Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP6972560B2 - Control device, machining system and control method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP6972560B2 - Control device, machining system and control method - Google Patents

Control device, machining system and control method Download PDF

Info

Publication number
JP6972560B2
JP6972560B2 JP2017005184A JP2017005184A JP6972560B2 JP 6972560 B2 JP6972560 B2 JP 6972560B2 JP 2017005184 A JP2017005184 A JP 2017005184A JP 2017005184 A JP2017005184 A JP 2017005184A JP 6972560 B2 JP6972560 B2 JP 6972560B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
value
output value
output
waveform
timing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017005184A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018116969A (en
Inventor
良尚 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2017005184A priority Critical patent/JP6972560B2/en
Publication of JP2018116969A publication Critical patent/JP2018116969A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6972560B2 publication Critical patent/JP6972560B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
  • Drilling And Boring (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

本発明は、電動ドリルの動作を制御する制御装置、制御システムおよび制御方法に関する。特に、本発明は、多層配線基板に形成されたビアスタブを掘削加工する電動ドリルの動作を制御する制御装置、制御システムおよび制御方法に関する。 The present invention relates to a control device, a control system and a control method for controlling the operation of an electric drill. In particular, the present invention relates to a control device, a control system, and a control method for controlling the operation of an electric drill for excavating a via stub formed on a multilayer wiring board.

一般的な多層配線基板において、信号の配線層を変更するためには、異なる層間を電気的に接続するためにビアが形成される。多層配線基板の最表層と内層とを接続するビアを形成する際に基板を貫通するスルーホールを形成すると、信号伝送経路から外れたスルーホール部分がスタブ(以下、ビアスタブ)として機能する。伝送路上のビアにビアスタブがある場合、インピーダンス整合が取れているビアであっても、ビアスタブの影響で伝送路のインピーダンス特性が悪化することがある。 In a general multilayer wiring board, in order to change the wiring layer of a signal, vias are formed to electrically connect different layers. When a through hole penetrating the substrate is formed when forming a via connecting the outermost layer and the inner layer of the multilayer wiring board, the through hole portion deviated from the signal transmission path functions as a stub (hereinafter referred to as a via stub). When the vias on the transmission line have via stubs, the impedance characteristics of the transmission line may deteriorate due to the influence of the via stubs even if the vias have impedance matching.

ビアスタブによるインピーダンス特性の悪化を回避する方法の一つとして、バックドリル工法によるビアスタブの除去が挙げられる。しかし、一般的なバックドリル工法には、ドリル加工の精度によっては、余分なビアスタブが残ってしまったり、ビアを削りすぎてしまったりという問題点があった。 One of the methods for avoiding the deterioration of the impedance characteristic due to the via stub is the removal of the via stub by the back drill method. However, the general back drilling method has a problem that an extra via stub remains or the via is cut too much depending on the accuracy of the drilling process.

特許文献1の配線板は、スルーホールの加工状態を検査するための検査用スルーホールを備える。検査用スルーホールは、スルーホールの周囲に形成され、スルーホールと電気的に接続されている。特許文献1によれば、バックドリル穴が開けられたスルーホールと検査用スルーホールとの間の通電状態を検査することによって、スルーホールの除去状態を判断できる。 The wiring board of Patent Document 1 includes an inspection through hole for inspecting the processed state of the through hole. The inspection through hole is formed around the through hole and is electrically connected to the through hole. According to Patent Document 1, the removed state of the through hole can be determined by inspecting the energized state between the through hole having the back drill hole and the through hole for inspection.

特許文献2には、多層回路基板を貫通するビアのスタブ部分をバックドリル加工によって適切に除去できる方法について開示されている。特許文献2の方法では、ビアスタブを穿孔する際に、ビアスタブに隣接して回路基板内に埋め込まれ、該ビアスタブから電気的に絶縁されているコンタクトパッドにフィードバック信号を付与する。そして、特許文献2の方法では、ビアスタブに隣接した絶縁材料を除去する穿孔加工によって形成される孔がコンタクトパッドに達し、フィードバック信号が受け取られた時点で穿孔を停止することによって適切にビアスタブを除去できる。 Patent Document 2 discloses a method in which a stub portion of a via penetrating a multilayer circuit board can be appropriately removed by back drilling. In the method of Patent Document 2, when the via stub is drilled, a feedback signal is applied to the contact pad embedded in the circuit board adjacent to the via stub and electrically isolated from the via stub. Then, in the method of Patent Document 2, the holes formed by the drilling process for removing the insulating material adjacent to the via stub reach the contact pad, and when the feedback signal is received, the drilling is stopped to appropriately remove the via stub. can.

特開2008−218925号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-218925 特表2007−509487号公報Special Table 2007-509487

特許文献1の配線板を用いれば、バックドリル穴が開けられたスルーホールに関して、スルーホールの加工状態を検査することが可能となる。しかし、特許文献1の配線板は、スルーホールを加工しすぎた場合には不良品になってしまうという問題点があった。 By using the wiring board of Patent Document 1, it is possible to inspect the processed state of the through hole with respect to the through hole in which the back drill hole is drilled. However, the wiring board of Patent Document 1 has a problem that it becomes a defective product when the through hole is processed too much.

特許文献2の方法によれば、ビアスタブを除去することを防止できるため、スルーホールを加工しすぎることはない。しかし、ビアのインピーダンスは、主に、ビアの長さに応じた誘導成分と、ビアスタブの容量成分とによって決まるため、特許文献2の方法によって精度よくビアスタブを除去できたとしても、ビアのインピーダンスが最適になるとは限らない。 According to the method of Patent Document 2, since it is possible to prevent the via stub from being removed, the through hole is not over-processed. However, since the impedance of the via is mainly determined by the inductive component according to the length of the via and the capacitance component of the via stub, even if the via stub can be removed accurately by the method of Patent Document 2, the impedance of the via is high. It is not always optimal.

また、特許文献1および2の手法は、バックドリル穴の加工精度を検査するためのスルーホールが設けられた専用の多層回路基板に対してではないと用いることができないという問題点があった。 Further, the methods of Patent Documents 1 and 2 have a problem that they can be used only for a dedicated multilayer circuit board provided with a through hole for inspecting the processing accuracy of the back drill hole.

本発明の目的は、上述した課題を解決し、多層配線基板に形成されたビアのインピーダンスが適切な値になるようにビアスタブを精度よく加工するための制御装置を提供することにある。 An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a control device for accurately processing a via stub so that the impedance of a via formed on a multilayer wiring board becomes an appropriate value.

本発明の一態様に係る制御装置は、多層配線基板に形成されたビアを掘削加工するドリルの動作を制御する制御装置であって、ビアと電気的に接続された配線に印加するためのステップ波形を発生させるステップ波形発生回路と、配線に印加されたステップ波形の反射波をサンプリングし、ステップ波形の反射波形を出力するサンプリング回路と、サンプリング回路の出力した反射波形を入力とし、所望のインピーダンス値に対応する設定電圧値と反射波形の電圧値とを比較し、反射波形の電圧値と設定電圧値との比較結果に応じて第1の出力値を遷移させる比較器と、ステップ波形と第1の出力値とを入力とし、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、設定された所定のタイミングと、ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで第2の出力値を遷移させ、サンプリングクロックに同期して、第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させ、第1の出力値に応じて遷移した第3の出力値を第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させ、多層配線基板の主面に対して略垂直方向にドリルを移動させる制御をする制御回路とを備える。 The control device according to one aspect of the present invention is a control device that controls the operation of a drill for excavating a via formed on a multilayer wiring board, and is a step for applying the voltage to a wiring electrically connected to the via. A step waveform generation circuit that generates a waveform, a sampling circuit that samples the reflected wave of the step waveform applied to the wiring and outputs the reflected waveform of the step waveform, and a sampling circuit that outputs the reflected waveform of the sampling circuit as inputs, and the desired impedance. A comparator that compares the set voltage value corresponding to the value with the voltage value of the reflection waveform and transitions the first output value according to the comparison result between the voltage value of the reflection waveform and the set voltage value, and the step waveform and the first The output value of 1 is used as an input, the rising edge of the step waveform is used as a trigger, and the second output value is transitioned between the set predetermined timing and the falling timing of the step waveform, and synchronized with the sampling clock. The third output value is transitioned according to the first output value, the third output value that is transitioned according to the first output value is transitioned at the timing when the second output value is transitioned, and the multilayer wiring board is used. It is equipped with a control circuit that controls the movement of the drill in a direction substantially perpendicular to the main surface.

本発明の一態様に係る制御方法は、多層配線基板に形成されたビアを加工するドリルの動作を制御する制御方法であって、ビアと電気的に接続された配線にステップ波形を印加し、配線に印加されたステップ波形の反射波をサンプリングしてステップ波形の反射波形を生成し、所望のインピーダンス値に対応する設定電圧値と反射波形とを比較し、反射波形の電圧値と設定電圧値との比較結果に応じて第1の出力値を遷移させ、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、設定された所定のタイミングと、ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで第2の出力値を遷移させ、所定のサンプリングクロックに同期させて、第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させ、第1の出力値に応じて遷移した第3の出力値を第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させ、第3の出力値の遷移に応じて、多層配線基板の主面に対して略垂直方向にドリルを移動させる制御をする。 The control method according to one aspect of the present invention is a control method for controlling the operation of a drill for processing a via formed on a multilayer wiring board, and a step waveform is applied to a wiring electrically connected to the via. The reflected wave of the step waveform applied to the wiring is sampled to generate the reflected waveform of the step waveform, the set voltage value corresponding to the desired impedance value and the reflected waveform are compared, and the voltage value and the set voltage value of the reflected waveform are compared. The first output value is transitioned according to the comparison result with, and the second output value is transitioned between the set predetermined timing and the falling timing of the step waveform by using the rising edge of the step waveform as a trigger. Synchronized with a predetermined sampling clock, the third output value is transitioned according to the first output value, and the second output value is transitioned from the third output value that is transitioned according to the first output value. The transition is performed at the timing, and the drill is controlled to move in a direction substantially perpendicular to the main surface of the multilayer wiring board according to the transition of the third output value.

本発明によれば、多層配線基板に形成されたビアのインピーダンスが適切な値になるようにビアスタブを精度よく加工するための制御装置を提供することが可能になる。 According to the present invention, it is possible to provide a control device for accurately processing a via stub so that the impedance of a via formed on a multilayer wiring board becomes an appropriate value.

本発明の第1の実施形態に係る加工システムの構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムが加工する加工対象基板の一部の断面図である。It is sectional drawing of a part of the substrate to be processed to be processed by the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによって加工対象基板を加工する一例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows an example of processing a substrate to be processed by the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムの制御装置の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the control device of the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによって加工された加工対象基板の一部の断面図である。It is sectional drawing of a part of the processing target substrate processed by the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによって加工対象基板を加工するための条件を設定する手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the procedure for setting the condition for processing a substrate to be processed by the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによって加工対象基板の加工条件を設定するためのユーザインターフェースの一例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows an example of the user interface for setting the processing condition of the processing target substrate by the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムの制御装置の動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation of the control device of the processing system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによってビアスタブを加工する際に各回路から出力される波形のタイムチャートである。It is a time chart of the waveform output from each circuit when the via stub is machined by the machining system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係る加工システムによってビアスタブを加工する際に各回路から出力される波形のタイムチャートである。It is a time chart of the waveform output from each circuit when the via stub is machined by the machining system which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る加工システムの制御装置の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the control device of the processing system which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る加工システムが実行するビア位置検出モードにおいて取得されるステップ波形の反射波形の一例である。This is an example of the reflected waveform of the step waveform acquired in the via position detection mode executed by the machining system according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係る加工システムが実行するビア位置検出モードにおいて取得されるステップ波形の反射波形の一例である。This is an example of the reflected waveform of the step waveform acquired in the via position detection mode executed by the machining system according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係る加工システムにおけるビア位置検出モードに関する手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the procedure about the via position detection mode in the processing system which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の各実施形態に係る制御装置のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the hardware composition of the control device which concerns on each embodiment of this invention.

以下に、本発明を実施するための形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がされているが、発明の範囲を以下に限定するものではない。なお、以下の実施形態の説明に用いる全図においては、特に理由がない限り、同様箇所には同一符号を付す。また、以下の実施形態において、同様の構成・動作に関しては繰り返しの説明を省略する場合がある。また、図面中の矢印の向きは、一例を示すものであり、ブロック間の信号の向きを限定するものではない。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, although the embodiments described below have technically preferable limitations for carrying out the present invention, the scope of the invention is not limited to the following. In all the drawings used in the following embodiments, the same reference numerals are given to the same parts unless there is a specific reason. Further, in the following embodiments, repeated explanations may be omitted for similar configurations and operations. Further, the direction of the arrow in the drawing shows an example, and does not limit the direction of the signal between the blocks.

