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JP6987228B2 - 有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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JP6987228B2 - 有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法 - Google Patents

有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は表示技術分野に関し、特に有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法に関する。
有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示装置は軽量薄型で、自己発光し、応答速度が速く、視野角が大きく、色域が広く、輝度が高く、消費電力が低い等の多くの利点を有し、よってＯＬＥＤ表示装置は近年、人々からの注目を受けている。
屋外の強光照射下でＯＬＥＤ表示装置のコントラストが低いという課題を解決するために、ＯＬＥＤディスプレイパネル上に１層の偏光片を追加することで光反射を減少させ、それによりコントラストを向上させている。しかしながら、一方では、偏光片は直接パネルからの出射光を５５％超えて損なってしまい、他方では、偏光片の材質は主にポリビニルアルコールであり、その厚さが大きく（約１００μｍ）、質が脆く、曲げている最中に破断しやすく、動的屈曲型の表示製品に適用できない。従って、有機発光ダイオードディスプレイの各々のサブ画素ユニット（Ｒ、Ｇ、Ｂ ｓｕｂ−ｐｉｘｅｌ）上に対応するカラーフィルム層又はフォトレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）を形成することによって、発光層の出力が６０％より大きくなることを確実にすることができるとともに、非発光領域にブラックマトリクスを形成することによって、パネルの反射率を６％未満に効果的に低減させることができ、この技術は偏光片レス技術（ｐｏｌａｒｉｚｅｒ−ｌｅｓｓ、ＰＯＬ−ｌｅｓｓ）と呼ばれている。
しかしながら、従来技術によれば、カラーフィルム層又はフォトレジスト（Ｒ、Ｇ、Ｂ ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）は薄膜封止層上に形成される。カラーフィルム層のパターニング過程では、アルカリ性現像液が薄膜封止層に侵入し、さらに有機発光ダイオード素子に悪影響を与え、製品の欠陥をもたらし、製品の歩留まりを低減させることがある。また、カラーフィルム層のパターニングは４つのフォトマスクを用いたフォトリソグラフィ技術によって実現される必要があり、その製造プロセスが複雑であるため、表示装置のプロセス時間が長くなり、製造コストが高くってしまう。
また、偏光片レス技術によって光反射を減少させることができるが、ＯＬＥＤ表示装置のタッチセンサの電極（金属材質）が依然として光反射を引き起こすことがあり、従来技術では光反射の課題を徹底的に解決することができない。
そこで、有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提供することにより、従来技術に存在する課題を解決する必要がある。
本発明の目的は有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提供することであり、それにより、従来技術では表示装置の可撓性が低く、光透過率が低く、製造プロセスが複雑で、光反射が生じるという技術的課題を解決する。
上記技術的課題を解決するために、本発明は有機発光ダイオード表示装置を提供し、１つの基板、１つの画素定義層、１つの第１薄膜封止サブ層、１つのカラーフィルム層、１つの第２薄膜封止サブ層、１つの第３薄膜封止サブ層、及び１つのタッチセンサを含み、前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は１つの開口を定義し、前記第１薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、前記第２薄膜封止サブ層は、前記第１薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、前記第３薄膜封止サブ層は、前記第２薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは、前記第３薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに１つのブラックバンク層を含み、前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む。
本発明はさらに有機発光ダイオード表示装置を提供し、１つの基板、１つの画素定義層、１つの第１薄膜封止サブ層、１つのカラーフィルム層、１つの第２薄膜封止サブ層、及び１つの第３薄膜封止サブ層を含み、前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は１つの開口を定義し、前記第１薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、前記第２薄膜封止サブ層は、前記第１薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、前記第３薄膜封止サブ層は、前記第２薄膜封止サブ層上に設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに、１つのブラックバンク層を含み、前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記有機発光ダイオード表示装置はさらに、１つのタッチセンサを含み、タッチセンサは、前記第３薄膜封止サブ層上に設置され、前記タッチセンサは１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置され、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである。
