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JP7564993B2 - Workpiece dividing device and workpiece dividing method - Google Patents
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Description

本発明は、ワーク分割装置及びワーク分割方法に係り、特に、半導体ウェーハ等のワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置及びワーク分割方法に関する。 The present invention relates to a workpiece dividing device and a workpiece dividing method, and in particular to a workpiece dividing device and a workpiece dividing method for dividing a workpiece such as a semiconductor wafer into individual chips along a planned division line.

従来、半導体チップ(以下、チップと言う。)の製造にあたり、ダイシングブレードによるハーフカット或いはレーザ照射による改質領域形成により予めその内部に分割予定ラインが形成された半導体ウェーハ(以下、ウェーハと言う。)を、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置が知られている(特許文献1等参照)。 Conventionally, in the manufacture of semiconductor chips (hereafter referred to as chips), a workpiece dividing device is known that divides a semiconductor wafer (hereafter referred to as wafer) into individual chips along the dividing lines, the wafer having dividing lines formed therein in advance by half-cutting with a dicing blade or forming modified regions by laser irradiation (see Patent Document 1, etc.).

図11は、ワーク分割装置によって分割される円盤状のウェーハ1が貼付されたウェーハユニット2の説明図であり、図11(A)はウェーハユニット2の斜視図、図11(B)はウェーハユニット2の縦断面図である。 Figure 11 is an explanatory diagram of a wafer unit 2 to which a disk-shaped wafer 1 to be divided by a workpiece dividing device is attached, with Figure 11(A) being a perspective view of the wafer unit 2 and Figure 11(B) being a vertical cross-sectional view of the wafer unit 2.

ウェーハ1は、片面に粘着層が形成された厚さ約100μmのダイシングテープ(拡張テープ又は粘着シートとも言う。)3の中央部に貼付され、ダイシングテープ3は、その外周部が剛性のあるリング状のフレーム4に固定されている。 The wafer 1 is attached to the center of a dicing tape (also called an expansion tape or adhesive sheet) 3 that is approximately 100 μm thick and has an adhesive layer formed on one side, and the dicing tape 3 is fixed at its outer periphery to a rigid ring-shaped frame 4.

ワーク分割装置では、ウェーハユニット2のフレーム4が、二点鎖線で示す固定部(フレーム固定機構とも言う。)7に当接されて固定される。この後、ウェーハユニット2の下方から二点鎖線で示すエキスパンドリング(突上げリングとも言う。)8が上昇移動され、このエキスパンドリング8によってダイシングテープ3が押圧されて放射状に拡張される。このときに生じるダイシングテープ3の張力が、ウェーハ1の分割予定ライン5に付与されることにより、ウェーハ1が個々のチップ6に分割される。 In the workpiece dividing device, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed by abutting it against a fixing part (also called a frame fixing mechanism) 7 shown by a two-dot chain line. After this, an expand ring (also called a push-up ring) 8 shown by a two-dot chain line is moved upward from below the wafer unit 2, and the dicing tape 3 is pressed by this expand ring 8 to expand radially. The tension of the dicing tape 3 generated at this time is applied to the planned dividing lines 5 of the wafer 1, dividing the wafer 1 into individual chips 6.

ここで、本願明細書において、ダイシングテープ3のうち、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の領域を中央部領域3Aと称し、中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間に備えられる平面視ドーナツ形状の領域を環状部領域3Bと称し、フレーム4に固定される最外周部分の平面視ドーナツ形状の領域を固定部領域3Cと称する。環状部領域3Bが、エキスパンドリング8に押圧されて拡張される領域である。 In this specification, the circular area of the dicing tape 3 to which the wafer 1 is attached is referred to as the central area 3A, the doughnut-shaped area between the outer edge of the central area 3A (the outer edge of the wafer 1) and the inner edge of the frame 4 is referred to as the annular area 3B, and the doughnut-shaped area of the outermost periphery fixed to the frame 4 is referred to as the fixed area 3C. The annular area 3B is the area that is expanded by being pressed against the expand ring 8.

ワーク分割装置おいて、ウェーハ1の分割に要する力は、すなわち、ウェーハ1を分割するために環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、分割予定ライン5の本数が多くなるに従って高くしなければならないことが知られている。分割予定ライン5の本数について、例えば、直径300mmのウェーハ1でチップサイズが5mmの場合には約120本(XY方向に各60本)の分割予定ライン5が形成され、チップサイズが1mmの場合は約600本の分割予定ライン5が形成される。よって、環状部領域3Bに発生させなければならない張力は、チップサイズが小さくなるに従って高くしなければならない。 It is known that in a workpiece dividing device, the force required to divide the wafer 1, i.e., the tension that must be generated in the annular region 3B to divide the wafer 1, must be higher as the number of planned dividing lines 5 increases. Regarding the number of planned dividing lines 5, for example, when the chip size is 5 mm on a wafer 1 with a diameter of 300 mm, approximately 120 planned dividing lines 5 (60 in each of the X and Y directions) are formed, and when the chip size is 1 mm, approximately 600 planned dividing lines 5 are formed. Therefore, the tension that must be generated in the annular region 3B must be higher as the chip size becomes smaller.

ところで、直径300mmのウェーハ1がマウントされるフレーム4の内径(フレームの内縁部の径)は、SEMI規格(G74-0699 300mmウェーハに関するテープフレームのための仕様)により350mmと定められている。この規格により、図12のウェーハユニット2の縦断面図の如く、ウェーハ1の外縁部とフレーム4の内縁部との間には、25mmの幅寸法を有する環状部領域3Bが存在することになる。また、図13(A)、(B)で示すワーク分割装置の要部縦断面図の如く、フレーム4を固定する固定部7は、エキスパンドリング8によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 The inner diameter (diameter of the inner edge of the frame) of the frame 4 on which the 300 mm diameter wafer 1 is mounted is set to 350 mm according to the SEMI standard (G74-0699 Specifications for Tape Frames for 300 mm Wafers). According to this standard, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 in FIG. 12, an annular region 3B with a width of 25 mm exists between the outer edge of the wafer 1 and the inner edge of the frame 4. Also, as shown in the vertical cross-sectional views of the main parts of the workpiece dividing device shown in FIGS. 13(A) and (B), the fixing part 7 that fixes the frame 4 is installed at a position spaced outward from the annular region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A so as not to come into contact with the annular region 3B expanded by the expand ring 8.

ここで、エキスパンドリング8の上昇動作によって生じるウェーハ1を分割する力は、(i)環状部領域3Bの全領域を拡張する力、(ii)ウェーハ1をチップ6に分割する力、(iii)隣接するチップ6とチップ6との間のダイシングテープ3を拡張する力の3つの力に分解される。 Here, the force that divides the wafer 1 generated by the upward movement of the expand ring 8 is decomposed into three forces: (i) a force that expands the entire area of the annular region 3B, (ii) a force that divides the wafer 1 into chips 6, and (iii) a force that expands the dicing tape 3 between adjacent chips 6.

図14(A)~(E)に示すワーク分割装置の動作図の如く、ダイシングテープ3の環状部領域3Bにエキスパンドリング8が当接し、エキスパンドリング8の上昇動作によってダイシングテープ3の拡張が始まると(図14(A))、まず最もバネ定数の低い環状部領域3Bの拡張が始まる(図14(B))。これにより、環状部領域3Bに張力が発生し、この張力がある程度高まると、高まった張力がウェーハ1に伝達されてウェーハ1のチップ6への分割が始まる(図14(C))。ウェーハ1が個々のチップ6に分割されると、環状部領域3Bの拡張とチップ6間のダイシングテープ3の拡張とが同時に進行する(図14(D)~(E))。 As shown in the operation diagram of the workpiece dividing device in Figures 14(A) to (E), when the expand ring 8 comes into contact with the annular region 3B of the dicing tape 3 and the dicing tape 3 begins to expand due to the rising movement of the expand ring 8 (Figure 14(A)), the annular region 3B, which has the lowest spring constant, begins to expand first (Figure 14(B)). This generates tension in the annular region 3B, and when this tension increases to a certain extent, the increased tension is transmitted to the wafer 1, and the division of the wafer 1 into chips 6 begins (Figure 14(C)). When the wafer 1 is divided into individual chips 6, the expansion of the annular region 3B and the expansion of the dicing tape 3 between the chips 6 proceed simultaneously (Figures 14(D) to (E)).

