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JP7110540B2 - Work dividing device and work dividing method - Google Patents
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Description

本発明は、ワーク分割装置及びワーク分割方法に係り、特に、半導体ウェーハ等のワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置及びワーク分割方法に関する。 The present invention relates to a work dividing device and a work dividing method, and more particularly to a work dividing device and a work dividing method for dividing a work such as a semiconductor wafer into individual chips along a dividing line.

従来、半導体チップ(以下、チップと言う。)の製造にあたり、ダイシングブレードによるハーフカット或いはレーザ照射による改質領域形成により予めその内部に分割予定ラインが形成された半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う。)を、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(特許文献1等参照)。 Conventionally, in the manufacture of semiconductor chips (hereinafter referred to as chips), a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) in which division lines are formed in advance by half-cutting with a dicing blade or forming a modified region by laser irradiation is formed. ) into individual chips along the planned dividing line (see Patent Document 1, etc.).

図15は、ワーク分割装置にて分割される円盤状のウェーハ1が貼付されたウェーハユニット2の説明図であり、図15(A)はウェーハユニット2の斜視図、図15(B)はウェーハユニット2の断面図である。 15A and 15B are explanatory diagrams of a wafer unit 2 to which a disk-shaped wafer 1 to be divided by a work dividing device is attached. FIG. 15A is a perspective view of the wafer unit 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the unit 2; FIG.

ウェーハ1は、片面に粘着層が形成された厚さ約100μmのダイシングテープ(拡張テープ又は粘着シートとも言う。)3の中央部に貼付され、ダイシングテープ3は、その外周部が剛性のあるリング状フレーム(以下、フレームと言う。)4に固定されている。 The wafer 1 is attached to the central portion of a dicing tape (also called expansion tape or adhesive sheet) 3 having a thickness of about 100 μm and having an adhesive layer formed on one side. It is fixed to a shaped frame (hereinafter referred to as frame) 4 .

ワーク分割装置では、ウェーハユニット2のフレーム4が、二点鎖線で示すフレーム固定部材(フレーム固定機構とも言う。)7によって固定される。この後、ウェーハユニット2の下方から二点鎖線で示すエキスパンドリング(突上げリングとも言う。)8が上昇移動され、このエキスパンドリング8によってダイシングテープ3が押圧されて放射状に拡張される。このときに生じるダイシングテープ3の張力が、ウェーハ1の分割予定ライン5に付与されることにより、ウェーハ1が個々のチップ6に分割される。分割予定ライン5は、互いに交差するX方向及びY方向に形成されている。分割予定ライン5に関して、X方向と平行な本数とY方向と平行な本数とが同数の場合であって、それぞれの方向の間隔が等しい場合には、分割されたチップ6の形状は正方形となる。また、X方向と平行な本数とY方向と平行な本数とが異なる場合であって、それぞれの方向の間隔が等しい場合には、分割されたチップ6の形状は長方形となる。 In the work dividing apparatus, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed by a frame fixing member (also referred to as a frame fixing mechanism) 7 indicated by a two-dot chain line. Thereafter, an expand ring (also referred to as a push-up ring) 8 indicated by a chain double-dashed line is moved upward from below the wafer unit 2, and the expand ring 8 presses the dicing tape 3 and expands it radially. The tension of the dicing tape 3 generated at this time is applied to the dividing line 5 of the wafer 1 , thereby dividing the wafer 1 into individual chips 6 . The planned division lines 5 are formed in the X direction and the Y direction that intersect each other. Regarding the division lines 5, when the number of lines parallel to the X direction and the number of lines parallel to the Y direction are the same, and when the intervals in each direction are equal, the shape of the divided chip 6 becomes a square. . Also, when the number of chips parallel to the X direction is different from the number of chips parallel to the Y direction and the intervals in the respective directions are equal, the shape of the divided chips 6 is rectangular.

ところで、ダイシングテープ3はヤング率が低く柔軟な部材である。このため、ウェーハ1を個々のチップ6に円滑に分割するためには、ダイシングテープ3を冷却し、ダイシングテープ3のバネ定数を大きくした状態でダイシングテープ3を拡張することが考えられる。 By the way, the dicing tape 3 is a flexible member having a low Young's modulus. Therefore, in order to smoothly divide the wafer 1 into individual chips 6, it is conceivable to cool the dicing tape 3 and expand the dicing tape 3 while increasing the spring constant of the dicing tape 3.

特許文献2のテープ拡張装置(ワーク分割装置)は、冷気供給手段を備えている。特許文献2によれば、冷気供給手段を作動して、処理空間内に冷気を供給し、処理空間内を例えば0℃以下に冷却することにより、ダイシングテープを冷却している。 The tape expanding device (work dividing device) disclosed in Patent Document 2 includes cool air supply means. According to Patent Document 2, the dicing tape is cooled by activating the cool air supply means to supply cool air into the processing space and cooling the inside of the processing space to, for example, 0° C. or less.

一方、特許文献3のチップ分割離間装置(ワーク分割装置)では、ダイシングテープに異方性があることに着目し、その異方性を加味してダイシングテープを一様にエキスパンドさせるために、フィルム面支持機構を備えている。このフィルム面支持機構は、円周方向において独立した複数の支持機構を備え、複数の支持機構の相対的な高さを個別に制御してダイシングテープの張力を調整することにより、ダイシングテープのX方向の伸びとY方向の伸びを独立して制御している。 On the other hand, in the chip dividing/separating device (work dividing device) of Patent Document 3, attention is paid to the fact that the dicing tape has anisotropy. It has a surface support mechanism. This film surface support mechanism includes a plurality of support mechanisms independent in the circumferential direction, and by individually controlling the relative heights of the plurality of support mechanisms to adjust the tension of the dicing tape, the X-axis of the dicing tape is adjusted. Directional elongation and Y-direction elongation are controlled independently.

ここで、本願明細書において、ダイシングテープ3のうち、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の領域を中央部領域3Aと称し、中央部領域3Aの外縁部とフレーム4の内縁部との間に備えられる平面視ドーナツ形状の領域を環状部領域3Bと称し、フレーム4のテープ貼付面4Aに添付される最外周部分の平面視ドーナツ形状の領域を固定部領域3Cと称する。環状部領域3Bが、エキスパンドリング8に押圧されて拡張される領域である。 Here, in the specification of the present application, of the dicing tape 3, a circular region in a plan view to which the wafer 1 is attached is referred to as a center region 3A, and between the outer edge of the center region 3A and the inner edge of the frame 4 A donut-shaped region in a plan view provided in the frame 4 is called an annular portion region 3B, and a donut-shaped region in a plan view of the outermost peripheral portion attached to the tape application surface 4A of the frame 4 is called a fixing portion region 3C. The annular region 3B is a region that is pressed and expanded by the expand ring 8 .

なお、ウェーハ1の分割に要する力は、すなわち、ウェーハ1を分割するために環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、分割予定ライン5の本数が多くなるに従って高くしなければならないことが知られている。分割予定ライン5の本数について、例えば、直径300mmのウェーハ1でチップサイズが5mmの場合には約120本(XY方向に各60本)の分割予定ライン5が形成され、チップサイズが1mmの場合は約600本の分割予定ライン5が形成される。よって、環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、チップサイズが小さくなるに従って高くしなければならない。 It should be noted that the force required to split the wafer 1, that is, the tension that must be generated in the annular region 3B to split the wafer 1, must be increased as the number of the splitting lines 5 increases. Are known. Regarding the number of dividing lines 5, for example, when the wafer 1 has a diameter of 300 mm and the chip size is 5 mm, approximately 120 dividing lines 5 (60 in each of the XY directions) are formed, and when the chip size is 1 mm. , approximately 600 division lines 5 are formed. Therefore, the tension that must be generated in the annular region 3B must be increased as the chip size becomes smaller.

特開2016-149581号公報JP 2016-149581 A 特開2016-12585号公報JP 2016-12585 A 特許第5912274号公報Japanese Patent No. 5912274

ところで、直径300mmのウェーハ1がマウントされるフレーム4の内径(フレームの内縁部の径)は、SEMI規格(G74-0699 300mmウェーハに関するテープフレームのための仕様)により350mmと定められている。この規格により、図16のウェーハユニット2の縦断面図の如く、ウェーハ1の外縁部とフレーム4の内縁部との間には、25mmの幅寸法を有する環状部領域3Bが存在することになる。また、図17(A)、(B)で示すワーク分割装置の要部縦断面図の如く、フレーム4を固定するフレーム固定部材7は、エキスパンドリング8によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 By the way, the inner diameter (diameter of the inner edge of the frame) of the frame 4 on which the 300 mm diameter wafer 1 is mounted is defined as 350 mm by the SEMI standard (G74-0699 Specification for tape frames for 300 mm wafers). According to this standard, an annular region 3B having a width of 25 mm exists between the outer edge of the wafer 1 and the inner edge of the frame 4, as shown in the longitudinal sectional view of the wafer unit 2 in FIG. . 17(A) and 17(B), the frame fixing member 7 for fixing the frame 4 does not come into contact with the annular portion region 3B expanded by the expand ring 8. As shown in FIGS. As shown in FIG. 1, the dicing tape 3 is installed at a position spaced outwardly from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A. As shown in FIG.

