JP7147153B2 - Sterilization method and sterilization device - Google Patents
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Description
本発明は、薬液を噴霧して除菌を行なう除菌方法及び除菌装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a sterilization method and a sterilization device for sterilizing by spraying a chemical solution.
食品工場等の食品製造施設や医療・福祉施設の施設内を、殺菌効果がある次亜塩素酸水溶液等の薬品を噴霧することにより、除菌を行なう技術が検討されている(例えば、特許文献1参照)。この特許文献1には、室内空間内に二流体ノズルから薬液を、噴霧後の相対湿度が70%以上になるように噴霧することにより、除菌ができることが記載されている。更に、この文献には、噴霧前の室内空間の相対湿度が低い場合には、加湿器で加湿した上で、薬液を噴霧することが記載されている。
Techniques for sterilizing food manufacturing facilities such as food factories and medical and welfare facilities by spraying chemicals such as hypochlorous acid aqueous solutions that have a sterilizing effect are being studied (for example, patent documents 1). This
しかしながら、広い空間においては、噴霧した薬液が拡散してしまい、空間内の相対湿度の上昇が難しい場合がある。また、二流体ノズルの噴霧方向が固定されている場合には、空間全体に薬液を散布し難い場合がある。 However, in a wide space, the sprayed chemical solution spreads, and it may be difficult to increase the relative humidity in the space. Further, when the spray direction of the two-fluid nozzle is fixed, it may be difficult to spray the chemical liquid over the entire space.
上記課題を解決する除菌方法は、薬液と気体とを供給した二流体ノズルの噴霧口から前記薬液を噴霧して、空間内を除菌する除菌方法であって、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、前記噴霧口を向けて、予め定められた噴霧条件で、前記薬液を噴霧する。 A sterilization method for solving the above problem is a sterilization method for sterilizing a space by spraying the chemical solution from the spray port of a two-fluid nozzle that supplies the chemical solution and gas, wherein a plurality of sprays in the horizontal plane The chemical solution is sprayed under a predetermined spray condition by sequentially turning the spray port in a direction.
本発明によれば、広い空間において効率的に除菌を行なうことができる。 EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to efficiently perform sterilization in a wide space.
以下、図1~図8を用いて、除菌装置及び除菌方法を具体化した一実施形態を説明する。
図1に示す除菌装置10は、直方体形状の筐体11を備えている。この筐体11の底面には、四つの駆動輪15が回転可能に取り付けられている。駆動輪15によって、除菌装置10は、移動可能となっている。
An embodiment embodying a sterilization device and a sterilization method will be described below with reference to FIGS. 1 to 8. FIG.
The
筐体11の上面には、中央部の円孔と、長手方向の一方側に開口部とが形成されている。円孔には、ポール20が貫通している。開口部は、蓋12が開閉可能に取り付けられている。
筐体11内において、蓋12の下方の位置には、水タンク21及び薬液タンク22が並んで配置されている。水タンク21及び薬液タンク22は、蓋付の容器である。
The upper surface of the
A
水タンク21には、除菌開始時に湿度が低い場合に噴霧する水が貯蔵されている。
薬液タンク22には、除菌に用いる薬液が貯蔵されている。この薬液としては、居室内を除菌する場合、pHが6.5で、次亜塩素酸濃度が120mg/Lの薬液を用いる。この薬液は、次亜塩素酸ナトリウム6%を水道水で希釈後、食品添加物3%塩酸を添加してpHを調整して生成する。なお、次亜塩素酸ナトリウム6%として、ピューラックス(登録商標)Sを用い、水道水:ピューラックスS;食塩添加物3%塩酸を650:1:1の比率で混合している。また、除カビする場合には、噴霧する薬液の次亜塩素酸濃度を高くする。例えば、次亜塩素酸ナトリウム6%を水道水で0.3~0.5%となるように希釈した薬液を用いる。