従来のワーク分割装置では、直径300mmのウェーハ1において、チップサイズが5mm以上の場合には、環状部領域3Bで発生した張力により、個々のチップ6に問題無く分割することができた。しかしながら、ウェーハ1に形成される回路パターンの微細化に伴いチップサイズがより小さい1mm以下のチップも現れてきた。この場合、ウェーハ1を分割する分割予定ライン5の本数が増大することに起因して、ウェーハ1の分割に要する力が大きくなり、環状部領域3Bの拡張による張力以上の力が必要となる場合があった。そうすると、図15のウェーハユニット2の縦断面図の如く、エキスパンドリング8による拡張動作が終了しても、ウェーハ1に形成された分割予定ライン5の一部が分割されずに未分割のまま残存するという問題が発生した。 In the conventional workpiece dividing device, when a wafer 1 having a diameter of 300 mm has a chip size of 5 mm or more, the tension generated in the annular region 3B can divide the wafer 1 into individual chips 6 without any problems. However, as the circuit patterns formed on the wafer 1 become finer, chips with smaller chip sizes of 1 mm or less have also appeared. In this case, the force required to divide the wafer 1 increases due to an increase in the number of division lines 5 that divide the wafer 1, and sometimes a force greater than the tension caused by the expansion of the annular region 3B is required. This causes a problem that, as shown in the vertical cross-sectional view of the wafer unit 2 in Figure 15, even after the expansion operation by the expand ring 8 is completed, some of the division lines 5 formed on the wafer 1 remain undivided.

このような分割予定ライン5の未分割の問題は、ダイシングテープ3の拡張量や拡張速度を増加させても解消することはできない。例えば、ダイシングテープ3の拡張量を増やした場合には、環状部領域3Bが塑性変形を始めてしまうからである。塑性変形中の環状部領域3Bのバネ定数は、弾性変形中のバネ定数よりも小さいことから、環状部領域3Bの弾性変形を超えた領域では、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。一方、ダイシングテープ3の拡張速度を増やした場合でも、環状部領域3Bの一部分が塑性変形を始めてしまうので、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する張力は発生しない。これはダイシングテープ3の周波数応答が低いため、ダイシングテープ3の全体に時間差なく力が伝達しないからである。 This problem of the planned division line 5 not being divided cannot be solved even if the expansion amount or expansion speed of the dicing tape 3 is increased. For example, if the expansion amount of the dicing tape 3 is increased, the annular region 3B begins to undergo plastic deformation. Since the spring constant of the annular region 3B during plastic deformation is smaller than the spring constant during elastic deformation, no tension is generated to divide the wafer 1 into individual chips 6 in the region of the annular region 3B that exceeds the elastic deformation. On the other hand, even if the expansion speed of the dicing tape 3 is increased, a part of the annular region 3B begins to undergo plastic deformation, so no tension is generated to divide the wafer 1 into individual chips 6. This is because the frequency response of the dicing tape 3 is low, and the force is not transmitted to the entire dicing tape 3 without time lag.

そこで、上記のような問題を解消する装置の一例として、冷気供給手段を備えたテープ拡張装置(ワーク分割装置)が特許文献2に開示されている。特許文献2によれば、冷気供給手段を作動して、処理空間内に冷気を供給し、処理空間内を例えば零下に冷却することにより、ダイシングテープを冷却している。 As an example of a device that solves the above problems, Patent Document 2 discloses a tape expansion device (workpiece dividing device) equipped with a cold air supplying means. According to Patent Document 2, the cold air supplying means is operated to supply cold air into the processing space, and the processing space is cooled to, for example, below zero, thereby cooling the dicing tape.

特許文献2の如く、ダイシングテープを冷却することで、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープを拡張することができる。これにより、図12に示した環状部領域3Bに発生する張力を、冷却しないダイシングテープと比較して高くすることができるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となる。 As in Patent Document 2, by cooling the dicing tape, the dicing tape can be expanded with a larger spring constant. This makes it possible to increase the tension generated in the annular region 3B shown in FIG. 12 compared to a dicing tape that is not cooled, making it possible to separate even small chips into individual chips.

一方、ワーク分割装置の分野では、エキスパンドリングによって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持することにより、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下を防止することも要求される。 On the other hand, in the field of workpiece dividing devices, it is also required to prevent deterioration of chip quality caused by contact between chips after division by maintaining the expanded state of the dicing tape expanded by the expanding ring.

この要求を満足するワーク分割装置として、サブリングを備えたワーク分割装置が特許文献3に開示されている。特許文献3のサブリングは、エキスパンドリングによって拡張されたダイシングテープを拡張した状態で保持する機能を有し、フレームの内径よりも大径に構成されている。サブリングは、ダイシングテープの裏面側からダイシングテープに向けて上昇される。そして、サブリングがフレームを通過した直後に、サブリングの外周部に設けられた嵌合部(リップとも言う。)が、ダイシングテープの外周部とフレームの表面との間に挿入される。これにより、エキスパンドリングによるダイシングテープの拡張が終了しても、ダイシングテープの拡張状態が保持される。このようにダイシングテープの拡張状態を保持すれば、ダイシングテープの弛みを阻止することができるので、チップ同士の接触に起因するチップの品質低下を防止することができる。 As a work division device that satisfies this requirement, a work division device equipped with a sub-ring is disclosed in Patent Document 3. The sub-ring of Patent Document 3 has the function of holding the dicing tape expanded by the expand ring in an expanded state, and is configured to have a diameter larger than the inner diameter of the frame. The sub-ring is raised toward the dicing tape from the back side of the dicing tape. Then, immediately after the sub-ring passes through the frame, a fitting portion (also called a lip) provided on the outer periphery of the sub-ring is inserted between the outer periphery of the dicing tape and the surface of the frame. As a result, the expanded state of the dicing tape is maintained even after the expansion of the dicing tape by the expand ring is completed. By maintaining the expanded state of the dicing tape in this way, it is possible to prevent the dicing tape from loosening, and therefore it is possible to prevent deterioration of the quality of the chips caused by contact between the chips.

特開2016-149581号公報JP 2016-149581 A 特開2016-12585号公報JP 2016-12585 A 特開2013-51368号公報JP 2013-51368 A

しかしながら、特許文献1、2のワーク分割装置では、特許文献3のようなサブリングを備えていないため、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を招くおそれがある。 However, the workpiece dividing devices in Patent Documents 1 and 2 do not have a sub-ring like the one in Patent Document 3, which may lead to problems with reduced chip quality due to contact between the chips after division.

一方、ダイシングテープを冷気によって冷却する特許文献2のワーク分割装置に、特許文献3のサブリングを搭載した場合、サブリングの樹脂製の嵌合部が低温環境により硬化して脆性化するという問題が発生する。この問題により、サブリングの嵌合部が、ダイシングテープの外周部とフレームの表面との間に挿入される際に、嵌合部が破損するという虞がある。よって、特許文献2のワーク分割装置に、特許文献3のサブリングを搭載することは困難である。 On the other hand, if the sub-ring of Patent Document 3 is mounted on the work division device of Patent Document 2, which cools the dicing tape with cold air, a problem occurs in which the resin fitting portion of the sub-ring hardens and becomes brittle in the low-temperature environment. This problem raises the risk of the fitting portion of the sub-ring being damaged when it is inserted between the outer periphery of the dicing tape and the surface of the frame. Therefore, it is difficult to mount the sub-ring of Patent Document 3 on the work division device of Patent Document 2.

このように従来のワーク分割装置には、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割の問題を解消しつつ、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を解消することができるものはなく、そのような装置を実現することが望まれていた。 As such, there is no conventional workpiece dividing device that can solve the problem of not dividing the intended dividing line that occurs when the chip size is small, while also solving the problem of reduced chip quality caused by chips coming into contact with each other after division, and there has been a demand for the realization of such a device.

