JP7147153B2 - 除菌方法及び除菌装置 - Google Patents

Description

本発明は、薬液を噴霧して除菌を行なう除菌方法及び除菌装置に関する。

食品工場等の食品製造施設や医療・福祉施設の施設内を、殺菌効果がある次亜塩素酸水溶液等の薬品を噴霧することにより、除菌を行なう技術が検討されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１には、室内空間内に二流体ノズルから薬液を、噴霧後の相対湿度が７０％以上になるように噴霧することにより、除菌ができることが記載されている。更に、この文献には、噴霧前の室内空間の相対湿度が低い場合には、加湿器で加湿した上で、薬液を噴霧することが記載されている。

特開２０１６－２７８４９号公報

しかしながら、広い空間においては、噴霧した薬液が拡散してしまい、空間内の相対湿度の上昇が難しい場合がある。また、二流体ノズルの噴霧方向が固定されている場合には、空間全体に薬液を散布し難い場合がある。

上記課題を解決する除菌方法は、薬液と気体とを供給した二流体ノズルの噴霧口から前記薬液を噴霧して、空間内を除菌する除菌方法であって、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、前記噴霧口を向けて、予め定められた噴霧条件で、前記薬液を噴霧する。

本発明によれば、広い空間において効率的に除菌を行なうことができる。

実施形態における除菌装置の構成を説明する概略構成図。 実施形態における除菌装置の制御ユニットの構成の説明図。 実施形態における除菌処理の処理手順を説明する流れ図。 実施形態における薬液の噴霧処理の処理手順を説明する流れ図。 実施形態における除菌処理を説明する空間内の配置図。 実施形態における二流体ノズルの噴霧方向と相対湿度との関係の確認試験の説明図であって、（ａ）は計測配置の上面図、（ｂ）は計測配置の側面図。 図６の試験方法における経過時間と相対湿度との関係を示すグラフ。 図６の試験方法における経過時間と相対湿度との関係を示すグラフであって、（ａ）はノズルを固定した場合の第１位置における相対湿度、（ｂ）はノズルを固定した場合の第２位置における相対湿度、（ｃ）はノズルを回転させた場合の相対湿度。

以下、図１～図８を用いて、除菌装置及び除菌方法を具体化した一実施形態を説明する。
図１に示す除菌装置１０は、直方体形状の筐体１１を備えている。この筐体１１の底面には、四つの駆動輪１５が回転可能に取り付けられている。駆動輪１５によって、除菌装置１０は、移動可能となっている。

筐体１１の上面には、中央部の円孔と、長手方向の一方側に開口部とが形成されている。円孔には、ポール２０が貫通している。開口部は、蓋１２が開閉可能に取り付けられている。
筐体１１内において、蓋１２の下方の位置には、水タンク２１及び薬液タンク２２が並んで配置されている。水タンク２１及び薬液タンク２２は、蓋付の容器である。

水タンク２１には、除菌開始時に湿度が低い場合に噴霧する水が貯蔵されている。
薬液タンク２２には、除菌に用いる薬液が貯蔵されている。この薬液としては、居室内を除菌する場合、ｐＨが６．５で、次亜塩素酸濃度が１２０ｍｇ／Ｌの薬液を用いる。この薬液は、次亜塩素酸ナトリウム６％を水道水で希釈後、食品添加物３％塩酸を添加してｐＨを調整して生成する。なお、次亜塩素酸ナトリウム６％として、ピューラックス（登録商標）Ｓを用い、水道水：ピューラックスＳ；食塩添加物３％塩酸を６５０：１：１の比率で混合している。また、除カビする場合には、噴霧する薬液の次亜塩素酸濃度を高くする。例えば、次亜塩素酸ナトリウム６％を水道水で０．３～０．５％となるように希釈した薬液を用いる。

水タンク２１及び薬液タンク２２は、重量計２３，２４にそれぞれ載置されている。この重量計２３，２４は、水タンク２１の水や薬液タンク２２の薬液の残量を把握するために用いられる。

