JP7182686B2 - 光学異方性膜、積層体、円偏光板、表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学異方性膜、積層体、円偏光板、および、表示装置に関する。

屈折率異方性を持つ位相差膜（光学異方性膜）は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなど種々の用途に適用されている。
近年、逆波長分散性を示す光学異方性膜の検討がなされている（特許文献１）。なお、逆波長分散性とは、可視光線領域の少なくとも一部の波長領域において、測定波長が長いほど複屈折が大きくなる「負の分散」特性を意味する。

特開２００８－２７３９２５号公報

一方で、従来の光学異方性膜が示す厚み方向の位相差の逆波長分散性は必ずしも十分ではなく、更なる改良が必要であった。
より具体的には、厚み方向に位相差を有する光学異方性膜の理想の１つとしては、測定波長に対する、可視光線領域において厚み方向のレタデーションの比が、各測定波長で同じであることが好ましい。例えば、比１（波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーション／５５０ｎｍ）と、比２（波長６５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーション／６５０ｎｍ）とが同じであることが望ましい。しかし、従来の光学異方性膜においては、可視光線領域の長波長側において、理想曲線から外れる傾向にあった。なお、本明細書では、光学特性が理想曲線に近づくことを、逆波長分散性が優れるという。
本発明の第１実施態様は、上記実情に鑑みて、厚み方向の位相差が優れた逆波長分散性を示す光学異方性膜を提供することを目的とする。
また、本発明の第２実施態様は、面内方向の位相差が優れた逆波長分散性を示す光学異方性膜を提供することを目的とする。
また、本発明は、積層体、円偏光板および表示装置を提供することも目的とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果以下の構成により上記目的を達成できることを見出した。

（１） 後述する要件１～４を満たす光学異方性膜。
（２） 液晶化合物またはポリマー、および、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて形成された、（１）に記載の光学異方性膜。
（３） 赤外線吸収色素が、後述する式（１）で表される化合物である、（２）に記載の光学異方性膜。
（４） 組成物が液晶化合物を含み、
液晶化合物を垂直配向させて固定化してなる、（１）～（３）のいずれかに記載の光学異方性膜。
（５） （１）～（４）のいずれかに記載の光学異方性膜と、光学異方性膜とは異なる他の光学異方性膜とを含む、積層体。
（６） 他の光学異方性膜が、λ／４板である、（５）に記載の積層体。
（７） （１）～（４）のいずれかに記載の光学異方性膜と、λ／４板と、偏光子とを有する、円偏光板。
（８） 表示素子と、表示素子上に配置された（１）～（４）のいずれかに記載の光学異方性膜とを有する、表示装置。

本発明の第１実施態様によれば、厚み方向の位相差が優れた逆波長分散性を示す光学異方性膜を提供できる。
また、本発明の第２実施態様によれば、面内方向の位相差が優れた逆波長分散性を示す光学異方性膜を提供できる。
また、本発明によれば、積層体、円偏光板および表示装置を提供できる。

従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜の波長分散と理想の位相差の波長分散との比較を示す図である。 要件１を説明するための図である。 光学異方性膜の吸収特性を示すための図である。 有機分子の屈折率と吸収係数との波長分散特性を示す図である。 従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜の波長分散と理想の位相差の波長分散との比較を示す図である。 所定の吸収特性の有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏの波長分散の比較を示す図である。 実施例１の光学異方性膜における極角４５°での赤外線領域での吸収スペクトル図である。 実施例２の光学異方性膜における極角４５°での赤外線領域での吸収スペクトル図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

なお、本明細書では、「可視光線」とは、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の光を意図する。また、「赤外線」とは、波長７００ｎｍ以上の光を意図し、「近赤外線」とは、波長７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下の光を意図し、「紫外線」とは、波長１０ｎｍ以上４００ｎｍ未満の光を意図する。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」などの角度）、およびその関係（例えば「直交」および「平行」など）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

本明細書において表記される２価の基（例えば、－Ｏ－ＣＯ－）の結合方向は特に制限されず、例えば、後述する式（Ｉ）中のＤ^１が－Ｏ－ＣＯ－である場合、Ａｒ側に結合している位置を＊１、Ｇ^１側に結合している位置を＊２とすると、Ｄ^１は＊１－Ｏ－ＣＯ－＊２であってもよく、＊１－ＣＯ－Ｏ－＊２であってもよい。

図１に、測定波長５５０ｎｍでの厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）を１として規格化した可視光線領域での各波長におけるＲｔｈの波長分散特性を示す。例えば、測定波長に対する、可視光線領域において厚み方向のレタデーションの比が１／４である場合、図１の点線に示すように、複屈折が測定波長に対し比例関係にあるため、測定波長が長いほど位相差が大きくなる逆波長分散性を有する。それに対して、従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜は、図１の実線に示すように、短波長領域においては点線で示す理想曲線と重なる位置にもあるが、長波長領域においては理想曲線から外れる傾向を示す。
本発明の光学異方性膜においては、光学特性を制御することにより、白抜き矢印で示すように、長波長領域における光学特性を理想曲線に近づけることができる。

上記特性が得られる理由を以下に説明する。
まず、後述する要件１～３によって満たされる本発明の光学異方性膜の特徴について説明する。
まず、要件１について説明する。
図２に示すように、要件１においては、光学異方性膜の膜表面の法線方向から４５°傾けた方向から、互いに直交する直線偏光であるＰ偏光およびＳ偏光をそれぞれ照射する。その際に、波長７００～９００ｎｍの範囲で最も吸収の大きい波長における吸収強度（吸光度）において、Ｐ偏光を照射した際の吸収強度に対するＳ偏光を照射した際の吸収強度の比（Ｓ偏光の吸収強度／Ｐ偏光の吸収強度）を求め、その比が１．０２以上である（具体的な吸収スペクトル図は、後述する図７を参照）。上記のように比が１．０２以上であることは、光学異方性膜の厚み方向と面内方向とにおいて、吸収の異方性があることを意味する。
さらに、光学異方性膜は要件２（Ｒｅ（５５０）＜１０ｎｍ）および要件３（Ｒｅ（８００）＜１０ｎｍ）は、光学異方性膜の面内方向において、屈折率の異方性が小さいことを意味する。言い換えれば、面内の互いに直交する方向における吸収の異方性が小さいことを意味する。
要件１～３を満たす光学異方性膜は、波長７００～９００ｎｍの範囲において、面内方向における吸収が、厚み方向の吸収よりも大きい。より具体的には、図３に示すように、面内のｘ軸方向とｙ軸方向とでは同程度の吸収特性を示し、ｚ軸方向の吸収はｘ軸方向およびｙ軸方向の吸収より小さい。

次に、一般的な有機分子の屈折率波長分散特性について図４を参照しながら説明する。図４中、上側は波長に対する屈折率の挙動を示し、下側では波長に対する吸収特性の挙動（吸収スペクトル）を示す。
有機分子は、固有吸収波長から離れた領域（図４のａの領域）における屈折率ｎは波長が増すと共に単調に減少する。このような分散は「正常分散」と言われる。これに対して、固有吸収を含む波長域（図４のｂの領域）における屈折率ｎは、波長が増すと共に急激に増加する。このような分散は「異常分散」と言われる。
つまり、図４に示すように、吸収がある波長領域の直前においては屈折率の増減が観察される。

本発明の光学異方性膜においては、上記要件１～３で示される光学異方性膜の特性によって、波長７００～９００ｎｍの範囲において、面内方向における吸収が、厚み方向の吸収よりも大きい。以後、このような吸収特性を、吸収特性Ｘともいう。後段で詳述するように、上記吸収特性Ｘは、光学異方性膜中において赤外線吸収色素の吸光度の高い軸方向を面内方向と平行になるように配置することにより達成される。
吸収特性Ｘを示す光学異方性膜においては、吸収特性Ｘの影響を受けて、図４で説明した挙動によって、可視光線領域の長波長領域にて厚み方向のレタデーションが大きくなり、図１に示す矢印の挙動が達成される。
以下、上記要件１～４を満たす本発明の光学異方性膜（以後、「光学異方性膜Ｘ」ともいう）（本発明の第１実施態様に該当）の構成について詳述する。

光学異方性膜Ｘは要件１を満たす。
要件１：光学異方性膜の膜表面の法線方向から４５°傾けた方向から、互いに直交する直線偏光であるＰ偏光およびＳ偏光をそれぞれ照射した際に、波長７００～９００ｎｍの範囲で最も吸収の大きい波長における吸収強度において、Ｐ偏光を照射した際の吸収強度に対するＳ偏光を照射した際の吸収強度の比が１．０２以上である。
上記吸収強度の比は１．０２以上であればよく、光学異方性膜Ｘの厚み方向の位相差がより優れた逆波長分散性を示す点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、１．０５以上が好ましく、１．０８以上がより好ましい。上限は特に制限されないが１．１７以下が好ましく、１．１５以下がより好ましい。
要件１の測定方法としては、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、極角４５°での赤外線領域での吸収を測定する方法が挙げられる。

光学異方性膜Ｘは、要件２を満たす。
要件２：Ｒｅ（５５０）＜１０ｎｍ
Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
なかでも、上記Ｒｅ（５５０）は５ｎｍ以下が好ましい。下限は特に制限されないが、０ｎｍ以上が挙げられる。

光学異方性膜Ｘは、要件３を満たす。
要件２：Ｒｅ（８００）＜１０ｎｍ
Ｒｅ（８００）は波長８００ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
なかでも、上記Ｒｅ（８００）は５ｎｍ以下が好ましい。下限は特に制限されないが、０ｎｍ以上が挙げられる。

光学異方性膜Ｘは、要件４を満たす。
要件４：Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１．００
Ｒｔｈ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける光学異方性膜の厚み方向のレタデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の厚み方向のレタデーションを表す。
なかでも、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）は、０．９７以下が好ましく、０．９２以下がより好ましく、０．８７以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．７５以上の場合が多い。

