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JP7084432B2 - Film roll manufacturing system and film roll manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、フィルムロールの製造システム、および、フィルムロールの製造方法に関する。 The present invention relates to a film roll manufacturing system and a film roll manufacturing method.

従来、裁断工程と、巻取工程とを含むフィルムの製造方法が知られている。裁断工程では、幅方向における裁断位置を周期的に変動させることにより、フィルムの幅方向両端部を波形状に裁断する。巻取工程では、裁断したフィルムを、裁断端を揃えて巻き取る(例えば、特許文献1参照。)。 Conventionally, a method for producing a film including a cutting process and a winding process is known. In the cutting step, both ends of the film in the width direction are cut into a wavy shape by periodically changing the cutting position in the width direction. In the winding step, the cut film is wound with the cut ends aligned (see, for example, Patent Document 1).

特開2016-78219号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-78219

上記した方法では、ゲージバンドの発生を十分に抑制できない場合がある。 With the above method, the generation of gauge band may not be sufficiently suppressed.

本発明は、ゲージバンドの発生をより抑制できるフィルムロールの製造システム、および、フィルムロールの製造方法を提供する。 The present invention provides a film roll manufacturing system capable of further suppressing the generation of gauge bands, and a film roll manufacturing method.

本発明[1]は、フィルムの流れ方向と直交する幅方向において、前記フィルムの端部にナールを形成するナーリング加工機と、前記ナールが形成された前記フィルムを巻き取って、フィルムロールを製造する巻取機とを備え、前記ナールが、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、前記巻取機が、前記フィルムロールに対して前記幅方向における前記ナールの位置が揃うように、前記フィルムを巻き取る、フィルムロールの製造システムを含む。 The present invention [1] manufactures a film roll by winding a narling processing machine that forms knurls at the edges of the film and the film on which the knurls are formed in a width direction orthogonal to the flow direction of the film. The nar has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction, and the winder has a position of the nar in the width direction with respect to the film roll. Includes a film roll manufacturing system that winds the film so that it is aligned.

このような構成によれば、フィルムロールに対して幅方向におけるナールの位置が揃うことにより、フィルムロールの径方向において、互いに重なるフィルム同士の間に、均一に隙間を形成できる。 According to such a configuration, by aligning the positions of the knurls in the width direction with respect to the film roll, it is possible to uniformly form a gap between the films overlapping each other in the radial direction of the film roll.

そのため、互いに重なるフィルム同士の間の隙間を確保でき、ゲージバンドの発生を、より抑制できる。 Therefore, it is possible to secure a gap between the films overlapping each other, and it is possible to further suppress the generation of gauge bands.

本発明[2]は、さらに、前記ナーリング加工機が前記フィルムに前記ナールを形成する前に前記フィルムを所定の幅に切断するスリット加工機を備え、前記スリット加工機によって切断された前記フィルムの前記幅方向におけるエッジが、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、前記ナールが、前記エッジに沿って延びる波形状を有する、上記[1]のフィルムロールの製造システムを含む。 The present invention [2] further comprises a slit processing machine that cuts the film to a predetermined width before the narling processing machine forms the knurl on the film, and the film is cut by the slit processing machine. The film roll manufacturing system of the above [1], wherein the edge in the width direction has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction, and the nar has a wave shape extending along the edge. including.

このような構成によれば、巻取機によってナールを揃えることにより、エッジも揃えることができる。 According to such a configuration, the edges can be aligned by aligning the knurls with the winder.

本発明[3]は、前記スリット加工機が、フィルムを切断するスリット刃を有し、前記ナーリング加工機が、レーザー光を出射する出射部を有し、前記フィルムに前記レーザー光を照射することによって前記ナールを形成し、前記スリット刃および前記出射部が、前記フィルムに対して、前記幅方向に周期的に移動可能である、上記[2]のフィルムロールの製造システムを含む。 In the present invention [3], the slit processing machine has a slit blade for cutting a film, the narling processing machine has an exit portion for emitting laser light, and the film is irradiated with the laser light. Includes the film roll manufacturing system of [2] above, wherein the slit blade and the exit portion are periodically movable in the width direction with respect to the film.

このような構成によれば、エッジおよびナールを、幅方向に周期的に振幅する波形状に形成できる。 With such a configuration, the edges and knurls can be formed into a wave shape that periodically oscillates in the width direction.

本発明[4]は、前記フィルムに対する前記スリット刃の前記幅方向における移動が、下記式(1)に基づいて制御され、前記フィルムに対する前記出射部の前記幅方向における移動が、下記式(2)に基づいて制御される、上記[3]のフィルムロールの製造システムを含む。 In the present invention [4], the movement of the slit blade with respect to the film in the width direction is controlled based on the following formula (1), and the movement of the ejection portion with respect to the film in the width direction is controlled by the following formula (2). ), The film roll manufacturing system of the above [3] is included.

式(1):W(t)=Wmax/2×sin(πVt/Wmax
式(2):W(n)=Wmax/2×sin(πV(t-L/V)/Wmax
(上記式(1)および式(2)において、W(t)は、前記フィルムに対する前記スリット刃の前記幅方向における位置を示し、W(n)は、前記フィルムに対する前記出射部の前記幅方向における位置を示し、Wmaxは、前記幅方向における前記スリット刃の移動距離の最大値を示し、tは、時間を示し、Vは、前記幅方向における前記スリット刃の移動速度を示し、Vは、前記流れ方向における前記フィルムの移動速度を示し、Lは、前記スリット刃から前記出射部までの前記フィルムの搬送距離を示す。)
このような構成によれば、スリット刃の移動に出射部の移動を追従させて、ナールをエッジに沿わせることができる。
Equation (1): W (t) = W max / 2 × sin (πV 1 t / W max )
Equation (2): W (n) = W max / 2 × sin (πV 1 (t-L / V 2 ) / W max )
(In the above formulas (1) and (2), W (t) indicates the position of the slit blade with respect to the film in the width direction, and W (n) indicates the position of the exit portion with respect to the film in the width direction. W max indicates the maximum value of the moving distance of the slit blade in the width direction, t indicates the time, V 1 indicates the moving speed of the slit blade in the width direction, and V 2 indicates the moving speed of the film in the flow direction, and L indicates the transport distance of the film from the slit blade to the ejection portion.)
According to such a configuration, the movement of the exit portion can be made to follow the movement of the slit blade, and the knurl can be made to follow the edge.

