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JP7536715B2 - Tape for processing electronic devices and method for producing tape for processing electronic devices - Google Patents
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JP7536715B2 - Tape for processing electronic devices and method for producing tape for processing electronic devices - Google Patents

Tape for processing electronic devices and method for producing tape for processing electronic devices Download PDF

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Description

本発明は、電子デバイス加工用テープに関し、特に、半導体ウエハのダイシング、ピックアップに使用される電子デバイス加工用テープ及び電子デバイス加工用テープの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a tape for processing electronic devices, and in particular to a tape for processing electronic devices used in dicing and picking up semiconductor wafers, and a method for manufacturing the tape for processing electronic devices.

半導体ウエハの加工用テープとして、長尺の基材テ-プ上に複数の所定の平面視形状を有するラベル部が所定間隔で形成されたダイシングテープやダイボンディングフィルムを備えた電子デバイス加工用テープが使用されている。基材テープのラベル部に対応する部位には、粘着剤層が設けられている。粘着剤層が設けられているラベル部に半導体ウエハが貼合されることで、半導体ウエハがラベル部にて位置決めされる。位置決めされた半導体ウエハは、ラベル部に貼合された状態でダイシングされることで、半導体チップが製造される。製造された半導体チップは、紫外線による硬化処理等によって粘着剤層の粘着力を低下させることで、ラベル部からピックアップされる。 As a tape for processing semiconductor wafers, a dicing tape in which label sections having a plurality of predetermined shapes in plan view are formed at predetermined intervals on a long length of base tape, or an electronic device processing tape equipped with a die bonding film is used. An adhesive layer is provided on the base tape in a portion corresponding to the label section. The semiconductor wafer is positioned at the label section by attaching it to the label section on which the adhesive layer is provided. The positioned semiconductor wafer is diced while attached to the label section to manufacture semiconductor chips. The manufactured semiconductor chips are picked up from the label section by reducing the adhesive strength of the adhesive layer through a curing process using ultraviolet light, etc.

基材テ-プ上に複数のラベル部が所定間隔で形成された半導体ウエハの加工用テープとして、例えば、特許文献1では、半導体ウエハの加工用テープに所定のプリカット加工を施し、所定間隔で配置されたラベル部間の不要部分をプリカット加工のカット線に沿って剥離して除去した半導体ウエハの加工用テープが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a semiconductor wafer processing tape in which a semiconductor wafer processing tape has multiple label parts formed at predetermined intervals on a base tape, and in which a predetermined precut process is applied to the semiconductor wafer processing tape, and unnecessary parts between the label parts arranged at predetermined intervals are peeled off and removed along the cut lines of the precut process.

このように、基材テープは、プリカット加工によって、半導体ウエハが貼合されるラベル部と、ラベル部の平面視外側を囲む不要部であるカス部と、平面視にてカス部の外縁と接した周辺部とに区画されている。プリカット加工は、基材テープに対して対向配置された回転打抜き刃を用いて、基材フィルムと該基材フィルム面上に設けられた粘着剤層とに対し行う(特許文献2)。 In this way, the base tape is partitioned by the precut process into a label portion to which the semiconductor wafer is attached, a waste portion that is an unnecessary portion that surrounds the outer side of the label portion in a plan view, and a peripheral portion that contacts the outer edge of the waste portion in a plan view. The precut process is performed on the base film and the adhesive layer provided on the surface of the base film using a rotary punching blade that is arranged opposite the base tape (Patent Document 2).

また、基材テープのカス部は、半導体ウエハをダイシングする前に、予め、巻き取り手段にて、基材テープの長尺方向(基材テープの搬送方向)に沿って巻き取られることで、電子デバイス加工用テープから引き剥がされている。従って、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が除去された状態で、電子デバイス加工用テープは半導体ウエハの貼合機にセットされる。 In addition, before the semiconductor wafer is diced, the waste portion of the base tape is peeled off from the electronic device processing tape by winding it up in the longitudinal direction of the base tape (the transport direction of the base tape) using a winding means. Therefore, with the waste portion of the base tape removed from the electronic device processing tape, the electronic device processing tape is set in the semiconductor wafer lamination machine.

基材テープは、エキスパンド性やピックアップ性等、電子デバイス加工工程上の観点から、その材質や厚さが最適化される。そのため、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が除去されるにあたり、次のような不具合を生じる場合があった。 The material and thickness of the base tape are optimized from the viewpoint of the electronic device processing process, such as expandability and pick-up properties. Therefore, when removing the residue of the base tape from the tape for electronic device processing, the following problems can occur.

例えば、基材テープが薄肉の場合、基材テープの引裂強度が低下する。基材テープの引裂強度が低下すると、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が引き剥がされる際にカス部にかかる張力によって、カス部、特に、所定間隔で形成されたラベル部間のカス部に大きな引き裂き部が発生、場合によってはラベル部間においてカス部が分断して電子デバイス加工用テープから円滑にカス部を引き剥がすことができないことがあるという問題があった。また、基材テープの引裂強度が低下すると、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が引き剥がされる際にプリカットのカット線から外れてカス部に引き裂き部が発生してラベル部間においてカス部が残ってしまうという場合があった。また、電子デバイス加工用テープの使用条件によっては、基材テープの材質として、カス部が引き剥がされる際にカス部にかかる張力に十分に耐え得る引裂強度を有さない材料が用いられることがある。基材テープの材質が十分な引裂強度を有さない場合にも、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が引き剥がされる際にカス部にかかる張力によって、カス部、特に、所定間隔で形成されたラベル部間のカス部に大きな引き裂き部が発生、場合によってはラベル部間においてカス部が分断して電子デバイス加工用テープから円滑にカス部を引き剥がすことができないことがあった。また、基材テープの材質が十分な引裂強度を有さないと、電子デバイス加工用テープから基材テープのカス部が引き剥がされる際にプリカットのカット線から外れてカス部に引き裂き部が発生してラベル部間においてカス部が残ってしまうという場合があった。 For example, when the base tape is thin, the tear strength of the base tape decreases. When the tear strength of the base tape decreases, the tension applied to the waste portion of the base tape when it is peeled off from the electronic device processing tape causes large tears to occur in the waste portion, especially in the waste portion between the label portions formed at a predetermined interval, and in some cases, the waste portion may be separated between the label portions, making it difficult to peel off the waste portion smoothly from the electronic device processing tape. In addition, when the tear strength of the base tape decreases, when the waste portion of the base tape is peeled off from the electronic device processing tape, the waste portion may deviate from the precut cut line, causing a tear to occur in the waste portion, and the waste portion may remain between the label portions. In addition, depending on the conditions of use of the electronic device processing tape, a material that does not have a tear strength sufficient to withstand the tension applied to the waste portion when it is peeled off may be used as the material of the base tape. Even if the material of the base tape does not have sufficient tear strength, the tension applied to the waste portion when it is peeled off from the electronic device processing tape can cause large tears in the waste portion, especially in the waste portion between the label portions formed at a predetermined interval, and in some cases the waste portion can break off between the label portions, making it impossible to peel off the waste portion smoothly from the electronic device processing tape. Also, if the material of the base tape does not have sufficient tear strength, when the waste portion of the base tape is peeled off from the electronic device processing tape, it can deviate from the precut cut line, causing tears in the waste portion and leaving the waste portion between the label portions.

特開2011-111530号公報JP 2011-111530 A 特開2014-017357号公報JP 2014-017357 A

上記事情に鑑み、本発明は、基材テープが薄肉化され、または基材テープの材質によって引裂強度が低下しても、カス部に大きな引き裂き部が発生することを防止し、またプリカットのカット線から外れてカス部に引き裂き部が発生することを防止して円滑にカス部を引き剥がすことで、カス剥離部にカス部が残置されていることが防止された電子デバイス加工用テープおよび電子デバイス加工用テープの製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, the present invention aims to provide a tape for processing electronic devices and a method for manufacturing such a tape, which prevents large tears from occurring in the waste portion even if the base tape is made thinner or the tear strength is reduced due to the material of the base tape, and which prevents tears from occurring in the waste portion that deviate from the precut cutting line and allows the waste portion to be peeled off smoothly, thereby preventing waste portions from being left in the waste peeling portion.