(第1の実施形態)
(構成)
まず、本発明の第1の実施形態に係る制御システムの構成について、図面を参照しながら説明する。
(First Embodiment)
(composition)
First, the configuration of the control system according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施形態に係る加工システム1の構成を示す概念図である。図1のように、本実施形態の加工システム1は、制御装置10、プローブ20、ドリル30を備える。加工システム1は、加工対象である多層配線基板に含まれるビアのビアスタブを、バックドリル工法によってドリル30で掘削加工するためのシステムである。 FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of a processing system 1 according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the machining system 1 of the present embodiment includes a control device 10, a probe 20, and a drill 30. The processing system 1 is a system for excavating a via stub included in a multilayer wiring board to be processed by a drill 30 by a back drill method.

図2は、図1の加工システム1の加工対象である多層配線基板(以下、加工対象基板100)の一部の断面図である。加工対象基板100は、複数の絶縁層101と複数の配線層102とが交互に積層された構造を有する。なお、加工対象基板100のビア105を掘削加工するモードのことをビア掘削加工モードと呼ぶ。 FIG. 2 is a cross-sectional view of a part of the multilayer wiring board (hereinafter referred to as the machined object substrate 100) which is the machined object of the machined system 1 of FIG. The substrate 100 to be processed has a structure in which a plurality of insulating layers 101 and a plurality of wiring layers 102 are alternately laminated. The mode for excavating the via 105 of the substrate 100 to be processed is called a via excavation processing mode.

加工対象基板100には、第1の主面100−1(上側)から第2の主面100−2(下面)を貫く貫通孔の内面にはめっき層(以下、スルーホール)が形成されている。加工対象基板100に形成されたスルーホール(以下、ビア105が形成されている。 In the substrate 100 to be processed, a plating layer (hereinafter, through hole) is formed on the inner surface of the through hole penetrating the first main surface 100-1 (upper side) to the second main surface 100-2 (lower surface). There is. Through holes (hereinafter, vias 105) formed in the substrate 100 to be processed are formed.

ビア105は、第1の主面100−1に形成された配線106に電気的に接続されるとともに、加工対象基板100の内部の配線層102の一つである配線107に電気的に接続される。すなわち、第1の主面100−1に形成された配線106と、加工対象基板100の内部の配線層102とは一つの配線を構成する。 The via 105 is electrically connected to the wiring 106 formed on the first main surface 100-1, and is also electrically connected to the wiring 107 which is one of the wiring layers 102 inside the substrate 100 to be processed. NS. That is, the wiring 106 formed on the first main surface 100-1 and the wiring layer 102 inside the processing target substrate 100 form one wiring.

また、ビア105のうち、配線106と配線107とによって構成される信号線として機能せず、スタブとして機能する部分をビアスタブ108と呼ぶ。図2においては、破線で囲ったビア105の一部がビアスタブ108に相当する。 Further, a portion of the via 105 that does not function as a signal line composed of the wiring 106 and the wiring 107 but functions as a stub is called a via stub 108. In FIG. 2, a part of the via 105 surrounded by the broken line corresponds to the via stub 108.

図3は、加工システム1に加工対象基板100をセットする一例を示す概念図である。なお、図3においては、加工システム1が加工対象基板100を下方から加工する様子を図示しているが、加工システム1が加工対象基板100を上側から加工するように構成してもよい。また、加工システム1は、主面が鉛直方向に沿って配置された加工対象基板100を加工したり、主面が鉛直方向に対して斜めに配置された加工対象基板100を加工したりしてもよい。 FIG. 3 is a conceptual diagram showing an example of setting a processing target substrate 100 in the processing system 1. Although FIG. 3 shows how the processing system 1 processes the processing target substrate 100 from below, the processing system 1 may be configured to process the processing target substrate 100 from above. Further, the processing system 1 processes the processing target substrate 100 whose main surface is arranged along the vertical direction, or processes the processing target substrate 100 whose main surface is arranged diagonally with respect to the vertical direction. May be good.

図3のように、加工対象基板100のビア105をバックドリル工法によって加工する際には、加工対象基板100の第1の主面100−1に配された配線106にプローブ20を電気的に接触させる。そして、加工システム1は、加工対象基板100の第2の主面100−2側から加工対象のビア105のビアスタブ108をドリル30によって掘削加工する。 As shown in FIG. 3, when the via 105 of the substrate 100 to be machined is machined by the back drill method, the probe 20 is electrically connected to the wiring 106 arranged on the first main surface 100-1 of the board 100 to be machined. Make contact. Then, the processing system 1 excavates the via stub 108 of the via 105 to be processed by the drill 30 from the second main surface 100-2 side of the substrate 100 to be processed.

ここで、加工システム1の構成について図面を参照しながら説明する。以下において、各構成要素が出力する波形は、電圧値の時間変化を示す。 Here, the configuration of the machining system 1 will be described with reference to the drawings. In the following, the waveform output by each component shows the time change of the voltage value.

制御装置10は、プローブ20を介してステップ波形を配線106に印加し、印加したステップ波形の反射波形をサンプリングする。制御装置10は、サンプリングした反射波形と、予め設定された特性インピーダンスの設定値(以下、Z0設定値)とを比較する。制御装置10は、サンプリングした反射波形の出力とZ0設定値との大小関係に基づいて、ドリル30を制御する。なお、Z0設定値は、所望のインピーダンス値Z0を設定するための電圧値である。 The control device 10 applies a step waveform to the wiring 106 via the probe 20, and samples the reflected waveform of the applied step waveform. The control device 10 compares the sampled reflection waveform with a preset characteristic impedance set value (hereinafter, Z 0 set value). The control device 10 controls the drill 30 based on the magnitude relationship between the output of the sampled reflection waveform and the Z 0 set value. The Z 0 setting value is a voltage value for setting a desired impedance value Z 0.

例えば、制御装置10は、サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値よりも小さいときには、ビアスタブ108に起因するインピーダンスに改善の余地があるため、ビアスタブ108を掘削加工するようにドリル30を制御する。例えば、制御装置10は、サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値以上になったときには、ビアスタブ108に起因するインピーダンスが適切であるため、掘削加工を停止させるようにドリル30を制御する。 For example, when the output of the sampled reflection waveform is smaller than the Z 0 set value, the control device 10 controls the drill 30 so as to excavate the via stub 108 because there is room for improvement in the impedance caused by the via stub 108. .. For example, the control device 10 controls the drill 30 so as to stop the excavation process because the impedance caused by the via stub 108 is appropriate when the output of the sampled reflection waveform becomes the Z 0 set value or more.

プローブ20は、加工対象基板100に形成されたビア105のビアスタブ108を加工する際に、そのビア105と電気的に接続された配線106に接触させるための端子である。また、プローブ20は、加工対象基板100の配線106にステップ波形を印加するための端子であるとともに、ステップ波形の反射波形をサンプリングするための端子である。 The probe 20 is a terminal for contacting the wiring 106 electrically connected to the via 105 when processing the via stub 108 of the via 105 formed on the substrate 100 to be processed. Further, the probe 20 is a terminal for applying a step waveform to the wiring 106 of the substrate 100 to be processed, and is also a terminal for sampling the reflected waveform of the step waveform.

ドリル30は、モータによって回転駆動され、加工対象基板100に掘削加工するための電動工具である。ドリル30には、掘削対象であるビア105の導電部分を除去するのに適したドリル径のものを用いる。ドリル30の材質は、加工対象基板100やビアスタブ108の材料の硬度などに合わせたものを選択すればよい。 The drill 30 is an electric tool that is rotationally driven by a motor to excavate the substrate 100 to be machined. As the drill 30, a drill having a diameter suitable for removing the conductive portion of the via 105 to be excavated is used. The material of the drill 30 may be selected according to the hardness of the material of the substrate 100 to be processed and the via stub 108.

ドリル30は、加工対象基板100のビアスタブ108を掘削するために、図示しない回転制御手段によって回転数が制御される。ドリル30は、制御装置10の制御に応じて、図10のz方向に沿って、加工対象基板100の第2の主面から第1の主面に向けて移動するように制御される。なお、ドリル30の回転数も制御装置10によって制御するように構成してもよい。すなわち、ドリル30は、加工対象基板100の主面に対して略垂直な方向に掘削加工するように配置される。 The rotation speed of the drill 30 is controlled by a rotation control means (not shown) in order to excavate the via stub 108 of the substrate 100 to be machined. The drill 30 is controlled to move from the second main surface to the first main surface of the machined substrate 100 along the z direction of FIG. 10 according to the control of the control device 10. The rotation speed of the drill 30 may also be controlled by the control device 10. That is, the drill 30 is arranged so as to be drilled in a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate 100 to be machined.

例えば、ドリル30は、サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値よりも小さいときには、ビアスタブ108に起因するインピーダンスに改善の余地があるため、ビアスタブ108を掘削加工するように制御装置10によって制御される。例えば、ドリル30は、サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値以上になったときには、ビア105のインピーダンスが適切であるため、掘削加工を停止させるように制御装置10によって制御される。 For example, when the output of the sampled reflection waveform is smaller than the Z 0 set value, the drill 30 is controlled by the control device 10 to excavate the via stub 108 because there is room for improvement in the impedance caused by the via stub 108. NS. For example, the drill 30 is controlled by the control device 10 so as to stop the excavation process because the impedance of the via 105 is appropriate when the output of the sampled reflection waveform becomes the Z 0 set value or more.

〔制御装置〕
次に、本実施形態の制御装置10について図面を参照しながら説明する。図4は、制御装置10の構成を示す概念図である。図4のように、制御装置10は、ステップ波形発生回路11、サンプリング回路12、Z0設定カウンタ13、Z0比較器14、タイマー15、フリップフロップ16(F/F:Flip-Flop)、ドリル制御回路17を備える。
〔Control device〕
Next, the control device 10 of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a conceptual diagram showing the configuration of the control device 10. As shown in FIG. 4, the control device 10 includes a step waveform generation circuit 11, a sampling circuit 12, a Z 0 setting counter 13, a Z 0 comparator 14, a timer 15, a flip-flop 16 (F / F: Flip-Flop), and a drill. A control circuit 17 is provided.

ステップ波形発生回路11は、タイマー15およびプローブ20に接続される。 The step waveform generation circuit 11 is connected to the timer 15 and the probe 20.

ステップ波形発生回路11は、ステップ波形を発生させる。ステップ波形発生回路11は、発生させたステップ波形を、プローブ20を介して配線106に印加する。また、ステップ波形発生回路11は、タイマー15にステップ波形を出力する。すなわち、ステップ波形発生回路11は、ビア105と電気的に接続された配線106に印加するためのステップ波形を発生させる。 The step waveform generation circuit 11 generates a step waveform. The step waveform generation circuit 11 applies the generated step waveform to the wiring 106 via the probe 20. Further, the step waveform generation circuit 11 outputs the step waveform to the timer 15. That is, the step waveform generation circuit 11 generates a step waveform to be applied to the wiring 106 electrically connected to the via 105.

サンプリング回路12は、プローブ20およびZ0比較器14に接続される。 The sampling circuit 12 is connected to the probe 20 and the Z 0 comparator 14.

サンプリング回路12は、ステップ波形を配線106に印加した際の反射波形をサンプリングする。サンプリング回路12は、サンプリングした反射波形をZ0比較器14に出力する。すなわち、サンプリング回路12は、配線106に印加されたステップ波形の反射成分をサンプリングし、ステップ波形の反射波形を出力する。 The sampling circuit 12 samples the reflected waveform when the step waveform is applied to the wiring 106. The sampling circuit 12 outputs the sampled reflection waveform to the Z 0 comparator 14. That is, the sampling circuit 12 samples the reflected component of the step waveform applied to the wiring 106 and outputs the reflected waveform of the step waveform.

0設定カウンタ13(カウンタとも呼ぶ)は、Z0比較器14に接続される。なお、Z0設定カウンタ13は、所望のインピーダンス値Z0を入力するための入力手段(図示しない)に接続される。 The Z 0 setting counter 13 (also referred to as a counter) is connected to the Z 0 comparator 14. The Z 0 setting counter 13 is connected to an input means (not shown) for inputting a desired impedance value Z 0.

