JP7529431B2 - Resin composition, substrate film, laminate and display cover window - Google Patents
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Description
本発明は、樹脂組成物、基材フィルム、積層体およびディスプレイのカバーウィンドウに関する。 The present invention relates to a resin composition, a substrate film, a laminate, and a cover window for a display.
スマートフォンやタブレット等の携帯情報端末の携帯性をさらに高めるため、折り畳み可能なディスプレイ、タッチパネルなどのフォルダブルデバイスの需要が高まっている。フォルダブルデバイスのディスプレイには、一般的なディスプレイの材料に求められる透明性に加えて、携帯性を高めるために、小さな屈曲半径(例えば、屈曲半径2.5mm程度)で180°に折り曲げる必要があり、極めて高い屈曲性が求められる。また、フォルダブルデバイスのディスプレイには、折り畳んだ状態で携帯し、使用時に開き、使用後は再び折り畳んで繰り返し使用されるため、高い屈曲耐久性、すなわち、繰り返し折り畳んでもクラック等が発生しない耐久性も求められる。 In order to further improve the portability of mobile information terminals such as smartphones and tablets, there is an increasing demand for foldable devices such as foldable displays and touch panels. In addition to the transparency required of general display materials, the displays of foldable devices must be bent 180° with a small bending radius (for example, a bending radius of about 2.5 mm) to improve portability, and therefore require extremely high flexibility. In addition, the displays of foldable devices are carried in a folded state, unfolded when used, and folded again after use for repeated use, so they are also required to have high bending durability, i.e., durability that does not cause cracks even when folded repeatedly.
一方で、フォルダブルデバイスのディスプレイには、指触やタッチペンによってディスプレイの表面に圧迫痕や擦傷痕が生じることや、折り畳むことによる屈曲痕が発生することを抑制するため、ディスプレイ表層にハードコート層を設けることやハードコート層の下地となる基材フィルムの弾性率を向上させる検討がなされている。 On the other hand, in order to prevent pressure marks and scratches on the surface of the display caused by touch with a finger or a touch pen, and to prevent bending marks caused by folding, studies are being conducted on the display surface of foldable devices, such as providing a hard coat layer and improving the elastic modulus of the substrate film that serves as the base for the hard coat layer.
そして、特許文献1には、耐熱性、透明性、機械的強度、表面硬度、耐屈曲性を兼ね備えたフレキシブルディスプレイ用のフィルムを提供することを目的として、特定の分子構造を有したポリイミドとシリカ微粒子とを組み合わせたポリイミド樹脂組成物が開示されている。 Patent Document 1 discloses a polyimide resin composition that combines polyimide having a specific molecular structure with silica particles, with the aim of providing a film for flexible displays that combines heat resistance, transparency, mechanical strength, surface hardness, and bending resistance.
しかしながら、特許文献1に記載されたようなポリイミド樹脂組成物では、シリカ微粒子を高充填しなければ十分な弾性率を満足することができず、シリカ微粒子を高充填した場合には、フィルムの屈曲性や透明性は低下するため、フィルム製造工程やディスプレイ製造工程にて、フィルムが割れる等の不具合や、ディスプレイ用の材料に要求される光学特性が満足できないという問題が生じた。 However, in the polyimide resin composition described in Patent Document 1, unless the silica fine particles are highly loaded, sufficient elastic modulus cannot be achieved. When the silica fine particles are highly loaded, the flexibility and transparency of the film decrease, which causes problems such as the film cracking during the film manufacturing process and the display manufacturing process, and the optical properties required for display materials cannot be satisfied.
そこで、本発明の主たる目的は、耐屈曲性や透明性を損なうことなく、従来技術では達成できなかった、高弾性を兼ね備える樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記樹脂組成物からなる基材フィルム、積層体およびディスプレイのカバーウィンドウを提供することにある。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a resin composition which has high elasticity without impairing flex resistance and transparency, something which could not be achieved by conventional techniques.
Another object of the present invention is to provide a substrate film, a laminate, and a cover window for a display, each of which is made of the above resin composition.
本発明者らは、上記目的の実現に向け鋭意検討した。その結果、ポリイミドとともにアルミナフィラーと、分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートとを含む樹脂組成物を用いることで、耐屈曲性や透明性を損なうことなく、従来技術では達成できなかった、高弾性を兼ね備えた樹脂組成物からなる基材フィルム、積層体およびディスプレイのカバーウィンドウを得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have conducted extensive research to achieve the above object. As a result, they have discovered that by using a resin composition containing alumina filler, (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or a blocked isocyanate having an isocyanuric ring, together with polyimide, it is possible to obtain a substrate film, a laminate, and a display cover window made of a resin composition having high elasticity without impairing bending resistance or transparency, something that could not be achieved by conventional techniques, and have thus completed the present invention.
すなわち、本発明の樹脂組成物は、(A)ポリイミドと、(B)アルミナフィラーと、(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートと、を含むことを特徴とする。
なお、本発明において、「分子量」とは、オリゴマーやポリマー等の重合体といった分子量が異なる2種以上の混合物においては重量平均分子量を指す。
That is, the resin composition of the present invention is characterized by containing (A) a polyimide, (B) an alumina filler, and (C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or (C2) a blocked isocyanate having an isocyanuric ring.
In the present invention, the term "molecular weight" refers to the weight average molecular weight in a mixture of two or more substances having different molecular weights, such as oligomers and polymers.
本発明の樹脂組成物は、前記(B)アルミナフィラーが、平均粒径が10nm以上100nm以下で、球状または不定形であることが好ましく、球状であることがさらに好ましく、前記(A)ポリイミド100質量部に対して、5質量部~180質量部含まれることが好ましく、前記(A)ポリイミド100質量部に対して、前記(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートが、1質量部~50質量部含まれることが好ましい。
なお、本発明において、(B)アルミナフィラーの「平均粒径」とは、一次粒子の粒子径だけでなく、二次粒子(凝集体)の粒子径も含めた平均粒子径(D50)であり、レーザー回折法により測定されたD50の値を指す。
In the resin composition of the present invention, the alumina filler (B) has an average particle size of 10 nm or more and 100 nm or less, and is preferably spherical or amorphous, more preferably spherical, and is preferably contained in an amount of 5 parts by mass to 180 parts by mass relative to 100 parts by mass of the polyimide (A). The resin composition of the present invention preferably contains 1 part by mass to 50 parts by mass of the (C1) (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less or the (C2) blocked isocyanate having an isocyanuric ring, relative to 100 parts by mass of the polyimide (A).
In the present invention, the "average particle size" of the alumina filler (B) refers to the average particle size (D50) including not only the particle size of the primary particles but also the particle size of the secondary particles (aggregates), and refers to the D50 value measured by a laser diffraction method.
本発明の基材フィルムは、前記樹脂組成物からなることを特徴とする。 The substrate film of the present invention is characterized by being made of the above-mentioned resin composition.
本発明の積層体は、前記基材フィルム上にハードコート層が積層されていることを特徴とする。 The laminate of the present invention is characterized in that a hard coat layer is laminated on the substrate film.
本発明のディスプレイのカバーウィンドウは、前記積層体であることを特徴とする。 The cover window of the display of the present invention is characterized by being the laminate.
本発明によれば、基材フィルムに用いた場合に、耐屈曲性や透明性を損なうことなく、従来技術では達成できなかった、高弾性を兼ね備える樹脂組成物を得ることができる。
また、本発明によれば、上記樹脂組成物からなる基材フィルム、積層体およびディスプレイのカバーウィンドウを得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a resin composition which, when used for a base film, has high elasticity without impairing bending resistance or transparency, which could not be achieved by conventional techniques.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to obtain a substrate film, a laminate, and a cover window for a display, each of which is made of the above-mentioned resin composition.
本発明の樹脂組成物は、(A)ポリイミドと、(B)アルミナフィラーと、(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートと、を含むことを特徴とする。 The resin composition of the present invention is characterized by containing (A) a polyimide, (B) an alumina filler, and (C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or (C2) a blocked isocyanate having an isocyanuric ring.
(A)ポリイミドに(B)アルミナフィラーを添加した場合、顕著な高弾性化の効果を得ることができる。しかしながら、一方で、(A)ポリイミドに(B)アルミナフィラーを添加しただけでは、屈曲や圧迫等の外部応力が加わった際に(A)ポリイミド中に分散した(B)アルミナフィラーに応力が集中することで脆性破壊が発生し、柔軟性(伸び率)が低下することとなる。
そこで、本発明の樹脂組成物においては、(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートをさらに添加する。その結果、(A)ポリイミド中に分散した(B)アルミナフィラーに応力が集中することを緩和することができ、本発明の樹脂組成物は、前述の顕著な高弾性化の効果とともに、柔軟性を維持することができる。
When alumina filler (B) is added to polyimide (A), a significant effect of increasing elasticity can be obtained. However, when alumina filler (B) is simply added to polyimide (A), stress is concentrated on alumina filler (B) dispersed in polyimide (A) when external stress such as bending or compression is applied, resulting in brittle fracture and a decrease in flexibility (elongation).
