Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7316899B2 - UV irradiation device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7316899B2 - UV irradiation device - Google Patents

UV irradiation device Download PDF

Info

Publication number
JP7316899B2
JP7316899B2 JP2019185465A JP2019185465A JP7316899B2 JP 7316899 B2 JP7316899 B2 JP 7316899B2 JP 2019185465 A JP2019185465 A JP 2019185465A JP 2019185465 A JP2019185465 A JP 2019185465A JP 7316899 B2 JP7316899 B2 JP 7316899B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
mask
plate
ultraviolet
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019185465A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021061353A (en
Inventor
航太朗 阿部
久志 荒木田
洋行 平賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2019185465A priority Critical patent/JP7316899B2/en
Publication of JP2021061353A publication Critical patent/JP2021061353A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7316899B2 publication Critical patent/JP7316899B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、紫外線照射装置に関する。 The present invention relates to an ultraviolet irradiation device.

半導体ウエーハ等の略円板形状の板状物を、格子状に配列されたストリートに沿って切削ブレードやレーザー光線よって加工することにより個々の半導体チップ等のデバイスを製造する方法が知られている。板状物は、分割されたデバイスがバラバラにならないように、予め環状のフレームに装着された粘着テープの表面に貼着される。分割されたデバイスのピックアップ作業を容易にするために、粘着テープとして紫外線を照射することによって粘着力が低下する所謂UV(UltraViolet)テープを用い、個々のデバイスに分割後に粘着テープに紫外線を照射する方法が使用されている(例えば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art A method of manufacturing devices such as individual semiconductor chips by processing a substantially disk-shaped object such as a semiconductor wafer with a cutting blade or a laser beam along streets arranged in a lattice is known. The plate-like object is adhered to the surface of an adhesive tape preliminarily attached to an annular frame so that the divided devices do not fall apart. In order to facilitate picking up of the divided devices, a so-called UV (UltraViolet) tape whose adhesive strength is reduced by irradiating ultraviolet rays is used as the adhesive tape, and the adhesive tape is irradiated with ultraviolet rays after being divided into individual devices. A method has been used (see, for example, US Pat.

特開2007-329300号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-329300

半導体ウエーハ等の板状物は、直径が6,8,12インチなどの種類がある。フレームに貼着している領域まで粘着テープに紫外線が照射されると、ダイボンダーなど次の工程で粘着テープがフレームから剥がれてしまうため、粘着テープがフレームから剥がれないように、板状物の種類に合わせて紫外線照射装置にもマスクを配置し、所定の領域のみ紫外線が照射されるよう設定される。しかし、マスクはオペレータによって配置されるため、誤ったサイズのマスクが紫外線照射装置に装着されてしまう可能性があるという問題があった。 Plate-like objects such as semiconductor wafers come in various types, such as 6, 8, and 12 inch diameters. If the adhesive tape is irradiated to the area where it is attached to the frame, the adhesive tape will peel off from the frame in the next process such as a die bonder. A mask is also placed on the ultraviolet irradiation device in accordance with , and is set so that only a predetermined region is irradiated with ultraviolet rays. However, since the mask is placed by the operator, there is a possibility that the wrong size mask will be attached to the UV irradiation device.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、どのマスクが設置されているかを判定できる紫外線照射装置を提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide an ultraviolet irradiation apparatus capable of determining which mask is installed.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の紫外線照射装置は、紫外線硬化型の粘着テープで板状物が環状フレームの開口に支持されたフレームユニットに紫外線を照射する紫外線照射ユニットと、該紫外線照射ユニットを収容するハウジングと、該紫外線の透過を部分的に許容し該フレームユニットに紫外線が照射される領域を限定する該ハウジングに着脱自在のマスクユニットと、該マスクユニットの種類を判定するマスク判定ユニットと、該紫外線照射ユニットで紫外線を照射する該板状物の種類を登録する板状物登録部と、を備える紫外線照射装置であって、該マスクユニットは、第1の板状物に対応した透過領域を備える第1のマスクと、第1の板状物より大きい第2の板状物に対応した透過領域を備える第2のマスクと、から選択されて該ハウジングに配置され、該紫外線照射ユニットは、板状物の幅を超える直線状の光源部と、該光源部の延在方向と交差する方向に該光源部を移動させる移動ユニットとを備え、該マスク判定ユニットは、該光源部とマスクを挟む位置に配置された光量センサーと、該光量センサーで測定した受光量から該マスクの種類を判定するマスク判定部と、該マスク判定部の判定結果と該板状物登録部に登録された該板状物の種類とが合致するか否か照合する照合部と、該照合部の結果を報知する報知部と、を備え、該マスク判定部は、該第1のマスク及び該第2のマスクの該透過領域に対面する基準位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した基準受光量と、該第1のマスクでは該透過領域の外側の遮蔽領域に対面し、該第2のマスクでは該透過領域に対面する比較位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した比較受光量と、を比較し、該基準受光量と該比較受光量との差が所定範囲より大きい場合は該第1のマスクが該ハウジングに装着されていると判定し、該差が所定範囲内の場合は該第2のマスクが該ハウジングに装着されていると判定するものである。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the ultraviolet irradiation device of the present invention is an ultraviolet irradiation device that irradiates a frame unit in which a plate-like object is supported in an opening of an annular frame with an ultraviolet curable adhesive tape. a unit, a housing for accommodating the ultraviolet irradiation unit, a mask unit detachably attached to the housing that partially allows transmission of the ultraviolet rays and limits an area of the frame unit to which the ultraviolet rays are irradiated, and the mask unit. An ultraviolet irradiation apparatus comprising: a mask determination unit for determining a type; and a plate-like object registration unit for registering the type of the plate-like object to be irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation unit, wherein the mask unit is a first and a second mask having a transmission area corresponding to a second plate larger than the first plate, the housing being selected from The ultraviolet irradiation unit is provided with a linear light source section that exceeds the width of the plate-shaped object, and a moving unit that moves the light source section in a direction that intersects the extending direction of the light source section, and the mask The determination unit includes a light amount sensor arranged at a position sandwiching the light source unit and the mask, a mask determination unit for determining the type of the mask from the amount of light received measured by the light amount sensor, a determination result of the mask determination unit, and the mask. a collation unit for collating whether or not the type of the plate-shaped object registered in the plate-shaped object registration unit matches; and a notification unit for informing the result of the collation unit. A reference amount of received light obtained by measuring, by the light amount sensor, the ultraviolet ray emitted from the light source unit arranged at a reference position facing the transmission area of the first mask and the second mask, and the transmission area of the first mask. facing the shielding region outside the second mask, and comparing the ultraviolet light from the light source unit arranged at the comparison position facing the transmission region in the second mask with the comparative amount of received light measured by the light amount sensor, When the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is larger than a predetermined range, it is determined that the first mask is attached to the housing, and when the difference is within the predetermined range, the second mask is It is determined that it is attached to the housing.

該光源部はUVLEDを備え、該基準受光量が許容範囲外の場合、該受光量が該許容範囲内になるよう照度を調整する照度調整部を備えてもよい。 The light source unit may include a UVLED, and may include an illuminance adjustment unit that adjusts illuminance so that the amount of received light is within the allowable range when the reference amount of received light is out of the allowable range.

該マスク判定部は、該差が所定範囲内で更に閾値以内だった場合、該マスクが該ハウジングに装着されていないと判定してもよい。 The mask determination unit may determine that the mask is not attached to the housing when the difference is within a predetermined range and within a threshold value.

本願発明は、どのマスクが設置されているかを判定できる。 The present invention can determine which mask is installed.

