ガス室が配された全領域に形成されており、
前記境界部は、前記ガスセンサ素子の幅方向(Y)に対向する一対の第一境界部(231)を有し、少なくとも一対の前記第一境界部の全体は、前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、ガスセンサ素子。 - 厚み方向(Z)に貫通形成された配置穴(220)を備える保持板(22)、及び前記配置穴に配されるとともに酸素イオン伝導性を有する固体電解質体(21)を備える電解質層(2)と、
前記電解質層の一方面に積層された第一絶縁体(3)と、
前記電解質層の他方面に積層された第二絶縁体(4)と、
前記電解質層と前記第一絶縁体とに囲まれるとともに被測定ガス(G)が導入される測定ガス室(5)と、
前記電解質層と前記第二絶縁体とに囲まれるとともに基準ガス(A)が導入される基準ガス室(6)と、を有するガスセンサ素子(1)であって、
前記固体電解質体及び前記基準ガス室は、前記ガスセンサ素子の長手方向(X)の基端位置まで形成されており、
前記配置穴と前記固体電解質体との境界部(23)の少なくとも一部は、前記第一絶縁体の第一挟持部(33)と、前記第二絶縁体の第二挟持部(45)とによって挟持されており、
前記第一挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記測定ガス室が配された全領域に形成されており、
前記第二挟持部は、前記厚み方向において前記境界部と重なる位置に形成されているとともに、少なくとも、前記厚み方向における前記基準ガス室が配された全領域に形成されており、
前記境界部は、前記ガスセンサ素子の幅方向(Y)に対向する一対の第一境界部(231)を有し、少なくとも一対の前記第一境界部の全体は、前記ガスセンサ素子の長手方向の基端位置まで前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、ガスセンサ素子。 - 前記境界部は、前記ガスセンサ素子の長手方向(X)に対向する一対の第二境界部(232)を有し、少なくとも前記一対の前記第二境界部のうちの前記長手方向の先端側(X1)の前記第二境界部の全体は、前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、請求項1又は2に記載のガスセンサ素子。
- 前記境界部の全体は、前記第一挟持部と前記第二挟持部とによって挟持されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガスセンサ素子。
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