Therefore, in the resin composition of the present invention, (C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or (C2) a blocked isocyanate having an isocyanuric ring is further added, which results in the relaxation of stress concentration on the alumina filler (B) dispersed in the polyimide (A), and the resin composition of the present invention can maintain its flexibility while achieving the aforementioned remarkable effect of high elasticity.
以下、本発明の樹脂組成物を構成する各構成要素について詳述する。 The components that make up the resin composition of the present invention are described in detail below.
[(A)ポリイミド]
本発明の樹脂組成物は、(A)ポリイミドを含む。
ポリイミドは、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるものである。テトラカルボン酸成分とジアミン成分の重合によってポリアミド酸を得てイミド化することが好ましい。イミド化は、熱イミド化で行っても、化学イミド化で行ってもよい。また、熱イミド化と化学イミド化とを併用した方法で製造することもできる。
[(A) Polyimide]
The resin composition of the present invention contains (A) a polyimide.
Polyimide is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component. It is preferable to obtain a polyamic acid by polymerization of the tetracarboxylic acid component and the diamine component, and then imidize the polyamic acid. The imidization may be performed by thermal imidization or chemical imidization. Polyimide can also be produced by a method that combines thermal imidization and chemical imidization.
テトラカルボン酸成分の具体例としては、テトラカルボン酸二無水物が好適に用いられ、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキサン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、1,4-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、2,2-ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、2,2-ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}プロパン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、4,4’-ビス〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、4,4’-ビス〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕ビフェニル二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルホン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}スルフィド二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
これらのテトラカルボン酸二無水物は単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
Specific examples of the tetracarboxylic acid component include tetracarboxylic dianhydrides, such as cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexane-3,4,3',4'-tetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, and bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride. , bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene dianhydride, 1,4-bis[(3,4-dicarboxy)benzoyl]benzene dianhydride, 2,2-bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}propane dianhydride, 2,2- Bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}propane dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, 4,4'-bis[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]biphenyl dianhydride, 4,4'-bis[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]biphenyl dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}ketone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfone dianhydride, bis{4-[4-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfide dianhydride, bis{4-[3-(1,2-dicarboxy)phenoxy]phenyl}sulfide dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrenetetracarboxylic dianhydride, and the like.
These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.
ジアミン成分の具体例としては、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、o-フェニレンジアミン、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)プロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,1-ジ(3-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ジ(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1-(3-アミノフェニル)-1-(4-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ピリジン、N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジトリフルオロメチル-4,4’-ジアミノビフェニル(2,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン)、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[3-(3-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-フェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-ビフェノキシベンゾフェノン、6,6’-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、6,6’-ビス(4-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノブチル)ポリジメチルシロキサン、ビス(アミノメチル)エーテル、ビス(2-アミノエチル)エーテル、ビス(3-アミノプロピル)エーテル、ビス(2-アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2-(2-アミノエトキシ)エチル]エーテル、ビス[2-(3-アミノプロトキシ)エチル]エーテル、1,4-シクロヘキサンジアミン、trans-1,4-ビスメチレンシクロヘキサンジアミン(trans-1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン)、2,6-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2,5-ビス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、また、上記ジアミンの芳香族環上水素原子の一部若しくは全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、又はトリフルオロメトキシ基から選ばれる置換基で置換したジアミンも使用することができる。
これらのジアミンは単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
Specific examples of the diamine component include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzanilide, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di(3-aminophenyl)propane. Pan, 2,2-di(4-aminophenyl)propane, 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl)propane, 2,2-di(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2-(3-aminophenyl)-2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane 1,1-di(3-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,1-di(4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1-(3-aminophenyl)-1-(4-aminophenyl)-1-phenylethane, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminobenzoyl)benzene, 1,3-bis(4-aminobenzoyl)benzene, 1,4-bis(3-aminobenzoyl)benzene, 1,4-bis(4-aminobenzoyl)benzene, 1,3-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(3-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,3-bis(4-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(3-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene, 1,4-bis(4-amino-α,α-ditrifluoromethylbenzyl)benzene )benzene, 2,6-bis(3-aminophenoxy)benzonitrile, 2,6-bis(3-aminophenoxy)pyridine, N,N'-bis(4-aminophenyl)terephthalamide, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl (2,2-bis(trifluoromethyl)benzidine), 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[ 4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]ether, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ether, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,3-bis[4 -(4-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]benzene, 1,3-bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-aminophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)benzoyl]diphenyl ether, 4,4'-bis[4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy]benzophenone, 4,4'-bis[4-(4-amino-α,α-dimethylbenzyl)phenoxy] Diphenyl sulfone, 4,4'-bis[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]diphenyl sulfone, 3,3'-diamino-4,4'-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6'-bis(3-aminophenoxy)-3,3,3 ',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 6,6'-bis(4-aminophenoxy)-3,3,3',3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane, 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, 1,3-bis(4-aminobutyl)tetramethyldisiloxane, α,ω-bis(3-aminopropyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis(3-aminobutyl)poly Dimethylsiloxane, bis(aminomethyl)ether, bis(2-aminoethyl)ether, bis(3-aminopropyl)ether, bis(2-aminomethoxy)ethyl]ether, bis[2-(2-aminoethoxy)ethyl]ether, bis[2-(3-aminoprotoxy)ethyl]ether, 1,4-cyclohexanediamine, trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine (trans-1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane), 2,6-bis(aminomethyl)bicyclo[2,2,1]heptane, 2,5-bis(aminomethyl)bicyclo[2,2,1]heptane, and diamines in which some or all of the hydrogen atoms on the aromatic ring of the above diamines are substituted with substituents selected from fluoro groups, methyl groups, methoxy groups, trifluoromethyl groups, and trifluoromethoxy groups can also be used.
These diamines may be used alone or in combination of two or more.
また、光透過性を向上し、かつ、耐衝撃性を向上する点から、芳香族環を含み、且つ、(i)フッ素原子、(ii)脂肪族環、および(iii)芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素原子で置換されていても良いアルキレン基で連結した構造からなる群から選択される少なくとも1つを含むポリイミドを含有することが好ましい。ポリイミドに芳香族環を含むと配向性が高まり、剛性が向上するため、耐衝撃性が向上するが、芳香族環の吸収波長によって透過率が低下する傾向がある。
ポリイミドに(i)フッ素原子を含むとポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難くすることができる点から光透過性が向上する。
ポリイミドに(ii)脂肪族環を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から光透過性が向上する。
ポリイミドに(iii)芳香族環同士をスルホニル基又はフッ素原子で置換されていても良いアルキレン基で連結した構造を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点からの点から光透過性が向上する。
In addition, from the viewpoint of improving light transmittance and impact resistance, it is preferable to contain a polyimide containing an aromatic ring and at least one selected from the group consisting of (i) a fluorine atom, (ii) an aliphatic ring, and (iii) a structure in which aromatic rings are linked together by an alkylene group which may be substituted with a sulfonyl group or a fluorine atom. When an aromatic ring is contained in a polyimide, the orientation is increased and the rigidity is improved, so that the impact resistance is improved, but the transmittance tends to decrease depending on the absorption wavelength of the aromatic ring.
When the polyimide contains (i) fluorine atoms, the electronic state in the polyimide skeleton is made difficult to transfer charges, and thus the light transmittance is improved.
When the polyimide contains (ii) an aliphatic ring, the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton can be broken, thereby inhibiting the movement of charges in the skeleton, and thus improving the light transmittance.
When the polyimide contains (iii) a structure in which aromatic rings are linked together via an alkylene group which may be substituted with a sulfonyl group or a fluorine atom, the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton can be broken, thereby inhibiting the movement of charges in the skeleton, and thus improving the light transmittance.
中でも、芳香族環を含み、かつフッ素原子を含むポリイミドが、光透過性を向上し、かつ、耐衝撃性を向上する点から好ましく用いられる。
ポリイミド中のフッ素原子の含有割合は、ポリイミド表面をX線光電子分光法により測定したフッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が、0.01以上であることが好ましく、更に0.05以上であることが好ましい。一方でフッ素原子の含有割合が高すぎるとポリイミド本来の耐熱性などが低下する恐れがあることから、前記フッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が1以下であることが好ましく、更に0.8以下であることが好ましい。
ここで、X線光電子分光法(XPS)の測定による上記比率は、X線光電子分光装置(例えば、Thermo Scientific社 Theta Probe)を用いて測定される各原子の原子%の値から求めることができる。
Among these, polyimides containing an aromatic ring and a fluorine atom are preferably used from the viewpoints of improving light transmittance and impact resistance.
The content of fluorine atoms in the polyimide is preferably such that the ratio (F/C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C) measured on the surface of the polyimide by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.01 or more, more preferably 0.05 or more. On the other hand, if the content of fluorine atoms is too high, there is a risk that the inherent heat resistance of the polyimide may decrease, so that the ratio (F/C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C) is preferably 1 or less, more preferably 0.8 or less.
