JP7316899B2 - UV irradiation device - Google Patents
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Description
本発明は、紫外線照射装置に関する。 The present invention relates to an ultraviolet irradiation device.
半導体ウエーハ等の略円板形状の板状物を、格子状に配列されたストリートに沿って切削ブレードやレーザー光線よって加工することにより個々の半導体チップ等のデバイスを製造する方法が知られている。板状物は、分割されたデバイスがバラバラにならないように、予め環状のフレームに装着された粘着テープの表面に貼着される。分割されたデバイスのピックアップ作業を容易にするために、粘着テープとして紫外線を照射することによって粘着力が低下する所謂UV(UltraViolet)テープを用い、個々のデバイスに分割後に粘着テープに紫外線を照射する方法が使用されている(例えば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art A method of manufacturing devices such as individual semiconductor chips by processing a substantially disk-shaped object such as a semiconductor wafer with a cutting blade or a laser beam along streets arranged in a lattice is known. The plate-like object is adhered to the surface of an adhesive tape preliminarily attached to an annular frame so that the divided devices do not fall apart. In order to facilitate picking up of the divided devices, a so-called UV (UltraViolet) tape whose adhesive strength is reduced by irradiating ultraviolet rays is used as the adhesive tape, and the adhesive tape is irradiated with ultraviolet rays after being divided into individual devices. A method has been used (see, for example, US Pat.
半導体ウエーハ等の板状物は、直径が6,8,12インチなどの種類がある。フレームに貼着している領域まで粘着テープに紫外線が照射されると、ダイボンダーなど次の工程で粘着テープがフレームから剥がれてしまうため、粘着テープがフレームから剥がれないように、板状物の種類に合わせて紫外線照射装置にもマスクを配置し、所定の領域のみ紫外線が照射されるよう設定される。しかし、マスクはオペレータによって配置されるため、誤ったサイズのマスクが紫外線照射装置に装着されてしまう可能性があるという問題があった。 Plate-like objects such as semiconductor wafers come in various types, such as 6, 8, and 12 inch diameters. If the adhesive tape is irradiated to the area where it is attached to the frame, the adhesive tape will peel off from the frame in the next process such as a die bonder. A mask is also placed on the ultraviolet irradiation device in accordance with , and is set so that only a predetermined region is irradiated with ultraviolet rays. However, since the mask is placed by the operator, there is a possibility that the wrong size mask will be attached to the UV irradiation device.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、どのマスクが設置されているかを判定できる紫外線照射装置を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide an ultraviolet irradiation apparatus capable of determining which mask is installed.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の紫外線照射装置は、紫外線硬化型の粘着テープで板状物が環状フレームの開口に支持されたフレームユニットに紫外線を照射する紫外線照射ユニットと、該紫外線照射ユニットを収容するハウジングと、該紫外線の透過を部分的に許容し該フレームユニットに紫外線が照射される領域を限定する該ハウジングに着脱自在のマスクユニットと、該マスクユニットの種類を判定するマスク判定ユニットと、該紫外線照射ユニットで紫外線を照射する該板状物の種類を登録する板状物登録部と、を備える紫外線照射装置であって、該マスクユニットは、第1の板状物に対応した透過領域を備える第1のマスクと、第1の板状物より大きい第2の板状物に対応した透過領域を備える第2のマスクと、から選択されて該ハウジングに配置され、該紫外線照射ユニットは、板状物の幅を超える直線状の光源部と、該光源部の延在方向と交差する方向に該光源部を移動させる移動ユニットとを備え、該マスク判定ユニットは、該光源部とマスクを挟む位置に配置された光量センサーと、該光量センサーで測定した受光量から該マスクの種類を判定するマスク判定部と、該マスク判定部の判定結果と該板状物登録部に登録された該板状物の種類とが合致するか否か照合する照合部と、該照合部の結果を報知する報知部と、を備え、該マスク判定部は、該第1のマスク及び該第2のマスクの該透過領域に対面する基準位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した基準受光量と、該第1のマスクでは該透過領域の外側の遮蔽領域に対面し、該第2のマスクでは該透過領域に対面する比較位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した比較受光量と、を比較し、該基準受光量と該比較受光量との差が所定範囲より大きい場合は該第1のマスクが該ハウジングに装着されていると判定し、該差が所定範囲内の場合は該第2のマスクが該ハウジングに装着されていると判定するものである。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the ultraviolet irradiation device of the present invention is an ultraviolet irradiation device that irradiates a frame unit in which a plate-like object is supported in an opening of an annular frame with an ultraviolet curable adhesive tape. a unit, a housing for accommodating the ultraviolet irradiation unit, a mask unit detachably attached to the housing that partially allows transmission of the ultraviolet rays and limits an area of the frame unit to which the ultraviolet rays are irradiated, and the mask unit. An ultraviolet irradiation apparatus comprising: a mask determination unit for determining a type; and a plate-like object registration unit for registering the type of the plate-like object to be irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation unit, wherein the mask unit is a first and a second mask having a transmission