光学異方性膜Ｘは、要件５を満たすことが好ましい。
要件５ Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）＞１．００
Ｒｔｈ（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける光学異方性膜の厚み方向のレタデーションを表す。
なかでも、Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）は、１．０５以上が好ましく、１．０８以上がより好ましく、１．１０以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１．２５以下が好ましく、１．２０以下がより好ましい。

光学異方性膜Ｘの厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、０．５～８．０μｍがより好ましく、０．５～６．０μｍがさらに好ましい。
なお、本明細書において、光学異方性膜Ｘの厚みとは、光学異方性膜Ｘの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、光学異方性膜Ｘの任意の５箇所以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

光学異方性膜Ｘに含まれる材料は、上記要件１～４を満たせば特に制限されない。
光学異方性膜Ｘは、赤外線吸収色素を含むことが好ましい。光学異方性膜Ｘが赤外線吸収色素を含むことにより、要件１を満たしやすくなる。
光学異方性膜Ｘは、赤外線吸収色素以外にも、赤外線吸収色素を分散させるためのマトリックス材料を含んでいてもよい。
マトリックス材料としては、例えば、後述する重合性液晶化合物が重合して得られる高分子化合物、および、後述するポリマーが挙げられる。
また、光学異方性膜Ｘは、赤外線吸収色素由来の残基（以後、単に「赤外線吸収色素残基」ともいう。）を有するポリマー（以後、「特定ポリマー」ともいう。）を含むことも好ましい。光学異方性膜Ｘが特定ポリマーを含む場合、光学異方性膜Ｘは上記マトリックス材料を含んでいてもよい。
なお、赤外線吸収色素由来の残基とは、赤外線吸収色素から任意の水素原子を除いて得られる基を意味し、例えば、１つの水素原子が除かれた場合は１価の赤外線吸収色素残基となり、２つの水素原子が除かれた場合は２価の赤外線吸収色素残基となる。
特定ポリマーの分子量は特に制限されないが、重量平均分子量が５０００以上であることが好ましく、１００００以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、１００００００以下の場合が多い。

（好適態様１）
光学異方性膜Ｘの好適態様の一つとしては、液晶化合物と、赤外線吸収色素とを含む組成物を用いて形成された光学異方性膜Ｘが挙げられる。特に、液晶化合物を垂直配向させて固定化してなる光学異方性膜であって、赤外線吸収色素を含む光学異方性膜Ｘが好ましい。
以下、上記組成物に含まれる成分について説明する。

（赤外線吸収色素）
赤外線吸収色素とは、赤外線領域に極大吸収波長を有する色素である。
赤外線吸収色素の分子量は特に制限されないが、５０００未満が好ましい。下限は特に制限されないが、５００以上の場合が多い。
なお、本明細書において、赤外線吸収色素はいわゆる低分子化合物であり、赤外線吸収色素には、複数の繰り返し単位を有する化合物は含まれない。つまり、特定ポリマーは、赤外線吸収色素とは、別化合物に該当する（言い換えれば、特定ポリマーは、赤外線吸収色素には含まれない）。

赤外線吸収色素としては、例えば、ジケトピロロピロール系色素、ジインモニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アゾ系色素、ポリメチン系色素、アントラキノン系色素、ピリリウム系色素、スクアリリウム系色素、トリフェニルメタン系色素、シアニン系色素、および、アミニウム系色素などが挙げられる。
赤外線吸収色素は１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

赤外線吸収色素としては、近赤外線領域に極大吸収波長を有する色素（近赤外線吸収色素）が好ましい。
赤外線吸収色素の極大吸収波長は、本発明の効果がより優れる点で、波長７００～１２００ｎｍの範囲に位置することが好ましく、波長７００～９００ｎｍの範囲に位置することがより好ましい。
本発明の効果がより優れる点で、赤外線吸収色素の波長７００～９００ｎｍの吸光度の積算値は、赤外線吸収色素の波長４００～７００ｎｍの吸光度の積算値よりも大きいことが好ましい。
上記吸光度の積算値とは、Ｘ～Ｙｎｍにおけるそれぞれの波長における吸光度を合計した値である。
上記測定は、分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

なお、赤外線吸収色素は、二色性色素であることが好ましい。なお、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。

本発明の効果がより優れる点で、赤外線吸収色素はメソゲン基を有することが好ましい。赤外線吸収色素がメソゲン基を有することにより、後述する液晶化合物と共に配向しやすく、所定の吸収特性の制御がしやすい。
メソゲン基とは、剛直かつ配向性を有する官能基である。メソゲン基の構造としては、例えば、芳香環基（芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基）および脂環基からなる群から選択される基が、複数個、直接または連結基（例えば、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｒ^０）_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＮＲ^０－、または、これらの組み合わせ（例えば、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ^０－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＮＲＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ－、および、－Ｃ≡Ｃ－Ｃ≡Ｃ－）を表す。なお、Ｒ^０は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表す。）を介して連なった構造が挙げられる。

赤外線吸収色素の好適態様としては、式（１）で表される化合物が挙げられる。
式（１）で表される化合物は、可視光線領域の吸収が少なく、得られる光学異方性膜の着色がより抑制される。また、この化合物はメソゲン基を有する基を含むことから、液晶化合物と共に配向しやすい。その際、化合物の中心にある窒素原子を含む縮合環部分から横方向に延びる形でメソゲン基を有する基が配置されているため、液晶化合物の配向方向に対して、上記縮合環部分が直交する方向に配列しやすい。従って、例えば、液晶化合物が光学異方性膜Ｘの厚み方向に沿って配向する場合には、光学異方性膜の厚み方向に直交する方向（面内方向）に、縮合環部分に由来する近赤外線領域（特に、波長７００～９００ｎｍ）における吸収が得られやすく、所望の特性を示す光学異方性膜が得られやすい。

Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、Ｒ^１１およびＲ^１２は結合して環を形成してもよい。
置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（例えば、ヘテロアリール基）、シリル基、および、これらを組み合わせた基などが挙げられる。なお、上記置換基は、さらに置換基で置換されていてもよい。
なお、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基としては、後述するメソゲン基を有する基以外の基が好ましい。

電子吸引性基としては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基を表し、例えば、シアノ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルフィニル基、および、ヘテロ環基が挙げられる。
これら電子吸引性基はさらに置換されていてもよい。
ハメットの置換基定数σ値について説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編、「Ｌａｎｇｅ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版，１９７９年（Ｍｃ Ｇｒａｗ－Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊，１２２号，９６～１０３頁，１９７９年（南光堂）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９１年，９１巻，１６５～１９５ページなどに詳しい。本発明において電子吸引性基としては、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の置換基が好ましい。σｐ値としては、０．２５以上が好ましく、０．３０以上がより好ましく、０．３５以上がさらに好ましい。上限は特に制限はないが、０．８０以下が好ましい。
具体例としては、シアノ基（０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：０．４５）、アルコキシカルボニル基（－ＣＯＯＭｅ：０．４５）、アリールオキシカルボニル基（－ＣＯＯＰｈ：０．４４）、カルバモイル基（－ＣＯＮＨ_２：０．３６）、アルキルカルボニル基（－ＣＯＭｅ：０．５０）、アリールカルボニル基（－ＣＯＰｈ：０．４３）、アルキルスルホニル基（－ＳＯ_２Ｍｅ：０．７２）、および、アリールスルホニル基（－ＳＯ_２Ｐｈ：０．６８）が挙げられる。
本明細書において、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、括弧内の値は代表的な置換基のσｐ値をＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９１年，９１巻，１６５～１９５ページから抜粋したものである。

Ｒ^１１およびＲ^１２が結合して環を形成する場合は、５～７員環（好ましくは５～６員環）の環を形成し、形成される環としては通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましい。
Ｒ^１１およびＲ^１２が結合して形成される環としては、１，３－ジカルボニル核、ピラゾリノン核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、２－チオ－２，４－チアゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－オキサゾリジンジオン核、２－チオ－２，５－チアゾリジンジオン核、２，４－チアゾリジンジオン核、２，４－イミダゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－イミダゾリジンジオン核、２－イミダゾリン－５－オン核、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核が好ましい。

Ｒ^１１は、ヘテロ環基であることが好ましく、芳香族ヘテロ環基であることがより好ましい。ヘテロ環基は、単環であっても、多環であってもよい。ヘテロ環基としては、ピラゾール環基、チアゾール環基、オキサゾール環基、イミダゾール環基、オキサジアゾール環基、チアジアゾール環基、トリアゾール環基、ピリジン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、これらのベンゾ縮環基（例えば、ベンゾチアゾール環基、ベンゾピラジン環基）もしくはナフト縮環基、または、これら縮環の複合体が好ましい。
上記ヘテロ環基には、置換基が置換していてもよい。置換基としては、上述したＲ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した置換基の例が挙げられる。

Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素（－Ｂ（Ｒａ）_２、Ｒａは置換基を表す）または金属原子を表し、Ｒ^１１と共有結合または配位結合していてもよい。
Ｒ^１３で表される置換ホウ素の置換基は、Ｒ^１１およびＲ^１２について上述した置換基と同義であり、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましい。置換ホウ素の置換基（例えば、上述した、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基）は、さらに置換基で置換されていてもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
また、Ｒ^１３で表される金属原子は、遷移金属原子、マグネシウム原子、アルミニウム原子、カルシウム原子、バリウム原子、亜鉛原子、または、スズ原子が好ましく、アルミニウム原子、亜鉛原子、スズ原子、バナジウム原子、鉄原子、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、パラジウム原子、イリジウム原子、または、白金原子がより好ましい。

