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JP7111314B2 - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description

本発明は、プリント回路基板(Printed circuit board)及びその製造方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to printed circuit boards and methods of manufacturing the same.

携帯電話を始めとしたIT分野における電子機器が小さくて高性能化されることにつれて、これに対する技術的要求に応えるために様々な形態の薄型のプリント回路基板の構造が提示されている。 2. Description of the Related Art As electronic devices in the IT field, such as mobile phones, have become smaller and more sophisticated, various types of thin printed circuit board structures have been proposed to meet the technical demands.

しかし、薄型のプリント回路基板は、剛性の確保が困難であり、反りに弱いという問題があった。このため、剛性を補強できる様々な絶縁材が提案されているが、非感光性樹脂を使用する場合は、加工が困難となるという問題があった。 However, thin printed circuit boards have the problem that it is difficult to ensure rigidity and they are vulnerable to warping. For this reason, various insulating materials have been proposed that can reinforce the rigidity.

日本公開特許第1998-050209号公報Japanese Patent Publication No. 1998-050209

本発明の一側面によれば、オープニング(opening)が形成された絶縁層と、絶縁層内部に配置され、オープニングにより少なくとも一部が露出された回路パターンと、回路パターンに隣接し、オープニングにより少なくとも一部が露出され、回路パターンとは異種の物質で形成されたサンドブラスト保護層と、を含むプリント回路基板が提供される。 According to one aspect of the present invention, an insulating layer having an opening formed thereon, a circuit pattern disposed in the insulating layer and at least partially exposed by the opening, and a circuit pattern adjacent to the circuit pattern and at least partially exposed by the opening. A printed circuit board is provided that includes a partially exposed sandblasting protective layer formed of a material dissimilar to the circuit pattern.

また、本発明の他の側面によれば、第1絶縁層の一面に回路パターンを形成するステップと、回路パターンの少なくとも一部をカバーし、回路パターンとは異種の物質で形成されたサンドブラスト保護層を形成するステップと、回路パターン及びサンドブラスト保護層をカバーする第2絶縁層を積層するステップと、サンドブラスト加工により第2絶縁層にオープニングを形成し、サンドブラスト保護層の形成された領域を露出させるステップと、サンドブラスト保護層を除去して回路パターンを露出させるステップと、を含むプリント回路基板の製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, a step of forming a circuit pattern on one surface of the first insulating layer; forming a layer; laminating a second insulating layer covering the circuit pattern and the sandblasting protective layer; and forming an opening in the second insulating layer by sandblasting to expose the area where the sandblasting protective layer is formed. and removing the sandblasting protective layer to expose the circuit pattern.

本発明の一実施例に係るプリント回路基板を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a printed circuit board according to one embodiment of the present invention; FIG. 本発明の他の実施例に係るプリント回路基板を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to another embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を示す順序図である。1 is a flow chart showing a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention; 本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method of manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention;

本発明に係るプリント回路基板及びその製造方法の実施例を添付図面を参照して詳細に説明し、添付図面を参照して説明するに当たって、同一または対応する構成要素には同一の図面符号を付し、これに対する重複説明を省略する。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of a printed circuit board and method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. , and a redundant description thereof will be omitted.

また、以下に使用する「第1」、「第2」等の用語は、同一または対応する構成要素を区別するための識別記号に過ぎず、同一または対応する構成要素が、第1、第2等の用語により限定されることはない。 In addition, terms such as "first" and "second" used below are merely identification symbols for distinguishing the same or corresponding components, and the same or corresponding components It is not limited by terms such as.

また、「結合」とは、各構成要素の間の接触関係において、各構成要素の間に物理的に直接接触する場合のみを意味するものではなく、他の構成が各構成要素の間に介在され、その他の構成に構成要素がそれぞれ接触している場合まで包括する概念として使用する。 In addition, in the contact relationship between each component, the term “bond” does not mean only the case where each component is in direct physical contact, and another structure intervenes between each component. It is used as a concept that includes the case where each component is in contact with another configuration.