area corresponding to a second plate larger than the first plate, the housing being selected from The ultraviolet irradiation unit is provided with a linear light source section that exceeds the width of the plate-shaped object, and a moving unit that moves the light source section in a direction that intersects the extending direction of the light source section, and the mask The determination unit includes a light amount sensor arranged at a position sandwiching the light source unit and the mask, a mask determination unit for determining the type of the mask from the amount of light received measured by the light amount sensor, a determination result of the mask determination unit, and the mask. a collation unit for collating whether or not the type of the plate-shaped object registered in the plate-shaped object registration unit matches; and a notification unit for informing the result of the collation unit. A reference amount of received light obtained by measuring, by the light amount sensor, the ultraviolet ray emitted from the light source unit arranged at a reference position facing the transmission area of the first mask and the second mask, and the transmission area of the first mask. facing the shielding region outside the second mask, and comparing the ultraviolet light from the light source unit arranged at the comparison position facing the transmission region in the second mask with the comparative amount of received light measured by the light amount sensor, When the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is larger than a predetermined range, it is determined that the first mask is attached to the housing, and when the difference is within the predetermined range, the second mask is It is determined that it is attached to the housing.
該光源部はUVLEDを備え、該基準受光量が許容範囲外の場合、該受光量が該許容範囲内になるよう照度を調整する照度調整部を備えてもよい。 The light source unit may include a UVLED, and may include an illuminance adjustment unit that adjusts illuminance so that the amount of received light is within the allowable range when the reference amount of received light is out of the allowable range.
該マスク判定部は、該差が所定範囲内で更に閾値以内だった場合、該マスクが該ハウジングに装着されていないと判定してもよい。 The mask determination unit may determine that the mask is not attached to the housing when the difference is within a predetermined range and within a threshold value.
本願発明は、どのマスクが設置されているかを判定できる。 The present invention can determine which mask is installed.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 A form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in configuration can be made without departing from the gist of the present invention.
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る紫外線照射装置1が構成する加工装置500の構成例を示す斜視図である。図2は、図1に示された加工装置500の構成例を示す他の斜視図である。図1及び図2に示す加工装置500は、板状物100を切削加工する切削装置である。
[Embodiment 1]
An
板状物100は、実施形態1では、第1の板状物100-1と、第2の板状物100-2と、の2種類を有する。第1の板状物100-1及び第2の板状物100-2の各要素は、互いに区別する場合には、符号の後ろに「-1」「-2」を付して記し、互いに区別する必要がない場合には、これらに共通のものであるとして、符号の後ろに「-1」「-2」を付さずに適宜省略して記す。
In the first embodiment, the plate-
板状物100は、実施形態1では、シリコン、サファイア、シリコンカーバイド(SiC)、ガリウムヒ素などを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等である。板状物100は、表面101の格子状に形成される複数のストリート102によって区画された領域に半導体チップ等のデバイス103が形成されている。
In the first embodiment, the plate-
板状物100は、表面101の裏側の裏面104に粘着テープ105が貼着され、粘着テープ105の外縁部に環状フレーム106が装着されている。これにより、板状物100は、環状フレーム106の開口107に粘着テープ105で支持されて、フレームユニット200を構成している。粘着テープ105は、紫外線300(図5等参照)が照射されると硬化して粘着力が低下する紫外線硬化型の糊層を備える。
The plate-
第1の板状物100-1と第2の板状物100-2とは、直径が異なる。第2の板状物100-2は、第1の板状物100-1より直径が大きい。また、環状フレーム106-1と環状フレーム106-2とは、直径が異なる。環状フレーム106-2は、環状フレーム106-1より直径が大きい。また、フレームユニット200-1とフレームユニット200-2とは、直径が異なる。フレームユニット200-2は、フレームユニット200-1より直径が大きい。 The first plate-like object 100-1 and the second plate-like object 100-2 have different diameters. The second plate-like object 100-2 has a larger diameter than the first plate-like object 100-1. Also, the annular frame 106-1 and the annular frame 106-2 have different diameters. Annular frame 106-2 has a larger diameter than annular frame 106-1. Also, the frame unit 200-1 and the frame unit 200-2 have different diameters. Frame unit 200-2 has a larger diameter than frame unit 200-1.
