JP6987603B2 - 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 - Google Patents
固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6987603B2 JP6987603B2 JP2017207029A JP2017207029A JP6987603B2 JP 6987603 B2 JP6987603 B2 JP 6987603B2 JP 2017207029 A JP2017207029 A JP 2017207029A JP 2017207029 A JP2017207029 A JP 2017207029A JP 6987603 B2 JP6987603 B2 JP 6987603B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- period
- solid
- photoelectric conversion
- signal
- pixel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
- H10F39/8037—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements the integrated elements comprising a transistor
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/06—Continuously compensating for, or preventing, undesired influence of physical parameters
- H03M1/0602—Continuously compensating for, or preventing, undesired influence of physical parameters of deviations from the desired transfer characteristic
- H03M1/0604—Continuously compensating for, or preventing, undesired influence of physical parameters of deviations from the desired transfer characteristic at one point, i.e. by adjusting a single reference value, e.g. bias or gain error
- H03M1/0607—Offset or drift compensation
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/10—Calibration or testing
- H03M1/1009—Calibration
- H03M1/1014—Calibration at one point of the transfer characteristic, i.e. by adjusting a single reference value, e.g. bias or gain error
- H03M1/1023—Offset correction
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/12—Analogue/digital converters
- H03M1/50—Analogue/digital converters with intermediate conversion to time interval
- H03M1/56—Input signal compared with linear ramp
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
- H04N25/63—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to dark current
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
- H04N25/772—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising A/D, V/T, V/F, I/T or I/F converters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/78—Readout circuits for addressed sensors, e.g. output amplifiers or A/D converters
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/199—Back-illuminated image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/806—Optical elements or arrangements associated with the image sensors
- H10F39/8063—Microlenses
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/809—Constructional details of image sensors of hybrid image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03M—CODING; DECODING; CODE CONVERSION IN GENERAL
- H03M1/00—Analogue/digital conversion; Digital/analogue conversion
- H03M1/12—Analogue/digital converters
- H03M1/1205—Multiplexed conversion systems
- H03M1/123—Simultaneous, i.e. using one converter per channel but with common control or reference circuits for multiple converters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
CMOSイメージセンサは、デジタルカメラ、ビデオカメラ、監視カメラ、医療用内視鏡、パーソナルコンピュータ(PC)、携帯電話等の携帯端末装置(モバイル機器)等の各種電子機器の一部として広く適用されている。
それらの中で、その最も進んだ回路のひとつが、列(カラム)毎にアナログ−デジタル変換器(ADC(Analog digital converter))を備え、画素信号をデジタル信号として取り出す回路である(たとえば特許文献1,2参照)。
一般的には、ランダムノイズ低減手法として、トランジスタサイズを大きくすることでフリッカノイズ(flicker noise)を低減する、もしくは比較器出力に容量を付加し、帯域を落とすことでCDSによるノイズのフィルタ効果を狙う方法が知られている。
しかし、それぞれの手法では、面積が増大する、容量増により比較器の反転遅延が悪化し、撮像素子のフレームレートが上げられないという不利益がある。
各々の信号はダイナミックレンジ(Dレンジ)を拡大するために光量(照度)に対するゲインが異なるように設計されるため、主としてアナログデジタルコンバータ(ADC)でデジタル変換後のデジタル信号処理回路でゲインを補正し、直線性(あるいは傾き)が同じに保たれるようにしている。
そのため、比較器の誤判定や非感受性入力範囲が発生し、カラム全体の画像のオフセットである固定パターンノイズ(FPN)やAD変換伝達曲線に非線形性が生じるという不利益がある。
このような場合、スムーズな切り替えが不能となり、その不連続点がノイズとなってしまい、いわゆるトーンジャンプ等の画像劣化の要因になるという不利益がある。
また、本発明は、出力ノードとしてのフローティングディフュージョンの暗電流の影響を抑止することが可能で、画像劣化を抑止しつつ実質的に広ダイナミックレンジ化、高フレームレート化を実現することが可能で、しかも低ノイズ化を図れ、有効画素領域を最大限に拡大することができ、コストあたりの価値を最大限に高めることが可能な固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器を提供することにある。