The
The
水タンク21及び薬液タンク22は、重量計23,24にそれぞれ載置されている。この重量計23,24は、水タンク21の水や薬液タンク22の薬液の残量を把握するために用いられる。
The
水タンク21及び薬液タンク22の下端部には、水供給管21a及び薬液供給管22aがそれぞれ設けられている。これら水供給管21a及び薬液供給管22aは、液体切替バルブ25に接続されている。液体切替バルブ25は、可撓性のある液体供給管26(図では一部のみ表示)を介して、後述する二流体ノズル35に接続されている。液体切替バルブ25は、水供給管21a又は薬液供給管22aと、液体供給管26との接続を切り替えて、水又は薬液を二流体ノズル35に供給する。
A
また、筐体11内には、気体制御部27と電気制御部28とが配置されている。
気体制御部27は、コンプレッサ及び気体供給バルブが内蔵されている。空気を圧縮するコンプレッサは、気体供給バルブに接続されている。気体供給バルブは、可撓性のある気体供給管(図示せず)を介して、二流体ノズル35に接続されている。この気体供給バルブは、コンプレッサと二流体ノズル35との接続又は切離しを行なう。
A
The
電気制御部28は、後述する制御ユニットやバッテリー等を内蔵している。更に、電気制御部28は、除菌装置10を移動させる駆動輪15を駆動させる移動機構部を内蔵している。
The
筐体11内には、支持体としてのポール20の下部が固定されている。ポール20の上部は、筐体11の上面の円孔から上方に突出している。ポール20は、径が異なる複数の円筒体が入れ子状で構成されており、鉛直方向に伸縮可能になっている。例えば、天井裏等のように高い空間での噴霧を行なう場合に、ポール20を伸長させる。ポール20の上端部には、回転機構部としての回動機構部30が設けられている。この回動機構部30は、回転台30aを備え、この回転台30aを、鉛直軸を中心として水平面において、正逆方向に半回転(回動)させる。
Inside the
回動機構部30の回転台30aの上には、取付部材31が取り付けられている。取付部材31は、板状部材を曲げてコの字状で構成されている。取付部材31の底部の上面には、二流体ノズル35が固定されている。更に、取付部材31の上部の上面には、外周を撮影するカメラ33が取り付けられている。このカメラ33は、除菌装置10の周囲の映像を撮影するために用いられる。
A
二流体ノズル35は、圧縮空気を用いて液体を霧状に噴出する。この二流体ノズル35は、圧縮空気の取入部37及び液体の取入部38を有しており、それぞれ気体供給管及び液体供給管26に接続されている。
The two-
本実施形態では、二流体ノズル35として、二流体サイフォン式噴霧ノズルを用いる。具体的には、スプレーイングシステムスジャパン株式会社製のクイックフォッガー(商品名)を用いる。この二流体ノズル35は、供給される圧縮空気の空気圧により、二流体ノズル35の時間当たりの噴霧液量を制御することができる。本実施形態の二流体ノズル35は、前後に2つの噴霧口35aを有している。これら噴霧口35aは、対向するように反対側に配置されており、取付部材31の開放面(コの字の各側面)に向けられている。また、本実施形態の噴霧口35aは、粒子径が9~11μmのミストを噴霧する。
In this embodiment, a two-fluid siphon spray nozzle is used as the two-
<制御ユニットの構成>
次に、図2を用いて、除菌装置10が備えている制御ユニット50の構成を説明する。本実施形態では、制御ユニット50は、気体制御部27及び電気制御部28によって実現されている。
<Configuration of control unit>
Next, the configuration of the
制御ユニット50には、カメラ33と湿度計測部M1とに接続されている。制御ユニット50は、カメラ33からの撮影画像を取得する。制御ユニット50は、湿度計測部M1から、無線通信により、湿度計測信号を取得する。
The
制御ユニット50には、操作部55及び表示部56からなる遠隔操作部に、無線通信により接続される。操作部55は、遠隔操作により、除菌の開始指示や、薬液噴霧開始湿度の変更操作等を行なうために用いる。表示部56は、ディスプレイにより構成され、湿度計測部M1の湿度や、カメラ33の画像等を表示する。
The
制御ユニット50は、液体切替バルブ25、気体制御部27内の気体供給バルブV1及びコンプレッサC1、回動機構部30、電気制御部28内の移動機構部W1を制御する。
制御ユニット50は、除菌管理部51、噴霧制御部52及びシステムタイマを備えている。
The
The
除菌管理部51は、噴霧範囲の特定処理、加湿処理及び移動処理を制御する。このため、除菌管理部51は、噴霧範囲特定プログラム、薬液噴霧開始湿度に関するデータを記憶している。
The
噴霧範囲特定プログラムは、カメラ33から取得した画像から噴霧除外領域を特定し、噴霧予定領域を特定するためのプログラムである。
薬液噴霧開始湿度は、加湿の要否を判断するため湿度であり、本実施形態では、例えば60%RHを用いる。
The spray range specifying program is a program for specifying the spray exclusion area from the image acquired from the
The chemical solution spray start humidity is humidity for judging the necessity of humidification, and in this embodiment, for example, 60% RH is used.