本発明の要旨構成は、以下の通りである。
[1]剥離フィルムと、
基材フィルムの主面に粘着剤層が形成された基材テープであって、前記剥離フィルムと積層された基材テープと、を備えた電子デバイス加工用テープであって、
前記基材テープが、前記電子デバイス加工用テープの搬送方向に所定の間隔にて形成された、所定の平面視形状を有するラベル部と、該ラベル部の平面視外側を囲み、且つ前記所定の間隔を形成する間隔部分を有するカス部が、剥がされたカス剥離部と、平面視にて該カス剥離部の外縁と接した周辺部と、を備え、
前記搬送方向の前方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線と前記搬送方向の後方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線は交差せず、
前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端に対して、前記搬送方向に直交した方向において、同じ位置または前記周辺部の方向に位置している電子デバイス加工用テープ。
[2]前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線と他方向から伸延した前記カット線の少なくとも一方が、前記終端から前記搬送方向に対して平行な前記基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有する[1]に記載の電子デバイス加工用テープ。
[3]前記ターン部が、平面視曲部を有する[2]に記載の電子デバイス加工用テープ。
[4]前記ターン部の平面視曲部が、R1.0mm以上の曲率半径の円弧状曲線部となっている部位を有する[3]に記載の電子デバイス加工用テープ。
[5]前記ターン部が、平面視直線部を有する[2]に記載の電子デバイス加工用テープ。
[6]前記搬送方向に対して平行方向における、一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下である[1]乃至[5]のいずれか1つに記載の電子デバイス加工用テープ。
[7]一方向から伸延した前記カット線の終端を通る前記搬送方向に対して平行方向の仮想線と一方向から伸延した前記カット線との先端におけるなす角度θが、10°以上150°以下である[1]乃至[6]のいずれか1つに記載の電子デバイス加工用テープ。
[8]一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端よりも前記周辺部の方向に位置し、前記搬送方向に対して直交方向における、一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下である[1]乃至[7]のいずれか1つに記載の電子デバイス加工用テープ。
[9]前記剥離フィルムの主面の一部に設けられた接着剤層を、さらに備え、
前記基材テープが、前記接着剤層を覆い、該接着剤層の周囲で前記剥離フィルムと接した[1]乃至[8]のいずれか1つに記載の電子デバイス加工用テープ。
[10]基材フィルム上に粘着剤層を塗布して基材テープを作製する工程と、
前記基材テープを剥離フィルムと重ね合わせる工程と、
前記基材テープに、該基材テープの搬送方向に所定の間隔にて形成された、所定の平面視形状を有するラベル部と、該ラベル部の平面視外側を囲み、且つ前記所定の間隔を形成する間隔部分を有するカス部と、平面視にて該カス部の外縁と接した周辺部との区画を形成し、且つ前記搬送方向の前方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線と前記搬送方向の後方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線は交差せず、前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端よりも前記周辺部の方向に位置、または一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端が、前記搬送方向に対して平行に位置している、プリカットを、回転打抜き刃を用いて行う工程と、
前記カス部をカス上げ処理して、前記基材テープにカス剥離部を形成する工程と、
を有する電子デバイス加工用テープの製造方法。
The gist and configuration of the present invention are as follows.
[1] a release film;
A tape for processing electronic devices comprising a base tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed on a main surface of a base film, the base tape being laminated with the release film,
the base tape comprises: label portions having a predetermined shape in plan view, which are formed at predetermined intervals in a feed direction of the tape for processing electronic devices; a waste removal portion which surrounds the outer side of the label portion in plan view and has a space portion which forms the predetermined space; and a peripheral portion which contacts an outer edge of the waste removal portion in plan view;
a cut line forming an outer edge of the waste portion extending from the front in the conveying direction and a cut line forming an outer edge of the waste portion extending from the rear in the conveying direction do not intersect with each other;
A tape for processing electronic devices, in which, in the gap portion of the waste portion, an end of the cut line extending from one direction is located at the same position or in the direction of the peripheral portion as an end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the conveying direction.
[2] The tape for processing electronic devices described in [1], wherein in the gap portion of the waste portion, at least one of the cut lines extending from one direction and the cut lines extending from the other direction has a turn portion extending from the end toward the center line of the base tape parallel to the conveying direction.
[3] The tape for processing electronic devices according to [2], wherein the turn portion has a curved portion in a plan view.
[4] The tape for processing electronic devices according to [3], wherein the curved portion of the turn portion in plan view has a portion that is an arc-shaped curved portion with a curvature radius of R1.0 mm or more.
[5] The tape for processing electronic devices according to [2], wherein the turn portion has a straight portion in a plan view.
[6] A tape for processing electronic devices described in any one of [1] to [5], wherein the distance between an end of the cut line extending from one direction and an end of the cut line extending from the other direction in a direction parallel to the conveying direction is 0.1 mm or more and 10 mm or less.
[7] The tape for processing electronic devices according to any one of [1] to [6], wherein the angle θ between a virtual line parallel to the conveying direction passing through an end of the cut line extending from one direction and the tip of the cut line extending from one direction is 10° or more and 150° or less.
[8] A tape for processing electronic devices described in any one of [1] to [7], wherein an end of the cut line extending from one direction is located further toward the peripheral portion than an end of the cut line extending from the other direction, and the distance between the end of the cut line extending from one direction and the end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the conveying direction is 0.1 mm or more and 10 mm or less.
[9] Further comprising an adhesive layer provided on a part of the main surface of the release film,
The tape for processing electronic devices according to any one of [1] to [8], wherein the base tape covers the adhesive layer and is in contact with the release film around the periphery of the adhesive layer.
[10] A step of applying a pressure-sensitive adhesive layer onto a substrate film to prepare a substrate tape;
laminating the base tape with a release film;
a step of performing a precut using a rotary punch blade, in which a label portion having a predetermined shape in plan view is formed at a predetermined interval in the transport direction of the base tape, a waste portion surrounding the outer side of the label portion in plan view and having a spaced portion forming the predetermined space, and a peripheral portion in contact with the outer edge of the waste portion in plan view are partitioned, and a cut line forming the outer edge of the waste portion extending from the front in the transport direction does not intersect with a cut line forming the outer edge of the waste portion extending from the rear in the transport direction, and in the spaced portion of the waste portion, an end of the cut line extending from one direction is located closer to the peripheral portion than an end of the cut line extending from the other direction, or an end of the cut line extending from one direction and an end of the cut line extending from the other direction are located parallel to the transport direction;
a step of removing the waste portion to form a waste-removed portion on the base tape;
A method for producing a tape for processing electronic devices comprising the steps of:

本発明の電子デバイス加工用テープの態様によれば、カス部の間隔部分にて、一方向から伸延したカット線の終端が、他方向から伸延したカット線の終端に対して、電子デバイス加工用テープの搬送方向に直交した方向において、同じ位置またはカス剥離部となるカス部の外縁と接した周辺部の方向に位置していることにより、基材テープのカス部が引き剥がされる際に、一方向から伸延したカット線の終端と他方向から伸延したカット線の終端間の引き裂きが円滑化される。従って、カス上げ処理の際に、ラベル部間の外縁が確実につながり、カス部の外縁部から基材テープの中心線方向へ引き裂き部が発生することが防止され、またカット線から外れてカス部に引き裂き部が発生することが防止される。カス部の外縁部から中心線方向への引き裂きの発生が防止され、またカット線から外れてカス部に引き裂き部が発生することが防止されることにより、基材テープが薄肉化され、または基材テープに引っ張り強度が低下する材料が使用されても、カス部の引き剥がしを円滑化することができるので、電子デバイス加工用テープのカス剥離部にカス部が残置されていることが防止される。 According to the aspect of the electronic device processing tape of the present invention, in the gap between the waste portions, the end of the cut line extending from one direction is located in the same position as the end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the transport direction of the electronic device processing tape, or in the direction of the peripheral portion in contact with the outer edge of the waste portion that becomes the waste peeling portion. This facilitates tearing between the end of the cut line extending from one direction and the end of the cut line extending from the other direction when the waste portion of the base tape is peeled off. Therefore, during the waste removal process, the outer edges of the label portions are reliably connected, preventing the occurrence of a tear from the outer edge of the waste portion toward the center line of the base tape, and preventing the occurrence of a tear in the waste portion away from the cut line. Tearing from the outer edge of the waste portion toward the center line is prevented, and tears in the waste portion away from the cut line are also prevented. This makes it possible to peel off the waste portion smoothly, even if the base tape is made thinner or a material with lower tensile strength is used for the base tape, and prevents waste from being left behind in the waste peeling portion of the tape for electronic device processing.

本発明の電子デバイス加工用テープの態様によれば、カス部の間隔部分にて、一方向から伸延したカット線と他方向から伸延したカット線の少なくとも一方が、カット線の終端から電子デバイス加工用テープの搬送方向に対して平行な基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有することにより、一方向から伸延したカット線と他方向から伸延したカット線間の引き裂きがより確実となり、カス部の引き剥がしをより確実に円滑化することができる。 According to an embodiment of the electronic device processing tape of the present invention, at least one of the cut lines extending from one direction and the cut lines extending from the other direction in the gaps between the waste portions has a turn portion extending from the end of the cut line toward the center line of the base tape parallel to the transport direction of the electronic device processing tape, which makes it possible to more reliably tear between the cut line extending from one direction and the cut line extending from the other direction, and more reliably and smoothly peel off the waste portions.

本発明の電子デバイス加工用テープの態様によれば、電子デバイス加工用テープの搬送方向に対して平行方向における、一方向から伸延したカット線の終端と他方向から伸延したカット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下であることにより、カス部の外縁部から基材テープの中心線方向への引き裂き部の発生をより確実に防止し、また一方向から伸延したカット線と他方向から伸延したカット線間の引き裂きをより確実とすることができるので、カス部の引き剥がしをより確実に円滑化することができる。 According to the aspect of the electronic device processing tape of the present invention, the distance between the end of the cut line extending from one direction and the end of the cut line extending from the other direction in a direction parallel to the transport direction of the electronic device processing tape is 0.1 mm or more and 10 mm or less, which more reliably prevents the occurrence of a tear from the outer edge of the waste portion toward the center line of the base tape, and more reliably tears between the cut line extending from one direction and the cut line extending from the other direction, making it possible to more reliably and smoothly peel off the waste portion.

本発明の電子デバイス加工用テープの態様によれば、一方向から伸延した前記カット線の終端を通る前記搬送方向に対して平行方向の仮想線と一方向から伸延した前記カット線との先端におけるなす角度θが、10°以上150°以下であることにより、他方向から伸延したカット線の先端からのカス部の引き裂きが一方向から伸延したカット線により確実に到達しつつ、カス部の引き裂きしが他方向から伸延したカット線の先端から一方向から伸延したカット線の先端付近にさしかかった際に、基材フィルムに大きな張力が作用して想定している引き裂き位置からずれた位置に引き裂きが生じてカス部の先端部が残ってしまうこと等を防止してカス部の引き剥がしをより確実に円滑化することができる。 According to the aspect of the tape for processing electronic devices of the present invention, the angle θ between the virtual line parallel to the conveying direction passing through the end of the cut line extended from one direction and the tip of the cut line extended from one direction is 10° or more and 150° or less. This allows the tear of the waste portion from the tip of the cut line extended from the other direction to reach the cut line extended from one direction reliably, while preventing a large tension acting on the base film when the tear of the waste portion passes from the tip of the cut line extended from the other direction near the tip of the cut line extended from one direction, causing the tear to occur in a position shifted from the expected tear position, and leaving the tip of the waste portion behind, thereby making it possible to more reliably and smoothly peel off the waste portion.

本発明の電子デバイス加工用テープの態様によれば、電子デバイス加工用テープの搬送方向に対して直交方向における、一方向から伸延したカット線の終端と他方向から伸延したカット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下であることにより、一方向から伸延したカット線と他方向から伸延したカット線間の引き裂きがより確実となり、カス部の引き剥がしをより確実に円滑化することができる。 According to an embodiment of the electronic device processing tape of the present invention, the distance between the end of the cut line extending from one direction and the end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the transport direction of the electronic device processing tape is 0.1 mm or more and 10 mm or less, so that the tearing between the cut line extending from one direction and the cut line extending from the other direction becomes more reliable, and the peeling off of the waste portion can be more reliably and smoothly performed.

本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における積層構造の概要を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an outline of a laminated structure of a tape for processing electronic devices according to a first embodiment of the present invention before a waste removing process. 本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す説明図である。1 is an explanatory diagram showing an outline of a plan view of a tape for processing electronic devices according to a first embodiment of the present invention before a waste removing process; 本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す拡大図である。1 is an enlarged schematic plan view of a tape for processing electronic devices according to a first embodiment of the present invention before a waste removing process; 本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープにプリカット加工を実施する回転打ち抜き刃の概要を示す説明図である。1 is an explanatory diagram showing an overview of a rotary punching blade that performs precut processing on an electronic device processing tape according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す拡大図である。1 is an enlarged schematic plan view of a tape for processing electronic devices according to a first embodiment of the present invention before a waste removing process; 本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープの使用方法例の説明図である。1A to 1C are explanatory diagrams illustrating an example of a method of using the tape for processing electronic devices according to the first embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における積層構造の概要を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing an outline of a laminated structure of a tape for processing electronic devices according to another embodiment of the present invention before a waste removing process.

