JP7247016B2 - 自動分析装置 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、自動分析装置に関する。

臨床検査用の自動分析装置では、反応ディスクに挿入されたキュベット内で血液及び尿等の生体試料（以下、試料と称する）と試薬とを一定量混合して反応させ、この混合液に光を当てて得られる透過光又は散乱光の光量を測定する。これにより、測定対象物質の濃度、活性値、及び変化に掛かる時間等を求めている。測定が終了したキュベットは、例えば、１ハンドアームにより個別に抜去及び搬送され、廃棄される。

この種の自動分析装置は、単位時間当たりに測定される試料の数に相当するスループットを向上させる観点から、キュベットの抜去、搬送及び廃棄に係る動作を高速化させることが好ましい。しかしながら、自動分析装置は、前述した１ハンドアームを用いた抜去、搬送、廃棄といった動作の動作範囲が大きく、かつ、動作ステップも多くなるため、高速化が困難な状況にある。また、１ハンドアームの動作を無理に高速化すると、キュベットの姿勢が不安定となり、抜去及び廃棄の安定性に影響を及ぼす。

特開平１１－２２３６３３号公報

本発明が解決しようとする課題は、キュベットの抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることである。

実施形態に係る自動分析装置は、支持部と、格納部と、把持機構と、駆動部と、ガイド部とを備える。
支持部は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する。
格納部は、測定が終了した反応管を格納する。
把持機構は、前記反応管を把持する状態と前記反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能である。
駆動部は、前記把持機構を上方に移動させる。
ガイド部は、前記把持機構の移動と共に、前記把持機構により把持された反応管の下方に移動し、前記把持機構が前記反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する前記反応管の上側から離れた位置に位置し、前記把持機構が前記反応管を開放する開放位置に位置する場合に前記反応管の下側に位置して前記格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。

図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示すブロック図である。 図２は、第１の実施形態に係る自動分析装置の構成の一例を示す模式図である。 図３は、第１の実施形態に係る自動分析装置に用いられる反応管の構成の一例を示す模式図である。 図４は、第１の実施形態に係る自動分析装置における反応ディスクの構成の一例を示す模式図である。 図５は、第１の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を説明するための正面図である。 図６は、第１の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の一例を説明するための側面図である。 図７は、第１の実施形態に係る自動分析装置における把持機構の構成の一例を、把持機構が閉じた状態で示す模式図である。 図８は、第１の実施形態に係る自動分析装置における把持機構の構成の一例を、把持機構が開いた状態で示す模式図である。 図９は、第１の実施形態に係る自動分析装置におけるガイド機構の構成及び把持機構とガイド機構との連結構造を説明するための斜視図である。 図１０は、第１の実施形態に係る自動分析装置におけるガイド機構の構成の一例を説明するための正面図である。 図１１は、第１の実施形態に係る自動分析装置において抜去及び廃棄動作が開始する前の状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。 図１２は、第１の実施形態に係る自動分析装置において把持位置において把持機構が反応管を把持した状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。 図１３は、第１の実施形態に係る自動分析装置において反応管を把持した把持機構が上側へ移動する様子を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。 図１４は、第１の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構をガイド機構がガイド状態で示す正面図である。 図１５は、第１の実施形態に係る自動分析装置において反応管を把持した把持機構が開放位置に到達した状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。 図１６は、第２の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の内部構成を把持機構が開放位置に位置する状態で示す模式図である。 図１７は、第３の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を示す模式図である。 図１８は、第４の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構の構成の一例を示す模式図である。 図１９は、第５の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構を把持機構が閉じた状態で示す模式図である。 図２０は、第５の実施形態に係る自動分析装置における抜去機構を把持機構が開いた状態で示す模式図である。

以下、図面を参照して各実施形態について説明する。

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る自動分析装置１の機能構成を示すブロック図である。自動分析装置１は、キュベット７０に挿入された試料と試薬との反応に関する指標を測定し、測定した指標に基づいて試料の物性値を算出する。キュベット７０は、反応管の一例である。

図１に示される自動分析装置１は、分析機構２、解析回路３、駆動機構４、入力インタフェース５、出力インタフェース６、通信インタフェース７、記憶回路８、制御回路９、キュベット供給機構１０、廃棄ボックス１５、及び抜去機構１６を備える。

分析機構２は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持し、反応管内の混合液に関する指標を測定する。分析機構２は、試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する支持部の一例である。

本実施形態では、分析機構２は、キュベット７０を支持可能で、キュベット７０を搬送し、キュベット７０に挿入された試料と試薬との混合液の物性値を測定する。分析機構２は、反応管保持装置の一例である。

分析機構２は、血液又は尿等の試料と、各検査項目で用いられる試薬とを混合する。また、分析機構２は、検査項目によっては、所定の倍率で希釈した標準液と、この検査項目で用いられる試薬とを混合する。分析機構２は、試料、又は標準液と、試薬との混合液の光学的な物性値を連続的に測定する。この測定により、例えば、透過光強度、又は吸光度、及び散乱光強度等が測定される。この測定により、標準試料の測定値である標準データ、及び試料の測定値である被検データが生成される。

解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ、及び被検データを解析することで、検量線データ、及び分析データを生成するプロセッサである。分析データは、例えば、血液の凝固能を示す指標値である。解析回路３は、例えば、記憶回路８から解析プログラムを読み出し、読み出した解析プログラムに従って標準データ、及び被検データを解析する。なお、解析回路３は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。

駆動機構４は、制御回路９の制御に従い、分析機構２を駆動させる。駆動機構４は、例えば、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。

入力インタフェース５は、例えば、操作者から、又は病院内ネットワークＮＷを介して、測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インタフェース５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インタフェース５は、制御回路９に接続され、操作者から入力される操作指示を電気信号へ変換し、電気信号を制御回路９へ出力する。なお、本明細書において入力インタフェース５はマウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路９へ出力する電気信号の処理回路も入力インタフェース５の例に含まれる。

出力インタフェース６は、制御回路９に接続され、制御回路９から供給される信号を出力する。出力インタフェース６は、例えば、表示回路、印刷回路、及び音声デバイス等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。音声デバイスは、例えば、スピーカ等を含む。なお、音声信号を外部へ出力する出力回路も音声デバイスに含まれる。

通信インタフェース７は、例えば、病院内ネットワークＮＷと接続する。通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷを介してＨＩＳ（Hospital Information System）とデータ通信を行う。なお、通信インタフェース７は、病院内ネットワークＮＷと接続する検査部門システム（Laboratory Information System:ＬＩＳ）を介してＨＩＳとデータ通信を行っても構わない。

記憶回路８は、磁気的、若しくは光学的記憶媒体、又は半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記憶媒体等を含む。なお、記憶回路８は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路８は、複数の記憶装置により実現されても構わない。

記憶回路８は、解析回路３で実行される解析プログラム、及び制御回路９に備わる機能を実現するための制御プログラムを記憶している。記憶回路８は、解析回路３により生成される検量データを検査項目毎に記憶する。記憶回路８は、解析回路３により生成される分析データを試料毎に記憶する。記憶回路８は、操作者から入力された検査オーダ、又は通信インタフェース７が病院内ネットワークＮＷを介して受信した検査オーダを記憶する。

制御回路９は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路９は、記憶回路８に記憶されているプログラムを実行することで、実行したプログラムに対応する機能を実現する。なお、制御回路９は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えても構わない。

システム制御機能９１は、入力インタフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。例えば、システム制御機能９１において制御回路９は、検査を迅速に行うようにキュベット供給機構１０、駆動機構４及び分析機構２を制御すると共に、検査項目に応じた解析を実施するように解析回路３を制御する。

キュベット供給機構１０は、分析機構２へキュベット７０を供給する。

廃棄ボックス１５は、分析機構２において測定が終了したキュベット７０を格納する。廃棄ボックス１５は、格納部の一例である。

抜去機構１６は、分析機構２において後述の測光ユニットによる測定が終了したキュベット７０を分析機構２から抜去し、廃棄ボックス１５へ投入する。抜去機構１６は、自動分析装置１の内部において、分析機構２の上側から廃棄ボックス１５の上側に渡って配置される。