Here, the above ratio measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) can be found from the atomic % value of each atom measured using an X-ray photoelectron spectrometer (for example, Theta Probe manufactured by Thermo Scientific).
また、ポリイミドは、耐衝撃性が向上する点から、テトラカルボン酸残基およびジアミン残基の合計を100モル%としたときに、芳香族環を有するテトラカルボン酸残基および芳香族環を有するジアミン残基の合計が50モル%以上であることが好ましく、60モル%以上であることがより好ましく、75モル%以上であることがより更に好ましい。 In addition, in terms of improving impact resistance, when the total of the tetracarboxylic acid residues and the diamine residues in the polyimide is taken as 100 mol %, the total of the tetracarboxylic acid residues having an aromatic ring and the diamine residues having an aromatic ring is preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 75 mol % or more.
なお、本発明において、ポリイミド中の各繰り返し単位の含有割合、各テトラカルボン酸残基や各ジアミン残基の含有割合(モル%)は、ポリイミド製造時には仕込みの分子量から求めることができる。また、ポリイミド中の各テトラカルボン酸残基や各ジアミン残基の含有割合(モル%)は、サンプルを、アルカリ水溶液、又は、超臨界メタノールにより分解して得られるポリイミドの分解物について、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計、NMR、元素分析、XPS/ESCA、TOF-SIMSおよび熱分解CG-MSを用いて求めることができる。 In the present invention, the content ratio of each repeating unit in the polyimide and the content ratio (mol %) of each tetracarboxylic acid residue and each diamine residue can be determined from the molecular weight of the charge during the production of the polyimide. The content ratio (mol %) of each tetracarboxylic acid residue and each diamine residue in the polyimide can be determined by using high performance liquid chromatography, gas chromatography mass spectrometry, NMR, elemental analysis, XPS/ESCA, TOF-SIMS, and pyrolysis CG-MS for the decomposition product of the polyimide obtained by decomposing the sample with an alkaline aqueous solution or supercritical methanol.
また、ポリイミドは、耐衝撃性と光透過性が向上する点から、テトラカルボン酸残基およびジアミン残基の少なくとも1つが、芳香族環とフッ素原子とを含むことが好ましく、更に、芳香族環とフッ素原子とを含むテトラカルボン酸残基、および芳香族環とフッ素原子とを含むジアミン残基を有することが好ましい。
ポリイミドは、テトラカルボン酸残基およびジアミン残基の合計を100モル%としたときに、芳香族環およびフッ素原子を有するテトラカルボン酸残基および芳香族環およびフッ素原子を有するジアミン残基の合計が50モル%以上であることが好ましく、60モル%以上であることがより好ましく、75モル%以上であることがより更に好ましい。
In addition, from the viewpoint of improving impact resistance and light transmittance, it is preferable that at least one of the tetracarboxylic acid residue and the diamine residue contains an aromatic ring and a fluorine atom, and it is further preferable that the polyimide has a tetracarboxylic acid residue containing an aromatic ring and a fluorine atom, and a diamine residue containing an aromatic ring and a fluorine atom.
In the polyimide, when the total of the tetracarboxylic acid residues and the diamine residues is taken as 100 mol %, the total of the tetracarboxylic acid residues having an aromatic ring and a fluorine atom and the diamine residues having an aromatic ring and a fluorine atom is preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more, and even more preferably 75 mol % or more.
また、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドであることが、光透過性を向上し、且つ、剛性を向上する点から好ましく用いられる。ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合は、更に、60%以上であることが好ましく、より更に70%以上であることが好ましい。
ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、大気中における加熱工程を経ても、例えば200℃以上で延伸を行っても、光学特性、特に全光線透過率や黄色度YI値の変化が少ない点から好ましい。ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、酸素との反応性が低いため、ポリイミドの化学構造が変化し難いことが推定される。ポリイミドフィルムはその高い耐熱性を利用し、加熱を伴う加工工程が必要なデバイスなどに用いられる場合が多いが、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の50%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、これら後工程を透明性維持のために不活性雰囲気下で実施する必要が生じないので、設備コストや雰囲気制御にかかる費用を抑制できるというメリットがある。
ここで、ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する全水素原子(個数)中の、芳香族環
に直接結合する水素原子(個数)の割合は、ポリイミドの分解物を高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計およびNMRを用いて求めることができる。例えば、サンプルを、アルカリ水溶液、又は、超臨界メタノールにより分解し、得られたポリイミドの分解物を、高速液体クロマトグラフィーで分離し、当該分離した各ピークの定性分析をガスクロマトグラフ質量分析計およびNMR等を用いて行い、高速液体クロマトグラフィーを用いて定量することで、ポリイミドに含まれる全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合を求めることができる。
In addition, polyimides in which 50% or more of hydrogen atoms bonded to carbon atoms contained in the polyimide are hydrogen atoms directly bonded to aromatic rings are preferably used from the viewpoints of improving light transmittance and improving rigidity. The ratio of hydrogen atoms (number) directly bonded to aromatic rings among all hydrogen atoms (number) bonded to carbon atoms contained in the polyimide is further preferably 60% or more, and even more preferably 70% or more.
In the case where 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are hydrogen atoms bonded directly to the aromatic ring, even if the polyimide is heated in the atmosphere and stretched at, for example, 200°C or higher, the optical properties, particularly the total light transmittance and the yellowness index YI value, are less likely to change. In the case where 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are hydrogen atoms bonded directly to the aromatic ring, it is estimated that the chemical structure of the polyimide is less likely to change due to low reactivity with oxygen. Polyimide films are often used in devices that require processing steps involving heating, taking advantage of their high heat resistance, but in the case where 50% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are hydrogen atoms bonded directly to the aromatic ring, there is no need to carry out these subsequent steps under an inert atmosphere to maintain transparency, so there is an advantage in that the equipment costs and the costs for atmosphere control can be suppressed.
Here, the ratio of the hydrogen atoms (number) directly bonded to aromatic rings in the total hydrogen atoms (number) bonded to carbon atoms contained in polyimide can be obtained by using high performance liquid chromatography, gas chromatography mass spectrometer and NMR on the decomposition product of polyimide.For example, a sample is decomposed with an alkaline aqueous solution or supercritical methanol, the decomposition product of polyimide obtained is separated by high performance liquid chromatography, and each peak separated is qualitatively analyzed by using a gas chromatography mass spectrometer and NMR, etc., and quantified by high performance liquid chromatography, thereby the ratio of the hydrogen atoms (number) directly bonded to aromatic rings in the total hydrogen atoms (number) contained in polyimide can be obtained.
また、本発明に用いられるポリイミドは、本発明の効果が損なわれない限り、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。 In addition, the polyimide used in the present invention may contain a polyamide structure in part, so long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the polyamide structure that may be contained include a polyamideimide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic anhydride, and a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid.
本発明に用いられるポリイミドは、耐熱性の点から、ガラス転移温度が200℃以上であることが好ましく、250℃以上であることがより好ましく、更に、270℃以上であることが好ましい。
本発明に用いられるポリイミドのガラス転移温度は、動的粘弾性測定によって得られる温度-tanδ(tanδ=損失弾性率(E’’)/貯蔵弾性率(E’))曲線のピーク温度から求められるものである。ポリイミドのガラス転移温度は、tanδ曲線のピークが複数存在する場合、ピークの極大値が最大であるピークの温度をいう。動的粘弾性測定としては、例えば、動的粘弾性測定装置 RSA III(ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株))によって、測定範囲を-150℃~400℃として、周波数1Hz、昇温速度5℃/minにより行うことができる。また、サンプル幅を5mm、チャック間距離を20mmとして測定することができる。
本発明において、tanδ曲線のピークとは、極大値である変曲点を有し、且つ、ピークの谷と谷の間であるピーク幅が3℃以上であるものをいい、ノイズ等測定由来の細かい上下変動については、前記ピークと解釈しない。
From the viewpoint of heat resistance, the polyimide used in the present invention preferably has a glass transition temperature of 200° C. or higher, more preferably 250° C. or higher, and further preferably 270° C. or higher.
The glass transition temperature of the polyimide used in the present invention is determined from the peak temperature of a temperature-tan δ (tan δ=loss modulus (E″)/storage modulus (E′)) curve obtained by dynamic viscoelasticity measurement. When there are multiple peaks in the tan δ curve, the glass transition temperature of the polyimide refers to the temperature of the peak with the largest local maximum value. The dynamic viscoelasticity measurement can be performed, for example, with a dynamic viscoelasticity measuring device RSA III (TA Instruments Japan Co., Ltd.) in the measurement range of −150° C. to 400° C., at a frequency of 1 Hz and a temperature rise rate of 5° C./min. The measurement can also be performed with a sample width of 5 mm and a chuck distance of 20 mm.