先ず、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープについて、図面を用いながら説明する。なお、図1は、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における積層構造の概要を示す断面図である。図2は、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す説明図である。図3は、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す拡大図である。 First, the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an outline of the laminated structure of the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention before the waste removal process. FIG. 2 is an explanatory diagram showing an outline of the plan view of the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention before the waste removal process. FIG. 3 is an enlarged view showing an outline of the plan view of the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention before the waste removal process.

図1に示すように、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1は、剥離フィルム11と、剥離フィルム11の主面61の一部に設けられた接着剤層12と、接着剤層12を覆い、接着剤層12の周囲で剥離フィルム11と接した基材テープ13とが積層された積層体である。基材テープ13は、後述するように、基材フィルム14の主面71に粘着剤層15が形成された積層構造物である。 As shown in FIG. 1, the electronic device processing tape 1 according to the first embodiment of the present invention is a laminate including a release film 11, an adhesive layer 12 provided on a portion of the main surface 61 of the release film 11, and a base tape 13 that covers the adhesive layer 12 and contacts the release film 11 around the adhesive layer 12. As described below, the base tape 13 is a laminated structure in which an adhesive layer 15 is formed on the main surface 71 of a base film 14.

剥離フィルム11の形状は、矩形の長尺状であり、長手方向の長さが、長手方向に対して直交方向(幅方向)の長さに対して、十分に長くなるように形成されている。剥離フィルム11は、電子デバイス加工用テープ1の製造時及び使用時に支持体として機能する。電子デバイス加工用テープ1に半導体ウエハを貼合する際には、電子デバイス加工用テープ1から剥離フィルム11を剥離する。剥離フィルム11を剥離して露出した接着剤層12に半導体ウエハを貼合する。 The release film 11 has a rectangular, long shape, and is formed so that its length in the longitudinal direction is sufficiently longer than its length in the direction perpendicular to the longitudinal direction (width direction). The release film 11 functions as a support during the manufacture and use of the electronic device processing tape 1. When bonding a semiconductor wafer to the electronic device processing tape 1, the release film 11 is peeled off from the electronic device processing tape 1. The release film 11 is peeled off and the semiconductor wafer is bonded to the adhesive layer 12 exposed.

剥離フィルム11の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル系、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン系等を挙げることができる。剥離フィルム11の厚さは、特に限定されず、電子デバイス加工用テープ1の使用条件等により、適宜選択可能であるが、例えば、25μm~50μmが挙げられる。また、剥離フィルム11の幅方向の寸法は、特に限定されず、半導体ウエハの大きさ等、電子デバイス加工用テープ1の使用条件により、適宜選択可能であるが、例えば、20cm~70cmが挙げられる。 Examples of materials for the release film 11 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene naphthalate (PEN), and polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP). The thickness of the release film 11 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the conditions of use of the electronic device processing tape 1, and can be, for example, 25 μm to 50 μm. The width dimension of the release film 11 is also not particularly limited and can be appropriately selected depending on the conditions of use of the electronic device processing tape 1, such as the size of the semiconductor wafer, and can be, for example, 20 cm to 70 cm.

接着剤層12は、剥離フィルム11の主面61の一部領域に設けられており、接着剤層12に貼合されてダイシングされる半導体ウエハの平面視の形状に対応した平面視の形状を有している。なお、本明細書中、「平面視」とは、剥離フィルム11の主面61及び基材フィルム14の主面71に対向する位置から視認した状態を意味する。 The adhesive layer 12 is provided in a partial region of the main surface 61 of the release film 11, and has a shape in plan view that corresponds to the shape in plan view of the semiconductor wafer that is to be bonded to the adhesive layer 12 and diced. In this specification, "plan view" refers to the state as viewed from a position facing the main surface 61 of the release film 11 and the main surface 71 of the base film 14.

また、接着剤層12は、剥離フィルム11と基材テープ13との間に配置されている。接着剤層12は、基材テープ13の粘着剤層15と接触しており、半導体チップのピックアップ時に、半導体チップに付着した状態で粘着剤層15から剥離される。 The adhesive layer 12 is disposed between the release film 11 and the base tape 13. The adhesive layer 12 is in contact with the adhesive layer 15 of the base tape 13, and is peeled off from the adhesive layer 15 while still attached to the semiconductor chip when the semiconductor chip is picked up.

接着剤層12の材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、(メタ)アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。接着剤層12の厚さは、特に限定されず、電子デバイス加工用テープ1の使用条件等により、適宜選択可能であるが、例えば、5μm~100μmが挙げられる。 Examples of materials for the adhesive layer 12 include epoxy resins, (meth)acrylic resins, phenolic resins, polyurethane resins, polyester resins, polyimide resins, and silicone resins. The thickness of the adhesive layer 12 is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the conditions of use of the electronic device processing tape 1, but may be, for example, 5 μm to 100 μm.

基材テープ13は、基材フィルム14の主面71の全体にわたって粘着剤層15が形成された、基材フィルム14と粘着剤層15の積層構造物であり、接着剤層12全体を覆うとともに、接着剤層12の周囲全域で剥離フィルム11と接触可能となっている。基材テープ13は、剥離フィルム11と同じく、矩形の長尺状であり、長手方向の長さが長手方向に対して直交方向(幅方向)の長さに対して、十分に長くなるように形成されている。基材テープ13は、半導体ウエハをダイシング処理する際の固定手段として機能する。 The base tape 13 is a laminated structure of the base film 14 and the adhesive layer 15, with the adhesive layer 15 formed over the entire main surface 71 of the base film 14, covering the entire adhesive layer 12 and being able to come into contact with the release film 11 over the entire periphery of the adhesive layer 12. The base tape 13, like the release film 11, is rectangular and long, and is formed so that its length in the longitudinal direction is sufficiently longer than its length in the direction perpendicular to the longitudinal direction (width direction). The base tape 13 functions as a fixing means when the semiconductor wafer is diced.

基材フィルム14の材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体、ポリブテン-1、ポリ-4-メチルペンテン-1、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸メチル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、アイオノマーなどのα-オレフィンの単独重合体若しくは共重合体、またはこれらの混合物、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチル(メタ)アクリレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、スチレン-エチレン-ブテン若しくはペンテン系共重合体、ポリアミド-ポリオール共重合体等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。 Materials for the base film 14 include, for example, α-olefin homopolymers or copolymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymers, polybutene-1, poly-4-methylpentene-1, ethylene-vinyl acetate copolymers, ethylene-ethyl (meth)acrylate copolymers, ethylene-methyl (meth)acrylate copolymers, ethylene-(meth)acrylic acid copolymers, ionomers, or mixtures thereof, polyesters such as polyethylene terephthalate and polymethyl (meth)acrylate, polycarbonate, polyurethane, styrene-ethylene-butene or pentene copolymers, and thermoplastic elastomers such as polyamide-polyol copolymers.

基材フィルム14の厚さは、特に限定されず、電子デバイス加工用テープ1の使用条件等により、適宜選択可能であるが、例えば、50μm~200μmが挙げられる。基材フィルム14の幅方向の寸法は、特に限定されず、半導体ウエハの大きさ等、電子デバイス加工用テープ1の使用条件により、適宜選択可能であるが、例えば、剥離フィルム11の幅方向の寸法と同じ寸法を挙げることができる。基材フィルム14の幅方向の寸法として、具体的には、例えば、20cm~70cmが挙げられる。 The thickness of the base film 14 is not particularly limited and can be selected appropriately depending on the conditions of use of the tape 1 for processing electronic devices, and can be, for example, 50 μm to 200 μm. The width dimension of the base film 14 is not particularly limited and can be selected appropriately depending on the conditions of use of the tape 1 for processing electronic devices, such as the size of the semiconductor wafer, and can be, for example, the same dimension as the width dimension of the release film 11. Specific examples of the width dimension of the base film 14 are 20 cm to 70 cm.

粘着剤層15の材料としては、例えば、ポリプロピレン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、紫外線硬化性化合物を粘着剤層15に配合して、紫外線照射による粘着剤層15の硬化処理により接着剤層12から剥離しやすい粘着剤層15としてもよい。紫外線硬化性化合物を配合することで、半導体チップのピックアック性が向上する。 Examples of materials for the adhesive layer 15 include polypropylene resin, (meth)acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, and epoxy resin. In addition, an ultraviolet-curable compound may be added to the adhesive layer 15, so that the adhesive layer 15 can be easily peeled off from the adhesive layer 12 by curing the adhesive layer 15 through ultraviolet irradiation. Adding an ultraviolet-curable compound improves the pick-up properties of the semiconductor chip.

紫外線硬化性化合物としては、例えば、紫外線照射によって三次元に網状化し得る、分子内に光重合性の炭素-炭素二重結合を少なくとも2個以上有する化合物が用いられる。紫外線硬化性化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートや、オリゴエステル(メタ)アクリレート等の2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを挙げることができる。 As the UV-curable compound, for example, a compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule, which can be three-dimensionally reticulated by UV irradiation, is used. Specific examples of the UV-curable compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, and difunctional or higher (meth)acrylate monomers such as oligoester (meth)acrylate.

紫外線硬化性化合物の具体例としては、上記(メタ)アクリレートモノマーの他に、ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーを挙げることができる。ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と多官能イソシアナート化合物(例えば、2,4-トリレンジイソシアナート、2,6-トリレンジイソシアナート、1,3-キシリレンジイソシアナート、1,4-キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン4,4-ジイソシアナートなど)とを反応させて得られる末端にイソシアナート基を有するウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート化合物(例えば、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等)を反応させて得ることができる。 Specific examples of ultraviolet-curable compounds include urethane (meth)acrylate oligomers in addition to the above (meth)acrylate monomers. Urethane (meth)acrylate oligomers can be obtained by reacting a urethane prepolymer having an isocyanate group at the end, which is obtained by reacting a polyol compound such as a polyester or polyether type with a polyfunctional isocyanate compound (e.g., 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc.), with a (meth)acrylate compound having a hydroxyl group (e.g., 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, etc.).

また、紫外線硬化性化合物を配合する場合には、紫外線硬化性化合物の硬化を円滑化するために、必要に応じて、光重合開始剤を配合してもよい。光重合開始剤としては、具体的には、例えば、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、α-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を挙げることができる。 When a UV-curable compound is added, a photopolymerization initiator may be added as necessary to facilitate the curing of the UV-curable compound. Specific examples of photopolymerization initiators include isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, dodecyl thioxanthone, dimethyl thioxanthone, diethyl thioxanthone, benzyl dimethyl ketal, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and 2-hydroxymethyl phenyl propane.