なお、本実施形態では、水平面内で分析機構２に対して廃棄ボックス１５が配置される最短距離の方向をＸ軸方向と定義する。また、Ｘ軸方向に直交し、床面に対し水平である軸方向をＹ軸方向と定義する。そして、Ｘ軸方向に直交し、床面に対して垂直である軸方向をＺ軸方向と定義する。Ｚ軸方向は、鉛直方向と略一致する。また、Ｘ軸方向のうち、分析機構２から廃棄ボックス１５へ向かう側を廃棄側と定義する。抜去機構１６は、分析機構２において測定が終了したキュベット７０を、分析機構２からＸ軸方向について上側へ抜去し、Ｘ軸方向について廃棄側へ搬送し、廃棄ボックス１５へ投入する。

図２は、自動分析装置１の構成の一例を示す模式図である。分析機構２は、反応ディスク５１及び分注ユニット５２を備える。

反応ディスク５１は、複数のキュベット７０を保持可能で、保持した複数のキュベット７０を所定の経路に沿って搬送する。

分注ユニット５２は、反応ディスク５１に保持されたキュベット７０に試料及び試薬を分注する。キュベット７０に試料及び試薬が分注されることにより、キュベット７０に試料及び試薬の混合液が投入される。

反応ディスク５１は、キュベット７０を保持した状態で、分注ユニット５２による試料及び試薬の分注が可能な位置にキュベット７０を搬送する。そして、反応ディスク５１は、試料及び試薬が分注されたキュベット７０を保持した状態で、後述の測光ユニットによりキュベット７０毎に光量が測定される。光量の測定が完了したキュベット７０は、抜去機構１６により、反応ディスク５１から取り出されるとともに廃棄ボックス１５へ搬送される。

本実施形態では、反応ディスク５１は、Ｚ軸方向に平行な回転軸を中心として回転可能な円板状の部材である。反応ディスク５１には、複数の穴５１２を備える。複数の穴５１２は、反応ディスクの周方向に沿って並べて配置されている。複数の穴５１２のそれぞれは、反応ディスク５１において径方向外側から径方向内側に向かって凹んだ溝であり、反応ディスク５１の径方向に沿って延設されている。複数の穴５１２のそれぞれは、１つのキュベット７０を保持可能である。反応ディスク５１は、キュベット７０を保持した状態で回転することにより、キュベット７０を搬送する。反応ディスク５１は、例えば、駆動機構４により、既定の時間間隔で回転と停止とが交互に繰り返されることで、キュベット７０を搬送する。

なお、回転可能な円板状の反応ディスク５１に代えて、キュベット７０を保持する部材として、並列に移動可能な長方形状の反応ラックを用いてもよい。

複数の穴５１２のそれぞれは、反応ディスク５１の周方向に沿って形成されている。キュベット供給機構１０によって分析機構２へキュベット７０が供給されることにより、反応ディスク５１の穴５１２へキュベット７０が挿入され、穴５１２においてキュベット７０が支持される。複数の穴５１２に配置された複数のキュベット７０は、環状に配列される。

ここで、自動分析装置１で用いられるキュベット７０について説明する。図３は、キュベット７０の構成の一例を示す模式図である。

キュベット７０は、試料、試薬、又はこれらの混合液を保持可能に形成される容器である。キュベット７０は、例えば、上面が開口した有底円筒状の部材である。キュベット７０は、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）又はアクリルから成り、一体成形により作成されている。

キュベット７０は、胴体部７１と、フランジ７２を有する。胴体部７１は、上面が開口した有底筒状の部材である。胴体部７１は、例えば、有底円筒状の部材である。胴体部７１は、筒状部位に複数の測光部位を有する。複数の測光部位のそれぞれは、平面である。複数の測光部位のそれぞれは、測定ユニットからの光が照射される部位である。胴体部７１には、例えば、測光部位が４つ設けられる。胴体部７１の上端７３には、開口が形成されている。

フランジ７２は、円環状の部材である。フランジ７２の中央部には、フランジ７２の上面から下面に亘って孔が形成されている。上端７３に形成された開口からキュベット７０内部に挿入された試料又は試薬は、フランジ７２に形成された孔を通って、胴体部７１の内部に挿入される。フランジ７２の外径は、胴体部７１の外径よりも大きい。

フランジ７２の外径Ｌ２は、キュベット７０の外径となる。上端７３と下端７４との間の長さＬ１は、長手方向についてのキュベット７０の寸法となる。上端７３と下端７４との間の長さＬ１は、例えば、約３ｃｍである。フランジ７２の外径Ｌ２は、上端７３と下端７４との間の長さＬ１よりも小さい。

図４は、反応ディスク５１の構成の一例を示す模式図である。

反応ディスク５１に設けられた複数の穴５１２のそれぞれの径方向についての長さは、キュベット７０の外径Ｌ２よりも大きい。また、複数の穴５１２のそれぞれでは、反応ディスク５１の周方向についての長さ（幅）は、キュベット７０の胴体部７１の外径よりも大きく、かつ、キュベット７０のフランジ７２の外径（Ｌ２）よりも小さい。したがって、穴５１２にキュベット７０が挿入された状態では、キュベット７０のフランジ７２が上側から穴５１２の縁に載置されることによりキュベット７０が反応ディスク５１に支持される。また、穴５１２では、支持されたキュベット７０に対して反応ディスク５１の径方向外側及び径方向内側の両側に隙間が形成される。

複数の穴５１２のそれぞれには、測光ユニットが設けられる。例えば、測光ユニットは、反応ディスク５１に設けられた穴５１２の数、すなわち、反応ディスク５１で保持可能なキュベット７０の数と同数だけ設けられる。各々の測光ユニットは、例えば、反応ディスク５１で環状に保持されるキュベット７０の環状中心側（内周側）に配置される光源と、キュベット７０の環状外側（外周側）に配置される第１の光検出器（透過光検出器）とを有している。各々の測光ユニットは、キュベット７０の側方に第２の光検出器（散乱光検出器）を更に有してもよい。光源は、キュベット７０が配列されている環の外側へ向けて光を照射する。第１の光検出器は、キュベット７０内の標準液と試薬との混合液を透過した光を検出する。第１の光検出器は、検出した光を所定の時間間隔、例えば、０．１秒間隔でサンプリングし、透過光強度、又は吸光度等で表される標準データを生成する。第２の光検出器は、例えば、光源の光の照射軸と、第１の光検出器の受光軸とがキュベット７０内において略９０度で交わるように、設けられる。光源から出射された光は、キュベット７０の内部に入射され、キュベット７０の内部に投入された混合液内の粒子により散乱された後、キュベット７０の側壁から出射される。第２の光検出器は、キュベット７０内の標準液と試薬との混合液で散乱された光を検出する。第２の光検出器は、検出した光を所定の時間間隔、例えば、０．１秒間隔でサンプリングし、散乱光強度等で表される標準データを生成する。いずれにしても、反応ディスク５１においては、穴５１２のそれぞれにおいて、試料及び試薬の混合液が挿入されたキュベット７０に光が照射され、混合液及びキュベット７０を透過した光の光量が測定される。例えば、臨床検査用の自動分析装置１の場合には、試料として、血液や尿などの生体試料が投入される。そして、測定された光量に基づいて、分析機構２により、試料の定量分析が行われる。例えば、分析機構２により、測定対象物質の濃度や活性値、又は、変化に要する時間などが分析される。

次に、抜去機構１６について説明する。図５及び図６は、抜去機構１６の構成の一例を示す模式図である。図５は、抜去機構１６をＹ軸方向について一方側から視た正面図である。図６は、抜去機構１６をＸ軸方向について廃棄側から視た側面図である。

抜去機構１６は、支持体１６１と、駆動部１６２と、駆動軸１６３Ａと、駆動軸１６３Ｂと、支持部材１６４と、把持機構１６５と、ガイド機構１６６と、把持開放機構１６７と、搬送路１６８と、軸部材１６９とを備える。