本発明の有機発光ダイオード表示装置では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む。
本発明はさらに有機発光ダイオード表示装置の製造方法を提供し、１つの基板を提供するステップ、１つの画素定義層を前記基板上に形成し、前記画素定義層が１つの開口を定義するステップ、１つの第１薄膜封止サブ層を前記画素定義層上及び前記開口内に形成するステップ、インクジェットプリント技術を用いて１つのカラーフィルム層を前記開口内に形成するステップ、１つの第２薄膜封止サブ層を形成して、前記第２薄膜封止サブ層が前記第１薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆するようにするステップ、及び１つの第３薄膜封止サブ層を前記第２薄膜封止サブ層上に形成するステップを含む。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記方法はさらに、１つのブラックバンク層を形成して、前記ブラックバンク層が前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層が前記画素定義層とともに前記開口を定義するようにするステップを含む。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記方法はさらに、１つのタッチセンサを前記第３薄膜封止サブ層上に形成するステップを含み、前記タッチセンサは１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置される。
本発明の有機発光ダイオード表示装置の製造方法では、前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む。
従来技術に比べて、本発明は、有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提案する。カラーフィルム層を薄膜封止層内に嵌入することによって、有機発光ダイオード表示装置の厚さを減少させることができ、それにより有機発光ダイオード表示装置がさらに優れた可撓性及び屈曲特性を有し、且つ有機発光ダイオード表示装置の光透過率を向上させることができる。また、カラーフィルム層及び薄膜封止層の両方の製造プロセスに互換性があり、インクジェットプリント技術を用いてカラーフィルム層を形成することにより、プロセスが簡単になる。よって表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させ、且つ製品の欠陥を招くことがない。また、低反射膜をタッチセンサの金属層の上面上に形成することによって、表示装置の光反射の技術的課題を解決することができる。
図１Ａは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図１Ｂは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図１Ｃは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図１Ｄは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。 図１Ｅは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す。
以下、各実施例の説明は、添付図面を参照して行われ、本発明を実施するための特定の実施例を例示することに用いられる。本発明に言及される方向用語、例えば「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」等は単に添付図面を参照する方向である。従って、使用される方向用語は本発明を説明及び理解するためのものであり、本発明を限定するためのものではない。図中、構造が類似するユニットは同一符号で示される。
図１Ａ〜図１Ｅを参照してください。図１Ａ〜図１Ｅは本発明による有機発光ダイオード表示装置の製造方法のフローを示す図である。本発明は有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示装置の製造方法を提案する。上記方法はディスプレイパネル及びタッチパネルの形成を含む。上記方法は以下のステップを含む。
図１Ａに示すように、まず、１つの基板１０を提供する。上記基板１０上に緩衝層２０、薄膜トランジスタ素子３０、平坦層４０、陽極５１を有する。ＯＬＥＤ表示装置に可撓性を付与するために、上記基板は１つのフレキシブル基板であり得る。例えば、上記基板１０の材質はポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）であり得る。
次に、１つの画素定義層６０及び１つのブラックバンク層７０を上記基板１０上に形成し、上記ブラックバンク層７０と上記画素定義層６０を積層して設置する。上記ブラックバンク層７０が上記画素定義層６０とともに開口８０を定義する。従って、画素領域は限定される。上記画素領域は赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域を含む。