図1及び図2に示された加工装置500は、実施形態1に係る紫外線照射装置1と、チャックテーブル510と、切削ユニット520と、洗浄ユニット530と、搬送ユニット540と、カセットエレベータ550と、カセット560と、表示ユニット580と、入力ユニット590と、を備える。
The
チャックテーブル510は、板状物100の裏面104側を、粘着テープ105を介して保持面511で吸引保持する。切削ユニット520は、チャックテーブル510で吸引保持された板状物100を、軸心周りに回転する切削ブレード521で切削する。加工装置500は、不図示の移動機構により、チャックテーブル510上の板状物100と切削ブレード521とをストリート102に沿って相対的に移動させて、ストリート102に沿って切削溝111を形成する。加工装置500は、図1に示すように、切削ユニット520を2つ備えた、即ち、2スピンドルのダイサ、いわゆるフェイシングデュアルタイプの切削装置である。
The chuck table 510 sucks and holds the
紫外線照射装置1は、カセットエレベータ550の上面に設置される。カセット560は、紫外線照射装置1の上面に載置される。カセット560は、切削前後の板状物100を収容する。カセットエレベータ550は、紫外線照射装置1及びカセット560をZ軸方向に沿って昇降させる。
The
洗浄ユニット530は、切削加工後の板状物100を洗浄する。搬送ユニット540は、切削加工前の板状物100をカセット560からチャックテーブル510に搬送するとともに、切削加工後の板状物100をチャックテーブル510から洗浄ユニット530に搬送する。また、搬送ユニット540は、洗浄後の板状物100を洗浄ユニット530から紫外線照射装置1に搬送する。
The
表示ユニット580は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される表示画面581を有している。表示ユニット580は、後述する制御ユニット60により制御されることで、表示画面581に表示する画像を切り替える。入力ユニット590は、オペレータが加工情報や紫外線照射装置1の照射条件などを登録する際に用いられ、実施形態1では、表示ユニット580の表示画面581に設けられたタッチパネルにより構成される。
The
加工装置500は、切削ユニット520を用いて板状物100をストリート102に沿って個々のデバイス103に分割し、洗浄ユニット530により洗浄した後、紫外線照射装置1により紫外線300を照射して、粘着テープ105の粘着力を低下させて、カセット560内に収容する。
The
なお、加工装置500は、実施形態1では切削装置であるが、本発明ではこれに限定されず、レーザーを照射することで切削溝111と同様のレーザー加工溝を形成するレーザー加工装置など、ストリート102に沿って個々のデバイス103に分割する加工装置であればどのような装置であってもよい。
In addition, although the
図3は、図1に示された紫外線照射装置1を示す分解斜視図である。図4は、図3の紫外線照射装置1を示す分解上面図である。紫外線照射装置1は、図3及び図4に示すように、ハウジング10と、マスクユニット20と、紫外線照射ユニット30と、マスク判定ユニット40と、板状物登録部50と、を備える。ハウジング10は、筐体11と、蓋体12と、支持片15と、を備え、紫外線照射ユニット30を収容する。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing the
筐体11は、上方に開口13を有する扁平な箱状に形成されている。ここで、上方は、図3及び図4のZ軸方向上側である。蓋体12は、筐体11の上方に装着されて開口13を覆う。筐体11は、側壁に、搬出入口14を有する。搬出入口14は、幅方向に延びた長方形状に形成され、筐体11の側壁を貫通する貫通穴である。ここで、幅方向は、図3及び図4のY軸方向である。搬出入口14は、ハウジング10の外部からハウジング10内のマスクユニット20への板状物100の搬入出を可能にする。支持片15は、筐体11の搬出入口14の幅方向の両端から筐体11の内部に向かって前後方向に延びて、筐体11の側壁の内面に一対設けられている。ここで、前後方向は、搬出入口14を通して搬入出される板状物100の移動方向であり、以下、Y軸方向に直交するX軸方向と記す。一対の支持片15は、ハウジング10内のマスクユニット20を幅方向の両端で支持する。
The
マスクユニット20は、図4に示すように、第1のマスク20-1と、第2のマスク20-2と、の2種類を備える。マスクユニット20は、第1のマスク20-1と、第2のマスク20-2と、から選択されてハウジング10に配置される。第1のマスク20-1及び第2のマスク20-2の各要素は、互いに区別する場合には、符号の後ろに「-1」「-2」を付して記し、互いに区別する必要がない場合には、これらに共通のものであるとして、符号の後ろに「-1」「-2」を付さずに適宜省略して記す。
As shown in FIG. 4, the
マスクユニット20は、図3及び図4に示すように、マスク板21と、一対のガイドレール23と、を備える。マスクユニット20は、一対の支持片15上に設置されて、筐体11内に配置される。マスクユニット20は、ハウジング10に着脱自在である。マスク板21は、環状フレーム106を粘着テープ105を介して支持することにより、フレームユニット200を支持する。一対のガイドレール23は、マスク板21の上面に、前後方向に沿って幅方向に離間して設けられている。一対のガイドレール23は、環状フレーム106が開口22を挟んで幅方向の外側に来るように、マスク板21上の環状フレーム106を幅方向に規制する。
The
マスクユニット20は、紫外線300の透過を部分的に許容し、支持しているフレームユニット200に紫外線300が照射される領域を限定する。具体的には、マスクユニット20は、マスク板21の中央を貫通し平面形状が円形の開口22を境界として、開口22の内側を透過領域25とし、開口22の外側を遮蔽領域26とする。透過領域25は、開口22により紫外線300の透過を許容して、マスクユニット20が支持しているフレームユニット200に紫外線300を照射可能とする領域である。すなわち、透過領域25は、開口22により構成される。遮蔽領域26は、マスク板21により紫外線300を遮蔽して、マスクユニット20が支持しているフレームユニット200に紫外線300を照射不可能とする領域である。