水タンク２１及び薬液タンク２２の下端部には、水供給管２１ａ及び薬液供給管２２ａがそれぞれ設けられている。これら水供給管２１ａ及び薬液供給管２２ａは、液体切替バルブ２５に接続されている。液体切替バルブ２５は、可撓性のある液体供給管２６（図では一部のみ表示）を介して、後述する二流体ノズル３５に接続されている。液体切替バルブ２５は、水供給管２１ａ又は薬液供給管２２ａと、液体供給管２６との接続を切り替えて、水又は薬液を二流体ノズル３５に供給する。

また、筐体１１内には、気体制御部２７と電気制御部２８とが配置されている。
気体制御部２７は、コンプレッサ及び気体供給バルブが内蔵されている。空気を圧縮するコンプレッサは、気体供給バルブに接続されている。気体供給バルブは、可撓性のある気体供給管（図示せず）を介して、二流体ノズル３５に接続されている。この気体供給バルブは、コンプレッサと二流体ノズル３５との接続又は切離しを行なう。

電気制御部２８は、後述する制御ユニットやバッテリー等を内蔵している。更に、電気制御部２８は、除菌装置１０を移動させる駆動輪１５を駆動させる移動機構部を内蔵している。

筐体１１内には、支持体としてのポール２０の下部が固定されている。ポール２０の上部は、筐体１１の上面の円孔から上方に突出している。ポール２０は、径が異なる複数の円筒体が入れ子状で構成されており、鉛直方向に伸縮可能になっている。例えば、天井裏等のように高い空間での噴霧を行なう場合に、ポール２０を伸長させる。ポール２０の上端部には、回転機構部としての回動機構部３０が設けられている。この回動機構部３０は、回転台３０ａを備え、この回転台３０ａを、鉛直軸を中心として水平面において、正逆方向に半回転（回動）させる。

回動機構部３０の回転台３０ａの上には、取付部材３１が取り付けられている。取付部材３１は、板状部材を曲げてコの字状で構成されている。取付部材３１の底部の上面には、二流体ノズル３５が固定されている。更に、取付部材３１の上部の上面には、外周を撮影するカメラ３３が取り付けられている。このカメラ３３は、除菌装置１０の周囲の映像を撮影するために用いられる。

二流体ノズル３５は、圧縮空気を用いて液体を霧状に噴出する。この二流体ノズル３５は、圧縮空気の取入部３７及び液体の取入部３８を有しており、それぞれ気体供給管及び液体供給管２６に接続されている。

本実施形態では、二流体ノズル３５として、二流体サイフォン式噴霧ノズルを用いる。具体的には、スプレーイングシステムスジャパン株式会社製のクイックフォッガー（商品名）を用いる。この二流体ノズル３５は、供給される圧縮空気の空気圧により、二流体ノズル３５の時間当たりの噴霧液量を制御することができる。本実施形態の二流体ノズル３５は、前後に２つの噴霧口３５ａを有している。これら噴霧口３５ａは、対向するように反対側に配置されており、取付部材３１の開放面（コの字の各側面）に向けられている。また、本実施形態の噴霧口３５ａは、粒子径が９～１１μｍのミストを噴霧する。

＜制御ユニットの構成＞
次に、図２を用いて、除菌装置１０が備えている制御ユニット５０の構成を説明する。本実施形態では、制御ユニット５０は、気体制御部２７及び電気制御部２８によって実現されている。

制御ユニット５０には、カメラ３３と湿度計測部Ｍ１とに接続されている。制御ユニット５０は、カメラ３３からの撮影画像を取得する。制御ユニット５０は、湿度計測部Ｍ１から、無線通信により、湿度計測信号を取得する。

制御ユニット５０には、操作部５５及び表示部５６からなる遠隔操作部に、無線通信により接続される。操作部５５は、遠隔操作により、除菌の開始指示や、薬液噴霧開始湿度の変更操作等を行なうために用いる。表示部５６は、ディスプレイにより構成され、湿度計測部Ｍ１の湿度や、カメラ３３の画像等を表示する。

制御ユニット５０は、液体切替バルブ２５、気体制御部２７内の気体供給バルブＶ１及びコンプレッサＣ１、回動機構部３０、電気制御部２８内の移動機構部Ｗ１を制御する。
制御ユニット５０は、除菌管理部５１、噴霧制御部５２及びシステムタイマを備えている。