In the present invention, a peak of a tan δ curve refers to a curve that has an inflection point that is a maximum value and has a peak width between the valleys of the peak of 3° C. or more. Small fluctuations up and down due to measurement noise or the like are not interpreted as the peak.
[(B)アルミナフィラー]
本発明の樹脂組成物は、(B)アルミナフィラーを含む。
[(B) Alumina filler]
The resin composition of the present invention contains (B) an alumina filler.
(B)アルミナフィラーは、(A)ポリイミド100質量部に対して、5質量部~180質量部含まれることが好ましく、30質量部~150質量部含まれることがより好ましく、50質量部~120質量部含まれることがさらに好ましい。(A)ポリイミド100質量部に対して、5質量以上含まれれば、調整層の弾性率を向上することができ、180質量以下含まれれば、ヘーズとYI値を低減することができ、優れた透明性が得られる。 The (B) alumina filler is preferably contained in an amount of 5 to 180 parts by mass, more preferably 30 to 150 parts by mass, and even more preferably 50 to 120 parts by mass, per 100 parts by mass of (A) polyimide. If it is contained in an amount of 5 or more by mass per 100 parts by mass of (A) polyimide, the elastic modulus of the adjustment layer can be improved, and if it is contained in an amount of 180 or less by mass, the haze and YI value can be reduced, and excellent transparency can be obtained.
(B)アルミナフィラーは、平均粒径が10nm以上100nm以下であることが好ましく、30nm以上90nm以下であることがより好ましく、50nm以上80nm以下であることがさらに好ましい。平均粒径が上記のような範囲にあれば、良好な分散性が得られ、曇りを低減した積層体を形成することができる。また、形状は、分散性の観点から、球状または不定形が好ましく、球状がより好ましい。
ここで、(B)アルミナフィラーの「平均粒径」は、一次粒子の粒子径だけでなく、二次粒子(凝集体)の粒子径も含めた平均粒子径(D50)であり、レーザー回折法により測定されたD50の値である。レーザー回折法による測定装置としては、日機装社製のMicrotrac MT3300EXIIが挙げられる。なお、最大粒径(D100)および粒径(D10)についても上記の装置にて同様に測定することができる。
(B) The alumina filler preferably has an average particle size of 10 nm or more and 100 nm or less, more preferably 30 nm or more and 90 nm or less, and even more preferably 50 nm or more and 80 nm or less. If the average particle size is within the above range, good dispersibility can be obtained, and a laminate with reduced haze can be formed. In addition, from the viewpoint of dispersibility, the shape is preferably spherical or amorphous, and more preferably spherical.
Here, the "average particle size" of the (B) alumina filler is the average particle size (D50) including not only the particle size of the primary particles but also the particle size of the secondary particles (aggregates), and is the value of D50 measured by a laser diffraction method. An example of a measuring device using the laser diffraction method is Microtrac MT3300EXII manufactured by Nikkiso Co., Ltd. The maximum particle size (D100) and particle size (D10) can also be measured in the same manner using the above device.
(B)アルミナフィラーは表面処理されていてもよい。表面処理がされている分散性を高めることができるうえ、表面処理がされている(B)アルミナフィラーを使用することで、凝集も防止することができる。 The (B) alumina filler may be surface-treated. The surface treatment can increase dispersibility, and the use of surface-treated (B) alumina filler can also prevent aggregation.
(B)アルミナフィラーの表面処理方法は特に限定されず、公知慣用の方法を用いればよく、例えば、カップリング剤等で(B)アルミナフィラーの表面を処理することが好ましい。 The method for treating the surface of the (B) alumina filler is not particularly limited, and any known, commonly used method may be used. For example, it is preferable to treat the surface of the (B) alumina filler with a coupling agent or the like.
カップリング剤としては、シラン系、チタネート系、アルミネート系およびジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用できる。中でもシラン系カップリング剤が好ましい。かかるシラン系カップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N-(2-アミノメチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アニリノプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ、これらは単独で、あるいは併用して使用することができる。これらのシラン系カップリング剤は、予め(B)アルミナフィラーの表面に吸着あるいは反応により固定化されていることが好ましい。ここで、(B)アルミナフィラー100質量部に対するカップリング剤の処理量は、0.5~10質量部であることが好ましい。 As the coupling agent, silane-based, titanate-based, aluminate-based, zircoaluminate-based, and other coupling agents can be used. Among them, silane-based coupling agents are preferred. Examples of such silane-based coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N-(2-aminomethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, which can be used alone or in combination. It is preferable that these silane-based coupling agents are immobilized in advance on the surface of the (B) alumina filler by adsorption or reaction. Here, the amount of coupling agent to be treated per 100 parts by mass of (B) alumina filler is preferably 0.5 to 10 parts by mass.
なお、(B)アルミナフィラーを表面処理する場合、表面処理がされた(B)アルミナフィラーは、表面処理された状態で樹脂組成物中に含有されていればよく、表面未処理の(B)アルミナフィラーと表面処理剤とを別々に配合して組成物中で(B)アルミナフィラーが表面処理されてもよいが、予め表面処理した(B)アルミナフィラーを配合することが好ましい。予め表面処理した(B)アルミナフィラーを配合することによって、別々に配合した場合に残存しうる表面処理で消費されなかった表面処理剤によるクラック耐性等の低下を防ぐことができる。予め表面処理する場合は、溶剤や硬化性成分に(B)アルミナフィラーを予備分散した予備分散液を配合することが好ましく、表面処理した(B)アルミナフィラーを溶剤に予備分散し、該予備分散液を組成物に配合するか、表面未処理の(B)アルミナフィラーを溶剤に予備分散する際に十分に表面処理した後、該予備分散液を組成物に配合することがより好ましい。 In addition, when the (B) alumina filler is surface-treated, the surface-treated (B) alumina filler may be contained in the resin composition in a surface-treated state. Although the surface-untreated (B) alumina filler and the surface treatment agent may be mixed separately to surface-treat the (B) alumina filler in the composition, it is preferable to mix the (B) alumina filler that has been surface-treated in advance. By mixing the (B) alumina filler that has been surface-treated in advance, it is possible to prevent a decrease in crack resistance, etc. due to the surface treatment agent that was not consumed in the surface treatment, which may remain when mixed separately. When the surface is treated in advance, it is preferable to mix a pre-dispersion in which the (B) alumina filler is pre-dispersed in a solvent or a curable component. It is more preferable to pre-disperse the surface-treated (B) alumina filler in a solvent and mix the pre-dispersion in the composition, or to pre-disperse the surface-untreated (B) alumina filler in a solvent and then sufficiently surface-treat it, and then mix the pre-dispersion in the composition.
また、(B)アルミナフィラーは、粉体または固体状態で(A)ポリイミド等と配合してもよく、溶剤や分散剤と混合してスラリーとした後で(A)ポリイミド等と配合してもよい。 In addition, (B) alumina filler may be blended with (A) polyimide etc. in a powder or solid state, or may be mixed with a solvent or dispersant to form a slurry and then blended with (A) polyimide etc.
[(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)ブロックイソシアネート]
本発明の樹脂組成物は、(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)ブロックイソシアネートを含む。
[(C1) (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or (C2) blocked isocyanate]
The resin composition of the present invention contains (C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or (C2) a blocked isocyanate.
(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、(C2)ブロックイソシアネートは、(A)ポリイミド100質量部に対して、0.1質量部~100質量部含まれることが好ましく、1質量部~50質量部含まれることがさらに好ましく、2質量部~20質量部含まれることが特に好ましい。0.1質量部以上含まれれば、フィルム製造工程における乾燥収縮や屈曲や圧迫等の外部応力が緩和されることでフィルムの破損を抑制でき、100質量部以下含まれれば、耐熱性を損なうことが無い。 The (C1) (meth)acrylate with a molecular weight of 10,000 or less or the (C2) blocked isocyanate is preferably contained in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 50 parts by weight, and particularly preferably 2 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the (A) polyimide. If it is contained in an amount of 0.1 part by weight or more, external stresses such as drying shrinkage, bending, and compression during the film manufacturing process are alleviated, thereby suppressing damage to the film, and if it is contained in an amount of 100 parts by weight or less, heat resistance is not impaired.
[(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート]
本発明の(C1)(メタ)アクリレートの分子量は10000以下である。分子量が10000以下であれば、透明性を損なうことが無く、より好ましくは6000以下、特に好ましくは500以下である。
[(C1) (Meth)acrylate with Molecular Weight of 10,000 or Less]
The molecular weight of the (meth)acrylate (C1) of the present invention is not more than 10000. If the molecular weight is not more than 10000, transparency is not impaired, and it is more preferably not more than 6000, and particularly preferably not more than 500.
(メタ)アクリレートとしては、公知慣用の(メタ)アクリレート系オリゴマーや(メタ)アクリレート系モノマーを用いることができる。(メタ)アクリレート化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the (meth)acrylate, a publicly known and commonly used (meth)acrylate oligomer or (meth)acrylate monomer can be used. The (meth)acrylate compound may be used alone or in combination of two or more kinds.