図2に示すように、電子デバイス加工用テープ1の基材テープ13は、カス部31が引き剥がされる前においては、半導体ウエハが貼合されるラベル部21と、平面視にてラベル部21の平面視外縁22を囲んでいる不要部分であるカス部31と、平面視にてカス部31の外縁34と接し、基材テープ13の幅方向の縁部に位置する周辺部41とに区画されている。基材テープ13に対してカス部31が引き剥がされるカス上げ処理を行って、カス部31であった領域をカス剥離部とすることで、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1が形成される。電子デバイス加工用テープ1では、周辺部41は、平面視にてカス剥離部の外縁と接している。なお、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1を説明する図面では、説明の便宜上、カス部31が引き剥がされずに残されている形態としている。基材テープ13のうち、平面視において接着剤層12と重なり合う部分と必要に応じて前記重なり合う部分の近傍とが、ラベル部21に対応する。従って、ラベル部21は、剥離フィルム11と接着剤層12と粘着剤層15と基材フィルム14が、上記順序で積層された構造となっている。一方で、カス部31と周辺部41には、接着剤層12が設けられていない。従って、カス部31と周辺部41は、剥離フィルム11と粘着剤層15と基材フィルム14が、上記順序で積層された構造となっている。 As shown in FIG. 2, before the waste portion 31 is peeled off, the base tape 13 of the electronic device processing tape 1 is divided into a label portion 21 to which a semiconductor wafer is attached, a waste portion 31 which is an unnecessary portion surrounding the outer edge 22 of the label portion 21 in a plan view, and a peripheral portion 41 which is in contact with the outer edge 34 of the waste portion 31 in a plan view and is located at the edge of the base tape 13 in the width direction. The base tape 13 is subjected to a waste removal process in which the waste portion 31 is peeled off, and the area which was the waste portion 31 becomes a waste peeling portion, thereby forming the electronic device processing tape 1 according to the first embodiment of the present invention. In the electronic device processing tape 1, the peripheral portion 41 is in contact with the outer edge of the waste peeling portion in a plan view. In the drawings explaining the electronic device processing tape 1 according to the first embodiment of the present invention, for convenience of explanation, the waste portion 31 is left without being peeled off. The portion of the base tape 13 that overlaps with the adhesive layer 12 in a plan view and, if necessary, the vicinity of the overlapping portion corresponds to the label portion 21. Therefore, the label portion 21 has a structure in which the release film 11, the adhesive layer 12, the adhesive layer 15, and the base film 14 are laminated in the above order. On the other hand, the waste portion 31 and the peripheral portion 41 do not have the adhesive layer 12. Therefore, the waste portion 31 and the peripheral portion 41 have a structure in which the release film 11, the adhesive layer 15, and the base film 14 are laminated in the above order.

図2では、カス部31が引き剥がされる前における電子デバイス加工用テープ1は、ロール体に巻かれた形態となっている。 In FIG. 2, the electronic device processing tape 1 is wound into a roll before the waste portion 31 is peeled off.

ラベル部21は、電子デバイス加工用テープ1の搬送方向Dに所定の間隔にて複数形成されている。ラベル部21の平面視の形状及び面積は、特に限定されず、例えば、貼合されてダイシングされる半導体ウエハの平面視の形状に略対応した形状及び面積となっている。電子デバイス加工用テープ1では、ラベル部21の平面視の形状は、円形状となっている。 The label portions 21 are formed at a predetermined interval in the transport direction D of the tape 1 for processing electronic devices. The shape and area of the label portions 21 in plan view are not particularly limited, and may be, for example, a shape and area that roughly corresponds to the shape in plan view of the semiconductor wafer to which it is bonded and diced. In the tape 1 for processing electronic devices, the shape of the label portions 21 in plan view is circular.

カス部31は、それぞれのラベル部21の平面視外縁22を囲む外周部33と、隣接するラベル部21の所定の間隔を形成する間隔部分32と、を有する。外周部33の外縁34は、ラベル部21の平面視外縁22に沿って延在している部分である。また、外周部33と間隔部分32は連続して形成されている。上記から、それぞれのラベル部21の平面視外縁22を囲む外周部33は、所定のラベル部21-1と間隔部分32を介して隣接する他のラベル部21-2の平面視外縁22を囲む外周部33と連続している。 The waste portion 31 has an outer periphery 33 that surrounds the outer edge 22 in plan view of each label portion 21, and a spacing portion 32 that forms a predetermined spacing between adjacent label portions 21. The outer edge 34 of the outer periphery 33 is a portion that extends along the outer edge 22 in plan view of the label portion 21. The outer periphery 33 and the spacing portion 32 are also formed continuously. From the above, the outer periphery 33 that surrounds the outer edge 22 in plan view of each label portion 21 is continuous with the outer periphery 33 that surrounds the outer edge 22 in plan view of another label portion 21-2 adjacent to the specified label portion 21-1 via the spacing portion 32.

図3に示すように、カス部31の間隔部分32は、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から上記所定のラベル部21-1に隣接した他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34と、所定のラベル部21-1に隣接した他のラベル部21-2(以下、単に「他のラベル部21-2」ということがある。)を囲む外周部33から上記所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34と、にて、幅方向が区画されている。他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63は、所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34には達していない。すなわち、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の終端は、所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34までは伸延していない。また、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53は、他のラベル部21-2を囲む外周部33の外縁34には達していない。すなわち、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の終端は、他のラベル部21-2を囲む外周部33の外縁34までは伸延していない。 As shown in Figure 3, the spacing portion 32 of the waste portion 31 is divided in the width direction by an outer edge 34 extending from an outer periphery 33 surrounding a specific label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 adjacent to the specific label portion 21-1, and an outer edge 34 extending from an outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 adjacent to the specific label portion 21-1 toward the specific label portion 21-1. The tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specific label portion 21-1 does not reach the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the specific label portion 21-1. That is, the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1 does not extend to the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1. Also, the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 does not reach the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2. That is, the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 does not extend to the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2.

また、所定のラベル部21-1を囲むカス部31の外周部33の外縁34と他のラベル部21-2を囲むカス部31の外周部33の外縁34は、交差していない。すなわち、電子デバイス加工用テープ1の搬送方向Dの前方から伸延したカス部31の外周部33の外縁34と搬送方向Dの後方から伸延したカス部31の外周部33の外縁34は交差していない。 In addition, the outer edge 34 of the outer periphery 33 of the waste portion 31 surrounding a given label portion 21-1 does not intersect with the outer edge 34 of the outer periphery 33 of the waste portion 31 surrounding another label portion 21-2. In other words, the outer edge 34 of the outer periphery 33 of the waste portion 31 extending from the front in the transport direction D of the electronic device processing tape 1 does not intersect with the outer edge 34 of the outer periphery 33 of the waste portion 31 extending from the rear in the transport direction D.

また、図3に示すように、カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53は、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63よりも周辺部41の方向に位置している。すなわち、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する(すなわち、一方向から伸延する)外縁34の終端は、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する(すなわち、他方向から伸延する)外縁34の終端に対して、電子デバイス加工用テープ1の搬送方向Dに直交した方向において、周辺部41の方向に位置している。上記から、先端53は、先端63よりも基材テープ13の幅方向外側に位置している。 As shown in FIG. 3, in the interval portion 32 of the waste portion 31, the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 is located toward the peripheral portion 41 more than the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1. That is, the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 (i.e., extending from one direction) is located toward the peripheral portion 41 in a direction perpendicular to the conveying direction D of the electronic device processing tape 1, relative to the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1 (i.e., extending from the other direction). From the above, the tip 53 is located outside the tip 63 in the width direction of the base tape 13.

図3では、電子デバイス加工用テープ1を形成するために、基材テープ13に対してカス部31が引き剥がされるカス上げ処理は、他のラベル部21-2を囲む外周部33の外縁34の先端63から、所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34の先端53の方向に行われる。 In FIG. 3, the scrap removal process in which the scrap portion 31 is peeled off from the base tape 13 to form the electronic device processing tape 1 is performed in the direction from the tip 63 of the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 to the tip 53 of the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1.

カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、終端である先端53から搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線C方向へ伸延したターン部50を有している。外縁34のターン部50は、所定のラベル部21-1を囲む部位における外縁34とは、伸延方向が異なる部位である。ターン部50は、カス部31の間隔部分32に形成されている。外縁34のターン部50は、外縁34の先端53から所定のラベル部21-1方向且つ基材テープ13の中心線C方向へ伸延している形状となっている。後述するように、ターン部50を含めて所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、基材テープ13を貫通して形成されたプリカット加工のカット線であり、剥離フィルム11と接着剤層12には、プリカット加工のカット線は形成されていなくてもよい。 In the space 32 of the waste portion 31, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 has a turn portion 50 extending from the tip 53 which is the terminal end toward the center line C of the base tape 13 which is parallel to the conveying direction D. The turn portion 50 of the outer edge 34 is a portion which extends in a different direction from the outer edge 34 in the portion surrounding the specified label portion 21-1. The turn portion 50 is formed in the space 32 of the waste portion 31. The turn portion 50 of the outer edge 34 is shaped to extend from the tip 53 of the outer edge 34 toward the specified label portion 21-1 and toward the center line C of the base tape 13. As described below, the outer edge 34 that extends from the outer periphery 33 that surrounds a given label part 21-1, including the turn part 50, toward the other label part 21-2 is a precut cut line formed through the base tape 13, and the release film 11 and adhesive layer 12 do not necessarily have to have a precut cut line formed therein.

ターン部50を含めて所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、電子デバイス加工用テープ1の搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線Cよりも外側の部位にのみ形成されている。すなわち、ターン部50を含めて所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線Cを横切るようには伸延していない。また、ターン部50は、1箇所の間隔部分32あたり、2つ形成されており、本実施形態においては中心線Cを境に略対称に配置されている。なお、ターン部50の配置は、中心線Cを境に対称でなくてもかまわない。 The outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 including the turn part 50 toward the other label part 21-2 is formed only in a portion outside the center line C of the base tape 13 parallel to the conveying direction D of the tape 1 for processing electronic devices. In other words, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 including the turn part 50 toward the other label part 21-2 does not extend to cross the center line C of the base tape 13 parallel to the conveying direction D. In addition, two turn parts 50 are formed per one space portion 32, and in this embodiment, they are arranged approximately symmetrically with respect to the center line C. The arrangement of the turn parts 50 does not have to be symmetrical with respect to the center line C.

ターン部50の平面視形状は、曲部51を有している形状となっている。また、ターン部50の曲部51は、曲部51の基点(中心線Cに最も近い部分)56から周辺部41の方向へ伸延した外方向部位52を有する。曲部51の外方向部位52は、間隔部分32において、中心線Cから基材テープ13の幅方向外側に向かって、すなわち、基材テープ13の中心線Cから搬送方向Dに対して直交方向の縁部に向かって、伸延している部位である。 The turn section 50 has a planar shape with a curved portion 51. The curved portion 51 of the turn section 50 has an outward portion 52 that extends from the base point (the portion closest to the center line C) 56 of the curved portion 51 toward the peripheral portion 41. The outward portion 52 of the curved portion 51 is a portion that extends in the gap portion 32 from the center line C toward the outside in the width direction of the base tape 13, that is, from the center line C of the base tape 13 toward the edge portion perpendicular to the conveying direction D.