0設定カウンタ13は、所望のインピーダンス値Z0に対応する電圧値であるZ0設定値を設定するための論理回路である。Z0設定カウンタ13には、図示しない入力手段によって所望のインピーダンス値Z0が設定される。Z0設定カウンタ13は、所望のインピーダンス値Z0に対応した電圧値であるZ0設定値(設定電圧値とも呼ぶ)をZ0比較器14に出力する。すなわち、Z0設定カウンタ13は、所望のインピーダンス値Z0に対応するZ0設定値を出力する。なお、Z0設定カウンタ13を省略し、所望のインピーダンス値Z0に対応するZ0設定値をZ0比較器14に入力するように構成してもよい。 The Z 0 setting counter 13 is a logic circuit for setting a Z 0 setting value, which is a voltage value corresponding to a desired impedance value Z 0. A desired impedance value Z 0 is set in the Z 0 setting counter 13 by an input means (not shown). The Z 0 setting counter 13 outputs a Z 0 set value (also referred to as a set voltage value), which is a voltage value corresponding to a desired impedance value Z 0 , to the Z 0 comparator 14. That is, the Z 0 setting counter 13 outputs the Z 0 setting value corresponding to the desired impedance value Z 0. The Z 0 setting counter 13 may be omitted, and the Z 0 setting value corresponding to the desired impedance value Z 0 may be input to the Z 0 comparator 14.

0比較器14(比較器とも呼ぶ)は、サンプリング回路12、Z0設定カウンタ13およびフリップフロップ16に接続される。 The Z 0 comparator 14 (also referred to as a comparator) is connected to the sampling circuit 12, the Z 0 setting counter 13, and the flip-flop 16.

0比較器14は、サンプリング回路12によってサンプリングされた反射波形と、Z0設定カウンタ13に設定されたZ0設定値とを入力とし、サンプリングされた反射波形とZ0設定値とを比較する。Z0比較器14は、サンプリングされた反射波形とZ0設定値との比較結果をフリップフロップ16に出力する。例えば、Z0比較器14は、サンプリングされた反射波形の電圧値がZ0設定値を上回るタイミングや下回るタイミングで、出力値を遷移させる。すなわち、Z0比較器14は、反射波形の電圧値とZ0設定値とを比較した比較結果に応じて出力値を遷移させる。Z0比較器14の出力値のことを第1の出力値とも呼ぶ。 The Z 0 comparator 14 inputs the reflected waveform sampled by the sampling circuit 12 and the Z 0 set value set in the Z 0 setting counter 13, and compares the sampled reflection waveform with the Z 0 set value. .. The Z 0 comparator 14 outputs the comparison result between the sampled reflection waveform and the Z 0 set value to the flip-flop 16. For example, the Z 0 comparator 14 transitions the output value at the timing when the voltage value of the sampled reflection waveform exceeds or falls below the Z 0 set value. That is, the Z 0 comparator 14 transitions the output value according to the comparison result of comparing the voltage value of the reflected waveform and the Z 0 set value. The output value of the Z 0 comparator 14 is also referred to as a first output value.

タイマー15は、ステップ波形発生回路11およびフリップフロップ16に接続される。 The timer 15 is connected to the step waveform generation circuit 11 and the flip-flop 16.

タイマー15は、タイマー設定値が設定され、ステップ波形発生回路11からステップ波形を入力とする。ビア105からの反射成分が反射波形に現れるタイミングがタイマー設定値(所定のタイミングとも呼ぶ)としてタイマー15に設定される。 A timer set value is set in the timer 15, and the step waveform is input from the step waveform generation circuit 11. The timing at which the reflection component from the via 105 appears in the reflection waveform is set in the timer 15 as a timer set value (also referred to as a predetermined timing).

タイマー15は、ステップ波形が「Low」から「High」に遷移する際の立ち上がりをトリガとしてカウントをスタートし、タイマー設定値分の時間が経過したタイミングで論理的に「High」に相当する電圧値(以下、「High」)を出力する。そして、タイマー15は、ステップ波形が「High」から「Low」に遷移する際の立ち下がりをトリガとして論理的に「Low」に相当する電圧値(以下、「Low」)を出力する。 The timer 15 starts counting with the rising edge when the step waveform transitions from "Low" to "High" as a trigger, and the voltage value logically corresponding to "High" at the timing when the time corresponding to the timer set value has elapsed. (Hereinafter, "High") is output. Then, the timer 15 outputs a voltage value (hereinafter, “Low”) logically corresponding to “Low” triggered by a fall when the step waveform transitions from “High” to “Low”.

すなわち、タイマー15は、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、ビア105からの反射成分が反射波形に現れるタイミングと、ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで出力値を遷移させる。タイマー15の出力値のことを第2の出力値とも呼ぶ。これ以降、各構成要素の出力に関して、電圧値が「Low」の状態を第1の状態、電圧値が「High」の状態を第2の状態とも呼ぶ。 That is, the timer 15 uses the rising edge of the step waveform as a trigger to transition the output value between the timing at which the reflected component from the via 105 appears in the reflected waveform and the timing at which the reflected component from the step waveform falls. The output value of the timer 15 is also called a second output value. Hereinafter, with respect to the output of each component, the state in which the voltage value is “Low” is also referred to as a first state, and the state in which the voltage value is “High” is also referred to as a second state.

フリップフロップ16は、図示しないクロック発生回路、Z0比較器14およびドリル制御回路17に接続される。 The flip-flop 16 is connected to a clock generation circuit (not shown), a Z 0 comparator 14 and a drill control circuit 17.

フリップフロップ16は、図示しないクロック発生回路からサンプリングクロック(以下、サンプリングCLK:Clock)を入力とし、Z0比較器14の出力と、タイマー15の出力とを入力とする。フリップフロップ16の出力は、ドリル制御回路17に出力される。サンプリングCLKは、図示しないクロック発生回路から発生させるように構成してもよいし、外部から取得するように構成してもよい。 The flip-flop 16 inputs a sampling clock (hereinafter, sampling CLK: Clock) from a clock generation circuit (not shown), and inputs the output of the Z 0 comparator 14 and the output of the timer 15. The output of the flip-flop 16 is output to the drill control circuit 17. The sampling CLK may be configured to be generated from a clock generation circuit (not shown) or may be configured to be acquired from the outside.

フリップフロップ16は、サンプリングCLKに同期して、Z0比較器14の出力値を読み込む。フリップフロップ16は、タイマー15の出力が「High」のときはZ0比較器14の出力値を保持し、タイマー15の出力が「Low」のときはZ0比較器14の出力値をリセットする。すなわち、フリップフロップ16は、サンプリングクロックに同期して、Z0比較器14による比較結果を読み込み、タイマー15のカウントに応じてZ0比較器14の出力値を保持またはリセットする。フリップフロップ16の出力値のことを第3の出力値とも呼ぶ。 The flip-flop 16 reads the output value of the Z 0 comparator 14 in synchronization with the sampling CLK. The flip-flop 16 holds the output value of the Z 0 comparator 14 when the output of the timer 15 is “High”, and resets the output value of the Z 0 comparator 14 when the output of the timer 15 is “Low”. .. That is, the flip-flop 16 reads the comparison result by the Z 0 comparator 14 in synchronization with the sampling clock, and holds or resets the output value of the Z 0 comparator 14 according to the count of the timer 15. The output value of the flip-flop 16 is also referred to as a third output value.

ドリル制御回路17は、フリップフロップ16の出力値に基づいて、ビアスタブ108を所定量だけ掘削加工するようにドリル30を移動させる制御する。 The drill control circuit 17 controls to move the drill 30 so as to excavate the via stub 108 by a predetermined amount based on the output value of the flip-flop 16.

ドリル制御回路17は、フリップフロップの出力が「Low」から「High」に切り替わるタイミングで、加工対象基板100を所定量だけ掘削加工させるためにドリル30を+Z方向に移動させる制御をする。また、ドリル制御回路17は、ビアスタブ108の掘削加工が終了すると、加工対象基板100の内部からドリル30を抜くためにドリル30を−Z方向に移動させる制御をする。なお、ビアスタブ108の掘削加工が終了した際に、不要であれば加工対象基板100の内部からドリル30を抜かなくてもよい。すなわち、ドリル制御回路17は、フリップフロップ16の出力値の遷移に応じてドリル30を加工対象基板100の主面に対して略垂直方向に移動させる制御をする。なお、略垂直方向とは、加工対象基板100に形成されたビア105の貫通方向に沿った方向である。 The drill control circuit 17 controls to move the drill 30 in the + Z direction in order to excavate the substrate 100 to be machined by a predetermined amount at the timing when the output of the flip-flop switches from “Low” to “High”. Further, the drill control circuit 17 controls to move the drill 30 in the −Z direction in order to remove the drill 30 from the inside of the substrate 100 to be machined when the drilling of the via stub 108 is completed. When the excavation of the via stub 108 is completed, it is not necessary to remove the drill 30 from the inside of the substrate 100 to be processed if it is not necessary. That is, the drill control circuit 17 controls to move the drill 30 in a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate 100 to be machined according to the transition of the output value of the flip-flop 16. The substantially vertical direction is a direction along the penetrating direction of the via 105 formed on the substrate 100 to be processed.

図4において破線で囲んだタイマー15とフリップフロップ16とドリル制御回路17とは、制御回路を構成する。制御回路は、ステップ波形を入力とし、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、設定された所定のタイミングと、ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで第2の出力値を遷移させる。また、制御回路は、第1の出力値を入力として、サンプリングクロックに同期して、第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させる。そして、制御回路は、第1の出力値に応じて遷移した第3の出力値を第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させ、加工対象基板100(多層配線基板)の主面に対して略垂直方向にドリル30を移動させる制御をする。 The timer 15, the flip-flop 16, and the drill control circuit 17 surrounded by the broken line in FIG. 4 form a control circuit. The control circuit takes the step waveform as an input, and uses the rising edge of the step waveform as a trigger to transition the second output value between the set predetermined timing and the falling timing of the step waveform. Further, the control circuit takes the first output value as an input and synchronizes with the sampling clock to make a transition of the third output value according to the first output value. Then, the control circuit shifts the third output value that has transitioned according to the first output value at the timing at which the second output value transitions, with respect to the main surface of the machined substrate 100 (multilayer wiring board). It controls the movement of the drill 30 in a substantially vertical direction.

以上が、制御装置10の構成についての説明である。 The above is the description of the configuration of the control device 10.

図5は、加工システム1によって加工された加工対象基板100の一部の断面図である。図5のように、加工システム1は、ビアスタブ108を完全に除去するわけではなく、ビアスタブの一部(ビアスタブ109)を残存させるように加工対象基板100を加工する。図2においては、破線で囲ったビア105の部分が、掘削加工の後に残存するビアスタブ109である。すなわち、本実施形態の加工システム1は、ビアスタブ108の全てを掘削加工して除去するわけではなく、インピーダンスが適切な値になる程度のビアスタブ109を残存させる。なお、ビアスタブ109が残存しない方が適切な値インピーダンスを得られる場合は、必ずしもビアスタブ109を残存させなくてもよい。 FIG. 5 is a cross-sectional view of a part of the processing target substrate 100 processed by the processing system 1. As shown in FIG. 5, the processing system 1 does not completely remove the via stub 108, but processes the processing target substrate 100 so that a part of the via stub (via stub 109) remains. In FIG. 2, the portion of the via 105 surrounded by the broken line is the via stub 109 remaining after the excavation process. That is, the processing system 1 of the present embodiment does not excavate and remove all of the via stub 108, but leaves the via stub 109 to such an extent that the impedance becomes an appropriate value. If it is possible to obtain an appropriate value impedance when the via stub 109 does not remain, the via stub 109 does not necessarily have to remain.

(動作)
〔準備〕
次に、ドリル30の掘削条件を設定する手順について図面を参照しながら説明する。図6は、ドリル30の掘削条件を設定する手順を示すフローチャートである。
(motion)
[Preparation]
Next, the procedure for setting the excavation conditions of the drill 30 will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a flowchart showing a procedure for setting the excavation conditions of the drill 30.

図6において、まず、掘削対象のビア105の位置にドリルを設定する(ステップS11)。例えば、加工対象基板100の主面に二次元座標系(以下、xy座標系)を設定し、加工対象のビア105の位置をxy座標系上の位置座標で設定すればよい。 In FIG. 6, first, a drill is set at the position of the via 105 to be excavated (step S11). For example, a two-dimensional coordinate system (hereinafter referred to as xy coordinate system) may be set on the main surface of the substrate 100 to be processed, and the position of the via 105 to be processed may be set by the position coordinates on the xy coordinate system.