Ｒ^１４は、それぞれ独立に、メソゲン基を有する基を表す。メソゲン基の定義は、上述した通りである。
Ｒ^１４は、式（２）で表される基であることが好ましい。＊は、結合位置を表す。
式（２） ＊－Ｍ^１－（Ｘ^１－Ｍ^２）_ｎ－Ｘ^２－Ｐ
Ｍ^１は、置換もしくは無置換のアリーレン基、または、置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基を表す。アリーレン基としては、フェニレン基が挙げられる。ヘテロアリーレン基としては、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環（例えば、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラジン環）もしくはナフト縮環、または、これら縮環の複合体から任意の２つの水素原子を除いた２価の基が挙げられる。上記アリーレン基および上記ヘテロアリーレン基が置換基を有する場合、置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
Ｘ^１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｒ^０）_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＮＲ^０－、または、これらの組み合わせ（例えば、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ^０－、－ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＮＲＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ－、および、－Ｃ≡Ｃ－Ｃ≡Ｃ－）を表す。Ｒ^０は、水素原子または炭素数１～５のアルキル基を表す。
Ｍ^２は、置換もしくは無置換のアリーレン基、置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基、または、置換もしくは無置換のシクロアルキレン基を表す。アリーレン基としては、フェニレン基が挙げられる。ヘテロアリーレン基としては、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、これらのベンゾ縮環（例えば、ベンゾチアゾール環、ベンゾピラジン環）もしくはナフト縮環、または、これら縮環の複合体から任意の２つの水素原子を除いた２価の基が挙げられる。シクロアルキレン基に含まれる炭素数は、５～７が好ましい。上記アリーレン基、上記ヘテロアリーレン基、および、上記シクロアルキレン基が置換基を有する場合、置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基で例示した基が挙げられる。
Ｘ^２は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基（例えば、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数１～１０のアルケニレン基、および、炭素数１～１０のアルキニレン基などの２価の脂肪族炭化水素基、アリーレン基などの２価の芳香族炭化水素基）、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、－ＣＯ－、または、これらを組み合わせた基（例えば、－Ｏ－２価の炭化水素基－、－（Ｏ－２価の炭化水素基）_ｍ－Ｏ－（ｍは、１以上の整数を表す）、および、－２価の炭化水素基－Ｏ－ＣＯ－など）が挙げられる。Ｑは、水素原子またはアルキル基を表す。
ｎは１～１０を表す。なかでも、１～５が好ましく、２～４がより好ましい。
Ｐは、水素原子、または、重合性基を表す。重合性基の定義は、後述する液晶化合物が有していてもよい重合性基の定義と同義である。

赤外線吸収色素は、式（３）で表される化合物であることがより好ましい。

Ｒ^１４の定義は、上述した通りである。
Ｒ^２２は、それぞれ独立に、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、または、含窒素ヘテロアリール基を表す。
Ｒ^１５およびＲ^１６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表し、Ｒ^１５およびＲ^１６は結合して環を形成してよい。形成される環としては、炭素数５～１０の脂環、炭素数６～１０の芳香族炭化水素環、または、炭素数３～１０の芳香族複素環が挙げられる。Ｒ^１５およびＲ^１６が結合して形成される環には、さらに置換基が置換していてもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基の説明で例示した基が挙げられる。
Ｒ^１７およびＲ^１８は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。Ｒ^１７およびＲ^１８で表される基には、さらに置換基が置換してもよい。置換基としては、Ｒ^１１およびＲ^１２で表される置換基の説明で例示した基が挙げられる。
Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ－、－ＣＲＲ’－、－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｎ＝ＣＨ－を表し、ＲおよびＲ’は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表す。

組成物中における赤外線吸収色素の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、液晶化合物全質量に対して、５～７０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましい。

＜液晶化合物＞
液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。

液晶化合物の極大吸収波長の位置は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、紫外線領域に位置することが好ましい。

液晶化合物は、逆波長分散性液晶化合物であることが好ましい。逆波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜が逆波長分散性を示す化合物を意味する。つまり、逆波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜の面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなり、理想曲線に近づくような化合物を意味する。

光学特性の温度変化および湿度変化を小さくできることから、液晶化合物としては、重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）が好ましい。液晶化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合、少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、光学異方性膜は、重合性液晶化合物を含む組成物が重合などによって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
上記重合性基の種類は特に制限されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、公知のラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、公知のカチオン重合性基を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基またはビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、または、ビニルオキシ基がより好ましい。
特に、好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。

なかでも、液晶化合物としては、式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｉ） Ｌ^１－ＳＰ^１－Ａ^１－Ｄ^３－Ｇ^１－Ｄ^１－Ａｒ－Ｄ^２－Ｇ^２－Ｄ^４－Ａ^２－ＳＰ^２－Ｌ^２
上記式（Ｉ）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｄ^３およびＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１４の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基（例えば、アルキル基、または、重合性基）を表す。
なお、Ａｒが後述する式（Ａｒ－１）、式（Ａｒ－２）、式（Ａｒ－４）、または、式（Ａｒ－５）で表される基である場合、Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。また、Ａｒが、後述する式（Ａｒ－３）で表される基である場合は、Ｌ^１およびＬ^２ならびに下記式（Ａｒ－３）中のＬ^３およびＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。

上記式（Ｉ）中、Ｇ^１およびＧ^２が示す炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環または６員環が好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和脂環式炭化水素基でも不飽和脂環式炭化水素基でもよいが、飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ^１およびＧ^２で表される２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２－２１０６８号公報の段落００７８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、および、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、および、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；が挙げられる。なかでも、ベンゼン環（例えば、１，４－フェニル基など）が好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａ^１およびＡ^２が示す炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、例えば、シクロヘキサン環、および、シクロヘキセン環などが挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン－１，４－ジイル基など）が好ましい。

上記式（Ｉ）中、ＳＰ^１およびＳＰ^２が示す炭素数１～１４の直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、または、ブチレン基が好ましい。

上記式（Ｉ）中、Ｌ^１およびＬ^２で表される重合性基は、特に制限されないが、ラジカル重合性基（ラジカル重合可能な基）またはカチオン重合性基（カチオン重合可能な基）が好ましい。
ラジカル重合性基の好適範囲は、上述の通りである。

一方、上記式（Ｉ）中、Ａｒは、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、＊１はＤ^１との結合位置を表し、＊２はＤ^２との結合位置を表す。

ここで、上記式（Ａｒ－１）中、Ｑ^１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ^２は、－Ｓ－、－Ｏ－、または、－Ｎ（Ｒ^５）－を表し、Ｒ^５は、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい、炭素数６～１２の芳香族炭化水素環基、または、炭素数３～１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^５が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６～１２の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、および、ナフチル基などのアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３～１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、ピリジル基、および、ベンゾフリル基などのヘテロアリール基が挙げられる。なお、芳香族複素環基には、ベンゼン環と芳香族複素環とが縮合した基も含まれる。
また、Ｙ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、シアノ基、および、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、および、シクロヘキシル基）がより好ましく、炭素数１～４のアルキル基がさらに好ましく、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１～１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－ブトキシ基、および、メトキシエトキシ基）がより好ましく、炭素数１～４のアルコキシ基がさらに好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられ、フッ素原子、または、塩素原子が好ましい。

また、上記式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－７）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＮＲ^６Ｒ^７、または、－ＳＲ^８を表し、Ｒ^６～Ｒ^８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～６のアルキル基を表し、Ｚ^１およびＺ^２は、互いに結合して環を形成してもよい。環は、脂環式、複素環、および、芳香環のいずれであってもよく、芳香環であることが好ましい。なお、形成される環には、置換基が置換していてもよい。
炭素数１～２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～１５のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基（１，１－ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ－ブチル基、または、１，１－ジメチル－３，３－ジメチル－ブチル基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、または、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましい。
炭素数３～２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、および、エチルシクロヘキシル基などの単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、および、シクロデカジエン基などの単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、および、アダマンチル基などの多環式飽和炭化水素基；が挙げられる。
炭素数６～２０の１価の芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、ナフチル基、および、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６～１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子などが挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または、臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ^６～Ｒ^８が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）および（Ａｒ－３）中、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－Ｎ（Ｒ^９）－、－Ｓ－、および、－ＣＯ－からなる群から選択される基を表し、Ｒ^９は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^９が示す置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－２）中、Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族～第１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４族～第１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、および、置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｄ^５およびＤ^６は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｃ（＝Ｓ）Ｏ－、－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＲ^３Ｒ^４－、－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^１Ｒ^２－、－ＣＲ^１Ｒ^２－Ｏ－ＣＯ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＣＲ^１Ｒ^２－ＣＯ－Ｏ－ＣＲ^３Ｒ^４－、－ＮＲ^１－ＣＲ^２Ｒ^３－、または、－ＣＯ－ＮＲ^１－を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または、炭素数１～４のアルキル基を表す。

また、上記式（Ａｒ－３）中、ＳＰ^３およびＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または、炭素数１～１２の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－Ｎ（Ｑ）－、もしくは、－ＣＯ－に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、重合性基を表す。

また、上記式（Ａｒ－３）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基（例えば、アルキル基、または、重合性基）を表し、上述したように、Ｌ^３およびＬ^４ならびに上記式（Ｉ）中のＬ^１およびＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。

また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ－４）～（Ａｒ－７）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２～３０の有機基を表す。
ここで、ＡｘおよびＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、Ｑ^３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＡｘおよびＡｙとしては、ＷＯ２０１４／０１０３２５号の段落００３９～００９５に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１～６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、および、ｎ－ヘキシル基などが挙げられ、置換基としては、上記式（Ａｒ－１）中のＹ^１が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。

なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ａ^１およびＡ^２の少なくとも一方が、炭素数６以上のシクロアルキレン環であることが好ましく、Ａ^１およびＡ^２の一方が、炭素数６以上のシクロアルキレン環であることがより好ましい。

組成物中における液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。つまり、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分を意味する。