本発明[5]前記幅方向における前記スリット刃の移動速度に対する前記流れ方向における前記フィルムの移動速度(V/V)が、1000以上、70000以下である、上記[4]のフィルムロールの製造システム。 The present invention [5] The film roll of the above [4], wherein the moving speed (V 2 / V 1 ) of the film in the flow direction with respect to the moving speed of the slit blade in the width direction is 1000 or more and 70,000 or less. Manufacturing system.

本発明[6]は、前記幅方向における前記スリット刃の移動距離の最大値(Wmax)が、0.01m以上、0.2m以下である、上記[4]または[5]のフィルムロールの製造システムを含む。 In the present invention [6], the film roll according to the above [4] or [5], wherein the maximum value (W max ) of the moving distance of the slit blade in the width direction is 0.01 m or more and 0.2 m or less. Includes manufacturing system.

本発明[7]は、フィルムの流れ方向と直交する幅方向において、前記フィルムの端部にナールを形成するナーリング工程と、前記ナールが形成された前記フィルムを巻き取って、フィルムロールを製造する巻取工程とを含み、前記ナールが、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、前記巻取工程において、前記フィルムロールに対して前記幅方向における前記ナールの位置が揃うように、前記フィルムを巻き取る、フィルムロールの製造方法を含む。 The present invention [7] manufactures a film roll by winding a narling step of forming knurls at the edges of the film and the film on which the knurls are formed in a width direction orthogonal to the flow direction of the film. Including the winding step, the nar has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction, and in the winding step, the position of the nar in the width direction with respect to the film roll is Includes a method of making a film roll, which winds up the film so that it is aligned.

本発明[8]は、さらに、前記ナーリング工程の前に前記フィルムを所定の幅に切断するスリット工程を含み、前記スリット加工機によって切断された前記フィルムの前記幅方向におけるエッジが、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、前記ナールが、前記エッジに沿って延びる波形状を有する、上記[7]のフィルムロールの製造方法を含む。 The present invention [8] further includes a slit step of cutting the film to a predetermined width before the narling step, and the edge of the film cut by the slit processing machine in the width direction is in the width direction. The method for producing a film roll according to the above [7], which has a wave shape extending in the flow direction while oscillating to, and the nar has a wave shape extending along the edge.

本発明のフィルムロールの製造システム、および、フィルムロールの製造方法によれば、ゲージバンドの発生を、より抑制できる。 According to the film roll manufacturing system and the film roll manufacturing method of the present invention, the generation of gauge bands can be further suppressed.

図1は、フィルムの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of the film. 図2は、本発明の一実施形態としてのフィルムロールの製造システムの概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a film roll manufacturing system as an embodiment of the present invention. 図3は、スリット工程、ナーリング工程および巻取工程を説明するための説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a slit process, a knurling process, and a winding process. 図4は、フィルムロールの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the film roll.

1.フィルムロールの製造システム
図1に示すように、フィルムFは、基材Sと、被膜Cとを備える。基材Sは、基材Sの厚み方向において、第1面S1と、第2面S2とを有する。被膜Cは、基材Sの第1面S1の上に配置される。被膜Cは、基材Sの第1面S1を覆う。被膜Cは、易接着層であってもよい。被膜Cが易接着層である場合、フィルムFは、易接着フィルムである。易接着フィルムは、例えば、モバイル機器、カーナビゲーション装置、パソコン用モニタ、テレビなどの画像表示装置の偏光板に使用される。詳しくは、易接着フィルムは、偏光板の偏光子を保護する保護フィルムとして使用される。易接着フィルムは、接着剤層を介して、偏光子と貼り合わされる。易接着フィルムは、易接着層で、偏光子と貼り合わされる。
1. 1. Film Roll Manufacturing System As shown in FIG. 1, the film F includes a base material S and a film C. The base material S has a first surface S1 and a second surface S2 in the thickness direction of the base material S. The coating film C is arranged on the first surface S1 of the base material S. The coating film C covers the first surface S1 of the base material S. The coating film C may be an easy-adhesive layer. When the film C is an easy-adhesive layer, the film F is an easy-adhesive film. The easy-adhesive film is used, for example, as a polarizing plate of an image display device such as a mobile device, a car navigation device, a monitor for a personal computer, and a television. Specifically, the easy-adhesive film is used as a protective film that protects the polarizing element of the polarizing plate. The easy-adhesive film is bonded to the polarizing element via an adhesive layer. The easy-adhesive film is an easy-adhesive layer and is bonded to a polarizing element.

図2に示すように、フィルムロールRの製造システム1は、押出成形機2と、第1延伸機4Aと、塗工機3と、第2延伸機4Bと、スリット加工機5と、ナーリング加工機6と、巻取機7とを備える。 As shown in FIG. 2, the film roll R manufacturing system 1 includes an extruder 2, a first stretching machine 4A, a coating machine 3, a second stretching machine 4B, a slit processing machine 5, and knurling. A machine 6 and a winder 7 are provided.

(1)押出成形機
押出成形機2は、基材Sを押出成形する(押出成形工程)。押出成形機2から押し出された基材Sは、シート形状を有する。
(1) Extrusion molding machine The extrusion molding machine 2 extrudes the base material S (extrusion molding step). The base material S extruded from the extruder 2 has a sheet shape.