また、本発明によれば、出力ノードとしてのフローティングディフュージョンの暗電流の影響を抑止することが可能で、画像劣化を抑止しつつ実質的に広ダイナミックレンジ化、高フレームレート化を実現することが可能で、しかも低ノイズ化を図れ、有効画素領域を最大限に拡大することができ、コストあたりの価値を最大限に高めることが可能となる。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像装置の構成例を示すブロック図である。
本実施形態において、固体撮像装置10は、たとえば画素としてデジタル画素(Digital Pixel)を含むCMOSイメージセンサにより構成される。
これらの構成要素のうち、たとえば垂直走査回路30、出力回路40、およびタイミング制御回路50により画素信号の読み出し部60が構成される。
本第1の実施形態に係る固体撮像装置10において、後で詳述するように、各デジタル画素DPがAD変換機能を有しており、AD変換部は、光電変換読み出し部により読み出される電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力する比較処理を行う比較器(コンパレータ)を有している。
比較器は、読み出し部60の制御の下、蓄積期間に光電変換素子から出力ノード(フローティングディフュージョン)に溢れ出たオーバーフロー電荷に応じた電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号を出力する第1の比較処理と、蓄積期間後の転送期間に出力ノードに転送された光電変換素子の蓄積電荷に応じた電圧信号に対するデジタル化した第2の比較結果信号を出力する第2の比較処理と、を行う。
読み出し部60は、複数のサブ期間の各々において、少なくとも出力ノードを形成するフローティングディフュージョンFDをリセットレベルにリセットしてから出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較するAD変換処理を行う。
より具体的には、読み出し部60は、複数のサブ期間の各々において、少なくとも出力ノードを形成するフローティングディフュージョンFDをリセットレベルにリセットしてから各サブ期間の終了まで出力バッファ部による電圧信号とランプ状のサブ参照電圧とを比較するAD変換処理を繰り返し実行する。
具体的な第1の比較処理期間におけるAD変換処理等については、後で詳述する。
図2は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像装置10の画素部のデジタル画素アレイの一例を示す図である。
図3は、本発明の第1の実施形態に係る固体撮像装置10の画素の一例を示す回路図である。
なお、図2においては、図面の簡単化のため、9つのデジタル画素200が3行3列の行列状(M=3、N=3のマトリクス状)に配置されている例が示されている。
本第1の実施形態の画素部20は、後で詳述するように、第1の基板110と第2の基板120の積層型のCMOSイメージセンサとして構成されるが、本例では、図3に示すように、第1の基板110に光電変換読み出し部210が形成され、第2の基板120にAD変換部220およびメモリ部230が形成されている。
具体的には、この光電変換読み出し部210は、たとえば光電変換素子であるフォトダイオードPD1を有する。
このフォトダイオードPD1に対して、転送素子としての転送トランジスタTG1−Tr、リセット素子としてのリセットトランジスタRST1−Tr、ソースフォロワ素子としてのソースフォロワトランジスタSF1−Tr、電流源素子としてのカレントトランジスタIC1−Tr,出力ノードND1としてのフローティングディフュージョンFD1,および読み出しノードND2をそれぞれ一つずつ有する。
このように、第1の実施形態に係るデジタル画素200の光電変換読み出し部210は、転送トランジスタTG1−Tr、リセットトランジスタRST1−Tr、ソースフォロワトランジスタSF1−Tr、およびカレントトランジスタIC1−Trの4トランジスタ(4Tr)を含んで構成されている。
光電変換読み出し部210は、出力ノードとしてのフローティングディフュージョンFD1の電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した電圧信号VSLをAD変換部220に出力する。
光電変換読み出し部210は、第2の比較処理期間PCMP2において、画素信号としての読み出しリセット信号(信号電圧)(VRST)および読み出し信号(信号電圧)(VSIG)をAD変換部220に出力する。
以下、信号電荷は電子であり、各トランジスタがn型トランジスタである場合について説明するが、信号電荷が正孔(ホール)であったり、各トランジスタがp型トランジスタであっても構わない。
また、本実施形態は、複数のフォトダイオードおよび転送トランジスタ間で、各トランジスタを共有している場合にも有効である。
フォトダイオード(PD)を形成する基板表面にはダングリングボンドなどの欠陥による表面準位が存在するため、熱エネルギーによって多くの電荷(暗電流)が発生し、正しい信号が読み出せなくなってしまう。
埋め込み型フォトダイオード(PPD)では、フォトダイオード(PD)の電荷蓄積部を基板内に埋め込むことで、暗電流の信号への混入を低減することが可能となる。
転送トランジスタTG1−Trは、制御信号TGがハイ(H)レベルの転送期間PTに選択されて導通状態となり、フォトダイオードPD1で光電変換され蓄積された電荷(電子)をフローティングディフュージョンFD1に転送する。
なお、フォトダイオードPD1およびフローティングディフュージョンFD1が所定のリセット電位にリセットされた後、転送トランジスタTG1−Trは、制御信号TGがロー(L)レベルの非導通状態となり、フォトダイオードPD1は蓄積期間PIとなるが、このとき、入射する光の強度(量)が非常に高い場合、飽和電荷量を超えた電荷が転送トランジスタTG1―Tr下のオーバーフローパスを通じてオーバーフロー電荷としてフローティングディフュージョンFD1に溢れ出す。
リセットトランジスタRST1−Trは、制御信号RSTがHレベルのリセット期間に選択されて導通状態となり、フローティングディフュージョンFD1を電源電圧VDDの電源線Vddの電位にリセットする。
読み出しノードND2と基準電位VSS(たとえばGND)の間に電流源素子としてのカレントトランジスタIC1−Trのドレイン、ソースが接続されている。カレントトランジスタIC1−Trのゲートは制御信号VBNPIXの供給ラインに接続されている。
そして、読み出しノードND2とAD変換部220の入力部間の信号線LSGN1は、電流源素子としてのカレントトランジスタIC1−Trにより駆動される。
そして、図4のデジタル画素セルPXLCは、光電変換読み出し部210を形成するフォトダイオードPD1、転送トランジスタTG1−Tr、フローティングディフュージョンFD1、リセットトランジスタRST1−Tr、分離層SPL、さらには図示しないカラーフィルタ部およびマイクロレンズを含んで構成されている。
フォトダイオードPD1は、第1基板面1101側と、第1基板面1101側と対向する側の第2基板面1102側とを有する半導体基板に対して埋め込むように形成された第1導電型(本実施形態ではn型)半導体層(本実施形態ではn層)2101を含み、受光した光の光電変換機能および電荷蓄積機能を有するように形成されている。
フォトダイオードPD1の基板の法線に直交する方向(X方向)における側部には第2の導電型(本実施形態ではp型)分離層SPLが形成されている。
フォトダイオード(PD)を形成する基板表面にはダングリングボンドなどの欠陥による表面準位が存在するため、熱エネルギーによって多くの電荷(暗電流)が発生し、正しい信号が読み出せなくなってしまう。
埋め込み型フォトダイオード(PPD)では、フォトダイオード(PD)の電荷蓄積部を基板内に埋め込むことで、暗電流の信号への混入を低減することが可能となる。
本例では、第1基板面1101側にn−層2102が形成され、このn−層2102の第2基板面1102側にn層2103が形成され、このn−層2103の第2基板面1102側にp+層2104およびp層2105が形成されている。
また、n−層2102の第1基板面1101側にp+層2106が形成されている。
p+層2106は、フォトダイオードPD1のみならず分離層SPL、さらには他のデジタル画素セルPXLCにわたって一様に形成されている。
