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JP6918090B2 - Liquid crystal display device - Google Patents
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Description

本発明は表示装置に係り、特に表示領域および外形が矩形ではない表示装置に関する。 The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device whose display area and outer shape are not rectangular.

表示装置の一つである液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等を有する画素がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して対向基板が配置され、TFT基板と対向基板との間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。 In a liquid crystal display device, which is one of the display devices, a TFT substrate in which pixels having pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed in a matrix, and an opposing substrate are arranged facing the TFT substrate, and the TFT substrate and the opposing substrate are arranged. The liquid crystal is sandwiched between and. An image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal molecules for each pixel. Since liquid crystal display devices are flat and lightweight, their applications are expanding in various fields.

液晶表示装置に表示領域や外形は矩形のものが多いが、自動車に使用される表示装置、種々のゲーム等に使用される表示装置等では、表示領域や装置の外形が矩形でない表示装置に対する要求も存在する。表示装置が矩形でないことに起因する走査線駆動回路の問題と対策を記載したものとして、特許文献1があげられる。 Most liquid crystal display devices have a rectangular display area or outer shape, but in display devices used in automobiles, display devices used in various games, etc., there is a requirement for a display device in which the outer shape of the display area or device is not rectangular. Also exists. Patent Document 1 describes problems and countermeasures of the scanning line drive circuit caused by the display device not being rectangular.

特開2008−292995号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-292995

表示領域が矩形でないと表示装置の周辺に配置される周辺回路や配線のレイアウトは、表示領域が矩形でない場合とは異なってくる。また、表示装置が矩形でないと、表示領域が矩形の場合には生じなかった問題が生ずる。以後、矩形でない表示領域を異形表示領域といい、表示領域が矩形でない表示パネルを異形表示パネルという。 If the display area is not rectangular, the layout of peripheral circuits and wiring arranged around the display device will be different from that when the display area is not rectangular. Further, if the display device is not rectangular, a problem that does not occur when the display area is rectangular arises. Hereinafter, the non-rectangular display area is referred to as a deformed display area, and the non-rectangular display panel is referred to as a deformed display panel.

異形表示パネルの場合でも、高い解像度を要求される場合が多い。高解像度とすると、横方向の画素が多くなり、画素に映像信号を供給するドレイン線の数も多くなる。ドレイン線の数が多くなると、表示領域外において、ドレイン引き回し線の数が多くなり、このための配線領域の面積が増大する。特に最近は、表示領域の端部から表示パネルの端部までの幅、いわゆる額縁領域を小さくしたいという要求がある。このためには、ドレイン引き回し線の数を減らす必要がある。 Even in the case of a deformed display panel, high resolution is often required. At high resolution, the number of pixels in the horizontal direction increases, and the number of drain lines that supply video signals to the pixels also increases. As the number of drain lines increases, the number of drain routing lines increases outside the display area, and the area of the wiring area for this purpose increases. In particular, recently, there has been a demand for reducing the width from the edge of the display area to the edge of the display panel, that is, the so-called frame area. For this purpose, it is necessary to reduce the number of drain routing lines.

ドレイン引き回し線の数の増大を防ぐために、後で説明するようなセレクタ回路を用いてドライバICから供給される映像信号線の数を1/2、あるいは1/3等に減少させて、引き回し線の数を減らす技術がある。しかし、異形表示領域にセレクタ回路を用いると、セレクタ回路と走査線あるいはコモン配線等とセレクタ回路との干渉(レイアウト上の交差、或いは、交差や近接に伴う電気的な影響)が生ずる。 In order to prevent the number of drain routing lines from increasing, the number of video signal lines supplied from the driver IC is reduced to 1/2 or 1/3 by using a selector circuit as described later, and the routing wires are used. There is a technology to reduce the number of. However, when the selector circuit is used in the irregular display area, interference between the selector circuit and the scanning line or common wiring and the selector circuit (intersection on the layout, or electrical influence due to the intersection or proximity) occurs.

本発明の課題は、セレクタ回路を有する異形表示領域を有する異形表示パネルを用いた場合であっても、額縁領域を抑えることが出来る表示領域を実現することである。 An object of the present invention is to realize a display area in which a frame area can be suppressed even when a deformed display panel having a deformed display area having a selector circuit is used.

本発明は上記課題を克服するものであり、主な具体的な手段は次のとおりである。 The present invention overcomes the above problems, and the main specific means are as follows.

(1)走査線が第1の方向に延在して第2の方向に配列し、ドレイン線が前記第2の方向に延在して前記第1の方向に配列し、走査線とドレイン線で囲まれた領域に画素が形成されたTFT基板に、液晶を介して対向基板を配置し、表示領域の外形が矩形ではない液晶表示装置であって、前記表示領域の外側に映像信号を供給するドライバが配置し、前記表示領域と前記ドライバの間にセレクタ用TFTを有するセレクタが存在し、前記ドライバと前記セレクタの間には映像信号線が存在し、前記セレクタと前記表示領域の間には前記ドレイン線が存在し、前記表示領域に対応する前記ドレイン線の数をNdとし、前記ドレイン線に対応する前記映像信号線の数をNvとした場合、Nd/Nv=nであって、nは2以上の整数であり、
前記表示領域の外側には前記走査線に走査信号号を供給する走査回路が存在し、前記セレクタは前記走査線と前記表示領域との間、或いは、前記走査回路と前記表示領域との間に存在し、前記セレクタは、コモン電極であるITOによって覆われ、前記セレクタの外側にコモンバス配線が配置していることを特徴とする液晶表示装置。
(1) The scanning lines extend in the first direction and are arranged in the second direction, the drain lines extend in the second direction and are arranged in the first direction, and the scanning lines and the drain lines are arranged. A liquid crystal display device in which an opposing substrate is arranged via a liquid crystal display on a TFT substrate in which pixels are formed in an area surrounded by, and the outer shape of the display area is not rectangular, and a video signal is supplied to the outside of the display area. There is a selector having a selector TFT between the display area and the driver, a video signal line exists between the driver and the selector, and there is a video signal line between the selector and the display area. Is Nd / Nv = n, where Nd is the number of drain lines corresponding to the display area and Nv is the number of video signal lines corresponding to the drain lines. n is an integer greater than or equal to 2
Outside the display area, there is a scanning circuit that supplies a scanning signal to the scanning line, and the selector is located between the scanning line and the display area, or between the scanning circuit and the display area. A liquid crystal display device that exists, wherein the selector is covered by ITO, which is a common electrode, and a common bus wiring is arranged outside the selector.