基材Sは、熱可塑性樹脂からなる。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アセテート樹脂(ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースなど)などが挙げられる。 The base material S is made of a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyamide resin, polyimide resin, acetate resin (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, etc.) and the like.

偏光子の保護フィルムとして使用される易接着フィルムを製造する場合、基材Sの材料として、好ましくは、アクリル樹脂が挙げられる。 When an easy-adhesive film used as a protective film for a polarizing element is produced, acrylic resin is preferable as the material of the base material S.

また、偏光子の保護フィルムとして使用される易接着フィルムを製造する場合、アクリル樹脂は、グルタル酸無水物構造を有するアクリル樹脂、ラクトン環構造を有するアクリル樹脂であってもよい。グルタル酸無水物構造を有するアクリル樹脂、および、ラクトン環構造を有するアクリル樹脂は、高い耐熱性、高い透明性、および高い機械的強度を有するため、偏光度が高くかつ耐久性に優れる偏光板の製造に適する。グルタル酸無水物構造を有するアクリル樹脂は、特開2006-283013号公報、特開2006-335902号公報、特開2006-274118号公報に記載されている。ラクトン環構造を有するアクリル樹脂は、特開2000-230016号公報、特開2001-151814号公報、特開2002-120326号公報、特開2002-254544号公報、特開2005-146084号公報に記載されている。 Further, when producing an easy-adhesion film used as a protective film for a polarizing element, the acrylic resin may be an acrylic resin having a glutaric acid anhydride structure or an acrylic resin having a lactone ring structure. Acrylic resin having a glutaric acid anhydride structure and acrylic resin having a lactone ring structure have high heat resistance, high transparency, and high mechanical strength, so that the polarizing plate has a high degree of polarization and excellent durability. Suitable for manufacturing. Acrylic resins having a glutaric acid anhydride structure are described in JP-A-2006-283013, JP-A-2006-335902, and JP-A-2006-274118. Acrylic resins having a lactone ring structure are described in JP-A-2000-230016, JP-A-2001-151814, JP-A-2002-120326, JP-A-2002-254544, and JP-A-2005-146084. Has been done.

また、基材Sは、アクリル樹脂に加えて、アクリル樹脂以外の他の熱可塑性樹脂を含有してもよい。他の熱可塑性樹脂を含有することにより、アクリル樹脂の複屈折を打ち消して、光学等方性に優れる易接着フィルムを得ることができる。また、易接着フィルムの機械強度を向上させることもできる。 Further, the base material S may contain a thermoplastic resin other than the acrylic resin in addition to the acrylic resin. By containing another thermoplastic resin, it is possible to cancel the birefringence of the acrylic resin and obtain an easily adhesive film having excellent optical anisotropy. In addition, the mechanical strength of the easy-adhesive film can be improved.

なお、基材Sは、酸化防止剤、安定剤、補強材、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、着色剤、充填剤、可塑剤、滑剤、フィラーなどの添加剤を含有してもよい。 The base material S may contain additives such as antioxidants, stabilizers, reinforcing materials, ultraviolet absorbers, flame retardants, antistatic agents, colorants, fillers, plasticizers, lubricants and fillers. ..

(2)第1延伸機
第1延伸機4Aは、押出成形工程によって得られた基材Sを、加熱した後、基材Sの流れ方向MDに延伸する(第1延伸工程)。
(2) First Stretching Machine The first stretching machine 4A heats the base material S obtained by the extrusion molding step and then stretches the base material S in the flow direction MD of the base material S (first stretching step).

(3)塗工機
塗工機3は、押出成形工程によって押出成形された基材Sの第1面S1に、塗工液を塗布する(塗布工程)。なお、基材Sの第1面S1には、押出成形工程の後、塗布工程の前に、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理が、施されてもよい。
(3) Coating machine The coating machine 3 applies a coating liquid to the first surface S1 of the base material S extruded by the extrusion molding step (coating step). The first surface S1 of the base material S may be subjected to surface treatment such as corona treatment and plasma treatment after the extrusion molding step and before the coating step.

塗工機3としては、例えば、バーコーター、グラビアコーター、キスコーターなどが挙げられる。 Examples of the coating machine 3 include a bar coater, a gravure coater, and a kiss coater.

易接着フィルムを製造する場合、塗工液は、易接着層を形成するための易接着組成物である。 When producing an easy-adhesive film, the coating liquid is an easy-adhesive composition for forming an easy-adhesive layer.

易接着層は、バインダ樹脂と、微粒子とを含有する。 The easy-adhesion layer contains a binder resin and fine particles.

バインダ樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂などの熱可塑性樹脂が挙げられる。易接着フィルムが偏光子の保護フィルムとして使用される場合、バインダ樹脂は、好ましくは、熱硬化性樹脂である。バインダ樹脂は、複数種類を併用できる。 Examples of the binder resin include thermosetting resins such as urethane resin and epoxy resin, and thermoplastic resins such as acrylic resin and polyester resin. When the easy-adhesive film is used as a protective film for a stator, the binder resin is preferably a thermosetting resin. A plurality of types of binder resin can be used in combination.

微粒子としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン(チタニア)、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)などの酸化物、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩、例えば、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなどのケイ酸塩、例えば、タルク、カオリンなどのケイ酸塩鉱物、例えば、リン酸カルシウムなどのリン酸塩などが挙げられる。易接着フィルムが偏光子の保護フィルムとして使用される場合、微粒子は、好ましくは、酸化物、より好ましくは、酸化ケイ素である。微粒子は、複数種類を併用できる。 Examples of the fine particles include oxides such as silicon oxide (silica), titanium oxide (titania), aluminum oxide (alumina), and zirconium oxide (zirconia), and carbonates such as calcium carbonate, such as calcium silicate and silicate. Examples include silicates such as aluminum acetate and magnesium silicate, such as silicate minerals such as talc and kaolin, such as phosphates such as calcium phosphate. When the easy-adhesive film is used as a protective film for a stator, the fine particles are preferably an oxide, more preferably silicon oxide. A plurality of types of fine particles can be used in combination.