また、カス部31の間隔部分32にて、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34は、終端である先端63から搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線C方向へ伸延したターン部60を有している。外縁34のターン部60は、他のラベル部21-2を囲む部位における外縁34とは、伸延方向が異なる部位である。ターン部60は、カス部31の間隔部分32に形成されている。外縁34のターン部60は、外縁34の先端63から他のラベル部21-2方向且つ基材テープ13の中心線C方向へ伸延している形状となっている。後述するように、ターン部60を含めて他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34は、基材テープ13を貫通して形成されたプリカット加工のカット線であり、剥離フィルム11と接着剤層12には、プリカット加工のカット線は形成されていなくてもよい。 In addition, in the space 32 of the waste portion 31, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portions 21-2 toward the specified label portion 21-1 has a turn portion 60 extending from the tip 63 which is the terminal end toward the center line C of the base tape 13 which is parallel to the conveying direction D. The turn portion 60 of the outer edge 34 is a portion which extends in a different direction from the outer edge 34 in the portion surrounding the other label portions 21-2. The turn portion 60 is formed in the space 32 of the waste portion 31. The turn portion 60 of the outer edge 34 is shaped to extend from the tip 63 of the outer edge 34 toward the other label portions 21-2 and toward the center line C of the base tape 13. As described below, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label parts 21-2, including the turn part 60, toward the specified label part 21-1 is a pre-cut cut line formed through the base tape 13, and the release film 11 and adhesive layer 12 do not necessarily have to have a pre-cut cut line formed therein.

ターン部60を含めて他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34は、電子デバイス加工用テープ1の搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線Cよりも外側の部位にのみ形成されている。すなわち、ターン部60を含めて他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34は、搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線Cを横切るようには伸延していない。また、ターン部60は、1箇所の間隔部分32あたり、2つ形成されており、中心線Cを境に略対称に配置されている。なお、ターン部60の配置は、中心線Cを境に対称でなくてもかまわない。 The outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label parts 21-2 including the turn part 60 toward the specified label part 21-1 is formed only in a portion outside the center line C of the base tape 13 parallel to the conveying direction D of the tape 1 for processing electronic devices. In other words, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label parts 21-2 including the turn part 60 toward the specified label part 21-1 does not extend to cross the center line C of the base tape 13 parallel to the conveying direction D. In addition, two turn parts 60 are formed per one space 32, and are arranged approximately symmetrically with respect to the center line C. The arrangement of the turn parts 60 does not have to be symmetrical with respect to the center line C.

ターン部60の平面視形状は、曲部61を有している形状となっている。また、ターン部60の曲部61は、曲部61の基点(中心線Cに最も近い部分)66から周辺部41の方向へ伸延した外方向部位62を有する。曲部61の外方向部位62は、間隔部分32において、中心線Cから基材テープ13の幅方向外側に向かって、すなわち、基材テープ13の中心線Cから搬送方向Dに対して直交方向の縁部に向かって、伸延している部位である。 The turn section 60 has a planar shape that includes a curved portion 61. The curved portion 61 of the turn section 60 has an outward portion 62 that extends from the base point 66 of the curved portion 61 (the portion closest to the center line C) toward the peripheral portion 41. The outward portion 62 of the curved portion 61 is a portion that extends from the center line C toward the outside in the width direction of the base tape 13 in the spacing portion 32, that is, from the center line C of the base tape 13 toward the edge portion perpendicular to the conveying direction D.

他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63は、所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34には達しておらず、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53は、他のラベル部21-2を囲む外周部33の外縁34には達していないことにより、カス部31の間隔部分32における引っ張り強度及び破断強度が向上する。カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53が、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63よりも周辺部41の方向に位置している。カス上げ処理の際には基材テープ13に長手方向に引っ張り力が作用するため、基材テープ13の外縁34付近にはカス上げ方向に平行な方向および中心線Cに向かう方向に張力が作用する。そのため、カス上げの位置が先端63に達すると、基材テープ13の引き裂きが、カス上げ方向に平行な方向あるいはやや中心線Cに向かって進展する。先端53は先端63よりも中心線Cから離れた方向に位置しており、かつ、外方向部位52が先端63よりも中心線C側に位置していることにより、先端63から進展した引き裂きが確実に所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34に達する。これにより、先端63から先端53への引き裂きが円滑化される。一方で、先端53が先端63よりも中心線Cに近い方向に位置していると、先端63から進展した引き裂きが所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34に達することができない場合が生じ、先端63から先端53への引き裂きに支障を生じる。従って、カス上げ処理の際に、ラベル部21間の外縁34が確実につながり、カス部31の外縁34から基材テープ13の中心線C方向へ引き裂き部が発生することが防止され、また、外縁34から外れてカス部31に引き裂き部が発生することが防止される。カス部31の外縁34から中心線C方向への引き裂きの発生が防止され、また、外縁34から外れてカス部31に引き裂き部が発生することが防止されることにより、基材テープ13が薄肉化され、または基材テープ13に引っ張り強度が低下する材料が使用されても、カス部31の引き剥がしを円滑化することができるので、電子デバイス加工用テープ1のカス剥離部にカス部31が残置されていることが防止される。 The tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1 does not reach the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1, and the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 does not reach the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2, thereby improving the tensile strength and breaking strength in the gap part 32 of the waste part 31. In the gap part 32 of the waste part 31, the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 is located in the direction of the peripheral part 41 further than the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1. During the scrap removal process, a tensile force acts on the base tape 13 in the longitudinal direction, so that tension acts on the outer edge 34 of the base tape 13 in a direction parallel to the scrap removal direction and in a direction toward the center line C. Therefore, when the scrap removal position reaches the tip 63, the tearing of the base tape 13 progresses in a direction parallel to the scrap removal direction or slightly toward the center line C. The tip 53 is located in a direction farther away from the center line C than the tip 63, and the outward portion 52 is located closer to the center line C than the tip 63, so that the tearing that progresses from the tip 63 reliably reaches the outer edge 34 of the outer periphery 33 that surrounds the specified label part 21-1. This facilitates the tearing from the tip 63 to the tip 53. On the other hand, if the tip 53 is located in a direction closer to the center line C than the tip 63, there are cases in which the tearing that progresses from the tip 63 cannot reach the outer edge 34 of the outer periphery 33 that surrounds the specified label part 21-1, and this causes problems in the tearing from the tip 63 to the tip 53. Therefore, during the waste removal process, the outer edges 34 between the label portions 21 are reliably connected, preventing tearing from the outer edge 34 of the waste portion 31 in the direction of the center line C of the base tape 13, and preventing tearing from occurring in the waste portion 31 away from the outer edge 34. By preventing tearing from the outer edge 34 of the waste portion 31 in the direction of the center line C and preventing tearing from occurring in the waste portion 31 away from the outer edge 34, even if the base tape 13 is made thin or a material with a lower tensile strength is used for the base tape 13, the waste portion 31 can be peeled off smoothly, preventing the waste portion 31 from being left behind in the waste peeling portion of the tape 1 for processing electronic devices.

また、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34がターン部50を有する。ターン部50を有することにより、ラベル部21に沿った形状に外縁34を形成しながら、外方向部位52を形成することができる。そのため、ラベル部21の形状に関わらず、ラベル部34間の外縁34を確実につなげることができる。 The outer edge 34, which extends from the outer periphery 33 surrounding a given label part 21-1 toward the other label part 21-2, has a turn section 50. By having the turn section 50, it is possible to form the outer edge 34 in a shape that conforms to the label part 21 while forming the outward portion 52. Therefore, it is possible to reliably connect the outer edges 34 between the label parts 34, regardless of the shape of the label part 21.

ターン部50の曲部51は、平面視円弧状の曲線部となっている。すなわち、曲部51の基点56から周辺部41の方向へ伸延した外方向部位52は、平面視円弧状の曲線部となっている。平面視円弧状の曲線部の曲率半径は、特に限定されないが、その下限値は、カス部31の間隔部分32において、外縁34から基材テープ13の中心線C方向への引き裂きの発生がより確実に防止される点から、R1.0mmが好ましく、R2.0mmが特に好ましい。一方で、曲部51の曲率半径の上限値は、電子デバイス加工用テープ1の寸法に応じて、適宜、選択可能であるが、例えば、ラベル部間の距離を最小にする観点から、R20mmが好ましい。 The curved portion 51 of the turn portion 50 is a curved portion that is arc-shaped in plan view. That is, the outward portion 52 extending from the base point 56 of the curved portion 51 toward the peripheral portion 41 is a curved portion that is arc-shaped in plan view. The radius of curvature of the curved portion that is arc-shaped in plan view is not particularly limited, but the lower limit is preferably R1.0 mm, and particularly preferably R2.0 mm, in order to more reliably prevent tearing from the outer edge 34 toward the center line C of the base tape 13 in the space portion 32 of the waste portion 31. On the other hand, the upper limit of the radius of curvature of the curved portion 51 can be appropriately selected depending on the dimensions of the tape 1 for processing electronic devices, but for example, R20 mm is preferable in terms of minimizing the distance between the label portions.

ターン部60の曲部61は、平面視円弧状の曲線部となっている。すなわち、曲部61の基点66から周辺部41の方向へ伸延した外方向部位62は、平面視円弧状の曲線部となっている。平面視円弧状の曲線部の曲率半径は、特に限定されないが、その下限値は、カス部31の間隔部分32において、外縁34から基材テープ13の中心線C方向への引き裂きの発生がより確実に防止される点から、R1.0mmが好ましく、R2.0mmが特に好ましい。一方で、曲部61の曲率半径の上限値は、電子デバイス加工用テープ1の寸法に応じて、適宜、選択可能であるが、例えば、ラベル部間の距離を最小にする観点から、R20mmが好ましい。 The curved portion 61 of the turn portion 60 is a curved portion that is arc-shaped in plan view. That is, the outward portion 62 extending from the base point 66 of the curved portion 61 toward the peripheral portion 41 is a curved portion that is arc-shaped in plan view. The radius of curvature of the curved portion that is arc-shaped in plan view is not particularly limited, but the lower limit is preferably R1.0 mm, and particularly preferably R2.0 mm, in order to more reliably prevent tearing from the outer edge 34 toward the center line C of the base tape 13 in the space portion 32 of the waste portion 31. On the other hand, the upper limit of the radius of curvature of the curved portion 61 can be appropriately selected depending on the dimensions of the tape 1 for processing electronic devices, but for example, R20 mm is preferable in terms of minimizing the distance between the label portions.