続いて、発光層５２を上記開口８０内に形成する。上記発光層５２は赤色発光層５２１、緑色発光層５２２及び青色発光層５２３を含む。一好適実施例では、蒸着方式を利用してそれぞれ上記赤色発光層５２１、上記緑色発光層５２２及び上記青色発光層５２３を赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域の開口８０内に形成してもよい。また、１つの陰極層５３及び１つの第１薄膜封止サブ層９１を上記画素定義層６０上及び上記開口８０内に形成する。
図１Ｂ〜図１Ｃに示すように、インクジェットプリント技術（ｉｎｋ ｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ、ＩＪＰ）を利用して１つのカラーフィルム層２００を上記開口８０内に形成する。例えば、インクジェットプリント技術を利用して赤色インク液滴２１０、緑色インク液滴２２０及び青色インク液滴２３０をそれぞれ赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域の開口８０内にプリントし、次に、紫外線をインクに照射し又はインクをベーク（例えば、９０℃又は９０℃未満）する方式によって、インク液滴を硬化させることでそれぞれ赤色レジスト層２１１、緑色レジスト層２２１及び青色レジスト層２３１を形成する。すなわち、上記カラーフィルム層２００はそれぞれＯＬＥＤ表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する上記赤色レジスト層２１１、上記緑色レジスト層２２１及び上記青色レジスト層２３１を含む。
図１Ｄに示すように、１つの第２薄膜封止サブ層９２を形成して、上記第２薄膜封止サブ層９２が上記第１薄膜封止サブ層９１及び上記カラーフィルム層２００を被覆するようにする。また、１つの第３薄膜封止サブ層９３を上記第２薄膜封止サブ層９２上に形成する。
一好適実施例では、上記第１薄膜封止サブ層９１及び上記第３薄膜封止サブ層９３は無機膜であり、上記第２薄膜封止サブ層９２は有機膜である。無機膜は水、及び酸素をブロックする特性を有し、従って無機膜は、水及び酸素がＯＬＥＤ素子に侵入してＯＬＥＤ素子を損傷させることを回避できる。有機膜は応力を緩和でき、従って、有機膜の形成によって表示装置がさらに優れた可撓性を有することに寄与する。
無機膜の材質はＳｉＮＸ、ＳｉＯＸ、ＳｉＯＮ又はＡｌＯＸであり得る。有機膜の材質は感光型アクリル酸又はメタクリル酸系の樹脂であり得る。プラズマ増強化学蒸着法（ｐｌａｓｍａ ｅｎｈａｎｃｅｄ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）又は原子層堆積技術（ａｔｏｍｉｃ ｌａｙｅｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）を利用して上記無機膜を形成してもよい。インクジェットプリント技術（ｉｎｋ ｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ、ＩＪＰ）を利用して上記有機膜を形成してもよい。
上記第１薄膜封止サブ層９１、上記第２薄膜封止サブ層９２及び上記第３薄膜封止サブ層９３は薄膜封止層９０を構成する。薄膜封止層９０は一方ではＯＬＥＤ素子を保護し、他方では優れた可撓性を有する。
一好適実施例では、上記第１薄膜封止サブ層９１は多層無機膜を含んでもよい。又は、上記第１薄膜封止サブ層９１は有機膜及び無機膜の複合多層膜を含んでもよい。
本発明は薄膜封止層９０内の第１薄膜封止サブ層９１、第２薄膜封止サブ層９２及び第３薄膜封止サブ層９３の具体的な材質が有機膜又は無機膜であるかについて特に限定せず、異なる表示製品に応じて、異なる薄膜封止層９０の材質を使用でき、薄膜封止層９０がＯＬＥＤ素子を保護でき又は優れた可撓性を有する限り、本発明の保護範囲内に属する。
ここまで、ＯＬＥＤディスプレイパネルの製造が完了する。
図１Ｄに示すように、タッチパネルをＯＬＥＤディスプレイパネル上に形成するために、上記方法は、１つのタッチセンサ３００を上記第３薄膜封止サブ層９３上に形成するステップをさらに含む。上記タッチセンサ３００は１つの第１金属層３１０及び１つの第２金属層３２０を含み、上記第１金属層３１０及び上記第２金属層３２０の上面上に１つの低反射膜３１１、３２１が設置される。
より具体的には、まず、１つの第１保護層４１０を上記第３薄膜封止サブ層９３上に形成する。続いて、フォトリソグラフィ技術を利用して上記第１金属層３１０を上記第１保護層４１０上に形成し、フォトリソグラフィ技術を利用して上記低反射膜３１１を上記第１金属層３１０の表面に形成する。その後、第２保護層４２０を上記第１保護層４１０及び上記低反射膜３１１上に形成する。最終的に、フォトリソグラフィ技術を利用して上記第２金属層３２０を上記第２保護層４２０上に形成し、フォトリソグラフィ技術を利用して上記低反射膜３２１を上記第２金属層３２０の表面に形成する。
最終的に、カバーガラス５００を上記ディスプレイパネルに密着させる。
ここまで、ＯＬＥＤ表示装置の製造が完了する。
本実施例によれば、画素定義層６０及びブラックバンク層７０は２回のフォトリソグラフィ技術を利用して個別形成される。しかし、一好適実施例では、画素定義層６０のみを形成してもよい。画素定義層６０の厚さが十分に厚く、インクが開口８０内にプリントできるようにすれば、１つの画素定義層６０で、２回のフォトリソグラフィ技術を利用して個別形成された画素定義層６０及びブラックバンク層７０を代替できる。
本発明によれば、上記画素定義層６０及び上記ブラックバンク層７０は非発光領域に位置し、従ってその材質がブラックマトリクスであってもよく、ブラックマトリクスは遮光できるだけでなく、光反射を回避できる。ブラックマトリクスの材質は主に感熱性、感光性重合体及び黒色充填材からなり、感熱性及び感光性重合体はアクリル酸又はメタクリル酸系の樹脂であってもよく、黒色充填材はカーボンブラック、有機吸光材料等であってもよい。また、第１金属層３１０及び第２金属層３２０の上面上に形成された低反射膜３１１、３２１の材質はブラックマトリクス、又は酸化クロム又は酸化モリブデンであってもよく、遮光及び光反射回避の技術的効果を達成することもできる。