このため、エキスパンドリング8の上昇動作によって生じるウェーハ1を分割する力は、(i)環状部領域3Bの全領域を拡張する力、(ii)ウェーハ1をチップ6に分割する力、(iii)隣接するチップ6とチップ6との間のダイシングテープ3を拡張する力の3つの力に分解される。 Therefore, the forces for dividing the wafer 1 caused by the upward movement of the expand ring 8 are (i) a force for expanding the entire annular region 3B, (ii) a force for dividing the wafer 1 into chips 6, and (iii). The force that expands the dicing tape 3 between adjacent chips 6 is broken down into three forces.

図18(A)~(E)に示すワーク分割装置の動作図の如く、ダイシングテープ3の環状部領域3Bにエキスパンドリング8が当接し、エキスパンドリング8の上昇動作によってダイシングテープ3の拡張が始まると(図18(A))、まず最もバネ定数の低い環状部領域3Bの拡張が始まる(図18(B))。これにより、環状部領域3Bに張力が発生し、この張力がある程度高まると、高まった張力がウェーハ1に伝達されてウェーハ1のチップ6への分割が始まる(図18(C))。ウェーハ1が個々のチップ6に分割されると、環状部領域3Bの拡張とチップ間のダイシングテープ3の拡張とが同時に進行する(図18(D)~(E))。 As shown in FIGS. 18A to 18E, which are operation diagrams of the work dividing device, the expand ring 8 abuts against the annular region 3B of the dicing tape 3, and the expansion of the dicing tape 3 is started by the upward movement of the expand ring 8. Then (FIG. 18(A)), expansion of the annular region 3B having the lowest spring constant begins (FIG. 18(B)). As a result, tension is generated in the annular portion region 3B, and when this tension increases to some extent, the increased tension is transmitted to the wafer 1 and the wafer 1 begins to be divided into chips 6 (FIG. 18(C)). When the wafer 1 is divided into individual chips 6, the expansion of the annular region 3B and the expansion of the dicing tape 3 between the chips proceed simultaneously (FIGS. 18(D)-(E)).

従来のワーク分割装置では、直径300mmのウェーハ1において、チップサイズが5mm以上の場合には、環状部領域3Bで発生した張力により、個々のチップ6に問題無く分割することができた。しかしながら、ウェーハ1に形成される回路パターンの微細化に伴いチップサイズがより小さい1mm以下のチップも現れてきた。この場合、ウェーハ1を分割する分割予定ライン5の本数が増加することに起因して、ウェーハ1の分割に要する力が大きくなり、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる場合があった。そうすると、図19のウェーハユニット2の縦断面図の如く、エキスパンドリング8による拡張動作が終了しても、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の一部が分割されずに未分割のまま残存するという問題が発生した。 In the conventional work dividing apparatus, if the wafer 1 has a diameter of 300 mm and the chip size is 5 mm or more, the tension generated in the annular region 3B can divide the wafer 1 into individual chips 6 without any problem. However, as circuit patterns formed on the wafer 1 become finer, chips with a smaller chip size of 1 mm or less have appeared. In this case, due to the increase in the number of dividing lines 5 for dividing the wafer 1, the force required to divide the wafer 1 increases, and a force greater than the tension due to the expansion of the annular region 3B is required. was there. Then, as shown in the longitudinal sectional view of the wafer unit 2 in FIG. 19, even after the expansion operation by the expand ring 8 is completed, part of the dividing line 5 formed on the wafer 1 remains undivided without being divided. A problem arose.

このような分割予定ライン5の未分割の問題は、ダイシングテープ3の拡張量や拡張速度を増加させても解消することはできない。例えば、ダイシングテープ3の拡張量を増やした場合には、環状部領域3Bが塑性変形を始めてしまうからである。塑性変形中の環状部領域3Bのバネ定数は、弾性変形中のバネ定数よりも小さいことから、環状部領域3Bの弾性変形を超えた領域では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。一方、ダイシングテープ3の拡張速度を増やした場合でも、環状部領域3Bの一部分が塑性変形を始めてしまうので、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。これはダイシングテープ3の周波数応答が低いため、ダイシングテープ3の全体に時間差なく力が伝達しないからである。 Such a problem of undivided lines 5 to be divided cannot be solved even by increasing the expansion amount and expansion speed of the dicing tape 3 . This is because, for example, when the expansion amount of the dicing tape 3 is increased, the annular region 3B begins to undergo plastic deformation. Since the spring constant of the annular portion region 3B during plastic deformation is smaller than the spring constant during elastic deformation, in the region beyond the elastic deformation of the annular portion region 3B, the tension for dividing the wafer 1 into individual chips 6 is does not occur. On the other hand, even if the expansion speed of the dicing tape 3 is increased, a portion of the annular portion region 3B begins to undergo plastic deformation, so the tension for dividing the wafer 1 into individual chips 6 is not generated. This is because the frequency response of the dicing tape 3 is low, so the force is not transmitted to the entire dicing tape 3 with no time difference.

分割予定ライン5の未分割の問題を解消するために特許文献2では、ダイシングテープを冷却し、ダイシングテープのバネ定数を大きくすることで対応しているが、近年の1mm以下の小チップに対しては十分な効果を得ることができない。 In Patent Document 2, in order to solve the problem of undivided lines 5 to be divided, the dicing tape is cooled and the spring constant of the dicing tape is increased. sufficient effect cannot be obtained.

また、特許文献3のチップ分割離間装置は、ダイシングテープのX方向の伸びとY方向の伸びを独立して制御することはできるが、環状部領域の拡張による張力以上の力をウェーハに付与することができないので、分割予定ラインの未分割の問題を解消することはできない。 In addition, although the chip dividing/separating device of Patent Document 3 can independently control the X-direction elongation and the Y-direction elongation of the dicing tape, it applies a force greater than the tension caused by the expansion of the annular region to the wafer. Therefore, the problem of undivided lines to be divided cannot be solved.

本発明はこのような問題に鑑みて成されたものであり、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができるワーク分割装置及びワーク分割方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such problems, and provides a work dividing apparatus and work dividing method capable of solving the problem of undivided lines to be divided that occurs when the chip size is a small chip. With the goal.

本発明のワーク分割装置は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも小さく、かつワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングであって、ダイシングテープに対し相対的に近づく方向に移動されることにより、ダイシングテープのうちワークの外縁部とフレームの内縁部との間の環状部領域を押圧して拡張するエキスパンドリングと、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と同一側に配置され、フレームの内径よりも小さく、かつエキスパンドリングの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成された拡張規制リングであって、環状部領域のうち拡張規制リングに当接された当接部を境として外周側に位置する外周側領域の拡張を規制する拡張規制リングと、拡張規制リングを外周側領域の拡張を規制する規制位置と、規制位置から退避した退避位置との間で進退移動させる拡張規制リング移動機構であって、規制位置を調整可能な拡張規制リング移動機構と、を備える。 In order to achieve the object of the present invention, the work dividing apparatus of the present invention has the outer periphery of the dicing tape fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and divides the work adhered to the dicing tape. In a work dividing device for dividing into individual chips along a planned dividing line, an opening arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface where the work is attached and smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the work An expanding ring formed in a ring shape having a portion, and is moved in a direction relatively approaching the dicing tape, so that the annular portion between the outer edge of the work and the inner edge of the frame of the dicing tape An expand ring that presses and expands the area is arranged on the same side of the dicing tape as the surface where the workpiece is attached, and is formed into a ring shape having an opening that is smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the expand ring. an expansion restricting ring for restricting expansion of an outer peripheral region located on the outer peripheral side of the contact portion in contact with the expansion restricting ring in the annular portion region; An expansion restriction ring moving mechanism for advancing and retreating between a restriction position for restricting expansion of a side area and a retracted position retracted from the restriction position, the extension restriction ring moving mechanism for adjusting the restriction position.

本発明の一形態は、規制位置は、フレームのダイシングテープが貼付されたテープ貼付面と同一面上の第1規制位置であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, it is preferable that the regulating position is a first regulating position on the same plane as the tape-attached surface of the frame to which the dicing tape is attached.

本発明の一形態は、規制位置は、フレームのダイシングテープが貼付されたテープ貼付面よりもエキスパンドリングが配置される側の第2規制位置であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, the regulation position is preferably a second regulation position on the side where the expand ring is arranged with respect to the tape-applied surface of the frame to which the dicing tape is adhered.

