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JP7247016B2 - automatic analyzer - Google Patents
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Description

本発明の実施形態は、自動分析装置に関する。 Embodiments of the present invention relate to automated analyzers.

臨床検査用の自動分析装置では、反応ディスクに挿入されたキュベット内で血液及び尿等の生体試料(以下、試料と称する)と試薬とを一定量混合して反応させ、この混合液に光を当てて得られる透過光又は散乱光の光量を測定する。これにより、測定対象物質の濃度、活性値、及び変化に掛かる時間等を求めている。測定が終了したキュベットは、例えば、1ハンドアームにより個別に抜去及び搬送され、廃棄される。 In automatic analyzers for clinical tests, a certain amount of a biological sample (hereinafter referred to as a sample) such as blood or urine is mixed with a reagent in a cuvette inserted into a reaction disk, and the mixture is reacted with light. The amount of transmitted light or scattered light obtained by applying is measured. As a result, the concentration of the substance to be measured, the activity value, the time required for change, and the like are obtained. Cuvettes for which measurement has been completed are individually removed and transported by, for example, one hand arm, and discarded.

この種の自動分析装置は、単位時間当たりに測定される試料の数に相当するスループットを向上させる観点から、キュベットの抜去、搬送及び廃棄に係る動作を高速化させることが好ましい。しかしながら、自動分析装置は、前述した1ハンドアームを用いた抜去、搬送、廃棄といった動作の動作範囲が大きく、かつ、動作ステップも多くなるため、高速化が困難な状況にある。また、1ハンドアームの動作を無理に高速化すると、キュベットの姿勢が不安定となり、抜去及び廃棄の安定性に影響を及ぼす。 From the viewpoint of improving the throughput corresponding to the number of samples measured per unit time, it is preferable for this type of automatic analyzer to speed up operations related to cuvette extraction, transportation and disposal. However, the automatic analyzer has a large operating range of operations such as removal, transportation, and disposal using one hand arm as described above, and the number of operation steps is large, so it is difficult to speed up. In addition, if one hand arm is forced to move at high speed, the posture of the cuvette becomes unstable, affecting the stability of extraction and disposal.

特開平11-223633号公報JP-A-11-223633

本発明が解決しようとする課題は、キュベットの抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることである。 The problem to be solved by the present invention is to improve throughput while maintaining stability during removal and disposal of cuvettes.

実施形態に係る自動分析装置は、支持部と、格納部と、把持機構と、駆動部と、ガイド部とを備える。
支持部は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する。
格納部は、測定が終了した反応管を格納する。
把持機構は、前記反応管を把持する状態と前記反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能である。
駆動部は、前記把持機構を上方に移動させる。
ガイド部は、前記把持機構の移動と共に、前記把持機構により把持された反応管の下方に移動し、前記把持機構が前記反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する前記反応管の上側から離れた位置に位置し、前記把持機構が前記反応管を開放する開放位置に位置する場合に前記反応管の下側に位置して前記格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。
An automatic analyzer according to an embodiment includes a support section, a storage section, a grasping mechanism, a drive section, and a guide section.
The support supports a reaction tube holding a mixture of a sample and a reagent.
The storage unit stores reaction tubes for which measurement has been completed.
The gripping mechanism can switch between a state of gripping the reaction tube and an open state of not gripping the reaction tube.
The drive unit moves the gripping mechanism upward.
The guide portion moves below the reaction tube gripped by the gripping mechanism along with the movement of the gripping mechanism, and guides the reaction tube to be gripped when the gripping mechanism is positioned at a gripping position where the reaction tube can be gripped. It is located at a position away from the upper side, and when the gripping mechanism is located at the open position for opening the reaction tube, it is located below the reaction tube and forms a downward slope toward the storage section. .

図1は、第1の実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing the functional configuration of the automatic analyzer according to the first embodiment. 図2は、第1の実施形態に係る自動分析装置の構成の一例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the automatic analyzer according to the first embodiment. 図3は、第1の実施形態に係る自動分析装置に用いられる反応管の構成の一例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a reaction tube used in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図4は、第1の実施形態に係る自動分析装置における反応ディスクの構成の一例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the reaction disk in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図5は、第1の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を説明するための正面図である。FIG. 5 is a front view for explaining an example of the configuration of the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment; 図6は、第1の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の一例を説明するための側面図である。FIG. 6 is a side view for explaining an example of a withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment; 図7は、第1の実施形態に係る自動分析装置における把持機構の構成の一例を、把持機構が閉じた状態で示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the gripping mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment, with the gripping mechanism closed. 図8は、第1の実施形態に係る自動分析装置における把持機構の構成の一例を、把持機構が開いた状態で示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the gripping mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment, with the gripping mechanism opened. 図9は、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるガイド機構の構成及び把持機構とガイド機構との連結構造を説明するための斜視図である。FIG. 9 is a perspective view for explaining the configuration of the guide mechanism and the connection structure between the gripping mechanism and the guide mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図10は、第1の実施形態に係る自動分析装置におけるガイド機構の構成の一例を説明するための正面図である。10 is a front view for explaining an example of the configuration of the guide mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment; FIG. 図11は、第1の実施形態に係る自動分析装置において抜去及び廃棄動作が開始する前の状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。FIG. 11 is a partial cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 6, showing the state before the extraction and disposal operations are started in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図12は、第1の実施形態に係る自動分析装置において把持位置において把持機構が反応管を把持した状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。12 is a partial cross-sectional view showing a state in which the gripping mechanism grips the reaction tube at the gripping position in the automatic analyzer according to the first embodiment, taken along line AA of FIG. 6. FIG. 図13は、第1の実施形態に係る自動分析装置において反応管を把持した把持機構が上側へ移動する様子を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。13 is a partial cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 6 showing how the gripping mechanism gripping the reaction tube moves upward in the automatic analyzer according to the first embodiment. 図14は、第1の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構をガイド機構がガイド状態で示す正面図である。FIG. 14 is a front view showing the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the first embodiment in a guided state by the guide mechanism. 図15は、第1の実施形態に係る自動分析装置において反応管を把持した把持機構が開放位置に到達した状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。15 is a partial cross-sectional view showing a state in which the gripping mechanism gripping the reaction tube reaches the open position in the automatic analyzer according to the first embodiment, taken along line AA in FIG. 6. FIG. 図16は、第2の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の内部構成を把持機構が開放位置に位置する状態で示す模式図である。FIG. 16 is a schematic diagram showing the internal configuration of the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the second embodiment, with the gripping mechanism positioned at the open position. 図17は、第3の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を示す模式図である。FIG. 17 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the third embodiment. 図18は、第4の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を示す模式図である。FIG. 18 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the fourth embodiment. 図19は、第5の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構を把持機構が閉じた状態で示す模式図である。FIG. 19 is a schematic diagram showing the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the fifth embodiment with the gripping mechanism closed. 図20は、第5の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構を把持機構が開いた状態で示す模式図である。FIG. 20 is a schematic diagram showing the withdrawal mechanism in the automatic analyzer according to the fifth embodiment with the gripping mechanism opened.

以下、図面を参照して各実施形態について説明する。 Hereinafter, each embodiment will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る自動分析装置1の機能構成を示すブロック図である。自動分析装置1は、キュベット70に挿入された試料と試薬との反応に関する指標を測定し、測定した指標に基づいて試料の物性値を算出する。キュベット70は、反応管の一例である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing the functional configuration of an automatic analyzer 1 according to the first embodiment. The automatic analyzer 1 measures an index relating to the reaction between the sample inserted in the cuvette 70 and the reagent, and calculates the physical properties of the sample based on the measured index. Cuvette 70 is an example of a reaction tube.

図1に示される自動分析装置1は、分析機構2、解析回路3、駆動機構4、入力インタフェース5、出力インタフェース6、通信インタフェース7、記憶回路8、制御回路9、キュベット供給機構10、廃棄ボックス15、及び抜去機構16を備える。 An automatic analyzer 1 shown in FIG. 15 and an extraction mechanism 16 .

分析機構2は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持し、反応管内の混合液に関する指標を測定する。分析機構2は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する支持部の一例である。 The analysis mechanism 2 supports a reaction tube holding a mixed liquid of a sample and a reagent, and measures an index related to the mixed liquid in the reaction tube. The analysis mechanism 2 is an example of a support that supports a reaction tube that holds a mixture of a sample and a reagent.

本実施形態では、分析機構2は、キュベット70を支持可能で、キュベット70を搬送し、キュベット70に挿入された試料と試薬との混合液の物性値を測定する。分析機構2は、反応管保持装置の一例である。 In this embodiment, the analysis mechanism 2 is capable of supporting the cuvette 70 , transports the cuvette 70 , and measures the physical property values of the mixture of the sample and the reagent inserted in the cuvette 70 . The analysis mechanism 2 is an example of a reaction tube holding device.

分析機構2は、血液又は尿等の試料と、各検査項目で用いられる試薬とを混合する。また、分析機構2は、検査項目によっては、所定の倍率で希釈した標準液と、この検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構2は、試料、又は標準液と、試薬との混合液の光学的な物性値を連続的に測定する。この測定により、例えば、透過光強度、又は吸光度、及び散乱光強度等が測定される。この測定により、標準試料の測定値である標準データ、及び試料の測定値である被検データが生成される。 The analysis mechanism 2 mixes a sample such as blood or urine with reagents used for each test item. Also, depending on the test item, the analysis mechanism 2 mixes the standard solution diluted by a predetermined magnification with the reagent used for this test item. The analysis mechanism 2 continuously measures optical physical property values of a sample or a mixture of a standard solution and a reagent. Through this measurement, for example, transmitted light intensity, absorbance, and scattered light intensity are measured. This measurement generates standard data, which is the measured value of the standard sample, and test data, which is the measured value of the sample.

解析回路3は、分析機構2により生成される標準データ、及び被検データを解析することで、検量線データ、及び分析データを生成するプロセッサである。分析データは、例えば、血液の凝固能を示す指標値である。解析回路3は、例えば、記憶回路8から解析プログラムを読み出し、読み出した解析プログラムに従って標準データ、及び被検データを解析する。なお、解析回路3は、記憶回路8で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。 The analysis circuit 3 is a processor that analyzes standard data and test data generated by the analysis mechanism 2 to generate calibration curve data and analysis data. Analysis data is, for example, an index value indicating blood coagulability. The analysis circuit 3, for example, reads an analysis program from the storage circuit 8, and analyzes the standard data and the test data according to the read analysis program. Note that the analysis circuit 3 may have a storage area for storing at least part of the data stored in the storage circuit 8 .

駆動機構4は、制御回路9の制御に従い、分析機構2を駆動させる。駆動機構4は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。 The drive mechanism 4 drives the analysis mechanism 2 under the control of the control circuit 9 . The drive mechanism 4 is implemented by gears, stepping motors, belt conveyors, lead screws, and the like, for example.

入力インタフェース5は、例えば、操作者から、又は病院内ネットワークNWを介して、測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インタフェース5は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース5は、制御回路9に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路9へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース5はマウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置1とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路9へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース5の例に含まれる。 The input interface 5 receives, for example, settings such as analysis parameters for each inspection item related to a sample requested for measurement from an operator or via the hospital network NW. The input interface 5 is implemented by, for example, a mouse, a keyboard, and a touch pad through which instructions are input by touching an operation surface. The input interface 5 is connected to the control circuit 9 , converts an operation instruction input by an operator into an electric signal, and outputs the electric signal to the control circuit 9 . It should be noted that the input interface 5 in this specification is not limited to having physical operation parts such as a mouse and a keyboard. For example, an electrical signal processing circuit that receives an electrical signal corresponding to an operation instruction input from an external input device provided separately from the automatic analyzer 1 and outputs this electrical signal to the control circuit 9 is also an input interface. 5 examples.

出力インタフェース6は、制御回路9に接続され、制御回路9から供給される信号を出力する。出力インタフェース6は、例えば、表示回路、印刷回路、及び音声デバイス等により実現される。表示回路には、例えば、CRTディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、LEDディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。音声デバイスは、例えば、スピーカ等を含む。なお、音声信号を外部へ出力する出力回路も音声デバイスに含まれる。 The output interface 6 is connected to the control circuit 9 and outputs signals supplied from the control circuit 9 . The output interface 6 is implemented by, for example, a display circuit, a printed circuit, an audio device, and the like. Display circuits include, for example, CRT displays, liquid crystal displays, organic EL displays, LED displays, and plasma displays. Note that the display circuit also includes a processing circuit that converts data representing an object to be displayed into a video signal and outputs the video signal to the outside. Printed circuits include, for example, printers and the like. The printed circuit also includes an output circuit for outputting data representing a print target to the outside. Audio devices include, for example, speakers and the like. An output circuit for outputting an audio signal to the outside is also included in the audio device.

通信インタフェース7は、例えば、病院内ネットワークNWと接続する。通信インタフェース7は、病院内ネットワークNWを介してHIS(Hospital Information System)とデータ通信を行う。なお、通信インタフェース7は、病院内ネットワークNWと接続する検査部門システム(Laboratory Information System:LIS)を介してHISとデータ通信を行っても構わない。 The communication interface 7 connects with, for example, an intra-hospital network NW. The communication interface 7 performs data communication with HIS (Hospital Information System) via the hospital network NW. The communication interface 7 may perform data communication with the HIS via a laboratory information system (LIS) connected to the hospital network NW.

記憶回路8は、磁気的、若しくは光学的記憶媒体、又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記憶媒体等を含む。なお、記憶回路8は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路8は、複数の記憶装置により実現されても構わない。 The storage circuit 8 includes a processor-readable storage medium such as a magnetic or optical storage medium, or a semiconductor memory. Note that the memory circuit 8 does not necessarily have to be realized by a single memory device. For example, the memory circuit 8 may be realized by a plurality of memory devices.

記憶回路8は、解析回路3で実行される解析プログラム、及び制御回路9に備わる機能を実現するための制御プログラムを記憶している。記憶回路8は、解析回路3により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路8は、解析回路3により生成される分析データを試料毎に記憶する。記憶回路8は、操作者から入力された検査オーダ、又は通信インタフェース7が病院内ネットワークNWを介して受信した検査オーダを記憶する。 The storage circuit 8 stores an analysis program to be executed by the analysis circuit 3 and a control program for realizing the functions of the control circuit 9 . The storage circuit 8 stores the calibration data generated by the analysis circuit 3 for each inspection item. The storage circuit 8 stores analysis data generated by the analysis circuit 3 for each sample. The storage circuit 8 stores an examination order input by an operator or an examination order received by the communication interface 7 via the intra-hospital network NW.