上記のように、第１薄膜封止サブ層９１、第２薄膜封止サブ層９２及び第３薄膜封止サブ層９３は薄膜封止層９０を構成する。カラーフィルム層２００は上記第１薄膜封止サブ層９１と上記第２薄膜封止サブ層９２との間に形成される。上記第２薄膜封止サブ層９２及び上記カラーフィルム層２００の両方はインクジェットプリント技術を利用して形成できる。従って、カラーフィルム層２００は薄膜封止層９０内に嵌入され、且つ両方の製造プロセスに互換性がある。且つ、カラーフィルム層２００が薄膜封止層９０内に嵌入されるため、カラーフィルム層２００と薄膜封止層９０との全厚さが従来技術に比べて減少し、それによりＯＬＥＤ表示装置にさらに優れた可撓性及び屈曲特性を付与する。また、厚さが減少するため、ＯＬＥＤ表示装置の光透過率を約６０％に向上させる。
なお、上記カラーフィルム層２００はインクジェットプリント技術を利用して形成される。従来技術のカラーフィルム層が４つのフォトマスクを用いたフォトリソグラフィ技術によって実現されることに比べて、本発明のカラーフィルム層の製造過程が簡単であり、表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させる。且つ、カラーフィルム層の製造は現像液を使用する必要がなく、ＯＬＥＤ素子に悪影響を招き、製品の欠陥を招くことがない。
本発明はさらに有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示装置を提供する。上記ＯＬＥＤ表示装置は、１つの基板１０、１つの画素定義層６０、１つの第１薄膜封止サブ層９１、１つのカラーフィルム層２００、１つの第２薄膜封止サブ層９２、及び１つの第３薄膜封止サブ層９３を含み、画素定義層６０は、上記基板１０上に設置され、上記画素定義層６０は１つの開口８０を定義し、第１薄膜封止サブ層９１は、上記画素定義層６０上及び上記開口８０内に設置され、カラーフィルム層２００は、上記開口内に設置され、第２薄膜封止サブ層９２は、上記第１薄膜封止サブ層９１及び上記カラーフィルム層２００を被覆し、第３薄膜封止サブ層９３は、上記第２薄膜封止サブ層９２上に設置される。
本発明の一実施例によれば、上記ＯＬＥＤ表示装置はさらに１つのブラックバンク層７０を含んでもよく、上記ブラックバンク層７０は上記画素定義層６０と積層して設置され、上記ブラックバンク層７０は上記画素定義層６０とともに上記開口８０を定義する。
本発明の一実施例によれば、上記第１薄膜封止サブ層９１及び上記第３薄膜封止サブ層９３は無機膜であり、上記第２薄膜封止サブ層９２は有機膜である。
本発明の一実施例によれば、上記ＯＬＥＤ表示装置はさらに１つのタッチセンサ３００を含んでもよい。上記タッチセンサ３００は上記第３薄膜封止サブ層９３上に設置される。上記タッチセンサ３００は１つの第１金属層３１０及び１つの第２金属層３２０を含み、上記第１金属層３１０及び上記第２金属層３２０の上面上に１つの低反射膜３１１、３２１が設置される。
本発明の一実施例によれば、上記カラーフィルム層２００はそれぞれ有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する赤色レジスト層２１１、緑色レジスト層２２１及び青色レジスト層２３１を含む。
従来技術に比べて、本発明は有機発光ダイオード表示装置及びその製造方法を提案する。カラーフィルム層を薄膜封止層内に嵌入することによって、有機発光ダイオード表示装置の厚さを減少させることができ、それにより有機発光ダイオード表示装置がさらに優れた可撓性及び屈曲特性を有し、且つ有機発光ダイオード表示装置の光透過率を向上させることができる。また、カラーフィルム層及び薄膜封止層の両方の製造プロセスに互換性があり、インクジェットプリント技術を用いてカラーフィルム層を形成することによって、プロセスが簡単であり、従って表示装置のプロセス時間を短縮させ、表示装置の製造コストを低減させ、且つ製品の欠陥を招くことがない。また、低反射膜をタッチセンサの金属層の上面上に形成することによって、表示装置の光反射の技術的課題を解決することができる。
以上のように、好適実施例を以上に挙げて本発明を開示したが、上記好適実施例は本発明を限定するためのものではなく、当業者は本発明の精神及び範囲内を逸脱せずに、種々の変更や修飾を行うことができ、従って本発明の保護範囲は特許請求の範囲により定められた範囲に準じる。
１０ 基板
２０ 緩衝層
３０ 薄膜トランジスタ素子
４０ 平坦層
５１ 陽極
５２ 発光層
５３ 陰極層
６０ 画素定義層
７０ ブラックバンク層
８０ 開口
９０ 薄膜封止層
９１ 第１薄膜封止サブ層
９２ 第２薄膜封止サブ層
９３ 第３薄膜封止サブ層
２００ カラーフィルム層
２１０ 赤色インク液滴
２１１ 赤色レジスト層
２２０ 緑色インク液滴
２２１ 緑色レジスト層
２３０ 青色インク液滴
２３１ 青色レジスト層
３００ タッチセンサ
３１０ 第１金属層
３１１ 低反射膜
３２０ 第２金属層
３２１ 低反射膜
４１０ 第１保護層
４２０ 第２保護層
５００ カバーガラス
５２１ 赤色発光層
５２２ 緑色発光層
５２３ 青色発光層

Claims (13)

  1. 有機発光ダイオード表示装置であって、１つの有機発光ダイオード表示パネル、及び１つのタッチセンサを含み、
    前記有機発光ダイオード表示パネル上に、有機発光ダイオード素子を保護する薄膜封止層が構成され、
    前記タッチセンサは、前記薄膜封止層上に設置され、前記タッチセンサは１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置され、