図1は、実施形態1に係る紫外線照射装置が構成する加工装置の構成例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device configured by an ultraviolet irradiation device according to Embodiment 1. FIG. 図2は、図1に示された加工装置の構成例を示す他の斜視図である。2 is another perspective view showing a configuration example of the processing apparatus shown in FIG. 1. FIG. 図3は、図1に示された紫外線照射装置を示す分解斜視図である。3 is an exploded perspective view showing the ultraviolet irradiation device shown in FIG. 1. FIG. 図4は、図3の紫外線照射装置を示す分解上面図である。4 is an exploded top view showing the ultraviolet irradiation device of FIG. 3. FIG. 図5は、図3の紫外線照射装置に第1のマスクが設置されている際の動作を説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the operation when the first mask is installed in the ultraviolet irradiation device of FIG. 図6は、図3の紫外線照射装置に第1のマスクが設置されている際の動作を説明する断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining the operation when the first mask is installed in the ultraviolet irradiation device of FIG. 図7は、図3の紫外線照射装置に第2のマスクが設置されている際の動作を説明する断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining the operation when the second mask is installed in the ultraviolet irradiation device of FIG. 図8は、図3の紫外線照射装置に第2のマスクが設置されている際の動作を説明する断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the operation when the second mask is installed in the ultraviolet irradiation device of FIG. 図9は、図3の紫外線照射装置によるマスクユニットの種類の判定動作の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of the operation of determining the type of mask unit by the ultraviolet irradiation device of FIG. 図10は、図3の紫外線照射装置による紫外線照射動作を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing an ultraviolet irradiation operation by the ultraviolet irradiation device of FIG. 図11は、実施形態2に係る紫外線照射装置による照度調整動作の説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram of the illuminance adjustment operation by the ultraviolet irradiation device according to the second embodiment. 図12は、実施形態3に係る紫外線照射装置にマスクユニットが設置されていない際の動作を説明する断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining the operation when the mask unit is not installed in the ultraviolet irradiation apparatus according to the third embodiment. 図13は、実施形態3に係る紫外線照射装置にマスクユニットが設置されていない際の動作を説明する断面図である。13A and 13B are cross-sectional views for explaining the operation when the mask unit is not installed in the ultraviolet irradiation apparatus according to the third embodiment. 図14は、実施形態3に係る紫外線照射装置によるマスクユニットの種類の判定動作の説明図である。14A and 14B are explanatory diagrams of the operation of determining the type of mask unit by the ultraviolet irradiation device according to the third embodiment.

本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 A form (embodiment) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. In addition, the components described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in configuration can be made without departing from the gist of the present invention.

〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図1は、実施形態1に係る紫外線照射装置1が構成する加工装置500の構成例を示す斜視図である。図2は、図1に示された加工装置500の構成例を示す他の斜視図である。図1及び図2に示す加工装置500は、板状物100を切削加工する切削装置である。
[Embodiment 1]
An ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 1 of the present invention will be described based on the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a processing device 500 configured by the ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 1. FIG. FIG. 2 is another perspective view showing a configuration example of the processing apparatus 500 shown in FIG. A processing device 500 shown in FIGS. 1 and 2 is a cutting device that cuts a plate-like object 100 .

板状物100は、実施形態1では、第1の板状物100-1と、第2の板状物100-2と、の2種類を有する。第1の板状物100-1及び第2の板状物100-2の各要素は、互いに区別する場合には、符号の後ろに「-1」「-2」を付して記し、互いに区別する必要がない場合には、これらに共通のものであるとして、符号の後ろに「-1」「-2」を付さずに適宜省略して記す。 In the first embodiment, the plate-like object 100 has two types, a first plate-like object 100-1 and a second plate-like object 100-2. Each element of the first plate-shaped object 100-1 and the second plate-shaped object 100-2 is marked with "-1" and "-2" after the reference numerals when distinguishing from each other. When there is no need to distinguish between them, they are assumed to be common to these, and are appropriately omitted without adding "-1" and "-2" after the reference numerals.

板状物100は、実施形態1では、シリコン、サファイア、シリコンカーバイド(SiC)、ガリウムヒ素などを母材とする円板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等である。板状物100は、表面101の格子状に形成される複数のストリート102によって区画された領域に半導体チップ等のデバイス103が形成されている。 In the first embodiment, the plate-like object 100 is a disk-like semiconductor wafer, an optical device wafer, or the like whose base material is silicon, sapphire, silicon carbide (SiC), gallium arsenide, or the like. A plate-like object 100 has a device 103 such as a semiconductor chip formed in a region partitioned by a plurality of streets 102 formed in a lattice on a surface 101 .

板状物100は、表面101の裏側の裏面104に粘着テープ105が貼着され、粘着テープ105の外縁部に環状フレーム106が装着されている。これにより、板状物100は、環状フレーム106の開口107に粘着テープ105で支持されて、フレームユニット200を構成している。粘着テープ105は、紫外線300(図5等参照)が照射されると硬化して粘着力が低下する紫外線硬化型の糊層を備える。 The plate-like object 100 has an adhesive tape 105 adhered to the rear surface 104 on the back side of the front surface 101 , and an annular frame 106 is attached to the outer edge of the adhesive tape 105 . As a result, the plate-like object 100 is supported by the adhesive tape 105 in the opening 107 of the annular frame 106 to constitute the frame unit 200 . The adhesive tape 105 includes an ultraviolet-curing adhesive layer that hardens when irradiated with ultraviolet rays 300 (see FIG. 5, etc.) to reduce adhesive strength.

第1の板状物100-1と第2の板状物100-2とは、直径が異なる。第2の板状物100-2は、第1の板状物100-1より直径が大きい。また、環状フレーム106-1と環状フレーム106-2とは、直径が異なる。環状フレーム106-2は、環状フレーム106-1より直径が大きい。また、フレームユニット200-1とフレームユニット200-2とは、直径が異なる。フレームユニット200-2は、フレームユニット200-1より直径が大きい。 The first plate-like object 100-1 and the second plate-like object 100-2 have different diameters. The second plate-like object 100-2 has a larger diameter than the first plate-like object 100-1. Also, the annular frame 106-1 and the annular frame 106-2 have different diameters. Annular frame 106-2 has a larger diameter than annular frame 106-1. Also, the frame unit 200-1 and the frame unit 200-2 have different diameters. Frame unit 200-2 has a larger diameter than frame unit 200-1.

図1及び図2に示された加工装置500は、実施形態1に係る紫外線照射装置1と、チャックテーブル510と、切削ユニット520と、洗浄ユニット530と、搬送ユニット540と、カセットエレベータ550と、カセット560と、表示ユニット580と、入力ユニット590と、を備える。 The processing apparatus 500 shown in FIGS. 1 and 2 includes the ultraviolet irradiation apparatus 1 according to Embodiment 1, a chuck table 510, a cutting unit 520, a cleaning unit 530, a conveying unit 540, a cassette elevator 550, A cassette 560 , a display unit 580 and an input unit 590 are provided.

チャックテーブル510は、板状物100の裏面104側を、粘着テープ105を介して保持面511で吸引保持する。切削ユニット520は、チャックテーブル510で吸引保持された板状物100を、軸心周りに回転する切削ブレード521で切削する。加工装置500は、不図示の移動機構により、チャックテーブル510上の板状物100と切削ブレード521とをストリート102に沿って相対的に移動させて、ストリート102に沿って切削溝111を形成する。加工装置500は、図1に示すように、切削ユニット520を2つ備えた、即ち、2スピンドルのダイサ、いわゆるフェイシングデュアルタイプの切削装置である。 The chuck table 510 sucks and holds the back surface 104 side of the plate-like object 100 with the holding surface 511 via the adhesive tape 105 . The cutting unit 520 cuts the plate-like object 100 sucked and held by the chuck table 510 with a cutting blade 521 that rotates about its axis. The processing apparatus 500 relatively moves the plate-like object 100 on the chuck table 510 and the cutting blade 521 along the street 102 by a moving mechanism (not shown) to form the cutting groove 111 along the street 102. . As shown in FIG. 1, the processing apparatus 500 is provided with two cutting units 520, that is, a two-spindle dicer, a so-called facing dual type cutting apparatus.

紫外線照射装置1は、カセットエレベータ550の上面に設置される。カセット560は、紫外線照射装置1の上面に載置される。カセット560は、切削前後の板状物100を収容する。カセットエレベータ550は、紫外線照射装置1及びカセット560をZ軸方向に沿って昇降させる。 The ultraviolet irradiation device 1 is installed on the upper surface of the cassette elevator 550 . The cassette 560 is placed on the upper surface of the ultraviolet irradiation device 1 . The cassette 560 accommodates the plate-like object 100 before and after cutting. The cassette elevator 550 raises and lowers the ultraviolet irradiation device 1 and the cassette 560 along the Z-axis direction.