本発明の一形態は、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも大きい弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、拡張規制リング移動機構によって拡張規制リングを規制位置から退避位置に移動させた後、嵌合部がフレームの表面に嵌合することによりダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、を備えることが好ましい。 One embodiment of the present invention is an expansion holding ring that is arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface on which the workpiece is attached, and that is formed into a ring shape and has an elastically deformable fitting portion that is larger than the inner diameter of the frame. an expansion holding ring that holds the expansion state of the dicing tape by engaging the fitting portion with the surface of the frame after the expansion regulation ring is moved from the regulation position to the retracted position by the expansion regulation ring moving mechanism; It is preferable to have

本発明のワーク分割方法は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置されたエキスパンドリングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、ダイシングテープのうちワークの外縁部とフレームの内縁部との間の環状部領域をエキスパンドリングによって押圧して拡張する拡張工程と、拡張工程が行われるときに、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と同一側に配置された拡張規制リングと環状部領域とを規制位置にて当接させて、拡張規制リングに当接された当接部を境として外周側に位置する外周側領域の拡張を規制する拡張規制工程と、を備える。 In order to achieve the object of the present invention, the work dividing method of the present invention comprises a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and fixing the outer periphery of the dicing tape to the work. In the work dividing method for dividing the work into individual chips along the planned dividing line, an expand ring arranged on the back side of the dicing tape opposite to the work bonding surface is moved in a direction relatively approaching the dicing tape. an expanding step of pressing and expanding the annular region of the dicing tape between the outer edge of the work and the inner edge of the frame with the expanding ring; The expansion restricting ring arranged on the same side as the sticking surface is brought into contact with the annular portion region at the restricting position, and the outer peripheral region located on the outer peripheral side with respect to the abutting portion contacted by the expansion restricting ring. and an expansion regulation step for regulating expansion.

本発明の一形態は、規制位置は、フレームのダイシングテープが貼付されたテープ貼付面と同一面上の第1規制位置であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, it is preferable that the regulating position is a first regulating position on the same plane as the tape-attached surface of the frame to which the dicing tape is attached.

本発明の一形態は、規制位置は、フレームのダイシングテープが貼付されたテープ貼付面よりもエキスパンドリングが配置される側の第2規制位置であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, the regulation position is preferably a second regulation position on the side where the expand ring is arranged with respect to the tape-applied surface of the frame to which the dicing tape is adhered.

本発明の一形態は、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置された拡張保持リングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部をフレームの表面に嵌合させてダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、を備えることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, by moving an expansion holding ring arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface on which the work is attached, in a direction relatively approaching the dicing tape, the outer periphery of the expansion holding ring is An expanded state holding step of holding an expanded state of the dicing tape by engaging an elastically deformable fitting portion formed in the portion with the surface of the frame.

本発明によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 According to the present invention, it is possible to solve the problem of undivided lines to be divided that occurs when the chip size is a small chip.

第1実施形態のワーク分割装置の要部構造図Principal part structural drawing of the work dividing apparatus of 1st Embodiment 図1に示したワーク分割装置の要部拡大斜視図FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the work dividing device shown in FIG. 1; 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの要部拡大断面図Enlarged cross-sectional view of essential parts of the wafer unit showing the shape of the annular region in the process of expansion 拡張保持リングによるダイシングテープの拡張状態を示した縦断面図Longitudinal cross-sectional view showing the expanded state of the dicing tape by the expansion retaining ring 図4の要部拡大断面図Enlarged cross-sectional view of essential parts in FIG. ワーク分割装置の制御系を示したブロック図Block diagram showing the control system of the workpiece dividing device ウェーハ分割方法の一例を示したフローチャートFlowchart showing an example of a wafer dividing method ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of the work dividing device ワーク分割装置の動作説明図Operation explanatory diagram of the work dividing device ワーク分割装置による他のワーク分割方法を説明した構造図Structural drawing explaining another work dividing method by the work dividing device 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの要部拡大断面図Enlarged cross-sectional view of essential parts of the wafer unit showing the shape of the annular region in the process of expansion 突き上げ量に対する拡張率の変化を算出したグラフGraph of calculated change in expansion ratio with respect to push-up amount 拡張工程時の動作を示した概略図Schematic diagram showing the operation during the expansion process 突き上げ速度に対する拡張率速度の変化を算出したグラフGraph that calculates the change in expansion rate speed with respect to push-up speed ウェーハが貼付されたウェーハユニットの説明図Explanatory drawing of a wafer unit with wafers attached ウェーハユニットの縦断面図Longitudinal cross section of wafer unit ワーク分割装置の要部側面図Main part side view of work dividing device ワーク分割装置の動作図Operation diagram of work dividing device ウェーハが分割されたウェーハユニットの縦断面図Longitudinal cross-sectional view of a wafer unit with divided wafers

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割装置及びワーク分割方法の好ましい実施形態について詳説する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲であれば、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of a work dividing device and a work dividing method according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and replacements can be added to the following embodiments within the scope of the present invention.

図1は、実施形態に係るワーク分割装置10の要部縦断面図であり、図2は、ワーク分割装置10の要部拡大斜視図である。なお、ワーク分割装置10によって分割処理されるウェーハユニットのサイズは限定されるものではないが、実施形態では、図15に示した直径300mmのウェーハ1がマウントされたウェーハユニット2を例示する。 FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a main portion of a work dividing device 10 according to an embodiment, and FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main portion of the work dividing device 10. As shown in FIG. Although the size of the wafer unit to be divided by the work dividing apparatus 10 is not limited, in the embodiment, the wafer unit 2 mounted with the wafer 1 having a diameter of 300 mm shown in FIG. 15 is exemplified.

図2の如く、ワーク分割装置10は、分割予定ライン5が形成されたウェーハ1を分割予定ライン5に沿って個々のチップ6に分割する装置である。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に複数本形成される。実施形態では、X方向と平行な分割予定ライン5の本数と、Y方向と平行な分割予定ライン5の本数とがそれぞれ300本でそれぞれの間隔が等しいウェーハ1、すなわち、チップサイズが1mmのチップ6に分割されるウェーハ1を例示する。 As shown in FIG. 2, the work dividing device 10 divides the wafer 1 on which the dividing lines 5 are formed into individual chips 6 along the dividing lines 5 . A plurality of planned division lines 5 are formed in the X direction and the Y direction that are orthogonal to each other. In the embodiment, the number of planned division lines 5 parallel to the X direction and the number of planned division lines 5 parallel to the Y direction are 300, respectively, and the intervals between the wafers 1 are equal, that is, the chips having a chip size of 1 mm. A wafer 1 divided into 6 is illustrated.

ウェーハ1は図1、図2の如く、ダイシングテープ3の中央部に貼付される。このダイシングテープ3は、ダイシングテープ3の固定部領域3Cがフレーム4のテープ貼付面4Aに貼付(固定)されている。ダイシングテープ3は、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の中央部領域3A、及び中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間の平面視ドーナツ形状の環状部領域3Bを有する。 The wafer 1 is attached to the central portion of the dicing tape 3 as shown in FIGS. The dicing tape 3 is attached (fixed) to the tape attaching surface 4A of the frame 4 at the fixing portion region 3C of the dicing tape 3. As shown in FIG. The dicing tape 3 has a circular center region 3A to which the wafer 1 is attached, and a donut shape between the outer edge of the center region 3A (the outer edge of the wafer 1) and the inner edge of the frame 4. has an annular portion region 3B of .

ウェーハ1の厚さは、例えば50μm程度である。また、ダイシングテープ3としては、例えばPVC(polyvinyl chloride:ポリ塩化ビニール)系のテープが使用される。なお、ウェーハ1をDAF(Die Attach Film)等のフィルム状接着材を介してダイシングテープ3に貼付してもよい。フィルム状接着材としては、例えばPO(polyolefin:ポリオレフィン)系のものを使用することができる。 The thickness of the wafer 1 is, for example, about 50 μm. As the dicing tape 3, for example, a PVC (polyvinyl chloride) tape is used. The wafer 1 may be attached to the dicing tape 3 via a film adhesive such as DAF (Die Attach Film). As the film-like adhesive, for example, a PO (polyolefin)-based one can be used.

ワーク分割装置10は、フレーム4を固定するフレーム固定部材7と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bを下方側から上方側に押圧してダイシングテープ3を拡張するエキスパンドリング14と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに上方側から当接される拡張規制リング16と、エキスパンドリング14によって拡張されたダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング18と、を備える。 The workpiece dividing device 10 includes a frame fixing member 7 that fixes the frame 4, an expand ring 14 that presses the annular portion region 3B of the dicing tape 3 upward from below to expand the dicing tape 3, and the dicing tape 3. An expansion restricting ring 16 abutting on the annular region 3B from above, and an expansion holding ring 18 holding the expanded state of the dicing tape 3 expanded by the expand ring 14 are provided.

フレーム固定部材7は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、その下面7Aにフレーム4の表面4Bが固定される。また、フレーム固定部材7は、エキスパンドリング14によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 The frame fixing member 7 is arranged on the same side of the dicing tape 3 as the surface on which the wafer 1 is adhered, and the surface 4B of the frame 4 is fixed to the lower surface 7A thereof. In addition, the frame fixing member 7 is installed at a position spaced outward from the annular portion region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A so as not to contact the annular portion region 3B expanded by the expand ring 14. It is

図2の如く、フレーム固定部材7の形状は、フレーム4の内径(350mm)よりも大きい、例えば直径361mmの開口部7Bを有するリング状である。 As shown in FIG. 2, the shape of the frame fixing member 7 is a ring shape having an opening 7B with a diameter of, for example, 361 mm, which is larger than the inner diameter of the frame 4 (350 mm).

エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレーム4の内径(350mm:図16参照)よりも小さく、かつウェーハ1の外径(300mm:図16参照)よりも大きい拡張用開口部(開口部)14Aを有する。エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動自在に配置される。具体的には、エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3の環状部領域3Bの裏面を上方側に押圧して環状部領域3Bを拡張する拡張位置(図1の二点鎖線で示す位置)と、環状部領域3Bから下方に退避した退避位置(図1の実線で示す位置)との間で上下方向に移動自在に配置される。 The expand ring 14 is arranged on the back side of the dicing tape 3 opposite to the bonding surface of the wafer 1, and is smaller than the inner diameter of the frame 4 (350 mm: see FIG. 16) and the outer diameter of the wafer 1 (300 mm: see FIG. 16). reference) has a larger expansion opening (opening) 14A. The expand ring 14 is arranged movably in a direction relatively approaching the dicing tape 3 . Specifically, the expand ring 14 has an expansion position (position indicated by a chain double-dashed line in FIG. 1 ) in which the back surface of the annular portion region 3B of the dicing tape 3 is pressed upward to expand the annular portion region 3B, and an annular It is arranged so as to be vertically movable between a retracted position (a position indicated by a solid line in FIG. 1) retracted downward from the lower region 3B.

ワーク分割装置10には、エキスパンドリング14を拡張位置と退避位置との間で上下移動させるエキスパンドリング移動機構20が備えられている。エキスパンドリング移動機構20の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。退避位置に位置されているエキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構20によって拡張位置に向けて移動させると、エキスパンドリング14は、環状部領域3Bに向けて矢印B方向に上昇移動される。これによって、環状部領域3Bの裏面がエキスパンドリング14に押圧されて放射状に拡張される。 The work dividing device 10 is provided with an expanding ring moving mechanism 20 for vertically moving the expanding ring 14 between an expanded position and a retracted position. A feed screw device is illustrated as an example of the expanding ring moving mechanism 20, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead. When the expand ring 14 positioned at the retracted position is moved toward the expanded position by the expand ring moving mechanism 20, the expand ring 14 is moved upward in the arrow B direction toward the annular region 3B. As a result, the back surface of the annular portion region 3B is pressed against the expand ring 14 and expanded radially.

拡張規制リング16は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、フレーム4の内径(350mm:図15参照)よりも小さく、かつエキスパンドリング14の外径よりも大きい拡張規制用開口部(開口部)16Bを有する。一例として拡張規制用開口部16Bの直径は、338mmである。 The expansion restricting ring 16 is arranged on the same side of the dicing tape 3 as the wafer 1 attachment surface, and is smaller than the inner diameter of the frame 4 (350 mm: see FIG. 15) and larger than the outer diameter of the expand ring 14. It has an opening (opening) 16B. As an example, the diameter of the expansion restricting opening 16B is 338 mm.

拡張規制リング16は、環状部領域3Bの表面にその下縁部16Aが当接される第1規制位置(図1の二点鎖線で示す位置)と、第1規制位置から上方に退避した退避位置(図1の実線で示す位置)との間で上下移動自在に配置される。 The expansion restricting ring 16 has a first restricting position (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1) where the lower edge portion 16A abuts against the surface of the annular portion region 3B, and a retracted position retracted upward from the first restricting position. position (the position indicated by the solid line in FIG. 1) so as to be vertically movable.

第1規制位置とは、拡張規制リング16によって外周側領域3Eの拡張を規制する位置であって、図1では、拡張規制リング16の下縁部16Aが、フレーム4のテープ貼付面4Aと同一面上に位置する位置に第1規制位置が設定されている。なお、外周側領域3Eとは、環状部領域3Bのうち拡張規制リング16の下縁部16Aに当接された当接部3Dを境として外周側に位置する領域である。また、環状部領域3Bのうち外周側領域3Eを除く領域が内周側領域3Fであり、この内周側領域3Fがエキスパンドリング14によって拡張される領域である。 The first regulating position is a position where expansion of the outer peripheral region 3E is regulated by the expansion regulating ring 16. In FIG. A first restriction position is set at a position located on the surface. Note that the outer peripheral region 3E is a region located on the outer peripheral side of the annular region 3B with the contact portion 3D contacting the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 as a boundary. Further, the area of the annular portion area 3B excluding the outer area 3E is the inner area 3F, and the inner area 3F is expanded by the expand ring 14. As shown in FIG.

ワーク分割装置10には、拡張規制リング16を第1規制位置と退避位置との間で上下移動させる拡張規制リング移動機構22が備えられている。拡張規制リング移動機構22の一例として、エアシリンダ装置を例示するが、これに代えて送りネジ装置等のアクチュエータを使用することもできる。 The work dividing device 10 is provided with an expansion restricting ring moving mechanism 22 that vertically moves the expansion restricting ring 16 between the first restricting position and the retracted position. An air cylinder device is exemplified as an example of the expansion restricting ring moving mechanism 22, but an actuator such as a feed screw device can be used instead.

図3は、エキスパンドリング14によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の要部拡大断面図である。 FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the main part of the wafer unit 2 showing the shape of the annular region 3B that is being expanded by the expand ring 14. As shown in FIG.

図3に示すように、エキスパンドリング14による環状部領域3Bの拡張の際には、エキスパンドリング14による拡張動作に先立って、拡張規制リング16が第1規制位置に位置されている。つまり、ダイシングテープ3の外周側領域3Eの拡張が拡張規制リング16によって予め規制されている。このため、実施形態のワーク分割装置10によれば、エキスパンドリング14が環状部領域3Bに当接した直後から内周側領域3Fの拡張が開始される。 As shown in FIG. 3, when the annular region 3B is expanded by the expand ring 14, the expansion restricting ring 16 is positioned at the first restricting position prior to the expanding operation by the expand ring 14. As shown in FIG. In other words, the expansion of the outer peripheral region 3E of the dicing tape 3 is restricted by the extension restriction ring 16 in advance. Therefore, according to the work dividing device 10 of the embodiment, expansion of the inner peripheral side region 3F starts immediately after the expand ring 14 comes into contact with the annular portion region 3B.

実施形態では、図1の如く、拡張規制用開口部16Bの径が338mmに設定されているので、拡張規制リング16によって拡張が規制される外周側領域3Eの幅寸法が6mmに設定され、エキスパンドリング14によって拡張される内周側領域3Fの幅寸法が19mmに設定されている。 In the embodiment, as shown in FIG. 1, the diameter of the expansion restricting opening 16B is set to 338 mm, so the width of the outer peripheral region 3E, whose expansion is restricted by the expansion restricting ring 16, is set to 6 mm. The width dimension of the inner peripheral region 3F expanded by the ring 14 is set to 19 mm.

ここで、環状部領域3Bのうち、エキスパンドリング14によって拡張される内周側領域3Fが、ウェーハ1の分割に実質的に寄与する領域となる。この内周側領域3Fの幅寸法を小さくするに従い、内周側領域3Fのバネ定数が大きくなるので、内周側領域3Fからウェーハ1に付与する張力が増加する。このため、内周側領域3Fの幅寸法を決定する拡張規制用開口部16Bの直径は、分割予定ライン5の本数等で規定される分割条件に応じて設定される。 Here, of the annular portion region 3B, the inner peripheral side region 3F expanded by the expand ring 14 becomes a region that substantially contributes to the division of the wafer 1. As shown in FIG. Since the spring constant of the inner peripheral region 3F increases as the width dimension of the inner peripheral region 3F decreases, the tension applied to the wafer 1 from the inner peripheral region 3F increases. Therefore, the diameter of the expansion restricting opening 16B, which determines the width of the inner peripheral region 3F, is set according to the division conditions defined by the number of division lines 5 and the like.

一方、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング18は、ダイシングテープにおけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置される。また、拡張保持リング18は、外径がフレーム4の内径(350mm)よりも小さく、内径がエキスパンドリング14の外径よりも大きい本体リング28と、本体リング28の外周部に装着されて、外径(351.3mm)がフレーム4の内径(350mm)よりも大きい弾性変形可能なリング状の嵌合部30と、を有する。 On the other hand, the expansion holding ring 18 for holding the expanded state of the dicing tape 3 is arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface where the wafer 1 is attached. The expansion holding ring 18 is attached to a body ring 28 whose outer diameter is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter of the expand ring 14, and the outer periphery of the body ring 28. and an elastically deformable ring-shaped fitting portion 30 having a diameter (351.3 mm) larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 .

図4は、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持された断面図である。図5は、図4の要部拡大断面図である。 FIG. 4 is a sectional view showing the expanded state of the dicing tape 3 held by the expansion holding ring 18. As shown in FIG. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part of FIG.

図4及び図5の如く、拡張保持リング18の嵌合部30は、実線で示す嵌合位置でフレーム4の表面4Bにダイシングテープ3の環状部領域3Bを介して嵌合する。これにより、ダイシングテープ3の拡張状態が拡張保持リング18によって保持される。 As shown in FIGS. 4 and 5, the fitting portion 30 of the extended holding ring 18 is fitted to the surface 4B of the frame 4 via the annular portion region 3B of the dicing tape 3 at the fitting position indicated by the solid line. As a result, the expanded state of the dicing tape 3 is held by the expansion holding ring 18 .