(プリント回路基板)
図1は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板を示す断面図である。図1を参照すると、本発明の一実施例に係るプリント回路基板は、絶縁層10と、回路パターン22、24と、サンドブラスト保護層30、35と、を含む。
(printed circuit board)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a printed circuit board according to one embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a printed circuit board according to one embodiment of the present invention includes an insulation layer 10, circuit patterns 22, 24, and sandblast protection layers 30, 35. As shown in FIG.

絶縁層10は、回路パターン22、24を電気的に絶縁する。絶縁層10は、樹脂材により形成することができる。絶縁層10は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリイミド(PI)等の熱可塑性樹脂を含むことができ、プリプレグ(PPG)やビルドアップフィルム(build-up film)により形成することができる。 The insulating layer 10 electrically insulates the circuit patterns 22,24. The insulating layer 10 can be made of a resin material. The insulating layer 10 may contain a thermosetting resin such as epoxy resin or a thermoplastic resin such as polyimide (PI), and may be formed of prepreg (PPG) or build-up film.

本実施例では、薄型のプリント回路基板において剛性の確保及び反りの防止に有利な熱硬化性樹脂を絶縁層10に使用することができる。 In this embodiment, the insulating layer 10 can be made of a thermosetting resin, which is advantageous in securing rigidity and preventing warpage in a thin printed circuit board.

絶縁層10には、絶縁層10の内部を露出させるオープニング15、16を形成することができ、オープニング15、16により回路パターン22、24の一部が露出されることができる。 Openings 15 and 16 may be formed in the insulating layer 10 to expose the inside of the insulating layer 10 , and the circuit patterns 22 and 24 may be partially exposed through the openings 15 and 16 .

図1を参照すると、本実施例において絶縁層10は、2つの層で形成でき、下部の第1絶縁層11に回路パターン22、24が形成され、第1絶縁層11上に回路パターン22、24を覆う第2絶縁層12を形成することができる。第2絶縁層12には、回路パターン22、24の一部を露出させる貫通ホール形態のオープニング15、16を形成することができる。このとき、第2絶縁層12には、感光性樹脂よりも強度の高い熱硬化性樹脂を用いることができ、第2絶縁層12の貫通ホールは、サンドブラストのような物理的加工により形成することができる。これにより、第2絶縁層12は、内部の回路パターン22、24を選択的に露出させるソルダーレジスト層を形成し、高い強度を有することができる。 Referring to FIG. 1, in this embodiment, the insulation layer 10 can be formed of two layers, the circuit patterns 22 and 24 are formed on the lower first insulation layer 11, and the circuit patterns 22 and 24 are formed on the first insulation layer 11. A second insulating layer 12 covering 24 may be formed. Through hole-shaped openings 15 and 16 exposing portions of the circuit patterns 22 and 24 may be formed in the second insulating layer 12 . At this time, a thermosetting resin having a higher strength than a photosensitive resin can be used for the second insulating layer 12, and the through holes in the second insulating layer 12 can be formed by physical processing such as sandblasting. can be done. Thereby, the second insulating layer 12 can form a solder resist layer that selectively exposes the internal circuit patterns 22 and 24, and has high strength.

回路パターン22、24は、絶縁層10に形成される。回路パターン22、24は、銅等の金属により形成され、絶縁層10の内部に形成されることができる。絶縁層10内部に形成された回路パターン22、24は、少なくとも一部が絶縁層10に形成されたオープニング15、16により外部に露出することができる。 Circuit patterns 22 and 24 are formed on the insulating layer 10 . The circuit patterns 22 and 24 are made of metal such as copper and can be formed inside the insulating layer 10 . The circuit patterns 22 and 24 formed inside the insulating layer 10 can be exposed to the outside through openings 15 and 16 formed in the insulating layer 10 at least partially.