更に、除菌管理部51は、除菌装置10の移動方向及び移動間隔量(例えば、5m)に関するデータを記憶している。ここで、移動方向は、除菌する空間の大きさや形状に基づいて、除菌開始前に決定されて記憶される。
噴霧制御部52は、薬液噴霧処理を実行する。このため、噴霧制御部52は、噴霧口35aの複数の噴霧方向、各噴霧方向における噴霧時間に関するデータを記憶している。
Furthermore, the
The
図5に示すように、本実施形態では、複数の噴霧方向として、筐体11の短手方向(0度)と、これに対して±45度の方向の3方向で噴霧を行なう。この場合、すべての噴霧方向で、同じ噴霧時間の噴霧を行なう。この噴霧時間として、二流体ノズル35から4m離れ、噴霧方向から0.25m離間した位置において目標相対湿度(70%RH)以上となる時間(例えば15分)を用いる。
As shown in FIG. 5, in the present embodiment, as a plurality of spraying directions, spraying is performed in three directions: the lateral direction (0 degree) of the
<除菌方法>
次に、図3~図5を用いて、本実施形態の除菌装置10による除菌方法について説明する。
<Sterilization method>
Next, the sterilization method by the
本実施形態では、図5に示す大空間の部屋R1を除菌する場合を想定する。この場合、除菌装置10が、除菌開始前に決定された移動方向及び移動間隔量毎に移動しながら部屋R1全体を除菌する。本実施形態では、部屋R1の外周面には、離間して複数の湿度計測部M1が配置されている。各湿度計測部M1は、部屋R1の温度と湿度を計測し、相対湿度を検出して、検出した相対速度を制御ユニット50に送信する。更に、部屋R1内には、電気機器等、高湿度を嫌う障害物B1が配置されている。
In this embodiment, it is assumed that a large room R1 shown in FIG. 5 is sterilized. In this case, the
(除菌処理)
部屋R1の除菌を開始する場合には、部屋R1内に除菌装置10を配置し、部屋R1のドアD1を閉めて部屋R1を閉鎖状態にする。そして、遠隔操作部を用いて、部屋R1の外から、除菌装置10の除菌開始を指示する。
(Sterilization treatment)
When starting sterilization of the room R1, the
図3に示すように、まず、制御ユニット50は、噴霧領域の特定処理を実行する(ステップS1-1)。ここで、制御ユニット50は、障害物の有無に基づいて噴霧領域を特定する。この処理の詳細については後述する。
As shown in FIG. 3, the
次に、制御ユニット50は、開始湿度の取得処理を実行する(ステップS1-2)。具体的には、制御ユニット50の除菌管理部51は、除菌装置10の位置に応じて、湿度が上昇する範囲にある湿度計測部M1の相対湿度を取得する。図5に示すように、除菌装置10が位置P1に配置されている場合には、この除菌対象区画A1に位置する湿度計測部M1からの相対湿度を取得する。
Next, the
そして、制御ユニット50は、薬液噴霧開始湿度以上か否かの判定処理を実行する(ステップS1-3)。具体的には、制御ユニット50の除菌管理部51は、取得した相対湿度が薬液噴霧開始湿度(60%RH)以上か否かを判定する。なお、複数の湿度計測部M1で計測した湿度が異なる場合には、除菌管理部51は、湿度の統計値(例えば平均値)を算出して、この統計値が薬液開始湿度以上か否かを判定する。
Then, the
ここで、相対湿度が薬液噴霧開始湿度よりも低い場合(ステップS1-3において「NO」の場合)、制御ユニット50は、水の噴霧処理を実行する(ステップS1-4)。具体的には、制御ユニット50の除菌管理部51は、液体切替バルブ25を制御して、水供給管21aと液体供給管26とを接続し、水タンク21から二流体ノズル35に水を供給する。更に、除菌管理部51は、コンプレッサC1を起動し、気体供給バルブV1を開いて、圧縮空気を二流体ノズル35に供給する。これにより、二流体ノズル35から水が噴霧されて、部屋R1内が加湿され、部屋R1の湿度が上昇する。なお、この水の噴霧処理においては、薬液噴霧開始湿度(60%RH)までしか上昇させない。比較的低湿度であるため、制御ユニット50は、回動機構部30を駆動せず、二流体ノズル35は、噴霧方向を固定した状態で水を噴霧する。そして、湿度計測部M1からの相対湿度が、薬液噴霧開始湿度以上となるまで水の噴霧を継続する。