The
第1のマスク20-1の透過領域25-1を構成する開口22-1が、直径が第1の板状物100-1の外径よりも大きく、環状フレーム106-1の開口107-1の内径より小さいことで、第1のマスク20-1の透過領域25-1は、図4に示すように、第1の板状物100-1に対応している。第1のマスク20-1は、第1の板状物100-1の全体に透過領域25-1を対向させて紫外線300を照射可能とし、環状フレーム106-1に遮蔽領域26-1を対向させて紫外線300を照射不可能として、フレームユニット200-1を支持する。 The opening 22-1 forming the transmission region 25-1 of the first mask 20-1 has a diameter larger than the outer diameter of the first plate-like object 100-1, and the opening 107-1 of the annular frame 106-1. , the transmissive region 25-1 of the first mask 20-1 corresponds to the first plate-like object 100-1, as shown in FIG. The first mask 20-1 has a transmissive region 25-1 facing the entire first plate-like object 100-1 to enable irradiation of the ultraviolet rays 300, and a shielding region 26-1 facing the annular frame 106-1. The frame unit 200-1 is supported in such a way that the ultraviolet rays 300 cannot be irradiated.
第2のマスク20-2の透過領域25-2を構成する開口22-2が、直径が第2の板状物100-2の外径よりも大きく、環状フレーム106-2の開口107-2の内径より小さいことで、第2のマスク20-2の透過領域25-2は、図4に示すように、第2の板状物100-2に対応している。第2のマスク20-2は、第2の板状物100-2の全体に透過領域25-2を対向させて紫外線300を照射可能とし、環状フレーム106-2に遮蔽領域26-2を対向させて紫外線300を照射不可能として、フレームユニット200-2を支持する。
The aperture 22-2 forming the transmission region 25-2 of the second mask 20-2 has a diameter larger than the outer diameter of the second plate-shaped object 100-2, and the aperture 107-2 of the annular frame 106-2. , the transmissive region 25-2 of the second mask 20-2 corresponds to the second plate-like object 100-2, as shown in FIG. The second mask 20-2 has a transmissive region 25-2 that faces the entire second plate-shaped object 100-2 so that the ultraviolet rays 300 can be irradiated, and a shielding region 26-2 that faces the annular frame 106-2. The frame unit 200-2 is supported while the
第2のマスク20-2のマスク板21-2は、第1のマスク20-1のマスク板21-1と大きさが同じである。第2のマスク20-2の開口22-2は、第1のマスク20-1の開口22-1より直径が大きい。第2のマスク20-2の一対のガイドレール23-2は、第1のマスク20-1の一対のガイドレール23-1より離間している幅が広い。第2のマスク20-2の透過領域25-2は、第1のマスク20-1の透過領域25-1より広い。第2のマスク20-2の遮蔽領域26-2は、第1のマスク20-1の遮蔽領域26-1より狭い。 The mask plate 21-2 of the second mask 20-2 has the same size as the mask plate 21-1 of the first mask 20-1. The opening 22-2 of the second mask 20-2 has a larger diameter than the opening 22-1 of the first mask 20-1. The pair of guide rails 23-2 of the second mask 20-2 are wider than the pair of guide rails 23-1 of the first mask 20-1. The transmissive area 25-2 of the second mask 20-2 is wider than the transmissive area 25-1 of the first mask 20-1. The shielded area 26-2 of the second mask 20-2 is narrower than the shielded area 26-1 of the first mask 20-1.