制御回路9は、自動分析装置1の中枢として機能するプロセッサである。制御回路9は、記憶回路8に記憶されているプログラムを実行することで、実行したプログラムに対応する機能を実現する。なお、制御回路9は、記憶回路8で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。 The control circuit 9 is a processor that functions as the core of the automatic analyzer 1 . The control circuit 9 executes a program stored in the storage circuit 8 to implement a function corresponding to the executed program. Note that the control circuit 9 may have a storage area for storing at least part of the data stored in the storage circuit 8 .

システム制御機能91は、入力インタフェース5から入力される入力情報に基づき、自動分析装置1における各部を統括して制御する機能である。例えば、システム制御機能91において制御回路9は、検査を迅速に行うようにキュベット供給機構10、駆動機構4及び分析機構2を制御すると共に、検査項目に応じた解析を実施するように解析回路3を制御する。 The system control function 91 is a function that controls all the parts in the automatic analyzer 1 based on input information input from the input interface 5 . For example, in the system control function 91, the control circuit 9 controls the cuvette supply mechanism 10, the drive mechanism 4, and the analysis mechanism 2 so as to quickly perform the inspection, and the analysis circuit 3 so as to perform analysis according to the inspection item. to control.

キュベット供給機構10は、分析機構2へキュベット70を供給する。 The cuvette supply mechanism 10 supplies cuvettes 70 to the analysis mechanism 2 .

廃棄ボックス15は、分析機構2において測定が終了したキュベット70を格納する。廃棄ボックス15は、格納部の一例である。 The disposal box 15 stores cuvettes 70 for which measurement has been completed in the analysis mechanism 2 . The disposal box 15 is an example of a storage unit.

抜去機構16は、分析機構2において後述の測光ユニットによる測定が終了したキュベット70を分析機構2から抜去し、廃棄ボックス15へ投入する。抜去機構16は、自動分析装置1の内部において、分析機構2の上側から廃棄ボックス15の上側に渡って配置される。 The removal mechanism 16 removes from the analysis mechanism 2 the cuvette 70 that has been subjected to measurement by a photometry unit (to be described later) in the analysis mechanism 2 and throws it into the disposal box 15 . The withdrawal mechanism 16 is arranged from the upper side of the analysis mechanism 2 to the upper side of the disposal box 15 inside the automatic analyzer 1 .

なお、本実施形態では、水平面内で分析機構2に対して廃棄ボックス15が配置される最短距離の方向をX軸方向と定義する。また、X軸方向に直交し、床面に対し水平である軸方向をY軸方向と定義する。そして、X軸方向に直交し、床面に対して垂直である軸方向をZ軸方向と定義する。Z軸方向は、鉛直方向と略一致する。また、X軸方向のうち、分析機構2から廃棄ボックス15へ向かう側を廃棄側と定義する。抜去機構16は、分析機構2において測定が終了したキュベット70を、分析機構2からX軸方向について上側へ抜去し、X軸方向について廃棄側へ搬送し、廃棄ボックス15へ投入する。 In this embodiment, the direction of the shortest distance in which the disposal box 15 is arranged with respect to the analysis mechanism 2 in the horizontal plane is defined as the X-axis direction. Also, the axial direction perpendicular to the X-axis direction and horizontal to the floor surface is defined as the Y-axis direction. An axial direction orthogonal to the X-axis direction and perpendicular to the floor surface is defined as a Z-axis direction. The Z-axis direction substantially coincides with the vertical direction. Further, the side of the X-axis direction from the analysis mechanism 2 toward the disposal box 15 is defined as the disposal side. The removal mechanism 16 removes the cuvette 70 that has been measured in the analysis mechanism 2 upward in the X-axis direction from the analysis mechanism 2 , transports it to the disposal side in the X-axis direction, and throws it into the disposal box 15 .

図2は、自動分析装置1の構成の一例を示す模式図である。分析機構2は、反応ディスク51及び分注ユニット52を備える。 FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the automatic analyzer 1. As shown in FIG. The analysis mechanism 2 has a reaction disk 51 and a dispensing unit 52 .

反応ディスク51は、複数のキュベット70を保持可能で、保持した複数のキュベット70を所定の経路に沿って搬送する。 The reaction disk 51 can hold a plurality of cuvettes 70 and transports the held plurality of cuvettes 70 along a predetermined route.

分注ユニット52は、反応ディスク51に保持されたキュベット70に試料及び試薬を分注する。キュベット70に試料及び試薬が分注されることにより、キュベット70に試料及び試薬の混合液が投入される。 The dispensing unit 52 dispenses samples and reagents into cuvettes 70 held on the reaction disk 51 . A mixture of the sample and the reagent is put into the cuvette 70 by dispensing the sample and the reagent into the cuvette 70 .

反応ディスク51は、キュベット70を保持した状態で、分注ユニット52による試料及び試薬の分注が可能な位置にキュベット70を搬送する。そして、反応ディスク51は、試料及び試薬が分注されたキュベット70を保持した状態で、後述の測光ユニットによりキュベット70毎に光量が測定される。光量の測定が完了したキュベット70は、抜去機構16により、反応ディスク51から取り出されるとともに廃棄ボックス15へ搬送される。 While holding the cuvette 70 , the reaction disk 51 conveys the cuvette 70 to a position where the dispensing unit 52 can dispense the sample and the reagent. Then, while the reaction disk 51 holds the cuvettes 70 into which the samples and reagents have been dispensed, the light intensity of each cuvette 70 is measured by a photometry unit, which will be described later. The cuvette 70 for which light intensity measurement has been completed is taken out from the reaction disk 51 and conveyed to the disposal box 15 by the removal mechanism 16 .

本実施形態では、反応ディスク51は、Z軸方向に平行な回転軸を中心として回転可能な円板状の部材である。反応ディスク51には、複数の穴512を備える。複数の穴512は、反応ディスクの周方向に沿って並べて配置されている。複数の穴512のそれぞれは、反応ディスク51において径方向外側から径方向内側に向かって凹んだ溝であり、反応ディスク51の径方向に沿って延設されている。複数の穴512のそれぞれは、1つのキュベット70を保持可能である。反応ディスク51は、キュベット70を保持した状態で回転することにより、キュベット70を搬送する。反応ディスク51は、例えば、駆動機構4により、既定の時間間隔で回転と停止とが交互に繰り返されることで、キュベット70を搬送する。 In this embodiment, the reaction disk 51 is a disk-shaped member that can rotate around a rotation axis parallel to the Z-axis direction. The reaction disk 51 has a plurality of holes 512 . A plurality of holes 512 are arranged side by side along the circumferential direction of the reaction disk. Each of the plurality of holes 512 is a groove that is recessed from the radially outer side to the radially inner side of the reaction disk 51 and extends along the radial direction of the reaction disk 51 . Each of the multiple holes 512 can hold one cuvette 70 . The reaction disk 51 conveys the cuvette 70 by rotating while holding the cuvette 70 . The reaction disk 51 conveys the cuvette 70 by, for example, being alternately rotated and stopped at predetermined time intervals by the drive mechanism 4 .

なお、回転可能な円板状の反応ディスク51に代えて、キュベット70を保持する部材として、並列に移動可能な長方形状の反応ラックを用いてもよい。 Instead of the rotatable disk-shaped reaction disk 51, a parallel-movable rectangular reaction rack may be used as a member for holding the cuvettes 70. FIG.

複数の穴512のそれぞれは、反応ディスク51の周方向に沿って形成されている。キュベット供給機構10によって分析機構2へキュベット70が供給されることにより、反応ディスク51の穴512へキュベット70が挿入され、穴512においてキュベット70が支持される。複数の穴512に配置された複数のキュベット70は、環状に配列される。 Each of the multiple holes 512 is formed along the circumferential direction of the reaction disk 51 . By supplying the cuvette 70 to the analysis mechanism 2 by the cuvette supply mechanism 10 , the cuvette 70 is inserted into the hole 512 of the reaction disk 51 and the cuvette 70 is supported in the hole 512 . A plurality of cuvettes 70 arranged in a plurality of holes 512 are arranged in a ring.

ここで、自動分析装置1で用いられるキュベット70について説明する。図3は、キュベット70の構成の一例を示す模式図である。 Here, the cuvette 70 used in the automatic analyzer 1 will be explained. FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the cuvette 70. As shown in FIG.

キュベット70は、試料、試薬、又はこれらの混合液を保持可能に形成される容器である。キュベット70は、例えば、上面が開口した有底円筒状の部材である。キュベット70は、例えば、ポリプロピレン(PP)又はアクリルから成り、一体成形により作成されている。 The cuvette 70 is a container that can hold a sample, a reagent, or a mixture thereof. The cuvette 70 is, for example, a bottomed cylindrical member with an open top. The cuvette 70 is made of polypropylene (PP) or acrylic, for example, and is made by integral molding.

キュベット70は、胴体部71と、フランジ72を有する。胴体部71は、上面が開口した有底筒状の部材である。胴体部71は、例えば、有底円筒状の部材である。胴体部71は、筒状部位に複数の測光部位を有する。複数の測光部位のそれぞれは、平面である。複数の測光部位のそれぞれは、測定ユニットからの光が照射される部位である。胴体部71には、例えば、測光部位が4つ設けられる。胴体部71の上端73には、開口が形成されている。 Cuvette 70 has a body 71 and a flange 72 . The body portion 71 is a bottomed cylindrical member with an open top. The body portion 71 is, for example, a bottomed cylindrical member. The body part 71 has a plurality of photometry parts in its cylindrical part. Each of the plurality of photometry sites is a plane. Each of the plurality of photometry sites is a site irradiated with light from the measurement unit. The body portion 71 is provided with, for example, four photometry portions. An opening is formed in an upper end 73 of the body portion 71 .

フランジ72は、円環状の部材である。フランジ72の中央部には、フランジ72の上面から下面に亘って孔が形成されている。上端73に形成された開口からキュベット70内部に挿入された試料又は試薬は、フランジ72に形成された孔を通って、胴体部71の内部に挿入される。フランジ72の外径は、胴体部71の外径よりも大きい。 The flange 72 is an annular member. A hole is formed in the central portion of the flange 72 from the upper surface to the lower surface of the flange 72 . A sample or reagent inserted into the cuvette 70 through the opening formed in the upper end 73 passes through the hole formed in the flange 72 and is inserted into the body portion 71 . The outer diameter of the flange 72 is larger than the outer diameter of the body portion 71 .

フランジ72の外径L2は、キュベット70の外径となる。上端73と下端74との間の長さL1は、長手方向についてのキュベット70の寸法となる。上端73と下端74との間の長さL1は、例えば、約3cmである。フランジ72の外径L2は、上端73と下端74との間の長さL1よりも小さい。 The outer diameter L2 of the flange 72 is the outer diameter of the cuvette 70 . A length L1 between the top end 73 and the bottom end 74 is the dimension of the cuvette 70 in the longitudinal direction. A length L1 between the upper end 73 and the lower end 74 is, for example, approximately 3 cm. Outer diameter L2 of flange 72 is smaller than length L1 between upper end 73 and lower end 74 .

図4は、反応ディスク51の構成の一例を示す模式図である。 FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the reaction disk 51. As shown in FIG.

反応ディスク51に設けられた複数の穴512のそれぞれの径方向についての長さは、キュベット70の外径L2よりも大きい。また、複数の穴512のそれぞれでは、反応ディスク51の周方向についての長さ(幅)は、キュベット70の胴体部71の外径よりも大きく、かつ、キュベット70のフランジ72の外径(L2)よりも小さい。したがって、穴512にキュベット70が挿入された状態では、キュベット70のフランジ72が上側から穴512の縁に載置されることによりキュベット70が反応ディスク51に支持される。また、穴512では、支持されたキュベット70に対して反応ディスク51の径方向外側及び径方向内側の両側に隙間が形成される。 The radial length of each of the plurality of holes 512 provided in the reaction disk 51 is greater than the outer diameter L2 of the cuvette 70 . In each of the plurality of holes 512, the length (width) of the reaction disk 51 in the circumferential direction is greater than the outer diameter of the body portion 71 of the cuvette 70, and the outer diameter of the flange 72 of the cuvette 70 (L2 ). Therefore, when the cuvette 70 is inserted into the hole 512 , the cuvette 70 is supported by the reaction disk 51 by placing the flange 72 of the cuvette 70 on the edge of the hole 512 from above. Also, in the holes 512 , gaps are formed on both the radially outer side and the radially inner side of the reaction disk 51 with respect to the supported cuvette 70 .

複数の穴512のそれぞれには、測光ユニットが設けられる。例えば、測光ユニットは、反応ディスク51に設けられた穴512の数、すなわち、反応ディスク51で保持可能なキュベット70の数と同数だけ設けられる。各々の測光ユニットは、例えば、反応ディスク51で環状に保持されるキュベット70の環状中心側(内周側)に配置される光源と、キュベット70の環状外側(外周側)に配置される第1の光検出器(透過光検出器)とを有している。各々の測光ユニットは、キュベット70の側方に第2の光検出器(散乱光検出器)を更に有してもよい。光源は、キュベット70が配列されている環の外側へ向けて光を照射する。第1の光検出器は、キュベット70内の標準液と試薬との混合液を透過した光を検出する。第1の光検出器は、検出した光を所定の時間間隔、例えば、0.1秒間隔でサンプリングし、透過光強度、又は吸光度等で表される標準データを生成する。第2の光検出器は、例えば、光源の光の照射軸と、第1の光検出器の受光軸とがキュベット70内において略90度で交わるように、設けられる。光源から出射された光は、キュベット70の内部に入射され、キュベット70の内部に投入された混合液内の粒子により散乱された後、キュベット70の側壁から出射される。第2の光検出器は、キュベット70内の標準液と試薬との混合液で散乱された光を検出する。第2の光検出器は、検出した光を所定の時間間隔、例えば、0.1秒間隔でサンプリングし、散乱光強度等で表される標準データを生成する。いずれにしても、反応ディスク51においては、穴512のそれぞれにおいて、試料及び試薬の混合液が挿入されたキュベット70に光が照射され、混合液及びキュベット70を透過した光の光量が測定される。例えば、臨床検査用の自動分析装置1の場合には、試料として、血液や尿などの生体試料が投入される。そして、測定された光量に基づいて、分析機構2により、試料の定量分析が行われる。例えば、分析機構2により、測定対象物質の濃度や活性値、又は、変化に要する時間などが分析される。 A photometry unit is provided in each of the plurality of holes 512 . For example, the photometric units are provided in the same number as the number of holes 512 provided in the reaction disk 51 , that is, the number of cuvettes 70 that can be held in the reaction disk 51 . Each photometric unit includes, for example, a light source arranged on the annular center side (inner peripheral side) of the cuvette 70 held annularly by the reaction disk 51 and a first light source arranged on the annular outer side (outer peripheral side) of the cuvette 70 . photodetector (transmission photodetector). Each photometric unit may further have a second photodetector (scattered light detector) on the side of the cuvette 70 . The light source emits light toward the outside of the ring in which the cuvettes 70 are arranged. The first photodetector detects light transmitted through the mixture of standard solution and reagent in the cuvette 70 . The first photodetector samples the detected light at predetermined time intervals, eg, 0.1 second intervals, and generates standard data represented by transmitted light intensity, absorbance, or the like. The second photodetector is provided, for example, so that the light irradiation axis of the light source and the light receiving axis of the first photodetector intersect within the cuvette 70 at approximately 90 degrees. The light emitted from the light source enters the cuvette 70 , is scattered by the particles in the liquid mixture introduced into the cuvette 70 , and is emitted from the side wall of the cuvette 70 . The second photodetector detects light scattered by the mixture of standard solution and reagent in the cuvette 70 . The second photodetector samples the detected light at predetermined time intervals, eg, 0.1 second intervals, to generate standard data represented by scattered light intensity or the like. In any case, in each of the holes 512 of the reaction disk 51, the cuvette 70 in which the mixed solution of the sample and the reagent is inserted is irradiated with light, and the amount of light transmitted through the mixed solution and the cuvette 70 is measured. . For example, in the case of the automatic analyzer 1 for clinical examination, a biological sample such as blood or urine is input as a sample. Quantitative analysis of the sample is then performed by the analysis mechanism 2 based on the measured amount of light. For example, the analysis mechanism 2 analyzes the concentration and activity value of the substance to be measured, or the time required for change.