拡張保持リング18は、拡張保持前においては、図4及び図5の実線で示す嵌合位置から下方の待機位置(図1の実線で示す位置)に待機されており、拡張保持工程時に待機位置から嵌合位置に上昇移動される。 The expansion holding ring 18 is on standby at a standby position (the position shown by the solid line in FIG. 1) below the fitting position indicated by the solid lines in FIGS. to the mating position.

ワーク分割装置10には、拡張保持リング18を待機位置と嵌合位置との間で上下移動させる拡張保持リング移動機構32(図1参照)が備えられている。拡張保持リング移動機構32の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。 The work dividing device 10 is provided with an extension holding ring moving mechanism 32 (see FIG. 1) for vertically moving the extension holding ring 18 between the standby position and the fitting position. A feed screw device is exemplified as an example of the extension holding ring moving mechanism 32, but instead of this, an actuator such as an air cylinder device can be used.

拡張保持リング移動機構32によって拡張保持リング18が上昇されると、嵌合部30はフレーム4の下面に当接する。その後、嵌合部30は、フレーム4の内周面に押されて弾性変形しながら上昇し、フレーム4の内周面を通過したところでフレーム4の表面4Bに嵌合する。これによって、ダイシングテープ3の拡張状態が保持される。 When the extension retaining ring 18 is lifted by the extension retaining ring moving mechanism 32 , the fitting portion 30 contacts the lower surface of the frame 4 . After that, the fitting portion 30 is pushed by the inner peripheral surface of the frame 4 and rises while being elastically deformed. As a result, the expanded state of the dicing tape 3 is maintained.

図1に戻り、エキスパンドリング移動機構20、拡張規制リング移動機構22及び拡張保持リング移動機構32は、図6の制御系のブロック図の如く、ワーク分割装置10を統括制御する制御部34によって、その動作が制御されている。制御部34は、CPU(Central Processing Unit)とRAM(Random access memory)とを有し、RAMには、エキスパンドリング移動機構20、拡張規制リング移動機構22及び拡張保持リング移動機構32を所定の順序で動作させるためのプログラムが記憶されている。 Returning to FIG. 1, the expanding ring moving mechanism 20, the expansion restricting ring moving mechanism 22, and the expanding holding ring moving mechanism 32 are controlled by a control unit 34 that controls the workpiece dividing device 10 as shown in the control system block diagram of FIG. Its operation is controlled. The control unit 34 has a CPU (Central Processing Unit) and a RAM (Random Access Memory), and the RAM stores the expanding ring moving mechanism 20, the expansion restricting ring moving mechanism 22, and the expanding retaining ring moving mechanism 32 in a predetermined order. A program is stored to operate the

次に、制御部34による各機構の制御例を、図7のフローチャート、図8(A)~(D)及び図9(A)~(D)に示すワーク分割装置10の動作説明図に基づいて説明する。 Next, an example of control of each mechanism by the control unit 34 will be described based on the flowchart of FIG. to explain.

まず、図7の配置工程(S100)では、図8(A)の如く、エキスパンドリング14と拡張規制リング16がそれぞれ退避位置に配置されるとともに、拡張保持リング18が待機位置に配置される。 First, in the arrangement step (S100) of FIG. 7, the expand ring 14 and the expansion restricting ring 16 are arranged at the retracted positions, and the expansion holding ring 18 is arranged at the standby position, as shown in FIG. 8(A).

次に、図7の固定工程(S110)では、図8(B)の如く、ウェーハユニット2のフレーム4がフレーム固定部材7に固定される。 7, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed to the frame fixing member 7 as shown in FIG. 8B.

次に、図7の拡張規制工程(S120)では、図8(C)の如く、拡張規制リング16が退避位置から第1規制位置に移動される。 Next, in the expansion restricting step (S120) of FIG. 7, the expansion restricting ring 16 is moved from the retracted position to the first restricting position as shown in FIG. 8(C).

次に、図7の拡張開始工程(S130)では、図8(D)の如く、エキスパンドリング14が、図8(A)の退避位置から拡張位置に向けて上昇移動され、環状部領域3Bの拡張が開始される。 Next, in the expansion start step (S130) in FIG. 7, as shown in FIG. 8D, the expand ring 14 is moved upward from the retracted position shown in FIG. Expansion begins.

この拡張開始工程(S130)では、環状部領域3Bの表面に拡張規制リング16の下縁部16Aが予め当接されて外周側領域3Eの拡張が規制されているので、内周側領域3Fがエキスパンドリング14によって拡張されていく。また、既述の拡張規制工程(S120)は、拡張開始工程(S130)から後述の分割工程(S140)の終了時に至るまでの拡張工程と共に行われる工程である。つまり、本発明の拡張工程は、拡張開始工程(S130)から分割工程(S140)の終了時に至るまでの工程を指している。 In this expansion start step (S130), the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 is previously brought into contact with the surface of the annular portion region 3B to restrict the expansion of the outer peripheral region 3E, so that the inner peripheral region 3F is expanded. It is expanded by the expanding ring 14 . Further, the expansion restriction step (S120) described above is a step that is performed together with the expansion step from the expansion start step (S130) to the end of the division step (S140) described later. In other words, the expansion step of the present invention refers to the steps from the expansion start step (S130) to the end of the division step (S140).

次に、図7の分割工程(S140)では、図9(A)の如く、エキスパンドリング14の上昇移動により内周側領域3Fの拡張を継続し、この間でウェーハ1を個々のチップ6に順次分割していく。この後、図9(B)の如く、エキスパンドリング14が拡張位置に到達したところで、エキスパンドリング14の上昇移動を停止する。この時点で既述の拡張工程が終了する。 Next, in the dividing step (S140) in FIG. 7, as shown in FIG. 9A, the expansion ring 14 is moved upward to continue expanding the inner peripheral region 3F, and during this time the wafer 1 is sequentially divided into individual chips 6. split up. After that, as shown in FIG. 9B, when the expand ring 14 reaches the expanded position, the upward movement of the expand ring 14 is stopped. At this point, the extension process described above ends.

このような拡張工程では、外周側領域3Eの拡張が拡張規制リング16によって規制されながら、内周側領域3Fのみがエキスパンドリング14によって拡張されていく。つまり、内周側領域3Fに発生した張力がウェーハ1に付与される。 In such an expansion process, only the inner peripheral region 3F is expanded by the expand ring 14 while the expansion of the outer peripheral region 3E is restricted by the expansion restricting ring 16 . That is, the tension generated in the inner peripheral region 3</b>F is applied to the wafer 1 .

具体的に説明すると、拡張工程では、拡張規制用開口部16Bの径が338mmの拡張規制リング16を使用することにより、ウェーハ1の分割に寄与する領域の長さが25mm(環状部領域3Bの幅寸法)から19mm(内周側領域3Fの幅寸法)に短縮されている。このため、内周側領域3Fのバネ定数が増大し、その増大したバネ定数に対応する張力がウェーハ1に付与される。 More specifically, in the expansion step, the expansion restricting ring 16 having the expansion restricting opening 16B with a diameter of 338 mm is used so that the length of the area contributing to the division of the wafer 1 is 25 mm (the annular area 3B is width) to 19 mm (the width of the inner peripheral region 3F). Therefore, the spring constant of the inner peripheral region 3F is increased, and tension corresponding to the increased spring constant is applied to the wafer 1 .

したがって、実施形態のワーク分割方法によれば、拡張規制工程(S120)を備えているので、チップサイズが小チップ(1mm)であっても個々のチップ6に分割するだけの張力をウェーハ1に付与することができる。よって、チップサイズが小チップ(1mm)の場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 Therefore, according to the work dividing method of the embodiment, since the expansion restricting step (S120) is provided, even if the chip size is a small chip (1 mm), the wafer 1 is applied with enough tension to divide it into individual chips 6. can be granted. Therefore, it is possible to solve the problem of undivided lines to be divided that occurs when the chip size is a small chip (1 mm).

次に、図7の分割工程(S140)が終了すると、図7の拡張規制リング退避工程(S150)では、図9(C)の如く、拡張規制リング16が退避位置に移動される。 Next, when the dividing step (S140) in FIG. 7 is finished, in the expansion restricting ring retreating step (S150) in FIG. 7, the expansion restricting ring 16 is moved to the retracted position as shown in FIG. 9(C).

次に、図7の拡張状態保持工程(S160)では、図9(C)の如く、拡張保持リング18が待機位置から嵌合位置に向けて上昇されて、嵌合部30がフレーム4の表面4Bに嵌合する。これにより、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持される。 Next, in the extended state holding step (S160) in FIG. 7, as shown in FIG. 4B. As a result, the expanded state of the dicing tape 3 is held by the expansion holding ring 18 .

このように実施形態のワーク分割方法では、拡張工程が行われた後、拡張規制リング退避工程(S150)が行われ、拡張規制リング退避工程(S150)が行われた後、拡張状態保持工程(S160)が行われる。 As described above, in the work dividing method of the embodiment, after the expansion step is performed, the expansion restricting ring retreating step (S150) is performed, and after the expansion restricting ring retracting step (S150) is performed, the extended state holding step ( S160) is performed.