(2)前記セレクタ用TFTにゲート電圧を供給するセレクタ制御信号線は、前記ドレイン線と同じ層で形成されていることを特徴とする(1)に記載の液晶表示装置。 (2) The liquid crystal display device according to (1), wherein the selector control signal line for supplying the gate voltage to the selector TFT is formed of the same layer as the drain line.

液晶表示装置の表示領域の断面図である。It is sectional drawing of the display area of a liquid crystal display device. 異形表示パネルの例である。This is an example of a deformed display panel. セレクタの構成を示す等価回路である。It is an equivalent circuit showing the configuration of the selector. 表示領域の周辺を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the periphery of the display area. ドレイン線が形成された状態までの表示領域の周辺のレイアウトを示す平面図である。It is a top view which shows the layout around the display area up to the state where a drain line is formed. 画素電極が形成された状態までの表示領域の周辺のレイアウトを示す平面図である。It is a top view which shows the layout around the display area up to the state where a pixel electrode is formed. セレクタ部分における断面図である。It is sectional drawing in the selector part. 異形表示パネルの他の例である。This is another example of a variant display panel. 表示領域が矩形である場合におけるレイアウトを示す平面図である。It is a top view which shows the layout when the display area is rectangular.

表示装置には各種が存在するが、その一種である液晶表示装置では視野角特性が問題となる。視野角特性は、画面を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合に、輝度が変化したり、色度が変化したりする現象である。視野角特性は、液晶分子を水平方向の電界によって動作させるIPS(In Plane Switching)方式が優れた特性を有している。以後の実施形態では、IPS方式の液晶表示装置を前提に説明する。本発明は、表示領域の外側における構成が対象となるが、層構造の説明のために、まず、表示領域の断面構造を説明する。 There are various types of display devices, but one of them, a liquid crystal display device, has a problem of viewing angle characteristics. The viewing angle characteristic is a phenomenon in which the brightness changes or the chromaticity changes when the screen is viewed from the front and when viewed from an oblique direction. As for the viewing angle characteristic, the IPS (In Plane Switching) method in which the liquid crystal molecules are operated by an electric field in the horizontal direction has excellent characteristics. In the following embodiments, the IPS type liquid crystal display device will be described as a premise. The present invention covers the configuration outside the display area, but for the purpose of explaining the layer structure, first, the cross-sectional structure of the display area will be described.

図1は、IPS方式の液晶表示装置の断面図である。図1におけるTFTは、いわゆるトップゲートタイプのTFTであり、使用される半導体としては、LTPS(Low Temperature Poly−Si)が使用されている。図1において、ガラス基板100の上にSiNからなる第1下地膜101およびSiOからなる第2下地膜102がCVD(Chemical Vapor Deposition)によって形成される。第1下地膜101および第2下地膜102の役割はガラス基板100からの不純物が半導体層103を汚染することを防止することである。 FIG. 1 is a cross-sectional view of an IPS liquid crystal display device. The TFT in FIG. 1 is a so-called top gate type TFT, and LTPS (Low Temperature Poly-Si) is used as the semiconductor used. In FIG. 1, a first base film 101 made of SiN and a second base film 102 made of SiO 2 are formed on a glass substrate 100 by CVD (Chemical Vapor Deposition). The role of the first base film 101 and the second base film 102 is to prevent impurities from the glass substrate 100 from contaminating the semiconductor layer 103.

第2下地膜102の上には半導体層103が形成される。この半導体層103は第2下地膜102に上にCVDによってa−Si膜を形成し、これをレーザアニールすることによってpoly−Si膜に変換したものである。このpoly−Si膜をフォトリソグラフィによってパターニングする。 A semiconductor layer 103 is formed on the second base film 102. The semiconductor layer 103 is formed by forming an a-Si film on the second base film 102 by CVD and converting it into a poly-Si film by laser annealing. This poly-Si film is patterned by photolithography.

半導体膜103の上にはゲート絶縁膜104が形成される。このゲート絶縁膜104はTEOS(テトラエトキシシラン)によるSiO膜である。この膜もCVDによって形成される。その上にゲート電極105が形成される。ゲート電極105は走査線が兼ねている。ゲート電極105は例えば、MoW膜によって形成される。ゲート電極105あるいは走査線10の抵抗を小さくする必要があるときはAl合金が使用される。 A gate insulating film 104 is formed on the semiconductor film 103. The gate insulating film 104 is a SiO 2 film made of TEOS (tetraethoxysilane). This film is also formed by CVD. A gate electrode 105 is formed on the gate electrode 105. The gate electrode 105 also serves as a scanning line. The gate electrode 105 is formed of, for example, a MoW film. When it is necessary to reduce the resistance of the gate electrode 105 or the scanning line 10, an Al alloy is used.

ゲート電極105を覆って層間絶縁膜106をSiOによって形成する。層間絶縁膜106はゲート配線105とコンタクト電極107とを絶縁するためである。層間絶縁膜106およびゲート絶縁膜104には、半導体層103のソース部Sをコンタクト電極107と接続するためのスルーホール120が形成される。層間絶縁膜106とゲート絶縁膜104にスルーホール120を形成するためのフォトリソグラフィは同時に行われる。 The interlayer insulating film 106 is formed of SiO 2 so as to cover the gate electrode 105. This is because the interlayer insulating film 106 insulates the gate wiring 105 and the contact electrode 107. Through holes 120 for connecting the source portion S of the semiconductor layer 103 to the contact electrode 107 are formed in the interlayer insulating film 106 and the gate insulating film 104. Photolithography for forming through holes 120 in the interlayer insulating film 106 and the gate insulating film 104 is performed at the same time.