次に、抜去機構16について説明する。図5及び図6は、抜去機構16の構成の一例を示す模式図である。図5は、抜去機構16をY軸方向について一方側から視た正面図である。図6は、抜去機構16をX軸方向について廃棄側から視た側面図である。 Next, the removal mechanism 16 will be described. 5 and 6 are schematic diagrams showing an example of the configuration of the withdrawal mechanism 16. FIG. FIG. 5 is a front view of the removal mechanism 16 viewed from one side in the Y-axis direction. FIG. 6 is a side view of the removal mechanism 16 viewed from the disposal side in the X-axis direction.

抜去機構16は、支持体161と、駆動部162と、駆動軸163Aと、駆動軸163Bと、支持部材164と、把持機構165と、ガイド機構166と、把持開放機構167と、搬送路168と、軸部材169とを備える。 The removal mechanism 16 includes a support 161, a drive unit 162, a drive shaft 163A, a drive shaft 163B, a support member 164, a gripping mechanism 165, a guide mechanism 166, a gripping release mechanism 167, and a transport path 168. , and a shaft member 169 .

支持体161は、自動分析装置1の内部に設置され、抜去機構16の各構成部材を支持する。 The support 161 is installed inside the automatic analyzer 1 and supports each component of the withdrawal mechanism 16 .

駆動部162は、支持体161に取り付けられている。駆動部162は、モータ及びアクチュエータなどの駆動機構を備える。駆動部162の駆動は、例えば、制御回路9によって制御され、駆動軸163Aの中心軸を回転中心にして当該駆動軸163Aを回転させる。駆動部162は、制御回路9からの指示に基づいて、支持部材164及び把持機構165を、Z軸方向に沿って移動させる。すなわち、駆動部162は、把持機構165を上方に移動させる。 The driving part 162 is attached to the support 161 . The drive unit 162 includes a drive mechanism such as a motor and an actuator. The driving of the drive unit 162 is controlled by, for example, the control circuit 9, and rotates the drive shaft 163A about the central axis of the drive shaft 163A. The drive unit 162 moves the support member 164 and the gripping mechanism 165 along the Z-axis direction based on instructions from the control circuit 9 . That is, the driving section 162 moves the gripping mechanism 165 upward.

駆動軸163A及び駆動軸163Bは、支持体161に取り付けられている。駆動軸163A及び駆動軸163Bは、Z軸方向に平行に延設された柱状の部材である。 Drive shaft 163A and drive shaft 163B are attached to support 161 . The drive shaft 163A and the drive shaft 163B are columnar members extending parallel to the Z-axis direction.

支持部材164は、駆動軸163A及び駆動軸163Bに取り付けられている。支持部材164は、駆動部162の駆動により、支持体161、駆動軸163A及び駆動軸163Bに対して、Z軸方向について移動可能である。例えば、支持部材164は、駆動軸163Aに螺合され、駆動軸163Bに摺動可能に取り付けられ、駆動部162により回転する駆動軸163Aに応じて、駆動軸163Bに沿って鉛直方向に移動可能としてもよい。この場合、駆動軸163Bは、駆動されていないため、ガイド軸と呼んでもよい。 The support member 164 is attached to the drive shaft 163A and the drive shaft 163B. The support member 164 is movable in the Z-axis direction with respect to the support body 161, the drive shaft 163A, and the drive shaft 163B by driving the drive unit 162. As shown in FIG. For example, the support member 164 is screwed onto the drive shaft 163A, slidably mounted on the drive shaft 163B, and vertically movable along the drive shaft 163B as the drive shaft 163A is rotated by the drive portion 162. may be In this case, drive shaft 163B is not driven and may be referred to as a guide shaft.

把持機構165は、支持部材164に支持されている。把持機構165は、支持部材164とともに、支持体161、駆動軸163A及び駆動軸163Bに対して、Z軸方向に沿って移動する。把持機構165は、分析機構2の反応ディスク51の穴512の真上に配置される。把持機構165の移動軸は、Z軸方向に対して平行である。把持機構165は、分析機構2の一部に上側から接近可能及び離反可能である。把持機構165は、後述する開閉可能な把持部を有し、把持部の間で反応ディスク51の穴512に挿入されたキュベット70を把持可能である。 The gripping mechanism 165 is supported by the supporting member 164 . The grasping mechanism 165 moves along the Z-axis direction along with the support member 164 with respect to the support 161, the drive shaft 163A, and the drive shaft 163B. The gripping mechanism 165 is arranged directly above the hole 512 of the reaction disk 51 of the analysis mechanism 2 . The movement axis of the gripping mechanism 165 is parallel to the Z-axis direction. The grasping mechanism 165 can be approached and separated from a part of the analysis mechanism 2 from above. The gripping mechanism 165 has grips that can be opened and closed, which will be described later, and can grip the cuvette 70 inserted into the hole 512 of the reaction disk 51 between the grips.

また、把持機構165は、反応ディスク51の穴512の上方においてZ軸方向に沿って移動することにより、待機位置と、反応ディスク51の穴512に挿入されたキュベット70を把持可能な把持位置と、動作開始位置と、把持したキュベット70を開放する開放位置との間で移動する。すなわち、把持機構165は、反応管を把持する状態と反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能である。把持位置は、例えば、把持機構165のZ軸方向の移動範囲のうち、最下端に位置する。開放位置は、例えば、把持機構165のZ軸方向の移動範囲のうち、最上端に位置する。待機位置は、例えば、把持位置より僅かに上方の位置であり、反応ディスク51に保持されたキュベット70の頂部に把持機構165が接触しない位置でもある。動作開始位置は、例えば、待機位置と開放位置との間の略中央の位置であり、適宜、設定可能である。把持機構165の具体的構成については、後述する。 Further, the gripping mechanism 165 moves between a standby position and a gripping position where the cuvette 70 inserted into the hole 512 of the reaction disk 51 can be gripped by moving along the Z-axis direction above the hole 512 of the reaction disk 51 . , moves between an operation start position and an open position where the gripped cuvette 70 is released. That is, the gripping mechanism 165 can switch between a state in which the reaction tube is gripped and an open state in which the reaction tube is not gripped. The gripping position is located at, for example, the lowest end of the Z-axis movement range of the gripping mechanism 165 . The open position is located, for example, at the uppermost end of the movement range of the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction. The standby position is, for example, a position slightly above the gripping position, and is also a position where the gripping mechanism 165 does not contact the top of the cuvette 70 held by the reaction disk 51 . The operation start position is, for example, a substantially central position between the standby position and the open position, and can be set as appropriate. A specific configuration of the gripping mechanism 165 will be described later.

ガイド機構166は、支持体161に支持されている。ガイド機構166は、把持機構165から解放されたキュベット70を、廃棄ボックス15へ向けて搬送する。ガイド機構166は、後述するガイド部1661よりも上側の位置で支持体161の上部側に設けられた軸部材169を介して、支持体161に対して回動可能に取り付けられている。軸部材169は、Y軸方向に平行に延設されている。すなわち、ガイド機構166は、軸部材169に吊り下げて設けられ、Y軸方向の軸部材169まわりに回動可能である。 The guide mechanism 166 is supported by the support 161 . The guide mechanism 166 conveys the cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 toward the disposal box 15 . The guide mechanism 166 is rotatably attached to the support 161 via a shaft member 169 provided on the upper side of the support 161 at a position above a guide portion 1661 to be described later. The shaft member 169 extends parallel to the Y-axis direction. That is, the guide mechanism 166 is suspended from the shaft member 169 and is rotatable around the shaft member 169 in the Y-axis direction.

また、ガイド機構166は、把持機構165がZ軸方向について移動するとともに、軸部材169を中心として回動し、非ガイド状態とガイド状態との間で変化する。非ガイド状態は、把持位置から上側への把持機構165の移動をガイド機構166が遮らない状態であり、例えば、軸部材169とガイド機構166の下端とを結ぶ直線が略鉛直方向に沿っている状態である。非ガイド状態では、ガイド機構166は、把持機構165の移動範囲から離れた位置に位置する。ガイド状態は、開放位置の把持機構165と反応ディスク51との間をガイド機構166が遮る状態であり、例えば、軸部材169とガイド機構166の下端とを結ぶ直線が略鉛直方向とは斜めに交わる状態である。ガイド機構166の具体的構成については、後述する。 Further, the guide mechanism 166 rotates about the shaft member 169 while the gripping mechanism 165 moves in the Z-axis direction, and changes between a non-guiding state and a guiding state. The non-guided state is a state in which the guide mechanism 166 does not block the upward movement of the gripping mechanism 165 from the gripping position. For example, a straight line connecting the shaft member 169 and the lower end of the guide mechanism 166 extends substantially vertically. state. In the non-guiding state, the guide mechanism 166 is positioned away from the movement range of the gripping mechanism 165 . The guide state is a state in which the guide mechanism 166 blocks the gap between the gripping mechanism 165 at the open position and the reaction disk 51. For example, the straight line connecting the shaft member 169 and the lower end of the guide mechanism 166 is inclined to the substantially vertical direction. It is in a crossed state. A specific configuration of the guide mechanism 166 will be described later.

把持開放機構167は、把持機構165よりもZ軸方向について上側において、支持体161に支持されている。把持開放機構167は、キュベット70を把持した把持機構165に開放位置において当接することにより、把持機構165に把持されたキュベット70を把持機構165から落下させる。 The grip release mechanism 167 is supported by the support 161 above the grip mechanism 165 in the Z-axis direction. The gripping/releasing mechanism 167 contacts the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 at the open position, thereby dropping the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 from the gripping mechanism 165 .

搬送路168は、X軸方向についてガイド機構166よりも廃棄側へ設けられている。搬送路168は、ガイド状態のガイド機構166によって搬送されたキュベット70を廃棄ボックス15へ向けて通過させる管路である。搬送路168が設けられることにより、廃棄ボックス15へ向けて搬送されたキュベット70が廃棄ボックス15へ確実に搬送される。 The transport path 168 is provided closer to the disposal side than the guide mechanism 166 in the X-axis direction. The transport path 168 is a pipeline through which the cuvette 70 transported by the guide mechanism 166 in the guided state passes toward the disposal box 15 . By providing the transport path 168 , the cuvette 70 transported toward the disposal box 15 is reliably transported to the disposal box 15 .

図7乃至図8を参照して、把持機構165の構成及び動作について説明する。図7は、把持機構165の構成の一例を、把持機構165が閉じた状態で示す模式図である。図8は、把持機構165の構成の一例を、把持機構165が開いた状態で示す模式図である。 The configuration and operation of the gripping mechanism 165 will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. FIG. 7 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the gripping mechanism 165 when the gripping mechanism 165 is closed. FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the gripping mechanism 165 with the gripping mechanism 165 opened.

本実施形態では、把持機構165は、第1部材1651と、第2部材1652と、軸部材1655と、弾性部材1656とを備える。第1部材1651は、軸部材1655を介して、第2部材1652に対して連結されており、軸部材1655を中心として第2部材1652に対して回転可能である。軸部材1655は、Y軸方向に対して平行である。軸部材1655は、第1部材1651の中央位置と第2部材1652の中央位置とを連結している。 In this embodiment, the gripping mechanism 165 includes a first member 1651 , a second member 1652 , a shaft member 1655 and an elastic member 1656 . The first member 1651 is connected to the second member 1652 via the shaft member 1655 and is rotatable with respect to the second member 1652 around the shaft member 1655 . The shaft member 1655 is parallel to the Y-axis direction. The shaft member 1655 connects the central position of the first member 1651 and the central position of the second member 1652 .

第1部材1651は、第1部材1651において軸部材1655との連結部よりも下側に設けられる第1把持部1651Aと、第1部材1651において軸部材1655との連結部よりも上側に設けられる第1伝達部1651Bとを備える。また、第2部材1652は、第2部材1652において軸部材1655との連結部よりも下側に設けられる第2把持部1652Aと、第2部材1652において軸部材1655との連結部よりも上側に設けられる第2伝達部1652Bとを備える。 The first member 1651 includes a first gripping portion 1651A provided below the connecting portion with the shaft member 1655 in the first member 1651, and a first holding portion 1651A provided above the connecting portion with the shaft member 1655 in the first member 1651. and a first transmission portion 1651B. In addition, the second member 1652 includes a second gripping portion 1652A provided below the connecting portion with the shaft member 1655 in the second member 1652, and a second holding portion 1652A provided above the connecting portion with the shaft member 1655 in the second member 1652. and a second transmission portion 1652B provided.

第1部材1651及び第2部材1652の間が軸部材1655を中心として回転することにより、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間、及び、第1伝達部1651Bと第2伝達部1652Bとの間が、開く又は閉じる。 By rotating between the first member 1651 and the second member 1652 about the shaft member 1655, the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A and the first transmission portion 1651B and the second transmission portion are rotated. 1652B is open or closed.

例えば、第1伝達部1651Bと第2伝達部1652Bとの間が開いた状態から閉じることにより、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間が開いた状態から閉じる。また、第1伝達部1651Bと第2伝達部1652Bとの間が閉じた状態から開くことにより、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間が閉じた状態から開く。 For example, by closing the open state between the first transmission portion 1651B and the second transmission portion 1652B, the open state between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A is closed. Further, by opening the closed state between the first transmission portion 1651B and the second transmission portion 1652B, the closed state between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A is opened.