塗工液(易接着組成物)は、樹脂成分と、上記した微粒子と、分散媒とを含有する。 The coating liquid (easy-adhesive composition) contains a resin component, the above-mentioned fine particles, and a dispersion medium.

樹脂成分は、後述する延伸工程によって、上記したバインダ樹脂の被膜(易接着層)を形成する。バインダ樹脂がウレタン樹脂である場合、樹脂成分としては、例えば、水系ウレタン樹脂が挙げられる。水系ウレタン樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂の乳化物である非反応型水系ウレタン樹脂、例えば、イソシアネート基をブロック剤で保護したウレタン樹脂の乳化物である反応型水系ウレタン樹脂などが挙げられる。バインダ樹脂がウレタン樹脂である場合、塗工液は、ウレタン硬化触媒(トリエチルアミンなど)、イソシアネートモノマーを含有してもよい。 The resin component forms the above-mentioned binder resin film (easy-adhesive layer) by the stretching step described later. When the binder resin is a urethane resin, examples of the resin component include an aqueous urethane resin. Examples of the water-based urethane resin include a non-reactive water-based urethane resin which is an emulsion of a urethane resin, and for example, a reaction-type water-based urethane resin which is an emulsion of a urethane resin in which an isocyanate group is protected with a blocking agent. When the binder resin is a urethane resin, the coating liquid may contain a urethane curing catalyst (such as triethylamine) and an isocyanate monomer.

分散媒としては、例えば、水、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトンなどが挙げられる。 Examples of the dispersion medium include water, for example, alcohols such as methanol and ethanol, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone.

(4)第2延伸機
第2延伸機4Bは、塗工工程によって塗布された塗工液を乾燥する。これにより、塗工液が上記した被膜Cになる。また、第2延伸機4Bは、被膜Cが形成された基材Sを、加熱した後、基材Sの幅方向TDに延伸する(第2延伸工程)。幅方向TDは、流れ方向MDと直交する。第2延伸工程により、被膜Cが形成された基材Sが延伸され、上記したフィルムFが得られる。
(4) Second Stretching Machine The second stretching machine 4B dries the coating liquid applied by the coating step. As a result, the coating liquid becomes the above-mentioned film C. Further, the second stretching machine 4B heats the base material S on which the coating film C is formed, and then stretches the base material S in the width direction TD of the base material S (second stretching step). The width direction TD is orthogonal to the flow direction MD. By the second stretching step, the base material S on which the film C is formed is stretched, and the above-mentioned film F is obtained.

フィルムFの厚みは、例えば、20μm以上、100μm以下である。 The thickness of the film F is, for example, 20 μm or more and 100 μm or less.

(5)スリット加工機
スリット加工機5は、延伸工程によって延伸されたフィルムFを、所定の幅に切断する。スリット加工機5は、ナーリング加工機6がフィルムFにナールを形成する前、すなわち、後述するナーリング工程の前に、フィルムFを所定の幅に切断する(スリット工程)。
(5) Slit processing machine The slit processing machine 5 cuts the film F stretched by the stretching step into a predetermined width. The slit processing machine 5 cuts the film F to a predetermined width before the knurling machine 6 forms knurling on the film F, that is, before the knurling step described later (slit step).

切断されたフィルムFの幅は、例えば、1000mm以上、3000mm以下である。 The width of the cut film F is, for example, 1000 mm or more and 3000 mm or less.

図3に示すように、切断されたフィルムFの幅方向TDにおけるエッジE1、E2のそれぞれは、波形状を有する。エッジE1、E2のそれぞれは、幅方向TDに振幅しつつ流れ方向MDに延びる。 As shown in FIG. 3, each of the edges E1 and E2 in the width direction TD of the cut film F has a wave shape. Each of the edges E1 and E2 extends in the flow direction MD while oscillating in the width direction TD.

詳しくは、スリット加工機5は、スリット刃5A、5Bを有する。 Specifically, the slit processing machine 5 has slit blades 5A and 5B.

スリット刃5A(第1スリット刃)は、フィルムFを切断する。フィルムFがスリット刃5Aによって切断されることにより、エッジE1が、切断端縁として、幅方向におけるフィルムFの一端部に形成される。 The slit blade 5A (first slit blade) cuts the film F. By cutting the film F by the slit blade 5A, the edge E1 is formed at one end of the film F in the width direction as a cutting edge.

スリット刃5Aは、フィルムFに対して、幅方向TDに周期的に移動可能である。流れ方向MDに搬送されるフィルムFを、幅方向TDに周期的に移動するスリット刃5Aで切断することにより、エッジE1は、波形状になる。 The slit blade 5A can periodically move in the width direction TD with respect to the film F. By cutting the film F conveyed in the flow direction MD with the slit blade 5A that periodically moves in the width direction TD, the edge E1 becomes a wave shape.

フィルムFに対するスリット刃5Aの幅方向TDにおける移動は、下記式(1)に基づいて制御される。 The movement of the slit blade 5A with respect to the film F in the width direction TD is controlled based on the following equation (1).