洗浄ユニット530は、切削加工後の板状物100を洗浄する。搬送ユニット540は、切削加工前の板状物100をカセット560からチャックテーブル510に搬送するとともに、切削加工後の板状物100をチャックテーブル510から洗浄ユニット530に搬送する。また、搬送ユニット540は、洗浄後の板状物100を洗浄ユニット530から紫外線照射装置1に搬送する。 The cleaning unit 530 cleans the plate-like object 100 after cutting. The transport unit 540 transports the plate-like object 100 before cutting from the cassette 560 to the chuck table 510 and transports the plate-like object 100 after cutting from the chuck table 510 to the cleaning unit 530 . Further, the transport unit 540 transports the cleaned plate-like object 100 from the cleaning unit 530 to the ultraviolet irradiation device 1 .

表示ユニット580は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される表示画面581を有している。表示ユニット580は、後述する制御ユニット60により制御されることで、表示画面581に表示する画像を切り替える。入力ユニット590は、オペレータが加工情報や紫外線照射装置1の照射条件などを登録する際に用いられ、実施形態1では、表示ユニット580の表示画面581に設けられたタッチパネルにより構成される。 The display unit 580 has a display screen 581 configured by a liquid crystal display device or the like for displaying the state of the machining operation, images, and the like. The display unit 580 switches images displayed on the display screen 581 by being controlled by the control unit 60 to be described later. The input unit 590 is used when an operator registers processing information, irradiation conditions of the ultraviolet irradiation device 1, and the like.

加工装置500は、切削ユニット520を用いて板状物100をストリート102に沿って個々のデバイス103に分割し、洗浄ユニット530により洗浄した後、紫外線照射装置1により紫外線300を照射して、粘着テープ105の粘着力を低下させて、カセット560内に収容する。 The processing apparatus 500 uses the cutting unit 520 to divide the plate-like object 100 into individual devices 103 along the streets 102, cleans the device 103 by the cleaning unit 530, and then irradiates ultraviolet rays 300 by the ultraviolet irradiation device 1 to adhere the device. The adhesive strength of the tape 105 is lowered and the tape 105 is housed in the cassette 560 .

なお、加工装置500は、実施形態1では切削装置であるが、本発明ではこれに限定されず、レーザーを照射することで切削溝111と同様のレーザー加工溝を形成するレーザー加工装置など、ストリート102に沿って個々のデバイス103に分割する加工装置であればどのような装置であってもよい。 In addition, although the processing device 500 is a cutting device in the first embodiment, the present invention is not limited to this. Any processing device that divides along 102 into individual devices 103 may be used.

図3は、図1に示された紫外線照射装置1を示す分解斜視図である。図4は、図3の紫外線照射装置1を示す分解上面図である。紫外線照射装置1は、図3及び図4に示すように、ハウジング10と、マスクユニット20と、紫外線照射ユニット30と、マスク判定ユニット40と、板状物登録部50と、を備える。ハウジング10は、筐体11と、蓋体12と、支持片15と、を備え、紫外線照射ユニット30を収容する。 FIG. 3 is an exploded perspective view showing the ultraviolet irradiation device 1 shown in FIG. FIG. 4 is an exploded top view showing the ultraviolet irradiation device 1 of FIG. As shown in FIGS. 3 and 4, the ultraviolet irradiation device 1 includes a housing 10, a mask unit 20, an ultraviolet irradiation unit 30, a mask determination unit 40, and a plate-like object registration section 50. FIG. The housing 10 includes a housing 11 , a lid body 12 and support pieces 15 and accommodates the ultraviolet irradiation unit 30 .

筐体11は、上方に開口13を有する扁平な箱状に形成されている。ここで、上方は、図3及び図4のZ軸方向上側である。蓋体12は、筐体11の上方に装着されて開口13を覆う。筐体11は、側壁に、搬出入口14を有する。搬出入口14は、幅方向に延びた長方形状に形成され、筐体11の側壁を貫通する貫通穴である。ここで、幅方向は、図3及び図4のY軸方向である。搬出入口14は、ハウジング10の外部からハウジング10内のマスクユニット20への板状物100の搬入出を可能にする。支持片15は、筐体11の搬出入口14の幅方向の両端から筐体11の内部に向かって前後方向に延びて、筐体11の側壁の内面に一対設けられている。ここで、前後方向は、搬出入口14を通して搬入出される板状物100の移動方向であり、以下、Y軸方向に直交するX軸方向と記す。一対の支持片15は、ハウジング10内のマスクユニット20を幅方向の両端で支持する。 The housing 11 is formed in a flat box shape having an opening 13 at the top. Here, the upper side is the upper side in the Z-axis direction in FIGS. 3 and 4 . The lid 12 is mounted above the housing 11 to cover the opening 13 . The housing 11 has a loading/unloading port 14 on its side wall. The loading/unloading port 14 is a through hole formed in a rectangular shape extending in the width direction and penetrating the side wall of the housing 11 . Here, the width direction is the Y-axis direction in FIGS. The loading/unloading port 14 enables loading/unloading of the plate-shaped object 100 from the outside of the housing 10 to/from the mask unit 20 inside the housing 10 . A pair of support pieces 15 are provided on the inner surface of the side wall of the housing 11 so as to extend in the front-rear direction toward the interior of the housing 11 from both ends in the width direction of the loading/unloading port 14 of the housing 11 . Here, the front-rear direction is the moving direction of the plate-like object 100 carried in and out through the carry-in/out port 14, and is hereinafter referred to as the X-axis direction orthogonal to the Y-axis direction. The pair of support pieces 15 support the mask unit 20 in the housing 10 at both ends in the width direction.

マスクユニット20は、図4に示すように、第1のマスク20-1と、第2のマスク20-2と、の2種類を備える。マスクユニット20は、第1のマスク20-1と、第2のマスク20-2と、から選択されてハウジング10に配置される。第1のマスク20-1及び第2のマスク20-2の各要素は、互いに区別する場合には、符号の後ろに「-1」「-2」を付して記し、互いに区別する必要がない場合には、これらに共通のものであるとして、符号の後ろに「-1」「-2」を付さずに適宜省略して記す。 As shown in FIG. 4, the mask unit 20 includes two types of masks: a first mask 20-1 and a second mask 20-2. The mask unit 20 is selected from a first mask 20-1 and a second mask 20-2 and arranged in the housing 10. As shown in FIG. Each element of the first mask 20-1 and the second mask 20-2 needs to be distinguished from each other by adding "-1" and "-2" after the reference numerals when distinguishing them from each other. If not, they are assumed to be common to these, and are appropriately omitted without adding "-1" or "-2" after the code.

マスクユニット20は、図3及び図4に示すように、マスク板21と、一対のガイドレール23と、を備える。マスクユニット20は、一対の支持片15上に設置されて、筐体11内に配置される。マスクユニット20は、ハウジング10に着脱自在である。マスク板21は、環状フレーム106を粘着テープ105を介して支持することにより、フレームユニット200を支持する。一対のガイドレール23は、マスク板21の上面に、前後方向に沿って幅方向に離間して設けられている。一対のガイドレール23は、環状フレーム106が開口22を挟んで幅方向の外側に来るように、マスク板21上の環状フレーム106を幅方向に規制する。 The mask unit 20 includes a mask plate 21 and a pair of guide rails 23, as shown in FIGS. The mask unit 20 is installed on a pair of support pieces 15 and arranged inside the housing 11 . The mask unit 20 is detachable from the housing 10 . The mask plate 21 supports the frame unit 200 by supporting the annular frame 106 via the adhesive tape 105 . A pair of guide rails 23 are provided on the upper surface of the mask plate 21 so as to be spaced apart in the width direction along the front-rear direction. The pair of guide rails 23 regulates the annular frame 106 on the mask plate 21 in the width direction so that the annular frame 106 is located outside in the width direction across the opening 22 .

マスクユニット20は、紫外線300の透過を部分的に許容し、支持しているフレームユニット200に紫外線300が照射される領域を限定する。具体的には、マスクユニット20は、マスク板21の中央を貫通し平面形状が円形の開口22を境界として、開口22の内側を透過領域25とし、開口22の外側を遮蔽領域26とする。透過領域25は、開口22により紫外線300の透過を許容して、マスクユニット20が支持しているフレームユニット200に紫外線300を照射可能とする領域である。すなわち、透過領域25は、開口22により構成される。遮蔽領域26は、マスク板21により紫外線300を遮蔽して、マスクユニット20が支持しているフレームユニット200に紫外線300を照射不可能とする領域である。 The mask unit 20 partially allows the transmission of the ultraviolet rays 300 and limits the region of the supporting frame unit 200 to which the ultraviolet rays 300 are irradiated. Specifically, the mask unit 20 has an opening 22 that penetrates the center of the mask plate 21 and has a circular planar shape as a boundary, and uses the inside of the opening 22 as a transmission region 25 and the outside of the opening 22 as a shielding region 26 . The transmission region 25 is a region that allows the transmission of the ultraviolet rays 300 through the openings 22 so that the frame unit 200 supported by the mask unit 20 can be irradiated with the ultraviolet rays 300 . That is, the transmissive area 25 is configured by the opening 22 . The shielding area 26 is an area where the ultraviolet rays 300 are shielded by the mask plate 21 so that the frame unit 200 supported by the mask unit 20 cannot be irradiated with the ultraviolet rays 300 .