支持体１６１は、自動分析装置１の内部に設置され、抜去機構１６の各構成部材を支持する。

駆動部１６２は、支持体１６１に取り付けられている。駆動部１６２は、モータ及びアクチュエータなどの駆動機構を備える。駆動部１６２の駆動は、例えば、制御回路９によって制御され、駆動軸１６３Ａの中心軸を回転中心にして当該駆動軸１６３Ａを回転させる。駆動部１６２は、制御回路９からの指示に基づいて、支持部材１６４及び把持機構１６５を、Ｚ軸方向に沿って移動させる。すなわち、駆動部１６２は、把持機構１６５を上方に移動させる。

駆動軸１６３Ａ及び駆動軸１６３Ｂは、支持体１６１に取り付けられている。駆動軸１６３Ａ及び駆動軸１６３Ｂは、Ｚ軸方向に平行に延設された柱状の部材である。

支持部材１６４は、駆動軸１６３Ａ及び駆動軸１６３Ｂに取り付けられている。支持部材１６４は、駆動部１６２の駆動により、支持体１６１、駆動軸１６３Ａ及び駆動軸１６３Ｂに対して、Ｚ軸方向について移動可能である。例えば、支持部材１６４は、駆動軸１６３Ａに螺合され、駆動軸１６３Ｂに摺動可能に取り付けられ、駆動部１６２により回転する駆動軸１６３Ａに応じて、駆動軸１６３Ｂに沿って鉛直方向に移動可能としてもよい。この場合、駆動軸１６３Ｂは、駆動されていないため、ガイド軸と呼んでもよい。

把持機構１６５は、支持部材１６４に支持されている。把持機構１６５は、支持部材１６４とともに、支持体１６１、駆動軸１６３Ａ及び駆動軸１６３Ｂに対して、Ｚ軸方向に沿って移動する。把持機構１６５は、分析機構２の反応ディスク５１の穴５１２の真上に配置される。把持機構１６５の移動軸は、Ｚ軸方向に対して平行である。把持機構１６５は、分析機構２の一部に上側から接近可能及び離反可能である。把持機構１６５は、後述する開閉可能な把持部を有し、把持部の間で反応ディスク５１の穴５１２に挿入されたキュベット７０を把持可能である。

また、把持機構１６５は、反応ディスク５１の穴５１２の上方においてＺ軸方向に沿って移動することにより、待機位置と、反応ディスク５１の穴５１２に挿入されたキュベット７０を把持可能な把持位置と、動作開始位置と、把持したキュベット７０を開放する開放位置との間で移動する。すなわち、把持機構１６５は、反応管を把持する状態と反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能である。把持位置は、例えば、把持機構１６５のＺ軸方向の移動範囲のうち、最下端に位置する。開放位置は、例えば、把持機構１６５のＺ軸方向の移動範囲のうち、最上端に位置する。待機位置は、例えば、把持位置より僅かに上方の位置であり、反応ディスク５１に保持されたキュベット７０の頂部に把持機構１６５が接触しない位置でもある。動作開始位置は、例えば、待機位置と開放位置との間の略中央の位置であり、適宜、設定可能である。把持機構１６５の具体的構成については、後述する。

ガイド機構１６６は、支持体１６１に支持されている。ガイド機構１６６は、把持機構１６５から解放されたキュベット７０を、廃棄ボックス１５へ向けて搬送する。ガイド機構１６６は、後述するガイド部１６６１よりも上側の位置で支持体１６１の上部側に設けられた軸部材１６９を介して、支持体１６１に対して回動可能に取り付けられている。軸部材１６９は、Ｙ軸方向に平行に延設されている。すなわち、ガイド機構１６６は、軸部材１６９に吊り下げて設けられ、Ｙ軸方向の軸部材１６９まわりに回動可能である。

また、ガイド機構１６６は、把持機構１６５がＺ軸方向について移動するとともに、軸部材１６９を中心として回動し、非ガイド状態とガイド状態との間で変化する。非ガイド状態は、把持位置から上側への把持機構１６５の移動をガイド機構１６６が遮らない状態であり、例えば、軸部材１６９とガイド機構１６６の下端とを結ぶ直線が略鉛直方向に沿っている状態である。非ガイド状態では、ガイド機構１６６は、把持機構１６５の移動範囲から離れた位置に位置する。ガイド状態は、開放位置の把持機構１６５と反応ディスク５１との間をガイド機構１６６が遮る状態であり、例えば、軸部材１６９とガイド機構１６６の下端とを結ぶ直線が略鉛直方向とは斜めに交わる状態である。ガイド機構１６６の具体的構成については、後述する。

把持開放機構１６７は、把持機構１６５よりもＺ軸方向について上側において、支持体１６１に支持されている。把持開放機構１６７は、キュベット７０を把持した把持機構１６５に開放位置において当接することにより、把持機構１６５に把持されたキュベット７０を把持機構１６５から落下させる。

搬送路１６８は、Ｘ軸方向についてガイド機構１６６よりも廃棄側へ設けられている。搬送路１６８は、ガイド状態のガイド機構１６６によって搬送されたキュベット７０を廃棄ボックス１５へ向けて通過させる管路である。搬送路１６８が設けられることにより、廃棄ボックス１５へ向けて搬送されたキュベット７０が廃棄ボックス１５へ確実に搬送される。

図７乃至図８を参照して、把持機構１６５の構成及び動作について説明する。図７は、把持機構１６５の構成の一例を、把持機構１６５が閉じた状態で示す模式図である。図８は、把持機構１６５の構成の一例を、把持機構１６５が開いた状態で示す模式図である。

本実施形態では、把持機構１６５は、第１部材１６５１と、第２部材１６５２と、軸部材１６５５と、弾性部材１６５６とを備える。第１部材１６５１は、軸部材１６５５を介して、第２部材１６５２に対して連結されており、軸部材１６５５を中心として第２部材１６５２に対して回転可能である。軸部材１６５５は、Ｙ軸方向に対して平行である。軸部材１６５５は、第１部材１６５１の中央位置と第２部材１６５２の中央位置とを連結している。

第１部材１６５１は、第１部材１６５１において軸部材１６５５との連結部よりも下側に設けられる第１把持部１６５１Ａと、第１部材１６５１において軸部材１６５５との連結部よりも上側に設けられる第１伝達部１６５１Ｂとを備える。また、第２部材１６５２は、第２部材１６５２において軸部材１６５５との連結部よりも下側に設けられる第２把持部１６５２Ａと、第２部材１６５２において軸部材１６５５との連結部よりも上側に設けられる第２伝達部１６５２Ｂとを備える。

第１部材１６５１及び第２部材１６５２の間が軸部材１６５５を中心として回転することにより、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間、及び、第１伝達部１６５１Ｂと第２伝達部１６５２Ｂとの間が、開く又は閉じる。

例えば、第１伝達部１６５１Ｂと第２伝達部１６５２Ｂとの間が開いた状態から閉じることにより、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間が開いた状態から閉じる。また、第１伝達部１６５１Ｂと第２伝達部１６５２Ｂとの間が閉じた状態から開くことにより、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間が閉じた状態から開く。

弾性部材１６５６は、例えば、バネである。弾性部材１６５６は、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間に設けられている。弾性部材１６５６の一端は、第１把持部１６５１Ａに接続され、弾性部材１６５６の他端は、第２把持部１６５２Ａに接続されている。弾性部材１６５６は、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間が開いた状態において、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間が閉じる方向への外力を、第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａに付与する。したがって、弾性部材１６５６による外力以外の外力が付与されていない状態では、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａとの間は閉じた状態となる。弾性部材１６５６は、把持機構１６５の把持部を閉じさせる外力を付与する外力付与部の一例である。

第１把持部１６５１Ａの下端には、第１爪部１６５１Ｃが設けられている。第２把持部１６５２Ａの下端には、第２爪部１６５２Ｃが設けられている。第１爪部１６５１Ｃは、第２把持部１６５２Ａに向かって突出している。第２爪部１６５２Ｃは、第１把持部１６５１Ａに向かって突出している。