次に、図7のエキスパンドリング退避工程(S170)では、図9(D)の如く、エキスパンドリング14が下降移動されて退避位置に戻る。このとき、ダイシングテープ3は、拡張保持リング18によって弛むことなく拡張状態が保持されている。これにより、拡張されたダイシングテープ3が弛むことによって生じるチップ6同士の接触を防止することができるので、チップ6の品質低下を防止することができる。 Next, in the expanding ring retracting step (S170) in FIG. 7, the expanding ring 14 is moved downward to return to the retracted position as shown in FIG. 9(D). At this time, the dicing tape 3 is held in the expanded state by the expansion holding ring 18 without loosening. As a result, it is possible to prevent the chips 6 from coming into contact with each other due to loosening of the extended dicing tape 3, so that deterioration of the quality of the chips 6 can be prevented.

上記の如く実施形態のワーク分割方法によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消でき、かつ分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題も消することができる。 As described above, according to the work dividing method of the embodiment, it is possible to solve the problem that the line to be divided is not divided, which occurs when the chip size is a small chip, and also to solve the problem of deterioration in chip quality caused by contact between chips after division. can also be deleted.

また、実施形態のワーク分割方法によれば、拡張工程において、外周側領域3Eの拡張が拡張規制リング16によって規制されている。このため、外周側領域3Eのダイシングテープ3は伸びておらず、その厚さは元の厚さの状態が保持されている。これにより、拡張状態保持工程(S160)において、拡張保持リング18が外周側領域3Eを引き延ばした状態でフレーム4に装着された場合でも、外周側領域3Eが破れることを防止できる。 Further, according to the work dividing method of the embodiment, the expansion of the outer peripheral region 3E is regulated by the expansion regulating ring 16 in the expansion process. Therefore, the dicing tape 3 in the outer peripheral region 3E is not stretched, and its original thickness is maintained. As a result, even when the expansion holding ring 18 is attached to the frame 4 with the outer peripheral region 3E stretched in the expanded state holding step (S160), the outer peripheral region 3E can be prevented from tearing.

また、分割工程(S140)の後工程において、拡張後の弛んだ内周側領域3Fを光加熱によって熱収縮させて再度緊張させる熱収縮工程が行われる場合がある。このような熱収縮工程を行うことにより、内周側領域3Fを再度緊張させることができるので、分割工程(S140)の後工程でのウェーハユニット2の処理が容易になるという効果がある。 In addition, in a process after the dividing process (S140), a thermal contraction process may be performed in which the loosened inner peripheral region 3F after expansion is thermally contracted by light heating and tensed again. By performing such a heat shrinking process, the inner peripheral region 3F can be tensed again, so there is an effect that the wafer unit 2 can be easily processed in the process after the dividing process (S140).

また、図7の拡張開始工程(S130)の前工程にて、不図示の冷却手段により内周側領域3Fを予め低温に冷却しておくことが好ましい。これにより、内周側領域3Fのバネ定数を、拡張開始工程(S130)に先立って増大させておくことができる。冷却手段としては、内周側領域3Fに接触して冷却する接触式のもの、又は冷気を内周側領域3Fに噴射して冷却する風冷式のものを例示することができる。 Moreover, it is preferable to previously cool the inner peripheral side region 3F to a low temperature by a cooling means (not shown) in a process prior to the expansion start process (S130) in FIG. As a result, the spring constant of the inner peripheral region 3F can be increased prior to the expansion start step (S130). Examples of the cooling means include a contact type that cools by contacting the inner peripheral side region 3F, and an air cooling type that cools by injecting cold air to the inner peripheral side region 3F.

また、拡張規制リング16の下縁部16Aには、一例として算術平均粗さ(Ra)が1.6(μm)となる表面加工が施されていることが好ましい。これにより、下縁部16Aと環状部領域3Bとの間に好適な摩擦力が発生し、この摩擦力によって、下縁部16Aと環状部領域3Bとが相対的に滑ることを防止することができる。 In addition, it is preferable that the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 be surface-processed so as to have an arithmetic mean roughness (Ra) of 1.6 (μm), for example. As a result, a suitable frictional force is generated between the lower edge portion 16A and the annular portion region 3B, and this frictional force prevents the lower edge portion 16A and the annular portion region 3B from sliding relative to each other. can.

また、拡張規制リング16の下縁部16Aのエッジには、一例としてC0.2の面取り加工が施されていることが好ましい。これにより、下縁部16Aのエッジによって環状部領域3Bが破れることを防止することができる。 Further, the edge of the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 is preferably chamfered with C0.2 as an example. Thereby, it is possible to prevent the annular portion region 3B from being torn by the edge of the lower edge portion 16A.

次に、ワーク分割装置10による他のワーク分割方法について説明する。 Next, another work dividing method by the work dividing device 10 will be described.

図10には、他のワーク分割方法を説明するためのワーク分割装置10の構造図が示されている。また、図11には、他のワーク分割方法によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の要部拡大断面図が示されている。 FIG. 10 shows a structural diagram of a work dividing device 10 for explaining another work dividing method. Also, FIG. 11 shows an enlarged cross-sectional view of the main part of the wafer unit 2 showing the shape of the annular region 3B in the middle of expansion by another work dividing method.

図8及び図9に示したワーク分割方法に対する、図10及び図11に示すワーク分割方法の相違点は、拡張規制リング16の規制位置を、第1規制位置よりもエキスパンドリング14が配置される側の第2規制位置に変更した点にある。このような規制位置の調整は、図6に示した拡張規制リング移動機構22によって行われる。 10 and 11 with respect to the work dividing method shown in FIGS. 8 and 9 is that the restricting position of the expansion restricting ring 16 is set higher than the first restricting position. The point is that it is changed to the second regulation position on the side. Such regulation position adjustment is performed by the extension regulation ring moving mechanism 22 shown in FIG.

図10及び図11に示すワーク分割方法によれば、エキスパンドリング14の拡張動作に先立って、環状部領域3Bの表面が拡張規制リング16の下縁部16Aによって予め押下されているので、内周側領域3Fが拡張規制リング16によって予め拡張されている。 According to the work dividing method shown in FIGS. 10 and 11, prior to the expanding operation of the expand ring 14, the surface of the annular portion region 3B is previously pressed by the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16. The side region 3F is expanded in advance by the expansion restricting ring 16. - 特許庁

このように、内周側領域3Fを予め拡張させておくことにより、環状部領域3Bの突き上げ量を同一とした場合における内周側領域3Fの拡張量(張力)を、図8及び図9のワーク分割方法よりも増大させることができる。換言ずれば、図10及び図11に示すワーク分割方法によれば、図8及び図9のワーク分割方法よりも、小さな突き上げ量で、図8及び図9のワーク分割方法と同等の拡張量(張力)を得ることができる。 In this way, by expanding the inner peripheral region 3F in advance, the amount of expansion (tension) of the inner peripheral region 3F when the amount of push-up of the annular portion region 3B is the same is as shown in FIGS. It can be increased more than the work division method. In other words, according to the work dividing method shown in FIGS. 10 and 11, the amount of pushing up is smaller than that of the work dividing method of FIGS. tension) can be obtained.

図12のグラフは、ダイシングテープ3の拡張率(%)が縦軸に示され、エキスパンドリング14の上昇移動による環状部領域3Bの突き上げ量(mm)が横軸に示されている。また、図12では、後述するように突き上げ量に応じた拡張率が、拡張規制リング16の規制位置毎に異なることが示されている。 In the graph of FIG. 12, the vertical axis indicates the expansion rate (%) of the dicing tape 3, and the horizontal axis indicates the push-up amount (mm) of the annular region 3B due to the upward movement of the expand ring 14. As shown in FIG. In addition, FIG. 12 shows that the expansion rate corresponding to the amount of push-up differs for each regulation position of the expansion regulation ring 16, as will be described later.

具体的に説明すると、図12の線Aは、拡張規制リング16の規制位置を第1規制位置(図8(C)参照)に設定した場合の拡張率の変化を示している。また、線Bは、拡張規制リング16の規制位置を第2規制位置(図11参照)に設定した場合の拡張率の変化を示している。 More specifically, line A in FIG. 12 indicates changes in expansion rate when the expansion restricting ring 16 is set to the first restricting position (see FIG. 8C). A line B indicates a change in expansion rate when the expansion restricting ring 16 is set to the second restricting position (see FIG. 11).

また、線Cは、拡張規制リング16の規制位置を第3規制位置に設定した場合の拡張率の変化を示している。第3規制位置とは、第1規制位置よりも拡張規制リング16が配置される側の位置であるが、その一例として、フレーム4の表面4B(図3参照)と同一面上の位置に第3規制位置を設定した場合の拡張率の変化が線Cに示されている。また、線Dは、拡張規制リング16を使用しない場合の拡張率の変化を示している。 A line C indicates a change in expansion rate when the expansion restricting ring 16 is set to the third restricting position. The third restricting position is a position closer to the expansion restricting ring 16 than the first restricting position. Line C shows the change in expansion rate when three restricting positions are set. Line D indicates the change in expansion rate when the expansion restriction ring 16 is not used.

なお、図12に示したグラフは、図13に示す各部材の寸法に基づいて算出された拡張率の一例である。 Note that the graph shown in FIG. 12 is an example of expansion rates calculated based on the dimensions of each member shown in FIG.