層間絶縁膜106の上にコンタクト電極107が形成される。コンタクト電極107は、スルーホール130を介して画素電極112と接続する。TFTは、図示しない部分においてドレイン線と接続している。 The contact electrode 107 is formed on the interlayer insulating film 106. The contact electrode 107 is connected to the pixel electrode 112 via a through hole 130. The TFT is connected to the drain wire at a portion (not shown).

コンタクト電極107およびドレイン線は、同層で、同時に形成される。コンタクト電極107およびドレイン線(以後コンタクト電極107で代表させる)は、抵抗を小さくするために、例えば、AlSi合金が使用される。AlSi合金はヒロックを発生したり、Alが他の層に拡散したりするので、例えば、図示しないMoWによるバリア層、およびキャップ層によってAlSiをサンドイッチする構造がとられている。 The contact electrode 107 and the drain wire are formed in the same layer at the same time. For the contact electrode 107 and the drain wire (hereinafter, represented by the contact electrode 107), for example, an AlSi alloy is used in order to reduce the resistance. Since the AlSi alloy generates hillocks and Al diffuses into other layers, for example, a barrier layer made of MoW (not shown) and a cap layer sandwich AlSi.

コンタクト電極107を覆って無機パッシベーション膜(絶縁膜)108を被覆し、TFT全体を保護する。無機パッシベーション膜108は第1下地膜101と同様にCVDによって形成される。無機パッシベーション膜108を覆って有機パッシベーション膜109が形成される。有機パッシベーション膜109は感光性のアクリル樹脂で形成される。有機パッシベーション膜109は、アクリル樹脂の他、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等でも形成することが出来る。有機パッシベーション膜109は平坦化膜としての役割を持っているので、厚く形成される。有機パッシベーション膜109の膜厚は1〜4μmであるが、多くの場合は2μm程度である。 The contact electrode 107 is covered with an inorganic passivation film (insulating film) 108 to protect the entire TFT. The inorganic passivation film 108 is formed by CVD in the same manner as the first base film 101. The organic passivation film 109 is formed so as to cover the inorganic passivation film 108. The organic passivation film 109 is made of a photosensitive acrylic resin. The organic passivation film 109 can be formed of a silicone resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like in addition to the acrylic resin. Since the organic passivation film 109 has a role as a flattening film, it is formed thick. The film thickness of the organic passivation film 109 is 1 to 4 μm, but in most cases it is about 2 μm.

画素電極112とコンタクト電極107との導通を取るために、有機パッシベーション膜109にスルーホール130が形成される。その後コモン電極110となるITO(Indium Tin Oxide)をスパッタリングによって形成し、スルーホール130およびその周辺からITOを除去するようにパターニングする。コモン電極110は各画素共通に平面状に形成することが出来る。コモン電極は初めに形成されるITOなので第1ITOと呼ばれることもある。 Through holes 130 are formed in the organic passivation film 109 in order to establish continuity between the pixel electrode 112 and the contact electrode 107. After that, ITO (Indium Tin Oxide) to be the common electrode 110 is formed by sputtering, and patterned so as to remove ITO from the through hole 130 and its periphery. The common electrode 110 can be formed in a flat shape in common with each pixel. Since the common electrode is an ITO formed at the beginning, it is sometimes called a first ITO.

その後、容量絶縁膜111となるSiNをCVDによって全面に形成する。その後、スルーホール130内において、コンタクト電極107と画素電極112の導通をとるためのスルーホールを容量絶縁膜111および無機パッシベーション膜108に形成する。 After that, SiN to be the capacitive insulating film 111 is formed on the entire surface by CVD. After that, in the through hole 130, a through hole for making the contact electrode 107 and the pixel electrode 112 conductive is formed in the capacitive insulating film 111 and the inorganic passivation film 108.

その後、ITOをスパッタリングによって形成し、パターニングして画素電極112を形成する。画素電極は2番目に形成されるITOなので第2ITOと呼ばれることもある。画素電極の平面は、例えば図6に示すような、屈曲したストライプ状である。画素電極を屈曲させるのは、視野角特性をより均一にするためである。画素電極112の上に配向膜材料をフレキソ印刷あるいはインクジェット等によって塗布し、焼成して配向膜113を形成する。配向膜113の配向処理にはラビング法のほか偏光紫外線による光配向法が用いられる。 After that, ITO is formed by sputtering and patterned to form the pixel electrode 112. Since the pixel electrode is the second ITO formed, it is sometimes called the second ITO. The plane of the pixel electrode has a curved stripe shape as shown in FIG. 6, for example. The reason why the pixel electrodes are bent is to make the viewing angle characteristics more uniform. The alignment film material is applied onto the pixel electrode 112 by flexographic printing, inkjet, or the like, and fired to form the alignment film 113. In addition to the rubbing method, a photo-alignment method using polarized ultraviolet rays is used for the alignment treatment of the alignment film 113.

画素電極112とコモン電極110の間に電圧が印加されると図1に示すような電気力線が発生する。この電界によって液晶分子301を回転させ、液晶層300を通過する光の量を画素毎に制御することによって画像を形成する。 When a voltage is applied between the pixel electrode 112 and the common electrode 110, electric lines of force as shown in FIG. 1 are generated. An image is formed by rotating the liquid crystal molecules 301 by this electric field and controlling the amount of light passing through the liquid crystal layer 300 for each pixel.