弾性部材1656は、例えば、バネである。弾性部材1656は、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間に設けられている。弾性部材1656の一端は、第1把持部1651Aに接続され、弾性部材1656の他端は、第2把持部1652Aに接続されている。弾性部材1656は、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間が開いた状態において、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間が閉じる方向への外力を、第1把持部1651A及び第2把持部1652Aに付与する。したがって、弾性部材1656による外力以外の外力が付与されていない状態では、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aとの間は閉じた状態となる。弾性部材1656は、把持機構165の把持部を閉じさせる外力を付与する外力付与部の一例である。 Elastic member 1656 is, for example, a spring. The elastic member 1656 is provided between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A. One end of the elastic member 1656 is connected to the first grip portion 1651A, and the other end of the elastic member 1656 is connected to the second grip portion 1652A. Elastic member 1656 applies an external force in a direction to close first gripping portion 1651A and second gripping portion 1652A in a state where first gripping portion 1651A and second gripping portion 1652A are opened. It is applied to the portion 1651A and the second grip portion 1652A. Therefore, when no external force other than the external force by the elastic member 1656 is applied, the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A are closed. The elastic member 1656 is an example of an external force applying portion that applies an external force to close the gripping portion of the gripping mechanism 165 .

第1把持部1651Aの下端には、第1爪部1651Cが設けられている。第2把持部1652Aの下端には、第2爪部1652Cが設けられている。第1爪部1651Cは、第2把持部1652Aに向かって突出している。第2爪部1652Cは、第1把持部1651Aに向かって突出している。 A first claw portion 1651C is provided at the lower end of the first grip portion 1651A. A second claw portion 1652C is provided at the lower end of the second grip portion 1652A. The first claw portion 1651C protrudes toward the second grip portion 1652A. The second claw portion 1652C protrudes toward the first grip portion 1651A.

第1伝達部1651Bの上端には、第1斜面1651Dが設けられている。第2伝達部1652Bの上端には、第2斜面1652Dが設けられている。第1斜面1651Dは、X軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Z軸方向について上側を向いている。斜面1652Dは、X軸方向について廃棄側を向き、かつ、Z軸方向について上側を向いている。斜面1651D及び斜面1652Dは、対向している。 A first slope 1651D is provided at the upper end of the first transmission portion 1651B. A second slope 1652D is provided at the upper end of the second transmission portion 1652B. The first slope 1651D faces the side opposite to the disposal side in the X-axis direction and faces upward in the Z-axis direction. The slope 1652D faces the waste side in the X-axis direction and faces upward in the Z-axis direction. The slope 1651D and the slope 1652D face each other.

軸部材1655は、Y軸方向について係合孔1665が位置する側へ突出する突出部1655Aを備える。 The shaft member 1655 has a protruding portion 1655A that protrudes toward the side where the engaging hole 1665 is located in the Y-axis direction.

図9乃至図10を参照して、ガイド機構166の構成について説明する。図9は、把持機構165及びガイド機構166の構成の一例を示す斜視図である。図10は、ガイド機構166の構成の一例を説明するための正面図である。図10は、ガイド機構166をY軸方向について一方側から視た図である。 The configuration of the guide mechanism 166 will be described with reference to FIGS. 9 to 10. FIG. FIG. 9 is a perspective view showing an example of the configuration of the grasping mechanism 165 and the guide mechanism 166. As shown in FIG. FIG. 10 is a front view for explaining an example of the configuration of the guide mechanism 166. As shown in FIG. FIG. 10 is a view of the guide mechanism 166 viewed from one side in the Y-axis direction.

ガイド機構166は、ガイド機構166に対して上側へ位置する点を中心とする円弧形状に延びる溝形状に形成されている。円弧形状は、反応ディスク51とは反対側に向けて凸状となっている。溝形状は、例えば、略U字状の断面形状を有している。言い換えると、ガイド機構166は、廃棄側及び上側に向かって開口している。ガイド機構166は、円弧形状の中心に向かって開口している。 The guide mechanism 166 is formed in a groove shape extending in an arc shape centering on a point located above the guide mechanism 166 . The arc shape is convex toward the side opposite to the reaction disk 51 . The groove shape has, for example, a substantially U-shaped cross-sectional shape. In other words, the guide mechanism 166 is open towards the waste side and upwards. The guide mechanism 166 opens toward the center of the arc shape.

ガイド機構166は、ガイド部1661、側壁1662、及び側壁1663を備える。ガイド部1661は、側壁1662及び側壁1663の間に設けられている。ガイド部1661、ガイド機構166によって形成される溝の底面を形成している。側壁1662及び側壁1663は、ガイド機構166によって形成される溝の側面を形成している。 The guide mechanism 166 includes a guide portion 1661 , side walls 1662 and side walls 1663 . Guide portion 1661 is provided between side wall 1662 and side wall 1663 . The guide portion 1661 forms the bottom surface of the groove formed by the guide mechanism 166 . Side walls 1662 and 1663 form the sides of the groove formed by guide mechanism 166 .

ガイド部1661は、円弧形状に形成された曲板である。ガイド部1661は、廃棄側及び上側を向く円弧形状の曲面を有する。ガイド部1661は、Y軸方向について、把持機構165の移動軸を含む範囲に位置する。ガイド部1661は、ガイド部1661よりも上側の位置を中心とする円弧形状である。 The guide portion 1661 is an arc-shaped curved plate. The guide part 1661 has an arc-shaped curved surface facing the disposal side and the upper side. The guide portion 1661 is positioned in a range including the movement axis of the gripping mechanism 165 in the Y-axis direction. The guide portion 1661 has an arc shape centered on a position above the guide portion 1661 .

側壁1662及び側壁1663は、ガイド機構166のX軸方向及びZ軸方向に対して平行な平板である。側壁1662は、Y軸方向について、ガイド部1661よりも手前側に位置する。側壁1663は、Y軸方向について、ガイド部1661よりも奥側に位置する。したがって、側壁1662は、把持機構165に対してY軸方向の一方側(図5における紙面手前側)に位置する。側壁1663は、把持機構165に対してY軸方向の他方側(図5における紙面奥側)に位置する。 The side walls 1662 and 1663 are flat plates parallel to the X-axis direction and Z-axis direction of the guide mechanism 166 . The side wall 1662 is located on the front side of the guide portion 1661 in the Y-axis direction. The side wall 1663 is positioned deeper than the guide portion 1661 in the Y-axis direction. Therefore, the side wall 1662 is located on one side of the gripping mechanism 165 in the Y-axis direction (the front side of the paper surface in FIG. 5). The side wall 1663 is positioned on the other side of the gripping mechanism 165 in the Y-axis direction (back side of the paper surface in FIG. 5).

Y軸方向についての側壁1662及び側壁1663の間の長さL3は、キュベット70の外径(L2)よりも大きく、キュベット70の長手方向の長さ(L1)よりも小さい。ガイド機構166が形成する溝の幅は、Y軸方向についての側壁1662及び側壁1663の間の長さL3である。したがって、ガイド機構166が形成する溝の幅(L3)は、キュベット70の幅よりも大きく、キュベット70の高さよりも小さい。したがって、キュベット70を把持した把持機構165が標準位置よりもZ軸方向について上側に位置する状態では、把持機構165に把持されたキュベット70は、側壁1662及び側壁1663の間に配置される。 A length L3 between the side walls 1662 and 1663 in the Y-axis direction is larger than the outer diameter (L2) of the cuvette 70 and smaller than the length (L1) of the cuvette 70 in the longitudinal direction. The width of the groove formed by the guide mechanism 166 is the length L3 between the side walls 1662 and 1663 in the Y-axis direction. Therefore, the width (L3) of the groove formed by the guide mechanism 166 is larger than the width of the cuvette 70 and smaller than the height of the cuvette 70. Therefore, when the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 is positioned above the standard position in the Z-axis direction, the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 is arranged between the side walls 1662 and 1663 .

側壁1662には、係合孔1665が設けられている。係合孔1665は、側壁1662を、Y軸方向について貫通している。係合孔1665は、非ガイド状態のガイド機構166において、Z軸方向について上側から下側に向かって延設されている。係合孔1665には、把持機構165の突出部1655Aが係合している。 An engaging hole 1665 is provided in the side wall 1662 . The engaging hole 1665 penetrates the side wall 1662 in the Y-axis direction. The engagement hole 1665 extends from the upper side toward the lower side in the Z-axis direction in the guide mechanism 166 in the non-guided state. A projecting portion 1655 A of the gripping mechanism 165 is engaged with the engaging hole 1665 .

係合孔1665は、第1直線部1665Aと、第2直線部1665Bと、第3直線部1665Cとを備える。 The engagement hole 1665 includes a first straight portion 1665A, a second straight portion 1665B, and a third straight portion 1665C.

第1直線部1665Aは、係合孔1665において下側に設けられる。第1直線部1665Aの延設方向は、ガイド機構166が非ガイド状態である場合、Z軸方向に対して略平行になる。 The first straight portion 1665A is provided on the lower side of the engaging hole 1665. As shown in FIG. The extending direction of the first linear portion 1665A is substantially parallel to the Z-axis direction when the guide mechanism 166 is in the non-guiding state.

第2直線部1665Bは、第1直線部1665Aに対してZ軸方向について上側において、第1直線部1665Aと連続している。第2直線部1665Bは、第1直線部1665Aに対してX軸方向について傾斜している。第1直線部1665Aと第2直線部1665Bとの境界位置は、Z軸方向について把持機構165の動作開始位置と略同じ位置である。第2直線部1665Bは、ガイド機構166が非ガイド状態である場合において、下側から上側に向かうにつれて廃棄ボックス15が位置する側とは反対側へ向かう状態に形成されている。 The second straight portion 1665B is continuous with the first straight portion 1665A above the first straight portion 1665A in the Z-axis direction. The second straight portion 1665B is inclined in the X-axis direction with respect to the first straight portion 1665A. The boundary position between the first straight portion 1665A and the second straight portion 1665B is substantially the same position as the operation start position of the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction. When the guide mechanism 166 is in the non-guiding state, the second straight portion 1665B is formed so as to face the side opposite to the side where the disposal box 15 is located as it goes from the lower side to the upper side.

第3直線部1665Cは、係合孔1665においてZ軸方向について上側に設けられる。第3直線部1665Cは、第2直線部1665Bに対してZ軸方向について上側において、第2直線部1665Bと連続している。第3直線部1665Cは、第2直線部1665Bに対してX軸方向について傾斜している。第3直線部1665Cの延設方向は、ガイド機構166がガイド状態である場合、Z軸方向に対して略平行になる。 The third linear portion 1665C is provided on the upper side of the engaging hole 1665 in the Z-axis direction. The third straight portion 1665C is continuous with the second straight portion 1665B above the second straight portion 1665B in the Z-axis direction. The third linear portion 1665C is inclined in the X-axis direction with respect to the second linear portion 1665B. The extension direction of the third linear portion 1665C is substantially parallel to the Z-axis direction when the guide mechanism 166 is in the guide state.

突出部1655Aは、把持機構165がZ軸方向について移動することにより、係合孔1665に係合した状態で、係合孔1665の内部をZ軸方向について移動する。突出部1655Aは、係合孔1665に係合した状態で係合孔1665の内部を移動することにより、係合孔1665の縁を介してガイド機構166を押圧する。ガイド機構166は、係合孔1665を介して押圧されることにより、支持体161に対して軸部材169を中心として回動する。補足すると、図10において、係合孔1665は、側壁1662の左側に形成されている。軸部材169は、側壁1662の右上隅に形成されている。従って、突出部1655Aが係合孔1665の第2直線部1665Bを上方に移動すると共に、軸部材169を固定した状態で突出部1655Aが第2直線部1665Bの縁を持ち上げることにより、軸部材169を中心にガイド機構166が回動する。 As the grasping mechanism 165 moves in the Z-axis direction, the protrusion 1655A moves in the Z-axis direction inside the engagement hole 1665 while being engaged with the engagement hole 1665 . The projecting portion 1655A presses the guide mechanism 166 via the edge of the engaging hole 1665 by moving inside the engaging hole 1665 while being engaged with the engaging hole 1665 . The guide mechanism 166 rotates around the shaft member 169 with respect to the support body 161 by being pressed through the engagement hole 1665 . Supplementally, the engaging hole 1665 is formed on the left side of the side wall 1662 in FIG. Axial member 169 is formed in the upper right corner of side wall 1662 . Accordingly, the projecting portion 1655A moves upward along the second straight portion 1665B of the engagement hole 1665, and the projecting portion 1655A lifts the edge of the second straight portion 1665B while the shaft member 169 is fixed. The guide mechanism 166 rotates around .

本実施形態では、把持機構165に設けられる突出部1655Aと、ガイド機構166に設けられる係合孔1665とが、把持機構165を支持体161に対して移動させる駆動力を、ガイド機構166を支持体161に対して移動させる駆動力に変換するカム機構として機能する。本実施形態では、カム機構は、鉛直方向について把持機構165が支持体161に対して移動するにつれて、ガイド機構166のガイド部1661を支持体161に対して軸部材169を中心として回動させる連結機構の一例である。 In this embodiment, the protrusion 1655A provided in the gripping mechanism 165 and the engaging hole 1665 provided in the guide mechanism 166 support the guide mechanism 166 by applying the driving force for moving the gripping mechanism 165 with respect to the support body 161. It functions as a cam mechanism that converts the driving force to move the body 161 . In this embodiment, the cam mechanism is a coupling that rotates the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 about the shaft member 169 with respect to the support 161 as the gripping mechanism 165 moves with respect to the support 161 in the vertical direction. It is an example of a mechanism.