図1を参照すると、第1絶縁層11上に回路パターン22、24が形成され、第2絶縁層12が回路パターン22、24を覆い、全体的に絶縁層10内部に配置された回路パターン22、24を形成することができる。回路パターン22、24のうちの一部は第2絶縁層12のオープニング15、16により露出するパッドを含むことができる。パッドは上面のみが選択的に露出された形態の回路パターン22であってもよく、上面と側面がすべて露出される形態の回路パターン24であってもよい。 Referring to FIG. 1, circuit patterns 22 and 24 are formed on the first insulating layer 11 , the second insulating layer 12 covers the circuit patterns 22 and 24 , and the circuit pattern 22 is entirely disposed inside the insulating layer 10 . , 24 can be formed. Some of the circuit patterns 22 , 24 may include pads exposed by openings 15 , 16 of the second insulating layer 12 . The pad may be a circuit pattern 22 whose top surface is selectively exposed, or a circuit pattern 24 whose top surface and side surfaces are exposed.

サンドブラスト保護層30、35は、プリント回路基板の製造過程において回路パターン22、24を選択的に覆う形態に形成され、回路パターン22、24とは異種の物質で形成される。特に、サンドブラスト保護層30、35は、回路パターン22、24よりもサンドブラスト加工に抵抗性の強い物質を用いて形成することができる。 The sandblast protection layers 30 and 35 are formed to selectively cover the circuit patterns 22 and 24 during the manufacturing process of the printed circuit board, and are made of a material different from that of the circuit patterns 22 and 24 . In particular, the sandblast protection layers 30,35 can be formed using a material that is more resistant to sandblasting than the circuit patterns 22,24.

サンドブラスト保護層30、35は、絶縁層10においてオープニング15、16が形成される領域の回路パターン22、24を覆う形態に形成され、絶縁層10のオープニング15、16に関連した工程での回路パターン22、24を保護することができる。 The sandblasting protection layers 30 and 35 are formed in a shape to cover the circuit patterns 22 and 24 in the regions where the openings 15 and 16 are formed in the insulating layer 10, and cover the circuit patterns in the process related to the openings 15 and 16 of the insulating layer 10. 22, 24 can be protected.

サンドブラスト保護層30、35は、絶縁層10にオープニング15、16を形成した後に大部分除去されるが、一部が絶縁層10内部に残ることがある。絶縁層10内部に残るサンドブラスト保護層30、35は、オープニング15、16により少なくとも一部が露出され、回路パターン22、24に隣接することになる。 The sandblast protection layers 30, 35 are mostly removed after forming the openings 15, 16 in the insulation layer 10, but some may remain inside the insulation layer 10. FIG. The sandblast protection layers 30 and 35 remaining inside the insulating layer 10 are at least partially exposed by the openings 15 and 16 and are adjacent to the circuit patterns 22 and 24 .

図1を参照すると、サンドブラスト保護層30、35は、第1絶縁層11と第2絶縁層12との間に介在されるか、回路パターン22、24と第2絶縁層12との間に介在された形態に残ることがある。また、サンドブラスト保護層30、35は、オープニング15、16の内壁により露出する形態に形成されることができる。 Referring to FIG. 1, the sandblast protection layers 30, 35 are interposed between the first insulation layer 11 and the second insulation layer 12, or between the circuit patterns 22, 24 and the second insulation layer 12. It may remain in its original form. Also, the sandblast protection layers 30 and 35 may be formed to be exposed from the inner walls of the openings 15 and 16 .

一方、本実施例では、オープニング15、16の内壁とサンドブラスト保護層30、35の切断面とが一致することに示されているが、サンドブラスト保護層30、35は、オープニング15、16の内壁から突出するか、陷沒することもできる。 On the other hand, in the present embodiment, the inner walls of the openings 15 and 16 and the cut surfaces of the sandblast protection layers 30 and 35 are shown to match, but the sandblast protection layers 30 and 35 are separated from the inner walls of the openings 15 and 16. It can either protrude or be recessed.

図2は、本発明の他の実施例に係るプリント回路基板を示す断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to another embodiment of the invention.