本発明はこのような問題に鑑みて成されたものであり、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができるワーク分割装置及びワーク分割方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in consideration of these problems, and aims to provide a work division device and a work division method that can simultaneously solve the problem of non-division of the planned division line that occurs when the chip size is small, and the problem of reduced chip quality caused by contact between chips after division.

本発明のワーク分割装置は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも小さく、かつワークの外径よりも大きい開口部を有するリング状に形成されたエキスパンドリングであって、ダイシングテープに対し相対的に近づく方向に移動されることによりダイシングテープを押圧して拡張するエキスパンドリングと、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレームの内径よりも大きい弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、エキスパンドリングによってダイシングテープが拡張された状態で、嵌合部がフレームの表面に嵌合されることにより、ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、エキスパンドリング及び拡張保持リングを含む空間を冷却する冷却部と、拡張保持リングの嵌合部がフレームの表面に嵌合する前に、冷却部により冷却された嵌合部を加温する加温部と、を備える。 In order to achieve the object of the present invention, the work division device of the present invention is a work division device in which the outer periphery of a dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the work, and the work attached to the dicing tape is divided into individual chips along the planned division lines. The work division device is arranged on the back side of the dicing tape opposite the surface on which the work is attached, and is formed in a ring shape with an opening smaller than the inner diameter of the frame and larger than the outer diameter of the work. The expand ring is moved in a direction approaching the dicing tape relatively to press the dicing tape to expand it. The expansion retaining ring is arranged on the back side of the dicing tape opposite the work attachment surface and is formed in a ring shape with an elastically deformable fitting portion larger than the inner diameter of the frame. When the dicing tape is in a state where it is expanded by the expansion ring, the fitting portion fits onto the surface of the frame, thereby maintaining the expanded state of the dicing tape. The expansion retaining ring is provided with a cooling portion that cools the space including the expansion ring and the expansion retaining ring, and a heating portion that heats the fitting portion cooled by the cooling portion before the fitting portion of the expansion retaining ring fits onto the surface of the frame.

本発明のワーク分割装置によれば、冷却部の冷気によってダイシングテープを冷却し、ダイシングテープのバネ定数を大きくした状態でダイシングテープをエキスパンドリングによって拡張する。これにより、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することができる。このとき、拡張保持リングの嵌合部は、冷気によって冷却されて弾性状態から脆化状態に性状が変化しているので、この嵌合部をフレームの表面に嵌合させる前に、嵌合部を加温部によって加温する。これにより、嵌合部は、脆化状態から弾性状態に回復され、この後、フレームの表面に嵌合されてダイシングテープの拡張状態を保持する。 According to the workpiece dividing device of the present invention, the dicing tape is cooled by cold air from the cooling section, and the dicing tape is expanded by the expanding ring while the spring constant of the dicing tape is increased. As a result, the workpiece dividing device of the present invention can divide even small chips into individual chips. At this time, the fitting portion of the expansion retaining ring is cooled by the cold air and its properties change from an elastic state to a brittle state, so before this fitting portion is fitted to the surface of the frame, the fitting portion is heated by the heating section. As a result, the fitting portion is restored from a brittle state to an elastic state, and is then fitted to the surface of the frame to maintain the expanded state of the dicing tape.

以上の如く、本発明のワーク分割装置によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 As described above, the workpiece dividing device of the present invention can simultaneously solve the problem of non-division of the dividing line that occurs when the chip size is small, and the problem of reduced chip quality caused by contact between chips after division.

本発明のワーク分割装置の一態様は、冷却部は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を空間に供給し、加温部は、冷気の温度を超える温度で嵌合部を加温して、嵌合部を弾性化することが好ましい。これにより、ダイシングテープは冷気によってバネ定数が大きくなり、また、嵌合部は脆化状態から弾性状態に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing device of the present invention, the cooling unit preferably supplies cold air to the space at a temperature at which the dicing tape becomes brittle, and the heating unit preferably heats the mating portion to a temperature that exceeds the temperature of the cold air, thereby making the mating portion elastic. As a result, the spring constant of the dicing tape increases due to the cold air, and the mating portion recovers from a brittle state to an elastic state.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温部は、嵌合部に常温を超えた熱を供給する熱供給部であることが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing device of the present invention, the heating section is preferably a heat supply section that supplies heat above room temperature to the fitting section. This ensures that the fitting section recovers from a brittle state to an elastic state.

本発明のワーク分割装置の一態様は、加温部は、嵌合部に常温エアを供給するエア供給部であることが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing device of the present invention, the heating section is preferably an air supply section that supplies room temperature air to the fitting section. This ensures that the fitting section recovers from a brittle state to an elastic state.

本発明のワーク分割方法は、本発明の目的を達成するために、ワークの外径よりも大きい内径を有するリング状のフレームにダイシングテープの外周部が固定され、ダイシングテープに貼付されたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、ダイシングテープを冷気により冷却する冷却工程と、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置されたエキスパンドリングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、ダイシングテープのうちワークの外縁部とフレームの内縁部との間の環状部領域をエキスパンドリングによって押圧して、ダイシングテープを拡張する拡張工程と、ダイシングテープにおけるワークの貼付面と反対側の裏面側に配置された拡張保持リングであって、拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部を加温する加温工程と、拡張保持リングを、ダイシングテープに対して相対的に近づく方向に移動させることにより、加温された嵌合部をフレームの表面に嵌合させて、拡張工程によって拡張されたダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、を備える。 In order to achieve the object of the present invention, the workpiece dividing method of the present invention, in which the outer periphery of the dicing tape is fixed to a ring-shaped frame having an inner diameter larger than the outer diameter of the workpiece, and the workpiece attached to the dicing tape is divided into individual chips along a planned division line, includes a cooling step of cooling the dicing tape with cold air, an expansion step of expanding the dicing tape by moving an expansion ring arranged on the back side of the dicing tape opposite the workpiece attachment surface in a direction relatively closer to the dicing tape, thereby pressing the annular area of the dicing tape between the outer edge of the workpiece and the inner edge of the frame with the expansion ring, a heating step of heating an elastically deformable fitting portion formed on the outer periphery of the expansion retaining ring arranged on the back side of the dicing tape opposite the workpiece attachment surface, and an expansion state maintaining step of maintaining the expanded state of the dicing tape expanded by the expansion step by moving the expansion retaining ring in a direction relatively closer to the dicing tape, thereby fitting the heated fitting portion to the surface of the frame.

本発明のワーク分割方法によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 The workpiece division method of the present invention can simultaneously solve the problem of non-division of the planned division line that occurs when the chip size is small, and the problem of reduced chip quality caused by contact between chips after division.

本発明のワーク分割方法の一態様は、冷却工程は、ダイシングテープが脆性化する温度の冷気をダイシングテープに供給し、加温工程は、冷気の温度を超える温度で嵌合部を加温して、嵌合部を弾性化することが好ましい。これにより、ダイシングテープは冷気によってバネ定数が大きくなり、また、嵌合部は脆化状態から弾性状態に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing method of the present invention, the cooling step preferably supplies the dicing tape with cold air at a temperature at which the dicing tape becomes brittle, and the heating step preferably heats the mating portion at a temperature higher than the temperature of the cold air to make the mating portion elastic. This increases the spring constant of the dicing tape due to the cold air, and the mating portion recovers from a brittle state to an elastic state.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、嵌合部に常温を超えた熱を供給することが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing method of the present invention, the heating step preferably supplies heat above room temperature to the fitting portion. This ensures that the fitting portion recovers from its brittle state to its elastic state.

本発明のワーク分割方法の一態様は、加温工程は、嵌合部に常温エアを供給することが好ましい。これにより、嵌合部は脆化状態から弾性状態に確実に回復する。 In one aspect of the workpiece dividing method of the present invention, the heating step preferably involves supplying room temperature air to the mating portion. This ensures that the mating portion recovers from its brittle state to its elastic state.

本発明によれば、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 The present invention can simultaneously solve the problem of non-division of planned division lines that occurs when the chip size is small, and the problem of deterioration of chip quality due to contact between chips after division.