なお、組成物は、さらに順波長分散性液晶化合物を含んでいてもよい。順波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜が順波長分散性を示す化合物を意味する。つまり、順波長分散性液晶化合物とは、その化合物を用いて形成される光学異方性膜の面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなるような化合物を意味する。
順波長分散性液晶化合物を加えることで、組成物の波長分散を調節し、より理想波長分散に近い波長分散性を付与することが可能となる。

上記組成物は、上述した赤外線吸収色素、および、液晶化合物以外の成分を含んでいてもよい。
組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α－カルボニル化合物、アシロインエーテル、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
組成物中における重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

また、組成物は、重合性モノマーを含んでいてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。なかでも、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。また、重合性モノマーとしては、上記の重合性基を有する液晶化合物と共重合性のモノマーが好ましい。例えば、特開２００２－２９６４２３号公報中の段落００１８～００２０に記載の重合性モノマーが挙げられる。
組成物中における重合性モノマーの含有量は、液晶化合物の全質量に対して、１～５０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましい。

また、組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特願２００３－２９５２１２号明細書中の段落００６９～０１２６に記載の化合物が挙げられる。

また、組成物は、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、アミド（例：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例：ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例：ピリジン）、炭化水素（例：ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例：クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン）、および、エーテル（例：テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン）が挙げられる。なお、２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

また、組成物は、垂直配向剤、および、水平配向剤などの各種配向制御剤を含んでいてもよい。垂直配向剤は、界面側において液晶化合物を垂直に配向制御可能な化合物である。水平配向剤は、界面側において液晶化合物を水平に配向制御可能な化合物である。
垂直配向剤としては、ボロン酸化合物、および、オニウム塩が挙げられる。

ボロン酸化合物としては、式（２０）で表される化合物が好ましい。

式（２０）

式（２０）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換若しくは無置換のアリール基、または、置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｒ^３は、（メタ）アクリル基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８－２２５２８１号公報の段落００２３～００３２に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物が挙げられる。

オニウム塩としては、式（２１）で表される化合物が好ましい。

式（２１）

式（２１）中、環Ａは、含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンを表す。Ｘは、アニオンを表す。Ｌ^１は、２価の連結基を表す。Ｌ^２は、単結合、または、２価の連結基を表す。Ｙ^１は、５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｚは、２～２０のアルキレン基を部分構造として有する２価の連結基を表す。Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、重合性エチレン性不飽和結合を有する一価の置換基を表す。
オニウム塩の具体例としては、特開２０１２－２０８３９７号公報の段落００５２～００５８号公報に記載のオニウム塩、特開２００８－０２６７３０号公報の段落００２４～００５５に記載のオニウム塩、および、特開２００２－３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。

組成物中の垂直配向剤の含有量は、液晶化合物全質量に対して、０．１～４００質量％が好ましく、０．５～３５０質量％がより好ましい。
垂直配向剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。垂直配向剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。

組成物は、レベリング剤を含むことが好ましい。
レベリング剤は特に制限されず、フッ素原子を含むレベリング剤（フッ素系レベリング剤）、または、ケイ素原子を含むレベリング剤（ケイ素系レベリング剤）が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。

フッ素系レベリング剤としては、脂肪酸の一部がフルオロアルキル基で置換された多価カルボン酸の脂肪酸エステル類、および、フルオロ置換基を有するポリアクリレート類が挙げられる。特に、式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤が好ましい。

式（２２）

Ｒ^０は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
Ｌは、２価の連結基を表す。Ｌとしては、炭素数２～１６のアルキレン基が好ましく、上記アルキレン基において隣接しない任意の－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、または、－ＣＯＮＨ－に置換されていてもよい。
ｎは、１～１８の整数を表す。

式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位を有するレベリング剤は、さらに他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
他の繰り返し単位としては、式（２３）で表される化合物由来の繰り返し単位が挙げられる。

式（２３）

Ｒ^１１は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
Ｘは、酸素原子、硫黄原子、または、－Ｎ（Ｒ^１３）－を表す。Ｒ^１３は、水素原子、または、炭素数１～８のアルキル基を表す。
Ｒ^１２は、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、または、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。上記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれであってもよい。
また、上記アルキル基の有していてもよい置換基としては、ポリ（アルキレンオキシ）基、および、重合性基が挙げられる。重合性基の定義は、上述した通りである。

レベリング剤が、式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位、および、式（２３）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、１５～９５モル％がより好ましい。
レベリング剤が、式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位、および、式（２３）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む場合、式（２３）で表される化合物由来の繰り返し単位の含有量は、レベリング剤が含む全繰り返し単位に対して、１０～９０モル％が好ましく、５～８５モル％がより好ましい。

また、レベリング剤としては、上述した式（２２）で表される化合物由来の繰り返し単位に代えて、式（２４）で表される化合物由来の繰り返し単位を含むレベリング剤も挙げられる。

式（２４）

Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、又は、メチル基を表す。
Ｌ^２は、２価の連結基を表す。
ｎは、１～１８の整数を表す。

レベリング剤の具体例としては、特開２００４－３３１８１２号公報の段落００４６～００５２に例示される化合物、および、特開２００８－２５７２０５号公報の段落００３８～００５２に記載の化合物が挙げられる。

組成物中のレベリング剤の含有量は、液晶化合物全質量に対して、１０～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。
レベリング剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。レベリング剤が２種以上を用いられる場合、それらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
さらに、組成物は、上記成分以外に、密着改良剤、および、可塑剤を含んでいてもよい。

上記組成物を用いた光学異方性膜Ｘの製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
なかでも、レタデーションの制御がしやすい点から、重合性液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を垂直配向させ、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施して、光学異方性膜Ｘを形成する方法が好ましい。
つまり、光学異方性膜Ｘは、垂直配向した液晶化合物（特に、重合性液晶化合物）を固定してなる膜であることが好ましい。
以下、上記方法の手順について詳述する。

まず、支持体上に、組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる。
使用される組成物は、重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物の定義は、上述した通りである。

使用される支持体は、組成物を塗布するための基材として機能を有する部材である。支持体は、組成物を塗布および硬化させた後に剥離される仮支持体であってもよい。
支持体（仮支持体）としては、プラスチックフィルムの他、ガラス基板を用いてもよい。プラスチックフィルムを構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース誘導体、シリコーン樹脂、および、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
支持体の厚みは、５～１０００μｍ程度であればよく、１０～２５０μｍが好ましく、１５～９０μｍがより好ましい。

なお、必要に応じて、支持体上には、配向層を配置してもよい。
配向層は、一般的には、ポリマーを主成分とする。配向層用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手できる。配向層用ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、または、その誘導体が好ましい。
なお、配向層には、公知のラビング処理が施されることが好ましい。
配向層の厚みは、０．０１～１０μｍが好ましく、０．０１～１μｍがより好ましい。

組成物の塗布方法としては、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、および、ワイヤーバー法が挙げられる。いずれの方法で塗布する場合においても、単層塗布が好ましい。

支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物および赤外線吸収色素を配向させる。重合性液晶化合物の配向に伴って、赤外線吸収色素も所定の方向に配向する傾向にある。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、６０～２３０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。冷却温度としては、２０～２００℃が好ましく、３０～１５０℃がより好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。

上記製造方法において、各種条件を調整することにより、赤外線吸収色素の配置状態などを調整でき、結果として光学異方性膜の光学特性を調整できる。

（好適態様２）
光学異方性膜Ｘの他の好適態様としては、ポリマーと、赤外線吸収色素とを含む組成物を用いて形成された光学異方性膜Ｘが挙げられる。
以下、上記組成物に含まれる成分について説明する。

赤外線吸収色素の好適態様については、上述した通りである。

ポリマーの種類は特に制限されないが、逆波長分散性ポリマーであることが好ましい。逆波長分散性ポリマーとは、そのポリマーを用いて形成される光学異方性膜が逆波長分散性を示すポリマーを意味する。
ポリマーの好適態様の１つとしては、式（７）で表される繰り返し単位および式（８）で表される繰り返し単位からなる群から選択される１種以上のオリゴフルオレン単位を含むポリマーが挙げられる。

式（７）および式（８）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３は、それぞれ独立に、単結合、または、置換基を有していてもよい炭素数１～４のアルキレン基を表す。
Ｒ^３４～Ｒ^３９は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数４～１０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数４～１０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアリールオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のビニル基、置換基を有していてもよい炭素数１～１０のエチニル基、置換基を有する硫黄原子、置換基を有するケイ素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、または、シアノ基を表す。但し、Ｒ^３４～Ｒ^３９のうち隣接する少なくとも２つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。
また、式（７）に含まれる２つのＲ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。同様に、式（８）に含まれる２つのＲ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９は、互いに同一であっても、異なっていてもよい。

ポリマー中に含まれるオリゴフルオレン単位の含有量は特に制限されないが、全繰り返し単位に対して、１～７０モル％が好ましく、１０～４０モル％がより好ましい。

ポリマーの他の好適態様としては、式（９）で表される繰り返し単位および式（１１）で表される繰り返し単位を含むポリマーが挙げられる。

式（９）中、Ｒ^４１～Ｒ^４８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数１～６の炭化水素基を表す。
Ｘは、式（１０）で表される基を表す。式（１０）中、＊は結合位置を表す。

式（１１）中、Ｒ^５１～Ｒ^５８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数１～２２の炭化水素基を表す。
Ｙは、－Ｃ（Ｒ^６１）（Ｒ^６２）－、式（１２）で表される基、－Ｓｉ（Ｒ^６７）（Ｒ^６８）－、－ＳＯ_２－、－Ｓ－、２価の脂肪族炭化水素基、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－フェニレン基－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、または、－ＣＯ－Ｏ－Ｌ－Ｏ－ＣＯ－を表す。
式（１２）中、＊は結合位置を表す。

Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^６７およびＲ^６８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数１～２２の炭化水素基（例えば、炭素数６～１０のアリール基）を表す。
Ｒ^６３～Ｒ^６６は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。
Ｌは、２価の脂肪族炭化水素基を表す。