図4のX方向(列方向)におけるp型分離層SPLにおいては、フォトダイオードPD1のn−層2102と接する側であって基板の法線に直交する方向(図中の直交座標系のX方向)の右側部に、第1のp層(第2導電型半導体層)2107が形成されている。
さらに、p型分離層SPLにおいては、第1のp層2107のX方向の右側に、第2のp層(第2導電型半導体層)2108が、基板110の法線方向(図中の直交座標系のZ方向)に2層構造を持つように構成されている。
本例では、第2のp層2108において、第1基板面1101側にp−層2109が形成され、このp−層2109の第2基板面1102側にp層2110が形成されている。
そして、n層2103の第2基板面1102側のp層2105上に、ゲート絶縁膜を介して転送トランジスタTG1−Trのゲート電極2111が形成されている。
さらに、p型分離層SPLの第1のp層2107の第2の基板面1102側にはフローティングディフュージョンFD1となるn+層2112が形成され、n+層2112に隣接してリセットトランジスタRST1−Trのチャネル形成領域となるp層2113、p層2113に隣接してn+層2114が形成されている。
そして、p層2113上に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極2115が形成されている。
このとき、比較器221と同様に列毎に配置されたカウンタ222が動作しており、ランプ波形のあるランプ信号RAMPとカウンタ値が一対一の対応を取りながら変化することで電圧信号VSLをデジタル信号に変換する。
基本的に、AD変換部220は、参照電圧VREF(たとえばランプ信号RAMP)の変化は電圧の変化を時間の変化に変換するものであり、その時間をある周期(クロック)で数えることでデジタル値に変換する。
そして、アナログ信号VSLとランプ信号RAMP(参照電圧VREF)が交わったとき、比較器221の出力が反転し、カウンタ222の入力クロックを停止し、または、入力を停止していたクロックをカウンタ222に入力し、そのときのカウンタ222の値(データ)がメモリ部230に記憶されてAD変換を完了させる。
以上のAD変換期間終了後、各デジタル画素200のメモリ部230に格納されたデータ(信号)は出力回路40から図示しない信号処理回路に出力され、所定の信号処理により2次元画像が生成される。
そして、本第1の実施形態のAD変換部220の比較器221は、画素信号の読み出し期間に、基本的に次の2つの第1の比較処理および第2の比較処理を行うように、読み出し部60により駆動制御される。
なお、この第1の比較処理CMPR1の動作を、タイムスタンプ(TS)ADCモードの動作ともいう。
実際には、第2の比較処理CMPR2において、蓄積電荷に応じた電圧信号VSL2(VSIG)に対するデジタル化の前に、リセット時のフローティングディフュージョンFD1のリセット電圧に応じた電圧信号VSL2(VRST)に対するデジタル化を行う。
なお、この第2の比較処理CMPR2の動作を、リニア(Lin)ADCモードの動作ともいう。
第1の比較処理CMPR1の期間PCMPR1は、フォトダイオードPD1およびフローティングディフュージョンFD1がリセットレベルにリセットされてから、転送期間PTが開始される前に、フローティングディフュージョンFD1がリセットレベルにリセットされるまでの期間である。
第2の比較処理CMPR2の期間PCMPR2は、フローティングディフュージョンFD1がリセットレベルにリセットされた後の期間であって、転送期間PT後の期間を含む期間である。
図5は、本実施形態に係る比較器221の基本的な第1の比較処理CMPR1を説明するための図である。
図5において、横軸が時間を示し、縦軸が出力ノードであるフローティングディフュージョンFD1の電圧レベルVFDを示している。
一方、飽和状態のときが電荷量が多く、電圧レベルVFDは低いレベルVFDsatとなる。
このような条件に従って、比較器221の参照電圧VREF1を、飽和状態となる手前の非飽和状態時のレベルに固定した電圧VREFsatに設定する、あるいはリセットレベル時の電圧レベルVREFrstから電圧レベルVREFsatに至るランプ電圧VREFrampに設定する。
最も高い照度の例EXP1の場合には、比較器221の出力が時刻t1に直ちにフリップ(反転)する。
例EXP1より低い照度の例EXP2の場合には、比較器221の出力が時刻t1より遅い時刻t2にフリップ(反転)する。
例EXP2より低い照度の例EXP3の場合には、比較器221の出力が時刻t2より遅い時刻t3にフリップ(反転)する。
図5に示すように、非常に明るい光の下では、リセット活性化期間の直後に比較器221の出力状態が反転され、その光レベルは、以下の時間で説明される飽和信号(ウェル容量)に対応する。
たとえば、FD飽和:8Ke @ 150uV / e〜FD容量の1.1fF、最小サンプリング時間:15nsec、蓄積時間:3msec:
であると仮定する。
図7において,横軸がサンプリング時間を示し、縦軸がオーバーフロー信号における推定信号を示している。
図7においては、さまざまな固定基準電圧DC1、DC2、DC3とランプ基準電圧VRAMPに対して反転するサンプリング時間を示している。ここでは、線形基準ランプが使用されている。
図8において、TC1がタイムスタンプADCモード動作による信号(AD変換伝達曲線)を示し、TC2がリニアADCモード動作による信号(AD変換伝達曲線)を示している。
たとえば、上述したように、光変換範囲の飽和信号は900Keに相当する。
リニアADCモードは、ADCを適用した通常の読み出しモード動作のため、2eのノイズレベルから8KeのフォトダイオードPD1とフローティングディフュージョンFD1の飽和までカバーすることがでる。
リニアADCモードのカバレッジは、追加のスイッチと容量で30Keに拡張することができる。
そのため、比較器221の誤判定や非感受性入力範囲が発生し、カラム全体の画像のオフセットである固定パターンノイズ(FPN)やAD変換伝達曲線に非線形性が生じるおそれがある。
より具体的には、読み出し部60は、複数のサブ期間の各々において、少なくとも出力ノードND1を形成するフローティングディフュージョンFD1をリセットレベルにリセットしてから各サブ期間の終了まで出力バッファ部211による電圧信号VSLとランプ状のサブ参照電圧RAMPとを比較するAD変換処理を繰り返し実行することにより、出力ノードND1を形成するフローティングディフュージョンFD1の暗電流の影響を抑止あるいはキャンセルし、画像劣化を抑止しつつ実質的に広ダイナミックレンジ化を実現している。
メモリ部230はSRAMやDRAMにより構成され、デジタル変換された信号が供給され、フォトコンバージョン符号に対応し、画素アレイ周辺の出力回路40の外部IOバッファ41により読み出すことができる。
ここで、固体撮像装置10におけるフレーム読み出し方式の一例について説明する。
図10において、TSはタイムスタンプADCの処理期間を示し、LinはリニアADCの処理期間を示している。
実際には、タイムスタンプADCモードは、蓄積期間PI中であって、フローティングディフュージョンFD1がリセットされるまでの期間に動作する。
タイムスタンプADCモードの動作が終了すると、リニアADCモードに遷移し、フローティングディフュージョンFD1のリセット時の信号(VRST)を読み出してデジタル信号をメモリ部230に格納するように変換する。
さらに蓄積期間PIの終了後、リニアADCモードではフォトダイオードPD1の蓄積電荷に応じた信号(VSIG)を読み取ってデジタル信号をメモリ部230に格納するように変換する。
読み出されたフレームは、メモリノードからのデジタル信号データの読み出しによって実行され、そのようなMIPIデータフォーマットを有する、たとえば出力回路40のIOバッファ41(図9)を介して固体撮像装置10(イメージセンサ)の外部に送られる。この動作は、全画素(ピクセル)アレイに対してグローバルに実行することができる。
垂直走査回路30は、タイミング制御回路50の制御に応じて、各デジタル画素200の比較器221に対して、第1の比較処理CMPR1、第2の比較処理CMPR2に準じて設定される参照電圧VREF1,VREF2を供給する。
また、垂直走査回路30は、アドレス信号に従い、信号の読み出しを行うリード行と、フォトダイオードPDに蓄積された電荷をリセットするシャッタ行の行アドレスの行選択信号を出力する。
以上、固体撮像装置10の各部の構成および機能の概要、特に、画素部20およびデジタル画素の構成および機能について説明した。
以下に、フローティングディフュージョンFD1の暗電流の影響を抑止またはキャンセルするための第1の比較処理期間におけるAD変換処理方法等について詳述する。