紫外線照射ユニット30は、紫外線硬化型の粘着テープ105で板状物100が環状フレーム106の開口107に支持されたフレームユニット200に紫外線300を照射する機構であり、図3及び図4に示すように、光源部31と、移動ユニット32と、照度調整部34と、を備える。
The ultraviolet
光源部31は、板状物100の幅を超える範囲で直線状に配列された複数のUVLED(UltraViolet Light Emitting Diode)33を備える。複数のUVLED33は、実施形態1では、X軸方向に沿って配列されている。光源部31は、X軸方向と平行な直線状に紫外線300を照射する。
The
移動ユニット32は、光源部31を、マスクユニット20に支持されたフレームユニット200の表面101に沿って光源部31の延在方向と交差する方向に移動させる。移動ユニット32は、実施形態1では、Y軸方向に光源部31を移動させる。移動ユニット32は、例えば、図4に示すように、位置73から位置74へ光源部31を移動させる。移動ユニット32は、実施形態1では、例えば、ベルト駆動のアクチュエータが使用される。
The moving
照度調整部34は、光源部31を構成する各UVLED33に印加される電圧を調整して、光源部31の照度を調整する。
The
板状物登録部50は、紫外線照射ユニット30で紫外線300を照射する板状物100の種類を登録する。板状物登録部50は、実施形態1では、第1の板状物100-1と、第2の板状物100-2とのいずれかが紫外線照射対象として登録される。
The plate-like
マスク判定ユニット40は、マスクユニット20の種類を判定する機構であり、図3及び図4に示すように、光量センサー41と、マスク判定部42と、照合部43と、報知部44と、を備える。
The
光量センサー41は、紫外線照射ユニット30から照射された紫外線300の受光量を測定する。光量センサー41は、光源部31とマスクユニット20を挟む位置に配置されている。光量センサー41は、実施形態1では、ハウジング10の蓋体12に設けられている。光量センサー41は、実施形態1では、第1のマスク20-1では透過領域25-1の外側の遮蔽領域26-1に対面し、第2のマスク20-2では透過領域25-2に対面する位置に配置されている。
The
マスク判定部42は、光量センサー41で測定した受光量からマスクユニット20の種類を判定する。照合部43は、マスク判定部42の判定結果と板状物登録部50に登録された板状物100の種類とが合致するか否か照合する。報知部44は、照合部43の結果を報知する。
A
紫外線照射装置1は、制御ユニット60を備える。制御ユニット60は、加工装置500の各構成要素をそれぞれ制御して、板状物100への加工に関する各動作を、加工装置500に実施させるとともに、紫外線照射装置1の各構成要素をそれぞれ制御して、板状物100への紫外線300の照射やハウジング10に設置されたマスクユニット20の種類の判定等に関する各動作を紫外線照射装置1に実施させる。制御ユニット60は、実施形態1では、コンピュータシステムを含む。制御ユニット60は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、加工装置500及び紫外線照射装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して加工装置500及び紫外線照射装置1の各構成要素に出力する。
The
マスク判定部42及び照合部43は、実施形態1では、制御ユニット60の演算処理装置が、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムを実行することにより実現される機能部である。板状物登録部50は、実施形態1では、制御ユニット60の記憶装置により実現される。
In the first embodiment, the
報知部44は、制御ユニット60の入出力インターフェース装置を介して接続されている。報知部44は、実施形態1では、図1及び図2に示すように、スピーカ47と、表示灯48と、を備える。スピーカ47は、報知音を発信して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知する。表示灯48は、ランプ49を点灯して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知する。また、報知部44の機能は、表示ユニット580によって果たされてもよく、表示ユニット580が照合部43の結果を表示画面581に表示して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知してもよい。
The
実施形態1に係る紫外線照射装置1による動作について説明する。図5及び図6は、図3の紫外線照射装置1に第1のマスク20-1が設置されている際の動作を説明する断面図である。図7及び図8は、図3の紫外線照射装置1に第2のマスク20-2が設置されている際の動作を説明する断面図である。図9は、図3の紫外線照射装置1によるマスクユニット20の種類の判定動作の説明図である。図10は、図3の紫外線照射装置1による紫外線照射動作を示す断面図である。
The operation of the
実施形態1に係る紫外線照射装置1は、加工装置500の加工動作開始時において、板状物100を切削加工する前に、ハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類の判定動作を実行する。
The
マスクユニット20の種類の判定動作では、まず、移動ユニット32は、図5及び図7に示すように、第1のマスク20-1の透過領域25-1及び第2のマスク20-2の透過領域25-2にZ軸方向に沿って対面する基準位置71に光源部31を配置する。光量センサー41は、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量を測定する。
In the operation of determining the type of
次に、移動ユニット32は、図6及び図8に示すように、第1のマスク20-1の遮蔽領域26-1にZ軸方向に沿って対面し、第2のマスク20-2の透過領域25-2にZ軸方向に沿って対面する比較位置72に光源部31を配置する。光量センサー41は、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である比較受光量を測定する。