除菌管理部５１は、噴霧範囲の特定処理、加湿処理及び移動処理を制御する。このため、除菌管理部５１は、噴霧範囲特定プログラム、薬液噴霧開始湿度に関するデータを記憶している。

噴霧範囲特定プログラムは、カメラ３３から取得した画像から噴霧除外領域を特定し、噴霧予定領域を特定するためのプログラムである。
薬液噴霧開始湿度は、加湿の要否を判断するため湿度であり、本実施形態では、例えば６０％ＲＨを用いる。

更に、除菌管理部５１は、除菌装置１０の移動方向及び移動間隔量（例えば、５ｍ）に関するデータを記憶している。ここで、移動方向は、除菌する空間の大きさや形状に基づいて、除菌開始前に決定されて記憶される。
噴霧制御部５２は、薬液噴霧処理を実行する。このため、噴霧制御部５２は、噴霧口３５ａの複数の噴霧方向、各噴霧方向における噴霧時間に関するデータを記憶している。

図５に示すように、本実施形態では、複数の噴霧方向として、筐体１１の短手方向（０度）と、これに対して±４５度の方向の３方向で噴霧を行なう。この場合、すべての噴霧方向で、同じ噴霧時間の噴霧を行なう。この噴霧時間として、二流体ノズル３５から４ｍ離れ、噴霧方向から０．２５ｍ離間した位置において目標相対湿度（７０％ＲＨ）以上となる時間（例えば１５分）を用いる。

＜除菌方法＞
次に、図３～図５を用いて、本実施形態の除菌装置１０による除菌方法について説明する。

本実施形態では、図５に示す大空間の部屋Ｒ１を除菌する場合を想定する。この場合、除菌装置１０が、除菌開始前に決定された移動方向及び移動間隔量毎に移動しながら部屋Ｒ１全体を除菌する。本実施形態では、部屋Ｒ１の外周面には、離間して複数の湿度計測部Ｍ１が配置されている。各湿度計測部Ｍ１は、部屋Ｒ１の温度と湿度を計測し、相対湿度を検出して、検出した相対速度を制御ユニット５０に送信する。更に、部屋Ｒ１内には、電気機器等、高湿度を嫌う障害物Ｂ１が配置されている。

（除菌処理）
部屋Ｒ１の除菌を開始する場合には、部屋Ｒ１内に除菌装置１０を配置し、部屋Ｒ１のドアＤ１を閉めて部屋Ｒ１を閉鎖状態にする。そして、遠隔操作部を用いて、部屋Ｒ１の外から、除菌装置１０の除菌開始を指示する。

図３に示すように、まず、制御ユニット５０は、噴霧領域の特定処理を実行する（ステップＳ１－１）。ここで、制御ユニット５０は、障害物の有無に基づいて噴霧領域を特定する。この処理の詳細については後述する。

次に、制御ユニット５０は、開始湿度の取得処理を実行する（ステップＳ１－２）。具体的には、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、除菌装置１０の位置に応じて、湿度が上昇する範囲にある湿度計測部Ｍ１の相対湿度を取得する。図５に示すように、除菌装置１０が位置Ｐ１に配置されている場合には、この除菌対象区画Ａ１に位置する湿度計測部Ｍ１からの相対湿度を取得する。

そして、制御ユニット５０は、薬液噴霧開始湿度以上か否かの判定処理を実行する（ステップＳ１－３）。具体的には、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、取得した相対湿度が薬液噴霧開始湿度（６０％ＲＨ）以上か否かを判定する。なお、複数の湿度計測部Ｍ１で計測した湿度が異なる場合には、除菌管理部５１は、湿度の統計値（例えば平均値）を算出して、この統計値が薬液開始湿度以上か否かを判定する。