実施形態のワーク分割装置の分割ステージの要部構造図A structural diagram of a main part of a dividing stage of a workpiece dividing device according to an embodiment. 図1に示した分割ステージの要部拡大斜視図FIG. 2 is an enlarged perspective view of a main part of the split stage shown in FIG. 拡張途中の環状部領域の形状を示したウェーハユニットの要部縦断面図FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a main portion of a wafer unit showing the shape of an annular region during expansion. 拡張保持リングによるダイシングテープの拡張状態を示した縦断面図A vertical cross-sectional view showing the expansion of the dicing tape by the expansion retaining ring. 図4の要部拡大断面図FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main portion of FIG. ワーク分割装置の制御系を示したブロック図Block diagram showing the control system of the workpiece separation device ウェーハ分割方法の一例を示したフローチャート1 is a flowchart showing an example of a wafer dividing method. ワーク分割装置の動作説明図Explanation of the operation of the workpiece dividing device ワーク分割装置の動作説明図Explanation of the operation of the workpiece dividing device 加温部として常温エアを供給するエア供給部が適用された説明図An explanatory diagram in which an air supply unit that supplies room temperature air is used as a heating unit. ウェーハが貼付されたウェーハユニットの説明図An explanatory diagram of a wafer unit with a wafer attached ウェーハユニットの縦断面図Vertical cross-sectional view of the wafer unit ワーク分割装置の要部側面図Side view of the main part of the workpiece dividing device ワーク分割装置の動作図Operation diagram of workpiece dividing device ウェーハが分割されたウェーハユニットの縦断面図A longitudinal sectional view of a wafer unit into which wafers are separated.

以下、添付図面に従って本発明に係るワーク分割装置及びワーク分割方法の好ましい実施形態について詳説する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲であれば、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。 Below, preferred embodiments of the workpiece dividing device and workpiece dividing method according to the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications and substitutions can be made to the following embodiments within the scope of the present invention.

図1は、実施形態に係るワーク分割装置10に備えられた分割ステージの要部縦断面図であり、図2は、分割ステージの要部拡大斜視図である。なお、ワーク分割装置10によって分割処理されるウェーハユニットのサイズは限定されるものではないが、実施形態では、図12に示した直径300mmのウェーハ1がマウントされたウェーハユニット2を例示する。 Figure 1 is a vertical cross-sectional view of the main part of a dividing stage provided in a work dividing device 10 according to an embodiment, and Figure 2 is an enlarged perspective view of the main part of the dividing stage. Note that the size of the wafer unit divided by the work dividing device 10 is not limited, but in the embodiment, a wafer unit 2 on which a wafer 1 with a diameter of 300 mm is mounted is shown as an example, as shown in Figure 12.

図2の如く、ワーク分割装置10は、分割予定ライン5が形成されたウェーハ1を分割予定ライン5に沿って個々のチップ6に分割する装置である。分割予定ライン5は、互いに直交するX方向及びY方向に複数本形成される。実施形態では、X方向と平行な分割予定ライン5の本数と、Y方向と平行な分割予定ライン5の本数とがそれぞれ300本でそれぞれの間隔が等しいウェーハ1、すなわち、チップサイズが1mmのチップ6に分割されるウェーハ1を例示する。 As shown in FIG. 2, the workpiece dividing device 10 is a device that divides a wafer 1 on which planned dividing lines 5 are formed into individual chips 6 along the planned dividing lines 5. A plurality of planned dividing lines 5 are formed in the X direction and the Y direction which are perpendicular to each other. In the embodiment, a wafer 1 having 300 planned dividing lines 5 parallel to the X direction and 300 planned dividing lines 5 parallel to the Y direction, each spaced equally apart, i.e., a wafer 1 to be divided into chips 6 with a chip size of 1 mm, is illustrated.

ウェーハ1は図1、図2の如く、フレーム4に外周部が固定されたダイシングテープ3の中央部に貼付される。ダイシングテープ3は、ウェーハ1が貼付される平面視円形状の中央部領域3A、及び中央部領域3Aの外縁部(ウェーハ1の外縁部)とフレーム4の内縁部との間の平面視ドーナツ形状の環状部領域3Bを有する。 As shown in Figures 1 and 2, the wafer 1 is attached to the center of a dicing tape 3 whose outer periphery is fixed to a frame 4. The dicing tape 3 has a central region 3A that is circular in plan view to which the wafer 1 is attached, and an annular region 3B that is doughnut-shaped in plan view between the outer edge of the central region 3A (the outer edge of the wafer 1) and the inner edge of the frame 4.

ウェーハ1の厚さは、例えば50μm程度である。また、ダイシングテープ3としては、例えばPVC(polyvinyl chloride:ポリ塩化ビニール)系のテープが使用される。なお、ウェーハ1をDAF(Die Attach Film)等のフィルム状接着材を介してダイシングテープ3に貼付してもよい。フィルム状接着材としては、例えばPO(polyolefin:ポリオレフィン)系のものを使用することができる。 The thickness of the wafer 1 is, for example, about 50 μm. The dicing tape 3 is, for example, a PVC (polyvinyl chloride) tape. The wafer 1 may be attached to the dicing tape 3 via a film-like adhesive such as DAF (Die Attach Film). The film-like adhesive may be, for example, a PO (polyolefin)-based adhesive.

ワーク分割装置10は、フレーム4を固定する固定部7(図13、図14参照)と、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに下方側から当接されてダイシングテープ3を押圧して拡張するエキスパンドリング14と、エキスパンドリング14によって拡張されたダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング(サブリングとも言う。)18と、を有する。 The workpiece dividing device 10 has a fixing part 7 (see Figures 13 and 14) that fixes the frame 4, an expansion ring 14 that abuts against the annular region 3B of the dicing tape 3 from below and presses and expands the dicing tape 3, and an expansion retaining ring (also called a sub-ring) 18 that retains the expanded state of the dicing tape 3 expanded by the expansion ring 14.

また、図1の如く、ワーク分割装置10は、固定部7、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を囲繞する冷却室16を備える。更に、ワーク分割装置10は、冷却室16に零下の冷気20を供給するノズル22を備えた冷気供給部24と、拡張保持リング18の嵌合部26がフレーム4の表面4Aに嵌合する前に、冷気20によって冷却された嵌合部26を加温する加温部であるハロゲンランプ28と、を備える。このハロゲンランプ28も冷却室16に囲繞されている。また、冷却室16と冷気供給部24によって冷却部が構成される。そして、エキスパンドリング14及び拡張保持リング18を含む空間である冷却室16の室内空間17に冷気20が供給される。 As shown in FIG. 1, the work division device 10 includes a cooling chamber 16 that surrounds the fixing portion 7, the expand ring 14, and the expansion retaining ring 18. The work division device 10 further includes a cold air supply unit 24 having a nozzle 22 that supplies subzero cold air 20 to the cooling chamber 16, and a halogen lamp 28 that is a heating unit that heats the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18 that has been cooled by the cold air 20 before the fitting portion 26 is fitted to the surface 4A of the frame 4. The halogen lamp 28 is also surrounded by the cooling chamber 16. The cooling unit is composed of the cooling chamber 16 and the cold air supply unit 24. Cold air 20 is supplied to the interior space 17 of the cooling chamber 16, which is the space that includes the expand ring 14 and the expansion retaining ring 18.

固定部7は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と同一側に配置され、その下面7Aにフレーム4が着脱自在に固定される。また、固定部7は、エキスパンドリング14によって拡張される環状部領域3Bに接触しないように、矢印Aで示すダイシングテープ3の面内方向において環状部領域3Bから外方に離間した位置に設置されている。 The fixing part 7 is disposed on the same side of the dicing tape 3 as the attachment surface of the wafer 1, and the frame 4 is detachably fixed to its underside 7A. The fixing part 7 is also disposed at a position spaced outward from the annular region 3B in the in-plane direction of the dicing tape 3 indicated by the arrow A so as not to come into contact with the annular region 3B expanded by the expand ring 14.