図2を参照すると、サンドブラスト保護層30′、35′は、オープニング15、16の内壁のうち一方の側面のみに露出する形態を有することができる。これは 製造工程においてサンドブラスト保護層が一方の方向に傾くか、または一方のサンドブラスト保護層が完全に除去される場合にこのような形態を有することができる。 Referring to FIG. 2, the sandblast protection layers 30', 35' may have a shape exposed only on one side of the inner walls of the openings 15, 16. As shown in FIG. It can have such a form when the sandblasting protection layer is tilted in one direction in the manufacturing process or one sandblasting protection layer is completely removed.

一方、サンドブラスト保護層30、35は、ニッケル、チタン及びこれらを含む合金の金属層により形成可能である。また、サンドブラスト保護層30、35は、複数の金属層(31と32、36と37)により形成されることができる。具体的には、本実施例では、銅層32、37とニッケル層31、36との二重層または銅とチタンとの二重層がサンドブラスト保護層30、35として用いられることができる。 On the other hand, the sandblast protection layers 30, 35 can be formed of metal layers of nickel, titanium and alloys containing these. Also, the sandblast protection layers 30, 35 can be formed by a plurality of metal layers (31 and 32, 36 and 37). Specifically, in this embodiment, a double layer of copper layers 32, 37 and nickel layers 31, 36 or a double layer of copper and titanium can be used as the sandblast protection layers 30, 35. FIG.

ニッケル、チタンは、物理的加工であるサンドブラスト加工に強い材料であるため、オープニング15、16の形成過程において回路パターン22、24が損傷することを防止できる。さらに、ニッケル、チタンのメッキ層をエッチングする物質は、異種の金属により形成された回路パターン22、24をほとんど損なわない。これにより、サンドブラスト加工の後に、回路パターン22、24を損傷せず、サンドブラスト保護層30、35を容易に除去することができる。 Nickel and titanium are materials that are resistant to sandblasting, which is physical processing, so that the circuit patterns 22 and 24 can be prevented from being damaged during the process of forming the openings 15 and 16 . Furthermore, the substance that etches the plated layers of nickel and titanium hardly damages the circuit patterns 22 and 24 formed of dissimilar metals. As a result, after sandblasting, the sandblast protection layers 30 and 35 can be easily removed without damaging the circuit patterns 22 and 24 .

(プリント回路基板の製造方法)
図3は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を示す順序図であり、図4から図8は、本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法を説明するための図である。
(Manufacturing method of printed circuit board)
FIG. 3 is a flow chart showing a method of manufacturing a printed circuit board according to one embodiment of the present invention, and FIGS. 4 to 8 are for explaining the method of manufacturing a printed circuit board according to one embodiment of the present invention. is a diagram.

本発明の一実施例に係るプリント回路基板の製造方法は、第1絶縁層に回路パターンを形成するステップS1と、サンドブラスト保護層を形成するステップS2と、第2絶縁層を積層するステップS3と、サンドブラスト加工によりオープニングを形成するステップS4と、サンドブラスト保護層を除去するステップS5と、を含む。 A method for manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes step S1 of forming a circuit pattern on a first insulating layer, step S2 of forming a sandblast protection layer, and step S3 of laminating a second insulating layer. , a step S4 of forming an opening by sandblasting, and a step S5 of removing the sandblasting protective layer.

第1絶縁層に回路パターンを形成するステップS1では、第1絶縁層11の一面に回路パターン20を形成する。 In step S<b>1 of forming a circuit pattern on the first insulating layer, a circuit pattern 20 is formed on one surface of the first insulating layer 11 .

図4を参照すると、第1絶縁層11上にオープニング15、16に露出するパッドとなる回路パターン22、24を形成することができる。例えば、第1絶縁層11上に導電性の金属物質を塗布した後にパターニング工程等を行うか、メッキにより金属層を形成し、選択的なエッチングによりパターニング工程を行うことができる。パターニング工程は、テンティング法(Tenting)、MSAP(Modified Semi-Additive Process)工法、またはSAP(Semi-Additive Process)工法等を用いることができる。 Referring to FIG. 4, circuit patterns 22 and 24 can be formed on the first insulating layer 11 as pads exposed in the openings 15 and 16 . For example, a patterning process may be performed after coating a conductive metal material on the first insulating layer 11, or a metal layer may be formed by plating and the patterning process may be performed by selective etching. For the patterning process, a tenting method, a modified semi-additive process (MSAP) method, a semi-additive process (SAP) method, or the like can be used.