第1のマスク20-1の透過領域25-1を構成する開口22-1が、直径が第1の板状物100-1の外径よりも大きく、環状フレーム106-1の開口107-1の内径より小さいことで、第1のマスク20-1の透過領域25-1は、図4に示すように、第1の板状物100-1に対応している。第1のマスク20-1は、第1の板状物100-1の全体に透過領域25-1を対向させて紫外線300を照射可能とし、環状フレーム106-1に遮蔽領域26-1を対向させて紫外線300を照射不可能として、フレームユニット200-1を支持する。 The opening 22-1 forming the transmission region 25-1 of the first mask 20-1 has a diameter larger than the outer diameter of the first plate-like object 100-1, and the opening 107-1 of the annular frame 106-1. , the transmissive region 25-1 of the first mask 20-1 corresponds to the first plate-like object 100-1, as shown in FIG. The first mask 20-1 has a transmissive region 25-1 facing the entire first plate-like object 100-1 to enable irradiation of the ultraviolet rays 300, and a shielding region 26-1 facing the annular frame 106-1. The frame unit 200-1 is supported in such a way that the ultraviolet rays 300 cannot be irradiated.

第2のマスク20-2の透過領域25-2を構成する開口22-2が、直径が第2の板状物100-2の外径よりも大きく、環状フレーム106-2の開口107-2の内径より小さいことで、第2のマスク20-2の透過領域25-2は、図4に示すように、第2の板状物100-2に対応している。第2のマスク20-2は、第2の板状物100-2の全体に透過領域25-2を対向させて紫外線300を照射可能とし、環状フレーム106-2に遮蔽領域26-2を対向させて紫外線300を照射不可能として、フレームユニット200-2を支持する。 The aperture 22-2 forming the transmission region 25-2 of the second mask 20-2 has a diameter larger than the outer diameter of the second plate-shaped object 100-2, and the aperture 107-2 of the annular frame 106-2. , the transmissive region 25-2 of the second mask 20-2 corresponds to the second plate-like object 100-2, as shown in FIG. The second mask 20-2 has a transmissive region 25-2 that faces the entire second plate-shaped object 100-2 so that the ultraviolet rays 300 can be irradiated, and a shielding region 26-2 that faces the annular frame 106-2. The frame unit 200-2 is supported while the ultraviolet ray 300 cannot be irradiated.

第2のマスク20-2のマスク板21-2は、第1のマスク20-1のマスク板21-1と大きさが同じである。第2のマスク20-2の開口22-2は、第1のマスク20-1の開口22-1より直径が大きい。第2のマスク20-2の一対のガイドレール23-2は、第1のマスク20-1の一対のガイドレール23-1より離間している幅が広い。第2のマスク20-2の透過領域25-2は、第1のマスク20-1の透過領域25-1より広い。第2のマスク20-2の遮蔽領域26-2は、第1のマスク20-1の遮蔽領域26-1より狭い。 The mask plate 21-2 of the second mask 20-2 has the same size as the mask plate 21-1 of the first mask 20-1. The opening 22-2 of the second mask 20-2 has a larger diameter than the opening 22-1 of the first mask 20-1. The pair of guide rails 23-2 of the second mask 20-2 are wider than the pair of guide rails 23-1 of the first mask 20-1. The transmissive area 25-2 of the second mask 20-2 is wider than the transmissive area 25-1 of the first mask 20-1. The shielded area 26-2 of the second mask 20-2 is narrower than the shielded area 26-1 of the first mask 20-1.

紫外線照射ユニット30は、紫外線硬化型の粘着テープ105で板状物100が環状フレーム106の開口107に支持されたフレームユニット200に紫外線300を照射する機構であり、図3及び図4に示すように、光源部31と、移動ユニット32と、照度調整部34と、を備える。 The ultraviolet ray irradiation unit 30 is a mechanism for irradiating the frame unit 200, in which the plate-like object 100 is supported in the opening 107 of the annular frame 106 by the ultraviolet curing adhesive tape 105, with the ultraviolet rays 300, as shown in FIGS. , a light source unit 31 , a moving unit 32 , and an illuminance adjusting unit 34 are provided.

光源部31は、板状物100の幅を超える範囲で直線状に配列された複数のUVLED(UltraViolet Light Emitting Diode)33を備える。複数のUVLED33は、実施形態1では、X軸方向に沿って配列されている。光源部31は、X軸方向と平行な直線状に紫外線300を照射する。 The light source unit 31 includes a plurality of UVLEDs (UltraViolet Light Emitting Diodes) 33 linearly arranged in a range exceeding the width of the plate-like object 100 . The plurality of UVLEDs 33 are arranged along the X-axis direction in the first embodiment. The light source unit 31 irradiates the ultraviolet rays 300 linearly parallel to the X-axis direction.

移動ユニット32は、光源部31を、マスクユニット20に支持されたフレームユニット200の表面101に沿って光源部31の延在方向と交差する方向に移動させる。移動ユニット32は、実施形態1では、Y軸方向に光源部31を移動させる。移動ユニット32は、例えば、図4に示すように、位置73から位置74へ光源部31を移動させる。移動ユニット32は、実施形態1では、例えば、ベルト駆動のアクチュエータが使用される。 The moving unit 32 moves the light source section 31 along the surface 101 of the frame unit 200 supported by the mask unit 20 in a direction intersecting the extending direction of the light source section 31 . The moving unit 32 moves the light source section 31 in the Y-axis direction in the first embodiment. The moving unit 32 moves the light source section 31 from the position 73 to the position 74, for example, as shown in FIG. In the first embodiment, for example, a belt-driven actuator is used as the moving unit 32 .

照度調整部34は、光源部31を構成する各UVLED33に印加される電圧を調整して、光源部31の照度を調整する。 The illuminance adjustment unit 34 adjusts the illuminance of the light source unit 31 by adjusting the voltage applied to each UVLED 33 that configures the light source unit 31 .

板状物登録部50は、紫外線照射ユニット30で紫外線300を照射する板状物100の種類を登録する。板状物登録部50は、実施形態1では、第1の板状物100-1と、第2の板状物100-2とのいずれかが紫外線照射対象として登録される。 The plate-like object registration unit 50 registers the type of the plate-like object 100 irradiated with the ultraviolet rays 300 by the ultraviolet irradiation unit 30 . In the first embodiment, the plate-like object registration unit 50 registers either the first plate-like object 100-1 or the second plate-like object 100-2 as an object to be irradiated with ultraviolet rays.

マスク判定ユニット40は、マスクユニット20の種類を判定する機構であり、図3及び図4に示すように、光量センサー41と、マスク判定部42と、照合部43と、報知部44と、を備える。 The mask determination unit 40 is a mechanism for determining the type of the mask unit 20, and as shown in FIGS. Prepare.

光量センサー41は、紫外線照射ユニット30から照射された紫外線300の受光量を測定する。光量センサー41は、光源部31とマスクユニット20を挟む位置に配置されている。光量センサー41は、実施形態1では、ハウジング10の蓋体12に設けられている。光量センサー41は、実施形態1では、第1のマスク20-1では透過領域25-1の外側の遮蔽領域26-1に対面し、第2のマスク20-2では透過領域25-2に対面する位置に配置されている。 The light amount sensor 41 measures the amount of received ultraviolet rays 300 emitted from the ultraviolet irradiation unit 30 . The light amount sensor 41 is arranged at a position sandwiching the light source section 31 and the mask unit 20 . The light intensity sensor 41 is provided on the lid 12 of the housing 10 in the first embodiment. In the first embodiment, the light quantity sensor 41 faces the shielding region 26-1 outside the transmissive region 25-1 in the first mask 20-1, and faces the transmissive region 25-2 in the second mask 20-2. It is placed in a position where

マスク判定部42は、光量センサー41で測定した受光量からマスクユニット20の種類を判定する。照合部43は、マスク判定部42の判定結果と板状物登録部50に登録された板状物100の種類とが合致するか否か照合する。報知部44は、照合部43の結果を報知する。 A mask determination unit 42 determines the type of the mask unit 20 from the amount of light received measured by the light amount sensor 41 . The collation unit 43 collates whether or not the determination result of the mask determination unit 42 matches the type of the plate-like object 100 registered in the plate-like object registration unit 50 . The notification unit 44 notifies the result of the collation unit 43 .