この技術は、たとえば近未来の有望なグローバルシャッタ技術となり得る。
しかしながら、実際には、フローティングディフュージョンFD1の暗電流が発生し、それに応じてFD電圧VFDDCが低下する。
フローティングディフュージョンFD1の暗電流は、期間が最大10msのタイムスタンプADC(TS−ADC)期間である第1の比較処理期間PCMPR1に比例する。
したがって、比較器221の反転(フリップ)時間の変化は、フローティングディフュージョンFD1の暗電流とショットノイズによって大きく影響され、カラム全体の画像のオフセットである固定パターンノイズ(FPN)やAD変換伝達曲線に非線形性が生じるおそれがある。
また、フローティングディフュージョンFD1の暗電流の電荷を実際のオーバーフロー電荷から分離することは困難であることから、接合する第1のAD変換伝達曲線TC1と第2のAD変換伝達曲線TC2の接合点(AD変換コード境界)に接合ギャップ(AD変換コードギャップ)が生じ、その切り替え領域においての直線性(リニアリティ)が必ずしも保証されない場合がある。
このような場合、スムーズな切り替えが不能となり、その不連続点がノイズとなってしまい、いわゆるトーンジャンプ等の画像劣化の要因になる。
したがって、フローティングディフュージョンFD1の暗電流の影響を抑えることが重要である。
図13は、図12の第1の比較処理期間におけるAD変換処理方法によるAD変換伝達曲線等について説明するための図である。
すなわち、読み出し部60は、複数のサブ期間PSUB1〜PSUB7の各々において、少なくとも出力ノードND1を形成するフローティングディフュージョンFD1をリセットレベルにリセットしてから出力バッファ部211による電圧信号VSLと参照電圧VREF1とを比較するAD変換処理を行う。
より具体的には、読み出し部60は、複数のサブ期間PSUB1〜PSUB7の各々において、少なくとも出力ノードを形成するフローティングディフュージョンFD1をリセットレベルにリセットしてから各サブ期間PSUB1〜PSUB7の終了まで出力バッファ部211による電圧信号VSL(VFD)とランプ状のサブ参照電圧RAMP11〜RAMP17とを比較するAD変換処理を繰り返し実行する。
このように、フローティングディフュージョンFD1を定期的にクリアすることにより、より高い動作温度でもフローティングディフュージョンFD1の暗電流が無視できるようになる。
これは光子ショットノイズよりもはるかに小さく、5kelのフルウェル容量の場合、通常〜70elである。
したがって、フローティングディフュージョンFD1の暗電流の影響は、光子ショットノイズによってマスクされる。
ここで、MSBビットは、比較器221が反転するときのAD変換サイクル数を表している。また、LSBビットは各AD変換サイクル内の細かいコードステップを表している。このようにして、ミッシングコードを生成することなく、比較器221の反転(フリップ)タイミングを記録することができる。
このオーバーラップによって、サブ期間で細かくAD変換を行ったとしても、継ぎ目でのコードジャンプを発生させることなく、タイムスタンプ(TS)AD変換コードを再現することができる。
また、デジタル画素200のソースフォロアバイアス電流と比較器(コンパレータ)221のバイアス電流を停止して消費電力を節約することができる。
また、AD変換毎にアナログCDS動作を行うことができるため、1/fノイズやオフセットを含むRTSノイズを大幅に抑えることができ、タイムスタンプ(TS)ADCのノイズ読み出しを低減することができる。
このサブ参照電圧RAMP11〜RAMP17の最終値は、は任意の値に設可能である。
ただし、サブ参照電圧RAMP11〜RAMP17の最終値は、少なくとも最終のサブ期間PSUB7において、フローティングディフュージョンFD1の暗電流により出力バッファ部211の出力電圧信号が変化しても比較器221における誤判定を回避し得るレベルに設定されることが望ましい。
最終値のパーセンテージは、実際の回路条件によって異なる。
ただし、最初の反転ポイントのADC_CODEはASICピクセルのSRAMに格納され、ASICピクセルに内蔵されているメモリ上書き保護機能により安全に保持される。なお、反転ポイントP1、P2、P3は同じ最終AD変換コードを表す。
複数のサブ期間PSUB1〜PSUB8に得られるAD変換伝達曲線は、少なくとも2つのサブ期間でオーバーラップする領域を含む。
このように、AD変換伝達関数が少し重なっているので、1つの入射光には複数のAD変換コードがある。図13のポイントP11、P12およびP13のようなものである。
図13において、MSB <y-1:0>はサブAD変換の伝達回数を表し、LSB <n-y:0>は等価FD電圧の範囲を表している。
これにより、フローディングディフュージョンFD1の暗電流の影響を除外して、タイムスタンプADC(TS-ADC)とリニアADC(LIN-ADC)の境界でAD変換コードギャップを減少させることが可能となる。
また、1/fやRTSなどの低周波ノイズは、AD変換周期が短いためアナログCDS動作によって大幅に除去される。
これにより、各サブAD変換時に、比較器221のクロックフィードスルーとミスマッチのために誤った比較器221の反転(フリップ)が発生しないようすることが可能となる。
次に、本第1の実施形態に係る固体撮像装置10の積層構造について説明する。
図15は、本第1の実施形態に係る固体撮像装置10の積層構造について説明するための簡略断面図である。
固体撮像装置10は、たとえばウェハレベルで貼り合わせた後、ダイシングで切り出した積層構造の撮像装置として形成される。
本例では、第1の基板110と第2の基板120が積層された構造を有する。
第1の基板110の光Lが入射側である第1面111側にフォトダイオードPDが形成され、その光入射側にマイクロレンズMCLやカラーフィルタが形成されている。
第1の基板110の第2面側に転送トランジスタTG1−Tr,リセットトランジスタRST1−Tr,ソースフォロワトランジスタSF1−Tr,カレントトランジスタIC1−Trが形成されている
また、第2の基板120には、垂直走査回路30、出力回路40、およびタイミング制御回路50も形成されてもよい。
また、本実施形態においては第1の基板110の各光電変換読み出し部210の読み出しノードND2と第2の基板120の各デジタル画素200の比較器221の反転入力端子(−)とが、結合キャパシタC221によりAC結合されている。
以上、固体撮像装置10の各部の特徴的な構成および機能について説明した。
次に、本第1の実施形態に係る固体撮像装置10のデジタル画素200の画素信号の読み出し動作等について詳述する。
図17(A)〜(D)は、本第1の実施形態に係る固体撮像装置の所定シャッタモード時の主として画素部における読み出し動作を説明するための動作シーケンスおよびポテンシャル遷移を示す図である。
グローバルリセットにおいては、全画素同時にリセットトランジスタRST1−Trと転送トランジスタTG1−Trが所定期間導通状態に保持されて、フォトダイオードPD1およびフローティングディフュージョンFD1がリセットされる。そして、全画素同時にリセットトランジスタRST1−Trと転送トランジスタTG1−Trが非導通状態に切り替えられて、全画素同時並列的に露光、すなわち電荷の蓄積が開始される。
オーバーフロー電荷は蓄積期間PI中にフローティングディフュージョンFD1に蓄積される。タイムスタンプADCモードは蓄積時間PI中、具体的には、蓄積期間PI中であって、フローティングディフュージョンFD1がリセットされるまでの期間に動作する。
そして、AD変換部220の比較器221において、第1の比較処理CMPR1が行われる。
第1の比較処理のタイムスタンプADCでは、出力ノードND1を形成するフローティングディフュージョンFD1の暗電流の影響を抑止あるいはキャンセルするために、第1の比較処理の期間PCMPR1が、たとえば複数のサブ期間PSUB1〜PSUB7に分割され、各サブ期間PSUB1〜PSUB7のそれぞれにおいて、出力バッファ部211による電圧信号VSLと参照電圧VREF1とが比較され、デジタル化した第1の比較結果信号SCMP1を出力するAD変換処理が行われる。
より具体的には、複数のサブ期間PSUB1〜PSUB7の各々において、少なくとも出力ノードを形成するフローティングディフュージョンFD1をリセットレベルにリセットしてから各サブ期間PSUB1〜PSUB7の終了まで出力バッファ部211による電圧信号VSLとランプ状のサブ参照電圧RAMP11〜RAMP17とを比較するAD変換処理を繰り返し実行される。
比較器221から各第1の比較結果信号SCMP1が出力され、第1の比較結果信号SCMP1に応じたデジタルデータがメモリ部230のメモリ231に格納される。