Here, if the relative humidity is lower than the chemical spray start humidity ("NO" in step S1-3), the
次に、制御ユニット50は、薬液の噴霧処理を実行する(ステップS1-5)。この処理の詳細については後述する。
この場所での薬液の噴霧処理を終了した場合、制御ユニット50は、除菌終了か否かの判定処理を実行する(ステップS1-6)。具体的には、制御ユニット50の除菌管理部51は、未除菌の空間が残っている場合には、除菌終了でないと判定する。
Next, the
When the spraying process of the chemical solution at this place is finished, the
この場合(ステップS1-6において「NO」の場合)、制御ユニット50は、移動処理を実行する(ステップS1-7)。具体的には、制御ユニット50の除菌管理部51は、移動機構部W1を駆動して、移動方向に対して、移動間隔量だけ除菌装置10を移動させる。例えば、図5に示す矢印の方向で除菌装置10が、順次、移動する。そして、移動した後、制御ユニット50は、ステップS1-1以降の処理を実行する。
一方、制御ユニット50は、部屋R1全体の除菌を完了したと判定した場合(ステップS1-6において「YES」の場合)には、除菌処理を終了する。
In this case ("NO" in step S1-6), the
On the other hand, when the
(噴霧領域の特定処理)
次に、図5を用いて、上述した噴霧領域の特定処理(ステップS1-1)の詳細について説明する。
(Specifying processing of spray area)
Next, with reference to FIG. 5, details of the above-described process of specifying the spray area (step S1-1) will be described.
まず、制御ユニット50の除菌管理部51は、カメラ33の撮影画像に含まれる被写体の距離や撮影時の回転台30aの角度を用いて、現在位置の周囲において、障害物があるか否かの判定を行なう。この場合、画像認識により障害物を特定してもよい。
ここで、障害物がないと判定した場合、除菌管理部51は、全噴霧方向に対して噴霧を行なう。例えば、図5の部屋R1に障害物B1がある場合を想定する。この場合、除菌装置10が位置P1にある場合には、除菌対象区画A1内には障害物B1がないため、除菌対象区画A1のすべてを噴霧予定領域とし、全部の噴霧方向について噴霧を行なう。
First, the
Here, when it is determined that there is no obstacle, the
一方、障害物があると判定した場合、除菌管理部51は、画像から、その障害物の方向及び距離を特定する。そして、障害物が除菌対象区画内に位置していると判定した場合には、除菌管理部51は、その障害物への噴霧方向を噴霧除外領域と設定する。そして、除菌管理部51は、この噴霧除外領域を除く噴霧予定領域に対応した噴霧方向を特定する。
On the other hand, when determining that there is an obstacle, the
例えば、図5において、除菌装置10が位置P3に移動した場合、障害物B1は、移動先の位置P3における除菌対象区画A3内に含まれる。このため、除菌管理部51は、障害物B1が存在する噴霧方向を噴霧除外領域として特定する。そして、除菌装置10の制御ユニット50は、噴霧除外領域以外を噴霧予定領域とし、これに対応する噴霧方向を特定する。
For example, in FIG. 5, when the
(薬液の噴霧処理)
次に、図4及び図5を用いて、薬液の噴霧処理(ステップS1-5)を説明する。
制御ユニット50は、噴霧処理を実行する(ステップS2-1)。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、液体切替バルブ25の切替操作により、薬液タンク22と液体供給管26とを接続させて、薬液を二流体ノズル35に供給する。また、水の噴霧処理(ステップS1-4)をスキップして圧縮空気が二流体ノズル35に供給されていない場合には、噴霧制御部52は、コンプレッサC1を起動し、気体供給バルブV1を切り替えて、圧縮空気も二流体ノズル35に供給する。
(Medicine spray treatment)
Next, the chemical solution spraying process (step S1-5) will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG.