ここで、相対湿度が薬液噴霧開始湿度よりも低い場合（ステップＳ１－３において「ＮＯ」の場合）、制御ユニット５０は、水の噴霧処理を実行する（ステップＳ１－４）。具体的には、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、液体切替バルブ２５を制御して、水供給管２１ａと液体供給管２６とを接続し、水タンク２１から二流体ノズル３５に水を供給する。更に、除菌管理部５１は、コンプレッサＣ１を起動し、気体供給バルブＶ１を開いて、圧縮空気を二流体ノズル３５に供給する。これにより、二流体ノズル３５から水が噴霧されて、部屋Ｒ１内が加湿され、部屋Ｒ１の湿度が上昇する。なお、この水の噴霧処理においては、薬液噴霧開始湿度（６０％ＲＨ）までしか上昇させない。比較的低湿度であるため、制御ユニット５０は、回動機構部３０を駆動せず、二流体ノズル３５は、噴霧方向を固定した状態で水を噴霧する。そして、湿度計測部Ｍ１からの相対湿度が、薬液噴霧開始湿度以上となるまで水の噴霧を継続する。

次に、制御ユニット５０は、薬液の噴霧処理を実行する（ステップＳ１－５）。この処理の詳細については後述する。
この場所での薬液の噴霧処理を終了した場合、制御ユニット５０は、除菌終了か否かの判定処理を実行する（ステップＳ１－６）。具体的には、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、未除菌の空間が残っている場合には、除菌終了でないと判定する。

この場合（ステップＳ１－６において「ＮＯ」の場合）、制御ユニット５０は、移動処理を実行する（ステップＳ１－７）。具体的には、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、移動機構部Ｗ１を駆動して、移動方向に対して、移動間隔量だけ除菌装置１０を移動させる。例えば、図５に示す矢印の方向で除菌装置１０が、順次、移動する。そして、移動した後、制御ユニット５０は、ステップＳ１－１以降の処理を実行する。
一方、制御ユニット５０は、部屋Ｒ１全体の除菌を完了したと判定した場合（ステップＳ１－６において「ＹＥＳ」の場合）には、除菌処理を終了する。

（噴霧領域の特定処理）
次に、図５を用いて、上述した噴霧領域の特定処理（ステップＳ１－１）の詳細について説明する。

まず、制御ユニット５０の除菌管理部５１は、カメラ３３の撮影画像に含まれる被写体の距離や撮影時の回転台３０ａの角度を用いて、現在位置の周囲において、障害物があるか否かの判定を行なう。この場合、画像認識により障害物を特定してもよい。
ここで、障害物がないと判定した場合、除菌管理部５１は、全噴霧方向に対して噴霧を行なう。例えば、図５の部屋Ｒ１に障害物Ｂ１がある場合を想定する。この場合、除菌装置１０が位置Ｐ１にある場合には、除菌対象区画Ａ１内には障害物Ｂ１がないため、除菌対象区画Ａ１のすべてを噴霧予定領域とし、全部の噴霧方向について噴霧を行なう。

一方、障害物があると判定した場合、除菌管理部５１は、画像から、その障害物の方向及び距離を特定する。そして、障害物が除菌対象区画内に位置していると判定した場合には、除菌管理部５１は、その障害物への噴霧方向を噴霧除外領域と設定する。そして、除菌管理部５１は、この噴霧除外領域を除く噴霧予定領域に対応した噴霧方向を特定する。

例えば、図５において、除菌装置１０が位置Ｐ３に移動した場合、障害物Ｂ１は、移動先の位置Ｐ３における除菌対象区画Ａ３内に含まれる。このため、除菌管理部５１は、障害物Ｂ１が存在する噴霧方向を噴霧除外領域として特定する。そして、除菌装置１０の制御ユニット５０は、噴霧除外領域以外を噴霧予定領域とし、これに対応する噴霧方向を特定する。

（薬液の噴霧処理）
次に、図４及び図５を用いて、薬液の噴霧処理（ステップＳ１－５）を説明する。
制御ユニット５０は、噴霧処理を実行する（ステップＳ２－１）。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、液体切替バルブ２５の切替操作により、薬液タンク２２と液体供給管２６とを接続させて、薬液を二流体ノズル３５に供給する。また、水の噴霧処理（ステップＳ１－４）をスキップして圧縮空気が二流体ノズル３５に供給されていない場合には、噴霧制御部５２は、コンプレッサＣ１を起動し、気体供給バルブＶ１を切り替えて、圧縮空気も二流体ノズル３５に供給する。