(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、フェノールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラックエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン変性(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of (meth)acrylate oligomers include epoxy (meth)acrylates such as phenol novolac epoxy (meth)acrylate, cresol novolac epoxy (meth)acrylate, and bisphenol-type epoxy (meth)acrylate, as well as urethane (meth)acrylate, epoxy urethane (meth)acrylate, polyester (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, and polybutadiene-modified (meth)acrylate.
(メタ)アクリレート系モノマーとしては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド、N-ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N-メトキシメチルアクリルアミド、N-エトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキシメチルアクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド類;トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリルなどのアリル化合物;2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸のエステル類;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート類、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどのアルキレンポリオールポリ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロハントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどのポリオキシアルキレングリコールポリ(メタ)アクリレート類;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジ(メタ)アクリレートなどのポリ(メタ)アクリレート類;トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレートなどのイソシアヌルレート型ポリ(メタ)アクリレート類などが挙げられる。 (Meth)acrylate monomers include (meth)acrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide, N-hydroxymethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, and N-butoxymethylacrylamide; allyl compounds such as triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, and diallyl isophthalate; 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, isopropyl alcohol, and the like. (meth)acrylic acid esters such as isobornyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, and phenoxyethyl (meth)acrylate; hydroxyalkyl (meth)acrylates such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and pentaerythritol tri(meth)acrylate; alkoxyalkylene glycol mono(meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate; ethylene glycol di(meth)acrylate, tri(meth)acrylate, and the like. alkylene polyol poly(meth)acrylates such as dipropylene glycol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylates, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene Examples of such polyoxyalkylene glycol poly(meth)acrylates include glycol di(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate; poly(meth)acrylates such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester di(meth)acrylate; and isocyanurate-type poly(meth)acrylates such as tris[(meth)acryloxyethyl]isocyanurate.
[(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネート]
本発明の樹脂組成物は、(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレートに代え、(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートを含むことができる。この(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートに含まれるブロックイソシアネート基は、イソシアネート基がブロック剤との反応により保護されて一時的に不活性化された基である。所定温度に加熱されたときにそのブロック剤が開裂してイソシアネート基が生成する。このため、塗布後も乾燥工程までは(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートのイソシアネート基を介した反応が進行しない。
[(C2) Blocked isocyanate having an isocyanuric ring]
The resin composition of the present invention may contain (C2) a blocked isocyanate having an isocyanuric ring, instead of (C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less. The blocked isocyanate group contained in the blocked isocyanate having an isocyanuric ring (C2) is a group in which the isocyanate group is protected and temporarily inactivated by a reaction with a blocking agent. When heated to a predetermined temperature, the blocking agent is cleaved to generate an isocyanate group. Therefore, even after application, the reaction via the isocyanate group of the blocked isocyanate having an isocyanuric ring (C2) does not proceed until the drying step.
(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートとしては、イソシアネート化合物とイソシアネートブロック剤との付加反応生成物が用いられる。ブロック剤と反応し得るイソシアヌル環を有するイソシアネート化合物としては、例えば、1,3,5-トリス[(5-イソシアナト-1,3,3-トリメチルシクロヘキシル)メチル]-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、2,4,6-トリオキソヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-1,3,5-トリイルトリス(6,1-ヘキサンジイル)トリスイソシアナート、1,3,5-トリス[3-(イソシアナトメチル)フェニル]-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン等が用いられる。 (C2) As the blocked isocyanate having an isocyanuric ring, an addition reaction product of an isocyanate compound and an isocyanate blocking agent is used. As an isocyanuric ring-containing isocyanate compound that can react with a blocking agent, for example, 1,3,5-tris[(5-isocyanato-1,3,3-trimethylcyclohexyl)methyl]-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, 2,4,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-triyltris(6,1-hexanediyl)trisisocyanate, 1,3,5-tris[3-(isocyanatomethyl)phenyl]-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, etc. are used.
イソシアネートブロック剤としては、例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、クロロフェノールおよびエチルフェノール等のフェノール系ブロック剤;ε-カプロラクタム、δ-パレロラクタム、γ-ブチロラクタムおよびβ-プロピオラクタム等のラクタム系ブロック剤;アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトン等の活性メチレン系ブロック剤;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルエーテル、グリコール酸メチル、グリコール酸ブチル、ジアセトンアルコール、乳酸メチルおよび乳酸エチル等のアルコール系ブロック剤;ホルムアルデヒドキシム、アセトアルドキシム、アセトキシム、メチルエチルケトキシム、ジアセチルモノオキシム、シクロヘキサンオキシム等のオキシム系ブロック剤;ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、t-ブチルメルカプタン、チオフェノール、メチルチオフェノール、エチルチオフェノール等のメルカプタン系ブロック剤;酢酸アミド、ベンズアミド等の酸アミド系ブロック剤;コハク酸イミドおよびマレイン酸イミド等のイミド系ブロック剤;キシリジン、アニリン、ブチルアミン、ジブチルアミン等のアミン系ブロック剤;イミダゾール、2-エチルイミダゾール等のイミダゾール系ブロック剤;メチレンイミンおよびプロピレンイミン等のイミン系ブロック剤;ジメチルピラゾール等のピラゾール系ブロック剤;ジエチルマレイン酸等のマレイン酸エステル系ブロック剤等を挙げることができる。 Examples of isocyanate blocking agents include phenol-based blocking agents such as phenol, cresol, xylenol, chlorophenol, and ethylphenol; lactam-based blocking agents such as ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam, and β-propiolactam; active methylene-based blocking agents such as ethyl acetoacetate and acetylacetone; alcohol-based blocking agents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, amyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, benzyl ether, methyl glycolate, butyl glycolate, diacetone alcohol, methyl lactate, and ethyl lactate; formaldehyde Examples of suitable blocking agents include oxime-based blocking agents such as dehydroxime, acetaldoxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, diacetyl monoxime, and cyclohexane oxime; mercaptan-based blocking agents such as butyl mercaptan, hexyl mercaptan, t-butyl mercaptan, thiophenol, methylthiophenol, and ethylthiophenol; acid amide-based blocking agents such as acetate amide and benzamide; imide-based blocking agents such as succinimide and maleimide; amine-based blocking agents such as xylidine, aniline, butylamine, and dibutylamine; imidazole-based blocking agents such as imidazole and 2-ethylimidazole; imine-based blocking agents such as methyleneimine and propyleneimine; pyrazole-based blocking agents such as dimethylpyrazole; and maleate ester-based blocking agents such as diethylmaleate.
(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートの開裂温度は100℃以上が好ましい。100℃以上であれは、フィルム化の乾燥工程まで、粘度上昇が抑制され、塗工性が維持される。 (C2) The cleavage temperature of the blocked isocyanate having an isocyanuric ring is preferably 100°C or higher. If the temperature is 100°C or higher, the viscosity increase is suppressed and the coatability is maintained until the drying process for film formation.
本発明の(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートには、市販のものを使用することができ、例えば、TRIXENE社製 BI7951、BI7982を挙げることができる。また、このような(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートは、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the blocked isocyanate having an isocyanuric ring (C2) of the present invention, commercially available products can be used, for example, BI7951 and BI7982 manufactured by TRIXENE. In addition, such blocked isocyanate having an isocyanuric ring (C2) can be used alone or in combination of two or more kinds.
[その他の成分]
本発明の樹脂組成物は本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含有することができる。
[Other ingredients]
The resin composition of the present invention may contain other components within the range not impairing the effects of the present invention.
(1)添加剤
本発明に係る樹脂組成物には、ポリイミドの他に、必要に応じて更に添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、製膜性や脱泡性を向上させる界面活性剤等が挙げられる。
(1) Additives The resin composition according to the present invention may further contain additives in addition to the polyimide, if necessary. Examples of the additives include surfactants that improve film-forming properties and defoaming properties.
(2)その他樹脂
また、本発明に係る樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、ポリイミド以外のその他の樹脂を含有していても良い。その他の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ガラス-エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリノルボルネン等のポリシクロオレフィン等が挙げられる。
(2) Other Resins The resin composition according to the present invention may contain other resins other than polyimide, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other resins include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyamide resins, polyamideimide resins, polyphenylene sulfide resins, polyether ether ketone resins, polyether sulfone resins, polycarbonate resins, polyetherimide resins, epoxy resins, phenolic resins, glass-epoxy resins, polyphenylene ether resins, acrylic resins, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene, and polycycloolefins such as polynorbornene.
[基材フィルム]
本発明の基材フィルムは、前述の樹脂組成物からなり、耐屈曲性や透明性を損なうことなく、従来技術では達成できなかった、高弾性を兼ね備える。
[Base film]
The substrate film of the present invention is made of the above-mentioned resin composition and has high elasticity without impairing bending resistance or transparency, which could not be achieved by conventional techniques.