The
これにより、二流体ノズル35には、薬液と圧縮空気とが供給され、二流体ノズル35の噴霧口35aから薬液が噴霧される。そして、薬液の噴霧によって、部屋R1の相対湿度が上昇する。
As a result, the chemical solution and the compressed air are supplied to the two-
次に、制御ユニット50は、噴霧予定時間が経過したか否かの判定処理を実行する(ステップS2-2)。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、システムタイマに基づいて、噴霧開始からの経過時間を計測し、経過時間と、噴霧予定時間とを比較する。ここで、噴霧予定時間を経過していない場合(ステップS2-2において「NO」の場合)には、噴霧制御部52は、薬液を噴霧し続ける。
Next, the
一方、経過時間が噴霧予定時間を経過した場合(ステップS2-2において「YES」の場合)、制御ユニット50は、全方向の噴霧を終了したか否かの判定処理を実行する(ステップS2-3)。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、この地点において、噴霧予定領域のすべての噴霧方向について噴霧を行なったか否かを判定する。
On the other hand, if the elapsed time has passed the scheduled spraying time ("YES" in step S2-2), the
噴霧予定領域内において未噴霧の方向があり、全方向の噴霧は終了していないと判定した場合(ステップS2-3において「NO」の場合)、制御ユニット50は、二流体ノズルの回転処理を実行する(ステップ2-4)。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、回動機構部30を駆動して、二流体ノズル35を、未噴霧の噴霧方向まで回転させる。そして、この噴霧方向で、噴霧処理(ステップS2-1)以降の処理を繰り返して実行する。
If it is determined that there are unsprayed directions in the planned spray area and that spraying in all directions has not been completed (“NO” in step S2-3), the
一方、全方向の噴霧を終了したと判定した場合(ステップS2-3において「YES」の場合)、制御ユニット50は、噴霧停止処理を実行する(ステップS2-5)。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、気体供給バルブV1を切り替えて、コンプレッサC1を停止することにより、二流体ノズル35への圧縮空気の供給を停止する。これにより、二流体ノズル35からの噴霧が終了する。
On the other hand, if it is determined that spraying in all directions has been completed ("YES" in step S2-3), the
<二流体ノズルの噴霧方向に対する湿度上昇の実験>
上述した除菌方法は、以下の噴霧の実験に基づく知見により行なわれたものである。以下の実験においては、相対湿度の上昇変化を、薬液の噴霧の代わりに、水を噴霧して実験している。
<Experiment of increase in humidity with respect to spray direction of two-fluid nozzle>
The sterilization method described above was carried out based on findings based on the following spray experiments. In the following experiments, changes in relative humidity increase were tested by spraying water instead of spraying a chemical solution.
図6(a)及び図6(b)は、試験装置の平面図及び側面図を示している。
ここで、図6に示すように、回転台60の上に二流体ノズル65を固定する。この場合、二流体ノズル65の噴霧口65aを、床面から40cmの高さに配置する。そして、二流体ノズル65の2つの噴霧口65aを結ぶ線L1上において、二流体ノズル65から1m間隔で温湿度ロガーMa1,Ma2,Ma3,Ma4を配置する。すなわち、温湿度ロガーMa1~Ma4は、それぞれ、二流体ノズル65の中心から1m、2m、3m、4mの位置に配置される。更に、図6(a)に示すように、線L1から0.25m離間し各温湿度ロガーMa1~Ma4に対応する位置に、温湿度ロガーMb1,Mb2,Mb3,Mb4を配置する。更に、線L1から1m離間し各温湿度ロガーMa1~Ma4に対応する位置に、温湿度ロガーMc1,Mc2,Mc3,Mc4を配置する。
6(a) and 6(b) show a plan view and a side view of the test device.
Here, as shown in FIG. 6, the two-
この実験に用いた二流体ノズル65は、スプレーイング社製のノズルであり、ノズルチップ(4.5N)を取り付け、ミスト径が9~11μmのミストを噴霧するノズルを用いた。また、ミスト噴霧量は100ml/分で噴霧を行なった。
The two-
図7は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線L1上にある温湿度ロガーMa1~Ma4の相対湿度の変化を示す図である。
また、図8(a)は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線L1から0.25mの位置にある温湿度ロガーMb1~Mb4の相対湿度の変化を示す図である。更に、図8(b)は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線L1から1mの位置にある温湿度ロガーMc1~Mc4の相対湿度の変化を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing changes in relative humidity of the temperature/humidity loggers Ma1 to Ma4 on the line L1 when the spray direction of the nozzle is not changed.
FIG. 8(a) is a diagram showing changes in the relative humidity of the temperature/humidity loggers Mb1 to Mb4 located 0.25 m from the line L1 when the spray direction of the nozzle is not changed. Further, FIG. 8(b) is a diagram showing changes in the relative humidity of the temperature/humidity loggers Mc1 to Mc4 located 1 m from the line L1 when the spray direction of the nozzle is not changed.