Next, as shown in FIGS. 6 and 8, the moving
そして、マスク判定部42は、光量センサー41が測定した基準受光量と比較受光量とを比較し、図9に示すように、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402より大きい場合は第1のマスク20-1がハウジング10に装着されていると判定し、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内の場合は第2のマスク20-2がハウジング10に装着されていると判定する。ここで、所定範囲402は、基準受光量と比較受光量との差が0以上でかつ所定の値401以下の範囲をいう。
Then, the
第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、図5及び図6に示すように、第1のマスク20-1は、透過領域25-1が基準位置71に配置された光源部31と対面し、遮蔽領域26-1が比較位置72に配置された光源部31と対面する。このため、第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402より大きくなる。第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で50となり、比較受光量が所定の任意単位で10となり、基準受光量と比較受光量との差が40となる。
When the first mask 20-1 is attached to the
第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、図7及び図8に示すように、第2のマスク20-2は、透過領域25-2が基準位置71に配置された光源部31とも、比較位置72に配置された光源部31とも対面する。このため、第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内となる。第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で70となり、比較受光量が所定の任意単位で80となり、基準受光量と比較受光量との差が10となる。
When the second mask 20-2 is attached to the
マスク判定部42がハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類を判定した後、照合部43は、マスク判定部42の判定結果と板状物登録部50に登録された板状物100の種類とが合致するか否か照合する。照合部43は、例えば、マスク判定部42の判定結果が第1のマスク20-1であり、板状物登録部50に第1の板状物100-1が登録されている場合、第1のマスク20-1と第1の板状物100-1とが互いに対応しているので、両者が合致する旨の照合結果を出す。照合部43は、マスク判定部42の判定結果が第2のマスク20-2であり、板状物登録部50に第2の板状物100-2が登録されている場合も同様に、両者が合致する旨の照合結果を出す。
After the
照合部43は、マスク判定部42の判定結果が第1のマスク20-1であり、板状物登録部50に第2の板状物100-2が登録されている場合、及び、マスク判定部42の判定結果が第2のマスク20-2であり、板状物登録部50に第1の板状物100-1が登録されている場合、両者が合致しない旨の照合結果を出す。
The matching
報知部44は、照合部43が両者が合致する旨の照合結果を出した場合、両者が合致する旨の照合結果を報知して、紫外線照射装置1のオペレータに正しいサイズのマスクユニット20が装着されている旨の認識を促す。一方、報知部44は、照合部43が両者が合致しない旨の照合結果を出した場合、両者が合致しない旨の照合結果を報知して、紫外線照射装置1のオペレータに誤ったサイズのマスクユニット20が装着されている旨の認識を促し、正しいサイズのマスクユニット20に変更するように促す。マスクユニット20が変更されると、上記したマスク判定部42による判定処理及び照合部43による照合処理が、再び実施される。
When the
マスクユニット20の種類の判定動作が実施され、照合部43が両者が合致する旨の照合結果を出した後、加工装置500は、板状物登録部50に登録されている板状物100を切削加工し、洗浄後、紫外線照射装置1のハウジング10内に搬入する。制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入された後、光源部31を基準位置71に配置して、光源部31から紫外線300を照射して光量センサー41で受光したときの受光量に基づいて、板状物100がハウジング10内に搬入されているか否かを判定する。制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入されていないと判定した場合、報知部44により、板状物100が搬入されていない旨の判定結果を報知して、加工装置500による切削加工動作を停止する。一方、制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入されていると判定した場合、以下に説明する紫外線照射装置1による紫外線照射動作を実施する。
After the operation of determining the type of the
紫外線照射動作では、紫外線照射ユニット30は、図10に示すように、光源部31の各UVLED33を点灯させて所定の設定値の光量で紫外線300を照射しながら、移動ユニット32により、所定の移動速度で光源部31を幅方向に沿って位置73と位置74との間を所定回数移動させる。
In the ultraviolet irradiation operation, the
実施形態1では、図10に示すように、位置73は、透過領域25の幅方向の一方側の端部に対向する位置に設定され、位置74は、透過領域25の幅方向の他方側の端部に対向する位置に設定される。なお、図10は、一例として、第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている例を示している。