式(1):W(t)=Wmax/2×sin(πVt/Wmax
(上記式(1)において、W(t)は、フィルムFに対するスリット刃5Aの幅方向TDにおける位置を示し、Wmaxは、幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動距離の最大値を示し、tは、時間を示し、Vは、幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動速度を示す。)
maxは、例えば、0.01m以上、好ましくは、0.05m以上であり、例えば、0.2m以下、好ましくは、0.15m以下である。
Equation (1): W (t) = W max / 2 × sin (πV 1 t / W max )
(In the above formula (1), W (t) indicates the position of the slit blade 5A with respect to the film F in the width direction TD, and W max indicates the maximum value of the moving distance of the slit blade 5A in the width direction TD. Indicates the time, and V 1 indicates the moving speed of the slit blade 5A in the width direction TD.)
W max is, for example, 0.01 m or more, preferably 0.05 m or more, and for example, 0.2 m or less, preferably 0.15 m or less.

幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動速度に対する流れ方向MDにおけるフィルムFの移動速度(V/V)は、例えば、1000以上、好ましくは、5000以上、より好ましくは、8000以上、例えば、70000以下、好ましくは、35000以下、より好ましくは、15000以下である。 The moving speed (V 2 / V 1 ) of the film F in the flow direction MD with respect to the moving speed of the slit blade 5A in the width direction TD is, for example, 1000 or more, preferably 5000 or more, more preferably 8000 or more, for example, 70000. Hereinafter, it is preferably 35,000 or less, more preferably 15,000 or less.

具体的には、幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動速度(V)は、例えば、0.001m/分以上、好ましくは、0.003m/分以上であり、例えば、0.1m/分以下、好ましくは、0.01m/分以下である。 Specifically, the moving speed (V 1 ) of the slit blade 5A in the width direction TD is, for example, 0.001 m / min or more, preferably 0.003 m / min or more, and for example, 0.1 m / min or less. , Preferably 0.01 m / min or less.

流れ方向MDにおけるフィルムFの移動速度(V)は、例えば、30m/分以上、好ましくは、40m/分以上であり、例えば、70m/分以下、好ましくは、60m/分以下である。 The moving speed (V 2 ) of the film F in the flow direction MD is, for example, 30 m / min or more, preferably 40 m / min or more, and for example, 70 m / min or less, preferably 60 m / min or less.

スリット刃5B(第2スリット刃)は、幅方向TDにおいて、スリット刃5Aから離れて配置される。スリット刃5Bは、フィルムFを切断する。フィルムFがスリット刃5Bによって切断されることにより、エッジE2が、切断端縁として、幅方向におけるフィルムFの他端部に形成される。スリット刃5Bは、スリット刃5Aとの幅方向間隔を維持した状態で、スリット刃5Aと同様に、フィルムFに対して、幅方向TDに周期的に移動する。これにより、エッジE2は、エッジE1とほぼ同じ波形状になる。 The slit blade 5B (second slit blade) is arranged away from the slit blade 5A in the width direction TD. The slit blade 5B cuts the film F. By cutting the film F by the slit blade 5B, the edge E2 is formed at the other end of the film F in the width direction as a cutting edge. The slit blade 5B periodically moves in the width direction TD with respect to the film F in the same manner as the slit blade 5A, while maintaining the widthwise distance from the slit blade 5A. As a result, the edge E2 has almost the same wave shape as the edge E1.

(6)ナーリング加工機
ナーリング加工機6は、スリット工程によって所定の幅に切断されたフィルムFの幅方向両端部に、ナールを形成する。つまり、ナーリング加工機6は、幅方向において、フィルムFの端部にナールを形成する(ナーリング工程)。なお、「ナール」とは、フィルムFの幅方向両端部に形成される凹凸をいう。ナーリング加工機6は、フィルムFにナールK1、K2を形成する。
(6) Knurling machine The knurling machine 6 forms knurling at both ends in the width direction of the film F cut to a predetermined width by the slitting process. That is, the knurling machine 6 forms knurling at the end portion of the film F in the width direction (knurling step). The term "narl" refers to irregularities formed at both ends of the film F in the width direction. The knurling machine 6 forms knurls K1 and K2 on the film F.

ナールK1(第1ナール)は、幅方向TDにおけるフィルムFの一端部に形成される。ナールK1は、エッジE1に沿って延びる。ナールK1は、エッジE1とほぼ同じ波形状を有する。つまり、ナールK1は、幅方向TDに振幅しつつ、流れ方向MDに延びる。ナールK1は、幅方向TDにおいて、エッジE1から離れて配置される。幅方向TDにおけるナールK1とエッジE1との間隔D1は、例えば、5mm以下である。 The nal K1 (first nal) is formed at one end of the film F in the width direction TD. Knar K1 extends along the edge E1. Knar K1 has substantially the same wave shape as edge E1. That is, Nar K1 extends in the flow direction MD while oscillating in the width direction TD. The knurl K1 is disposed away from the edge E1 in the width direction TD. The distance D1 between Nar K1 and the edge E1 in the width direction TD is, for example, 5 mm or less.

ナールK2(第2ナール)は、幅方向TDにおけるフィルムFの他端部に形成される。ナールK2は、エッジE2に沿って延びる。ナールK2は、エッジE2とほぼ同じ波形状を有する。ナールK2は、幅方向TDにおいて、エッジE2から離れて配置される。幅方向TDにおけるナールK2とエッジE2との間隔D2は、例えば、5mm以下である。 The knurl K2 (second knurl) is formed at the other end of the film F in the width direction TD. Knar K2 extends along the edge E2. Nar K2 has substantially the same wave shape as edge E2. The Nar K2 is located away from the edge E2 in the width direction TD. The distance D2 between Nar K2 and the edge E2 in the width direction TD is, for example, 5 mm or less.

詳しくは、ナーリング加工機6は、フィルムFにレーザー光を照射することによって、ナールK1、K2を形成する。ナーリング加工機6は、出射部6A、6Bを有する。 Specifically, the knurling processing machine 6 forms knurls K1 and K2 by irradiating the film F with a laser beam. The knurling machine 6 has emission portions 6A and 6B.