紫外線照射装置1は、制御ユニット60を備える。制御ユニット60は、加工装置500の各構成要素をそれぞれ制御して、板状物100への加工に関する各動作を、加工装置500に実施させるとともに、紫外線照射装置1の各構成要素をそれぞれ制御して、板状物100への紫外線300の照射やハウジング10に設置されたマスクユニット20の種類の判定等に関する各動作を紫外線照射装置1に実施させる。制御ユニット60は、実施形態1では、コンピュータシステムを含む。制御ユニット60は、CPU(central processing unit)のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ROM(read only memory)又はRAM(random access memory)のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有する。演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、加工装置500及び紫外線照射装置1を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して加工装置500及び紫外線照射装置1の各構成要素に出力する。 The ultraviolet irradiation device 1 has a control unit 60 . The control unit 60 controls each component of the processing device 500 to cause the processing device 500 to perform each operation related to processing the plate-like object 100, and controls each component of the ultraviolet irradiation device 1. Then, the ultraviolet irradiation device 1 is caused to perform various operations such as irradiation of the plate-like object 100 with the ultraviolet rays 300 and determination of the type of the mask unit 20 installed in the housing 10 . The control unit 60 includes a computer system in the first embodiment. The control unit 60 includes an arithmetic processing unit having a microprocessor such as a CPU (central processing unit), a storage device having a memory such as ROM (read only memory) or RAM (random access memory), and an input/output interface device. and The arithmetic processing unit performs arithmetic processing according to a computer program stored in the storage device, and outputs control signals for controlling the processing device 500 and the ultraviolet irradiation device 1 to the processing device 500 and the ultraviolet irradiation device 1 via the input/output interface device. Output to each component of the ultraviolet irradiation device 1 .

マスク判定部42及び照合部43は、実施形態1では、制御ユニット60の演算処理装置が、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムを実行することにより実現される機能部である。板状物登録部50は、実施形態1では、制御ユニット60の記憶装置により実現される。 In the first embodiment, the mask determination unit 42 and the collation unit 43 are functional units realized by the arithmetic processing device of the control unit 60 executing a computer program stored in the storage device. The plate-shaped object registration unit 50 is realized by the storage device of the control unit 60 in the first embodiment.

報知部44は、制御ユニット60の入出力インターフェース装置を介して接続されている。報知部44は、実施形態1では、図1及び図2に示すように、スピーカ47と、表示灯48と、を備える。スピーカ47は、報知音を発信して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知する。表示灯48は、ランプ49を点灯して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知する。また、報知部44の機能は、表示ユニット580によって果たされてもよく、表示ユニット580が照合部43の結果を表示画面581に表示して、照合部43の結果を加工装置500のオペレータに報知してもよい。 The notification unit 44 is connected via an input/output interface device of the control unit 60 . In the first embodiment, the notification unit 44 includes a speaker 47 and an indicator light 48 as shown in FIGS. 1 and 2 . The speaker 47 notifies the operator of the processing device 500 of the result of the collation section 43 by emitting a notification sound. The indicator lamp 48 lights the lamp 49 to notify the operator of the processing device 500 of the result of the collating section 43 . Further, the function of the notification unit 44 may be performed by a display unit 580, which displays the result of the collation unit 43 on the display screen 581, and the result of the collation unit 43 to the operator of the processing device 500. may be notified.

実施形態1に係る紫外線照射装置1による動作について説明する。図5及び図6は、図3の紫外線照射装置1に第1のマスク20-1が設置されている際の動作を説明する断面図である。図7及び図8は、図3の紫外線照射装置1に第2のマスク20-2が設置されている際の動作を説明する断面図である。図9は、図3の紫外線照射装置1によるマスクユニット20の種類の判定動作の説明図である。図10は、図3の紫外線照射装置1による紫外線照射動作を示す断面図である。 The operation of the ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 1 will be described. 5 and 6 are cross-sectional views for explaining the operation when the first mask 20-1 is installed in the ultraviolet irradiation device 1 of FIG. 7 and 8 are cross-sectional views for explaining the operation when the second mask 20-2 is installed in the ultraviolet irradiation device 1 of FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram of the determination operation of the type of the mask unit 20 by the ultraviolet irradiation device 1 of FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view showing an ultraviolet irradiation operation by the ultraviolet irradiation device 1 of FIG.

実施形態1に係る紫外線照射装置1は、加工装置500の加工動作開始時において、板状物100を切削加工する前に、ハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類の判定動作を実行する。 The ultraviolet irradiation device 1 according to the first embodiment performs an operation of determining the type of the mask unit 20 attached to the housing 10 before cutting the plate-like object 100 at the start of the processing operation of the processing device 500. .

マスクユニット20の種類の判定動作では、まず、移動ユニット32は、図5及び図7に示すように、第1のマスク20-1の透過領域25-1及び第2のマスク20-2の透過領域25-2にZ軸方向に沿って対面する基準位置71に光源部31を配置する。光量センサー41は、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量を測定する。 In the operation of determining the type of mask unit 20, first, as shown in FIGS. The light source unit 31 is arranged at a reference position 71 facing the area 25-2 along the Z-axis direction. The light amount sensor 41 measures a reference amount of received light, which is the amount of ultraviolet rays 300 received from the light source unit 31 arranged at the reference position 71 .

次に、移動ユニット32は、図6及び図8に示すように、第1のマスク20-1の遮蔽領域26-1にZ軸方向に沿って対面し、第2のマスク20-2の透過領域25-2にZ軸方向に沿って対面する比較位置72に光源部31を配置する。光量センサー41は、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である比較受光量を測定する。 Next, as shown in FIGS. 6 and 8, the moving unit 32 faces the shielding region 26-1 of the first mask 20-1 along the Z-axis direction, and the transparent region 26-1 of the second mask 20-2. The light source unit 31 is arranged at a comparison position 72 facing the area 25-2 along the Z-axis direction. The light amount sensor 41 measures a comparative amount of received light, which is the amount of ultraviolet rays 300 received from the light source unit 31 arranged at the comparison position 72 .

そして、マスク判定部42は、光量センサー41が測定した基準受光量と比較受光量とを比較し、図9に示すように、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402より大きい場合は第1のマスク20-1がハウジング10に装着されていると判定し、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内の場合は第2のマスク20-2がハウジング10に装着されていると判定する。ここで、所定範囲402は、基準受光量と比較受光量との差が0以上でかつ所定の値401以下の範囲をいう。 Then, the mask determination unit 42 compares the reference received light amount and the comparative received light amount measured by the light amount sensor 41, and as shown in FIG. determines that the first mask 20-1 is attached to the housing 10, and if the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is within the predetermined range 402, the second mask 20-2 is attached to the housing 10. It is determined that Here, the predetermined range 402 is a range in which the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is 0 or more and the predetermined value 401 or less.

第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、図5及び図6に示すように、第1のマスク20-1は、透過領域25-1が基準位置71に配置された光源部31と対面し、遮蔽領域26-1が比較位置72に配置された光源部31と対面する。このため、第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402より大きくなる。第1のマスク20-1がハウジング10に装着されている場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で50となり、比較受光量が所定の任意単位で10となり、基準受光量と比較受光量との差が40となる。 When the first mask 20-1 is attached to the housing 10, as shown in FIGS. The shielding area 26 - 1 faces the light source part 31 arranged at the comparison position 72 . Therefore, when the first mask 20-1 is attached to the housing 10, the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount becomes larger than the predetermined range 402. FIG. When the first mask 20-1 is attached to the housing 10, for example, the reference received light amount is 50 in predetermined arbitrary units, and the comparative received light amount is 10 in predetermined arbitrary units. The difference between is 40.