次に、図11を参照して、把持開放機構167について説明する。図11は、抜去機構16がキュベット70の抜去及び廃棄動作を開始する前の状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。図11は、Y軸方向について図5とは反対側から抜去機構16を視た図である。把持開放機構167は、下側に向かって突出する突出部1671と、突出部1671の下端に設けられる斜面1672A及び斜面1672Bを備える。X軸方向についての突出部1671の長さは、把持機構165が閉じた状態における、第1部材1651の第1斜面1651Dと第2部材1652の第2斜面1652Dとの間の距離L4よりも大きい。また、突出部1671の斜面1672Aは、Z軸方向について第1部材1651の斜面1651Dの真上に位置し、突出部1671の斜面1672Bは、Z軸方向について第2部材1652の斜面1652Dの真上に位置する。 Next, the grasping and releasing mechanism 167 will be described with reference to FIG. 11 . FIG. 11 is a partial cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 6 before the withdrawal mechanism 16 starts removing and discarding the cuvette 70. FIG. FIG. 11 is a view of the removal mechanism 16 viewed from the opposite side of FIG. 5 in the Y-axis direction. The gripping and releasing mechanism 167 includes a projecting portion 1671 projecting downward, and slopes 1672A and 1672B provided at the lower end of the projecting portion 1671. As shown in FIG. The length of the protrusion 1671 in the X-axis direction is greater than the distance L4 between the first slope 1651D of the first member 1651 and the second slope 1652D of the second member 1652 when the gripping mechanism 165 is closed. . In addition, the slope 1672A of the projecting portion 1671 is located directly above the slope 1651D of the first member 1651 in the Z-axis direction, and the slope 1672B of the projecting portion 1671 is located directly above the slope 1652D of the second member 1652 in the Z-axis direction. Located in

斜面1672Aは、突出部1671においてX軸方向について廃棄側の端部に設けられている。斜面1672Aは、X軸方向について廃棄側を向き、かつ、Z軸方向について下側を向いている。斜面1672Bは、突出部1671においてX軸方向について廃棄側とは反対側の端部に設けられている。斜面1672Bは、X軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Z軸方向について下側を向いている。斜面1672A及び斜面1672Bは、X軸方向について反対側を向いている。 The slope 1672A is provided at the end of the projecting portion 1671 on the disposal side in the X-axis direction. The slope 1672A faces the disposal side in the X-axis direction and faces downward in the Z-axis direction. The slope 1672B is provided at the end of the projecting portion 1671 opposite to the disposal side in the X-axis direction. The slope 1672B faces the side opposite to the disposal side in the X-axis direction and faces downward in the Z-axis direction. The slopes 1672A and 1672B face opposite sides in the X-axis direction.

次に、図11乃至図15を参照して、以上のように構成された自動分析装置1の動作について説明する。なお、以下の説明は、主に、抜去機構16による、測定が終了したキュベット70の抜去及び廃棄における機械的な動作について述べる。 Next, the operation of the automatic analyzer 1 configured as described above will be described with reference to FIGS. 11 to 15. FIG. Note that the following description mainly describes the mechanical operation of the withdrawal mechanism 16 for removing and discarding the cuvette 70 for which measurement has been completed.

分析機構2によるキュベット70内の混合液の測定が終了すると、測定が終了したキュベット70が、抜去機構16が配置される位置(抜去位置)へ搬送される。この際、反応ディスク51が回転することにより、抜去機構16の把持機構165の真下に、測定が終了したキュベット70が移動する。キュベット70の抜去位置への搬送は、例えば、制御回路9による駆動機構4の駆動制御によって行われる。 When the measurement of the mixed liquid in the cuvette 70 by the analysis mechanism 2 is completed, the cuvette 70 for which the measurement has been completed is transported to the position (withdrawal position) where the withdrawal mechanism 16 is arranged. At this time, by rotating the reaction disk 51 , the cuvette 70 for which the measurement has been completed is moved directly below the gripping mechanism 165 of the removing mechanism 16 . The transport of the cuvette 70 to the removal position is performed, for example, by drive control of the drive mechanism 4 by the control circuit 9 .

測定が終了したキュベット70が抜去機構16の把持機構165の真下に移動すると、抜去機構16は、抜去及び廃棄動作を開始する。 When the cuvette 70 that has completed the measurement moves directly below the gripping mechanism 165 of the extracting mechanism 16, the extracting mechanism 16 starts the extracting and discarding operation.

図11に示すように、抜去及び廃棄動作が開始される前の状態では、把持機構165は待機位置に位置する。このとき、ガイド機構166は、非ガイド状態となる。また、把持機構165の突出部1655Aは、ガイド機構166の係合孔1665において、第1直線部1665Aに位置する。 As shown in FIG. 11, the grasping mechanism 165 is positioned at the standby position before the extraction and discarding operations are started. At this time, the guide mechanism 166 is in a non-guiding state. Also, the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 is positioned at the first linear portion 1665A in the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166. As shown in FIG.

待機位置に把持機構165が位置する状態では、把持機構165の下端が反応ディスク51よりも僅かに上側に位置する。したがって、把持機構165が待機位置に位置する状態では、把持機構165が反応ディスク51に接触することなく、反応ディスク51が回転可能である。 When the gripping mechanism 165 is positioned at the standby position, the lower end of the gripping mechanism 165 is positioned slightly above the reaction disk 51 . Therefore, when the gripping mechanism 165 is positioned at the standby position, the reaction disk 51 can rotate without the gripping mechanism 165 contacting the reaction disk 51 .

ガイド機構166が非ガイド状態である場合、ガイド機構166は、X軸方向について、把持機構165の移動軸よりも廃棄側とは反対側に位置する。したがって、ガイド機構166が非ガイド状態である場合、ガイド機構166のガイド部1661は、把持機構165の真下には位置しない。また、ガイド機構166が非ガイド状態である場合、ガイド機構166の係合孔1665の第1直線部1665A及び第3直線部1665Cが、Z軸方向と平行になる。 When the guide mechanism 166 is in the non-guiding state, the guide mechanism 166 is located on the side opposite to the disposal side with respect to the movement axis of the grasping mechanism 165 in the X-axis direction. Therefore, when the guide mechanism 166 is in the non-guiding state, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 is not positioned directly below the gripping mechanism 165 . Also, when the guide mechanism 166 is in the non-guiding state, the first linear portion 1665A and the third linear portion 1665C of the engagement hole 1665 of the guide mechanism 166 are parallel to the Z-axis direction.

抜去機構16が抜去及び廃棄動作を開始すると、把持機構165が下側へ移動し、把持位置まで移動する。この際、把持機構165の突出部1655Aは、ガイド機構166の係合孔1665の第1直線部1665A内を移動する。以下、Z軸方向についての把持機構165の移動は、制御回路9による駆動部162の駆動制御によって行われる。 When the withdrawal mechanism 16 starts the withdrawal and disposal operation, the gripping mechanism 165 moves downward to the gripping position. At this time, the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 moves within the first linear portion 1665A of the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166. As shown in FIG. Thereafter, movement of the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction is performed by drive control of the drive section 162 by the control circuit 9 .

把持位置は、把持機構165によって反応ディスク51内のキュベット70を把持可能な位置である。待機位置は、把持位置よりも僅かに上側に位置する。図12は、把持機構165が把持位置においてキュベット70を把持した状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。図12は、Y軸方向について図5とは反対側から抜去機構16を視た図である。 The gripping position is a position where the gripping mechanism 165 can grip the cuvette 70 in the reaction disk 51 . The standby position is located slightly above the gripping position. FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a state in which the gripping mechanism 165 grips the cuvette 70 at the gripping position, taken along line AA in FIG. FIG. 12 is a view of the removal mechanism 16 viewed from the opposite side of FIG. 5 in the Y-axis direction.

把持位置に把持機構165が位置する状態では、把持機構165の下端が、反応ディスク51の穴512の縁とキュベット70の間の隙間に上側から挿入される。そして、把持機構165の第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間に、キュベット70が下側から挿入される。把持機構165の第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間にキュベット70が下側から挿入されることにより、第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間が開く。そして、キュベット70のフランジ72が把持機構165の第1爪部1651C及び第2爪部1652CよりもZ軸方向について上側まで挿入されると、弾性部材1656から作用する弾性力によって第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間が閉じる。これにより、把持機構165の第1爪部1651C及び第2爪部1652Cによってキュベット70のフランジ72が下側から支持され、把持機構165によってキュベット70が把持される。 When the gripping mechanism 165 is positioned at the gripping position, the lower end of the gripping mechanism 165 is inserted into the gap between the edge of the hole 512 of the reaction disk 51 and the cuvette 70 from above. Then, the cuvette 70 is inserted from below between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A of the gripping mechanism 165 . By inserting the cuvette 70 from below between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A of the gripping mechanism 165, the space between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A is opened. Then, when the flange 72 of the cuvette 70 is inserted above the first claw portion 1651C and the second claw portion 1652C of the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction, the elastic force acting from the elastic member 1656 causes the first gripping portion 1651A to move. and the second grip portion 1652A are closed. As a result, the flange 72 of the cuvette 70 is supported from below by the first claw portion 1651C and the second claw portion 1652C of the gripping mechanism 165, and the cuvette 70 is gripped by the gripping mechanism 165. FIG.

把持位置に移動した後、把持機構165は、キュベット70を把持した状態で上側へ移動する。この際、把持機構165の突出部1655Aは、ガイド機構166の係合孔1665の第1直線部1665A内を移動する。図13は、キュベット70を把持した把持機構165が上側へ移動する様子を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。図13は、Y軸方向について図5とは反対側から抜去機構16を視た図である。 After moving to the gripping position, the gripping mechanism 165 moves upward while gripping the cuvette 70 . At this time, the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 moves within the first linear portion 1665A of the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166. As shown in FIG. FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing how the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 moves upward along the line AA in FIG. FIG. 13 is a view of the removal mechanism 16 viewed from the opposite side of FIG. 5 in the Y-axis direction.

把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第2直線部1665B内に進入した状態で、把持機構165が上側へ移動すると、把持機構165の突出部1655Aによって、ガイド機構166の係合孔1665の縁が、廃棄側及び上側へ押圧される。このため、把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第2直線部1665B内に進入した状態では、ガイド機構166は、把持機構165が上側へ移動するにつれて、軸部材169を中心として、周方向の一方側(図13の矢印R1側)へ回転する。矢印R1は、ガイド機構166の下端が廃棄側に設けられた搬送路168に近づく方向を示している。 When the gripping mechanism 165 moves upward while the projection 1655A of the gripping mechanism 165 has entered the second straight portion 1665B of the engagement hole 1665 of the guide mechanism 166, the projection 1655A of the gripping mechanism 165 moves the guide mechanism 166. The edge of the engagement hole 1665 of is pressed to the disposal side and the upper side. Therefore, when the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 has entered the second straight portion 1665B of the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166, the guide mechanism 166 moves toward the shaft member 169 as the gripping mechanism 165 moves upward. , to one side in the circumferential direction (arrow R1 side in FIG. 13). An arrow R1 indicates the direction in which the lower end of the guide mechanism 166 approaches the transport path 168 provided on the disposal side.

把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第2直線部1665B内に到達する位置は、ガイド機構166の回転が開始する動作開始位置となる。把持機構165が動作開始位置に位置する状態では、把持機構165によって把持されたキュベット70の下端74は反応ディスク51よりも上側に位置する。 The position at which the protrusion 1655A of the gripping mechanism 165 reaches the second straight portion 1665B of the engagement hole 1665 of the guide mechanism 166 is the operation start position where the rotation of the guide mechanism 166 starts. When the gripping mechanism 165 is positioned at the operation start position, the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 is positioned above the reaction disk 51 .

把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第3直線部1665C内に到達すると、ガイド機構166は、ガイド状態となる。図14は、抜去機構16をガイド機構166がガイド状態である状態で示す正面図である。図14は、Y軸方向について一方側から視た図である。 When the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 reaches the inside of the third linear portion 1665C of the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166, the guide mechanism 166 enters the guiding state. FIG. 14 is a front view showing the removal mechanism 16 with the guide mechanism 166 in the guide state. FIG. 14 is a diagram viewed from one side in the Y-axis direction.

ガイド機構166がガイド状態である場合、ガイド機構166のガイド部1661は把持機構165の下側に移動し、ガイド部1661の下端は、X軸方向について、把持機構165よりも廃棄側へ移動する。したがって、ガイド機構166がガイド状態である場合、ガイド機構166のガイド部1661は、X軸方向について、把持機構165の移動軸と交差する。ガイド機構166がガイド状態である場合、ガイド機構166のガイド部1661は、把持機構165に把持されたキュベット70の下端74よりも僅かに下側に位置し、X軸方向について廃棄側へ向かうにつれて下側に向かって傾斜する斜面を形成する。また、ガイド機構166がガイド状態である場合、係合孔1665の第3直線部1665Cは、Z軸方向に対して平行になる。すなわち、ガイド部1661は、把持機構165の移動と共に、把持機構165により把持された反応管の下方に移動する。また、ガイド部1661は、把持機構165が反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する反応管の上側から離れた位置に位置し、把持機構165が反応管を開放する開放位置に位置する場合に反応管の下側に位置して格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。 When the guide mechanism 166 is in the guide state, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 moves to the lower side of the gripping mechanism 165, and the lower end of the guide portion 1661 moves toward the disposal side of the gripping mechanism 165 in the X-axis direction. . Therefore, when the guide mechanism 166 is in the guide state, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 intersects the movement axis of the gripping mechanism 165 in the X-axis direction. When the guide mechanism 166 is in the guide state, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 is positioned slightly below the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165, and gradually increases toward the disposal side in the X-axis direction. Form a slope that slopes downwards. Also, when the guide mechanism 166 is in the guide state, the third linear portion 1665C of the engagement hole 1665 is parallel to the Z-axis direction. That is, the guide part 1661 moves below the reaction tube gripped by the gripping mechanism 165 as the gripping mechanism 165 moves. Further, the guide part 1661 is positioned away from the upper side of the reaction tube to be gripped when the gripping mechanism 165 is positioned at the gripping position where the reaction tube can be gripped, and the gripping mechanism 165 is at the open position where the reaction tube is released. When it is positioned, it is positioned below the reaction tube and forms a downward slope toward the storage section.

把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第3直線部1665C内に進入した状態で、把持機構165が上側へ移動すると、把持機構165の突出部1655Aは、ガイド機構166の係合孔1665の第3直線部1665C内を、上側へ移動する。 When the gripping mechanism 165 moves upward while the projection 1655A of the gripping mechanism 165 has entered the third straight portion 1665C of the engagement hole 1665 of the guide mechanism 166, the projection 1655A of the gripping mechanism 165 moves toward the guide mechanism 166. moves upward in the third linear portion 1665C of the engaging hole 1665 of the .

把持機構165が開放位置に到達すると、把持開放機構167が上側から把持機構165に当接し、把持開放機構167によって、把持機構165が開く。図15は、キュベット70を把持した把持機構165が開放位置に到達した状態を、図6のA-A線断面で示す部分断面図である。図15は、Y軸方向について図14とは反対側から抜去機構16を視た図である。 When the gripping mechanism 165 reaches the open position, the gripping release mechanism 167 contacts the gripping mechanism 165 from above, and the gripping mechanism 165 is opened by the gripping release mechanism 167 . FIG. 15 is a partial cross-sectional view showing a state in which the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 has reached the open position, taken along line AA in FIG. FIG. 15 is a view of the removal mechanism 16 viewed from the opposite side of FIG. 14 in the Y-axis direction.