リセット期間PR2においては、リセットトランジスタRST1−Trが所定期間導通状態に保持されて、フローティングディフュージョンFD1がリセットされる。フローティングディフュージョンFD1のリセット時の信号(VRST)を読み出してデジタル信号がメモリ部230のメモリ232に格納される。
そして、リセットトランジスタRST1−Trが非導通状態に切り替えられる。この場合、蓄積期間PIは継続される。
転送期間PTにおいては、転送トランジスタTG1−Trが所定期間導通状態に保持されて、フォトダイオードPD1の蓄積電荷がフローティングディフュージョンFD1に転送される。
そして、AD変換部220の比較器221において、第2の比較処理CMPR2が行われる。比較器221では、読み出し部60の制御の下、蓄積期間PI後に、フォトダイオードPD1から出力ノードであるフローティングフュージョンFD1に転送された蓄積電荷に応じた電圧信号VSL2に対するデジタル化した第2の比較結果信号SCMP2が出力され、第2の比較結果信号SCMP2に応じたデジタルデータがメモリ部230のメモリ232に格納される。
本第1の実施形態に係る固体撮像装置10において、各デジタル画素200がAD変換機能を有しており、AD変換部220は、光電変換読み出し部210により読み出される電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力する比較処理を行う比較器221を有している。
そして、比較器221は、読み出し部60の制御の下、蓄積期間にフォトダイオードPD1から出力ノード(フローティングディフュージョン)FD1に溢れ出たオーバーフロー電荷に応じた電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号SCMP1を出力する第1の比較処理CMPR1と、蓄積期間後の転送期間にフローティングノードFD1(出力ノード)に転送されたフォトダイオードPD1の蓄積電荷に応じた電圧信号に対するデジタル化した第2の比較結果信号SCMP2を出力する第2の比較処理CMPR2と、を行う。
また、本第1の実施形態によれば、実質的に広ダイナミックレンジ化、高フレームレート化を実現することが可能で、しかも低ノイズ化を図れ、有効画素領域を最大限に拡大することができ、コストあたりの価値を最大限に高めることが可能となる。
これにより、フローディングディフュージョンFD1の暗電流の影響を除外して、タイムスタンプADC(TS-ADC)とリニアADC(LIN-ADC)の境界でAD変換コードギャップを減少させることが可能となる。
また、1/fやRTSなどの低周波ノイズは、AD変換周期が短いためアナログCDS動作によって大幅に除去することができる。
これにより、各サブAD変換時に、比較器221のクロックフィードスルーとミスマッチのために誤った比較器221の反転(フリップ)が発生しないようすることが可能となる。
換言すれば、このオーバーラップによって、サブ期間で細かくAD変換を行ったとしても、継ぎ目でのコードジャンプを発生させることなく、タイムスタンプ(TS)AD変換コードを再現することができる
したがって、本第1の実施形態において、第1の基板110側を、基本的に、NMOS系の素子だけで形成すること、および、画素アレイにより有効画素領域を最大限に拡大することにより、コストあたりの価値を最大限に高めることができる。
図18は、本発明の第2の実施形態に係る固体撮像装置を説明するための図であって、タイムスタンプADCモード動作とリニアADCモード動作の選択処理の一例を示す図である。
第1の実施形態に係る固体撮像装置10では、タイムスタン(TS)ADCモード動作とリニア(Lin)ADCモード動作が連続して行われる。
通常の照度ではなく、非常に(極めて)高照度の場合(ST1、ST3)、フォトダイオードPD1から電荷がフローティングディフュージョンFD1にオーバーフローする確率が高いことから、タイムスタンプADCモード動作のみを行う(ST4)、
通常の照度ではなく、非常に(極めて)高照度でもなく、非常に(極めて)低照度の場合(ST1、ST3、ST5)、フォトダイオードPD1から電荷がフローティングディフュージョンFD1にオーバーフローする確率がきわめて低いことから、リニアADCモード動作のみを行う(ST6)、
図19は、本発明の第3の実施形態に係る固体撮像装置10Bにおけるフレーム読み出しシーケンスの一例を示す図である。
図20は、本第3の実施形態に係る比較器に参照電圧を入力した場合の光時間変換の状態を示す図である。
図20において,横軸がサンプリング時間を示し、縦軸がオーバーフロー信号における推定信号を示している。なお、ここでのオーバーフロー信号とは、転送トランジスタTG1−Trを導通状態にしてフォトダイオードPD1に電荷をためない条件(非オーバーフロー)にして見積もったものである。
図21は、適用される光の性質(適性)による非オーバーフロー電荷(信号)に対応する比較器221が反転するサンプリング時間を示している。
図21(A)および(B)は、本第3の実施形態におけるデジタルコードと光変換による電荷量との関係を示す図である。図21(A)はリニアのランプ信号を用いた場合の特性を、図21(B)はログ信号を用いた場合の特性を示している。
図22は、本発明の第4の実施形態に係る固体撮像装置の画素の構成例を示す図である。
本第4の実施形態に係る固体撮像装置1CBでは、電流源としてのカレントトランジスタIC1−Trが第1の基板110側ではなく、たとえば第2の基板120側のAD変換部220の入力側に配置されている。
た電子機器の構成の一例を示す図である。
さらに、電子機器300は、このCMOSイメージセンサ310の画素領域に入射光を導く(被写体像を結像する)光学系(レンズ等)320を有する。
電子機器300は、CMOSイメージセンサ310の出力信号を処理する信号処理回路(PRC)330を有する。
信号処理回路330で処理された画像信号は、液晶ディスプレイ等からなるモニタに動画として映し出し、あるいはプリンタに出力することも可能であり、またメモリカード等の記録媒体に直接記録する等、種々の態様が可能である。
そして、カメラの設置の要件に実装サイズ、接続可能ケーブル本数、ケーブル長さ、設置高さなどの制約がある用途に使われる、たとえば、監視用カメラ、医療用内視鏡用カメラなどの電子機器を実現することができる。
Claims (20)
- 光電変換を行う画素が配置された画素部と、
前記画素部の前記画素から画素信号を読み出す読み出し部と、を有し、
前記画素は、
蓄積期間に光電変換により生成した電荷を蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を前記蓄積期間後の転送期間に転送可能な転送素子と、
前記転送素子を通じて前記光電変換素子で蓄積された電荷が転送されるフローティングディフュージョンにより形成された出力ノードと、
前記出力ノードの電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した電圧信号を出力する出力バッファ部と、
前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力する比較処理を行う比較器と、
前記比較器の比較結果信号に応じたデータを記憶するメモリ部と、を含み、
前記比較器は、前記読み出し部の制御の下、
前記蓄積期間に前記光電変換素子から前記出力ノードに溢れ出たオーバーフロー電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号を出力する第1の比較処理と、
前記蓄積期間後の前記転送期間に前記出力ノードに転送された前記光電変換素子の蓄積電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第2の比較結果信号を出力する第2の比較処理と、を行い、
前記第1の比較処理では、
前記第1の比較処理の期間が複数のサブ期間に分割され、前記各サブ期間のそれぞれにおいて、前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力するアナログデジタル(AD)変換処理を行う
固体撮像装置。 - 前記読み出し部は、
複数の前記サブ期間の各々において、少なくとも前記出力ノードをリセットレベルにリセットしてから前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較するAD変換処理を行う
請求項1記載の固体撮像装置。 - 前記読み出し部は、