図1において、液晶層300を挟んで対向基板200が配置されている。対向基板200の内側には、カラーフィルタ201が形成されている。カラーフィルタ201は画素毎に、赤、緑、青のカラーフィルタが形成されており、これによってカラー画像が形成される。カラーフィルタ201とカラーフィルタ201の間にはブラックマトリクス202が形成され、画像のコントラストを向上させている。なお、ブラックマトリクス202はTFTの遮光膜としての役割も有し、TFTに光電流が流れることを防止している。 In FIG. 1, the opposing substrate 200 is arranged with the liquid crystal layer 300 interposed therebetween. A color filter 201 is formed inside the facing substrate 200. The color filter 201 is formed with red, green, and blue color filters for each pixel, whereby a color image is formed. A black matrix 202 is formed between the color filter 201 and the color filter 201 to improve the contrast of the image. The black matrix 202 also serves as a light-shielding film for the TFT, and prevents photocurrent from flowing through the TFT.

カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202を覆ってオーバーコート膜203が形成されている。カラーフィルタ201およびブラックマトリクス202の表面は凹凸となっているために、オーバーコート膜203によって表面を平らにしている。オーバーコート膜の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜113が形成される。配向膜113の配向処理はTFT基板100側の配向膜113と同様、ラビング法あるいは光配向法が用いられる。 The overcoat film 203 is formed so as to cover the color filter 201 and the black matrix 202. Since the surfaces of the color filter 201 and the black matrix 202 are uneven, the surfaces are flattened by the overcoat film 203. An alignment film 113 for determining the initial orientation of the liquid crystal is formed on the overcoat film. As for the alignment treatment of the alignment film 113, a rubbing method or a photoalignment method is used as in the alignment film 113 on the TFT substrate 100 side.

なお、以上の構成は例であり、例えば、品種によってTFT基板100における無機パッシベーション膜108が形成されていない場合もある。また、スルーホール130の形成プロセスも品種によって異なる場合がある。以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明する。 The above configuration is an example, and for example, the inorganic passivation film 108 in the TFT substrate 100 may not be formed depending on the product type. Further, the process of forming the through hole 130 may also differ depending on the type. The present invention will be described in detail below with reference to examples.

図2は異形表示パネルの例である。図2は、表示領域1000、外形とも、上下が直線で、側部が曲線であるようなレーストラック状となっている。図2はTFT基板側の平面図である。図2において、表示領域1000には、横方向に走査線10が延在し、縦方向にドレイン線20が延在し、走査線10とドレイン線20で囲まれた領域に画素が形成されている。 FIG. 2 is an example of a deformed display panel. FIG. 2 shows a race track shape in which both the display area 1000 and the outer shape are straight at the top and bottom and curved at the sides. FIG. 2 is a plan view of the TFT substrate side. In FIG. 2, in the display area 1000, the scanning lines 10 extend in the horizontal direction, the drain lines 20 extend in the vertical direction, and pixels are formed in the area surrounded by the scanning lines 10 and the drain lines 20. There is.

図2において、表示領域1000より下側には、セレクタ30とドライバIC40とが配置されている。ドライバIC40の外側は、フレキシブル配線基板と接続するための端子領域150となっている。表示領域1000のドレイン線20にはセレクタ30を介してドライバIC40から映像信号が供給される。ドレイン線20は、表示領域1000の横方向の画素分存在するが、ドライバIC40からセレクタ30までの映像信号引き出し線21の数は、例えば、ドレイン線の1/3である。なお、ドレイン線の数をNdとし、映像信号引き出し線の数をNvとすると、Nd/Nv=nで、nは2以上の整数となっている。 In FIG. 2, the selector 30 and the driver IC 40 are arranged below the display area 1000. The outside of the driver IC 40 is a terminal area 150 for connecting to the flexible wiring board. A video signal is supplied from the driver IC 40 to the drain line 20 of the display area 1000 via the selector 30. The drain line 20 exists for the pixels in the horizontal direction of the display area 1000, but the number of the video signal lead-out lines 21 from the driver IC 40 to the selector 30 is, for example, 1/3 of the drain line. Assuming that the number of drain lines is Nd and the number of video signal lead lines is Nv, Nd / Nv = n and n is an integer of 2 or more.

表示領域1000の両側には、走査線10に走査信号を供給するための走査回路11が存在している。図2では、セレクタ30が表示領域1000と隣接して配置されている。表示領域1000がレーストラック状であるため、表示領域1000の側部の曲線部の外側における領域Aにおいて、走査回路11と表示領域1000の間にセレクタ30が存在している。この場合、走査線10とセレクタ30との間で、配線上の干渉が生ずる。 Scanning circuits 11 for supplying scanning signals to the scanning lines 10 are present on both sides of the display area 1000. In FIG. 2, the selector 30 is arranged adjacent to the display area 1000. Since the display area 1000 has a race track shape, a selector 30 exists between the scanning circuit 11 and the display area 1000 in the area A outside the curved portion on the side of the display area 1000. In this case, wiring interference occurs between the scanning line 10 and the selector 30.

図9は、表示領域1000が矩形の場合の表示装置の平面図である。図9において、表示領域1000の下側にはセレクタ30とドライバIC40、端子部150が順に配置し、表示領域1000の両側には走査回路11が存在している。この場合は、走査回路11から延在する走査線10とセレクタ30との干渉はない。 FIG. 9 is a plan view of the display device when the display area 1000 is rectangular. In FIG. 9, the selector 30, the driver IC 40, and the terminal portion 150 are arranged in this order on the lower side of the display area 1000, and the scanning circuits 11 are present on both sides of the display area 1000. In this case, there is no interference between the scanning line 10 extending from the scanning circuit 11 and the selector 30.

本発明は、異形表示パネルにおいて、走査線10とセレクタ30との干渉を防止して、かつ、額縁領域を小さくする構成を与えるものである。図3はセレクタ30の構成を示す等価回路である。上側が表示領域側であり、下側がドライバIC側である。図3において、TFT51および画素容量52を有する画素50が横方向に配列している。各画素50には、ドレイン線20を介して映像信号が供給される。また、各画素50のTFT51は走査線10によって制御される。 The present invention provides a configuration for preventing interference between the scanning line 10 and the selector 30 and reducing the frame area in the deformed display panel. FIG. 3 is an equivalent circuit showing the configuration of the selector 30. The upper side is the display area side, and the lower side is the driver IC side. In FIG. 3, pixels 50 having a TFT 51 and a pixel capacity 52 are arranged in the horizontal direction. A video signal is supplied to each pixel 50 via the drain line 20. Further, the TFT 51 of each pixel 50 is controlled by the scanning line 10.