搬送方向Dに対して平行方向における、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63との距離L1は、特に限定されないが、その下限値は、カス部31の外縁34から基材テープ13の中心線C方向への引き裂き部の発生をより確実に防止する点から0.1mmが好ましく、0.2mmがより好ましく、0.5mmが特に好ましい。一方で、先端53と先端63との距離L1の上限値は、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34間の引き裂きがより確実となる点から10mmが好ましく、7.0mmがより好ましく、5.0mmが特に好ましい。 The distance L1, in a direction parallel to the conveying direction D, between the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding a specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 and the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1, is not particularly limited, but the lower limit is preferably 0.1 mm, more preferably 0.2 mm, and particularly preferably 0.5 mm, in order to more reliably prevent the occurrence of a tear from the outer edge 34 of the waste portion 31 in the direction of the center line C of the base tape 13. On the other hand, the upper limit of the distance L1 between the tip 53 and the tip 63 is preferably 10 mm, more preferably 7.0 mm, and particularly preferably 5.0 mm, in order to ensure a more reliable tear between the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 and the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1.

所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53を通る搬送方向Dに対して平行方向の仮想線D1と外方向部位52との先端53におけるなす角度θは、特に限定されないが、その下限値は、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63からの引き裂きが外方向部位52により確実に到達する点から、10°が好ましく、20°がより好ましく、30°が特に好ましい。一方で、上記なす角度θの上限値は、カス上げが先端63から先端53付近にさしかかった際に、基材フィルム14に大きな張力が作用して想定している引き裂き位置からずれた位置に引き裂きが生じてカス部31の先端部が残ってしまうこと等を防止してカス上げ処理をより確実に円滑化する点から、150°が好ましく、130°が特に好ましい。 The angle θ between the imaginary line D1 parallel to the conveying direction D passing through the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 and the outward part 52 at the tip 53 is not particularly limited, but the lower limit is preferably 10°, more preferably 20°, and particularly preferably 30°, in order to ensure that the tear from the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1 reaches the outward part 52 more reliably. On the other hand, the upper limit of the angle θ is preferably 150°, and particularly preferably 130°, in order to ensure smooth scrap removal processing by preventing a large tension acting on the base film 14 when scrap removal approaches the vicinity of the tip 53 from the tip 63, causing a tear to occur at a position shifted from the expected tear position, and the tip of the scrap part 31 remaining.

搬送方向Dに対して直交方向における、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63との距離は、特に限定されないが、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34間の引き裂きがより確実となり、カス部31の引き剥がしをより確実に円滑化することができる点から、0.1mm以上10mm以下が好ましく、0.2mm以上7.0mm以下がより好ましく、0.5mm以上5.0mm以下が特に好ましい。 The distance between the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 and the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1 in the direction perpendicular to the conveying direction D is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.2 mm or more and 7.0 mm or less, and particularly preferably 0.5 mm or more and 5.0 mm or less, in order to ensure more reliable tearing between the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 and the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1, and to ensure more reliable smooth peeling of the waste part 31.

次に、基材テープ13に、ラベル部21とカス部31と周辺部41の区画を形成する方法について説明する。基材テープ13に、半導体ウエハが貼合されるラベル部21と、ラベル部21の平面視外縁22を囲んでいるカス部31と、カス部31の外縁34と接し、基材テープ13の縁部に位置する周辺部41との区画を形成する方法には、例えば、回転打ち抜き刃を用いて基材テープ13をプリカット加工する方法が挙げられる。この場合、ラベル部21とカス部31と周辺部41との区画は、基材テープ13に設けられたカット線で形成されている。 Next, a method for forming the partitions of the label portion 21, waste portion 31, and peripheral portion 41 on the base tape 13 will be described. A method for forming the partitions of the label portion 21 to which the semiconductor wafer is attached, the waste portion 31 surrounding the outer edge 22 of the label portion 21 in a plan view, and the peripheral portion 41 in contact with the outer edge 34 of the waste portion 31 and located on the edge of the base tape 13 on the base tape 13 includes, for example, a method of precutting the base tape 13 using a rotary punching blade. In this case, the partitions of the label portion 21, waste portion 31, and peripheral portion 41 are formed by cut lines provided on the base tape 13.

電子デバイス加工用テープ1を形成するためのカス部31を有する電子デバイス加工用テープは、図4に示す刃のパターンを有する回転打ち抜き刃100を用いて、基材テープ13にプリカット加工を施すことで、ラベル部21とカス部31と周辺部41との区画を形成でき、また、カス部31の間隔部分32に、ターン部50、60を形成することができる。回転打ち抜き刃100を円筒形のロール(図示せず)の外面に巻き付けて装着し、回転打ち抜き刃100に基材テープ13を押し当てながら円筒形のロールを回転させることで、基材テープ13にプリカット加工を施すことができる。円筒形のロールが1回転することで、プリカットされたラベル部21が1つ形成される。 The electronic device processing tape having the waste portion 31 for forming the electronic device processing tape 1 can be partitioned into the label portion 21, waste portion 31, and peripheral portion 41 by precutting the base tape 13 using a rotary punching blade 100 having the blade pattern shown in FIG. 4, and turn portions 50, 60 can be formed in the spaced portion 32 of the waste portion 31. The rotary punching blade 100 is attached by wrapping it around the outer surface of a cylindrical roll (not shown), and the cylindrical roll is rotated while pressing the base tape 13 against the rotary punching blade 100, thereby precutting the base tape 13. One precut label portion 21 is formed by one rotation of the cylindrical roll.

図4に示すように、回転打ち抜き刃100は、ラベル部21の平面視外縁22を形成するためのラベル部形成用刃110と、ラベル部形成用刃110の外周部に設けられた、カス部31の外縁34を形成するためのカス部形成用刃120とを備えている。電子デバイス加工用テープ1では、ラベル部21の平面視の形状が円形状となっていることに対応して、ラベル部形成用刃110は、円形状となっている。 As shown in FIG. 4, the rotary punching blade 100 includes a label forming blade 110 for forming the outer edge 22 of the label portion 21 in plan view, and a waste portion forming blade 120 for forming the outer edge 34 of the waste portion 31, which is provided on the outer periphery of the label portion forming blade 110. In the electronic device processing tape 1, the label portion forming blade 110 is circular in shape to correspond to the circular shape of the label portion 21 in plan view.

カス部形成用刃120には、ターン部50を形成するためのターン部形成用刃121と、ターン部60を形成するためのターン部形成用刃122と、ラベル部21を囲む外周部33の外縁34を形成するための外周部外縁形成用刃123と、を有している。ターン部形成用刃121は、ターン部形成用刃122と対向する位置に形成されている。また、外周部外縁形成用刃123は、ターン部形成用刃121及びターン部形成用刃122と連設されている。また、ターン部形成用刃121は、外周部外縁形成用刃123を介してターン部形成用刃122と連設されている。 The waste portion forming blade 120 has a turn portion forming blade 121 for forming the turn portion 50, a turn portion forming blade 122 for forming the turn portion 60, and a peripheral portion outer edge forming blade 123 for forming the outer edge 34 of the peripheral portion 33 surrounding the label portion 21. The turn portion forming blade 121 is formed in a position facing the turn portion forming blade 122. The peripheral portion outer edge forming blade 123 is connected to the turn portion forming blade 121 and the turn portion forming blade 122. The turn portion forming blade 121 is connected to the turn portion forming blade 122 via the peripheral portion outer edge forming blade 123.

所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53は他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63よりも周辺部41の方向に位置していることに対応して、ターン部形成用刃121の間隔S1は、ターン部形成用刃122の間隔S2よりも広く設定されている。 The tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 is located closer to the peripheral part 41 than the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1. In response to this, the spacing S1 of the turn part forming blades 121 is set wider than the spacing S2 of the turn part forming blades 122.

また、ターン部50に曲部51が形成されていることに対応して、ターン部形成用刃121には、ターン部形成用刃121の伸延方向に曲げ部124が設けられている。曲げ部124の曲率半径は、ターン部50の曲部51の曲率半径に対応している。さらに、ターン部50の曲部51に外方向部位52が形成されていることに対応して、ターン部形成用刃121の曲げ部124には、外方向に伸延した、外方向部125が設けられている。 In response to the formation of the curved portion 51 in the turn portion 50, the turn portion forming blade 121 is provided with a curved portion 124 in the extension direction of the turn portion forming blade 121. The radius of curvature of the curved portion 124 corresponds to the radius of curvature of the curved portion 51 of the turn portion 50. Furthermore, in response to the formation of the outward portion 52 in the curved portion 51 of the turn portion 50, the curved portion 124 of the turn portion forming blade 121 is provided with an outward portion 125 that extends outward.

また、ターン部60に曲部61が形成されていることに対応して、ターン部形成用刃122には、ターン部形成用刃122の伸延方向に曲げ部224が設けられている。曲げ部224の曲率半径は、ターン部60の曲部61の曲率半径に対応している。さらに、ターン部60の曲部61に外方向部位62が形成されていることに対応して、ターン部形成用刃122の曲げ部224には、外方向に伸延した、外方向部225が設けられている。 In response to the formation of the curved portion 61 in the turn portion 60, the turn portion forming blade 122 is provided with a curved portion 224 in the extension direction of the turn portion forming blade 122. The radius of curvature of the curved portion 224 corresponds to the radius of curvature of the curved portion 61 in the turn portion 60. Furthermore, in response to the formation of the outward portion 62 in the curved portion 61 of the turn portion 60, the curved portion 224 of the turn portion forming blade 122 is provided with an outward portion 225 that extends outward.

回転打ち抜き刃100の1回転目で、ラベル部形成用刃110により所定のラベル部21-1が形成され、外周部外縁形成用刃123により所定のラベル部21-1を囲む外周部33の外縁34が形成され、ターン部形成用刃121によりターン部50が形成される。そして、回転打ち抜き刃100の2回転目で、ターン部50が形成された部分の近傍に、ターン部形成用刃122によりターン部60が形成されるとともに、ラベル部形成用刃110により所定のラベル部21-1に隣接した他のラベル部21-2が形成され、外周部外縁形成用刃123により他のラベル部21-2を囲む外周部33の外縁34が形成される。上記プリカット加工の操作を繰り返すことで、基材テープ13にラベル部21とカス部31と周辺部41との区画を連続的に形成することができる。 During the first rotation of the rotary punching blade 100, the label portion forming blade 110 forms the specified label portion 21-1, the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 is formed by the outer peripheral edge forming blade 123, and the turn portion 50 is formed by the turn portion forming blade 121. During the second rotation of the rotary punching blade 100, the turn portion 60 is formed by the turn portion forming blade 122 near the portion where the turn portion 50 is formed, and another label portion 21-2 adjacent to the specified label portion 21-1 is formed by the label portion forming blade 110, and the outer edge 34 of the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 is formed by the outer peripheral edge forming blade 123. By repeating the above precut processing operation, the label portion 21, the waste portion 31, and the peripheral portion 41 can be continuously divided into sections on the base tape 13.

なお、図2、3に示す第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1では、カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53は、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63よりも周辺部41の方向に位置していたが、図5に示すように、カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63が、搬送方向Dに対して平行に位置している電子デバイス加工用テープ2でもよい。 In the electronic device processing tape 1 according to the first embodiment shown in Figures 2 and 3, the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 in the space 32 of the waste part 31 is located toward the peripheral part 41 from the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1. However, as shown in Figure 5, the electronic device processing tape 2 may have the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1 toward the other label part 21-2 and the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2 toward the specified label part 21-1 in the space 32 of the waste part 31 parallel to the conveying direction D.