すなわち、この例では、図13に示すように、フレーム4の内径D1を350mm、フレーム4の厚さtを1.5mm、拡張規制リング16の拡張規制用開口部16Bの径D2を338mm、ローラ36の配置径D3を323.2mmとしている。図12に示した線A、B、Cの拡張率は、これらの寸法とローラ36の直径dを7mmとして算出し、線Dの拡張率は、これらの寸法とローラ36の直径dを5mmとして算出したものである。また、図13の符号xは、エキスパンドリング14の上昇移動による環状部領域3Bの突き上げ量(mm)を示している。 That is, in this example, as shown in FIG. 13, the inner diameter D1 of the frame 4 is 350 mm, the thickness t of the frame 4 is 1.5 mm, the diameter D2 of the expansion restricting opening 16B of the expansion restricting ring 16 is 338 mm, and the roller 36 has an arrangement diameter D3 of 323.2 mm. The expansion ratios of lines A, B, and C shown in FIG. It is calculated. 13 indicates the amount (mm) of push-up of the annular portion region 3B by the upward movement of the expand ring 14. As shown in FIG.

以下、図12に基づいて、拡張規制リング16の規制位置に応じた各拡張率の変化について説明する。 Hereinafter, based on FIG. 12, the change of each expansion rate according to the restriction position of the extension restriction ring 16 will be described.

まず、拡張規制リング16を第3規制位置した場合(線C参照)には、エキスパンドリング14の上昇移動により環状部領域3Bが突き上げられていき、突き上げ量が1.5mm(=フレーム4の厚さt)に到達すると環状部領域3Bが拡張規制リング16の下縁部16Aに接触する。その接触した直後からの拡張率が、拡張規制リング16を適用しない場合(線D参照)の拡張率よりも高くなる。 First, when the expansion restricting ring 16 is in the third restricting position (see line C), the upward movement of the expand ring 14 causes the annular portion region 3B to be pushed up, and the amount of thrust is 1.5 mm (=thickness of frame 4). When reaching t), the annular region 3B contacts the lower edge 16A of the expansion restricting ring 16. As shown in FIG. The expansion rate immediately after the contact becomes higher than the expansion rate when the expansion restriction ring 16 is not applied (see line D).

これに対して、拡張規制リング16の規制位置を第1規制位置に設定した場合(線A参照)には、拡張動作に先立って、拡張規制リング16の下縁部16Aが環状部領域3Bの表面に予め当接されているため、環状部領域3Bにエキスパンドリング14が接触した直後からの拡張率が、第3規制位置での拡張率(線C参照)よりも高くなる。 On the other hand, when the restricting position of the expansion restricting ring 16 is set to the first restricting position (see line A), the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 is positioned in the annular region 3B prior to the expansion operation. Since it is in contact with the surface in advance, the expansion rate immediately after the expand ring 14 comes into contact with the annular portion region 3B is higher than the expansion rate (see line C) at the third restricting position.

また、拡張規制リング16の規制位置を第2規制位置に設定した場合(線B参照)には、拡張動作に先立って、拡張規制リング16の下縁部16Aが環状部領域3Bを予め押下しているので、拡張動作を開始する前から拡張率は0%を超えている。このため、環状部領域3Bの突き上げ量を同一とした場合における拡張率が、第1規制位置に設定した場合の拡張率(線A参照)よりも高くなる。 Further, when the restricting position of the expansion restricting ring 16 is set to the second restricting position (see line B), the lower edge portion 16A of the expansion restricting ring 16 presses the annular portion region 3B in advance prior to the expanding operation. Therefore, the expansion rate exceeds 0% even before the expansion operation is started. For this reason, the expansion rate when the amount of push-up of the annular region 3B is the same is higher than the expansion rate (see line A) when set at the first restriction position.

このように、拡張規制リング16を第1~第3規制位置のいずれかの位置に配置した状態でエキスパンドリング14を用いて環状部領域3Bを拡張することにより、拡張規制リング16を適用しない場合と比較して、ウェーハ1をチップ6に分割するための十分な張力が得られる。特に、テープ貼付面4Aと同一面上の第1規制位置、又はテープ貼付面4Aよりもエキスパンドリング14が配置される側の第2規制位置に拡張規制リング16を配置した場合には、テープ貼付面4Aよりも拡張規制リング16が配置される側の第3規制位置に配置した場合と比較して、エキスパンドリング14を上昇させた直後から高い張力が得られるので、より効果的にウェーハ1をチップ6に分割することができる。 In this way, when the expansion restricting ring 16 is not applied, the annular portion region 3B is expanded using the expand ring 14 while the expansion restricting ring 16 is placed at one of the first to third restricting positions. Sufficient tension is obtained to divide the wafer 1 into chips 6 compared to . In particular, when the expansion restricting ring 16 is arranged at the first restricting position on the same plane as the tape applying surface 4A or at the second restricting position on the side of the tape applying surface 4A where the expand ring 14 is arranged, the tape applying A higher tension can be obtained immediately after the expand ring 14 is lifted, compared with the case where the expansion restricting ring 16 is arranged at the third restricting position on the side of the surface 4A, so that the wafer 1 can be moved more effectively. It can be divided into chips 6.

図14は、図12に示した線A、B、C、Dの各拡張率(%)の単位時間当たりの上昇率(以下、拡張率速度(%/sec)と言う。)の変化を示したグラフである。 FIG. 14 shows changes in the rate of increase per unit time of each expansion rate (%) of lines A, B, C, and D shown in FIG. 12 (hereinafter referred to as expansion rate speed (%/sec)). is a graph.

図14のグラフは、拡張率速度(%/sec)が左縦軸に示され、環状部領域3Bの突き上げ速度(mm/sec)が右縦軸に示され、エキスパンドリング14の上昇移動による環状部領域3Bの突き上げ量(mm)が横軸に示されている。 In the graph of FIG. 14 , the expansion rate speed (%/sec) is shown on the left vertical axis, and the push-up speed (mm/sec) of the annular portion region 3B is shown on the right vertical axis. The horizontal axis indicates the amount of thrust (mm) of the partial region 3B.

図14では、一例として、環状部領域3Bの突き上げ速度を一定とした場合における、拡張率速度の変化が示されている。拡張率速度が速いほど、ダイシングテープ3に発生する張力が高くなりウェーハ1をチップ6毎に分割する力が高くなる。 FIG. 14 shows, as an example, changes in expansion rate speed when the pushing speed of the annular portion region 3B is constant. The faster the expansion rate, the higher the tension generated in the dicing tape 3 and the force for dividing the wafer 1 into chips 6 .

図14の線Eは、0.00mm~20.00mmまでの突き上げ量における突き上げ速度の変化を示している。換言すると線Eは、エキスパンドリング14の上昇移動速度を示している。線Eによれば、エキスパンドリング14は、0.00mm~約18.50mmの範囲内では一定の速度(200mm/sec)で上昇移動し、それ以降は減速しながら20.00mmまで上昇移動する。 Line E in FIG. 14 indicates changes in thrust speed for thrust amounts from 0.00 mm to 20.00 mm. In other words, line E indicates the upward moving speed of the expand ring 14 . According to line E, the expand ring 14 moves upward at a constant speed (200 mm/sec) within the range of 0.00 mm to approximately 18.50 mm, and thereafter moves upward to 20.00 mm while decelerating.

図14の線Fは、図12の線Dの拡張率に対応した拡張率速度の変化を示している。また、線Gは、図12の線Cの拡張率に対応した拡張率速度の変化を示している。また、線Hは、図12の線A、Bの拡張率に対応した拡張率速度の変化を示している。 Line F in FIG. 14 shows the change in dilation rate speed corresponding to the dilation rate of line D in FIG. Line G indicates the change in dilation rate speed corresponding to the dilation rate of line C in FIG. Line H indicates the change in dilation rate speed corresponding to the dilation rate of lines A and B in FIG.

図14の線F、G、Hで示す各拡張率速度によれば、突き上げ量に応じてそれぞれ上昇していき、突き上げ量が約18.50mmに到達した時点で最大(最大拡張率速度)となり、それ以降はそれぞれ下降していく。 According to the respective expansion rate speeds shown by lines F, G, and H in FIG. , and then descend respectively.

ここで、拡張規制リング16による規制位置を第3規制位置に設定した場合(線G参照)には、突き上げ量が約3.00mmを超えてからの拡張率速度が、拡張規制リング16を適用しない場合(線F参照)よりも速くなり、最大拡張率速度が増加(約95%/secから約115%/secに増加)する。これにより、ダイシングテープ3に発生する張力が、拡張規制リング16を適用しない場合の張力よりも増加するので、既述の未分割問題を解消することができる。 Here, when the restriction position by the expansion restricting ring 16 is set to the third restricting position (see line G), the expansion rate speed after the thrust amount exceeds about 3.00 mm is applied to the expansion restricting ring 16. It is faster than without it (see line F) and the maximum dilatation rate increases (increases from about 95%/sec to about 115%/sec). As a result, the tension generated in the dicing tape 3 is increased more than the tension in the case where the expansion restricting ring 16 is not applied, so that the above-described problem of undivided tape can be resolved.