サンドブラスト保護層を形成するステップS2では、サンドブラストにより加工される領域に配置されている回路パターン20を保護するためのサンドブラスト保護層30、35を形成する。サンドブラスト保護層30、35は、回路パターン20の少なくとも一部をカバーする形態、すなわち第1絶縁層11上にオープニング15、16が形成される部分の回路パターン20を選択的に覆う形態に形成される。サンドブラスト保護層30、35は、回路パターン20とは異種の物質で形成される。特に、サンドブラスト保護層30、35は、回路パターン20よりもサンドブラスト加工に抵抗性の強い物質で形成されることができる。また、回路パターン20とは異なる物質で形成されたサンドブラスト保護層30、35は、サンドブラスト加工の後に回路パターン20から除去されることが容易となり得る。 In step S2 of forming a sandblast protection layer, sandblast protection layers 30 and 35 are formed to protect the circuit pattern 20 arranged in the area processed by sandblasting. The sandblast protection layers 30 and 35 are formed to cover at least a portion of the circuit pattern 20, that is, to selectively cover the circuit pattern 20 where the openings 15 and 16 are formed on the first insulating layer 11. be. The sandblast protection layers 30 and 35 are made of a material different from that of the circuit pattern 20 . In particular, the sandblast protection layers 30 and 35 can be made of a material that is more resistant to sandblasting than the circuit pattern 20 . Also, the sandblast protection layers 30, 35 formed of a material different from the circuit pattern 20 can be easily removed from the circuit pattern 20 after sandblasting.

図5を参照すると、サンドブラスト保護層30、35の一例として、第1絶縁層11の一面にメッキにより金属層を形成することができる。このとき、回路パターン20が銅を含んで形成された場合には、サンドブラスト保護層30、35は、チタン、ニッケル及びこれらの合金からなるメッキにより形成されることができる。また、サンドブラスト保護層30、35は、複数の金属層(31と32、36と37)により形成可能である。具体的には、本実施例では、銅とニッケルの二重層または銅とチタンとの二重層がサンドブラスト保護層30、35として使用されることができる。ニッケル、チタンは、物理的加工であるサンドブラスト加工に強い材料であるため、オープニング15、16の形成過程において回路パターン20が損傷することを防止できる。さらに、ニッケル、チタンのメッキ層をエッチングする物質は、異種の金属により形成された回路パターン20をほとんど損なわない。これにより、サンドブラスト加工の後に回路パターン20を損傷せず、サンドブラスト保護層30、35を容易に除去することができる。 Referring to FIG. 5, as an example of the sandblast protection layers 30 and 35, a metal layer can be formed on one surface of the first insulating layer 11 by plating. At this time, when the circuit pattern 20 is formed including copper, the sandblast protection layers 30 and 35 may be formed by plating titanium, nickel, or alloys thereof. Also, the sandblast protection layers 30, 35 can be formed by a plurality of metal layers (31 and 32, 36 and 37). Specifically, in this embodiment, a double layer of copper and nickel or a double layer of copper and titanium can be used as the sandblast protection layers 30,35. Nickel and titanium are materials that are resistant to sandblasting, which is physical processing, so that the circuit pattern 20 can be prevented from being damaged during the process of forming the openings 15 and 16 . Furthermore, the substance that etches the plated layers of nickel and titanium scarcely damages the circuit pattern 20 formed of dissimilar metals. As a result, the sandblast protection layers 30 and 35 can be easily removed without damaging the circuit pattern 20 after sandblasting.