なお、図5は、先端53と先端63が搬送方向Dに対して平行に位置している点で図2、3とは異なる、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープのカス上げ処理前における平面視の概要を示す拡大図である。 Note that FIG. 5 is an enlarged plan view of the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention before the waste removal process, which differs from FIGS. 2 and 3 in that the leading edge 53 and the leading edge 63 are positioned parallel to the transport direction D.

すなわち、図5に示す第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ2では、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する(すなわち、一方向から伸延する)外縁34の終端と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する(すなわち、他方向から伸延する)外縁34の終端が、搬送方向Dに対して平行に位置している。上記から、先端53と先端63は、基材テープ13の幅方向において同じ位置となっている。 That is, in the electronic device processing tape 2 according to the first embodiment shown in FIG. 5, the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 (i.e., extending from one direction) and the end of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1 (i.e., extending from the other direction) are positioned parallel to the conveying direction D. From the above, the tip 53 and the tip 63 are in the same position in the width direction of the base tape 13.

電子デバイス加工用テープ2では、回転打ち抜き刃100のターン部形成用刃121の間隔S1とターン部形成用刃122の間隔S2を同じ間隔とすることで、先端53と先端63を、基材テープ13の幅方向において同じ位置に設定することができる。 In the electronic device processing tape 2, the spacing S1 of the turn portion forming blade 121 of the rotary punching blade 100 and the spacing S2 of the turn portion forming blade 122 are set to the same spacing, so that the tip 53 and the tip 63 can be set at the same position in the width direction of the base tape 13.

カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63が、搬送方向Dに対して平行に位置していることにより、電子デバイス加工用テープ1と同様に、基材テープ13のカス部31が巻き取り手段等にて引き剥がされるカス上げ処理の際に、先端63から先端53への引き裂きが円滑化される。従って、カス部31に張力が負荷されても、カス部31の外縁34から基材テープ13の中心線C方向へ引き裂き部が発生することが防止され、また、外縁34から外れてカス部31に引き裂き部が発生することが防止される。 In the gap 32 of the waste portion 31, the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 and the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1 are positioned parallel to the conveying direction D, so that, as with the electronic device processing tape 1, tearing from the tip 63 to the tip 53 is smoothed during the waste removal process in which the waste portion 31 of the base tape 13 is peeled off by a winding means or the like. Therefore, even if tension is applied to the waste portion 31, a tear is prevented from occurring from the outer edge 34 of the waste portion 31 in the direction of the center line C of the base tape 13, and a tear is also prevented from occurring in the waste portion 31 away from the outer edge 34.

上記から、本発明の電子デバイス加工用テープでは、カス上げ処理の上流に位置する、他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延する外縁34の先端63が、カス上げ処理の下流に位置する、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34の先端53よりも周辺部41の方向に位置していない状態であればよい。 From the above, in the electronic device processing tape of the present invention, it is sufficient that the tip 63 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the other label part 21-2, located upstream of the scrap removal process, toward the specified label part 21-1, is not located further in the direction of the peripheral part 41 than the tip 53 of the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label part 21-1, located downstream of the scrap removal process, toward the other label part 21-2.

次に、電子デバイス加工用テープ1の製造方法例を説明する。 Next, we will explain an example of a method for manufacturing tape 1 for electronic device processing.

まず、剥離フィルム11の主面61上に接着剤層12を塗布した積層体に対し、回転打抜き刃を用いて、接着剤層12に対してプリカットを形成する1次プリカットを行う。1次プリカットの後、接着剤層12の不要部分(ラベル部21に対応する部分以外の部分)を除去する。これとは別に、基材フィルム14の主面71上に粘着剤層15を塗布した積層構造物である基材テープ13を作製しておく。次に、不要部分が除去された接着剤層12に粘着剤層15を対向させて、基材テープ13を剥離フィルム11と接着剤層12に対してラミネートして基材テープ13を剥離フィルム11と重ね合わせる。 First, a primary precut is performed on the laminate in which the adhesive layer 12 is applied to the main surface 61 of the release film 11, using a rotary punch blade to form a precut on the adhesive layer 12. After the primary precut, unnecessary portions of the adhesive layer 12 (portions other than the portion corresponding to the label portion 21) are removed. Separately, a base tape 13 is prepared as a laminate structure in which an adhesive layer 15 is applied to the main surface 71 of a base film 14. Next, the adhesive layer 15 is placed opposite the adhesive layer 12 from which the unnecessary portions have been removed, and the base tape 13 is laminated to the release film 11 and adhesive layer 12, so that the base tape 13 is superimposed on the release film 11.

次に、基材テープ13と対向配置されている回転打抜き刃100を用いて、基材テープ13に、半導体ウエハが貼合されるラベル部21と、ラベル部21の平面視外縁22を囲んでいるカス部31と、カス部31の外縁34と接し、基材テープ13の縁部に位置する周辺部41との区画(カット線)を形成する2次プリカットを行う。2次プリカットにおいて、カス部31の間隔部分32に、カット線であるターン部50、60も形成される。また、2次プリカットにおいて、カス部31の間隔部分32にて、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延するカット線である外縁34の先端53と他のラベル部21-2を囲む外周部33から所定のラベル部21-1方向へ伸延するカット線である外縁34の先端63とが、所定の位置に形成される。また、2次プリカットにおいて、所定のラベル部21-1を囲むカス部31の外周部33のカット線である外縁34と他のラベル部21-2を囲むカス部31の外周部33のカット線である外縁34は、交差していない。 Next, a rotary punching blade 100 arranged opposite the base tape 13 is used to perform a secondary precut on the base tape 13 to form a partition (cut line) between the label portion 21 to which the semiconductor wafer is attached, the waste portion 31 surrounding the outer edge 22 of the label portion 21 in a plan view, and the peripheral portion 41 that contacts the outer edge 34 of the waste portion 31 and is located at the edge of the base tape 13. In the secondary precut, turn portions 50 and 60, which are cut lines, are also formed in the spaced portion 32 of the waste portion 31. In the secondary precut, the tip 53 of the outer edge 34, which is a cut line extending from the outer periphery 33 surrounding a specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2, and the tip 63 of the outer edge 34, which is a cut line extending from the outer periphery 33 surrounding the other label portion 21-2 toward the specified label portion 21-1, are formed at predetermined positions in the spaced portion 32 of the waste portion 31. In addition, in the secondary precut, the outer edge 34, which is the cut line of the outer periphery 33 of the waste portion 31 surrounding the specified label portion 21-1, does not intersect with the outer edge 34, which is the cut line of the outer periphery 33 of the waste portion 31 surrounding the other label portion 21-2.

次に、基材テープ13のカス部31を巻き取り手段等にて引き剥がすカス上げ処理を実施して、カス剥離部を形成する。これにより、電子デバイス加工用テープ1を製造することができる。 Next, a waste removal process is performed in which the waste portion 31 of the base tape 13 is peeled off using a winding means or the like to form a waste removal portion. This allows the tape 1 for processing electronic devices to be manufactured.

次に、本発明の電子デバイス加工用テープの使用方法例を説明する。ここでは、第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1を用いて、本発明の電子デバイス加工用テープの使用方法例を説明する。なお、図6は、本発明の第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープの使用方法例の説明図である。 Next, an example of how to use the electronic device processing tape of the present invention will be described. Here, an example of how to use the electronic device processing tape of the present invention will be described using the electronic device processing tape 1 according to the first embodiment. Note that FIG. 6 is an explanatory diagram of an example of how to use the electronic device processing tape according to the first embodiment of the present invention.

図6に示すように、先ず、ロール状に巻かれた電子デバイス加工用テープ1を、剥離フィルム巻き取りローラ200にて、電子デバイス加工用テープ1のロール体から引き出す。電子デバイス加工用テープ1の引き出し経路には、剥離手段201が設けられており、剥離手段201の先端部を折り返し点として、電子デバイス加工用テープ1から剥離フィルム11のみが引き剥がされる。引き剥がされた剥離フィルム11は、電子デバイス加工用テープ1のロール体から引き出す機能を有する剥離フィルム巻き取りローラ200に巻き取られる。 As shown in FIG. 6, first, the rolled electronic device processing tape 1 is pulled out from the roll of electronic device processing tape 1 by a release film take-up roller 200. A peeling means 201 is provided on the pull-out path of the electronic device processing tape 1, and only the release film 11 is peeled off from the electronic device processing tape 1 with the tip of the peeling means 201 as the turning point. The peeled off release film 11 is taken up by the release film take-up roller 200, which has the function of pulling out the electronic device processing tape 1 from the roll.

剥離手段201の先には、貼合部202が設けられている。貼合部202の上面には、半導体ウエハWと半導体ウエハWを囲んだリングフレーム205が載置されている。剥離フィルム11が引き剥がされた、接着剤層12と基材テープ13の積層体は、接着剤層12と対向した半導体ウエハW上に導かれ、貼合ローラ203によって接着剤層12に半導体ウエハWを貼合する。 A laminating section 202 is provided beyond the peeling means 201. A semiconductor wafer W and a ring frame 205 surrounding the semiconductor wafer W are placed on the upper surface of the laminating section 202. The laminate of the adhesive layer 12 and the base tape 13 from which the release film 11 has been peeled off is guided onto the semiconductor wafer W facing the adhesive layer 12, and the semiconductor wafer W is laminated to the adhesive layer 12 by a laminating roller 203.

次に、接着剤層12と基材テープ13の積層体を半導体ウエハWとリングフレーム205に貼りつけた状態で、半導体ウエハWをダイシングして半導体チップとする(図示せず)。ダイシングして半導体チップとした後、基材テープ13に対して紫外線照射等の硬化処理を行って、基材テープ13の粘着剤層15を構成する粘着成分を硬化させて、粘着成分の粘着力を低下させる。粘着剤層15の粘着力が低下すると、接着剤層12は粘着剤層15から円滑に剥離して、半導体チップの裏面に接着剤層12が付着した状態で、半導体チップがピックアップされる。なお、半導体チップの裏面に付着した接着剤層12は、半導体チップをリードフレーム、パッケージ基板、他の半導体チップに接着する際に、ダイボンディングフィルムとして機能する。 Next, with the laminate of the adhesive layer 12 and the base tape 13 attached to the semiconductor wafer W and the ring frame 205, the semiconductor wafer W is diced to form semiconductor chips (not shown). After dicing to form the semiconductor chips, the base tape 13 is subjected to a curing process such as ultraviolet irradiation to cure the adhesive component constituting the adhesive layer 15 of the base tape 13, thereby reducing the adhesive strength of the adhesive component. When the adhesive strength of the adhesive layer 15 is reduced, the adhesive layer 12 is smoothly peeled off from the adhesive layer 15, and the semiconductor chip is picked up with the adhesive layer 12 attached to the back surface of the semiconductor chip. The adhesive layer 12 attached to the back surface of the semiconductor chip functions as a die bonding film when the semiconductor chip is bonded to a lead frame, a package substrate, or another semiconductor chip.