In the first embodiment, as shown in FIG. 10, the
紫外線照射ユニット30は、このように、フレームユニット200の透過領域25と対向する領域の全体に紫外線300を照射する。フレームユニット200の粘着テープ105は、紫外線照射ユニット30により紫外線300が照射されることで、粘着力が低下する。
The
以上の構成を有する実施形態1に係る紫外線照射装置1は、マスク判定部42により光量センサー41で測定した受光量からマスクユニット20の種類を判定するので、どのマスクが設置されているかを判定できるという作用効果を奏する。
In the
〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図11は、実施形態2に係る紫外線照射装置1による照度調整動作の説明図である。図11は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
An
実施形態2に係る紫外線照射装置1は、ハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類の判定動作を実行する前に、基準受光量に基づいて光源部31の照度を調整する照度調整動作を実行する。
The
光量センサー41が、図5及び図7に示すように、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量を測定した後、照度調整部34は、基準受光量が図11に示す許容範囲413外の場合、基準受光量が許容範囲413内になるよう光源部31の照度を調整する。なお、許容範囲413は、基準受光量が所定の下限受光量411以上でかつ所定の上限受光量412以下であることを示している。照度調整部34は、図11(A)に示すように、基準受光量が許容範囲413の上限受光量412より大きい場合、例えば各UVLED33に印加される電圧を小さく調整することで、光源部31の照度を小さく調整して、基準受光量を許容範囲413内に収める。照度調整部34は、図11(B)に示すように、基準受光量が許容範囲413の下限受光量411より小さい場合、例えば各UVLED33に印加される電圧を大きく調整することで、光源部31の照度を大きく調整して、基準受光量を許容範囲413内に収める。
As shown in FIGS. 5 and 7, the
以上の構成を有する実施形態2に係る紫外線照射装置1は、照度調整部34により光源部31の照度を調整して、基準受光量を許容範囲413内に収めるので、光源部31の検査及び調整とマスクユニット20の種類の判定が1つの光量センサー41で可能になるという作用効果を奏する。
Since the
〔実施形態3〕
本発明の実施形態3に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図12及び図13は、実施形態3に係る紫外線照射装置1にマスクユニット20が設置されていない際の動作を説明する断面図である。図14は、実施形態3に係る紫外線照射装置1によるマスクユニット20の種類の判定動作の説明図である。図12、図13及び図14は、実施形態1及び実施形態2と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 3]
An
マスクユニット20の種類の判定動作において、光量センサー41は、図12及び図13に示すように、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量と、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である比較受光量と、をそれぞれ測定する。そして、マスク判定部42は、光量センサー41が測定した基準受光量と比較受光量とを比較し、図14に示すように、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で更に閾値406以内である場合はマスクユニット20がハウジング10に装着されていないと判定し、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で閾値406より大きい場合は実施形態1と同様に第2のマスク20-2がハウジング10に装着されていると判定する。ここで、閾値406以内は、基準受光量と比較受光量との差が0以上でかつ閾値406以下の範囲をいう。
In the operation of determining the type of the
マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、図12及び図13に示すように、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300も、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300も、マスクユニット20によって遮蔽されることがない。このため、マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で更に閾値406以内となる。マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で85となり、比較受光量が所定の任意単位で90となり、基準受光量と比較受光量との差が5となる。
When the
報知部44は、マスク判定部42がマスクユニット20がハウジング10に装着されていない旨の判定結果を出した場合、この判定結果を報知することにより、紫外線照射装置1のオペレータにマスクユニット20がハウジング10に装着されていない旨の認識を促し、正しいサイズのマスクユニット20を装着するように促す。マスクユニット20が装着されると、マスク判定部42による判定処理及び照合部43による照合処理が、再び実施される。
When the
以上の構成を有する実施形態3に係る紫外線照射装置1は、マスク判定部42により光量センサー41で測定した受光量から、さらにマスクユニット20が設置されていないことを判定できるという作用効果を奏する。
The
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.