出射部6A(第1出射部)は、幅方向におけるフィルムFの一端部に向かい合う。出射部6Aは、フィルムFに向かってレーザー光を出射する。出射部6Aは、スリット刃5Aに追従して、フィルムFに対して、幅方向TDに周期的に移動する。これにより、ナールK1は、エッジE1に沿って延び、エッジE1とほぼ同じ波形状になる。 The emitting portion 6A (first emitting portion) faces one end of the film F in the width direction. The emitting unit 6A emits laser light toward the film F. The emitting portion 6A follows the slit blade 5A and periodically moves in the width direction TD with respect to the film F. As a result, Nar K1 extends along the edge E1 and has almost the same wave shape as the edge E1.

フィルムFに対する出射部6Aの幅方向TDにおける移動は、下記式(2)に基づいて制御される。 The movement of the emitting unit 6A with respect to the film F in the width direction TD is controlled based on the following equation (2).

式(2):W(n)=Wmax/2×sin(πV(t-L/V)/Wmax
上記式(2)において、W(n)は、フィルムFに対する出射部6Aの幅方向TDにおける位置を示し、Wmaxは、幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動距離の最大値を示し、tは、時間を示し、Vは、幅方向TDにおけるスリット刃5Aの移動速度を示し、Vは、流れ方向MDにおけるフィルムFの移動速度を示し、Lは、スリット刃5Aから出射部6AまでのフィルムFの搬送距離を示す。
Equation (2): W (n) = W max / 2 × sin (πV 1 (t-L / V 2 ) / W max )
In the above equation (2), W (n) indicates the position of the emitting portion 6A with respect to the film F in the width direction TD, W max indicates the maximum value of the moving distance of the slit blade 5A in the width direction TD, and t is. , V 1 indicates the moving speed of the slit blade 5A in the width direction TD, V 2 indicates the moving speed of the film F in the flow direction MD, and L indicates the moving speed from the slit blade 5A to the exit portion 6A. The transport distance of the film F is shown.

このようにフィルムFに対する出射部6Aの幅方向TDにおける移動を制御することにより、スリット刃5Aの移動に出射部6Aの移動を追従させて、ナールK1をエッジE1に沿わせることができる。 By controlling the movement of the exiting portion 6A with respect to the film F in the width direction TD in this way, the movement of the emitting portion 6A can be made to follow the movement of the slit blade 5A, and the knurl K1 can be made to follow the edge E1.

出射部6B(第2出射部)は、幅方向におけるフィルムFの他端部に向かい合う。出射部6Bは、出射部6Aと同様に、フィルムFに向かってレーザー光を出射する。出射部6Bは、出射部6Aがスリット刃5Aに追従するのと同様に、スリット刃5Bに追従して、フィルムFに対して、幅方向TDに周期的に移動する。これにより、ナールK2は、エッジE2に沿って延び、エッジE2とほぼ同じ波形状になる。 The emitting portion 6B (second emitting portion) faces the other end of the film F in the width direction. The emitting unit 6B emits laser light toward the film F in the same manner as the emitting unit 6A. The emitting portion 6B follows the slit blade 5B and periodically moves in the width direction TD with respect to the film F in the same manner as the emitting portion 6A follows the slit blade 5A. As a result, Nar K2 extends along the edge E2 and has almost the same wave shape as the edge E2.

(7)巻取機
巻取機7は、ナーリング工程によってナールが形成されたフィルムFを巻き取る。巻取工程が完了することにより、フィルムロールRを得ることができる。つまり、巻取機7は、ナールK1、K2が形成されたフィルムFを巻き取って、フィルムロールRを製造する(巻取工程)。
(7) Winding machine The winding machine 7 winds up the film F on which knurling is formed by the knurling process. When the winding step is completed, the film roll R can be obtained. That is, the winder 7 winds the film F on which the knurls K1 and K2 are formed to manufacture the film roll R (winding step).

巻取機7は、フィルムロールRに対して幅方向におけるナールK1、K2の位置が揃うように、フィルムFを巻き取る。なお、「ナールの位置が揃う」とは、図4に示すように、フィルムロールRの径方向において、ナールK1同士が重なるとともに、ナールK2同士が重なることをいう。 The winder 7 winds the film F so that the positions of the knurls K1 and K2 in the width direction are aligned with respect to the film roll R. As shown in FIG. 4, "the positions of the nals are aligned" means that the nals K1 overlap each other and the nals K2 overlap each other in the radial direction of the film roll R.

詳しくは、巻取機7は、フィルムロールRを、スリット刃5Aに追従するように幅方向TDに周期的に移動させる。これにより、フィルムロールRの径方向においてナールK1同士が重なるとともにナールK2同士が重なるように、フィルムFが巻き取られる。 Specifically, the winder 7 periodically moves the film roll R in the width direction TD so as to follow the slit blade 5A. As a result, the film F is wound so that the knurls K1 overlap each other and the knurls K2 overlap each other in the radial direction of the film roll R.

ここで、上記した延伸工程においてフィルムFが延伸されたときに、幅方向TDにおけるフィルムFの一部に、厚い部分ができてしまう場合がある。 Here, when the film F is stretched in the above-mentioned stretching step, a thick portion may be formed in a part of the film F in the width direction TD.

この点、巻取機7は、フィルムロールRを幅方向TDに周期的に移動させながら、フィルムFを巻き取る。これにより、フィルムFの厚い部分を幅方向TDにずらしつつ、フィルムFを巻き取ることができる。 In this respect, the winder 7 winds the film F while periodically moving the film roll R in the width direction TD. As a result, the film F can be wound while shifting the thick portion of the film F in the width direction TD.