ポリマー中における式（９）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、全繰り返し単位に対して、３０～９０モル％が好ましい。
ポリマー中における式（１１）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、全繰り返し単位に対して、１０～７０モル％が好ましい。

ポリマーの他の好適態様としては、セルロースアシレートが挙げられる。
セルロースアシレートとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸とは、炭素数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）、または、４（セルロースブチレート）であることが好ましい。なお、セルロースアセテートプロピオネートおよびセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
セルロースアセテートの酢化度は、５５．０～６２．５％が好ましく、５７．０～６２．０％がより好ましく、５８．５～６１．５％がさらに好ましい。
酢化度は、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ－８１７－９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。

なお、ポリマーとしてセルロースアシレートを用いる場合、可塑剤、劣化防止剤、レタデーション上昇剤、および、紫外線吸収剤などの添加剤を合わせて用いてもよい。
上記添加剤に関しては、特開２００４－０５０５１６号公報に例示される添加剤が挙げられる。

組成物中におけるポリマーの含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９７質量％以下の場合が多い。
なお、組成物中の全固形分には、溶媒は含まれない。

上記組成物を用いた光学異方性膜Ｘの製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
なかでも、レタデーションの制御がしやすい点から、ポリマー、および、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて未延伸フィルムを形成し、得られた未延伸フィルムを厚み方向に延伸配向させて、延伸フィルムである光学異方性膜を形成する方法が挙げられる。

（好適態様３）
光学異方性膜Ｘの他の好適態様としては、赤外線吸収色素残基を有するポリマー（特定ポリマー）を含む組成物を用いて形成された光学異方性膜Ｘが挙げられる。
上述したように、赤外線吸収色素残基とは、赤外線吸収色素から任意の水素原子を除いて得られる基を意味する。
赤外線吸収色素残基を形成し得る赤外線吸収色素としては、上記（好適態様１）で説明した赤外線吸収色素が挙げられる。
なお、上記組成物には、上記（好適態様２）で説明したポリマーが含まれていてもよい。

上記組成物を用いた光学異方性膜Ｘの製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
なかでも、レタデーションの制御がしやすい点から、赤外線吸収色素、および、ポリマーを含む組成物を用いて未延伸フィルムを形成し、得られた未延伸フィルムを厚み方向に延伸配向させて、延伸フィルムである光学異方性膜Ｘを形成する方法が挙げられる。

＜用途＞
上述した光学異方性膜Ｘは、種々の用途に適用できる。
光学異方性膜Ｘは、他の光学異方性膜を含む積層体として用いてもよい。
他の光学異方性膜の種類は特に制限されないが、例えば、λ／２板、および、λ／４板が挙げられる。
λ／４板とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅがλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。
λ／４板の波長５５０ｎｍでの面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１０～１６０ｎｍであることが好ましく、１２０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
上記λ／４板としては、λ／２板とλ／４板とが積層された広帯域λ／４板を用いてもよい。
λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性膜のことをいう。この式は、可視光線領域のいずれかの波長（例えば、５５０ｎｍ）において達成されていればよい。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が、以下の関係を満たすことが好ましい。
２１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦３００ｎｍ

（光学異方性膜Ｙ）
また、他の光学異方性膜の好適態様の一つとしては、液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物から形成された光学異方性膜（以後、「光学異方性膜Ｙ」ともいう。）であって、光学異方性膜Ｙは後述する式（Ｙ１）の関係を満たし、光学異方性膜Ｙの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収が、光学異方性膜Ｙの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収よりも大きい、光学異方性膜Ｙ（本発明の第２実施態様の一例に該当）が挙げられる。光学異方性膜Ｙは、上記波長７００～９００ｎｍにおける吸収の影響を受けて、長波長領域の面内レタデーションが大きくなり、面内方向の位相差において逆波長分散性に優れる。

光学異方性膜Ｙの特徴点の一つとしては、波長７００～９００ｎｍにおける吸収特性を制御している点が挙げられる。
まず、図５に、測定波長５５０ｎｍでの位相差（Ｒｅ（５５０ｎｍ））を１として規格化した可視光線領域での各波長における位相差（Ｒｅ（λ））の波長分散特性を示す。例えば、上述した理想的なλ／４板は、図５の点線に示すように、位相差が測定波長に対し比例関係にあるため、測定波長が長いほど位相差が大きくなる「負の分散」特性を有する。それに対して、従来の逆波長分散性を示す光学異方性膜は、図５の実線に示すように、短波長領域においては点線で示す理想曲線と重なる位置にもあるが、長波長領域においては理想曲線から外れる傾向を示す。
光学異方性膜Ｙにおいては、波長７００～９００ｎｍにおける吸収特性を制御することにより、白抜き矢印で示すように、長波長領域における光学特性を理想曲線に近づけることができる。

光学異方性膜Ｙにおいては、進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収が、遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収よりも大きくなる。以後、このような吸収特性を、吸収特性Ｙともいう。後段で詳述するように、上記吸収特性Ｙの達成手段の一つとしては、例えば、光学異方性膜Ｙ中において赤外線吸収色素の吸光度の高い軸方向を進相軸の方向と平行になるように配置することが挙げられる。
吸収特性Ｙを示す光学異方性膜においては、吸収特性Ｙを有さない光学異方性膜よりも、常光線屈折率がより低下する。
具体的には、図６において、上記吸収特性Ｙの有無による異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏの波長分散の比較を示す図である。図６中、太線は吸収特性Ｙがない場合の異常光線屈折率ｎｅのカーブを示し、実線は吸収特性Ｙがない場合の常光線屈折率ｎｏのカーブを示す。それに対して、吸収特性Ｙを有する光学異方性膜Ｙにおいては、上記図４で示したような波長７００～９００ｎｍの吸収に由来する影響を受けて、破線で示すように可視光線領域の長波長領域において常光線屈折率ｎｏの値がより低下する。結果として、可視光線領域の長波長領域において、異常光線屈折率ｎｅと常光線屈折率ｎｏとの差である複屈折Δｎがより大きくなり、図５に示す矢印の挙動が達成される。

光学異方性膜Ｙは、式（Ｙ１）の関係を満たす。
式（Ｙ１） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける光学異方性膜Ｙの面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜Ｙの面内レタデーションを表す。
なかでも、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．９７以下が好ましく、０．９２以下がより好ましく、０．８８以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．７５以上の場合が多い。

光学異方性膜ＹのＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、１．０５以上が好ましく、１．０８以上がより好ましく、１．１０以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１．２５以下が好ましく、１．２０以下がより好ましい。
上記Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、Ｒｅ（５５０）に対する、Ｒｅ（６５０）の比である。
なお、Ｒｅ（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける光学異方性膜Ｙの面内レタデーションを表す。

光学異方性膜ＹのＲｅ（５５０）は特に制限されないが、λ／４板として有用である点で、１１０～１６０ｎｍが好ましく、１２０～１５０ｎｍがより好ましい。

光学異方性膜Ｙの厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、０．５～８．０μｍがより好ましく、０．５～６．０μｍがさらに好ましい。
なお、本明細書において、光学異方性膜Ｙの厚みとは、光学異方性膜Ｙの平均厚みを意図する。上記平均厚みは、光学異方性膜Ｙの任意の５箇所以上の厚みを測定して、それらを算術平均して求める。

光学異方性膜Ｙにおいては、光学異方性膜Ｙの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収（以下、「吸収Ｆ」ともいう）が、光学異方性膜Ｙの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収（以下、「吸収Ｓ」ともいう）よりも大きい。
上記「吸収Ｆが吸収Ｓよりも大きい」とは、光学異方性膜Ｙの進相軸に平行な偏光を光学異方性膜Ｙに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜Ｙの遅相軸に平行な偏光を光学異方性膜Ｙに照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きいことを意図する。
なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

なお、上記のような吸収の異方性は、上述した赤外線吸収色素を用いることにより実現できる。特に、二色性の赤外線吸収色素を用いて、この色素の吸光度のより高い軸方向を光学異方性膜の進相軸方向と平行とすることにより、吸収Ｆを吸収Ｓよりも大きくできる。

光学異方性膜Ｙにおいては、赤外線吸収色素の波長７００～９００ｎｍにおける極大吸収波長における光学異方性膜Ｙの配向秩序度Ｓ_０は特に制限されず、－０．５０超－０．１０以下の場合が多い。配向秩序度Ｓ_０が大きいと、赤外線吸収色素の使用量を減らしても、光学異方性膜Ｙの逆波長分散性を向上させることができる。そのため、光学異方性膜Ｙを有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置の反射防止膜として適用した際に、有機ＥＬ表示装置の輝度がより優れる点で、式（Ｙ２）の関係を満たすことが好ましい。
式（Ｙ２） －０．５０＜Ｓ_０＜－０．１５
なかでも、配向秩序度Ｓ_０は－０．４０～－０．２０であることがより好ましく、－０．３０～－０．２０であることがさらに好ましい。

上記波長λｎｍにおける光学異方性膜Ｙの配向秩序度Ｓ_０（λ）は、式（Ｙ３）で表される値である。
式（Ｙ３） Ｓ_０（λ）＝（Ａ_ｐ－Ａ_ｖ）／（Ａ_ｐ＋２Ａ_ｖ）
式（Ｙ３）中、Ａ_ｐは、光学異方性膜Ｙの遅相軸方向に対して平行方向に偏光した光に対する吸光度を表す。Ａ_ｖは、光学異方性膜Ｙの遅相軸方向に対して直交方向に偏光した光に対する吸光度を示す。
光学異方性膜Ｙの配向秩序度Ｓ_０（λ）は、光学異方性膜Ｙの偏光吸収測定により求めることができる。なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。λは、光学異方性膜Ｙの吸収測定で得られた波長７００～９００ｎｍにおける吸収スペクトルの極大吸収波長である。