一方、拡張規制リング16を第1規制位置又は第2規制位置に設定した場合(線H参照)には、環状部領域3Bの突き上げ量を同一とした場合における拡張率速度が、第3規制位置に設定した場合(線G参照)よりも速くなる。なお、最大拡張率速度の増加分は、第3規制位置に設定した場合(線G参照)と略等しい。 On the other hand, when the expansion regulating ring 16 is set at the first regulating position or the second regulating position (see line H), the expansion rate speed when the thrust amount of the annular portion region 3B is the same is set at the third regulating position. (see line G). Note that the increase in the maximum expansion rate speed is substantially equal to that in the case of setting to the third restricting position (see line G).

このように、拡張規制リング16を第1規制位置又は第2規制位置に設定することにより、環状部領域3Bの突き上げ量を同一とした場合における拡張率と(図12参照)と最大拡張率速度(図14参照)が、第3規制位置に設定した場合よりも速くなるので、拡張開始直後から大きな張力をウェーハ1に付与することができる。よって、第3位置に設定した場合よりも、既述の未分割問題をより効果的に解消することができる。 By setting the expansion restricting ring 16 to the first restricting position or the second restricting position in this manner, the expansion rate (see FIG. 12) and the maximum expansion rate speed when the thrust amount of the annular portion region 3B is the same. (See FIG. 14) is faster than when set to the third regulating position, so a large tension can be applied to the wafer 1 immediately after the start of expansion. Therefore, the above-described undivided problem can be solved more effectively than when it is set to the third position.

なお、図10及び図11に示した他の分割方法では、第1規制位置からエキスパンドリング14が配置される側に3mm移動した位置を第2規制位置に設定したが第2規制位置は、この位置に限定されるものではない。第2規制位置については、種々のチップサイズのウェーハに対し、小さな突き上げ量で最適な張力を付与することができる位置に設定することが好ましい。また、第3規制位置は、フレーム4の表面4Bと同一面上の位置に限定されるものではなく、第1規制位置よりも拡張規制リング16が配置される側の位置であればよい。 In the other dividing method shown in FIGS. 10 and 11, the position moved 3 mm from the first regulating position to the side where the expand ring 14 is arranged is set as the second regulating position. It is not limited to positions. The second regulation position is preferably set at a position where optimal tension can be applied to wafers of various chip sizes with a small thrust amount. Further, the third restricting position is not limited to a position on the same plane as the surface 4B of the frame 4, and may be any position on the side where the expansion restricting ring 16 is arranged relative to the first restricting position.

1…ウェーハ、2…ウェーハユニット、3…ダイシングテープ、3A…中央部領域、3B…環状部領域、3C…固定部領域、3D…当接部、3E…外周側領域、3F…内周側領域、4…フレーム、4A…テープ貼付面、5…分割予定ライン、6…チップ、7…フレーム固定部材、8…エキスパンドリング、14…エキスパンドリング、16…拡張規制リング、18…拡張保持リング、20…エキスパンドリング移動機構、22…拡張規制リング移動機構、28…本体リング、30…嵌合部、32…拡張保持リング移動機構、34…制御部、36…ローラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Wafer, 2... Wafer unit, 3... Dicing tape, 3A... Central area, 3B... Annular area, 3C... Fixed part area, 3D... Contact part, 3E... Outer peripheral area, 3F... Inner peripheral area 4 Frame 4A Tape application surface 5 Division line 6 Tip 7 Frame fixing member 8 Expanding ring 14 Expanding ring 16 Expansion restricting ring 18 Expansion holding ring 20 ... Expanding ring moving mechanism, 22 ... Expansion restricting ring moving mechanism, 28 ... Body ring, 30 ... Fitting portion, 32 ... Expansion holding ring moving mechanism, 34 ... Control section, 36 ... Roller

Claims (6)

ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、前記ダイシングテープに貼付された前記ワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、前記フレームの内径よりも小さく、かつ前記ワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングであって、前記ダイシングテープに対し相対的に近づく方向に移動されることにより、前記ダイシングテープのうち前記ワークの外縁部と前記フレームの内縁部との間の環状部領域を押圧して拡張する前記エキスパンドリングと、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と同一側に配置され、前記フレームの内径よりも小さく、かつ前記エキスパンドリングの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成された拡張規制リングであって、前記環状部領域のうち前記拡張規制リングに当接された当接部を境として外周側に位置する外周側領域の拡張を規制する前記拡張規制リングと、
前記拡張規制リングを前記外周側領域の拡張を規制する規制位置と、前記規制位置から退避した退避位置との間で進退移動させる拡張規制リング移動機構と、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、前記フレームの内径よりも大きい弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、前記拡張規制リング移動機構によって前記拡張規制リングを前記規制位置から前記退避位置に移動されるとともに、前記嵌合部が前記フレームの表面に嵌合することにより前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、
を備える、ワーク分割装置。
A work dividing device, wherein the outer periphery of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work adhered to the dicing tape is divided into individual chips along division lines. ,
An expand ring arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface on which the work is adhered, and formed into a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the work. The expander presses and expands an annular region of the dicing tape between the outer edge of the workpiece and the inner edge of the frame by moving in a direction relatively approaching the dicing tape. a ring;
An expansion restricting ring arranged on the same side of the dicing tape as the surface on which the workpiece is attached, and formed in a ring shape having an opening smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the expand ring, wherein the expansion restricting ring for restricting the expansion of an outer peripheral area located on the outer peripheral side of the contact portion in the annular portion area that is in contact with the expansion restricting ring;
an expansion restriction ring moving mechanism that advances and retracts the expansion restriction ring between a restriction position that restricts the expansion of the outer peripheral region and a retracted position retracted from the restriction position;
An expansion holding ring formed in a ring shape and having an elastically deformable fitting portion larger than an inner diameter of the frame, the expansion holding ring being disposed on the back side of the dicing tape opposite to the surface where the workpiece is attached, wherein the expansion holding ring An expansion holding ring for holding the expansion state of the dicing tape by moving the expansion regulation ring from the regulation position to the retracted position by a regulation ring moving mechanism and fitting the fitting portion onto the surface of the frame. When,
A workpiece dividing device.
前記規制位置は、前記フレームの前記ダイシングテープが貼付されたテープ貼付面と同一面上の第1規制位置である、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The regulating position is a first regulating position on the same surface as the tape attachment surface of the frame to which the dicing tape is attached.
The work dividing device according to claim 1.
前記規制位置は、前記フレームの前記ダイシングテープが貼付されたテープ貼付面よりも前記エキスパンドリングが配置される側の第2規制位置である、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The regulating position is a second regulating position on the side where the expanding ring is arranged with respect to the tape-attached surface of the frame to which the dicing tape is attached.
The work dividing device according to claim 1.
ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、前記ダイシングテープに貼付された前記ワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、
前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置されたエキスパンドリングを、前記ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、前記ダイシングテープのうち前記ワークの外縁部と前記フレームの内縁部との間の環状部領域を前記エキスパンドリングによって押圧して拡張する拡張工程と、
前記拡張工程が行われるとき、前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と同一側に配置された拡張規制リングと前記環状部領域とを規制位置にて当接させて、前記拡張規制リングに当接された当接部を境として外周側に位置する外周側領域の拡張を規制する拡張規制工程と、
前記拡張規制リングを前記規制位置から退避位置に移動させるとともに、前記ダイシングテープにおける前記ワークの貼付面と反対側の裏面側に配置された拡張保持リングを、前記ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、前記拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部を前記フレームの表面に嵌合させて前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、
を備えるワーク分割方法。
A work dividing method in which the outer periphery of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work adhered to the dicing tape is divided into individual chips along dividing lines. ,
By moving an expand ring arranged on the back surface side of the dicing tape opposite to the bonding surface of the work in a direction relatively approaching the dicing tape, the outer edge portion of the work on the dicing tape an expanding step of pressing and expanding the annular portion region between and the inner edge portion of the frame with the expanding ring;
When the expansion step is performed, an expansion restricting ring arranged on the same side of the dicing tape as the work adhering surface and the annular portion region are brought into contact with each other at a restricting position to abut against the expansion restricting ring. an expansion restricting step of restricting the expansion of the outer peripheral region located on the outer peripheral side with the contact portion as a boundary;
The expansion regulating ring is moved from the regulating position to the retracted position, and the expansion holding ring arranged on the back side of the dicing tape opposite to the surface where the work is adhered is moved relatively closer to the dicing tape. an expanded state holding step of holding the expanded state of the dicing tape by moving the elastically deformable fitting portion formed on the outer peripheral portion of the expansion holding ring in the direction to fit the surface of the frame;
A work division method comprising:
前記規制位置は、前記フレームの前記ダイシングテープが貼付されたテープ貼付面と同一面上の第1規制位置である、
請求項に記載のワーク分割方法。
The regulating position is a first regulating position on the same surface as the tape attachment surface of the frame to which the dicing tape is attached.
5. The work dividing method according to claim 4 .
前記規制位置は、前記フレームの前記ダイシングテープが貼付されたテープ貼付面よりも前記エキスパンドリングが配置される側の第2規制位置である、
請求項に記載のワーク分割方法。
The regulating position is a second regulating position on the side where the expanding ring is arranged with respect to the tape-attached surface of the frame to which the dicing tape is attached.
5. The work dividing method according to claim 4 .
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