第１伝達部１６５１Ｂの上端には、第１斜面１６５１Ｄが設けられている。第２伝達部１６５２Ｂの上端には、第２斜面１６５２Ｄが設けられている。第１斜面１６５１Ｄは、Ｘ軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Ｚ軸方向について上側を向いている。斜面１６５２Ｄは、Ｘ軸方向について廃棄側を向き、かつ、Ｚ軸方向について上側を向いている。斜面１６５１Ｄ及び斜面１６５２Ｄは、対向している。

軸部材１６５５は、Ｙ軸方向について係合孔１６６５が位置する側へ突出する突出部１６５５Ａを備える。

図９乃至図１０を参照して、ガイド機構１６６の構成について説明する。図９は、把持機構１６５及びガイド機構１６６の構成の一例を示す斜視図である。図１０は、ガイド機構１６６の構成の一例を説明するための正面図である。図１０は、ガイド機構１６６をＹ軸方向について一方側から視た図である。

ガイド機構１６６は、ガイド機構１６６に対して上側へ位置する点を中心とする円弧形状に延びる溝形状に形成されている。円弧形状は、反応ディスク５１とは反対側に向けて凸状となっている。溝形状は、例えば、略Ｕ字状の断面形状を有している。言い換えると、ガイド機構１６６は、廃棄側及び上側に向かって開口している。ガイド機構１６６は、円弧形状の中心に向かって開口している。

ガイド機構１６６は、ガイド部１６６１、側壁１６６２、及び側壁１６６３を備える。ガイド部１６６１は、側壁１６６２及び側壁１６６３の間に設けられている。ガイド部１６６１、ガイド機構１６６によって形成される溝の底面を形成している。側壁１６６２及び側壁１６６３は、ガイド機構１６６によって形成される溝の側面を形成している。

ガイド部１６６１は、円弧形状に形成された曲板である。ガイド部１６６１は、廃棄側及び上側を向く円弧形状の曲面を有する。ガイド部１６６１は、Ｙ軸方向について、把持機構１６５の移動軸を含む範囲に位置する。ガイド部１６６１は、ガイド部１６６１よりも上側の位置を中心とする円弧形状である。

側壁１６６２及び側壁１６６３は、ガイド機構１６６のＸ軸方向及びＺ軸方向に対して平行な平板である。側壁１６６２は、Ｙ軸方向について、ガイド部１６６１よりも手前側に位置する。側壁１６６３は、Ｙ軸方向について、ガイド部１６６１よりも奥側に位置する。したがって、側壁１６６２は、把持機構１６５に対してＹ軸方向の一方側（図５における紙面手前側）に位置する。側壁１６６３は、把持機構１６５に対してＹ軸方向の他方側（図５における紙面奥側）に位置する。

Ｙ軸方向についての側壁１６６２及び側壁１６６３の間の長さＬ３は、キュベット７０の外径（Ｌ２）よりも大きく、キュベット７０の長手方向の長さ（Ｌ１）よりも小さい。ガイド機構１６６が形成する溝の幅は、Ｙ軸方向についての側壁１６６２及び側壁１６６３の間の長さＬ３である。したがって、ガイド機構１６６が形成する溝の幅（Ｌ３）は、キュベット７０の幅よりも大きく、キュベット７０の高さよりも小さい。したがって、キュベット７０を把持した把持機構１６５が標準位置よりもＺ軸方向について上側に位置する状態では、把持機構１６５に把持されたキュベット７０は、側壁１６６２及び側壁１６６３の間に配置される。

側壁１６６２には、係合孔１６６５が設けられている。係合孔１６６５は、側壁１６６２を、Ｙ軸方向について貫通している。係合孔１６６５は、非ガイド状態のガイド機構１６６において、Ｚ軸方向について上側から下側に向かって延設されている。係合孔１６６５には、把持機構１６５の突出部１６５５Ａが係合している。

係合孔１６６５は、第１直線部１６６５Ａと、第２直線部１６６５Ｂと、第３直線部１６６５Ｃとを備える。

第１直線部１６６５Ａは、係合孔１６６５において下側に設けられる。第１直線部１６６５Aの延設方向は、ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合、Ｚ軸方向に対して略平行になる。

第２直線部１６６５Ｂは、第１直線部１６６５Ａに対してＺ軸方向について上側において、第１直線部１６６５Ａと連続している。第２直線部１６６５Ｂは、第１直線部１６６５Ａに対してＸ軸方向について傾斜している。第１直線部１６６５Ａと第２直線部１６６５Ｂとの境界位置は、Ｚ軸方向について把持機構１６５の動作開始位置と略同じ位置である。第２直線部１６６５Ｂは、ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合において、下側から上側に向かうにつれて廃棄ボックス１５が位置する側とは反対側へ向かう状態に形成されている。

第３直線部１６６５Ｃは、係合孔１６６５においてＺ軸方向について上側に設けられる。第３直線部１６６５Ｃは、第２直線部１６６５Ｂに対してＺ軸方向について上側において、第２直線部１６６５Ｂと連続している。第３直線部１６６５Ｃは、第２直線部１６６５Ｂに対してＸ軸方向について傾斜している。第３直線部１６６５Ｃの延設方向は、ガイド機構１６６がガイド状態である場合、Ｚ軸方向に対して略平行になる。

突出部１６５５Ａは、把持機構１６５がＺ軸方向について移動することにより、係合孔１６６５に係合した状態で、係合孔１６６５の内部をＺ軸方向について移動する。突出部１６５５Ａは、係合孔１６６５に係合した状態で係合孔１６６５の内部を移動することにより、係合孔１６６５の縁を介してガイド機構１６６を押圧する。ガイド機構１６６は、係合孔１６６５を介して押圧されることにより、支持体１６１に対して軸部材１６９を中心として回動する。補足すると、図１０において、係合孔１６６５は、側壁１６６２の左側に形成されている。軸部材１６９は、側壁１６６２の右上隅に形成されている。従って、突出部１６５５Ａが係合孔１６６５の第２直線部１６６５Ｂを上方に移動すると共に、軸部材１６９を固定した状態で突出部１６５５Ａが第２直線部１６６５Ｂの縁を持ち上げることにより、軸部材１６９を中心にガイド機構１６６が回動する。

本実施形態では、把持機構１６５に設けられる突出部１６５５Ａと、ガイド機構１６６に設けられる係合孔１６６５とが、把持機構１６５を支持体１６１に対して移動させる駆動力を、ガイド機構１６６を支持体１６１に対して移動させる駆動力に変換するカム機構として機能する。本実施形態では、カム機構は、鉛直方向について把持機構１６５が支持体１６１に対して移動するにつれて、ガイド機構１６６のガイド部１６６１を支持体１６１に対して軸部材１６９を中心として回動させる連結機構の一例である。

次に、図１１を参照して、把持開放機構１６７について説明する。図１１は、抜去機構１６がキュベット７０の抜去及び廃棄動作を開始する前の状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。図１１は、Ｙ軸方向について図５とは反対側から抜去機構１６を視た図である。把持開放機構１６７は、下側に向かって突出する突出部１６７１と、突出部１６７１の下端に設けられる斜面１６７２Ａ及び斜面１６７２Ｂを備える。Ｘ軸方向についての突出部１６７１の長さは、把持機構１６５が閉じた状態における、第１部材１６５１の第１斜面１６５１Ｄと第２部材１６５２の第２斜面１６５２Ｄとの間の距離Ｌ４よりも大きい。また、突出部１６７１の斜面１６７２Ａは、Ｚ軸方向について第１部材１６５１の斜面１６５１Ｄの真上に位置し、突出部１６７１の斜面１６７２Ｂは、Ｚ軸方向について第２部材１６５２の斜面１６５２Ｄの真上に位置する。

斜面１６７２Ａは、突出部１６７１においてＸ軸方向について廃棄側の端部に設けられている。斜面１６７２Ａは、Ｘ軸方向について廃棄側を向き、かつ、Ｚ軸方向について下側を向いている。斜面１６７２Ｂは、突出部１６７１においてＸ軸方向について廃棄側とは反対側の端部に設けられている。斜面１６７２Ｂは、Ｘ軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Ｚ軸方向について下側を向いている。斜面１６７２Ａ及び斜面１６７２Ｂは、Ｘ軸方向について反対側を向いている。