本発明の基材フィルムは、膜厚が5μm以上100μm以下であることが好ましく、10μm以上50μm以下であることがより好ましい。膜厚を上述した範囲とすることで、後述する積層体としても優れた屈曲性と、優れた透明性を実現することができる。 The base film of the present invention preferably has a thickness of 5 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less. By setting the thickness within the above range, it is possible to achieve excellent flexibility and excellent transparency even as a laminate described later.
[基材フィルムの製造方法]
本発明の基材フィルムの製造方法としては、本発明の樹脂組成物を溶剤中に溶解した、基材フィルムの塗膜用溶液を公知の塗布手段により支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥した後、支持体より剥離する方法が挙げられる。塗布手段は、目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はない。
なお、基材フィルムの上記塗膜用溶液の塗工量は、基材フィルムの乾燥後の膜厚が所定の範囲内となるように適宜調節することが好ましい。
[Method of manufacturing base film]
The method for producing the substrate film of the present invention includes a method in which a solution for coating the substrate film, which is prepared by dissolving the resin composition of the present invention in a solvent, is applied onto a support by a known coating means, and then, after drying as necessary, the substrate is peeled off from the support. The coating means is not particularly limited as long as it is a method capable of coating the substrate with a desired film thickness.
The amount of the coating solution applied to the base film is preferably adjusted appropriately so that the thickness of the base film after drying falls within a predetermined range.
前述のように本発明の樹脂組成物を溶剤中に溶解した、基材フィルムの塗膜用溶液は必要に応じて乾燥することにより溶剤を除去する。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらを組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥する場合は、30℃以上300℃以下で乾燥することが好ましい。 As described above, the coating solution for the substrate film, in which the resin composition of the present invention is dissolved in a solvent, is dried as necessary to remove the solvent. Examples of drying methods include drying under reduced pressure, drying by heating, and a combination of these. When drying is performed under normal pressure, it is preferable to dry at a temperature of 30°C or higher and 300°C or lower.
[積層体]
本発明の積層体は、本発明の基材フィルム上にハードコート層を備える。
本発明の積層体は、上述した基材フィルムが耐屈曲性や透明性を損なうことなく、高い弾性率を有することから、ハードコート層形成時の反りが抑制され、平坦性に優れるとともに、高い表面硬度が得られ、屈曲痕や圧迫痕の発生も低減することができる。
[Laminate]
The laminate of the present invention comprises a hard coat layer on the substrate film of the present invention.
In the laminate of the present invention, since the above-mentioned base film has a high elastic modulus without impairing bending resistance or transparency, warping during formation of a hard coat layer is suppressed, and the laminate has excellent flatness and high surface hardness, and the occurrence of bending marks and compression marks can be reduced.
本発明の積層体は、積層体全体の厚みが、10μm以上150μm以下であることが好ましく、25μm以上100μm以下であることがより好ましい。積層体全体の厚みが、上述の範囲であれば、フレキシブルかつ光学特性にすぐれたディスプレイパネルを製造することができる。 The laminate of the present invention preferably has a total thickness of 10 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 100 μm or less. If the total thickness of the laminate is within the above range, a display panel that is flexible and has excellent optical properties can be manufactured.
[ハードコート層]
ハードコート層は、ハードコート用として公知慣用の塗膜用溶液(ハードコート材料)を用いることができ、光硬化性、熱硬化性の何れのハードコート材料も用いることができる。市販品としては、屈曲性に優れる信越化学製のX-48-500、DIC(株)製のルクシディア V-6841等が挙げられる。
[Hard coat layer]
The hard coat layer can be made of a known coating solution (hard coat material) for hard coats, and can be made of either a photocurable or thermosetting hard coat material. Commercially available products include X-48-500 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., which has excellent flexibility, and Luxidia V-6841 manufactured by DIC Corporation.
ハードコート層は、 膜厚が50μmにおけるYI値が4以下であることが好ましく、1以下であることがより好ましい。YI値が4以下であれば、黄色度(YI値)を抑制した積層体を形成することができる。 The hard coat layer preferably has a YI value of 4 or less at a film thickness of 50 μm, and more preferably 1 or less. If the YI value is 4 or less, a laminate with reduced yellowness (YI value) can be formed.
また、ハードコート層は、鉛筆硬度(表面硬度)が2H以上であることが好ましく、4H以上であることがより好ましい。鉛筆硬度が2H以上であれば耐擦傷性に優れた積層体を形成することができる。
なお、鉛筆硬度は、JIS K 5600-5-4に準拠して測定することができる。
The hard coat layer preferably has a pencil hardness (surface hardness) of 2H or more, more preferably 4H or more. If the pencil hardness is 2H or more, a laminate having excellent scratch resistance can be formed.
The pencil hardness can be measured in accordance with JIS K 5600-5-4.
さらにまた、ハードコート層は、膜厚が1μm以上50μm以下であることが好ましく、5μm以上20μm以下であることがより好ましい。膜厚が50μm以下であれば、屈曲性に優れた積層体を形成することができる。 Furthermore, the hard coat layer preferably has a thickness of 1 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. If the thickness is 50 μm or less, a laminate with excellent flexibility can be formed.
[積層体の製造方法]
本発明の積層体の製造方法としては、例えば、前述の基材フィルムの製造方法により基材フィルムを形成する工程と、その上にハードコート層を形成する工程と、を含む製造方法が挙げられる。
[Method of manufacturing laminate]
An example of a method for producing the laminate of the present invention includes a production method including a step of forming a substrate film by the above-described method for producing a substrate film, and a step of forming a hard coat layer thereon.
基材フィルムの製造方法は、前述した通りであり、ここでの説明を省略する。
基材フィルムの上にハードコート層の塗膜を形成する工程としては、前記の基材フィルムの製造方法により形成した基材フィルムの一方の面に、ハードコート層の塗膜用溶液(ハードコート材料)を公知の塗布手段により基板上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化する方法が挙げられる。塗布手段は、目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はない。
また、ハードコート層の塗膜用溶液の塗工量としては、得られる積層体が要求される性能により異なるものであるが、乾燥後の膜厚が所定の範囲内となるように適宜調節することが好ましい。
The method for producing the base film is as described above, and therefore the description thereof will be omitted here.
The process of forming a coating film of a hard coat layer on a substrate film includes a method of coating a coating solution (hard coat material) of a hard coat layer on one side of the substrate film formed by the above-mentioned method for producing a substrate film by a known coating means, and drying and curing as necessary. The coating means is not particularly limited as long as it is a method that can coat the substrate with a desired film thickness.
The amount of the coating solution for the hard coat layer to be applied varies depending on the performance required for the resulting laminate, but it is preferable to appropriately adjust the coating amount so that the film thickness after drying falls within a predetermined range.
前述のように、ハードコート層の塗膜用溶液からなる塗膜は必要に応じて乾燥することにより溶剤を除去する。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらを組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥する場合は、30℃以上150℃以下で乾燥することが好ましい。 As described above, the coating film made of the coating solution for the hard coat layer is dried as necessary to remove the solvent. Examples of drying methods include drying under reduced pressure, drying by heating, and a combination of these. When drying is performed under normal pressure, it is preferable to dry at 30°C or higher and 150°C or lower.
さらに、ハードコート層の硬化方法としては、塗膜用溶液(ハードコート材料)の成分に応じて光照射および加熱の少なくともいずれかにより塗膜を硬化させることが好ましい。 Furthermore, as a method for curing the hard coat layer, it is preferable to cure the coating film by at least one of light irradiation and heating depending on the components of the coating solution (hard coat material).
[ディスプレイのカバーウィンドウ]
本発明のディスプレイのカバーウィンドウは、前述した本発明の積層体であり、各種ディスプレイの表面に位置するように配置して用いられる。
[Display cover window]
The cover window of the display of the present invention is the laminate of the present invention described above, and is used by being disposed so as to be positioned on the surface of various displays.
本発明のディスプレイのカバーウィンドウは、公知の各種ディスプレイに用いることができ、用途は特に限定されるものではなく、従来薄い板ガラス等ガラス製品が用いられていたディスプレイのカバーウィンドウ等の代替品として用いることができる。前述した本発明の積層体は、中でも、曲面に対応できるディスプレイ用の基材やカバーウィンドウ等の部材として好適に用いることができ、中でも、折り畳み可能なフォルダブルデバイスに搭載されるディスプレイのカバーウィンドウとして特に好適に用いることができる。 The display cover window of the present invention can be used for various known displays, and the applications are not particularly limited, and it can be used as a replacement for the cover window of a display in which glass products such as thin plate glass have been used in the past. The laminate of the present invention described above can be suitably used as a component such as a base material or cover window for a display that can accommodate curved surfaces, and can be particularly suitably used as a cover window for a display mounted on a foldable device.