複数の前記サブ期間の各々において、少なくとも前記出力ノードをリセットレベルにリセットしてから各サブ期間の終了まで前記出力バッファ部による電圧信号とランプ状のサブ参照電圧とを比較するAD変換処理を繰り返し実行する
請求項1または2記載の固体撮像装置。 - 前記サブ参照電圧の最終値は、少なくとも最終のサブ期間において、前記出力ノードの暗電流により前記出力バッファ部の出力電圧信号が変化しても前記比較器における誤判定を回避し得るレベルに設定される
請求項3記載の固体撮像装置。 - 複数の前記サブ期間に得られるAD変換伝達曲線は、少なくとも2つのサブ期間でオーバーラップする領域を含む
請求項1から4のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記各サブ期間におけるAD変換伝達関数は逆伝達関数を適用して線形化される
請求項1から5のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - AD変換コードは、MSBビットとLSBビットにセグメント化され、MSBビットは比較器の出力が反転するときのAD変換サイクル数を表し、LSBビットは各AD変換サイクル内のコードステップを表す
請求項1から6のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - MSBコードは次のサブ期間のAD変換処理が開始されると増減し、LSBコードは各サブ期間のAD変換処理時に増減し、サブ期間のAD変換開始時に初期値にリセットされる
請求項7記載の固体撮像装置。 - 前記比較器は、前記第1の比較処理において、
前記オーバーフロー電荷の量に応じた時間に対応する前記第1の比較結果信号を出力し、
前記オーバーフロー電荷が前記光電変換素子から前記出力ノードに溢れ始める最大サンプリング時間における前記光電変換素子の信号レベルから最小サンプリング時間で得られる信号レベルまでの光レベルに対応可能である
請求項1から8のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記蓄積期間は、
前記光電変換素子および前記出力ノードがリセットレベルにリセットされてから、前記転送素子が導通状態に切り替えられて前記転送期間が開始されるまでの期間であり、
前記第1の比較処理の期間は、
前記光電変換素子および前記出力ノードがリセットレベルにリセットされてから、前記転送期間が開始される前に、前記出力ノードがリセットレベルにリセットされるまでの期間であり、
前記第2の比較処理の期間は、
前記出力ノードがリセットレベルにリセットされた後の期間であって、前記転送期間後の期間を含む期間である
請求項1から9のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記読み出し部は、
前記第1の比較処理と前記第2の比較処理を、照度に応じて選択的に行うように制御する
請求項1から10のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記読み出し部は、
通常の照度の場合、前記第1の比較処理と前記第2の比較処理を行うように制御し、
通常の照度より高照度の場合、前記第1の比較処理を行うように制御し、
通常の照度より低照度の場合、前記第2の比較処理を行うように制御する
請求項11記載の固体撮像装置。 - 前記読み出し部は、
前記比較器に対して、前記蓄積期間に前記光電変換素子から前記出力ノードに溢れ出ない場合であっても、前記第1の比較処理により、電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号を出力するように制御する
請求項1から12のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記画素は、
前記出力ノードとしてのフローティングディフュージョンと、
リセット期間に前記フローティングディフュージョンを所定の電位にリセットするリセット素子と、を含み、
前記出力バッファ部は、
前記フローティングディフュージョンの電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した信号を出力するソースフォロワ素子
前記ソースフォロワ素子のソースに接続された電流源と、を含む
請求項1から13のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記比較器は、
第1の入力端子に、前記出力バッファ部による前記電圧信号が供給され、
第2の入力端子に、前記参照電圧が供給され、
前記第1の入力端子への前記電圧信号の供給ラインに結合キャパシタが接続されている
請求項1から14のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記比較器は、
出力端子と前記第1の入力端子との間にリセットスイッチが接続され、
前記出力端子側に負荷キャパシタが接続されている
請求項15記載の固体撮像装置。 - 第1の基板と、
第2の基板と、を含み、
前記第1の基板と前記第2の基板は接続部を通して接続された積層構造を有し、
前記第1の基板には、
少なくとも、前記画素の前記光電変換素子、前記転送素子、前記出力ノード、および出力バッファ部が形成され、
前記第2の基板には、
少なくとも、前記比較器、前記メモリ部、および前記読み出し部の少なくとも一部が形成されている
請求項1から16のいずれか一に記載の固体撮像装置。 - 前記画素は、
前記出力ノードとしてのフローティングディフュージョンと、
リセット期間に前記フローティングディフュージョンを所定の電位にリセットするリセット素子と、を含み、
前記出力バッファ部は、
前記フローティングディフュージョンの電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した信号を出力するソースフォロワ素子と、
前記ソースフォロワ素子のソースに接続された電流源と、を含み、
前記フローティングディフュージョン、前記リセット素子、および前記ソースフォロワ素子は前記第1の基板に形成され、
前記電流源は、前記第1の基板または前記第2の基板に形成されている
請求項17記載の固体撮像装置。 - 光電変換を行う画素が配置された画素部と、
前記画素部の前記画素から画素信号を読み出す読み出し部と、を有し、
前記画素は、
蓄積期間に光電変換により生成した電荷を蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を前記蓄積期間後の転送期間に転送可能な転送素子と、
前記転送素子を通じて前記光電変換素子で蓄積された電荷が転送されるフローティングディフュージョンにより形成された出力ノードと、
前記出力ノードの電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した電圧信号を出力する出力バッファ部と、
前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力する比較処理を行う比較器と、
前記比較器の比較結果信号に応じたデータを記憶するメモリ部と、を含む
固体撮像装置の駆動方法であって、
前記画素の画素信号を読み出す場合、前記比較器において、
前記読み出し部の制御の下、
前記蓄積期間に前記光電変換素子から前記出力ノードに溢れ出たオーバーフロー電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号を出力する第1の比較処理を行い、
前記蓄積期間後の前記転送期間に前記出力ノードに転送された前記光電変換素子の蓄積電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第2の比較結果信号を出力する第2の比較処理を行い、
前記第1の比較処理では、
前記第1の比較処理の期間が複数のサブ期間に分割され、前記各サブ期間のそれぞれにおいて、前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力するアナログデジタル(AD)変換処理を行う
固体撮像装置の駆動方法。 - 固体撮像装置と、
前記固体撮像装置に被写体像を結像する光学系と、を有し、
前記固体撮像装置は、
光電変換を行う画素が配置された画素部と、
前記画素部の前記画素から画素信号を読み出す読み出し部と、を有し、
前記画素は、
蓄積期間に光電変換により生成した電荷を蓄積する光電変換素子と、
前記光電変換素子に蓄積された電荷を前記蓄積期間後の転送期間に転送可能な転送素子と、
前記転送素子を通じて前記光電変換素子で蓄積された電荷が転送されるフローティングディフュージョンにより形成された出力ノードと、
前記出力ノードの電荷を電荷量に応じた電圧信号に変換し、変換した電圧信号を出力する出力バッファ部と、