次に、Z0設定カウンタ13に所望のインピーダンス値を設定する(ステップS12)。例えば、Z0設定カウンタ13には、図示しない入力装置によって所望のインピーダンス値を設定する。このとき、Z0設定カウンタ13は、所望のインピーダンス値に対応する電圧値をZ0設定値として算出する。 Next, a desired impedance value is set in the Z 0 setting counter 13 (step S12). For example, a desired impedance value is set in the Z 0 setting counter 13 by an input device (not shown). At this time, the Z 0 setting counter 13 calculates the voltage value corresponding to the desired impedance value as the Z 0 setting value.

そして、加工対象のビア105の位置に対応したタイマー設定値をタイマー15に設定する(ステップS13)。 Then, the timer set value corresponding to the position of the via 105 to be machined is set in the timer 15 (step S13).

例えば、以上のステップS11〜ステップS13の設定は、図7のようなユーザインターフェース110を用いて入力できる。ユーザインターフェース110は、ドリル30の掘削条件を入力する際にユーザに提示する画面情報であり、任意の表示装置に表示させることができる。 For example, the above settings in steps S11 to S13 can be input using the user interface 110 as shown in FIG. 7. The user interface 110 is screen information presented to the user when inputting the excavation conditions of the drill 30, and can be displayed on any display device.

図7は、パーソナルコンピュータ(以下、PC:Personal Computer)の画面にユーザインターフェース110を表示させる例である。ユーザインターフェース110は、掘削対象のビアスタブ位置(x、y)を入力するための第1の入力部111と、所望のインピーダンスを入力するための第2の入力部112と、タイマー設定値を入力するための第3の入力部113とを含む。 FIG. 7 is an example of displaying the user interface 110 on the screen of a personal computer (hereinafter, PC: Personal Computer). The user interface 110 inputs a first input unit 111 for inputting a via stub position (x, y) to be excavated, a second input unit 112 for inputting a desired impedance, and a timer set value. A third input unit 113 for the purpose is included.

すなわち、第1の入力部は、加工対象基板100の主面上に設定される平面座標系における加工対象のビア105の位置を入力するため入力部である。第2の入力部は、所望のインピーダンス値Z0をZ0設定カウンタ13に設定するための入力部である。第3の入力部は、タイマー設定値をタイマー15に入力するための入力部である。 That is, the first input unit is an input unit for inputting the position of the via 105 to be processed in the plane coordinate system set on the main surface of the processing target substrate 100. The second input unit is an input unit for setting a desired impedance value Z 0 in the Z 0 setting counter 13. The third input unit is an input unit for inputting the timer set value to the timer 15.

また、ユーザインターフェース110には、各入力部をアクティブにするためのポインター115を図示している。ユーザは、マウスなどの入力手段を用いてポインター115を所望の入力部の上に移動させて各入力部をアクティブとし、キーボードなどを用いて所望の数値を入力する。 Further, the user interface 110 is illustrated with a pointer 115 for activating each input unit. The user moves the pointer 115 onto a desired input unit using an input means such as a mouse to activate each input unit, and inputs a desired numerical value using a keyboard or the like.

図7には、x座標として数値AA、y座標として数値BBを第1の入力部111に入力し、所望インピーダンスとしてCCを第2の入力部112に入力して、タイマー設定値としてDDを第3の入力部113に入力する例を示している。なお、図7のユーザインターフェース110は一例であって、制御装置10に設定する各種の設定値もここで挙げた限りではない。 In FIG. 7, the numerical value AA as the x-coordinate and the numerical value BB as the y-coordinate are input to the first input unit 111, CC is input to the second input unit 112 as the desired impedance, and DD is input as the timer setting value. An example of inputting to the input unit 113 of 3 is shown. The user interface 110 of FIG. 7 is an example, and various setting values set in the control device 10 are not limited to those mentioned here.

〔ドリル制御:概略〕
ここで、制御装置10によるドリル制御の概略について図面を参照しながら説明する。図8は、制御装置10のドリル制御について説明するためのフローチャートである。なお、図8のフローチャートに沿った処理に先立って、プローブ20を配線106に接触した状態とし、加工対象のビア105の位置にドリル30を配置しておく。
[Drill control: outline]
Here, the outline of the drill control by the control device 10 will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a flowchart for explaining the drill control of the control device 10. Prior to the process according to the flowchart of FIG. 8, the probe 20 is in contact with the wiring 106, and the drill 30 is placed at the position of the via 105 to be machined.

図8において、まず、制御装置10は、ビア105を含む配線106にプローブ20を介してステップ波形を印加する(ステップS21)。 In FIG. 8, first, the control device 10 applies a step waveform to the wiring 106 including the via 105 via the probe 20 (step S21).

次に、制御装置10は、配線106に印加されたステップ波形の反射波形をサンプリングする(ステップS22)。 Next, the control device 10 samples the reflected waveform of the step waveform applied to the wiring 106 (step S22).

次に、制御装置10は、サンプリングした反射波形の出力と、Z0設定値とを比較する(ステップS23)。 Next, the control device 10 compares the output of the sampled reflection waveform with the Z 0 set value (step S23).

サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値よりも小さい場合(ステップS23でYes)、制御装置10は、ドリル30を+Z方向に所定量移動させるように制御する(ステップS24)。ステップS24の後は、ステップS21に戻る。ドリル30を移動する際の所定量は、ビア105の加工精度等に応じて予め設定しておく値である。 When the output of the sampled reflection waveform is smaller than the Z 0 set value (Yes in step S23), the control device 10 controls the drill 30 to move by a predetermined amount in the + Z direction (step S24). After step S24, the process returns to step S21. The predetermined amount when moving the drill 30 is a value set in advance according to the machining accuracy of the via 105 and the like.

一方、サンプリングした反射波形の出力がZ0設定値よりも大きい場合(ステップS23でNo)、図8のフローチャートに沿った処理は終了とする。 On the other hand, when the output of the sampled reflection waveform is larger than the Z 0 set value (No in step S23), the process according to the flowchart of FIG. 8 is terminated.

以上が、制御装置10によるドリル制御の概略についての説明である。 The above is a description of the outline of the drill control by the control device 10.

〔ドリル制御:詳細〕
次に、図9および図10のタイムチャートを用いて、制御装置10の動作の詳細について説明する。図9および図10に示す各波形は、下記の通りに対応付けられる。
(1):ステップ波形出力(ステップ波形発生回路11の出力)
(2):Z0設定カウンタ出力(Z0設定カウンタ13の出力)
(3):サンプリング回路出力(サンプリング回路12の出力)
(4):Z0比較器出力(Z0設定カウンタ出力とサンプリング回路出力との比較結果)
(5):タイマー出力(タイマー15の出力)
(6):サンプリングCLK
(7):F/F出力(フリップフロップ16の出力)
図9は、ビア105を掘削加工する前段階もしくは途中段階におけるタイムチャートである。
[Drill control: Details]
Next, the details of the operation of the control device 10 will be described with reference to the time charts of FIGS. 9 and 10. The waveforms shown in FIGS. 9 and 10 are associated with each other as follows.
(1): Step waveform output (output of step waveform generation circuit 11)
(2): Z 0 setting counter output (output of Z 0 setting counter 13)
(3): Sampling circuit output (output of sampling circuit 12)
(4): Z 0 comparator output ( comparison result between Z 0 setting counter output and sampling circuit output)
(5): Timer output (output of timer 15)
(6): Sampling CLK
(7): F / F output (output of flip-flop 16)
FIG. 9 is a time chart in the pre-stage or intermediate stage of excavation of the via 105.

まず、時刻t1において、ステップ波形発生回路11は、プローブ20を介してステップ波形(1)を配線106に印加する。ステップ波形(1)が配線106に印加されると、配線106の各所のインピーダンスに応じた反射波形が発生する。サンプリング回路12は、ステップ波形発生回路11によって印加されたステップ波形(1)の反射波形をサンプリングする。 First, at time t 1 , the step waveform generation circuit 11 applies the step waveform (1) to the wiring 106 via the probe 20. When the step waveform (1) is applied to the wiring 106, a reflection waveform corresponding to the impedance of each part of the wiring 106 is generated. The sampling circuit 12 samples the reflected waveform of the step waveform (1) applied by the step waveform generation circuit 11.

0比較器14には、Z0設定カウンタ13に予め設定されたインピーダンス値に対応する電圧値であるZ0設定カウンタ出力(2)と、サンプリング回路12によってサンプリングされた反射波形であるサンプリング回路出力(3)とが入力される。Z0比較器14は、Z0設定カウンタ13のZ0設定カウンタ出力(2)と、サンプリング回路12のサンプリング回路出力(3)とを比較し、比較結果であるZ0比較器出力(4)を出力する。 The Z 0 comparator 14 has a Z 0 setting counter output (2), which is a voltage value corresponding to an impedance value preset in the Z 0 setting counter 13, and a sampling circuit, which is a reflection waveform sampled by the sampling circuit 12. The output (3) and is input. The Z 0 comparator 14 compares the Z 0 setting counter output (2) of the Z 0 setting counter 13 with the sampling circuit output (3) of the sampling circuit 12, and is a comparison result of the Z 0 comparator output (4). Is output.

サンプリング回路出力(3)がZ0設定カウンタ出力(2)よりも小さい場合、Z0比較器14は、Z0比較器出力(4)として0(以下、「Low」)をフリップフロップ16に出力する。図9において、Z0比較器14は、時刻t2から時刻t3までの間と、時刻t4以降にフリップフロップ16に「Low」を出力する。 When the sampling circuit output (3) is smaller than the Z 0 setting counter output (2), the Z 0 comparator 14 outputs 0 (hereinafter, “Low”) as the Z 0 comparator output (4) to the flip-flop 16. do. In FIG. 9, the Z 0 comparator 14 outputs “Low” to the flip-flop 16 between the time t 2 and the time t 3 and after the time t 4.

一方、サンプリング回路出力(3)がZ0設定カウンタ出力(2)よりも大きい場合、Z0比較器14は、Z0比較器出力(4)として論理的に「High」に相当する電圧値(以下、「High」)をフリップフロップ16に出力する。図9において、Z0比較器14は、時刻t2以前と、時刻t3から時刻t4までの間、フリップフロップ16に「High」を出力する。 On the other hand, when the sampling circuit output (3) is larger than the Z 0 setting counter output (2), the Z 0 comparator 14 has a voltage value (High) that logically corresponds to "High" as the Z 0 comparator output (4). Hereinafter, “High”) is output to the flip-flop 16. In FIG. 9, the Z 0 comparator 14 outputs “High” to the flip-flop 16 before time t 2 and between time t 3 and time t 4.

タイマー15は、ステップ波形出力(1)のRiseエッジ(時刻t1)をトリガとしてカウントを開始する。タイマー15は、カウントを開始してからタイマー設定値(時間t3−t1)が経過したタイミング(時刻t3)で、タイマー出力(5)として「High」をフリップフロップ16に出力する。 The timer 15 starts counting with the Rise edge (time t 1 ) of the step waveform output (1) as a trigger. The timer 15 outputs “High” as the timer output (5) to the flip-flop 16 at the timing (time t 3 ) when the timer set value (time t 3 − t 1) has elapsed since the start of counting.

フリップフロップ16は、サンプリングCLK(6)に同期して、Z0比較器出力(4)を読み込む。フリップフロップ16は、タイマー出力(5)が「High」のときは、Z0比較器出力(4)を保持する。一方、フリップフロップ16は、タイマー出力(5)が「Low」のときはZ0比較器出力(4)をリセットする。 The flip-flop 16 reads the Z 0 comparator output (4) in synchronization with the sampling CLK (6). The flip-flop 16 holds the Z 0 comparator output (4) when the timer output (5) is “High”. On the other hand, the flip-flop 16 resets the Z 0 comparator output (4) when the timer output (5) is “Low”.

ビアスタブ108がある場合、Z0比較器出力(4)が「High」になり、タイマー出力(5)は「High」となる。このとき、F/F出力(7)は、「High」に相当する電圧値になる。そして、タイマー出力(5)が「Low」になると、F/F出力(7)は「Low」になる。 When there is a via stub 108, the Z 0 comparator output (4) becomes “High” and the timer output (5) becomes “High”. At this time, the F / F output (7) becomes a voltage value corresponding to “High”. Then, when the timer output (5) becomes “Low”, the F / F output (7) becomes “Low”.