第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、図7及び図8に示すように、第2のマスク20-2は、透過領域25-2が基準位置71に配置された光源部31とも、比較位置72に配置された光源部31とも対面する。このため、第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内となる。第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で70となり、比較受光量が所定の任意単位で80となり、基準受光量と比較受光量との差が10となる。 When the second mask 20-2 is attached to the housing 10, as shown in FIGS. Both the portion 31 and the light source portion 31 arranged at the comparison position 72 face each other. Therefore, when the second mask 20 - 2 is attached to the housing 10 , the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is within the predetermined range 402 . When the second mask 20-2 is attached to the housing 10, for example, the reference received light amount is 70 in predetermined arbitrary units, and the comparative received light amount is 80 in predetermined arbitrary units. The difference between is 10.

マスク判定部42がハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類を判定した後、照合部43は、マスク判定部42の判定結果と板状物登録部50に登録された板状物100の種類とが合致するか否か照合する。照合部43は、例えば、マスク判定部42の判定結果が第1のマスク20-1であり、板状物登録部50に第1の板状物100-1が登録されている場合、第1のマスク20-1と第1の板状物100-1とが互いに対応しているので、両者が合致する旨の照合結果を出す。照合部43は、マスク判定部42の判定結果が第2のマスク20-2であり、板状物登録部50に第2の板状物100-2が登録されている場合も同様に、両者が合致する旨の照合結果を出す。 After the mask determination unit 42 determines the type of the mask unit 20 attached to the housing 10 , the verification unit 43 compares the determination result of the mask determination unit 42 and the plate-like object 100 registered in the plate-like object registration unit 50 . Check whether the type matches or not. For example, when the determination result of the mask determination unit 42 is the first mask 20-1 and the first plate-like object 100-1 is registered in the plate-like object registration unit 50, the matching unit 43 Since the mask 20-1 and the first plate-like object 100-1 correspond to each other, a collation result indicating that they match is output. Similarly, when the determination result of the mask determination unit 42 is the second mask 20-2 and the second plate-like object 100-2 is registered in the plate-like object registration unit 50, the matching unit 43 A matching result is produced.

照合部43は、マスク判定部42の判定結果が第1のマスク20-1であり、板状物登録部50に第2の板状物100-2が登録されている場合、及び、マスク判定部42の判定結果が第2のマスク20-2であり、板状物登録部50に第1の板状物100-1が登録されている場合、両者が合致しない旨の照合結果を出す。 The matching unit 43 performs mask determination when the determination result of the mask determining unit 42 is the first mask 20-1 and when the second plate-like object 100-2 is registered in the plate-like object registering unit 50, and when the mask determination is performed. If the determination result of the unit 42 is the second mask 20-2 and the first plate-like object 100-1 is registered in the plate-like object registration unit 50, a collation result indicating that the two do not match is output.

報知部44は、照合部43が両者が合致する旨の照合結果を出した場合、両者が合致する旨の照合結果を報知して、紫外線照射装置1のオペレータに正しいサイズのマスクユニット20が装着されている旨の認識を促す。一方、報知部44は、照合部43が両者が合致しない旨の照合結果を出した場合、両者が合致しない旨の照合結果を報知して、紫外線照射装置1のオペレータに誤ったサイズのマスクユニット20が装着されている旨の認識を促し、正しいサイズのマスクユニット20に変更するように促す。マスクユニット20が変更されると、上記したマスク判定部42による判定処理及び照合部43による照合処理が、再び実施される。 When the collation unit 43 outputs a collation result that the two match, the notification unit 44 notifies the collation result that the two match, and the operator of the ultraviolet irradiation device 1 is fitted with the mask unit 20 of the correct size. Encourage awareness of the fact that On the other hand, when the collation unit 43 outputs a collation result that the two do not match, the notification unit 44 notifies the collation result that the two do not match, and informs the operator of the ultraviolet irradiation device 1 that the mask unit of the wrong size. The user is prompted to recognize that the mask unit 20 is attached, and to change to the mask unit 20 of the correct size. When the mask unit 20 is changed, the determination processing by the mask determination unit 42 and the collation processing by the collation unit 43 are performed again.

マスクユニット20の種類の判定動作が実施され、照合部43が両者が合致する旨の照合結果を出した後、加工装置500は、板状物登録部50に登録されている板状物100を切削加工し、洗浄後、紫外線照射装置1のハウジング10内に搬入する。制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入された後、光源部31を基準位置71に配置して、光源部31から紫外線300を照射して光量センサー41で受光したときの受光量に基づいて、板状物100がハウジング10内に搬入されているか否かを判定する。制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入されていないと判定した場合、報知部44により、板状物100が搬入されていない旨の判定結果を報知して、加工装置500による切削加工動作を停止する。一方、制御ユニット60は、板状物100がハウジング10内に搬入されていると判定した場合、以下に説明する紫外線照射装置1による紫外線照射動作を実施する。 After the operation of determining the type of the mask unit 20 is performed and the matching unit 43 outputs a matching result indicating that the two match, the processing apparatus 500 checks the plate-like object 100 registered in the plate-like object registering unit 50. After being cut and washed, it is carried into the housing 10 of the ultraviolet irradiation device 1 . After the plate-shaped object 100 is carried into the housing 10 , the control unit 60 arranges the light source section 31 at the reference position 71 , irradiates the ultraviolet rays 300 from the light source section 31 , and receives the light with the light amount sensor 41 . Based on the amount, it is determined whether or not the plate-like object 100 has been carried into the housing 10 . When the control unit 60 determines that the plate-like object 100 has not been carried into the housing 10, the notification unit 44 notifies the determination result that the plate-like object 100 has not been carried in, and the processing device 500 Stop the cutting operation. On the other hand, when the control unit 60 determines that the plate-shaped object 100 has been carried into the housing 10, the ultraviolet irradiation operation is performed by the ultraviolet irradiation device 1, which will be described below.

紫外線照射動作では、紫外線照射ユニット30は、図10に示すように、光源部31の各UVLED33を点灯させて所定の設定値の光量で紫外線300を照射しながら、移動ユニット32により、所定の移動速度で光源部31を幅方向に沿って位置73と位置74との間を所定回数移動させる。 In the ultraviolet irradiation operation, the ultraviolet irradiation unit 30, as shown in FIG. The light source unit 31 is moved at a speed between the positions 73 and 74 along the width direction a predetermined number of times.

実施形態1では、図10に示すように、位置73は、透過領域25の幅方向の一方側の端部に対向する位置に設定され、位置74は、透過領域25の幅方向の他方側の端部に対向する位置に設定される。なお、図10は、一例として、第2のマスク20-2がハウジング10に装着されている例を示している。 In the first embodiment, as shown in FIG. 10, the position 73 is set to face one end of the transmissive region 25 in the width direction, and the position 74 is set to the other end of the transmissive region 25 in the width direction. It is set at a position facing the end. Note that FIG. 10 shows an example in which the second mask 20-2 is attached to the housing 10 as an example.

紫外線照射ユニット30は、このように、フレームユニット200の透過領域25と対向する領域の全体に紫外線300を照射する。フレームユニット200の粘着テープ105は、紫外線照射ユニット30により紫外線300が照射されることで、粘着力が低下する。 The ultraviolet irradiation unit 30 thus irradiates the entire region facing the transmission region 25 of the frame unit 200 with the ultraviolet rays 300 . When the adhesive tape 105 of the frame unit 200 is irradiated with the ultraviolet rays 300 by the ultraviolet irradiation unit 30, the adhesive strength is lowered.

以上の構成を有する実施形態1に係る紫外線照射装置1は、マスク判定部42により光量センサー41で測定した受光量からマスクユニット20の種類を判定するので、どのマスクが設置されているかを判定できるという作用効果を奏する。 In the ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 1 having the above configuration, the type of the mask unit 20 is determined by the mask determination unit 42 from the amount of light received by the light amount sensor 41, so it is possible to determine which mask is installed. There is an operational effect.

〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図11は、実施形態2に係る紫外線照射装置1による照度調整動作の説明図である。図11は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
An ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 2 of the present invention will be described based on the drawings. FIG. 11 is an explanatory diagram of the illuminance adjustment operation by the ultraviolet irradiation device 1 according to the second embodiment. In FIG. 11, the same reference numerals are assigned to the same parts as those of the first embodiment, and the description thereof is omitted.