また、パッドの上面のみがオープニング15、16に露出される場合は、サンドブラスト保護層30は、回路パターン22の上面にのみ選択的に形成することができる。 Also, if only the upper surfaces of the pads are exposed to the openings 15 and 16, the sandblast protection layer 30 can be selectively formed only on the upper surfaces of the circuit patterns 22. FIG.

一方、パッドの側面もオープニング15、16に露出される場合は、サンドブラスト保護層35は、回路パターン24の上面と側面とをすべて覆う形態に形成されることができる。このとき、サンドブラスト保護層35は、スパッタリングにより形成することができる。スパッタリングにより、高さの異なる回路パターン及び回路パターンの側面にもサンドブラスト保護層35を容易に形成することができる。 On the other hand, if the side surfaces of the pads are also exposed to the openings 15 and 16, the sandblast protection layer 35 may be formed to cover the top surface and side surfaces of the circuit pattern 24 as well. At this time, the sandblast protection layer 35 can be formed by sputtering. By sputtering, the sandblast protection layer 35 can be easily formed on the circuit patterns having different heights and on the side surfaces of the circuit patterns.

第2絶縁層を積層するステップS3では、回路パターン20及びサンドブラスト保護層30、35をカバーする第2絶縁層12を積層する。 In step S3 of laminating the second insulating layer, the second insulating layer 12 covering the circuit pattern 20 and the sandblast protection layers 30 and 35 is laminated.

図6を参照すると、第1絶縁層11上に第2絶縁層12を積層し、第2絶縁層12は、第1絶縁層11上の回路パターン20も覆う。例えば、プリプレグ状態の熱硬化性樹脂を第1絶縁層11に向けて圧着して積層することにより第2絶縁層12を形成することができる。 Referring to FIG. 6 , a second insulating layer 12 is laminated on the first insulating layer 11 , and the second insulating layer 12 also covers the circuit pattern 20 on the first insulating layer 11 . For example, the second insulating layer 12 can be formed by pressing and laminating a thermosetting resin in a prepreg state toward the first insulating layer 11 .

サンドブラスト加工によりオープニングを形成するステップS4では、サンドブラスト加工により第2絶縁層12にオープニング15、16を形成し、サンドブラスト保護層30、35が形成された領域を露出させる。 In step S4 of forming openings by sandblasting, the openings 15 and 16 are formed in the second insulating layer 12 by sandblasting to expose the regions where the sandblasting protection layers 30 and 35 are formed.

サンドブラスト加工は、ノズルから研磨材を噴射して素材表面を研磨したり、切削したりする加工方法である。従来には砂を研削材として噴射したのでサンドブラストと称したが、現在はアルミナ(酸化アルミニウム)または炭化ケイ素等のセラミック粉末、ガラスビーズ、プラスチックパウダー等の様々な粒子を研削材として用いることができる。サンドブラストの種類には、研磨材と水を混合した後にノズルから噴射して加工する湿式サンドブラスト(Wet blast)と、エアを用いて研磨材のみをノズルから噴射して加工する乾式サンドブラスト(Air blast)がある。 Sandblasting is a processing method in which an abrasive material is sprayed from a nozzle to polish or cut the surface of a material. In the past, sand was used as an abrasive, so it was called sand blasting, but today, various particles such as ceramic powder such as alumina (aluminum oxide) or silicon carbide, glass beads, plastic powder, etc. can be used as an abrasive. . Sand blasting includes wet sand blasting in which abrasives and water are mixed and sprayed from nozzles, and dry sand blasting in which only abrasives are sprayed from nozzles using air. There is

ここで、サンドブラスト加工において第2絶縁層12の加工しない部分を保護するために、第2絶縁層12上に加工しない領域を選択的にカバーする加工防止層40を形成することができる。 Here, in order to protect the unprocessed portions of the second insulating layer 12 during sandblasting, a processing prevention layer 40 can be formed on the second insulating layer 12 to selectively cover the unprocessed regions.