図7に示すように、噴霧方向(線L1上)においては、二流体ノズル65から4m離れた場所でも、噴霧開始から約6分間で、相対湿度70%を超えた。また、図8(a)に示すように、噴霧方向から0.25m離れた場所でも、時間は30分近くを要したが、相対湿度が70%を超えた。しかし、図8(b)に示すように、噴霧方向から1m離れた場所では、30分間噴霧し続けても相対湿度70%超えなかった。
As shown in FIG. 7, in the direction of spraying (on line L1), the relative humidity exceeded 70% in about 6 minutes from the start of spraying even at a
また、図8(c)は、回転台60を半回転(180度)後に、正逆方向に半回転(180度)を繰り返して噴霧した場合に、噴霧方向(線L1上)にある温湿度ロガーMa1~Ma4の相対湿度の変化を示す図である。この場合、二流体ノズル65(回転台60)の回転速度は、10秒/180度とした。この図に示すように、初期相対湿度約40%、二流体ノズル65からの距離が2m離れた場所は約15分で相対湿度70%を超えたが、3m以上離れた場所では、30分間噴霧しても70%を超えなかった。
In addition, FIG. 8(c) shows the temperature and humidity in the spray direction (on the line L1) when the
以上の実験結果より、二流体ノズル65の噴霧方向を常に一定又は常に回転させた状態で噴霧するより、一定時間の噴霧した後、噴霧方向を変更して再び一定時間噴霧する噴霧方法のほうが、二流体ノズル65の周囲の相対湿度を満遍なく迅速に上昇させることができる。
From the above experimental results, the spraying method of changing the spraying direction and spraying again for a certain time after spraying for a certain time is better than spraying with the spraying direction of the two-
本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)本実施形態の除菌装置10は、二流体ノズル35の噴霧口35aを、順次、水平面内の複数の噴霧方向に向けて予め定めた噴霧条件(噴霧時間)で薬液を噴霧する。これにより、広い空間においても、噴霧領域毎に目標湿度に上昇させて、効率的に除菌を行なうことができる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The
(2)本実施形態の除菌装置10の制御ユニット50は、噴霧領域の特定処理(ステップS1-1)。障害物が存在する場合には、噴霧除外領域以外の噴霧領域に薬液を噴霧する。これにより、障害物への湿度上昇を抑えることができる。
(2) The
(3)本実施形態では、開始湿度が薬液噴霧湿度より低い場合(ステップS1-3において「NO」)の場合、除菌装置10の制御ユニット50は、水を噴霧する。これにより、少ない薬液量で効率的に除菌を行なうことができる。
(3) In the present embodiment, if the starting humidity is lower than the chemical solution spraying humidity ("NO" in step S1-3), the
(4)本実施形態では、所定位置での噴霧完了後に、除菌装置10を移動させて噴霧を行なう。これにより、広い部屋R1における除菌を効率的に行なうことができる。
(5)本実施形態では、二流体ノズル35は、前後に2つの噴霧口35aを有し、回転台30aを、正逆方向に半回転(回動)させて噴霧を行なう。これにより、半回転で、効率的に除菌を行なうことができる。
(4) In the present embodiment, the
(5) In the present embodiment, the two-
(6)本実施形態では、二流体ノズル35を上端部に取り付けたポール20は、伸縮可能になっている。このため、ポール20を伸長させて、天井裏等の高い位置での除菌を行なうことができる。
(6) In the present embodiment, the
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・上記実施形態においては、水平面内の複数の噴霧方向における噴霧時間を15分とした。噴霧時間は、これに限定されない。また、予め定めた時間に限定されるものではない。例えば、除菌対象の空間に配置した湿度計において計測した相対湿度によって噴霧終了時を決めてもよい。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52に、噴霧を終了する目標湿度(例えば70%RH)を記憶させる。そして、制御ユニット50は、噴霧処理(ステップS2-1)を実行した後、目標湿度以上になったか否かの判定処理を実行する。具体的には、制御ユニット50の噴霧制御部52は、除菌対象区画A1内に位置する湿度計測部M1からの検出湿度と、目標湿度とを比較する。そして、検出湿度が、目標湿度を超えない場合、噴霧制御部52は、薬液を噴霧し続ける。一方、検出湿度が目標湿度を超えた場合には、制御ユニット50は、全方向の噴霧が終了したか否かの判定処理を実行する(ステップS2-3)。これにより、除菌対象領域における湿度を確認しながら噴霧を停止することができるので、的確かつ効率的に除菌を行なうことができる。
This embodiment can be implemented with the following modifications. This embodiment and the following modified examples can be implemented in combination with each other within a technically consistent range.