セレクタ30は表示領域外におけるドレイン引き出し線(映像信号引き出し線)21の数を減らすために配置され、表示領域の最外部に隣接して配置される。図3におけるセレクタによって、ドライバICから出力する映像信号引き出し線21の数はドレイン線20の1/3になっている。したがって、映像信号引き出し線21の引き回し配線のための面積を節約することが出来る。 The selector 30 is arranged to reduce the number of drain leader lines (video signal leader lines) 21 outside the display area, and is arranged adjacent to the outermost side of the display area. Due to the selector in FIG. 3, the number of video signal lead-out lines 21 output from the driver IC is 1/3 of the drain line 20. Therefore, it is possible to save the area for the routing wiring of the video signal lead wire 21.

一方、セレクタ30を制御するために、セレクタ制御線31が必要になる。図4は、図2の領域Aにおけるセレクタ30と画素50の配置を示す平面図である。図4において、赤画素R、緑画素G、青画素Bの3つの画素50のセットは、表示領域1000の外端が曲線に近似されるように、階段状に形成されている。各画素セットに対応するセレクタ30は画素セットに隣接して形成されている。従来は、表示領域1000の外端部に隣接して、表示領域のコモン電極にコモン電圧を供給するコモンバス配線が形成されていたが、本発明では、セレクタ30が配置している点が異なっている。 On the other hand, in order to control the selector 30, the selector control line 31 is required. FIG. 4 is a plan view showing the arrangement of the selector 30 and the pixel 50 in the area A of FIG. In FIG. 4, the set of the three pixels 50 of the red pixel R, the green pixel G, and the blue pixel B is formed in a stepped shape so that the outer end of the display area 1000 is approximated by a curve. The selector 30 corresponding to each pixel set is formed adjacent to the pixel set. Conventionally, a common bus wiring for supplying a common voltage to a common electrode in the display region has been formed adjacent to the outer end portion of the display region 1000, but the present invention differs in that the selector 30 is arranged. There is.

各画素には、図4の横方向の外側に配置する走査回路から走査線が接続される。つまり、セレクタ30はセレクタ用TFTを有しているが、セレクタ用TFTのゲート電極、すなわち、セレクタ制御線と走査線の干渉を防ぐ必要がある。 A scanning line is connected to each pixel from a scanning circuit arranged outside in the horizontal direction of FIG. That is, although the selector 30 has a selector TFT, it is necessary to prevent interference between the gate electrode of the selector TFT, that is, the selector control line and the scanning line.

図5は、ドレイン線20が形成された状態までにおける表示領域端部付近の配線レイアウトを示す平面図である。図5の表示領域には、くの字型に屈曲したドレイン線20が縦方向に延在して横方向に配列し、走査線10が横方向に延在して縦方向に配列している。ドレイン線20と走査線10とで囲まれた領域が画素であり、画素電極が形成されるが、図5では、まだ、画素電極は形成されていない。図5において、点線より、ドレイン線20が形成された側が表示領域になっている。 FIG. 5 is a plan view showing a wiring layout near the end of the display area up to the state where the drain line 20 is formed. In the display area of FIG. 5, drain lines 20 bent in a dogleg shape extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction, and scanning lines 10 extend in the horizontal direction and are arranged in the vertical direction. .. The region surrounded by the drain line 20 and the scanning line 10 is a pixel, and a pixel electrode is formed, but in FIG. 5, the pixel electrode is not yet formed. In FIG. 5, the side on which the drain line 20 is formed is the display area from the dotted line.

最外周の画素に隣接してセレクタ用TFT32がドレイン線20毎に配置している。各セレクタ用TFT32にゲート信号を送るための3本のセレクタ制御線31がセレクタ用TFT32の外側に延在している。走査線10とセレクタ制御信号線31との干渉を防止するために、セレクタ制御線31はドレイン線20と同じ層で配線し、セレクタ用TFT32と接続する直前でスルーホールを介して走査線10と同じ層に乗りかえている。これによって、表示領域が異形であっても、セレクタ30を表示領域に隣接して配置することが出来る。 A selector TFT 32 is arranged for each drain line 20 adjacent to the outermost pixel. Three selector control lines 31 for sending a gate signal to each selector TFT 32 extend outside the selector TFT 32. In order to prevent interference between the scanning line 10 and the selector control signal line 31, the selector control line 31 is wired in the same layer as the drain line 20, and immediately before connecting to the selector TFT 32, the selector control line 31 and the scanning line 10 are connected through a through hole. I'm switching to the same layer. As a result, the selector 30 can be arranged adjacent to the display area even if the display area is irregular.

セットになった3つのセレクタ用TFT32には、共通して映像信号引き出し線21を介して映像信号が送られる。この映像信号を、セレクタ制御線31を介する信号によって、ドレイン線20に振り分けて供給する。したがって、図5では、映像信号引き出し線21の数はドレイン線20の数の1/3になっている。本願発明では、セレクタを表示領域に近接して設けている。そのため、映像信号引き出し線21と走査線とが交差することとなる。しかし、セレクタを表示領域から離間して設けた場合は、映像信号引き出し線と走査線との交差箇所を減らすことができるが、ドレイン線との交差数が増加してしまう。本願発明の構成により、走査線とドレイン線との交差箇所数を減らすことができる。更に、セレクタ制御線31を映像信号引き出し線とセレクタとの間に設けることにより、セレクタ制御線と映像信号引き出し線との交差個所を少なくすることが出来るとともに、セレクタ制御線の長さを短くすることができる。尚、図5では、セレクタ制御線をセレクタに沿って配置しているが、映像線引き出し線と平行に設けることも可能である。それにより、セレクタ制御線の長さを更に短くすることが可能となる。 A video signal is commonly sent to the three selector TFTs 32 as a set via the video signal lead-out line 21. This video signal is distributed and supplied to the drain line 20 by the signal passing through the selector control line 31. Therefore, in FIG. 5, the number of video signal lead-out lines 21 is one-third of the number of drain lines 20. In the present invention, the selector is provided close to the display area. Therefore, the video signal lead-out line 21 and the scanning line intersect. However, when the selector is provided away from the display area, the number of intersections between the video signal lead-out line and the scanning line can be reduced, but the number of intersections with the drain line increases. According to the configuration of the present invention, the number of intersections between the scanning line and the drain line can be reduced. Further, by providing the selector control line 31 between the video signal lead-out line and the selector, the number of intersections between the selector control line and the video signal lead-out line can be reduced, and the length of the selector control line can be shortened. be able to. Although the selector control line is arranged along the selector in FIG. 5, it can be provided in parallel with the video line leader line. As a result, the length of the selector control line can be further shortened.