前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力する比較処理を行う比較器と、
前記比較器の比較結果信号に応じたデータを記憶するメモリ部と、を含み、
前記比較器は、前記読み出し部の制御の下、
前記蓄積期間に前記光電変換素子から前記出力ノードに溢れ出たオーバーフロー電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第1の比較結果信号を出力する第1の比較処理と、
前記蓄積期間後の前記転送期間に前記出力ノードに転送された前記光電変換素子の蓄積電荷に応じた前記電圧信号に対するデジタル化した第2の比較結果信号を出力する第2の比較処理と、を行い、
前記第1の比較処理では、
前記第1の比較処理の期間が複数のサブ期間に分割され、前記各サブ期間のそれぞれにおいて、前記出力バッファ部による電圧信号と参照電圧とを比較し、デジタル化した比較結果信号を出力するアナログデジタル(AD)変換処理を行う
電子機器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017207029A JP6987603B2 (ja) | 2017-10-26 | 2017-10-26 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
| CN201811175626.0A CN109714551B (zh) | 2017-10-26 | 2018-10-09 | 固体摄像装置、固体摄像装置的驱动方法以及电子设备 |
| US16/168,276 US10645327B2 (en) | 2017-10-26 | 2018-10-23 | Solid-state imaging device, method for driving solid-state imaging device, and electronic apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017207029A JP6987603B2 (ja) | 2017-10-26 | 2017-10-26 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019080225A JP2019080225A (ja) | 2019-05-23 |
| JP6987603B2 true JP6987603B2 (ja) | 2022-01-05 |
Family
ID=66245698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017207029A Active JP6987603B2 (ja) | 2017-10-26 | 2017-10-26 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10645327B2 (ja) |
| JP (1) | JP6987603B2 (ja) |
| CN (1) | CN109714551B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7100439B2 (ja) * | 2017-10-20 | 2022-07-13 | ブリルニクス シンガポール プライベート リミテッド | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
| KR102759366B1 (ko) * | 2019-06-14 | 2025-01-24 | 삼성전자주식회사 | Cis, 및 그 cis에서 픽셀별 ae 방법 |
| JP7460345B2 (ja) * | 2019-09-30 | 2024-04-02 | ブリルニクス シンガポール プライベート リミテッド | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
| US11368639B2 (en) * | 2019-09-30 | 2022-06-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus, image capturing system, method for driving photoelectric conversion apparatus, and moving object |
| JP7846499B2 (ja) * | 2020-10-28 | 2026-04-15 | ブリルニクス シンガポール プライベート リミテッド | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
| EP4283970B1 (en) | 2021-06-16 | 2026-01-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electronic device for removing low-light noise, and operating method thereof |
| CN113709395B (zh) * | 2021-08-30 | 2024-11-26 | 维沃移动通信有限公司 | 像素电路、图像传感器及电子设备 |
| JP7516460B2 (ja) * | 2021-09-08 | 2024-07-16 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置、光電変換システム |
| WO2023087289A1 (en) * | 2021-11-19 | 2023-05-25 | Huawei Technologies Co.,Ltd. | Solid-state imaging device and electronic apparatus |
| US20260113551A1 (en) * | 2024-10-23 | 2026-04-23 | Stmicroelectronics International N.V. | Dynamic read-out circuitry for light-sensing pixel based on light intensity |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3915161B2 (ja) * | 1997-03-04 | 2007-05-16 | ソニー株式会社 | ブルーミング防止構造を備えた固体撮像素子のダイナミックレンジ拡大方法とその固体撮像素子 |
| US6580454B1 (en) * | 1998-11-18 | 2003-06-17 | Agilent Technologies, Inc. | CMOS active pixel sensor having in-pixel local exposure control |
| US6069377A (en) * | 1999-05-13 | 2000-05-30 | Eastman Kodak Company | Image sensor incorporating saturation time measurement to increase dynamic range |
| JP4107269B2 (ja) | 2004-02-23 | 2008-06-25 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置 |
| US7129883B2 (en) * | 2004-02-23 | 2006-10-31 | Sony Corporation | Method and apparatus for AD conversion, semiconductor device for detecting distribution of physical quantity, and electronic apparatus |
| JP4243688B2 (ja) | 2004-04-02 | 2009-03-25 | 国立大学法人静岡大学 | 増幅型固体撮像装置 |
| TWI249947B (en) | 2004-06-04 | 2006-02-21 | Via Tech Inc | Digital pixel sensor and operating method thereof |
| US7456409B2 (en) * | 2005-07-28 | 2008-11-25 | Carestream Health, Inc. | Low noise image data capture for digital radiography |