（光学異方性膜Ｚ）
また、他の光学異方性膜の好適態様の一つとしては、液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物から形成された光学異方性膜（以後、「光学異方性膜Ｚ」ともいう。）であって、赤外線吸収色素の波長７００～９００ｎｍでの極大吸収波長における光学異方性膜Ｚの配向秩序度Ｓ_０が、後述する式（Ｚ１）の関係を満たし、光学異方性膜Ｚの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収が、光学異方性膜Ｚの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収よりも大きい、光学異方性膜Ｚ（本発明の第２実施態様の他の例に該当）が挙げられる。光学異方性膜Ｚは、上記波長７００～９００ｎｍにおける吸収の影響を受けて、長波長領域の面内レタデーションが大きくなり、面内方向の位相差において逆波長分散性に優れる。
光学異方性膜Ｚが優れた逆波長分散性を示す理由は、上述した光学異方性膜Ｙの場合と同様の理由である。

光学異方性膜Ｚにおいては、赤外線吸収色素の波長７００～９００ｎｍにおける極大吸収波長における光学異方性膜の配向秩序度Ｓ_０は、式（Ｚ１）の関係を満たす。
式（Ｚ１） －０．５０＜Ｓ_０＜－０．１５
なかでも、配向秩序度Ｓ_０は－０．４０～－０．２０であることがより好ましく、－０．３０～－０．２０であることがさらに好ましい。
光学異方性膜Ｚの配向秩序度Ｓ_０（λ）の測定方法は、上述した光学異方性膜Ｙで説明した通りである。

光学異方性膜Ｚにおいては、光学異方性膜Ｚの進相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収（吸収Ｆ）が、光学異方性膜Ｚの遅相軸の方向での波長７００～９００ｎｍにおける吸収（吸収Ｓ）よりも大きい。
上記「吸収Ｆが吸収Ｓよりも大きい」とは、光学異方性膜Ｚの進相軸に平行な偏光を光学異方性膜に照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度が、光学異方性膜Ｚの遅相軸に平行な偏光を光学異方性膜に照射した際に得られる吸収スペクトルの波長７００～９００ｎｍにおける最大吸光度よりも大きいことを意図する。
なお、上記測定は、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて実施できる。

なお、上記のような吸収の異方性は、赤外線吸収色素を用いることにより実現できる。特に、二色性の赤外線吸収色素を用いて、この色素の吸光度のより高い軸方向を光学異方性膜Ｚの進相軸方向と平行とすることにより、吸収Ｆを吸収Ｓよりも大きくできる。

光学異方性膜Ｚは、式（Ｚ２）の関係を満たすことが好ましい。
式（Ｚ２） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１
Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
なかでも、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．９７以下が好ましく、０．９２以下がより好ましく、０．８８以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．７５以上の場合が多い。

光学異方性膜ＺのＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は特に制限されないが、１．０５以上が好ましく、１．０８以上がより好ましく、１．１０以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１．２５以下が好ましく、１．２０以下がより好ましい。
上記Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、Ｒｅ（５５０）に対する、Ｒｅ（６５０）の比である。
なお、Ｒｅ（６５０）は、波長６５０ｎｍにおける光学異方性膜Ｚの面内レタデーションを表す。

光学異方性膜ＺのＲｅ（５５０）は特に制限されないが、λ／４板として有用である点で、１１０～１６０ｎｍが好ましく、１２０～１５０ｎｍがより好ましい。

光学異方性膜Ｚの厚みは特に制限されず、薄型化の点から、１０μｍ以下が好ましく、０．５～８．０μｍがより好ましく、０．５～６．０μｍがさらに好ましい。
光学異方性膜Ｚの厚みの測定方法は、上述した光学異方性膜Ｙで説明した通りである。

光学異方性膜Ｙおよび光学異方性膜Ｚの形成に用いられる組成物中の液晶化合物および赤外線吸収色素としては、それぞれ光学異方性膜Ｘの形成に用いられる液晶化合物および赤外線吸収色素が挙げられる。

光学異方性膜Ｙおよび光学異方性膜Ｚの製造方法としては、重合性基を有する液晶化合物および赤外線吸収色素を含む組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させ、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施して、光学異方性膜を形成する方法が好ましい。
光学異方性膜Ｙおよび光学異方性膜Ｚとしては、液晶化合物を水平配向させて固定化してなる光学異方性膜であって、赤外線吸収色素を含む光学異方性膜が好ましい。
以下、上記方法の手順について詳述する。

まず、支持体上に、組成物を塗布して塗膜を形成し、塗膜に配向処理を施して重合性液晶化合物を配向させる。
使用される組成物は、重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物の定義は、上述した通りである。
使用される支持体としては、上述した光学異方性膜Ｘの形成に用いられる支持体が挙げられる。
なお、必要に応じて、支持体上には、配向層を配置してもよい。配向層としては、光学異方性膜Ｘの形成に用いられる配向層が挙げられる。

組成物の塗布方法としては、光学異方性膜Ｘの形成の際に用いられる塗布方法が挙げられる。

支持体上に形成された塗膜に、配向処理を施して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる。特に、重合性液晶化合物を水平配向させることが好ましい。重合性液晶化合物の配向に伴って、赤外線吸収色素も所定の方向に配向する傾向にある。
配向処理は、室温により塗膜を乾燥させる、または、塗膜を加熱することにより行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０～２５０℃が好ましく、５０～１５０℃がより好ましく、加熱時間としては１０秒間～１０分間が好ましい。
また、塗膜を加熱した後、後述する硬化処理（光照射処理）の前に、必要に応じて、塗膜を冷却してもよい。冷却温度としては２０～２００℃が好ましく、３０～１５０℃がより好ましい。

次に、重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して硬化処理を施す。
重合性液晶化合物が配向された塗膜に対して実施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光照射処理および加熱処理が挙げられる。なかでも、製造適性の点から、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
光照射処理の照射条件は特に制限されないが、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量が好ましい。

（円偏光板）
光学異方性膜Ｘは、円偏光板に適用できる。より具体的には、円偏光板の構成としては、光学異方性膜Ｘ、λ／４板、および、偏光子を含む態様が挙げられる。なお、上記円偏光板において、光学異方性膜Ｘ、λ／４板、および、偏光子の積層順は特に制限されず、例えば、光学異方性膜Ｘ、λ／４板、および、偏光子がこの順で積層されていてもよいし、λ／４板、光学異方性膜Ｘ、および、偏光子がこの順で積層されていてもよい。
なお、上記λ／４板として、上述した光学異方性膜Ｙおよび光学異方性膜Ｚを用いてもよい。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材（直線偏光子）であればよく、主に、吸収型偏光子を利用できる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子とがあり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
偏光子の吸収軸とλ／４板の遅相軸との関係は特に制限されないが、偏光子の吸収軸とλ／４板の遅相軸とのなす角は、４５°±１０°が好ましい。

（表示装置）
光学異方性膜Ｘは、表示装置中に含まれていてもよい。つまり、光学異方性膜Ｘのより具体的な用途としては、例えば、液晶セルを光学補償するための光学補償フィルム、および、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置に用いられる反射防止膜が挙げられる。
なかでも、光学異方性膜Ｘの好ましい態様として、上述したように、光学異方性膜Ｘと偏光子とを含む円偏光板が挙げられる。この円偏光板は、上記反射防止膜として好適に使用できる。つまり、表示素子（例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示素子）と、表示素子上に配置された円偏光板とを有する表示装置においては、反射色味がより抑制できる。
また、光学異方性膜Ｘは、ＩＰＳ（In Plane Switching）型液晶表示装置の光学補償フィルムに好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化および黒表示時の光漏れを改善できる。

以下に、実施例および比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜色素の合成＞
（化合物ａ－２の合成）
化合物ａ－２を下記スキームに従い合成した。

４－ブロモフェノール（５０．０ｇ、２５８ｍｍｏｌ）、２－エチルヘキシルブロミド（５８．２ｇ、３３６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９３．０ｇ、６７３ｍｍｏｌ）、および、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）を室温にて混合した。得られた混合物を１０５℃に昇温し、１０時間撹拌した後、室温に降温し、混合液中の無機塩を濾過により除去した。この混合液に、酢酸エチル（３００ｍｌ）および１Ｎ塩酸水（３００ｍｌ）を加えて分液抽出を行った。有機層を蒸留水（３００ｍｌ）および飽和重曹水（３００ｍｌ）でそれぞれ洗い、得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥した。その後、得られた溶液からろ過により硫酸マグネシウムを除去して、溶液から溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を、酢酸エチル－ヘキサンを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行い、オイル状の化合物ａ－１を（７２．２ｇ、２５３ｍｍｏｌ）を得た（収率：９８．１％）。化合物ａ－１の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）により同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：０．９２（ｍ，６Ｈ），１．３８（ｍ，８Ｈ），１．６９（ｍ，１Ｈ），３．７９（ｄ，２Ｈ），６．７７（ｍ，２Ｈ），７．２９（ｍ，２Ｈ）