実施形態2に係る紫外線照射装置1は、ハウジング10に装着されているマスクユニット20の種類の判定動作を実行する前に、基準受光量に基づいて光源部31の照度を調整する照度調整動作を実行する。 The ultraviolet irradiation device 1 according to the second embodiment performs an illuminance adjusting operation for adjusting the illuminance of the light source unit 31 based on the reference amount of received light before executing the operation for determining the type of the mask unit 20 attached to the housing 10. Execute.

光量センサー41が、図5及び図7に示すように、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量を測定した後、照度調整部34は、基準受光量が図11に示す許容範囲413外の場合、基準受光量が許容範囲413内になるよう光源部31の照度を調整する。なお、許容範囲413は、基準受光量が所定の下限受光量411以上でかつ所定の上限受光量412以下であることを示している。照度調整部34は、図11(A)に示すように、基準受光量が許容範囲413の上限受光量412より大きい場合、例えば各UVLED33に印加される電圧を小さく調整することで、光源部31の照度を小さく調整して、基準受光量を許容範囲413内に収める。照度調整部34は、図11(B)に示すように、基準受光量が許容範囲413の下限受光量411より小さい場合、例えば各UVLED33に印加される電圧を大きく調整することで、光源部31の照度を大きく調整して、基準受光量を許容範囲413内に収める。 As shown in FIGS. 5 and 7, the light intensity sensor 41 measures the reference light reception amount, which is the light reception amount of the ultraviolet rays 300 from the light source unit 31 arranged at the reference position 71. If the amount is out of the allowable range 413 shown in FIG. 11, the illuminance of the light source unit 31 is adjusted so that the reference amount of received light is within the allowable range 413 . The allowable range 413 indicates that the reference received light amount is equal to or greater than the predetermined lower limit received light amount 411 and equal to or less than the predetermined upper limit received light amount 412 . As shown in FIG. 11A, the illuminance adjustment unit 34 adjusts the voltage applied to each UVLED 33 to a small value when the reference light reception amount is larger than the upper limit light reception amount 412 of the allowable range 413, for example, so that the light source unit 31 , the illuminance of is adjusted to be small, and the reference amount of received light is kept within the allowable range 413 . As shown in FIG. 11B, the illuminance adjustment unit 34 adjusts the voltage applied to each UVLED 33 when the reference light reception amount is smaller than the lower limit light reception amount 411 of the allowable range 413, for example, so that the light source unit 31 The illuminance of is adjusted to be large, and the reference amount of received light is kept within the allowable range 413 .

以上の構成を有する実施形態2に係る紫外線照射装置1は、照度調整部34により光源部31の照度を調整して、基準受光量を許容範囲413内に収めるので、光源部31の検査及び調整とマスクユニット20の種類の判定が1つの光量センサー41で可能になるという作用効果を奏する。 Since the ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 2 having the above configuration adjusts the illuminance of the light source unit 31 by the illuminance adjustment unit 34 to keep the reference received light amount within the allowable range 413, the inspection and adjustment of the light source unit 31 and the type of the mask unit 20 can be determined with one light amount sensor 41 .

〔実施形態3〕
本発明の実施形態3に係る紫外線照射装置1を図面に基づいて説明する。図12及び図13は、実施形態3に係る紫外線照射装置1にマスクユニット20が設置されていない際の動作を説明する断面図である。図14は、実施形態3に係る紫外線照射装置1によるマスクユニット20の種類の判定動作の説明図である。図12、図13及び図14は、実施形態1及び実施形態2と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 3]
An ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings. 12 and 13 are cross-sectional views for explaining the operation when the mask unit 20 is not installed in the ultraviolet irradiation device 1 according to the third embodiment. 14A and 14B are explanatory diagrams of the determination operation of the type of the mask unit 20 by the ultraviolet irradiation device 1 according to the third embodiment. In FIGS. 12, 13 and 14, the same parts as in Embodiments 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

マスクユニット20の種類の判定動作において、光量センサー41は、図12及び図13に示すように、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である基準受光量と、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300の受光量である比較受光量と、をそれぞれ測定する。そして、マスク判定部42は、光量センサー41が測定した基準受光量と比較受光量とを比較し、図14に示すように、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で更に閾値406以内である場合はマスクユニット20がハウジング10に装着されていないと判定し、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で閾値406より大きい場合は実施形態1と同様に第2のマスク20-2がハウジング10に装着されていると判定する。ここで、閾値406以内は、基準受光量と比較受光量との差が0以上でかつ閾値406以下の範囲をいう。 In the operation of determining the type of the mask unit 20, the light intensity sensor 41, as shown in FIGS. and a comparative amount of received light, which is the amount of ultraviolet rays 300 received from the light source unit 31 arranged at the position 72, are measured. Then, the mask determination unit 42 compares the reference received light amount and the comparative received light amount measured by the light amount sensor 41, and as shown in FIG. If the difference is within the threshold value 406, it is determined that the mask unit 20 is not attached to the housing 10. If the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is within the predetermined range 402 and is greater than the threshold value 406, the same procedure as in the first embodiment is performed. It is determined that the second mask 20-2 is attached to the housing 10. FIG. Here, "within the threshold value 406" refers to a range in which the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is 0 or more and the threshold value 406 or less.

マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、図12及び図13に示すように、比較位置72に配置された光源部31からの紫外線300も、基準位置71に配置された光源部31からの紫外線300も、マスクユニット20によって遮蔽されることがない。このため、マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、基準受光量と比較受光量との差が所定範囲402内で更に閾値406以内となる。マスクユニット20がハウジング10に装着されていない場合、例えば、基準受光量が所定の任意単位で85となり、比較受光量が所定の任意単位で90となり、基準受光量と比較受光量との差が5となる。 When the mask unit 20 is not attached to the housing 10, as shown in FIGS. 12 and 13, the ultraviolet rays 300 from the light source section 31 arranged at the comparison position 72 are also emitted from the light source section 31 arranged at the reference position 71. UV rays 300 are not blocked by the mask unit 20 either. Therefore, when the mask unit 20 is not attached to the housing 10 , the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is within the predetermined range 402 and further within the threshold value 406 . When the mask unit 20 is not attached to the housing 10, for example, the reference received light amount is 85 in predetermined arbitrary units, the comparative received light amount is 90 in predetermined arbitrary units, and the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is 5.

報知部44は、マスク判定部42がマスクユニット20がハウジング10に装着されていない旨の判定結果を出した場合、この判定結果を報知することにより、紫外線照射装置1のオペレータにマスクユニット20がハウジング10に装着されていない旨の認識を促し、正しいサイズのマスクユニット20を装着するように促す。マスクユニット20が装着されると、マスク判定部42による判定処理及び照合部43による照合処理が、再び実施される。 When the mask determination unit 42 outputs a determination result that the mask unit 20 is not attached to the housing 10, the notification unit 44 notifies the operator of the ultraviolet irradiation device 1 of the mask unit 20 by notifying the determination result. The user is prompted to recognize that the mask unit 20 is not attached to the housing 10 and to attach the mask unit 20 of the correct size. When the mask unit 20 is attached, the determination processing by the mask determination unit 42 and the collation processing by the collation unit 43 are performed again.

以上の構成を有する実施形態3に係る紫外線照射装置1は、マスク判定部42により光量センサー41で測定した受光量から、さらにマスクユニット20が設置されていないことを判定できるという作用効果を奏する。 The ultraviolet irradiation device 1 according to Embodiment 3 having the above configuration has the effect that the mask determination unit 42 can further determine that the mask unit 20 is not installed from the amount of light received measured by the light amount sensor 41.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

1 紫外線照射装置
10 ハウジング
20 マスクユニット
20-1 第1のマスク
20-2 第2のマスク
25,25-1,25-2 透過領域
26,26-1,26-2 遮蔽領域
30 紫外線照射ユニット
31 光源部
32 移動ユニット
33 UVLED
34 照度調整部
40 マスク判定ユニット
41 光量センサー
42 マスク判定部
43 照合部
44 報知部
50 板状物登録部
71 基準位置
72 比較位置
100 板状物
100-1 第1の板状物
100-2 第2の板状物
105 粘着テープ
200,200-1,200-2 フレームユニット
300 紫外線
1 UV irradiation device 10 Housing 20 Mask unit 20-1 First mask 20-2 Second mask 25, 25-1, 25-2 Transmissive area 26, 26-1, 26-2 Shielding area 30 UV irradiation unit 31 Light source part 32 Moving unit 33 UVLED
34 illumination adjustment unit 40 mask determination unit 41 light intensity sensor 42 mask determination unit 43 collation unit 44 notification unit 50 plate-like object registration unit 71 reference position 72 comparison position 100 plate-like object 100-1 first plate-like object 100-2 second Plate-like object of 2 105 Adhesive tape 200, 200-1, 200-2 Frame unit 300 Ultraviolet