図2の如く、固定部7の形状は、フレーム4の内径(350mm)よりも大きい、例えば直径361mmの開口部7Bを有するリング状であるが、その形状は特に限定されるものではない。固定部7としては、例えば、開口部7Bを有する矩形状の板状材を例示することもでき、フレーム4の外周に沿って所定の間隔で配置された複数の固定部材からなる固定部を例示することもできる。これらの固定部材の内接円が、開口部7Bの直径と等しく設定される。 As shown in FIG. 2, the shape of the fixing part 7 is a ring having an opening 7B with a diameter of, for example, 361 mm, which is larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4, but the shape is not particularly limited. The fixing part 7 can be, for example, a rectangular plate material having an opening 7B, or a fixing part consisting of multiple fixing members arranged at a predetermined interval along the outer periphery of the frame 4. The inscribed circles of these fixing members are set equal to the diameter of the opening 7B.

エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置され、フレーム4の内径(350mm)よりも小さく、かつウェーハ1の外径(300mm)よりも大きい拡張用開口部(開口部)14Aを有するリング状に形成される。エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動自在に配置される。具体的には、エキスパンドリング14は、ダイシングテープ3の環状部領域3Bの裏面を押圧して環状部領域3Bを拡張する拡張位置(図1の二点鎖線で示す位置)と、拡張位置から下方に退避した退避位置(図1の実線で示す位置)との間で上下方向に移動自在に配置される。 The expand ring 14 is disposed on the back side of the dicing tape 3 opposite to the attachment surface of the wafer 1, and is formed in a ring shape with an expansion opening (opening) 14A that is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and larger than the outer diameter (300 mm) of the wafer 1. The expand ring 14 is disposed so as to be movable in a direction approaching the dicing tape 3 relatively. Specifically, the expand ring 14 is disposed so as to be movable in the vertical direction between an expansion position (position shown by the two-dot chain line in FIG. 1) where the expand ring 14 presses the back side of the annular region 3B of the dicing tape 3 to expand the annular region 3B, and a retracted position (position shown by the solid line in FIG. 1) where the expand ring 14 is retracted downward from the expansion position.

また、ワーク分割装置10には、エキスパンドリング14を拡張位置と退避位置との間で上下移動させるエキスパンドリング移動機構30が備えられている。エキスパンドリング移動機構30の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。退避位置に位置されているエキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって拡張位置に向けて移動させると、エキスパンドリング14は、環状部領域3Bに向けて矢印B方向に上昇移動される。これによって、環状部領域3Bの裏面がエキスパンドリング14に押圧されて放射状に拡張される。なお、エキスパンドリング14を固定して、ウェーハユニット2を矢印C方向に下降移動させることにより、環状部領域3Bをエキスパンドリング14によって押圧してもよい。 The workpiece dividing device 10 is also provided with an expand ring moving mechanism 30 that moves the expand ring 14 up and down between the expanded position and the retracted position. A feed screw device is shown as an example of the expand ring moving mechanism 30, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead. When the expand ring 14 located in the retracted position is moved toward the expanded position by the expand ring moving mechanism 30, the expand ring 14 is moved upward in the direction of arrow B toward the annular region 3B. As a result, the back surface of the annular region 3B is pressed against the expand ring 14 and radially expanded. Note that the expand ring 14 may be fixed and the wafer unit 2 moved downward in the direction of arrow C to press the annular region 3B with the expand ring 14.

図3は、エキスパンドリング14によって拡張途中の環状部領域3Bの形状を示したウェーハユニット2の要部縦断面図である。後述するが、エキスパンドリング14による環状部領域3Bの拡張に先立って、ノズル22から冷却室16の室内空間17に供給された、例えば-20~-40℃の冷気20によって室内空間17が冷却される。これにより、ダイシングテープ3が脆性化されてダイシングテープ3のバネ定数が常温時と比較して大きくなっている。この状態でダイシングテープ3の環状部領域3Bがエキスパンドリング14によって拡張されるので、チップサイズが小チップの場合でも個々のチップに分割することが可能となっている。冷気20によって冷却された環状部領域3Bの温度は、不図示の放射温度計にて計測してもよい。また、冷気20の温度と冷気20の供給時間とに基づいた環状部領域3Bの温度変化データを予め実測しておき、この温度変化データに基づいて冷気20の供給時間を制御してもよい。 Figure 3 is a longitudinal cross-sectional view of the main part of the wafer unit 2, showing the shape of the annular region 3B in the middle of being expanded by the expand ring 14. As will be described later, prior to the expansion of the annular region 3B by the expand ring 14, the interior space 17 of the cooling chamber 16 is cooled by cold air 20, for example, at -20 to -40°C, supplied from the nozzle 22 to the interior space 17. As a result, the dicing tape 3 is made brittle and the spring constant of the dicing tape 3 is made larger than that at room temperature. In this state, the annular region 3B of the dicing tape 3 is expanded by the expand ring 14, so that even if the chip size is small, it is possible to divide it into individual chips. The temperature of the annular region 3B cooled by the cold air 20 may be measured by a radiation thermometer (not shown). In addition, the temperature change data of the annular region 3B based on the temperature of the cold air 20 and the supply time of the cold air 20 may be actually measured in advance, and the supply time of the cold air 20 may be controlled based on this temperature change data.

図1に示すノズル22は、冷却室16の室内において、ダイシングテープ3の環状部領域3Bに向けて配置されている。これにより、環状部領域3Bが冷気20によって効率よく冷却される。また、冷気供給部24は、吸引した外気を零下に冷却する熱交換器を備えており、熱交換器によって冷却された冷気20が配管25を介してノズル22に供給される。なお、図1では、冷気供給部24を冷却室16の室外に配置しているが、冷却室16の室内に配置してもよい。この場合、冷気供給部24は、室内空間17の冷却された室内エアを冷却するので、熱交換器にかかる負荷を小さくすることができる。 The nozzle 22 shown in FIG. 1 is disposed inside the cooling chamber 16, facing the annular region 3B of the dicing tape 3. This allows the annular region 3B to be efficiently cooled by the cold air 20. The cold air supply unit 24 also includes a heat exchanger that cools the sucked outside air to below zero, and the cold air 20 cooled by the heat exchanger is supplied to the nozzle 22 via the piping 25. Note that while the cold air supply unit 24 is disposed outside the cooling chamber 16 in FIG. 1, it may also be disposed inside the cooling chamber 16. In this case, the cold air supply unit 24 cools the cooled indoor air in the indoor space 17, thereby reducing the load on the heat exchanger.

図1の如く、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する拡張保持リング18は、ダイシングテープ3におけるウェーハ1の貼付面と反対側の裏面側に配置される。また、拡張保持リング18は、外径がフレーム4の内径(350mm)よりも小さく、内径がエキスパンドリング14の外径よりも大きい本体リング32と、本体リング32の外周部に装着されて、外径(351.3mm)がフレーム4の内径(350mm)よりも大きい弾性変形可能なリング状の嵌合部26と、を有する。嵌合部26の材質として、零下の環境下で脆性化するPP(polypropylene:ポリプロピレン)を例示する。なお、嵌合部26の材質は、PPに限定されるものではないが、少なくとも零下では脆性化し、常温環境下では弾性を備える材質であることが好ましい。 1, the expansion retaining ring 18 that retains the expanded state of the dicing tape 3 is disposed on the back side of the dicing tape 3 opposite to the surface to which the wafer 1 is attached. The expansion retaining ring 18 has a main ring 32 whose outer diameter is smaller than the inner diameter (350 mm) of the frame 4 and whose inner diameter is larger than the outer diameter of the expand ring 14, and an elastically deformable ring-shaped fitting portion 26 that is attached to the outer periphery of the main ring 32 and whose outer diameter (351.3 mm) is larger than the inner diameter (350 mm) of the frame 4. PP (polypropylene), which becomes brittle in a sub-zero environment, is exemplified as a material for the fitting portion 26. The material for the fitting portion 26 is not limited to PP, but is preferably a material that becomes brittle at least below zero and has elasticity in a room temperature environment.

図1の如く、嵌合部26を加温するハロゲンランプ28は、実線で示す待機位置に位置している拡張保持リング18の嵌合部26を包囲するように配置される。このハロゲンランプ28は、図2の如くリング状に構成されたものであるが、形状はリング状に限定されるものではない。例えば、棒状のハロゲンランプを用いてもよい。この場合、複数本の棒状のハロゲンランプによって嵌合部26を包囲すればよい。 As shown in FIG. 1, the halogen lamp 28 that heats the fitting portion 26 is positioned so as to surround the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18, which is positioned in the standby position shown by the solid line. The halogen lamp 28 is configured in a ring shape as shown in FIG. 2, but the shape is not limited to a ring shape. For example, a rod-shaped halogen lamp may be used. In this case, the fitting portion 26 may be surrounded by multiple rod-shaped halogen lamps.