そのため、フィルムFの厚い部分がフィルムロールRの径方向に積み重なることを抑制し、ゲージバンドの発生を抑制できる。なお、ゲージバンドとは、フィルムFの厚い部分がフィルムロールRの径方向に積み重なることによってフィルムロールRの幅方向の特定部分に発生する帯状の凸部をいう。 Therefore, it is possible to suppress the thick portions of the film F from being stacked in the radial direction of the film roll R, and to suppress the generation of gauge bands. The gauge band means a band-shaped convex portion generated in a specific portion in the width direction of the film roll R by stacking thick portions of the film F in the radial direction of the film roll R.

さらに、フィルムロールRに対して幅方向におけるナールK1、K2の位置が揃うことにより、フィルムロールRの径方向において、互いに重なるフィルムF同士の間に、均一に隙間を形成できる。 Further, by aligning the positions of the knurls K1 and K2 in the width direction with respect to the film roll R, a gap can be uniformly formed between the films F overlapping each other in the radial direction of the film roll R.

そのため、互いに重なるフィルムF同士の間の隙間を確保でき、ゲージバンドの発生を、より抑制できる。 Therefore, it is possible to secure a gap between the films F that overlap each other, and it is possible to further suppress the generation of the gauge band.

また、上記したように、ナールK1がエッジE1に沿って延びる波形状を有し、ナールK2がエッジE2に沿って延びる波形状を有するので、ナールK1、K2を揃えることにより、エッジE1、E2も揃えることができる。 Further, as described above, since Nar K1 has a wave shape extending along the edge E1 and Nar K2 has a wave shape extending along the edge E2, by aligning the Nar K1 and K2, the edges E1 and E2 are aligned. Can also be arranged.

なお、巻取機7の種類は、限定されない。巻取機7としては、例えば、ターレット巻取機などが挙げられる。 The type of the winder 7 is not limited. Examples of the winder 7 include a turret winder and the like.

2.変形例
(1)スリット刃5A、5Bは、幅方向TDに移動しなくてもよい。エッジE1、E2は、波形状に切断されなくてもよい。なお、この場合、出射部6Aは、スリット刃5Aとは独立に、幅方向TDに周期的に移動する。また、出射部6Bは、スリット刃5Bとは独立に、出射部6Aとともに幅方向TDに周期的に移動する。また、巻取機7は、フィルムロールRを、出射部6Aに追従するように幅方向TDに周期的に移動させる。
2. 2. Modification example (1) The slit blades 5A and 5B do not have to move in the width direction TD. The edges E1 and E2 do not have to be cut into a wavy shape. In this case, the emitting portion 6A periodically moves in the width direction TD independently of the slit blade 5A. Further, the exiting portion 6B periodically moves in the width direction TD together with the emitting portion 6A independently of the slit blade 5B. Further, the winder 7 periodically moves the film roll R in the width direction TD so as to follow the emitting portion 6A.

(2)出射部6A、6Bは、幅方向TDに移動しなくてもよい。例えば、出射部6A、6Bは、レーザー光の出射方向を幅方向TDに変更可能であってもよい。 (2) The emitting units 6A and 6B do not have to move in the width direction TD. For example, the emitting units 6A and 6B may be able to change the emitting direction of the laser beam to the width direction TD.

(3)ナールK1、K2は、加熱されたエンボスロールによって形成されてもよい。 (3) Nar K1 and K2 may be formed by heated embossed rolls.

(4)ナーリング加工機6は、フィルムFを搬送する搬送部材と、搬送部材をクリーニングするクリーニング装置とを備えてもよい。搬送部材は、搬送ローラでもよく、搬送ベルトでもよい。クリーニング装置は、出射部6Aまたは出射部6Bが幅方向TDにおいてフィルムFの内側に向かって移動したタイミングで、搬送部材の表面のうち、フィルムFの端部(ナールK1またはナールK2が形成される部分)と接触する部分をクリーニングしてもよい。 (4) The knurling processing machine 6 may include a transport member for transporting the film F and a cleaning device for cleaning the transport member. The transport member may be a transport roller or a transport belt. In the cleaning device, the end portion (nar K1 or nar K2) of the film F is formed on the surface of the transport member at the timing when the emission portion 6A or the emission portion 6B moves toward the inside of the film F in the width direction TD. The part in contact with the part) may be cleaned.

(5)フィルムロールRの製造システム1の用途は、押出成形に限らない。例えば、基材Sのロールから基材Sを繰り出して、繰り出された基材Sを延伸して、巻取機7で巻き取ってもよい。 (5) The application of the film roll R manufacturing system 1 is not limited to extrusion molding. For example, the base material S may be unwound from the roll of the base material S, the unwound base material S may be stretched, and the base material S may be wound up by the winder 7.

(6)フィルムロールRの製造方法は、塗工工程を含まなくてもよい。 (6) The method for producing the film roll R does not have to include a coating step.

(7)フィルムFの製造システム1は、第1延伸機4Aを備えなくてもよい。基材Sは、塗工工程の後に、第2延伸機4Bによって、流れ方向MDおよび幅方向TDに延伸(二軸同時延伸)されてもよい。 (7) The film F manufacturing system 1 does not have to include the first stretching machine 4A. The base material S may be stretched (biaxial simultaneous stretching) in the flow direction MD and the width direction TD by the second stretching machine 4B after the coating step.