時刻t5において、ステップ波形出力(1)が「Low」に遷移すると、タイマー出力(5)は「Low」に遷移し、F/F出力(7)も「Low」に遷移する。このとき、ドリル制御回路17は、F/F出力(7)が「High」から「Low」に遷移したFallエッジ(時刻t5)において、ビアスタブ108を所定量掘削するために、ドリル30を+Z方向に移動させる制御をする。 At time t 5 , when the step waveform output (1) transitions to “Low”, the timer output (5) transitions to “Low”, and the F / F output (7) also transitions to “Low”. At this time, the drill control circuit 17 + Z the drill 30 in order to excavate a predetermined amount of the via stub 108 at the Fall edge (time t 5 ) at which the F / F output (7) has transitioned from “High” to “Low”. Control to move in the direction.

図10は、ビア105のインピーダンスが最適化された段階におけるタイムチャートである。 FIG. 10 is a time chart at the stage where the impedance of the via 105 is optimized.

ドリル30の掘削によるインピーダンス改善のため、サンプリング回路出力(3)は、Z0設定カウンタ出力(2)に比べて電圧値が大きくなる。そのため、Z0比較器出力(4)は、ビアスタブ108の位置(時刻t3から時刻t4までの間)においても「Low」をF/F16に出力する。ドリル制御回路17は、F/F16の出力が「Low」である場合、ドリル位置を変更させない。 Since the impedance is improved by drilling the drill 30, the voltage value of the sampling circuit output (3) is larger than that of the Z 0 setting counter output (2). Therefore, the Z 0 comparator output (4) outputs "Low" to the F / F 16 even at the position of the via stub 108 (between time t 3 and time t 4). The drill control circuit 17 does not change the drill position when the output of the F / F 16 is “Low”.

以上が、制御装置10の動作の詳細についての説明である。 The above is a description of the details of the operation of the control device 10.

図9および図10のタイムチャートについては、下記のように表現することもできる。 The time charts of FIGS. 9 and 10 can also be expressed as follows.

0比較器14、タイマー15およびフリップフロップ16の出力値は、第1の状態(「Low」)と第2の状態(「High」)とのいずれかの状態に設定される。例えば、第1の状態は相対的に低い電圧値に設定され、第2の状態は相対的に高い電圧値に設定される。 The output values of the Z 0 comparator 14, the timer 15, and the flip-flop 16 are set to either a first state (“Low”) or a second state (“High”). For example, the first state is set to a relatively low voltage value and the second state is set to a relatively high voltage value.

0比較器14は、第2の状態を初期状態とし、反射波形の電圧値がZ0設定値を上回るタイミングで第2の状態から第1の状態に出力値を遷移させる。また、Z0比較器14は、反射波形の電圧値がZ0設定を下回るタイミングで第1の状態から第2の状態に出力値を遷移させる。 The Z 0 comparator 14 sets the second state as the initial state, and shifts the output value from the second state to the first state at the timing when the voltage value of the reflected waveform exceeds the Z 0 set value. Further, the Z 0 comparator 14 shifts the output value from the first state to the second state at the timing when the voltage value of the reflected waveform falls below the Z 0 setting.

タイマー15は、第1の状態を初期状態とし、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、ビア105からの反射成分が反射波形に現れるタイミングで第1の状態から第2の状態に出力値を遷移させる。また、タイマー15は、ステップ波形の立ち下がりのタイミングで第1の状態から第2の状態に出力値を遷移させる。 The timer 15 sets the first state as the initial state, and uses the rising edge of the step waveform as a trigger to shift the output value from the first state to the second state at the timing when the reflection component from the via 105 appears in the reflection waveform. Further, the timer 15 shifts the output value from the first state to the second state at the timing of the falling edge of the step waveform.

フリップフロップ16は、第1の状態を初期状態とし、サンプリングクロックに同期して、Z0比較器14の出力値が第2の状態の場合に出力値を第2の状態に遷移させる。フリップフロップ16は、タイマー15の出力値が第2の状態から第1の状態に遷移するタイミングで出力値を第1の状態に遷移させる。 The flip-flop 16 sets the first state as the initial state, synchronizes with the sampling clock, and shifts the output value to the second state when the output value of the Z 0 comparator 14 is the second state. The flip-flop 16 shifts the output value to the first state at the timing when the output value of the timer 15 transitions from the second state to the first state.

ドリル制御回路17は、フリップフロップ16の出力値が第2の状態から第1の状態に遷移するタイミングでドリル30を制御する。 The drill control circuit 17 controls the drill 30 at the timing when the output value of the flip-flop 16 transitions from the second state to the first state.

また、以上の制御装置10による制御方法は、多層配線基板に形成されたビアを加工するドリルを制御する制御方法であり、下記のように言い換えることができる。 Further, the control method by the above control device 10 is a control method for controlling a drill for processing a via formed on a multilayer wiring board, and can be paraphrased as follows.

すなわち、本実施形態の制御方法では、ビア105と電気的に接続された配線106にステップ波形を印加し、配線106に印加されたステップ波形の反射波をサンプリングしてステップ波形の反射波形を生成する。次に、所望のインピーダンス値に対応するZ0設定値と反射波形とを比較し、反射波形の電圧値とZ0設定値との比較結果に応じてZ0比較器14の出力値(第1の出力値)を遷移させる。次に、ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、設定された所定のタイミングと、ステップ波形の立ち下がりのタイミングとでタイマー15の出力値(第2の出力値)を遷移させる。次に、所定のサンプリングクロックに同期させて、第1の出力値に応じてフリップフロップ16の出力値(第3の出力値)を遷移させ、第1の出力値に応じて遷移した第3の出力値を第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させる。そして、第3の出力値の遷移に応じて、加工対象基板100の主面に対して略垂直方向にドリル30を移動させる制御をする。 That is, in the control method of the present embodiment, the step waveform is applied to the wiring 106 electrically connected to the via 105, and the reflected wave of the step waveform applied to the wiring 106 is sampled to generate the reflected waveform of the step waveform. do. Next, the Z 0 set value corresponding to the desired impedance value is compared with the reflected waveform, and the output value of the Z 0 comparator 14 (first) according to the comparison result between the voltage value of the reflected waveform and the Z 0 set value. (Output value of) is changed. Next, using the rising edge of the step waveform as a trigger, the output value (second output value) of the timer 15 is changed between the set predetermined timing and the falling timing of the step waveform. Next, in synchronization with a predetermined sampling clock, the output value (third output value) of the flip-flop 16 is changed according to the first output value, and the third output value is changed according to the first output value. The output value is changed at the timing when the second output value is changed. Then, according to the transition of the third output value, the drill 30 is controlled to move in a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate 100 to be machined.

(効果)
以上のように、本実施形態においては、ビアスタブを除去したいスルーホールを有する信号伝送路にステップ波形を印加し、印加したステップ波形の反射波形からインピーダンス値を算出する。そして、本実施形態においては、所望のインピーダンス値に対応する電圧値と、システムで算出したインピーダンス値とを比較した結果をドリル位置にフィードバックする。そのため、本実施形態によれば、多層配線基板において、信号配線層を別の配線層に変更するビアのインピーダンスが最適値になるように加工できる。
(effect)
As described above, in the present embodiment, the step waveform is applied to the signal transmission line having the through hole for which the via stub is to be removed, and the impedance value is calculated from the reflected waveform of the applied step waveform. Then, in the present embodiment, the result of comparing the voltage value corresponding to the desired impedance value and the impedance value calculated by the system is fed back to the drill position. Therefore, according to the present embodiment, in the multilayer wiring board, the impedance of the via that changes the signal wiring layer to another wiring layer can be processed to be the optimum value.

すなわち、本実施形態によれば、掘削対象のビアスタブにステップ波形を印加してインピーダンス観測を実施しながら掘削を行うため、ビアのインピーダンスを最適化できる。 That is, according to the present embodiment, since the excavation is performed while the step waveform is applied to the via stub to be excavated and the impedance observation is performed, the impedance of the via can be optimized.

ビアのインピーダンスは、ビアの長さに対応した誘導成分と、ビアスタブの容量成分とを足し合わせた値である。そのため、ビアの誘導成分と比べてビアスタブの容量成分の方が大きいとインピーダンスが低下してしまう。一般的には、バックドリル工法などを用いてビアスタブを除去してインピーダンス低下を防ぐ。しかし、ビアスタブの誘導成分によっては、ビアスタブを掘削加工することによってインピーダンスがむしろ高くなることもある。そのため、本実施形態では、ビアスタブを全て除去するのではなく、インピーダンスが最適になるようにビアスタブを残すことによって、ビアスタブを掘削しすぎることに起因するインピーダンスの増大を防ぐことができる。 The impedance of the via is a value obtained by adding the inductive component corresponding to the length of the via and the capacitive component of the via stub. Therefore, if the capacitance component of the via stub is larger than the induction component of the via, the impedance will decrease. Generally, a back drill method or the like is used to remove the via stub to prevent impedance reduction. However, depending on the inductive component of the via stub, the impedance may be rather increased by excavating the via stub. Therefore, in the present embodiment, it is possible to prevent an increase in impedance due to excessive excavation of the via stub by leaving the via stub so that the impedance is optimized, instead of removing all the via stub.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る加工システムについて、図面を参照しながら説明する。本実施形態では、ステップ波形の反射波形におけるビアの反射成分を特定し、タイマー設定値を決定する点で第1の実施形態とは異なる。以下の説明においては、第1の実施形態と同様の構成については、第1の実施形態と同じ符号を付して表記する。
(Second embodiment)
Next, the processing system according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The present embodiment is different from the first embodiment in that the reflection component of the via in the reflection waveform of the step waveform is specified and the timer set value is determined. In the following description, the same configurations as those of the first embodiment are designated by the same reference numerals as those of the first embodiment.

図11は、本実施形態に係る加工システムが備える制御装置10−2の概念図である。図11のように、制御装置10−2は、ステップ波形発生回路11、サンプリング回路12、Z0設定カウンタ13、Z0比較器14、タイマー15、フリップフロップ16(F/F:Flip-Flop)、ドリル制御回路17、ビア位置検出回路18を備える。ビア位置検出回路18以外の構成は、第1の実施形態の制御装置10と同様であるため、詳細な説明は省略する。なお、図11の構成は一例であって、各構成要素の配置箇所や接続関係、入出力関係は任意に設定できる。 FIG. 11 is a conceptual diagram of the control device 10-2 included in the processing system according to the present embodiment. As shown in FIG. 11, the control device 10-2 includes a step waveform generation circuit 11, a sampling circuit 12, a Z 0 setting counter 13, a Z 0 comparator 14, a timer 15, and a flip-flop 16 (F / F: Flip-Flop). , A drill control circuit 17, and a via position detection circuit 18. Since the configuration other than the via position detection circuit 18 is the same as that of the control device 10 of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted. The configuration of FIG. 11 is an example, and the arrangement location, connection relationship, and input / output relationship of each component can be arbitrarily set.

ビア位置検出回路18(検出回路とも呼ぶ)は、Z0比較器14、タイマー15に接続される。また、ビア位置検出回路18には、サンプリングCLKが入力される。ビア位置検出回路18に入力されるサンプリングCLKは、フリップフロップ16と共用されていてもよいし、ビア位置検出回路18に専用のクロックとしてもよい。 The via position detection circuit 18 (also referred to as a detection circuit) is connected to the Z 0 comparator 14 and the timer 15. Further, sampling CLK is input to the via position detection circuit 18. The sampling CLK input to the via position detection circuit 18 may be shared with the flip-flop 16 or may be used as a clock dedicated to the via position detection circuit 18.

ビア位置検出回路18は、複数のインピーダンス値に対応するZ0設定値と反射波形の電圧値とを比較した比較結果に基づいてZ0比較器14から出力される出力値を取得する。ビア位置検出回路18は、取得した出力値をサンプリングクロックに基づいて設定される複数のサンプリングタイミングごとに保持する。ビア位置検出回路18は、ビア105を所定量だけ掘削加工する前後において複数のサンプリングタイミングごとに保持する出力値を比較し、反射波形にビア105の反射成分が含まれるタイミングを検出する。そして、ビア位置検出回路18は、検出したタイミングに基づいて所定のタイミングを設定し、設定した所定のタイミングをタイマー15に出力する。 The via position detection circuit 18 acquires an output value output from the Z 0 comparator 14 based on a comparison result comparing the Z 0 set value corresponding to a plurality of impedance values and the voltage value of the reflection waveform. The via position detection circuit 18 holds the acquired output value for each of a plurality of sampling timings set based on the sampling clock. The via position detection circuit 18 compares the output values held at each of a plurality of sampling timings before and after excavating the via 105 by a predetermined amount, and detects the timing when the reflection component of the via 105 is included in the reflection waveform. Then, the via position detection circuit 18 sets a predetermined timing based on the detected timing, and outputs the set predetermined timing to the timer 15.