これにより、二流体ノズル３５には、薬液と圧縮空気とが供給され、二流体ノズル３５の噴霧口３５ａから薬液が噴霧される。そして、薬液の噴霧によって、部屋Ｒ１の相対湿度が上昇する。

次に、制御ユニット５０は、噴霧予定時間が経過したか否かの判定処理を実行する（ステップＳ２－２）。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、システムタイマに基づいて、噴霧開始からの経過時間を計測し、経過時間と、噴霧予定時間とを比較する。ここで、噴霧予定時間を経過していない場合（ステップＳ２－２において「ＮＯ」の場合）には、噴霧制御部５２は、薬液を噴霧し続ける。

一方、経過時間が噴霧予定時間を経過した場合（ステップＳ２－２において「ＹＥＳ」の場合）、制御ユニット５０は、全方向の噴霧を終了したか否かの判定処理を実行する（ステップＳ２－３）。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、この地点において、噴霧予定領域のすべての噴霧方向について噴霧を行なったか否かを判定する。

噴霧予定領域内において未噴霧の方向があり、全方向の噴霧は終了していないと判定した場合（ステップＳ２－３において「ＮＯ」の場合）、制御ユニット５０は、二流体ノズルの回転処理を実行する（ステップ２－４）。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、回動機構部３０を駆動して、二流体ノズル３５を、未噴霧の噴霧方向まで回転させる。そして、この噴霧方向で、噴霧処理（ステップＳ２－１）以降の処理を繰り返して実行する。

一方、全方向の噴霧を終了したと判定した場合（ステップＳ２－３において「ＹＥＳ」の場合）、制御ユニット５０は、噴霧停止処理を実行する（ステップＳ２－５）。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、気体供給バルブＶ１を切り替えて、コンプレッサＣ１を停止することにより、二流体ノズル３５への圧縮空気の供給を停止する。これにより、二流体ノズル３５からの噴霧が終了する。

＜二流体ノズルの噴霧方向に対する湿度上昇の実験＞
上述した除菌方法は、以下の噴霧の実験に基づく知見により行なわれたものである。以下の実験においては、相対湿度の上昇変化を、薬液の噴霧の代わりに、水を噴霧して実験している。

図６（ａ）及び図６（ｂ）は、試験装置の平面図及び側面図を示している。
ここで、図６に示すように、回転台６０の上に二流体ノズル６５を固定する。この場合、二流体ノズル６５の噴霧口６５ａを、床面から４０ｃｍの高さに配置する。そして、二流体ノズル６５の２つの噴霧口６５ａを結ぶ線Ｌ１上において、二流体ノズル６５から１ｍ間隔で温湿度ロガーＭａ１，Ｍａ２，Ｍａ３，Ｍａ４を配置する。すなわち、温湿度ロガーＭａ１～Ｍａ４は、それぞれ、二流体ノズル６５の中心から１ｍ、２ｍ、３ｍ、４ｍの位置に配置される。更に、図６（ａ）に示すように、線Ｌ１から０．２５ｍ離間し各温湿度ロガーＭａ１～Ｍａ４に対応する位置に、温湿度ロガーＭｂ１，Ｍｂ２，Ｍｂ３，Ｍｂ４を配置する。更に、線Ｌ１から１ｍ離間し各温湿度ロガーＭａ１～Ｍａ４に対応する位置に、温湿度ロガーＭｃ１，Ｍｃ２，Ｍｃ３，Ｍｃ４を配置する。

この実験に用いた二流体ノズル６５は、スプレーイング社製のノズルであり、ノズルチップ（４．５Ｎ）を取り付け、ミスト径が９～１１μｍのミストを噴霧するノズルを用いた。また、ミスト噴霧量は１００ｍｌ／分で噴霧を行なった。