ところで、図4に示すように、各セレクタで受け持つY方向の画素の数はX方向によって異なっている。例えば、表示領域1000の外形が直線となっている部分では、セレクタ30が受け持つ画素の数は320画素、表示領域の外形が曲線になっている部分での、セレクタ30が受け持つ画素の最も少ない数は6画素である。 By the way, as shown in FIG. 4, the number of pixels in the Y direction handled by each selector differs depending on the X direction. For example, in the portion where the outer shape of the display area 1000 is a straight line, the number of pixels handled by the selector 30 is 320 pixels, and in the portion where the outer shape of the display area is curved, the number of pixels handled by the selector 30 is the smallest. Is 6 pixels.

そうすると、各セレクタ30で受け持つ配線の抵抗や容量が異なり、したがって、信号の大きさや遅延等が場所によって異なることになる。これを防止するために、本発明では、セレクタ用TFT32のチャンネル幅を場所によって変えている。例えば、直線部に配置するセレクタ用TFT32のチャンネル幅は曲線部に配置されるおけるセレクタ用TFT32のチャンネル幅よりも大きくする。また、曲線部に配置するセレクタ用TFT32のチャンネル幅も場所によって変えている。これによって、異形表示パネルであっても均一な画像を形成することが出来る。 Then, the resistance and capacitance of the wiring handled by each selector 30 are different, and therefore the magnitude and delay of the signal are different depending on the location. In order to prevent this, in the present invention, the channel width of the selector TFT 32 is changed depending on the location. For example, the channel width of the selector TFT 32 arranged in the straight portion is made larger than the channel width of the selector TFT 32 arranged in the curved portion. Further, the channel width of the selector TFT 32 arranged on the curved portion is also changed depending on the location. As a result, a uniform image can be formed even on a deformed display panel.

図6は、図5と同じ領域に対し画素電極112まで形成した状態における平面図である。すなわち、図5に対し、無機パッシベーション膜、有機パッシベーション膜、コモン電極、容量絶縁膜、画素電極が積層して形成された状態である。図6において、点線より、ドレイン線20が形成された側が表示領域になっている。 FIG. 6 is a plan view in a state where the pixel electrodes 112 are formed in the same region as in FIG. That is, with respect to FIG. 5, the inorganic passivation film, the organic passivation film, the common electrode, the capacitive insulating film, and the pixel electrode are laminated and formed. In FIG. 6, the side on which the drain line 20 is formed is the display area from the dotted line.

図6において、透明電極であるコモン電極110がスルーホール130を除く全面に形成されている。表示領域において、ドレイン線20と走査線10とで囲まれた領域に画素電極112がITOによって形成されている。表示領域の外側には、画素電極112と同じ形状のダミー画素電極1121が表示領域の画素電極112と同じピッチで形成されている。これによって、表示領域の最外部における画素電極112が他の表示領域内の画素電極112と同様のプロセス条件で形成できるようにしている。後で述べるように、ダミーの画素電極1121には、コモン電圧を印加することが出来る。 In FIG. 6, the common electrode 110, which is a transparent electrode, is formed on the entire surface except for the through hole 130. In the display region, the pixel electrode 112 is formed by ITO in the region surrounded by the drain line 20 and the scanning line 10. On the outside of the display area, dummy pixel electrodes 1121 having the same shape as the pixel electrodes 112 are formed at the same pitch as the pixel electrodes 112 in the display area. As a result, the pixel electrode 112 on the outermost side of the display region can be formed under the same process conditions as the pixel electrode 112 in the other display region. As will be described later, a common voltage can be applied to the dummy pixel electrode 1121.

図7は図5、のA−Aに対応する断面図であり、セレクタ用TFT32付近の断面図を示している。層構造は、図1で説明した表示領域における断面構造と同じである。すなわち、半導体層103の上にゲート絶縁膜104が形成され、その上にゲート電極105が形成され、これを覆って層間絶縁膜106が形成されている。 FIG. 7 is a cross-sectional view corresponding to AA of FIG. 5, and shows a cross-sectional view of the vicinity of the selector TFT 32. The layer structure is the same as the cross-sectional structure in the display area described with reference to FIG. That is, the gate insulating film 104 is formed on the semiconductor layer 103, the gate electrode 105 is formed on the gate insulating film 104, and the interlayer insulating film 106 is formed over the gate electrode 105.

ゲート電極105はセレクタ制御線31に接続されており、ソース電極は映像信号線21となっている。また、ドレイン電極はドレイン線20である。すなわち、セレクタ用TFT32はソース電極が並列して2個形成されている。ドレイン電極およびソース電極を覆って無機パッシベーション膜108が形成され、その上に有機パッシベーション膜109が形成されている。有機パッシベーション膜109の上には、平面状にITOで形成されたコモン電極110が形成されている。 The gate electrode 105 is connected to the selector control line 31, and the source electrode is the video signal line 21. The drain electrode is the drain wire 20. That is, the selector TFT 32 has two source electrodes formed in parallel. An inorganic passivation film 108 is formed so as to cover the drain electrode and the source electrode, and an organic passivation film 109 is formed on the inorganic passivation film 108. On the organic passivation film 109, a common electrode 110 formed of ITO in a plane is formed.