なお、本発明の積層体は、例えば、薄くて曲げられるフォルダブルタイプの有機ELディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等にも好適に用いることができる。また、液晶表示装置、有機EL表示装置等の画像表示装置用部材や、タッチパネル用部材、フレキシブルプリント基板、表面保護膜や基板材料等の太陽電池パネル用部材、光導波路用部材、その他半導体関連部材等にも適用することもできる。 The laminate of the present invention can be suitably used, for example, in thin, bendable foldable organic EL displays, mobile terminals such as smartphones and wristwatch-type terminals, display devices inside automobiles, flexible panels used in wristwatches, etc. It can also be used in components for image display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays, components for touch panels, flexible printed circuit boards, solar cell panel components such as surface protection films and substrate materials, components for optical waveguides, and other semiconductor-related components.
なお、本発明のディスプレイのカバーウィンドウは、ハードコート層側の表面に、さらに指紋付着防止層を設けても良い。 The cover window of the display of the present invention may further have a fingerprint prevention layer on the surface on the hard coat layer side.
また、本発明のディスプレイのカバーウィンドウをディスプレイの表面に配置する方法としては、特に限定はされないが、例えば、接着層を介する方法等が挙げられる。接着層としては、ディスプレイ用表面材の接着に用いることができる従来公知の接着層を用いることができる。 The method for placing the cover window of the display of the present invention on the surface of the display is not particularly limited, but may be, for example, a method using an adhesive layer. As the adhesive layer, a conventionally known adhesive layer that can be used for adhering a display surface material can be used.
以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「%」とあるのは、特に断りのない限り、すべて質量基準である。また、本実施例においては、膜厚は、(株)ミツトヨ製のマイクロメーターを用いて測定した。 The present invention will be described in more detail below using examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the following, "parts" and "%" are all based on mass unless otherwise specified. In the examples, the film thickness was measured using a micrometer manufactured by Mitutoyo Corporation.
(ポリイミドの合成例)
攪拌装置と攪拌翼を備えたガラス製の2Lのセパラブルフラスコに、溶剤N,N-ジメチルアセトアミド(DMAC)460gとフルオロ基を有する芳香族ジアミン化合物である2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノビフェニル(TFMB)64.048g(0.200モル)を入れて攪拌し、TFMBをDMAC中に溶解させた。次いで、セパラブルフラスコ内を攪拌しながら、窒素気流下で、テトラカルボン酸二無水物である4,4’-(1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン-2,2-ジイル)ジフタル酸二無水物(6FDA)89.294g(0.201モル)を10分程度かけて投入し、そのまま温度が20~40℃の温度範囲となるように調整しながら6時間攪拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリアミド酸溶液を得た。使用したテトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン化合物のモル比率は1.005であり、ポリアミド酸溶液の濃度は25重量%であった。
次に、得られたポリアミド酸溶液にDMAC409gを加えてポリアミド酸の濃度が15重量%になるように希釈した後、イミド化促進剤としてイソキノリン25.83gを加えて、ポリアミド酸溶液を攪拌しながら30~40℃の温度範囲に保ち、そこにイミド化剤として、無水酢酸122.5g(1.20モル)を約10分間かけてゆっくりと滴下しながら投入し、その後更に液温を30~40℃に保って12時間攪拌を続けて化学イミド化反応を行って、ポリイミド溶液を得た。
次に、得られたイミド化剤およびイミド化促進剤を含むポリイミド溶液1000gを、攪拌装置と攪拌翼を備えた5Lのセパラブルフラスコに移し変え、120rpmの速度で攪拌しながら15~25℃の温度に保ち、そこにメタノール1500gを10g/分の速度で滴下させた。約800gのメタノールを投入したところでポリイミド溶液の濁りが確認され、粉体状のポリイミドの析出が確認された。引き続き1500g全量のメタノールを投入し、ポリイミドの析出を完了させた。
次にセパラブルフラスコの内容物を、吸引濾過装置により濾別し、更に1000gのメタノールを用いて洗浄・濾別した。
その後、濾別した揮発分の残渣を含むポリイミド粉体50gを局所排気装置のついた乾燥機を用いて、50℃で24時間乾燥させて重量を測定し、更に260℃で2時間乾燥させて、残りの揮発成分を除去して目的とするポリイミド粉体を得た。50℃で24時間乾燥させた後の重量は43.8gであり、260℃で2時間乾燥後の重量は43.3gであって、50℃24時間後の揮発成分量は1.1%であることが確認された。
得られたポリイミド粉体の平均粒子径は0.10mmであり、その粒子径分布は0.01~2mmの範囲に100体積%含まれていた。また、還元粘度は2.1dL/g、サイズ排除クロマトグラフィーによる重量平均分子量(Mw)は210,000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で表される多分散度は2.1であった。また、示差熱・熱重量分析装置で200~300℃の範囲での重量減少率を調べたところ0.03%であり、イミド化率は95%以上であった。
(Example of Polyimide Synthesis)
A 2L glass separable flask equipped with a stirring device and a stirring blade was charged with 460 g of solvent N,N-dimethylacetamide (DMAC) and 64.048 g (0.200 mol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminobiphenyl (TFMB), an aromatic diamine compound having a fluoro group, and stirred to dissolve TFMB in DMAC. Next, while stirring the contents of the separable flask, 89.294 g (0.201 mol) of 4,4'-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane-2,2-diyl)diphthalic dianhydride (6FDA), a tetracarboxylic dianhydride, was added over a period of about 10 minutes under a nitrogen stream, and the temperature was adjusted to be in the range of 20 to 40 ° C. while stirring for 6 hours to carry out a polymerization reaction, resulting in a viscous polyamic acid solution. The molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride to the aromatic diamine compound used was 1.005, and the concentration of the polyamic acid solution was 25% by weight.
Next, 409 g of DMAC was added to the obtained polyamic acid solution to dilute it to a concentration of 15% by weight, and then 25.83 g of isoquinoline was added as an imidization accelerator. The polyamic acid solution was kept at a temperature of 30 to 40°C while being stirred, and 122.5 g (1.20 moles) of acetic anhydride was slowly added dropwise thereto as an imidization agent over a period of about 10 minutes. Thereafter, the liquid temperature was further kept at 30 to 40°C and stirring was continued for 12 hours to carry out a chemical imidization reaction, thereby obtaining a polyimide solution.
Next, 1000 g of the resulting polyimide solution containing the imidization agent and the imidization accelerator was transferred to a 5 L separable flask equipped with a stirrer and a stirring blade, and the temperature was kept at 15 to 25°C while stirring at a speed of 120 rpm, and 1500 g of methanol was dropped therein at a rate of 10 g/min. When about 800 g of methanol was added, the polyimide solution became cloudy, and precipitation of powdery polyimide was confirmed. Subsequently, the entire amount of methanol (1500 g) was added to complete the precipitation of polyimide.
Next, the content of the separable flask was filtered using a suction filtration device, and further washed and filtered with 1,000 g of methanol.
Thereafter, 50 g of the polyimide powder containing the filtered volatile residue was dried at 50° C. for 24 hours using a dryer equipped with a local exhaust device, the weight was measured, and the powder was further dried at 260° C. for 2 hours to remove the remaining volatile components, thereby obtaining the desired polyimide powder. The weight after drying at 50° C. for 24 hours was 43.8 g, and the weight after drying at 260° C. for 2 hours was 43.3 g, and it was confirmed that the amount of volatile components after 24 hours at 50° C. was 1.1%.
The polyimide powder thus obtained had an average particle size of 0.10 mm, and 100% by volume of the particle size distribution was in the range of 0.01 to 2 mm. The reduced viscosity was 2.1 dL/g, the weight average molecular weight (Mw) measured by size exclusion chromatography was 210,000, and the polydispersity index expressed as weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) was 2.1. The weight loss rate measured by a differential thermal/thermogravimetric analyzer in the range of 200 to 300°C was 0.03%, and the imidization rate was 95% or more.
(評価サンプル(基材フィルム))
ジメチルアセトアミド中に、表1中に示す配合量にて、前記合成にて得られたポリイミド粉体を溶解させた後、アルミナまたはシリカ、およびアクリレートまたはブロックイソシアネートを配合し、分散、均一化して基材フィルム用の塗膜用溶液を調整した。次いで、この塗膜用溶液をガラス板上にテーブルコーター(コーテック社製 AFA-standard)を用いて塗布し、イナートガスオーブン(ヤマト科学社製 INL-45N1)で250℃、1時間の条件で乾燥させ、ガラス板より剥離することで、厚さ50μmの基材フィルムを形成した。その後、ガラス板より各基材フィルムを剥離して、実施例1~10および比較例1~4の評価サンプルを得た。なお、表1の配合量は、不揮発性固形分の質量基準配合量である。
(Evaluation sample (base film))
The polyimide powder obtained by the synthesis was dissolved in dimethylacetamide in the amounts shown in Table 1, and then alumina or silica, and acrylate or blocked isocyanate were mixed, dispersed, and homogenized to prepare a coating solution for the substrate film. Next, this coating solution was applied onto a glass plate using a table coater (AFA-standard, manufactured by Coatec Co., Ltd.), dried in an inert gas oven (INL-45N1, manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) at 250°C for 1 hour, and peeled off from the glass plate to form a substrate film having a thickness of 50 μm. Thereafter, each substrate film was peeled off from the glass plate to obtain evaluation samples of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4. The amounts in Table 1 are based on the mass of non-volatile solids.