図７は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線Ｌ１上にある温湿度ロガーＭａ１～Ｍａ４の相対湿度の変化を示す図である。
また、図８（ａ）は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線Ｌ１から０．２５ｍの位置にある温湿度ロガーＭｂ１～Ｍｂ４の相対湿度の変化を示す図である。更に、図８（ｂ）は、ノズルの噴霧方向の変更を行なわなかった場合に、線Ｌ１から１ｍの位置にある温湿度ロガーＭｃ１～Ｍｃ４の相対湿度の変化を示す図である。

図７に示すように、噴霧方向（線Ｌ１上）においては、二流体ノズル６５から４ｍ離れた場所でも、噴霧開始から約６分間で、相対湿度７０％を超えた。また、図８（ａ）に示すように、噴霧方向から０．２５ｍ離れた場所でも、時間は３０分近くを要したが、相対湿度が７０％を超えた。しかし、図８（ｂ）に示すように、噴霧方向から１ｍ離れた場所では、３０分間噴霧し続けても相対湿度７０％超えなかった。

また、図８（ｃ）は、回転台６０を半回転（１８０度）後に、正逆方向に半回転（１８０度）を繰り返して噴霧した場合に、噴霧方向（線Ｌ１上）にある温湿度ロガーＭａ１～Ｍａ４の相対湿度の変化を示す図である。この場合、二流体ノズル６５（回転台６０）の回転速度は、１０秒／１８０度とした。この図に示すように、初期相対湿度約４０％、二流体ノズル６５からの距離が２ｍ離れた場所は約１５分で相対湿度７０％を超えたが、３ｍ以上離れた場所では、３０分間噴霧しても７０％を超えなかった。

以上の実験結果より、二流体ノズル６５の噴霧方向を常に一定又は常に回転させた状態で噴霧するより、一定時間の噴霧した後、噴霧方向を変更して再び一定時間噴霧する噴霧方法のほうが、二流体ノズル６５の周囲の相対湿度を満遍なく迅速に上昇させることができる。

本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態の除菌装置１０は、二流体ノズル３５の噴霧口３５ａを、順次、水平面内の複数の噴霧方向に向けて予め定めた噴霧条件（噴霧時間）で薬液を噴霧する。これにより、広い空間においても、噴霧領域毎に目標湿度に上昇させて、効率的に除菌を行なうことができる。

（２）本実施形態の除菌装置１０の制御ユニット５０は、噴霧領域の特定処理（ステップＳ１－１）。障害物が存在する場合には、噴霧除外領域以外の噴霧領域に薬液を噴霧する。これにより、障害物への湿度上昇を抑えることができる。

（３）本実施形態では、開始湿度が薬液噴霧湿度より低い場合（ステップＳ１－３において「ＮＯ」）の場合、除菌装置１０の制御ユニット５０は、水を噴霧する。これにより、少ない薬液量で効率的に除菌を行なうことができる。

（４）本実施形態では、所定位置での噴霧完了後に、除菌装置１０を移動させて噴霧を行なう。これにより、広い部屋Ｒ１における除菌を効率的に行なうことができる。
（５）本実施形態では、二流体ノズル３５は、前後に２つの噴霧口３５ａを有し、回転台３０ａを、正逆方向に半回転（回動）させて噴霧を行なう。これにより、半回転で、効率的に除菌を行なうことができる。

（６）本実施形態では、二流体ノズル３５を上端部に取り付けたポール２０は、伸縮可能になっている。このため、ポール２０を伸長させて、天井裏等の高い位置での除菌を行なうことができる。

本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・上記実施形態においては、水平面内の複数の噴霧方向における噴霧時間を１５分とした。噴霧時間は、これに限定されない。また、予め定めた時間に限定されるものではない。例えば、除菌対象の空間に配置した湿度計において計測した相対湿度によって噴霧終了時を決めてもよい。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２に、噴霧を終了する目標湿度（例えば７０％ＲＨ）を記憶させる。そして、制御ユニット５０は、噴霧処理（ステップＳ２－１）を実行した後、目標湿度以上になったか否かの判定処理を実行する。具体的には、制御ユニット５０の噴霧制御部５２は、除菌対象区画Ａ１内に位置する湿度計測部Ｍ１からの検出湿度と、目標湿度とを比較する。そして、検出湿度が、目標湿度を超えない場合、噴霧制御部５２は、薬液を噴霧し続ける。一方、検出湿度が目標湿度を超えた場合には、制御ユニット５０は、全方向の噴霧が終了したか否かの判定処理を実行する（ステップＳ２－３）。これにより、除菌対象領域における湿度を確認しながら噴霧を停止することができるので、的確かつ効率的に除菌を行なうことができる。