ハロゲンランプ28は、ハロゲンランプ電源34から供給される電力によって点灯し放熱する。また、ハロゲンランプ28の外側には、リフレクタ36がハロゲンランプ28に近接して配置される。これにより、嵌合部26は、ハロゲンランプ28からの直射熱とリフレクタ36で反射された反射熱とによって常温を超えた温度に加温される。拡張保持リング18は、嵌合部26の温度が常温を超えた温度、例えば20℃を超えた温度に昇温された後に待機位置から上昇され、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する。なお、ハロゲンランプ28によって加温された嵌合部26の温度は、不図示の放射温度計にて計測してもよい。また、ハロゲンランプ28の点灯時間に基づいた嵌合部26の温度変化データを予め実測しておき、その温度変化データに基づいてハロゲンランプ28の点灯時間を制御してもよい。 The halogen lamp 28 is lit by power supplied from the halogen lamp power supply 34 and dissipates heat. In addition, a reflector 36 is arranged close to the halogen lamp 28 on the outside of the halogen lamp 28. As a result, the fitting portion 26 is heated to a temperature above room temperature by direct heat from the halogen lamp 28 and reflected heat reflected by the reflector 36. The expansion retaining ring 18 is raised from the standby position after the temperature of the fitting portion 26 is raised to a temperature above room temperature, for example, a temperature above 20°C, and maintains the expanded state of the dicing tape 3. The temperature of the fitting portion 26 heated by the halogen lamp 28 may be measured by a radiation thermometer (not shown). In addition, the temperature change data of the fitting portion 26 based on the lighting time of the halogen lamp 28 may be actually measured in advance, and the lighting time of the halogen lamp 28 may be controlled based on the temperature change data.

図4は、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態が保持された縦断面図である。図5は、図4の要部拡大断面図である。 Figure 4 is a vertical cross-sectional view of the dicing tape 3 in an expanded state maintained by the expansion retaining ring 18. Figure 5 is an enlarged cross-sectional view of a main portion of Figure 4.

図4、図5の如く、拡張保持リング18の嵌合部26は、実線で示す嵌合位置でフレーム4の表面4Aにダイシングテープ3の環状部領域3Bを介して嵌合する。これにより、ダイシングテープ3の拡張状態が拡張保持リング18によって保持される。 As shown in Figures 4 and 5, the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18 fits onto the surface 4A of the frame 4 through the annular region 3B of the dicing tape 3 at the fitting position shown by the solid line. This allows the expansion state of the dicing tape 3 to be maintained by the expansion retaining ring 18.

拡張保持リング18は、拡張保持前においては、図4、図5の実線で示す嵌合位置から下方の待機位置(図1の実線で示す位置)に配置されており、拡張保持時に待機位置から嵌合位置に拡張保持リング移動機構38によって上昇移動される。拡張保持リング移動機構38の一例として、送りネジ装置を例示するが、これに代えてエアシリンダ装置等のアクチュエータを使用することもできる。 Before expansion and retention, the expansion retaining ring 18 is disposed in a standby position (position shown by a solid line in FIG. 1) below the engagement position shown by the solid lines in FIG. 4 and FIG. 5, and is moved upward from the standby position to the engagement position by the expansion retaining ring moving mechanism 38 during expansion and retention. A feed screw device is shown as an example of the expansion retaining ring moving mechanism 38, but an actuator such as an air cylinder device can be used instead.

拡張保持リング移動機構38によって拡張保持リング18が上昇されると、ハロゲンランプ28によって常温を超えた温度に加温された嵌合部26が、フレーム4の下面に当接する。このとき、嵌合部26は脆性状態から弾性状態に回復しているので、継続する拡張保持リング18の上昇移動により、フレーム4の内周面に押されて弾性変形しながら上昇する。そして、嵌合部26が、フレーム4の内周面を通過した位置で拡張保持リング18の上昇が停止される。これによって、弾性状態に回復された嵌合部26が図4、図5の如く嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合される。なお、拡張保持リング18を固定して、ダイシングテープ3側を拡張保持リング18に近づける方向に移動させてもよい。すなわち、嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させる場合には、拡張保持リング18をダイシングテープ3に対して相対的に近づく方向に移動させればよい。 When the expansion retaining ring 18 is raised by the expansion retaining ring moving mechanism 38, the fitting portion 26, which has been heated by the halogen lamp 28 to a temperature above room temperature, comes into contact with the lower surface of the frame 4. At this time, the fitting portion 26 has recovered from a brittle state to an elastic state, so that it rises while being elastically deformed as it is pushed by the inner peripheral surface of the frame 4 due to the continued upward movement of the expansion retaining ring 18. Then, the rise of the expansion retaining ring 18 is stopped at the position where the fitting portion 26 has passed the inner peripheral surface of the frame 4. As a result, the fitting portion 26, which has been restored to an elastic state, is fitted to the surface 4A of the frame 4 at the fitting position as shown in Figures 4 and 5. Note that the expansion retaining ring 18 may be fixed and the dicing tape 3 side may be moved in a direction approaching the expansion retaining ring 18. In other words, when fitting the fitting portion 26 to the surface 4A of the frame 4, the expansion retaining ring 18 may be moved in a direction approaching the dicing tape 3 relatively.

エキスパンドリング14を駆動するエキスパンドリング移動機構30、拡張保持リング18を駆動する拡張保持リング移動機構38、冷気供給部24、及びハロゲンランプ電源34は、図6の制御系のブロック図の如く、ワーク分割装置10を統括制御する制御部40によって、その動作が制御されている。 The operation of the expand ring moving mechanism 30 that drives the expand ring 14, the expansion retaining ring moving mechanism 38 that drives the expansion retaining ring 18, the cold air supply unit 24, and the halogen lamp power supply 34 is controlled by the control unit 40 that overall controls the work division device 10, as shown in the block diagram of the control system in Figure 6.

次に、図7のフローチャート、図8(A)~(D)及び図9(A)~(D)に示すワーク分割装置10の動作説明図に従って、ワーク分割方法を具体的に説明する。 Next, the work division method will be specifically explained according to the flowchart in FIG. 7 and the operation explanatory diagrams of the work division device 10 shown in FIGS. 8(A)-(D) and 9(A)-(D).

まず、図7のステップS100の配置工程において、図8(A)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に配置させ、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置に配置させる。 First, in the placement process of step S100 in FIG. 7, as shown in FIG. 8(A), the expand ring 14 is placed in the retracted position by the expand ring moving mechanism 30, and the expansion retaining ring 18 is placed in the standby position by the expansion retaining ring moving mechanism 38.

次に、図7のステップS110の固定工程において、図8(B)の如く、ウェーハユニット2のフレーム4を固定部7に固定する。 Next, in the fixing process of step S110 in FIG. 7, the frame 4 of the wafer unit 2 is fixed to the fixing portion 7 as shown in FIG. 8 (B).

次に、図7のステップS130の冷気冷却工程において、図8(C)の如く、ノズル22から冷気20を冷却室16の室内空間17(図1参照)に供給し、ダイシングテープ3の環状部領域3Bを零下(例えば-20~-40℃)に冷却する。これにより、ダイシングテープ3の環状部領域3Bが脆性化される。なお、冷気20の温度は、零下に限定されるものではなく、ダイシングテープ3が脆性化する温度以下であればよい。 Next, in the cold air cooling process of step S130 in FIG. 7, as shown in FIG. 8(C), cold air 20 is supplied from nozzle 22 to interior space 17 (see FIG. 1) of cooling chamber 16, and annular region 3B of dicing tape 3 is cooled to below zero (e.g., -20 to -40°C). This makes annular region 3B of dicing tape 3 brittle. Note that the temperature of cold air 20 is not limited to below zero, and may be any temperature below the temperature at which dicing tape 3 becomes brittle.