- In the above-described embodiment, the spraying time in a plurality of spraying directions in the horizontal plane was set to 15 minutes. The spraying time is not limited to this. Moreover, it is not limited to a predetermined time. For example, the spraying end time may be determined based on the relative humidity measured by a hygrometer placed in the space to be sterilized. Specifically, the
・上記実施形態においては、制御ユニット50は、部屋R1内に設置した湿度計測部M1の検出湿度を無線で取得した。湿度計測部M1を、部屋R1に設置する代わりに、除菌装置10に取り付け、有線通信で計測湿度を取得してもよい。この場合、除菌装置10に取り付けた湿度計測部M1で検出した湿度を補正して、除菌対象区画A1における湿度を予測する。
- In the above embodiment, the
・上記実施形態においては、制御ユニット50は、各噴霧方向における噴霧時間を同じ時間とした。噴霧方向に応じて噴霧時間を変更してもよい。具体的には、噴霧予定領域の空間体積を算出し、この体積に基づいて噴霧時間を算出する。例えば、噴霧予定領域に壁が存在する場合は、空間容量が少ないため、噴霧時間を短くする。これにより、空間容量に応じて効率的に噴霧を行なうことができる。
- In the above embodiment, the
・上記実施形態においては、筐体11の長手方向に対して、0,±45度の3方向で噴霧する。噴霧の方向間隔は、これに限定されるものではない。また、噴霧方向は、除菌する空間の形状等によっては、等間隔でなくてもよい。具体的には、噴霧方向の空間容量に基づいて、噴霧方向を決定すればよい。
- In the above embodiment, spraying is performed in three directions of 0 and ±45 degrees with respect to the longitudinal direction of the
・上記実施形態において、制御ユニット50は、水の噴霧処理(ステップS1-4)においては、二流体ノズル35を固定して水を噴霧する。水の噴霧方法は、一方向に限られず、薬液の噴霧処理と同様に、複数の噴霧方向に対して水を噴霧してもよいし、二流体ノズル35を噴霧させながら回動させることを繰り返してもよい。
In the above embodiment, the
・上記実施形態において、除菌装置10には、駆動輪15が取り付けられている。制御ユニット50は、移動機構部W1を制御することにより、駆動輪15を駆動させて、除菌装置10を移動させる。除菌装置10を移動する移動機構は、駆動輪15を用いた機構に限られない。例えば、メカナムホイールやオムニホイール(登録商標)等、直進移動及び中心軸回りの旋回が可能な移動機構を用いてもよい。
- In the above-described embodiment, the
・上記実施形態においては、水平面内における複数の噴霧方向に順次、噴霧口35aを向けて、噴霧時間分、薬液を噴霧した。複数の噴霧方向に噴霧口を向けたときの予め定められた噴霧条件は、噴霧時間に限定されない。例えば、水平面に対する噴霧口の角度や噴霧する際の圧力等であってもよい。
- In the above-described embodiment, the
・上記実施形態においては、カメラ33によって撮影された画像を、噴霧予定領域を特定するために用いた。カメラ(撮像装置)によって撮影された画像は、噴霧予定領域を特定する以外に用いてもよい。例えば、二流体ノズル35の設置高さを決定するために用いてもよい。具体的には、ポール20を伸縮させる昇降機構を、ポール20に設ける。制御ユニット50は、昇降機構を駆動して、二流体ノズル35の噴霧口35aの高さを調整する。この場合、制御ユニット50に、ポール20の伸縮に応じた二流体ノズル35の可動範囲(可動昇降高さ)を記憶しておく。
制御ユニット50は、噴霧領域の特定処理(ステップS1-1)において障害物を特定した後、画像を用いて、この障害物B1の高さを特定する。そして、制御ユニット50は、障害物B1の高さと可動昇降高さとを比較し、障害物B1より二流体ノズル35の噴霧口35aを高くできると判定した場合、障害物B1より噴霧口35aが高い位置となるように、昇降機構を制御する。これにより、二流体ノズル35の噴霧口35aからの噴霧ミストが直接、障害物B1に当たらないようにすることができる。
また、天井裏に薬剤を噴霧し除カビする際において、カメラ33によって撮影された画像を用いて、噴霧ミストが直接障害物に当たらない高さにノズルを設置してもよい。
- In the above-described embodiment, the image captured by the
After identifying the obstacle in the spray area identifying process (step S1-1), the
Further, when spraying a chemical agent on the space above the ceiling to remove mold, an image captured by the
・上記実施形態においては、制御ユニット50が、二流体ノズル35を回転する回動機構部30及び除菌装置10を移動させる。二流体ノズル35の回転や除菌装置10の移動は手動で行なってもよい。また、噴霧する薬液は、殺菌する部屋の大きさや薬液量等によって変更してもよい。
- In the above embodiment, the
A1…除菌対象区画、B1…障害物、C1…コンプレッサ、D1…ドア、L1…線、M1…湿度計測部、Ma1,Ma2,Ma3,Ma4,Mb1,Mb2,Mb3,Mb4,Mc1,Mc2,Mc3,Mc4…温湿度ロガー、P1,P2…位置、R1…部屋、V1…気体供給バルブ、W1…移動機構部、10…除菌装置、11…筐体、12…蓋、15…駆動輪、20…ポール、21…水タンク、21a…水供給管、22…薬液タンク、22a…薬液供給管、23,24…重量計、25…液体切替バルブ、26…液体供給管、27…気体制御部、28…電気制御部、30…回動機構部、30a…回転台、31…取付部材、33…カメラ、35,65…二流体ノズル、35a,65a…噴霧口、37,38…取入部、50…制御ユニット、51…除菌管理部、52…噴霧制御部、55…操作部、56…表示部、60…回転台。