次に、図１１乃至図１５を参照して、以上のように構成された自動分析装置１の動作について説明する。なお、以下の説明は、主に、抜去機構１６による、測定が終了したキュベット７０の抜去及び廃棄における機械的な動作について述べる。

分析機構２によるキュベット７０内の混合液の測定が終了すると、測定が終了したキュベット７０が、抜去機構１６が配置される位置（抜去位置）へ搬送される。この際、反応ディスク５１が回転することにより、抜去機構１６の把持機構１６５の真下に、測定が終了したキュベット７０が移動する。キュベット７０の抜去位置への搬送は、例えば、制御回路９による駆動機構４の駆動制御によって行われる。

測定が終了したキュベット７０が抜去機構１６の把持機構１６５の真下に移動すると、抜去機構１６は、抜去及び廃棄動作を開始する。

図１１に示すように、抜去及び廃棄動作が開始される前の状態では、把持機構１６５は待機位置に位置する。このとき、ガイド機構１６６は、非ガイド状態となる。また、把持機構１６５の突出部１６５５Ａは、ガイド機構１６６の係合孔１６６５において、第１直線部１６６５Ａに位置する。

待機位置に把持機構１６５が位置する状態では、把持機構１６５の下端が反応ディスク５１よりも僅かに上側に位置する。したがって、把持機構１６５が待機位置に位置する状態では、把持機構１６５が反応ディスク５１に接触することなく、反応ディスク５１が回転可能である。

ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合、ガイド機構１６６は、Ｘ軸方向について、把持機構１６５の移動軸よりも廃棄側とは反対側に位置する。したがって、ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は、把持機構１６５の真下には位置しない。また、ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合、ガイド機構１６６の係合孔１６６５の第１直線部１６６５Ａ及び第３直線部１６６５Ｃが、Ｚ軸方向と平行になる。

抜去機構１６が抜去及び廃棄動作を開始すると、把持機構１６５が下側へ移動し、把持位置まで移動する。この際、把持機構１６５の突出部１６５５Ａは、ガイド機構１６６の係合孔１６６５の第１直線部１６６５Ａ内を移動する。以下、Ｚ軸方向についての把持機構１６５の移動は、制御回路９による駆動部１６２の駆動制御によって行われる。

把持位置は、把持機構１６５によって反応ディスク５１内のキュベット７０を把持可能な位置である。待機位置は、把持位置よりも僅かに上側に位置する。図１２は、把持機構１６５が把持位置においてキュベット７０を把持した状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。図１２は、Ｙ軸方向について図５とは反対側から抜去機構１６を視た図である。

把持位置に把持機構１６５が位置する状態では、把持機構１６５の下端が、反応ディスク５１の穴５１２の縁とキュベット７０の間の隙間に上側から挿入される。そして、把持機構１６５の第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間に、キュベット７０が下側から挿入される。把持機構１６５の第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間にキュベット７０が下側から挿入されることにより、第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間が開く。そして、キュベット７０のフランジ７２が把持機構１６５の第１爪部１６５１Ｃ及び第２爪部１６５２ＣよりもＺ軸方向について上側まで挿入されると、弾性部材１６５６から作用する弾性力によって第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間が閉じる。これにより、把持機構１６５の第１爪部１６５１Ｃ及び第２爪部１６５２Ｃによってキュベット７０のフランジ７２が下側から支持され、把持機構１６５によってキュベット７０が把持される。

把持位置に移動した後、把持機構１６５は、キュベット７０を把持した状態で上側へ移動する。この際、把持機構１６５の突出部１６５５Ａは、ガイド機構１６６の係合孔１６６５の第１直線部１６６５Ａ内を移動する。図１３は、キュベット７０を把持した把持機構１６５が上側へ移動する様子を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。図１３は、Ｙ軸方向について図５とは反対側から抜去機構１６を視た図である。

把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第２直線部１６６５Ｂ内に進入した状態で、把持機構１６５が上側へ移動すると、把持機構１６５の突出部１６５５Ａによって、ガイド機構１６６の係合孔１６６５の縁が、廃棄側及び上側へ押圧される。このため、把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第２直線部１６６５Ｂ内に進入した状態では、ガイド機構１６６は、把持機構１６５が上側へ移動するにつれて、軸部材１６９を中心として、周方向の一方側（図１３の矢印Ｒ１側）へ回転する。矢印Ｒ１は、ガイド機構１６６の下端が廃棄側に設けられた搬送路１６８に近づく方向を示している。

把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第２直線部１６６５Ｂ内に到達する位置は、ガイド機構１６６の回転が開始する動作開始位置となる。把持機構１６５が動作開始位置に位置する状態では、把持機構１６５によって把持されたキュベット７０の下端７４は反応ディスク５１よりも上側に位置する。

把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第３直線部１６６５Ｃ内に到達すると、ガイド機構１６６は、ガイド状態となる。図１４は、抜去機構１６をガイド機構１６６がガイド状態である状態で示す正面図である。図１４は、Ｙ軸方向について一方側から視た図である。

ガイド機構１６６がガイド状態である場合、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は把持機構１６５の下側に移動し、ガイド部１６６１の下端は、Ｘ軸方向について、把持機構１６５よりも廃棄側へ移動する。したがって、ガイド機構１６６がガイド状態である場合、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は、Ｘ軸方向について、把持機構１６５の移動軸と交差する。ガイド機構１６６がガイド状態である場合、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は、把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下端７４よりも僅かに下側に位置し、Ｘ軸方向について廃棄側へ向かうにつれて下側に向かって傾斜する斜面を形成する。また、ガイド機構１６６がガイド状態である場合、係合孔１６６５の第３直線部１６６５Ｃは、Ｚ軸方向に対して平行になる。すなわち、ガイド部１６６１は、把持機構１６５の移動と共に、把持機構１６５により把持された反応管の下方に移動する。また、ガイド部１６６１は、把持機構１６５が反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する反応管の上側から離れた位置に位置し、把持機構１６５が反応管を開放する開放位置に位置する場合に反応管の下側に位置して格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。

把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第３直線部１６６５Ｃ内に進入した状態で、把持機構１６５が上側へ移動すると、把持機構１６５の突出部１６５５Ａは、ガイド機構１６６の係合孔１６６５の第３直線部１６６５Ｃ内を、上側へ移動する。

把持機構１６５が開放位置に到達すると、把持開放機構１６７が上側から把持機構１６５に当接し、把持開放機構１６７によって、把持機構１６５が開く。図１５は、キュベット７０を把持した把持機構１６５が開放位置に到達した状態を、図６のＡ－Ａ線断面で示す部分断面図である。図１５は、Ｙ軸方向について図１４とは反対側から抜去機構１６を視た図である。

把持機構１６５が開放位置に到達すると、把持開放機構１６７の斜面１６７２Ａが、把持機構１６５の第１斜面１６５１Ｄに上側から当接する。これにより、第１伝達部１６５１Ｂが把持開放機構１６７によって下側及び廃棄側へ押圧される。そして、第１伝達部１６５１Ｂが廃棄側へ移動するとともに、第１部材１６５１が軸部材１６５５を中心として回転し、第１把持部１６５１Ａが廃棄側とは反対側へ移動する。

また、把持機構１６５が開放位置に到達すると、把持開放機構１６７の斜面１６７２Ｂが、把持機構１６５の斜面１６５２Ｄに上側から当接する。これにより、第２伝達部１６５２Ｂが把持開放機構１６７によって下側及び廃棄側とは反対側へ押圧される。そして、第２伝達部１６５２Ｂが廃棄側とは反対側へ移動するとともに、第２部材１６５２が軸部材１６５５を中心として回転し、第２把持部１６５２Ａが廃棄側へ移動する。

したがって、把持機構１６５が下側から開放位置に到達すると、第１伝達部１６５１Ｂと第２伝達部１６５２Ｂの間が開くことにより、第１把持部１６５１Ａと第２把持部１６５２Ａの間が開く。そして、第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間が開くことにより、第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間で把持されたキュベット７０が把持機構１６５から解放される。把持機構１６５から解放されたキュベット７０は、下側へ落下する。