次に、図7のステップS140の拡張開始工程において、図8(D)の如く、エキスパンドリング移動機構30によってエキスパンドリング14を、図8(A)の退避位置から拡張位置に向けて矢印B方向に上昇移動させ、脆性化された環状部領域3Bの全領域の拡張を開始する。なお、拡張開始工程において、ノズル22から冷気20を噴射した状態を保持してもよく、ステップS130の冷気冷却工程において、環状部領域3Bが十分に冷却されている場合は、ノズル22からの冷気20の噴射を停止してもよい。 Next, in the expansion start process of step S140 in FIG. 7, as shown in FIG. 8(D), the expand ring 14 is moved upward in the direction of arrow B by the expand ring moving mechanism 30 from the retracted position in FIG. 8(A) to the expanded position, and the expansion of the entire area of the embrittled annular region 3B begins. Note that in the expansion start process, the state in which the cold air 20 is sprayed from the nozzle 22 may be maintained, and in the cold air cooling process of step S130, if the annular region 3B is sufficiently cooled, the spraying of the cold air 20 from the nozzle 22 may be stopped.

次に、図7のステップS150の分割工程において、図9(A)の如く、エキスパンドリング14の上昇移動を続行して行うことにより、ウェーハ1を個々のチップ6に分割する。この後、図9(B)の如く、エキスパンドリング14が拡張位置に到達したところで、エキスパンドリング14の上昇移動を停止する。 Next, in the division process of step S150 in FIG. 7, the upward movement of the expand ring 14 is continued as shown in FIG. 9(A), thereby dividing the wafer 1 into individual chips 6. After this, as shown in FIG. 9(B), when the expand ring 14 reaches the expanded position, the upward movement of the expand ring 14 is stopped.

ステップS150の分割工程では、常温時よりもバネ定数が大きくなっている環状部領域3Bのバネ定数の張力がウェーハ1に付与される。これにより、チップサイズが小チップ(1mm)であっても個々のチップ6に分割するだけの張力を、環状部領域3Bからウェーハ1に付与することができる。よって、ワーク分割装置10によれば、チップサイズが小チップ(1mm)の場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 In the division process of step S150, the tension of the spring constant of the annular region 3B, which has a larger spring constant than at room temperature, is applied to the wafer 1. This allows the annular region 3B to apply to the wafer 1 a tension sufficient to divide the wafer into individual chips 6, even if the chip size is small (1 mm). Therefore, the work division device 10 can solve the problem of non-division of the planned division line, which occurs when the chip size is small (1 mm).

次に、図7のステップS160の加温工程において、図9(B)の如く、ハロゲンランプ28を点灯して拡張保持リング18の嵌合部26を、常温を超えた温度に加温する。なお、ステップS160の加温工程は、ステップS150の分割工程の最中に行ってもよく、ステップS150の分割工程の終了後に行ってもよい。また、ハロゲンランプ28によって嵌合部26を加温する温度は、常温を超えた温度に限定されず、冷気20の温度を超えた温度であって、冷気20によって脆性化された嵌合部26が弾性状態に回復する温度であればよい。 Next, in the heating process of step S160 in FIG. 7, as shown in FIG. 9(B), the halogen lamp 28 is turned on to heat the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18 to a temperature above room temperature. The heating process of step S160 may be performed during the division process of step S150, or after the division process of step S150 is completed. The temperature to which the fitting portion 26 is heated by the halogen lamp 28 is not limited to a temperature above room temperature, but may be any temperature above the temperature of the cold air 20 at which the fitting portion 26, which has been made brittle by the cold air 20, recovers to an elastic state.

次に、図7のステップS170の拡張状態保持工程において、図9(C)の如く、拡張保持リング18を拡張保持リング移動機構38によって待機位置から嵌合位置に向けて上昇させて、弾性状態が回復された嵌合部26を、嵌合位置でフレーム4の表面4Aに嵌合させてダイシングテープ3の拡張状態を保持する。 Next, in the expanded state maintaining process of step S170 in FIG. 7, the expansion retaining ring 18 is raised from the standby position toward the mating position by the expansion retaining ring moving mechanism 38, as shown in FIG. 9 (C), and the mating portion 26, whose elastic state has been restored, is mated with the surface 4A of the frame 4 at the mating position to maintain the expanded state of the dicing tape 3.

次に、図7のステップS180のエキスパンドリング退避工程において、図9(D)の如く、エキスパンドリング14をエキスパンドリング移動機構30によって退避位置に向けて下降移動させ、退避位置に配置する。このとき、ダイシングテープ3は、エキスパンドリング14による拡張は解除されるが、フレーム4の表面4Aに拡張保持リング18の嵌合部26が嵌合されているので、弛むことなく拡張状態が保持される。これにより、拡張されたダイシングテープ3が弛むことによって生じるチップ6同士の接触を防止することができるので、チップ6の品質低下を防止することができる。 Next, in the expand ring retraction process of step S180 in FIG. 7, the expand ring 14 is moved downward by the expand ring moving mechanism 30 to the retracted position as shown in FIG. 9 (D), and placed in the retracted position. At this time, the expansion of the dicing tape 3 by the expand ring 14 is released, but since the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18 is fitted to the surface 4A of the frame 4, the expanded state is maintained without loosening. This makes it possible to prevent contact between the chips 6 caused by loosening of the expanded dicing tape 3, and therefore prevents deterioration of the quality of the chips 6.

上記の如く実施形態のワーク分割装置10によるワーク分割方法によれば、ステップS130の冷気冷却工程を備えたので、ダイシングテープ3を脆性化してダイシングテープ3のバネ定数を高めることができる。これにより、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題を解消することができる。 As described above, the workpiece dividing method using the workpiece dividing device 10 of the embodiment includes the cold air cooling process of step S130, which makes it possible to make the dicing tape 3 brittle and increase the spring constant of the dicing tape 3. This makes it possible to solve the problem of non-division along the intended dividing line that occurs when the chip size is small.

また、実施形態のワーク分割装置10によるワーク分割方法によれば、ステップS160の加熱工程を備えたので、ステップS130の冷気冷却工程にて脆化状態に冷却された嵌合部26を弾性状態に回復させることができる。この後、ステップS170の拡張状態保持工程を備えたので、弾性状態に回復された嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させることができる。これにより、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題を解消することができる。 In addition, according to the workpiece dividing method using the workpiece dividing device 10 of the embodiment, since it includes the heating step of step S160, it is possible to restore the fitting portion 26, which has been cooled to a brittle state in the cold air cooling step of step S130, to an elastic state. After this, since it includes the expanded state maintaining step of step S170, it is possible to fit the fitting portion 26, which has been restored to its elastic state, onto the surface 4A of the frame 4. This makes it possible to solve the problem of deterioration in chip quality caused by contact between the chips after division.

上記の実施形態では、加温部としてハロゲンランプ28を例示したが、これに限定されるものではない。例えば、加温部として、遠赤外線ランプ、赤外線ランプ、セラミックヒータ、カーボンヒータ、温風ヒータ又は接触式ヒータを例示することができる。これらの加温部によれば、低温環境下の冷却室16の室内であっても、脆性化された嵌合部26を加温して弾性状態に回復させることができる。 In the above embodiment, the halogen lamp 28 is exemplified as the heating unit, but this is not limited thereto. For example, the heating unit may be a far-infrared lamp, an infrared lamp, a ceramic heater, a carbon heater, a hot air heater, or a contact heater. With these heating units, the embrittled fitting portion 26 can be heated and restored to an elastic state even inside the cooling chamber 16, which is in a low-temperature environment.

また、加温部として、図10の如く、拡張保持リング18の嵌合部26に常温エア42を供給するエア供給部44を設けてもよい。この加温部によれば、低温環境下の冷却室16の室内であっても、常温エア42の供給によって嵌合部26を、脆性状態から弾性状態に回復させることができる。 As shown in FIG. 10, an air supply unit 44 may be provided as the heating unit to supply room temperature air 42 to the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18. With this heating unit, the fitting portion 26 can be restored from a brittle state to an elastic state by supplying room temperature air 42 even inside the cooling chamber 16, which is a low-temperature environment.

