JP7375519B2 - ハロゲン化アクリル酸エステルの製造方法 - Google Patents
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遷移金属触媒および塩基の存在下、1-フルオロエテン誘導体を一酸化炭素およびメタノールと反応させて、α-フルオロアクリル酸メチルを製造する方法(特許文献2)が知られている。
特許文献2の方法は、一酸化炭素の毒性が高いため、取り扱いが困難で安全に行うことができない。また、反応をオートクレーブ中で行っており、工業的生産に適した方法とは言い難い。
[1]
塩基の存在下、式(1)で表される化合物(以下、化合物(1)ともいう)を式(2)で表される化合物(以下、化合物(2)ともいう)と反応させる工程を含むことを特徴とする、式(4)で表される化合物(以下、化合物(4)ともいう)の製造方法。
X1、X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。]
[2]
反応が、水を含む反応系で行われる、上記[1]記載の製造方法。
[3]
反応が、水を含む溶媒下で行われる、上記[1]または[2]記載の製造方法。
[4]
反応途中に水を添加する、上記[1]または[2]記載の製造方法。
[5]
塩基が、アルカリ金属C1-4アルコキシドである、上記[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]
式(2)におけるRがC1-4アルキル基であり、かつ塩基がRONaまたはROKであって、ROHの溶液の形態で使用される、上記[5]に記載の製造方法。
[7]
塩基が、アルカリ金属水酸化物であり、水溶液の形態で使用される、上記[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[8]
反応が、30~180℃の範囲内で行われる、上記[1]~[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]
Yが、フッ素原子である、上記[1]~[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10]
Rが、C1-2アルキル基である、上記[1]~[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11]
X2およびX3が、共にフッ素原子である上記[1]~[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12]
X1が、フッ素原子である、上記[1]~[11]のいずれかに記載の製造方法。
塩基の存在下、式(1)で表される化合物を式(2)で表される化合物と反応させることを特徴とする、式(3)で表される化合物(以下、化合物(3)ともいう)の製造方法。
X1、X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。]
式(3)で表される化合物を水の存在下で反応させることを特徴とする、式(4)で表される化合物の製造方法。
X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。]
塩基の存在下、式(1)で表される化合物を式(2)で表される化合物と反応させ、次いで得られた反応混合物を水の存在下で反応させることを特徴とする、式(4)で表される化合物の製造方法。
X1、X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。]
式(3a)で表される化合物。
本明細書中「~」または「-」で表される数値範囲は、「~」または「-」の前後の数字を下限値または上限値とする数値範囲を意味する。
本明細書中、元素記号「C」に「-」の前後の数字で数値範囲を付したものを任意の基の名称に付して示す場合には、「-」の前後の数字を下限値または上限値とする整数個の炭素数である任意の基をそれぞれを示している。例えば、炭素数が1~3個であるアルキル基を「C1-3アルキル基」と示すことがあるが、これは、-CH3、-C2H5、-C3H7等のそれぞれを示している。他の基についても同様である。
X1は、ハロゲン原子を示す。
X1は、好ましくは、フッ素原子、塩素原子または臭素原子であり、より好ましくは、フッ素原子または塩素原子であり、特に好ましくは、フッ素原子である。
X2およびX3は、好ましくは、独立してそれぞれ、フッ素原子または塩素原子であり、特に好ましくは、共にフッ素原子である。
Yは、好ましくは、フッ素原子である。
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。
Rの具体例としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、へプチル、オクチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2-フルオロエチル、2,2,2-トリフルオロエチル、3,3,3-トリフルオロプロピル、2,2,2-トリフルオロプロピル、1H,1H,2H,2H-ノナフルオロヘキシル、1H,1H,2H,2H-トリデカフルオロオクチル、1H,1H,6H-デカフルオロヘキシル、1H,1H,2H,2H,8H-ドデカフルオロオクチル、メトキシメチル、2-トリフルオロメトキシエチル、ヒドロキシメチル、5-ヒドロキシペンチル、7-ヒドロキシヘプチル、3-アミノプロピル、4-カルボキシペンチル、6-メルカプトヘキシル;
シクロペンチル、シクロヘキシル、4-ヒドロキシシクロヘキシル;
フェニル、4-フルオロフェニル、4-トリフルオロメチルフェニル、4-メトキシフェニル;
ベンジル、4-フルオロベンジル、(4-トリフルオロメチルフェニル)メチル;
ウンデセ-10-エン-1-イル;
等が挙げられる。
本発明では、化合物(4)は、塩基の存在下、化合物(1)を化合物(2)と反応させる工程を含む方法により製造される。
化合物(1)は、市販品を使用することができ、あるいは自体公知の方法で製造することもできる。
化合物(1)としては、下記の式(1a)で表される化合物が好ましい。
中でも、X1が、フッ素原子、塩素原子または臭素原子であり、かつX2およびX3が、独立してそれぞれ、フッ素原子または塩素原子である、化合物(1a)が好ましく、X1が、フッ素原子または塩素原子であり、かつX2およびX3が、共にフッ素原子である化合物(1a)がより好ましい。