1 製造システム
5 スリット加工機
5A スリット刃
6 ナーリング加工機
6A 出射部
7 巻取機
E1 エッジ
K1 ナール
R フィルムロール
1 Manufacturing system 5 Slit processing machine 5A Slit blade 6 Narling processing machine 6A Ejector 7 Winder E1 Edge K1 Nar R film roll

Claims (8)

フィルムの流れ方向と直交する幅方向において、前記フィルムの端部にナールを形成するナーリング加工機と、
前記ナールが形成された前記フィルムを巻き取って、フィルムロールを製造する巻取機と
を備え、
前記ナールは、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、
前記巻取機は、前記フィルムロールに対して前記幅方向における前記ナールの位置が揃うように、前記フィルムを巻き取ることを特徴とする、フィルムロールの製造システム。
A knurling machine that forms knurling at the edges of the film in the width direction orthogonal to the flow direction of the film.
The film is provided with a winder for producing a film roll by winding the film on which the nal is formed.
The nar has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction.
The winder is a film roll manufacturing system, characterized in that the film is wound so that the positions of the knurls are aligned with respect to the film roll in the width direction.
さらに、前記ナーリング加工機が前記フィルムに前記ナールを形成する前に前記フィルムを所定の幅に切断するスリット加工機を備え、
切断された前記フィルムの前記幅方向におけるエッジは、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、
前記ナールは、前記エッジに沿って延びる波形状を有することを特徴とする、請求項1に記載のフィルムロールの製造システム。
Further, the knurling machine is provided with a slit processing machine that cuts the film to a predetermined width before forming the knurling on the film.
The edge of the cut film in the width direction has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction.
The film roll manufacturing system according to claim 1, wherein the nal has a wavy shape extending along the edge.
前記スリット加工機は、フィルムを切断するスリット刃を有し、
前記ナーリング加工機は、レーザー光を出射する出射部を有し、前記フィルムに前記レーザー光を照射することによって前記ナールを形成し、
前記スリット刃および前記出射部は、前記フィルムに対して、前記幅方向に周期的に移動可能であることを特徴とする、請求項2に記載のフィルムロールの製造システム。
The slit processing machine has a slit blade for cutting a film.
The knurling machine has an exit portion that emits laser light, and forms the knurl by irradiating the film with the laser light.
The film roll manufacturing system according to claim 2, wherein the slit blade and the emitting portion are periodically movable with respect to the film in the width direction.
前記フィルムに対する前記スリット刃の前記幅方向における移動は、下記式(1)に基づいて制御され、
前記フィルムに対する前記出射部の前記幅方向における移動は、下記式(2)に基づいて制御されることを特徴とする、請求項3に記載のフィルムロールの製造システム。
式(1):W(t)=Wmax/2×sin(πVt/Wmax
式(2):W(n)=Wmax/2×sin(πV(t-L/V)/Wmax
(上記式(1)および式(2)において、W(t)は、前記フィルムに対する前記スリット刃の前記幅方向における位置を示し、W(n)は、前記フィルムに対する前記出射部の前記幅方向における位置を示し、Wmaxは、前記幅方向における前記スリット刃の移動距離の最大値を示し、tは、時間を示し、Vは、前記幅方向における前記スリット刃の移動速度を示し、Vは、前記流れ方向における前記フィルムの移動速度を示し、Lは、前記スリット刃から前記出射部までの前記フィルムの搬送距離を示す。)
The movement of the slit blade with respect to the film in the width direction is controlled based on the following equation (1).
The film roll manufacturing system according to claim 3, wherein the movement of the emitting portion with respect to the film in the width direction is controlled based on the following formula (2).
Equation (1): W (t) = W max / 2 × sin (πV 1 t / W max )
Equation (2): W (n) = W max / 2 × sin (πV 1 (t-L / V 2 ) / W max )
(In the above formulas (1) and (2), W (t) indicates the position of the slit blade with respect to the film in the width direction, and W (n) indicates the position of the exit portion with respect to the film in the width direction. W max indicates the maximum value of the moving distance of the slit blade in the width direction, t indicates the time, V 1 indicates the moving speed of the slit blade in the width direction, and V 2 indicates the moving speed of the film in the flow direction, and L indicates the transport distance of the film from the slit blade to the ejection portion.)
前記幅方向における前記スリット刃の移動速度に対する前記流れ方向における前記フィルムの移動速度(V/V)は、1000以上、70000以下であることを特徴とする、請求項4に記載のフィルムロールの製造システム。 The film roll according to claim 4, wherein the moving speed (V 2 / V 1 ) of the film in the flow direction with respect to the moving speed of the slit blade in the width direction is 1000 or more and 70,000 or less. Manufacturing system. 前記幅方向における前記スリット刃の移動距離の最大値(Wmax)は、0.01m以上、0.2m以下であることを特徴とする、請求項4または請求項5に記載のフィルムロールの製造システム。 The production of the film roll according to claim 4 or 5, wherein the maximum value (W max ) of the moving distance of the slit blade in the width direction is 0.01 m or more and 0.2 m or less. system. フィルムの流れ方向と直交する幅方向において、前記フィルムの端部にナールを形成するナーリング工程と、
前記ナールが形成された前記フィルムを巻き取って、フィルムロールを製造する巻取工程と
を含み、
前記ナールは、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、
前記巻取工程において、前記フィルムロールに対して前記幅方向における前記ナールの位置が揃うように、前記フィルムを巻き取ることを特徴とする、フィルムロールの製造方法。
A knurling step of forming knurling at the edges of the film in a width direction orthogonal to the flow direction of the film.
It comprises a winding step of winding the film on which the nal is formed to produce a film roll.
The nar has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction.
A method for producing a film roll, which comprises winding the film so that the positions of the knurls in the width direction are aligned with the film roll in the winding step.
さらに、前記ナーリング工程の前に前記フィルムを所定の幅に切断するスリット工程を含み、
切断された前記フィルムの前記幅方向におけるエッジは、前記幅方向に振幅しつつ前記流れ方向に延びる波形状を有し、
前記ナールは、前記エッジに沿って延びる波形状を有することを特徴とする、請求項7に記載のフィルムロールの製造方法。
Further, a slitting step of cutting the film to a predetermined width is included before the knurling step.
The edge of the cut film in the width direction has a wave shape extending in the flow direction while oscillating in the width direction.
The method for producing a film roll according to claim 7, wherein the nal has a wavy shape extending along the edge.
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