なお、第1の実施形態において説明したビア掘削加工モードに対して、ステップ波形の反射波形におけるビアの反射成分をビア位置検出回路18によって検出するモードのことをビア位置検出モードと呼ぶ。以下においては、ビア位置検出モードにおける各構成の機能について説明する。 In contrast to the via excavation processing mode described in the first embodiment, the mode in which the reflection component of the via in the reflection waveform of the step waveform is detected by the via position detection circuit 18 is referred to as a via position detection mode. In the following, the function of each configuration in the via position detection mode will be described.

ステップ波形発生回路11は、プローブ20を配線106に接触した状態で、ビア105と電気的に接続された配線106にプローブ20を介してステップ波形を印加する。 The step waveform generation circuit 11 applies a step waveform to the wiring 106 electrically connected to the via 105 via the probe 20 in a state where the probe 20 is in contact with the wiring 106.

サンプリング回路12は、配線106に印加されたステップ波形の反射波形をサンプリングする。 The sampling circuit 12 samples the reflected waveform of the step waveform applied to the wiring 106.

ここで、ビア位置検出モードで得られるステップ波形の反射波形を示す。図12および図13は、ビア位置検出モードで用いられるステップ波形の反射波形の一例である。図12は、ビア位置検出モードの第1段階で得られる反射波形の一例である。図13は、ビア位置検出モードの第2段階で得られる反射波形の一例である。 Here, the reflection waveform of the step waveform obtained in the via position detection mode is shown. 12 and 13 are examples of reflection waveforms of step waveforms used in the via position detection mode. FIG. 12 is an example of the reflection waveform obtained in the first stage of the via position detection mode. FIG. 13 is an example of the reflection waveform obtained in the second stage of the via position detection mode.

ビア位置検出モードは、第1段階と第2段階という少なくとも二つの段階でステップ波形の反射波形を取得する。第1段階で反射波形を得た後、加工対象のビア105を掘削加工し、さらに第2段階で反射波形を得る。そして、第1段階の反射波形と、第2段階の反射波形とを比較し、変化している箇所をビア105による反射成分として検出する。 In the via position detection mode, the reflection waveform of the step waveform is acquired in at least two stages, the first stage and the second stage. After obtaining the reflected waveform in the first step, the via 105 to be machined is excavated, and further, the reflected waveform is obtained in the second step. Then, the reflection waveform of the first stage and the reflection waveform of the second stage are compared, and the changed portion is detected as the reflection component by the via 105.

0設定カウンタ13は、事前に設定された所望のインピーダンス値Ssetに対応する電圧値をZ0比較器14に出力する。ビア位置検出モードで用いる所望のインピーダンス値Ssetに対応する電圧値は、ビア掘削加工モードで用いるZ0設定値と同じであってもよいし、異なっていてもよい。 The Z 0 setting counter 13 outputs a voltage value corresponding to a desired preset impedance value S set to the Z 0 comparator 14. The voltage value corresponding to the desired impedance value S set used in the via position detection mode may be the same as or different from the Z 0 set value used in the via drilling processing mode.

0比較器14は、Z0設定値をS0からSsetまで段階的に変化させて、サンプリングされた反射波形とZ0設定値とを比較する。そして、Z0比較器14は、比較結果をビア位置検出回路18に出力する。すなわち、Z0比較器14は、Z0設定カウンタ13の出力する所望のインピーダンス値Ssetに対応する電圧値を上限とする複数のZ0設定値と反射波形との比較結果に基づいた出力値をビア位置検出回路18に出力する。 The Z 0 comparator 14 changes the Z 0 set value stepwise from S 0 to S set , and compares the sampled reflection waveform with the Z 0 set value. Then, the Z 0 comparator 14 outputs the comparison result to the via position detection circuit 18. That is, the Z 0 comparator 14 is an output value based on a comparison result between a plurality of Z 0 set values and a reflection waveform whose upper limit is a voltage value corresponding to a desired impedance value S set output by the Z 0 setting counter 13. Is output to the via position detection circuit 18.

ビア位置検出回路18は、S0からSsetまで段階的に変化させたZ0設定値と、反射波形との比較結果について、T0からTendまでの間で、サンプリングCLKに基づいて設定されるサンプリングタイミングごとに電圧値を算出する。 The via position detection circuit 18 is set between T 0 and T end based on the sampling CLK with respect to the comparison result between the Z 0 setting value gradually changed from S 0 to S set and the reflection waveform. The voltage value is calculated for each sampling timing.

ビア位置検出回路18は、電圧値を未だ保持していない場合、サンプリングタイミングごとに算出した電圧値を保持する。そして、ドリル制御回路17は、加工対象基板100を所定量だけ掘削加工させるためにドリル30を+Z方向に移動させる制御をする。 When the via position detection circuit 18 does not hold the voltage value yet, the via position detection circuit 18 holds the voltage value calculated for each sampling timing. Then, the drill control circuit 17 controls to move the drill 30 in the + Z direction in order to excavate the substrate 100 to be machined by a predetermined amount.

ビア位置検出モードでドリル制御回路17が加工対象のビア105を掘削加工する量は、ビア掘削加工モードと比べて小さくてよい。なぜならば、ビア位置検出モードでビア105を掘削しすぎると、ビア掘削加工モードで掘削加工する部分がなくなり、ビア105を最適化できないためである。 The amount of the drill control circuit 17 drilling the via 105 to be machined in the via position detection mode may be smaller than that in the via drilling mode. This is because if the via 105 is excavated too much in the via position detection mode, there is no portion to be excavated in the via excavation processing mode, and the via 105 cannot be optimized.

一方、ビア位置検出回路18は、所望のインピーダンスに対応する電圧値を既に保持している場合、保持されている電圧値と算出した電圧値とをサンプリングタイミングごとに比較する。 On the other hand, when the via position detection circuit 18 already holds the voltage value corresponding to the desired impedance, the held voltage value and the calculated voltage value are compared for each sampling timing.

ビア位置検出回路18は、電圧値の変化が大きいサンプリングタイミングTnをタイマー設定値としてタイマー15に出力する。実際に設定されるタイマー設定値は、Tnを含む時間帯で設定する。 The via position detection circuit 18 outputs the sampling timing Tn, which has a large change in voltage value, to the timer 15 as a timer set value. The timer setting value that is actually set is set in the time zone including Tn.

すなわち、ビア位置検出回路18は、Z0比較器14の出力値を保持していない場合は、複数のサンプリングタイミングごとにZ0比較器14の出力値を保持する。そして、ビア位置検出回路18は、加工対象基板100の方向にドリル30を所定量移動させてビア105を掘削加工させるように制御する指示をドリル制御回路17に出力する。一方、ビア位置検出回路18は、Z0比較器14の出力値を保持している場合は、ビア105を所定量だけ掘削加工した前後におけるZ0比較器14の出力値を比較し、Z0比較器14の出力値が変化するタイミングを検出する。そして、ビア位置検出回路18は、検出したタイミングに基づいて所定のタイミングを設定する。 That is, when the via position detection circuit 18 does not hold the output value of the Z 0 comparator 14, the via position detection circuit 18 holds the output value of the Z 0 comparator 14 at each of a plurality of sampling timings. Then, the via position detection circuit 18 outputs an instruction to the drill control circuit 17 to control the via 105 to be drilled by moving the drill 30 in the direction of the substrate 100 to be machined by a predetermined amount. On the other hand, via the position detection circuit 18, when holding the output values of the Z 0 comparator 14 compares the output value of Z 0 comparator 14 before and after which a via 105 drilling process by a predetermined amount, Z 0 The timing at which the output value of the comparator 14 changes is detected. Then, the via position detection circuit 18 sets a predetermined timing based on the detected timing.

〔ビア位置検出モード〕
次に、本実施形態に加工システムにおけるビア位置検出モードについて図面を参照しながら説明する。図14は、ビア位置検出モードに関するフローチャートである。以下の説明においては、制御装置10−2を主体として説明する。
[Via position detection mode]
Next, the via position detection mode in the machining system will be described in the present embodiment with reference to the drawings. FIG. 14 is a flowchart regarding the via position detection mode. In the following description, the control device 10-2 will be mainly described.

まず、準備段階として、掘削対象のビアスタブ108の位置にドリル30をセットし、所望のインピーダンス値SsetをZ0設定カウンタ13に設定しておく。本実施形態においては、タイマー設定値を事前に設定しておくのではなく、ビア位置検出回路18によってタイマー設定値を設定する。 First, as a preparatory step, the drill 30 is set at the position of the via stub 108 to be excavated, and the desired impedance value S set is set in the Z 0 setting counter 13. In the present embodiment, the timer set value is not set in advance, but the timer set value is set by the via position detection circuit 18.

図14において、プローブ20を配線106に接触した状態で、まず、制御装置10−2は、ビア105と電気的に接続された配線106にプローブ20を介してステップ波形を印加する(ステップS31)。 In FIG. 14, with the probe 20 in contact with the wiring 106, first, the control device 10-2 applies a step waveform to the wiring 106 electrically connected to the via 105 via the probe 20 (step S31). ..

制御装置10−2は、配線106に印加されたステップ波形の反射波形をサンプリングする(ステップS32)。 The control device 10-2 samples the reflected waveform of the step waveform applied to the wiring 106 (step S32).

制御装置10−2は、S0からSsetまでのインピーダンス値に対応させてZ0設定値を段階的に変化させて、サンプリングされた反射波形とZ0設定値とを比較する(ステップS33)。 The control device 10-2 changes the Z 0 set value stepwise according to the impedance value from S 0 to S set , and compares the sampled reflection waveform with the Z 0 set value (step S33). ..

制御装置10−2は、S0からSsetまでの比較結果について、T0からTendまでの間で、サンプリングCLKに基づいて設定されるサンプリングタイミングごとに値を保持する(ステップS34)。 The control device 10-2 holds the value of the comparison result from S 0 to S set between T 0 and T end at each sampling timing set based on the sampling CLK (step S34).

ステップS35の段階で未だ値が保持されていなかった場合(ステップS35でNo)、制御装置10−2は、ビア105を所定量だけ掘削加工させるためにドリル30を+Z方向に所定量だけ移動させる制御をする(ステップS36)。ステップS36の後は、ステップS31に戻る。 If the value is not yet held at the stage of step S35 (No in step S35), the control device 10-2 moves the drill 30 by a predetermined amount in the + Z direction in order to excavate the via 105 by a predetermined amount. Control is performed (step S36). After step S36, the process returns to step S31.

一方、値が既に保持されている場合(ステップS35でYes)、制御装置10−2は、ビア105の掘削加工前後の値をサンプリングタイミングごとに比較する(ステップS37)。 On the other hand, when the value is already held (Yes in step S35), the control device 10-2 compares the value before and after the excavation of the via 105 for each sampling timing (step S37).

制御装置10−2は、値が変化しているサンプリングタイミングをタイミング設定値として設定する(ステップS38)。 The control device 10-2 sets the sampling timing at which the value is changing as the timing setting value (step S38).

以上が、ビア位置検出モードについての説明である。なお、ビア105のインピーダンスを最適な状態にするための掘削加工は、第1の実施形態と同様のビア掘削加工モードで行う。なお、本実施形態のビア掘削加工モードは、第1の実施形態と同様であるため、詳細な説明は省略する。 The above is the description of the via position detection mode. The excavation process for optimizing the impedance of the via 105 is performed in the same via excavation process mode as in the first embodiment. Since the via excavation processing mode of this embodiment is the same as that of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

以上のように、本実施形態によれば、ステップ波形の反射波形におけるビアの反射成分を検出することによってタイマー設定値を設定できる。 As described above, according to the present embodiment, the timer set value can be set by detecting the reflection component of the via in the reflection waveform of the step waveform.

(ハードウェア)
ここで、本発明の各実施形態に係る制御装置の制御系統を実現するハードウェア構成について、図15のコンピュータ90を一例として挙げて説明する。なお、図15のコンピュータ90は、各実施形態の制御装置を実現するための構成例であって、本発明の範囲を限定するものではない。
(hardware)
Here, the hardware configuration for realizing the control system of the control device according to each embodiment of the present invention will be described by taking the computer 90 of FIG. 15 as an example. The computer 90 in FIG. 15 is a configuration example for realizing the control device of each embodiment, and does not limit the scope of the present invention.