このようにして得た実施例1~10および比較例1~4の評価サンプルについて、以下の評価を行った。これらの結果を表1中に併せて示す。 The following evaluations were carried out on the evaluation samples of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 obtained in this manner. The results are shown in Table 1.
(弾性率・伸び率評価)
弾性率、伸び率とも(株)島津製作所製、EZ-SXを用いて、以下の条件で測定した。なお、弾性率は、得られた応力ひずみ線図の応力が5MPaから10MPaにおける傾きより求め、伸び率は、評価サンプル破断時の伸び率より求めた。
[試験条件]
サンプルサイズ:50mm×5mm
つかみ具間距離:30mm
速度:1mm/分
測定回数:5回
弾性率の評価基準は以下の通りとした。
◎◎:弾性率が、7.5GPa超であった。
◎:弾性率が、7.1GPa超7.5GPa以下であった。
〇:弾性率が、6.0GPa超7.1GPa以下であった。
△:弾性率が、3.0GPa超6.0GPa以下であった。
×:弾性率が、3.0GPa以下であった。
(2)また、伸び率の評価基準は以下の通りとした。
◎:伸び率が5.0%超であった。
〇:伸び率が3.5%超5.0%以下であった。
△:伸び率が3.0%超3.5%以下であった。
×:伸び率が3.0%以下であった。
(Evaluation of elasticity and elongation)
Both the elastic modulus and the elongation were measured under the following conditions using an EZ-SX manufactured by Shimadzu Corporation. The elastic modulus was determined from the slope of the obtained stress-strain curve at a stress range of 5 MPa to 10 MPa, and the elongation was determined from the elongation at the time of breakage of the evaluation sample.
[Test condition]
Sample size: 50mm x 5mm
Distance between grippers: 30 mm
Speed: 1 mm/min Number of measurements: 5 times The evaluation criteria for elastic modulus were as follows.
⊚: The elastic modulus was more than 7.5 GPa.
⊚: The elastic modulus was more than 7.1 GPa and 7.5 GPa or less.
Good: The elastic modulus was greater than 6.0 GPa and not greater than 7.1 GPa.
Δ: The elastic modulus was more than 3.0 GPa and not more than 6.0 GPa.
×: The elastic modulus was 3.0 GPa or less.
(2) The evaluation criteria for elongation were as follows:
⊚: The elongation rate was more than 5.0%.
Good: The elongation rate was more than 3.5% and 5.0% or less.
Δ: The elongation rate was more than 3.0% and 3.5% or less.
×: The elongation rate was 3.0% or less.
(ヘーズ評価)
各評価サンプルを30mm×30mmの大きさにカットし、JIS K 7136:2000に準拠して、ヘーズメーター(日本電色工業(株)製、NDH 7000 II)を用いてヘーズ(%)を測定した。評価基準は以下の通りとした。
〇:ヘーズが1.5%以下であった。
×:ヘーズが1.5%超であった。
(Haze rating)
Each evaluation sample was cut to a size of 30 mm x 30 mm, and the haze (%) was measured using a haze meter (NDH 7000 II, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) in accordance with JIS K 7136: 2000. The evaluation criteria were as follows:
A: Haze was 1.5% or less.
×: Haze was more than 1.5%.
(YI値(イエローインデックス)評価)
各評価サンプルを30mm×30mmの大きさにカットし、ASTM E313に準拠して、分光測色計(コニカミノルタ(株)製、CM-5)を用いてYIを測定した。評価基準は以下の通りとした。
〇:YI値が4以下であった。
×:YI値が4超であった。
(YI Value (Yellow Index) Evaluation)
Each evaluation sample was cut to a size of 30 mm x 30 mm, and the YI was measured using a spectrophotometer (CM-5, manufactured by Konica Minolta, Inc.) in accordance with ASTM E313. The evaluation criteria were as follows.
A: The YI value was 4 or less.
×: YI value was more than 4.
(屈曲性評価)
折り曲げ試験機(ユアサシステム機器(株)製、DMLHP-CS)を用いて、R=2mm、20万回の折り曲げ試験を行い、試験後の外観変化を目視にて評価した。評価基準は以下の通りとした。
〇:クラック、剥がれ、変形等の物理的損傷や光学特性の変化が確認されなかった。
×:クラック、剥がれ、変形等の物理的損傷と光学特性のいずれかの変化が確認された。
(Flexibility evaluation)
A bending test was performed 200,000 times at R=2 mm using a bending tester (DMLHP-CS, manufactured by Yuasa System Co., Ltd.), and the change in appearance after the test was visually evaluated. The evaluation criteria were as follows:
◯: No physical damage such as cracks, peeling, deformation, etc., and no change in optical properties was observed.
x: Physical damage such as cracks, peeling, deformation, etc., and any change in optical properties were observed.
表1中に記載の、各実施例、比較例に使用された各成分は以下のものである。
(*1):ポリイミドの合成例にて得られたポリイミド粉体
(*2):トーヨーカラー(株)製 アルミナフィラー(平均粒径70nm、濃度20%にてN,N-ジメチルアセトアミドに分散させたスラリーにて添加、表中の数値は溶剤を除く)
(*3):日産化学(株)製 シリカフィラー(平均粒径12nm、濃度20%にてN,N-ジメチルアセトアミドに分散させたスラリーにて添加、表中の数値は溶剤を除く)
(*4):東亞合成(株)製 アロニックスM220(分子量242、官能基当量121g/mol)
(*5):東亞合成(株)製 アロニックスM309(分子量296、官能基当量99g/mol)
(*6):東亞合成(株)製 アロニックスM408(分子量466、官能基当量117g/mol)
(*7):東亞合成(株)製 ARUFON UP1080(重量平均分子量6000)
(*8):東亞合成(株)製 ARUFON UC3080(重量平均分子量14000)
(*9):LANESS社製 TRIXENE BI7951(1,3,5-トリス[(5-イソシアナト-1,3,3-トリメチルシクロヘキシル)メチル]-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、官能基当量539g/mol)
(*10):LANESS社製 TRIXENE BI7961(1,3,5-トリス(6-イソシアナトヘキシル)ビウレット、官能基当量410g/mol)
The components used in the examples and comparative examples shown in Table 1 are as follows.
(*1): Polyimide powder obtained in the Polyimide Synthesis Example (*2): Alumina filler manufactured by Toyo Color Co., Ltd. (average particle size 70 nm, added in a slurry dispersed in N,N-dimethylacetamide at a concentration of 20%, the values in the table exclude the solvent)
(*3): Silica filler manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. (average particle size 12 nm, added as a slurry dispersed in N,N-dimethylacetamide at a concentration of 20%, the values in the table exclude the solvent)
(*4): Aronix M220 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (molecular weight 242, functional group equivalent 121 g/mol)
(*5): Aronix M309 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (molecular weight 296, functional group equivalent 99 g/mol)
(*6): Aronix M408 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (molecular weight 466, functional group equivalent 117 g/mol)
(*7): ARUFON UP1080 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (weight average molecular weight 6000)
(*8): ARUFON UC3080 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (weight average molecular weight 14000)
(*9): LANESS TRIXENE BI7951 (1,3,5-tris[(5-isocyanato-1,3,3-trimethylcyclohexyl)methyl]-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, functional group equivalent: 539 g/mol)
(*10): LANESS TRIXENE BI7961 (1,3,5-tris(6-isocyanatohexyl) biuret, functional group equivalent: 410 g/mol)
上記表中に示す結果から、本発明によれば、基材フィルムおよび積層体として、耐屈曲性や透明性を損なうことなく、高弾性を兼ね備える樹脂組成物を得ることができることが分かる。 The results shown in the table above show that the present invention makes it possible to obtain a resin composition that combines high elasticity without compromising flex resistance or transparency as a base film and laminate.
Claims (8)
(B)アルミナフィラーと、
(C1)分子量10000以下の(メタ)アクリレート、または、
(C2)イソシアヌル環を有するブロックイソシアネートと、
溶剤と、
を含むことを特徴とする樹脂組成物であって、
前記(A)ポリイミドが前記溶剤に溶解されている樹脂組成物(ただし、光重合開始剤およびアルカリ可溶性ポリイミドを含む感光性接着剤組成物を除く)。 (A) a polyimide;
(B) an alumina filler;
(C1) a (meth)acrylate having a molecular weight of 10,000 or less, or
(C2) a blocked isocyanate having an isocyanuric ring;
A solvent;
A resin composition comprising:
The resin composition (A) in which the polyimide is dissolved in the solvent (excluding a photosensitive adhesive composition containing a photopolymerization initiator and an alkali-soluble polyimide) .
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