化合物(2)としては、保護されていてもよいアミノ基で置換されていてもよいC1-8アルコールが好ましく、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、3-アミノプロパノール等が好ましく、メタノール、エタノールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。
化合物(2)の使用量は、化合物(1)1モルに対して、通常0.001~10モル、好ましくは、0.1~6.0モルである。化合物(2)は、反応溶媒を兼ねてもよく、その場合の使用量は溶媒量である。
塩基がアルカリ金属水酸化物の場合、水溶液の形態で使用されることが好ましい。
塩基がアルカリ金属C1-4アルコキシドの場合、アルコール溶液の形態で使用されることが好ましく、当該アルコールは化合物(2)であることがより好ましい。即ち、好適な一態様は、式(2)におけるRがC1-4アルキル基であり、かつ塩基がRONaまたはROKであって、ROH溶液の形態で使用される態様である。好適な具体例は、ナトリウムメトキシド/メタノール溶液(R=メチル)、ナトリウムエトキシド/エタノール溶液(R=エチル)およびカリウムtert-ブトキシド/tert-ブタノール溶液(R=tert-ブチル)である。
塩基の使用量は、化合物(1)に対して、通常0.001~10当量、好ましくは、0.01~3.0当量である。
塩基がアルカリ金属C1-4アルコキシド類であって、アルコール溶液の形態で使用される場合は、上記の溶媒なしで反応を行ってもよい。
溶媒の使用量は、化合物(1)に対して、通常0.1~100倍容量である。
反応は、通常30~180℃の範囲、好ましくは60~130℃の範囲で行われる。
反応の終了は、薄層クロマトグラフィー等により確認することができる。
化合物(3)は水の存在下で反応して、化合物(4)に変換される。
従って、化合物(1)と化合物(2)との反応を、水を含む反応系で行うことにより、化合物(4)の生成まで進行させることができる。
水を含む溶媒に関し、N,N-ジメチルホルムアミドは、通常20~1300ppmの範囲で水を含有し、テトラヒドロフランは、通常10~1800ppmの範囲で水を含有している。
水を含む化合物(2)に関し、メタノールは、通常100~5000ppmの範囲で水を含有し、エタノールは、通常1~2000ppmの範囲で水を含有し、2-プロパノールは、通常1~2000ppmの範囲で水を含有している。
なお、本明細書中、「ppm」は質量基準である。
反応系中の水の量は、化合物(1)1モルに対して、通常触媒量である。
触媒量の水は、化合物(2)に対して触媒的作用を示すことにより、化合物(2)が化合物(3)とも反応して化合物(4)を生成する反応を促進すると考えられる。なお、水が触媒量ではなく多量に存在する場合は、化合物(3)と反応して化合物(4)を生成する原料としても働くと考えられる。
反応の終了は、薄層クロマトグラフィー等により確認することができる。
化合物(3)の水の存在下での反応の温度は、通常80~180℃の範囲である。
反応の終了は、薄層クロマトグラフィー等により確認することができる。
中でも、X2およびX3が、独立してそれぞれ、フッ素原子または塩素原子であり、Yが、フッ素原子であり、かつRaが、C1-2アルキル基である化合物(3a)が好ましく、X2およびX3が、共にフッ素原子であり、Yが、フッ素原子であり、かつRaが、C1-2アルキル基である化合物(3a)がより好ましい。
化合物(3a)の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
[分析方法]
例1~3で得られた生成物について、GCおよびGC-MSにて分析を実施した。いずれもカラムはRTX-200を使用し、-20℃5min→10℃/min→250℃20minで行った。
カールフィッシャー滴定法により水分量の測定を行った
1,1,2,3-テトラフルオロ-1-プロペン(X1、X2、X3およびYが全てフッ素原子である化合物(1))0.77g(1.3M、N,N-ジメチルホルムアミド溶液:水分量300ppm)にメタノール(水分量400ppm)0.22gを加え、ここに48%水酸化カリウム水溶液0.01gを添加して、120℃にて2時間撹拌した。GC分析により、転化率35%、CH2=CF-CF2OCH3を収率5%、CH2=CF-COOCH3を収率30%で得た。また、GC-MS分析を実施したところ、新規ピークが二本確認された。一つは純品のCH2=CF-COOCH3とピークおよびフラグメントが一致することを確認された。また、もう一つは親フラグメント126、その他フラグメントとして95、81、31などが確認され、中間体CH2=CF-CF2OCH3を経由して反応していることが確認された。この溶液をさらに12時間反応を行うと、転化率100%、CH2=CF-CF2OCH3を収率4%、CH2=CF-COOCH3を収率96%で得た。
1,1,2,3-テトラフルオロ-1-プロペン(X1、X2、X3およびYが全てフッ素原子である化合物(1))0.77g(1.3M、N,N-ジメチルホルムアミド溶液:水分量800ppm)にメタノール(水分量1200ppm)0.22gを加え、ここに28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.06gを添加して、120℃にて8時間撹拌した。GC分析により、転化率100%、CH2=CF-CF2OCH3を7%、CH2=CF-COOCH3を93%で得た。また、GC-MS分析を実施したところ、例1と同様に、CH2=CF-CF2OCH3およびCH2=CF-COOCH3が確認された。
1,1,2,3-テトラフルオロ-1-プロペン(X1、X2、X3およびYが全てフッ素原子である化合物(1))0.77g(1.3M、N,N-ジメチルホルムアミド溶液:水分量100ppm)に、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(水分量20ppm)1.64gを添加して、50℃にて14時間撹拌した。GC分析により、転化率91%、CH2=CF-CF2OCH3を71%、CH2=CF-COOCH3を19%で得た。また、GC-MS分析を実施したところ、例1と同様に、CH2=CF-CF2OCH3、CH2=CF-COOCH3が確認された。