1 紫外線照射装置
10 ハウジング
20 マスクユニット
20-1 第1のマスク
20-2 第2のマスク
25,25-1,25-2 透過領域
26,26-1,26-2 遮蔽領域
30 紫外線照射ユニット
31 光源部
32 移動ユニット
33 UVLED
34 照度調整部
40 マスク判定ユニット
41 光量センサー
42 マスク判定部
43 照合部
44 報知部
50 板状物登録部
71 基準位置
72 比較位置
100 板状物
100-1 第1の板状物
100-2 第2の板状物
105 粘着テープ
200,200-1,200-2 フレームユニット
300 紫外線
1
34
Claims (3)
該マスクユニットは、第1の板状物に対応した透過領域を備える第1のマスクと、第1の板状物より大きい第2の板状物に対応した透過領域を備える第2のマスクと、から選択されて該ハウジングに配置され、
該紫外線照射ユニットは、板状物の幅を超える直線状の光源部と、該光源部の延在方向と交差する方向に該光源部を移動させる移動ユニットとを備え、
該マスク判定ユニットは、該光源部とマスクを挟む位置に配置された光量センサーと、該光量センサーで測定した受光量から該マスクの種類を判定するマスク判定部と、該マスク判定部の判定結果と該板状物登録部に登録された該板状物の種類とが合致するか否か照合する照合部と、該照合部の結果を報知する報知部と、を備え、
該マスク判定部は、該第1のマスク及び該第2のマスクの該透過領域に対面する基準位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した基準受光量と、該第1のマスクでは該透過領域の外側の遮蔽領域に対面し、該第2のマスクでは該透過領域に対面する比較位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した比較受光量と、を比較し、該基準受光量と該比較受光量との差が所定範囲より大きい場合は該第1のマスクが該ハウジングに装着されていると判定し、該差が所定範囲内の場合は該第2のマスクが該ハウジングに装着されていると判定する紫外線照射装置。 An ultraviolet ray irradiation unit for irradiating a frame unit in which a plate-like object is supported in an opening of an annular frame with an ultraviolet curable adhesive tape with ultraviolet rays, a housing for accommodating the ultraviolet ray irradiation unit, and a partial allowance for transmission of the ultraviolet rays. a mask unit detachable from the housing for limiting an area irradiated with ultraviolet light on the frame unit; a mask determination unit for determining the type of the mask unit; and the plate-like object irradiated with ultraviolet light by the ultraviolet light irradiation unit. A plate-shaped object registration unit that registers the type of the ultraviolet irradiation device,
The mask unit includes a first mask having a transmission area corresponding to the first plate-like object and a second mask having a transmission area corresponding to a second plate-like object larger than the first plate-like object. , and disposed in the housing,
The ultraviolet irradiation unit includes a linear light source section that exceeds the width of the plate-shaped object, and a moving unit that moves the light source section in a direction intersecting the extending direction of the light source section,
The mask determination unit includes a light amount sensor arranged at a position sandwiching the light source unit and the mask, a mask determination unit that determines the type of the mask from the amount of received light measured by the light amount sensor, and a determination result of the mask determination unit. and the type of the plate-shaped object registered in the plate-shaped object registration unit are matched, and a notification unit for notifying the result of the comparison unit,
The mask determination unit is configured to measure a reference received amount of ultraviolet rays emitted from the light source unit arranged at a reference position facing the transmission regions of the first mask and the second mask by the light amount sensor; A comparative amount of received light measured by the light amount sensor of the ultraviolet ray from the light source unit arranged at a comparison position facing the shielding area outside the transmission area in the first mask and facing the transmission area in the second mask. and are compared, and if the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is larger than a predetermined range, it is determined that the first mask is attached to the housing, and if the difference is within the predetermined range is an ultraviolet irradiation device for determining that the second mask is attached to the housing;
該基準受光量が許容範囲外の場合、該受光量が該許容範囲内になるよう照度を調整する照度調整部を備える請求項1に記載の紫外線照射装置。 The light source unit comprises a UVLED,
2. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, further comprising an illuminance adjusting unit that adjusts the illuminance so that the received light amount is within the allowable range when the reference amount of received light is out of the allowable range.
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2003186181A (en) | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Jeol Ltd | Mask plate mounting table and mask plate discriminating device |
| JP2006324373A (en) | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Chip pickup device and pickup method |
| JP2010219358A (en) | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | UV irradiation equipment |
| JP2011003613A (en) | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Manufacturing method and manufacturing apparatus for semiconductor device, and support sheet for semiconductor wafer |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003186181A (en) | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Jeol Ltd | Mask plate mounting table and mask plate discriminating device |
| JP2006324373A (en) | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Chip pickup device and pickup method |
| JP2010219358A (en) | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | UV irradiation equipment |
| JP2011003613A (en) | 2009-06-16 | 2011-01-06 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Manufacturing method and manufacturing apparatus for semiconductor device, and support sheet for semiconductor wafer |
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