把持機構165が開放位置に到達すると、把持開放機構167の斜面1672Aが、把持機構165の第1斜面1651Dに上側から当接する。これにより、第1伝達部1651Bが把持開放機構167によって下側及び廃棄側へ押圧される。そして、第1伝達部1651Bが廃棄側へ移動するとともに、第1部材1651が軸部材1655を中心として回転し、第1把持部1651Aが廃棄側とは反対側へ移動する。 When the gripping mechanism 165 reaches the open position, the inclined surface 1672A of the gripping/opening mechanism 167 contacts the first inclined surface 1651D of the gripping mechanism 165 from above. As a result, the first transmission portion 1651B is pressed downward and toward the disposal side by the gripping/opening mechanism 167 . Then, the first transmitting portion 1651B moves to the disposal side, the first member 1651 rotates about the shaft member 1655, and the first gripping portion 1651A moves to the side opposite to the disposal side.

また、把持機構165が開放位置に到達すると、把持開放機構167の斜面1672Bが、把持機構165の斜面1652Dに上側から当接する。これにより、第2伝達部1652Bが把持開放機構167によって下側及び廃棄側とは反対側へ押圧される。そして、第2伝達部1652Bが廃棄側とは反対側へ移動するとともに、第2部材1652が軸部材1655を中心として回転し、第2把持部1652Aが廃棄側へ移動する。 Further, when the gripping mechanism 165 reaches the open position, the inclined surface 1672B of the gripping/opening mechanism 167 contacts the inclined surface 1652D of the gripping mechanism 165 from above. As a result, the second transmission portion 1652B is pressed downward and to the side opposite to the disposal side by the gripping/opening mechanism 167 . Then, the second transmitting portion 1652B moves to the side opposite to the disposal side, the second member 1652 rotates around the shaft member 1655, and the second gripping portion 1652A moves to the disposal side.

したがって、把持機構165が下側から開放位置に到達すると、第1伝達部1651Bと第2伝達部1652Bの間が開くことにより、第1把持部1651Aと第2把持部1652Aの間が開く。そして、第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間が開くことにより、第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間で把持されたキュベット70が把持機構165から解放される。把持機構165から解放されたキュベット70は、下側へ落下する。 Therefore, when the gripping mechanism 165 reaches the open position from the bottom side, the first transmission portion 1651B and the second transmission portion 1652B are opened, thereby opening the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A. Then, the cuvette 70 gripped between the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A is released from the gripping mechanism 165 by opening the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A. The cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 drops downward.

開放位置において把持機構165から解放されたキュベット70は、下側に向かって落下する。この際、開放位置において把持機構165に把持されたキュベット70の下端74よりも僅かに下側には、ガイド機構166のガイド部1661が位置する。このため、把持機構165から落下したキュベット70は、ガイド機構166のガイド部1661に落下し、ガイド機構166のガイド部1661に沿って滑りながら廃棄側へ搬送される。 The cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 at the open position falls downward. At this time, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 is positioned slightly below the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 in the open position. Therefore, the cuvette 70 dropped from the gripping mechanism 165 drops onto the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 and is conveyed to the waste side while sliding along the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 .

そして、ガイド機構166によって廃棄側へ搬送されたキュベット70は、搬送路168を通って、廃棄ボックス15へ搬送される。 The cuvette 70 transported to the disposal side by the guide mechanism 166 is transported to the disposal box 15 through the transport path 168 .

把持機構165が開放位置へ到達した後、把持機構165は、下側へ移動する。この際、把持機構165の突出部1655Aがガイド機構166の係合孔1665の第2直線部1665B内に進入した状態では、ガイド機構166は、把持機構165が下側へ移動するにつれて、軸部材169を中心として、周方向の他方側(図13の矢印R2側)へ回転し、ガイド機構166はガイド状態から非ガイド状態へ変化する。把持機構165が待機位置に到達すると、把持機構165の移動は停止し、測定が終了した他のキュベット70が再び廃棄位置へ移動するまで、待機位置において待機する。 After the gripping mechanism 165 reaches the open position, the gripping mechanism 165 moves downward. At this time, when the projecting portion 1655A of the gripping mechanism 165 has entered the second straight portion 1665B of the engaging hole 1665 of the guide mechanism 166, the guide mechanism 166 moves toward the shaft member as the gripping mechanism 165 moves downward. 169 as the center, it rotates to the other side in the circumferential direction (arrow R2 side in FIG. 13), and the guide mechanism 166 changes from the guide state to the non-guide state. When the gripping mechanism 165 reaches the standby position, the gripping mechanism 165 stops moving and waits at the standby position until the other cuvette 70 that has completed the measurement moves to the disposal position again.

次に、以上のように構成された自動分析装置1の効果について説明する。 Next, the effects of the automatic analyzer 1 configured as described above will be described.

本実施形態の自動分析装置1では、把持機構165が待機位置から下側へ移動することにより把持機構165によって測定が終了したキュベット70が把持され、キュベット70を把持した状態で把持機構165が上側へ移動することにより、キュベット70が分析機構2から抜去される。また、キュベット70を把持した状態で把持機構165が上側へ移動するとともに、ガイド機構166が回転し、ガイド機構166のガイド部1661が把持機構165に把持されたキュベット70の下側へ移動する。そして、開放位置において把持機構165から解放されたキュベット70は、ガイド機構166によって廃棄ボックス15へ搬送される。 In the automatic analyzer 1 of the present embodiment, the holding mechanism 165 moves downward from the standby position to hold the cuvette 70 for which measurement has been completed. , the cuvette 70 is removed from the analysis mechanism 2 . Further, the gripping mechanism 165 moves upward while gripping the cuvette 70 , the guide mechanism 166 rotates, and the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 moves below the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 . The cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 at the open position is conveyed to the disposal box 15 by the guide mechanism 166 .

例えば、本実施形態の自動分析装置1では、把持機構165に設けられた突出部1655Aがガイド機構166に設けられた係合孔1665に係合することによって、把持機構165が鉛直方向について移動するにつれてガイド機構166を回転させる連結機構が形成される。 For example, in the automatic analyzer 1 of the present embodiment, the protrusion 1655A provided on the gripping mechanism 165 engages with the engagement hole 1665 provided on the guide mechanism 166, thereby moving the gripping mechanism 165 in the vertical direction. A coupling mechanism is formed to rotate the guide mechanism 166 as it moves.

したがって、本実施形態の自動分析装置1によれば、測定が終了したキュベット70の抜去及び廃棄を、1つのユニット(抜去機構16)によって行うことができる。また、把持機構165をZ軸方向について移動させることのみで、測定が終了したキュベット70の抜去及び廃棄を行うことができるため、抜去機構16は、把持機構165をZ軸方向について移動させる駆動部162以外の駆動機構を設けることなく、実現される。例えば、駆動機構として設けられる1つのモータの正回転及び/又は逆回転のみで、キュベット70の抜去動作及び廃棄動作を完結させることができる。このため、測定が終了したキュベット70の抜去及び廃棄を1軸方向についての作動のみで行うことができるため、抜去及び廃棄を高速で行うことができ、また、抜去及び廃棄の安定性及び安定性が向上する。これにより、キュベット70の抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることができる。 Therefore, according to the automatic analyzer 1 of the present embodiment, removal and disposal of the cuvette 70 for which measurement has been completed can be performed by one unit (the removal mechanism 16). Further, since the cuvette 70 for which measurement has been completed can be removed and discarded only by moving the holding mechanism 165 in the Z-axis direction, the removal mechanism 16 is a drive unit that moves the holding mechanism 165 in the Z-axis direction. It is realized without providing a drive mechanism other than 162 . For example, the removal operation and disposal operation of the cuvette 70 can be completed only by forward and/or reverse rotation of one motor provided as a drive mechanism. Therefore, since the cuvette 70 for which the measurement has been completed can be removed and discarded only by an operation in one axial direction, the removal and discard can be performed at high speed, and the removal and discard are stable and stable. improves. As a result, the throughput can be improved while maintaining stability when the cuvette 70 is removed and discarded.

また、本実施形態では、把持機構165は、把持機構165の第1把持部1651A及び第2把持部1652Aの間を閉じさせる外力を付与する外力付与部として、弾性部材1656を備える。また、把持機構165は、キュベット70を支持可能な第1爪部1651C及び第2爪部1652Cを備える、
したがって、本実施形態の自動分析装置1によれば、把持機構165が把持位置に移動することにより、分析機構2に保持されたキュベット70が自動的に把持される。
In addition, in this embodiment, the gripping mechanism 165 includes an elastic member 1656 as an external force applying portion that applies an external force to close the first gripping portion 1651A and the second gripping portion 1652A of the gripping mechanism 165 . In addition, the gripping mechanism 165 includes a first claw portion 1651C and a second claw portion 1652C capable of supporting the cuvette 70.
Therefore, according to the automatic analyzer 1 of this embodiment, the cuvette 70 held by the analysis mechanism 2 is automatically gripped by moving the gripping mechanism 165 to the gripping position.

また、本実施形態では、把持機構165は、把持位置よりも僅かに上側の待機位置において、待機する。したがって、キュベット70の抜去動作において、キュベット70の把持位置までの把持機構165の移動距離が小さくなり、キュベット70の把持位置までの把持機構165の移動時間を短くすることができる。 Further, in this embodiment, the gripping mechanism 165 waits at a standby position slightly above the gripping position. Therefore, in the removing operation of the cuvette 70, the movement distance of the gripping mechanism 165 to the gripping position of the cuvette 70 is shortened, and the moving time of the gripping mechanism 165 to the gripping position of the cuvette 70 can be shortened.

また、本実施形態では、把持機構165が開放位置に位置する場合に把持機構165に当接することにより、把持機構165を開放させる把持開放機構167を備える。例えば、把持機構165及び把持開放機構167のそれぞれに斜面が形成され、把持開放機構167の斜面1672A及び斜面1672Bによって把持機構165の斜面1651D及び斜面1652Dが押圧されることにより、把持機構165が開く。 In addition, the present embodiment includes a grip release mechanism 167 that opens the grip mechanism 165 by contacting the grip mechanism 165 when the grip mechanism 165 is at the open position. For example, the gripping mechanism 165 and the gripping/releasing mechanism 167 are formed with slopes, and the gripping mechanism 165 is opened by pressing the slopes 1651D and 1652D of the gripping mechanism 165 by the slopes 1672A and 1672B of the gripping/releasing mechanism 167. .

したがって、本実施形態の自動分析装置1によれば、把持機構165が開放位置に移動することにより、把持機構165により把持されたキュベット70が自動的に解放される。 Therefore, according to the automatic analyzer 1 of this embodiment, the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 is automatically released by moving the gripping mechanism 165 to the open position.

また、本実施形態では、ガイド機構166のガイド部1661が把持機構165に把持されたキュベット70の下側へ移動した状態において、把持されたキュベット70の下端74よりも僅かに下側にガイド機構166のガイド部1661が位置する状態が維持される。 Further, in this embodiment, in a state in which the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 is moved below the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165, the guide mechanism moves slightly below the lower end 74 of the gripped cuvette 70 . The state in which the guide portion 1661 of 166 is positioned is maintained.

したがって、本実施形態の自動分析装置1によれば、開放位置において把持機構165から解放されたキュベット70のガイド部1661への落下距離を小さくすることができる。これにより、キュベット70が廃棄ボックス15へ搬送される際のキュベット70の姿勢の安定性が向上し、廃棄の安全性が向上する。 Therefore, according to the automatic analyzer 1 of the present embodiment, the drop distance of the cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 at the open position to the guide section 1661 can be reduced. This improves the stability of the posture of the cuvette 70 when the cuvette 70 is transported to the disposal box 15, thereby improving the safety of disposal.

また、本実施形態では、ガイド機構166のガイド部1661は、円弧形状の曲面を有する。 Further, in this embodiment, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 has an arc-shaped curved surface.

したがって、本実施形態の自動分析装置1によれば、ガイド部1661が直線形状に形成された場合に比べて、開放位置において把持機構165から解放されたキュベット70がガイド部1661へ落下した際の衝撃を小さくすることができる。これにより、キュベット70が廃棄ボックス15へ搬送される際のキュベット70の姿勢の安定性が向上し、廃棄の安全性が向上する。 Therefore, according to the automatic analyzer 1 of the present embodiment, when the cuvette 70 released from the gripping mechanism 165 in the open position is dropped onto the guide section 1661, compared to the case where the guide section 1661 is formed in a linear shape, It can reduce impact. This improves the stability of the posture of the cuvette 70 when the cuvette 70 is transported to the disposal box 15, thereby improving the safety of disposal.

また、本実施形態では、ガイド機構166が形成する溝の幅(L3)は、キュベット70の外径(L2)よりも大きく、長手方向についてのキュベット70の長さ(L1)よりも小さい。したがって、ガイド機構166が形成する溝の内部においてキュベット70が廃棄ボックス15へ搬送される際において、キュベット70は、上端と下端が入れ替わるように回転することができない。このため、ガイド機構166は、キュベット70の上端73に設けられた開口が上側を向いた状態を維持したまま、廃棄ボックス15へキュベット70を搬送することができる。これにより、キュベット70に挿入された混合液が、キュベット70の開口を通して外部へ流出することを防止され、キュベット70が廃棄ボックス15へ搬送される際の安全性が向上する。 In this embodiment, the width (L3) of the groove formed by the guide mechanism 166 is larger than the outer diameter (L2) of the cuvette 70 and smaller than the length (L1) of the cuvette 70 in the longitudinal direction. Therefore, when the cuvette 70 is conveyed to the disposal box 15 inside the groove formed by the guide mechanism 166, the cuvette 70 cannot be rotated so that the upper end and the lower end are interchanged. Therefore, the guide mechanism 166 can convey the cuvette 70 to the disposal box 15 while maintaining the state in which the opening provided at the upper end 73 of the cuvette 70 faces upward. This prevents the mixture inserted in the cuvette 70 from flowing out through the opening of the cuvette 70 , thereby improving safety when the cuvette 70 is transported to the disposal box 15 .

なお、本実施形態では、連結機構を構成する係合孔1665は、複数の直線部によって形成されているがこれに限るものではない。係合孔1665は、例えば、直線部と曲線部を組み合わせて形成されてもよい。 In this embodiment, the engagement hole 1665 that constitutes the coupling mechanism is formed by a plurality of linear portions, but the invention is not limited to this. The engagement hole 1665 may be formed by, for example, combining straight portions and curved portions.

(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態に係る自動分析装置1について図16を用いて説明する。前述した図面と同一部分については同一符号を付してその詳しい説明を省略し、ここでは、主に、異なる部分について述べる。以下の各実施形態についても同様に、重複した説明を省略する。
(Second embodiment)
Next, the automatic analyzer 1 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. 16. FIG. The same reference numerals are given to the same parts as in the above-described drawings, and the detailed description thereof will be omitted, and mainly the different parts will be described here. Duplicate descriptions of the following embodiments are similarly omitted.