開放位置において把持機構１６５から解放されたキュベット７０は、下側に向かって落下する。この際、開放位置において把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下端７４よりも僅かに下側には、ガイド機構１６６のガイド部１６６１が位置する。このため、把持機構１６５から落下したキュベット７０は、ガイド機構１６６のガイド部１６６１に落下し、ガイド機構１６６のガイド部１６６１に沿って滑りながら廃棄側へ搬送される。

そして、ガイド機構１６６によって廃棄側へ搬送されたキュベット７０は、搬送路１６８を通って、廃棄ボックス１５へ搬送される。

把持機構１６５が開放位置へ到達した後、把持機構１６５は、下側へ移動する。この際、把持機構１６５の突出部１６５５Ａがガイド機構１６６の係合孔１６６５の第２直線部１６６５Ｂ内に進入した状態では、ガイド機構１６６は、把持機構１６５が下側へ移動するにつれて、軸部材１６９を中心として、周方向の他方側（図１３の矢印Ｒ２側）へ回転し、ガイド機構１６６はガイド状態から非ガイド状態へ変化する。把持機構１６５が待機位置に到達すると、把持機構１６５の移動は停止し、測定が終了した他のキュベット７０が再び廃棄位置へ移動するまで、待機位置において待機する。

次に、以上のように構成された自動分析装置１の効果について説明する。

本実施形態の自動分析装置１では、把持機構１６５が待機位置から下側へ移動することにより把持機構１６５によって測定が終了したキュベット７０が把持され、キュベット７０を把持した状態で把持機構１６５が上側へ移動することにより、キュベット７０が分析機構２から抜去される。また、キュベット７０を把持した状態で把持機構１６５が上側へ移動するとともに、ガイド機構１６６が回転し、ガイド機構１６６のガイド部１６６１が把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下側へ移動する。そして、開放位置において把持機構１６５から解放されたキュベット７０は、ガイド機構１６６によって廃棄ボックス１５へ搬送される。

例えば、本実施形態の自動分析装置１では、把持機構１６５に設けられた突出部１６５５Ａがガイド機構１６６に設けられた係合孔１６６５に係合することによって、把持機構１６５が鉛直方向について移動するにつれてガイド機構１６６を回転させる連結機構が形成される。

したがって、本実施形態の自動分析装置１によれば、測定が終了したキュベット７０の抜去及び廃棄を、１つのユニット（抜去機構１６）によって行うことができる。また、把持機構１６５をＺ軸方向について移動させることのみで、測定が終了したキュベット７０の抜去及び廃棄を行うことができるため、抜去機構１６は、把持機構１６５をＺ軸方向について移動させる駆動部１６２以外の駆動機構を設けることなく、実現される。例えば、駆動機構として設けられる１つのモータの正回転及び／又は逆回転のみで、キュベット７０の抜去動作及び廃棄動作を完結させることができる。このため、測定が終了したキュベット７０の抜去及び廃棄を１軸方向についての作動のみで行うことができるため、抜去及び廃棄を高速で行うことができ、また、抜去及び廃棄の安定性及び安定性が向上する。これにより、キュベット７０の抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることができる。

また、本実施形態では、把持機構１６５は、把持機構１６５の第１把持部１６５１Ａ及び第２把持部１６５２Ａの間を閉じさせる外力を付与する外力付与部として、弾性部材１６５６を備える。また、把持機構１６５は、キュベット７０を支持可能な第１爪部１６５１Ｃ及び第２爪部１６５２Ｃを備える、
したがって、本実施形態の自動分析装置１によれば、把持機構１６５が把持位置に移動することにより、分析機構２に保持されたキュベット７０が自動的に把持される。

また、本実施形態では、把持機構１６５は、把持位置よりも僅かに上側の待機位置において、待機する。したがって、キュベット７０の抜去動作において、キュベット７０の把持位置までの把持機構１６５の移動距離が小さくなり、キュベット７０の把持位置までの把持機構１６５の移動時間を短くすることができる。

また、本実施形態では、把持機構１６５が開放位置に位置する場合に把持機構１６５に当接することにより、把持機構１６５を開放させる把持開放機構１６７を備える。例えば、把持機構１６５及び把持開放機構１６７のそれぞれに斜面が形成され、把持開放機構１６７の斜面１６７２Ａ及び斜面１６７２Ｂによって把持機構１６５の斜面１６５１Ｄ及び斜面１６５２Ｄが押圧されることにより、把持機構１６５が開く。

したがって、本実施形態の自動分析装置１によれば、把持機構１６５が開放位置に移動することにより、把持機構１６５により把持されたキュベット７０が自動的に解放される。

また、本実施形態では、ガイド機構１６６のガイド部１６６１が把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下側へ移動した状態において、把持されたキュベット７０の下端７４よりも僅かに下側にガイド機構１６６のガイド部１６６１が位置する状態が維持される。

したがって、本実施形態の自動分析装置１によれば、開放位置において把持機構１６５から解放されたキュベット７０のガイド部１６６１への落下距離を小さくすることができる。これにより、キュベット７０が廃棄ボックス１５へ搬送される際のキュベット７０の姿勢の安定性が向上し、廃棄の安全性が向上する。

また、本実施形態では、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は、円弧形状の曲面を有する。

したがって、本実施形態の自動分析装置１によれば、ガイド部１６６１が直線形状に形成された場合に比べて、開放位置において把持機構１６５から解放されたキュベット７０がガイド部１６６１へ落下した際の衝撃を小さくすることができる。これにより、キュベット７０が廃棄ボックス１５へ搬送される際のキュベット７０の姿勢の安定性が向上し、廃棄の安全性が向上する。

また、本実施形態では、ガイド機構１６６が形成する溝の幅（Ｌ３）は、キュベット７０の外径（Ｌ２）よりも大きく、長手方向についてのキュベット７０の長さ（Ｌ１）よりも小さい。したがって、ガイド機構１６６が形成する溝の内部においてキュベット７０が廃棄ボックス１５へ搬送される際において、キュベット７０は、上端と下端が入れ替わるように回転することができない。このため、ガイド機構１６６は、キュベット７０の上端７３に設けられた開口が上側を向いた状態を維持したまま、廃棄ボックス１５へキュベット７０を搬送することができる。これにより、キュベット７０に挿入された混合液が、キュベット７０の開口を通して外部へ流出することを防止され、キュベット７０が廃棄ボックス１５へ搬送される際の安全性が向上する。

なお、本実施形態では、連結機構を構成する係合孔１６６５は、複数の直線部によって形成されているがこれに限るものではない。係合孔１６６５は、例えば、直線部と曲線部を組み合わせて形成されてもよい。

（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態に係る自動分析装置１について図１６を用いて説明する。前述した図面と同一部分については同一符号を付してその詳しい説明を省略し、ここでは、主に、異なる部分について述べる。以下の各実施形態についても同様に、重複した説明を省略する。

第２の実施形態は、第１の実施形態の変形例であり、第１の実施形態の抜去機構１６の構成を以下のように変形したものである。図１６は、抜去機構１６の内部構成を把持機構１６５が開放位置に位置する状態で示す模式図である。

本実施形態では、ガイド機構１６６のガイド部１６６１は、第１平板１６６１Ａと、第２平板１６６１Ｂとを有する。第１平板１６６１Ａ及び第２平板１６６１Ｂは、Ｚ軸方向について移動可能である。第１平板１６６１Ａは、Ｙ軸及びＺ軸方向に平行な平板である。第２平板１６６１Ｂは、第１平板１６６１Ａに対して下側に設けられている。第２平板１６６１Ｂは、把持機構１６５の移動軸に対して垂直なＹ軸方向に平行な回転軸１６６１Ｃを中心として、第１平板１６６１Ａに対して回転可能である。