次に、本発明の電子デバイス加工用テープの他の実施形態例について説明する。上記第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1、2では、ターン部50、60の平面視形状には、曲部51、61を有していたが、これに代えて、ターン部50、60の平面視形状には、直線部を有していてもよい。 Next, other embodiments of the electronic device processing tape of the present invention will be described. In the above-mentioned first embodiment of the electronic device processing tape 1, 2, the planar shape of the turn portion 50, 60 has a curved portion 51, 61, but instead, the planar shape of the turn portion 50, 60 may have a straight portion.

また、上記第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1、2では、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、終端である先端53から搬送方向Dに対して平行な基材テープ13の中心線C方向へ伸延したターン部50を有していたが、これに代えて、先端53から基材テープ13の中心線C方向へ伸延したターン部50を有していなくてもよい。ターン部50を有していない場合、所定のラベル部21-1を囲む外周部33から他のラベル部21-2方向へ伸延する外縁34は、間隔部分32において、先端53から搬送方向Dに対して平行に所定のラベル部21-1方向へ伸延している形状となっている。 In the electronic device processing tapes 1 and 2 according to the first embodiment, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 has a turn portion 50 extending from the tip 53, which is the end, toward the center line C of the base tape 13 parallel to the conveying direction D. Alternatively, the turn portion 50 extending from the tip 53 toward the center line C of the base tape 13 may not be included. If the turn portion 50 is not included, the outer edge 34 extending from the outer periphery 33 surrounding the specified label portion 21-1 toward the other label portion 21-2 has a shape that extends from the tip 53 toward the specified label portion 21-1 in the gap portion 32 parallel to the conveying direction D.

また、上記第1実施形態例に係る電子デバイス加工用テープ1、2では、剥離テープ11と基材テープ13の間に接着剤層12が設けられていたが、これに代えて、図7に示すように、剥離テープ11と基材テープ13の間に接着剤層12が設けられていない電子デバイス加工用テープ3としてもよい。電子デバイス加工用テープ3では、ラベル部21でも、剥離テープ11に、直接、基材テープ13の粘着剤層15が接している。 In addition, in the electronic device processing tapes 1 and 2 according to the first embodiment, the adhesive layer 12 is provided between the release tape 11 and the base tape 13. Alternatively, as shown in FIG. 7, the electronic device processing tape 3 may have no adhesive layer 12 between the release tape 11 and the base tape 13. In the electronic device processing tape 3, the adhesive layer 15 of the base tape 13 is in direct contact with the release tape 11 even in the label portion 21.

本発明の電子デバイス加工用テープは、基材テープが薄肉化され、または基材テープに引っ張り強度が低下する材料が使用されても、カス部の引き剥がしを円滑化することができるので、例えば、ダイシングボンディング一体型フィルムの分野で利用価値が高い。 The electronic device processing tape of the present invention can facilitate peeling off of waste even when the base tape is made thin or a material with reduced tensile strength is used for the base tape, making it highly useful, for example, in the field of dicing and bonding integrated films.

1、2、3 電子デバイス加工用テープ
11 剥離フィルム
12 接着剤層
13 基材テープ
14 基材フィルム
15 粘着剤層
50、60 ターン部
53、63 先端
REFERENCE SIGNS LIST 1, 2, 3 Tape for processing electronic devices 11 Release film 12 Adhesive layer 13 Base tape 14 Base film 15 Pressure-sensitive adhesive layer 50, 60 Turn portion 53, 63 Tip

Claims (9)

剥離フィルムと、
基材フィルムの主面に粘着剤層が形成された基材テープであって、前記剥離フィルムと積層された基材テープと、を備えた電子デバイス加工用テープであって、
前記基材テープが、前記電子デバイス加工用テープの搬送方向に所定の間隔にて形成された、所定の平面視形状を有するラベル部と、該ラベル部の平面視外側を囲み、且つ前記所定の間隔を形成する間隔部分を有するカス部が、剥がされたカス剥離部と、平面視にて該カス剥離部の外縁と接した周辺部と、を備え、
前記搬送方向の前方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線と前記搬送方向の後方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線は交差せず、
前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端に対して、前記搬送方向に直交した方向において、同じ位置または前記周辺部の方向に位置し
前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線が、前記終端から前記搬送方向に対して平行な前記基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有し、他方向から伸延した前記カット線が、前記終端から前記搬送方向に対して平行な前記基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有している電子デバイス加工用テープ。
A release film;
A tape for processing electronic devices comprising a base tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed on a main surface of a base film, the base tape being laminated with the release film,
the base tape comprises: label portions having a predetermined shape in plan view, which are formed at predetermined intervals in a feed direction of the tape for processing electronic devices; a waste removal portion which surrounds the outer side of the label portion in plan view and has a space portion which forms the predetermined space; and a peripheral portion which contacts an outer edge of the waste removal portion in plan view;
a cut line forming an outer edge of the waste portion extending from the front in the conveying direction and a cut line forming an outer edge of the waste portion extending from the rear in the conveying direction do not intersect with each other;
In the gap portion of the waste portion, an end of the cut line extending from one direction is located at the same position or in the direction of the peripheral portion with respect to an end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the conveying direction ,
In the gap portion of the waste portion, the cut line extending from one direction has a turn portion extending from the end toward the center line of the base tape parallel to the conveying direction, and the cut line extending from the other direction has a turn portion extending from the end toward the center line of the base tape parallel to the conveying direction .
前記ターン部が、平面視曲部を有する請求項に記載の電子デバイス加工用テープ。 2. The tape for processing electronic devices according to claim 1 , wherein the turn portion has a curved portion in a plan view. 前記ターン部の平面視曲部が、R1.0mm以上の曲率半径の円弧状曲線部となっている部位を有する請求項に記載の電子デバイス加工用テープ。 3. The tape for processing electronic devices according to claim 2 , wherein the turn portion has a curved portion in a plan view that is an arcuate curved portion having a radius of curvature of R 1.0 mm or more. 前記ターン部が、平面視直線部を有する請求項に記載の電子デバイス加工用テープ。 2. The tape for processing electronic devices according to claim 1 , wherein the turn portion has a straight portion in a plan view. 前記搬送方向に対して平行方向における、一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下である請求項1乃至のいずれか1項に記載の電子デバイス加工用テープ。 5. The tape for processing electronic devices according to claim 1, wherein the distance between an end of the cut line extending from one direction and an end of the cut line extending from the other direction in a direction parallel to the conveying direction is 0.1 mm or more and 10 mm or less. 一方向から伸延した前記カット線の終端を通る前記搬送方向に対して平行方向の仮想線と一方向から伸延した前記カット線との先端におけるなす角度θが、10°以上150°以下である請求項1乃至のいずれか1項に記載の電子デバイス加工用テープ。 6. The tape for processing electronic devices according to claim 1, wherein an angle θ between a virtual line passing through an end of the cut line extending from one direction and a tip of the cut line extending from one direction, the virtual line being parallel to the conveying direction, is 10 ° or more and 150° or less. 一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端よりも前記周辺部の方向に位置し、前記搬送方向に対して直交方向における、一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端との距離が、0.1mm以上10mm以下である請求項1乃至のいずれか1項に記載の電子デバイス加工用テープ。 7. The tape for processing electronic devices according to claim 1, wherein an end of the cut line extending from one direction is located closer to the peripheral portion than an end of the cut line extending from the other direction, and a distance between the end of the cut line extending from one direction and the end of the cut line extending from the other direction in a direction perpendicular to the conveying direction is 0.1 mm or more and 10 mm or less. 前記剥離フィルムの主面の一部に設けられた接着剤層を、さらに備え、
前記基材テープが、前記接着剤層を覆い、該接着剤層の周囲で前記剥離フィルムと接した請求項1乃至のいずれか1項に記載の電子デバイス加工用テープ。
Further comprising an adhesive layer provided on a portion of the main surface of the release film,
8. The tape for processing electronic devices according to claim 1, wherein the base tape covers the adhesive layer and is in contact with the release film around the periphery of the adhesive layer.
基材フィルム上に粘着剤層を塗布して基材テープを作製する工程と、
前記基材テープを剥離フィルムと重ね合わせる工程と、
前記基材テープに、該基材テープの搬送方向に所定の間隔にて形成された、所定の平面視形状を有するラベル部と、該ラベル部の平面視外側を囲み、且つ前記所定の間隔を形成する間隔部分を有するカス部と、平面視にて該カス部の外縁と接した周辺部との区画を形成し、且つ前記搬送方向の前方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線と前記搬送方向の後方から伸延した前記カス部の外縁を形成するカット線は交差せず、前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線の終端が、他方向から伸延した前記カット線の終端よりも前記周辺部の方向に位置、または一方向から伸延した前記カット線の終端と他方向から伸延した前記カット線の終端が、前記搬送方向に対して平行に位置し、前記カス部の前記間隔部分にて、一方向から伸延した前記カット線が、前記終端から前記搬送方向に対して平行な前記基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有し、他方向から伸延した前記カット線が、前記終端から前記搬送方向に対して平行な前記基材テープの中心線方向へ伸延したターン部を有している、プリカットを、回転打抜き刃を用いて行う工程と、
前記カス部をカス上げ処理して、前記基材テープにカス剥離部を形成する工程と、
を有する電子デバイス加工用テープの製造方法。
A step of applying an adhesive layer onto a substrate film to prepare a substrate tape;
laminating the base tape with a release film;
The base tape is partitioned into a label portion having a predetermined shape in a plan view, the label portion being formed at a predetermined interval in the transport direction of the base tape, a waste portion surrounding the outer side of the label portion in a plan view and having a spaced portion forming the predetermined space, and a peripheral portion in contact with the outer edge of the waste portion in a plan view, and a cut line forming the outer edge of the waste portion extending from the front in the transport direction and a cut line forming the outer edge of the waste portion extending from the rear in the transport direction do not intersect, and at the spaced portion of the waste portion, an end of the cut line extending from one direction intersects with a cut line extending from the other direction. a step of performing a precut using a rotary punch blade, the precut being located in a direction toward the peripheral portion from an end of a cut line, or an end of the cut line extending from one direction and an end of the cut line extending from the other direction being parallel to the conveying direction, and the cut line extending from one direction has a turn portion extending from the end toward a center line of the base tape parallel to the conveying direction in the gap portion of the waste portion, and the cut line extending from the other direction has a turn portion extending from the end toward a center line of the base tape parallel to the conveying direction;
a step of removing the waste portion to form a waste-removed portion on the base tape;
A method for producing a tape for processing electronic devices comprising the steps of:
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