Claims (13)
- 塩基の存在下、式(1)で表される化合物を式(2)で表される化合物と反応させる工程を含むことを特徴とする、式(4)で表される化合物の製造方法。
[式中、
X1、X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。] - 反応が、水を含む反応系で行われる、請求項1記載の製造方法。
- 反応が、水を含む溶媒下で行われる、請求項1または2記載の製造方法。
- 反応途中に水を添加する、請求項1または2記載の製造方法。
- 塩基が、アルカリ金属C1-4アルコキシドである、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
- 式(2)におけるRがC1-4アルキル基であり、かつ塩基がRONaまたはROKであって、ROHの溶液の形態で使用される、請求項5に記載の製造方法。
- 塩基が、アルカリ金属水酸化物であり、水溶液の形態で使用される、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。
- 反応が、30~180℃の範囲内で行われる、請求項1~7のいずれかに記載の製造方法。
- Yが、フッ素原子である、請求項1~8のいずれかに記載の製造方法。
- Rが、C1-2アルキル基である、請求項1~9のいずれかに記載の製造方法。
- X2およびX3が、共にフッ素原子である、請求項1~10のいずれかに記載の製造方法。
- X1が、フッ素原子である、請求項1~11のいずれかに記載の製造方法。
- 塩基の存在下、式(1)で表される化合物を式(2)で表される化合物と反応させ、次いで得られた反応混合物を水の存在下で反応させることを特徴とする、式(4)で表される化合物の製造方法。
[式中、
X1、X2およびX3は、独立してそれぞれ、ハロゲン原子を示し、
Yは、ハロゲン原子を示し、
Rは、C1-8アルキル基、C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基またはC6-10アリール基を示し、
ここで、前記C1-8アルキル基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基で置換されていてもよく、
前記C3-8シクロアルキル基、C7-14アラルキル基およびC6-10アリール基は、ハロゲン原子、シアノ基、C1-4アルキル基、C1-4ハロアルキル基、C1-4アルコキシ基、C1-4ハロアルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシ基、保護されていてもよいスルファニル基およびビニル基から選択される基でそれぞれ置換されていてもよい。]
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011001340A (ja) | 2009-05-19 | 2011-01-06 | Central Glass Co Ltd | 2−フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| CN102211998A (zh) | 2011-04-08 | 2011-10-12 | 镇江蓝德特药业科技有限公司 | α-氟代丙烯酸甲酯及其类似物的合成方法 |
| JP2014024755A (ja) | 2012-07-24 | 2014-02-06 | Daikin Ind Ltd | α−フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| WO2014034906A1 (ja) | 2012-08-30 | 2014-03-06 | ダイキン工業株式会社 | α-フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2017522286A (ja) | 2014-06-18 | 2017-08-10 | サルティゴ・ゲーエムベーハー | 2−ハロゲン−アクリル酸エステルを製造するための方法 |
| WO2017163756A1 (ja) | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 旭硝子株式会社 | α-フルオロアクリル酸エステルの製造方法、高純度なフルオロシクロプロパン誘導体を含む組成物、および、高純度なα-フルオロアクリル酸エステルを含む組成物 |
-
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011001340A (ja) | 2009-05-19 | 2011-01-06 | Central Glass Co Ltd | 2−フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| CN102211998A (zh) | 2011-04-08 | 2011-10-12 | 镇江蓝德特药业科技有限公司 | α-氟代丙烯酸甲酯及其类似物的合成方法 |
| JP2014024755A (ja) | 2012-07-24 | 2014-02-06 | Daikin Ind Ltd | α−フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| WO2014034906A1 (ja) | 2012-08-30 | 2014-03-06 | ダイキン工業株式会社 | α-フルオロアクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2017522286A (ja) | 2014-06-18 | 2017-08-10 | サルティゴ・ゲーエムベーハー | 2−ハロゲン−アクリル酸エステルを製造するための方法 |
| WO2017163756A1 (ja) | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 旭硝子株式会社 | α-フルオロアクリル酸エステルの製造方法、高純度なフルオロシクロプロパン誘導体を含む組成物、および、高純度なα-フルオロアクリル酸エステルを含む組成物 |
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