第2の実施形態は、第1の実施形態の変形例であり、第1の実施形態の抜去機構16の構成を以下のように変形したものである。図16は、抜去機構16の内部構成を把持機構165が開放位置に位置する状態で示す模式図である。 2nd Embodiment is a modification of 1st Embodiment, and it modifies|transforms the structure of the extraction mechanism 16 of 1st Embodiment as follows. FIG. 16 is a schematic diagram showing the internal configuration of the removal mechanism 16 with the gripping mechanism 165 positioned at the open position.

本実施形態では、ガイド機構166のガイド部1661は、第1平板1661Aと、第2平板1661Bとを有する。第1平板1661A及び第2平板1661Bは、Z軸方向について移動可能である。第1平板1661Aは、Y軸及びZ軸方向に平行な平板である。第2平板1661Bは、第1平板1661Aに対して下側に設けられている。第2平板1661Bは、把持機構165の移動軸に対して垂直なY軸方向に平行な回転軸1661Cを中心として、第1平板1661Aに対して回転可能である。 In this embodiment, the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 has a first flat plate 1661A and a second flat plate 1661B. The first flat plate 1661A and the second flat plate 1661B are movable in the Z-axis direction. The first flat plate 1661A is a flat plate parallel to the Y-axis and Z-axis directions. The second flat plate 1661B is provided below the first flat plate 1661A. The second flat plate 1661B is rotatable with respect to the first flat plate 1661A about a rotation axis 1661C parallel to the Y-axis direction perpendicular to the movement axis of the gripping mechanism 165. As shown in FIG.

連結機構は、Z軸方向について把持機構165を移動させる駆動力を、Y軸方向に平行な中心軸(回転軸1661C)を中心としてガイド機構166を回転させる駆動力、及び、移動軸に平行なZ軸方向についてガイド機構166を移動させる駆動力に変換する。連結機構は、例えば、カム機構及びリンク機構を組み合わせることにより実現される。 The coupling mechanism combines the driving force that moves the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction, the driving force that rotates the guide mechanism 166 around a central axis (rotational axis 1661C) parallel to the Y-axis direction, and the driving force that rotates the guide mechanism 166 in parallel with the movement axis. The driving force is converted to move the guide mechanism 166 in the Z-axis direction. A connecting mechanism is realized by, for example, combining a cam mechanism and a link mechanism.

他の構成は、第1の実施形態と同様である。 Other configurations are similar to those of the first embodiment.

本実施形態では、ガイド機構166が非ガイド状態である場合、第1平板1661A及び第2平板1661Bは、Z軸方向に対して平行になり、X軸方向について把持機構165の移動軸よりも廃棄側とは反対側に位置する。 In this embodiment, when the guide mechanism 166 is in the non-guiding state, the first flat plate 1661A and the second flat plate 1661B are parallel to the Z-axis direction, and the X-axis direction is greater than the movement axis of the gripping mechanism 165. located on the opposite side.

ガイド機構166がガイド状態である場合、第2平板1661Bは、第1平板1661Aに対して傾斜し、Z軸方向について上側から下側に向かうにつれてX軸方向について廃棄側とは反対側から廃棄側へ向かう状態となる。この状態では、第2平板1661Bは、X軸方向について把持機構165の移動軸を通る。 When the guide mechanism 166 is in the guide state, the second flat plate 1661B is inclined with respect to the first flat plate 1661A, and extends from the side opposite to the waste side in the X-axis direction toward the waste side as it goes from the top to the bottom in the Z-axis direction. It will be in a state to go to. In this state, the second flat plate 1661B passes through the movement axis of the gripping mechanism 165 in the X-axis direction.

連結機構により、把持機構165が動作開始位置から開放位置へZ軸方向について上側に向かって移動するにつれて、第2平板1661Bが第1平板1661Aに対して回転し、ガイド機構166は非ガイド状態からガイド状態になる。ガイド状態では、第2平板1661Bは、X軸方向について把持機構165の移動軸と同じ位置において、把持機構165に把持されたキュベット70の下端74よりもZ軸方向について僅かに下側に位置する。 As the gripping mechanism 165 moves upward in the Z-axis direction from the operation start position to the open position by the connecting mechanism, the second flat plate 1661B rotates with respect to the first flat plate 1661A, and the guide mechanism 166 moves from the non-guiding state. become a guide. In the guided state, the second flat plate 1661B is positioned slightly below the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction at the same position as the movement axis of the gripping mechanism 165 in the X-axis direction. .

また、連結機構により、ガイド状態において把持機構165がZ軸方向について上側に向かってさらに移動するにつれて、第1平板1661A及び第2平板1661BがZ軸方向について上側へ移動する。このため、ガイド状態では、把持機構165に把持されたキュベット70が上側へ移動するにつれて、第2平板1661Bが把持機構165に把持されたキュベット70の下端74よりもZ軸方向について僅かに下側に位置する状態が維持される。 Further, the connecting mechanism causes the first flat plate 1661A and the second flat plate 1661B to move upward in the Z-axis direction as the grasping mechanism 165 further moves upward in the Z-axis direction in the guided state. Therefore, in the guide state, as the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 moves upward, the second flat plate 1661B is positioned slightly below the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction. position is maintained.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態に係る自動分析装置について図17を用いて説明する。
(Third Embodiment)
Next, an automatic analyzer according to the third embodiment will be described with reference to FIG. 17. FIG.

第3の実施形態は、第1の実施形態の変形例であり、第1の実施形態の抜去機構16の構成を以下のように変形したものである。図17は、抜去機構16の構成の一例を示す模式図である。 3rd Embodiment is a modification of 1st Embodiment, and modifies|transforms the structure of the extraction mechanism 16 of 1st Embodiment as follows. FIG. 17 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the withdrawal mechanism 16. As shown in FIG.

本実施形態では、ガイド機構166は、支持体161に支持され、支持体161に対してX軸方向について移動可能に取り付けられている。 In this embodiment, the guide mechanism 166 is supported by the support 161 and attached to the support 161 so as to be movable in the X-axis direction.

連結機構は、Z軸方向について把持機構165を移動させる駆動力を、移動軸に対して交差するX軸方向についてガイド機構166を移動させる駆動力に変換する。連結機構は、例えば、カム機構により実現される。連結機構は、鉛直方向について把持機構165が支持体161に対して移動するにつれて、鉛直方向及び鉛直方向に対して交差するX軸方向についてガイド機構166を支持体161に対して移動させる。 The coupling mechanism converts the driving force that moves the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction into the driving force that moves the guide mechanism 166 in the X-axis direction that intersects the movement axis. The connecting mechanism is implemented by, for example, a cam mechanism. The coupling mechanism moves the guide mechanism 166 relative to the support 161 in the vertical direction and in the X-axis direction that intersects the vertical direction as the gripping mechanism 165 moves relative to the support 161 in the vertical direction.

他の構成は、第1の実施形態と同様である。 Other configurations are similar to those of the first embodiment.

本実施形態では、連結機構により、把持機構165が動作開始位置から開放位置へZ軸方向について上側に向かって移動するにつれて、ガイド機構166がX軸方向について廃棄側へ移動し、ガイド機構166のガイド部1661が把持機構165に把持されたキュベット70の下側へ移動する。これにより、ガイド機構166は、ガイド状態となる。また、連結機構により、ガイド状態において把持機構165が上側へさらに移動するにつれて、把持機構165に把持されたキュベット70が上側へ移動するとともに、ガイド部1661においてキュベット70の真下に位置する部分の位置は、上側へ移動する。このため、把持機構165に把持されたキュベット70の下端74よりもZ軸方向について僅かに下側に、ガイド部1661が位置する状態が維持される。 In this embodiment, the connecting mechanism causes the guide mechanism 166 to move toward the disposal side in the X-axis direction as the grasping mechanism 165 moves upward in the Z-axis direction from the operation start position to the open position. The guide portion 1661 moves below the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 . As a result, the guide mechanism 166 enters the guide state. In addition, the connecting mechanism causes the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 to move upward as the gripping mechanism 165 further moves upward in the guide state, and the position of the portion of the guide portion 1661 directly below the cuvette 70 is adjusted. moves up. Therefore, the guide portion 1661 is maintained slightly below the lower end 74 of the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction.

(第4の実施形態)
次に、第4の実施形態に係る自動分析装置について図18を用いて説明する。
(Fourth embodiment)
Next, an automatic analyzer according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. 18. FIG.

第4の実施形態は、第1の実施形態の変形例であり、第1の実施形態の抜去機構16の構成を以下のように変形したものである。図18は、抜去機構16の構成の一例を示す模式図である。 The fourth embodiment is a modification of the first embodiment, in which the configuration of the withdrawal mechanism 16 of the first embodiment is modified as follows. FIG. 18 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the withdrawal mechanism 16. As shown in FIG.

本実施形態では、ガイド機構166の回転軸として機能する軸部材169は、X軸方向について把持機構165よりも廃棄側に設けられている。 In this embodiment, the shaft member 169 functioning as the rotating shaft of the guide mechanism 166 is provided on the disposal side of the gripping mechanism 165 in the X-axis direction.

連結機構は、Z軸方向について把持機構165を移動させる駆動力を、Y軸方向に平行な中心軸を中心としてガイド機構166を回転させる駆動力に変換する。連結機構は、把持機構165が動作開始位置に到達した際に、ガイド機構166を回転させる。連結機構は、例えば、カム機構により実現される。 The connecting mechanism converts the driving force that moves the gripping mechanism 165 in the Z-axis direction into the driving force that rotates the guide mechanism 166 around a central axis parallel to the Y-axis direction. The connecting mechanism rotates the guide mechanism 166 when the gripping mechanism 165 reaches the operation start position. The connecting mechanism is implemented by, for example, a cam mechanism.

他の構成は、第1の実施形態と同様である。 Other configurations are similar to those of the first embodiment.

本実施形態においても、キュベット70を把持した把持機構165が下側から動作開始位置に到達すると、連結機構により、ガイド機構166が軸部材169を中心として回転し、ガイド機構166のガイド部1661が把持機構165に把持されたキュベット70の真下へ移動する。これにより、ガイド機構166はガイド状態になる。そして、ガイド機構166はガイド状態である状態で把持機構165が上側へ移動することにより開放位置へ到達すると、把持開放機構167によって把持機構165に把持されたキュベット70が解放され、落下したキュベット70はガイド機構166によって、廃棄ボックス15へ向かって搬送される。 Also in this embodiment, when the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 reaches the operation start position from below, the coupling mechanism causes the guide mechanism 166 to rotate around the shaft member 169, and the guide portion 1661 of the guide mechanism 166 rotates. It moves directly below the cuvette 70 gripped by the gripping mechanism 165 . As a result, the guide mechanism 166 enters the guide state. When the grasping mechanism 165 moves upward while the guide mechanism 166 is in the guide state and reaches the open position, the cuvette 70 grasped by the grasping mechanism 165 is released by the grasping and releasing mechanism 167, and the dropped cuvette 70 is released. is transported toward the disposal box 15 by the guide mechanism 166 .

(第5の実施形態)
次に、第5の実施形態に係る自動分析装置について図19及び図20を用いて説明する。
(Fifth embodiment)
Next, an automatic analyzer according to the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 19 and 20. FIG.

第5の実施形態は、第1の実施形態の変形例であり、第1の実施形態の抜去機構16の構成を以下のように変形したものである。図19は、抜去機構16を把持機構165が閉じた状態で示す模式図である。図20は、把持開放機構167により把持機構165が開いた状態を示す模式図である。 The fifth embodiment is a modification of the first embodiment, in which the configuration of the withdrawal mechanism 16 of the first embodiment is modified as follows. FIG. 19 is a schematic diagram showing the withdrawal mechanism 16 with the gripping mechanism 165 closed. FIG. 20 is a schematic diagram showing a state in which the gripping mechanism 165 is opened by the gripping release mechanism 167. As shown in FIG.

本実施形態では、把持機構165は、支持体1657と、第1部材1658と、第2部材1659とを備える。第1部材1658は、軸部材1658Aを介して、支持体1657に取り付けられている。第2部材1659は、軸部材1659Aを介して、支持体1657に取り付けられている。軸部材1658A及び軸部材1659Aは、Y軸方向に対して平行であり、X軸方向について離れて配置される。第1部材1658及び第2部材1659は、例えば、棒状に形成されている。第1部材1658は、軸部材1658Aを中心として支持体1657に対して回転可能であり、第2部材1659は、軸部材1659Aを中心として支持体1657に対して回転可能である。 In this embodiment, gripping mechanism 165 comprises support 1657 , first member 1658 and second member 1659 . The first member 1658 is attached to the support 1657 via a shaft member 1658A. The second member 1659 is attached to the support 1657 via a shaft member 1659A. The shaft member 1658A and the shaft member 1659A are parallel to the Y-axis direction and spaced apart in the X-axis direction. The first member 1658 and the second member 1659 are, for example, rod-shaped. First member 1658 is rotatable relative to support 1657 about shaft member 1658A, and second member 1659 is rotatable relative to support 1657 about shaft member 1659A.

第1部材1658は、第1部材1658において軸部材1658Aとの連結部よりも下側に設けられる第1把持部1658Bと、第1部材1658において軸部材1658Aとの連結部よりも上側に設けられる第1伝達部1658Cとを備える。また、第2部材1659は、第2部材1659において軸部材1659Aとの連結部よりも下側に設けられる第2把持部1659Bと、第2部材1659において軸部材1659Aとの連結部よりも上側に設けられる第2伝達部1659Cとを備える。 The first member 1658 includes a first gripping portion 1658B provided below the connecting portion with the shaft member 1658A in the first member 1658, and a first holding portion 1658B provided above the connecting portion with the shaft member 1658A in the first member 1658. and a first transmission portion 1658C. In addition, the second member 1659 includes a second gripping portion 1659B provided below the connecting portion with the shaft member 1659A in the second member 1659, and a second holding portion 1659B provided above the connecting portion with the shaft member 1659A in the second member 1659. and a second transmission portion 1659C provided.

第1伝達部1658Cと第2伝達部1659Cとの間が開くにつれて、第1把持部1658Bと第2把持部1659Bとの間が閉じる。また、第1伝達部1658Cと第2伝達部1659Cとの間が閉じるにつれて、第1把持部1658Bと第2把持部1659Bとの間が開く。 As the space between the first transmission portion 1658C and the second transmission portion 1659C opens, the space between the first grip portion 1658B and the second grip portion 1659B closes. Further, as the space between the first transmission portion 1658C and the second transmission portion 1659C closes, the space between the first gripping portion 1658B and the second gripping portion 1659B opens.