    前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである、有機発光ダイオード表示装置。
  2. 前記有機発光ダイオード表示パネルは、
    １つの基板、１つの画素定義層、及び１つのブラックバンク層を含み、
    前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は１つの開口を定義し、
    前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである、請求項１に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  3. 前記薄膜封止層は、
    １つの第１薄膜封止サブ層、１つの第２薄膜封止サブ層、及び１つの第３薄膜封止サブ層を含み、
    前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項１に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  4. 前記有機発光ダイオード表示パネルは、さらに
    １つのカラーフィルム層を含み、
    前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む、請求項１に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  5. 有機発光ダイオード表示装置であって、１つの基板、１つの画素定義層、１つの第１薄膜封止サブ層、１つのカラーフィルム層、１つの第２薄膜封止サブ層、１つの第３薄膜封止サブ層、及び１つのタッチセンサを含み、
    前記画素定義層は、前記基板上に設置され、前記画素定義層は１つの開口を定義し、
    前記第１薄膜封止サブ層は、前記画素定義層上及び前記開口内に設置され、
    前記カラーフィルム層は、前記開口内に設置され、
    前記第２薄膜封止サブ層は、前記第１薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆し、
    前記第３薄膜封止サブ層は、前記第２薄膜封止サブ層上に設置され、
    前記タッチセンサは、前記第３薄膜封止サブ層上に設置され、
    前記タッチセンサは、１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置され、前記低反射膜の材質はブラックマトリクス、酸化クロム又は酸化モリブデンである、有機発光ダイオード表示装置。
  6. さらに１つのブラックバンク層を含み、
    前記ブラックバンク層は前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層は前記画素定義層とともに前記開口を定義し、前記ブラックバンク層及び前記画素定義層の材質はブラックマトリクスである、請求項５に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  7. 前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項５に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  8. 前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む、請求項５に記載の有機発光ダイオード表示装置。
  9. 有機発光ダイオード表示装置の製造方法であって、
    １つの基板を提供するステップ、
    １つの開口を定義する１つの画素定義層を前記基板上に形成するステップ、
    １つの第１薄膜封止サブ層を前記画素定義層上及び前記開口内に形成するステップ、
    インクジェットプリント技術を用いて１つのカラーフィルム層を前記開口内に形成するステップ、
    １つの第２薄膜封止サブ層を形成して、前記第２薄膜封止サブ層が前記第１薄膜封止サブ層及び前記カラーフィルム層を被覆するようにするステップ、及び
    １つの第３薄膜封止サブ層を前記第２薄膜封止サブ層上に形成するステップを含む、有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  10. 前記方法はさらに、
    １つのブラックバンク層を形成して、前記ブラックバンク層が前記画素定義層と積層して設置され、前記ブラックバンク層が前記画素定義層とともに前記開口を定義するようにするステップを含む、請求項９に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  11. 前記第１薄膜封止サブ層及び前記第３薄膜封止サブ層は無機膜であり、前記第２薄膜封止サブ層は有機膜である、請求項９に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  12. 前記方法はさらに、
    １つのタッチセンサを前記第３薄膜封止サブ層上に形成するステップを含み、
    前記タッチセンサは１つの第１金属層及び１つの第２金属層を含み、前記第１金属層及び前記第２金属層の上面上に１つの低反射膜が設置される、請求項９に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
  13. 前記カラーフィルム層はそれぞれ前記有機発光ダイオード表示装置の赤色画素領域、緑色画素領域及び青色画素領域内に位置する１つの赤色レジスト層、１つの緑色レジスト層及び１つの青色レジスト層を含む、請求項９に記載の有機発光ダイオード表示装置の製造方法。
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