連結機構は、Ｚ軸方向について把持機構１６５を移動させる駆動力を、Ｙ軸方向に平行な中心軸（回転軸１６６１Ｃ）を中心としてガイド機構１６６を回転させる駆動力、及び、移動軸に平行なＺ軸方向についてガイド機構１６６を移動させる駆動力に変換する。連結機構は、例えば、カム機構及びリンク機構を組み合わせることにより実現される。

他の構成は、第１の実施形態と同様である。

本実施形態では、ガイド機構１６６が非ガイド状態である場合、第１平板１６６１Ａ及び第２平板１６６１Ｂは、Ｚ軸方向に対して平行になり、Ｘ軸方向について把持機構１６５の移動軸よりも廃棄側とは反対側に位置する。

ガイド機構１６６がガイド状態である場合、第２平板１６６１Ｂは、第１平板１６６１Ａに対して傾斜し、Ｚ軸方向について上側から下側に向かうにつれてＸ軸方向について廃棄側とは反対側から廃棄側へ向かう状態となる。この状態では、第２平板１６６１Ｂは、Ｘ軸方向について把持機構１６５の移動軸を通る。

連結機構により、把持機構１６５が動作開始位置から開放位置へＺ軸方向について上側に向かって移動するにつれて、第２平板１６６１Ｂが第１平板１６６１Ａに対して回転し、ガイド機構１６６は非ガイド状態からガイド状態になる。ガイド状態では、第２平板１６６１Ｂは、Ｘ軸方向について把持機構１６５の移動軸と同じ位置において、把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下端７４よりもＺ軸方向について僅かに下側に位置する。

また、連結機構により、ガイド状態において把持機構１６５がＺ軸方向について上側に向かってさらに移動するにつれて、第１平板１６６１Ａ及び第２平板１６６１ＢがＺ軸方向について上側へ移動する。このため、ガイド状態では、把持機構１６５に把持されたキュベット７０が上側へ移動するにつれて、第２平板１６６１Ｂが把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下端７４よりもＺ軸方向について僅かに下側に位置する状態が維持される。

（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態に係る自動分析装置について図１７を用いて説明する。

第３の実施形態は、第１の実施形態の変形例であり、第１の実施形態の抜去機構１６の構成を以下のように変形したものである。図１７は、抜去機構１６の構成の一例を示す模式図である。

本実施形態では、ガイド機構１６６は、支持体１６１に支持され、支持体１６１に対してＸ軸方向について移動可能に取り付けられている。

連結機構は、Ｚ軸方向について把持機構１６５を移動させる駆動力を、移動軸に対して交差するＸ軸方向についてガイド機構１６６を移動させる駆動力に変換する。連結機構は、例えば、カム機構により実現される。連結機構は、鉛直方向について把持機構１６５が支持体１６１に対して移動するにつれて、鉛直方向及び鉛直方向に対して交差するＸ軸方向についてガイド機構１６６を支持体１６１に対して移動させる。

他の構成は、第１の実施形態と同様である。

本実施形態では、連結機構により、把持機構１６５が動作開始位置から開放位置へＺ軸方向について上側に向かって移動するにつれて、ガイド機構１６６がＸ軸方向について廃棄側へ移動し、ガイド機構１６６のガイド部１６６１が把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下側へ移動する。これにより、ガイド機構１６６は、ガイド状態となる。また、連結機構により、ガイド状態において把持機構１６５が上側へさらに移動するにつれて、把持機構１６５に把持されたキュベット７０が上側へ移動するとともに、ガイド部１６６１においてキュベット７０の真下に位置する部分の位置は、上側へ移動する。このため、把持機構１６５に把持されたキュベット７０の下端７４よりもＺ軸方向について僅かに下側に、ガイド部１６６１が位置する状態が維持される。

（第４の実施形態）
次に、第４の実施形態に係る自動分析装置について図１８を用いて説明する。

第４の実施形態は、第１の実施形態の変形例であり、第１の実施形態の抜去機構１６の構成を以下のように変形したものである。図１８は、抜去機構１６の構成の一例を示す模式図である。

本実施形態では、ガイド機構１６６の回転軸として機能する軸部材１６９は、Ｘ軸方向について把持機構１６５よりも廃棄側に設けられている。

連結機構は、Ｚ軸方向について把持機構１６５を移動させる駆動力を、Ｙ軸方向に平行な中心軸を中心としてガイド機構１６６を回転させる駆動力に変換する。連結機構は、把持機構１６５が動作開始位置に到達した際に、ガイド機構１６６を回転させる。連結機構は、例えば、カム機構により実現される。

他の構成は、第１の実施形態と同様である。

本実施形態においても、キュベット７０を把持した把持機構１６５が下側から動作開始位置に到達すると、連結機構により、ガイド機構１６６が軸部材１６９を中心として回転し、ガイド機構１６６のガイド部１６６１が把持機構１６５に把持されたキュベット７０の真下へ移動する。これにより、ガイド機構１６６はガイド状態になる。そして、ガイド機構１６６はガイド状態である状態で把持機構１６５が上側へ移動することにより開放位置へ到達すると、把持開放機構１６７によって把持機構１６５に把持されたキュベット７０が解放され、落下したキュベット７０はガイド機構１６６によって、廃棄ボックス１５へ向かって搬送される。

（第５の実施形態）
次に、第５の実施形態に係る自動分析装置について図１９及び図２０を用いて説明する。

第５の実施形態は、第１の実施形態の変形例であり、第１の実施形態の抜去機構１６の構成を以下のように変形したものである。図１９は、抜去機構１６を把持機構１６５が閉じた状態で示す模式図である。図２０は、把持開放機構１６７により把持機構１６５が開いた状態を示す模式図である。

本実施形態では、把持機構１６５は、支持体１６５７と、第１部材１６５８と、第２部材１６５９とを備える。第１部材１６５８は、軸部材１６５８Ａを介して、支持体１６５７に取り付けられている。第２部材１６５９は、軸部材１６５９Ａを介して、支持体１６５７に取り付けられている。軸部材１６５８Ａ及び軸部材１６５９Ａは、Ｙ軸方向に対して平行であり、Ｘ軸方向について離れて配置される。第１部材１６５８及び第２部材１６５９は、例えば、棒状に形成されている。第１部材１６５８は、軸部材１６５８Ａを中心として支持体１６５７に対して回転可能であり、第２部材１６５９は、軸部材１６５９Ａを中心として支持体１６５７に対して回転可能である。

第１部材１６５８は、第１部材１６５８において軸部材１６５８Ａとの連結部よりも下側に設けられる第１把持部１６５８Ｂと、第１部材１６５８において軸部材１６５８Ａとの連結部よりも上側に設けられる第１伝達部１６５８Ｃとを備える。また、第２部材１６５９は、第２部材１６５９において軸部材１６５９Ａとの連結部よりも下側に設けられる第２把持部１６５９Ｂと、第２部材１６５９において軸部材１６５９Ａとの連結部よりも上側に設けられる第２伝達部１６５９Ｃとを備える。

第１伝達部１６５８Ｃと第２伝達部１６５９Ｃとの間が開くにつれて、第１把持部１６５８Ｂと第２把持部１６５９Ｂとの間が閉じる。また、第１伝達部１６５８Ｃと第２伝達部１６５９Ｃとの間が閉じるにつれて、第１把持部１６５８Ｂと第２把持部１６５９Ｂとの間が開く。

把持開放機構１６７は、突出部１６７３Ａと、突出部１６７３Ｂとを備える。突出部１６７３Ａと突出部１６７３Ｂは、Ｘ軸方向について離れて配置される。突出部１６７３Ａ及び突出部１６７３Ａは、支持体１６１の上部から下側に向かって突出している。突出部１６７３Ａは、斜面１６７４Ａを備える。斜面１６７４Ａは、Ｘ軸方向について廃棄側とは反対側を向き、かつ、Ｚ軸方向について下側を向いている。突出部１６７３Ｂは、斜面１６７４Ｂを備える。斜面１６７４Ｂは、Ｘ軸方向について廃棄側を向き、かつ、Ｚ軸方向について下側を向く斜面１６７４Ｂを向いている。斜面１６７４Ａ及び斜面１６７４Ｂは、対向している。