図15のように、コンピュータ90は、プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93、入出力インターフェース95および通信インターフェース96を備える。図15においては、インターフェースをI/F(Interface)と略して表記している。プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93、入出力インターフェース95および通信インターフェース96は、バス99を介して互いにデータ通信可能に接続される。また、プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93および入出力インターフェース95は、通信インターフェース96を介して、インターネットやイントラネットなどのネットワークに接続される。 As shown in FIG. 15, the computer 90 includes a processor 91, a main storage device 92, an auxiliary storage device 93, an input / output interface 95, and a communication interface 96. In FIG. 15, the interface is abbreviated as I / F (Interface). The processor 91, the main storage device 92, the auxiliary storage device 93, the input / output interface 95, and the communication interface 96 are connected to each other via a bus 99 so as to be capable of data communication. Further, the processor 91, the main storage device 92, the auxiliary storage device 93, and the input / output interface 95 are connected to a network such as the Internet or an intranet via the communication interface 96.

プロセッサ91は、補助記憶装置93等に格納されたプログラムを主記憶装置92に展開し、展開されたプログラムを実行する。本実施形態においては、コンピュータ90にインストールされたソフトウェアプログラムを用いる構成とすればよい。プロセッサ91は、本実施形態に係る制御装置が実行する演算処理や制御処理を実行する。 The processor 91 expands the program stored in the auxiliary storage device 93 or the like to the main storage device 92, and executes the expanded program. In the present embodiment, the software program installed in the computer 90 may be used. The processor 91 executes arithmetic processing and control processing executed by the control device according to the present embodiment.

主記憶装置92は、プログラムが展開される領域を有する。主記憶装置92は、例えばDRAM(Dynamic Random Access Memory)などの揮発性メモリとすればよい。また、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)などの不揮発性メモリを主記憶装置92として構成・追加してもよい。 The main storage device 92 has an area in which the program is developed. The main storage device 92 may be a volatile memory such as a DRAM (Dynamic Random Access Memory). Further, a non-volatile memory such as an MRAM (Magnetoresistive Random Access Memory) may be configured and added as the main storage device 92.

補助記憶装置93は、種々のデータを記憶する手段である。補助記憶装置93は、ハードディスクやフラッシュメモリなどのローカルディスクによって構成される。なお、種々のデータを主記憶装置92に記憶させる構成とし、補助記憶装置93を省略することも可能である。 The auxiliary storage device 93 is a means for storing various data. The auxiliary storage device 93 is composed of a local disk such as a hard disk or a flash memory. It is also possible to store various data in the main storage device 92 and omit the auxiliary storage device 93.

入出力インターフェース95は、コンピュータ90と周辺機器との接続規格に基づいて、コンピュータ90と周辺機器とを接続する装置である。通信インターフェース96は、規格や仕様に基づいて、インターネットやイントラネットなどのネットワークに接続するためのインターフェースである。入出力インターフェース95および通信インターフェース96は、外部機器と接続するインターフェースとして共通化してもよい。 The input / output interface 95 is a device for connecting the computer 90 and the peripheral device based on the connection standard between the computer 90 and the peripheral device. The communication interface 96 is an interface for connecting to a network such as the Internet or an intranet based on a standard or a specification. The input / output interface 95 and the communication interface 96 may be shared as an interface for connecting to an external device.

コンピュータ90には、必要に応じて、キーボードやマウス、タッチパネルなどの入力機器を接続できるように構成してもよい。それらの入力機器は、情報や設定の入力に使用される。なお、タッチパネルを入力機器として用いる場合は、表示機器の表示画面が入力機器のインターフェースを兼ねる構成とすればよい。プロセッサ91と入力機器との間のデータ通信は、入出力インターフェース95に仲介させればよい。 The computer 90 may be configured so that an input device such as a keyboard, a mouse, or a touch panel can be connected to the computer 90, if necessary. These input devices are used to input information and settings. When the touch panel is used as an input device, the display screen of the display device may also serve as the interface of the input device. Data communication between the processor 91 and the input device may be mediated by the input / output interface 95.

通信インターフェース96は、ネットワークを通じて、外部のシステムや装置、無人機に接続される。 The communication interface 96 is connected to an external system, device, or unmanned aerial vehicle through a network.

また、コンピュータ90には、情報を表示するための表示機器を備え付けてもよい。表示機器を備え付ける場合、コンピュータ90には、表示機器の表示を制御するための表示制御装置(図示しない)が備えられていることが好ましい。表示機器は、入出力インターフェース95を介してコンピュータ90に接続すればよい。例えば、図7に示したユーザインターフェース110は、コンピュータ90に接続された表示機器に表示させればよい。 Further, the computer 90 may be equipped with a display device for displaying information. When a display device is provided, it is preferable that the computer 90 is provided with a display control device (not shown) for controlling the display of the display device. The display device may be connected to the computer 90 via the input / output interface 95. For example, the user interface 110 shown in FIG. 7 may be displayed on a display device connected to the computer 90.

また、コンピュータ90には、必要に応じて、リーダライタを備え付けてもよい。リーダライタは、バス99に接続される。リーダライタは、プロセッサ91と図示しない記録媒体(プログラム記録媒体)との間で、記録媒体からのデータ・プログラムの読み出し、コンピュータ90の処理結果の記録媒体への書き込みなどを仲介する。記録媒体は、例えばSD(Secure Digital)カードやUSB(Universal Serial Bus)メモリなどの半導体記録媒体などで実現できる。また、記録媒体は、フレキシブルディスクなどの磁気記録媒体、CD(Compact Disc)やDVD(Digital Versatile Disc)などの光学記録媒体やその他の記録媒体によって実現してもよい。 Further, the computer 90 may be equipped with a reader / writer, if necessary. The reader / writer is connected to the bus 99. The reader / writer mediates between the processor 91 and a recording medium (program recording medium) (not shown), reading a data program from the recording medium, writing the processing result of the computer 90 to the recording medium, and the like. The recording medium can be realized by, for example, a semiconductor recording medium such as an SD (Secure Digital) card or a USB (Universal Serial Bus) memory. Further, the recording medium may be realized by a magnetic recording medium such as a flexible disk, an optical recording medium such as a CD (Compact Disc) or a DVD (Digital Versatile Disc), or another recording medium.

以上が、本発明の実施形態に係る制御装置を可能とするためのハードウェア構成の一例である。なお、図15のハードウェア構成は、本実施形態に係る制御装置を可能とするためのハードウェア構成の一例であって、本発明の範囲を限定するものではない。また、本実施形態に係る制御装置に関する処理をコンピュータに実行させるプログラムも本発明の範囲に含まれる。さらに、本発明の実施形態に係るプログラムを記録したプログラム記録媒体も本発明の範囲に含まれる。 The above is an example of the hardware configuration for enabling the control device according to the embodiment of the present invention. The hardware configuration of FIG. 15 is an example of the hardware configuration for enabling the control device according to the present embodiment, and does not limit the scope of the present invention. Further, a program for causing a computer to execute a process related to the control device according to the present embodiment is also included in the scope of the present invention. Further, a program recording medium on which a program according to an embodiment of the present invention is recorded is also included in the scope of the present invention.

以上、実施形態を参照して本発明を説明してきたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。 Although the present invention has been described above with reference to the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments. Various modifications that can be understood by those skilled in the art can be made to the structure and details of the present invention within the scope of the present invention.

1 加工システム
10 制御装置
11 ステップ波形発生回路
12 サンプリング回路
13 Z0設定カウンタ
14 Z0比較器
15 タイマー
16 フリップフロップ
17 ドリル制御回路
18 ビア位置検出回路
20 プローブ
30 ドリル
100 加工対象基板
101 絶縁層
102 配線層
105 ビア
106、107 配線
108、109 ビアスタブ
110 ユーザインターフェース
111 第1の入力部
112 第2の入力部
113 第3の入力部
115 ポインター
1 Machining system 10 Control device 11 Step waveform generation circuit 12 Sampling circuit 13 Z 0 Setting counter 14 Z 0 Comparer 15 Timer 16 Flip-flop 17 Drill control circuit 18 Via position detection circuit 20 Probe 30 Drill 100 Insulation layer 102 Wiring layer 105 Via 106, 107 Wiring 108, 109 Via stub 110 User interface 111 First input unit 112 Second input unit 113 Third input unit 115 Pointer

Claims (10)