コモン電極110を覆って容量絶縁膜111が形成され、その上にダミー画素電極1121が形成されている。すなわち、本発明では、セレクタ用TFT32の上をコモン電極110で覆う形となっている。このコモン電極110は表示領域のコモン電極110と連続して形成されている。このような構成とすることによって、セレクタ30をコモン電極110でシールドすることになる。そして、コモン電極110には、セレクタ30よりもさらに外側に形成されたコモン配線(コモンバス配線)からコモン電圧が供給される。 A capacitive insulating film 111 is formed so as to cover the common electrode 110, and a dummy pixel electrode 1121 is formed on the capacitive insulating film 111. That is, in the present invention, the selector TFT 32 is covered with the common electrode 110. The common electrode 110 is formed continuously with the common electrode 110 in the display region. With such a configuration, the selector 30 is shielded by the common electrode 110. Then, a common voltage is supplied to the common electrode 110 from the common wiring (common bus wiring) formed further outside the selector 30.

従来は、コモンバス配線は表示領域に隣接して形成されていたが、本発明の構成では、コモンバス配線はセレクタ30よりも外側に形成される。このような構成とすることによって、セレクタ制御線31をドレイン線20あるいはコモンバス配線と同層で形成することが出来るようになる。 Conventionally, the common bus wiring is formed adjacent to the display area, but in the configuration of the present invention, the common bus wiring is formed outside the selector 30. With such a configuration, the selector control line 31 can be formed in the same layer as the drain line 20 or the common bus wiring.

図6に示すダミー画素電極1121をフロートにしたくない場合は、図7の右側に示すように、容量絶縁膜111にスルーホール140を形成して、ダミー画素電極1121にコモン電圧を供給することが出来る。なお、容量絶縁膜111に形成するスルーホール140は表示領域におけるスルーホール130内において、容量絶縁膜111に形成するスルーホールと同時に形成することが出来る。 If the dummy pixel electrode 1121 shown in FIG. 6 is not desired to be floated, a through hole 140 may be formed in the capacitive insulating film 111 to supply a common voltage to the dummy pixel electrode 1121 as shown on the right side of FIG. You can. The through hole 140 formed in the capacitive insulating film 111 can be formed at the same time as the through hole formed in the capacitive insulating film 111 in the through hole 130 in the display region.

以上説明したように、本発明によれば、異形表示パネルの場合であっても、表示領域と隣接してセレクタを形成することができるので、異形表示パネルにおける額縁領域の面積の増大を防止することが出来る。また、セレクタをコモン電極によってシールドすることが出来、かつ、セレクタ用TFTのチャンネル幅を場所によって変化させることによって、異形表示パネルにおいても均一な画面を形成することが出来る。 As described above, according to the present invention, even in the case of the deformed display panel, the selector can be formed adjacent to the display area, so that the area of the frame area in the deformed display panel is prevented from increasing. Can be done. Further, the selector can be shielded by the common electrode, and the channel width of the selector TFT can be changed depending on the location, so that a uniform screen can be formed even on a deformed display panel.

以上は図2に示すようなレーストラック状の異形表示パネルについて説明したが、これに限らず、例えば、図8に示すようなハート型異形表示パネルについても適用することが出来る。図8の形状に対しては、図2で説明したのとほとんど同じ構成を適用することが出来る。つまり、図8の領域Aは図2の領域Aと同様な構成とすることが出来る。ただし、図8では表示領域の上部が直線ではないので、表示領域の下方に配置するセレクタ用TFTの容量、すなわち、チャンネル幅は、直線部においても変える必要がある。 The above has described the racetrack-shaped irregular shape display panel as shown in FIG. 2, but the present invention is not limited to this, and for example, the heart-shaped irregular shape display panel as shown in FIG. 8 can also be applied. Almost the same configuration as described in FIG. 2 can be applied to the shape of FIG. That is, the area A in FIG. 8 can have the same configuration as the area A in FIG. However, since the upper part of the display area is not a straight line in FIG. 8, the capacitance of the selector TFT arranged below the display area, that is, the channel width needs to be changed also in the straight line part.

図2、図8等の異形表示領域は、直線と曲線の組み合わせであるが、3角形、5角形、6角形等の辺が直線の組み合わせで形成された表示領域を有する表示装置に対しても本発明を適用することが出来る。また、図2、図8等は走査回路が画面の両側に存在しているが、走査回路は画面の片側に存在する場合にも本発明を適用することが出来る。尚、本発明は、液晶表示装置に限定されるものではなく、矩形以外の形状の表示領域を有し、表示領域のドレイン線(映像信号線)に対し、映像信号を時分割で供給するセレクタ(スイッチ回路)を有する、有機EL型表示装置等、表示装置全般に適用することが可能となる。 The irregular display area shown in FIGS. 2 and 8 is a combination of a straight line and a curved line, but it can also be used for a display device having a display area in which sides such as a triangle, a pentagon, and a hexagon are formed by a combination of straight lines. The present invention can be applied. Further, although the scanning circuits are present on both sides of the screen in FIGS. 2 and 8, the present invention can be applied even when the scanning circuits are present on one side of the screen. The present invention is not limited to the liquid crystal display device, but has a display area having a shape other than a rectangular shape, and supplies a video signal to the drain line (video signal line) of the display area in a time-divided manner. It can be applied to all display devices such as organic EL type display devices having (switch circuit).