把持機構１６５の軸部材１６５８Ａは、Ｘ軸方向について、把持開放機構１６７の突出部１６７３Ａの斜面１６７４Ａが設けられる範囲内に位置する。また、把持機構１６５の軸部材１６５９Ａは、Ｘ軸方向について、把持開放機構１６７の突出部１６７３Ｂの斜面１６７４Ｂが設けられる範囲内に位置する。

他の構成は、第１の実施形態と同様である。

本実施形態では、把持機構１６５が下側から開放位置に移動すると、把持機構１６５の第１伝達部１６５８Ｃが把持開放機構１６７の第１斜面１６７４Ａに当接する。これにより、第１把持部１６５８Ｂが把持開放機構１６７の第１斜面１６７４Ａによって下側及び廃棄側とは反対側へ押圧され、第１部材１６５８が軸部材１６５８Ａを中心として支持体１６５７に対して回転する。これにより、第１伝達部１６５８ＣがＸ軸方向について廃棄側とは反対側へ移動し、第１把持部１６５８ＢがＸ軸方向について廃棄側へ移動する。

また、把持機構１６５が把持機構１６５の第２伝達部１６５９Ｃが把持開放機構１６７の第２斜面１６７４Ｂに当接する。これにより、第２伝達部１６５９Ｃが把持開放機構１６７の第２斜面１６７４Ｂによって下側及び廃棄側へ押圧され、第２部材１６５９が軸部材１６５９Ａを中心として支持体１６５７に対して回転するとともに、第２伝達部１６５９ＣがＸ軸方向について廃棄側へ移動し、第２把持部１６５９ＢがＸ軸方向について廃棄側とは反対側へ移動する。

したがって、把持機構１６５が下側から開放位置に移動すると、第１把持部１６５８Ｂと第２伝達部１６５９Ｃの間が閉じることにより、第１把持部１６５８Ｂと第２把持部１６５９Ｂの間が開く。

このため、本実施形態においても、キュベット７０を把持した把持機構１６５が下側から開放位置に移動すると、把持開放機構１６７によって把持機構１６５が開き、把持されたキュベット７０は把持機構１６５から解放される。

以上説明した少なくとも一つの実施形態によれば、ガイド部は、把持機構が反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持機構の移動範囲に対して離れた位置に位置し、把持機構が反応管を開放する開放位置に位置する場合に把持機構の下方において、格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成する。これにより、キュベットの抜去及び廃棄時における安定性を保ちつつ、スループットを向上させることである。

上記説明において用いた「プロセッサ」という文言は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＧＰＵ（Graphics Processing Unit）、或いは、特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuit：ＡＳＩＣ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Simple Programmable Logic Device：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Complex Programmable Logic Device：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Field Programmable Gate Array：ＦＰＧＡ）等の回路を意味する。プロセッサは記憶回路に保存されたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、記憶回路にプログラムを保存する代わりに、プロセッサの回路内にプログラムを直接組み込むよう構成しても構わない。この場合、プロセッサは回路内に組み込まれたプログラムを読み出し実行することで機能を実現する。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１における複数の構成要素を１つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。

なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１…自動分析装置
２…分析機構
３…解析回路
４…駆動機構
５…入力インタフェース
６…出力インタフェース
７…通信インタフェース
８…記憶回路
９…制御回路
１０…キュベット供給機構
１５…廃棄ボックス
１６…抜去機構
５１…反応ディスク
５１２…穴
５２…分注ユニット
７０…キュベット
７１…胴体部
７２…フランジ
７３…上端
７４…下端
９１…システム制御機能
１６１…支持体
１６２…駆動部
１６３Ａ，１６３Ｂ…駆動軸
１６４…支持部材
１６５…把持機構
１６６…ガイド機構
１６７…把持開放機構
１６８…搬送路
１６９，１６５５，１６５８Ａ，１６５９Ａ…軸部材
１６５１，１６５８…第１部材
１６５１Ａ，１６５８Ｂ…第１把持部
１６５１Ｂ，１６５８Ｃ…第１伝達部
１６５１Ｃ…第１爪部
１６５１Ｄ…第１斜面
１６５２，１６５９…第２部材
１６５２Ａ，１６５９Ｂ…第２把持部
１６５２Ｂ，１６５９Ｃ…第２伝達部
１６５２Ｃ…第２爪部
１６５２Ｄ…第２斜面
１６５５Ａ，１６７１，１６７３Ａ，１６７３Ｂ…突出部
１６５６…弾性部材
１６６１…ガイド部
１６６２，１６６３…側壁
１６６５…係合孔
１６６５Ａ…第１直線部
１６６５Ｂ…第２直線部
１６６５Ｃ…第３直線部
１６７２Ａ，１６７２Ｂ…斜面
１６６１Ａ，１６６１Ｂ…平板
１６６１Ｃ…回転軸
１６５７…支持体
１６７４Ａ，１６７４Ｂ…斜面
Ｌ１，Ｌ３…長さ
Ｌ２…外径
Ｒ１，Ｒ２…矢印

Claims (11)

1. 試料と試薬との混合液を保持する反応管を支持する支持部と、
   測定が終了した反応管を格納する格納部と、
   前記反応管を把持する状態と前記反応管を把持しない開放状態とを切り替え可能な把持機構と、
   前記把持機構を上方に移動させる駆動部と、
   前記把持機構の移動と共に、前記把持機構により把持された反応管の下方に移動するガイド部と、を有し、
   前記ガイド部は、前記把持機構が前記反応管を把持可能な把持位置に位置する場合に把持する前記反応管の上側から離れた位置に位置し、前記把持機構が前記反応管を開放する開放位置に位置する場合に前記反応管の下側に位置して前記格納部に向かうにつれて下側へ向かう斜面を形成することを特徴とする、自動分析装置。
2. 上方向に前記把持機構が移動するにつれて、前記ガイド部を移動させるカム機構をさらに備える、
   請求項１に記載の自動分析装置。
3. 前記ガイド部は、回転軸を中心として回転可能であり、
   前記カム機構は、上方向に前記把持機構が移動するにつれて、前記回転軸を中心として前記ガイド部を回転させる、
   請求項２に記載の自動分析装置。
4. 前記カム機構は、
   前記ガイド部に設けられた係合孔と、
   前記把持機構に設けられ、前記係合孔と係合し、前記係合孔と係合した状態で前記係合孔の内部を移動することにより、前記ガイド部を回転させる突出部と、
   を備える、
   請求項３に記載の自動分析装置。
5. 前記ガイド部は、鉛直方向及び鉛直方向に対して交差する方向について移動可能であり、
   前記カム機構は、鉛直方向について前記把持機構が移動するにつれて、鉛直方向及び前記鉛直方向に対して交差する方向について前記ガイド部を移動させる、
   請求項２に記載の自動分析装置。
6. 前記把持機構は、開閉可能な把持部を閉じさせる外力を前記把持部に付与する外力付与部を備える、
   請求項１に記載の自動分析装置。
7. 前記把持機構は、開閉可能な把持部に設けられ、前記把持部の間に前記反応管が挿入されることにより前記反応管のフランジを下側から支持可能な爪部を備える、
   請求項１に記載の自動分析装置。
8. 前記ガイド部は、前記ガイド部よりも上側の位置を中心とする円弧形状の曲面を有する、
   請求項１に記載の自動分析装置。
9. 前記ガイド部を有し、上側及び前記格納部に向かって開口する溝形状に形成され、前記溝形状の幅は、前記反応管の外径よりも大きく、かつ、前記反応管の長手方向についての長さよりも小さいガイド機構をさらに備える、
   請求項１に記載の自動分析装置。
10. 前記把持機構よりも上側において、前記把持機構が前記開放位置に位置する場合に前記把持機構に当接することにより前記把持機構を開く把持開放機構をさらに備える、
    請求項１に記載の自動分析装置。
11. 前記把持機構及び前記把持開放機構の一方は、前記把持機構及び前記把持開放機構の他方と当接することにより前記把持機構を開く又は閉じる斜面を備える、
    請求項１０に記載の自動分析装置。

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