・上記実施形態においては、制御ユニット５０は、部屋Ｒ１内に設置した湿度計測部Ｍ１の検出湿度を無線で取得した。湿度計測部Ｍ１を、部屋Ｒ１に設置する代わりに、除菌装置１０に取り付け、有線通信で計測湿度を取得してもよい。この場合、除菌装置１０に取り付けた湿度計測部Ｍ１で検出した湿度を補正して、除菌対象区画Ａ１における湿度を予測する。

・上記実施形態においては、制御ユニット５０は、各噴霧方向における噴霧時間を同じ時間とした。噴霧方向に応じて噴霧時間を変更してもよい。具体的には、噴霧予定領域の空間体積を算出し、この体積に基づいて噴霧時間を算出する。例えば、噴霧予定領域に壁が存在する場合は、空間容量が少ないため、噴霧時間を短くする。これにより、空間容量に応じて効率的に噴霧を行なうことができる。

・上記実施形態においては、筐体１１の長手方向に対して、０，±４５度の３方向で噴霧する。噴霧の方向間隔は、これに限定されるものではない。また、噴霧方向は、除菌する空間の形状等によっては、等間隔でなくてもよい。具体的には、噴霧方向の空間容量に基づいて、噴霧方向を決定すればよい。

・上記実施形態において、制御ユニット５０は、水の噴霧処理（ステップＳ１－４）においては、二流体ノズル３５を固定して水を噴霧する。水の噴霧方法は、一方向に限られず、薬液の噴霧処理と同様に、複数の噴霧方向に対して水を噴霧してもよいし、二流体ノズル３５を噴霧させながら回動させることを繰り返してもよい。

・上記実施形態において、除菌装置１０には、駆動輪１５が取り付けられている。制御ユニット５０は、移動機構部Ｗ１を制御することにより、駆動輪１５を駆動させて、除菌装置１０を移動させる。除菌装置１０を移動する移動機構は、駆動輪１５を用いた機構に限られない。例えば、メカナムホイールやオムニホイール（登録商標）等、直進移動及び中心軸回りの旋回が可能な移動機構を用いてもよい。

・上記実施形態においては、水平面内における複数の噴霧方向に順次、噴霧口３５ａを向けて、噴霧時間分、薬液を噴霧した。複数の噴霧方向に噴霧口を向けたときの予め定められた噴霧条件は、噴霧時間に限定されない。例えば、水平面に対する噴霧口の角度や噴霧する際の圧力等であってもよい。

・上記実施形態においては、カメラ３３によって撮影された画像を、噴霧予定領域を特定するために用いた。カメラ（撮像装置）によって撮影された画像は、噴霧予定領域を特定する以外に用いてもよい。例えば、二流体ノズル３５の設置高さを決定するために用いてもよい。具体的には、ポール２０を伸縮させる昇降機構を、ポール２０に設ける。制御ユニット５０は、昇降機構を駆動して、二流体ノズル３５の噴霧口３５ａの高さを調整する。この場合、制御ユニット５０に、ポール２０の伸縮に応じた二流体ノズル３５の可動範囲（可動昇降高さ）を記憶しておく。
制御ユニット５０は、噴霧領域の特定処理（ステップＳ１－１）において障害物を特定した後、画像を用いて、この障害物Ｂ１の高さを特定する。そして、制御ユニット５０は、障害物Ｂ１の高さと可動昇降高さとを比較し、障害物Ｂ１より二流体ノズル３５の噴霧口３５ａを高くできると判定した場合、障害物Ｂ１より噴霧口３５ａが高い位置となるように、昇降機構を制御する。これにより、二流体ノズル３５の噴霧口３５ａからの噴霧ミストが直接、障害物Ｂ１に当たらないようにすることができる。
また、天井裏に薬剤を噴霧し除カビする際において、カメラ３３によって撮影された画像を用いて、噴霧ミストが直接障害物に当たらない高さにノズルを設置してもよい。