図7を参照すると、加工防止層40は、感光性フィルムを積層して形成した後に、感光性フィルムを選択的に露光及び現像することにより形成することができる。加工防止層40の貫通領域45、46は、第2絶縁層12においてオープニング15、16の形成される領域、すなわちサンドブラスト保護層30、35が埋め込まれている領域を露出させる。 Referring to FIG. 7, the processing prevention layer 40 can be formed by laminating and forming a photosensitive film, and then selectively exposing and developing the photosensitive film. The penetrating regions 45 and 46 of the anti-processing layer 40 expose the regions where the openings 15 and 16 are formed in the second insulating layer 12, ie the regions where the sandblast protection layers 30 and 35 are embedded.

一方、加工防止層40は、フィルム状ではなく液状の樹脂を塗布して形成することができる。加工防止層40を形成した後には、サンドブラスト加工により第2絶縁層12を加工し、オープニング15、16を形成してサンドブラスト保護層30、35を露出させる。 On the other hand, the processing prevention layer 40 can be formed by applying a liquid resin instead of a film. After forming the processing prevention layer 40 , the second insulating layer 12 is processed by sandblasting to form the openings 15 and 16 to expose the sandblast protection layers 30 and 35 .

サンドブラスト保護層を除去するステップS5では、サンドブラスト保護層30、35を除去し、パッドとなる回路パターン22、24を露出させる。サンドブラスト保護層30、35は、その材質に応じて化学的または物理的方法のうち容易な方法を用いて除去することができる。例えば、サンドブラスト保護層30、35がニッケル金属層からなった場合は、ニッケルエッチング液に溶解され除去されることができる。このとき、銅材質の回路パターン22、24は、ニッケルエッチング液には耐食性を有するので損傷せず保存することができる。 In step S5 of removing the sandblast protection layer, the sandblast protection layers 30 and 35 are removed to expose the circuit patterns 22 and 24 that will serve as pads. The sandblasting protection layers 30 and 35 can be removed by chemical or physical methods, which are easier depending on the material. For example, when the sandblast protection layers 30 and 35 are made of nickel metal layers, they can be dissolved and removed in a nickel etchant. At this time, since the circuit patterns 22 and 24 made of copper material have corrosion resistance to the nickel etchant, they can be preserved without being damaged.

図8を参照すると、銅/ニッケルの二重層で形成されたサンドブラスト保護層30、35において、銅層32、37は、銅エッチング液により除去され、ニッケル層31、36は、ニッケルエッチング液により除去されることができる。このとき、回路パターン22と第2絶縁層12との間に、または第1絶縁層11と第2絶縁層12との間に介在されたサンドブラスト保護層30、35の一部は、除去されずに残ることができる。 Referring to FIG. 8, in the sandblast protection layers 30, 35 formed of a copper/nickel double layer, the copper layers 32, 37 are removed by a copper etchant and the nickel layers 31, 36 are removed by a nickel etchant. can be At this time, part of the sandblast protection layers 30 and 35 interposed between the circuit pattern 22 and the second insulation layer 12 or between the first insulation layer 11 and the second insulation layer 12 is not removed. can remain

以上、本発明の一実施例について説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば特許請求の範囲に記載した本発明の思想から逸脱しない範囲内で、構成要素の付加、変更、削除または追加などにより本発明を多様に修正及び変更することができ、これも本発明の権利範囲内に含まれるものといえよう。 An embodiment of the present invention has been described above. , deletions, additions, etc., can be variously modified and changed, which are also included in the scope of the invention.