乾燥窒素雰囲気下、マグネシウム（３．７５ｇ、１５４ｍｍｏｌ）、塩化リチウム（３．２７ｇ、１０５ｍｍｏｌ）、および、テトラヒドロフラン（１６０ｍｌ）を室温にて混合した。得られた混合物を６３℃に昇温し、化合物ａ－１（４０．０ｇ，１４０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）の混合物を滴下した。得られた混合物を室温に降温した後、トリメトキシボラン（７．２９ｇ，７０．０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物を滴下した。得られた混合物を５０℃に昇温し、２時間攪拌した後、室温に降温した。得られた混合液に蒸留水（２０ｍｌ）を加えた後、酢酸エチル（２００ｍｌ）および１Ｎ塩酸水（２００ｍｌ）を加え、分液抽出した。有機層を飽和食塩水（２００ｍｌ）で２回洗い、得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥した。その後、得られた溶液からろ過により硫酸マグネシウムを除去して、溶液から溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を酢酸エチル－ヘキサンを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行った。得られた粗生成物にトルエン（１００ｍｌ）およびエタノールアミン（６．４２ｇ，１０５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１０分間攪拌した。溶媒および過剰なエタノールアミンを減圧留去し、オイル状の化合物ａ－２（２３．４ｇ，４８．７ｍｍｏｌ）を得た（収率：６９．６％）。化合物ａ－２の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲにより同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：０．９１（ｍ，１２Ｈ），１．４０（ｍ，１６Ｈ），１．７０（ｍ，２Ｈ），２．８３（ｍ，２Ｈ），３．８４（ｍ，６Ｈ），４．１３（ｍ，２Ｈ），６．８３（ｍ，４Ｈ），７．２９（ｍ，２Ｈ）

（化合物ａ－５の合成）
化合物ａ－５を以下のスキームに従って合成した。

化合物ａ－３は、ＷＯ２０１８／１２４１９８号の段落００８８～００９１に記載の化合物Ｐ１－１のスキームに従い、を合成した。

化合物ａ－３（１０．０ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン １－オキシル（１２．０ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ）、トルエン（２０ｍｌ）、および、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（５．５ｍｌ）を室温にて混合した。得られた混合物を－５℃に降温し、塩化チオニル（３．５２ｇ、２９．６ｍｍｏｌ）を混合物に滴下した。得られた混合液を内温－５～３℃にて１時間撹拌した後、２－（４－ヒドロキシフェニル）エタノール（３．５５ｇ、２５．７ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（１３．０ｍｌ）の混合物を滴下した。得られた混合液を５２℃に昇温し、７時間攪拌した後、室温まで降温した。この混合液に、蒸留水およびトルエンを加えて分液抽出を行った。有機層を１Ｎ塩酸水で洗い、その後、飽和重曹水で２回洗い、さらに飽和食塩水で洗い、得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥した。その後、得られた溶液からろ過により硫酸マグネシウムを除去して、溶液から溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を、酢酸エチル－ヘキサンを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行い、白色固体の化合物ａ－４（６．０３ｇ、１３．６ｍｍｏｌ）を得た（収率：５２．８％）。化合物ａ－４の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲにより同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．９８（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｍ，６Ｈ），３．８７（ｍ，２Ｈ），４．１７（ｍ，２Ｈ），４．３３（ｍ，２Ｈ），４．４４（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１３（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．７９（ｍ，２Ｈ），６．９１（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｍ，２Ｈ），７．９５（ｍ，２Ｈ）

化合物ａ－４（４．４６ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド（６．２９ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）、ジブチルヒドロキシトルエン（６６．０ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、および、テトラヒドロフラン（６７．０ｍｌ）を室温にて混合した。得られた混合液を３℃に降温し、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（２．５９ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）を滴下した後、得られた混合液を１時間撹拌した。得られた混合液にメタンスルホン酸（１３０μｌ）を加え、不溶解物をろ過した後、１０％炭酸カリウム水（１２．５ｇ）を加えて分液抽出を行った。有機層を１７％炭酸カリウム水（２０．４ｇ）で洗い、得られた有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥した。その後、得られた溶液からろ過により硫酸マグネシウムを除去して、溶液から溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を、酢酸エチル－ヘキサンを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行い、白色固体の化合物ａ－５（２．０６ｇ、３．４３ｍｍｏｌ）を得た（収率：３４．３％）。化合物ａ－５の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲにより同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：１．６３（ｍ，４Ｈ），２．３８（ｍ，６Ｈ），３．０５（ｔ，２Ｈ），３．７４（ｍ，６Ｈ），３．８７（ｍ，２Ｈ），４．１８（ｍ，２Ｈ），４．３２（ｍ，２Ｈ），４．４９（ｔ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．９２（ｍ，２Ｈ），７．０２（ｍ，２Ｈ），７．２９（ｍ，２Ｈ），７．９５（ｍ，２Ｈ）

（赤外線吸収色素ＩＲ－１の合成）
赤外線吸収色素ＩＲ－１を以下のスキームに従って合成した。

錯体ＩＲ－１ａは、ジフェニルボリン酸２－アミノエチルエステルに代えて、上記化合物ａ－２を用いて、ＷＯ２０１７／１４６０９２号公報の段落０２７１～０２７２に記載の化合物Ａ－１５の合成法に従って合成した。

錯体ＩＲ－１ａ（４．４７ｇ、２．９２ｍｍｏｌ）、化合物ａ－５（５．４１ｇ、９．０４ｍｍｏｌ）、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（３．３５ｇ、１７．５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（３６.０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、ジブチルヒドロキシトルエン（６４.０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（６０．０ｍｌ）、および、テトラヒドロフラン（６０.０ｍｌ）を室温にて混合した。得られた混合液を７０℃に昇温し、２時間撹拌した後、室温まで降温した。この混合液に、メタノール（６００ｍｌ）を滴下し、析出した結晶をろ過して回収した。得られた粗生成物を、酢酸エチル－クロロホルムを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行い、緑色固体の赤外線吸収色素ＩＲ－１（６．９４ｇ、２．５８ｍｍｏｌ）を得た（収率：８８．３％）。赤外線吸収色素ＩＲ－１の構造は、^１Ｈ－ＮＭＲにより同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：０．９３（ｍ，２４Ｈ），１．５７（ｍ，４４Ｈ），２．３１（ｍ，８Ｈ），２．６１（ｍ，４Ｈ），３．０５（ｔ，４Ｈ），３．３３（ｓ，６Ｈ），３．８０（ｍ，２４Ｈ），４．１９（ｍ，４Ｈ），４．３４（ｍ，４Ｈ），４．５０（ｔ，４Ｈ），５．８２（ｄｄ，２Ｈ），６．１５（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．７０（ｍ，２０Ｈ），６．９３（ｍ，４Ｈ），７．０５（ｍ，４Ｈ），７．１５（ｍ，８Ｈ），７．３０（ｍ，６Ｈ），７．９６（ｍ，４Ｈ）

＜実施例１＞
セルロースアシレートフィルムＴ１（「ＴＤ６０ＵＬ」（富士フイルム株式会社製）に、下記の組成の下塗り層塗布液を＃３．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗膜が形成された支持体を４０℃の温風で６０秒間乾燥し、その後に、酸素濃度が０．０１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、高圧水銀ランプを用い照射量４０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を塗膜に照射し、下塗り層を形成した。

（下塗り層塗布液）
下記化合物Ｘ－１ １００質量部
光重合開始剤（Ｉｒｇ－１２７） ３質量部
下記含フッ素化合物Ｆ－１ ０．１質量部
エタノール ２４０．４質量部

フッ素化合物Ｆ－１（以下、化学式中の繰り返し単位中の「９０」および「１０」は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（質量％）を表す。）

下記の光学異方性膜用塗布液を調製した。
下記液晶化合物Ｌ－１ ４２．５質量部
下記液晶化合物Ｌ－２ ４２．５質量部
下記液晶化合物Ｌ－３ ５．０質量部
赤外線吸収色素ＩＲ－１ １０．０質量部
下記光重合開始剤ＦＩ－１ ５．０質量部
上記含フッ素化合物Ｆ－１ ０．３質量部
下記含フッ素化合物Ｆ－２ ０．３質量部
単量体Ｋ１ ８．０質量部
下記添加剤 Ａ－１ ４．５質量部
シクロペンタノン ３１１．１質量部
メタノール ９．７質量部

液晶化合物Ｌ－１

液晶化合物Ｌ－２

液晶化合物Ｌ－３

光重合開始剤 ＦＩ－１

フッ素化合物Ｆ－２

単量体Ｋ１

添加剤 Ａ－１

上記下塗り層上に光学異方性膜用記塗布液を＃５．０のワイヤーバーで塗布して塗膜を形成し、８０℃で１分間加熱し、２５℃に冷却した。その後に、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、高圧水銀ランプを用い照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を塗膜に照射し、光学異方性膜（第１実施態様に該当）を作製した。なお、上記処理により液晶化合物は垂直配向されて、硬化処理により固定化されていた。
得られた光学異方性膜の光学特性は、Ｒｔｈ（５５０）が－９０ｎｍ、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ、Ｒｅ（８００）が０ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．７７、Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．１５であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、極角４５°での赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、Ｓ偏光の吸収が、Ｐ偏光の吸収よりも大きいことが確認された。Ｐ偏光およびＳ偏光の測定は、赤外線吸収色素ＩＲ－１が添加されていないフィルムをベースラインとして用いて行った。波長７００～９００ｎｍの範囲で最も吸収の大きい波長において、Ｐ偏光を照射した際の吸収強度に対するＳ偏光を照射した際の吸収強度の比（Ｓ偏光強度／Ｐ偏光強度）は、１．１２であった（図７参照）。

＜実施例２＞
赤外線吸収色素ＩＲ－１の使用量を１０質量部から５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性膜（第１実施態様に該当）を得た。
得られた光学異方性膜の光学特性は、Ｒｔｈ（５５０）が－９３ｎｍ、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ、Ｒｅ（８００）が０ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．７９、Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０７であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、極角４５°での赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、Ｓ偏光の吸収が、Ｐ偏光の吸収よりも大きいことが確認された。Ｐ偏光およびＳ偏光の測定は、赤外線吸収色素ＩＲ－１が添加されていないフィルムをベースラインとして用いて行った。波長７００～９００ｎｍの範囲で最も吸収の大きい波長において、Ｐ偏光を照射した際の吸収強度に対するＳ偏光を使用した際の吸収強度の比（Ｓ偏光強度／Ｐ偏光強度）は、１．１１であった（図８参照）。

＜比較例１＞
赤外線吸収色素ＩＲ－１を使用しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学異方性膜を得た。
得られた光学異方性膜の光学特性は、Ｒｔｈ（５５０）が－９６ｎｍ、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ、Ｒｅ（８００）が０ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）が０．８０、Ｒｔｈ（６５０）／Ｒｔｈ（５５０）が１．０２であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、極角４５°での赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍのＰ偏光においても、Ｓ偏光においても吸収はみられなかった。

＜実施例３＞
下記の光学異方性膜用塗布液を調製した。
上記液晶化合物Ｌ－１ ４３質量部
上記液晶化合物Ｌ－２ ４３質量部
下記液晶化合物Ｌ－４ １４質量部
近赤外線吸収色素ＩＲ－１ ５質量部
下記光重合開始剤ＰＩ－１ ０．５０質量部
下記含フッ素化合物Ｆ－１ ０．２０質量部
クロロホルム ５３５質量部

ラビングされたポリイミド配向層（ＳＥ－１３０、日産化学社製）付ガラス基板上に上光学異方性膜用塗布液をスピンコート塗布して塗膜を形成し、１５０℃で１分間加熱したのちに、６０℃まで冷却した。その後に、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、高圧水銀ランプを用い照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を塗膜に照射し、光学異方性膜Ｗ（第２実施態様に該当）を作製した。なお、上記処理により液晶化合物は水平配向されて、硬化処理により固定化されていた。
得られた光学異方性膜Ｗの光学特性をＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０８であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、７９９ｎｍに近赤外線吸収色素Ｄ－１に由来するピーク（極大吸収波長：λｍａｘ）を発現することを確認した。また、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜Ｗの進相軸と平行な方向での吸収が、遅相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。
また、近赤外線吸収色素ＩＲ－１の極大吸収波長における光学異方性膜１の配向秩序度Ｓ_０は、－０．２８であった。

上記で得られた光学異方性膜Ｗと、実施例１で得られた光学異方性膜とをそれぞれの支持体の長手方向が合うように、粘着剤を介して張り合わせて、積層体１を作製した。

＜有機ＥＬ表示装置の作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒間浸漬して染色した。次いで、得られたフィルムをホウ酸水溶液（ホウ酸濃度：４質量％）中に６０秒間浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、縦延伸されたフィルムを５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

市販のセルロースアシレート系フィルム「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製）を準備し、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、得られたフィルムを水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。
その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に得られたフィルムを１分間浸漬した後、得られたフィルムを水に浸漬して、フィルム上の希硫酸水溶液を十分に洗い流した。その後、洗浄されたフィルムを１２０℃で乾燥させ、偏光子保護フィルムを作製した。

上記で作製した偏光子の片面に、上記で作製した偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤で貼り合わせて、偏光子と、偏光子の片面に配置された偏光子保護フィルムとを含む偏光板を作製した。

上記作製した偏光板中の偏光子（偏光子保護フィルムのない）側に、粘着剤（ＳＫ-２０５７、綜研化学株式会社製）を塗布して粘着剤層を形成し、上記で作製した積層体１を貼り合せて円偏光板を作製した。なお、積層体の遅相軸（言い換えれば、光学異方性膜Ｗの遅相軸）と偏光子の透過軸とのなす角度は４５°とした。

ＧａｌａｘｙＳ４（Ｓａｍｓｕｎｇ社製）を分解し、製品に貼合されている反射防止フィルムの一部をはがして、発光層とした。この発光層に、粘着剤を介して、上記作製した円偏光板を空気が入らないようにして貼合して、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置を作製した。

＜製造例Ａ１＞
洗浄したガラス基板上に、ポリイミド配向膜ＳＥ－１３０（日産化学社製）をスピンコート法により塗布した。塗布膜を乾燥後、塗布膜を２５０℃で１時間焼結した後、塗布膜にラビング処理を施し、配向層を形成した。

下記の光学異方性膜用塗布液を調製した。
下記液晶化合物Ｌ－５ １００質量部
赤外線吸収色素ＩＲ－２ １０質量部
上記光重合開始剤ＰＩ－１ ２．０質量部
上記含フッ素化合物Ｆ－１ １．０質量部
クロロホルム ５７１．８質量部

なお、下記液晶化合物Ｌ－５および赤外線吸収色素ＩＲ－２の構造式中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶化合物Ｌ－５および赤外線吸収色素ＩＲ－２はメチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

液晶化合物Ｌ－５（以下、構造式）

赤外線吸収色素ＩＲ－２（以下、構造式）

上記配向層上に光学異方性膜用塗布液をスピンコート法により塗布して塗膜を形成し、１２０℃で１分間加熱し、６０℃に冷却した。
その後に、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、高圧水銀ランプを用い照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を塗膜に照射し、光学異方性膜（第２実施態様に該当）を作製した。なお、上記処理により液晶化合物は水平配向されて、硬化処理により固定化されていた。
得られた光学異方性膜の光学特性をＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて、測定したところ、Ｒｅ（５５０）が１４０ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．７８、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．２５であった。
また、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、
光学異方性膜の進相軸と平行な方向での吸収が、遅相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。
また、赤外線吸収色素ＩＲ－２の極大吸収波長における光学異方性膜の配向秩序度Ｓ_０は、－０．２５であった。

＜製造例Ａ２～Ａ５＞
使用する液晶化合物の種類および使用量、赤外線吸収色素の種類および使用量、光重合開始剤Ｓ－１の使用量、含フッ素化合物Ｆ－１の使用量、並びに、塗膜形成の際の加熱条件および冷却条件を表１のように変更した以外は、製造例Ａ１と同様の手順に従って、光学異方性膜（第２実施態様に該当）を作製した。
得られた光学異方性膜のＲｅ（５５０）、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）、および、配向秩序度Ｓ_０を表１にまとめて示す。
なお、製造例Ａ２～Ａ５において得られた光学異方性膜に関して、赤外線用偏光子を備えた分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いて、赤外線領域での吸収を確認したところ、波長７００～９００ｎｍにおいて、光学異方性膜の進相軸と平行な方向での吸収が、遅相軸と平行な方向での吸収よりも大きいことが確認された。

なお、表１中の液晶化合物および赤外線吸収色素は以下の通りである。

液晶化合物Ｌ－６（以下、構造式）

赤外線吸収色素ＩＲ－３（以下、構造式）

なお、上記赤外線吸収色素ＩＲ－３の構造式中のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、上記赤外線吸収色素ＩＲ－３はメチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

なお、上記＜色素の合成＞を参考にして、赤外線吸収色素ＩＲ－２およびＩＲ－３を合成した。

赤外線吸収色素ＩＲ－２および赤外線吸収色素ＩＲ－３をそれぞれクロロホルムに１０^-4ｍｏｌ／ｌの濃度で溶解させて、得られた溶液を用いて分光特性を測定した。なお、測定には、分光光度計（ＭＰＣ－３１００（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製））を用いた。
赤外線吸収色素ＩＲ－２の極大吸収波長は７８５ｎｍであり、赤外線吸収色素ＩＲ－３の極大吸収波長は８００ｎｍであった。
赤外線吸収色素ＩＲ－２の波長７００～９００ｎｍの吸光度の積算値は、赤外線吸収色素ＩＲ－２の波長４００～７００ｎｍの吸光度の積算値よりも大きかった。
赤外線吸収色素ＩＲ－３の波長７００～９００ｎｍの吸光度の積算値は、赤外線吸収色素ＩＲ－３の波長４００～７００ｎｍの吸光度の積算値よりも大きかった。

上記製造例Ａ２～Ａ４で製造された光学異方性膜と、実施例１で得られた光学異方性膜とをそれぞれの支持体の長手方向が合うように、粘着剤を介して張り合わせて、積層体を作製した。
得られた積層体を＜有機ＥＬ表示装置の作製＞中の積層体１の代わりに用いて、有機ＥＬ表示装置を作製した。

Claims (8)

1. 以下の要件１～４を満たす光学異方性膜。
   要件１：前記光学異方性膜の膜表面の法線方向から４５°傾けた方向から、互いに直交する直線偏光であるＰ偏光およびＳ偏光をそれぞれ照射した際に、波長７００～９００ｎｍの範囲で最も吸収の大きい波長における吸収強度において、Ｐ偏光を照射した際の吸収強度に対するＳ偏光を照射した際の吸収強度の比が１．０２以上である。
   要件２：Ｒｅ（５５０）＜１０ｎｍ
   要件３：Ｒｅ（８００）＜１０ｎｍ
   要件４：Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＜１
   Ｒｔｈ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける前記光学異方性膜の厚み方向のレタデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性膜の厚み方向のレタデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける前記光学異方性膜の面内レタデーションを表し、Ｒｅ（８００）は波長８００ｎｍにおける前記光学異方性膜の面内レタデーションを表す。
2. 液晶化合物またはポリマー、および、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて形成された、請求項１に記載の光学異方性膜。
3. 前記赤外線吸収色素が、式（１）で表される化合物である、請求項２に記載の光学異方性膜。
   

   

   Ｒ^１１およびＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、少なくとも一方は電子吸引性基であり、Ｒ^１１およびＲ^１２は結合して環を形成してもよい。Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素または金属原子を表し、Ｒ^１１と共有結合または配位結合していてもよい。Ｒ^１４は、それぞれ独立に、メソゲン基を有する基を表す。
4. 前記組成物が液晶化合物を含み、
   前記液晶化合物を垂直配向させて固定化してなる、請求項２または３に記載の光学異方性膜。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学異方性膜と、前記光学異方性膜とは異なる他の光学異方性膜とを含む、積層体。
6. 前記他の光学異方性膜が、λ／４板である、請求項５に記載の積層体。
7. 請求項１～４のいずれか１項に記載の光学異方性膜と、λ／４板と、偏光子とを有する、円偏光板。
8. 表示素子と、前記表示素子上に配置された請求項１～４のいずれか１項に記載の光学異方性膜とを有する、表示装置。

Images