10…走査線、 11…走査回路、 20…ドレイン線、 21…映像信号線、 30…セレクタ、 31…セレクタ制御信号線、 32…セレクタ用TFT、 40…ドライバIC、 50…画素、 51…画素用TFT、 52…画素容量、 100…TFT基板、 101…第1下地膜、 102…第2下地膜、 103…半導体層、 104…ゲート絶縁膜、 105…ゲート電極、 106…層間絶縁膜、 107…コンタクト電極、 108…無機パッシベーション膜、 109…有機パッシベーション膜、 110…コモン電極、 111…容量絶縁膜、 112…画素電極、 113…配向膜、 120…第1スルーホール、 130…第2スルーホール、 140…スルーホール、 150…端子領域、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ、 202…ブラックマトリクス、 203…オーバーコート膜、 300…液晶層、 301…液晶分子、 1121…ダミー画素電極、 D…ドレイン部、S…ソース部 10 ... scanning line, 11 ... scanning circuit, 20 ... drain line, 21 ... video signal line, 30 ... selector, 31 ... selector control signal line, 32 ... selector TFT, 40 ... driver IC, 50 ... pixel, 51 ... pixel TFT, 52 ... pixel capacity, 100 ... TFT substrate, 101 ... first base film, 102 ... second base film, 103 ... semiconductor layer, 104 ... gate insulating film, 105 ... gate electrode, 106 ... interlayer insulating film, 107 ... contact electrode, 108 ... inorganic passivation film, 109 ... organic passivation film, 110 ... common electrode, 111 ... capacitive insulating film, 112 ... pixel electrode, 113 ... alignment film, 120 ... first through hole, 130 ... second through hole , 140 ... through hole, 150 ... terminal area, 200 ... opposed substrate, 201 ... color filter, 202 ... black matrix, 203 ... overcoat film, 300 ... liquid crystal layer, 301 ... liquid crystal molecule, 1121 ... dummy pixel electrode, D ... Drain part, S ... Source part

Claims (8)

走査線と、ドレイン線と、画素電極とが形成されたTFT基板を有する表示装置であって、
前記表示装置は、非矩形の表示領域と、前記表示領域を囲む周辺領域と、を有しており、
前記走査線は、走査信号を供給し、前記表示領域に沿って、前記周辺領域に配置された走査回路に接続されており、
前記画素電極は、前記表示領域に位置する第1画素電極と、前記周辺領域に位置する第2画素電極と、を有しており、
前記走査線は、前記周辺領域において、前記ドレイン線の延在方向に延びる第1部分を有しており、
前記第2画素電極は前記ドレイン線の延在方向と直角方向に前記第1画素電極と同じピッチで配列し、
前記第1画素電極は、平面視において、前記走査線と前記ドレイン線とで囲まれており、
前記第1画素電極と隣接する前記第2画素電極は、平面視において、前記第1部分と重畳していることを特徴とする表示装置。
A display device having a TFT substrate on which a scanning line, a drain line, and a pixel electrode are formed.
The display device has a non-rectangular display area and a peripheral area surrounding the display area.
The scanning line supplies a scanning signal and is connected to a scanning circuit arranged in the peripheral region along the display region.
The pixel electrode has a first pixel electrode located in the display region and a second pixel electrode located in the peripheral region.
The scanning line has a first portion extending in the extending direction of the drain line in the peripheral region.
The second pixel electrodes are arranged at the same pitch as the first pixel electrodes in a direction perpendicular to the extending direction of the drain line.
The first pixel electrode is surrounded by the scanning line and the drain line in a plan view.
A display device characterized in that the second pixel electrode adjacent to the first pixel electrode is superimposed on the first portion in a plan view.
さらに、前記周辺領域に位置する映像信号引き出し線を有しており、
前記映像信号引き出し線は、セレクタを介して前記ドレイン線と接続しており、
前記周辺領域において、前記走査線と前記映像信号引き出し線とが交差していることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
Further, it has a video signal lead wire located in the peripheral area.
The video signal lead-out line is connected to the drain line via a selector, and is connected to the drain line.
The display device according to claim 1, wherein the scanning line and the video signal lead-out line intersect in the peripheral region.
前記セレクタは、セレクタTFTを有しており、
前記セレクタTFTのゲートに接続されたセレクタ制御線は、前記ドレイン線と同じ層に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
The selector has a selector TFT and has a selector TFT.
The display device according to claim 2, wherein the selector control line connected to the gate of the selector TFT is formed in the same layer as the drain line.
前記第2画素電極は、ダミー画素電極である請求項1乃至3の何れか一項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 3, wherein the second pixel electrode is a dummy pixel electrode. 前記第2画素電極は、平面視において、前記セレクタ制御線と重畳していることを特徴とする請求項3に記載の表示装置。 The display device according to claim 3, wherein the second pixel electrode is superimposed on the selector control line in a plan view. 前記第2画素電極は、平面視において、前記映像信号引き出し線と重畳していることを特徴とする請求項2に記載の表示装置。 The display device according to claim 2, wherein the second pixel electrode is superimposed on the video signal leader line in a plan view. 前記セレクタ制御線と前記走査線とは、絶縁膜を介して交差し、
前記セレクタ制御線と前記映像信号引き出し線とは、前記絶縁膜を介して交差していることを特徴とする請求項3に記載の表示装置。
The selector control line and the scanning line intersect with each other via an insulating film.
The display device according to claim 3, wherein the selector control line and the video signal lead-out line intersect with each other via the insulating film.
前記第2画素電極には、コモン電圧が供給されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の表示装置。 The display device according to any one of claims 1 to 7, wherein a common voltage is supplied to the second pixel electrode.
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JP4013401B2 (en) * 1999-04-20 2007-11-28 セイコーエプソン株式会社 ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ELECTRONIC DEVICE
CN1763591A (en) * 2004-10-18 2006-04-26 财团法人工业技术研究院 non-rectangular display
WO2007034599A1 (en) * 2005-09-26 2007-03-29 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
JP4300227B2 (en) * 2006-08-23 2009-07-22 株式会社 日立ディスプレイズ Display device
JP4518199B2 (en) * 2007-10-23 2010-08-04 エプソンイメージングデバイス株式会社 Electro-optic device
JP6156044B2 (en) * 2013-10-10 2017-07-05 セイコーエプソン株式会社 Liquid crystal device and electronic device

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