A1... Sterilization target section, B1... Obstacle, C1... Compressor, D1... Door, L1... Line, M1... Humidity measuring unit, Ma1, Ma2, Ma3, Ma4, Mb1, Mb2, Mb3, Mb4, Mc1, Mc2, Mc3, Mc4 temperature and humidity logger, P1, P2 position, R1 room, V1 gas supply valve, W1 movement mechanism, 10 sterilization device, 11 housing, 12 lid, 15 drive wheel, DESCRIPTION OF
Claims (4)
鉛直方向に伸縮可能な支持体に前記二流体ノズルを保持させて、
前記薬液タンクから送液された前記薬液と、コンプレッサから空気とが供給される前記二流体ノズルにおいて、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、噴霧する際に、前記噴霧方向に前記噴霧口を向けて予め定められた噴霧時間で前記薬液を噴霧した後、次の前記噴霧方向に前記噴霧口を向けることを繰り返し、
前記噴霧時間は、前記空間内の噴霧予定領域内において前記薬液の噴霧を行なったときの相対湿度が目標湿度以上となる時間であることを特徴とする除菌方法。 A sterilization method for sterilizing a space by spraying the chemical solution from the spray port of a two-fluid nozzle that supplies the chemical solution and gas stored in the chemical solution tank,
By holding the two-fluid nozzle on a vertically stretchable support,
In the two-fluid nozzle to which the chemical solution sent from the chemical solution tank and air from the compressor are supplied, when sequentially spraying in a plurality of spray directions in a horizontal plane, the spray port is set in the spray direction. After spraying the chemical solution for a predetermined spraying time, repeatedly directing the spray port in the next spraying direction,
The sterilization method , wherein the spraying time is the time when the relative humidity becomes equal to or higher than the target humidity when the chemical solution is sprayed in the planned spraying area in the space .
気体を圧縮するコンプレッサと、
前記薬液と前記気体とを供給して噴霧口から前記薬液を噴霧する二流体ノズルと、
前記二流体ノズルを保持し鉛直方向に伸縮可能な支持体と、
前記二流体ノズルを、鉛直軸を中心として回転させる回転機構部と、
水平面内における複数の噴霧方向に、順次、前記噴霧口が向くように、前記回転機構部を制御することにより、前記薬液を噴霧させるように制御する制御部とを備え、
前記制御部は、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、噴霧する際に、前記噴霧方向に前記噴霧口を向けて予め定められた噴霧時間で前記薬液を噴霧した後、次の前記噴霧方向に前記噴霧口を向けることを繰り返し、
前記噴霧時間は、空間内の噴霧予定領域内において前記薬液の噴霧を行なったときの相対湿度が目標湿度以上となる時間であることを特徴とする除菌装置。 a chemical liquid tank for storing the chemical liquid;
a compressor for compressing gas;
a two-fluid nozzle that supplies the chemical solution and the gas and sprays the chemical solution from a spray port;
a vertically stretchable support that holds the two-fluid nozzle;
a rotation mechanism that rotates the two-fluid nozzle about a vertical axis;
a control unit that controls the rotating mechanism unit such that the spray ports are sequentially directed in a plurality of spray directions in a horizontal plane to spray the chemical liquid ,
When spraying sequentially in a plurality of spray directions in a horizontal plane, the control unit directs the spray port in the spray direction and sprays the chemical solution for a predetermined spray time, and then sprays in the next spray direction. Repeatedly directing the spray port to
The sterilization device , wherein the spraying time is a time at which the relative humidity becomes equal to or higher than a target humidity when the chemical solution is sprayed in the planned spraying area in the space .
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