Claims (3)

紫外線硬化型の粘着テープで板状物が環状フレームの開口に支持されたフレームユニットに紫外線を照射する紫外線照射ユニットと、該紫外線照射ユニットを収容するハウジングと、該紫外線の透過を部分的に許容し該フレームユニットに紫外線が照射される領域を限定する該ハウジングに着脱自在のマスクユニットと、該マスクユニットの種類を判定するマスク判定ユニットと、該紫外線照射ユニットで紫外線を照射する該板状物の種類を登録する板状物登録部と、を備える紫外線照射装置であって、
該マスクユニットは、第1の板状物に対応した透過領域を備える第1のマスクと、第1の板状物より大きい第2の板状物に対応した透過領域を備える第2のマスクと、から選択されて該ハウジングに配置され、
該紫外線照射ユニットは、板状物の幅を超える直線状の光源部と、該光源部の延在方向と交差する方向に該光源部を移動させる移動ユニットとを備え、
該マスク判定ユニットは、該光源部とマスクを挟む位置に配置された光量センサーと、該光量センサーで測定した受光量から該マスクの種類を判定するマスク判定部と、該マスク判定部の判定結果と該板状物登録部に登録された該板状物の種類とが合致するか否か照合する照合部と、該照合部の結果を報知する報知部と、を備え、
該マスク判定部は、該第1のマスク及び該第2のマスクの該透過領域に対面する基準位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した基準受光量と、該第1のマスクでは該透過領域の外側の遮蔽領域に対面し、該第2のマスクでは該透過領域に対面する比較位置に配置された該光源部からの紫外線を該光量センサーが測定した比較受光量と、を比較し、該基準受光量と該比較受光量との差が所定範囲より大きい場合は該第1のマスクが該ハウジングに装着されていると判定し、該差が所定範囲内の場合は該第2のマスクが該ハウジングに装着されていると判定する紫外線照射装置。
An ultraviolet ray irradiation unit for irradiating a frame unit in which a plate-like object is supported in an opening of an annular frame with an ultraviolet curable adhesive tape with ultraviolet rays, a housing for accommodating the ultraviolet ray irradiation unit, and a partial allowance for transmission of the ultraviolet rays. a mask unit detachable from the housing for limiting an area irradiated with ultraviolet light on the frame unit; a mask determination unit for determining the type of the mask unit; and the plate-like object irradiated with ultraviolet light by the ultraviolet light irradiation unit. A plate-shaped object registration unit that registers the type of the ultraviolet irradiation device,
The mask unit includes a first mask having a transmission area corresponding to the first plate-like object and a second mask having a transmission area corresponding to a second plate-like object larger than the first plate-like object. , and disposed in the housing,
The ultraviolet irradiation unit includes a linear light source section that exceeds the width of the plate-shaped object, and a moving unit that moves the light source section in a direction intersecting the extending direction of the light source section,
The mask determination unit includes a light amount sensor arranged at a position sandwiching the light source unit and the mask, a mask determination unit that determines the type of the mask from the amount of received light measured by the light amount sensor, and a determination result of the mask determination unit. and the type of the plate-shaped object registered in the plate-shaped object registration unit are matched, and a notification unit for notifying the result of the comparison unit,
The mask determination unit is configured to measure a reference received amount of ultraviolet rays emitted from the light source unit arranged at a reference position facing the transmission regions of the first mask and the second mask by the light amount sensor; A comparative amount of received light measured by the light amount sensor of the ultraviolet ray from the light source unit arranged at a comparison position facing the shielding area outside the transmission area in the first mask and facing the transmission area in the second mask. and are compared, and if the difference between the reference received light amount and the comparative received light amount is larger than a predetermined range, it is determined that the first mask is attached to the housing, and if the difference is within the predetermined range is an ultraviolet irradiation device for determining that the second mask is attached to the housing;
該光源部はUVLEDを備え、
該基準受光量が許容範囲外の場合、該受光量が該許容範囲内になるよう照度を調整する照度調整部を備える請求項1に記載の紫外線照射装置。
The light source unit comprises a UVLED,
2. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, further comprising an illuminance adjusting unit that adjusts the illuminance so that the received light amount is within the allowable range when the reference amount of received light is out of the allowable range.
該マスク判定部は、該差が所定範囲内で更に閾値以内だった場合、該マスクが該ハウジングに装着されていないと判定する請求項1又は2に記載の紫外線照射装置。 3. The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein the mask determination unit determines that the mask is not attached to the housing when the difference is within a predetermined range and within a threshold value.
JP2019185465A 2019-10-08 2019-10-08 UV irradiation device Active JP7316899B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019185465A JP7316899B2 (en) 2019-10-08 2019-10-08 UV irradiation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019185465A JP7316899B2 (en) 2019-10-08 2019-10-08 UV irradiation device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021061353A JP2021061353A (en) 2021-04-15
JP7316899B2 true JP7316899B2 (en) 2023-07-28

Family

ID=75381499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019185465A Active JP7316899B2 (en) 2019-10-08 2019-10-08 UV irradiation device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7316899B2 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003186181A (en) 2001-12-20 2003-07-03 Jeol Ltd Mask plate mounting table and mask plate discriminating device
JP2006324373A (en) 2005-05-18 2006-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Chip pickup device and pickup method
JP2010219358A (en) 2009-03-18 2010-09-30 Disco Abrasive Syst Ltd UV irradiation equipment
JP2011003613A (en) 2009-06-16 2011-01-06 Fujitsu Semiconductor Ltd Manufacturing method and manufacturing apparatus for semiconductor device, and support sheet for semiconductor wafer
JP2019102746A (en) 2017-12-07 2019-06-24 株式会社ディスコ Processing device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003186181A (en) 2001-12-20 2003-07-03 Jeol Ltd Mask plate mounting table and mask plate discriminating device
JP2006324373A (en) 2005-05-18 2006-11-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Chip pickup device and pickup method
JP2010219358A (en) 2009-03-18 2010-09-30 Disco Abrasive Syst Ltd UV irradiation equipment
JP2011003613A (en) 2009-06-16 2011-01-06 Fujitsu Semiconductor Ltd Manufacturing method and manufacturing apparatus for semiconductor device, and support sheet for semiconductor wafer
JP2019102746A (en) 2017-12-07 2019-06-24 株式会社ディスコ Processing device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021061353A (en) 2021-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102285101B1 (en) Inspection method, inspection apparatus, laser machining apparatus and expansion apparatus of workpiece
KR102409604B1 (en) Processing apparatus
KR102546465B1 (en) Cutting apparatus and wafer processing method
US20160240424A1 (en) Chuck table of processing apparatus
KR20190021166A (en) Cutting apparatus and method for detecting groove
KR102628741B1 (en) Processing apparatus
JP6689539B2 (en) Judgment device
TWI879963B (en) Repair components
TW201830565A (en) Frame unit transfer system
JP7356289B2 (en) Ultraviolet irradiation device and annular convex removal device
JP5312997B2 (en) UV irradiation equipment
KR20170107900A (en) Workpiece internal detection apparatus and workpiece internal detection method
JP7316899B2 (en) UV irradiation device
JP5466964B2 (en) Work holding mechanism
JP6845058B2 (en) Exposure equipment, substrate processing equipment, substrate exposure method and substrate processing method
JP6802085B2 (en) Wafer processing method
KR20210126495A (en) Cutting apparatus and exchange method of cutting blade and exchange method of board
JP7358014B2 (en) processing equipment
TWI789518B (en) Processing device
JP6957108B2 (en) Processing equipment
TW202111791A (en) Processing device provided with a chuck table and a camera unit, and capable of photographing a workpiece held by the chuck table
JP7345343B2 (en) Ultraviolet irradiation method
JP6076148B2 (en) Detection device
JP5461218B2 (en) Adhesive film holding mechanism
JP2026007416A (en) Ultraviolet irradiation device and method for determining treated object

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220824

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230628

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230704

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230718

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7316899

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150