| JP4931233B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2012-05-16 | キヤノン株式会社 | 撮像装置及びその処理方法 |
| US8158923B2 (en) | 2009-01-16 | 2012-04-17 | Raytheon Company | Time-frequency fusion digital pixel sensor |
| JP2010283525A (ja) * | 2009-06-03 | 2010-12-16 | Toshiba Corp | 撮像装置 |
| JP5521682B2 (ja) * | 2010-02-26 | 2014-06-18 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、及び、電子機器 |
| JP5858695B2 (ja) * | 2011-09-08 | 2016-02-10 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置及び固体撮像装置の駆動方法 |
| CN103208501B (zh) * | 2012-01-17 | 2017-07-28 | 奥林巴斯株式会社 | 固体摄像装置及其制造方法、摄像装置、基板、半导体装置 |
| EP2816731A4 (en) * | 2012-02-17 | 2015-12-30 | Univ Hokkaido Nat Univ Corp | INTEGRATED ANALOG DIGITAL TRANSFORMER AND CMOS IMAGE SENSOR |
| JP6097574B2 (ja) * | 2013-01-25 | 2017-03-15 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、その駆動方法、及び撮像システム |
| US9293500B2 (en) * | 2013-03-01 | 2016-03-22 | Apple Inc. | Exposure control for image sensors |
| US9602742B2 (en) * | 2013-05-20 | 2017-03-21 | Intellectual Discovery Co., Ltd. | Imaging device and method for achieving wide dynamic range |
| US10264199B2 (en) * | 2014-07-15 | 2019-04-16 | Brillnics Inc. | Solid-state imaging device, method for producing solid-state imaging device, and electronic apparatus using photoelectric conversion elements |
| US11297258B2 (en) * | 2015-10-01 | 2022-04-05 | Qualcomm Incorporated | High dynamic range solid state image sensor and camera system |
| US10536675B2 (en) * | 2016-10-04 | 2020-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Image capturing apparatus, driving method therefor, and image capturing system |
-
2017
- 2017-10-26 JP JP2017207029A patent/JP6987603B2/ja active Active
-
2018
- 2018-10-09 CN CN201811175626.0A patent/CN109714551B/zh active Active
- 2018-10-23 US US16/168,276 patent/US10645327B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US10645327B2 (en) | 2020-05-05 |
| US20190132539A1 (en) | 2019-05-02 |
| JP2019080225A (ja) | 2019-05-23 |
| CN109714551A (zh) | 2019-05-03 |
| CN109714551B (zh) | 2021-01-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7018293B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP6987603B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP7100439B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP7338974B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP7072362B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP7319780B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| US11240448B2 (en) | Solid-state imaging device, method for driving solid-state imaging device, and electronic apparatus | |
| JP6995549B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| CN109561264B (zh) | 固体摄像装置、固体摄像装置的驱动方法以及电子设备 | |
| CN114500888B (zh) | 固体摄像装置、固体摄像装置的驱动方法、及电子设备 | |
| JP6995550B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP2020181932A (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、および電子機器 | |
| JP7338983B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
| JP6863355B2 (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
| JP2024172344A (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171115 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20171219 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20190920 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200817 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20210512 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210517 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210714 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211004 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211102 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211201 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6987603 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |