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JP7233160B2 - Retaining device and method for manufacturing the retaining device - Google Patents
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JP7233160B2 - Retaining device and method for manufacturing the retaining device - Google Patents

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Description

本明細書に開示される技術は、保持装置に関する。 The technology disclosed in this specification relates to a holding device.

例えば半導体製造装置において、ウェハを保持する保持装置として、静電チャックが用いられる。静電チャックは、ベース部材と、ベース部材に接合されたセラミックス部材とを備えており、セラミックス部材の内部に配置されたチャック電極に電圧が印加されることにより発生する静電引力を利用して、セラミックス部材の表面(以下、「吸着面」という)にウェハを吸着して保持する。 For example, in a semiconductor manufacturing apparatus, an electrostatic chuck is used as a holding device for holding a wafer. An electrostatic chuck includes a base member and a ceramic member bonded to the base member, and uses electrostatic attraction generated by applying a voltage to a chuck electrode arranged inside the ceramic member. , the wafer is held by suction on the surface of the ceramic member (hereinafter referred to as "suction surface").

静電チャックは、チャック電極への給電のための構成を備えている。具体的には、ベース部材の内部に、ベース部材におけるセラミックス部材に対向する表面(以下、「上面」という)に開口する端子用貫通孔が形成されており、端子用貫通孔内に、柱状の接続端子が配置されている。また、セラミックス部材におけるベース部材に対向する表面(以下、「下面」という)の内の所定の領域には、チャック電極に導通する端子パッド(電極パッド)が配置されている。なお、セラミックス部材の下面における上記所定領域は、吸着面に略直交する方向(以下、「第1の方向」という)視で端子用貫通孔に重なる領域である。ベース部材の端子用貫通孔内に配置された接続端子は、例えばロウ付けによって端子パッドに接合されている。静電チャックの使用時には、チャック電極に、電源から接続端子および端子パッドを介してチャック電極に至る導通経路を介して、電圧が印加される。 The electrostatic chuck has a configuration for powering the chuck electrodes. Specifically, a terminal through hole is formed inside the base member and opens to a surface of the base member facing the ceramic member (hereinafter referred to as "upper surface"). Connection terminals are arranged. A terminal pad (electrode pad) electrically connected to the chuck electrode is arranged in a predetermined region of the surface of the ceramic member facing the base member (hereinafter referred to as "lower surface"). The predetermined region on the lower surface of the ceramic member is a region that overlaps the terminal through-hole when viewed in a direction substantially orthogonal to the attraction surface (hereinafter referred to as "first direction"). The connection terminals arranged in the terminal through-holes of the base member are joined to the terminal pads by, for example, brazing. During use of the electrostatic chuck, a voltage is applied to the chuck electrode through a conductive path from a power supply through the connection terminals and terminal pads to the chuck electrode.

このようなセラミックス部材の下面に端子パッドが接合された静電チャックでは、端子パッドの近傍に凹所(ザグリともいう)が形成されていることがある。具体的には、セラミックス部材の下面には、接続端子の形成のための位置決め用治具を挿入可能な内径を有する治具用凹所と、治具用凹所の底面にパッド用凹所が形成されている。パッド用凹所の内径は、治具用凹所より内径が小さく、パッド用凹所の底面に端子パッドが配置されている(例えば、特許文献1参照)。 In such an electrostatic chuck in which terminal pads are bonded to the lower surface of a ceramic member, recesses (also called counterbore) may be formed in the vicinity of the terminal pads. Specifically, on the lower surface of the ceramic member, there are a jig recess having an inner diameter into which a positioning jig for forming connection terminals can be inserted, and a pad recess on the bottom surface of the jig recess. formed. The inner diameter of the pad recess is smaller than that of the jig recess, and terminal pads are arranged on the bottom surface of the pad recess (see, for example, Patent Document 1).

特開2010-123862号公報JP 2010-123862 A

静電チャックにおいて、吸着面の温度分布が不均一になると、該吸着面に保持されたウェハの温度分布が不均一になり、その結果、ウェハに対する各処理(成膜、エッチング等)の精度が低下するため、静電チャックにはウェハの温度分布を均一にする性能が求められる。一方、端子パッドは、接続端子との間の電気的なやり取りの際に発熱することによって、吸着面における温度分布の特異点になり易い。また、セラミックス部材の下面に形成される凹所は、セラミックスが存在しない空洞を形成するため、やはり、吸着面における温度分布の特異点になり易い。上述の従来の静電チャックでは、パッド用凹所に隣接するように治具用凹所が配置されており、吸着面において、温度分布の特異点となり得る端子パッドに対応する部位と凹所に対応する部位とが特定箇所に集中している。このため、吸着面の温度分布が不均一になるという問題がある。 In an electrostatic chuck, if the temperature distribution of the attracting surface becomes uneven, the temperature distribution of the wafer held by the attracting surface becomes uneven. Therefore, the electrostatic chuck is required to have the ability to make the temperature distribution of the wafer uniform. On the other hand, the terminal pad tends to become a singular point of the temperature distribution on the attraction surface by generating heat during electrical exchange with the connection terminal. Moreover, since the recess formed in the lower surface of the ceramic member forms a cavity in which ceramic does not exist, it is likely to become a singular point of the temperature distribution on the adsorption surface. In the conventional electrostatic chuck described above, the jig recesses are arranged adjacent to the pad recesses. Corresponding parts are concentrated in a specific part. Therefore, there is a problem that the temperature distribution of the attracting surface becomes non-uniform.

なお、このような課題は、治具用凹所以外の凹所がセラミックス部材の表面に形成される場合でも共通の課題である。また、このような課題は、静電引力を利用してウェハを保持する静電チャックに限らず、セラミックス部材の第1の表面上に対象物を保持する保持装置であって、セラミックス部材の反対側の第2の表面に端子パッドが露出している保持装置に共通の課題である。 Such a problem is common even when recesses other than the jig recesses are formed on the surface of the ceramic member. Moreover, such a problem is not limited to electrostatic chucks that hold a wafer using electrostatic attraction, but also to holding devices that hold an object on the first surface of a ceramics member. This is a common problem with retainers that have exposed terminal pads on the side second surface.

本明細書では、上述した課題を解決することが可能な技術を開示する。 This specification discloses a technology capable of solving the above-described problems.

本明細書に開示される技術は、例えば、以下の形態として実現することが可能である。 The technology disclosed in this specification can be implemented, for example, in the following forms.

(1)本明細書に開示される保持装置は、第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有するセラミックス部材と、前記セラミックス部材の内部に配置された導電体と、前記セラミックス部材の前記第2の表面側に露出するとともに、前記導電体に電気的に接続された端子パッドと、前記端子パッドに接合された接続端子と、を備え、前記セラミックス部材の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、前記第2の表面には、前記端子パッドから所定距離だけ離れた位置に凹所が形成されている。端子パッドは、接続端子との間の電気的なやり取りの際に発熱することによって温度分布の特異点になり易い。また、第2の表面に形成される凹所は、セラミックスが存在しない空洞を形成することによって温度分布の特異点になり易い。したがって、端子パッドの近傍に凹所が形成されていると、温度分布の特異点が集中し、その結果、第1の表面の温度分布の温度差が大きくなるおそれがある。これに対して、本保持装置によれば、凹所が端子パッドから所定距離だけ離れた位置に形成されている。すなわち、端子バッドと凹所との間には、相対的に熱が拡散し易いセラミックス部分が介在する。これにより、端子パッドの配置領域に凹所が連続的に形成された従来の構成に比べて、凹所により温度分布の特異点が分散されるため、第1の表面の温度分布の温度差を小さくすることができる。 (1) The holding device disclosed in this specification includes a ceramic member having a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a ceramic member disposed inside the ceramic member. a conductor, a terminal pad exposed on the second surface side of the ceramic member and electrically connected to the conductor, and a connection terminal joined to the terminal pad, wherein the ceramics In a holding device for holding an object on the first surface of a member, the second surface is recessed at a predetermined distance from the terminal pads. A terminal pad tends to become a peculiar point of temperature distribution by generating heat during electrical exchange with a connection terminal. Further, the recess formed on the second surface tends to become a singular point of temperature distribution by forming a cavity in which ceramics does not exist. Therefore, if the recess is formed in the vicinity of the terminal pad, the singular points of the temperature distribution will be concentrated, and as a result, the temperature difference of the temperature distribution on the first surface may increase. On the other hand, according to this holding device, the recess is formed at a position separated from the terminal pad by a predetermined distance. That is, between the terminal pad and the recess, there is a ceramic portion in which heat is relatively easily diffused. As compared with the conventional configuration in which the recesses are continuously formed in the arrangement area of the terminal pads, the recesses disperse the singular points of the temperature distribution. can be made smaller.

(2)上記保持装置において、前記第2の表面には、前記凹所が複数形成されている構成としてもよい。本保持装置によれば、第2の表面には、凹所が複数形成されている。これにより、第1の表面の温度分布の温度差を小さくしつつ、複数の凹所を、例えばセラミックス部材と他の部材との位置決めに利用することができる。 (2) In the above holding device, a plurality of recesses may be formed on the second surface. According to this holding device, a plurality of recesses are formed on the second surface. As a result, the plurality of recesses can be used, for example, for positioning the ceramic member and other members while reducing the temperature difference in the temperature distribution on the first surface.

(3)上記保持装置において、前記第2の表面には、複数の前記端子パッドが、前記複数の凹所に囲まれるように配置されている構成としてもよい。本保持装置によれば、複数の端子パッドが、複数の凹所に囲まれるように配置されている。これにより、複数の端子パッドに対して凹所が分散配置されるため、第1の表面の温度分布の温度差を効果的に抑制することができる。 (3) In the above holding device, a plurality of the terminal pads may be arranged on the second surface so as to be surrounded by the plurality of recesses. According to this holding device, the plurality of terminal pads are arranged so as to be surrounded by the plurality of recesses. Accordingly, since the recesses are distributed with respect to the plurality of terminal pads, it is possible to effectively suppress the temperature difference in the temperature distribution on the first surface.

(4)上記保持装置において、さらに、第3の表面を有し、前記第3の表面が前記セラミックス部材の前記第2の表面に対向するように配置されるとともに、前記接続端子を収容する収容空間が形成された支持体と、前記セラミックス部材の前記第2の表面と前記支持体の前記第3の表面とを接合する接合部と、を備える構成としてもよい。本保持装置によれば、端子パッドの配置空間が支持体の収容空間に連通することになるため、さらに、第1の表面における端子パッドに対応する部位が温度分布の特異点になり易い。このため、本発明を適用することは特に有用である。 (4) The holding device further has a third surface, the third surface is arranged to face the second surface of the ceramic member, and a housing for housing the connection terminal. The structure may include a support having a space formed thereon, and a joining portion that joins the second surface of the ceramic member and the third surface of the support. According to this holding device, since the space for arranging the terminal pads communicates with the space for accommodating the support, the portion corresponding to the terminal pads on the first surface tends to become a singular point of the temperature distribution. For this reason, applying the present invention is particularly useful.

(5)上記保持装置において、前記第2の表面における前記端子パッドは、前記第2の表面における前記端子パッドと前記凹所との間の中間領域の少なくとも一部に対して前記第1の表面側に位置している構成としてもよい。本保持装置によれば、端子パッドが、セラミックスが存在しない空洞内に配置されるため、さらに、第1の表面における端子パッドに対応する部位が温度分布の特異点になり易い。このため、本発明を適用することは特に有用である。 (5) In the above holding device, the terminal pads on the second surface are positioned relative to at least a portion of an intermediate region between the terminal pads on the second surface and the recesses on the first surface. It is good also as composition located in the side. According to this holding device, since the terminal pads are arranged in the cavity where ceramics do not exist, the portion corresponding to the terminal pads on the first surface tends to become a singular point of the temperature distribution. For this reason, applying the present invention is particularly useful.

(6)本明細書に開示される保持装置の製造方法は、第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有し、第2の表面側に端子パッドが露出したセラミックス成形体を準備する工程と、前記セラミックス成形体を焼成し、セラミックス焼結体を形成する工程と、前記セラミックス焼結体の前記第2の表面における前記端子パッドから所定距離だけ離れた位置に凹所を形成する工程と、凸部を有するとともに接続端子を保持する治具を用いて、前記凸部を前記セラミックス焼結体の前記凹所に嵌合させつつ、前記治具に保持された前記接続端子を前記端子パッドに接合する工程と、を含むことを特徴とする。本保持装置の製造方法によれば、凸部と凹所との嵌合により治具がセラミックス焼結体に対して位置決めされるため、接続端子を端子パッドに精度良く接合することができる。 (6) A method for manufacturing a holding device disclosed in this specification has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and a terminal on the second surface side. preparing a ceramic molded body with exposed pads; firing the ceramic molded body to form a ceramic sintered body; forming recesses at spaced apart positions; and using a jig having protrusions and holding connection terminals, fitting the protrusions into the recesses of the ceramic sintered body, and and bonding the connection terminal held by the terminal pad to the terminal pad. According to the manufacturing method of the holding device, the jig is positioned with respect to the ceramic sintered body by fitting the projection and the recess, so that the connection terminal can be joined to the terminal pad with high accuracy.

なお、本明細書に開示される技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、保持装置、静電チャック、それらの製造方法等の形態で実現することが可能である。 It should be noted that the technology disclosed in this specification can be implemented in various forms, for example, in the form of a holding device, an electrostatic chuck, a manufacturing method thereof, and the like.

実施形態における静電チャック10の外観構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an external configuration of an electrostatic chuck 10 according to an embodiment; FIG. 実施形態における静電チャック10のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。It is an explanatory view showing roughly the XZ section composition of electrostatic chuck 10 in an embodiment. 本実施形態における静電チャック10のXY断面構成を概略的に示す説明図である。It is an explanatory view showing roughly XY section composition of electrostatic chuck 10 in this embodiment. セラミックス部材100の下面S2側から見た底面図である。2 is a bottom view of the ceramic member 100 as seen from the lower surface S2 side. FIG. 本実施形態における静電チャック10の製造方法を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing a method of manufacturing the electrostatic chuck 10 according to this embodiment. 電極端子54を電極パッド52に接合する際のセラミックス部材100と治具600とのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。6 is an explanatory view schematically showing the XZ cross-sectional configuration of the ceramic member 100 and the jig 600 when bonding the electrode terminal 54 to the electrode pad 52. FIG. 本実施形態における静電チャック10のXZ断面構成と温度分布との関係を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing the relationship between the XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 and the temperature distribution according to the present embodiment; 比較例における静電チャック10AのXZ断面構成と温度分布との関係を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing the relationship between the XZ cross-sectional configuration of an electrostatic chuck 10A and the temperature distribution in a comparative example; 比較例におけるセラミックス部材100Aの下面S2A側から見た底面図である。It is the bottom view seen from the lower surface S2A side of 100 A of ceramics members in a comparative example. 電極端子54を電極パッド52に接合する際のセラミックス部材100Aと治具600AとのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。6 is an explanatory view schematically showing the XZ cross-sectional configuration of the ceramic member 100A and the jig 600A when bonding the electrode terminal 54 to the electrode pad 52; FIG.

A.実施形態:
A-1.静電チャック10の構成:
図1は、本実施形態における静電チャック10の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、本実施形態における静電チャック10のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、本実施形態における静電チャック10のXY断面構成を概略的に示す説明図である。図2には、図3のII-IIの位置における静電チャック10のXZ断面構成が示されており、図3には、図2のIII-IIIの位置における静電チャック10のXY断面構成が示されている。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック10は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。
A. Embodiment:
A-1. Configuration of electrostatic chuck 10:
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the external configuration of an electrostatic chuck 10 according to this embodiment, and FIG. 2 is an explanatory view schematically showing the XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 according to this embodiment. 3 is an explanatory view schematically showing the XY cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 in this embodiment. 2 shows the XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 at the position II-II in FIG. 3, and FIG. 3 shows the XY cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 at the position III-III in FIG. It is shown. Each drawing shows mutually orthogonal XYZ axes for specifying directions. In this specification, for the sake of convenience, the positive direction of the Z-axis is referred to as the upward direction, and the negative direction of the Z-axis is referred to as the downward direction. may be

静電チャック10は、対象物(例えばウェハW)を静電引力により吸着して保持する装置であり、例えば半導体製造装置の真空チャンバー内でウェハWを固定するために使用される。静電チャック10は、所定の配列方向(本実施形態では上下方向(Z軸方向))に並べて配置されたセラミックス部材100およびベース部材200を備える。セラミックス部材100とベース部材200とは、セラミックス部材100の下面S2(図2参照)とベース部材200の上面S3とが上記配列方向に対向するように配置される。静電チャック10は、特許請求の範囲における保持装置に相当する。また、静電チャック10は、特許請求の範囲における支持体に相当し、セラミックス部材100の下面S2は、特許請求の範囲における第2の表面に相当し、ベース部材200の上面S3は、特許請求の範囲における第3の表面に相当する。 The electrostatic chuck 10 is a device that attracts and holds an object (for example, a wafer W) by electrostatic attraction, and is used, for example, to fix the wafer W within a vacuum chamber of a semiconductor manufacturing apparatus. The electrostatic chuck 10 includes a ceramic member 100 and a base member 200 arranged side by side in a predetermined arrangement direction (vertical direction (Z-axis direction) in this embodiment). The ceramic member 100 and the base member 200 are arranged such that the lower surface S2 (see FIG. 2) of the ceramic member 100 and the upper surface S3 of the base member 200 face each other in the arrangement direction. The electrostatic chuck 10 corresponds to a holding device in claims. Further, the electrostatic chuck 10 corresponds to the support in the claims, the lower surface S2 of the ceramic member 100 corresponds to the second surface in the claims, and the upper surface S3 of the base member 200 corresponds to the second surface in the claims. corresponds to the third surface in the range of

セラミックス部材100は、例えば円形平面の板状部材であり、セラミックス(例えば、アルミナや窒化アルミニウム等)により形成されている。セラミックス部材100の直径は例えば50mm~500mm程度(通常は200mm~450mm程度)であり、セラミックス部材100の厚さは例えば1mm~10mm程度である。 The ceramic member 100 is, for example, a circular planar plate-like member, and is made of ceramics (eg, alumina, aluminum nitride, or the like). The diameter of the ceramic member 100 is, for example, about 50 mm to 500 mm (usually about 200 mm to 450 mm), and the thickness of the ceramic member 100 is, for example, about 1 mm to 10 mm.

図2に示すように、セラミックス部材100の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成されたチャック電極400が設けられている。Z軸方向視でのチャック電極400の形状は、例えば略円形である。チャック電極400に電源(図示せず)から電圧が印加されると、静電引力が発生し、この静電引力によってウェハWがセラミックス部材100における下面S2とは反対側の表面(以下、「吸着面S1」という)に吸着固定される。セラミックス部材100の吸着面S1は、上述した配列方向(Z軸方向)に略直交する略平面状の表面である。セラミックス部材100の吸着面S1は、特許請求の範囲における第1の表面に相当する。また、本明細書では、Z軸に直交する方向(すなわち、吸着面S1に平行な方向)を「面方向」という。 As shown in FIG. 2, inside the ceramic member 100, a chuck electrode 400 made of a conductive material (for example, tungsten, molybdenum, etc.) is provided. The shape of the chuck electrode 400 as viewed in the Z-axis direction is, for example, a substantially circular shape. When a voltage is applied to the chuck electrode 400 from a power source (not shown), an electrostatic attraction is generated, and the electrostatic attraction causes the wafer W to move to the surface of the ceramic member 100 opposite to the lower surface S2 (hereinafter referred to as "attraction"). (referred to as "surface S1"). The attraction surface S1 of the ceramic member 100 is a substantially planar surface that is substantially perpendicular to the arrangement direction (Z-axis direction) described above. The adsorption surface S1 of the ceramic member 100 corresponds to the first surface in the claims. Further, in this specification, a direction orthogonal to the Z axis (that is, a direction parallel to the attraction surface S1) is referred to as a "plane direction".

図2および図3に示すように、セラミックス部材100の内部には、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成された抵抗発熱体で構成されたヒータ電極500が設けられている。Z軸方向視でのヒータ電極500の形状は、例えば略螺旋状である。ヒータ電極500に電源(図示せず)から電圧が印加されると、ヒータ電極500が発熱することによってセラミックス部材100が温められ、セラミックス部材100の吸着面S1に保持されたウェハWが温められる。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。ヒータ電極500は、特許請求の範囲における導電体に相当する。 As shown in FIGS. 2 and 3, inside the ceramic member 100, there is provided a heater electrode 500 composed of a resistance heating element made of a conductive material (for example, tungsten, molybdenum, etc.). The shape of the heater electrode 500 as viewed in the Z-axis direction is, for example, a substantially spiral shape. When a voltage is applied to the heater electrode 500 from a power supply (not shown), the heater electrode 500 generates heat, thereby warming the ceramic member 100 and warming the wafer W held on the attraction surface S1 of the ceramic member 100 . Thereby, the temperature control of the wafer W is realized. The heater electrode 500 corresponds to a conductor in claims.

ベース部材200は、例えばセラミックス部材100と同径の、または、セラミックス部材100より径が大きい円形平面の板状部材であり、金属(アルミニウムやアルミニウム合金等)により形成されている。ベース部材200の直径は例えば220mm~550mm程度(通常は220mm~470mm)であり、ベース部材200の厚さは例えば20mm~40mm程度である。 The base member 200 is, for example, a circular planar plate-like member having the same diameter as the ceramic member 100 or having a larger diameter than the ceramic member 100, and is made of metal (aluminum, aluminum alloy, or the like). The diameter of the base member 200 is, for example, approximately 220 mm to 550 mm (usually 220 mm to 470 mm), and the thickness of the base member 200 is, for example, approximately 20 mm to 40 mm.

ベース部材200の内部には冷媒流路210が形成されている。冷媒流路210に冷媒(例えば、フッ素系不活性液体や水等)が流されると、ベース部材200が冷却され、後述する接着層300を介したベース部材200とセラミックス部材100との間の伝熱によりセラミックス部材100が冷却され、セラミックス部材100の吸着面S1に保持されたウェハWが冷却される。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。 A coolant channel 210 is formed inside the base member 200 . When a coolant (for example, a fluorine-based inert liquid, water, or the like) is caused to flow through the coolant channel 210, the base member 200 is cooled, and conduction between the base member 200 and the ceramic member 100 via the adhesive layer 300, which will be described later. The heat cools the ceramic member 100 , thereby cooling the wafer W held on the suction surface S<b>1 of the ceramic member 100 . Thereby, the temperature control of the wafer W is realized.

セラミックス部材100とベース部材200とは、セラミックス部材100の下面S2とベース部材200の上面S3との間に配置された接着層300によって互いに接合されている。接着層300は、例えばシリコーン系樹脂やアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の接着材により構成されている。接着層300の厚さは、例えば0.1mm~1mm程度である。接着層300は、特許請求の範囲における接合部に相当する。 The ceramic member 100 and the base member 200 are joined together by an adhesive layer 300 arranged between the lower surface S2 of the ceramic member 100 and the upper surface S3 of the base member 200. As shown in FIG. The adhesive layer 300 is made of an adhesive such as silicone resin, acrylic resin, or epoxy resin. The thickness of the adhesive layer 300 is, for example, about 0.1 mm to 1 mm. The adhesive layer 300 corresponds to a joint in the claims.

A-2.ヒータ電極500への給電のための構成:
次に、ヒータ電極500への給電のための構成について説明する。図2に示すように、ベース部材200の内部には、ベース部材200の上面S3に開口する端子用貫通孔24が形成されている。本実施形態では、端子用貫通孔24は、断面(面方向に平行な断面)が円形であり、ベース部材200をZ軸方向に貫通する孔である。
A-2. Configuration for power supply to heater electrode 500:
Next, a configuration for supplying power to heater electrode 500 will be described. As shown in FIG. 2, inside the base member 200, terminal through-holes 24 are formed that open to the upper surface S3 of the base member 200. As shown in FIG. In the present embodiment, the terminal through hole 24 is a hole that has a circular cross section (a cross section parallel to the surface direction) and penetrates the base member 200 in the Z-axis direction.

また、セラミックス部材100の下面S2には、円形凹部16が形成されている。円形凹部16は、静電チャック10の下面S2の内、Z軸方向視で端子用貫通孔24に重なる領域が、全体的にチャック電極400側に凹んだものである。本実施形態では、Z軸方向視で、円形凹部16の内径は、端子用貫通孔24の内径より大きく、円形凹部16は、全周にわたって端子用貫通孔24の周囲を囲んでいる。また、ベース部材200に形成された端子用貫通孔24とセラミックス部材100に形成された円形凹部16との間の位置において、接着層300には、接着層300をZ軸方向に貫通する貫通孔32が形成されている。そのため、ベース部材200に形成された端子用貫通孔24とセラミックス部材100に形成された円形凹部16とは、接着層300に形成された貫通孔32を介して互いに連通した一体の孔を構成している。端子用貫通孔24は、特許請求の範囲における収容空間に相当する。 A circular concave portion 16 is formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100. As shown in FIG. The circular concave portion 16 is formed by denting the chuck electrode 400 side as a whole in a region of the lower surface S2 of the electrostatic chuck 10 that overlaps with the terminal through hole 24 when viewed in the Z-axis direction. In this embodiment, the inner diameter of the circular recess 16 is larger than the inner diameter of the terminal through-hole 24 as viewed in the Z-axis direction, and the circular recess 16 surrounds the terminal through-hole 24 over the entire circumference. At a position between the terminal through-hole 24 formed in the base member 200 and the circular concave portion 16 formed in the ceramic member 100, the adhesive layer 300 has a through-hole extending through the adhesive layer 300 in the Z-axis direction. 32 are formed. Therefore, the terminal through hole 24 formed in the base member 200 and the circular concave portion 16 formed in the ceramic member 100 form an integral hole communicating with each other through the through hole 32 formed in the adhesive layer 300. ing. The terminal through-hole 24 corresponds to an accommodation space in the claims.

また、セラミックス部材100の円形凹部16の底面には、ビア51を介してヒータ電極500に導通する一対の電極パッド52が配置されている。本実施形態では、Z軸方向視での電極パッド52の形状は、略円形である。電極パッド52およびビア51は、導電性材料(例えば、タングステンやモリブデン等)により形成されている。なお、電極パッド52は、図2に示すように、厚さ方向(Z軸方向)の全体がセラミックス部材100から露出している。ただし、電極パッド52の下面がセラミックス部材100から露出している限りにおいて、電極パッド52における厚さ方向の一部分または全体が、セラミックス部材100に埋設されていてもよい。 A pair of electrode pads 52 electrically connected to heater electrodes 500 via vias 51 are arranged on the bottom surface of the circular recess 16 of the ceramic member 100 . In this embodiment, the shape of the electrode pad 52 as viewed in the Z-axis direction is substantially circular. The electrode pads 52 and vias 51 are made of a conductive material (for example, tungsten, molybdenum, etc.). In addition, as shown in FIG. 2, the electrode pad 52 is entirely exposed from the ceramic member 100 in the thickness direction (Z-axis direction). However, as long as the lower surface of the electrode pad 52 is exposed from the ceramic member 100 , a part or the whole of the electrode pad 52 in the thickness direction may be embedded in the ceramic member 100 .

ベース部材200に形成された端子用貫通孔24内には、Z軸方向に延びる一対の柱状の電極端子54とコネクタ80とが配置されている。本実施形態では、各電極端子54の断面(面方向に平行な断面)は、円形である。電極端子54の上端は、例えば金属ろう材によって電極パッド52に接合されている。電極パッド52は、特許請求の範囲における端子パッドに相当し、電極端子54は、特許請求の範囲における接続端子に相当する。コネクタ80は、コネクタ本体82とケーブル84とを有する。コネクタ本体82は、略直方体状であり、コネクタ本体82の上面には、各電極パッド52と対向する位置に接続孔86が開口している。各接続孔86内に電極端子54が挿入されている。コネクタ本体82の下面からケーブル84が延びている。これにより、各電極端子54は、コネクタ80を介して外部機器に電気的に接続可能とされている。 A pair of columnar electrode terminals 54 extending in the Z-axis direction and a connector 80 are arranged in the terminal through hole 24 formed in the base member 200 . In this embodiment, the cross section of each electrode terminal 54 (the cross section parallel to the surface direction) is circular. The upper end of the electrode terminal 54 is joined to the electrode pad 52 by, for example, metal brazing material. The electrode pads 52 correspond to terminal pads in the claims, and the electrode terminals 54 correspond to connection terminals in the claims. Connector 80 has a connector body 82 and a cable 84 . The connector main body 82 has a substantially rectangular parallelepiped shape, and connection holes 86 are opened in the upper surface of the connector main body 82 at positions facing the respective electrode pads 52 . An electrode terminal 54 is inserted into each connection hole 86 . A cable 84 extends from the lower surface of the connector body 82 . Thereby, each electrode terminal 54 can be electrically connected to an external device via the connector 80 .

ヒータ電極500への給電のための構成は上述の通りである。静電チャック10の使用時には、ヒータ電極500に、電源(図示せず)から、コネクタ80、電極端子54、電極パッド52およびビア51を介してヒータ電極500に至る導通経路を介して、電圧が印加される。これにより、ヒータ電極500が発熱する。 The configuration for powering the heater electrode 500 is as described above. When the electrostatic chuck 10 is in use, a voltage is applied to the heater electrode 500 from a power supply (not shown) through a conductive path leading to the heater electrode 500 via the connector 80, the electrode terminals 54, the electrode pads 52 and the vias 51. applied. This causes the heater electrode 500 to generate heat.

なお、チャック電極400への給電のための構成も、ヒータ電極500への給電のための構成と同様である。静電チャック10の使用時には、チャック電極400に、電源(図示せず)から、コネクタ、電極端子、電極パッドおよびビア(いずれも図示せず)を介してチャック電極400に至る導通経路を介して、電圧が印加される。これにより、ウェハWを吸着面S1に吸着固定するための静電引力が発生する。 The configuration for supplying power to the chuck electrode 400 is the same as the configuration for supplying power to the heater electrode 500 . When the electrostatic chuck 10 is in use, the chuck electrode 400 is supplied with a conductive path from a power source (not shown) to the chuck electrode 400 through connectors, electrode terminals, electrode pads and vias (none of which are shown). , a voltage is applied. As a result, an electrostatic attractive force is generated for attracting and fixing the wafer W to the attracting surface S1.

A-3.セラミックス部材100の下面S2の構成:
図4は、ベース部材200に接合される前におけるセラミックス部材100の下面S2側から見た底面図である。図4に示すように、セラミックス部材100の下面S2の略中央には、上述の円形凹部16が形成されており、該円形凹部16の底面には、一対の電極パッド52が露出している。さらに、セラミックス部材100の下面S2には、電極パッド52から所定距離だけ離れた位置に複数(例えば4つ)の位置決め用凹所60が形成されている。具体的には、各位置決め用凹所60は、電極パッド52が露出している円形凹部16から所定距離だけ離れた位置に形成されている。すなわち、円形凹部16と位置決め用凹所60との間の中間領域102は、円形凹部16の底面と位置決め用凹所60の底面との両方に対して吸着面S1とは反対側に位置している。要するに、面方向において、電極パッド52(円形凹部16)と位置決め用凹所60との間に、表面(中間領域102)が下方に突出するセラミックス部分が介在している。なお、円形凹部16の直径は、例えば7mm以上、11.5mm以下であることが好ましく、位置決め用凹所60の直径は、例えば2mm以上、4mm以下であることが好ましい。また、円形凹部16と位置決め用凹所60との距離は、例えば1.5mm以上、4mm以下であることが好ましい。また、円形凹部16の上下方向の深さは、例えば0.6mm以上、1.2mm以下であることが好ましく、位置決め用凹所60の上下方向の深さは、例えば0.3mm以上、0.4mm以下であることが好ましい。また、全て(4つ)の位置決め用凹所60の体積の合計が、円形凹部16の体積と略同一、または、円形凹部16の体積より小さいことが好ましい。
A-3. Configuration of lower surface S2 of ceramic member 100:
FIG. 4 is a bottom view of the ceramic member 100 before being joined to the base member 200, viewed from the lower surface S2 side. As shown in FIG. 4, the aforementioned circular recess 16 is formed substantially in the center of the lower surface S2 of the ceramic member 100, and a pair of electrode pads 52 are exposed on the bottom surface of the circular recess 16. As shown in FIG. Furthermore, a plurality of (for example, four) positioning recesses 60 are formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100 at positions separated from the electrode pads 52 by a predetermined distance. Specifically, each positioning recess 60 is formed at a predetermined distance from the circular recess 16 where the electrode pad 52 is exposed. That is, the intermediate region 102 between the circular recess 16 and the positioning recess 60 is located on the side opposite to the suction surface S1 with respect to both the bottom surface of the circular recess 16 and the bottom surface of the positioning recess 60. there is In short, between the electrode pad 52 (circular recess 16) and the positioning recess 60, there is a ceramic portion whose surface (intermediate region 102) protrudes downward in the plane direction. The diameter of the circular recess 16 is preferably, for example, 7 mm or more and 11.5 mm or less, and the diameter of the positioning recess 60 is preferably, for example, 2 mm or more and 4 mm or less. Also, the distance between the circular recess 16 and the positioning recess 60 is preferably, for example, 1.5 mm or more and 4 mm or less. The vertical depth of the circular recess 16 is preferably 0.6 mm or more and 1.2 mm or less, and the vertical depth of the positioning recess 60 is, for example, 0.3 mm or more and 0.3 mm or more. It is preferably 4 mm or less. Also, the total volume of all (four) positioning recesses 60 is preferably substantially the same as the volume of the circular recess 16 or smaller than the volume of the circular recess 16 .

また、4つの位置決め用凹所60は、一対の電極パッド52(円形凹部16)を囲むように配置されている。具体的には、4つの位置決め用凹所60は、円形凹部16を中心とする同一円上において、周方向に等間隔に配置されている。なお、各位置決め用凹所60の内径は、円形凹部16の内径より小さい。 Also, the four positioning recesses 60 are arranged so as to surround the pair of electrode pads 52 (circular recesses 16). Specifically, the four positioning recesses 60 are arranged at equal intervals in the circumferential direction on the same circle centered on the circular recess 16 . The inner diameter of each positioning recess 60 is smaller than the inner diameter of the circular recess 16 .

一方、図2に示すように、ベース部材200の上面S3には、複数(例えば4つ)の突起202が形成されている。4つの突起202は、セラミックス部材100の4つの位置決め用凹所60にそれぞれ対向する位置に形成されており、各突起202は、対向する位置決め用凹所60内に挿入されている。このように、突起202が位置決め用凹所60内に挿入されていることによって、セラミックス部材100とベース部材200との間で温度のやり取りを効率的に行うことができる。 On the other hand, as shown in FIG. 2, a plurality of (for example, four) protrusions 202 are formed on the upper surface S3 of the base member 200. As shown in FIG. The four projections 202 are formed at positions facing the four positioning recesses 60 of the ceramic member 100, and each projection 202 is inserted into the positioning recesses 60 facing each other. By inserting the protrusion 202 into the positioning recess 60 in this way, the temperature can be efficiently exchanged between the ceramic member 100 and the base member 200 .

A-4.静電チャック10の製造方法:
図5は、本実施形態における静電チャック10の製造方法を示すフローチャートであり、図6は、電極端子54を電極パッド52に接合する際のセラミックス部材100と治具600とのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。
A-4. Manufacturing method of electrostatic chuck 10:
FIG. 5 is a flow chart showing the manufacturing method of the electrostatic chuck 10 in this embodiment, and FIG. It is an explanatory view showing roughly.

はじめに、セラミックス成形体とベース部材200とを準備する(S110)。ベース部材200は、公知の製造方法によって製造可能である。セラミックス成形体は、上述のセラミックス部材100に対して位置決め用凹所60が形成されていない未焼結体であり、以下の方法で製造される。すなわち、複数のセラミックスグリーンシート(例えばアルミナグリーンシート)を準備し、各セラミックスグリーンシートに、チャック電極400やヒータ電極500、ビア51、電極パッド52等を構成するためのメタライズインクの印刷や孔開け加工等を行い、その後、複数のセラミックスグリーンシートを積層して熱圧着し、所定の円板形状にカットするとともに円形凹部16を形成する。これにより、セラミックス成形体が形成される。 First, a ceramic compact and a base member 200 are prepared (S110). The base member 200 can be manufactured by a known manufacturing method. The ceramic molded body is an unsintered body in which the positioning recesses 60 are not formed with respect to the ceramic member 100 described above, and is manufactured by the following method. That is, a plurality of ceramic green sheets (for example, alumina green sheets) are prepared, and metallization ink is printed and perforated for forming the chuck electrode 400, the heater electrode 500, the via 51, the electrode pad 52, etc. on each ceramic green sheet. After processing, etc., a plurality of ceramic green sheets are laminated and thermocompression bonded, cut into a predetermined disk shape, and circular recesses 16 are formed. Thereby, a ceramic compact is formed.

次に、セラミックス成形体を焼成することにより、セラミックス焼結体を形成する(S120)。次に、セラミックス焼結体に研磨加工等を行うとともに、セラミックス焼結体の下面S2に位置決め用凹所60を形成するための孔開け加工を行う(S130)。これにより、セラミックス部材100が製造される。ここで、仮に、セラミックス部材100の下面S2における位置決め用凹所60は、焼成前のセラミックスグリーンシート(セラミックス成形体)への孔開け加工によって形成されるとすると、焼成によるセラミックス成形体の収縮によって位置決め用凹所60や電極パッド52が変形したり位置がずれたりして、例えば電極端子54がベース部材200に干渉したり、そもそも端子用貫通孔24に電極端子54が収納できなくなるおそれがある。これに対して、本実施形態の製造方法であれば、セラミックス成形体の焼結による位置決め用凹所60の変形や位置ずれを抑制することができる。 Next, the ceramic compact is fired to form a ceramic sintered body (S120). Next, the ceramics sintered body is subjected to polishing and the like, and at the same time, a hole opening process is performed to form the positioning recesses 60 in the lower surface S2 of the ceramics sintered body (S130). Thereby, the ceramic member 100 is manufactured. Here, assuming that the positioning recesses 60 in the lower surface S2 of the ceramic member 100 are formed by drilling a ceramic green sheet (ceramic molded body) before firing, the ceramic molded body shrinks due to firing. If the positioning recesses 60 or the electrode pads 52 are deformed or misaligned, for example, the electrode terminals 54 may interfere with the base member 200 or the electrode terminals 54 may not be accommodated in the terminal through-holes 24 in the first place. . In contrast, the manufacturing method of the present embodiment can suppress deformation and misalignment of the positioning recesses 60 due to sintering of the ceramic molded body.

次に、電極端子54を電極パッド52に接合する(S140)。具体的には、図6に示すように、セラミックス部材100の下面S2側に、電極端子54の外径と略同一の内径を有する一対の挿入孔610が形成された治具600を設置し、該治具600の各挿入孔610内に電極端子54を挿入することによって電極端子54を位置決めした状態で、電極端子54を電極パッド52に例えばロウ付けによる接合する。このとき使用される治具600の上端には複数(例えば4つ)の凸部620が形成されており、治具600の設置の際には、該凸部620をセラミックス部材100の位置決め用凹所60に嵌合させることによって治具600の位置決めを行う。この際、セラミックス部材100に円形凹部16が形成されていることによって電極パッド52と治具600とが離間しているため、治具600が電極パッド52に干渉して電極パッド52が損傷することが抑制される。電極端子54と電極パッド52との接合が完了した後、治具600を取り外す。 Next, the electrode terminal 54 is joined to the electrode pad 52 (S140). Specifically, as shown in FIG. 6, a jig 600 having a pair of insertion holes 610 having an inner diameter substantially equal to the outer diameter of the electrode terminal 54 is installed on the lower surface S2 side of the ceramic member 100. The electrode terminals 54 are positioned by inserting the electrode terminals 54 into the insertion holes 610 of the jig 600, and then joined to the electrode pads 52 by, for example, brazing. A plurality of (for example, four) protrusions 620 are formed on the upper end of the jig 600 used at this time. The jig 600 is positioned by fitting it to the place 60 . At this time, since the electrode pad 52 and the jig 600 are separated from each other by forming the circular concave portion 16 in the ceramic member 100, the jig 600 interferes with the electrode pad 52 and damages the electrode pad 52. is suppressed. After the electrode terminals 54 and the electrode pads 52 are completely joined, the jig 600 is removed.

次に、セラミックス部材100とベース部材200とを接合する(S150)。具体的には、ベース部材200の端子用貫通孔24に電極端子54を挿通させた状態で、セラミックス部材100の下面S2とベース部材200の上面S3とを対向させ、セラミックス部材100とベース部材200との間を接着層300によって接合する。以上の工程により、上述した構成の静電チャック10の製造が完了する。 Next, the ceramic member 100 and the base member 200 are joined (S150). Specifically, in a state in which the electrode terminals 54 are inserted into the terminal through holes 24 of the base member 200, the lower surface S2 of the ceramics member 100 and the upper surface S3 of the base member 200 are opposed to each other, and the ceramics member 100 and the base member 200 are assembled. are joined by an adhesive layer 300. Through the steps described above, the manufacture of the electrostatic chuck 10 having the configuration described above is completed.

A-5.本実施形態の効果:
吸着面S1における電極パッド52の真上部分に対応する部位は、電極端子54との間の電気的なやり取りの際に発熱することによって温度分布の特異点になり易い。また、吸着面S1における、セラミックス部材100の下面S2に形成された位置決め用凹所60の真上部分に対応する部位は、セラミックスが存在しない空洞を形成することによって温度分布の特異点になり易い。したがって、仮に、電極パッド52の近傍に位置決め用凹所60が形成されていると、吸着面S1における電極パッド52および位置決め用凹所60の真上部分に対応する部位に温度分布の特異点が集中し、その結果、セラミックス部材100の吸着面S1の温度分布の温度差が大きくなるおそれがある。これに対して、以上説明したように、本実施形態の静電チャック10では、位置決め用凹所60が電極パッド52から所定距離だけ離れた位置に形成されている。すなわち、電極パッド52と位置決め用凹所60との間には、相対的に熱が拡散し易いセラミックス部分が介在する。これにより、端子パッドの配置領域に凹所が連続的に形成された従来の構成に比べて、凹所により温度分布の特異点が分散されるため、セラミックス部材の第1の表面(保持面)の温度分布の温度差を小さくすることができる。
A-5. Effect of this embodiment:
A portion of the attraction surface S1 corresponding to the portion directly above the electrode pad 52 is likely to become a singular point of temperature distribution due to heat generated during electrical exchange with the electrode terminal 54 . Also, the portion of the attracting surface S1 corresponding to the portion immediately above the positioning recess 60 formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100 tends to become a singular point of the temperature distribution by forming a cavity where no ceramics exists. . Therefore, if the positioning recesses 60 were formed in the vicinity of the electrode pads 52, there would be a singular point of the temperature distribution at a portion of the attraction surface S1 corresponding to the portion immediately above the electrode pads 52 and the positioning recesses 60. As a result, the temperature difference in the temperature distribution of the attraction surface S1 of the ceramic member 100 may increase. In contrast, as described above, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the positioning recesses 60 are formed at positions separated from the electrode pads 52 by a predetermined distance. That is, between the electrode pad 52 and the positioning recess 60, there is a ceramic portion in which heat is relatively easily diffused. As compared with the conventional configuration in which the recesses are continuously formed in the arrangement area of the terminal pads, the recesses disperse the singular points of the temperature distribution. temperature difference of the temperature distribution can be reduced.

以下、具体的に説明する。図7は、本実施形態における静電チャック10のXZ断面構成と温度分布との関係を示す説明図である。図8は、比較例における静電チャック10AのXZ断面構成と温度分布との関係を示す説明図であり、図9は、比較例におけるセラミックス部材100Aの下面S2A側から見た底面図であり、図10は、電極端子54を電極パッド52に接合する際のセラミックス部材100Aと治具600AとのXZ断面構成を概略的に示す説明図である。なお、比較例の静電チャック10Aについて、本実施形態の静電チャック10と共通する構成は同一の符号を付して説明を省略する。 A specific description will be given below. FIG. 7 is an explanatory diagram showing the relationship between the XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10 and the temperature distribution in this embodiment. FIG. 8 is an explanatory diagram showing the relationship between the XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 10A in the comparative example and the temperature distribution, and FIG. FIG. 10 is an explanatory diagram schematically showing the XZ cross-sectional configuration of the ceramic member 100A and the jig 600A when the electrode terminal 54 is joined to the electrode pad 52. As shown in FIG. In addition, regarding the electrostatic chuck 10A of the comparative example, the same reference numerals are assigned to the configurations common to the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, and the description thereof is omitted.

図8および図9に示すように、比較例の静電チャック10Aでは、セラミックス部材100Aの下面S2Aに、位置決め用凹所70が形成されており、この位置決め用凹所70の底面に、さらに、内径が位置決め用凹所70の内径より小さいパッド配置用凹所16Aが形成されている。パッド配置用凹所16Aの底面には、一対の電極パッド52が配置されている。図10に示すように、電極端子54を電極パッド52に接合する際、セラミックス部材100Aの下面S2A側に、電極端子54の外径と略同一の内径を有する一対の挿入孔610Aが形成された治具600Aを設置し、該治具600Aの各挿入孔610A内に電極端子54を挿入することによって電極端子54を位置決めした状態で、電極端子54を電極パッド52に例えばロウ付けによる接合する。治具600の設置の際に、治具600Aの上端をセラミックス部材100の位置決め用凹所70に嵌合させることによって治具600Aの位置決めを行う。この際、セラミックス部材100Aにパッド配置用凹所16Aが形成されていることによって電極パッド52と治具600Aとが離間しているため、治具600Aが電極パッド52に干渉して電極パッド52が損傷することが抑制される。 As shown in FIGS. 8 and 9, in the electrostatic chuck 10A of the comparative example, a positioning recess 70 is formed in the lower surface S2A of the ceramic member 100A. A pad placement recess 16A having an inner diameter smaller than the inner diameter of the positioning recess 70 is formed. A pair of electrode pads 52 are arranged on the bottom surface of the pad arrangement recess 16A. As shown in FIG. 10, when the electrode terminal 54 is joined to the electrode pad 52, a pair of insertion holes 610A having an inner diameter substantially equal to the outer diameter of the electrode terminal 54 are formed on the lower surface S2A side of the ceramic member 100A. The jig 600A is installed, and the electrode terminals 54 are positioned by inserting the electrode terminals 54 into the insertion holes 610A of the jig 600A, and the electrode terminals 54 are joined to the electrode pads 52 by, for example, brazing. When installing the jig 600 , the jig 600 A is positioned by fitting the upper end of the jig 600 A into the positioning recess 70 of the ceramic member 100 . At this time, since the electrode pad 52 and the jig 600A are separated from each other due to the formation of the pad arrangement recess 16A in the ceramic member 100A, the jig 600A interferes with the electrode pad 52 and the electrode pad 52 is removed. Damage is suppressed.

このように、比較例の静電チャック10Aでは、位置決め用凹所70と円形凹部16との二段の凹所が形成されており、電極端子54の周辺にセラミックスが存在しない大きい空洞が存在することになる。このため、吸着面S1における電極端子54の周辺の真上部分に対応する部位に温度分布の特異点が集中し、その結果、図8の下側の図に示すように、セラミックス部材100Aの吸着面S1Aの温度分布の温度差が大きくなるおそれがある。 Thus, in the electrostatic chuck 10A of the comparative example, two-stage recesses of the positioning recess 70 and the circular recess 16 are formed, and a large cavity without ceramics exists around the electrode terminals 54. It will be. Therefore, the peculiar points of the temperature distribution are concentrated on the part corresponding to the part directly above the periphery of the electrode terminal 54 on the attracting surface S1, and as a result, as shown in the lower diagram of FIG. The temperature difference in the temperature distribution of surface S1A may increase.

これに対して、本実施形態の静電チャック10では、位置決め用凹所60は、電極パッド52が配置された円形凹部16から所定距離だけ離れた位置に形成されている。すなわち、電極パッド52(円形凹部16)と位置決め用凹所60との間に、相対的に熱が拡散し易いセラミックス部分が介在する。このため、図7の下側の図に示すように、吸着面S1における電極端子54の周辺の真上部分に対応する部位に温度分布の特異点が集中することが抑制され、その結果、比較例の静電チャック10Aに比べて、セラミックス部材100の吸着面S1の温度分布の温度差を小さくすることができる。 In contrast, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, the positioning recesses 60 are formed at positions separated by a predetermined distance from the circular recesses 16 in which the electrode pads 52 are arranged. That is, between the electrode pad 52 (circular concave portion 16) and the positioning concave portion 60, there is a ceramic portion in which heat is relatively easily diffused. Therefore, as shown in the lower diagram of FIG. 7, the singular points of the temperature distribution are suppressed from concentrating on the portion corresponding to the portion directly above the periphery of the electrode terminal 54 on the attracting surface S1. Compared to the electrostatic chuck 10A of the example, the temperature difference in the temperature distribution of the attraction surface S1 of the ceramic member 100 can be reduced.

また、セラミックス部材100の吸着面S1とヒータ電極500との距離が短くなるほど、ヒータ電極500が存在する部分とヒータ電極500が存在しない部分との温度差が、セラミックス部材100の吸着面S1における温度分布に影響し易くなる。このため、セラミックス部材100の吸着面S1の均熱性を向上させるには、ヒータ電極500を、吸着面S1から離間させることが好ましい。しかし、比較例の静電チャック10Aでは、二段の凹所によって下面S2Aに比較的に深い空洞が形成されているため、ヒータ電極500を吸着面S1から離間させるにも限界がある(図8等参照)。仮に、ヒータ電極500を吸着面S1からさらに離間させようとすると、二段の凹所が形成できなくなる。これに対して、本実施形態の静電チャック10では、二段の凹所を形成する必要がないため、比較例の静電チャック10Aに比べて、ヒータ電極500を吸着面S1からさらに離間させることができる(図1等参照)。しかも、比較例の静電チャック10Aでは、接着層300Aにおける特定箇所に、位置決め用凹所70に対応した比較的大きな貫通孔32Aが形成されるため、セラミックス部材100とベース部材200との接合強度が低下するおそれがある。これに対して、本実施形態の静電チャック10では、二段の凹所を形成する必要がないため、接着層300に比較的に小さい貫通孔32を形成すればよいため、セラミックス部材100とベース部材200との接合強度が低下することを抑制できる。 Further, as the distance between the attraction surface S1 of the ceramic member 100 and the heater electrode 500 becomes shorter, the temperature difference between the portion where the heater electrode 500 exists and the portion where the heater electrode 500 does not exist becomes the temperature at the attraction surface S1 of the ceramic member 100. It becomes easier to influence the distribution. Therefore, in order to improve the heat uniformity of the attraction surface S1 of the ceramic member 100, it is preferable to separate the heater electrode 500 from the attraction surface S1. However, in the electrostatic chuck 10A of the comparative example, since a relatively deep cavity is formed in the lower surface S2A by the two-stage recesses, there is a limit to separating the heater electrode 500 from the adsorption surface S1 (see FIG. 8). etc.). If the heater electrode 500 is further separated from the attracting surface S1, it becomes impossible to form a two-stage recess. On the other hand, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, since it is not necessary to form two recesses, the heater electrode 500 is spaced further from the attraction surface S1 than in the electrostatic chuck 10A of the comparative example. (See FIG. 1, etc.). Moreover, in the electrostatic chuck 10A of the comparative example, since the relatively large through holes 32A corresponding to the positioning recesses 70 are formed in the specific locations of the adhesive layer 300A, the bonding strength between the ceramic member 100 and the base member 200 is increased. may decrease. On the other hand, in the electrostatic chuck 10 of the present embodiment, since it is not necessary to form a two-stage recess, it is sufficient to form a relatively small through-hole 32 in the adhesive layer 300 . A decrease in the bonding strength with the base member 200 can be suppressed.

また、本実施形態によれば、セラミックス部材100の下面S2には、位置決め用凹所60が複数形成されている。これにより、セラミックス部材100の吸着面S1の温度分布の温度差を小さくしつつ、複数の位置決め用凹所60を、例えばセラミックス部材100と他の部材(ベース部材200)との位置決めに利用することができる。また、治具600がセラミックス部材100に対して回転して一対の電極端子54が位置ずれすることを抑制することができる。 Further, according to this embodiment, a plurality of positioning recesses 60 are formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100. As shown in FIG. As a result, the plurality of positioning recesses 60 can be used for positioning the ceramic member 100 and another member (the base member 200), for example, while reducing the temperature difference in the temperature distribution of the attraction surface S1 of the ceramic member 100. can be done. Further, it is possible to prevent the jig 600 from rotating with respect to the ceramic member 100 and causing the pair of electrode terminals 54 to be displaced.

また、本実施形態では、電極パッド52の下側には、電極端子54の収容空間を確保するため、ベース部材200に端子用貫通孔24が形成されており、ベース部材200による冷却効果が低い。このため、吸着面S1における電極パッド52の周辺の真上部分に対応する部位は特に温度分布の特異点になり易い。このため、本実施形態を適用することは特に有用である。 Further, in the present embodiment, the terminal through-holes 24 are formed in the base member 200 below the electrode pads 52 in order to secure a space for accommodating the electrode terminals 54, and the cooling effect of the base member 200 is low. . For this reason, the portion corresponding to the portion directly above the periphery of the electrode pad 52 on the attraction surface S1 is particularly likely to become a singular point of the temperature distribution. Therefore, applying this embodiment is particularly useful.

また、本実施形態の製造方法によれば、ベース部材200の突起202と治具600の凸部620との嵌合により治具600がセラミックス焼結体に対して位置決めされるため、電極端子54を電極パッド52に精度良く接合することができる。 Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, the jig 600 is positioned with respect to the ceramic sintered body by fitting the protrusion 202 of the base member 200 and the convex portion 620 of the jig 600, so that the electrode terminal 54 can be joined to the electrode pad 52 with high accuracy.

B.変形例:
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
B. Variant:
The technology disclosed in this specification is not limited to the above-described embodiments, and can be modified in various forms without departing from the scope of the invention. For example, the following modifications are possible.

上記各実施形態における静電チャック10の構成は、あくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、上記実施形態において、導電体として、ヒータ電極500を例示したが、これに限らず、セラミックス部材100の内部に配置され、端子パッドに電気的に接続される導電性を有する部材であればよく、例えば上述のチャック電極400(内部電極)であるとしてもよい。また、端子パッドおよび接続端子として、ヒータ電極500に電気的に接続された電極パッド52および電極端子54を例示したが、これに限らず、チャック電極400に電気的に接続された電極パッドおよび電極端子(いずれも図示せず)であるとしてもよい。 The configuration of the electrostatic chuck 10 in each of the above embodiments is merely an example, and various modifications are possible. For example, in the above embodiment, the heater electrode 500 was exemplified as a conductor, but the present invention is not limited to this, and any member having conductivity disposed inside the ceramic member 100 and electrically connected to the terminal pad can be used. It may be, for example, the chuck electrode 400 (internal electrode) described above. Moreover, although the electrode pad 52 and the electrode terminal 54 electrically connected to the heater electrode 500 have been exemplified as the terminal pad and connection terminal, the electrode pad and electrode electrically connected to the chuck electrode 400 are not limited to this. It may also be a terminal (neither shown).

また、上記実施形態において、セラミックス部材100とベース部材200とが、一体の接着層300ではなく、複数の接合部分によって接合されているとしてもよい。具体的には、セラミックス部材100とベース部材200との間に、セラミックス部材100とベース部材200との対向方向に直交する一の仮想平面上に配置された複数の接合部分が離散的に形成されているとしてもよい。複数の接合部分も特許請求の範囲における接合部に相当する。 Further, in the above-described embodiment, the ceramic member 100 and the base member 200 may be joined by a plurality of joining portions instead of the integral adhesive layer 300 . Specifically, a plurality of joints are discretely formed between the ceramic member 100 and the base member 200 and arranged on one virtual plane perpendicular to the facing direction of the ceramic member 100 and the base member 200. It may be A plurality of joint portions also correspond to joint portions in claims.

また、上記実施形態において、円形凹部16、位置決め用凹所60および電極パッド52のZ軸方向視の形状は、円形に限らず、矩形等の他の形状でもよい。例えば、位置決め用凹所60は、円形凹部16や電極パッド52を囲む環状でもよい。また、円形凹部16の内径は、端子用貫通孔24の内径と同じ、または、該端子用貫通孔24の内径より小さいとしてもよい。また、円形凹部16内に、1つの電極パッド52、あるいは、3つ以上の電極パッド52が配置されているとしてもよい。また、セラミックス部材100の下面S2に、円形凹部16が、1つ、2つ、3つ、または、5つ以上形成されているとしてもよい。また、上記実施形態では、複数の円形凹部16は、同一円上に等間隔に配置されているとしたが、これに限らず、不規則に配置されているとしてもよい。 Further, in the above embodiment, the shapes of the circular recess 16, the positioning recess 60, and the electrode pad 52 as viewed in the Z-axis direction are not limited to circular, and may be other shapes such as rectangular. For example, the positioning recess 60 may be annular surrounding the circular recess 16 or the electrode pad 52 . Also, the inner diameter of the circular recess 16 may be the same as the inner diameter of the terminal through-hole 24 or smaller than the inner diameter of the terminal through-hole 24 . Also, one electrode pad 52 or three or more electrode pads 52 may be arranged in the circular recess 16 . In addition, one, two, three, or five or more circular recesses 16 may be formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100 . In addition, in the above-described embodiment, the plurality of circular recesses 16 are arranged on the same circle at regular intervals, but they may be arranged irregularly.

また、上記実施形態において、ベース部材200に突起202が形成されていないとしてもよい。但し、上記実施形態の構成であれば、突起202が形成されているために、位置決め用凹所60内において、セラミックス部材100やベース部材200に比べて熱が拡散し難い接着層300の厚みが厚くなることが抑制できるため、吸着面S1において位置決め用凹所60の真上部分に対応する部位が温度分布の特異点になることを抑制することができる。さらに、上記実施形態において、ベース部材200の端子用貫通孔24の内径が、全て(4つ)の位置決め用凹所60が内接する円の径より大きくなっており、かつ、上下方向(Z軸方向)視で、端子用貫通孔24内に、全ての位置決め用凹所60が位置しているとしてもよい。 Further, in the above-described embodiment, the protrusion 202 may not be formed on the base member 200 . However, in the configuration of the above-described embodiment, since the projections 202 are formed, the thickness of the adhesive layer 300 in which heat is less likely to diffuse than the ceramic member 100 or the base member 200 in the positioning recess 60 is large. Since the thickening can be suppressed, it is possible to suppress the portion corresponding to the portion directly above the positioning recess 60 on the attracting surface S1 from becoming a singular point of the temperature distribution. Furthermore, in the above-described embodiment, the inner diameter of the terminal through-hole 24 of the base member 200 is larger than the diameter of the circle in which all (four) of the positioning recesses 60 are inscribed, and All of the positioning recesses 60 may be positioned within the terminal through-holes 24 when viewed from the direction).

また、上記実施形態において、セラミックス部材100の下面S2に、位置決め用凹所60は形成されているが、円形凹部16は形成されていないとしてもよい。すなわち、電極パッド52と位置決め用凹所60との間に介在するセラミックス部分の表面(中間領域102)は、少なくとも位置決め用凹所60の底面に対して吸着面S1とは反対側に位置していれば、中間領域102および円形凹部16により温度分布の特異点が分散されるため、セラミックス部材100の吸着面S1の温度分布の温度差を小さくすることができる。よい。すなわち、特許請求の範囲における「端子パッドから所定距離だけ離れた位置に凹所が形成されている」には、第2の表面における端子パッドと凹所との間の中間領域の少なくとも一部は、凹所の底面より第1の表面とは反対側に位置していることが含まれている。また、該中間領域の少なくとも一部は、凹所の底面と端子パッド(端子パッドが露出している面)に対して第1の表面とは反対側に位置していることが好ましい。 Further, in the above embodiment, the positioning recess 60 is formed in the lower surface S2 of the ceramic member 100, but the circular recess 16 may not be formed. That is, the surface (intermediate region 102) of the ceramic portion interposed between the electrode pad 52 and the positioning recess 60 is located at least on the opposite side of the bottom surface of the positioning recess 60 from the attracting surface S1. Since the singular points of the temperature distribution are dispersed by the intermediate region 102 and the circular concave portion 16, the temperature difference in the temperature distribution of the attraction surface S1 of the ceramic member 100 can be reduced. good. In other words, "a recess is formed at a predetermined distance from the terminal pad" in the scope of claims means that at least part of the intermediate region between the terminal pad and the recess on the second surface is , located opposite the first surface from the bottom surface of the recess. Also, at least part of the intermediate region is preferably located on the side opposite to the first surface with respect to the bottom surface of the recess and the terminal pad (surface where the terminal pad is exposed).

また、上記実施形態では、凹所として、治具600とセラミックス部材100との位置決めや、セラミックス部材100とベース部材200との位置ずれ防止のための位置決め用凹所60を例示したが、これに限らず、他の目的で形成される凹所でもよい。 Further, in the above embodiment, the positioning recesses 60 for positioning the jig 600 and the ceramics member 100 and for preventing misalignment between the ceramics member 100 and the base member 200 are illustrated as the recesses. However, the recesses may be formed for other purposes.

また、上記各実施形態では、静電チャック10がヒータ電極500を備えているが、静電チャック10がヒータ電極500を備えなくてもよい。また、上記各実施形態では、冷媒流路210がベース部材200の内部に形成されるとしているが、冷媒流路210が、ベース部材200の内部ではなく、ベース部材200の表面(例えばベース部材200と接着層300との間)に形成されるとしてもよい。 Moreover, in each of the above embodiments, the electrostatic chuck 10 includes the heater electrode 500 , but the electrostatic chuck 10 may not include the heater electrode 500 . Further, in each of the above-described embodiments, the coolant channel 210 is formed inside the base member 200, but the coolant channel 210 is formed not inside the base member 200 but on the surface of the base member 200 (for example, the surface of the base member 200). and the adhesive layer 300).

また、上記各実施形態では、セラミックス部材100の内部に1つのチャック電極400が設けられた単極方式が採用されているが、セラミックス部材100の内部に一対のチャック電極400が設けられた双極方式が採用されてもよい。また、上記各実施形態の静電チャック10における各部材を形成する材料は、あくまで例示であり、各部材が他の材料により形成されてもよい。 Further, in each of the above-described embodiments, a monopolar system in which one chuck electrode 400 is provided inside the ceramic member 100 is adopted, but a bipolar system in which a pair of chuck electrodes 400 are provided inside the ceramic member 100 is adopted. may be adopted. Further, the materials forming each member in the electrostatic chuck 10 of each of the above-described embodiments are merely examples, and each member may be formed of another material.

また、上記各実施形態における静電チャック10の製造方法はあくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、セラミックス部材100の下面S2における円形凹部16や位置決め用凹所60は、焼成前のセラミックスグリーンシートへの孔開け加工によって形成されてもよいし、焼成後の研磨加工によって形成されてもよい。 Moreover, the manufacturing method of the electrostatic chuck 10 in each of the above-described embodiments is merely an example, and various modifications are possible. For example, the circular concave portion 16 and the positioning concave portion 60 on the lower surface S2 of the ceramic member 100 may be formed by punching a ceramic green sheet before firing, or by polishing after firing. .

本発明は、静電引力を利用してウェハWを保持する静電チャック10に限らず、内部に導電体が配置されるとともに該導電体に電気的に接続された端子パッドが外部に露出したセラミックス部材を備え、セラミックス部材の表面上に対象物を保持する他の保持装置(例えば、真空チャックやヒータ等)にも適用可能である。 The present invention is not limited to the electrostatic chuck 10 that holds the wafer W using electrostatic attraction, but is applicable to a chuck in which a conductor is disposed inside and terminal pads electrically connected to the conductor are exposed to the outside. It is also applicable to other holding devices (for example, vacuum chucks, heaters, etc.) that have a ceramic member and hold an object on the surface of the ceramic member.

10,10A:静電チャック 16:円形凹部 16A:パッド配置用凹所 24:端子用貫通孔 32:貫通孔 51:ビア 52:電極パッド 54:電極端子 60,70:位置決め用凹所 80:コネクタ 82:コネクタ本体 84:ケーブル 86:接続孔 100,100A:セラミックス部材 102:中間領域 200:ベース部材 202:突起 210:冷媒流路 300:接着層 400:チャック電極 500:ヒータ電極 600,600A:治具 610,610A:挿入孔 620:凸部 S1,S1A:吸着面 S2,S2A:下面 S3:上面 W:ウェハ 10, 10A: electrostatic chuck 16: circular recess 16A: pad arrangement recess 24: terminal through hole 32: through hole 51: via 52: electrode pad 54: electrode terminal 60, 70: positioning recess 80: connector 82: Connector body 84: Cable 86: Connection hole 100, 100A: Ceramic member 102: Intermediate region 200: Base member 202: Protrusion 210: Coolant flow path 300: Adhesive layer 400: Chuck electrode 500: Heater electrode 600, 600A: Healing Tools 610, 610A: Insertion hole 620: Convex part S1, S1A: Adsorption surface S2, S2A: Lower surface S3: Upper surface W: Wafer

Claims (4)

第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有するセラミックス部材と、
前記セラミックス部材の内部に配置された導電体と、
前記セラミックス部材の前記第2の表面側に露出するとともに、前記導電体に電気的に接続された端子パッドと、
前記端子パッドに接合された接続端子と、
第3の表面を有し、前記第3の表面が前記セラミックス部材の前記第2の表面に対向するように配置されるとともに、前記接続端子を収容する収容空間である端子用貫通孔が形成された支持体と、
前記セラミックス部材の前記第2の表面と前記支持体の前記第3の表面とを接合する接合部と、
を備え、前記セラミックス部材の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、
前記第2の表面には、前記端子パッドを収容する端子用凹部が形成され、前記端子用凹部から所定距離だけ離れた位置に前記端子パッドを収容しない凹所が形成されており、前記凹所の前記第1の表面に垂直な第1の方向の深さは、前記端子用凹部の前記第1の方向の深さより浅く、
前記支持体のうち、前記第1の表面に直交する方向視で前記凹所と重なる部分には、貫通孔が形成されていないことを特徴とする、保持装置。
a ceramic member having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
a conductor disposed inside the ceramic member;
a terminal pad exposed on the second surface side of the ceramic member and electrically connected to the conductor;
a connection terminal joined to the terminal pad;
It has a third surface, the third surface is arranged to face the second surface of the ceramic member, and a terminal through-hole, which is an accommodation space for accommodating the connection terminal, is formed. a support;
a joining portion that joins the second surface of the ceramic member and the third surface of the support;
A holding device for holding an object on the first surface of the ceramic member,
The second surface is formed with a terminal recess for accommodating the terminal pad, and a recess for not accommodating the terminal pad is formed at a position separated from the terminal recess by a predetermined distance, and the recess is the depth in the first direction perpendicular to the first surface of is shallower than the depth in the first direction of the terminal recess,
A holding device according to claim 1, wherein no through hole is formed in a portion of the support that overlaps with the recess when viewed in a direction orthogonal to the first surface.
請求項1に記載の保持装置であって、
前記第2の表面には、前記凹所が複数形成されていることを特徴とする、保持装置。
A holding device according to claim 1, wherein
A holding device , wherein a plurality of said recesses are formed in said second surface .
請求項2に記載の保持装置であって、
前記端子パッドは、前記第2の表面における前記端子用凹部と前記凹所との間の中間領域の少なくとも一部に対して前記第1の表面側に位置していることを特徴とする、保持装置。
A holding device according to claim 2 , wherein
wherein the terminal pad is positioned on the first surface side with respect to at least a portion of an intermediate region between the terminal recesses and the recesses on the second surface. Device.
第1の表面と、前記第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有し、第2の表面側に端子パッドが露出したセラミックス成形体を準備する工程と、
前記セラミックス成形体を焼成し、セラミックス焼結体を形成する工程と、
前記セラミックス焼結体の前記第2の表面における前記端子パッドから所定距離だけ離れた位置に凹所を形成する工程と、
凸部を有するとともに接続端子を保持する治具を用いて、前記凸部を前記セラミックス焼結体の前記凹所に嵌合させつつ、前記治具に保持された前記接続端子を前記端子パッドに接合する工程と、を含むことを特徴とする保持装置の製造方法。
preparing a ceramic molded body having a first surface and a second surface opposite to the first surface, with terminal pads exposed on the second surface side;
firing the ceramic molded body to form a ceramic sintered body;
forming a recess at a position spaced apart from the terminal pad by a predetermined distance on the second surface of the ceramic sintered body;
A jig having a projection and holding the connection terminal is used to fit the projection into the recess of the ceramic sintered body, and the connection terminal held by the jig is attached to the terminal pad. and a bonding step.
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