本発明では、低温環境下の冷却室16の室内空間17で、拡張保持リング18の嵌合部26を、加温部によって加温して弾性状態に回復させた後、拡張保持リング18によってダイシングテープ3の拡張状態を保持したが、加温部を用いることなく、嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させることもできる。例えば、拡張保持リング18の待機位置を、常温環境下の冷却室16の室外に設定し、冷却室16に拡張保持リング18を出し入れするための扉を設ける。そして、ダイシングテープ3の拡張状態を保持する際に、扉を解放し、拡張保持リング18を冷却室16の室外から室内空間17に移動させて、常温状態の嵌合部26をフレーム4の表面4Aに嵌合させる。このような構成であっても、チップサイズが小チップの場合に生じる分割予定ラインの未分割問題と、分割後のチップ同士の接触に起因するチップの品質低下の問題とを同時に解消することができる。 In the present invention, the fitting portion 26 of the expansion retaining ring 18 is heated by the heating portion in the interior space 17 of the cooling chamber 16 in a low-temperature environment to restore the elastic state, and then the expansion retaining ring 18 maintains the expanded state of the dicing tape 3. However, the fitting portion 26 can also be fitted to the surface 4A of the frame 4 without using the heating portion. For example, the standby position of the expansion retaining ring 18 is set outside the cooling chamber 16 in a room temperature environment, and a door is provided in the cooling chamber 16 for inserting and removing the expansion retaining ring 18. Then, when maintaining the expanded state of the dicing tape 3, the door is opened and the expansion retaining ring 18 is moved from outside the cooling chamber 16 to the interior space 17, and the fitting portion 26 in the room temperature state is fitted to the surface 4A of the frame 4. Even with this configuration, the problem of non-separation of the planned division line that occurs when the chip size is small and the problem of deterioration of the quality of the chip due to contact between the chips after division can be simultaneously solved.

1…ウェーハ、2…ウェーハユニット、3…ダイシングテープ、3A…中央部領域、3B…環状部領域、3C…固定部領域、4…フレーム、5…分割予定ライン、6…チップ、7…固定部、8…エキスパンドリング、10…ワーク分割装置、14…エキスパンドリング、16…冷却室、17…室内空間、18…拡張保持リング、20…冷気、22…ノズル、24…冷気供給部、25…配管、26…嵌合部、28…ハロゲンランプ、30…エキスパンドリング移動機構、32…本体リング、34…ハロゲンランプ電源、36…リフレクタ、38…拡張保持リング移動機構、40…制御部、42…常温エア、44…エア供給部 1...wafer, 2...wafer unit, 3...dicing tape, 3A...central region, 3B...annular region, 3C...fixed region, 4...frame, 5...planned division line, 6...chip, 7...fixed section, 8...expanding ring, 10...work division device, 14...expanding ring, 16...cooling chamber, 17...indoor space, 18...expanding retaining ring, 20...cold air, 22...nozzle, 24...cold air supply section, 25...piping, 26...fitting section, 28...halogen lamp, 30...expanding ring moving mechanism, 32...main ring, 34...halogen lamp power supply, 36...reflector, 38...expanding retaining ring moving mechanism, 40...control section, 42...room temperature air, 44...air supply section

Claims (8)

ダイシングテープを介してフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割装置において、
前記ダイシングテープを拡張するエキスパンドリングと、
弾性変形可能な嵌合部を有するリング状に形成された拡張保持リングであって、前記エキスパンドリングによって前記ダイシングテープが拡張された状態で、前記嵌合部が前記フレームの表面に嵌合されることにより、前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張保持リングと、
前記エキスパンドリング及び前記拡張保持リングを含む空間を冷却する冷却部と、
前記拡張保持リングの前記嵌合部が前記フレームの表面に嵌合する前に、前記冷却部により冷却された前記嵌合部を加温する加温部と、
予め設定された、前記加温部の加温時間と前記篏合部の温度との対応関係に基づいて、前記加温部の加温時間を制御する加温制御部と、
を備える、ワーク分割装置。
A workpiece dividing device for dividing a workpiece mounted on a frame via a dicing tape into individual chips along a division line,
an expand ring that expands the dicing tape;
an expansion retaining ring formed in a ring shape having an elastically deformable fitting portion, the fitting portion being fitted to a surface of the frame when the dicing tape is in a state where it is expanded by the expanding ring, thereby retaining the expanded state of the dicing tape;
A cooling section that cools a space including the expand ring and the expansion retaining ring;
a heating unit that heats the fitting portion of the expansion retaining ring that has been cooled by the cooling unit before the fitting portion of the expansion retaining ring is fitted to the surface of the frame;
A heating control unit that controls a heating time of the heating unit based on a predetermined correspondence relationship between the heating time of the heating unit and the temperature of the mating unit;
A workpiece dividing device comprising:
前記冷却部は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の冷気を前記空間に供給し、
前記加温部は、前記冷気の温度を超える温度で前記嵌合部を加温して、前記嵌合部を弾性化する、
請求項1に記載のワーク分割装置。
The cooling unit supplies cold air having a temperature at which the dicing tape becomes brittle to the space,
The heating unit heats the fitting portion to a temperature exceeding the temperature of the cold air to make the fitting portion elastic.
The workpiece dividing device according to claim 1 .
前記加温部は、前記嵌合部に常温を超えた熱を供給する熱供給部である、請求項1又は2に記載のワーク分割装置。 The workpiece dividing device according to claim 1 or 2, wherein the heating unit is a heat supply unit that supplies heat above room temperature to the fitting unit. 前記加温部は、前記嵌合部に常温エアを供給するエア供給部である、請求項1又は2に記載のワーク分割装置。 The workpiece dividing device according to claim 1 or 2, wherein the heating unit is an air supply unit that supplies room temperature air to the fitting unit. ダイシングテープを介してフレームにマウントされたワークを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するワーク分割方法において、
前記ダイシングテープを冷気により冷却する冷却工程と、
エキスパンドリングによって前記ダイシングテープを拡張する拡張工程と、
拡張保持リングの外周部に形成された弾性変形可能な嵌合部を加温する加温工程と、
前記拡張保持リングを、加温された前記嵌合部を前記フレームの表面に嵌合させて、前記拡張工程によって拡張された前記ダイシングテープの拡張状態を保持する拡張状態保持工程と、
予め設定された、前記加温工程の加温時間と前記篏合部の温度との対応関係に基づいて、前記加温工程の加温時間を制御する加温制御工程と、
を備える、ワーク分割方法。
A workpiece dividing method for dividing a workpiece mounted on a frame via a dicing tape into individual chips along a planned dividing line, comprising:
a cooling step of cooling the dicing tape with cold air;
an expanding step of expanding the dicing tape by an expanding ring;
a heating step of heating an elastically deformable fitting portion formed on an outer periphery of the expansion retaining ring;
an expansion state maintaining step of maintaining the expanded state of the dicing tape expanded by the expansion step by fitting the heated fitting portion of the expansion holding ring to a surface of the frame;
a heating control step of controlling a heating time of the heating step based on a predetermined correspondence relationship between the heating time of the heating step and the temperature of the mating portion;
A workpiece dividing method comprising:
前記冷却工程は、前記ダイシングテープが脆性化する温度の前記冷気を前記ダイシング
テープに供給し、
前記加温工程は、前記冷気の温度を超える温度で前記嵌合部を加温して、前記嵌合部を弾性化する、
請求項5に記載のワーク分割方法。
The cooling step includes supplying the cold air to the dicing tape at a temperature at which the dicing tape becomes brittle,
The heating step heats the fitting portion at a temperature exceeding the temperature of the cold air to make the fitting portion elastic.
The workpiece dividing method according to claim 5.
前記加温工程は、前記嵌合部に常温を超えた熱を供給する、請求項5又は6に記載のワーク分割方法。 The workpiece dividing method according to claim 5 or 6, wherein the heating step supplies heat above room temperature to the fitting portion. 前記加温工程は、前記嵌合部に常温エアを供給する、請求項5又は6に記載のワーク分割方法。 The workpiece dividing method according to claim 5 or 6, wherein the heating step supplies room temperature air to the fitting portion.
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