・上記実施形態においては、制御ユニット５０が、二流体ノズル３５を回転する回動機構部３０及び除菌装置１０を移動させる。二流体ノズル３５の回転や除菌装置１０の移動は手動で行なってもよい。また、噴霧する薬液は、殺菌する部屋の大きさや薬液量等によって変更してもよい。

Ａ１…除菌対象区画、Ｂ１…障害物、Ｃ１…コンプレッサ、Ｄ１…ドア、Ｌ１…線、Ｍ１…湿度計測部、Ｍａ１，Ｍａ２，Ｍａ３，Ｍａ４，Ｍｂ１，Ｍｂ２，Ｍｂ３，Ｍｂ４，Ｍｃ１，Ｍｃ２，Ｍｃ３，Ｍｃ４…温湿度ロガー、Ｐ１，Ｐ２…位置、Ｒ１…部屋、Ｖ１…気体供給バルブ、Ｗ１…移動機構部、１０…除菌装置、１１…筐体、１２…蓋、１５…駆動輪、２０…ポール、２１…水タンク、２１ａ…水供給管、２２…薬液タンク、２２ａ…薬液供給管、２３，２４…重量計、２５…液体切替バルブ、２６…液体供給管、２７…気体制御部、２８…電気制御部、３０…回動機構部、３０ａ…回転台、３１…取付部材、３３…カメラ、３５，６５…二流体ノズル、３５ａ，６５ａ…噴霧口、３７，３８…取入部、５０…制御ユニット、５１…除菌管理部、５２…噴霧制御部、５５…操作部、５６…表示部、６０…回転台。

Claims (4)

1. 薬液タンクに貯蔵されている薬液と気体とを供給した二流体ノズルの噴霧口から前記薬液を噴霧して、空間内を除菌する除菌方法であって、
   鉛直方向に伸縮可能な支持体に前記二流体ノズルを保持させて、
   前記薬液タンクから送液された前記薬液と、コンプレッサから空気とが供給される前記二流体ノズルにおいて、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、噴霧する際に、前記噴霧方向に前記噴霧口を向けて予め定められた噴霧時間で前記薬液を噴霧した後、次の前記噴霧方向に前記噴霧口を向けることを繰り返し、
   前記噴霧時間は、前記空間内の噴霧予定領域内において前記薬液の噴霧を行なったときの相対湿度が目標湿度以上となる時間であることを特徴とする除菌方法。
2. 前記空間内に障害物が存在する噴霧除外領域を除いた噴霧予定領域において、前記薬液を噴霧することを特徴とする請求項１に記載の除菌方法。
3. 複数の噴霧方向について噴霧が終了した後、前記二流体ノズルを移動させ、移動先において水平面内における複数の噴霧方向に、順次、前記噴霧口を向けて、前記薬液を噴霧することを特徴とする請求項１又は２に記載の除菌方法。
4. 薬液を貯蔵する薬液タンクと、
   気体を圧縮するコンプレッサと、
   前記薬液と前記気体とを供給して噴霧口から前記薬液を噴霧する二流体ノズルと、
   前記二流体ノズルを保持し鉛直方向に伸縮可能な支持体と、
   前記二流体ノズルを、鉛直軸を中心として回転させる回転機構部と、
   水平面内における複数の噴霧方向に、順次、前記噴霧口が向くように、前記回転機構部を制御することにより、前記薬液を噴霧させるように制御する制御部とを備え、
   前記制御部は、水平面内における複数の噴霧方向に、順次、噴霧する際に、前記噴霧方向に前記噴霧口を向けて予め定められた噴霧時間で前記薬液を噴霧した後、次の前記噴霧方向に前記噴霧口を向けることを繰り返し、
   前記噴霧時間は、空間内の噴霧予定領域内において前記薬液の噴霧を行なったときの相対湿度が目標湿度以上となる時間であることを特徴とする除菌装置。

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