多層配線基板に形成されたビアを掘削加工するドリルの動作を制御する制御装置であって、
前記ビアと電気的に接続された配線に印加するためのステップ波形を発生させるステップ波形発生回路と、
前記配線に印加された前記ステップ波形の反射波をサンプリングし、前記ステップ波形の反射波形を出力するサンプリング回路と、
前記サンプリング回路の出力した前記反射波形を入力とし、前記ステップ波形の反射波において、前記ビアが予め設定された特性インピーダンスとなる場合ビアからの反射波に対応する設定値と前記反射波形とを比較し、前記特性インピーダンスの設定値と前記反射波形の電圧値との比較結果に応じて第1の出力値を遷移させる比較器と、
前記ステップ波形と前記第1の出力値とを入力とし、前記ステップ波形の立ち上がりからタイマー設定値の時間が経過したタイミングと、前記ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで第2の出力値を遷移させ、サンプリングクロックに同期して、前記第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させ、前記第1の出力値に応じて遷移した前記第3の出力値を前記第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させ、前記第3の出力値の遷移に応じて、前記多層配線基板の主面に対して略垂直方向に前記ドリルを移動させる制御をする制御回路とを備える制御装置。
A control device that controls the operation of a drill that excavates vias formed on a multilayer wiring board.
A step waveform generation circuit that generates a step waveform to be applied to the wiring electrically connected to the via,
A sampling circuit that samples the reflected wave of the step waveform applied to the wiring and outputs the reflected waveform of the step waveform.
The reflected waveform output by the sampling circuit is used as an input, and in the reflected wave of the step waveform, the set value corresponding to the reflected wave from the via when the via has a preset characteristic impedance and the reflected waveform are set. A comparison device that makes a comparison and transitions the first output value according to the comparison result between the set value of the characteristic impedance and the voltage value of the reflected waveform.
The step waveform and the first output value are input, and the second output value is changed between the timing when the timer set value has elapsed from the rise of the step waveform and the fall timing of the step waveform. , The third output value is transitioned according to the first output value in synchronization with the sampling clock, and the third output value transitioned according to the first output value is the second output value. A control device including a control circuit for controlling the movement of the drill in a direction substantially perpendicular to the main surface of the multilayer wiring board according to the transition of the third output value.
前記制御回路は、
前記ステップ波形を入力とし、前記ステップ波形の立ち上がりから前記タイマー設定値の時間が経過したタイミングと、前記ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで前記第2の出力値を遷移させるタイマーと、
前記第1の出力値と前記第2の出力値と前記サンプリングクロックとを入力とし、前記サンプリングクロックに同期して、前記第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させ、前記第1の出力値に応じて遷移した前記第3の出力値を前記第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させるフリップフロップと、
前記第3の出力値の遷移に応じて、前記多層配線基板の主面に対して略垂直方向に前記ドリルを移動させる制御をするドリル制御回路とを有する請求項1に記載の制御装置。
The control circuit is
A timer that takes the step waveform as an input and transitions the second output value at the timing when the time of the timer set value elapses from the rise of the step waveform and the timing of the fall of the step waveform.
The first output value, the second output value, and the sampling clock are used as inputs, and the third output value is changed according to the first output value in synchronization with the sampling clock. A flip-flop that transitions the third output value that has transitioned according to the output value of 1 at the timing at which the second output value transitions, and
The control device according to claim 1, further comprising a drill control circuit for controlling the movement of the drill in a direction substantially perpendicular to the main surface of the multilayer wiring board according to the transition of the third output value.
所望のインピーダンスの設定値が設定され、設定された前記所望のインピーダンスの設定値に対応する設定電圧値を前記比較器に出力するカウンタを備える請求項2に記載の制御装置。 Desired impedance set value is set, the control device according to claim 2 including a counter for output to the comparator the set voltage value corresponding to the set value of the desired impedance is set. 前記第1の出力値および前記第3の出力値が第1の状態と第2の状態とのいずれかの状態に設定され、
前記比較器は、
前記第2の状態を初期状態とし、前記反射波形の電圧値が前記設定電圧値を上回るタイミングで前記第2の状態から前記第1の状態に前記第1の出力値を遷移させ、前記反射波形の電圧値が前記設定電圧値を下回るタイミングで前記第1の状態から前記第2の状態に前記第1の出力値を遷移させ、
前記タイマーは、
前記第1の状態を初期状態とし、前記ステップ波形の立ち上がりをトリガとして、前記ビアからの反射成分が前記反射波形に現れるタイミングで前記第1の状態から前記第2の状態に前記第2の出力値を遷移させ、前記ステップ波形の立ち下がりのタイミングで前記第1の状態から前記第2の状態に前記第2の出力値を遷移させ、
前記フリップフロップは、
前記第1の状態を初期状態とし、前記サンプリングクロックに同期して、前記第1の出力値が前記第2の状態の場合に出力値を前記第2の状態に遷移させ、前記第2の出力値が前記第2の状態から前記第1の状態に遷移するタイミングで前記第3の出力値を前記第1の状態に遷移させ、
前記ドリル制御回路は、
前記第1の出力値が前記第2の状態から前記第1の状態に遷移するタイミングで前記ドリルを制御する請求項3に記載の制御装置。
The first output value and the third output value are set to either a first state or a second state, and the first output value and the third output value are set to either a first state or a second state.
The comparator is
The second state is set as the initial state, and the first output value is transitioned from the second state to the first state at the timing when the voltage value of the reflected waveform exceeds the set voltage value, and the reflected waveform. The first output value is changed from the first state to the second state at the timing when the voltage value of the above is lower than the set voltage value.
The timer
The first state is set as the initial state, and the rise of the step waveform is used as a trigger to output the second output from the first state to the second state at the timing when the reflection component from the via appears in the reflection waveform. The value is changed, and the second output value is changed from the first state to the second state at the timing of the fall of the step waveform.
The flip-flop is
The first state is set as the initial state, and when the first output value is the second state, the output value is changed to the second state in synchronization with the sampling clock, and the second output is output. The third output value is transitioned to the first state at the timing when the value transitions from the second state to the first state.
The drill control circuit
The control device according to claim 3, wherein the drill is controlled at a timing when the first output value transitions from the second state to the first state.
前記多層配線基板の主面上に設定される平面座標系における加工対象の前記ビアの位置を設定するための第1の入力部と、
前記所望のインピーダンスの設定値を前記カウンタに設定するための第2の入力部と、
加工対象の前記ビアの位置に対応したタイマー設定値を前記タイマーに設定するための第3の入力部とを含むユーザインターフェースを有する請求項3または4に記載の制御装置。
A first input unit for setting the position of the via to be machined in the plane coordinate system set on the main surface of the multilayer wiring board, and
A second input unit for setting the desired impedance setting value in the counter, and
The control device according to claim 3 or 4, further comprising a user interface including a third input unit for setting a timer setting value corresponding to the position of the via to be machined to the timer.
前記比較器と前記タイマーとに接続され、複数のインピーダンス値に対応する前記設定電圧値と前記反射波形の電圧値とを比較した比較結果に基づいて前記比較器から出力される出力値を前記サンプリングクロックに基づいて設定される複数のサンプリングタイミングごとに保持し、前記ビアを所定量だけ掘削加工する前後において前記複数のサンプリングタイミングごとに保持する出力値を比較し、前記反射波形に前記ビアの反射成分が含まれるタイミングを検出して、検出したタイミングに基づいて前記タイマー設定値を設定し、設定した前記タイマー設定値を前記タイマーに出力する検出回路を備える請求項3乃至5のいずれか一項に記載の制御装置。 The output value output from the comparator is sampled based on the comparison result of comparing the set voltage value corresponding to a plurality of impedance values with the voltage value of the reflection waveform connected to the comparator and the timer. It is held for each of a plurality of sampling timings set based on the clock, and the output values held for each of the plurality of sampling timings before and after excavating the via by a predetermined amount are compared, and the reflection of the via is reflected in the reflection waveform. One of claims 3 to 5, further comprising a detection circuit that detects a timing containing a component, sets the timer set value based on the detected timing, and outputs the set timer set value to the timer. The control device described in. 前記比較器は、
前記カウンタに設定される前記所望のインピーダンスの設定値に対応する電圧値を上限とする複数の前記設定電圧値と前記反射波形との比較結果に基づいた出力値を前記検出回路に出力し、
前記検出回路は、
前記比較器の出力値を保持していない場合は、複数の前記サンプリングタイミングごとに前記比較器の出力値を保持し、前記多層配線基板の方向に前記ドリルを所定量移動させて前記ビアを掘削加工させるように制御する指示を前記ドリル制御回路に出力し、
前記比較器の出力値を保持している場合は、前記ビアを所定量だけ掘削加工した前後における前記比較器の出力値を前記サンプリングタイミングごとに比較し、前記比較器の出力値が変化するタイミングを検出し、検出したタイミングに基づいて前記タイマー設定値を設定する請求項6に記載の制御装置。
The comparator is
An output value based on a comparison result between the plurality of set voltage values and the reflected waveform up to the voltage value corresponding to the desired impedance set value set in the counter is output to the detection circuit.
The detection circuit is
When the output value of the comparator is not held, the output value of the comparator is held at each of a plurality of sampling timings, and the drill is moved by a predetermined amount toward the multilayer wiring board to excavate the via. An instruction to control the machining is output to the drill control circuit, and the instruction is output to the drill control circuit.
When the output value of the comparator is held, the output value of the comparator before and after excavating the via by a predetermined amount is compared for each sampling timing, and the timing at which the output value of the comparator changes. The control device according to claim 6, wherein the timer setting value is set based on the detected timing.
請求項2乃至7のいずれか一項に記載の制御装置と、
前記多層配線基板の主面に対して略垂直な方向に掘削加工するように配置され、前記ドリル制御回路によって移動するように制御されるドリルと、
前記ステップ波形発生回路および前記サンプリング回路に電気的に接続されるプローブとを備える加工システム。
The control device according to any one of claims 2 to 7.
A drill arranged to be drilled in a direction substantially perpendicular to the main surface of the multilayer wiring board and controlled to move by the drill control circuit.
A processing system including the step waveform generation circuit and a probe electrically connected to the sampling circuit.
多層配線基板に形成されたビアを加工するドリルの動作を制御する制御方法であって、
前記ビアと電気的に接続された配線にステップ波形を印加し、
前記配線に印加された前記ステップ波形の反射波をサンプリングして前記ステップ波形の反射波形を生成し、
前記ステップ波形の反射波において、前記ビアが予め設定された特性インピーダンスとなる場合ビアからの反射波に対応する設定値と前記反射波形とを比較し、
前記特性インピーダンスの設定値と前記反射波形の電圧値との比較結果に応じて第1の出力値を遷移させ、
前記ステップ波形の立ち上がりからタイマー設定値の時間が経過したタイミングと、前記ステップ波形の立ち下がりのタイミングとで第2の出力値を遷移させ、
所定のサンプリングクロックに同期させて、前記第1の出力値に応じて第3の出力値を遷移させ、
前記第1の出力値に応じて遷移した前記第3の出力値を前記第2の出力値が遷移するタイミングで遷移させ、
前記第3の出力値の遷移に応じて、前記多層配線基板の主面に対して略垂直方向に前記ドリルを移動させる制御をする制御方法。
It is a control method that controls the operation of a drill that processes vias formed on a multilayer wiring board.
A step waveform is applied to the wiring electrically connected to the via,
The reflected wave of the step waveform applied to the wiring is sampled to generate the reflected waveform of the step waveform.
In the reflected wave of the step waveform, the set value corresponding to the reflected wave from the via when the via has a preset characteristic impedance is compared with the reflected waveform.
The first output value is changed according to the comparison result between the set value of the characteristic impedance and the voltage value of the reflected waveform.
The second output value is transitioned between the timing when the timer set value has elapsed from the rise of the step waveform and the timing of the fall of the step waveform.
Synchronized with a predetermined sampling clock, the third output value is changed according to the first output value.
The third output value that has transitioned according to the first output value is transitioned at the timing at which the second output value transitions.
A control method for controlling the movement of the drill in a direction substantially perpendicular to the main surface of the multilayer wiring board according to the transition of the third output value.
複数のインピーダンス値に対応する設定電圧値と前記反射波形の電圧値とを比較した比較結果に基づいた前記第1の出力値を前記サンプリングクロックに基づいて設定される複数のサンプリングタイミングごとに保持し、
前記ビアを所定量だけ掘削加工する前後において前記複数のサンプリングタイミングごとに保持する前記第1の出力値を比較し、
前記反射波形に前記ビアの反射成分が含まれるタイミングを検出して、検出したタイミングに基づいて前記タイマー設定値を設定する請求項9に記載の制御方法。
The first output value based on the comparison result of comparing the set voltage value corresponding to the plurality of impedance values and the voltage value of the reflected waveform is held for each of the plurality of sampling timings set based on the sampling clock. ,
Before and after excavating the via by a predetermined amount, the first output values held at each of the plurality of sampling timings are compared.
The control method according to claim 9, wherein the timing at which the reflection component of the via is included in the reflection waveform is detected, and the timer set value is set based on the detected timing.
JP2017005184A 2017-01-16 2017-01-16 Control device, machining system and control method Active JP6972560B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017005184A JP6972560B2 (en) 2017-01-16 2017-01-16 Control device, machining system and control method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017005184A JP6972560B2 (en) 2017-01-16 2017-01-16 Control device, machining system and control method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018116969A JP2018116969A (en) 2018-07-26
JP6972560B2 true JP6972560B2 (en) 2021-11-24

Family

ID=62985385

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017005184A Active JP6972560B2 (en) 2017-01-16 2017-01-16 Control device, machining system and control method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6972560B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN120347571B (en) * 2025-06-25 2025-10-10 浙江德源智能制造科技股份有限公司 An adjustable posture online multi-hole processing device and method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7096555B2 (en) * 2003-09-19 2006-08-29 Viasystems Group, Inc. Closed loop backdrilling system
JP4046058B2 (en) * 2003-10-10 2008-02-13 日本電気株式会社 Multilayer printed wiring board, stub counterboring device and method thereof
JP2008218925A (en) * 2007-03-07 2008-09-18 Fujitsu Ltd Wiring board, wiring board manufacturing method and inspection method
JP2009287943A (en) * 2008-05-27 2009-12-10 Mitsubishi Electric Corp Board inspection method
JP6116955B2 (en) * 2013-03-22 2017-04-19 ビアメカニクス株式会社 Multi-layer printed wiring board back drilling method, drill therefor and board drilling device
JP2015007552A (en) * 2013-06-25 2015-01-15 三菱電機株式会社 Inspection method for printed circuit boards
US9341670B2 (en) * 2014-05-20 2016-05-17 International Business Machines Corporation Residual material detection in backdrilled stubs
JP6520127B2 (en) * 2015-01-09 2019-05-29 日本電産リード株式会社 Substrate inspection apparatus, substrate inspection method, and substrate inspection jig

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018116969A (en) 2018-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12236020B2 (en) Executing gestures with active stylus
US9122361B2 (en) Touch panel testing using mutual capacitor measurements
EP2098946B1 (en) Handwriting electronic input system
CN111426946B (en) System chip for full-speed testing of logic circuits and operation method thereof
CN110737342A (en) Stylus, system including stylus and sensor, controller integrated circuit
CN104169849A (en) Touch panel excitation using a drive signal having time-varying characteristics
US20160246438A1 (en) Drive Signals for a Touch Sensor
CN114902340A (en) Automatic memory overclocking
US10209831B2 (en) Dead zone compensation for touch screens
JP6972560B2 (en) Control device, machining system and control method
KR101809576B1 (en) Low loading driving method, driver integrated circuit applying the method, and touch display system
JP5851955B2 (en) Touch input device control apparatus and touch input device control method
CN104227060A (en) Drilling method and drilling machine
JP6513513B2 (en) INPUT DEVICE, ITS CONTROL METHOD, AND PROGRAM
US20170364174A1 (en) Excitation Voltages for Touch Sensors
US11685121B2 (en) Computer controlled selective hardening of 3-dimensional printed objects
KR102895864B1 (en) Semiconductor device including defect detection circuit and method of detecting defects in the same
JP6481498B2 (en) Waveform verification program, information processing apparatus, and waveform verification method
JP6467257B2 (en) Information processing apparatus, information processing method, and program
JP4664222B2 (en) Allowable value calculation method and verification method
JP2011210081A (en) Position detector
JP6779101B2 (en) Graphical user interface processor
CN102054521B (en) Access device and access method for flash memory
CN110459253A (en) Semiconductor device
JP2021071959A (en) Information processing device and control method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201006

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210406

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211005

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211018

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6972560

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150