把持開放機構167は、突出部1673Aと、突出部1673Bとを備える。突出部1673Aと突出部1673Bは、X軸方向について離れて配置される。突出部1673A及び突出部1673Aは、支持体161の上部から下側に向かって突出している。突出部1673Aは、斜面1674Aを備える。斜面1674Aは、X軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Z軸方向について下側を向いている。突出部1673Bは、斜面1674Bを備える。斜面1674Bは、X軸方向について廃棄側を向き、かつ、Z軸方向について下側を向く斜面1674Bを向いている。斜面1674A及び斜面1674Bは、対向している。 The gripping and releasing mechanism 167 includes a projecting portion 1673A and a projecting portion 1673B. The projecting portion 1673A and the projecting portion 1673B are arranged apart in the X-axis direction. The projecting portion 1673A and the projecting portion 1673A project downward from the upper portion of the support 161 . The projecting portion 1673A has an inclined surface 1674A. The slope 1674A faces the side opposite to the disposal side in the X-axis direction and faces downward in the Z-axis direction. Protrusion 1673B includes slope 1674B. The slope 1674B faces the waste side in the X-axis direction and faces downward in the Z-axis direction. Slope 1674A and slope 1674B face each other.

把持機構165の軸部材1658Aは、X軸方向について、把持開放機構167の突出部1673Aの斜面1674Aが設けられる範囲内に位置する。また、把持機構165の軸部材1659Aは、X軸方向について、把持開放機構167の突出部1673Bの斜面1674Bが設けられる範囲内に位置する。 The shaft member 1658A of the gripping mechanism 165 is located within the range where the inclined surface 1674A of the projecting portion 1673A of the gripping release mechanism 167 is provided in the X-axis direction. In addition, the shaft member 1659A of the gripping mechanism 165 is positioned within the range where the inclined surface 1674B of the projecting portion 1673B of the gripping release mechanism 167 is provided in the X-axis direction.

他の構成は、第1の実施形態と同様である。 Other configurations are similar to those of the first embodiment.

本実施形態では、把持機構165が下側から開放位置に移動すると、把持機構165の第1伝達部1658Cが把持開放機構167の第1斜面1674Aに当接する。これにより、第1把持部1658Bが把持開放機構167の第1斜面1674Aによって下側及び廃棄側とは反対側へ押圧され、第1部材1658が軸部材1658Aを中心として支持体1657に対して回転する。これにより、第1伝達部1658CがX軸方向について廃棄側とは反対側へ移動し、第1把持部1658BがX軸方向について廃棄側へ移動する。 In this embodiment, when the gripping mechanism 165 moves from below to the open position, the first transmission portion 1658C of the gripping mechanism 165 abuts on the first slope 1674A of the gripping release mechanism 167 . As a result, the first gripping portion 1658B is pressed downward and opposite to the disposal side by the first slope 1674A of the gripping release mechanism 167, and the first member 1658 rotates about the shaft member 1658A with respect to the support 1657. do. As a result, the first transmission portion 1658C moves in the X-axis direction to the side opposite to the disposal side, and the first gripping portion 1658B moves in the X-axis direction toward the disposal side.

また、把持機構165が把持機構165の第2伝達部1659Cが把持開放機構167の第2斜面1674Bに当接する。これにより、第2伝達部1659Cが把持開放機構167の第2斜面1674Bによって下側及び廃棄側へ押圧され、第2部材1659が軸部材1659Aを中心として支持体1657に対して回転するとともに、第2伝達部1659CがX軸方向について廃棄側へ移動し、第2把持部1659BがX軸方向について廃棄側とは反対側へ移動する。 Also, the second transmission portion 1659C of the gripping mechanism 165 abuts on the second slope 1674B of the gripping release mechanism 167 . As a result, the second transmitting portion 1659C is pressed downward and toward the disposal side by the second slope 1674B of the gripping/opening mechanism 167, and the second member 1659 rotates about the shaft member 1659A with respect to the support body 1657. The second transmission portion 1659C moves to the disposal side in the X-axis direction, and the second gripping portion 1659B moves to the side opposite to the disposal side in the X-axis direction.

したがって、把持機構165が下側から開放位置に移動すると、第1把持部1658Bと第2伝達部1659Cの間が閉じることにより、第1把持部1658Bと第2把持部1659Bの間が開く。 Therefore, when the gripping mechanism 165 moves from the lower side to the open position, the first gripping portion 1658B and the second transmitting portion 1659C are closed to open the first gripping portion 1658B and the second gripping portion 1659B.

このため、本実施形態においても、キュベット70を把持した把持機構165が下側から開放位置に移動すると、把持開放機構167によって把持機構165が開き、把持されたキュベット70は把持機構165から解放される。 Therefore, in this embodiment as well, when the gripping mechanism 165 gripping the cuvette 70 moves from below to the open position, the gripping mechanism 165 is opened by the gripping release mechanism 167 and the gripped cuvette 70 is released from the gripping mechanism 165 . be.

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、ガイド部は、把持機構が反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持機構の移動範囲に対して離れた位置に位置し、把持機構が反応管を開放する開放位置に位置する場合に把持機構の下方において、格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。これにより、キュベットの抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることである。 According to at least one embodiment described above, the guide part is positioned away from the movement range of the gripping mechanism when the gripping mechanism is positioned at the gripping position where the reaction tube can be gripped. Below the gripping mechanism when positioned at the open position for opening the reaction tube, a downward slope is formed toward the storage section. As a result, the throughput is improved while the stability is maintained when the cuvette is removed and discarded.

上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、或いは、特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit:ASIC)、プログラマブル論理デバイス(例えば、単純プログラマブル論理デバイス(Simple Programmable Logic Device:SPLD)、複合プログラマブル論理デバイス(Complex Programmable Logic Device:CPLD)、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ(Field Programmable Gate Array:FPGA)等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、記憶回路にプログラムを保存する代わりに、プロセッサの回路内にプログラムを直接組み込むよう構成しても構わない。この場合、プロセッサは回路内に組み込まれたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて1つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図1における複数の構成要素を1つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。 The term "processor" used in the above description is, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), or an application specific integrated circuit (ASIC), a programmable logic device (e.g., Circuits such as Simple Programmable Logic Device (SPLD), Complex Programmable Logic Device (CPLD), Field Programmable Gate Array (FPGA), etc. A processor is a memory circuit. The function is realized by reading and executing the program stored in.In addition, instead of storing the program in the memory circuit, it may be configured so that the program is directly incorporated in the circuit of the processor.In this case, the processor The function is realized by reading and executing the program embedded in the circuit.In addition, each processor in this embodiment is not limited to being configured as a single circuit for each processor, but may be configured as a plurality of independent circuits. 1 may be combined into one processor to implement its function, or a plurality of components in FIG.

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 It should be noted that although several embodiments of the invention have been described, these embodiments are provided by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and modifications can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, as well as the scope of the invention described in the claims and equivalents thereof.

1…自動分析装置
2…分析機構
3…解析回路
4…駆動機構
5…入力インタフェース
6…出力インタフェース
7…通信インタフェース
8…記憶回路
9…制御回路
10…キュベット供給機構
15…廃棄ボックス
16…抜去機構
51…反応ディスク
512…穴
52…分注ユニット
70…キュベット
71…胴体部
72…フランジ
73…上端
74…下端
91…システム制御機能
161…支持体
162…駆動部
163A,163B…駆動軸
164…支持部材
165…把持機構
166…ガイド機構
167…把持開放機構
168…搬送路
169,1655,1658A,1659A…軸部材
1651,1658…第1部材
1651A,1658B…第1把持部
1651B,1658C…第1伝達部
1651C…第1爪部
1651D…第1斜面
1652,1659…第2部材
1652A,1659B…第2把持部
1652B,1659C…第2伝達部
1652C…第2爪部
1652D…第2斜面
1655A,1671,1673A,1673B…突出部
1656…弾性部材
1661…ガイド部
1662,1663…側壁
1665…係合孔
1665A…第1直線部
1665B…第2直線部
1665C…第3直線部
1672A,1672B…斜面
1661A,1661B…平板
1661C…回転軸
1657…支持体
1674A,1674B…斜面
L1,L3…長さ
L2…外径
R1,R2…矢印
REFERENCE SIGNS LIST 1 automatic analyzer 2 analysis mechanism 3 analysis circuit 4 drive mechanism 5 input interface 6 output interface 7 communication interface 8 storage circuit 9 control circuit 10 cuvette supply mechanism 15 disposal box 16 withdrawal mechanism 51... Reaction disk 512... Hole 52... Dispensing unit 70... Cuvette 71... Body part 72... Flange 73... Upper end 74... Lower end 91... System control function 161... Support body 162... Drive parts 163A, 163B... Drive shaft 164... Support Member 165 Grasping mechanism 166 Guide mechanism 167 Grasping release mechanism 168 Conveyance paths 169, 1655, 1658A, 1659A Shaft members 1651, 1658 First members 1651A, 1658B First gripping portions 1651B, 1658C First transmission Part 1651C... First claw part 1651D... First slope 1652, 1659... Second member 1652A, 1659B... Second grip part 1652B, 1659C... Second transmission part 1652C... Second nail part 1652D... Second slope 1655A, 1671, 1673A, 1673B Projecting portion 1656 Elastic member 1661 Guide portion 1662, 1663 Side wall 1665 Engaging hole 1665A First straight portion 1665B Second straight portion 1665C Third straight portion 1672A, 1672B Slope 1661A, 1661B Flat plate 1661C Rotary shaft 1657 Supports 1674A, 1674B Inclined surfaces L1, L3 Length L2 Outer diameters R1, R2 Arrows

Claims (11)

試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する支持部と、
測定が終了した反応管を格納する格納部と、
前記反応管を把持する状態と前記反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能な把持機構と、
前記把持機構を上方に移動させる駆動部と、
前記把持機構の移動と共に、前記把持機構により把持された反応管の下方に移動するガイド部と、を有し、
前記ガイド部は、前記把持機構が前記反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する前記反応管の上側から離れた位置に位置し、前記把持機構が前記反応管を開放する開放位置に位置する場合に前記反応管の下側に位置して前記格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成することを特徴とする、自動分析装置。
a support for supporting a reaction tube holding a mixture of a sample and a reagent;
a storage unit for storing reaction tubes for which measurement has been completed;
a gripping mechanism capable of switching between a state of gripping the reaction tube and an open state of not gripping the reaction tube;
a driving unit that moves the gripping mechanism upward;
a guide portion that moves downward of the reaction tube gripped by the gripping mechanism along with the movement of the gripping mechanism;
The guide part is located at a position away from the upper side of the reaction tube that is gripped when the gripping mechanism is positioned at a gripping position where the reaction tube can be gripped, and is an open position where the gripping mechanism releases the reaction tube. , forming an inclined surface that is positioned below the reaction tube and directed downward toward the storage unit.
上方向に前記把持機構が移動するにつれて、前記ガイド部を移動させるカム機構をさらに備える、
請求項1に記載の自動分析装置。
further comprising a cam mechanism for moving the guide portion as the gripping mechanism moves upward;
The automatic analyzer according to claim 1.
前記ガイド部は、回転軸を中心として回転可能であり、
前記カム機構は、上方向に前記把持機構が移動するにつれて、前記回転軸を中心として前記ガイド部を回転させる、
請求項2に記載の自動分析装置。
The guide portion is rotatable around a rotation axis,
The cam mechanism rotates the guide part about the rotation axis as the gripping mechanism moves upward.
The automatic analyzer according to claim 2.
前記カム機構は、
前記ガイド部に設けられた係合孔と、
前記把持機構に設けられ、前記係合孔と係合し、前記係合孔と係合した状態で前記係合孔の内部を移動することにより、前記ガイド部を回転させる突出部と、
を備える、
請求項3に記載の自動分析装置。
The cam mechanism is
an engagement hole provided in the guide portion;
a projecting portion provided in the gripping mechanism, engaging with the engaging hole, and rotating the guide portion by moving inside the engaging hole in a state of being engaged with the engaging hole;
comprising
The automatic analyzer according to claim 3.
前記ガイド部は、鉛直方向及び鉛直方向に対して交差する方向について移動可能であり、
前記カム機構は、鉛直方向について前記把持機構が移動するにつれて、鉛直方向及び前記鉛直方向に対して交差する方向について前記ガイド部を移動させる、
請求項2に記載の自動分析装置。
The guide part is movable in a vertical direction and in a direction crossing the vertical direction,
The cam mechanism moves the guide portion in the vertical direction and in a direction crossing the vertical direction as the gripping mechanism moves in the vertical direction.
The automatic analyzer according to claim 2.
前記把持機構は、開閉可能な把持部を閉じさせる外力を前記把持部に付与する外力付与部を備える、
請求項1に記載の自動分析装置。
The gripping mechanism includes an external force applying unit that applies an external force to the gripping portion to close the openable and closable gripping portion.
The automatic analyzer according to claim 1.
前記把持機構は、開閉可能な把持部に設けられ、前記把持部の間に前記反応管が挿入されることにより前記反応管のフランジを下側から支持可能な爪部を備える、
請求項1に記載の自動分析装置。
The gripping mechanism is provided in a grip that can be opened and closed, and includes a claw portion that can support the flange of the reaction tube from below by inserting the reaction tube between the grips.
The automatic analyzer according to claim 1.
前記ガイド部は、前記ガイド部よりも上側の位置を中心とする円弧形状の曲面を有する、
請求項1に記載の自動分析装置。
The guide portion has an arc-shaped curved surface centered on a position above the guide portion,
The automatic analyzer according to claim 1.
前記ガイド部を有し、上側及び前記格納部に向かって開口する溝形状に形成され、前記溝形状の幅は、前記反応管の外径よりも大きく、かつ、前記反応管の長手方向についての長さよりも小さいガイド機構をさらに備える、
請求項1に記載の自動分析装置。
It has the guide part and is formed in a groove shape that opens toward the upper side and the storage part, the width of the groove shape is larger than the outer diameter of the reaction tube, and the length of the reaction tube in the longitudinal direction further comprising a guide mechanism smaller than the length,
The automatic analyzer according to claim 1.
前記把持機構よりも上側において、前記把持機構が前記開放位置に位置する場合に前記把持機構に当接することにより前記把持機構を開く把持開放機構をさらに備える、
請求項1に記載の自動分析装置。
Further comprising a gripping release mechanism above the gripping mechanism that opens the gripping mechanism by contacting the gripping mechanism when the gripping mechanism is positioned at the open position,
The automatic analyzer according to claim 1.
前記把持機構及び前記把持開放機構の一方は、前記把持機構及び前記把持開放機構の他方と当接することにより前記把持機構を開く又は閉じる斜面を備える、
請求項10に記載の自動分析装置。
one of the gripping mechanism and the gripping/releasing mechanism has an inclined surface that opens or closes the gripping mechanism by contacting the other of the gripping mechanism and the gripping/releasing mechanism;
The automatic analyzer according to claim 10.
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