10 絶縁層
11 第1絶縁層
12 第2絶縁層
15、16 オープニング
20、22、24 回路パターン
30、35 サンドブラスト保護層
10 insulating layer 11 first insulating layer 12 second insulating layer 15, 16 openings 20, 22, 24 circuit patterns 30, 35 sandblast protection layer

Claims (10)

オープニング(opening)が形成された絶縁層と、
前記絶縁層内部に配置され、前記オープニングにより少なくとも一部が露出された回路パターンと、
前記回路パターンに隣接し、前記オープニングから少なくとも一部が露出され、前記回路パターンとは異種の物質で形成され、複数の金属層を含むサンドブラスト保護層と、
を含むプリント回路基板。
an insulating layer having an opening;
a circuit pattern disposed within the insulating layer and at least partially exposed by the opening;
a sandblast protection layer adjacent to the circuit pattern, at least partially exposed from the opening, formed of a material different from that of the circuit pattern, and including a plurality of metal layers;
Printed circuit board including.
前記サンドブラスト保護層は、前記オープニングの内壁から露出される請求項1に記載のプリント回路基板。 The printed circuit board as claimed in claim 1, wherein the sandblast protection layer is exposed from the inner wall of the opening. 前記サンドブラスト保護層は、前記オープニングの内壁のうち一方の側面にのみ露出される請求項2に記載のプリント回路基板。 3. The printed circuit board of claim 2, wherein the sandblast protection layer is exposed only on one side of the inner wall of the opening. 前記複数の金属層は、チタン、ニッケル及びこれらの合金を含む請求項1から3のいずれか1項に記載のプリント回路基板。 4. The printed circuit board of any one of claims 1-3, wherein the plurality of metal layers comprises titanium, nickel and alloys thereof. 前記サンドブラスト保護層は、
前記回路パターンよりもサンドブラスト加工に抵抗性が強い物質を含む請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプリント回路基板。
The sandblast protection layer is
5. A printed circuit board as claimed in any preceding claim, comprising a material more resistant to sandblasting than the circuit pattern.
前記絶縁層は、熱硬化性樹脂を含む請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプリント回路基板。 6. The printed circuit board according to any one of claims 1 to 5, wherein the insulating layer contains a thermosetting resin. 第1絶縁層の一面に回路パターンを形成するステップと、
前記回路パターンの少なくとも一部をカバーし、前記回路パターンとは異種の物質で形成されたサンドブラスト保護層を形成するステップと、
前記回路パターン及び前記サンドブラスト保護層をカバーする第2絶縁層を積層するステップと、
サンドブラスト加工により前記第2絶縁層にオープニングを形成し、前記サンドブラスト保護層が形成された領域を露出させるステップと、
前記サンドブラスト保護層をエッチングにより除去して前記回路パターンを露出させるステップと、
を含み、
前記サンドブラスト保護層を形成するステップは、前記第1絶縁層の一面にメッキにより金属層を形成するステップを含み、
前記サンドブラスト保護層を除去するステップは、エッチングにより前記金属層を除去するステップを含むプリント回路基板の製造方法。
forming a circuit pattern on one surface of the first insulating layer;
forming a sandblast protection layer covering at least part of the circuit pattern and made of a material different from that of the circuit pattern;
laminating a second insulating layer covering the circuit pattern and the sandblasting protective layer;
forming an opening in the second insulating layer by sandblasting to expose a region where the sandblasting protective layer is formed;
removing the sandblast protection layer by etching to expose the circuit pattern;
including
Forming the sandblast protection layer includes forming a metal layer on one surface of the first insulating layer by plating,
The method of manufacturing a printed circuit board, wherein removing the sandblast protection layer includes removing the metal layer by etching .
前記金属層は、チタン、ニッケル及びこれらの合金を含む請求項7に記載のプリント回路基板の製造方法。 8. The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 7, wherein the metal layer comprises titanium, nickel and alloys thereof. 前記サンドブラスト保護層は、
前記回路パターンよりもサンドブラスト加工に抵抗性が強い物質を含む請求項7または請求項8に記載のプリント回路基板の製造方法。
The sandblast protection layer is
9. A method of manufacturing a printed circuit board according to claim 7 or claim 8, comprising a material more resistant to sandblasting than the circuit pattern.
前記第2絶縁層を積層するステップは、
熱硬化性樹脂を積層するステップを含む請求項7から請求項9のいずれか1項に記載のプリント回路基板の製造方法。
The step of laminating the second insulating layer includes:
10. A method of manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 7 to 9, comprising the step of laminating a thermosetting resin.
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